JP2003059786A - Method of manufacturing ceramic electronic component - Google Patents

Method of manufacturing ceramic electronic component

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JP2003059786A JP2001245419A JP2001245419A JP2003059786A JP 2003059786 A JP2003059786 A JP 2003059786A JP 2001245419 A JP2001245419 A JP 2001245419A JP 2001245419 A JP2001245419 A JP 2001245419A JP 2003059786 A JP2003059786 A JP 2003059786A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture an electronic component of a high reliability by forming an external electrode of a high reliability, easily without generating bubble inclusion and dents. SOLUTION: A ceramic sintered body with an end face to be formed with an external electrode faced downwards is dipped at a speed A in a conductive paste stored in a predetermined depth in a paste bath, and then is stopped at a predetermined position. Then, the ceramic sintered body is drawn up at a speed B, and then at a speed C from a position where the height from the inner bottom face of the paste bath to the end face is at most 1.5 times the height from the inner bottom face of the paste bath to the liquid level. The external electrode thus coated is dried and baked to fabricate a multilayer ceramic capacitor. The dipping speed (speed A) and the first draw-up speed (speed B) are set to 0.5 mm/sec. or below, and the second draw-up speed (speed C) is set to 0.5 mm/sec. or above.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、セラミック電子
部品の製造方法、特に、外部電極を導電性ペーストに浸
漬させることにより塗布し、乾燥、焼成することにより
形成する製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a ceramic electronic component, and more particularly to a method of manufacturing an external electrode by immersing it in a conductive paste, applying it, and then drying and firing it.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、セラミック電子部品に外部電極を
形成するために、外部電極を形成する電子部品の端面を
導電性ペーストに浸漬して、乾燥、焼成する方法が採ら
れていた。しかし、特開平4−263414号に開示さ
れているように、この導電性ペーストに電子部品端面を
浸漬し、引き上げる工程で端子中央部付近にへこみや泡
かみが発生してしまうという問題があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to form an external electrode on a ceramic electronic component, a method of immersing an end face of the electronic component forming the external electrode in a conductive paste, followed by drying and firing has been adopted. However, as disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-263414, there is a problem that a dent or a bubble is generated in the vicinity of the center of the terminal in the step of immersing the end face of the electronic component in this conductive paste and pulling it up. .

【0003】このへこみや泡かみの発生する要因につい
て、図4を参照して説明する。図4は電子部品を導電性
ペーストに浸漬し、引き上げる工程の導電性ペーストお
よび外部電極の状態図である。
The cause of the occurrence of the dent and the bubble bit will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a state diagram of the conductive paste and external electrodes in the step of immersing the electronic component in the conductive paste and pulling it up.

【0004】図4の(a)から順に(d)までは引き上
げの各状態を示し、(e),(f)はそれぞれ引き上げ
後の外部電極の形状を示す。
4A to 4D show the respective states of pulling up, and FIGS. 4E and 4F show the shapes of the external electrodes after pulling up.

【0005】図4において、1は電子部品、11は外部
電極、2は導電性ペースト、3は導電性ペーストを満た
したペースト槽、4は空隙、5は外部電極11のへこみ
部、6は外部電極内の泡である。
In FIG. 4, 1 is an electronic component, 11 is an external electrode, 2 is a conductive paste, 3 is a paste tank filled with a conductive paste, 4 is a void, 5 is a recessed portion of the external electrode 11, and 6 is external. Bubbles in the electrode.

【0006】電子部品1の外部電極を形成すべき端面を
導電性ペースト2が満たされたペースト槽3の底面に浸
漬する(a)。浸漬したのち、所定の速度で電子部品1
を引き上げるのであるが、この際、電子部品1とペース
ト槽3とに挟まれた領域にキャビテーションが発生し、
空隙4が発生する(b)。ここで、電子部品1を空隙4
が消滅するよりも速い速度で引き上げると、空隙4を内
部に有したままで、導電性ペースト2が持ち上げられる
(c)。この状態で、引き続き同じ速度で引き上げを続
けると、空隙4が完全に、導電性ペースト2の液面より
も高くなり、外部電極を形成するに十分な量の導電性ペ
ーストを引き下げることができない(d)。
The end surface of the electronic component 1 on which the external electrode is to be formed is immersed in the bottom surface of the paste tank 3 filled with the conductive paste 2 (a). After soaking, electronic component 1 at a predetermined speed
The cavitation occurs in the area sandwiched between the electronic component 1 and the paste tank 3 at this time,
A void 4 is generated (b). Here, the electronic component 1 is placed in
When it is pulled up at a speed faster than the disappearance of the conductive paste 2, the conductive paste 2 is lifted with the void 4 still inside (c). If the pulling is continued at the same speed in this state, the void 4 becomes completely higher than the liquid surface of the conductive paste 2 and the conductive paste cannot be pulled down in a sufficient amount to form the external electrode ( d).

【0007】このように引き上げ速度を空隙4が消滅す
る速度より速くすると、(e),(f)に示すように、
外部電極11の中央部にへこみ5ができたり、外部電極
11の中央部に泡6を内在してしまう。これらのへこみ
5や内在する泡6は、電子部品の信頼性を低下させる原
因となる。
When the pulling speed is made faster than the speed at which the void 4 disappears, as shown in (e) and (f),
A dent 5 is formed in the central portion of the external electrode 11, or a bubble 6 is included in the central portion of the external electrode 11. These dents 5 and internal bubbles 6 cause the reliability of the electronic component to be reduced.

【0008】一方、引き上げ工程時に発生する空隙を消
滅させる方法として、引き上げ速度を遅くすることが考
えられる。
On the other hand, as a method of eliminating the voids generated during the pulling process, it is conceivable to slow down the pulling speed.

【0009】引き上げ速度を遅くした場合の外部電極形
成工程を示した状態を図5(a)〜(d)に示す。
A state showing an external electrode forming step when the pulling rate is slowed is shown in FIGS.

【0010】図5において、1は電子部品、11は外部
電極、2は導電性ペースト、3は導電性ペーストを満た
したペースト槽、4は空隙である。
In FIG. 5, 1 is an electronic component, 11 is an external electrode, 2 is a conductive paste, 3 is a paste tank filled with a conductive paste, and 4 is a void.

【0011】図5に示すように、引き上げ速度を遅くす
ることにより、ペースト槽3と電子部品1との間に空隙
4は発生しなくなる(a)→(b)。しかし、この状態
のまま引き上げを行うと、電子部品1に付着した導電性
ペースト2が下方に流れる。特に電子部品1の外部電極
を形成する端面に垂直な面の導電性ペースト2が奪われ
る(c)→(d)。これにより、外部電極11は非常に
厚みの薄いものとなり、当然に信頼性が低下する。
As shown in FIG. 5, by slowing the pulling rate, the void 4 is not generated between the paste tank 3 and the electronic component 1 (a) → (b). However, when pulling up in this state, the conductive paste 2 attached to the electronic component 1 flows downward. In particular, the conductive paste 2 on the surface perpendicular to the end surface forming the external electrode of the electronic component 1 is taken away (c) → (d). As a result, the external electrode 11 has a very thin thickness, which naturally lowers the reliability.

【0012】また、引き上げ速度を遅くするため、製品
のリードタイムが長くなり、生産性が低下する。
Further, since the pulling speed is slowed down, the lead time of the product becomes long and the productivity is lowered.

【0013】このような、問題点を解消する発明が、
特開平3−248410、特開平4−263414、
特開平4−263409、特開平4−26341
0、特開平4−275412に開示されている。
An invention which solves such a problem is
JP-A-3-248410, JP-A-4-263414,
JP-A-4-263409, JP-A-4-26341
No. 0, disclosed in JP-A-4-275512.

【0014】の発明は、メッシュをペースト槽の底板
に貼り付け、このペースト槽に満たされた導電性ペース
トに電子部品を浸漬することで、外部電極を均一な厚み
に塗布する方法を示している。
The invention of (1) shows a method of applying an external electrode to a uniform thickness by attaching a mesh to a bottom plate of a paste tank and immersing an electronic component in a conductive paste filled in the paste tank. .

【0015】の発明は、電子部品をペースト槽内の導
電性ペーストに浸漬させた状態で、ペースト槽に対して
相対的に横方向に移動することにより、電子部品とペー
スト槽の内底面との間に発生する泡を除去する方法を示
している。
In the invention of (1), the electronic component is immersed in the conductive paste in the paste tank, and is moved in the lateral direction relative to the paste tank so that the electronic component and the inner bottom surface of the paste tank are separated from each other. It shows a method of removing bubbles generated during the process.

【0016】の発明は、電子部品の端面に予め、ロー
ラで導電性ペーストを塗布しておき、その後、ペースト
槽に満たされた導電性ペーストに浸漬して、泡の発生を
防止する方法を示している。
The invention of (1) shows a method of preventing the generation of bubbles by applying the conductive paste to the end surface of the electronic component with a roller in advance and then immersing it in the conductive paste filled in the paste tank. ing.

【0017】の発明は、電子部品の外部電極を形成す
べき端面を凸状に湾曲させることにより、導電性ペース
トに浸漬する場合に、ペースト槽と端面との間で発生す
るキャビテーションを抑制し、泡の発生を抑える方法を
示している。
The invention of (1) suppresses cavitation that occurs between the paste tank and the end surface when immersed in the conductive paste by curving the end surface on which the external electrode of the electronic component is to be formed into a convex shape, A method for suppressing the generation of bubbles is shown.

【0018】の発明は、ペースト槽の内底面の表面形
状を粗面化することにより、引き上げ時のキャビテーシ
ョンを抑制し、泡の発生を抑える方法を示している。
The invention of (1) shows a method of suppressing cavitation at the time of pulling up and suppressing generation of bubbles by roughening the surface shape of the inner bottom surface of the paste tank.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】ところが、これらの従
来の外部電極の形成方法には、解決すべき課題が存在し
た。
However, these conventional methods of forming external electrodes have problems to be solved.

【0020】の発明においては、メッシュをペースト
槽の内底面に貼り付けることで、内底面は粗面化する。
しかし、導電性ペーストをペースト槽内に補充し、均一
となるように引き伸ばす工程において、この粗面化され
た部分で泡が発生する。この泡を含んだ導電性ペースト
に電子部品の端面を浸漬させるため、外部電極となる導
電性ペースト内に泡を含む可能性が生じる。
In the invention, the inner bottom surface is roughened by attaching the mesh to the inner bottom surface of the paste tank.
However, in the process of replenishing the conductive paste in the paste tank and stretching it uniformly, bubbles are generated in the roughened portion. Since the end face of the electronic component is dipped in the conductive paste containing bubbles, there is a possibility that bubbles will be contained in the conductive paste which will be the external electrodes.

【0021】の発明においては、電子部品を導電性ペ
ースト内で横移動させても、残存する泡は撹拌されて増
加していき、結局、泡かみを発生する確率が高まる可能
性がある。
In the invention of (1), even if the electronic component is laterally moved in the conductive paste, the remaining bubbles may be agitated and increase, and eventually the probability of bubble entrapment may increase.

【0022】の発明においては、浸漬時に濡れを均一
にするように、ローラで電子部品の端面に導電性ペース
トを塗布する場合においても、ローラが電子部品の端面
から離れる瞬間にキャビテーションが発生する可能性が
ある。
In the present invention, even when the roller is coated with the conductive paste on the end surface of the electronic component so as to make the wetting uniform during immersion, cavitation may occur at the moment when the roller separates from the end surface of the electronic component. There is a nature.

【0023】の発明においては、電子部品の端面形状
を変更することで、部品設計の共通化を計ることができ
ない。また、端面中央部が盛り上がる形に湾曲している
ため、この電子部品を基板等に実装する場合に、半田フ
ィレットが形成しにくくなる可能性がある。
In the invention of (1), it is impossible to standardize the parts design by changing the shape of the end surface of the electronic parts. Further, since the central portion of the end face is curved so as to be raised, when the electronic component is mounted on a substrate or the like, it may be difficult to form a solder fillet.

【0024】の発明においては、の発明と同様で、
端面を粗面化することによる、二次弊害が発生する可能
性がある。
In the invention of, the same as the invention of,
Secondary roughening may occur due to roughening the end faces.

【0025】また、前述の各発明では、その工法から、
機器設備の構造が複雑化し、コストアップすることとな
る。
Further, in each of the above-mentioned inventions, from the construction method,
The structure of the equipment is complicated and the cost is increased.

【0026】この発明の目的は、泡かみおよびへこみを
発生することなく、信頼性の高い外部電極を容易に形成
し、高信頼性を有する電子部品を製造することにある。
An object of the present invention is to easily form a highly reliable external electrode without producing bubbles and dents, and to manufacture an electronic component having high reliability.

【0027】[0027]

【課題を解決するための手段】この発明は、部品端面の
ペースト槽に蓄えられた導電性ペーストへの浸漬の速度
を毎秒0.5mm以下とし、部品端面の引き上げ時にお
いて、ペースト槽の底面から部品端面の高さがペースト
槽の底面から導電性ペーストの液面までの高さの1.5
倍以内の範囲に部品端面がある時には、部品の引き上げ
速度を毎秒0.5mm以下とし、高さが1.5倍を超え
る範囲では部品の引き上げ速度を毎秒0.5mmを以上
にして外部電極を形成し、セラミック電子部品を製造す
る。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, the rate of immersion in the conductive paste stored in the paste tank on the end face of the component is 0.5 mm or less per second, and when the end face of the component is pulled up, The height of the component end surface is 1.5 from the bottom of the paste tank to the liquid level of the conductive paste.
When the end face of the component is within the double range, the pulling speed of the component is 0.5 mm / sec or less, and when the height exceeds 1.5 times, the pulling speed of the component is 0.5 mm / sec or more and the external electrode is Form and manufacture ceramic electronic components.

【0028】また、この発明は、部品端面のペースト槽
に蓄えられた導電性ペーストへの浸漬の速度を毎秒0.
5mm以下とし、部品端面の引き上げ時において、ペー
スト槽の底面から部品端面の高さがペースト槽の底面か
ら導電性ペーストの液面までの高さの1.5倍以内の範
囲に前記部品端面がある時に、一定時間に亘り引き上げ
を一時停止し、停止後の引き上げ速度を毎秒0.5mm
以上として外部電極を塗布し、セラミック電子部品を製
造する。
Further, according to the present invention, the speed of immersion in the conductive paste stored in the paste tank on the end face of the component is set to 0.
When the component end surface is pulled up, the height of the component end surface from the bottom surface of the paste tank is within 1.5 times the height from the bottom surface of the paste tank to the liquid surface of the conductive paste. At a certain time, the pulling is temporarily stopped for a certain period of time, and the pulling speed after the stop is 0.5 mm / sec.
As described above, the external electrodes are applied to manufacture the ceramic electronic component.

【0029】また、この発明は、部品端面への導電性ペ
ーストの浸漬・引き上げを複数回数行って外部電極を形
成し、この一連の最後の浸漬・引き上げ方法を前述の外
部電極形成方法を用いてセラミック電子部品を製造す
る。
Further, according to the present invention, the external electrode is formed by dipping and pulling up the conductive paste on the end face of the component a plurality of times, and the final dipping and pulling method of this series is performed by using the external electrode forming method described above. Manufactures ceramic electronic components.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】第1の実施形態に係る積層セラミ
ックコンデンサの製造方法について、図1を参照して説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A method of manufacturing a monolithic ceramic capacitor according to a first embodiment will be described with reference to FIG.

【0031】本実施形態に示す積層セラミックコンデン
サは、外部電極形成工程以前には、以下に示す工程を経
て製造する。
The multilayer ceramic capacitor shown in this embodiment is manufactured through the following steps before the external electrode forming step.

【0032】まず、誘電体材料を薄い基板状にしたセラ
ミックグリーンシートに、Ni等の導電体からなる内部
電極を、導電性ペーストをスクリーン印刷する。この内
部電極が形成されたセラミックグリーンシートを所望の
形状に打ち抜き、積層する。この積層体を圧縮、切断
し、焼成することによりセラミック焼結体を構成する。
このセラミック焼結体に対して湿式バレル等で下処理
(面取り)を行う。
First, an internal electrode made of a conductor such as Ni is screen-printed with a conductive paste on a ceramic green sheet made of a thin dielectric material. The ceramic green sheets having the internal electrodes are punched into a desired shape and laminated. The laminated body is compressed, cut, and fired to form a ceramic sintered body.
The ceramic sintered body is subjected to a pretreatment (chamfering) with a wet barrel or the like.

【0033】図1の(a)は、積層セラミックコンデン
サを導電性ペースト槽に浸漬、引き上げを行う工程にお
いての積層セラミックコンデンサの端面位置と時間との
関係を示した図であり、(b)はその速度条件の一覧を
示した図である。
FIG. 1 (a) is a diagram showing the relationship between the end face position of the monolithic ceramic capacitor and time in the process of immersing the monolithic ceramic capacitor in a conductive paste bath and pulling it up, and FIG. 1 (b) is a diagram. It is the figure which showed the list of the speed conditions.

【0034】前記セラミック焼結体を、その端面を下方
にして、ペースト槽に所定の深さで備えられた導電性ペ
ーストに速度Aで浸漬し、所定位置で一時停止する。そ
の後、速度Bで引き上げ、ペースト槽の内底面より10
0μm離れた位置から、速度Cで引き上げる。このよう
に塗布された外部電極を乾燥、焼成して積層セラミック
コンデンサを製造する。
The ceramic sintered body, with its end surface facing downward, is immersed in a conductive paste provided in a paste tank at a predetermined depth at a speed A and temporarily stopped at a predetermined position. After that, pulling up at a speed B, 10 from the inner bottom surface of the paste tank.
It is pulled up at a speed C from a position separated by 0 μm. The external electrode thus coated is dried and fired to manufacture a monolithic ceramic capacitor.

【0035】ここで、図1の(b)に示すように速度
A、速度B、速度Cをそれぞれ振り、組み合わせた条件
下で外部電極を形成し、泡かみ、へこみの発生について
実験を行った結果を表1に示す。
Here, as shown in FIG. 1 (b), the speed A, the speed B, and the speed C were respectively shaken, and an external electrode was formed under the combined conditions, and an experiment was conducted on the occurrence of bubble entrapment and denting. The results are shown in Table 1.

【0036】表1の条件1〜18は、図1の(b)に示
した条件1〜18に対応する。また、表1内の折返し厚
みは、外部電極を形成すべき端面に垂直な面に形成され
る外部電極の厚みを示す。
Conditions 1 to 18 in Table 1 correspond to conditions 1 to 18 shown in FIG. Further, the folded thickness in Table 1 indicates the thickness of the external electrode formed on the surface perpendicular to the end surface on which the external electrode is to be formed.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】表1に示すように、速度A、速度Bがそれ
ぞれ毎秒0.5mm以下である場合には、泡かみが発生
しない。
As shown in Table 1, when the speed A and the speed B are each 0.5 mm or less per second, bubble entrapment does not occur.

【0039】また、表1の条件15下で外部電極を形成
した場合には、折返し部の厚みが平均8μmと薄く、信
頼性が低くなってしまう。一方、条件16〜18下で外
部電極を形成した場合には、折返し部の厚みが平均20
μm以上となるため、信頼性に問題はない。このため、
速度Cは少なくとも、毎秒0.5mmでなくてはならな
い。
Further, when the external electrode is formed under the condition 15 in Table 1, the thickness of the folded portion is as thin as 8 μm on average, and the reliability becomes low. On the other hand, when the external electrode is formed under the conditions 16 to 18, the thickness of the folded portion is 20 on average.
Since it is more than μm, there is no problem in reliability. For this reason,
The velocity C must be at least 0.5 mm / s.

【0040】このように、導電性ペーストへの積層セラ
ミックコンデンサの浸漬速度および初期の引き上げ速度
を毎秒0.5mm以下の所定の速度とし、第二の引き上
げ速度を毎秒0.5mm以上の所定の速度とすることに
より、安定した外部電極を形成することができる。
Thus, the dipping speed and the initial pulling speed of the monolithic ceramic capacitor in the conductive paste are set to a predetermined speed of 0.5 mm / sec or less, and the second pulling speed is set to a predetermined speed of 0.5 mm / sec or more. By this, a stable external electrode can be formed.

【0041】次に、第2の実施形態に係る積層セラミッ
クコンデンサの製造方法について、図2を参照して説明
する。
Next, a method of manufacturing the monolithic ceramic capacitor according to the second embodiment will be described with reference to FIG.

【0042】図2(a)は、積層セラミックコンデンサ
を導電性ペースト槽に浸漬、引き上げを行う工程におい
ての積層セラミックコンデンサの端面位置と時間との関
係を示した図であり、(b)はその速度条件の一覧を示
した図である。
FIG. 2 (a) is a diagram showing the relationship between the end face position of the monolithic ceramic capacitor and time in the step of immersing and pulling up the monolithic ceramic capacitor in the conductive paste bath, and FIG. It is a figure showing a list of speed conditions.

【0043】本実施形態に示す積層セラミックコンデン
サは、セラミック焼結体を導電性ペーストに浸漬する速
度(速度A)と、導電性ペーストから引き上げる、第1
の引き上げ速度(速度B)を、それぞれ振ったものであ
る。その他の内容は第1の実施形態に示す積層セラミッ
クコンデンサの場合と同様である。
In the monolithic ceramic capacitor according to the present embodiment, the ceramic sintered body is immersed in the conductive paste at a speed (speed A) and pulled out from the conductive paste.
The pulling-up speed (speed B) of No. 1 was shaken. Other details are the same as in the case of the laminated ceramic capacitor shown in the first embodiment.

【0044】このようにして形成された積層セラミック
コンデンサについて、折返し厚みを測定した結果を表2
に示す。
The results of measuring the folded back thickness of the laminated ceramic capacitor thus formed are shown in Table 2.
Shown in.

【0045】[0045]

【表2】 [Table 2]

【0046】表2に示すように、浸漬速度には関係な
く、第1の引き上げ速度が速くなると、折返し厚みも厚
くなる。これは、引き上げ速度が遅いほど、一度セラミ
ック焼結体に付いた導電性ペーストが下方に流れてしま
うためである。
As shown in Table 2, the turnback thickness increases as the first pulling rate increases, regardless of the dipping rate. This is because the conductive paste once attached to the ceramic sintered body flows downward as the pulling rate is slower.

【0047】このように、第1の引き上げ速度を調節す
ることにより、折返し部の厚みを制御することができ
る。すなわち、積層セラミックコンデンサを回路基板等
に実装する場合に、基板と対向する面の外部電極の高さ
を制御することができる。これにより、この高さが高い
ことによる実装時のツームストーン現象の発生を抑え、
実装不良を低減することができる。
As described above, the thickness of the folded portion can be controlled by adjusting the first pulling rate. That is, when the monolithic ceramic capacitor is mounted on a circuit board or the like, the height of the external electrodes on the surface facing the board can be controlled. This suppresses the occurrence of the tombstone phenomenon during mounting due to this high height,
Mounting defects can be reduced.

【0048】次に第3の実施形態に係る積層セラミック
コンデンサの製造方法について、図3を参照して説明す
る。
Next, a method of manufacturing the monolithic ceramic capacitor according to the third embodiment will be described with reference to FIG.

【0049】図3は、積層セラミックコンデンサを導電
性ペースト槽に浸漬、引き上げを行う工程においての積
層セラミックコンデンサの端面位置と時間との関係を示
した図であり、(b)はその速度条件の一覧を示した図
である。
FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the end face position of the monolithic ceramic capacitor and time in the process of immersing and pulling up the monolithic ceramic capacitor in a conductive paste bath. It is the figure which showed the list.

【0050】本実施形態に示す積層セラミックコンデン
サの外部電極は、図3に示すように、二回、導電性ペー
ストに浸漬して形成されている。
The external electrodes of the monolithic ceramic capacitor according to the present embodiment are formed by immersing them twice in a conductive paste, as shown in FIG.

【0051】一回目の浸漬(ディップ)は、前述の実施
形態と同様で、積層セラミックコンデンサを導電性ペー
ストに浸漬し(速度D)、所定時間(時間G1)停止
し、第1の引き上げ速度(速度E)で引き上げ、所定位
置から、第2の引き上げ速度で引き上げている。二回目
の浸漬(ディップ)は、第1の引き上げ速度(速度F)
から第2の引き上げ速度(速度H)に変更する際に、所
定位置(停止位置L2)で所定時間(時間G2)に亘
り、一旦停止する。ここで、一回目の浸漬(ディップ)
の条件は変更せずに、二回目(最終)の浸漬(ディッ
プ)の条件をそれぞれに振って実験を行った。パラメー
タは、速度F、停止位置L2、時間G2、速度Hであ
り、各条件下での泡かみ、へこみの各不良発生数、折返
し厚みを測定した。この実験において、導電性ペースト
液面の高さは、ペースト槽底面から、第1の浸漬を行う
槽では550μm、第2の浸漬を行う槽では150μm
である。
The first immersion (dip) is the same as in the above-mentioned embodiment, the monolithic ceramic capacitor is immersed in the conductive paste (speed D), stopped for a predetermined time (time G1), and then the first pulling speed ( It is pulled up at a speed E), and is pulled up from a predetermined position at a second pulling speed. The second immersion (dip) is the first pulling speed (speed F).
When changing from to the second pulling speed (speed H), the motor is temporarily stopped at a predetermined position (stop position L2) for a predetermined time (time G2). Here, the first immersion (dip)
The experiment was conducted by changing the conditions of the second (final) immersion (dip) without changing the conditions of. The parameters are speed F, stop position L2, time G2, and speed H, and the number of defective defects such as bubble encroachment and dent under each condition and the turnback thickness were measured. In this experiment, the height of the conductive paste liquid surface was 550 μm in the first immersion tank and 150 μm in the first immersion tank from the bottom of the paste tank.
Is.

【0052】この実験の結果を表3に示す。The results of this experiment are shown in Table 3.

【0053】[0053]

【表3】 [Table 3]

【0054】表3に示すように、条件6で外部電極を形
成した場合は、泡かみ、へこみが発生する。すなわち、
第1の引き上げ速度(速度F)が毎秒0.5mm以上で
且つ停止しない(停止時間が0秒)の場合には問題が解
決されない。
As shown in Table 3, when the external electrode is formed under the condition 6, bubbles and dents occur. That is,
The problem cannot be solved when the first pulling speed (speed F) is 0.5 mm / second or more and the stop is not stopped (stop time is 0 second).

【0055】また、条件1で外部電極を形成した場合
は、泡かみ、へこみは発生しないが、通常信頼性を維持
できる外部電極厚である10μmを下回り、問題とな
る。すなわち、第2の引き上げ速度(速度H)を毎秒
0.5mmより遅くすると信頼性上の問題を生じる。
When the external electrode is formed under the condition 1, bubbles and dents do not occur, but the thickness is less than 10 μm, which is the external electrode thickness that can normally maintain reliability, which is a problem. That is, if the second pulling speed (speed H) is slower than 0.5 mm per second, reliability problems occur.

【0056】また、条件11で外部電極を形成した場合
においても、同様に外部電極厚が10μmを下回る。こ
れは、停止位置L2が高すぎたため、下方に流れる導電
性ペーストが増加することによる。
Also, when the external electrode is formed under the condition 11, the thickness of the external electrode is similarly less than 10 μm. This is because the stop position L2 was too high and the conductive paste flowing downward increased.

【0057】以上より、次の条件を満たす場合にのみ、
高信頼性を有する積層セラミックコンデンサを容易に安
定して製造することができる。
From the above, only when the following conditions are satisfied,
A monolithic ceramic capacitor having high reliability can be easily and stably manufactured.

【0058】第1の引き上げ速度を毎秒0.5mm以
下とし、第2の引き上げ速度を毎秒0.5mm以上と
し、速度切替時に所定時間に亘り一旦停止し、且つペー
スト槽の底面から停止位置がペースト槽の底面から導電
性ペーストの高さの1.5倍以下となる位置とする。 第2の引き上げ速度を毎秒0.5mm以上とし、速度
切替時に所定時間に亘り一旦停止し、且つペースト槽の
底面から停止位置がペースト槽の底面から導電性ペース
トの高さの1.5倍以下となる位置とする。
The first pull-up speed is 0.5 mm / sec or less, the second pull-up speed is 0.5 mm / sec or more, the speed is temporarily stopped for a predetermined time at the time of speed switching, and the stop position is the paste position from the bottom surface of the paste tank. The position is 1.5 times or less the height of the conductive paste from the bottom of the tank. The second pulling speed is 0.5 mm / sec or more, the speed is temporarily stopped for a predetermined time when the speed is switched, and the stop position from the bottom of the paste tank is 1.5 times or less the height of the conductive paste from the bottom of the paste tank. And the position.

【0059】なお、本実施形態では、二回浸漬を行った
が、特に回数を限定するものではなく、最終回の浸漬に
おいて、前述の条件が適用されればよい。
In this embodiment, the immersion is performed twice, but the number of times is not particularly limited, and the above conditions may be applied in the final immersion.

【0060】また、前述の実施形態においては、積層セ
ラミックコンデンサを用いて説明したが、コンデンサに
限ることなく、外部電極を導電性ペースト塗布により形
成するセラミック電子部品に適用することができる。
Further, in the above-described embodiment, the description was made using the laminated ceramic capacitor, but the present invention is not limited to the capacitor, but can be applied to a ceramic electronic component in which external electrodes are formed by applying a conductive paste.

【0061】[0061]

【発明の効果】この発明によれば、部品端面のペースト
槽に蓄えられた導電性ペーストへの浸漬の速度を毎秒
0.5mm以下とし、部品端面の引き上げ時において、
ペースト槽の底面から部品端面の高さがペースト槽の底
面から導電性ペーストの液面までの高さの1.5倍以内
の範囲に部品端面がある時には、部品の引き上げ速度を
毎秒0.5mm以下とし、高さが1.5倍を超える範囲
では部品の引き上げ速度を毎秒0.5mmを以上にする
ことにより、外部電極に係る不良の発生を抑え、安定し
た膜厚の外部電極を形成したセラミック電子部品を製造
することができる。
According to the present invention, the speed of immersion in the conductive paste stored in the paste tank of the component end surface is 0.5 mm or less per second, and when the component end surface is pulled up,
When the height of the part end surface from the bottom of the paste tank is within 1.5 times the height from the bottom of the paste tank to the liquid level of the conductive paste, when the part end surface is 0.5mm / sec. In the range where the height is more than 1.5 times, the pulling-up speed of the component is set to 0.5 mm / sec or more to suppress the occurrence of defects related to the external electrode and form the external electrode with a stable film thickness. Ceramic electronic components can be manufactured.

【0062】また、この発明によれば、部品端面のペー
スト槽に蓄えられた導電性ペーストへの浸漬の速度を毎
秒0.5mm以下とし、部品端面の引き上げ時におい
て、ペースト槽の底面から部品端面の高さがペースト槽
の底面から導電性ペーストの液面までの高さの1.5倍
以内の範囲に前記部品端面がある時に、一定時間に亘り
引き上げを一時停止し、停止後の引き上げ速度を毎秒
0.5mm以上とすることにより、更に安定して外部電
極を形成でき、高信頼性を有するセラミック電子部品を
更に安定して製造することができる。
Further, according to the present invention, the immersion speed of the end face of the component in the conductive paste stored in the paste tank is set to 0.5 mm / sec or less, and when the end face of the component is pulled up, the bottom face of the paste tank is removed from The height of the component is within 1.5 times the height from the bottom surface of the paste tank to the liquid level of the conductive paste, when the component end surface is located, the pulling is temporarily stopped for a certain period of time, and the pulling speed after the stop. Is 0.5 mm / sec or more, the external electrodes can be formed more stably, and a highly reliable ceramic electronic component can be manufactured more stably.

【0063】また、この発明によれば、部品端面への導
電性ペーストの浸漬、引き上げを複数回数行って外部電
極を形成し、この一連の最後の浸漬、引き上げ方法を前
述の外部電極形成方法とすることにより、更に安定して
高信頼性を有するセラミック電子部品を製造することが
できる。
Further, according to the present invention, the external electrode is formed by dipping and pulling up the conductive paste to the end face of the component a plurality of times, and the final dipping and pulling method of this series is the above-mentioned external electrode forming method. By doing so, a more stable and highly reliable ceramic electronic component can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1の実施形態に係る積層セラミックコンデン
サの端面位置と時間との関係を示した図、およびその速
度条件の一覧を示した図
FIG. 1 is a diagram showing a relationship between an end face position and time of a monolithic ceramic capacitor according to a first embodiment, and a diagram showing a list of speed conditions thereof.

【図2】第2の実施形態に係る積層セラミックコンデン
サの端面位置と時間との関係を示した図、およびその速
度条件の一覧を示した図
FIG. 2 is a diagram showing a relationship between an end face position and time of a monolithic ceramic capacitor according to a second embodiment, and a diagram showing a list of speed conditions thereof.

【図3】第3の実施形態に係る積層セラミックコンデン
サの端面位置と時間との関係を示した図、およびその速
度条件の一覧を示した図
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between an end face position and time of a monolithic ceramic capacitor according to a third embodiment, and a diagram showing a list of speed conditions thereof.

【図4】電子部品を導電性ペーストに浸漬し、引き上げ
る工程の導電性ペーストおよび外部電極の状態図
FIG. 4 is a state diagram of the conductive paste and external electrodes in the process of immersing the electronic component in the conductive paste and pulling it up.

【図5】電子部品を導電性ペーストに浸漬し、引き上げ
る工程の導電性ペーストおよび外部電極の状態図
FIG. 5 is a state diagram of the conductive paste and external electrodes in the process of immersing the electronic component in the conductive paste and pulling it up.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1−電子部品 11−外部電極 2−導電性ペースト 3−ペースト槽 4−空隙 5−外部電極11のへこみ部 6−外部電極11内の泡 1-electronic components 11-External electrode 2-conductive paste 3-paste tank 4-void 5-Dent part of the external electrode 11 6-Bubbles in the external electrode 11

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 部品端面を、ペースト槽に蓄えられた導
電性ペーストに浸漬した後に引き上げて、乾燥、焼成さ
せることにより外部電極を形成するセラミック電子部品
の製造方法であって、 前記浸漬の速度を毎秒0.5mm以下とし、前記部品端
面の引き上げ時において、前記ペースト槽の底面から前
記部品端面の高さが前記ペースト槽の底面から前記導電
性ペーストの液面までの高さの1.5倍以内の範囲に前
記部品端面がある時には、部品の引き上げ速度を毎秒
0.5mm以下とし、前記高さが1.5倍を越える範囲
では前記部品の引き上げ速度を毎秒0.5mm以上にす
ることを特徴とするセラミック電子部品の製造方法。
1. A method for producing a ceramic electronic component, wherein an external electrode is formed by immersing an end face of a component in a conductive paste stored in a paste tank, and then pulling it up, drying and firing it. Is 0.5 mm or less per second, and the height of the component end surface from the bottom surface of the paste tank is 1.5 times the height from the bottom surface of the paste tank to the liquid surface of the conductive paste when the component end surface is pulled up. When the end face of the component is within a range of double, the pulling speed of the component is 0.5 mm / sec or less, and when the height is more than 1.5 times, the pulling speed of the component is 0.5 mm / sec or more. A method for manufacturing a ceramic electronic component, comprising:
【請求項2】 部品端面を、ペースト槽に蓄えられた導
電性ペーストに浸漬した後に引き上げて、乾燥、焼成さ
せることにより外部電極を形成するセラミック電子部品
の製造方法であって、 前記浸漬の速度を毎秒0.5mm以下とし、前記部品端
面の引き上げ時において、前記ペースト槽の底面から前
記部品端面の高さが前記ペースト槽の底面から前記導電
性ペーストの液面までの高さの1.5倍以内の範囲に前
記部品端面がある時に、一定時間に亘り引き上げを一時
停止し、停止後の引き上げ速度を毎秒0.5mm以上と
することを特徴とするセラミック電子部品の製造方法。
2. A method of manufacturing a ceramic electronic component, wherein an external electrode is formed by immersing an end face of a component in a conductive paste stored in a paste tank, and then pulling it up, drying and firing it. Is 0.5 mm or less per second, and the height of the component end surface from the bottom surface of the paste tank is 1.5 times the height from the bottom surface of the paste tank to the liquid surface of the conductive paste when the component end surface is pulled up. A method for manufacturing a ceramic electronic component, wherein when the component end face is within a range of twice, the pulling is temporarily stopped for a certain period of time, and the pulling rate after the stop is 0.5 mm / sec or more.
【請求項3】 前記部品端面への前記導電性ペーストの
浸漬・引き上げが複数回行われ、該複数の浸漬・引き上
げのうちの最後の浸漬・引き上げを請求項1または請求
項2に記載の製造方法を用いたセラミック電子部品の製
造方法。
3. The manufacturing according to claim 1, wherein the conductive paste is dipped and pulled up to the end face of the component a plurality of times, and the final dipping and pulling out of the plurality of dipping and pulling up is performed. Method for manufacturing a ceramic electronic component using the method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005044903A (en) * 2003-07-24 2005-02-17 Murata Mfg Co Ltd External electrode forming method of laminated ceramic electronic component
WO2021181548A1 (en) * 2020-03-11 2021-09-16 株式会社クリエイティブコーティングス Electronic component manufacturing method and device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005044903A (en) * 2003-07-24 2005-02-17 Murata Mfg Co Ltd External electrode forming method of laminated ceramic electronic component
WO2021181548A1 (en) * 2020-03-11 2021-09-16 株式会社クリエイティブコーティングス Electronic component manufacturing method and device
JPWO2021181548A1 (en) * 2020-03-11 2021-09-16
JP7161814B2 (en) 2020-03-11 2022-10-27 株式会社クリエイティブコーティングス Method and apparatus for manufacturing electronic components
EP4120299A4 (en) * 2020-03-11 2023-07-19 Creative Coatings Co., Ltd. Electronic component manufacturing method and device

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