JP2003031721A - Semiconductor module - Google Patents

Semiconductor module

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JP2003031721A
JP2003031721A JP2001220191A JP2001220191A JP2003031721A JP 2003031721 A JP2003031721 A JP 2003031721A JP 2001220191 A JP2001220191 A JP 2001220191A JP 2001220191 A JP2001220191 A JP 2001220191A JP 2003031721 A JP2003031721 A JP 2003031721A
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semiconductor module
signal line
via hole
slit
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JP2001220191A
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Toshiki Seshimo
敏樹 瀬下
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce coupling of signal lines without enlarging a size. SOLUTION: One terminal of a signal line 22A is connected to a semiconductor chip 25 by a bonding wire 26A, and the other terminal is connected to a via hole 28. One terminal of a passive component 29 such as capacitor, for example, is connected to the signal line 22A. The other terminal of the passive component 29 is connected through a via hole 30A to a ground layer 23. The ground layer 23 is provided with a slit 31. The slit 31 divides two via holes 30A. The slit 31 is extended from the terminal part of the ground layer 23 to a portion just under the semiconductor chip 25.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体モジュー
ル、特に、多層基板を用いた超小型高周波半導体モジュ
ールに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor module, and more particularly to a microminiature high frequency semiconductor module using a multilayer substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯端末機器の小型化を実現する
ため、その部品の小型化が急ピッチで進められている。
部品の小型化のために開発された技術の一つとして、多
層基板(multi-layer board)を用いた超小型モジュー
ル技術が知られている。この技術を用いれば、マザーボ
ード上にMMIC ( Monolithic Microwave Integrated
Circuit ) やチップ部品を搭載する場合に比べて、大幅
に実装面積を縮小できる。
2. Description of the Related Art In recent years, in order to realize miniaturization of mobile terminal equipment, miniaturization of parts thereof has been rapidly advanced.
As one of the technologies developed for miniaturization of components, a micro module technology using a multi-layer board is known. Using this technology, MMIC (Monolithic Microwave Integrated
The mounting area can be significantly reduced compared to the case where Circuit) and chip parts are mounted.

【0003】図11及び図12は、マザーボードとこれ
に搭載される従来の半導体モジュールの一例を示してい
る。
11 and 12 show an example of a mother board and a conventional semiconductor module mounted on the mother board.

【0004】マザーボード10は、一般的には、多層基
板11から構成される。多層基板11の上面には、信号
線12のパターンが描かれている。多層基板11の間の
複数の層のうちの1層は、グランド層(接地層)13と
なっている。グランド層13は、理想的な接地面となる
ように、多層基板11の間の全体にプレート状に形成さ
れる。
The mother board 10 is generally composed of a multilayer substrate 11. The pattern of the signal line 12 is drawn on the upper surface of the multilayer substrate 11. One of the plurality of layers between the multilayer substrates 11 is a ground layer (ground layer) 13. The ground layer 13 is formed in a plate shape over the entire space between the multilayer substrates 11 so as to form an ideal ground plane.

【0005】マザーボード10の上面には、例えば、破
線で囲んだ位置に半導体モジュール20が搭載される。
半導体モジュール20は、多層基板21と、これに搭載
される半導体チップ(例えば、MMICチップ)25
と、ボンディングワイヤ26A,26Bとから構成され
る。
A semiconductor module 20 is mounted on the upper surface of the mother board 10, for example, at a position surrounded by a broken line.
The semiconductor module 20 includes a multilayer substrate 21 and a semiconductor chip (eg, MMIC chip) 25 mounted on the multilayer substrate 21.
And bonding wires 26A and 26B.

【0006】多層基板21の上面には、信号線22Aの
パターン及びベッド24のパターンが描かれている。ベ
ッド24上には、半導体チップ25が搭載される。半導
体チップ25の信号電極と信号線22Aとは、ボンディ
ングワイヤ26Aにより電気的に接続される。信号線2
2Aは、多層基板21内に形成されるビアホール(via
hole)28を経由して、マザーボード10の上面の信号
線12に電気的に接続される。
On the upper surface of the multi-layer substrate 21, the pattern of the signal line 22A and the pattern of the bed 24 are drawn. A semiconductor chip 25 is mounted on the bed 24. The signal electrode of the semiconductor chip 25 and the signal line 22A are electrically connected by the bonding wire 26A. Signal line 2
2A is a via hole (via) formed in the multilayer substrate 21.
via the hole) 28 and is electrically connected to the signal line 12 on the upper surface of the motherboard 10.

【0007】半導体チップのグランド電極とベッド24
とは、ボンディングワイヤ26Bにより電気的に接続さ
れる。多層基板21の間の複数の層のうちの1層は、グ
ランド層(接地層)23となっている。グランド層23
は、理想的な接地面となるように、多層基板21の間の
全体にプレート状に形成される。
Ground electrode of semiconductor chip and bed 24
And are electrically connected by a bonding wire 26B. One of the plurality of layers between the multilayer substrates 21 is a ground layer (ground layer) 23. Ground layer 23
Are formed in a plate shape over the entire space between the multilayer substrates 21 so as to form an ideal ground plane.

【0008】ベッド24とグランド層23とは、多層基
板21内に形成されるビアホール27により電気的に接
続される。また、半導体モジュール20のグランド層2
3は、ビアホール14,28を経由して、マザーボード
10のグランド層13に電気的に接続される。
The bed 24 and the ground layer 23 are electrically connected by a via hole 27 formed in the multilayer substrate 21. In addition, the ground layer 2 of the semiconductor module 20
3 is electrically connected to the ground layer 13 of the motherboard 10 via the via holes 14 and 28.

【0009】このように、従来の半導体モジュール20
は、多層基板21を有している。多層基板21を用いれ
ば、モジュールの小型化を実現できるからである。即
ち、近年の半導体チップ25は、多機能化が著しく、そ
の端子数も非常に多くなってきている。このため、信号
線22Aの数は、多くなり、信号線22Aは、長く、か
つ、細くなっている。
As described above, the conventional semiconductor module 20
Has a multilayer substrate 21. This is because the module can be downsized by using the multilayer substrate 21. That is, the semiconductor chip 25 in recent years has been remarkably multifunctional, and the number of terminals thereof has become extremely large. Therefore, the number of signal lines 22A increases, and the signal lines 22A are long and thin.

【0010】多層基板21を用いて配線層を複数にすれ
ば、信号線22Aの数が多くなっても、モジュールのサ
イズの拡大を抑えることができる。
By using the multi-layer substrate 21 to form a plurality of wiring layers, it is possible to prevent the module size from increasing even if the number of signal lines 22A increases.

【0011】次に、多層基板を用いた半導体モジュール
の一般的な例として、超小型高周波半導体モジュールに
ついて説明する。
Next, a microminiature high frequency semiconductor module will be described as a general example of a semiconductor module using a multilayer substrate.

【0012】図13は、高周波半導体モジュールの一例
を示している。
FIG. 13 shows an example of a high frequency semiconductor module.

【0013】多層基板21は、例えば、3層の誘電体層
と、各誘電体層の間並びに多層基板21の上面及び下面
にそれぞれ形成される合計4層の金属層とから構成され
る。多層基板21の上面に形成される第1金属層は、主
として、高周波信号の信号線22Aを構成する。信号線
22Aには、通常、L(インダクタンス素子)・C(容
量素子)・R(抵抗素子)からなる受動部品(本例で
は、容量素子)29の一端が接続される。
The multilayer substrate 21 is composed of, for example, three dielectric layers and a total of four metal layers formed between the respective dielectric layers and on the upper surface and the lower surface of the multilayer substrate 21, respectively. The first metal layer formed on the upper surface of the multilayer substrate 21 mainly constitutes the signal line 22A for high frequency signals. To the signal line 22A, one end of a passive component (capacitance element in this example) 29 normally composed of L (inductance element), C (capacitance element), and R (resistance element) is connected.

【0014】多層基板21の上面には、信号線22Aの
他に、金属パターン22B及びグランド層としてのベッ
ド24が形成される。受動部品29の他端は、金属パタ
ーン22Bに接続される。ベッド24上には、半導体チ
ップ(例えば、MMICチップ)25が搭載される。
On the upper surface of the multi-layer substrate 21, a metal pattern 22B and a bed 24 as a ground layer are formed in addition to the signal line 22A. The other end of the passive component 29 is connected to the metal pattern 22B. A semiconductor chip (eg, MMIC chip) 25 is mounted on the bed 24.

【0015】半導体チップ25の信号電極と信号線22
Aとは、ボンディングワイヤ26Aにより電気的に接続
される。信号線22Aは、多層基板21内に形成される
ビアホール28を経由して、マザーボードの信号線に電
気的に接続される。半導体チップのグランド電極とベッ
ド24とは、ボンディングワイヤ26Bにより電気的に
接続される。
Signal electrodes of the semiconductor chip 25 and the signal lines 22
A is electrically connected to A by a bonding wire 26A. The signal line 22A is electrically connected to the signal line of the motherboard via the via hole 28 formed in the multilayer substrate 21. The ground electrode of the semiconductor chip and the bed 24 are electrically connected by the bonding wire 26B.

【0016】多層基板21の間に形成され、第1金属層
に隣接する第2金属層は、信号線22Aがマイクロスト
リップ線路となるように、グランド層23を構成する。
グランド層23は、理想的な接地面となるように、プレ
ート状に形成される。金属パターン22Bは、ビアホー
ル30Aを経由して、グランド層23に電気的に接続さ
れる。ベッド24は、ビアホール27を経由して、グラ
ンド層23に電気的に接続される。
The second metal layer formed between the multilayer substrates 21 and adjacent to the first metal layer constitutes the ground layer 23 so that the signal line 22A becomes a microstrip line.
The ground layer 23 is formed in a plate shape so as to form an ideal ground plane. The metal pattern 22B is electrically connected to the ground layer 23 via the via hole 30A. The bed 24 is electrically connected to the ground layer 23 via the via hole 27.

【0017】多層基板21の間に形成される第3金属層
は、主として、DCバイアス用の線路を構成する。ま
た、多層基板21の下面、即ち、モジュールの裏面に形
成される第4金属層は、電極パターンを構成する。電極
パターンは、マザーボード上の電極とコンタクトをとる
ためのものである。
The third metal layer formed between the multi-layer substrates 21 mainly constitutes a line for DC bias. Further, the lower surface of the multilayer substrate 21, that is, the fourth metal layer formed on the back surface of the module constitutes an electrode pattern. The electrode pattern is for making contact with the electrodes on the motherboard.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】図13に示すような半
導体モジュールにおける問題は、グランド層23が理想
グランド面とならないことにある。即ち、グランド層2
3は、図14に示すように、ビアホール14,28を経
由して、マザーボードのグランド層13に接続される。
しかし、ビアホール14,28には、有限の寄生インダ
クタンスが存在する。また、ビアホール14,28の数
を無限に多くすれば、グランド層23を理想グランド電
位にすることができるが、実際は、モジュールの構造上
の理由により、ビアホール14,28は、有限個しか配
置することができない。
A problem in the semiconductor module as shown in FIG. 13 is that the ground layer 23 does not become an ideal ground plane. That is, the ground layer 2
As shown in FIG. 14, 3 is connected to the ground layer 13 of the motherboard via the via holes 14 and 28.
However, finite parasitic inductance exists in the via holes 14 and 28. Further, if the number of via holes 14 and 28 is increased infinitely, the ground layer 23 can be made to have an ideal ground potential, but in reality, due to the structure of the module, only a limited number of via holes 14 and 28 are arranged. I can't.

【0019】従って、グランド層23に生じた誘導電流
がビアホール14,28になかなか吸収されず、半導体
モジュールのグランド層23が浮いた状態となり、グラ
ンド層23が理想グランド面とならず、結果として、信
号線22A間のカップリングの影響が大きくなる。
Therefore, the induced current generated in the ground layer 23 is not easily absorbed in the via holes 14 and 28, and the ground layer 23 of the semiconductor module is in a floating state, and the ground layer 23 does not serve as an ideal ground surface. The influence of the coupling between the signal lines 22A becomes large.

【0020】この問題について定性的に考える。Qualitatively consider this problem.

【0021】まず、2つのマイクロストリップ線路(Li
ne1,Line2)間のカップリングは、次の3つに分解して
考えることができる。
First, two microstrip lines (Li
The coupling between ne1 and Line2) can be considered by decomposing into the following three.

【0022】 Line1とLine2に流れる電流同士のカッ
プリング Line1に流れる電流によってグランド層に生じた誘
導電流とLine2に流れる電流とのカップリング Line2に流れる電流によってグランド層に生じた誘
導電流とLine1に流れる電流とのカップリング Line1及びLine2がマイクロストリップ線路である限り、
及びのカップリングは、必然的に生じるものであ
る。即ち、Line1及びLine2は、例えば、図15に示すよ
うに、その直下の共通のグランド面と対をなして形成さ
れたマイクロストリップ線路22Aであり、半導体モジ
ュールのグランド層23は、Line1及びLine2のリターン
パスの役割を担う。グランド層23が理想グランド面で
あれば、グランド層23に生じる誘導電流の密度は、Li
ne1及びLine2の直下が最も大きく、Line1及びLine2から
離れるに従って小さくなる。
Coupling between Currents Flowing in Line 1 and Line 2 Coupling between Induced Current Generated in the Ground Layer and Current Flown in Line 2 Induced Current Generated in the Ground Layer and Flowed in Line 1 Coupling with current As long as Line1 and Line2 are microstrip lines,
The couplings of and occur by necessity. That is, Line1 and Line2 are, for example, as shown in FIG. 15, a microstrip line 22A formed in pairs with a common ground plane immediately thereunder, and the ground layer 23 of the semiconductor module is formed of Line1 and Line2. Play the role of return path. If the ground layer 23 is an ideal ground plane, the density of the induced current generated in the ground layer 23 is Li
Directly below ne1 and Line2 is the largest, and becomes smaller with increasing distance from Line1 and Line2.

【0023】これに対し、実際のモジュールでは、Line
1及びLine2に流れる電流によってグランド層23に生じ
た誘導電流は、グランド層23の端面まで流れ、今度
は、その端面に沿って流れるようになる。グランド層2
3に設けられたビアホール14,28は、リターンパス
(リターン電流が流れる経路)としては、電気的に遠い
経路となるために、ほとんど誘導電流が流れず、誘導電
流を吸収する機能を有しない。
On the other hand, in the actual module, Line
The induced current generated in the ground layer 23 by the currents flowing in 1 and Line 2 flows to the end surface of the ground layer 23, and this time, flows along the end surface. Ground layer 2
Since the via holes 14 and 28 provided in 3 are electrically distant paths as return paths (paths through which return currents flow), almost no induced current flows and they do not have a function of absorbing induced currents.

【0024】このように、実際の半導体モジュールで
は、グランド層23の端面に沿って流れる誘導電流が存
在することによって、グランド層23が理想グランド面
である場合よりも、及びによるマイクロストリップ
線路間のカップリングの影響が非常に大きくなる。
As described above, in the actual semiconductor module, due to the existence of the induced current flowing along the end surface of the ground layer 23, the gap between the microstrip lines is smaller than that when the ground layer 23 is the ideal ground plane. The coupling effect is very large.

【0025】このような現象を回避するためには、ビア
ホール14,28の数をできるだけ多くし、グランド層
23を理想グランド電位に近づけ、グランド層23に生
じた誘導電流を直ちにビアホール14,28に吸収する
ことが必要である。
In order to avoid such a phenomenon, the number of via holes 14 and 28 is increased as much as possible to bring the ground layer 23 close to the ideal ground potential, and the induced current generated in the ground layer 23 is immediately applied to the via holes 14 and 28. It is necessary to absorb.

【0026】ところが、上述したように、半導体モジュ
ールの構造上、ビアホール14,28は、有限個しか設
けることができず、また、近年のモジュールの小型化を
達成するめに、ビアホールの数も減少する方向にある。
However, as described above, due to the structure of the semiconductor module, only a limited number of via holes 14 and 28 can be provided, and the number of via holes is reduced in order to achieve the recent miniaturization of the module. In the direction.

【0027】本発明は、このような問題を解決するため
になされたもので、その目的は、半導体モジュールのグ
ランド層が浮いた状態になってしまうことに起因する信
号線間のカップリングの増大を、ビアホール数の増大に
よるモジュールサイズの増大なしに回避することにあ
る。
The present invention has been made to solve such a problem, and an object thereof is to increase coupling between signal lines due to the ground layer of a semiconductor module being in a floating state. To avoid the increase in the module size due to the increase in the number of via holes.

【0028】[0028]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体モジュー
ルは、多層基板の複数の金属層のうちの1つに配置され
る第1グランド層と、前記複数の金属層のうちの他の1
つに配置され、前記第1グランド層と対をなすことによ
り伝送線路を構成する第1及び第2信号線とを備え、前
記第1信号線に対向する前記第1グランド層の第1部分
と前記第2信号線に対向する前記第1グランド層の第2
部分との間にスリットが設けられている。
A semiconductor module of the present invention comprises a first ground layer disposed on one of a plurality of metal layers of a multi-layer substrate and another one of the plurality of metal layers.
First and second signal lines that form a transmission line by forming a pair with the first ground layer, and a first portion of the first ground layer that faces the first signal line. The second of the first ground layer facing the second signal line
A slit is provided between the part and the part.

【0029】前記第1信号線と前記第1部分との間に接
続される第1受動部品と、前記第2信号線と前記第2部
分との間に接続される第2受動部品とを具備し、前記第
1受動部品と前記第1部分との接続箇所は、前記スリッ
トにより、前記第2受動部品と前記第2部分との接続箇
所と分断されている。
The first passive component is connected between the first signal line and the first portion, and the second passive component is connected between the second signal line and the second portion. However, the connection point between the first passive component and the first portion is separated from the connection point between the second passive component and the second portion by the slit.

【0030】前記第1部分には、マザーボードの第2グ
ランド層にコンタクトするための第1ビアホールが接続
され、前記第2部分には、前記第2グランド層にコンタ
クトするための第2ビアホールが接続される。
A first via hole for contacting the second ground layer of the motherboard is connected to the first portion, and a second via hole for contacting the second ground layer is connected to the second portion. To be done.

【0031】前記第1ビアホールは、前記第1グランド
層の端部で、かつ、前記第1信号線とオーバーラップす
る部分に配置され、前記第2ビアホールは、前記第1グ
ランド層の端部で、かつ、前記第2信号線とオーバーラ
ップする部分に配置される。
The first via hole is arranged at an end of the first ground layer and at a portion overlapping with the first signal line, and the second via hole is formed at an end of the first ground layer. And, it is arranged in a portion overlapping with the second signal line.

【0032】前記第1信号線の端部には、前記マザーボ
ードの第3信号線にコンタクトするための第3ビアホー
ルが接続され、前記第2信号線の端部には、前記マザー
ボードの第4信号線にコンタクトするための第4ビアホ
ールが接続される。
A third via hole for contacting a third signal line of the motherboard is connected to an end of the first signal line, and a fourth signal of the motherboard is connected to an end of the second signal line. A fourth via hole for contacting the line is connected.

【0033】前記第1信号線は、前記第1部分と対をな
し、前記第3ビアホールは、前記第1ビアホールと対を
なし、前記第2信号線は、前記第2部分と対をなし、前
記第4ビアホールは、前記第2ビアホールと対をなし、
前記第3及び第4信号線は、前記第2グランド層を対を
なして、それぞれ、伝送線路を構成している。
The first signal line is paired with the first portion, the third via hole is paired with the first via hole, and the second signal line is paired with the second portion. The fourth via hole is paired with the second via hole,
The third and fourth signal lines form a pair with the second ground layer to form a transmission line.

【0034】前記複数の金属層の他の1つには、半導体
チップが搭載されるベッドが配置され、前記ベッドに対
向する前記第1グランド層の第3部分には、前記ベッド
と前記第3部分とを電気的に接続するビアホールのみが
配置されている。
A bed on which a semiconductor chip is mounted is arranged on the other one of the plurality of metal layers, and the bed and the third portion are formed on a third portion of the first ground layer facing the bed. Only the via hole that electrically connects the portion is arranged.

【0035】前記スリットは、前記第1グランド層の端
部から前記第3部分まで延びている。前記スリットは、
前記第1及び第2部分をそれぞれ電気的に分離する。前
記スリットは、ホールである。
The slit extends from the end of the first ground layer to the third portion. The slit is
The first and second parts are electrically separated from each other. The slit is a hole.

【0036】前記第1及び第2信号線には、マイクロ波
が伝達される。
Microwaves are transmitted to the first and second signal lines.

【0037】本発明のシステムは、上述の半導体モジュ
ールと、この半導体モジュールが搭載されるマザーボー
ドとを備える。
A system of the present invention comprises the above-mentioned semiconductor module and a mother board on which the semiconductor module is mounted.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明の半導体モジュールについて詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A semiconductor module of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0039】図1は、マザーボードとこれに搭載される
本発明に関わる半導体モジュールを示している。図2
は、図1の半導体モジュールを示している。
FIG. 1 shows a mother board and a semiconductor module according to the present invention mounted on the mother board. Figure 2
Shows the semiconductor module of FIG.

【0040】マザーボード10は、多層基板11から構
成される。多層基板11の上面には、信号線12のパタ
ーンが描かれている。多層基板11の間の複数の層のう
ちの1層は、グランド層(接地層)13となっている。
グランド層13は、理想的な接地面となるように、多層
基板11の間の全体にプレート状に形成される。
The mother board 10 is composed of a multi-layer substrate 11. The pattern of the signal line 12 is drawn on the upper surface of the multilayer substrate 11. One of the plurality of layers between the multilayer substrates 11 is a ground layer (ground layer) 13.
The ground layer 13 is formed in a plate shape over the entire space between the multilayer substrates 11 so as to form an ideal ground plane.

【0041】マザーボード10の上面には、例えば、破
線で囲んだ位置に半導体モジュール20が搭載される。
本例では、半導体モジュールは、高周波半導体モジュー
ルを前提とする。
The semiconductor module 20 is mounted on the upper surface of the mother board 10 at a position surrounded by a broken line, for example.
In this example, the semiconductor module is premised on a high frequency semiconductor module.

【0042】半導体モジュール20は、多層基板21
と、これに搭載される半導体チップ(例えば、MMIC
チップ)25と、多層基板21と半導体チップ25とを
電気的に接続するボンディングワイヤ26A,26Bと
から構成される。
The semiconductor module 20 includes a multilayer substrate 21.
And a semiconductor chip mounted on the semiconductor chip (for example, MMIC
Chip) 25, and bonding wires 26A and 26B for electrically connecting the multilayer substrate 21 and the semiconductor chip 25.

【0043】多層基板21の上面には、信号線22Aの
パターン及びベッド24のパターンが描かれている。ベ
ッド24上には、半導体チップ25が搭載される。半導
体チップ25の信号電極と信号線22Aとは、ボンディ
ングワイヤ26Aにより電気的に接続される。信号線2
2Aは、多層基板21内に形成されるビアホール(via
hole)28を経由して、マザーボード10の上面の信号
線12に電気的に接続される。
On the upper surface of the multi-layer substrate 21, the pattern of the signal line 22A and the pattern of the bed 24 are drawn. A semiconductor chip 25 is mounted on the bed 24. The signal electrode of the semiconductor chip 25 and the signal line 22A are electrically connected by the bonding wire 26A. Signal line 2
2A is a via hole (via) formed in the multilayer substrate 21.
via the hole) 28 and is electrically connected to the signal line 12 on the upper surface of the motherboard 10.

【0044】半導体チップのグランド電極とベッド24
とは、ボンディングワイヤ26Bにより電気的に接続さ
れる。多層基板21の間の複数の層のうちの1層は、グ
ランド層(接地層)23となっている。グランド層23
は、後述するように、スリットを有したプレーンとして
多層基板21の間に形成される。
Ground electrode of semiconductor chip and bed 24
And are electrically connected by a bonding wire 26B. One of the plurality of layers between the multilayer substrates 21 is a ground layer (ground layer) 23. Ground layer 23
Are formed between the multilayer substrates 21 as planes having slits, as will be described later.

【0045】ベッド24とグランド層23とは、多層基
板21内に形成されるビアホール27により電気的に接
続される。また、半導体モジュール20のグランド層2
3は、ビアホールを経由して、マザーボード10のグラ
ンド層13に電気的に接続される。
The bed 24 and the ground layer 23 are electrically connected by a via hole 27 formed in the multilayer substrate 21. In addition, the ground layer 2 of the semiconductor module 20
3 is electrically connected to the ground layer 13 of the motherboard 10 via a via hole.

【0046】半導体モジュール20の多層基板21は、
例えば、3層の誘電体層と、各誘電体層の間並びに多層
基板21の上面及び下面にそれぞれ形成される合計4層
の金属層とから構成される。多層基板21の上面に形成
される第1金属層は、主として、高周波信号の信号線2
2Aを構成する。信号線22Aには、通常、L・C・R
などの受動部品(本例では、容量素子)29の一端が接
続される。
The multilayer substrate 21 of the semiconductor module 20 is
For example, it is composed of three dielectric layers and a total of four metal layers formed between the respective dielectric layers and on the upper surface and the lower surface of the multilayer substrate 21, respectively. The first metal layer formed on the upper surface of the multilayer substrate 21 is mainly used for the signal line 2 for high frequency signals.
Make up 2A. The signal line 22A usually has L, C, R
One end of a passive component (capacitive element in this example) 29 such as is connected.

【0047】多層基板21の上面には、信号線22Aの
他に、金属パターン22B及びグランド層としてのベッ
ド24が形成される。受動部品29の他端は、金属パタ
ーン22Bに接続される。ベッド24上には、半導体チ
ップ25が搭載される。
On the upper surface of the multilayer substrate 21, a metal pattern 22B and a bed 24 as a ground layer are formed in addition to the signal line 22A. The other end of the passive component 29 is connected to the metal pattern 22B. A semiconductor chip 25 is mounted on the bed 24.

【0048】多層基板21の間に形成され、第1金属層
に隣接する第2金属層は、信号線22Aがマイクロスト
リップ線路となるように、グランド層23を構成する。
多層基板21の間に形成される第3金属層は、主とし
て、DCバイアス用の線路を構成する。また、多層基板
21の下面、即ち、モジュールの裏面に形成される第4
金属層は、電極パターンを構成する。
The second metal layer formed between the multilayer substrates 21 and adjacent to the first metal layer constitutes the ground layer 23 so that the signal line 22A becomes a microstrip line.
The third metal layer formed between the multilayer substrates 21 mainly constitutes a line for DC bias. In addition, the fourth surface formed on the lower surface of the multilayer substrate 21, that is, the back surface of the module.
The metal layer constitutes an electrode pattern.

【0049】図3は、本発明の半導体モジュールの概要
を示している。
FIG. 3 shows an outline of the semiconductor module of the present invention.

【0050】本発明の半導体モジュールの特徴は、信号
線22Aがマイクロストリップ線路となるように信号線
22Aの直下に配置されるグランド層23にある。
A feature of the semiconductor module of the present invention resides in the ground layer 23 arranged immediately below the signal line 22A so that the signal line 22A becomes a microstrip line.

【0051】従来の半導体モジュールにおける問題は、
グランド層が理想グランド面とならないことにあった。
即ち、グランド層は、ビアホールを経由して、マザーボ
ードのグランド層に接続される。しかし、ビアホールに
は、有限の寄生インダクタンスが存在し、また、ビアホ
ールの数も、モジュールの構造上の理由から、有限個し
か配置することができない。
The problem with the conventional semiconductor module is that
The ground layer was not the ideal ground plane.
That is, the ground layer is connected to the ground layer of the motherboard via the via hole. However, there is a finite parasitic inductance in the via holes, and the number of via holes can be limited to a limited number because of the structure of the module.

【0052】従って、グランド層に生じた誘導電流は、
リターン電流としてビアホールに流れ込まずに、電流密
度が高い状態でグランド層の端面に分布してしまい、結
果として、信号線間のカップリングの影響が大きくなっ
ていた(発明が解決する課題の項目で説明した及び
のカップリング)。
Therefore, the induced current generated in the ground layer is
It did not flow into the via hole as a return current, but was distributed on the end face of the ground layer in a state where the current density was high, and as a result, the influence of the coupling between the signal lines became large ( Couplings described and.

【0053】また、近年におけるのモジュールの小型化
のため、モジュール内に設けられるビアホールの数にも
限界があり、半導体モジュールのグランド層に生じた誘
導電流を直ちにビアホールに吸収することも非常に困難
である。
Further, due to the recent miniaturization of the module, the number of via holes provided in the module is limited, and it is very difficult to immediately absorb the induced current generated in the ground layer of the semiconductor module into the via hole. Is.

【0054】そこで、本発明では、マイクロストリップ
線路を形成するためのグランド層の電位が浮いた状態に
なってしまうことは容認する一方、図3に示すように、
そのグランド層23を、原則として、信号線22Aごと
に設け、一の信号線22Aに流れる電流によってグラン
ド層23に生じた誘導電流が、他の信号線22Aを流れ
る電流に影響を与えないようにする。
Therefore, in the present invention, while it is acceptable that the potential of the ground layer for forming the microstrip line is in a floating state, as shown in FIG.
As a general rule, the ground layer 23 is provided for each signal line 22A so that the induced current generated in the ground layer 23 by the current flowing through one signal line 22A does not affect the current flowing through another signal line 22A. To do.

【0055】なお、複数の信号線22Aに対応して設け
られた複数のグランド層23は、互いに電気的に接続さ
れていてもよいし、互いに電気的に分離されていてもよ
い。複数のグランド層23が互いに電気的に接続される
場合には、一のグランド層23において発生した誘導電
流が他のグランド層23に流れていかないように、その
接続箇所を細くして高抵抗にするなどの工夫が必要であ
る。
The plurality of ground layers 23 provided corresponding to the plurality of signal lines 22A may be electrically connected to each other or may be electrically separated from each other. When a plurality of ground layers 23 are electrically connected to each other, the connection points are thinned to have a high resistance so that the induced current generated in one ground layer 23 does not flow to the other ground layers 23. It is necessary to devise such as doing.

【0056】このような半導体モジュールによれば、一
の信号線22Aに流れる電流によってグランド層23に
生じた誘導電流は、グランド層の端面に達すると、その
端面に沿って流れることになるが、そのグランド層23
は、一の信号線22Aにのみ対応しており、他の信号線
22Aのグランド層とはならないため、他の信号線22
Aに流れる電流に影響を与えることがない。
According to such a semiconductor module, the induced current generated in the ground layer 23 by the current flowing through the one signal line 22A will flow along the end surface of the ground layer when it reaches the end surface. The ground layer 23
Corresponds to only one signal line 22A and does not serve as a ground layer for the other signal line 22A.
It does not affect the current flowing through A.

【0057】つまり、発明が解決する課題の項目で説明
した及びによるカップリングの影響を小さくするこ
とができるため、結果として、信号線間のカップリング
の影響を大幅に小さくできる。
That is, since the influence of the coupling due to and explained in the item of the problem to be solved by the invention can be reduced, as a result, the influence of the coupling between the signal lines can be greatly reduced.

【0058】図4及び図5は、図2の半導体モジュール
に対応し、本発明の特徴部分を詳細に示している。
FIGS. 4 and 5 correspond to the semiconductor module of FIG. 2 and show in detail the characteristic portions of the present invention.

【0059】信号線22A、金属パターン22B及びベ
ッド24は、多層基板21の上面、即ち、第1金属層に
形成される。
The signal line 22A, the metal pattern 22B and the bed 24 are formed on the upper surface of the multilayer substrate 21, that is, on the first metal layer.

【0060】信号線22Aと金属パターン22Bとに跨
って、受動部品(例えば、容量素子)29が配置されて
いる。金属パターン22Bは、ビアホール30Aを経由
して、第1金属層の直下の第2金属層に形成されるグラ
ンド層23に接続される。
A passive component (for example, a capacitive element) 29 is arranged across the signal line 22A and the metal pattern 22B. The metal pattern 22B is connected to the ground layer 23 formed in the second metal layer immediately below the first metal layer via the via hole 30A.

【0061】ここで、本発明では、第一に、グランド層
23にスリット31が形成されている。スリット31
は、グランド層23の端面から半導体チップがマウント
されるベッド24の直下の部分にまで延びている。即
ち、スリット31は、一の信号線22Aの直下のグラン
ド層23の部分(特に、受動部品29の一端が接続され
るビアホール30Aのコンタクト部)Xと、他の信号線
22Aの直下のグランド層23の部分(特に、受動部品
29の一端が接続されるビアホール30Aのコンタクト
部)Yとを、分断する。
Here, in the present invention, firstly, the slit 31 is formed in the ground layer 23. Slit 31
Extends from the end surface of the ground layer 23 to a portion directly below the bed 24 on which the semiconductor chip is mounted. That is, the slit 31 includes a portion of the ground layer 23 immediately below one signal line 22A (particularly, a contact portion of the via hole 30A to which one end of the passive component 29 is connected) X, and a ground layer directly below another signal line 22A. The portion 23 (particularly, the contact portion of the via hole 30A to which one end of the passive component 29 is connected) Y is separated.

【0062】このように、グランド層23にスリット3
1を設けることにより、図3に示すような構成、即ち、
マイクロストリップ線路を形成するためのグランド層2
3を信号線22Aごとに設ける構成に近い構成を得るこ
とができる。
Thus, the slits 3 are formed in the ground layer 23.
By providing 1, the configuration as shown in FIG.
Ground layer 2 for forming a microstrip line
It is possible to obtain a configuration similar to the configuration in which 3 is provided for each signal line 22A.

【0063】従って、仮に、一の信号線22Aに対応す
るグランド層23が浮いた状態になってしまったとして
も、これが他の信号線22Aに流れる電流に影響を与え
ることを小さくできるため、信号線間のカップリングの
増大を、ビアホール数の増大によるモジュールサイズの
増大なしに回避することができる。
Therefore, even if the ground layer 23 corresponding to one signal line 22A floats, it is possible to reduce the influence on the current flowing through the other signal line 22A. The increase in coupling between lines can be avoided without increasing the module size due to the increase in the number of via holes.

【0064】また、本発明では、第二に、スリット31
により分断されたグランド層23の部分X,Yに、それ
ぞれ少なくとも1つ(本例では、1つ)のビアホール3
0Bが接続されている。このビアホール30Bは、半導
体モジュールの裏面に形成される電極32及びマザーボ
ード内のビアホール30Cを経由して、マザーボード内
のグランド層13に接続される。
Secondly, in the present invention, the slit 31
At least one (in this example, one) via hole 3 is provided in each of the portions X and Y of the ground layer 23 divided by
0B is connected. The via hole 30B is connected to the ground layer 13 in the motherboard via the electrode 32 formed on the back surface of the semiconductor module and the via hole 30C in the motherboard.

【0065】また、半導体チップが搭載されるベッド2
4の直下のビアホール27は、半導体モジュールのグラ
ンド層23にのみ接続され、例えば、従来(図14)の
ように、マザーボードのグランド層13にビアホール1
4,28を経由して接続されることはない。
The bed 2 on which the semiconductor chip is mounted
4 is directly connected to the ground layer 23 of the semiconductor module, and the via hole 1 is formed in the ground layer 13 of the motherboard, as in the conventional case (FIG. 14).
No connection is made via 4, 28.

【0066】即ち、本発明では、半導体モジュールのグ
ランド層とマザーボードのグランド層との接続箇所は、
スリット31により分断された部分X,Yのみに設けら
れる。この点について、説明する。
That is, according to the present invention, the connection point between the ground layer of the semiconductor module and the ground layer of the mother board is
It is provided only in the portions X and Y divided by the slit 31. This point will be described.

【0067】図6は、マザーボードと本発明の半導体モ
ジュールからなるシステムの断面図を示している。
FIG. 6 shows a sectional view of a system including a mother board and the semiconductor module of the present invention.

【0068】本発明では、半導体モジュールのグランド
層23にスリットを設け、複数の信号線22Aに対応し
て複数のグランド層23の部分を形成している。
In the present invention, slits are provided in the ground layer 23 of the semiconductor module, and the portions of the ground layers 23 corresponding to the signal lines 22A are formed.

【0069】この場合、例えば、従来(図12)のよう
に、半導体モジュールのグランド層23とマザーボード
のグランド層13とを接続するビアホールを、半導体チ
ップ25を搭載するベッド24の直下のみに設けると、
グランド層23の各部分の電位が理想グランド電位から
大きく離れると共に、一の部分で発生した誘導電流が他
の部分に、ベッド24直下のグランド層23の部分を経
由して、転送されてしまうことが考えられる。
In this case, for example, if a via hole connecting the ground layer 23 of the semiconductor module and the ground layer 13 of the mother board is provided only under the bed 24 on which the semiconductor chip 25 is mounted, as in the conventional case (FIG. 12). ,
The potential of each part of the ground layer 23 greatly deviates from the ideal ground potential, and the induced current generated in one part is transferred to the other part via the part of the ground layer 23 immediately below the bed 24. Can be considered.

【0070】そこで、本発明では、図6に示すように、
半導体モジュールのグランド層23とマザーボードのグ
ランド層13とを接続するビアホール30B,30C
は、スリットにより分断された部分に、それぞれ少なく
とも1つ設ける。
Therefore, in the present invention, as shown in FIG.
Via holes 30B and 30C for connecting the ground layer 23 of the semiconductor module and the ground layer 13 of the motherboard
Is provided at each of the portions divided by the slits.

【0071】このような構成によれば、グランド層23
の一の部分で発生した誘導電流は、グランド層23の他
の部分に影響を与えることがない。また、信号線22A
とグランド層23、ビアホール28とビアホール30
B,30C、及び、信号線12とグランド層13とは、
それぞれ、伝送線路を構成しているため、高周波信号の
伝達に支障が生じるようなことはない。
According to this structure, the ground layer 23
The induced current generated in one part does not affect the other part of the ground layer 23. Also, the signal line 22A
And ground layer 23, via hole 28 and via hole 30
B, 30C, and the signal line 12 and the ground layer 13 are
Since each of them constitutes a transmission line, it does not hinder the transmission of high frequency signals.

【0072】以上、本発明の半導体モジュールによれ
ば、グランド層が浮いた状態になっても、信号線ごとに
グランド層が存在する構成になっているため、一の信号
線に流れる電流に起因する誘導電流が他の信号線の電流
に影響を与えることがなく、結果として、信号線間のカ
ップリングの増大を、ビアホール数の増大によるモジュ
ールサイズの増大なしに回避することができる。
As described above, according to the semiconductor module of the present invention, the ground layer exists for each signal line even if the ground layer is in a floating state. The induced current does not affect the currents of other signal lines, and as a result, an increase in coupling between signal lines can be avoided without increasing the module size due to an increase in the number of via holes.

【0073】なお、本例では、半導体モジュールのグラ
ンド層に、1つのスリットのみを設けた場合の例につい
て説明したが、当然に、信号線の数に応じて、複数のス
リットをグランド層に形成してもよい。また、スリット
のサイズ、形状、位置などについては、特に限定されな
いが、製造の容易化、信号線のレイアウトなどを考慮し
て決定される。
In this example, an example in which only one slit is provided in the ground layer of the semiconductor module has been described, but it goes without saying that a plurality of slits are formed in the ground layer according to the number of signal lines. You may. Further, the size, shape, position, etc. of the slit are not particularly limited, but are determined in consideration of facilitation of manufacturing, layout of signal lines, and the like.

【0074】また、半導体モジュールのグランド層とマ
ザーボードのグランド層とを接続するためのビアホール
は、半導体モジュールのグランド層の端部であって、か
つ、高周波信号線の直下に設けるのが好ましい。
Further, the via hole for connecting the ground layer of the semiconductor module and the ground layer of the mother board is preferably provided at the end of the ground layer of the semiconductor module and immediately below the high frequency signal line.

【0075】図7乃至図9は、本発明の半導体モジュー
ルの応用例を示している。これらの図においては、本発
明の特徴部分であるグランド層23を主として示してあ
る。
7 to 9 show application examples of the semiconductor module of the present invention. In these figures, the ground layer 23, which is a characteristic part of the present invention, is mainly shown.

【0076】図7の例では、グランド層23に4つのス
リット31が設けられている。各スリット31は、グラ
ンド層23の端部から半導体チップ25の直下の部分に
向かって延びている。信号線22Aとグランド層23と
は、マイクロストリップ線路を構成する。また、スリッ
ト31により分断されたグランド層23の各部分には、
ビアホール30B,30Cが接続される。
In the example of FIG. 7, the ground layer 23 is provided with four slits 31. Each slit 31 extends from the end of the ground layer 23 toward a portion directly below the semiconductor chip 25. The signal line 22A and the ground layer 23 form a microstrip line. In addition, in each part of the ground layer 23 divided by the slit 31,
Via holes 30B and 30C are connected.

【0077】図8の例では、図7の例と同様に、グラン
ド層23に4つのスリット31が設けられている。但
し、各スリット31の一端は、グランド層23の端部に
達しておらず、各スリット31は、ホールとなってい
る。その他の点は、図7と同じである。
In the example of FIG. 8, four slits 31 are provided in the ground layer 23 as in the example of FIG. However, one end of each slit 31 does not reach the end of the ground layer 23, and each slit 31 is a hole. Other points are the same as in FIG. 7.

【0078】図9の例では、グランド層が5つの部分に
電気的に分離され、グランド層23A,23B,23
C,23D,23Eとなっている。周辺部の4つのグラ
ンド層23A,23B,23C,23Dは、それぞれ、
ビアホール30B,30Cによりマザーボードのグラン
ド層に接続される。半導体チップが搭載される中央部の
グランド層23Eは、ビアホール14,28によりマザ
ーボードのグランド層に接続される。
In the example of FIG. 9, the ground layer is electrically separated into five parts, and the ground layers 23A, 23B, 23
It is C, 23D, and 23E. The four ground layers 23A, 23B, 23C and 23D in the peripheral portion are respectively
Via holes 30B and 30C are connected to the ground layer of the motherboard. The central ground layer 23E on which the semiconductor chip is mounted is connected to the ground layer of the motherboard by the via holes 14 and 28.

【0079】また、図10に示すように、グランド層2
3A,23B,23C,23D,23Dは、それぞれ、
ビアホールVH1,VH2,VH3,VH4によって、
モジュール表面の金属層(第1金属層)の金属パターン
M1,M2,M3,M4に電気的に接続される。金属パ
ターンM1,M2,M3,M4は、それぞれ、ボンディ
ングワイヤによって、半導体チップ25上のグランドパ
ッドP1,P2,P3,P4に電気的に接続される。
As shown in FIG. 10, the ground layer 2
3A, 23B, 23C, 23D and 23D are respectively
Via holes VH1, VH2, VH3, VH4
It is electrically connected to the metal patterns M1, M2, M3, M4 of the metal layer (first metal layer) on the module surface. The metal patterns M1, M2, M3, M4 are electrically connected to the ground pads P1, P2, P3, P4 on the semiconductor chip 25 by bonding wires, respectively.

【0080】[0080]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明の半導体
モジュールによれば、グランド層にスリットが設けられ
ている。このスリットは、半導体モジュールのグランド
層を複数の部分に分断する。そして、グランド層の1つ
の部分に対応して1つの信号線が配置される。
As described above, according to the semiconductor module of the present invention, the ground layer is provided with the slit. The slit divides the ground layer of the semiconductor module into a plurality of parts. Then, one signal line is arranged corresponding to one portion of the ground layer.

【0081】この場合、一の信号線に流れる電流によっ
てこの一の信号線に対応するグランド層の部分に発生し
た誘導電流は、グランド層の各部分ごとに設けられたコ
ンタクト部を経由してマザーボードのグランド層に吸収
され、他の信号線に対応するグランド層に及ばなくなる
ため、信号線間のカップリングを小さくすることができ
る。
In this case, the induced current generated in the portion of the ground layer corresponding to the one signal line by the current flowing in the one signal line passes through the contact portion provided for each portion of the ground layer to the motherboard. Is absorbed by the ground layer and does not reach the ground layer corresponding to other signal lines, so that the coupling between the signal lines can be reduced.

【0082】このように、本発明の半導体モジュールで
は、グランド層が浮いた状態になったとしても、ビアホ
ール数の増大によるモジュールサイズの増大なしに、信
号線間のカップリングの増大を抑制することができる。
As described above, in the semiconductor module of the present invention, even if the ground layer is in a floating state, the increase in the coupling between the signal lines can be suppressed without increasing the module size due to the increase in the number of via holes. You can

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】マザーボードと本発明の半導体モジュールを示
す図。
FIG. 1 is a diagram showing a mother board and a semiconductor module of the present invention.

【図2】本発明の半導体モジュールを示す図。FIG. 2 is a diagram showing a semiconductor module of the present invention.

【図3】本発明の原理を示す図。FIG. 3 is a diagram showing the principle of the present invention.

【図4】本発明の半導体モジュールの特徴部分を示す
図。
FIG. 4 is a diagram showing a characteristic part of a semiconductor module of the present invention.

【図5】本発明の半導体モジュールの特徴部分を示す
図。
FIG. 5 is a diagram showing a characteristic part of a semiconductor module of the present invention.

【図6】マザーボードと本発明の半導体モジュールから
なるシステムを示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a system including a mother board and the semiconductor module of the present invention.

【図7】本発明の半導体モジュールの応用例を示す図。FIG. 7 is a diagram showing an application example of the semiconductor module of the present invention.

【図8】本発明の半導体モジュールの応用例を示す図。FIG. 8 is a diagram showing an application example of the semiconductor module of the present invention.

【図9】本発明の半導体モジュールの応用例を示す図。FIG. 9 is a diagram showing an application example of the semiconductor module of the present invention.

【図10】本発明の半導体モジュールの応用例を示す
図。
FIG. 10 is a diagram showing an application example of the semiconductor module of the present invention.

【図11】マザーボードと従来の半導体モジュールを示
す図。
FIG. 11 is a diagram showing a mother board and a conventional semiconductor module.

【図12】マザーボードと従来の半導体モジュールから
なるシステムを示す図。
FIG. 12 is a diagram showing a system including a mother board and a conventional semiconductor module.

【図13】従来の半導体モジュールの主要部分を示す
図。
FIG. 13 is a diagram showing a main part of a conventional semiconductor module.

【図14】従来の半導体モジュールの主要部分を示す
図。
FIG. 14 is a diagram showing a main part of a conventional semiconductor module.

【図15】従来の半導体モジュールの主要部分を示す
図。
FIG. 15 is a diagram showing a main part of a conventional semiconductor module.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 :マザーボー
ド、 11,21 :多層基板、 12,22A :信号線、 13,23,23A〜23E :グランド層、 14,15,27,28,30A,30B,30C :
ビアホール、 20 :半導体モジュ
ール、 22B :金属パター
ン、 24 :ベッド、 25 :半導体チッ
プ、 26A,26B :ボンディング
ワイヤ、 29 :受動部品、 31 :スリット、 32 :電極。
10: Mother board, 11, 21: Multilayer substrate, 12, 22A: Signal line, 13, 23, 23A to 23E: Ground layer, 14, 15, 27, 28, 30A, 30B, 30C:
Via hole, 20: Semiconductor module, 22B: Metal pattern, 24: Bed, 25: Semiconductor chip, 26A, 26B: Bonding wire, 29: Passive component, 31: Slit, 32: Electrode.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多層基板の複数の金属層のうちの1つに
配置される第1グランド層と、前記複数の金属層のうち
の他の1つに配置され、前記第1グランド層と対をなす
ことにより伝送線路を構成する第1及び第2信号線とを
具備し、前記第1信号線に対向する前記第1グランド層
の第1部分と前記第2信号線に対向する前記第1グラン
ド層の第2部分との間にスリットが設けられていること
を特徴とする半導体モジュール。
1. A first ground layer disposed on one of a plurality of metal layers of a multilayer substrate, and a first ground layer disposed on another one of the plurality of metal layers and paired with the first ground layer. And a first signal line and a second signal line that form a transmission line, and the first portion of the first ground layer facing the first signal line and the first signal line facing the second signal line. A semiconductor module, wherein a slit is provided between the ground layer and the second portion.
【請求項2】 前記第1信号線と前記第1部分との間に
接続される第1受動部品と、前記第2信号線と前記第2
部分との間に接続される第2受動部品とを具備し、前記
第1受動部品と前記第1部分との接続箇所は、前記スリ
ットにより、前記第2受動部品と前記第2部分との接続
箇所と分断されていることを特徴とする請求項1記載の
半導体モジュール。
2. A first passive component connected between the first signal line and the first portion, the second signal line and the second passive component.
A second passive component connected between the second passive component and the second portion, the connection portion between the first passive component and the first portion being connected by the slit to the second passive component and the second portion. The semiconductor module according to claim 1, wherein the semiconductor module is separated from the place.
【請求項3】 前記第1部分には、マザーボードの第2
グランド層にコンタクトするための第1ビアホールが接
続され、前記第2部分には、前記第2グランド層にコン
タクトするための第2ビアホールが接続されることを特
徴とする請求項1記載の半導体モジュール。
3. The second portion of the motherboard is attached to the first portion.
2. The semiconductor module according to claim 1, wherein a first via hole for contacting a ground layer is connected, and a second via hole for contacting the second ground layer is connected to the second portion. .
【請求項4】 前記第1ビアホールは、前記第1グラン
ド層の端部で、かつ、前記第1信号線とオーバーラップ
する部分に配置され、前記第2ビアホールは、前記第1
グランド層の端部で、かつ、前記第2信号線とオーバー
ラップする部分に配置されることを特徴とする請求項3
記載の半導体モジュール。
4. The first via hole is arranged at an end of the first ground layer and at a portion overlapping with the first signal line, and the second via hole is the first via hole.
4. The end portion of the ground layer and the portion overlapping with the second signal line are arranged.
The semiconductor module described.
【請求項5】 前記第1信号線の端部には、前記マザー
ボードの第3信号線にコンタクトするための第3ビアホ
ールが接続され、前記第2信号線の端部には、前記マザ
ーボードの第4信号線にコンタクトするための第4ビア
ホールが接続されることを特徴とする請求項4記載の半
導体モジュール。
5. A third via hole for contacting a third signal line of the motherboard is connected to an end of the first signal line, and an end of the second signal line is connected to a third via hole of the motherboard. The semiconductor module according to claim 4, wherein a fourth via hole for contacting the four signal lines is connected.
【請求項6】 前記第1信号線は、前記第1部分と対を
なし、前記第3ビアホールは、前記第1ビアホールと対
をなし、前記第2信号線は、前記第2部分と対をなし、
前記第4ビアホールは、前記第2ビアホールと対をな
し、前記第3及び第4信号線は、前記第2グランド層を
対をなして、それぞれ、伝送線路を構成していることを
特徴とする請求項5記載の半導体モジュール。
6. The first signal line forms a pair with the first portion, the third via hole forms a pair with the first via hole, and the second signal line forms a pair with the second portion. None,
The fourth via hole may be paired with the second via hole, and the third and fourth signal lines may be paired with the second ground layer to form a transmission line. The semiconductor module according to claim 5.
【請求項7】 前記複数の金属層の他の1つには、半導
体チップが搭載されるベッドが配置され、前記ベッドに
対向する前記第1グランド層の第3部分には、前記ベッ
ドと前記第3部分とを電気的に接続するビアホールのみ
が配置されていることを特徴とする請求項1記載の半導
体モジュール。
7. A bed on which a semiconductor chip is mounted is disposed on the other one of the plurality of metal layers, and the bed and the bed are provided on a third portion of the first ground layer facing the bed. The semiconductor module according to claim 1, wherein only via holes electrically connecting to the third portion are arranged.
【請求項8】 前記スリットは、前記第1グランド層の
端部から前記第3部分まで延びていることを特徴とする
請求項7記載の半導体モジュール。
8. The semiconductor module according to claim 7, wherein the slit extends from an end of the first ground layer to the third portion.
【請求項9】 前記スリットは、前記第1及び第2部分
をそれぞれ電気的に分離することを特徴とする請求項1
記載の半導体モジュール。
9. The slit electrically separates the first and second portions from each other.
The semiconductor module described.
【請求項10】 前記スリットは、ホールであることを
特徴とする請求項1記載の半導体モジュール。
10. The semiconductor module according to claim 1, wherein the slit is a hole.
【請求項11】 前記第1及び第2信号線には、マイク
ロ波が伝達されることを特徴とする請求項1記載の半導
体モジュール。
11. The semiconductor module according to claim 1, wherein microwaves are transmitted to the first and second signal lines.
【請求項12】 請求項1記載の半導体モジュールと、
前記半導体モジュールが搭載されるマザーボードとを具
備することを特徴とするシステム。
12. The semiconductor module according to claim 1,
And a motherboard on which the semiconductor module is mounted.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004016399B4 (en) * 2003-03-27 2013-06-06 Kyocera Corp. High frequency module and radio device

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DE102004016399B4 (en) * 2003-03-27 2013-06-06 Kyocera Corp. High frequency module and radio device

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