JP2003055577A - Modified inorganic filler - Google Patents

Modified inorganic filler

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JP2003055577A
JP2003055577A JP2001251888A JP2001251888A JP2003055577A JP 2003055577 A JP2003055577 A JP 2003055577A JP 2001251888 A JP2001251888 A JP 2001251888A JP 2001251888 A JP2001251888 A JP 2001251888A JP 2003055577 A JP2003055577 A JP 2003055577A
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JP
Japan
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fluorine
inorganic filler
filler
formula
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Application number
JP2001251888A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuyoshi Kawasaki
一良 川崎
Tatsuya Morikawa
達也 森川
Takafumi Yamasoto
隆文 山外
Hirofumi Nishibayashi
浩文 西林
Katsuhiko Tono
克彦 東野
Takeshi Noguchi
剛 野口
Mitsuru Kishine
充 岸根
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Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a molded product of a fluorine-containing elastomer capable of withstanding the use at a high temperature of >=230 deg.C. SOLUTION: A modified inorganic filler is an inorganic filler (except a carbon filler) having <=0.5 μm primary average particle diameter and is obtained by subjecting the inorganic filler to a treatment for reducing the surface activity thereof. A fluorine-containing elastomer composition for crosslinking comprises the fluorine-containing elastomer having crosslinkable groups and a crosslinking agent and/or a crosslinking promoter.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、加工性(ゴム練
性)や架橋性を維持したまま良好なシール性および23
0℃を超える高温での使用に耐えうる含フッ素エラスト
マー成形品を与える架橋用含フッ素エラストマー組成
物、およびそれに用いる改質無機フィラーに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a good sealing property and 23 while maintaining processability (rubber kneading property) and crosslinkability.
The present invention relates to a fluorine-containing elastomer composition for crosslinking that gives a fluorine-containing elastomer molded product that can withstand use at a high temperature exceeding 0 ° C., and a modified inorganic filler used therein.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造の分野では、その製造工程で
パーティクルと称される微粒子状の異物の混入を避ける
ことが最重要課題の1つである。この課題は、たとえば
半導体製造装置のシールに使用されるO−リングなどの
シール材にも要求される。そこでシール材を構成してい
るエラストマー成形品に配合されているフィラーも超微
粒(一次平均粒子径0.005〜0.05μm)を使用
するときは、たとえプラズマ照射などの処理によってシ
ール材から外部に飛散したとしても、半導体に形成され
る微細パターンの線間距離(通常0.2μm以上)より
も小さく線間を埋めて結線を起こすことがないことか
ら、フィラーの微粒子化が検討されている。
2. Description of the Related Art In the field of semiconductor manufacturing, it is one of the most important problems to avoid mixing of foreign matter in the form of fine particles called particles in the manufacturing process. This problem is also required for sealing materials such as O-rings used for sealing semiconductor manufacturing equipment. Therefore, when using ultrafine particles (primary average particle diameter 0.005 to 0.05 μm) as the filler compounded in the elastomer molded product that constitutes the sealing material, even if a treatment such as plasma irradiation is used, the filler can be removed from the outside. Even if it scatters on the surface of the semiconductor, it will be smaller than the distance between lines (usually 0.2 μm or more) of the fine pattern formed on the semiconductor and will not cause a connection by filling the space between lines. .

【0003】また、半導体製造装置の分野では、耐プラ
ズマ性(プラズマ照射環境下で重量減少やパーティクル
の発生が少ない性質)が良好なことから、常用されてい
るカーボンブラックよりも酸化アルミニウムフィラーや
二酸化チタンフィラーが採用され始めている(たとえば
WO01/32782号パンフレット)。
Further, in the field of semiconductor manufacturing equipment, plasma resistance (a property that weight reduction and generation of particles are small under a plasma irradiation environment) is favorable, so that aluminum oxide filler or dioxide is used rather than carbon black which is commonly used. Titanium fillers have begun to be used (for example, WO01 / 32782 pamphlet).

【0004】以上の点とは別に、半導体製造に用いる装
置に対して最近230〜300℃という高温での加工処
理が要求されてきている。そうした高温での耐熱性を与
えるエラストマー成形品として、シラン系化合物で処理
された金属酸化物などの無機フィラーを配合した架橋用
エラストマー組成物が提案されている(特開2000−
290454公報)。しかし、この公報には無機フィラ
ーの重要性に関する記載はなく、また用途についても記
載はない。
Apart from the above points, recently, processing equipment at a high temperature of 230 to 300 ° C. has been required for an apparatus used for semiconductor manufacturing. As an elastomer molded article that gives such heat resistance at high temperatures, a crosslinking elastomer composition containing an inorganic filler such as a metal oxide treated with a silane-based compound has been proposed (JP 2000-
290454). However, this publication makes no mention of the importance of the inorganic filler and its use.

【0005】また特表2000−502122公報に
は、二酸化チタンなどをフィラーとした組成物が提案さ
れているが、使用するフィラーの粒子径に関する記載は
ない。
Further, Japanese Patent Publication No. 2000-502122 proposes a composition containing titanium dioxide as a filler, but there is no description about the particle size of the filler used.

【0006】さらにまた、WO01/32782号パン
フレットに微粒子状(一次平均粒子径0.005〜0.
05μm程度)の無機フィラーを配合した架橋用エラス
トマー組成物が記載されているが、230℃以上での特
性は評価されていない。
Further, WO 01/32782 pamphlet describes fine particles (primary average particle size 0.005 to 0.
Although a cross-linking elastomer composition containing an inorganic filler (about 05 μm) is described, the properties at 230 ° C. or higher have not been evaluated.

【0007】一般に架橋用のエラストマー組成物におい
て、配合する無機フィラーの粒子径が小さくなればなる
ほどその表面活性が強くなり、高温で使用した場合エラ
ストマーを劣化させてしまう。したがって、WO01/
32782号パンフレットに記載の架橋用エラストマー
組成物では230℃以上の高温環境下においてエラスト
マーが劣化し始め、圧縮永久歪みなどが大きくなり、シ
ール能力が低下してしまう(後述する比較例1および2
参照)。
Generally, in a cross-linking elastomer composition, the smaller the particle size of the inorganic filler to be blended, the stronger the surface activity thereof, and the deterioration of the elastomer when used at high temperature. Therefore, WO01 /
In the elastomer composition for cross-linking described in the No. 32782 pamphlet, the elastomer begins to deteriorate in a high temperature environment of 230 ° C. or higher, the compression set increases, and the sealing ability decreases (Comparative Examples 1 and 2 described later).
reference).

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、230℃以
上の高温環境下での使用に耐え、かつパーティクルの発
生原因とならない無機フィラー(カーボンフィラーを除
く)、それを配合した架橋用エラストマー組成物、およ
びエラストマー成形品に関する。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to an inorganic filler (excluding carbon filler) which can withstand use in a high temperature environment of 230 ° C. or higher and does not cause particles, and a crosslinking elastomer composition containing the same. And an elastomer molded article.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、一次平均粒子
径が0.5μm以下、さらには0.05μm以下の無機
フィラー(ただしカーボンフィラーは除く)であって、
その表面活性を低減化する処理がなされた改質無機フィ
ラーに関する。
The present invention provides an inorganic filler (excluding carbon filler) having a primary average particle diameter of 0.5 μm or less, further 0.05 μm or less,
The present invention relates to a modified inorganic filler that has been treated to reduce its surface activity.

【0010】表面活性低減化処理としては、たとえば無
機フィラーをフッ素化合物と接触させるフッ素化処理が
あげられる。
Examples of the surface activity reduction treatment include fluorination treatment in which an inorganic filler is brought into contact with a fluorine compound.

【0011】原料となる無機フィラーとしては、カーボ
ンブラックを除く無機フィラー、特に金属酸化物フィラ
ー、さらには酸化アルミニウムフィラーが好適である。
As the inorganic filler as a raw material, inorganic fillers other than carbon black, particularly metal oxide fillers, and aluminum oxide fillers are suitable.

【0012】かかる改質無機フィラーのうち、下記条件
(1)で実施した酸素プラズマ照射およびNF3プラズ
マ照射において、それぞれのプラズマ照射の前後におけ
る重量減少または増加が1%以下、特に0.1%以下お
よび20%以下、特に2%以下、さらには1%以下のも
のが好ましい。 記 流量:16sccm 圧力:20ミリトール RF電力:800W 照射時間:30分間 周波数:13.56MHz
Among the modified inorganic fillers, in oxygen plasma irradiation and NF 3 plasma irradiation carried out under the following condition (1), the weight reduction or increase before and after each plasma irradiation is 1% or less, particularly 0.1%. Those below and below 20%, especially below 2%, more preferably below 1% are preferable. Flow rate: 16 sccm Pressure: 20 mTorr RF power: 800 W Irradiation time: 30 minutes Frequency: 13.56 MHz

【0013】本発明の改質無機フィラーは、架橋用エラ
ストマー組成物、特に半導体製造装置用シール材の製造
用エラストマー組成物に配合されるときに、とりわけ有
用である。
The modified inorganic filler of the present invention is particularly useful when incorporated into an elastomer composition for crosslinking, particularly an elastomer composition for producing a sealing material for semiconductor manufacturing equipment.

【0014】本発明はまた、前記改質無機フィラー、架
橋性基を有する含フッ素エラストマー(以下、「架橋性
エラストマー」という)および架橋剤および/または架
橋促進剤からなる架橋用含フッ素エラストマー組成物に
関する。
The present invention also provides a fluorine-containing elastomer composition for crosslinking, which comprises the modified inorganic filler, a fluorine-containing elastomer having a crosslinkable group (hereinafter referred to as "crosslinkable elastomer"), and a crosslinking agent and / or a crosslinking accelerator. Regarding

【0015】架橋性含フッ素エラストマーとしては、架
橋性基を有するパーフルオロエラストマーが好適にあげ
られ、また、架橋性基を有する含フッ素エラストマーの
架橋性基としてはCN基またはCOOH基が好ましい。
The crosslinkable fluorine-containing elastomer is preferably a perfluoroelastomer having a crosslinkable group, and the crosslinkable group of the fluorine-containing elastomer having a crosslinkable group is preferably a CN group or a COOH group.

【0016】前記架橋剤としては、式(1):The cross-linking agent is represented by the formula (1):

【0017】[0017]

【化11】 [Chemical 11]

【0018】(式中、R1は−SO2−、−O−、−C
(=O)−、
(Wherein R 1 is --SO 2- , --O--, --C
(= O)-,

【0019】[0019]

【化12】 [Chemical 12]

【0020】炭素数1〜10のアルキリデン基、炭素数
1〜10のパーフルオロアルキリデン基または単結合
手;X1は−OH、−NH2、−SH、−NHR(Rは炭
素数1〜6の置換されていてもよい直鎖状もしくは分岐
鎖状のアルキル基)または−NHAr(Arは置換され
ていてもよいフェニル基またはナフチル基))で示され
る化合物、式(2):
The alkylidene group having 1 to 10 carbon atoms, a perfluoroalkylidene group or a single bond having 1 to 10 carbon atoms; X 1 is -OH, -NH 2, -SH, -NHR (R is 1 to 6 carbon atoms An optionally substituted linear or branched alkyl group) or -NHAr (Ar is an optionally substituted phenyl group or naphthyl group)), a compound represented by the formula (2):

【0021】[0021]

【化13】 [Chemical 13]

【0022】(式中、R2は置換されていてもよい直鎖
状もしくは分岐鎖状のアルキリデン基、置換されていて
もよいアリーレン基、
(In the formula, R 2 is a linear or branched alkylidene group which may be substituted, an arylene group which may be substituted,

【0023】[0023]

【化14】 [Chemical 14]

【0024】(R3は−SO2−、−O−、−C(=O)
−、
(R 3 is --SO 2- , --O--, --C (= O)
-,

【0025】[0025]

【化15】 [Chemical 15]

【0026】または単結合手)で示される化合物、式
(3):
Or a compound represented by the formula (3):

【0027】[0027]

【化16】 [Chemical 16]

【0028】(式中、mは1〜10の整数)で示される
化合物、式(4):
[Wherein, m is an integer of 1 to 10], a compound of the formula (4):

【0029】[0029]

【化17】 [Chemical 17]

【0030】(式中、X2は同じかまたは異なり、いず
れもHまたはNH2;pは1〜10の整数)で示される
化合物、および/または式(5):
(Wherein, X 2 is the same or different and both are H or NH 2 ; p is an integer of 1 to 10), and / or formula (5):

【0031】[0031]

【化18】 [Chemical 18]

【0032】(式中、X3は同じかまたは異なり、いず
れもHまたはNH2;Yは同じかまたは異なり、いずれ
もHまたはOH)で示される化合物が、高温においても
架橋構造が切れず耐熱性に優れることから、好適に使用
できる。
(Wherein, X 3 is the same or different, both are H or NH 2 ; Y is the same or different, both are H or OH) Since it has excellent properties, it can be preferably used.

【0033】特に、前記式(1)において、R1In particular, in the above formula (1), R 1 is

【0034】[0034]

【化19】 [Chemical 19]

【0035】であり、X1And X 1 is

【0036】[0036]

【化20】 [Chemical 20]

【0037】である架橋剤が好ましい。A crosslinker that is is preferred.

【0038】また、架橋促進剤としては有機スズ化合物
が好適に採用される。
An organic tin compound is preferably used as the crosslinking accelerator.

【0039】本発明はさらに、前記架橋用含フッ素エラ
ストマー組成物を架橋して得られる架橋含フッ素エラス
トマー成形品、特に半導体の製造装置のシールに用いる
成形品にも関する。
The present invention further relates to a crosslinked fluorine-containing elastomer molded article obtained by crosslinking the above fluorine-containing crosslinkable elastomer composition, particularly a molded article used for sealing a semiconductor manufacturing apparatus.

【0040】さらにまた、本発明は、前記成形品が組み
込まれた半導体製造装置にも関する。
Furthermore, the present invention also relates to a semiconductor manufacturing apparatus in which the molded product is incorporated.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】本発明の改質無機フィラーは、一
次平均粒子径が0.5μm以下、特に0.05μm(5
0nm)以下の微粒子無機フィラーの表面活性を低減化
したものである。半導体製造装置に使用するシール材な
どの成形品用としては、パーティクルの低減化の観点か
ら、より小さいものが好ましい。粒子径の下限は特に限
定されないが、製造上の理由から0.005μm(5n
m)以上である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The modified inorganic filler of the present invention has a primary average particle diameter of 0.5 μm or less, particularly 0.05 μm (5
The surface activity of the fine particle inorganic filler having a particle size of 0 nm or less is reduced. For molded articles such as sealing materials used in semiconductor manufacturing equipment, smaller ones are preferable from the viewpoint of particle reduction. The lower limit of the particle size is not particularly limited, but 0.005 μm (5n
m) or more.

【0042】原料となる無機フィラーとしては、カーボ
ンブラックを除く各種の無機フィラーがあげられる。カ
ーボンブラックはO2プラズマおよびNF3プラズマなど
に対する重量減少が大きく、プラズマ照射処理を行なう
分野、特に半導体製造の分野での使用は回避すべきであ
る。
Examples of the inorganic filler as a raw material include various inorganic fillers except carbon black. Since carbon black has a large weight loss with respect to O 2 plasma and NF 3 plasma, its use should be avoided in the field of plasma irradiation treatment, especially in the field of semiconductor manufacturing.

【0043】具体例としてはつぎのフィラーがあげられ
るが、これらに限定されるものではない。
The following fillers may be mentioned as specific examples, but the fillers are not limited to these.

【0044】金属酸化物フィラー:二酸化チタン、酸化
ケイ素、酸化アルミニウム、酸化亜鉛など 硫酸塩フィラー:硫酸バリウム、硫酸アルミニウムなど 炭酸塩フィラー:炭酸バリウムなど 金属水酸化物フィラー:水酸化アルミニウムなど
Metal oxide filler: titanium dioxide, silicon oxide, aluminum oxide, zinc oxide, etc. Sulfate filler: barium sulfate, aluminum sulfate, etc. Carbonate filler: barium carbonate, etc. Metal hydroxide filler: aluminum hydroxide, etc.

【0045】これらのうち、半導体製造装置用のシール
材用途には金属酸化物フィラー、特に高密度プラズマ照
射の耐性が優れる点から酸化アルミニウムが好ましい。
Of these, metal oxide fillers, particularly aluminum oxide, are preferable for use as a sealing material for semiconductor manufacturing equipment, in particular, because they have excellent resistance to high-density plasma irradiation.

【0046】これらの無機フィラーは、微粒子であるが
故に大粒径の粒子よりも表面活性が高められている。問
題となり得る表面活性としては、たとえば各種触媒活
性、吸着活性などがあげられる。
Since these inorganic fillers are fine particles, their surface activity is higher than that of large particles. Examples of the surface activity that can be a problem include various catalytic activities and adsorption activities.

【0047】本発明ではこれらの表面活性を低減化する
ことによって、230℃以上の高温において使用しても
マトリックスであるエラストマーなどを劣化することを
抑制できる。表面活性を低減化する処理(表面活性低減
化処理)としては、たとえばフッ素化合物と無機微粒子
フィラーとを接触させてフッ素化処理する方法があげら
れる。
In the present invention, by reducing these surface activities, it is possible to suppress deterioration of the elastomer or the like as a matrix even when used at a high temperature of 230 ° C. or higher. Examples of the treatment for reducing the surface activity (the treatment for reducing the surface activity) include a method of bringing the fluorine compound into contact with the inorganic fine particle filler to perform the fluorination treatment.

【0048】無機微粒子フィラーをフッ素化合物と接触
させるとフィラーの表面活性が低減化されるメカニズム
は明らかではないが、フッ素化合物によりフィラー表面
の活性点がフッ素化されるため、あるいはフッ素化合物
が熱分解して生じたカーボンが活性点に吸着されるため
と推察される。
The mechanism by which the surface activity of the filler is reduced when the inorganic fine particle filler is brought into contact with the fluorine compound is not clear, but because the fluorine compound fluorinates active sites on the filler surface, or the fluorine compound is thermally decomposed. It is presumed that the generated carbon is adsorbed on the active sites.

【0049】このフッ素化処理の条件は、使用するフッ
素化合物や対象となる無機フィラーの種類によって適宜
選定すればよい。また、フッ素化の程度も無機フィラー
の種類、使用目的、エラストマー組成物の加工性などを
考慮して決定すればよく、230℃以上の高温で無機微
粒子フィラーの表面活性が問題とならない程度でよい。
最低限、無機微粒子フィラーの表面活性点がフッ素化に
よりブロックされていればよく、フッ素化処理後に改質
無機フィラー中のフッ素原子含有量が測定限界以下とい
う場合もあり得る。フッ素化処理の効果は、後述する架
橋用エアストマー組成物から成形された成形品を230
℃以上の高温に曝した場合に、フッ素化処理していない
無機微粒子フィラーに比して劣化が生じていないことか
ら明確に判定できる。
The conditions for this fluorination treatment may be appropriately selected depending on the type of fluorine compound used and the target inorganic filler. Further, the degree of fluorination may be determined in consideration of the type of the inorganic filler, the purpose of use, the processability of the elastomer composition, and the like, and the surface activity of the inorganic fine particle filler does not matter at a high temperature of 230 ° C. or higher. .
At a minimum, the surface active points of the inorganic fine particle filler may be blocked by fluorination, and the content of fluorine atoms in the modified inorganic filler after the fluorination treatment may be below the measurement limit. The effect of the fluorination treatment is that a molded product molded from the crosslinking air storm composition described below is 230
When exposed to a high temperature of 0 ° C. or higher, it can be clearly determined because deterioration does not occur as compared with the inorganic fine particle filler that is not fluorinated.

【0050】また、場合によってはフッ素化が進行し過
ぎても別の問題が生じることがある。たとえば酸化アル
ミニウムフィラーの場合、フッ素化が進み過ぎると架橋
が阻害されることがあるので注意を要する。
In some cases, even if the fluorination proceeds too much, another problem may occur. For example, in the case of an aluminum oxide filler, it should be noted that crosslinking may be hindered if fluorination proceeds too much.

【0051】使用するフッ素化合物としては、無機系の
フッ素化合物でも有機系のフッ素化合物でもよい。
The fluorine compound used may be an inorganic fluorine compound or an organic fluorine compound.

【0052】無機系フッ素化合物としては、たとえばフ
ッ素ガス、フッ化水素、フッ化硫黄(たとえば四フッ化
硫黄、六フッ化硫黄など)、フッ化スルフリル、フッ化
チオニル、フッ化アンモニウム(たとえば酸性フッ化ア
ンモニウム、中性フッ化アンモニウムなど)があげら
る。
Examples of the inorganic fluorine compound include fluorine gas, hydrogen fluoride, sulfur fluoride (eg, sulfur tetrafluoride, sulfur hexafluoride, etc.), sulfuryl fluoride, thionyl fluoride, ammonium fluoride (eg, acidic fluoride). Ammonium fluoride, neutral ammonium fluoride, etc.).

【0053】有機系フッ素化合物としては、フッ素化炭
化水素、含窒素または含酸素フッ素化炭化水素などがあ
げられる。
Examples of the organic fluorine compound include fluorinated hydrocarbons, nitrogen-containing or oxygen-containing fluorinated hydrocarbons and the like.

【0054】フッ素化炭化水素としては、たとえば炭素
数8以下、好ましくは4以下の飽和または不飽和炭化水
素であって、1個または2個以上の水素原子がフッ素原
子に置換されているものがあげられる。具体例として
は、たとえばCF4、CHF3、CF3CF3、CHF2
3、CHF2CHF2などのフルオロアルカン類;CF2
=CF2(テトラフルオロエチレン)、CF3CF=CF
2(ヘキサフルオロプロピレン)などのフルオロアルカ
ン類があげられる。これらのうち、反応が容易に生じる
点から、CF4などのパーフルオロアルカン類、ヘキサ
フルオロプロパン(HFP)などのパーフルオロアルケ
ン類が好ましい。
The fluorinated hydrocarbon is, for example, a saturated or unsaturated hydrocarbon having 8 or less carbon atoms, preferably 4 or less carbon atoms, in which one or more hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms. can give. Specific examples include, for example, CF 4 , CHF 3 , CF 3 CF 3 , CHF 2 C.
Fluoroalkanes such as F 3 and CHF 2 CHF 2 ; CF 2
= CF 2 (tetrafluoroethylene), CF 3 CF = CF
Examples include fluoroalkanes such as 2 (hexafluoropropylene). Among these, perfluoroalkanes such as CF 4 and perfluoroalkenes such as hexafluoropropane (HFP) are preferable because the reaction easily occurs.

【0055】含窒素または含酸素フッ素化炭化水素とし
ては、たとえば式(1): CnabX (1) (式中、Xは酸素原子または窒素原子、nは1〜8、特
に1〜4の整数、aは1〜2n+mの整数、bは0〜2
n+m−1(ただし、mはXが酸素原子のときは2、窒
素原子のときは3)で示される化合物があげられる。具
体例としては、たとえばヘキサフルオロアセトン、ヘキ
サフルオロ−1,2−エポキシエタン、デカフルオロエ
ーテル、トリ(トリフルオロメチル)アミン、テトラフ
ルオロエチルメチルエーテルなどがあげられる。
Examples of the nitrogen-containing or oxygen-containing fluorinated hydrocarbon include those represented by the formula (1): C n F a H b X (1) (wherein, X is an oxygen atom or a nitrogen atom, n is 1 to 8, particularly An integer of 1 to 4, a is an integer of 1 to 2n + m, and b is 0 to 2
Examples thereof include compounds represented by n + m-1 (provided that m is 2 when X is an oxygen atom, and 3 when X is a nitrogen atom). Specific examples include hexafluoroacetone, hexafluoro-1,2-epoxyethane, decafluoroether, tri (trifluoromethyl) amine, tetrafluoroethylmethyl ether, and the like.

【0056】限定されるものではないが、半導体製造装
置のシール材用途に特に好ましいフッ素化処理酸化アル
ミニウムフィラーを得る処理方法を例示する。
Although not limited thereto, a treatment method for obtaining a fluorinated aluminum oxide filler which is particularly preferable for use as a sealing material for semiconductor manufacturing equipment will be illustrated.

【0057】フッ素化合物としてフッ化水素、フッ化ア
ンモニウムを使用する場合は、酸化アルミニウム微粒子
を20〜450℃にてフッ素化合物と接触させればよ
い。
When hydrogen fluoride or ammonium fluoride is used as the fluorine compound, the aluminum oxide fine particles may be brought into contact with the fluorine compound at 20 to 450 ° C.

【0058】フッ素化合物としてフッ化硫黄、フッ化フ
ルフリル、フッ化チオニルを使用する場合は、接触温度
として300〜500℃が採用される。
When sulfur fluoride, furfuryl fluoride or thionyl fluoride is used as the fluorine compound, a contact temperature of 300 to 500 ° C. is adopted.

【0059】HFPなどの有機フッ素化合物を使用する
場合は、100〜600℃、好ましくは150〜450
℃で酸化アルミニウム微粒子と接触させればよい。
When an organic fluorine compound such as HFP is used, the temperature is 100 to 600 ° C., preferably 150 to 450.
It may be brought into contact with the aluminum oxide fine particles at ℃.

【0060】他の表面活性低減化処理法としては、たと
えば無機フィラーを150〜600℃の温度で炭化水素
化合物と接触させる方法、シランカップリング剤などで
無機フィラーを表面処理する方法などがあげられる。た
だ、シランカップリング剤で表面処理する方法は、高温
下またはプラズマ照射雰囲気下で使用するとシランカッ
プリング剤に由来するアウトガスが発生するため、高度
のクリーン化が要求される半導体製造装置の分野での使
用には不向きである。
Other surface activity reducing treatment methods include, for example, a method of bringing an inorganic filler into contact with a hydrocarbon compound at a temperature of 150 to 600 ° C., a method of surface treating the inorganic filler with a silane coupling agent or the like. . However, the method of surface treatment with a silane coupling agent is used in the field of semiconductor manufacturing equipment that requires a high degree of cleanliness, because outgas generated from the silane coupling agent is generated when used at high temperatures or in a plasma irradiation atmosphere. Is not suitable for use.

【0061】かくして得られる本発明の改質無機フィラ
ーは、前述のとおり、酸素プラズマ照射およびNF3
ラズマ照射によっても重量変化が小さく、耐プラズマ性
に優れたものである。
As described above, the modified inorganic filler of the present invention thus obtained has a small weight change due to oxygen plasma irradiation and NF 3 plasma irradiation, and is excellent in plasma resistance.

【0062】本発明はまた、本発明の改質無機フィラー
(A)と架橋性含フッ素エラストマー(B)と架橋剤(C)お
よび/または架橋促進剤(D)とからなる架橋用エラス
トマー組成物に関する。
The present invention also relates to the modified inorganic filler of the present invention.
The present invention relates to a cross-linking elastomer composition comprising (A), a cross-linkable fluorine-containing elastomer (B), a cross-linking agent (C) and / or a cross-linking accelerator (D).

【0063】改質無機フィラー(A)の配合量は、架橋
性含フッ素エラストマー(B)100重量部に対して1
〜150重量部、好ましくは1〜50重量部である。少
なすぎると無機フィラーの添加効果が奏されず、多すぎ
ると成形品のシール性が低下し、硬度も大きくなってし
まう。
The compounding amount of the modified inorganic filler (A) is 1 with respect to 100 parts by weight of the crosslinkable fluorine-containing elastomer (B).
˜150 parts by weight, preferably 1 to 50 parts by weight. If the amount is too small, the effect of adding the inorganic filler is not exerted, and if the amount is too large, the sealing property of the molded product deteriorates and the hardness also increases.

【0064】含フッ素エラストマー(B)の架橋性基と
してはカルボキシル(COOH)基、アルコキシカルボ
ニル(COOR)基、ニトリル(CN)基、ヨウ素原子
または臭素原子などがあげられるが、架橋時に耐熱架橋
構造を取り得るCOOH基、COOR基またはCN基が
好ましく、特に耐熱性に優れた架橋構造を与えるCOO
H基またはCN基が好適である。
Examples of the crosslinkable group of the fluorine-containing elastomer (B) include a carboxyl (COOH) group, an alkoxycarbonyl (COOR) group, a nitrile (CN) group, an iodine atom or a bromine atom. A COOH group, a COOR group or a CN group capable of taking a hydrogen atom is preferable, and particularly a COO that gives a crosslinked structure excellent in heat resistance.
H or CN groups are preferred.

【0065】含フッ素エラストマーの具体例としては、
式(I): X1−[A−(Y)pq−X2 (I) または式(II): X1−[A−(Y1pq−[B−(Y2rs−X2 (II) (式中、X1およびX2は重合時の開始剤や連鎖移動剤を
変えることにより、また末端基を修飾することにより任
意に変えることができ、特に限定されるものではない
が、たとえば、同じかまたは異なり、いずれもカルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、ニトリル基、ヨウ素
原子、臭素原子またはスルホン酸基などがあげられる。
Y、Y1およびY2は同じかまたは異なり、いずれも側鎖
にカルボキシル基、アルコキシカルボニル基またはニト
リル基を有する2価の有機基、Aはエラストマー性含フ
ッ素ポリマー鎖セグメント(以下、「エラストマー性セ
グメントA」という)、Bは非エラストマー性含フッ素
ポリマー鎖セグメント(以下、「非エラストマー性セグ
メントB」という)、pは0〜50の整数、qは1〜5
の整数、rは0〜10の整数、sは1〜3の整数であ
る、ただしX1、X2、Y、Y1またはY2のいずれか一つ
はニトリル基、カルボキシル基またはアルコキシカルボ
ニル基であり、Y、Y1およびY2はAまたはBのセグメ
ント中にランダムに入っていてもよい)で示され、架橋
部位としてカルボキシル基、ニトリル基および/または
アルコキシカルボニル基を主鎖の末端および/または分
岐鎖に有する架橋可能な含フッ素エラストマーが好まし
い。
Specific examples of the fluorine-containing elastomer include
Formula (I): X 1 - [ A- (Y) p] q -X 2 (I) or formula (II): X 1 - [ A- (Y 1) p] q - [B- (Y 2) r ] s -X 2 (II) (In the formula, X 1 and X 2 can be arbitrarily changed by changing an initiator or a chain transfer agent at the time of polymerization, or by modifying an end group. Although they are not the same, they are, for example, the same or different and each is a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a nitrile group, an iodine atom, a bromine atom, or a sulfonic acid group.
Y, Y 1 and Y 2 are the same or different and each is a divalent organic group having a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group or a nitrile group in the side chain, A is an elastomeric fluorine-containing polymer chain segment (hereinafter referred to as “elastomer Segment A "), B is a non-elastomeric fluoropolymer chain segment (hereinafter referred to as" non-elastomeric segment B "), p is an integer of 0 to 50, and q is 1 to 5.
Is an integer of 0 to 10 and s is an integer of 1 to 3, provided that any one of X 1 , X 2 , Y, Y 1 or Y 2 is a nitrile group, a carboxyl group or an alkoxycarbonyl group. And Y, Y 1 and Y 2 may be randomly contained in the segment of A or B) and has a carboxyl group, a nitrile group and / or an alkoxycarbonyl group as a crosslinking site at the end of the main chain and A crosslinkable fluorine-containing elastomer having a branched chain is preferred.

【0066】エラストマー性セグメントAとしては、た
とえば式(III):
Examples of the elastomeric segment A include those represented by the formula (III):

【0067】[0067]

【化21】 [Chemical 21]

【0068】(式中、m/n=95〜50/5〜50
(モル%)、Rfは炭素数1〜20のフルオロポリオキ
シアルキル基または炭素数1〜8のパーフルオロアルキ
ル基)で示される2元共重合体ゴム、もしくは式(I
V):
(In the formula, m / n = 95 to 50/5 to 50
(Mol%) and R f is a binary copolymer rubber represented by a fluoropolyoxyalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a perfluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a compound represented by the formula (I
V):

【0069】[0069]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0070】(式中、l/m/n=95〜35/0〜3
0/5〜35(モル%)、Rfは炭素数1〜20のフル
オロポリオキシアルキル基または炭素数1〜8のパーフ
ルオロアルキル基)で示される3元共重合体ゴムなどの
パーフルオロエラストマーセグメント、または式
(V):
(In the formula, 1 / m / n = 95 to 35/0 to 3
Perfluoroelastomer such as terpolymer rubber represented by 0/5 to 35 (mol%), R f is a fluoropolyoxyalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a perfluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms) Segment or expression (V):

【0071】[0071]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0072】(式中、m/n=85〜60/15〜40
(モル%))で示される2元共重合体ゴム、式(VI):
(In the formula, m / n = 85-60 / 15-40
(Mol%)), a binary copolymer rubber represented by the formula (VI):

【0073】[0073]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0074】(式中、l/m/n=85〜20/0〜4
0/15〜40(モル%))で示される3元共重合体ゴ
ム、式(VII):
(Wherein 1 / m / n = 85-20 / 0-4
0/15 to 40 (mol%)), a terpolymer rubber represented by the formula (VII):

【0075】[0075]

【化25】 [Chemical 25]

【0076】(式中、l/m/n=95〜45/0〜1
0/5〜45(モル%)、Z1、Z2およびZ3はそれぞ
れ独立してフッ素原子または水素原子、Rfは炭素数1
〜20のフルオロポリオキシアルキル基または炭素数1
〜8のパーフルオロアルキル基)で示される3元共重合
体ゴム、もしくは
(In the formula, 1 / m / n = 95 to 45 / 0-1
0/5 to 45 (mol%), Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently a fluorine atom or a hydrogen atom, and R f is a carbon atom of 1
~ 20 fluoropolyoxyalkyl groups or 1 carbon atoms
~ 8 perfluoroalkyl group) terpolymer rubber, or

【0077】[0077]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0078】(l/m/n=1〜80/0〜80/10
〜50(モル%)、Rfは前記と同じ)などの非パーフ
ルオロエラストマーセグメントであってもよい。
(L / m / n = 1-80 / 0-80 / 10
˜50 (mol%), R f is the same as above), and the like.

【0079】また、分岐鎖に架橋点を導入するための
Y、Y1、Y2としては、たとえば
Further, as Y, Y 1 and Y 2 for introducing a cross-linking point into the branched chain, for example,

【0080】[0080]

【化27】 [Chemical 27]

【0081】で示されるニトリル基含有単量体、カルボ
キシル基含有単量体、アルコキシカルボニル基含有単量
体などがあげられ、通常、ニトリル基含有単量体、カル
ボキシル基含有単量体などが好適である。
Examples thereof include nitrile group-containing monomers, carboxyl group-containing monomers, alkoxycarbonyl group-containing monomers and the like. Usually, nitrile group-containing monomers and carboxyl group-containing monomers are preferable. Is.

【0082】非エラストマー性セグメントBとしては、
フッ素原子を含み前記エラストマー性を有していなけれ
ば基本的には限定されず、非エラストマー性セグメント
Bをブロック共重合することによりえようとする特性・
機能に合わせて選択すればよい。なかでも、機械的物性
を付与するためには結晶融点が150℃以上である結晶
性ポリマー鎖セグメントであることが好ましい。
As the non-elastomeric segment B,
Basically, it is not limited as long as it contains a fluorine atom and does not have the above-mentioned elastomeric property. It is a property to be obtained by block-copolymerizing the non-elastomeric segment B.
It may be selected according to the function. Among them, a crystalline polymer chain segment having a crystalline melting point of 150 ° C. or higher is preferable in order to impart mechanical properties.

【0083】非エラストマー性セグメントBを構成しう
る単量体のうち含フッ素単量体としては、たとえばTF
E、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)、パーフ
ルオロ(アルキルビニルエーテル)(PAVE)、ヘキ
サフルオロプロピレン(HFP)、CF2=CF(C
2pX(pは1〜10の整数、XはFまたはCl)、
パーフルオロ−2−ブテンなどのパーハロオレフィン
類;フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、トリフルオロエ
チレン、
Among the monomers which can form the non-elastomeric segment B, the fluorine-containing monomer is, for example, TF.
E, chlorotrifluoroethylene (CTFE), perfluoro (alkyl vinyl ether) (PAVE), hexafluoropropylene (HFP), CF 2 ═CF (C
F 2 ) p X (p is an integer of 1 to 10, X is F or Cl),
Perhaloolefins such as perfluoro-2-butene; vinylidene fluoride, vinyl fluoride, trifluoroethylene,

【0084】[0084]

【化28】 [Chemical 28]

【0085】(X5およびX6はHまたはF、qは1〜1
0の整数)、CH2=C(CF32などの部分フッ素化
オレフィン類の1種または2種以上があげられる。ま
た、これらと共重合可能な単量体、たとえばエチレン、
プロピレン、塩化ビニル、ビニルエーテル類、カルボン
酸ビニルエステル類、アクリル類の1種または2種以上
も共重合成分として使用できる。
(X 5 and X 6 are H or F, q is 1 to 1
One integer or two or more kinds of partially fluorinated olefins such as CH 2 ═C (CF 3 ) 2 and the like. Further, a monomer copolymerizable with these, for example, ethylene,
One or more of propylene, vinyl chloride, vinyl ethers, carboxylic acid vinyl esters, and acrylics can be used as a copolymerization component.

【0086】これらのうち、耐薬品性、耐熱性の点か
ら、主成分に用いる単量体としては含フッ素オレフィン
単独または含フッ素オレフィン同士の組合せ、エチレン
とTFEの組合せ、エチレンとCTFEの組合せが好ま
しく、特にパーハロオレフィンの単独またはパーハロオ
レフィン同士の組合せが好ましい。
Of these, from the viewpoint of chemical resistance and heat resistance, the monomer used as the main component is a fluorine-containing olefin alone or a combination of fluorine-containing olefins, a combination of ethylene and TFE, a combination of ethylene and CTFE. Particularly preferred are perhaloolefins alone or combinations of perhaloolefins.

【0087】具体的には、 (1)VdF/TFE(0〜100/100〜0)、特
にVdF/TFE(70〜99/30〜1)、PTFE
またはPVdF; (2)エチレン/TFE/HFP(6〜60/40〜8
1/1〜30)、3,3,3−トリフルオロプロピレン
−1,2−トリフルオロメチル−3,3,3−トリフル
オロプロピレン−1/PAVE(40〜60/60〜4
0); (3)TFE/CF2=CF−Rf 3(非エラストマー性
を示す組成範囲、すなわち、CF2=CF−Rf 3が15
モル%以下。Rf 3は1個以上のエーテル型酸素原子を有
していてもよい直鎖状または分岐鎖状のフルオロ−もし
くはパーフルオロアルキル基、またはフルオロ−もしく
はパーフルオロオキシアルキル基である。); (4)VdF/TFE/CTFE(50〜99/30〜
0/20〜1); (5)VdF/TFE/HFP(60〜99/30〜0
/10〜1); (6)エチレン/TFE(30〜60/70〜40); (7)ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTF
E); (8)エチレン/CTFE(30〜60/70〜40)
などがあげられる。なお、カッコ内はモル%を示す。こ
れらのうち、耐薬品性と耐熱性の点から、特にPTFE
およびTFE/CF2=CF−Rf 3(Rf 3は前記と同
じ)の非エラストマー性の共重合体が好ましい。
Specifically, (1) VdF / TFE (0-100 / 100-0), especially VdF / TFE (70-99 / 30-1), PTFE
Or PVdF; (2) ethylene / TFE / HFP (6 to 60/40 to 8)
1/1 to 30), 3,3,3-trifluoropropylene-1,2-trifluoromethyl-3,3,3-trifluoropropylene-1 / PAVE (40 to 60/60 to 4)
0); (3) TFE / CF 2 = CF-R f 3 (composition range showing non-elastomeric property, that is, CF 2 = CF-R f 3 is 15).
Mol% or less. R f 3 is a linear or branched fluoro- or perfluoroalkyl group which may have one or more ether type oxygen atoms, or a fluoro- or perfluorooxyalkyl group. ); (4) VdF / TFE / CTFE (50-99 / 30-
0/20 to 1); (5) VdF / TFE / HFP (60 to 99/30 to 0)
/ 10 to 1); (6) Ethylene / TFE (30 to 60/70 to 40); (7) Polychlorotrifluoroethylene (PCTF
E); (8) Ethylene / CTFE (30-60 / 70-40)
And so on. In the parentheses, mol% is shown. Among them, PTFE is especially preferable from the viewpoint of chemical resistance and heat resistance.
And TFE / CF 2 = CF-R f 3 (R f 3 is as defined above) nonelastomeric copolymer is preferred.

【0088】また、非エラストマー性セグメントBを構
成しうる単量体として、各種架橋のために前記した硬化
部位を与える単位Y2を5モル%以下、好ましくは2モ
ル%以下導入してもよい。
As the monomer capable of forming the non-elastomeric segment B, 5 mol% or less, preferably 2 mol% or less, of the unit Y 2 which gives the above-mentioned curing site for various crosslinking may be introduced. .

【0089】非エラストマー性セグメントBのブロック
共重合は、たとえばエラストマー性セグメントAの乳化
重合に引き続き、単量体を非エラストマー性セグメント
B用に変えることにより行なうことができる。
The block copolymerization of the non-elastomeric segment B can be carried out, for example, by emulsion-polymerizing the elastomeric segment A and then changing the monomer for the non-elastomeric segment B.

【0090】非エラストマー性セグメントBの平均分子
量は、1,000〜1,200,000、好ましくは
3,000〜400,000と広い幅で調整できる。
The average molecular weight of the non-elastomeric segment B can be adjusted within a wide range of 1,000 to 1,200,000, preferably 3,000 to 400,000.

【0091】また、エラストマー性セグメントAの構成
単位の90モル%以上、特に95モル%以上をパーハロ
オレフィン単位とすることによりエラストマー性セグメ
ントAに確実に非エラストマー性セグメントBをブロッ
ク共重合でき、しかも非エラストマー性セグメントBの
分子量(重合度)を大きくすることができる。
Further, by making 90 mol% or more, especially 95 mol% or more of the constitutional units of the elastomeric segment A a perhaloolefin unit, it is possible to surely block-copolymerize the non-elastomeric segment B with the elastomeric segment A, Moreover, the molecular weight (degree of polymerization) of the non-elastomeric segment B can be increased.

【0092】エラストマーの末端基であるX1、X2とし
ては、前記のとおり特に限定されないが、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基またはニトリル基であるこ
とが好ましく、末端基にカルボキシル基を導入する方法
としては、後述する酸処理法があげられる。
The terminal groups X 1 and X 2 of the elastomer are not particularly limited as described above, but are preferably a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group or a nitrile group. As a method for introducing a carboxyl group into the terminal group, Examples include the acid treatment method described below.

【0093】前記含フッ素エラストマーは、乳化重合
法、懸濁重合法、溶液重合法などの重合法により製造す
ることができる。
The fluorine-containing elastomer can be produced by a polymerization method such as an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method or a solution polymerization method.

【0094】重合開始剤としては、好ましくはカルボキ
シル基またはカルボキシル基を生成し得る基(たとえば
酸フルオライド、酸クロライド、CF2OH。これらは
いずれも水の存在下にカルボキシル基を生ずる)をエラ
ストマー末端に存在させ得るものが用いられる。具体例
としては、たとえば過硫酸アンモニウム(APS)、過
硫酸カリウム(KPS)などがあげられる。
The polymerization initiator is preferably a carboxyl group or a group capable of forming a carboxyl group (eg, acid fluoride, acid chloride, CF 2 OH, all of which generate a carboxyl group in the presence of water) at the end of the elastomer. Those that can be present in are used. Specific examples include ammonium persulfate (APS) and potassium persulfate (KPS).

【0095】また、分子量の調整に通常使用される連鎖
移動剤を使用してもよいが、末端に導入されるカルボキ
シル基を生成し得る基の割合が低下するため、できるだ
け使用しない方がよい。ただし、連鎖移動剤が前記基を
エラストマー末端に存在させ得るものであれば、この限
りではない。連鎖移動剤を使用しない場合、分子量は重
合を低圧、たとえば2MPa・G未満、好ましくは1M
Pa・G以下で行なうことにより調整すればよい。その
他の重合条件は、特に制限されないが、カルボキシル基
を末端および/または分岐鎖に有する重合生成物を後述
する酸処理を経ずに得るためには、重合系のpHを3以
下の強酸性とするのが好ましい。
A chain transfer agent usually used for adjusting the molecular weight may be used, but it is preferably not used as much as possible because the proportion of the group capable of forming a carboxyl group introduced at the terminal decreases. However, the chain transfer agent is not limited to this as long as the group can exist at the terminal of the elastomer. If no chain transfer agent is used, the molecular weight is such that the polymerization is carried out at low pressure, eg below 2 MPa · G, preferably 1M.
It may be adjusted by carrying out at Pa · G or less. Other polymerization conditions are not particularly limited, but in order to obtain a polymerization product having a carboxyl group at the terminal and / or the branched chain without undergoing the acid treatment described below, the pH of the polymerization system is set to a strong acid of 3 or less. Preferably.

【0096】かくして得られた重合生成物は重合条件に
よっては遊離のカルボキシル基が含まれていないものも
あるが、それらもつぎの酸処理を施すことにより、遊離
のカルボキシル基に変換することができる。
Although some of the thus obtained polymerization products do not contain a free carboxyl group depending on the polymerization conditions, they can be converted into a free carboxyl group by the following acid treatment. .

【0097】本発明で用いる含フッ素エラストマーは、
重合生成物を酸処理することにより、重合生成物に存在
しているカルボン酸の金属塩やアンモニウム塩などの基
をカルボキシル基に変換することが好ましい。酸処理法
としては、たとえば塩酸、硫酸、硝酸などにより洗浄す
るか、これらの酸で重合反応後の混合物の系をpH3以
下にする方法が適当である。
The fluorine-containing elastomer used in the present invention is
By subjecting the polymerization product to an acid treatment, it is preferable to convert a group such as a metal salt or an ammonium salt of a carboxylic acid present in the polymerization product into a carboxyl group. As the acid treatment method, for example, washing with hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid or the like, or a method of adjusting the pH of the mixture system after the polymerization reaction to 3 or less with these acids is suitable.

【0098】この酸処理は、重合反応混合物から重合生
成物を凝析により単離する際の凝析手段として適用する
のが、工程の簡略化の点から好ましい。または、重合混
合物を酸処理し、その後凍結乾燥などの手段で重合生成
物を単離してもよい。さらに超音波などによる凝析や機
械力による凝析などの方法も採用できる。
This acid treatment is preferably applied as a coagulation means when the polymerization product is isolated from the polymerization reaction mixture by coagulation, from the viewpoint of simplifying the process. Alternatively, the polymerization mixture may be treated with an acid and then the polymerization product may be isolated by a means such as freeze-drying. Furthermore, a method such as coagulation by ultrasonic waves or coagulation by mechanical force can be adopted.

【0099】また、ヨウ素や臭素を含有する含フッ素エ
ラストマーを発煙硫酸により酸化してカルボキシル基を
導入することもできる。
It is also possible to introduce a carboxyl group by oxidizing a fluorine-containing elastomer containing iodine or bromine with fuming sulfuric acid.

【0100】含フッ素エラストマー(B)に導入する架
橋性基がCOOH基またはCN基である場合、架橋性基
の量は架橋密度を適正にする点から0.1モル%以上、
好ましくは0.3〜5モル%、さらに好ましくは0.3
〜3モル%である。
When the crosslinkable group introduced into the fluorine-containing elastomer (B) is a COOH group or a CN group, the amount of the crosslinkable group is 0.1 mol% or more from the viewpoint of making the crosslink density proper,
Preferably 0.3-5 mol%, more preferably 0.3
~ 3 mol%.

【0101】本発明の含フッ素エラストマーは架橋剤を
使用しない架橋方法、たとえば電子線照射法、放射線照
射法、紫外線照射法などの高エネルギー線照射法で架橋
することもできるが、加工性や成形品の耐熱性を向上さ
せる点からCN基、COOH基などの架橋性基と反応可
能な架橋剤を配合する。
The fluorine-containing elastomer of the present invention can be crosslinked by a crosslinking method that does not use a crosslinking agent, for example, a high energy ray irradiation method such as an electron beam irradiation method, a radiation irradiation method, or an ultraviolet irradiation method. From the viewpoint of improving the heat resistance of the product, a crosslinking agent capable of reacting with a crosslinking group such as a CN group or a COOH group is added.

【0102】COOH基またはCN基、さらにはCOO
R基と反応可能な具体的な架橋剤としては、式(1)〜
(5)として前述した架橋剤が好ましくあげられる。
COOH group or CN group, and further COO
Specific cross-linking agents capable of reacting with the R group include those represented by formulas (1) to
The cross-linking agent described above as (5) is preferred.

【0103】式(1)の架橋剤の具体例としては、たと
えば2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン(一般名:ビス(アミノフ
ェノール)AF)、2,2−ビス(3−アミノ−4−メ
ルカプトフェニル)ヘキサフルオロプロパン、テトラア
ミノベンゼン、ビス−3,4−ジアミノフェニルメタ
ン、ビス−3,4−ジアミノフェニルエーテル、2,2
−ビス(3,4−ジアミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス[3−アミノ−4(N−メチルア
ミノ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス[3−アミノ−4(N−フェニルアミノ)フェニル]
ヘキサフルオロプロパン2,2−ビス[3−アミノ−4
(N−メチルアミノ)フェニル]ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス[3−アミノ−4(N−フェニルアミ
ノ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンなどがあげられ
る。
Specific examples of the crosslinking agent of the formula (1) include, for example, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (general name: bis (aminophenol) AF), 2,2. -Bis (3-amino-4-mercaptophenyl) hexafluoropropane, tetraaminobenzene, bis-3,4-diaminophenylmethane, bis-3,4-diaminophenyl ether, 2,2
-Bis (3,4-diaminophenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis [3-amino-4 (N-methylamino) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [3-amino-4 (N -Phenylamino) phenyl]
Hexafluoropropane 2,2-bis [3-amino-4
Examples thereof include (N-methylamino) phenyl] hexafluoropropane and 2,2-bis [3-amino-4 (N-phenylamino) phenyl] hexafluoropropane.

【0104】式(2)の架橋剤の具体例としては、たと
えば2,2−ビス[N−(2−アミノフェニル)−(3
−アミノフェニル)]ヘキサフルオロプロパン、2,2
−ビス[N−(2−アミノフェニル)−(4−アミノフ
ェニル)]ヘキサフルオロプロパンなどがあげられる。
Specific examples of the crosslinking agent of the formula (2) include, for example, 2,2-bis [N- (2-aminophenyl)-(3
-Aminophenyl)] hexafluoropropane, 2,2
-Bis [N- (2-aminophenyl)-(4-aminophenyl)] hexafluoropropane and the like.

【0105】式(3)の架橋剤の具体例としては、たと
えば
Specific examples of the cross-linking agent of the formula (3) are, for example,

【0106】[0106]

【化29】 [Chemical 29]

【0107】などがあげられる。And the like.

【0108】式(4)の架橋剤の具体例としては、たと
えばパーフルオロアジピン酸ビスアミドラゾン、パーフ
ルオロスベリン酸ビスアミドラゾンなどがあげられる。
Specific examples of the cross-linking agent of the formula (4) include perfluoroadipic acid bisamidrazone, perfluorosuberic acid bisamidrazone and the like.

【0109】式(5)の架橋剤の具体例としては、たと
えば
Specific examples of the cross-linking agent of the formula (5) are, for example,

【0110】[0110]

【化30】 [Chemical 30]

【0111】などがあげられる。And the like.

【0112】これらのうち、成形品の耐熱性、耐薬品性
を向上させる点から式(1)および(2)の架橋剤、と
りわけ2,2−ビス[3−アミノ−4(N−フェニルア
ミノ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス[N−(2−アミノフェニル)−(3−アミノフェニ
ル)]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[N−
(2−アミノフェニル)−(4−アミノフェニル)]ヘ
キサフルオロプロパンが好ましい。
Of these, the crosslinking agents of the formulas (1) and (2), especially 2,2-bis [3-amino-4 (N-phenylamino) from the viewpoint of improving the heat resistance and chemical resistance of the molded article. ) Phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [N- (2-aminophenyl)-(3-aminophenyl)] hexafluoropropane, 2,2-bis [N-
(2-Aminophenyl)-(4-aminophenyl)] hexafluoropropane is preferred.

【0113】架橋剤(C)の配合量は、好ましくはエラ
ストマー100重量部に対して0.1〜10重量部、好
ましくは0.5〜5重量部である。
The compounding amount of the crosslinking agent (C) is preferably 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the elastomer.

【0114】さらに要すれば、架橋剤(C)に代えて、
または加えて架橋促進剤(D)を配合してもよい。架橋
促進剤(D)としては、たとえば有機スズ化合物や15
0〜200℃でアンモニアガスを発生させる有機および
/または無機のアンモニウム塩などがあげられ、特に耐
熱性を有する架橋構造を与える点から有機スズ化合物が
好ましい。
If necessary, instead of the cross-linking agent (C),
Alternatively, a crosslinking accelerator (D) may be added. Examples of the crosslinking accelerator (D) include organotin compounds and 15
Examples thereof include organic and / or inorganic ammonium salts that generate ammonia gas at 0 to 200 ° C., and organic tin compounds are particularly preferable in terms of providing a crosslinked structure having heat resistance.

【0115】架橋促進剤の配合量は、好ましくはエラス
トマー100重量部に対して0.1〜10重量部、好ま
しくは0.5〜5重量部である。
The amount of the crosslinking accelerator compounded is preferably 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the elastomer.

【0116】また、架橋系として前記のほかにトリアリ
ルイソシアヌレート類を用いたトリアジン架橋系、パー
オキサイド架橋系、ポリオール架橋系なども採用でき
る。なかでも、トリアリルイソシアヌレートの3個のア
リル基中の水素原子をフッ素原子に置換したフッ素化ト
リアリルイソシアヌレート(US4,320,216他)は耐熱性
に優れた成形品を与える点から好ましい。
In addition to the above, a triazine cross-linking system using triallyl isocyanurates, a peroxide cross-linking system, a polyol cross-linking system and the like can be adopted as the cross-linking system. Among them, fluorinated triallyl isocyanurate (US Pat. No. 4,320,216, etc.) obtained by substituting hydrogen atoms in the three allyl groups of triallyl isocyanurate with fluorine atoms is preferable from the viewpoint of giving a molded article excellent in heat resistance.

【0117】本発明の組成物において、必要に応じて架
橋用含フッ素エラストマー組成物に配合される通常の添
加物、たとえば充填剤、加工助剤、可塑剤、着色剤など
を配合することができ、前記のものとは異なる常用の架
橋剤や架橋促進剤を1種またはそれ以上配合してもよ
い。また、本発明の効果を損なわない範囲において、公
知のフッ素ゴムを混合してもよい。
In the composition of the present invention, if necessary, usual additives which are compounded in the fluorine-containing elastomer composition for crosslinking, such as fillers, processing aids, plasticizers, colorants and the like can be compounded. One or more conventional crosslinking agents or crosslinking accelerators different from the above may be blended. Further, known fluororubbers may be mixed as long as the effects of the present invention are not impaired.

【0118】本発明の組成物は、上記の各成分を、通常
のゴム用加工機械、たとえば、オープンロール、バンバ
リーミキサー、ニーダーなどを用いて混合することによ
り調製することができる。この他、密閉式混合機を用い
る方法やエマルジョン混合から共凝析する方法によって
も調製することができる。
The composition of the present invention can be prepared by mixing the above components using a usual rubber processing machine such as an open roll, a Banbury mixer or a kneader. In addition, it can be prepared by a method using a closed mixer or a method of co-coagulating from emulsion mixing.

【0119】上記組成物から予備成形体を得る方法は通
常の方法でよく、金型にて加熱圧縮する方法、加熱され
た金型に圧入する方法、押出機で押出す方法など公知の
方法で行なうことができる。ホースや電線などの押出製
品の場合は押出後も形を保持することが可能なので、架
橋剤を使用せずに押出した予備成形体をそのまま用いる
ことができる。もちろん架橋剤を使用してスチームなど
による加熱架橋を施した予備成形体を用いることも可能
である。またO−リングなどの型物製品で未架橋状態で
は離型後も形を保持することが困難な場合は、架橋剤を
使用してあらかじめ架橋した予備成形体を用いることに
より実施可能となる。
A method for obtaining a preform from the above composition may be a conventional method, such as a method of heating and compressing with a mold, a method of pressing into a heated mold, a method of extruding with an extruder, or the like. Can be done. In the case of an extruded product such as a hose or an electric wire, the shape can be maintained even after the extruding, and therefore the extruded preform can be used as it is without using a crosslinking agent. Of course, it is also possible to use a preformed body that has been subjected to heat crosslinking with steam or the like using a crosslinking agent. When it is difficult to maintain the shape of a molded product such as an O-ring in a non-crosslinked state even after the mold is released, it can be carried out by using a preformed product which is pre-crosslinked with a crosslinking agent.

【0120】本発明はかくして得られる架橋物(成形
品)にも関する。
The present invention also relates to the crosslinked product (molded article) thus obtained.

【0121】本発明の成形品は高い機械的強度や耐熱性
を有している。それ以上に、驚くべきことに特にシール
材として不可欠なシール性を評価する基準である圧縮永
久歪みが230℃以上という高温時においても小さくな
っている。
The molded article of the present invention has high mechanical strength and heat resistance. Surprisingly, the compression set, which is a standard for evaluating the sealing property, which is indispensable as a sealing material, is surprisingly small even at a high temperature of 230 ° C. or higher.

【0122】本発明の成形品を、たとえばWO99/4
9997号パンフレット記載の特殊な洗浄法、すなわち
超純水により洗浄する方法、洗浄温度で液状のクリーン
な有機化合物や無機水溶液により洗浄する方法、乾式エ
ッチング洗浄する方法、抽出洗浄する方法にしたがって
処理することにより極めて高度にクリーン化され、しか
もアウトガス量が少なく耐プラズマ性に優れた半導体製
造装置用の成形品が得られる。
The molded article of the present invention can be obtained, for example, from WO99 / 4.
Treatment is carried out according to a special cleaning method described in the No. 9997 pamphlet, that is, a method of cleaning with ultrapure water, a method of cleaning with a liquid clean organic compound or inorganic aqueous solution at a cleaning temperature, a method of dry etching cleaning, and a method of extraction cleaning. As a result, it is possible to obtain a molded article for a semiconductor manufacturing apparatus which is extremely highly cleaned and has a small amount of outgas and excellent plasma resistance.

【0123】たとえば上記洗浄後、窒素ガス気流下で2
00℃にて24時間加熱した成形品(O−リング:AS
−568A−214)を前記の照射条件(1)で酸素
(O2)プラズマおよびNF3プラズマを照射したときの
重量変化がいずれも5%以下、好ましくは3%以下とす
ることができる。
For example, after the above cleaning, 2 under a nitrogen gas stream.
Molded product heated at 00 ° C for 24 hours (O-ring: AS
-568A-214) can be adjusted to have a weight change of 5% or less, preferably 3% or less when irradiated with oxygen (O 2 ) plasma and NF 3 plasma under the irradiation condition (1).

【0124】さらに、酸素プラズマ照射後のO−リング
をつぎの条件(2)で測定したときのO−リング(AS
−568A−214)1個あたりの発生パーティクル数
が50×1014個以下、好ましくは30×1014個以下
というクリーンな成形品を提供できる。
Furthermore, the O-ring after the oxygen plasma irradiation was measured under the following condition (2) (AS-AS (AS
-568A-214) It is possible to provide a clean molded product in which the number of generated particles per particle is 50 × 10 14 or less, preferably 30 × 10 14 or less.

【0125】(条件(2))前記の照射条件(1)で酸
素プラズマを照射して得られた被験O−リング(AS−
568A−214)を超純水中に入れ、25℃にて1時
間超音波を当ててパーティクルを超純水中に遊離させ、
この超純水中に遊離した粒子径が0.2μm以上の粒子
(パーティクル)の数を微粒子測定器法により調べる。
(Condition (2)) A test O-ring (AS-) obtained by irradiating oxygen plasma under the above irradiation condition (1).
568A-214) in ultrapure water and ultrasonic waves at 25 ° C. for 1 hour to release particles into ultrapure water.
The number of particles (particles) having a particle size of 0.2 μm or more released in this ultrapure water is examined by a fine particle measuring method.

【0126】本発明の架橋性エラストマー組成物は半導
体製造装置用の成形品、特に高度なクリーンさが要求さ
れる半導体製造装置、特に高密度プラズマ照射が行なわ
れる半導体製造装置の封止用のシール材の製造に好適に
使用できる。シール材としてはO−リング、角−リン
グ、ガスケット、パッキン、オイルシール、ベアリング
シール、リップシールなどがあげられる。
The crosslinkable elastomer composition of the present invention is a molded article for a semiconductor manufacturing apparatus, particularly a seal for sealing a semiconductor manufacturing apparatus which requires a high degree of cleanliness, especially a semiconductor manufacturing apparatus which is subjected to high-density plasma irradiation. It can be preferably used for the production of wood. Examples of the sealing material include O-rings, square rings, gaskets, packings, oil seals, bearing seals and lip seals.

【0127】そのほか、半導体製造装置に使用される各
種のエラストマー製品、たとえばダイヤフラム、チュー
ブ、ホース、各種ゴムロールなどとしても使用できる。
また、コーティング用材料、ライニング用材料としても
使用できる。
In addition, it can be used as various elastomer products used in semiconductor manufacturing equipment, such as diaphragms, tubes, hoses, and various rubber rolls.
It can also be used as a coating material and a lining material.

【0128】なお、本発明でいう半導体製造装置は、特
に半導体を製造するための装置に限られるものではな
く、広く、液晶パネルやプラズマパネルを製造するため
の装置など、高度なクリーン度が要求される半導体分野
において用いられる製造装置全般を含むものである。
The semiconductor manufacturing apparatus referred to in the present invention is not limited to an apparatus for manufacturing a semiconductor in particular, but a wide range of apparatuses such as an apparatus for manufacturing a liquid crystal panel or a plasma panel are required to have a high degree of cleanliness. It includes all manufacturing equipment used in the semiconductor field.

【0129】具体的には、次のような半導体製造装置が
例示される。
Specifically, the following semiconductor manufacturing apparatus is exemplified.

【0130】(1)エッチング装置 ドライエッチング装置 プラズマエッチング装置 反応性イオンエッチング装置 反応性イオンビームエッチング装置 スパッタエッチング装置 イオンビームエッチング装置 ウェットエッチング装置 アッシング装置(1) Etching device Dry etching equipment Plasma etching equipment Reactive ion etching equipment Reactive ion beam etching system Sputter etching equipment Ion beam etching equipment Wet etching equipment Ashing device

【0131】(2)洗浄装置 乾式エッチング洗浄装置 UV/O3洗浄装置 イオンビーム洗浄装置 レーザービーム洗浄装置 プラズマ洗浄装置 ガスエッチング洗浄装置 抽出洗浄装置 ソックスレー抽出洗浄装置 高温高圧抽出洗浄装置 マイクロウェーブ抽出洗浄装置 超臨界抽出洗浄装置(2) Cleaning device Dry etching cleaning device UV / O 3 cleaning device Ion beam cleaning device Laser beam cleaning device Plasma cleaning device Gas etching cleaning device Extraction cleaning device Soxhlet extraction cleaning device High temperature high pressure extraction cleaning device Microwave extraction cleaning device Supercritical extraction cleaning equipment

【0132】(3)露光装置 ステッパー コータ・デベロッパー(3) Exposure device Stepper Coater / developer

【0133】(4)研磨装置 CMP装置(4) Polishing device CMP equipment

【0134】(5)成膜装置 CVD装置 スパッタリング装置(5) Film forming apparatus CVD equipment Sputtering equipment

【0135】(6)拡散・イオン注入装置 酸化拡散装置 イオン注入装置(6) Diffusion / ion implantation device Oxidation diffusion device Ion implanter

【0136】[0136]

【実施例】つぎに本発明を実施例をあげて説明するが、
本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described with reference to Examples.
The invention is not limited to only such embodiments.

【0137】製造例1(CN基含有含フッ素エラストマ
ーの製造) 着火源をもたない内容積6リットルのステンレススチー
ル製オートクレーブに、純水2リットルおよび乳化剤と
して
Production Example 1 (Production of Fluorine-Containing Elastomer Containing CN Group) In a stainless steel autoclave having an internal volume of 6 liters and having no ignition source, 2 liters of pure water and an emulsifier were used.

【0138】[0138]

【化31】 [Chemical 31]

【0139】20g、pH調整剤としてリン酸水素二ナ
トリウム・12水塩0.18gを仕込み、系内を窒素ガ
スで充分に置換し脱気したのち、600rpmで撹拌し
ながら、50℃に昇温し、テトラフルオロエチレン(T
FE)とパーフルオロ(メチルビニルエーテル)(PM
VE)の混合ガス(TFE/PMVE=25/75モル
比)を、内圧が0.78MPa・Gになるように仕込ん
だ。ついで、過硫酸アンモニウム(APS)の527m
g/mlの濃度の水溶液20mlを窒素圧で圧入して反
応を開始した。
20 g and 0.18 g of disodium hydrogen phosphate dodecahydrate as a pH adjuster were charged, the system was sufficiently replaced with nitrogen gas and deaerated, and then the temperature was raised to 50 ° C. while stirring at 600 rpm. And tetrafluoroethylene (T
FE) and perfluoro (methyl vinyl ether) (PM
A mixed gas of VE) (TFE / PMVE = 25/75 molar ratio) was charged so that the internal pressure was 0.78 MPa · G. Then, ammonium persulfate (APS) 527m
20 ml of an aqueous solution having a concentration of g / ml was pressed under nitrogen pressure to start the reaction.

【0140】重合の進行により内圧が、0.69MPa
・Gまで降下した時点で、CF2=CFOCF2CF(C
3)OCF2CF2CN(CNVE)4.6gを窒素圧
にて圧入した。ついで圧力が0.78MPa・Gになる
ように、TFEを9.4gおよびPMVE10.6gを
それぞれ自圧にて圧入した。以後、反応の進行にともな
い同様にTFE、PMVEを圧入し、0.69〜0.7
8MPa・Gのあいだで、昇圧、降圧を繰り返すと共
に、TFEとPMVEの合計量が140g、260g、
380g、および500gとなった時点でそれぞれCN
VE4.6gを窒素圧で圧入した。
The internal pressure was 0.69 MPa as the polymerization proceeded.
・ At the time of descending to G, CF 2 = CFOCF 2 CF (C
F 3) were OCF 2 CF 2 CN with (CNVE) 4.6 g was injected by nitrogen pressure. Then, 9.4 g of TFE and 10.6 g of PMVE were each injected under its own pressure so that the pressure became 0.78 MPa · G. Thereafter, as the reaction progressed, TFE and PMVE were similarly pressed in to give 0.69 to 0.7.
While increasing and decreasing the pressure between 8 MPa and G, the total amount of TFE and PMVE is 140 g, 260 g,
CN at the time of 380g and 500g respectively
4.6 g of VE was injected with nitrogen pressure.

【0141】重合反応の開始から20時間後、TFEお
よびPMVEの合計仕込み量が600gになった時点
で、オートクレーブを冷却し、未反応モノマーを放出し
て固形分濃度21.2重量%の水性分散体2650gを
得た。
20 hours after the initiation of the polymerization reaction, when the total amount of TFE and PMVE charged reached 600 g, the autoclave was cooled to release the unreacted monomer and to disperse the aqueous solution having a solid content concentration of 21.2% by weight. 2650 g of bodies were obtained.

【0142】この水性分散体のうち2400gを水72
00gで希釈し、3.5重量%塩酸水溶液5600g中
に、撹拌しながらゆっくりと添加した。添加後5分間撹
拌した後、凝析物をろ別し、得られたポリマーをさらに
4kgのHCFC−141b中にあけ、5分間撹拌し、
再びろ別した。この後このHCFC−141bによる洗
浄、ろ別の操作をさらに4回繰り返したのち、60℃で
72時間真空乾燥させ、500gのCN基含有含フッ素
エラストマー凝析物を得た。
2400 g of this aqueous dispersion was mixed with 72% of water.
It was diluted with 00 g and slowly added to 5600 g of a 3.5 wt% hydrochloric acid aqueous solution with stirring. After the mixture was stirred for 5 minutes, the coagulated product was filtered off, and the obtained polymer was poured into 4 kg of HCFC-141b and stirred for 5 minutes.
I separated it again. Thereafter, the operations of washing with HCFC-141b and filtration were repeated 4 times, and then vacuum dried at 60 ° C. for 72 hours to obtain 500 g of a CN group-containing fluorine-containing elastomer coagulation product.

【0143】19F−NMR分析の結果、このエラストマ
ーのモノマー単位組成は、TFE/PMVE/CNVE
(異性体混合物)=59.2/40.0/0.8モル%
であった。
As a result of 19 F-NMR analysis, the monomer unit composition of this elastomer was TFE / PMVE / CNVE.
(Mixture of isomers) = 59.2 / 40.0 / 0.8 mol%
Met.

【0144】実施例1(フッ素化処理酸化アルミニウム
フィラーの製造) 酸化アルミニウムフィラー(住友化学工業(株)製のA
KP−G008、比表面積:80m2/g、一次平均粒
子径:0.02μm、結晶型:θ型単斜晶系)60gを
1リットルの四つ口フラスコに入れ、ポリテトラフルオ
ロエチレン製の攪拌翼で攪拌しながら250℃にて1時
間窒素ガスを20ml/minの流量で流して窒素雰囲
気とした。ついでガスをヘキサフルオロプロピレンに変
え、250℃にて20ml/minの流量で流して酸化
アルミニウムフィラーと接触させた。15分後、再びガ
スを窒素ガスに戻し、室温まで降温してフッ素化処理さ
れた酸化アルミニウムフィラー(Al−1)を製造し
た。
Example 1 (Production of fluorinated aluminum oxide filler) Aluminum oxide filler (A manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
KP-G008, specific surface area: 80 m 2 / g, primary average particle diameter: 0.02 μm, crystal form: θ-type monoclinic system) 60 g was placed in a 1-liter four-necked flask and stirred with polytetrafluoroethylene. While stirring with a blade, nitrogen gas was caused to flow at 250 ° C. for 1 hour at a flow rate of 20 ml / min to create a nitrogen atmosphere. Then, the gas was changed to hexafluoropropylene, and the mixture was flowed at 250 ° C. at a flow rate of 20 ml / min to be brought into contact with the aluminum oxide filler. After 15 minutes, the gas was returned to nitrogen gas and the temperature was lowered to room temperature to produce a fluorinated aluminum oxide filler (Al-1).

【0145】実施例2(フッ素化処理酸化アルミニウム
フィラーの製造) ヘキサフルオロプロピレンと酸化アルミニウムフィラー
との接触時間を7時間としたほかは実施例1と同様にし
てフッ素化処理された酸化アルミニウムフィラー(Al
−2)を製造した。
Example 2 (Production of Fluorinated Aluminum Oxide Filler) The fluorinated aluminum oxide filler (in the same manner as in Example 1) except that the contact time between hexafluoropropylene and the aluminum oxide filler was 7 hours ( Al
-2) was produced.

【0146】実施例3(フッ素化処理された二酸化チタ
ンフィラーの製造) 二酸化チタンフィラー(日本アエロジル(株)製のP2
5、比表面積:50m 2/g、一次平均粒子径:0.0
21μm)60gを1リットルの四つ口フラスコに入
れ、ポリテトラフルオロエチレン製の攪拌翼で攪拌しな
がら250℃にて1時間窒素ガスを20ml/minの
流量で流して窒素雰囲気とした。ついでガスをヘキサフ
ルオロプロピレンに変え、250℃にて20ml/mi
nの流量で流して酸化アルミニウムフィラーと接触させ
た。7時間後、再びガスを窒素ガスに戻し、室温まで降
温してフッ素化処理された酸化アルミニウムフィラー
(Al−1)を製造した。
Example 3 (fluorinated titanium dioxide)
Manufacture of filler) Titanium dioxide filler (P2 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
5, specific surface area: 50m 2/ G, primary average particle diameter: 0.0
21 μm) 60 g in a 1-liter four-necked flask
Do not stir with a stirring blade made of polytetrafluoroethylene.
And nitrogen gas at 20 ml / min for 1 hour at 250 ° C.
A nitrogen atmosphere was created by flowing at a flow rate. Hexafu gas
Change to Luoropropylene, 20ml / mi at 250 ℃
flow at a flow rate of n to contact the aluminum oxide filler
It was After 7 hours, the gas was returned to nitrogen gas and the temperature was lowered to room temperature.
Aluminum oxide filler that has been fluorinated by heating
(Al-1) was produced.

【0147】実施例4〜5および比較例1 製造例1で得られた末端にカルボキシル基を有するCN
基含有含フッ素エラストマーと前記ジャーナル・オブ・
ポリマー・サイエンスのポリマー・ケミストリー編、Vo
l.20、2381〜2393頁(1982)に記載の方
法で合成した架橋剤である2,2−ビス[3−アミノ−
4−(N−フェニルアミノ)フェニル)ヘキサフルオロ
プロパンと充填材として表1に示すフッ素化処理酸化ア
ルミニウムフィラー(Al−1およびAl−2)または
未処理酸化アルミニウムフィラー(AKP−G008)
とを重量比100/4.25/15で混合し、オープン
ロールにて混練して架橋可能なフッ素ゴム組成物を調製
した。
Examples 4 to 5 and Comparative Example 1 CN having a carboxyl group at the terminal obtained in Production Example 1
Group-Containing Fluorine-Containing Elastomer and the Journal of
Vo on Polymer Chemistry, Polymer Chemistry
1,2-bis [3-amino- which is a cross-linking agent synthesized by the method described on page 20, 2381 to 2393 (1982).
4- (N-phenylamino) phenyl) hexafluoropropane and fluorinated aluminum oxide filler (Al-1 and Al-2) or untreated aluminum oxide filler (AKP-G008) shown in Table 1 as a filler.
Were mixed in a weight ratio of 100 / 4.25 / 15 and kneaded with an open roll to prepare a crosslinkable fluororubber composition.

【0148】このフッ素ゴム組成物を180℃で表1に
記載の条件でプレスして架橋を行なったのち、さらにオ
ーブン中で290℃で18時間のオーブン架橋を施し、
厚さ2mmの架橋物およびO−リング(AS−568A
−214)の被験サンプルを作製した。この架橋物の架
橋性、常態物性および圧縮永久歪みについて測定した。
結果を表1に示す。
This fluororubber composition was pressed at 180 ° C. under the conditions shown in Table 1 for crosslinking, and then subjected to oven crosslinking at 290 ° C. for 18 hours in an oven.
2 mm thick cross-linked product and O-ring (AS-568A
The test sample of -214) was prepared. The crosslinkability, normal state physical properties and compression set of this crosslinked product were measured.
The results are shown in Table 1.

【0149】(架橋性)各架橋用組成物についてJSR
型キュラストメーターII型により、表1に記載の温度に
て加硫曲線を求め、最低粘度(νmin)、最高粘度
(νmax)、誘導時間(T10)および最適加硫時間
(T90)を求める、
(Crosslinkability) About each crosslinking composition JSR
Vulcanization curve was obtained at the temperature shown in Table 1 by using the type Curastometer II, and the minimum viscosity (νmin), the maximum viscosity (νmax), the induction time (T 10 ) and the optimum vulcanization time (T 90 ) were determined. Ask,

【0150】(常態物性)JIS K6301に準じて
厚さ2mmの架橋物の常態(25℃)での100%モジ
ュラス、引張強度、引張伸びおよび硬度(Shore
A硬度)を測定する。
(Normal state physical properties) 100% modulus, tensile strength, tensile elongation and hardness (Shore) in a normal state (25 ° C) of a crosslinked product having a thickness of 2 mm according to JIS K6301.
A hardness) is measured.

【0151】(圧縮永久歪み)JIS K6301に準
じてO−リング(AS−568A−214)の230
℃、275℃および300℃における70時間後の圧縮
永久歪みを測定する。
(Compression set) 230 of O-ring (AS-568A-214) according to JIS K6301
The compression set after 70 hours at ° C, 275 ° C and 300 ° C is measured.

【0152】[0152]

【表1】 [Table 1]

【0153】実施例6および比較例2 製造例1で得られた末端にカルボキシル基を有するCN
基含有含フッ素エラストマーと前記ジャーナル・オブ・
ポリマー・サイエンスのポリマー・ケミストリー編、Vo
l.20、2381〜2393頁(1982)に記載の方
法で合成した架橋剤である2,2−ビス[3−アミノ−
4−(N−フェニルアミノ)フェニル)ヘキサフルオロ
プロパンと充填材として表2に示すフッ素化処理二酸化
チタンフィラー(Ti−1)または未処理二酸化チタン
フィラー(P25)とを重量比100/4.05/30
で混合し、オープンロールにて混練して架橋可能なフッ
素ゴム組成物を調製した。
Example 6 and Comparative Example 2 CN having a carboxyl group at the terminal obtained in Production Example 1
Group-Containing Fluorine-Containing Elastomer and the Journal of
Vo on Polymer Chemistry, Polymer Chemistry
1,2-bis [3-amino- which is a cross-linking agent synthesized by the method described on page 20, 2381 to 2393 (1982).
A weight ratio of 4- (N-phenylamino) phenyl) hexafluoropropane to the fluorinated titanium dioxide filler (Ti-1) or untreated titanium dioxide filler (P25) shown in Table 2 as a filler was 100 / 4.05. / 30
And mixed with an open roll to prepare a crosslinkable fluororubber composition.

【0154】このフッ素ゴム組成物を180℃で表2に
記載の条件でプレスして架橋を行なったのち、さらにオ
ーブン中で290℃で18時間のオーブン架橋を施し、
厚さ2mmの架橋物およびO−リング(AS−568A
−214)の被験サンプルを作製した。この架橋物の架
橋性、常態物性および圧縮永久歪みについて実施例4と
同様にして測定した。結果を表2に示す。
This fluororubber composition was pressed at 180 ° C. under the conditions shown in Table 2 to effect crosslinking, and then subjected to oven crosslinking at 290 ° C. for 18 hours in an oven.
2 mm thick cross-linked product and O-ring (AS-568A
The test sample of -214) was prepared. The crosslinkability, normal state physical properties and compression set of this crosslinked product were measured in the same manner as in Example 4. The results are shown in Table 2.

【0155】[0155]

【表2】 [Table 2]

【0156】実施例7(プラズマ照射前後におけるフィ
ラーの重量変化の測定) 実施例1〜2で製造したフッ素化処理酸化アルミニウム
フィラー(Al−2)、未処理の酸化アルミニウムフィ
ラー(AKP−G008)および未処理の酸化アルミニ
ウムフィラー((株)龍森製のAdoma Fine AO-802、
比表面積:6〜8m2/g、平均粒子径:0.7μm、
結晶型:α型)について、アルミニウム製の容器に入れ
つぎに示す条件でプラズマ照射(酸素プラズマおよびN
3プラズマ)に供し、照射前後の重量変化を調べた。
結果を表3に示す。
Example 7 (Measurement of Weight Change of Filler Before and After Plasma Irradiation) The fluorinated aluminum oxide filler (Al-2) produced in Examples 1-2, untreated aluminum oxide filler (AKP-G008) and Untreated aluminum oxide filler (Adoma Fine AO-802 made by Tatsumori Co., Ltd.)
Specific surface area: 6 to 8 m 2 / g, average particle diameter: 0.7 μm,
Crystal type: α type) was placed in an aluminum container and irradiated with plasma (oxygen plasma and N 2) under the following conditions.
F 3 plasma) and the weight change before and after irradiation was examined.
The results are shown in Table 3.

【0157】照射条件 使用ガス:O2、NF3 ガス流量:16sccm RF出力:800W 圧力:20ミリトール 照射時間:30分間 周波数:13.56MHzIrradiation conditions Working gas: O 2 , NF 3 gas flow rate: 16 sccm RF output: 800 W Pressure: 20 mTorr Irradiation time: 30 minutes Frequency: 13.56 MHz

【0158】照射操作 プラズマ照射装置のチャンバー内の雰囲気を安定させる
ために、チャンバー前処理として5分間かけて実ガス空
放電を行なう。ついでサンプルを入れたアルミニウム製
の容器をRF電極の中心部に配置し、上記の条件下でプ
ラズマを照射する。
Irradiation Operation In order to stabilize the atmosphere in the chamber of the plasma irradiation apparatus, an actual gas blank discharge is performed for 5 minutes as a chamber pretreatment. Next, an aluminum container containing the sample is placed at the center of the RF electrode, and plasma is irradiated under the above conditions.

【0159】重量測定 ザートリウス(Sertorious)・GMBH製の電子分析天
秤2006MPE(商品名)を使用し、0.01mgま
で測定し0.01mgの桁を四捨五入する。
Weight Measurement An electronic analysis balance 2006MPE (trade name) manufactured by Sertorious GMBH is used to measure up to 0.01 mg, and the digits of 0.01 mg are rounded off.

【0160】[0160]

【表3】 [Table 3]

【0161】この結果から、フッ素化処理をしても酸化
アルミニウムフィラーの特徴である酸素(O2)および
NF3の両プラズマに対する遮蔽効果が維持できること
が分かる。
From these results, it can be seen that the shielding effect against both oxygen (O 2 ) and NF 3 plasmas, which is a characteristic of the aluminum oxide filler, can be maintained even after the fluorination treatment.

【0162】比較例3 フィラーとして未処理の酸化アルミニウムフィラー(A
O−802)を使用したほかは実施例4と同様にしてO
−リングを作製した。
Comparative Example 3 An untreated aluminum oxide filler (A
O-802) was used and O was carried out in the same manner as in Example 4.
-A ring was made.

【0163】実施例8(O−リングのプラズマ照射試験
における重量変化) 実施例5で製造したO−リング(フッ素化処理酸化アル
ミニウムAl−2使用)を充分に多量のH2SO4/H2
2(6/4重量比)混合液中で100℃にて15分間
攪拌下で洗浄し、ついで5%HFにより25℃にて15
分間洗浄し、さらに純水により100℃にて2時間煮沸
洗浄したのち、窒素ガス気流下で200℃にて24時間
乾燥して、被験サンプルを作製した。
Example 8 (Change in Weight of O-Ring in Plasma Irradiation Test) The O-ring manufactured in Example 5 (using fluorinated aluminum oxide Al-2) had a sufficiently large amount of H 2 SO 4 / H 2.
It was washed in an O 2 (6/4 weight ratio) mixture at 100 ° C. for 15 minutes with stirring, and then with 5% HF at 25 ° C. for 15 minutes.
The sample was washed for 1 minute and boiled with pure water at 100 ° C. for 2 hours, and then dried at 200 ° C. for 24 hours in a nitrogen gas stream to prepare a test sample.

【0164】この被験サンプルについて、実施例7と同
じ照射条件でプラズマ照射して照射前後の重量変化を調
べた。
This test sample was irradiated with plasma under the same irradiation conditions as in Example 7, and the weight change before and after irradiation was examined.

【0165】比較のために、比較例1(未処理酸化アル
ミニウムAKP−G008使用)および比較例3(未処
理酸化アルミニウムAO−802使用)で製造したO−
リングを上記と同様に洗浄乾燥処理した被験サンプルに
ついても、プラズマ照射前後の重量変化を調べた。結果
を表4に示す。
For comparison, the O- prepared in Comparative Example 1 (using untreated aluminum oxide AKP-G008) and Comparative Example 3 (using untreated aluminum oxide AO-802).
With respect to the test sample in which the ring was washed and dried in the same manner as above, the weight change before and after the plasma irradiation was examined. The results are shown in Table 4.

【0166】[0166]

【表4】 [Table 4]

【0167】実施例9(O−リングのプラズマ照射試験
後におけるパーティクル発生数) 実施例8でプラズマ照射された各被験サンプルを超純水
中に入れ、25℃にて1時間超音波を当ててパーティク
ルを超純水中に遊離させた。この超純水中に遊離した粒
子径が0.2μm以上の粒子(パーティクル)の数を以
下に示す微粒子測定器法により調べた。結果を表5に示
す。表5中のパーティクル数はO−リング1個当たりの
パーティクル数である。
Example 9 (Number of Particles Generated After Plasma Irradiation Test of O-Ring) Each test sample irradiated with plasma in Example 8 was put into ultrapure water and subjected to ultrasonic waves at 25 ° C. for 1 hour. The particles were released in ultrapure water. The number of particles (particles) having a particle size of 0.2 μm or more released in this ultrapure water was examined by the fine particle measuring method shown below. The results are shown in Table 5. The number of particles in Table 5 is the number of particles per O-ring.

【0168】(微粒子測定器法)センサー部に流入させ
たパーティクルを含む超純水に光を当て、液中パーティ
クルカウンター(リオン(株)製のKL−22)により
その透過光や散乱光の量を電気的に計測する方法であ
る。
(Particle measuring method) Light was applied to ultrapure water containing particles that had flown into the sensor section, and the amount of transmitted light or scattered light was measured by a submerged particle counter (KL-22 manufactured by Lion Co., Ltd.). Is a method of electrically measuring.

【0169】[0169]

【表5】 [Table 5]

【0170】[0170]

【発明の効果】本発明によれば、230℃以上の高温で
の使用に耐えうる含フッ素エラストマー成形品を提供す
ることができる。
According to the present invention, it is possible to provide a fluorine-containing elastomer molded product that can withstand use at a high temperature of 230 ° C. or higher.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08J 5/00 CEW C08J 5/00 CEW 4J002 C08K 5/00 C08K 5/00 4J037 9/04 9/04 C08L 101/04 C08L 101/04 C09C 1/00 C09C 1/00 1/40 1/40 3/08 3/08 C09K 3/10 C09K 3/10 M (72)発明者 山外 隆文 大阪府摂津市西一津屋1番1号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 西林 浩文 大阪府摂津市西一津屋1番1号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 東野 克彦 大阪府摂津市西一津屋1番1号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 野口 剛 大阪府摂津市西一津屋1番1号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 岸根 充 大阪府摂津市西一津屋1番1号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 Fターム(参考) 4F071 AA10 AA26 AA26X AA27 AA27X AA75 AB18 AC12 AE02 AE17 AG05 AG16 AH12 4G042 DA03 DB33 DC03 DD04 DE04 DE12 4G047 CA01 CB04 CB08 CC03 CD04 4G076 AA02 AB02 AB11 BF06 CA02 CA26 DA02 4H017 AA03 AA24 AB12 AC03 AD01 AE00 AE05 4J002 BD121 BD151 BP031 DE006 DE146 EN077 ER007 EZ018 FB046 FB086 FD016 FD147 FD158 GQ01 GQ05 4J037 AA08 AA11 AA18 AA22 AA24 AA25 CA05 CB01 DD05 EE02 EE28 EE44 FF21 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C08J 5/00 CEW C08J 5/00 CEW 4J002 C08K 5/00 C08K 5/00 4J037 9/04 9/04 C08L 101/04 C08L 101/04 C09C 1/00 C09C 1/00 1/40 1/40 3/08 3/08 C09K 3/10 C09K 3/10 M (72) Inventor Takafumi Yamagai Nishiichitsuya, Settsu City, Osaka Prefecture No. 1 Daikin Industry Co., Ltd. in Yodogawa Works (72) Inventor Hirofumi Nishibayashi No. 1 Nishiichitsuya, Settsu-shi, Osaka Prefecture No. 1 Daikin Industry Co., Ltd. in Yodogawa Works (72) Katsuhiko Higashino No. 1 Nishiichitsuya, Settsu-shi, Osaka Prefecture No. 1 Daikin Industry Co., Ltd. Yodogawa Works (72) Inventor Go Noguchi 1-1, Nishiichitsuya, Settsu City, Osaka Prefecture Daikin Industry Co., Ltd. Yodogawa Works (72) Inventor Mitsuru Kishine 1-1, Nishiichitsuya, Settsu-shi, Osaka Daikin Industrial Co., Ltd. Yodogawa Seisakusho F-term (reference) 4F071 AA10 AA26 AA26X AA27 AA27X AA75 AB18 AC12 AE02 AE17 AG05 AG16 AH12 4G042 DA03 DB33 DC03 DD03 DC03 DD03 DE12 4G047 CA01 CB04 CB08 CC03 CD04 4G076 AA02 AB02 AB11 BF06 CA02 CA26 DA02 4H017 AA03 AA24 AB12 AC03 AD01 AE00 AE05 4J002 BD121 BD151 BP031 DE006 DE146 A05 A05 A08 A08A08A08A08A08A05A158A02 EE28 EE44 FF21

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一次平均粒子径が0.5μm以下の無機
フィラー(ただしカーボンフィラーは除く)であって、
その表面活性を低減化する処理がなされた改質無機フィ
ラー。
1. An inorganic filler having a primary average particle diameter of 0.5 μm or less (excluding carbon filler),
A modified inorganic filler that has been treated to reduce its surface activity.
【請求項2】 表面活性低減化処理が、無機フィラーを
フッ素化合物と接触させる処理である請求項1記載の改
質無機フィラー。
2. The modified inorganic filler according to claim 1, wherein the surface activity reducing treatment is a treatment of bringing the inorganic filler into contact with a fluorine compound.
【請求項3】 無機フィラーが金属酸化物フィラーであ
る請求項1または2記載のフッ素化処理フィラー。
3. The fluorinated filler according to claim 1, wherein the inorganic filler is a metal oxide filler.
【請求項4】 金属酸化物フィラーが酸化アルミニウム
フィラーである請求項3記載のフッ素化処理フィラー。
4. The fluorinated filler according to claim 3, wherein the metal oxide filler is an aluminum oxide filler.
【請求項5】 無機フィラーの一次平均粒子径が0.0
5μm以下である請求項1〜4のいずれかに記載の改質
無機フィラー。
5. The primary average particle diameter of the inorganic filler is 0.0
It is 5 micrometers or less, The modified inorganic filler in any one of Claims 1-4.
【請求項6】 下記条件(1)で実施した酸素プラズマ
照射およびNF3プラズマ照射において、それぞれのプ
ラズマ照射の前後における重量減少または増加が1%以
下および20%以下である請求項1〜5のいずれかに記
載の改質無機フィラー。 記 流量:16sccm 圧力:20ミリトール RF電力:800W 照射時間:30分間 周波数:13.56MHz
6. The oxygen plasma irradiation and NF 3 plasma irradiation carried out under the following condition (1), the weight reduction or increase before and after the respective plasma irradiation is 1% or less and 20% or less. The modified inorganic filler according to any one of claims. Flow rate: 16 sccm Pressure: 20 mTorr RF power: 800 W Irradiation time: 30 minutes Frequency: 13.56 MHz
【請求項7】 架橋用エラストマー組成物に配合される
請求項1〜6のいずれかに記載の改質無機フィラー。
7. The modified inorganic filler according to any one of claims 1 to 6, which is blended with a crosslinking elastomer composition.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載の改質無
機フィラー、架橋性基を有する含フッ素エラストマーお
よび架橋剤および/または架橋促進剤からなる架橋用含
フッ素エラストマー組成物。
8. A cross-linking fluorine-containing elastomer composition comprising the modified inorganic filler according to any one of claims 1 to 7, a cross-linkable group-containing fluorine-containing elastomer, and a cross-linking agent and / or a cross-linking accelerator.
【請求項9】 架橋性基を有する含フッ素エラストマー
が、架橋性基を有するパーフルオロエラストマーである
請求項8記載の組成物。
9. The composition according to claim 8, wherein the fluorine-containing elastomer having a crosslinkable group is a perfluoroelastomer having a crosslinkable group.
【請求項10】 架橋性基を有する含フッ素エラストマ
ーの架橋性基がCN基またはCOOH基である請求項8
または9記載の組成物。
10. The crosslinkable group of the fluorine-containing elastomer having a crosslinkable group is a CN group or a COOH group.
Or the composition according to 9 above.
【請求項11】 前記架橋剤が、式(1): 【化1】 (式中、R1は−SO2−、−O−、−C(=O)−、 【化2】 炭素数1〜10のアルキリデン基、炭素数1〜10のパ
ーフルオロアルキリデン基または単結合手;X1は−O
H、−NH2、−SH、−NHR(Rは炭素数1〜6の
置換されていてもよい直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキ
ル基)または−NHAr(Arは置換されていてもよい
フェニル基またはナフチル基))で示される化合物、式
(2): 【化3】 (式中、R2は置換されていてもよい直鎖状もしくは分
岐鎖状のアルキリデン基、置換されていてもよいアリー
レン基、 【化4】 (R3は−SO2−、−O−、−C(=O)−、 【化5】 または単結合手)で示される化合物、式(3): 【化6】 (式中、mは1〜10の整数)で示される化合物、式
(4): 【化7】 (式中、X2は同じかまたは異なり、いずれもHまたは
NH2;pは1〜10の整数)で示される化合物、およ
び/または式(5): 【化8】 (式中、X3は同じかまたは異なり、いずれもHまたは
NH2;Yは同じかまたは異なり、いずれもHまたはO
H)で示される化合物である請求項8〜10のいずれか
に記載の組成物。
11. The cross-linking agent has the formula (1): (In the formula, R 1 is —SO 2 —, —O—, —C (═O) —, Alkylidene group having 1 to 10 carbon atoms, a perfluoroalkylidene group or a single bond having 1 to 10 carbon atoms; X 1 is -O
H, -NH 2, -SH, -NHR (R is a substituted alkyl group which may linear or branched and have 1 to 6 carbon atoms) optionally substituted or -NHAr (Ar phenyl Group or naphthyl group)), a compound represented by the formula (2): (In the formula, R 2 is an optionally substituted linear or branched alkylidene group, an optionally substituted arylene group, and (R 3 is —SO 2 —, —O—, —C (═O) —, Or a compound represented by the formula (3): (In the formula, m is an integer of 1 to 10), a compound represented by the formula (4): (Wherein, X 2 is the same or different and both are H or NH 2 ; p is an integer of 1 to 10), and / or the compound represented by the formula (5): (Wherein X 3 is the same or different, both are H or NH 2 ; Y is the same or different, both are H or O
The composition according to any one of claims 8 to 10, which is a compound represented by H).
【請求項12】 架橋剤が、前記式(1)において、R
1が 【化9】 であり、X1が 【化10】 である架橋剤である請求項11記載の組成物。
12. The crosslinking agent is R in the formula (1).
1 is [Chemical 9] And X 1 is The composition according to claim 11, which is a crosslinking agent that is
【請求項13】 架橋促進剤が有機スズ化合物である請
求項8〜12のいずれかに記載の組成物。
13. The composition according to claim 8, wherein the crosslinking accelerator is an organotin compound.
【請求項14】 請求項8〜13のいずれかに記載の架
橋用含フッ素エラストマー組成物を架橋して得られる架
橋含フッ素エラストマー成形品。
14. A crosslinked fluorine-containing elastomer molded article obtained by crosslinking the fluorine-containing elastomer composition for crosslinking according to any one of claims 8 to 13.
【請求項15】 半導体の製造装置のシールに用いる請
求項14記載の成形品。
15. The molded product according to claim 14, which is used for sealing a semiconductor manufacturing apparatus.
【請求項16】 請求項15記載の成形品が組み込まれ
た半導体製造装置。
16. A semiconductor manufacturing apparatus incorporating the molded product according to claim 15.
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