JP2003028928A - Semiconductor device and testing method therefor - Google Patents

Semiconductor device and testing method therefor

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JP2003028928A
JP2003028928A JP2001212491A JP2001212491A JP2003028928A JP 2003028928 A JP2003028928 A JP 2003028928A JP 2001212491 A JP2001212491 A JP 2001212491A JP 2001212491 A JP2001212491 A JP 2001212491A JP 2003028928 A JP2003028928 A JP 2003028928A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem of a method for measuring the function and timing of a high-speed I/O interface in a semiconductor device requiring, which does not use a high-performance ATE or LSI tester. SOLUTION: This method includes a test data generator which is provided in an output part and generates a test data, a delay circuit which adjust a time difference to set the test data transmitted in the inside of a chip as an expected value, a comparator which is provided in an input part and compares and verifies the test data transmitted in the outside of the chip, and an external wiring, in which an output pin connected with the test data generator is connected with an input pin connected with the comparator.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体装置およ
びそのテスト方式に関し、特に、半導体装置の入出力部
(I/O)インタフェースのテスト回路に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a test method thereof, and more particularly to a test circuit for an input / output (I / O) interface of the semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置(LSI)のテストは半導体
試験装置(以下、LSIテスタという)を使用して動作
検証を実施している。システム動作と同じ速度で試験を
行うにはLSIのI/Oインタフェースと同じ動作速度
を有するLSIテスタが必要となる。
2. Description of the Related Art In a semiconductor device (LSI) test, a semiconductor tester (hereinafter referred to as an LSI tester) is used to perform operation verification. In order to perform the test at the same speed as the system operation, an LSI tester having the same operation speed as the I / O interface of the LSI is required.

【0003】ここで、従来のLSIテストについて簡単
に説明しておく。図6は従来の半導体装置のテスト方式
を示すブロック図であり、図において、1001はLS
Iテスタ、1002はDUTボード、1003はLS
I、1004はピンカード、1005はコンパレータや
ドライバなどの回路素子である。このLSIテスタ10
01は、コンピュータ制御によりLSI1003の実際
の動作環境に近い環境を作り出し、当該LSI1003
の良否の判定を行うもので、タイミング発生器、テスト
パターン発生器、フォーマッタ、電源などを有し、LS
I1003に入力信号を印加し出力応答を予め用意した
期待値と比較するものである。また、ピンカード100
4は定められた波形を出す最終出力段であり、またLS
I1003が出力するデータと期待値とを比較する比較
器などの回路素子を有する。
Here, a conventional LSI test will be briefly described. FIG. 6 is a block diagram showing a conventional semiconductor device test method. In the figure, 1001 is an LS.
I tester, 1002 is DUT board, 1003 is LS
I, 1004 are pin cards, and 1005 are circuit elements such as comparators and drivers. This LSI tester 10
01 creates an environment close to the actual operating environment of the LSI 1003 by computer control,
LS has a timing generator, a test pattern generator, a formatter, a power supply, etc.
This is to apply an input signal to I1003 and compare the output response with an expected value prepared in advance. Also, the pin card 100
4 is a final output stage that outputs a predetermined waveform, and LS
It has a circuit element such as a comparator for comparing the data output from I1003 with an expected value.

【0004】動作については、LSI1003のファン
クションテストの場合、LSIテスタ1001より生成
されたテストベクタをLSI1003に印加しその出力
応答を期待値と比較し、入出力部を含めコアロジックの
動作を検証する。
Regarding the operation, in the case of the function test of the LSI 1003, a test vector generated by the LSI tester 1001 is applied to the LSI 1003 and its output response is compared with an expected value to verify the operation of the core logic including the input / output section. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置のテ
スト方式は以上のように回路構成されているので、特
に、Gbps級のI/Oを有する多ピンLSIに対し
て、高速LSIテスタは高額であり、量産に適用するに
は経済的でないといった課題があった。
Since the conventional semiconductor device test system has the circuit configuration as described above, a high-speed LSI tester is expensive, especially for a multi-pin LSI having Gbps class I / O. Therefore, there is a problem that it is not economical to apply it to mass production.

【0006】また、従来の半導体装置およびそのテスト
方式では、1Gbps級に及ぶLSI動作の高速化、数
十〜数百psのI/Oタイミング(Setup,Hol
d,CLK_to_Q)は、テストの動作限界、タイミ
ング限界にきており、高信頼性のテスト実現が困難にな
ってきているといった課題があった。
Further, in the conventional semiconductor device and the test method thereof, the speed of the LSI operation up to 1 Gbps class is increased, and the I / O timing (Setup, Hol) of several tens to several hundreds ps.
d, CLK_to_Q) has reached the test operation limit and timing limit, and there is a problem that it is becoming difficult to realize a highly reliable test.

【0007】その対策として、LSIの出力端子と入力
端子を外部で接続し実動作速度でI/Oインタフェース
の動作試験を行う手法(ループ(Loop)やチップと
チップの接続によるテスト手法)があり、例えば、特願
2000−95552には、テストパターン生成器とデ
ータ圧縮器を内蔵した半導体装置の開示がされている。
As a countermeasure, there is a method of connecting the output terminal and the input terminal of the LSI externally and performing an operation test of the I / O interface at an actual operation speed (a loop (Loop) or a chip-to-chip connection test method). For example, Japanese Patent Application No. 2000-95552 discloses a semiconductor device including a test pattern generator and a data compressor.

【0008】一方、特開平3−117214号は、LS
I単体の入出力ピンでループ接続したり、複数個のLS
Iの入出力ピンでループ接続して実動作のI/Oインタ
フェースの通信テストを行うものであるが、出力部に実
動作速度でテストするためのテストデータ生成器や入力
部での外部データとテストデータ生成器からの期待値デ
ータとの逐次比較器、および比較タイミングを調整する
遅延回路とストローブ機能は含まれていない。
On the other hand, Japanese Patent Laid-Open No. 3-117214 discloses LS
I / O pins can be connected in a loop or multiple LS
The I / O pin is connected in a loop to perform a communication test of the actual I / O interface, but the output unit uses a test data generator for testing at the actual operating speed and external data at the input unit. It does not include a successive comparator with the expected value data from the test data generator, a delay circuit for adjusting the comparison timing, and a strobe function.

【0009】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、半導体装置の高速I/Oインタフ
ェースの実動作テストを可能にする半導体装置およびそ
のテスト方式を得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to obtain a semiconductor device and a test method thereof that enable an actual operation test of a high-speed I / O interface of the semiconductor device. .

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、テストデータを生成するテストデータ生成手段
と、チップ内部を経由するテストデータを期待値データ
とするためにその時間差を調整するデータ調整手段と、
入力部に設けられチップ外部を伝搬してきたテストデー
タと期待値データとを比較・検証する比較手段とを備え
たものである。
A semiconductor device according to the present invention comprises a test data generating means for generating test data and a data adjustment for adjusting a time difference between the test data passing through the inside of the chip to be expected value data. Means and
The comparison unit is provided in the input unit for comparing and verifying the test data propagated outside the chip and the expected value data.

【0011】この発明に係る半導体装置は、テストデー
タ生成手段が出力部に設けられ、これよりテストデータ
を出力するとともに、このテストデータをデータ調整手
段を経由させ期待値データとし比較手段に送信するもの
である。
In the semiconductor device according to the present invention, the test data generating means is provided in the output section, the test data is outputted from this, and the test data is transmitted to the comparing means as expected value data via the data adjusting means. It is a thing.

【0012】この発明に係る半導体装置は、テストデー
タ生成手段が、出力部に設けられチップ外部を伝搬する
テストデータを生成する第1のテストデータ生成手段
と、入力部に設けられデータ調整手段を経由して期待値
データとなるテストデータを生成する第2のテストデー
タ生成手段とから成るものである。
In the semiconductor device according to the present invention, the test data generating means includes a first test data generating means provided in the output section for generating test data propagating outside the chip, and a data adjusting means provided in the input section. And second test data generating means for generating test data which is expected value data via the test data.

【0013】この発明に係る半導体装置は、テストデー
タ生成手段が、実動作速度で動作するLFSRを備える
ものである。
In the semiconductor device according to the present invention, the test data generating means has an LFSR which operates at an actual operating speed.

【0014】この発明に係る半導体装置は、比較手段
が、外部から入力してきたテストデータとチップ内部を
経由する期待値データとを実動作速度で比較・検証する
比較器により構成されるものである。
In the semiconductor device according to the present invention, the comparison means is composed of a comparator for comparing and verifying the test data input from the outside and the expected value data passing through the inside of the chip at the actual operating speed. .

【0015】この発明に係る半導体装置は、データ調整
手段が、チップ内部を経由するテストデータを遅延させ
ることにより、期待値データとする遅延回路により構成
されるものである。
In the semiconductor device according to the present invention, the data adjusting means is constituted by a delay circuit which delays the test data passing through the inside of the chip to obtain expected value data.

【0016】この発明に係る半導体装置のテスト方式
は、テストデータを生成するテストデータ生成手段と、
チップ内部を経由するテストデータを期待値データとす
るためにその時間差を調整するデータ調整手段と、入力
部に設けられチップ外部を伝搬してきたテストデータと
期待値データとを比較・検証する比較手段とを備えた半
導体装置において、テストデータ生成手段の出力と比較
手段の入力とを接続する外部配線を備えたものである。
A semiconductor device test method according to the present invention comprises a test data generating means for generating test data,
A data adjusting means for adjusting the time difference so that the test data passing through the inside of the chip becomes the expected value data, and a comparing means for comparing and verifying the test data propagated outside the chip and provided in the input section with the expected value data. And a semiconductor device including: an external wiring for connecting an output of the test data generating means and an input of the comparing means.

【0017】この発明に係る半導体装置のテスト方式
は、テストデータ生成手段が出力部に設けられ、これよ
りテストデータを出力するとともに、このテストデータ
をデータ調整手段を経由させ期待値データとし比較手段
に送信するものである。
In the semiconductor device test method according to the present invention, the test data generating means is provided in the output section, the test data is output from the output portion, and the test data is passed through the data adjusting means to be the expected value data and the comparing means. Is to be sent to.

【0018】この発明に係る半導体装置のテスト方式
は、テストデータ生成手段が、出力部に設けられチップ
外部を伝搬するテストデータを生成する第1のテストデ
ータ生成手段と、入力部に設けられデータ調整手段を経
由して期待値データとなるテストデータを生成する第2
のテストデータ生成手段とから成るものである。
In the test method of the semiconductor device according to the present invention, the test data generating means includes the first test data generating means provided in the output portion for generating the test data propagating outside the chip, and the data provided in the input portion. Second generation of test data that is expected value data via adjustment means
And the test data generating means.

【0019】この発明に係る半導体装置のテスト方式
は、半導体装置は複数個から成り、それぞれの半導体装
置の出力ピンおよび入力ピン同士を外部配線により接続
したものである。
The semiconductor device testing method according to the present invention is such that the semiconductor device is composed of a plurality of semiconductor devices, and the output pins and input pins of the respective semiconductor devices are connected by external wiring.

【0020】この発明に係る半導体装置のテスト方式
は、テストデータ生成手段が、実動作速度で動作するL
FSRを備えるものである。
In the semiconductor device testing method according to the present invention, the test data generating means is operated at an actual operating speed.
It has an FSR.

【0021】この発明に係る半導体装置のテスト方式
は、比較手段が、外部から入力してきたテストデータと
チップ内部を経由する期待値データとを実動作速度で比
較・検証する比較器により構成されるものである。
In the semiconductor device test method according to the present invention, the comparison means is composed of a comparator for comparing and verifying the test data input from the outside and the expected value data passing through the inside of the chip at an actual operating speed. It is a thing.

【0022】この発明に係る半導体装置のテスト方式
は、データ調整手段が、チップ内部を経由するテストデ
ータを遅延させることにより、期待値データとする遅延
回路により構成されるものである。
In the semiconductor device testing method according to the present invention, the data adjusting means is constituted by a delay circuit which delays the test data passing through the inside of the chip to obtain expected value data.

【0023】この発明に係る半導体装置は、データ入力
ピンより外部データを入力する被測定回路と、ストロー
ブピンより所定の規格にセットされたストローブ信号を
印加し、被測定回路からの出力データと、外部クロック
ピンより入力されるクロックとを捕獲するデータラッチ
手段と、このデータラッチ手段にラッチされたデータを
引き出すレジスタ手段とを備え、データ入力ピンからデ
ータラッチ手段までの配線と、被測定回路からデータラ
ッチ手段までの配線と、外部クロックピンから被測定回
路までの配線とが等長とするものである。
In the semiconductor device according to the present invention, the circuit under test for inputting external data from the data input pin, the strobe signal set to a predetermined standard by the strobe pin, and the output data from the circuit under test are applied. The data latch means for capturing the clock input from the external clock pin and the register means for extracting the data latched by the data latch means are provided, and the wiring from the data input pin to the data latch means and the circuit under test are provided. The wiring to the data latch means and the wiring from the external clock pin to the circuit under test have the same length.

【0024】この発明に係る半導体装置は、データラッ
チ手段が複数個のストローブ用フリップフロップを備
え、ストローブピンから上記複数個のストローブ用フリ
ップフロップまでのそれぞれの配線が等長とするもので
ある。
In the semiconductor device according to the present invention, the data latch means includes a plurality of strobe flip-flops, and the wirings from the strobe pin to the plurality of strobe flip-flops are of equal length.

【0025】この発明に係る半導体装置は、被測定回路
が内部フリップフロップから成り、その出力から対応す
るストローブ用フリップフロップの入力までの配線と、
内部フリップフロップのデータ入力から対応するストロ
ーブ用フリップフロップのデータ入力までの配線とが、
それぞれ外部クロックピンから内部フリップフロップま
での配線と等長とするものである。
In the semiconductor device according to the present invention, the circuit under test comprises an internal flip-flop, and wiring from the output to the input of the corresponding strobe flip-flop,
The wiring from the data input of the internal flip-flop to the data input of the corresponding strobe flip-flop,
Each of them has the same length as the wiring from the external clock pin to the internal flip-flop.

【0026】この発明に係る半導体装置は、ストローブ
用フリップフロップの出力にスキャン用シフトレジスタ
を接続しJTAGピンにより当該出力をチップ外部に引
き出すものである。
In the semiconductor device according to the present invention, a scan shift register is connected to the output of the strobe flip-flop, and the output is extracted outside the chip by the JTAG pin.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態1.図1はこの発明の実施の形態1による半
導体装置のテスト方式を示すブロック図であり、図にお
いて、5はLSI(半導体装置)、8は比較データとし
ての期待値データ、9は疑似ランダムデータによるテス
トデータ、10はテストデータ生成器(テストデータ生
成手段、出力部)、11はクロック、12は出力バッフ
ァ(出力部)、13は外部配線、14は入力バッファ
(入力部)、15は比較器(比較手段)、16は遅延回
路(データ調整手段)、17はテストアクセスポート
(TAP)、18はPLL、19はJTAGピン、20
はテストクロック入力(TCK)用のTCKピン、21
はテストモード選択入力(TMS)用のTMSピン、2
2はシリアルデータ入力(TDI)用のTDIピン、5
1はシリアルデータ出力(TDO)用のTDOピン、7
0は外部クロック、40,45はそれぞれSETピンと
RESETピンである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below. Embodiment 1. 1 is a block diagram showing a test method for a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, 5 is an LSI (semiconductor device), 8 is expected value data as comparison data, and 9 is pseudo random data. Test data, 10 is a test data generator (test data generating means, output unit), 11 is a clock, 12 is an output buffer (output unit), 13 is external wiring, 14 is an input buffer (input unit), and 15 is a comparator. (Comparing means), 16 a delay circuit (data adjusting means), 17 a test access port (TAP), 18 PLL, 19 JTAG pin, 20
Is the TCK pin for the test clock input (TCK), 21
Is TMS pin for test mode select input (TMS), 2
2 is a TDI pin for serial data input (TDI), 5
1 is a TDO pin for serial data output (TDO), 7
Reference numeral 0 is an external clock, and 40 and 45 are a SET pin and a RESET pin, respectively.

【0028】なお、テストデータ生成器10の回路構成
は複数のフリップフロップ(F/F)で構成したLFS
Rであり、このLFSRに対し外部クロック70をPL
L18を経由させて得られるクロック11を印加すれ
ば、テストデータとして見込める疑似ランダムデータを
発生することができる。また、このクロック11がシス
テム動作と同じ速度のクロックで与えることができれ
ば、当該疑似ランダムデータも実動作速度のテストデー
タ9として与えることができる。このテストデータ9は
出力バッファ12に伝達され、出力バッファ12から実
動作速度で出力される。この出力バッファ12から出力
されたテストデータは外部配線13を経由して接続され
た入力バッファ14に伝達されていく。
The circuit structure of the test data generator 10 is an LFS composed of a plurality of flip-flops (F / F).
R, and the external clock 70 is PL to this LFSR
By applying the clock 11 obtained via L18, pseudo random data expected as test data can be generated. If the clock 11 can be given at the same speed as the system operation, the pseudo random data can also be given as the test data 9 at the actual operation speed. The test data 9 is transmitted to the output buffer 12, and is output from the output buffer 12 at the actual operating speed. The test data output from the output buffer 12 is transmitted to the input buffer 14 connected via the external wiring 13.

【0029】そして、入力バッファ14に到達したテス
トデータはその内部に含まれるF/Fにおいて取り込ま
れ、このF/Fの後段に設けた比較器15において、テ
ストデータ生成器10のLFSRから出力されたテスト
データ9と同じ期待値データ8とでLSI5内部で比較
・検証が実施される。この時、外部を伝達してきたテス
トデータ9とLSI5内部を経由してくる比較データす
なわち期待値データ8とに時間差が生じるため、遅延回
路16がこれを調節し、期待値データ8のタイミングを
遅延する。
Then, the test data that has reached the input buffer 14 is taken in by the F / F contained therein, and is output from the LFSR of the test data generator 10 in the comparator 15 provided at the subsequent stage of this F / F. The test data 9 and the same expected value data 8 are compared and verified in the LSI 5. At this time, there is a time difference between the test data 9 transmitted from the outside and the comparison data, that is, the expected value data 8 passing through the inside of the LSI 5, so the delay circuit 16 adjusts this and delays the timing of the expected value data 8. To do.

【0030】なお、テストデータ生成器10に内蔵され
たLFSRの起動、比較器15の起動、遅延回路16の
遅延量設定、テストデータ9のSETピン40およびR
ESETピン45に対するセット、リセット信号の印
加、PLL18のクロック11の印加は、JTAGピン
19を構成する信号ピンのTCKピン20、TMSピン
21,TDIピン22よりJTAG制御により行う。な
お、JTAGは、1990年にIEEE Std 11
49.1として標準化されている。
The activation of the LFSR incorporated in the test data generator 10, the activation of the comparator 15, the delay amount setting of the delay circuit 16, the SET pin 40 and R of the test data 9 are set.
The set and reset signals are applied to the ESET pin 45, and the clock 11 of the PLL 18 is applied by JTAG control from the TCK pin 20, the TMS pin 21, and the TDI pin 22 of the signal pins forming the JTAG pin 19. It should be noted that JTAG was introduced in IEEE Std 11 in 1990.
It is standardized as 49.1.

【0031】次に、図2は図1の半導体装置のテスト方
式のブロック図を1ピン単位でのデータの流れ(接続)
を示したものである。図において、30はフリップフロ
ップ(F/F)、60はユーザロジックであり、上記と
同一符号は同一または相当部分を示すものであり、その
説明は重複するため省略し、以下同様とする。
Next, FIG. 2 is a block diagram of the test system of the semiconductor device of FIG.
Is shown. In the figure, reference numeral 30 is a flip-flop (F / F), and 60 is a user logic. The same reference numerals as those used above denote the same or corresponding portions, and the description thereof will be omitted to avoid duplication and the same applies hereinafter.

【0032】図2の動作説明をしておく。まず、テスト
データ生成器10のLFSRにより発生し、疑似ランダ
ムデータの期待値データ8は出力バッファ12から出力
され、外部配線13を伝播し入力バッファ14に伝達す
る。チップ外部より伝達してきたテストデータ9はF/
F30で一旦捕獲され、当該LFSRから生成された疑
似ランダムデータと全く同じデータである期待値データ
8と比較される。
The operation of FIG. 2 will be described. First, the expected value data 8 of pseudo random data generated by the LFSR of the test data generator 10 is output from the output buffer 12, propagates through the external wiring 13, and is transmitted to the input buffer 14. The test data 9 transmitted from outside the chip is F /
It is once captured in F30 and compared with expected value data 8 which is exactly the same data as the pseudo random data generated from the LFSR.

【0033】次に、図3は比較器15の構成を示す回路
図であり、図において、I1,I2はインバータ、40
はSETピン、42はDINピン、43はEXPピン、
44はCLKピン、45はRESETピン、41はフリ
ップフロップ(F/F)、46はORゲート、47はN
ANDゲート、49はNORゲートであり、48,50
はそれぞれ、F/F41の出力QCと出力Qに対応す
る。このように、比較器15はF/Fが1個、インバー
タが2個、ORゲートが2個、NANDゲートが1個、
NORゲートが1個で構成している。
Next, FIG. 3 is a circuit diagram showing the configuration of the comparator 15. In the figure, I1 and I2 are inverters, and 40
Is a SET pin, 42 is a DIN pin, 43 is an EXP pin,
44 is a CLK pin, 45 is a RESET pin, 41 is a flip-flop (F / F), 46 is an OR gate, and 47 is N.
AND gate, 49 is a NOR gate, 48, 50
Respectively correspond to the output QC and the output Q of the F / F 41. Thus, the comparator 15 has one F / F, two inverters, two OR gates, one NAND gate,
It consists of one NOR gate.

【0034】ここで、各端子の意味を記しておく。ま
ず、SETピン40の信号はF/F41に“1”をセッ
トし、DINピン42には入力バッファ14からの入力
データが入力され、EXPピン43にはテストデータ生
成器10のLFSRから生成する期待値データ8が入力
される。また、CLKピン44には、LSI5内部のP
LL18から送られてくるクロック11が印加され、R
ESETピン45の信号はF/F41に“0”をセット
する。
The meaning of each terminal will be described below. First, the signal from the SET pin 40 is set to “1” in the F / F 41, the input data from the input buffer 14 is input into the DIN pin 42, and the EXP pin 43 is generated from the LFSR of the test data generator 10. The expected value data 8 is input. Further, the CLK pin 44 has a P
The clock 11 sent from the LL 18 is applied, and R
The signal of the ESET pin 45 sets "0" to the F / F41.

【0035】次に動作について説明する。まず、SET
ピン40の信号によりF/F41に“1”をセットす
る。入力バッファ14が受けたチップ外部を伝播したテ
ストデータ9がDINピン42に印加されると同時に期
待値データ8がEXPピン43に印加される。テストデ
ータ9と期待値データ8が同じデータであれば、2個の
ORゲート46からの出力は共に“1”である。する
と、NANDゲート47の出力は“0”となる。ここ
で、F/F41の出力QC48は“0”であるためNO
Rゲート49の出力は“1”となる。したがって、同じ
データであれば、F/F41のQ50は“1”のままで
ある。
Next, the operation will be described. First, SET
"1" is set in the F / F 41 by the signal of the pin 40. The test data 9 received by the input buffer 14 and propagated outside the chip is applied to the DIN pin 42, and at the same time, the expected value data 8 is applied to the EXP pin 43. If the test data 9 and the expected value data 8 are the same data, the outputs from the two OR gates 46 are both "1". Then, the output of the NAND gate 47 becomes "0". Here, since the output QC48 of the F / F 41 is "0", NO
The output of the R gate 49 becomes "1". Therefore, if the data is the same, Q50 of the F / F 41 remains "1".

【0036】もし、DINピン42とEXPピン43が
異なるデータである場合、2つのORゲート46の出力
のどちらかが“0”となり、したがって、NANDゲー
ト47の出力が“1”となる。そうすると、出力QC4
8の“0”とNANDゲート47の“1”によりNOR
ゲート49の出力は“0”となる。この結果、F/F4
1のデータ“1”が“0”に書き換えられ、この後、出
力QC48は“1”の出力となりNORゲート49に入
力される。
If the DIN pin 42 and the EXP pin 43 have different data, one of the outputs of the two OR gates 46 becomes "0", and therefore the output of the NAND gate 47 becomes "1". Then, output QC4
NOR by 8 "0" and NAND gate 47 "1"
The output of the gate 49 becomes "0". As a result, F / F4
The data "1" of 1 is rewritten to "0", and then the output QC48 becomes an output of "1" and is input to the NOR gate 49.

【0037】ここで、NORゲート49に“1”が入力
されているため、NORゲート49の出力は常に“0”
となり、“1”に書き換えられることはない。従って、
一度チップ外部からのテストデータ9と内部の期待値デ
ータ8の比較において不一致が発生するとF/F41の
出力Q50値は“1”から“0”に書き換えられるの
で、これを用いて、I/Oインタフェースの実動作速度
でのファンクションテストを行うことができる。
Since "1" is input to the NOR gate 49, the output of the NOR gate 49 is always "0".
Therefore, it is never rewritten to "1". Therefore,
Once a mismatch occurs between the test data 9 from the outside of the chip and the expected value data 8 inside, the output Q50 value of the F / F 41 is rewritten from "1" to "0". Function tests can be performed at the actual operating speed of the interface.

【0038】LFSRからの一連のテストデータ9の出
力完了後、比較器15のF/F41の内容をJTAGピ
ン19を構成するTDOピン51よりスキャンシフトア
ウトして、データが“1”であれば、テスト結果はPA
SSと判定される。もし“0”が存在しておれば、不良
品となる。
After the output of a series of test data 9 from the LFSR is completed, the contents of the F / F 41 of the comparator 15 are scan-shifted out from the TDO pin 51 constituting the JTAG pin 19, and if the data is "1". , Test result is PA
Judged as SS. If "0" exists, it is a defective product.

【0039】また、図示はしないが、例えば、出力部
と、入力部、期待値格納部、および比較部の各部には、
クロック11の両エッジ対応のため、F/Fがそれぞれ
12個用意され、各データの立ち上がりエッジ、立ち下
がりエッジ対応にそれぞれ1個ずつF/Fが設けられ、
1ビットに対して2個のF/Fが用意される場合の6ビ
ットのテスト回路構成について、図1の構成を基礎にし
て、以下考えることにする。
Although not shown, for example, the output unit, the input unit, the expected value storage unit, and the comparison unit are, for example,
Twelve F / Fs are prepared to support both edges of the clock 11, and one F / F is provided for each rising edge and falling edge of each data.
A 6-bit test circuit configuration when two F / Fs are prepared for 1 bit will be considered below based on the configuration of FIG.

【0040】先ず、期待値データ8は遅延回路16を介
して期待値格納部の期待値レジスタにラッチされ、外部
配線13を伝播してきたテストデータ9と期待値データ
8が比較器15で比較される。6ビットのLFSRのた
め26 −1回(63回)のクロックで疑似ランダムデー
タのデータ系列が一巡する。回数の設定は外部より任意
にできるようにしておけば、長大なクロックサイクルを
印加する必要もなくなる。例えば、カウンタにストップ
回数を設定し、比較器15を制御することによりストッ
プサイクルを任意に設定することができる。
First, the expected value data 8 is latched in the expected value register of the expected value storage section via the delay circuit 16, and the test data 9 propagated through the external wiring 13 and the expected value data 8 are compared by the comparator 15. It Because of the 6-bit LFSR, the data sequence of the pseudo random data makes one cycle with a clock of 2 6 -1 times (63 times). If the number of times can be set externally, it is not necessary to apply a long clock cycle. For example, the stop cycle can be arbitrarily set by setting the number of stops in the counter and controlling the comparator 15.

【0041】このテスト回路を用いると、外部のLSI
テスタとはJTAGピン19の4ピン(TCKピン2
0、TMSピン21、TDIピン22、TDOピン5
1)とPLL18に印加する外部クロック70、そして
SETピン40,RESETピン45などの信号を接続
すれば足り、I/Oインタフェースほどの高速な信号を
用いる必要がなくなる。したがって、低速テスタかつ小
ピンのテストにおいても、高速・多ピンのLSIのテス
トを安価なテストコストで、しかもテスト品質を落とす
こと無く、実施することが可能となる。
When this test circuit is used, an external LSI
What is a tester? JTAG pin 19 4 pin (TCK pin 2
0, TMS pin 21, TDI pin 22, TDO pin 5
It is sufficient to connect 1) to the external clock 70 applied to the PLL 18, and signals such as the SET pin 40 and the RESET pin 45, and it is not necessary to use a signal as fast as the I / O interface. Therefore, even in the low-speed tester and the small pin test, the high-speed / multi-pin LSI test can be performed at a low test cost without lowering the test quality.

【0042】一方、上記の構成では、テストデータ生成
器10の1つのLFSRから疑似ランダムデータの生成
と期待値の生成を行っているため出力部と入力部に配線
する必要があり、ランダムロジック部に配線が縦横に走
ることになる。このようなロジック部に縦横する配線を
低減する1つの手段として、図4に示される回路構成が
図1の変形例として考えられる。図において、10a,
10bはそれぞれLFSRから成る第1および第2のテ
ストデータ生成器(第1、第2のデータ生成手段)、1
61は遅延回路(データ調整手段)である。なお、他の
構成要素は図1と同様であり、相違点としては、期待値
データ8として使用するテストデータの生成を入力部に
設置した第1のテストデータ生成器10bが担うことだ
けである。このように、図4のテスト方式では、第1の
テストデータ生成器10bを構成する回路が増えるが、
LSI5内部のロジック部を縦横する配線を省略できる
利点がある。
On the other hand, in the above configuration, since the pseudo random data and the expected value are generated from one LFSR of the test data generator 10, it is necessary to connect the output section and the input section, and the random logic section is required. The wiring will run vertically and horizontally. The circuit configuration shown in FIG. 4 can be considered as a modification of FIG. 1 as one means for reducing the number of wirings vertically and horizontally in such a logic section. In the figure, 10a,
Reference numeral 10b denotes first and second test data generators (first and second data generating means), each of which is an LFSR.
Reference numeral 61 is a delay circuit (data adjusting means). The other components are the same as those in FIG. 1, and the only difference is that the first test data generator 10b installed in the input section is responsible for generating the test data used as the expected value data 8. . As described above, in the test method of FIG. 4, the number of circuits forming the first test data generator 10b increases,
There is an advantage in that the wiring that extends vertically and horizontally in the logic part inside the LSI 5 can be omitted.

【0043】以上のように、この実施の形態1によれ
ば、LSI5において、LFSRを有するテストデータ
生成器10と、比較データ(期待値データ)を生成する
遅延回路16,161と、逐次比較機能を有する比較器
15を備え、出力バッファ12の出力ピンと入力バッフ
ァ14の入力ピンを外部配線により接続できるように構
成し、テストデータ生成器10や比較器15に入力する
内部クロックにシステム動作と同じ速度のものを与え、
これら回路素子を実動作させれば、テスト方式全体が実
動作速度にて動作し、LSI5のI/Oインタフェース
の実動作テストが実現でき、高性能なLSIテストは不
要となるので、テストコストを削減できるという効果が
得られる。
As described above, according to the first embodiment, in the LSI 5, the test data generator 10 having the LFSR, the delay circuits 16 and 161 for generating the comparison data (expected value data), and the successive approximation function. Is provided so that the output pin of the output buffer 12 and the input pin of the input buffer 14 can be connected by external wiring, and the internal clock input to the test data generator 10 and the comparator 15 is the same as the system operation. Give things of speed,
When these circuit elements are actually operated, the entire test system operates at the actual operation speed, the actual operation test of the I / O interface of the LSI 5 can be realized, and the high-performance LSI test is not required, so the test cost can be reduced. The effect of reduction can be obtained.

【0044】また、LFSR10a,10bをそれぞれ
出力部と入力部に設けることにより、LSI5内部に含
まれるロジック部を縦横する配線構成を省略できるとい
う効果が得られる。
Further, by providing the LFSRs 10a and 10b in the output section and the input section respectively, it is possible to obtain an effect that the wiring configuration for arranging the logic section included in the LSI 5 vertically and horizontally can be omitted.

【0045】なお、この実施の形態では、テストデータ
生成器が1個ないし2個の場合について述べたが、3個
以上の複数個からなっていてもよく、データ調整手段と
して比較タイミングを調子する遅延回路16,161が
例示されるが、構成次第では遅延以外のデータ調整にも
適用できる。
In this embodiment, the case in which the number of test data generators is one or two has been described, but the number of test data generators may be three or more, and the comparison timing is adjusted as the data adjusting means. Although the delay circuits 16 and 161 are exemplified, they can be applied to data adjustment other than delay depending on the configuration.

【0046】実施の形態2.上記の実施の形態1では、
I/Oインタフェースの実動作速度でのファンクション
動作テスト回路について述べたものであるが、高速I/
Oインタフェースでもう一つの重要な要素として、セッ
トアップ、ホールドのタイミング検証がある。
Embodiment 2. In the first embodiment described above,
This is a description of the function operation test circuit at the actual operation speed of the I / O interface.
Another important element in the O interface is setup and hold timing verification.

【0047】図5はこの発明の実施の形態2による半導
体装置を示すブロック図であり、図において、18はP
LL、80は内部フリップフロップ、81a〜81dは
ストローブ用フリップフロップ(データラッチ手段)、
82はストローブ(strobe)ピン、83はTDO
ピン、85は差動アンプ、86はスキャンフリップフロ
ップ、87は遅延回路(データ調整手段)、60はユー
ザロジック、N1〜N4はノードである。なお、86は
スキャン用シフトレジスタを構成するスキャンフリップ
フロップ(SFF)、83はJTAGピンを構成し選択
されたレジスタの内容が、TCKの例えば立ち下がりエ
ッジで外部出力するものである。
FIG. 5 is a block diagram showing a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention, in which 18 is P.
LL, 80 are internal flip-flops, 81a to 81d are strobe flip-flops (data latch means),
82 is a strobe pin and 83 is a TDO
Pins, 85 is a differential amplifier, 86 is a scan flip-flop, 87 is a delay circuit (data adjusting means), 60 is a user logic, and N1 to N4 are nodes. Reference numeral 86 is a scan flip-flop (SFF) that constitutes a scan shift register, and 83 is a JTAG pin that outputs the contents of the selected register to the outside, for example, at the falling edge of TCK.

【0048】図5の回路構成は、LSI5の内部フリッ
プフロップ80のセットアップ、ホールドタイミングが
規格通りにできているかどうかを検証するため、入力デ
ータ(DATA)ピンと外部クロックピンにストローブ
用フリップフロップ81a〜81dがそれぞれ接続さ
れ、遅延回路87の後に位置するノードN1から内部フ
リップフロップ80の入力Tまでの配線の長さL1と、
内部フリップフロップ80の出力QからノードN4を経
由してストローブ用フリップフロップ81aの入力Dま
での配線の長さL2と、内部フリップフロップ80の入
力DからノードN3を経由してストローブ用フリップフ
ロップ81bの入力Dまでの配線の長さL3と、DAT
AピンからノードN2を経由してストローブ用フリップ
フロップ81cの入力Dまでの配線の長さL4と、ノー
ドN1からストローブ用フリップフロップ81dの入力
Dまでの配線の長さL5とが等長であるように構成さ
れ、しかも、ストローブピン82からストローブ用フリ
ップフロップ81a〜81dのそれぞれの入力Dに至る
配線の長さが全て等しく構成される点が特徴である。
In the circuit configuration of FIG. 5, in order to verify whether the setup and hold timings of the internal flip-flop 80 of the LSI 5 are in accordance with the standard, the strobe flip-flops 81a to 81a ... 81d are connected to each other, and the length L1 of the wiring from the node N1 located after the delay circuit 87 to the input T of the internal flip-flop 80,
The wiring length L2 from the output Q of the internal flip-flop 80 to the input D of the strobe flip-flop 81a via the node N4 and the strobe flip-flop 81b from the input D of the internal flip-flop 80 to the node N3. Wiring length L3 up to input D of
The length L4 of the wiring from the A pin via the node N2 to the input D of the strobe flip-flop 81c and the length L5 of the wiring from the node N1 to the input D of the strobe flip-flop 81d are equal. It is characterized in that the lengths of wirings from the strobe pin 82 to the respective inputs D of the strobe flip-flops 81a to 81d are all equal.

【0049】なお、ストローブとは、一般に、LSI出
力信号を比較し、良否を判定する際の時間位置を規定す
る値をいい、実際のテストではタイミング生成器より信
号が出力され、上記規定値でLSIの出力信号のレベル
を判定し、結果が抽出されるものである。
The strobe is generally a value that defines the time position when the LSI output signals are compared and the quality is judged. In the actual test, the signal is output from the timing generator, and the above specified value is used. The result is extracted by judging the level of the output signal of the LSI.

【0050】次に動作について説明する。外部からスト
ローブピン82を介してストローブ信号を印加して、D
ATAピンと外部クロックピンよりそれぞれ入力される
データとクロックを捕獲する。なお、捕獲する時にはス
トローブ信号を規格にセットし、データがラッチできて
いれば良品、ラッチできていなければ不良品と判断す
る。判定はラッチされたデータをJTAG制御によりT
DOピン83からスキャンアウトして、外部検査機によ
り判定する。
Next, the operation will be described. A strobe signal is applied from the outside via the strobe pin 82, and D
It captures the data and clock input from the ATA pin and the external clock pin, respectively. When capturing, the strobe signal is set to the standard, and if the data can be latched, it is determined as a good product, and if not, it is determined as a defective product. Judgment is made by using the latched data for T judgment.
Scan out from the DO pin 83 and make a determination by an external inspection machine.

【0051】この時、DATAピンに印加するテストデ
ータは実施の形態1のテスト回路により生成することも
可能であり、また高速テスタを用いてもよい。また、低
速で動作可能なI/Oインタフェースであれば、タイミ
ングの相関だけをみることができるため、低速テスタで
も構わない。
At this time, the test data applied to the DATA pin can be generated by the test circuit of the first embodiment, or a high speed tester may be used. Further, if the I / O interface is capable of operating at a low speed, only a timing correlation can be seen, so a low speed tester may be used.

【0052】以上のように、この実施の形態2によれ
ば、配線の長さL1〜L5が等長であり、ストローブピ
ン82からストローブ用フリップフロップ81a〜81
dのそれぞれの入力に至る距離が等しく構成されストロ
ーブ機能が共通であるため、スキューが存在せず、高速
I/Oインタフェースのタイミング検証が可能となり、
これにより、高性能なタイミング精度を持つテスタが不
要となるという効果が得られる。
As described above, according to the second embodiment, the wiring lengths L1 to L5 are equal, and the strobe pin 82 to the strobe flip-flops 81a to 81 are used.
Since the distances to the respective inputs of d are made equal and the strobe function is common, there is no skew and the timing verification of the high speed I / O interface becomes possible,
As a result, the effect that a tester having high-performance timing accuracy is unnecessary is obtained.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、テス
トデータを生成するテストデータ生成手段と、チップ内
部を経由するテストデータを期待値データとするために
時間差を調整するデータ調整手段と、入力部に設けられ
チップ外部を伝搬してきたテストデータと期待値データ
とを比較・検証する比較手段とを備えるように構成した
ので、入力部と出力部を外部配線で接続し、テストデー
タ生成手段や比較手段に対してシステム動作と同じ速度
の内部クロックを印加し、この外部配線を介して伝搬さ
れてくるテストデータと時間差の調整がなされた内部の
期待値データとを比較手段が比較・検証することによ
り、半導体装置のI/Oインタフェースの実動作テスト
を実現できるので、高額なLSIテスタが不要となりテ
ストコストを削減できる効果がある。
As described above, according to the present invention, the test data generating means for generating the test data and the data adjusting means for adjusting the time difference so that the test data passing through the inside of the chip are the expected value data. Since the input unit and the output unit are connected by the external wiring, the test data is generated by connecting the input unit and the output unit by external wiring, which is configured to include the comparing unit for comparing and verifying the test data propagated outside the chip and the expected value data. An internal clock having the same speed as the system operation is applied to the comparison means and the comparison means, and the comparison means compares the test data propagated through the external wiring with the internal expected value data adjusted for the time difference. By verifying, the actual operation test of the I / O interface of the semiconductor device can be realized, so an expensive LSI tester becomes unnecessary and the test cost can be reduced. There is that effect.

【0054】この発明によれば、テストデータ生成手段
が出力部に設けられ、これよりテストデータを出力する
とともに、このテストデータをデータ調整手段を経由さ
せ期待値データとしこれを比較手段に送信するように構
成したので、同様に、入力部と出力部を外部配線で接続
し、システム動作と同速度の内部クロックをテストデー
タ生成手段、比較手段に印加することにより、半導体装
置のI/Oインタフェースの実動作テストを実現できる
ので、高額なLSIテスタが不要となりテストコストを
削減できる効果がある。
According to the present invention, the test data generating means is provided in the output section, and the test data is outputted from this, and this test data is made to be the expected value data via the data adjusting means and transmitted to the comparing means. With this configuration, similarly, the input section and the output section are connected by the external wiring, and the internal clock having the same speed as the system operation is applied to the test data generating means and the comparing means, whereby the I / O interface of the semiconductor device is obtained. Since an actual operation test can be realized, an expensive LSI tester is not required, and the test cost can be reduced.

【0055】この発明によれば、テストデータ生成手段
が、出力部に設けられチップ外部を伝搬するテストデー
タを生成する第1のテストデータ生成手段と、入力部に
設けられデータ調整手段を経由して期待値データとなる
テストデータを生成する第2のテストデータ生成手段と
から成るように構成したので、上記と同様な外部配線の
接続と、システム動作と同速度の内部クロックの印加に
より、半導体装置のI/Oインタフェースの実動作テス
トを実現できるだけでなく、半導体装置のロジック部な
どの内部回路を縦横する配線を低減することができる効
果がある。
According to the present invention, the test data generating means passes through the first test data generating means provided in the output section for generating the test data propagating outside the chip and the data adjusting means provided in the input section. The second test data generating means for generating the test data serving as the expected value data is used, and therefore, the semiconductor is connected by the same external wiring connection as described above and the application of the internal clock having the same speed as the system operation. Not only can the actual operation test of the I / O interface of the device be realized, but also the wiring that runs vertically and horizontally in the internal circuit such as the logic portion of the semiconductor device can be reduced.

【0056】この発明によれば、テストデータ生成手段
が、実動作速度で動作するLFSRを備えるように構成
したので、テストデータは実動作速度の疑似ランダムデ
ータとして得られる効果がある。
According to the present invention, the test data generating means comprises the LFSR which operates at the actual operating speed, so that the test data can be obtained as pseudo random data at the actual operating speed.

【0057】この発明によれば、比較手段が、外部から
入力してきたテストデータと、チップ内部を経由する期
待値データとを実動作速度で比較・検証する比較器によ
り構成されるので、半導体装置のI/Oインタフェース
に対する実動作テストが実現できる効果がある。
According to the present invention, since the comparison means is composed of the comparator for comparing and verifying the test data input from the outside and the expected value data passing through the inside of the chip at the actual operation speed, the semiconductor device There is an effect that an actual operation test for the I / O interface can be realized.

【0058】この発明によれば、データ調整手段が、チ
ップ内部を経由するテストデータを遅延させることによ
り、期待値データとする遅延回路により構成されるの
で、期待値データの時間差の調整がテストデータのタイ
ミング遅延により実現できる効果がある。
According to the present invention, the data adjusting means is constituted by the delay circuit which makes the expected value data by delaying the test data passing through the inside of the chip, so that the adjustment of the time difference of the expected value data is performed by the test data. There is an effect that can be realized by the timing delay of.

【0059】この発明によれば、テストデータを生成す
るテストデータ生成手段と、チップ内部を経由するテス
トデータを期待値データとするために時間差を調整する
データ調整手段と、入力部に設けられチップ外部を伝搬
してきたテストデータと期待値データとを比較・検証す
る比較手段とを備えた半導体装置において、テストデー
タ生成手段の出力と比較手段の入力とを接続する外部配
線を備えるように構成したので、テストデータ生成手段
や比較手段に対してシステム動作と同じ速度の内部クロ
ックを印加し、外部配線を介して伝搬されてくるテスト
データと時間差の調整がなされた内部の期待値データと
を比較手段が比較・検証することにより、半導体装置の
I/Oインタフェースの実動作テストを実現できるの
で、高額なLSIテスタが不要となりテストコストを削
減できる効果がある。
According to the present invention, the test data generating means for generating the test data, the data adjusting means for adjusting the time difference for making the test data passing through the inside of the chip into the expected value data, and the chip provided in the input section are provided. In a semiconductor device having a comparing means for comparing and verifying test data propagated outside and expected value data, it is configured to have an external wiring for connecting an output of the test data generating means and an input of the comparing means. Therefore, an internal clock of the same speed as the system operation is applied to the test data generation means and comparison means, and the test data propagated via the external wiring is compared with the internal expected value data adjusted for the time difference. The actual operation test of the I / O interface of the semiconductor device can be realized by comparing and verifying the means. Others there is an effect that can reduce the test cost becomes unnecessary.

【0060】この発明によれば、テストデータ生成手段
が出力部に設けられ、これよりテストデータを出力する
とともに、このテストデータをデータ調整手段を経由さ
せ期待値データとしこれを比較手段に送信するように構
成したので、同様に、システム動作と同速度の内部クロ
ックをテストデータ生成手段、比較手段に印加すること
により、半導体装置のI/Oインタフェースの実動作テ
ストを実現できるので、高額なLSIテスタが不要とな
りテストコストを削減できる効果がある。
According to the present invention, the test data generating means is provided in the output section, and the test data is outputted from this, and the test data is passed through the data adjusting means to be expected value data and transmitted to the comparing means. With this configuration, similarly, by applying an internal clock having the same speed as the system operation to the test data generating means and the comparing means, an actual operation test of the I / O interface of the semiconductor device can be realized. This eliminates the need for a tester and has the effect of reducing test costs.

【0061】この発明によれば、テストデータ生成手段
が、出力部に設けられチップ外部を伝搬するテストデー
タを生成する第1のテストデータ生成手段と、入力部に
設けられデータ調整手段を経由して期待値データとなる
テストデータを生成する第2のテストデータ生成手段と
から成るように構成したので、同様に、システム動作と
同速度の内部クロックの印加により、半導体装置のI/
Oインタフェースの実動作テストを実現できるだけでな
く、半導体装置のロジック部などの内部回路を縦横する
配線を低減することができる効果がある。
According to the present invention, the test data generating means includes the first test data generating means provided in the output section for generating the test data propagating outside the chip and the data adjusting means provided in the input section. The second test data generating means for generating the test data serving as the expected value data is used. Therefore, similarly, by applying the internal clock having the same speed as the system operation, the I / O of the semiconductor device is changed.
Not only can the actual operation test of the O interface be realized, but also the number of wirings vertically and horizontally in the internal circuit such as the logic portion of the semiconductor device can be reduced.

【0062】この発明によれば、半導体装置は複数個か
ら成り、それぞれの半導体装置の出力ピンおよび入力ピ
ン同士を外部配線により接続するように構成したので、
多数の半導体装置のI/Oインタフェースの実動作テス
トを同時に実現でき、テスト時間の削減をもたらす効果
がある。
According to the present invention, the semiconductor device comprises a plurality of semiconductor devices, and the output pins and the input pins of the respective semiconductor devices are connected by the external wiring.
An actual operation test of I / O interfaces of a large number of semiconductor devices can be realized at the same time, which has an effect of reducing the test time.

【0063】この発明によれば、テストデータ生成手段
が、実動作速度で動作するLFSRを備えるように構成
したので、テストデータは実動作速度の疑似ランダムデ
ータとして得られ、実動作テストを可能にする効果があ
る。
According to the present invention, the test data generating means comprises the LFSR which operates at the actual operating speed, so that the test data is obtained as the pseudo random data of the actual operating speed and enables the actual operating test. Has the effect of

【0064】この発明によれば、比較手段が、外部から
入力してきたテストデータとチップ内部を経由する期待
値データとを実動作速度で比較・検証する比較器により
構成されるので、半導体装置のI/Oインタフェースに
対する実動作テストが実現できる効果がある。
According to the present invention, since the comparison means is composed of a comparator for comparing and verifying the test data input from the outside and the expected value data passing through the inside of the chip at the actual operating speed, There is an effect that an actual operation test for the I / O interface can be realized.

【0065】この発明によれば、データ調整手段が、チ
ップ内部を経由するテストデータを遅延させることによ
り、期待値データとする遅延回路により構成されるの
で、期待値データの時間差調整はテストデータのタイミ
ング遅延により実現できる効果がある。
According to the present invention, the data adjusting means is constituted by the delay circuit which makes the expected value data by delaying the test data passing through the inside of the chip. There is an effect that can be realized by the timing delay.

【0066】この発明によれば、データ入力ピンより外
部データを入力する被測定回路と、ストローブピンより
所定の規格にセットされたストローブ信号を印加し、被
測定回路からの出力データと、外部クロックピンより入
力されるクロックとを捕獲するデータラッチ手段と、こ
のデータラッチ手段にラッチされたデータを引き出すレ
ジスタ手段とを備え、データ入力ピンからデータラッチ
手段までの配線と、被測定回路からデータラッチ手段ま
での配線と、外部クロックピンから被測定回路までの配
線とが等長とするように構成したので、データラッチ手
段を構成する回路素子に対して同一タイミングでストロ
ーブ信号を入力することにより、スキューが存在せず、
被測定回路のタイミング検証が実施でき、これにより高
性能なタイミング精度のLSIテスタを不要とし、テス
トコストを削減できるという効果がある。
According to the present invention, the circuit to be measured for inputting external data from the data input pin and the strobe signal set to a predetermined standard are applied from the strobe pin to output data from the circuit to be measured and the external clock. The data latch means for capturing the clock input from the pin and the register means for extracting the data latched by the data latch means are provided, and the wiring from the data input pin to the data latch means and the data latch from the circuit under test are provided. Since the wiring up to the means and the wiring from the external clock pin to the circuit under test are configured to have the same length, by inputting the strobe signal at the same timing to the circuit elements forming the data latch means, There is no skew,
Timing verification of the circuit under test can be performed, which eliminates the need for an LSI tester with high-performance timing accuracy, and has the effect of reducing test costs.

【0067】この発明によれば、データラッチ手段が複
数個のストローブ用フリップフロップを備え、ストロー
ブピンから上記複数個のストローブ用フリップフロップ
までのそれぞれの配線が等長とするように構成したの
で、ストローブ用フリップフロップのそれぞれに同一タ
イミングでストローブ信号を入力することにより、スキ
ューが存在せず、被測定回路のタイミングテストが実施
できるという効果がある。
According to the present invention, the data latch means is provided with a plurality of strobe flip-flops, and the wirings from the strobe pin to the plurality of strobe flip-flops are of equal length. By inputting the strobe signal to each of the strobe flip-flops at the same timing, there is an effect that there is no skew and the timing test of the circuit under test can be performed.

【0068】この発明によれば、被測定回路が内部フリ
ップフロップから成り、その出力から対応するストロー
ブ用フリップフロップの入力までの配線と、内部フリッ
プフロップのデータ入力から対応するストローブ用フリ
ップフロップのデータ入力までの配線とが、それぞれ外
部クロックピンから内部フリップフロップまでの配線と
等長とするように構成したので、これにより、内部フリ
ップフロップのセットアップ、ホールドタイミングの検
証ができるという効果がある。
According to the present invention, the circuit under test is composed of an internal flip-flop, the wiring from the output to the input of the corresponding strobe flip-flop, and the data input of the internal flip-flop to the data of the corresponding strobe flip-flop. Since the wiring to the input has the same length as the wiring from the external clock pin to the internal flip-flop, the setup and hold timing of the internal flip-flop can be verified.

【0069】この発明によれば、ストローブ用フリップ
フロップの出力にスキャン用シフトレジスタを接続しJ
TAGピンにより当該出力をチップ外部に引き出すよう
に構成したので、JTAG制御によりレジスタにラッチ
されたデータをスキャンアウトして、外部検査機により
良品・不良品の判定ができるという効果がある。
According to this invention, the scan shift register is connected to the output of the strobe flip-flop.
Since the output is pulled out to the outside of the chip by the TAG pin, there is an effect that the data latched in the register is scanned out by the JTAG control and the non-defective product or the defective product can be determined by the external inspection machine.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1による半導体装置の
テスト方式を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a test method of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 この発明の実施の形態1による半導体装置の
テスト方式を示す回路接続図である。
FIG. 2 is a circuit connection diagram showing a test method of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】 この発明の実施の形態1による比較器を示す
回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a comparator according to the first embodiment of the present invention.

【図4】 この発明の実施の形態1による半導体装置の
テスト方式の変形例を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a modification of the test method for the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】 この発明の実施の形態2による半導体装置の
テスト方式を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing a test method of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】 従来の半導体装置のテスト方式を示すブロッ
ク図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a conventional semiconductor device test method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5 LSI(半導体装置)、8 期待値データ、9 テ
ストデータ、10 テストデータ生成器(LFSR:テ
ストデータ生成手段、出力部)、10a 第1のテスト
データ生成器(LFSR:第1のデータ生成手段),1
0b 第2のデテストータ生成器(LFSR:第2のデ
ータ生成手段、LFSR)、11 クロック、12 出
力バッファ(出力部)、13 外部配線、14 入力バ
ッファ(入力部)、15 比較器(比較手段)、16,
87,161 遅延回路(データ調整手段)、17 テ
ストアクセスポート(TAP)、18 PLL、19
JTAGピン、20 TCKピン、21 TMSピン、
22 TDIピン、30,41 フリップフロップ(F
/F)、40 SETピン、42 DINピン、43
EXPピン、44 CLKピン、45 RESETピ
ン、46 ORゲート、47 NANDゲート、48
出力QC、49 NORゲート、50 出力Q、51
TDOピン、60 ユーザロジック、70 外部クロッ
ク、80 内部フロップフロップ、81a〜81d ス
トローブ用フリップフロップ(データラッチ手段)、8
2 ストローブピン、83 TDOピン、85 差動ア
ンプ、86 スキャンフリップフロップ(SFF)。
5 LSI (semiconductor device), 8 expected value data, 9 test data, 10 test data generator (LFSR: test data generating means, output unit), 10a first test data generator (LFSR: first data generating means) ), 1
0b Second detester generator (LFSR: second data generating means, LFSR), 11 clock, 12 output buffer (output section), 13 external wiring, 14 input buffer (input section), 15 comparator (comparing means) , 16,
87,161 delay circuit (data adjusting means), 17 test access port (TAP), 18 PLL, 19
JTAG pin, 20 TCK pin, 21 TMS pin,
22 TDI pins, 30, 41 flip-flops (F
/ F), 40 SET pin, 42 DIN pin, 43
EXP pin, 44 CLK pin, 45 RESET pin, 46 OR gate, 47 NAND gate, 48
Output QC, 49 NOR gate, 50 Output Q, 51
TDO pin, 60 user logic, 70 external clock, 80 internal flop-flop, 81a-81d strobe flip-flop (data latch means), 8
2 Strobe pin, 83 TDO pin, 85 differential amplifier, 86 scan flip-flop (SFF).

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テストデータを生成するテストデータ生
成手段と、チップ内部を経由する上記テストデータを期
待値データとするためにその時間差を調整するデータ調
整手段と、入力部に設けられチップ外部を伝搬してきた
上記テストデータと上記期待値データとを比較・検証す
る比較手段とを備えた半導体装置。
1. A test data generating means for generating test data, a data adjusting means for adjusting the time difference between the test data passing through the inside of the chip to obtain expected value data, and a chip provided outside the chip. A semiconductor device comprising a comparing means for comparing and verifying the propagated test data and the expected value data.
【請求項2】 テストデータ生成手段が出力部に設けら
れ、これよりテストデータを出力するとともに、このテ
ストデータをデータ調整手段を経由させ期待値データと
しこれを比較手段に送信することを特徴とする請求項1
記載の半導体装置。
2. The test data generating means is provided in the output section, which outputs the test data, and transmits the test data as expected value data via the data adjusting means to the comparing means. Claim 1
The semiconductor device described.
【請求項3】 テストデータ生成手段が、出力部に設け
られチップ外部を伝搬するテストデータを生成する第1
のテストデータ生成手段と、入力部に設けられデータ調
整手段を経由して期待値データとなるテストデータを生
成する第2のテストデータ生成手段とから成ることを特
徴とする請求項1記載の半導体装置。
3. A first test data generating means is provided in the output section, and generates test data which propagates outside the chip.
2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising: a test data generating unit of 1), and a second test data generating unit which is provided in the input unit and generates test data to be expected value data via a data adjusting unit. apparatus.
【請求項4】 テストデータ生成手段が、実動作速度で
動作するLFSRを備えることを特徴とする請求項1記
載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the test data generating means includes an LFSR that operates at an actual operating speed.
【請求項5】 比較手段が、外部から入力してきたテス
トデータとチップ内部を経由する期待値データとを実動
作速度で比較・検証する比較器により構成されることを
特徴とする請求項1記載の半導体装置。
5. The comparison means comprises a comparator for comparing and verifying test data input from the outside and expected value data passing through the inside of the chip at an actual operating speed. Semiconductor device.
【請求項6】 データ調整手段が、チップ内部を経由す
るテストデータを遅延させることにより、期待値データ
とする遅延回路により構成されることを特徴とする請求
項1記載の半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the data adjusting means is constituted by a delay circuit that delays the test data passing through the inside of the chip to obtain expected value data.
【請求項7】 テストデータを生成するテストデータ生
成手段と、チップ内部を経由する上記テストデータを期
待値データとするためにその時間差を調整するデータ調
整手段と、入力部に設けられチップ外部を伝搬してきた
上記テストデータと上記期待値データとを比較・検証す
る比較手段とを備えた半導体装置において、上記テスト
データ生成手段の出力と上記比較手段の入力とを接続す
る外部配線を備えた半導体装置のテスト方式。
7. A test data generating means for generating test data, a data adjusting means for adjusting a time difference between the test data passing through the inside of the chip to obtain expected value data, and an outside of the chip provided in the input section. A semiconductor device comprising a comparing means for comparing and verifying the propagated test data and the expected value data, a semiconductor having an external wiring connecting an output of the test data generating means and an input of the comparing means. Device test method.
【請求項8】 テストデータ生成手段が出力部に設けら
れ、これよりテストデータを出力するとともに、このテ
ストデータをデータ調整手段を経由させ期待値データと
しこれを比較手段に送信することを特徴とする請求項7
記載の半導体装置のテスト方式。
8. The test data generating means is provided in the output section, which outputs the test data from the output section, and transmits the test data as expected value data via the data adjusting means to the comparing means. Claim 7
The semiconductor device test method described.
【請求項9】 テストデータ生成手段が、出力部に設け
られチップ外部を伝搬するテストデータを生成する第1
のテストデータ生成手段と、入力部に設けられデータ調
整手段を経由して期待値データとなるテストデータを生
成する第2のテストデータ生成手段とから成ることを特
徴とする請求項7記載の半導体装置のテスト方式。
9. A first test data generating means is provided in an output section to generate test data propagating outside a chip.
8. The semiconductor device according to claim 7, further comprising: a test data generating unit of 1), and a second test data generating unit which is provided in the input unit and generates test data to be expected value data via a data adjusting unit. Device test method.
【請求項10】 半導体装置は複数個から成り、それぞ
れの半導体装置の出力ピンおよび入力ピン同士を外部配
線により接続したことを特徴とする請求項7記載の半導
体装置のテスト方式。
10. The semiconductor device test method according to claim 7, wherein the semiconductor device comprises a plurality of semiconductor devices, and output pins and input pins of the respective semiconductor devices are connected by external wiring.
【請求項11】 テストデータ生成手段が、実動作速度
で動作するLFSRを備えることを特徴とする請求項7
記載の半導体装置のテスト方式。
11. The test data generating means comprises an LFSR operating at an actual operating speed.
The semiconductor device test method described.
【請求項12】 比較手段が、外部から入力してきたテ
ストデータとチップ内部を経由する期待値データとを実
動作速度で比較・検証する比較器により構成されること
を特徴とする請求項7記載の半導体装置のテスト方式。
12. The comparison means is configured by a comparator for comparing and verifying test data input from the outside and expected value data passing through the inside of the chip at an actual operating speed. Semiconductor device test method.
【請求項13】 データ調整手段が、チップ内部を経由
するテストデータを遅延させることにより、期待値デー
タとする遅延回路により構成されることを特徴とする請
求項7記載の半導体装置のテスト方式。
13. The test method for a semiconductor device according to claim 7, wherein the data adjusting means is configured by a delay circuit that delays the test data passing through the inside of the chip to obtain expected value data.
【請求項14】 データ入力ピンより外部データを入力
する被測定回路と、ストローブピンより所定の規格にセ
ットされたストローブ信号を印加し、上記被測定回路か
らの出力データと、外部クロックピンより入力されるク
ロックとを捕獲するデータラッチ手段と、このデータラ
ッチ手段にラッチされたデータを引き出すレジスタ手段
とを備えた半導体装置において、 上記データ入力ピンから上記データラッチ手段までの配
線と、上記被測定回路から上記データラッチ手段までの
配線と、上記外部クロックピンから上記被測定回路まで
の配線とが等長であることを特徴とする半導体装置。
14. A circuit to be measured which inputs external data from a data input pin, and a strobe signal set to a predetermined standard is applied from a strobe pin, and output data from the circuit to be measured and input from an external clock pin. In a semiconductor device having a data latch means for capturing a clock to be generated and a register means for drawing out the data latched by the data latch means, a wiring from the data input pin to the data latch means and the measured object A semiconductor device characterized in that the wiring from the circuit to the data latch means and the wiring from the external clock pin to the circuit under test are of equal length.
【請求項15】 データラッチ手段が複数個のストロー
ブ用フリップフロップを備え、ストローブピンから上記
複数個のストローブ用フリップフロップまでのそれぞれ
の配線が等長であることを特徴とする請求項14記載の
半導体装置。
15. The data latch means comprises a plurality of strobe flip-flops, and each wiring from the strobe pin to the plurality of strobe flip-flops is of equal length. Semiconductor device.
【請求項16】 被測定回路は内部フリップフロップか
ら成り、その出力から対応するストローブ用フリップフ
ロップの入力までの配線と、上記内部フリップフロップ
のデータ入力から対応するストローブ用フリップフロッ
プのデータ入力までの配線とが、それぞれ外部クロック
ピンから上記内部フリップフロップまでの配線と等長で
あることを特徴とする請求項15記載の半導体装置。
16. The circuit under test comprises an internal flip-flop, and wiring from its output to the input of the corresponding strobe flip-flop and from the data input of the internal flip-flop to the data input of the corresponding strobe flip-flop. 16. The semiconductor device according to claim 15, wherein the wiring has the same length as the wiring from the external clock pin to the internal flip-flop.
【請求項17】 ストローブ用フリップフロップの出力
にスキャン用シフトレジスタを接続しJTAGピンによ
り当該出力をチップ外部に引き出すことを特徴とする請
求項15または請求項16記載の半導体装置。
17. The semiconductor device according to claim 15, wherein a scan shift register is connected to the output of the strobe flip-flop and the output is taken out of the chip by the JTAG pin.
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