JP2003043462A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

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JP2003043462A
JP2003043462A JP2001230113A JP2001230113A JP2003043462A JP 2003043462 A JP2003043462 A JP 2003043462A JP 2001230113 A JP2001230113 A JP 2001230113A JP 2001230113 A JP2001230113 A JP 2001230113A JP 2003043462 A JP2003043462 A JP 2003043462A
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liquid crystal
seal layer
display device
crystal display
peripheral portion
Prior art date
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JP2001230113A
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Japanese (ja)
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Koichi Matsumoto
公一 松本
Makoto Watanabe
渡辺  誠
Tsutomu Kadotani
勉 廉谷
Takeshi Sasaki
健 佐々木
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device capable of securing uniformity of a liquid crystal cell gap in a method for dropping the liquid crystal and bonding substrates and a method for manufacturing the same. SOLUTION: A light shielding body 302 of the opposite side formed on a peripheral part of an upper side substrate 301 is disposed so as not to overlap a sealing layer 201 provided on a lower side substrate 101.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及び
その製造方法に関し、特に液晶滴下貼合せ法により製造
される液晶表示装置及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a liquid crystal display device manufactured by a liquid crystal dropping and laminating method and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルを製造する製造方法とし
て、液晶真空注入法や液晶滴下貼合せ法が知られてい
る。液晶真空注入法では、注入孔を有する熱硬化性樹脂
のシール層で一対の基板を貼り合せ焼成していわゆる空
セルを形成した後、真空状態からの気圧差で空セル内に
液晶材を吸い上げさせた後、注入孔を封孔する方法であ
る。また、液晶滴下貼合せ法では、一対の基板を紫外硬
化性樹脂のシール層で貼り合せて、紫外光を照射して、
シール層を硬化させている。
2. Description of the Related Art As a manufacturing method for manufacturing a liquid crystal display panel, a liquid crystal vacuum injection method and a liquid crystal dropping bonding method are known. In the liquid crystal vacuum injection method, a pair of substrates are bonded and fired with a sealing layer of thermosetting resin having injection holes to form a so-called empty cell, and then the liquid crystal material is sucked into the empty cell due to the pressure difference from the vacuum state. After this, the injection hole is sealed. In addition, in the liquid crystal dropping bonding method, a pair of substrates are bonded with a seal layer of an ultraviolet curable resin, and ultraviolet light is irradiated,
The seal layer is cured.

【0003】先に触れた液晶真空注入法では、液晶材を
気圧差により空セル内に吸い上げさせるため、大型の液
晶表示パネルではパネル内の注入孔から遠い箇所には十
分に液晶材が行き渡り難く吸い上げに時間がかかるこ
と、注入孔付近のパネルに注入による表示ムラが起きや
すいことなど、液晶表示パネルの大型化に伴って様々な
課題が顕著になってきた。
In the liquid crystal vacuum injection method mentioned above, the liquid crystal material is sucked up into the empty cell due to the pressure difference, so that in a large-sized liquid crystal display panel, it is difficult for the liquid crystal material to sufficiently spread to a portion far from the injection hole in the panel. Various problems have become remarkable with the increase in size of liquid crystal display panels, such as the time required for siphoning and the tendency for display unevenness to occur in the panel near the injection hole.

【0004】また、液晶表示装置に対する高速応答への
要求に伴い、狭セルギャップ化が重要な課題となってき
た。セルギャップとは2枚の基板に挟持された液晶の厚
さであり、応答時間はセルギャップの二乗に比例する。
例えば、セルギャップ4μmの液晶とセルギャップ3μ
mの液晶の応答時間を比較すると、セルギャップ3μm
の液晶の応答時間はセルギャップ4μmの液晶の応答時
間の9/16になる。しかし、狭セルギャップ化は液晶
注入時間の増大を招く。本願発明者の実験の結果、セル
ギャップを1/2にすると、液晶真空注入法では注入時
間は約5倍になることが分かった。これに対し、液晶滴
下貼合せ法を用いれば、このような液晶真空注入法によ
る注入時間増大の課題を解決することができる。
Further, with the demand for high-speed response to liquid crystal display devices, narrowing the cell gap has become an important issue. The cell gap is the thickness of liquid crystal sandwiched between two substrates, and the response time is proportional to the square of the cell gap.
For example, a liquid crystal with a cell gap of 4 μm and a cell gap of 3 μm
Comparing the response times of the liquid crystal of m, the cell gap is 3 μm.
The response time of the liquid crystal is 9/16 of the response time of the liquid crystal with a cell gap of 4 μm. However, narrowing the cell gap causes an increase in liquid crystal injection time. As a result of an experiment by the inventor of the present application, it has been found that when the cell gap is halved, the injection time is about five times longer in the liquid crystal vacuum injection method. On the other hand, by using the liquid crystal dropping bonding method, it is possible to solve the problem of increasing the injection time by such a liquid crystal vacuum injection method.

【0005】従来の液晶滴下貼り合せ法について、特願
2001−118115の記載によって説明する。初め
に、第1の従来技術について説明する。図8は、第1の
従来技術を説明するための液晶表示パネルの平面図であ
る。図9は、図8のc部の拡大平面図である。図10
は、液晶滴下貼合せ法を説明するための工程順の概観図
である。図11は、図9のB−B’線に沿った断面図で
ある。
A conventional liquid crystal dropping bonding method will be described with reference to Japanese Patent Application No. 2001-118115. First, the first conventional technique will be described. FIG. 8 is a plan view of a liquid crystal display panel for explaining the first conventional technique. FIG. 9 is an enlarged plan view of section c of FIG. Figure 10
[Fig. 3] is an outline view in order of steps for explaining the liquid crystal dropping bonding method. FIG. 11 is a sectional view taken along the line BB ′ of FIG.

【0006】本実施の形態による液晶表示装置は、表示
部401とその周囲の周辺部402とを備える下側基板
101と、この下側基板101との間に液晶層203を
挟持して上記下側基板101の周辺部402に形成され
たシール層201で下側基板101と貼り合わせられた
上側基板301とを有する液晶表示装置であって、下側
基板101に形成された表示部401から引き出された
引出し配線103、15と遮光体106a、106b、
106cとがシール層201とオーバーラップしてお
り、引出し配線103、105及び遮光体106a、1
06b、106cとオーバーラップしない面積が前記シ
ール層201の25%以上になるように設定されている
ことを特徴としている。なお、本願明細書では、「オー
バーラップ」とは、特に断らない限り、平面図上におい
て重なることを意味する。
The liquid crystal display device according to the present embodiment has a lower substrate 101 having a display portion 401 and a peripheral portion 402 around the display portion 401, and a liquid crystal layer 203 sandwiched between the lower substrate 101 and the lower substrate 101. A liquid crystal display device having a lower substrate 101 and an upper substrate 301 bonded by a sealing layer 201 formed on a peripheral portion 402 of the side substrate 101, the liquid crystal display device being drawn from a display unit 401 formed on the lower substrate 101. The extracted lead wires 103 and 15 and the light shields 106a and 106b,
106c overlaps with the seal layer 201, and leads wirings 103 and 105 and light shields 106a and 1a.
It is characterized in that the area that does not overlap with 06b and 106c is set to be 25% or more of the sealing layer 201. In the specification of the application, “overlap” means overlapping in a plan view unless otherwise specified.

【0007】すなわち、シール層201とオーバーラッ
プする引出し配線103、105や遮光体106a、1
06b、106cの形状や配置について工夫を施し、シ
ール層201の下は、シール層201の設置面積の25
%以上紫外光が透過するように設定されている。また、
各透過部分の間隔は80μm以下となっている。以下に
図13、図14で、「透過孔の設置面積を25%以上と
すること」「透過孔の設置間隔を80μm以下」の臨界
的意義を説明する。
That is, the lead wirings 103 and 105 and the light shields 106a and 1a that overlap the seal layer 201.
The shape and arrangement of 06b and 106c are modified so that the area below the sealing layer 201 is 25 times the installation area of the sealing layer 201.
% Or more UV light is set to be transmitted. Also,
The interval between the transmissive portions is 80 μm or less. 13 and 14, the critical meanings of "the installation area of the transmission holes is 25% or more" and "the installation intervals of the transmission holes are 80 μm or less" will be described.

【0008】シール材単体に照射される光量が、150
0mJ/cm2以上で硬化することは実験結果より確認
されている。ただし、マージンを考慮すると最低200
0mJ/cm2必要とする。配線部透過孔の開口率を考
慮すると、シール自体に照射される光量は、次式で与え
られるので、それぞれの関係は、図13のとおりとな
る。 (シールに照射される光量)=(全体に照射される照射量)
×(配線部透過孔の開口率) UV硬化をさせるためには、シール自体にあたる量がマ
ージンを考慮して2000mJ/cm2あればよく、開
口率が低い場合は、それに応じてより多くの光量を照射
すればよい。しかし、工程時間短縮、及び、UV照射に
よる基板の温度上昇を極力抑えるためには、UVランプ
から照射される光量は、8000mJ/cm2以下が望
ましい。図13に示すグラフより、以上を満たすために
は、UV透過孔の開口率は、25%以上となることが望
まれる。より一般的に言うと、照射されるUV光の光量
(mJ/cm2)とUV透過孔の積が2000(mJ/
cm2)以上であり、かつUV透過孔の開口率がシール
層のいずれの位置においても略同一で、25%以上が望
ましい。これによって、十分かつ均一なシール材の硬化
が可能になる。
The amount of light applied to the sealant alone is 150
It has been confirmed from the experimental results that it cures at 0 mJ / cm 2 or more. However, considering the margin, it is at least 200
0 mJ / cm 2 is required. Considering the aperture ratio of the wiring part transmission hole, the amount of light irradiated on the seal itself is given by the following equation, and the respective relationships are as shown in FIG. (Amount of light applied to the seal) = (Amount of irradiation applied to the whole)
× (Aperture ratio of wiring transmission hole) For UV curing, the amount of the seal itself should be 2000 mJ / cm 2 in consideration of the margin, and when the aperture ratio is low, the amount of light should be increased accordingly. Should be irradiated. However, in order to shorten the process time and suppress the temperature rise of the substrate due to UV irradiation as much as possible, the amount of light emitted from the UV lamp is preferably 8000 mJ / cm 2 or less. From the graph shown in FIG. 13, in order to satisfy the above, it is desired that the aperture ratio of the UV transmission holes is 25% or more. More generally, the product of the amount of UV light irradiated (mJ / cm 2 ) and the UV transmission hole is 2000 (mJ / cm 2 ).
cm 2 ) or more, and the aperture ratio of the UV transmission holes is substantially the same at any position of the seal layer, and is preferably 25% or more. This allows a sufficient and uniform curing of the sealing material.

【0009】次に透過孔の間隔を変化させ、シール部の
硬化度を測定する実験を行った。実験では、透過孔の開
口率は25%で一定としている。図14に結果を示す。
図14より、シール材が完全に硬化するためには透過孔
の間隔が80μm以下であることが必要であることが分
かる。因みに開口率が25%より大きい場合も、原理的
に間隔が80μm以下であれば十分といえる。
Next, an experiment was conducted to measure the degree of hardening of the seal portion by changing the distance between the transmission holes. In the experiment, the aperture ratio of the transmission holes is fixed at 25%. The results are shown in FIG.
It can be seen from FIG. 14 that the gap between the transmission holes must be 80 μm or less in order to completely cure the sealing material. Incidentally, even if the aperture ratio is larger than 25%, it can be said that the interval is 80 μm or less in principle.

【0010】以上の硬化条件をまとめると、照射される
UV光の光量(mJ/cm2)とUV透過孔の積が20
00(mJ/cm2)以上であり、かつUV透過孔の開
口率がシール層のいずれの位置においても略同一で、2
5%以上、透過孔の間隔80μm以下が望ましい。これ
によって、十分かつ均一なシール材の硬化が可能にな
る。
Summarizing the above curing conditions, the product of the amount of UV light irradiated (mJ / cm 2 ) and the UV transmission hole is 20.
00 (mJ / cm 2 ) or more, and the aperture ratio of the UV transmission holes is substantially the same at any position of the sealing layer, and 2
It is desirable that the distance between the transmission holes is 5% or more and the distance between the transmission holes is 80 μm or less. This allows a sufficient and uniform curing of the sealing material.

【0011】図1の遮光体106a、106b、106
cの内、代表して遮光体106cについて説明する。図
9に示すように、下側基板101のc部では、帯状の共
通電圧供給配線兼遮光体106cが設けられている。こ
の共通電圧供給配線兼遮光体106cのシール層201
とオーバーラップする部分には、シール層201の延び
る方向に沿って、複数のUV透過孔601を形成してい
る。シール層201の外側にはトランスファ202が形
成されている。
The light shields 106a, 106b, 106 of FIG.
Among c, the light shield 106c will be described as a representative. As shown in FIG. 9, in the c portion of the lower substrate 101, a strip-shaped common voltage supply wiring / light shield 106c is provided. The seal layer 201 for the common voltage supply wiring and the light shield 106c
A plurality of UV transmission holes 601 are formed along the extending direction of the seal layer 201 in the portion overlapping with. A transfer 202 is formed outside the sealing layer 201.

【0012】次に、図10を参照して、本実施の形態の
液晶表示装置の製造方法を説明する。本実施の形態で
は、上述したような図1に示される形状の下側基板に対
して、 (1)シール描画工程において、ディスペンサと下側基
板101との相対的位置を変化させて紫外硬化型樹脂を
表示部401の周囲の周辺部402に幅0.2〜0.6
mm、高さ10〜50μmで描画して環状のシール層2
01を形成する。次に、(2)液晶滴下・基板貼合せ工
程において、下側基板101の環状のシール層201で
囲まれた領域に液晶材を滴下して、さらに、スペーサが
固定形成されてある(固着スペーサ、若しくは、柱付き
スペーサ)上側基板301と下側基板101を、真空中
で位置合わせしながら、定盤により加圧し、その後、大
気圧に戻して大気プレスすることで貼合せを行う(定盤
荷重 200〜3000N)。この基板同士を張り合わ
せた状態で裏返して、(3)UV照射・仮硬化工程で下
側基板101からシール層201にライン状の紫外光を
5000〜8000mJ/cm2で一括照射して硬化さ
せる。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device of the present embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment, with respect to the lower substrate having the shape shown in FIG. 1 as described above, (1) in the seal drawing step, the relative position between the dispenser and the lower substrate 101 is changed to be an ultraviolet curing type. The resin has a width of 0.2 to 0.6 in the peripheral portion 402 around the display portion 401.
mm, height 10 to 50 μm and drawn to form an annular seal layer 2
01 is formed. Next, in the (2) liquid crystal dropping / substrate bonding step, the liquid crystal material is dropped onto a region surrounded by the annular seal layer 201 of the lower substrate 101, and spacers are further fixedly formed (fixed spacers). Alternatively, the upper substrate 301 and the lower substrate 101 (column spacers) are pressed by a surface plate while aligning them in a vacuum, and then returned to atmospheric pressure and air-pressed to perform bonding (surface plate). Load 200-3000N). The substrates are turned over in a bonded state, and in the UV irradiation / temporary curing step (3), linear ultraviolet light is collectively irradiated from the lower substrate 101 to the seal layer 201 at 5000 to 8000 mJ / cm 2 to cure.

【0013】この際、図9のB−B’線に沿った断面図
である図11に示すように、シール層201に対応した
箇所に位置合せのずれ量を考慮して幅が決定された開口
部を有し、液晶表示パネルの表示領域を遮光するマスク
パターン502を形成したUVマスク501を介して照
射することにより、シール層201の周辺だけに選択的
に紫外光が照射される。マスクパターン502を介して
照射することにより、紫外光による表示領域に位置する
配向膜の変質など悪影響を防止している。下側基板10
1からUVマスク501を介して照射された紫外光は、
共通電圧供給配線兼遮光体106cの箇所では、形成さ
れた複数のUV透過孔601を透過してシール層201
に照射されシール層201を硬化させる。さらに、シー
ル層201を透過した紫外光は、上側基板301に形成
された対向側遮光体302で反射して再度シール層20
1に進入しシール層201の硬化に寄与させている。ま
た、複数の引出し配線103、105とオーバーラップ
するシール層201にも、引出し配線間の隙間を透過し
た紫外光が照射されシール層201を硬化させることが
できる。さらに、図3に示される共通電圧供給配線兼遮
光体106a及び図4に示される共通電圧供給配線兼遮
光体106bとオーバーラップするシール層201に
も、それぞれUV透過孔601を透過した紫外光が照射
されシール層201を硬化させることができる。
At this time, as shown in FIG. 11 which is a cross-sectional view taken along the line BB 'of FIG. 9, the width is determined at the position corresponding to the seal layer 201 in consideration of the misalignment amount of the alignment. By irradiating through the UV mask 501 having the opening and having the mask pattern 502 which shields the display area of the liquid crystal display panel, ultraviolet light is selectively irradiated only around the seal layer 201. By irradiating through the mask pattern 502, adverse effects such as alteration of the alignment film located in the display area due to ultraviolet light are prevented. Lower substrate 10
The ultraviolet light emitted from 1 through the UV mask 501 is
At the location of the common voltage supply wiring / light shield 106c, the sealing layer 201 is transmitted through the formed UV transmission holes 601.
And the seal layer 201 is cured. Further, the ultraviolet light transmitted through the seal layer 201 is reflected by the counter-side light shield 302 formed on the upper substrate 301, and is again sealed by the seal layer 20.
1 and contributes to the hardening of the seal layer 201. Further, the sealing layer 201 overlapping the plurality of lead wires 103 and 105 can also be irradiated with the ultraviolet light transmitted through the gap between the lead wires to cure the seal layer 201. Further, the seal layer 201 overlapping the common voltage supply wiring / shading member 106a shown in FIG. 3 and the common voltage supply wiring / shading member 106b shown in FIG. The seal layer 201 can be irradiated and cured.

【0014】こうして、シール層201が仮硬化された
後、(4)キュアリング・本硬化工程で基板温度120
℃、1時間の熱処理によりシール層201を本硬化させ
て液晶表示装置が出来上がる。
In this way, after the seal layer 201 is temporarily cured, the substrate temperature 120 is set in (4) the curing / main curing step.
The liquid crystal display device is completed by fully hardening the seal layer 201 by heat treatment at 1 ° C. for 1 hour.

【0015】第1の従来技術によれば、ゲート引出し配
線103とドレイン引出し配線105のうち、ゲート端
子102やドレイン端子104までの距離が長い引出し
配線はその幅を太くするとともに隣接する引出し配線と
の間隔を広げて設定することによって、引出し配線間の
隙間を透過して十分に紫外光が紫外硬化型樹脂に照射さ
れ、シール層201を十分に均一に硬化させることがで
きる。また、引出し配線の抵抗値も均一に保つことがで
きる。
According to the first prior art, of the gate lead-out wiring 103 and the drain lead-out wiring 105, the lead-out wiring having a long distance to the gate terminal 102 and the drain terminal 104 has a large width and is adjacent to the lead-out wiring. By widening and setting the interval of, the ultraviolet ray is sufficiently irradiated to the ultraviolet curable resin through the gap between the lead wires, and the seal layer 201 can be sufficiently and uniformly cured. Further, the resistance value of the lead wiring can be kept uniform.

【0016】第1の従来技術は下側基板101の方から
紫外光を照射するものであった。図1から明らかなよう
に、下側基板101には共通電圧供給配線兼遮光体10
6a、106b、106cがあり、シール層201とオ
ーバーラップする箇所が必ず存在する。従って、オーバ
ーラップする箇所に複数のUV透過孔601を設ける必
要がある。そのために、以下のような問題点がある。
The first conventional technique is to irradiate the lower substrate 101 with ultraviolet light. As is apparent from FIG. 1, the lower substrate 101 has a common voltage supply wiring and light shield 10.
6a, 106b, 106c, and there is always a portion that overlaps with the seal layer 201. Therefore, it is necessary to provide a plurality of UV transmission holes 601 at the overlapping positions. Therefore, there are the following problems.

【0017】まず、製造プロセス上の問題点として、U
V透過孔601の出来映えは製造ロットによって異な
り、UV透過孔601が小さすぎると、下側基板101
に照射された紫外光は共通電圧供給配線兼遮光体106
により遮光されてシール層201には十分に到達しない
ため、紫外光が十分に紫外硬化型樹脂に照射されず、十
分に硬化されなかった樹脂中の成分が液晶層中に溶け出
して表示不良の原因となる。一方、UV透過孔601が
大きすぎると、共通電圧供給配線兼遮光体106a、1
06b、106cや走査線、ドレイン線の抵抗増大とな
り、配線遅延による横クロストーク、フリッカが発生す
る。
First, as a problem in the manufacturing process, U
The quality of the V transmission hole 601 differs depending on the manufacturing lot. If the UV transmission hole 601 is too small, the lower substrate 101
The ultraviolet light radiated on the common light source is also a common voltage supply wiring and light shield 106.
Since it is shielded by the light and does not reach the seal layer 201 sufficiently, the ultraviolet light is not sufficiently irradiated to the ultraviolet curable resin, and the components in the resin which are not sufficiently cured are dissolved in the liquid crystal layer to cause display failure. Cause. On the other hand, if the UV transmission hole 601 is too large, the common voltage supply wiring / light shields 106a, 1
The resistances of the scanning lines and drain lines 06b and 106c increase, and horizontal crosstalk and flicker occur due to wiring delay.

【0018】すなわち、透過孔の開口率25%以上、配
線遅延が十分小さい配線抵抗、という相反する条件に対
して十分なマージンを持った設計ができれば問題ない
が、液晶表示装置の大型化に従って、これらの相反する
条件を満たすことは難しくなってきた。
That is, there is no problem if a design can be made with a sufficient margin against the contradictory conditions of the aperture ratio of the transmission hole being 25% or more and the wiring resistance having a sufficiently small wiring delay. However, as the liquid crystal display device becomes larger, Meeting these conflicting conditions has become difficult.

【0019】これらの対策として、次に、第2の従来技
術について、説明する。第1の従来技術と同じ構成要素
については同じ参照番号を付して、その詳細な説明は省
略する。
As a countermeasure against these problems, the second conventional technique will be described below. The same components as those of the first conventional technique are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0020】図12は、第2の従来技術の液晶表示装置
を説明するための断面図である。上側基板301には、
表示部では格子状のブラックストライプが形成され、そ
の周囲の周辺部では帯状の対向側遮光体302が形成さ
れており、対向側遮光体302と下側基板101の共通
電圧供給配線兼遮光体106とは対向している。図12
では、表示部のブラックストライプと対向側遮光体30
2とは離れているように見えるが、実際にはシール層2
01より表示部側の対向側遮光体302はブラックスト
ライプと一体になっていることが光漏れ対策の観点から
は望ましい。本実施の形態では、共通電圧供給配線兼遮
光体106と対向する上側基板301の周辺部に設けら
れた対向側遮光体302に、複数のUV透過孔601を
設けたことを特徴としている。
FIG. 12 is a sectional view for explaining a second conventional liquid crystal display device. On the upper substrate 301,
A lattice-shaped black stripe is formed in the display portion, and a strip-shaped opposite-side light shield 302 is formed in the periphery of the display portion. The opposite-side light shield 302 and the lower substrate 101 also serve as a common voltage supply wiring / light shield 106. Is opposed to. 12
Then, the black stripe of the display unit and the opposite side light shield 30
2 seems to be separated, but in reality the sealing layer 2
It is desirable from the viewpoint of light leakage prevention that the opposite side light shield 302 on the display unit side of 01 is integrated with the black stripe. The present embodiment is characterized in that a plurality of UV transmission holes 601 are provided in the counter-side light shield 302 provided in the peripheral portion of the upper substrate 301 facing the common voltage supply wiring / light shield 106.

【0021】次に、第1の従来技術の製造方法を説明す
る。第1の従来技術と同様に、上側基板301を下側基
板101と位置合わせして貼り合せた後で、上側基板3
02からシール層201にライン状の紫外光を一括照射
して硬化させる。図12に示すように、シール層201
に対応した箇所に位置合せのずれ量を考慮して幅が決定
された開口部を有し、液晶表示パネルの表示領域を遮光
するマスクパターン502を形成したUVマスク501
を上側基板301の上側に配置して照射することによ
り、シール層201の周辺だけに選択的に紫外光を照射
する。上側基板301からUVマスク501を介して照
射された紫外光は、対向側遮光体302に形成した複数
のUV透過孔601を透過してシール層201に照射さ
れシール層201を硬化させる。さらに、シール層20
1を透過した紫外光は、下側基板101の共通電圧供給
配線兼遮光体106や引出し配線で反射して再度シール
層201に進入しシール層201の硬化に寄与させる。
こうして、シール層201が仮硬化された後、熱処理に
よりシール層201を本硬化させて液晶表示装置が出来
上がる。
Next, the first conventional manufacturing method will be described. Similar to the first conventional technique, after the upper substrate 301 and the lower substrate 101 are aligned and bonded together, the upper substrate 3
From 02, the seal layer 201 is collectively irradiated with linear ultraviolet light to be cured. As shown in FIG. 12, the sealing layer 201
The UV mask 501 having a mask pattern 502 which has an opening whose width is determined in consideration of the amount of misalignment in alignment and which shields the display area of the liquid crystal display panel from light.
Is disposed on the upper side of the upper substrate 301 to irradiate, so that only the periphery of the seal layer 201 is selectively irradiated with ultraviolet light. The ultraviolet light emitted from the upper substrate 301 through the UV mask 501 passes through the plurality of UV transmission holes 601 formed in the opposite-side light shield 302 and is applied to the seal layer 201 to cure the seal layer 201. Furthermore, the sealing layer 20
The ultraviolet light that has passed through 1 is reflected by the common voltage supply wiring / shading body 106 of the lower substrate 101 and the extraction wiring, enters the sealing layer 201 again, and contributes to the curing of the sealing layer 201.
In this way, after the seal layer 201 is temporarily cured, the seal layer 201 is finally cured by heat treatment, and the liquid crystal display device is completed.

【0022】第2の従来技術によれば、対向側遮光体3
02に設けた複数のUV透過孔602を透過して紫外光
が紫外硬化型樹脂に照射され、シール層201を十分に
硬化させることができシール層201の内、紫外光の照
射量が全体的により均一化され、シールの硬化状況を均
一化することができ硬化不良による表示不良を防止する
ことができる。しかも、下側基板101の共通電圧供給
配線兼遮光体106に設けたUV透過孔601と異な
り、UV透過孔601の開口率を高くしても配線抵抗の
問題は発生しない。よって、製造ロットによるUV透過
孔201の出来映えのばらつきを考慮して、開口率を十
分マージンのある値に設定することができる。
According to the second conventional technique, the opposite side light shield 3
The ultraviolet curing resin is transmitted through the plurality of UV transmission holes 602 provided in No. 02, so that the sealing layer 201 can be sufficiently cured, and the irradiation amount of the ultraviolet light in the sealing layer 201 is entirely. As a result, the seals can be made uniform and the curing status of the seals can be made uniform, and display defects due to defective curing can be prevented. Moreover, unlike the UV transmission hole 601 provided in the common voltage supply wiring / light-shielding body 106 of the lower substrate 101, the problem of wiring resistance does not occur even if the aperture ratio of the UV transmission hole 601 is increased. Therefore, the aperture ratio can be set to a value with a sufficient margin in consideration of the variation in the quality of the UV transmission hole 201 depending on the manufacturing lot.

【0023】[0023]

【発明が解決しようとする課題】液晶滴下貼り合せ法
は、注入する液晶の量の微細な制御が難しいため、液晶
のセルギャップの制御が困難である。注入した液晶の量
が多いと、周辺のセルギャップが中央のセルギャップよ
り大きくなるという問題がある。セルギャップの不均一
が発生すると表示むらを生じる。特に、狭セルギャップ
になると、わずかのセルギャップの不均一でも表示むら
を生じる。狭セルギャップ化を進める中で、セルギャッ
プの不均一が新たな課題となってきた。
In the liquid crystal dropping bonding method, it is difficult to finely control the amount of liquid crystal to be injected, and thus it is difficult to control the cell gap of the liquid crystal. When the amount of injected liquid crystal is large, there is a problem that the peripheral cell gap becomes larger than the central cell gap. When the cell gap becomes uneven, display unevenness occurs. In particular, when the cell gap is narrow, display unevenness occurs even if the cell gap is slightly uneven. As the cell gap becomes narrower, the nonuniformity of the cell gap has become a new issue.

【0024】本願発明は係る問題点を鑑みてなされたも
のであり、その目的とするところは、液晶滴下貼り合せ
法において、液晶のセルギャップの均一性が確保できる
液晶表示装置及びその製造方法を提供することである。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof which can ensure the uniformity of liquid crystal cell gaps in a liquid crystal dropping bonding method. Is to provide.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の請求項1に係る本願発明の液晶表示装置は、表示部と
その周囲の周辺部とを備える下側基板と、前記下側基板
との間に液晶層を挟持して前記下側基板の周辺部に形成
されたシール層で下側基板と貼り合わされた上側基板と
を有する液晶表示装置であって、前記下側基板の前記周
辺部に形成された表示部から引き出された引出し配線と
遮光体とが前記シール層とオーバーラップしており、前
記シール層における前記シール層が前記引出し配線及び
前記遮光体とオーバーラップしない領域が規則的に配置
され、前記引出し配線及び前記遮光体とオーバーラップ
しない領域間の距離が80μm以下であることを特徴と
する。
A liquid crystal display device according to a first aspect of the present invention for solving the above problems is a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion, and the lower substrate. A liquid crystal display device comprising: a lower substrate and an upper substrate bonded to each other with a sealing layer formed between the lower substrate and a liquid crystal layer sandwiched between the lower substrate and the upper substrate. The lead-out wiring drawn out from the display portion formed on the light-shielding body and the light-shielding body overlap with the seal layer, and the seal layer in the seal layer has a regular region that does not overlap with the lead-out wiring and the light-shielding body. And the distance between the area not overlapping the lead-out wiring and the light shield is 80 μm or less.

【0026】シール層におけるシール層が引出し配線及
び遮光体とオーバーラップしない領域を規則的に配置す
ることによって、液晶のセルギャップが不均一になるこ
とを防止する。また、引出し配線及び遮光体とオーバー
ラップしない領域間の距離を80μm以下設定すること
によって、UV光が十分にシール層に照射され、シール
層の樹脂中の成分が液晶層中に溶け出して表示不良とな
ることを防止できる。
By regularly arranging the region of the seal layer where the seal layer does not overlap with the lead wiring and the light shield, it is possible to prevent the cell gap of the liquid crystal from becoming nonuniform. Further, by setting the distance between the lead-out wiring and the region that does not overlap with the light shield to 80 μm or less, UV light is sufficiently irradiated to the seal layer, and the components in the resin of the seal layer are melted into the liquid crystal layer and displayed. It can be prevented from becoming defective.

【0027】前記課題を解決するための請求項2に係る
本願発明の液晶表示装置は、表示部とその周囲の周辺部
とを備える下側基板と、前記下側基板との間に液晶層を
挟持して前記下側基板の周辺部に形成されたシール層で
下側基板と貼り合わされた上側基板とを有する液晶表示
装置であって、前記下側基板の前記周辺部に形成された
遮光体が前記シール層とオーバーラップしており、前記
下側基板が前記シール層とオーバーラップする領域には
複数の透過孔が規則的に配置され、前記複数の透過孔間
の距離が80μm以下であることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention to solve the above problem, a liquid crystal display device according to the present invention has a liquid crystal layer between a lower substrate having a display section and a peripheral portion around the display section and the lower substrate. A liquid crystal display device having a lower substrate and an upper substrate bonded to each other with a sealing layer sandwiched and formed in the peripheral portion of the lower substrate, wherein the light shield is formed in the peripheral portion of the lower substrate. Overlap with the seal layer, a plurality of transmission holes are regularly arranged in a region where the lower substrate overlaps with the seal layer, and a distance between the plurality of transmission holes is 80 μm or less. It is characterized by

【0028】下側基板がシール層とオーバーラップする
領域に複数の透過孔を規則的に配置することによって、
液晶のセルギャップが不均一になることを防止する。
By arranging a plurality of through holes regularly in the region where the lower substrate overlaps with the sealing layer,
It prevents the cell gap of the liquid crystal from becoming non-uniform.

【0029】前記課題を解決するための請求項3に係る
本願発明の液晶表示装置は、前記上側基板の前記周辺部
に形成された対向側遮光体が前記シール層とオーバーラ
ップしており、前記シール層における前記シール層と前
記対向側遮光体がオーバーラップしない領域が規則的に
配置されていることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, in the liquid crystal display device of the present invention, the counter-side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate overlaps with the seal layer, A region of the seal layer where the seal layer and the opposite-side light shield do not overlap is regularly arranged.

【0030】シール層におけるシール層と対向側遮光体
がオーバーラップしない領域を規則的に配置することに
よって、液晶のセルギャップが不均一になることを防止
する。
The cell gap of the liquid crystal is prevented from becoming nonuniform by regularly arranging the regions in the seal layer where the seal layer and the light shield on the opposite side do not overlap each other.

【0031】前記課題を解決するための請求項4に係る
本願発明の液晶表示装置は、前記シール層が前記上側基
板の前記周辺部に形成された対向側遮光体で完全に覆わ
れていることを特徴とする。
In the liquid crystal display device of the present invention according to claim 4 for solving the above-mentioned problems, the sealing layer is completely covered by a light shield on the opposite side formed in the peripheral portion of the upper substrate. Is characterized by.

【0032】対向側遮光体がシール層と完全にオーバー
ラップすることによって、液晶のセルギャップが不均一
になることを防止する。
It is possible to prevent the liquid crystal cell gap from becoming non-uniform by completely overlapping the opposite side light shield with the seal layer.

【0033】また、前記課題を解決するための請求項5
に係る本願発明の液晶表示装置は、前記上側基板の前記
周辺部に形成された対向側遮光体が前記シール層とオー
バーラップしていないことを特徴とする。
A fifth aspect for solving the above-mentioned problems.
The liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that the counter-side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate does not overlap with the seal layer.

【0034】対向側遮光体がシール層とオーバーラップ
しないことによって、液晶のセルギャップが不均一にな
ることを防止する。
Since the light shield on the opposite side does not overlap the seal layer, the cell gap of the liquid crystal is prevented from becoming nonuniform.

【0035】前記課題を解決するための請求項6に係る
本願発明の液晶表示装置は、前記上側基板の前記周辺部
に形成された対向側遮光体が、前記シール層の前記表示
部側境界から前記液晶のセルギャップの幅乃至セルギャ
ップの2倍の幅、前記周辺部に延在された領域でのみ前
記シール層とオーバーラップしているを特徴とする。
In the liquid crystal display device of the present invention according to claim 6 for solving the above-mentioned problems, the counter-side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate is separated from the boundary of the seal layer on the display unit side. The width of the cell gap of the liquid crystal or the width of the cell gap is twice as wide as the cell gap, and the liquid crystal overlaps with the sealing layer only in a region extending to the peripheral portion.

【0036】対向側遮光体をシール層とセルギャップ幅
〜セルギャップの2倍の幅でのみでオーバーラップさせ
ることによって、液晶のセルギャップの不均一防止と光
漏れ対策を両立させる。
By overlapping the light shield on the opposite side with the seal layer only at a cell gap width to a width twice the cell gap, both the nonuniformity of the cell gap of the liquid crystal and the light leakage countermeasure are achieved.

【0037】前記課題を解決するための請求項7に係る
本願発明の液晶表示装置は、表示部とその周囲の周辺部
とを備える下側基板と、前記下側基板との間に液晶層を
挟持して前記下側基板の周辺部に形成されたシール層で
下側基板と貼り合わされた上側基板とを有する液晶表示
装置であって、前記上側基板の前記周辺部に形成された
対向側遮光体が前記シール層とオーバーラップしてお
り、前記シール層における前記シール層が前記対向側遮
光体とオーバーラップしない領域が規則的に配置され、
前記対向側遮光体とオーバーラップしない領域間の距離
が80μm以下であることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention to solve the above-mentioned problems, a liquid crystal display device according to the present invention has a liquid crystal layer between a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion and the lower substrate. A liquid crystal display device having a lower substrate and an upper substrate bonded to each other with a sealing layer sandwiched and formed in the peripheral portion of the lower substrate, the counter side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate. A body overlaps with the seal layer, and the seal layer in the seal layer is regularly arranged in a region that does not overlap with the opposing light-shielding body,
The distance between the regions that do not overlap the opposite-side light shield is 80 μm or less.

【0038】シール層におけるシール層が対向側遮光体
とオーバーラップしない領域を規則的に配置することに
よって、液晶のセルギャップが不均一になることを防止
する。対向側遮光体とオーバーラップしない領域間の距
離を80μm以下設定することによって、UV光が十分
にシール層に照射され、シール層の樹脂中の成分が液晶
層中に溶け出して表示不良となることを防止できる。
By regularly arranging a region of the seal layer where the seal layer does not overlap with the light shield on the opposite side, it is possible to prevent the cell gap of the liquid crystal from becoming nonuniform. By setting the distance between the regions that do not overlap the opposite-side light shields to 80 μm or less, UV light is sufficiently irradiated to the seal layer, and the components in the resin of the seal layer dissolve into the liquid crystal layer, resulting in display failure. Can be prevented.

【0039】前記課題を解決するための請求項8に係る
本願発明の液晶表示装置は、表示部とその周囲の周辺部
とを備える下側基板と、前記下側基板との間に液晶層を
挟持して前記下側基板の周辺部に形成されたシール層で
下側基板と貼り合わされた上側基板とを有する液晶表示
装置であって、前記上側基板の前記周辺部に形成された
対向側遮光体が前記シール層とオーバーラップしてお
り、前記上側基板が前記シール層とオーバーラップする
領域には複数の透過孔が規則的に配置され、前記複数の
透過孔の距離が80μm以下であることを特徴とする。
According to an eighth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a liquid crystal display device according to the present invention has a liquid crystal layer between a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion and the lower substrate. A liquid crystal display device having a lower substrate and an upper substrate bonded to each other with a sealing layer sandwiched and formed in the peripheral portion of the lower substrate, the counter side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate. The body overlaps the seal layer, and a plurality of transmission holes are regularly arranged in a region where the upper substrate overlaps the seal layer, and a distance between the plurality of transmission holes is 80 μm or less. Is characterized by.

【0040】上側基板がシール層とオーバーラップする
領域に複数の透過孔を規則的に配置することによって、
液晶のセルギャップが不均一になることを防止する。
By regularly arranging a plurality of perforations in the region where the upper substrate overlaps the sealing layer,
It prevents the cell gap of the liquid crystal from becoming non-uniform.

【0041】前記課題を解決するための請求項9に係る
本願発明の液晶表示装置は、表示部とその周囲の周辺部
とを備える下側基板と、前記下側基板との間に液晶層を
挟持して前記下側基板の周辺部に形成されたシール層で
下側基板と貼り合わされた上側基板とを有する液晶表示
装置であって、前記上側基板の前記シール層とオーバー
ラップする領域には遮光体が設けられていないことを特
徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a liquid crystal display device according to the present invention has a liquid crystal layer between a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion and the lower substrate. A liquid crystal display device having a lower substrate and an upper substrate bonded to the lower substrate with a sealing layer formed between the lower substrate and a peripheral portion of the lower substrate, wherein a region of the upper substrate that overlaps with the sealing layer is It is characterized in that no light shield is provided.

【0042】上側基板のシール層とオーバーラップする
領域には遮光体を設けないことによって、液晶のセルギ
ャップが不均一になることを防止する。
By providing no light shield in the region of the upper substrate which overlaps with the seal layer, it is possible to prevent the cell gap of the liquid crystal from becoming non-uniform.

【0043】前記課題を解決するための請求項10に係
る本願発明の液晶表示装置は、前記下側基板の前記周辺
部に形成された表示部から引き出された引出し配線と遮
光体とが前記シール層とオーバーラップしており、前記
シール層における前記シール層が前記引出し配線及び前
記遮光体とオーバーラップしない領域が規則的に配置さ
れていることを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, in the liquid crystal display device of the present invention, the lead-out wiring and the light shield drawn from the display portion formed in the peripheral portion of the lower substrate are the seals. It is characterized in that it overlaps with a layer, and in the seal layer, a region where the seal layer does not overlap with the lead wiring and the light shielding body is regularly arranged.

【0044】シール層におけるシール層が下側基板の引
出し配線及び遮光体とオーバーラップしない領域を規則
的に配置することによって、液晶のセルギャップが不均
一になることを防止する。
It is possible to prevent the cell gap of the liquid crystal from becoming nonuniform by regularly arranging the region of the seal layer where the seal layer does not overlap with the lead wiring and the light shield of the lower substrate.

【0045】前記課題を解決するための請求項11に係
る本願発明の液晶表示装置は、表示部とその周囲の周辺
部とを備える下側基板と、前記下側基板との間に液晶層
を挟持して前記下側基板の周辺部に形成されたシール層
で下側基板と貼り合わされた上側基板とを有する液晶表
示装置であって、前記上側基板の前記周辺部に形成され
た対向側遮光体が、前記シール層の前記表示部側境界か
ら前記液晶のセルギャップの幅乃至セルギャップの2倍
の幅、前記周辺部に延在された領域でのみ前記シール層
とオーバーラップしているを特徴とする。
According to an eleventh aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a liquid crystal display device according to the present invention has a liquid crystal layer between a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion and the lower substrate. A liquid crystal display device having a lower substrate and an upper substrate bonded to each other with a sealing layer sandwiched and formed in the peripheral portion of the lower substrate, the counter side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate. The body overlaps with the seal layer only in a region extending from the boundary of the seal layer on the display unit side to the width of the liquid crystal cell gap or twice the cell gap, the peripheral portion. Characterize.

【0046】対向側遮光体をシール層とセルギャップ幅
〜セルギャップの2倍の幅でのみでオーバーラップさせ
ることによって、液晶のセルギャップの不均一防止と光
漏れ対策を両立させる。
By overlapping the light shield on the opposite side with the seal layer only at a cell gap width to a width twice the cell gap, both the nonuniformity of the cell gap of the liquid crystal and the light leakage countermeasure are achieved.

【0047】前記課題を解決するための請求項12に係
る本願発明の液晶表示装置は、前記対向側遮光体は有機
膜であることを特徴とする。
According to a twelfth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, the liquid crystal display device of the present invention is characterized in that the opposite-side light shield is an organic film.

【0048】対向側遮光体が有機膜のとき、本願発明の
効果が大きい。
When the light shield on the opposite side is an organic film, the effect of the present invention is great.

【0049】前記課題を解決するための請求項13に係
る本願発明の液晶表示装置は、前記下側基板には有機膜
が形成され、前記有機膜は前記シール層とはオーバーラ
ップしないことを特徴とする。
The liquid crystal display device of the present invention according to claim 13 for solving the above-mentioned problems is characterized in that an organic film is formed on said lower substrate and said organic film does not overlap with said seal layer. And

【0050】有機膜をシール層とオーバーラップさせな
いことによって、液晶のセルギャップが不均一になるこ
とを防止する。
By preventing the organic film from overlapping the seal layer, it is possible to prevent the cell gap of the liquid crystal from becoming non-uniform.

【0051】前記課題を解決するための請求項14に係
る本願発明の液晶表示装置は、前記液晶表示装置は、横
電界モードの液晶表示装置であることを特徴とする。
According to a fourteenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, the liquid crystal display device is characterized in that the liquid crystal display device is a horizontal electric field mode liquid crystal display device.

【0052】横電界モードのとき、本願発明の効果が大
きい。
In the lateral electric field mode, the effect of the present invention is great.

【0053】前記課題を解決するための請求項15に係
る本願発明の液晶表示装置の製造方法は、表示部とその
周囲の周辺部とを備える下側基板の前記周辺部にシール
層を形成する工程と、前記下側基板の前記シール層で囲
まれた領域に液晶材を滴下して上側基板と前記シール層
で貼り合わせる工程と、前記シール層に光を照射してシ
ール層を硬化させる工程とを有する液晶表示装置の製造
方法であって、前記下側基板の前記周辺部に形成され表
示部から引き出された引出し配線と遮光体とが前記シー
ル層とオーバーラップしており、前記シール層における
前記シール層が前記引出し配線及び前記遮光体とオーバ
ーラップしない領域が規則的に配置され、前記引出し配
線及び前記遮光体とオーバーラップしない領域間の距離
が80μm以下であることを特徴とする。
According to a fifteenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention forms a seal layer on the peripheral portion of a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion. A step of dropping a liquid crystal material on a region of the lower substrate surrounded by the seal layer and adhering the liquid crystal material to an upper substrate with the seal layer; and irradiating the seal layer with light to cure the seal layer. A method of manufacturing a liquid crystal display device including: a light-shielding body, which is formed in the peripheral portion of the lower substrate and drawn from a display portion, overlaps with the seal layer; A region where the sealing layer does not overlap the lead wiring and the light shield is regularly arranged, and the distance between the lead wiring and the region not overlapping the light shield is 80 μm or less. And wherein the Rukoto.

【0054】前記課題を解決するための請求項16に係
る本願発明の液晶表示装置の製造方法は、前記引出し配
線及び前記遮光体が前記シール層とオーバーラップする
領域には複数の透過孔が規則的に配置され、前記下側基
板側から前記シール層を硬化させる光を照射することを
特徴とする。
According to a sixteenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, there is provided a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, wherein a plurality of transmission holes are regularly formed in a region where the lead wiring and the light shield overlap the seal layer. And is arranged so that light for curing the sealing layer is irradiated from the lower substrate side.

【0055】前記課題を解決するための請求項17に係
る本願発明の液晶表示装置の製造方法は、表示部とその
周囲の周辺部とを備える下側基板の前記周辺部にシール
層を形成する工程と、前記下側基板の前記シール層で囲
まれた領域に液晶材を滴下して上側基板と前記シール層
で貼り合わせる工程と、前記シール層に光を照射してシ
ール層を硬化させる工程とを有する液晶表示装置の製造
方法であって、前記上側基板の前記周辺部に形成された
対向側遮光体が前記シール層とオーバーラップしてお
り、前記シール層が前記対向側遮光体とオーバーラップ
しない領域が規則的に配置され、前記引出し配線及び前
記遮光体とオーバーラップしない領域間の距離が80μ
m以下であることを特徴とする。
According to a seventeenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention forms a seal layer on the peripheral portion of a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion. A step of dropping a liquid crystal material on a region of the lower substrate surrounded by the seal layer and adhering the liquid crystal material to an upper substrate with the seal layer; and irradiating the seal layer with light to cure the seal layer. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: the counter side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate overlapping the seal layer; and the seal layer overlapping the counter side light shield. Areas that do not overlap are regularly arranged, and the distance between the areas that do not overlap the lead wiring and the light shield is 80 μm.
It is characterized by being m or less.

【0056】前記課題を解決するための請求項18に係
る本願発明の液晶表示装置の製造方法は、前記対向側遮
光体が前記シール層とオーバーラップする 領域には複
数の透過孔が規則的に配置され、前記上側基板側から前
記シール層を硬化させる光を照射することを特徴とす
る。
According to a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention according to claim 18 for solving the above-mentioned problems, a plurality of transmission holes are regularly formed in a region where the opposite side light-shielding body overlaps with the seal layer. It is arranged, and light for curing the sealing layer is irradiated from the upper substrate side.

【0057】前記課題を解決するための請求項19に係
る本願発明の液晶表示装置の製造方法は、表示部とその
周囲の周辺部とを備える下側基板の前記周辺部にシール
層を形成する工程と、前記下側基板の前記シール層で囲
まれた領域に液晶材を滴下して上側基板と前記シール層
で貼り合わせる工程と、前記シール層に光を照射してシ
ール層を硬化させる工程とを有する液晶表示装置の製造
方法であって、前記上側基板の前記周辺部に形成された
対向遮光体が前記シール層とオーバーラップしておら
ず、前記上側基板側から前記シール層を硬化させる光を
照射することを特徴とする。
According to a nineteenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention forms a seal layer on the peripheral portion of a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion. A step of dropping a liquid crystal material on a region of the lower substrate surrounded by the seal layer and adhering the liquid crystal material to an upper substrate with the seal layer; and irradiating the seal layer with light to cure the seal layer. A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising: a counter light-shielding body formed in the peripheral portion of the upper substrate, the sealing layer not being overlapped, and curing the sealing layer from the upper substrate side. It is characterized by irradiating light.

【0058】シール層が対向側遮光体とオーバーラップ
しない面積のシール層の単位面積に対する割合が、いず
れの場所においても略同一であることによって、上側基
板と下側基板のセルギャップをシール層のいずれの場所
においても均一にすることができる。オーバーラップし
ない面積のシール層の単位面積に対する割合が100%
又は0%に設定することが特に望ましい。
Since the ratio of the area where the seal layer does not overlap the opposite-side light-shielding body to the unit area of the seal layer is substantially the same at any place, the cell gap of the upper substrate and the lower substrate is made equal to that of the seal layer. It can be made uniform at any place. The ratio of non-overlapping area to the unit area of the seal layer is 100%
Alternatively, it is particularly desirable to set it to 0%.

【0059】前記課題を解決するための請求項9に係る
本願発明の液晶表示装置は、表示部とその周囲の周辺部
とを備える下側基板と、前記下側基板との間に液晶層を
挟持して前記下側基板の周辺部に形成されたシール層で
下側基板と貼り合わせられた上側基板とを有する液晶表
示装置であって、前記上側基板の前記周辺部に形成され
た対向側遮光体が前記シール層とオーバーラップしてお
り、前記対向側遮光体とオーバーラップしない面積が前
記シール層の単位面積に対して25%以上に選ばれてい
ることを特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a liquid crystal display device of the present invention has a liquid crystal layer between a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion and the lower substrate. A liquid crystal display device having a lower substrate and an upper substrate bonded together with a sealing layer sandwiched and formed in the peripheral portion of the lower substrate, the opposite side being formed in the peripheral portion of the upper substrate. The light-shielding body overlaps the seal layer, and an area not overlapping the opposite-side light-shielding body is 25% or more with respect to a unit area of the seal layer.

【0060】UV透過孔の開口率を25%以上に選ぶこ
とによって、シール層を十分にUV硬化することができ
るため、十分に硬化されなかったシール層の樹脂中の成
分が液晶層中に溶け出して表示不良となることを防止で
きる。
By selecting the aperture ratio of the UV transmission holes to be 25% or more, the sealing layer can be sufficiently UV-cured, so that the components in the resin of the sealing layer which have not been sufficiently cured are dissolved in the liquid crystal layer. It is possible to prevent the display failure from occurring.

【0061】前記課題を解決するための請求項10に係
る本願発明の液晶表示装置は、前記対向側遮光体とオー
バーラップしない領域間の距離が80μm以下であるこ
とを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that a distance between regions which do not overlap with the opposite-side light-shielding body is 80 μm or less.

【0062】UV透過孔の開口率を25%以上に選び、
かつ引出し配線及び前記遮光体とオーバーラップしない
領域間の距離を80μm以下設定することによって、U
V光が十分にシール層に照射され、シール層の樹脂中の
成分が液晶層中に溶け出して表示不良となることを防止
できる。
The aperture ratio of the UV transmission hole is selected to be 25% or more,
In addition, by setting the distance between the lead-out wiring and the area that does not overlap with the light-shielding body to 80 μm or less, U
It is possible to prevent the V-light from being sufficiently irradiated on the seal layer, thereby preventing the components in the resin of the seal layer from dissolving into the liquid crystal layer and resulting in display failure.

【0063】前記課題を解決するための請求項11に係
る本願発明の液晶表示装置は、前記シール層とオーバー
ラップする部分の前記対向側遮光体には前記シール層に
沿って複数の透過孔を備えていることを特徴とする。
In the liquid crystal display device according to the present invention according to claim 11 for solving the above-mentioned problems, a plurality of transmission holes are provided along the seal layer in the opposite side light shield in a portion overlapping with the seal layer. It is characterized by having.

【0064】シール層とオーバーラップする部分の遮光
体に、シール層の延びる方向に沿って、複数の透過孔を
形成することによって、UV透過孔の開口率を25%以
上、かつ引出し配線及び前記遮光体とオーバーラップし
ない領域間の距離を80μm以下設定することができ、
シール層を十分に均一に硬化することができる。
By forming a plurality of transmission holes in the light shield in the portion overlapping the seal layer along the direction in which the seal layer extends, the aperture ratio of the UV transmission holes is 25% or more, and the lead wiring and The distance between the light shield and the non-overlapping area can be set to 80 μm or less,
The sealing layer can be cured sufficiently uniformly.

【0065】前記課題を解決するための請求項12に係
る本願発明の液晶表示装置は、表示部とその周囲の周辺
部とを備える下側基板と、前記下側基板との間に液晶層
を挟持して前記下側基板の周辺部に形成されたシール層
で下側基板と貼り合わせられた上側基板とを有する液晶
表示装置であって、前記上側基板の前記シール層と対向
する領域には遮光体が設けられていないことを特徴とす
る。
According to a twelfth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a liquid crystal display device according to the present invention has a liquid crystal layer between a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion and the lower substrate. A liquid crystal display device having a lower substrate and an upper substrate bonded together with a seal layer formed between the lower substrate and a sealing layer sandwiched between the lower substrate and a region opposite to the seal layer. It is characterized in that no light shield is provided.

【0066】上側基板のシール層と対向する領域には遮
光体を設けないことによって、低い照射光量のUV光で
もシール層を十分に均一に硬化することができる。
By providing no light shield in the region of the upper substrate facing the seal layer, the seal layer can be sufficiently and uniformly cured even with a low irradiation light amount of UV light.

【0067】前記課題を解決するための請求項13に係
る本願発明の液晶表示装置は、前記下側基板の前記周辺
部に形成され表示部から引き出された引出し配線と遮光
体とが前記シール層とオーバーラップしており、前記引
出し配線及び前記遮光体とオーバーラップしない面積が
前記シール層の単位面積に対する割合が、いずれの場所
においても略同一であることを特徴とする。
According to a thirteenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, in the liquid crystal display device of the present invention, the lead wiring and the light shield formed in the peripheral portion of the lower substrate and drawn from the display portion are the sealing layers. And the area not overlapping the lead-out wiring and the light-shielding body is substantially the same at any place in the unit area of the sealing layer.

【0068】シール層が下側基板の前記周辺部に形成さ
れ表示部から引き出された引出し配線及び遮光体とオー
バーラップしない面積のシール層の単位面積に対する割
合が、いずれの場所においても略同一であることによっ
て、上側基板と下側基板のセルギャップをシール層のい
ずれの場所においても均一にすることができる。オーバ
ーラップしない面積のシール層の単位面積に対する割合
が0%に設定することが特に望ましい。
The ratio of the area of the seal layer formed on the peripheral portion of the lower substrate, which does not overlap with the lead-out wiring and the light shield drawn from the display section, to the unit area of the seal layer is substantially the same at any place. By so doing, the cell gap between the upper substrate and the lower substrate can be made uniform at any position of the sealing layer. It is particularly desirable to set the ratio of the non-overlapping area to the unit area of the seal layer to 0%.

【0069】前記課題を解決するための請求項14に係
る本願発明の液晶表示装置は、表示部とその周囲の周辺
部とを備える下側基板と、前記下側基板との間に液晶層
を挟持して前記下側基板の周辺部に形成されたシール層
で下側基板と貼り合わせられた上側基板とを有する液晶
表示装置であって、前記上側基板の前記シール層と対向
する領域において、前記領域の前記表示側境界から前記
上側基板と前記下側基板間のセルギャップの幅乃至前記
セルギャップの幅の2倍の幅までの範囲に対向側遮光体
が設けられていることを特徴とする。
According to a fourteenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a liquid crystal display device according to the present invention has a liquid crystal layer between a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion and the lower substrate. A liquid crystal display device having a lower substrate and an upper substrate bonded with a seal layer formed in the peripheral portion of the lower substrate by sandwiching, in a region facing the seal layer of the upper substrate, The opposite-side light shield is provided in a range from the display-side boundary of the region to a width of a cell gap between the upper substrate and the lower substrate to a width twice the width of the cell gap. To do.

【0070】上側基板のシール層と対向する領域におい
て、前記領域の表示側境界からXまでの範囲に対向側遮
光体を設けることとし、上側基板と下側基板間のセルギ
ャップをaとするとき、a≦X≦2aのようにXを選択
することによって、光漏れによるシール部近傍の表示不
良を防ぐことができる。
In a region facing the seal layer of the upper substrate, the opposite-side light shield is provided in a range from the display side boundary of the region to X, and the cell gap between the upper substrate and the lower substrate is a. , A ≦ X ≦ 2a, it is possible to prevent defective display near the seal portion due to light leakage.

【0071】前記課題を解決するための請求項15に係
る本願発明の液晶表示装置は、前記下側基板には有機膜
が形成され、前記有機膜は前記シール層とはオーバーラ
ップしないことを特徴とする。
The liquid crystal display device of the present invention according to claim 15 for solving the above-mentioned problems is characterized in that an organic film is formed on said lower substrate, and said organic film does not overlap with said seal layer. And

【0072】下側基板に形成された有機膜を平面図上、
シール層とはオーバーラップさせないことによって、上
側基板と下側基板のセルギャップをシール層のいずれの
場所においても均一にすることができる。有機膜はシー
ル層と密着性が悪いため、シール層を有機膜と完全にオ
ーバーラップさせることも望ましくない。
The organic film formed on the lower substrate is shown in plan view,
By not overlapping with the sealing layer, the cell gap between the upper substrate and the lower substrate can be made uniform at any position of the sealing layer. Since the organic film has poor adhesion to the seal layer, it is not desirable to completely overlap the seal layer with the organic film.

【0073】前記課題を解決するための請求項16に係
る本願発明の液晶表示装置は、前記下側基板の遮光体に
は、透過孔からなる目盛や数字で構成されたバーニヤが
形成されていることを特徴とする。
According to a sixteenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, the liquid crystal display device according to the present invention is provided with a vernier composed of a graduation made of a transmission hole and a numeral in the light shield of the lower substrate. It is characterized by

【0074】下側基板の遮光体に、透過孔からなる目盛
や数字で構成されたバーニヤを形成することによって、
UV光を照射したときに、バーニヤの透過孔からなる目
盛や数字を透過してシール層に紫外光が照射され、シー
ル層を十分に硬化させることができ、シール層の中でU
V光の照射量が全体的により均一化され、シールの硬化
状態を均一化することができ硬化不良による表示不良を
防止することができる。
By forming a vernier composed of graduations and numerals composed of transmission holes on the light-shielding body of the lower substrate,
When irradiated with UV light, the seal layer is irradiated with ultraviolet light through the graduations and numbers made up of vernier transmission holes, and the seal layer can be sufficiently cured.
The irradiation amount of V light can be made more uniform as a whole, the cured state of the seal can be made uniform, and display defects due to defective curing can be prevented.

【0075】前記課題を解決するための請求項17に係
る本願発明の液晶表示装置は、前記液晶表示装置は、横
電界モードの液晶表示装置であることを特徴とする。
According to a seventeenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, the liquid crystal display device is characterized in that the liquid crystal display device is a horizontal electric field mode liquid crystal display device.

【0076】横電界モードの液晶は、広視野角、中間調
の高速応答の特徴のため特に大型液晶に適する。また、
動画対応のため狭セルギャップ化が特に重要であり、液
晶の注入時間短縮が特に求めらる。これらの理由によ
り、本願発明は横電界モード液晶に特に必要とされる技
術である。
The horizontal electric field mode liquid crystal is particularly suitable for a large liquid crystal due to its characteristics of wide viewing angle and high-speed halftone response. Also,
A narrow cell gap is especially important for moving images, and a shortening of liquid crystal injection time is especially required. For these reasons, the present invention is a technique particularly required for the in-plane switching mode liquid crystal.

【0077】前記課題を解決するための請求項18に係
る本願発明の液晶表示装置の製造方法は、表示部とその
周囲の周辺部とを備える下側基板の前記周辺部にシール
層を形成する工程と、前記下側基板の前記シール層で囲
まれた領域に液晶材を滴下して上側基板と前記シール層
で貼り合わせる工程と、前記シール層に光を照射してシ
ール層を硬化させる工程とを有する液晶表示装置の製造
方法であって、前記下側基板の前記周辺部に形成され表
示部から引き出された引出し配線と遮光体とが前記シー
ル層とオーバーラップしており、前記引出し配線及び前
記遮光体とオーバーラップしない面積が前記シール層の
単位面積に対して25%以上に選ばれていることを特徴
とする。
According to an eighteenth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention forms a seal layer on the peripheral portion of a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion. A step of dropping a liquid crystal material on a region of the lower substrate surrounded by the seal layer and adhering the liquid crystal material to an upper substrate with the seal layer; and irradiating the seal layer with light to cure the seal layer. A method of manufacturing a liquid crystal display device including: a lead wiring formed on the peripheral portion of the lower substrate and drawn from a display portion and a light shield overlap the sealing layer; Also, the area not overlapping the light shield is selected to be 25% or more with respect to the unit area of the seal layer.

【0078】また、前記課題を解決するための請求項1
9に係る本願発明の液晶表示装置の製造方法は、前記シ
ール層とオーバーラップする部分の前記遮光体には前記
シール層に沿って複数の透過孔を備えており、前記下側
基板側から前記シール層を硬化させる光を照射すること
を特徴とする。
Further, claim 1 for solving the above-mentioned problems
According to a ninth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a plurality of transmission holes are provided along the sealing layer in the light shielding body at a portion overlapping with the sealing layer, and from the lower substrate side, It is characterized by irradiating light for curing the seal layer.

【0079】前記課題を解決するための請求項20に係
る本願発明の液晶表示装置の製造方法は、表示部とその
周囲の周辺部とを備える下側基板の前記周辺部にシール
層を形成する工程と、前記下側基板の前記シール層で囲
まれた領域に液晶材を滴下して上側基板と前記シール層
で貼り合わせる工程と、前記シール層に光を照射してシ
ール層を硬化させる工程とを有する液晶表示装置の製造
方法であって、前記上側基板の前記周辺部に形成された
対向遮光体が前記シール層とオーバーラップしており、
前記対向遮光体とオーバーラップしない面積が前記シー
ル層の単位面積に対して25%以上に選ばれていること
を特徴とする。
According to a twentieth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention forms a sealing layer on the peripheral portion of a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion. A step of dropping a liquid crystal material on a region of the lower substrate surrounded by the seal layer and adhering the liquid crystal material to an upper substrate with the seal layer; and irradiating the seal layer with light to cure the seal layer. A method of manufacturing a liquid crystal display device having, wherein a counter light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate overlaps with the seal layer,
The area which does not overlap with the opposed light-shielding member is selected to be 25% or more with respect to the unit area of the seal layer.

【0080】前記課題を解決するための請求項21に係
る本願発明の液晶表示装置の製造方法は、前記シール層
とオーバーラップする部分の前記対向遮光体には前記シ
ール層に沿って複数の透過孔を備えており、前記上側基
板側から前記シール層を硬化させる光を照射することを
特徴とする。
According to a twenty-first aspect of the invention for solving the above-mentioned problems, in the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, a plurality of transmissions are made along the seal layer in the counter light-shielding body in a portion overlapping with the seal layer. A hole is provided, and light for curing the sealing layer is irradiated from the upper substrate side.

【0081】シール層とオーバーラップする下側基板又
は上側基板の遮光体に開口率を25%以上の透過孔を設
け、前記透過孔のある基板側からシール層を硬化させる
光を照射することよって、シール層を十分にUV硬化す
ることができ、十分に硬化されなかったシール層の樹脂
中の成分が液晶層中に溶け出して表示不良となることを
防止できる。
By forming a transparent hole having an aperture ratio of 25% or more in the light shielding body of the lower substrate or the upper substrate which overlaps with the seal layer, and irradiating the substrate side having the transparent hole with light for curing the seal layer. The seal layer can be sufficiently UV-cured, and it is possible to prevent a component in the resin of the seal layer, which has not been sufficiently cured, from being dissolved into the liquid crystal layer to cause display failure.

【0082】前記課題を解決するための請求項22に係
る本願発明の液晶表示装置の製造方法は、表示部とその
周囲の周辺部とを備える下側基板の前記周辺部にシール
層を形成する工程と、前記下側基板の前記シール層で囲
まれた領域に液晶材を滴下して上側基板と前記シール層
で貼り合わせる工程と、前記シール層に光を照射してシ
ール層を硬化させる工程とを有する液晶表示装置の製造
方法であって、前記上側基板の前記周辺部に形成された
対向遮光体が前記シール層とオーバーラップしておら
ず、前記上側基板側から前記シール層を硬化させる光を
照射することを特徴とする。
According to a twenty-second aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention forms a seal layer on the peripheral portion of a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion. A step of dropping a liquid crystal material on a region of the lower substrate surrounded by the seal layer and adhering the liquid crystal material to an upper substrate with the seal layer; and irradiating the seal layer with light to cure the seal layer. A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising: a counter light-shielding body formed in the peripheral portion of the upper substrate, the sealing layer not being overlapped, and curing the sealing layer from the upper substrate side. It is characterized by irradiating light.

【0083】上側基板の周辺部に形成された対向遮光体
をシール層とオーバーラップさせないことによって、低
い照射光量のUV光でもシール層を十分に均一に硬化す
ることができる。
By preventing the opposing light shield formed on the peripheral portion of the upper substrate from overlapping the seal layer, the seal layer can be sufficiently and uniformly cured even with a low irradiation light amount of UV light.

【0084】[0084]

【発明の実施の形態】本願発明者が液晶滴下貼り合せ法
による狭セルギャップ化の実験を進める中で、液晶のセ
ルギャップの不均一の問題が上側基板に設置した遮光層
に関係していることが分かってきた。そこで、以下の実
験を行った。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION While the inventors of the present invention are conducting an experiment for narrowing the cell gap by the liquid crystal dropping bonding method, the problem of non-uniformity of the liquid crystal cell gap is related to the light shielding layer provided on the upper substrate. I understand. Therefore, the following experiment was conducted.

【0085】図1乃至図3に実験に用いた液晶表示装置
のシール層近傍の断面図を示す。対向側遮光体302の
構成を除いて図1乃至図3は同一の構成になっている。
図1乃至図3は横電界モードの液晶表示装置である。横
電界モードを用いたのは、横電界モードでは縦電界モー
ドに比べ液晶のセルギャップの不均一による表示むらが
より発生しやすいためである。
1 to 3 are sectional views showing the vicinity of the seal layer of the liquid crystal display device used in the experiment. 1 to 3 have the same configuration except the configuration of the opposite-side light shield 302.
1 to 3 show a horizontal electric field mode liquid crystal display device. The horizontal electric field mode is used because in the horizontal electric field mode, display unevenness due to the nonuniform cell gap of the liquid crystal is more likely to occur than in the vertical electric field mode.

【0086】横電界モードの液晶表示装置の断面図につ
いて説明すると、図1に示すように、下側基板101に
はその表示部401及び周辺部402に共通電圧供給配
線兼遮光体106が形成されており、その上にゲート絶
縁膜107a、パシベーション膜107bが形成され、
その上に、有機膜304が形成されている。有機膜は配
線層間の層間絶縁膜として使われる。有機膜の誘電率は
無機膜の誘電率よりも低いため、層間絶縁膜全体の誘電
率を下げることができる。また、有機膜は無機膜に比
べ、層間絶縁膜を形成するプロセスが容易である。この
ような理由で、例えば横電界モードの液晶表示装置のデ
ータ線とこれを覆うようにして形成された透明金属から
なる共通電極の間の層間絶縁膜に採用されている。
A cross-sectional view of a horizontal electric field mode liquid crystal display device will be described. As shown in FIG. 1, the lower substrate 101 is provided with a common voltage supply wiring and a light shield 106 in its display portion 401 and its peripheral portion 402. And a gate insulating film 107a and a passivation film 107b are formed thereon.
An organic film 304 is formed on it. The organic film is used as an interlayer insulating film between wiring layers. Since the dielectric constant of the organic film is lower than that of the inorganic film, the dielectric constant of the entire interlayer insulating film can be lowered. In addition, the organic film is easier in the process of forming the interlayer insulating film than the inorganic film. For this reason, for example, it is used as an interlayer insulating film between a data line of a horizontal electric field mode liquid crystal display device and a common electrode made of a transparent metal so as to cover the data line.

【0087】共通電圧供給配線兼遮光体106は、シー
ル層201とオーバーラップする範囲では帯状または格
子状のUV透過孔601を備え、25%以上の開口率を
確保している。
The common voltage supply wiring / light-shielding body 106 is provided with band-shaped or lattice-shaped UV transmission holes 601 in the range where it overlaps with the seal layer 201 and secures an aperture ratio of 25% or more.

【0088】上側基板301には、その表示部401に
対向側遮光体302が形成され、その上にオーバーコー
ト層403が形成されている。(図2、3では対向側遮
光体302は周辺部402まで延びている)周辺部40
2縦電界モード液晶表示装置の場合には、オーバーコー
ト層403の替わりに対向電極303が形成される。図
1乃至図3では簡単化のために省略しているが、基板1
01、301が液晶層203と接する面には配向膜が設
置されている。配向膜は表示部401の範囲に設置され
ていればいい。同様に図示されていないが、基板10
1、301の液晶層203と反対側には偏光板が設置さ
れている。偏光板は表示部401のみでなく、周辺部4
02のシール層の範囲まで覆っている。
On the upper substrate 301, the counter side light shield 302 is formed on the display portion 401, and the overcoat layer 403 is formed thereon. (In FIGS. 2 and 3, the opposite-side light shield 302 extends to the peripheral portion 402) Peripheral portion 40
In the case of the two vertical electric field mode liquid crystal display device, the counter electrode 303 is formed instead of the overcoat layer 403. The substrate 1 is omitted in FIGS. 1 to 3 for simplification.
An alignment film is provided on the surface where 01 and 301 are in contact with the liquid crystal layer 203. The alignment film may be installed in the range of the display portion 401. Similarly, although not shown, the substrate 10
A polarizing plate is installed on the side opposite to the liquid crystal layers 203 of Nos. 1 and 301. The polarizing plate is not only the display unit 401 but also the peripheral unit 4
It covers up to the range of the 02 sealing layer.

【0089】上側基板301には、表示部401では格
子状のブラックストライプが形成され、その周囲の周辺
部402の対向側遮光体302はブラックストライプと
一体に形成されている。(ただし、図1では周辺部40
2には対抗側遮光体302はない。)一体に形成されて
いるため、本願ではブラックストライプも含めて対向側
遮光体302と呼ぶ。図示していないが、下側基板10
1と上側基板301とは、表示部401に散布されたス
ペーサと液晶層203を介在して周辺部402のシール
層201で貼り合わされている。横電界モードでは上側
基板301に対向電極303がないため、トランスファ
202は形成されていない。
On the upper substrate 301, a lattice-shaped black stripe is formed in the display section 401, and the opposite side light shield 302 of the peripheral portion 402 around the display section 401 is formed integrally with the black stripe. (However, in FIG.
2 does not have the opposite-side light shield 302. ) In this application, the black stripe is also referred to as the opposite-side light shield 302 because it is integrally formed. Although not shown, the lower substrate 10
1 and the upper substrate 301 are bonded to each other with the seal layer 201 in the peripheral portion 402 with the spacers and the liquid crystal layer 203 scattered on the display portion 401 interposed therebetween. In the lateral electric field mode, the transfer electrode 202 is not formed because the counter electrode 303 is not provided on the upper substrate 301.

【0090】図1では、対向側遮光体302は表示部4
01にのみ設置され、シール層201とはオーバーラッ
プしていない。図2では、対向側遮光体302は表示部
401にのみでなく、シール層201と完全にオーバー
ラップし、上側基板301全体に設置されている。図3
では、対向側遮光体302は表示部401にのみでな
く、シール層201の半分程度をオーバーラップしてい
る。
In FIG. 1, the opposite side light shield 302 is the display unit 4
01, and does not overlap with the sealing layer 201. In FIG. 2, the opposite-side light shield 302 completely overlaps not only the display unit 401 but also the seal layer 201, and is installed on the entire upper substrate 301. Figure 3
Then, the opposite-side light shield 302 overlaps not only the display section 401 but also about half of the seal layer 201.

【0091】このような3種類の液晶表示装置を作成
し、下側基板101のUV透過穴601を透過してシー
ル層201にUV光を照射し、シール層201を硬化さ
せた。
Three types of such liquid crystal display devices were prepared, and the sealing layer 201 was cured by irradiating the sealing layer 201 with UV light through the UV transmission holes 601 of the lower substrate 101.

【0092】実験の結果以下のことが分かった。上側基
板301のシール層201とオーバーラップする領域に
おいて、前記領域に部分的に対向側遮光体302を設け
ると、液晶のセルギャップ不均一が発生しやすい。(図
3の構成による実験結果) 上側基板301のシール層201とオーバーラップする
領域全体に対向側遮光体302を設けると、液晶のセル
ギャップ不均一は(1)の場合より発生しにくいが、あ
る程度の頻度で発生する。(図2の構成による実験結
果) 上側基板301のシール層201とオーバーラップする
領域において、前記領域に対向側遮光体302を全く設
けないと、液晶のセルギャップ不均一はほとんど発生し
ない。(図1の構成による実験結果) 以上の結果を基に考察した結果、以下の推論を得た。上
側基板301の対向側遮光体302は膜厚約1μmの有
機膜である。一方、下側基板101の遮光体106は膜
厚約0.2μmの金属膜である。膜厚が比較的薄く、剛
性のある金属を用いている下側基板101の遮光体10
6がシール層201とオーバーラップしても、液晶のセ
ルギャップ不均一は発生しにくい。膜厚が比較的厚く、
有機膜を用いている上側基板301の対向側遮光体30
2がシール層201と部分的にオーバーラップすると、
液晶のセルギャップ不均一が発生する。このような状態
でUV照射・仮硬化工程で一括照射して硬化させると、
シール層201と対向側遮光体302が重なっている部
分の液晶のセルギャップは広くなり、シール層201と
対向側遮光体302が重なっていない部分の液晶のセル
ギャップは狭くなる。図3の場合、シール層201の右
側(表示側)ではセルギャップが広くなり、シール層2
01の左側(表示側と反対側)ではセルギャップは狭く
なる。膜厚が比較的厚く、有機膜を用いている上側基板
301の対向側遮光体302がシール層201と全体的
にオーバーラップすると、部分的にオーバーラップする
場合に比べれば液晶のセルギャップ不均一は発生しにく
いが、対向側遮光体302の厚さが厚いため、膜厚に段
差があることがあり、その段差に基いて液晶のセルギャ
ップ不均一が発生する。従って、上側基板301のシー
ル層201とオーバーラップする領域全体に渡って規則
的に透過孔を有する有機膜を設けるのであれば、前記領
域で完全にオーバーラップする場合と近い結果、すなわ
ち図1に比べればセルギャップの不均一は発生しやすい
が、図3に比べればセルギャップの不均一は発生しにく
いと考えられる。(3)において、「規則的に透過孔を
有する」場合、周期が大きければ部分的には不均一にな
るため、セルギャップ不均一が発生しやすくなる。どの
程度の周期性が必要であるかを考えると、図14に示す
透過孔の間隔と類似すると考えられる。なぜなら、対向
側遮光体の透過孔の周期でシール硬化のばらつきも生じ
ると考えられるからである。よって、対向側遮光体の透
過孔の間隔が80μm以下であることが必要である。
As a result of the experiment, the following was found. In a region of the upper substrate 301 that overlaps with the seal layer 201, if the opposite-side light shield 302 is partially provided in the region, nonuniform cell gap of liquid crystal is likely to occur. (Experimental results with the configuration of FIG. 3) When the opposite side light shield 302 is provided in the entire region of the upper substrate 301 that overlaps with the sealing layer 201, the cell gap nonuniformity of liquid crystal is less likely to occur than in the case of (1), It occurs at some frequency. (Experimental Results with the Configuration of FIG. 2) In the region of the upper substrate 301 that overlaps with the seal layer 201, if the opposite-side light shield 302 is not provided at all in the region, the nonuniform cell gap of the liquid crystal hardly occurs. (Experimental results with the configuration of FIG. 1) As a result of consideration based on the above results, the following reasoning was obtained. The opposite-side light shield 302 of the upper substrate 301 is an organic film having a film thickness of about 1 μm. On the other hand, the light shield 106 of the lower substrate 101 is a metal film having a film thickness of about 0.2 μm. The light shield 10 of the lower substrate 101 using a metal having a relatively thin film thickness and rigidity.
Even if 6 overlaps with the seal layer 201, the nonuniform cell gap of the liquid crystal hardly occurs. The film thickness is relatively thick,
Opposite-side light shield 30 of upper substrate 301 using organic film
When 2 partially overlaps with the sealing layer 201,
The cell gap of the liquid crystal becomes uneven. In this state, if the UV irradiation / temporary curing process is performed by collectively irradiating and curing,
The cell gap of the liquid crystal in the portion where the seal layer 201 and the opposite-side light shield 302 overlap is widened, and the cell gap of the liquid crystal in the portion where the seal layer 201 and the opposite-side light shield 302 do not overlap is narrow. In the case of FIG. 3, the cell gap becomes wide on the right side (display side) of the seal layer 201, and
On the left side of 01 (the side opposite to the display side), the cell gap becomes narrow. When the opposite-side light shield 302 of the upper substrate 301, which has a relatively large film thickness and uses an organic film, entirely overlaps with the seal layer 201, the cell gap of the liquid crystal is nonuniform as compared with the case where it partially overlaps. However, since the opposite-side light shield 302 is thick, the film thickness may have a step, and the cell gap of the liquid crystal may be nonuniform due to the step. Therefore, if the organic film having the permeation holes is regularly provided over the entire region of the upper substrate 301 that overlaps with the sealing layer 201, the result close to the case where the region completely overlaps, that is, FIG. It is considered that the cell gap nonuniformity is likely to occur when compared with each other, but the cell gap nonuniformity is less likely to occur compared to FIG. In (3), in the case of "having regular transmission holes", if the period is large, the cell gap becomes partially non-uniform, and thus the cell gap non-uniformity is likely to occur. Considering how much periodicity is required, it is considered to be similar to the spacing between the transmission holes shown in FIG. This is because it is considered that the seal hardening varies depending on the period of the transmission holes of the opposite-side light shield. Therefore, it is necessary that the distance between the transmission holes of the opposite-side light shield is 80 μm or less.

【0093】以上の推論に基き、以下の結論を得た。下
側基板側からシール層を硬化させる光を照射する場合
も、上側基板側からシール層を硬化させる光を照射する
場合も、上側基板301のシール層201とオーバーラ
ップする領域において、前記領域に対向側遮光体302
を全く設けないことが望ましい。(第1の実施形態:図
1) 次善の策として、下側基板側からシール層を硬化させる
光を照射する場合、上側基板301のシール層201と
オーバーラップする領域において、前記領域を完全に覆
うように対向側遮光体302を設けることが望ましい。
(第2の実施形態:図2) さらに次善の策として、下側基板側からシール層を硬化
させる光を照射する場合も、上側基板側からシール層を
硬化させる光を照射する場合も、上側基板301のシー
ル層201とオーバーラップする領域において、前記領
域に対向側遮光体302を設け、対向側遮光体に規則的
に透過孔を設置し、かつ透過孔の間隔が80μm以下で
あることが望ましい。(第3の実施形態:図なし) ここで、下側基板101の製造工程について説明する。
まず、ガラスなどによる絶縁性の透明基板上にスパッ
タ法によってモリブデン−タングステン(MoW)膜を
300nmの膜厚で成膜する。そして、走査線や、共通
電圧供給配線兼遮光体106の導電パターンなどを、フ
ォト・エッチング法によって所定の形状に形成する。こ
れG層金属配線と呼ぶ。
Based on the above reasoning, the following conclusions were obtained. Whether the seal layer 201 is irradiated with light for curing the seal layer from the lower substrate side or the seal substrate 201 is irradiated with light for curing the seal layer from the upper substrate side, in the region overlapping the seal layer 201 of the upper substrate 301, Opposite-side light shield 302
It is desirable not to provide at all. (First embodiment: FIG. 1) As a suboptimal measure, when irradiating light for curing the sealing layer from the lower substrate side, in the region where the sealing layer 201 of the upper substrate 301 overlaps, the region is completely covered. It is desirable to provide the opposite-side light shield 302 so as to cover.
(Second Embodiment: FIG. 2) As a suboptimal measure, both when irradiating light for curing the seal layer from the lower substrate side and irradiating light for curing the seal layer from the upper substrate side, In a region of the upper substrate 301 that overlaps with the seal layer 201, a counter-side light shield 302 is provided in the region, the counter-side light shield is regularly provided with transmission holes, and the distance between the transmission holes is 80 μm or less. Is desirable. (Third embodiment: not shown) Here, a manufacturing process of the lower substrate 101 will be described.
First, a molybdenum-tungsten (MoW) film having a thickness of 300 nm is formed on an insulating transparent substrate made of glass or the like by a sputtering method. Then, the scanning line, the conductive pattern of the common voltage supply wiring / light-shielding body 106, and the like are formed into a predetermined shape by photo-etching. This is called a G layer metal wiring.

【0094】次に、酸化シリコン(SiOx )や窒化シ
リコン(SiNx )などのゲート絶縁膜107aをそれ
ぞれ350nm、50nmの膜厚に、薄膜トランジスタ
のチャネル領域となるアモルファスシリコン(a−S
i)膜をCVD法により50nmの膜厚に成膜する。ま
た、窒化シリコンのエッチング保護膜をCVD法により
310nmの膜厚で成膜した後、この保護膜のみをフォ
ト・エッチング法によって所定の形状に成形加工する。
Next, a gate insulating film 107a such as silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx) having a film thickness of 350 nm and 50 nm, respectively, is formed of amorphous silicon (a-S) which becomes the channel region of the thin film transistor.
i) A film is formed by CVD to a film thickness of 50 nm. Further, after forming an etching protection film of silicon nitride with a film thickness of 310 nm by the CVD method, only this protection film is formed into a predetermined shape by the photo-etching method.

【0095】さらに、CVD法によってn+ 型アモルフ
ァスシリコン膜を50nmの膜厚で成膜する。この後、
+ 型アモルファスシリコン膜とともにアモルファスシ
リコン膜を所定の形状に成形加工し、さらに、画素電極
としてITO(Indium Tin Oxide)膜をスパッタによっ
て40nmの膜厚で成膜した後、フォト・エッチング法
により所定の形状に成形加工する。
Further, an n + type amorphous silicon film is formed to a thickness of 50 nm by the CVD method. After this,
The amorphous silicon film is formed into a predetermined shape together with the n + -type amorphous silicon film, and further, an ITO (Indium Tin Oxide) film is formed as a pixel electrode with a film thickness of 40 nm by sputtering, and then a predetermined photo etching method is performed. The shape is processed.

【0096】次に、走査線の接続用端子などをフォト・
エッチング法によって所定の形状に成形加工する。ま
た、アルミニウム(Al)をスパッタ法によって450
nmの膜厚で成膜し、フォト・エッチング法により所定
の形状に成形加工する。
Next, the connection terminals for the scanning lines are
It is formed into a predetermined shape by an etching method. In addition, aluminum (Al) is sputtered 450
A film having a thickness of nm is formed, and is formed into a predetermined shape by photo etching.

【0097】最後に、窒化シリコン(SiNx)のパシ
ベーション膜107bをCVD法により200nmの膜
厚で成膜し、フォト・エッチング法によって成形加工
し、有機膜304を形成することにより、下側基板が完
成する。
Finally, a silicon nitride (SiNx) passivation film 107b is formed to a film thickness of 200 nm by a CVD method, and is formed by a photo-etching method to form an organic film 304. Complete.

【0098】このような下側基板101では、多数の画
素電極がマトリクス状に配置された表示部401に対
し、この表示部401の周囲には上側基板301との間
で液晶層を挟持するシール層201が、表示部401を
囲むように設けられている。縦電界モードの液晶の場合
は、この他に、上側基板301との電気的接続に用いら
れるトランスファ202およびこのトランスファ202
と外部接続用の端子102、104との間を電気的に接
続する引出し配線103、105がそれぞれ設けられて
いる。(トランスファ202、外部接続用の端子10
2、104、引出し配線103、105は図8参照。) 上記第1の実施の形態に従って試作を進める中で、下側
基板101に形成した有機膜304も、液晶のセルギャ
ップの均一性に影響を与えることが分かった。無機膜は
シール層201との密着性が良いが、有機膜はシール層
201との密着性が悪いという特徴を有する。図2にお
いて、対向側遮光体302の上にオーバーコート層40
3を形成し、オーバーコート層403が直接シール層2
01と密着することによって、対向側遮光体302とシ
ール層201が直接密着しないように構成しているの
も、有機膜はシール層201との密着性が悪いためであ
る。このため、図1乃至図3のように下側基板に有機膜
304を設けた場合、有機膜304はシール層201と
は平面図上オーバーラップしないことが望ましい。
In such a lower substrate 101, a seal for sandwiching a liquid crystal layer with the upper substrate 301 is provided around the display unit 401 in which a large number of pixel electrodes are arranged in a matrix. The layer 201 is provided so as to surround the display portion 401. In the case of the liquid crystal of the vertical electric field mode, in addition to this, the transfer 202 used for electrical connection with the upper substrate 301 and the transfer 202.
And lead-out wirings 103 and 105 for electrically connecting between the external connection terminals 102 and 104, respectively. (Transfer 202, terminal 10 for external connection
See FIG. 8 for the reference numerals 2, 104 and the lead wires 103, 105. During the trial manufacture according to the first embodiment, it was found that the organic film 304 formed on the lower substrate 101 also affects the uniformity of the cell gap of the liquid crystal. The inorganic film has good adhesion to the seal layer 201, but the organic film has poor adhesion to the seal layer 201. In FIG. 2, the overcoat layer 40 is formed on the opposite side light shield 302.
3 is formed, and the overcoat layer 403 is the direct seal layer 2
It is configured such that the opposite-side light shield 302 and the seal layer 201 do not directly adhere to each other by closely adhering with 01. This is because the organic film has poor adhesion to the seal layer 201. Therefore, when the organic film 304 is provided on the lower substrate as shown in FIGS. 1 to 3, it is desirable that the organic film 304 does not overlap the seal layer 201 in plan view.

【0099】図1の実施形態では、上側基板301のシ
ール層201とオーバーラップする領域において、前記
領域に対向側遮光体302を全く設けないため、表示部
401へのバックライト光の光漏れを検討する必要があ
る。図4は対向側遮光体302の設置位置を除いて図1
と全く同じ図である。
In the embodiment of FIG. 1, in the region of the upper substrate 301 that overlaps with the seal layer 201, the opposite side light shield 302 is not provided at all in the region, so the light leakage of the backlight light to the display unit 401 is prevented. Need to consider. 4 is the same as FIG. 1 except for the installation position of the opposite side light shield 302.
Is exactly the same as

【0100】図4に示すように、上側基板301のシー
ル層201とオーバーラップする領域において、前記領
域のシール層201の表示部側境界からXμmまでの範
囲に対向側遮光体302を設けることによって、バック
ライト光の光漏れによるシール部近傍の表示不良を防ぐ
ことができると仮定し、Xの値をどの程度にすればバッ
クライト光の光漏れの影響による表示不良を防ぐことが
できるかを実験によって確認した。この結果を図5に示
す。
As shown in FIG. 4, in the region of the upper substrate 301 which overlaps with the seal layer 201, the counter-side light shield 302 is provided in the region from the boundary of the seal layer 201 on the display unit side to X μm in the region. Assuming that it is possible to prevent a display defect in the vicinity of the seal part due to light leakage of the backlight light, what value of X can prevent the display defect due to the light leakage of the backlight light. Confirmed by experiment. The result is shown in FIG.

【0101】図5は、バックライト光の光漏れと対向側
遮光体302の張りだし量Xの関係を実験によって求め
たものである。4本のグラフは、下側基板101と上側
基板301の間の液晶のセルギャップを2,3,4,5
μmと変えたときの表示への光漏れレベルの相対値を示
す。光漏れレベルが5以下(太実線で表示)の場合、主
観評価では光漏れは全く認識できない。また、光漏れレ
ベルが12以下(太点線で表示)の場合、主観評価では
光漏れはほとんど認識できない。図5の結果から以下の
ことが言える。対向側遮光体302の張りだし量Xをセ
ルギャップ以上設けることよって、光漏れはほとんど問
題なくなる。対向側遮光体302の張りだし量Xをセル
ギャップの2倍以上設けることによって、光漏れは全く
問題なくなる。
FIG. 5 shows the relationship between the light leakage of the backlight and the projection amount X of the opposite-side light shield 302, obtained by an experiment. The four graphs show the cell gaps of the liquid crystal between the lower substrate 101 and the upper substrate 301 as 2, 3, 4, and 5.
The relative value of the light leakage level to the display when changed to μm is shown. When the light leakage level is 5 or less (indicated by a thick solid line), no light leakage can be recognized by subjective evaluation. Further, when the light leakage level is 12 or less (displayed by a thick dotted line), the light leakage can hardly be recognized in the subjective evaluation. The following can be said from the result of FIG. By providing the overhanging amount X of the opposite-side light shield 302 to be equal to or larger than the cell gap, light leakage is almost eliminated. By providing the amount X of protrusion of the opposite-side light shield 302 at least twice the cell gap, light leakage is completely eliminated.

【0102】下側基板側からシール層を硬化させる光を
照射する場合は、前述のように、上側基板301のシー
ル層201とオーバーラップする部分には、対向側遮光
体302がないことが望ましい。しかし、対向側遮光体
302がないと、バックライト光の下側基板101を通
しての光漏れが表示部の周辺部近傍で発生する。そこ
で、表示部の外側に張り出し量Xの対向側遮光体302
を配置することが望ましい。液晶のセルギャップをaと
すると、a≦X≦2a となる。
When irradiating light for hardening the seal layer from the lower substrate side, it is desirable that the opposite side light shield 302 is not provided in the portion of the upper substrate 301 overlapping the seal layer 201 as described above. . However, if the opposite-side light shield 302 is not provided, light leakage through the lower substrate 101 of the backlight occurs near the periphery of the display unit. Therefore, the opposite-side light-shielding member 302 having the protrusion amount X is provided outside the display unit.
It is desirable to arrange. If the cell gap of the liquid crystal is a, then a ≦ X ≦ 2a.

【0103】図4のように、表示部401と周辺部40
2の境界から対向側遮光体302を周辺部側にセルギャ
ップの幅〜セルギャップの幅の2倍だけ張り出させるこ
とによって、表示部に対するバックライトの光漏れを防
ぐことができる。しかも、この程度の幅の帯状の対向側
遮光体302をシール層201とオーバーラップさせて
も、シール層201の平面図上の幅が通常1〜2mmあ
るため、液晶のセルギャップ不均一性を生じるほどのこ
とはない。これが第4の実施形態である。ただし、表示
部401に格子状の所定幅のブラックストライプが設置
されていれば、帯状の対向側遮光体302をシール層2
01とオーバーラップさせる必要はない。
As shown in FIG. 4, the display section 401 and the peripheral section 40
By extending the opposite-side light shield 302 from the boundary of 2 to the peripheral portion side by the width of the cell gap to twice the width of the cell gap, light leakage of the backlight to the display portion can be prevented. Moreover, even if the strip-shaped opposite-side light shield 302 having such a width overlaps the sealing layer 201, the width of the sealing layer 201 on the plan view is usually 1 to 2 mm, so that the cell gap nonuniformity of the liquid crystal is reduced. Not much to happen. This is the fourth embodiment. However, if a lattice-shaped black stripe having a predetermined width is provided on the display unit 401, the strip-shaped opposite-side light shield 302 is attached to the seal layer 2.
01 does not need to overlap.

【0104】図6に第5の実施形態の液晶表示装置のシ
ール層近傍の断面図を示す。構成は図1と全く同一であ
るが、上側基板301側からシール層を硬化させるUV
光を照射する点のみ異なっている。ただし、下側基板1
01の共通電圧供給配線兼遮光体106に設けたUV透
過孔601はなくてもいい。むしろない方が、配線抵抗
を下げることができ、また上側基板301側から照射さ
れるUV光を下側基板101の共通電圧供給配線兼遮光
体106でUV透過孔がない分余分に反射することがで
きるため、シール層201の硬化に有利である。これを
第6の実施形態とし、図7に第6の実施形態の液晶表示
装置のシール層近傍の断面図を示す。
FIG. 6 shows a sectional view of the vicinity of the seal layer of the liquid crystal display device of the fifth embodiment. Although the configuration is exactly the same as that of FIG. 1, UV for curing the seal layer from the upper substrate 301 side is used.
The only difference is that light is emitted. However, the lower substrate 1
The UV transmission hole 601 provided in the common voltage supply line 01 and the light shield 106 is not necessary. Rather, it is possible to reduce the wiring resistance and to further reflect the UV light emitted from the upper substrate 301 side by the common voltage supply wiring / shading body 106 of the lower substrate 101 because there is no UV transmission hole. Therefore, it is advantageous for curing the seal layer 201. This is referred to as a sixth embodiment, and FIG. 7 shows a sectional view of the vicinity of the seal layer of the liquid crystal display device of the sixth embodiment.

【0105】次に、本願の横電界モードの液晶への適用
について述べる。横電界モードの液晶は、縦電界モード
の液晶に比べると、印加電圧が高い領域、すなわち2値
モードでは応答速度が遅いが、印加電圧が低い領域、す
なわち中間調モードでは応答速度が速い。一般に、縦電
界モードの液晶の低印加電圧における応答時間は、高印
加電圧における応答時間の4倍であるが、横電界モード
の液晶の低印加電圧における応答時間は、高印加電圧に
おける応答時間の2倍である。そのため、階調表示にお
ける動画表示には縦電界モードの液晶より、横電界モー
ドの液晶の方が適している。また、横電界モードの液晶
は、縦電界モードの液晶に比べ視野角が広いため大型モ
ニタに適している。従って、今後の動画対応も含む大型
モニタあるいはテレビには横電界モードの液晶が適して
いる。横電界モードの液晶においては、高速応答化のた
めセルギャップを狭くすることが必須である。しかも、
前述のように、低印加電圧における応答時間は、高印加
電圧における応答時間の2倍のため、セルギャップを狭
くすることによる階調表示の高速応答化の効果は縦電界
モードの液晶より大きい。
Next, application of the present invention to a liquid crystal in the horizontal electric field mode will be described. The horizontal electric field mode liquid crystal has a slower response speed in a high applied voltage region, that is, a binary mode than the vertical electric field mode liquid crystal, but has a high response speed in a low applied voltage region, that is, a halftone mode. Generally, the response time of a liquid crystal in the longitudinal electric field mode at a low applied voltage is four times the response time at a high applied voltage, but the response time of a liquid crystal in the lateral electric field mode at a low applied voltage is the response time at a high applied voltage. It is double. Therefore, the horizontal electric field mode liquid crystal is more suitable than the vertical electric field mode liquid crystal for displaying moving images in gradation display. In addition, the horizontal electric field mode liquid crystal has a wider viewing angle than the vertical electric field mode liquid crystal and is therefore suitable for a large monitor. Therefore, the horizontal electric field mode liquid crystal is suitable for a large-sized monitor or a television that will support moving images in the future. In the horizontal electric field mode liquid crystal, it is essential to narrow the cell gap in order to achieve high-speed response. Moreover,
As described above, since the response time at a low applied voltage is twice as long as the response time at a high applied voltage, the effect of speeding up the gray scale display by narrowing the cell gap is larger than that of the liquid crystal in the vertical electric field mode.

【0106】以上の理由から、狭セルギャップの横電界
モード液晶が今後の重要課題であり、本願の滴下貼り合
せ方式を横電界モード液晶に適用することは効果的であ
る。
From the above reasons, the lateral electric field mode liquid crystal having a narrow cell gap is an important subject in the future, and it is effective to apply the dropping bonding method of the present application to the lateral electric field mode liquid crystal.

【0107】以上、好ましい実施の形態について説明し
たが、本願発明はかかる実施の形態に限定されるもので
はなく、様々な変更や追加が可能であろう。例えば、上
述した実施の形態では、横電界モードの液晶表示装置に
適用した場合について説明したが、これ以外の形態の液
晶表示装置、例えば縦電界モードの液晶表示装置や垂直
配向型液晶表示装置にも適用が可能である。
Although the preferred embodiment has been described above, the present invention is not limited to this embodiment, and various modifications and additions can be made. For example, in the above-described embodiment, the case where the invention is applied to the liquid crystal display device of the horizontal electric field mode has been described, but it is applied to liquid crystal display devices of other forms, for example, to the liquid crystal display device of the vertical electric field mode or the vertical alignment type liquid crystal display device. Can also be applied.

【0108】また、上述した液晶表示装置はいずれも透
過型を想定しているが、上側基板から入射した光を下側
基板に形成した反射電極で反射して表示する反射型液晶
表示装置にも適用が可能である。
Although the above-mentioned liquid crystal display devices are all assumed to be transmissive, they are also applicable to a reflective liquid crystal display device in which light incident from the upper substrate is reflected by a reflective electrode formed on the lower substrate for display. Applicable.

【0109】また、プラスチックのように熱耐性が低い
基板を使う場合、UV光のみでシール材を硬化すること
が必要であるため本発明の適用は特に効果的である。
Further, when a substrate having low heat resistance such as plastic is used, it is necessary to cure the sealing material only with UV light, so that the application of the present invention is particularly effective.

【0110】[0110]

【発明の効果】以上説明したように、本願発明の液晶表
示装置によれば、液晶滴下貼り合せ法において、液晶の
セルギャップの均一性が確保できる液晶表示装置を提供
することができる。
As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to provide the liquid crystal display device which can ensure the uniformity of the cell gap of the liquid crystal in the liquid crystal dropping bonding method.

【0111】さらに、本願発明の液晶表示装置の製造方
法によれば、共通電圧供給配線兼遮光体の抵抗値を十分
に低く維持し、また遮光性能を十分に維持しつつ、液晶
のセルギャップの均一性を確保し、表示むらを改善する
ことができる。
Further, according to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, the resistance value of the common voltage supply wiring and the light shield is kept sufficiently low, and while the light shield performance is sufficiently maintained, the cell gap of the liquid crystal is reduced. Uniformity can be secured and display unevenness can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の液晶表示装置を説
明するための断面図である。
FIG. 1 is a sectional view for explaining a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態の液晶表示装置を説
明するための断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明を説明するための液晶表示装置の断面図
である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device for explaining the present invention.

【図4】本発明の第4の実施の形態の液晶表示装置を説
明するための断面図である。
FIG. 4 is a sectional view illustrating a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第4の実施の形態を説明するための光
漏れと遮光体の張り出し量の関係を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between light leakage and the amount of projection of a light shield for explaining a fourth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第5の実施の形態の液晶表示装置を説
明するための断面図である。
FIG. 6 is a sectional view for explaining a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第6の実施の形態の液晶表示装置を説
明するための断面図である。
FIG. 7 is a sectional view illustrating a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図8】図1のA−A’線に沿った断面図である。8 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'of FIG.

【図9】図1のc部の拡大平面図である。FIG. 9 is an enlarged plan view of section c of FIG.

【図10】液晶滴下貼合せ法を説明するための工程順の
概観図である。
FIG. 10 is an outline view in order of steps for explaining a liquid crystal dropping bonding method.

【図11】図5のB−B’線に沿った断面図であり、第
1の従来技術の液晶表示装置を説明するための断面図で
ある。
11 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 5, which is a cross-sectional view for explaining the first conventional liquid crystal display device.

【図12】第2の従来技術の液晶表示装置を説明するた
めの断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a second conventional liquid crystal display device.

【図13】透過孔開口率とシール材硬化に必要な紫外線
光量の関係を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing the relationship between the aperture ratio of a transmission hole and the amount of ultraviolet light necessary for curing a sealing material.

【図14】透過孔間隔とシール材の硬化度の関係を示す
図である。
FIG. 14 is a diagram showing the relationship between the distance between through holes and the degree of curing of the sealing material.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 下側基板 102 ゲート端子 103 ゲート引出し配線 104 ドレイン端子 105 ドレイン引出し配線 106a、106b、106c 共通電圧供給配線兼
遮光体 107 絶縁膜 107a ゲート絶縁膜 107b パシベーション膜 201 シール層 202 トランスファ 203 液晶層 301 上側基板 302 対向側遮光体 303 対向電極 401 表示部 402 周辺部 403 オーバーコート層 304 有機膜 501 UVマスク 502 マスクパターン 601、602 透過孔
101 Lower Substrate 102 Gate Terminal 103 Gate Lead Wiring 104 Drain Terminal 105 Drain Lead Wiring 106a, 106b, 106c Common Voltage Supply Wiring / Shader 107 Insulating Film 107a Gate Insulating Film 107b Passivation Film 201 Seal Layer 202 Transfer 203 Liquid Crystal Layer 301 Upper Side Substrate 302 Opposite-side light shield 303 Opposite electrode 401 Display section 402 Peripheral section 403 Overcoat layer 304 Organic film 501 UV mask 502 Mask patterns 601, 602 Transmission hole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 廉谷 勉 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 佐々木 健 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 Fターム(参考) 2H089 NA43 NA44 QA05 QA14 QA16 SA17 TA02 TA11 TA15 2H091 FA08X FA08Z FA34Y FD02 GA02 GA08 GA09 KA10 LA03 LA18 LA30    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Tsutomu Renya             5-7 Shiba 5-1, Minato-ku, Tokyo NEC Corporation             Inside the company (72) Inventor Ken Sasaki             5-7 Shiba 5-1, Minato-ku, Tokyo NEC Corporation             Inside the company F-term (reference) 2H089 NA43 NA44 QA05 QA14 QA16                       SA17 TA02 TA11 TA15                 2H091 FA08X FA08Z FA34Y FD02                       GA02 GA08 GA09 KA10 LA03                       LA18 LA30

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表示部とその周囲の周辺部とを備える下
側基板と、前記下側基板との間に液晶層を挟持して前記
下側基板の周辺部に形成されたシール層で下側基板と貼
り合わされた上側基板とを有する液晶表示装置であっ
て、前記下側基板の前記周辺部に形成された表示部から
引き出された引出し配線と遮光体とが前記シール層とオ
ーバーラップしており、前記シール層における前記シー
ル層が前記引出し配線及び前記遮光体とオーバーラップ
しない領域が規則的に配置され、前記引出し配線及び前
記遮光体とオーバーラップしない領域間の距離が80μ
m以下であることを特徴とする液晶表示装置。
1. A lower substrate having a display unit and a peripheral portion around the display unit, and a liquid crystal layer sandwiched between the lower substrate and a sealing layer formed on the peripheral portion of the lower substrate. A liquid crystal display device having a side substrate and an upper substrate bonded together, wherein a lead wire and a light shield drawn from a display portion formed in the peripheral portion of the lower substrate overlap with the sealing layer. In the seal layer, regions where the seal layer does not overlap the lead wiring and the light shield are regularly arranged, and the distance between the lead wiring and the region not overlap the light shield is 80 μm.
A liquid crystal display device characterized by being m or less.
【請求項2】 表示部とその周囲の周辺部とを備える下
側基板と、前記下側基板との間に液晶層を挟持して前記
下側基板の周辺部に形成されたシール層で下側基板と貼
り合わされた上側基板とを有する液晶表示装置であっ
て、前記下側基板の前記周辺部に形成された遮光体が前
記シール層とオーバーラップしており、前記下側基板が
前記シール層とオーバーラップする領域には複数の透過
孔が規則的に配置され、前記複数の透過孔間の距離が8
0μm以下であることを特徴とする液晶表示装置。
2. A lower substrate having a display unit and a peripheral portion around the display unit, and a liquid crystal layer sandwiched between the lower substrate and a sealing layer formed on the peripheral portion of the lower substrate. A liquid crystal display device having a side substrate and an upper substrate bonded together, wherein a light shield formed in the peripheral portion of the lower substrate overlaps the seal layer, and the lower substrate is the seal. A plurality of transmission holes are regularly arranged in the region overlapping with the layer, and the distance between the plurality of transmission holes is 8
A liquid crystal display device having a thickness of 0 μm or less.
【請求項3】 前記上側基板の前記周辺部に形成された
対向側遮光体が前記シール層とオーバーラップしてお
り、前記シール層における前記シール層と前記対向側遮
光体がオーバーラップしない領域が規則的に配置されて
いることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示
装置。
3. A counter-side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate overlaps the seal layer, and a region of the seal layer where the seal layer and the counter-side light shield do not overlap is formed. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display devices are arranged regularly.
【請求項4】 前記シール層が前記上側基板の前記周辺
部に形成された対向側遮光体で完全に覆われていること
を特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the sealing layer is completely covered by a light-shielding member on the opposite side formed on the peripheral portion of the upper substrate.
【請求項5】 前記上側基板の前記周辺部に形成された
対向側遮光体が前記シール層とオーバーラップしていな
いことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装
置。
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the opposite-side light shield formed on the peripheral portion of the upper substrate does not overlap with the seal layer.
【請求項6】 前記上側基板の前記周辺部に形成された
対向側遮光体が、前記シール層の前記表示部側境界から
前記液晶のセルギャップの幅乃至セルギャップの2倍の
幅、前記周辺部に延在された領域でのみ前記シール層と
オーバーラップしていることを特徴とする請求項1又は
2に記載の液晶表示装置。
6. The opposite side light shield formed on the peripheral portion of the upper substrate has a cell gap width of the liquid crystal or a width twice the cell gap from the boundary of the seal layer on the display portion side, and the peripheral portion. The liquid crystal display device according to claim 1 or 2, wherein the liquid crystal display device overlaps with the seal layer only in a region extended to the portion.
【請求項7】 表示部とその周囲の周辺部とを備える下
側基板と、前記下側基板との間に液晶層を挟持して前記
下側基板の周辺部に形成されたシール層で下側基板と貼
り合わされた上側基板とを有する液晶表示装置であっ
て、前記上側基板の前記周辺部に形成された対向側遮光
体が前記シール層とオーバーラップしており、前記シー
ル層における前記シール層が前記対向遮光体とオーバー
ラップしない領域が規則的に配置され、前記対向遮光体
とオーバーラップしない領域間の距離が80μm以下で
あることを特徴とする液晶表示装置。
7. A lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion, and a liquid crystal layer sandwiched between the lower substrate and a sealing layer formed on the peripheral portion of the lower substrate. A liquid crystal display device having a side substrate and an upper substrate bonded together, wherein an opposite side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate overlaps with the seal layer, and the seal in the seal layer is provided. A liquid crystal display device, wherein layers are regularly arranged in regions that do not overlap the opposing light shield, and a distance between regions that do not overlap the opposing light shield is 80 μm or less.
【請求項8】 表示部とその周囲の周辺部とを備える下
側基板と、前記下側基板との間に液晶層を挟持して前記
下側基板の周辺部に形成されたシール層で下側基板と貼
り合わされた上側基板とを有する液晶表示装置であっ
て、前記上側基板の前記周辺部に形成された対向側遮光
体が前記シール層とオーバーラップしており、前記上側
基板が前記シール層とオーバーラップする領域には複数
の透過孔が規則的に配置され、前記複数の透過孔の距離
が80μm以下であることを特徴とする液晶表示装置。
8. A lower substrate having a display unit and a peripheral portion around the display unit, and a liquid crystal layer sandwiched between the lower substrate and a sealing layer formed on the peripheral portion of the lower substrate. A liquid crystal display device having a side substrate and an upper substrate bonded to the side substrate, wherein a counter-side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate overlaps with the seal layer, and the upper substrate is the seal. A liquid crystal display device, wherein a plurality of transmission holes are regularly arranged in a region overlapping with the layer, and a distance between the plurality of transmission holes is 80 μm or less.
【請求項9】 表示部とその周囲の周辺部とを備える下
側基板と、前記下側基板との間に液晶層を挟持して前記
下側基板の周辺部に形成されたシール層で下側基板と貼
り合わされた上側基板とを有する液晶表示装置であっ
て、前記上側基板の前記シール層とオーバーラップする
領域には遮光体が設けられていないことを特徴とする液
晶表示装置。
9. A lower substrate having a display unit and a peripheral portion around the display unit, and a liquid crystal layer sandwiched between the lower substrate and a sealing layer formed in the peripheral portion of the lower substrate. A liquid crystal display device comprising a side substrate and an upper substrate bonded together, wherein a light shield is not provided in a region of the upper substrate which overlaps with the seal layer.
【請求項10】 前記下側基板の前記周辺部に形成され
た表示部から引き出された引出し配線と遮光体とが前記
シール層とオーバーラップしており、前記シール層にお
ける前記シール層が前記引出し配線及び前記遮光体とオ
ーバーラップしない領域が規則的に配置されていること
を特徴とする請求項7又は8に記載の液晶表示装置。
10. A lead-out wiring drawn from a display portion formed in the peripheral portion of the lower substrate and a light shield overlap with the seal layer, and the seal layer in the seal layer is the lead-out. 9. The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the wiring and the region which does not overlap with the light shield are regularly arranged.
【請求項11】 表示部とその周囲の周辺部とを備える
下側基板と、前記下側基板との間に液晶層を挟持して前
記下側基板の周辺部に形成されたシール層で下側基板と
貼り合わされた上側基板とを有する液晶表示装置であっ
て、前記上側基板の前記周辺部に形成された対向側遮光
体が、前記シール層の前記表示部側境界から前記液晶の
セルギャップの幅乃至セルギャップの2倍の幅、前記周
辺部に延在された領域でのみ前記シール層とオーバーラ
ップしていることを特徴とする液晶表示装置。
11. A lower substrate having a display unit and a peripheral portion around the display unit, and a liquid crystal layer sandwiched between the lower substrate and a sealing layer formed on the peripheral portion of the lower substrate. A liquid crystal display device having a side substrate and an upper substrate bonded together, wherein a counter-side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate has a cell gap of the liquid crystal from a boundary of the seal layer on the display unit side. The liquid crystal display device is characterized in that it is overlapped with the sealing layer only in a region extending to the peripheral portion, the width of which is twice the width of the cell gap.
【請求項12】 前記対向側遮光体は有機膜であること
を特徴とする請求項3、4、5、7、8、10の何れか
1項に記載の液晶表示装置。
12. The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the light shield on the opposite side is an organic film.
【請求項13】 前記下側基板には有機膜が形成され、
前記有機膜は前記シール層とはオーバーラップしないこ
とを特徴とする請求項1乃至12の何れか1項に記載の
液晶表示装置。
13. An organic film is formed on the lower substrate,
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the organic film does not overlap with the seal layer.
【請求項14】 前記液晶表示装置は、横電界モードの
液晶表示装置であることを特徴とする請求項1乃至13
の何れか1項に記載の液晶表示装置。
14. The liquid crystal display device is a lateral electric field mode liquid crystal display device.
The liquid crystal display device according to any one of 1.
【請求項15】 表示部とその周囲の周辺部とを備える
下側基板の前記周辺部にシール層を形成する工程と、前
記下側基板の前記シール層で囲まれた領域に液晶材を滴
下して上側基板と前記シール層で貼り合わせる工程と、
前記シール層に光を照射してシール層を硬化させる工程
とを有する液晶表示装置の製造方法であって、前記下側
基板の前記周辺部に形成され表示部から引き出された引
出し配線と遮光体とが前記シール層とオーバーラップし
ており、前記シール層における前記シール層が前記引出
し配線及び前記遮光体とオーバーラップしない領域が規
則的に配置され、前記引出し配線及び前記遮光体とオー
バーラップしない領域間の距離が80μm以下であるこ
とを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
15. A step of forming a seal layer on the peripheral portion of a lower substrate including a display portion and a peripheral portion around the display portion, and dropping a liquid crystal material in a region surrounded by the seal layer of the lower substrate. And a step of bonding the upper substrate and the seal layer,
A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: irradiating the seal layer with light to cure the seal layer, wherein a lead wire and a light shield formed in the peripheral portion of the lower substrate and drawn from a display unit. Overlap with the seal layer, and regions of the seal layer in which the seal layer does not overlap the lead wiring and the light shield are regularly arranged, and do not overlap the lead wiring and the light shield. A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the distance between the regions is 80 μm or less.
【請求項16】 前記引出し配線及び前記遮光体が前記
シール層とオーバーラップする領域には複数の透過孔が
規則的に配置され、前記下側基板側から前記シール層を
硬化させる光を照射することを特徴とする請求項15記
載の液晶表示装置の製造方法。
16. A plurality of transmission holes are regularly arranged in a region where the lead wiring and the light shield overlap with the seal layer, and light for curing the seal layer is irradiated from the lower substrate side. 16. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 15, wherein.
【請求項17】 表示部とその周囲の周辺部とを備える
下側基板の前記周辺部にシール層を形成する工程と、前
記下側基板の前記シール層で囲まれた領域に液晶材を滴
下して上側基板と前記シール層で貼り合わせる工程と、
前記シール層に光を照射してシール層を硬化させる工程
とを有する液晶表示装置の製造方法であって、前記上側
基板の前記周辺部に形成された対向側遮光体が前記シー
ル層とオーバーラップしており、前記シール層が前記対
向側遮光体とオーバーラップしない領域が規則的に配置
され、前記引出し配線及び前記遮光体とオーバーラップ
しない領域間の距離が80μm以下であることを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。
17. A step of forming a seal layer on the peripheral portion of a lower substrate having a display portion and a peripheral portion around the display portion, and dropping a liquid crystal material on a region surrounded by the seal layer of the lower substrate. And a step of bonding the upper substrate and the seal layer,
A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: irradiating the seal layer with light to cure the seal layer, wherein an opposite-side light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate overlaps with the seal layer. Areas where the seal layer does not overlap with the opposite-side light shield are regularly arranged, and a distance between the lead wiring and the area not overlap with the light shield is 80 μm or less. Liquid crystal display device manufacturing method.
【請求項18】 前記対向側遮光体が前記シール層とオ
ーバーラップする領域には複数の透過孔が規則的に配置
され、前記上側基板側から前記シール層を硬化させる光
を照射することを特徴とする請求項17記載の液晶表示
装置の製造方法。
18. A plurality of transmission holes are regularly arranged in a region where the opposite-side light shield overlaps the seal layer, and light for curing the seal layer is irradiated from the upper substrate side. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 17.
【請求項19】 表示部とその周囲の周辺部とを備える
下側基板の前記周辺部にシール層を形成する工程と、前
記下側基板の前記シール層で囲まれた領域に液晶材を滴
下して上側基板と前記シール層で貼り合わせる工程と、
前記シール層に光を照射してシール層を硬化させる工程
とを有する液晶表示装置の製造方法であって、前記上側
基板の前記周辺部に形成された対向遮光体が前記シール
層とオーバーラップしておらず、前記上側基板側から前
記シール層を硬化させる光を照射することを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。
19. A step of forming a seal layer on the peripheral portion of a lower substrate including a display portion and a peripheral portion around the display portion, and dropping a liquid crystal material in a region surrounded by the seal layer of the lower substrate. And a step of bonding the upper substrate and the seal layer,
A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising the step of irradiating the seal layer with light to cure the seal layer, wherein an opposing light shield formed in the peripheral portion of the upper substrate overlaps with the seal layer. The method for manufacturing a liquid crystal display device is characterized by irradiating light for curing the sealing layer from the upper substrate side.
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