JP2003026674A - 新規なエピスルフィド化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】高屈折率、高アッベ数を有し、耐熱性と耐衝撃
性に優れた樹脂を提供すること。 【解決手段】下記（１）式と（２）式で表される構造を
有するエピスルフィド化合物を重合して得られた樹脂。 【化１】 （式中、Ｒ₁は、 【化２】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラスチックレン
ズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルタ
ー等の光学材料、中でも眼鏡用プラスチックレンズの原
料として好適に使用される。

【０００２】

【従来の技術】プラスチック材料は軽量かつ靭性に富
み、また染色が容易であることから、各種光学材料、特
に眼鏡レンズに近年多用されている。光学材料、特に眼
鏡レンズに要求される性能は、低比重に加え、光学性能
としては高屈折率と高アッベ数であり、物理的性能とし
ては高耐熱性、高強度である。高屈折率はレンズの薄肉
化を可能とし、高アッベ数はレンズの色収差を低減し、
高耐熱性、高強度は二次加工を容易にするとともに、安
全性等の観点から重要である。従来技術における高屈折
率を有する材料は、ポリチオール化合物とポリイソシア
ネート化合物との反応により得られるチオウレタン構造
を有する熱硬化型光学材料（特公平４−５８４８９号公
報、特開平５−１４８３４０号公報）等に提案されてい
る。しかし、さらに高い屈折率が望ましいことは言うま
でもない。一方、光学材料に要求されるもう一つの重要
な性能として色収差が少ないことが挙げられる。色収差
はアッベ数が高い程良好となるため高アッベ数材料が望
まれる。すなわち、高屈折率と高アッベ数の同時実現も
望まれている。しかしながら、一般に、アッベ数は屈折
率の上昇に伴い低下する傾向を示し、従来技術のポリチ
オール化合物とポリイソシアネート化合物を原料とする
プラスチック材料では、屈折率１．５０から１．５５の
場合アッベ数は約５０から５５が、屈折率１．６０の場
合４０、屈折率１．６６の場合３１程度が限界であり、
屈折率１．７０以上を無理に実現しようとした場合、ア
ッベ数は３０程度以下となり実用に耐え得るものではな
かった。これとは別に、本願発明者らは薄い肉厚および
低い色収差を有する光学材料を可能とする新規な含硫黄
化合物を見いだし、先に特許出願を行った（特開平９−
７１５８０号、特開平９−１１０９７９号公報、特開平
９−２５５７８１号公報、特開平１１−１８０９７７号
公報、特開２０００−２８１７８７号公報）。この化合
物は高屈折率と高アッベ数を同時に満たているうえ、耐
熱性にも優れていた。さらに単独重合が可能なためモノ
マーは１種のみで十分であり、煩雑な調合は必要とせ
ず、安定した物性を得ることができた。またモールドへ
の密着もなく、離型剤なしで作成可能であった。しかし
ながら、これらから得られる光学材料の耐衝撃性に関し
ては十分には満足されるものではなかった。耐衝撃性が
低いことは、ある程度の肉厚を確保する必要性が発生す
るため、高い屈折率により薄い肉厚の設計が可能となっ
たのにもかかわらず、薄肉化と軽量化の大きな障害とな
っていた。高屈折率を維持しつつ耐衝撃性を高めるた
め、本願発明者らはエピスルフィド化合物とイソシアネ
ート化合物、およびメルカプタン化合物からなる組成物
を見出し、先に特許出願を行った（特開平１１−２９２
９５０号公報、特願平１１−３１８９６０号公報、特願
２０００−３１４３８５号公報）。しかしながら、これ
らの組成物は１液でなく、高屈折率、高耐衝撃性、高耐
熱性を得るには組成物の混合比を微妙に調整する必要が
あった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、高屈折率、高アッベ数を有し、耐熱性と耐
衝撃性に優れた樹脂を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本出願者らはこの発明の
課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、１分子中に１
個以上の下記（１）式で表される構造と１分子中に１個
以上の下記（２）式で表される構造を有する化合物によ
り解決できることを見いだした。

【０００５】

【化６】

【０００６】

【化７】 （Ｘ、ＹはそれぞれＯまたはＳを示す。）

【０００７】本発明で使用する１分子中に１個以上の
（１）式で表される構造と１分子中に１個以上の（２）
式で表される構造を有する化合物は、光学材料として使
用する場合、高い屈折率と高いアッベ数の両者の良好な
バランスを発現し、なおかつ良好な耐熱性と耐衝撃性を
有するものである。１分子中に１個以上の（１）式で表
される構造を有することは、高屈折率、高アッベ数およ
び高耐熱性を発現するためであり、１分子中に１個以上
の（２）式で表される構造を有することは、耐衝撃性を
高めるためである。高屈折率、高アッベ数を得るには、
ＹはＳであり、かつ（１）式と（２）式を炭化水素等で
結合させた（３）式で表される構造を有することであ
り、好ましくは１分子中に２個以上有することである。
さらに、高耐熱性を有するには重合性官能基である
（１）式で表される構造が分子の末端にあり、かつ
（１）式と（２）式がメチレンで結合された（４）式で
表される構造を有することであり、好ましくは１分子中
に２個以上有することである。最も好ましくは（５）式
で表される化合物である。また、光学材料に要求される
無色である樹脂を得るには、（２）〜（５）式のＸはＯ
であることが効果的である。

【０００８】本発明で使用する１分子中に１個以上の
（１）式で表される構造と、１個以上の（２）式で表さ
れる構造を有する化合物の具体例を挙げるならば、１，
２−ビス（β−エピチオプロピルチオカルボキシアミド
メチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（β−エピチオ
プロピルチオカルボキシアミドメチル）シクロヘキサ
ン、１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオカルボキ
シアミドメチル）シクロヘキサン、１，２−ビス（β−
エピチオプロピルチオカルボキシアミドメチル）ベンゼ
ン、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオカルボキ
シアミドメチル）ベンゼン、１，４−ビス（β−エピチ
オプロピルチオカルボキシアミドメチル）ベンゼン、
２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオカルボキシア
ミドメチル）-１，４−ジチアン、２，４−ビス（β−
エピチオプロピルチオカルボキシアミドメチル）ビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン、２，５−ビス（β−エピチ
オプロピルチオカルボキシアミドメチル）ビシクロ
［２．２．１］ヘプタン、３，４−ビス（β−エピチオ
プロピルチオカルボキシアミドメチル）ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン、３，５−ビス（β−エピチオプロピ
ルチオカルボキシアミドメチル）ビシクロ［２．２．
１］ヘプタン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルオ
キシカルボキシアミドメチル）シクロヘキサン、１，３
−ビス（β−エピチオプロピルオキシカルボキシアミド
メチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（β−エピチオ
プロピルオキシカルボキシアミドメチル）シクロヘキサ
ン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルオキシカルボ
キシアミドメチル）ベンゼン、１，３−ビス（β−エピ
チオプロピルオキシカルボキシアミドメチル）ベンゼ
ン、１，４−ビス（β−エピチオプロピルオキシカルボ
キシアミドメチル）ベンゼン、２，５−ビス（β−エピ
チオプロピルオキシカルボキシアミドメチル）-１，４
−ジチアン、２，４−ビス（β−エピチオプロピルオキ
シカルボキシアミドメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン、２，５−ビス（β−エピチオプロピルオキシカ
ルボキシアミドメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタ
ン、３，４−ビス（β−エピチオプロピルオキシカルボ
キシアミドメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、
３，５−ビス（β−エピチオプロピルオキシカルボキシ
アミドメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、１，
２−ビス（エピチオエチルチオカルボキシアミドメチ
ル）シクロヘキサン、１，３−ビス（エピチオエチルチ
オカルボキシアミドメチル）シクロヘキサン、１，４−
ビス（エピチオエチルチオカルボキシアミドメチル）シ
クロヘキサン、１，２−ビス（エピチオエチルチオカル
ボキシアミドメチル）ベンゼン、１，３−ビス（エピチ
オエチルチオカルボキシアミドメチル）ベンゼン、１，
４−ビス（エピチオエチルチオカルボキシアミドメチ
ル）ベンゼン、２，５−ビス（エピチオエチルチオカル
ボキシアミドメチル）-１，４−ジチアン、２，４−ビ
ス（エピチオエチルチオカルボキシアミドメチル）ビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン、２，５−ビス（エピチオ
エチルチオカルボキシアミドメチル）ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン、３，４−ビス（エピチオエチルチオ
カルボキシアミドメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン、３，５−ビス（エピチオエチルチオカルボキシア
ミドメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、１，２
−ビス（エピチオエチルオキシカルボキシアミドメチ
ル）シクロヘキサン、１，３−ビス（エピチオエチルオ
キシカルボキシアミドメチル）シクロヘキサン、１，４
−ビス（エピチオエチルオキシカルボキシアミドメチ
ル）シクロヘキサン、１，２−ビス（エピチオエチルオ
キシカルボキシアミドメチル）ベンゼン、１，３−ビス
（エピチオエチルオキシカルボキシアミドメチル）ベン
ゼン、１，４−ビス（エピチオエチルオキシカルボキシ
アミドメチル）ベンゼン、２，５−ビス（エピチオエチ
ルオキシカルボキシアミドメチル）-１，４−ジチア
ン、２，４−ビス（エピチオエチルオキシカルボキシア
ミドメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，５
−ビス（エピチオエチルオキシカルボキシアミドメチ
ル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、３，４−ビス
（エピチオエチルオキシカルボキシアミドメチル）ビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン、３，５−ビス（エピチオ
エチルオキシカルボキシアミドメチル）ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン、等が挙げられる。しかしながらこれ
らに限定されるわけではない。これらの中で特に好まし
いものは、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオカ
ルボキシアミドメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス
（β−エピチオプロピルチオカルボキシアミドメチル）
ベンゼン、２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオカ
ルボキシアミドメチル）-１，４−ジチアンである。

【０００９】この化合物を得るにはさまざまな手法が考
えれるが、例えば（１）式で表される構造を有するメル
カプタンとイソ（チオ）シアネートを反応させる手法が
ある。すなわちチイラン環を有するメルカプタンとイソ
（チオ）シアネートとのウレタン化反応で目的化合物を
得ることができる。好ましくはメルカプタンとイソ（チ
オ）シアネートを等モルで反応させることであり、より
好ましくはチイラン環を有するメルカプタン２分子とジ
イソ（チオ）シアネート１分子を反応させることであ
る。

【００１０】（１）式で表される構造を有するメルカプ
タンとイソ（チオ）シアネートの反応の１例を以下に示
した。

【化８】 （ｐは０または１、Ｘ、ＹはＯまたはＳを示す。）

【００１１】上記の反応式において、メルカプタンの具
体的な例としては、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³がそれぞれ水素、ハ
ロゲン、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、水酸基、
メルカプト基等であり、不飽和結合、エーテル結合、ス
ルフィド結合を有していても構わない。具体的には、水
素、塩素、臭素、ヨウ素、メチル、エチル、プロピル、
ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、フェニル、ベンジル、ＣＨ₂
Ｃｌ、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、ＰｈＣｌ、ＯＨ、ＣＨ₂ＯＨ、
ＳＨ、ＣＨ₂ＳＨ、ＣＨ₂ＳＣＨ₂ＣＨ₂ＳＨ、ＳＣＨ₃、
ＣＨ₂ＳＣＨ₃等があげられる。Ｒ⁴については、炭化水
素基、ハロゲン化炭化水素基、水酸基、メルカプト基等
であり、不飽和結合、エーテル結合、スルフィド結合を
有していても構わない。具体的には、ＣＨ₂、ＣＨ₂ＣＨ
₂、ＣＨＣｌ、ＣＨ₂ＣＨＣｌ、ＣＨＯＨ、ＣＨＯＨＣＨ
₂、ＣＨＳＨ、ＣＨＳＨＣＨ₂、ＣＨＳＨ、ＳＣＨ₂、Ｃ
Ｈ₂ＳＣＨ₂等が挙げられる。しかしながら、これらに限
定されるものではない。このなかで好ましいものは
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³が水素またはメチル基であり、Ｒ⁴が炭化
水素基、メルカプト基、スルフィド結合を有する炭化水
素基である。さらに好ましいものは１，２−エピチオメ
ルカプトエタン、１，２−エピチオ−１，２−ジメルカ
プトエタン、２，３−エピチオ−１，１，４，４−テト
ラメルカプトエタン、１，２−エピチオ−５−メルカプ
ト−４−チアペンタンである。

【００１２】イソ（チオ）シアネートとしては、上式に
おいてＲ⁵が水素、ハロゲン、炭化水素基、ハロゲン化
炭化水素基、水酸基、メルカプト基等であり、不飽和結
合、エーテル結合、スルフィド結合、チイラン環を有し
ていても構わない。具体的には以下の化合物が挙げられ
る。メチルイソシアネート、エチルイソシアネート、プ
ロピルイソシアネート、ｉｓｏ−プロピルイソシアネー
ト、ｎ−ブチルイソシアネート、ｓｅｃ−ブチルイソシ
アネート、ｔｅｒｔ−ブチルイソシアネート、ペンチル
イソシアネート、ヘキシルイソシアネート、オクチルイ
ソシアネート、ドデシルイソシアネート、シクロヘキシ
ルイソシアネート、フェニルイソシアネート、トルイル
イソシアネート等のモノイソシアネート類、ジエチレン
ジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、
ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメ
チレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネ
ート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキ
サン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキ
サン、イソホロンジイソシアネート、２，６−ビス（イ
ソシアナトメチル）デカヒドロナフタレン、リジントリ
イソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、
２，６−トリレンジイソシアネート、ｏ−トリジンジイ
ソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、ジフェニルエーテルジイソシアネート、３−
（２’−イソシアネートシクロヘキシル）プロピルイソ
シアネート、トリス（フェニルイソシアネート）チオホ
スフェート、イソプロピリデンビス（シクロヘキシルイ
ソシアネート）、２，２’−ビス（４−イソシアネート
フェニル）プロパン、トリフェニルメタントリイソシア
ネート、ビス（ジイソシアネートトリル）フェニルメタ
ン、４，４’，４’’−トリイソシアネート−２，５−
ジメトキシフェニルアミン、３，３’−ジメトキシベン
ジジン−４，４’−ジイソシアネート、１，３−フェニ
レンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシア
ネート、４，４’−ジイソシアナトビフェニル、４，
４’−ジイソシアナト−３，３’−ジメチルビフェニ
ル、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアナ
ト、１，１’−メチレンビス（４−イソシアナトベンゼ
ン）、１，１’−メチレンビス（３−メチル−４−イソ
シアナトベンゼン）、ｍ−キシリレンジイソシアネー
ト、ｐ−キシリレンジイソシアネート、１，３−ビス
（１−イソシアネート−１−メチルエチル）ベンゼン、
１，４−ビス（１−イソシアネート−１−メチルエチ
ル）ベンゼン、１，３−ビス（２−イソシアナト−２−
プロピル）ベンゼン、２，６−ビス（イソシアナトメチ
ル）ナフタレン、１，５−ナフタレンジイソシアネー
ト、ビス（イソシアネートメチル）テトラヒドロジシク
ロペンタジエン、ビス（イソシアネートメチル）ジシク
ロペンタジエン、ビス（イソシアネートメチル）テトラ
ヒドロチオフェン、ビス（イソシアネートメチル）チオ
フェン、２，５−ジイソシアネートメチルノルボルネ
ン、ビス（イソシアネートメチル）アダマンタン、３，
４−ジイソシアネートセレノファン、２，６−ジイソシ
アネート−９−セレナビシクロノナン、ビス（イソシア
ネートメチル）セレノファン、３，４−ジイソシアネー
ト−２，５−ジセレノラン、ダイマー酸ジイソシアネー
ト、１，３，５−トリ（１−イソシアナトヘキシル）イ
ソシアヌル酸、２，５−ジイソシアナートメチル−１，
４−ジチアン、２，５−ビス（４−イソシアナート−２
−チアブチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（３
−イソシアナートメチル−４−イソシアナート−２−チ
アブチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（３−イ
ソシアナート−２−チアプロピル）−１，４−ジチア
ン、１，３，５−トリイソシアナートシクロヘキサン、
１，３，５−トリス（イソシアナートメチル）シクロヘ
キサン、ビス（イソシアネートメチルチオ）メタン、
１、５−ジイソシアネート−２−イソシアネートメチル
−３−チアペンタン、１，２，３−トリス（イソシアネ
ートエチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（イソ
シアネートメチルチオ）プロパン、１，１，６，６−テ
トラキス（イソシアネートメチル）−２，５−ジチアヘ
キサン、１，１，５，５、−テトラキス（イソシアネー
トメチル）−２，４−ジチアペンタン、１，２−ビス
（イソシアネートメチルチオ）エタン、１、５−ジイソ
シアネート−３−イソシアネートメチル−２，４−ジチ
アペンタン、１、５−ジイソシアネート−３−イソシア
ネートメチル−２，４−ジチアペンタン等のポリイソシ
アネート類、これらのポリイソシアネート類のビュレッ
ト型反応によるニ量体、これらのポリイソシアネート類
の環化三量体およびこれらのポリイソシアネート類とア
ルコールもしくはチオールの付加物。さらには、上記の
イソシアネート基を１分子あたり１個以上有する化合物
のイソシアネート基の全部または一部をイソチオシアネ
ート基に変えた化合物等をあげることができる。さらに
は、チイラン環を有するイソ（チオ）シアネート等を挙
げることができる。しかしながら、これらに限定される
わけではない。これらの中で好ましいものは、１，３−
ビス（イソシアナートメチル）シクロヘキサン、ｍ−キ
シリレンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネ
ート、２，５−ジイソシアネートメトル−１，４−ジチ
アン、である。

【００１３】（１）式で表される構造を有するメルカプ
タンとイソ（チオ）シアネートの反応は、触媒の存在下
あるいは無触媒で行われるが、好ましくは触媒の存在下
で反応させることであり、触媒としてはポリ（チオ）ウ
レタンの製造において用いられる公知反応触媒を適宜に
添加して使用できる。このうち効果的なものはアミン
類、有機金属化合物である。

【００１４】アミン類の具体例としては、エチルアミ
ン、ｎ−プロピルアミン、ｓｅｃ−プロピルアミン、ｎ
−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｉ−ブチルア
ミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキ
シルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、デシル
アミン、ラウリルアミン、ミスチリルアミン、１，２−
ジメチルヘキシルアミン、３−ペンチルアミン、２−エ
チルヘキシルアミン、アリルアミン、アミノエタノー
ル、１−アミノプロパノール、２−アミノプロパノー
ル、アミノブタノール、アミノペンタノール、アミノヘ
キサノール、３−エトキシプロピルアミン、３−プロポ
キシプロピルアミン、３−イソプロポキシプロピルアミ
ン、３−ブトキシプロピルアミン、３−イソブトキシプ
ロピルアミン、３−（２−エチルヘキシロキシ）プロピ
ルアミン、アミノシクロペンタン、アミノシクロヘキサ
ン、アミノノルボルネン、アミノメチルシクロヘキサ
ン、アミノベンゼン、ベンジルアミン、フェネチルアミ
ン、α−フェニルエチルアミン、ナフチルアミン、フル
フリルアミン等の１級アミン；エチレンジアミン、１，
２−ジアミノプロパン、１，３−ジアミノプロパン、
１，２−ジアミノブタン、１，３−ジアミノブタン、
１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、
１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノヘプタ
ン、１，８−ジアミノオクタン、ジメチルアミノプロピ
ルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ビス−（３
−アミノプロピル）エーテル、１，２−ビス−（３−ア
ミノプロポキシ）エタン、１，３−ビス−（３−アミノ
プロポキシ）−２，２’−ジメチルプロパン、アミノエ
チルエタノールアミン、１，２−、１，３−あるいは
１，４−ビスアミノシクロヘキサン、１，３−あるいは
１，４−ビスアミノメチルシクロヘキサン、１，３−あ
るいは１，４−ビスアミノエチルシクロヘキサン、１，
３−あるいは１，４−ビスアミノプロピルシクロヘキサ
ン、水添４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２−あ
るいは４−アミノピペリジン、２−あるいは４−アミノ
メチルピペリジン、２−あるいは４−アミノエチルピペ
リジン、Ｎ−アミノエチルピペリジン、Ｎ−アミノプロ
ピルピペリジン、Ｎ−アミノエチルモルホリン、Ｎ−ア
ミノプロピルモルホリン、イソホロンジアミン、メンタ
ンジアミン、１，４−ビスアミノプロピルピペラジン、
ｏ−、ｍ−、あるいはｐ−フェニレンジアミン、２，４
−あるいは２，６−トリレンジアミン、２，４−トルエ
ンジアミン、ｍ−アミノベンジルアミン、４−クロロ−
ｏ−フェニレンジアミン、テトラクロロ−ｐ−キシリレ
ンジアミン、４−メトキシ−６−メチル−ｍ−フェニレ
ンジアミン、ｍ−、あるいはｐ−キシリレンジアミン、
１，５−あるいは、２，６−ナフタレンジアミン、ベン
ジジン、４，４’−ビス（ｏ−トルイジン）、ジアニシ
ジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−
（４，４’−ジアミノジフェニル）プロパン、４，４’
−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−チオジアニ
リン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，
４’−ジアミノジトリルスルホン、メチレンビス（ｏ−
クロロアニリン）、３，９−ビス（３−アミノプロピ
ル）２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］
ウンデカン、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピ
ルアミン、メチルイミノビスプロピルアミン、ビス（ヘ
キサメチレン）トリアミン、トリエチレンテトラミン、
テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミ
ン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、Ｎ−アミノプロピル
ピペラジン、１，４−ビス（アミノエチルピペラジ
ン）、１，４−ビス（アミノプロピルピペラジン）、
２，６−ジアミノピリジン、ビス（３，４−ジアミノフ
ェニル）スルホン等の１級ポリアミン；ジエチルアミ
ン、ジプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｓ
ｅｃ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−ｎ−ペ
ンチルアミン、ジ−３−ペンチルアミン、ジヘキシルア
ミン、オクチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミ
ン、メチルヘキシルアミン、ジアリルアミン、ピロリジ
ン、ピペリジン、２−、３−、４−ピコリン、２，４
−、２，６−、３，５−ルペチジン、ジフェニルアミ
ン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、ジベン
ジルアミン、メチルベンジルアミン、ジナフチルアミ
ン、ピロール、インドリン、インドール、モルホリン等
の２級アミン；Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン、
トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，２−
ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，３−ジア
ミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，２−ジアミノ
ブタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，３−ジアミノブタ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，４−ジアミノブタン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，５−ジアミノペンタン、Ｎ，
Ｎ’−ジメチル−１，６−ジアミノヘキサン、Ｎ，Ｎ’
−ジメチル−１，７−ジアミノヘプタン、Ｎ，Ｎ’−ジ
エチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，２
−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，３−ジ
アミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，２−ジアミ
ノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，３−ジアミノブタ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，４−ジアミノブタン、
Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，６−ジアミノヘキサン、ピペ
ラジン、２−メチルピペラジン、２，５−あるいは２，
６−ジメチルピペラジン、ホモピペラジン、１，１−ジ
−（４−ピペリジル）メタン、１，２−ジ−（４−ピペ
リジル）エタン、１，３−ジ−（４−ピペリジル）プロ
パン、４，４’−トリメチレンビス（１−メチルピペリ
ジン）、１，４−ジ−（４−ピペリジル）ブタン、テト
ラメチルグアニジン等の２級ポリアミン；トリメチルア
ミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、
トリ−ｉｓｏ−プロピルアミン、トリ−１，２−ジメチ
ルプロピルアミン、トリ−３−メトキシプロピルアミ
ン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｉｓｏ−ブチルア
ミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルアミン、トリ−ペンチルア
ミン、トリ−３−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシル
アミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−２−エチル
ヘキシルアミン、トリ−ドデシルアミン、トリ−ラウリ
ルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、シクロヘキ
シルジエチルアミン、トリ−シクロヘキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルオ
クチルアミン、Ｎ−メチルジヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルジシクロヘ
キシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルエタノールアミン、
Ｎ、Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、トリベンジルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ジエチルベン
ジルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノ−ｐ−クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル
フェノール、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フ
ェノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアニリン、ピリジン、キノリン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、Ｎ−メチルピペリジン、２−（２−ジメチルアミノ
エトキシ）−４−メチル−１，３，２−ジオキサボルナ
ン等の３級アミン；テトラメチルエチレンジアミン、ピ
ラジン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（（２−ヒドロキシ）プロピル）ピペラジン、ヘキサ
メチレンテトラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチ
ル−１，３−ブタンアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テト
ラメチル−１，６−ジアミノヘキサン、２−ジメチルア
ミノ−２−ヒドロキシプロパン、ジエチルアミノエタノ
ール、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピ
ル）アミン、２，４，６−トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノメチル）フェノール、ヘプタメチルイソビグアニド
等の３級ポリアミン；イミダゾール、Ｎ−メチルイミダ
ゾール、２−メチルイミダゾール、４−メチルイミダゾ
ール、、Ｎ−エチルイミダゾール、２−エチルイミダゾ
ール、４−エチルイミダゾール、Ｎ−ブチルイミダゾー
ル、２−ブチルイミダゾール、Ｎ−ウンデシルイミダゾ
ール、２−ウンデシルイミダゾール、Ｎ−フェニルイミ
ダゾール、２−フェニルイミダゾール、Ｎ−ベンジルイ
ミダゾール、２−ベンジルイミダゾール、１−ベンジル
−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエチ
ル）−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエ
チル）−２−ウンデシルイミダゾール、Ｎ−（２’−シ
アノエチル）−２−フェニルイミダゾール、３，３−ビ
ス−（２−エチル−４−メチルイミダゾリル）メタン、
アルキルイミダゾールとイソシアヌール酸の付加物、ア
ルキルイミダゾールとホルムアルデヒドの縮合物等の各
種イミダゾール類；１，８−ジアザビシクロ（５，４，
０）ウンデセン−７、１，５−ジアザビシクロ（４，
３，０）ノネン−５、６−ジブチルアミノ−１，８−ジ
アザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７等のアミジ
ン類；以上に代表されるアミン系化合物等が挙げられ
る。

【００１５】有機金属化合物の具体例としては、ジメチ
ルスズジクロライド、メチルスズトリクロライド、ジブ
チルスズジクロライド、ブチルスズトリクロライド、ジ
オクチルスズジクロライド、オクチルスズトリクロライ
ド、ジメチルスズビス（イソオクチルチオグリコレー
ト）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズマレエ
ート、ジブチルスズマレエートポリマー、ジブチルスズ
ジリシノレート、ジブチルスズビス（ドデシルメルカプ
チド）、ジブチルスズビス（イソオクチルチオグリコレ
ート）、ジオクルスズマレエート、ジオクルスズマレエ
ートポリマー、ジオクルスズビス（ブチルマレエー
ト）、ジオクルスズラウレート、ジオクルスズジリシノ
レート、ジオクルスズジオレエート、ジオクルスズジ
（６−ヒドロキシ）カプロエート、ジオクルスズビス
（イソオクチルチオグリコレート）、ジドデシルスズジ
シリノレート、オレイン酸銅、アセチルアセトン酸銅、
アセチルアセトン酸鉄、ナフテン酸鉄、乳酸鉄、クエン
酸鉄、グルコン酸鉄、オクタン酸カリウム、チタン酸２
−エチルヘキシル等が挙げられる。

【００１６】しかしならが、これらに限定されるわけで
はなく、上記触媒は１種のみで使用しても、また２種以
上を組み合わせて使用してもよい。反応温度は使用する
化合物により異なるが、一般には−２０℃〜＋１５０℃
で、反応時間は０．１〜７２時間である。

【００１７】具体的には、例えばメチルメルカプトチイ
ラン２分子とｍ−キシリレンジイソシアネート、１，３
−ビス（イソシアナートメチル）シクロヘキサン、ノル
ボリネンジイソシアネート、または２，６−ジイソシア
ナートメチル−１，４−ジチアン１分子との反応では、
下式で表される化合物が得られる。

【００１８】

【化９】

【００１９】また、（１）式で表される構造を有するイ
ソ（チオ）シアネートとメルカプタンを反応させること
でも本発明の化合物を得ることが出来る。好ましくはメ
ルカプタンとイソ（チオ）シアネートを等モルで反応さ
せることであり、より好ましくはチイラン環を有するイ
ソ（チオ）シアネート２分子とジメルカプタン１分子を
反応させることである。

【００２０】（１）式で表される構造を有するイソ（チ
オ）シアネートとメルカプタンの反応の１例を以下に示
す。

【００２１】

【化１０】 （ｐは０または１、Ｘ、ＹはＯまたはＳ）

【００２２】（１）式で表される構造を有するイソ（チ
オ）シアネートの具体例としては、上式においてＲ⁶、
Ｒ⁷、Ｒ⁸がそれぞれ水素、ハロゲン、炭化水素基、ハロ
ゲン化炭化水素基、水酸基、メルカプト基等であり、不
飽和結合、エーテル結合、スルフィド結合を有していて
も構わない。具体的には、水素、塩素、臭素、ヨウ素、
メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、
フェニル、ベンジル、ＣＨ₂Ｃｌ、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ、Ｐ
ｈＣｌ、ＯＨ、ＣＨ₂ＯＨ、ＳＨ、ＣＨ₂ＳＨ、ＣＨ₂Ｓ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＨ、ＳＣＨ₃、ＣＨ₂ＳＣＨ₃等があげられ
る。Ｒ⁴については、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素
基、水酸基、メルカプト基等であり、不飽和結合、エー
テル結合、スルフィド結合を有していても構わない。具
体的には、ＣＨ₂、ＣＨ₂ＣＨ₂、ＣＨＣｌ、ＣＨ₂ＣＨＣ
ｌ、ＣＨＯＨ、ＣＨＯＨＣＨ₂、ＣＨＳＨ、ＣＨＳＨＣ
Ｈ₂、ＣＨＳＨ、ＳＣＨ₂、ＣＨ₂ＳＣＨ₂等が挙げられ
る。しかしながら、これらに限定されるものではない。
このなかで好ましいものはＲ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸が水素または
メチル基であり、Ｒ⁹が炭化水素基、メルカプト基、ス
ルフィド結合を有する炭化水素基である。さらに好まし
いものは１，２−エピチオイソシアネートエタン、１，
２−エピチオ−１，２−ジイソシアネートエタン、２，
３−エピチオ−１，１，４，４−テトライソシアネート
エタン、１，２−エピチオ−５−イソシアネート−４−
チアペンタンである。

【００２３】メルカプタンの具体例としては、上式にお
いてＲ¹⁰が、水素、ハロゲン、炭化水素基、ハロゲン化
炭化水素基、水酸基、メルカプト基等であり、不飽和結
合、エーテル結合、スルフィド結合、チイラン環を有し
ていても構わない。メルカプタン類、チオフェノール
類、および、ビニル、芳香族ビニル、メタクリル、アク
リル、アリル等の不飽和基を有するメルカプタン類、チ
オフェノール類等があげられる。より具体的には、メル
カプタン類としては、メチルメルカプタン、エチルメル
カプタン、ｎ−プロピルメルカプタン、ｎ−ブチルメル
カプタン、アリルメルカプタン、ｎ−ヘキシルメルカプ
タン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−デシルメルカプ
タン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメ
ルカプタン、ｎ−ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−オク
タデシルメルカプタン、シクロヘキシルメルカプタン、
イソプロピルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ブチルメルカプ
タン、ｔｅｒｔ−ノニルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデ
シルメルカプタン、ベンジルメルカプタン、４−クロロ
ベンジルメルカプタン、メチルチオグリコーレート、エ
チルチオグリコーレート、ｎ−ブチルチオグリコーレー
ト、ｎ−オクチルチオグリコーレート、メチル（３−メ
ルカプトプロピオネート）、エチル（３−メルカプトプ
ロピオネト）、３−メトキシブチル（３−メルカプトプ
ロピオネート）、ｎ−ブチル（３−メルカプトプロピオ
ネート）、２−エチルヘキシル（３−エルカプトプロピ
オネート）、ｎ−オクチル（３−メルカプトプロピオネ
ート）、２−メルカプトエタノール、３−メルカプトプ
ロパノール、２−メルカプトプロパノール、２−ヒドロ
キシプロピルメルカプタン、２−フェニル−２−メルカ
プトエタノール、２−フェニル−２−ヒドロキシエチル
メルカプタン、３−メルカプト−１，２−プロパンジオ
ール、２−メルカプト−１，３−プロパンジオール等の
モノメルカプタン類；メタンジチオール、１，２−ジメ
ルカプトエタン、１，２−ジメルカプトプロパン、２，
２−ジメルカプトプロパン、１，３−ジメルカプトプロ
パン、１，２，３−トリメルカプトプロパン、１，４−
ジメルカプトブタン、１，６−ジメルカプトヘキサン、
ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−ビ
ス（２−メルカプトエチルチオ）エタン、１，５−ジメ
ルカプト−３−オキサペンタン、１，８−ジメルカプト
−３，６−ジオキサオクタン、２，２−ジメチルプロパ
ン−１，３−ジチオール、３，４−ジメトキシブタン−
１，２−ジチオール、２−メルカプトメチル−１，３−
ジメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル−１，４
−ジメルカプトブタン、２−（２−メルカプトエチルチ
オ）−１，３−ジメルカプトプロパン、１，２−ビス
（２−メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパ
ン、１，１，１−トリス（メルカプトメチル）プロパ
ン、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、エチレン
グリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレ
ングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、
ビス（メルカプトエチル）トリチオグリセリン、１，４
−ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、
１，４−ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオ
ネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカ
プトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３
−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトール
テトラキス（２−メルカプトセテート）、ペンタエリス
リトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、１，１−ジメルカプトシクロヘキサン、１，４−
ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ジメルカプトシ
クロヘキサン、１，２−ジメルカプトシクロヘキサン、
１，４−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、
１，３−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、
２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチア
ン、２，５−ビス（２−メルカプトエチル）−１，４−
ジチアン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１−チ
アン、２，５−ビス（２−メルカプトエチル）−１−チ
アン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、
１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、ビス（４
−メルカプトフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカ
プトフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−メルカプ
トフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトメチルフ
ェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトメチルフェ
ニル）エーテル、２，２−ビス（４−メルカプトメチル
フェニル）プロパン、２，５−ジメルカプト−１，３，
４−チアジアゾール、３，４−チオフェンジチオール、
１，２−ジメルカプト−３−プロパノール、１，３−ジ
メルカプト−２−プロパノール、グリセリルジチオグリ
コーレート等のポリメルカプタン類およびこれらの２量
体〜２０量体といったオリゴマーをあげることができ
る。チオフェノール類としては、チオフェノール、４−
ｔｅｒｔ−ブチルチオフェノール、２−メチルチオフェ
ノール、３−メチルチオフェノール、４−メチルチオフ
ェノール、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジ
メルカプトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、
２−ヒドロキシチオフェノール、３−ヒドロキシチオフ
ェノール、４−ヒドロキシチオフェノール等のチオフェ
ノール類をあげることができる。また、不飽和基を有す
るメルカプタン類、チオフェノール類を以下に具体的に
示す。 不飽和基を有するメルカプタン類としては、ア
リルメルカプタン、２−ビニルベンジルメルカプタン、
３−ビニルベンジルメルカプタン、４−ビニルベンジル
メルカプタン等があげられる。不飽和基を有するチオフ
ェノール類としては、２−ビニルチオフェノール、３−
ビニルチオフェノール、４−ビニルチオフェノール等を
あげることができる。さらには上述したチイラン環を有
するメルカプタン等を挙げることができる。しかしなが
ら、これらに限定されるわけではない。これらの中で好
ましいものは、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィ
ド、ビス（メルカプトエチル）トリチオグリセリン、ペ
ンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトセテー
ト）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプ
トプロピオネート）、２，５−ビス（メルカプトメチ
ル）−１，４−ジチアンである。

【００２４】この場合においても、反応は触媒の存在下
あるいは無触媒で行われるが、好ましくは触媒の存在下
で反応させることであり、触媒としてはポリ（チオ）ウ
レタンの製造において用いられる公知反応触媒を適宜に
添加して使用できる。具体例としては前述のものが挙げ
られる。しかしながらこれらに限定されるわけではな
く、これらの触媒は１種のみで使用しても、また２種以
上を組み合わせて使用してもよい。反応温度は使用する
化合物により異なるが、一般には−２０℃〜＋１５０℃
で、反応時間は０．１〜７２時間である。

【００２５】例えば、メチルイソシアネートチイラン２
分子と、ビスメルカプトエチルスルフィドまたは２，６
−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン１分子の反応
では、下式で表される化合物が得られる。

【００２６】

【化１１】

【００２７】これ以外に本発明の化合物を得る方法とし
ては、エポキシ環を有するメルカプタンとイソ（チオ）
シアネートを反応させたのち、エポキシをチア化する方
法、エポキシ環を有するイソ（チオ）シアネートとメル
カプタンを反応させたのち、エポキシをチア化する方
法、（２）式の結合を有するハロメルカプト化合物を脱
ハロゲン化水素する方法、（２）式の結合を有する不飽
和化合物を酸化し、エポキシ化したのち、エポキシをチ
ア化する方法等があげられるが、これらに限定されるわ
けではない。

【００２８】本発明の化合物を含有する組成物を硬化触
媒の存在下あるいは不存在下に、加熱重合し樹脂を製造
することができる。好ましい方法は硬化触媒を使用する
方法であり、硬化触媒はアミン類、第４級アンモニウム
塩類、フォスフィン類、第４級フォスホニウム塩類、第
３級スルホニウム塩類、第２級ヨードニウム塩類、鉱酸
類、ルイス酸類、有機酸類、ケイ酸類、四フッ化ホウ酸
等が使用される。具体例を、以下に示す。

【００２９】（１）アミン類は前述したものが挙げられ
る。 （２）テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメ
チルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウ
ムアセテート、テトラエチルアンモニウムクロライド、
テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルア
ンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウ
ムフルオライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロ
ライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、
テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヨーダイド、テトラ−
ｎ−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウムボロハイドライド、テトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムヘキサフルオロホスファイト、テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウムハイドロゲンサルファイト、テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラフルオロボーレー
ト、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラフェニルボ
ーレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムパラトルエ
ンスルフォネート、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウム
クロライド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムブロマ
イド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムアセテート、
テトラ−ｎ−オクチルアンモニウムクロライド、テトラ
−ｎ−オクチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−
オクチルアンモニウムアセテート、トリメチル−ｎ−オ
クチルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルア
ンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウ
ムブロマイド、トリエチル−ｎ−オクチルアンモニウム
クロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリ
−ｎ−ブチル−ｎ−オクチルアンモニウムクロライド、
トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムフルオライド、
トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムクロライド、ト
リ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリ
−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムヨーダイド、メチル
トリフェニルアンモニウムクロライド、メチルトリフェ
ニルアンモニウムブロマイド、エチルトリフェニルアン
モニウムクロライド、エチルトリフェニルアンモニウム
ブロマイド、ｎ−ブチルトリフェニルアンモニウムクロ
ライド、ｎ−ブチルトリフェニルアンモニウムブロマイ
ド、１−メチルピリジニウムブロマイド 、１−エチル
ピリジニウムブロマイド 、１−ｎ−ブチルピリジニウ
ムブロマイド 、１−ｎ−ヘキシルピリジニウムブロマ
イド 、１−ｎ−オクチルピリジニウムブロマイド 、１
−ｎ−ドデシルピリジニウムブロマイド 、１−ｎ−フ
ェニルピリジニウムブロマイド 、１−メチルピコリニ
ウムブロマイド 、１−エチルピコリニウムブロマイド
、１−ｎ−ブチルピコリニウムブロマイド 、１−ｎ−
ヘキシルピコリニウムブロマイド 、１−ｎ−オクチル
ピコリニウムブロマイド 、１−ｎ−ドデシルピコリニ
ウムブロマイド 、１−ｎ−フェニルピコリニウムブロ
マイド等の第４級アンモニウム塩。

【００３０】（３）（１）のアミン類とボランおよび三
フッ化ホウ素とのコンプレックス。 （４）トリメチルフォスフィン、トリエチルフォスフィ
ン、トリ−ｉｓｏ−プロピルフォスフィン、トリ−ｎ−
ブチルフォスフィン、トリ−ｎ−ヘキシルフォスフィ
ン、トリ−ｎ−オクチルフォスフィン、トリシクロヘキ
シルホスフィン、トリフェニルフォスフィン、トリベン
ジルホスフィン、トリス（２−メチルフェニル）ホスフ
ィン、トリス（３−メチルフェニル）ホスフィン、トリ
ス（４−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（ジエチ
ルアミノ）ホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）
ホスフィン、ジメチルフェニルフォスフィン、ジエチル
フェニルフォスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホス
フィン、エチルジフェニルフォスフィン、ジフェニルシ
クロヘキシルホスフィン、クロロジフェニルフォスフィ
ン等のフォスフィン類。

【００３１】（５）テトラメチルホスホニウムクロライ
ド、テトラメチルホスホニウムブロマイド、テトラエチ
ルホスホニウムクロライド、テトラエチルホスホニウム
ブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロライ
ド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイド、テト
ラ−ｎ−ブチルホスホニウムヨーダイド、テトラ−ｎ−
ヘキシルホスホニウムブロマイド、テトラ−ｎ−オクチ
ルホスホニウムブロマイド、メチルトリフェニルホスホ
ニウムブロマイド、メチルトリフェニルホスホニウムヨ
ーダイド、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド、エチルトリフェニルホスホニウムヨーダイド、ｎ−
ブチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ｎ−ブチ
ルトリフェニルホスホニウムヨーダイド、ｎ−ヘキシル
トリフェニルホスホニウムブロマイド、ｎ−オクチルト
リフェニルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホ
スホニウムブロマイド、テトラキスヒドロキシメチルホ
スホニウムクロライド、テトラキスヒドロキシメチルホ
スホニウムブロマイド、テトラキスヒドロキシエチルホ
スホニウムクロライド、テトラキスヒドロキシブチルホ
スホニウムクロライ等の第４級フォスホニウム塩。

【００３２】（６）トリメチルスルホニウムブロマイ
ド、トリエチルスルホニウムブロマイド、トリ−ｎ−ブ
チルスルホニウムクロライド、トリ−ｎ−ブチルスルホ
ニウムブロマイド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウムヨー
ダイド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウムテトラフルオロ
ボーレート、トリ−ｎ−ヘキシルスルホニウムブロマイ
ド、トリ−ｎ−オクチルスルホニウムブロマイド、トリ
フェニルスルホニウムクロライド、トリフェニルスルホ
ニウムブロマイド、トリフェニルスルホニウムヨーダイ
ド等のスルホニウム塩。

【００３３】（７）ジフェニルヨードニウムクロライ
ド、ジフェニルヨードニウムブロマイド、ジフェニルヨ
ードニウムヨーダイド等のヨードニウム塩。 （８）塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、炭酸等の鉱酸類および
これらの半エステル類。 （９）三フッ化硼素、三フッ化硼素のエーテラート等に
代表されるルイス酸類。 （１０）有機酸類およびこれらの半エステル類 （１１）ケイ酸、四フッ化ホウ酸。

【００３４】（１２）クミルパーオキシネオデカノエー
ト、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジアリ
ルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオ
キシジカーボネート、ジミリスチルパーオキシジカーボ
ネート、クミルパーオキシネオヘキサノエート、ｔｅｒ
ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−
ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ヘキシ
ルパーオキシネオヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパ
ーオキシネオヘキサノエート、２，４−ジクロロベンゾ
イルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジク
ミルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒ−ブチルパーオキサイ
ド等のパーオキサイド類；クメンヒドロパーオキサイ
ド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイド等の過酸化
物。

【００３５】（１３）２，２’−アゾビス（４−メトキ
シ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−ア
ゾビス（２−シクロプロピルプロピオニトリル）、２，
２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−ア
ゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾ
ビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、１−
〔（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ〕ホルムアミ
ド、２−フェニルアゾ−４−メトキシ−２，４−ジメチ
ル−バレロニトリル２、２’−アゾビス（２−メチルプ
ロパン）、２、２’−アゾビス（２、４、４−トリメチ
ルペンタン）等のアゾ系化合物。

【００３６】（１４）アセトアルデヒドとアンモニアの
反応物、ホルムアルデヒドとパライルイジンの縮合物、
アセトアルデヒドとパライルイジンの縮合物、ホルムア
ルデヒドとアニリンの反応物、アセトアルデヒドとアニ
リンの反応物、ブチルアルデヒドとアニリンの反応物、
ホルムアルデヒドとアセトアルデヒドとアニリンの反応
物、アセトアルデヒドとブチルアルデヒドとアニリンの
反応物、ブチルアルデヒドとモノブチルアミンの縮合
物、ブチルアルデヒドとブチリデンアニリンの反応物、
ヘプトアルデヒドとアニリンの反応物、トリクロトニリ
デン−テトラミンの反応物、α−エチル−β−プロピル
アクロレインとアニリンの縮合物、ホルムアルデヒドと
アルキルイミダゾールの縮合物等のアルデヒドとアミン
系化合物の縮合物。 （１５）ジフェニルグアニジン、フェニルトリルグアニ
ジン、フェニルキシリルグアニジン、トリルキシリルグ
アニジン、ジオルトトリルグアニジン、オルトトリルグ
アニド、ジフェニルグアニジンフタレート、テトラメチ
ルグアニジン、ジカテコールホウ酸のジオルトトリルグ
アニジン塩等のグアニジン類。

【００３７】（１６）チオカルボアニリド、ジオルトト
リルチオ尿素、エチレンチオ尿素、ジエチルチオ尿素、
ジブチルチオ尿素、ジラウリルチオ尿素、トリメチルチ
オ尿素、ジメチルエチルチオ尿素、テトラメチルチオ尿
素、等のチオ尿素類。 （１７）２−メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチ
アジルジスルフィド、２−メルカプトベンゾチアゾール
のシクロヘキシルアミン塩、２−（２，４−ジニトロフ
ェニルチオ）ベンゾチアゾール、２−（モルホリノジチ
オ）ベンゾチアゾール、２−（２，６−ジメチル−４−
モルホリノチオ）ベンゾチアゾール、Ｎ，Ｎ−ジエチル
チオカルバモイル−２−ベンゾチアゾリルスルフィド、
１，３−ビス（２−ベンゾチアゾリルメルカプトメチ
ル）尿素、ベンゾチアジアジルチオベンゾエート、２−
メルカプトチアゾリン、２−メルカプトベンゾチアゾー
ルのナトリウム塩、２−メルカプトベンゾチアゾールの
亜鉛塩、ジベンゾチアジルジスルフィドと塩化亜鉛の錯
塩等のチアゾール類。

【００３８】（１８）Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾ
チアジルスルフェンアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２
−ベンゾチアジルスルフェンアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−オ
クチル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド、Ｎ−オ
キシジエチレン−２−ベンゾチアジルスルフェンアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−ベンゾチアジルスルフェン
アミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２−ベンゾチアジル
スルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシル−２−ベ
ンゾチアジルスルフェンアミド等のスルフェンアミド
類。 （１９）テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラ
エチルチウラムモノスルフィド、テトラブチルチウラム
モノスルフィド、ジペンタメチレンチウラムモノスルフ
ィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチ
ルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスル
フィド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルチ
ウラムジスルフィド、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−Ｎ，Ｎ’−
ジフェニルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチ
ウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィド、環状チウラム等のチウラム類。

【００３９】（２０）ジメチルジチオカルバミン酸ナト
リウム、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジブ
チルジチオカルバミン酸ナトリウム、ペンタメチレンジ
チオカルバミン酸ナトリウム、シクロヘキシルエチルジ
チオカルバミン酸ナトリウム、ジメチルジチオカルバミ
ン酸カリウム、ジメチルジチオカルバミン酸鉛、ジメチ
ルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジベンジル
ジチオカルバミン酸亜鉛、ペンタメチレンジチオカルバ
ミン酸亜鉛、ジメチルペンタメチレンジチオカルバミン
酸亜鉛、エチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメ
チルジチオカルバミン酸ビスマス、ジエチルジチオカル
バミン酸カドミウム、ペンタメチレンジチオカルバミン
酸カドミウム、ジメチルジチオカルバミン酸セレン、ジ
エチルジチオカルバミン酸セレン、ジメチルジチオカル
バミン酸テルル、ジエチルジチオカルバミン酸テルル、
ジメチルジチオカルバミン酸鉄、ジメチルジチオカルバ
ミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸ジエチルアンモ
ニウム、ジブチルジチオカルバミン酸Ｎ，Ｎ−シクロヘ
キシルアンモニウム、ペンタメチレンジチオカルバミン
酸ピペリジン、シクロヘキシルエチルジチオカルバミン
酸シクロヘキシルエチルアンモニウムナトリウム、メチ
ルペンタメチレンジチオカルバミン酸ピペコリン、ペン
タメチレンジチオカルバミン酸亜鉛とピペリジンの錯化
合物等のジチオカルバミン酸塩類。 （２１）イソプロピルキサントゲン酸ナトリウム、イソ
プロピルキサントゲン酸亜鉛、ブチルキサントゲン酸亜
鉛、ジブチルキサントゲン酸ジスルフィド等のキサント
ゲン酸塩類

【００４０】（２２）モノ−および／またはジメチルリ
ン酸、モノ−および／またはジエチルリン酸、モノ−お
よび／またはジプロピルリン酸、モノ−および／または
ジブチルリン酸、モノ−および／またはジヘキシルリン
酸、モノ−および／またはジオクチルリン酸、モノ−お
よび／またはジデシルリン酸、モノ−および／またはジ
ドデシルリン酸、モノ−および／またはジフェニルリン
酸、モノ−および／またはジベンジルリン酸、モノ−お
よび／またはジデカノ−ルリン酸等の酸性リン酸エステ
ル類。

【００４１】以上、本発明の化合物からなる光学材料用
組成物を重合硬化させる際の重合触媒を例示したが、重
合硬化の効果を発現するものであれば、これら列記化合
物に限定されるものではない。これらのなかで硬化物の
着色が少なく好ましいものは、１級モノアミン、２級モ
ノアミン、３級モノアミン、３級ポリアミン、イミダゾ
ール類、アミジン類、４級アンモニウム塩、フォスフィ
ン、４級フォスホニウム塩、第３級スルホニウム塩、第
２級ヨードニウム塩である。また、これらは単独でも２
種類以上を混合して用いても良い。硬化触媒の添加量
は、組成物の成分、混合比および硬化方法によって変化
するため一概には決められないが、通常は組成物総量１
００重量部に対して０．００１重量部から５．０重量
部、好ましくは、０．００５重量部から３．０重量部、
より好ましくは、０．０１重量部から１．０重量部、最
も好ましくは、０．０１重量部から０．５重量部使用す
る。硬化触媒の量が５．０重量部より多いと硬化物の屈
折率、耐熱性が低下し、着色する。また、０．００１重
量部より少ないと十分に硬化せず耐熱性が不十分とな
る。

【００４２】本発明の化合物を含有する組成物を重合硬
化した材料の耐衝撃性をさらに高めるために、耐衝撃性
向上成分として、イソシアネート基および／またはイソ
チオシアネート基を１分子あたり１個以上有する化合物
を併用して使用することも可能である。

【００４３】本発明の化合物を含有する組成物を重合硬
化した材料の耐酸化性を高めるために、耐酸化性向上成
分として、メルカプト基を１分子あたり１個以上有する
化合物を併用して使用することも可能である。

【００４４】本発明の化合物を含有する組成物を重合硬
化した材料の屈折率を高めるために、屈折率向上成分と
して、硫黄原子および／またはセレン原子を１個以上有
する無機化合物を併用して使用することも可能である。
好ましくは無機化合物中の硫黄原子および／またはセレ
ン原子の合計重量の割合が３０％以上であり、この割合
が３０％未満の場合、光学材料用組成物中の硫黄原子お
よび／またはセレン原子の重量の割合の上昇分が小幅と
なるために、樹脂の高屈折率化の効果が小さくなる。

【００４５】硫黄原子を含む無機化合物の具体例として
は、単体硫黄、硫化水素、二硫化炭素、セレノ硫化炭
素、硫化アンモニウム、二酸化硫黄、三酸化硫黄等の硫
黄酸化物、チオ炭酸塩、硫酸およびその塩、硫化水素
塩、亜硫酸塩、次亜硫酸塩、過硫酸塩、チオシアン酸
塩、チオ硫酸塩、二塩化硫黄、塩化チオニル、チオホス
ゲン等のハロゲン化物、硫化ホウ素、硫化窒素、硫化珪
素、硫化リン、硫化砒素、硫化セレン、金属硫化物、金
属水硫化物等があげられる。

【００４６】セレン原子を含む無機化合物の具体例とし
ては、硫黄原子を含む無機化合物の具体例としてあげた
セレノ硫化炭素と硫化セレンを除き、セレン、セレン化
水素、二酸化セレン、二セレン化炭素、セレン化アンモ
ニウム、二酸化セレン等のセレン酸化物、セレン酸およ
びその塩、亜セレン酸およびその塩、セレン酸水素塩、
セレノ硫酸およびその塩、セレノピロ硫酸およびその
塩、四臭化セレン、オキシ塩化セレン等のハロゲン化
物、セレノシアン酸塩、セレン化ホウ素、セレン化リ
ン、セレン化砒素、金属セレン化物等があげられる。

【００４７】本発明の化合物を含有する組成物を重合硬
化した材料の染色性を向上せしめるために、染色性向上
成分として、カルボン酸、メルカプトカルボン酸、ヒド
ロキシカルボン酸、アミド、１，３−ジケトン、１，３
−ジカルボン酸、３−ケトカルボン酸およびそのエステ
ル類、不飽和基を有する化合物と併用して使用すること
も可能である。具体例としては、カルボン酸類として
は、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロ
ン酸、カプリル酸、メチルメルカプトプロピオネート、
蓚酸、マロン酸、琥珀酸、グルタル酸、アジピン酸、シ
クロヘキサンカルボン酸、安息香酸、ｏ−トルイル酸、
ｍ−トルイル酸、ｐ−トルイル酸、２−メトキシ安息香
酸、３−メトキシ安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸、チオジプロピオン酸、ジチオジプロピオ
ン酸等をあげることができる。メルカプトカルボン酸類
としては、チオグリコール酸、２−チオプロピオン酸、
３−チオプロピオン酸、チオ乳酸、メルカプトコハク
酸、チオリンゴ酸、Ｎ−（２−メルカプトプロピオニ
ル）グリシン、２−メルカプト安息香酸、２−メルカプ
トニコチン酸、３，３−ジチオイソ酪酸、ジチオグリコ
ール酸、ジチオプロピオン酸等をあげることができる。
ヒドロキシカルボン酸類としては、ヒドロキシ酢酸、α
−ヒドロキシプロピオン酸、β−ヒドロキシプロピオン
酸、α−ヒドロキシ酪酸、β−ヒドロキシ酢酸、γ−ヒ
ドロキシ酪酸、サリチル酸、３−ヒドロキシ安息香酸、
４−ヒドロキシ安息香酸等があげられる アミド類としては、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムア
ミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、フタル
アミド、イソフタルアミド、テレフタルアミド、ベンズ
アミド、トルアミド、４−ヒドロキシベンズアミド、３
−ヒドロキシベンズアミド等をあげることができる。
１，３−ジケトン類としては、アセチルアセトン、シク
ロヘキサン−１，３，５−トリオン等があげられる。
１，３−ジカルボン酸およびそのエステル類としては、
マロン酸、２−メチルマロン酸等およびそれらのモノ、
ジエステル類があげられる。３−ケトカルボン酸および
そのエステル類としては、アセト酢酸およびそのエステ
ル類等があげられる。また、不飽和基を有する化合物と
して、アルコール類、フェノール類、メルカプタン類、
チオフェノール類、メルカプトアルコール類、カルボン
酸類、アミド類を以下に具体的に示す。不飽和基を有す
るアルコール類としては、２−ヒドロキシエチルメタク
リレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、３−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、１，３−
ジメタクリロキシ−２−プロパノール、１，３−ジアク
リロキシ−２−プロパノール、１−アクリロキシ−３−
メタクリロキシ−２−プロパノール、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、ビス（２，２，２−トリメチロールエチ
ル）エーテルのペンタメタクリレート、ビス（２，２，
２−トリメチロールエチル）エーテルのペンタアクリレ
ート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリ
メチロールプロパンジアクリレート、アリルアルコー
ル、クロチルアルコール、メチルビニルカルビノール、
シンナミルアルコール、４−ビニルベンジルアルコー
ル、３−ビニルベンジルアルコール、２−（４−ビニル
ベンジルチオ）エタノール、２−（３−ビニルベンジル
チオ）エタノール、１，３−ビス（４−ビニルベンジル
チオ）−２−プロパノール、１，３−ビス（３−ビニル
ベンジルチオ）−２−プロパノール、２，３−ビス（４
−ビニルベンジルチオ）−１−プロパノール、２，３−
ビス（３−ビニルベンジルチオ）−１−プロパノール、
３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートビス（アク
リレート）、２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートビ
ス（メタクリレート）、２−ヒドロキシエチルシアヌレ
ートビス（アクリレート）、２−ヒドロキシエチルシア
ヌレートビス（メタクリレート）、３−メチル−１−ブ
チン−３−オール、３−メチル−１−ペンチン−３オー
ル、プロパギルアルコール等のモノヒドロキシ化合物；
ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリス
リトールジアクリレート、ペンタエリスリトールモノメ
タクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、トリ
メチロールプロパンモノアクリレート、２−ヒドロキシ
エチルイソシアヌレートモノ（アクリレート）、２−ヒ
ドロキシエチルイソシアヌレートモノ（メタクリレー
ト）、２−ヒドロキシエチルシアヌレートモノ（アクリ
レート）、２−ヒドロキシエチルシアヌレートモノ（メ
タクリレート）、等のポリヒドロキシ化合物、また、
２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロ
キシプロポキシ）フェニル〕プロパン等の後述するエポ
キシ化合物とアクリル酸またはメタクリル酸の付加反応
で生成する不飽和ポリヒドロキシ化合物等をあげること
ができる。不飽和基を有するフェノール類としては、２
−ビニルフェノール、３−ビニルフェノール、４−ビニ
ルフェノール等をあげることができる。不飽和基を有す
メルカプトアルコール類としては、２−（４−ビニルベ
ンジルチオ）−２−メルカプトエタノール、２−（３−
ビニルベンジルチオ）−２−メルカプトエタノール、等
をあげることができる。不飽和基を有するカルボン酸類
としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、フ
タル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、マレイン
酸、フマル酸、フタル酸モノアリルエステル、ケイ皮酸
等をあげることができる。不飽和基を有するアミド類と
しては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水
マレイン酸、フマル酸等のα、β−不飽和カルボン酸類
のアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド等をあげることがで
きる。これらは、単独でも、２種類以上を混合して使用
してもかまわず、本発明の組成物１００重量部に対して
０．００１〜４０重量部使用可能である。

【００４８】また、本発明の化合物を含有する組成物を
は前述の染色性向上成分の他に、（１）式で表される構
造と反応可能な官能基を２個以上有する化合物、あるい
は、これらの官能基１個以上と他の単独重合可能な官能
基を１個以上有する化合物、これらの単独重合可能な官
能基を１個以上有する化合物、さらには、（１）式で表
される構造と反応可能でかつ単独重合も可能な官能基を
１個有する化合物と硬化重合して製造することもでき
る。（１）式で表される構造と反応可能な官能基を２個
以上有する化合物としては、エポキシ化合物、公知のエ
ピスルフィド化合物、多価カルボン酸無水物等があげら
れる。一方、（１）式で表される構造と反応可能な官能
基１個以上と他の単独重合可能な官能基を１個以上有す
る化合物としては、メタクリル、アクリル、アリル、ビ
ニル、芳香族ビニル等の不飽和基を有するエポキシ化合
物、エピスルフィド化合物、カルボン酸無水物等があげ
られる。単独重合可能な官能基を１個以上有する化合物
としては、メタクリル、アクリル、アリル、ビニル、芳
香族ビニル等の不飽和基を有する化合物があげられる。
以下に（１）式で表される構造と反応可能な官能基を２
個以上有する化合物の具体例を示す。

【００４９】エポキシ化合物の具体例としては、ヒドロ
キノン、カテコール、レゾルシン、ビスフェノールＡ、
ビスフェノールＦ、ビスフェノールスルフォン、ビスフ
ェノールエーテル、ビスフェノールスルフィド、ビスフ
ェノールスルフィド、ハロゲン化ビスフェノールＡ、ノ
ボラック樹脂等の多価フェノール化合物とエピハロヒド
リンの縮合により製造されるフェノール系エポキシ化合
物；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、１、３−プロパンジオール、１、４−
ブタンジオール、１、６−ヘキサンジオール、ネオペン
チルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、ペンタエリスリトール、１、３−
および１、４−シクロヘキサンジオール、１、３−およ
び１、４−シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェ
ノールＡ、ビスフェノルＡ・エチレンオキサイド付加
物、ビスフェノルＡ・プロピレンオキサイド付加物等の
多価アルコール化合物とエピハロヒドリンの縮合により
製造されるアルコール系エポキシ化合物；アジピン酸、
セバチン酸、ドデカンジカルボン酸、ダイマー酸、フタ
ル酸、イソ、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メ
チルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ヘ
キサヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、
ヘット酸、ナジック酸、マレイン酸、コハク酸、フマー
ル酸、トリメリット酸、ベンゼンテトラカルボン酸、ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸、ナフタリンジカルボン
酸、ジフェニルジカルボン酸等の多価カルボン酸化合物
とエピハロヒドリンの縮合により製造されるグリシジル
エステル系エポキシ化合物；エチレンジアミン、１，２
−ジアミノプロパン、１，３−ジアミノプロパン、１，
２−ジアミノブタン、１，３−ジアミノブタン、１，４
−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６
−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，
８−ジアミノオクタン、ビス−（３−アミノプロピル）
エーテル、１，２−ビス−（３−アミノプロポキシ）エ
タン、１，３−ビス−（３−アミノプロポキシ）−２，
２’−ジメチルプロパン、１，２−、１，３−または
１，４−ビスアミノシクロヘキサン、１，３−または
１，４−ビスアミノメチルシクロヘキサン、１，３−ま
たは１，４−ビスアミノエチルシクロヘキサン、１，３
−または１，４−ビスアミノプロピルシクロヘキサン、
水添４，４’−ジアミノジフェニルメタン、イソホロン
ジアミン、１，４−ビスアミノプロピルピペラジン、ｍ
−またはｐ−フェニレンジアミン、２，４−または２，
６−トリレンジアミン、ｍ−またはｐ−キシリレンジア
ミン、１，５−または２，６−ナフタレンジアミン、
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジア
ミノジフェニルエーテル、２，２−（４，４’−ジアミ
ノジフェニル）プロパン等の一級ジアミン、Ｎ，Ｎ’−
ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，
２−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，３−
ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，２−ジア
ミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，３−ジアミノブ
タン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，４−ジアミノブタン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，５−ジアミノペンタン、Ｎ，
Ｎ’−ジメチル−１，６−ジアミノヘキサン、Ｎ，Ｎ’
−ジメチル−１，７−ジアミノヘプタン、Ｎ，Ｎ’−ジ
エチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，２
−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，３−ジ
アミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，２−ジアミ
ノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，３−ジアミノブタ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，４−ジアミノブタン、
Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，６−ジアミノヘキサン、ピペ
ラジン、２−メチルピペラジン、２，５−または２，６
−ジメチルピペラジン、ホモピペラジン、１，１−ジ−
（４−ピペリジル）−メタン、１，２−ジ−（４−ピペ
リジル）−エタン、１，３−ジ−（４−ピペリジル）−
プロパン、１，４−ジ−（４−ピペリジル）−ブタン等
のニ級ジアミンとエピハロヒドリンの縮合により製造さ
れるアミン系エポキシ化合物；３、４−エポキシシクロ
ヘキシル−３、４−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、ビニルシクリヘキサンジオキサイド、２−
（３、４−エポキシシクロヘキシル）−５、５−スピロ
−３、４−エポキシシクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、ビス（３、４−エポキシシクロヘキシル）アジペー
ト等の脂環式エポキシ化合物；シクロペンタジエンエポ
キシド、エポキシ化大豆油、エポキシ化ポリブタジエ
ン、ビニルシクロヘキセンエポキシド等の不飽和化合物
のエポキシ化により製造されるエポキシ化合物；上述の
多価アルコール、フェノール化合物とジイソシアネート
およびグリシドール等から製造されるウレタン系エポキ
シ化合物等をあげることができる。

【００５０】エピスルフィド化合物の具体例としては、
以上のエポキシ化合物のエポキシ基の一部あるいは全て
をエピスルフィド化して得られるエピスルフィド化合物
をあげることができる。

【００５１】多価カルボン酸無水物等の具体例としては
上述のエポキシ化合物のところで説明したエピハロヒド
リンと反応させる相手の原料として上述したものをあげ
ることができる。

【００５２】また、以下に（１）式で表される構造と反
応可能な官能基１個以上と他の単独重合可能な官能基を
１個以上有する化合物の代表的具体例を示す。不飽和基
を有するエポキシ化合物としては、ビニルフェニルグリ
シジルエーテル、ビニルベンジルグリシジルエーテル、
グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、
アリルグリシジルエーテル等をあげることができる。

【００５３】単独重合可能な官能基を１個以上有する化
合物の具体例としては、メチルアクリレート、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレ
ート、エチレングリコールジアクリレート、エチレング
リコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジア
クリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレン
グリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコール
ジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレ
ート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、
１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、１，６
−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサン
ジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプ
ロピレングリコールジメタクリレート、２，２−ビス
〔４−（アクリロキシエトキシ）フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−（メタクリロキシエトキシ）フェニ
ル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（アクリロキシ・ジ
エトキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−
（メタクリロキシ・ジエトキシ）フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−（アクリロキシ・ポリエトキシ）フ
ェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（メタクリロキ
シ・ポリエトキシ）フェニル〕プロパン、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、ビス（２，２，２−トリメチロールエチル）エーテ
ルのヘキサアクリレート、ビス（２，２，２−トリメチ
ロールエチル）エーテルのヘキサメタクリレート等の１
価以上のアルコールとアクリル酸、メタクリル酸のエス
テル構造を有する化合物；アリルスルフィド、ジアリル
フタレート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート等のアリル化合物；アクロレイン、アクリロニトリ
ル、ビニルスルフィド等のビニル化合物；スチレン、α
−メチルスチレン、メチルビニルベンゼン、エチルビニ
ルベンゼン、α−クロロスチレン、クロロビニルベンゼ
ン、ビニルベンジルクロライド、パラジビニルベンゼ
ン、メタジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化合物等が
あげられる。

【００５４】また、（１）式で表される構造と反応可能
でかつ単独重合も可能な官能基を１個有する化合物の好
ましい具体例としてはエポキシ基あるいはエピスルフィ
ド基を１個有する化合物をあげることができる。より具
体的には、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、グリシドール等のモノエポキシ化合物類、酢酸、プ
ロピオン酸、安息香酸等のモノカルボン酸のグリシジル
エステル類、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシ
ジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、ブチルグ
リシジルエーテル等のグリシジルエーテル類あるいは、
エチレンスルフィド、プロピレンスルフィド等のモノエ
ピスルフィド化合物、上述のモノカルボン酸とチオグリ
シドール（１、２−エピチオ−３−ヒドロキシプロパ
ン）から誘導される構造を有するチオグリシジルエステ
ル類をあげることができる。これらの中でより好ましい
ものはエピスルフィド基を１個有する化合物である。

【００５５】本発明の組成物の（１）式で表される構造
と反応可能な官能基を１個以上有する化合物あるいは、
これらの官能基１個以上と他の単独重合可能な官能基を
１個以上有する化合物とは、硬化重合触媒の存在下、硬
化重合し製造することができる。硬化触媒は、前述のア
ミン類、ホスフィン類、酸類等が使用される。具体例と
しては、前述のものがここでも使用される。

【００５６】さらに、不飽和基を有する化合物を使用す
る際には、重合促進剤として、ラジカル重合開始剤を使
用する事は好ましい方法である。ラジカル重合開始剤と
は、加熱あるいは紫外線や電子線によってラジカルを生
成するものであれば良く、具体例としては、クミルパー
オキシネオデカノエート、ジイソプロピルパーオキシジ
カーボネート、ジアリルパーオキシジカーボネート、ジ
−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジミリスチ
ルパーオキシジカーボネート、クミルパーオキシネオヘ
キサノエート、ｔｅｒ−ヘキシルパーオキシネオデカノ
エート、ｔｅｒ−ブチルパーオキシネオデカノエート、
ｔｅｒ−ヘキシルパーオキシネオヘキサノエート、ｔｅ
ｒ−ブチルパーオキシネオヘキサノエート、２，４−ジ
クロロベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキ
サイド、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒ−ブチル
パーオキサイド等のパーオキサイド類；クメンヒドロパ
ーオキサイド、ｔｅｒ−ブチルヒドロパーオキサイド等
のヒドロパーオキサイド類；２，２’−アゾビス（４−
メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，
２’−アゾビス（２−シクロプロピルプロピオニトリ
ル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニ
トリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、
２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、
１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニト
リル）、１−〔（１−シアノ−１−メチルエチル）ア
ゾ〕ホルムアミド、２−フェニルアゾ−４−メトキシ−
２，４−ジメチル−バレロニトリル２、２’−アゾビス
（２−メチルプロパン）、２、２’−アゾビス（２、
４、４−トリメチルペンタン）等のアゾ系化合物等の公
知の熱重合触媒、ベンゾフェノン、ベンゾインベンゾイ
ンメチルエーテル等の公知の光重合触媒が挙げられる。
これらのなかで好ましいものは、パーオキサイド類、ヒ
ドロパーオキサイド類、アゾ系化合物であり、より好ま
しいものは、パーオキサイド類、アゾ系化合物であり、
最も好ましいものは、２，２’−アゾビス（４−メトキ
シ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−ア
ゾビス（２−シクロプロピルプロピオニトリル）、２，
２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−ア
ゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾ
ビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、１−
〔（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ〕ホルムアミ
ド、２−フェニルアゾ−４−メトキシ−２，４−ジメチ
ル−バレロニトリル、２、２’−アゾビス（２−メチル
プロパン）２、２’−アゾビス、（２、４、４−トリメ
チルペンタン）等のアゾ系化合物である。またこれら
は、単独でも混合しても使用することができる。ラジカ
ル重合開始剤の配合量は、組成物の成分や硬化方法によ
って変化するので一慨には決められないが、通常は組成
物総量に対して０．０１ｗｔ％〜５．０ｗｔ％、好まし
くは０．１ｗｔ％〜２．０ｗｔ％の範囲である。

【００５７】さらには、本発明に関わる組成物にはこれ
らばかりでなく、エピスルフィドのオリゴマー類、エピ
スルフィド合成時に用いた溶媒や酸類、未反応原料、副
生成物も問題にならない範囲で含まれて良い。

【００５８】また、本発明の化合物の粘度上昇を抑制し
安定化を図るために、長期周期律表における第１３〜１
６族のハロゲン化物を加えることももちろん可能であ
る。その具体例としては塩化アルミニウム、塩化インジ
ウム、塩化タリウム、三塩化リン、五塩化リン、塩化ビ
スマス等の塩化物およびこれらの塩素の全部または一部
をフッ素、臭素、ヨウ素へ変えた化合物、ジフェニルク
ロロホウ素、フェニルジクロロホウ素、ジエチルクロロ
ガリウム、ジメチルクロロインジウム、ジエチルクロロ
タリウム、ジフェニルクロロタリウム、エチルジクロロ
ホスフィン、ブチルジクロロホスフィン、トリフェニル
ホスフィンジクロライド、ジフェニルクロロヒ素、テト
ラフェニルクロロヒ素、ジフェニルジクロロセレン、フ
ェニルクロロセレン、ジフェニルジクロロテルル等のハ
ロゲンと炭化水素基を有する化合物およびこれらの塩素
の全部または一部をフッ素、臭素、ヨウ素へ変えた化合
物、クロロフェノール、ジクロロフェノール、トリクロ
ロフェノール、クロロアニリン、ジクロロアニリン、ク
ロロニトロベンゼン、ジクロロニトロベンゼン、クロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ク
ロロアセトフェノン、クロロトルエン、クロロニトロア
ニリン、クロロベンジルシアナイド、クロロベンズアル
デヒド、クロロベンゾトリクロライド、クロロナフタレ
ン、ジクロロナフタレン、クロロチオフェノール、ジク
ロロチオフェノール、メタリルクロライド、塩化ベンジ
ル、塩化ベンジルクロライド、クロロ酢酸、ジクロロ酢
酸、トリクロロ酢酸、クロロコハク酸、シュウ酸ジクロ
ライド、トリグリコールジクロライド、メタンスルホニ
ルクロライド、クロロ安息香酸、クロロサリチル酸、
４，５−ジクロロフタル酸、３，５−ジクロロサリチル
酸、イソプロピルクロライド、アリルクロライド、エピ
クロロヒドリン、クロロメチルチイラン、プロピレンク
ロロヒドリン、クロラニル、ジクロロジシアノベンゾキ
ノン、ジクロロフェン、ジクロロ−１，４−ベンゾキノ
ン、ジクロロベンゾフェノン、Ｎ−クロロフタルイミ
ド、１，３−ジクロロ−２−プロパノール、２，３−ジ
クロロプロピオン酸メチル、ｐ−クロロベンゼンスルホ
ン酸、２−クロロプロピオン酸エチル、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等の炭化水素のハロゲン
置換体や安息香酸クロライド、フタル酸クロライド、イ
ソフタル酸クロライド、テレフタル酸クロライド、メタ
クリル酸クロライド、コハク酸クロライド、フマル酸ク
ロライド、ニコチン酸クロライド、クロロニコチン酸ク
ロライド、オレイン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ク
ロロベンゾイルクロライド、プロピオン酸クロライド等
の酸クロライドに代表される有機ハロゲン化物およびこ
れらの塩素の全部または一部をフッ素、臭素、ヨウ素へ
変えた化合物等が挙げられるが、より好ましくはケイ
素、ゲルマニウム、スズ、アンチモンのハロゲン化物で
ある。ケイ素、ゲルマニウム、スズ、アンチモンのハロ
ゲン化物具体例としては、以下の物が挙げられる。

【００５９】ケイ素ハロゲン化物の具体例としては、四
塩化ケイ素、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロ
ロシラン、トリメチルクロロシラン、エチルトリクロロ
シラン、ジエチルジクロロシラン、トリエチルクロロシ
ラン、プロピルトリクロロシラン、ジプロピルジクロロ
シラン、トリプロピルクロロシラン、ｎ−ブチルトリク
ロロシラン、ジｎ−ブチルジクロロシラン、トリｎ−ブ
チルクロロシラン、ｔ−ブチルトリクロロシラン、ジｔ
−ブチルジクロロシラン、トリｔ−ブチルクロロシラ
ン、オクチルトリクロロシラン、ジオクチルジクロロシ
ラン、トリオクチルクロロシラン、フェニルトリクロロ
シラン、ジフェニルジクロロシラン、トリフェニルクロ
ロシラン、アリルクロロジメチルシラン、トリクロロア
リルシラン、ｔ−ブチルクロロジメチルシラン、ジフェ
ニルーｔ−ブチルクロロシラン、ｔ−ブトキシクロロジ
フェニルシラン、トリメチル（２−クロロアリル）シラ
ン、トリメチルクロロメチルシラン、ｎ−ブチルクロロ
ジメチルシラン、およびこれらの塩素の全部または一部
をフッ素、臭素、ヨウ素へ変えたものがあげられる。

【００６０】ゲルマニウムハロゲン化物の具体例として
は、四塩化ゲルマニウム、メチルゲルマニウムトリクロ
ライド、ジメチルゲルマニウムジクロライド、トリメチ
ルゲルマニウムクロライド、エチルゲルマニウムトリク
ロライド、ジエチルゲルマニウムジクロライド、トリエ
チルゲルマニウムクロライド、プロピルゲルマニウムト
リクロライド、ジプロピルゲルマニウムジクロライド、
トリプロピルゲルマニウムクロライド、ｎ−ブチルゲル
マニウムトリクロライド、ジｎ−ブチルゲルマニウムジ
クロライド、トリｎ−ブチルゲルマニウムクロライド、
ｔ−ブチルゲルマニウムトリクロライド、ジｔ−ブチル
ゲルマニウムジクロライド、トリｔ−ブチルゲルマニウ
ムクロライド、アミルゲルマニウムトリクロライド、ジ
アミルゲルマニウムジクロライド、トリアミルゲルマニ
ウムクロライド、オクチルゲルマニウムトリクロライ
ド、ジオクチルゲルマニウムジクロライド、トリオクチ
ルゲルマニウムクロライド、フェニルゲルマニウムトリ
クロライド、ジフェニルゲルマニウムジクロライド、ト
リフェニルゲルマニウムクロライド、トルイルゲルマニ
ウムトリクロライド、ジトルイルゲルマニウムジクロラ
イド、トリトルイルゲルマニウムクロライド、ベンジル
ゲルマニウムトリクロライド、ジベンジルゲルマニウム
ジクロライド、トリベンジルゲルマニウムクロライド、
シクロヘキシルゲルマニウムトリクロライド、ジシクロ
ヘキシルゲルマニウムジクロライド、トリシクロヘキシ
ルゲルマニウムクロライド、ビニルゲルマニウムトリク
ロライド、ジビニルゲルマニウムジクロライド、トリビ
ニルゲルマニウムクロライド、アリルトリクロロゲルマ
ン、ビス（クロロメチル）ジメチルゲルマン、クロロメ
チルトリクロロゲルマン、ｔ−ブチルジメチルクロロゲ
ルマン、カルボキシエチルトリクロロゲルマン、クロロ
メチルトリメチルゲルマン、ジクロロメチルトリメチル
ゲルマン、３−クロロプロピルトリクロロゲルマン、フ
ェニルジメチルクロロゲルマン、３−（トリクロロゲル
ミル）プロピオニルクロライド、およびこれらの塩素の
全部または一部をフッ素、臭素、ヨウ素へ変えたものが
あげられる。

【００６１】スズハロゲン化物の具体例としては、四塩
化スズ、ジエチルジクロロスズ、ジメチルスズジクロラ
イド、トリメチルスズクロライド、エチルスズトリクロ
ライド、ジエチルスズジクロライド、トリエチルスズク
ロライド、プロピルスズトリクロライド、ジプロピルス
ズジクロライド、トリプロピルスズクロライド、ｎ−ブ
チルスズトリクロライド、ジｎ−ブチルスズジクロライ
ド、トリｎ−ブチルスズクロライド、ｔ−ブチルスズト
リクロライド、ジｔ−ブチルスズジクロライド、トリｔ
−ブチルスズクロライド、アミルスズトリクロライド、
ジアミルスズジクロライド、トリアミルスズクロライ
ド、オクチルスズトリクロライド、ジオクチルスズジク
ロライド、トリオクチルスズクロライド、フェニルスズ
トリクロライド、ジフェニルスズジクロライド、トリフ
ェニルスズクロライド、トルイルスズトリクロライド、
ジトルイルスズジクロライド、トリトルイルスズクロラ
イド、ベンジルスズトリクロライド、ジベンジルスズジ
クロライド、トリベンジルスズクロライド、シクロヘキ
シルスズトリクロライド、ジシクロヘキシルスズジクロ
ライド、トリシクロヘキシルスズクロライド、ビニルス
ズトリクロライド、ジビニルスズジクロライド、トリビ
ニルスズクロライド、ブチルクロロジヒドロキシスズ、
ビス（２，４−ペンタジオナート）ジクロロスズ、カル
ボメトキシエチルトリクロロスズ、クロロメチルトリメ
チルスズ、ジアリルジクロロスズ、ジブチルブトキシク
ロロスズ、トリｎ−ペンチルクロロスズ、およびこれら
の塩素の全部または一部をフッ素、臭素、ヨウ素へ変え
たものがあげられる。

【００６２】アンチモンハロゲン化物の具体例として
は、五塩化アンチモン、メチルアンチモンテトラクロラ
イド、ジメチルアンチモントリクロライド、トリメチル
アンチモンジクロライド、テトラメチルアンチモンクロ
ライド、エチルアンチモンテトラクロライド、ジエチル
アンチモントリクロライド、トリエチルアンチモンジク
ロライド、テトラエチルアンチモンクロライド、ブチル
アンチモンテトラクロライド、ジブチルアンチモントリ
クロライド、トリブチルアンチモンジクロライド、テト
ラブチルアンチモンクロライド、フェニルアンチモンテ
トラクロライド、ジフェニルアンチモントリクロライ
ド、トリフェニルアンチモンジクロライド、テトラフェ
ニルアンチモンクロライド、およびこれらの塩素の全部
または一部をフッ素、臭素、ヨウ素へ変えたものがあげ
られる。

【００６３】しかしながら、これらに限定されるわけで
はなく、またこれらは単独でも２種類以上を混合して使
用してもかまわない。以上記載のうち好ましいものは塩
化物であり、より好ましくは、トリクロロまたはジクロ
ロ化合物であり、さらに好ましくはアルキル基を有する
ゲルマニウム、スズ、アンチモンのトリクロロまたはジ
クロロ化合物である。最も好ましいものの具体例はジブ
チルスズジクロライド、ブチルスズトリクロライド、ジ
オクチルスズジクロライド、オクチルスズトリクロライ
ド、ジブチルジクロロゲルマニウム、ブチルトリクロロ
ゲルマニウム、ジフェニルジクロロゲルマニウム、フェ
ニルトリクロロゲルマニウム、トリフェニルアンチモン
ジクロライドである。添加量についてはエピスルフィド
化合物総重量に対して０．００１から１０ｗｔ％におい
て用いられるが、好ましくは０．０１から１ｗｔ％であ
る。この添加量はエピスルフィドの種類、第１３から１
６族のハロゲン化物の種類により適宜決められ、またエ
ピスルフィド化合物からなる組成物に添加する場合はそ
の組成およびコモノマーの種類により添加量を調節する
ことが望ましい。（１）式で表される構造を１分子中に
１個以上有する化合物に長期周期律表における第１３か
ら１６族のハロゲン化物を添加する際の添加方法につい
ては、別格の手段を講ずる必要はない。

【００６４】本発明により粘度上昇が抑制された（１）
式で表される構造を１分子中に１個以上有する化合物に
は、本発明の効果を妨げるものでない限り、公知のエピ
スルフィド化合物安定剤を併用してもよい。

【００６５】また、本発明の組成物を重合硬化して光学
材料を得るに際して、公知の酸化防止剤、紫外線吸収
剤、黄変防止剤、ブルーイング剤、顔料等の添加剤を加
えて、得られる材料の実用性をより向上せしめることは
もちろん可能である。

【００６６】また、本発明の化合物は重合中に型から剥
がれやすい場合は、公知の外部および／または内部密着
性改善剤を使用または添加して、得られる硬化材料と型
の密着性を制御向上せしめることも必要である。ここに
言う内部密着性改善剤とは、具体例としては、３−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエ
チル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシラン化合
物等を言い、本発明の組成物１００重量部に対して０．
０００１〜５重量部使用することができる。逆に、本発
明の組成物は重合後に型から剥がれにくい場合は、公知
の外部および／または内部離型剤を使用または添加し
て、得られる硬化材料の型からの離型性を向上せしめる
ことも可能である。ここに言う内部離型剤とは、フッ素
系ノニオン界面活性剤、シリコン系ノニオン界面活性
剤、アルキル第４級アンモニウム塩、燐酸エステル、酸
性燐酸エステル、オキシアルキレン型酸性燐酸エステ
ル、酸性燐酸エステルのアルカリ金属塩、オキシアルキ
レン型酸性燐酸エステルのアルカリ金属塩、高級脂肪酸
の金属塩、高級脂肪酸エステル、パラフィン、ワック
ス、高級脂肪族アミド、高級脂肪族アルコール、ポリシ
ロキサン類、脂肪族アミンエチレンオキシド付加物等が
あげられる。

【００６７】本発明の組成物を重合硬化して光学材料を
得るに際し、原料となる化合物、さらには所望に応じて
前述の各化合物、硬化触媒、密着性改善剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤等の添加剤を混合後、次の様にして重
合硬化してレンズ等の光学材料とされる。即ち、混合後
の原料をガラスや金属製の型に注入し、加熱によって重
合硬化反応を進めた後、型から外し製造される。原料化
合物、副原料の成分は、その一部または全量を注型前に
触媒の存在下または非存在下、撹拌下または非撹拌下で
−１００〜１６０℃で、０．１〜１００時間にかけて予
備的に反応せしめた後組成物を調製して注型を行う事も
可能である。

【００６８】硬化時間は０．１〜２００時間、通常１〜
１００時間であり、硬化温度は−１０〜１６０℃、通常
−１０〜１４０℃である。重合は所定の重合温度で所定
時間のホールド、０．１℃〜１００℃／ｈの昇温、０．
１℃〜１００℃／ｈの降温およびこれらの組み合わせで
行うことができる。また、硬化終了後、材料を５０から
１５０℃の温度で１０分から５時間程度アニール処理を
行う事は、本発明の光学材料の歪を除くために好ましい
処理である。さらに必要に応じて染色、ハードコート、
耐衝撃性コート、反射防止、防曇性付与等表面処理を行
うことができる。

【００６９】本発明の組成物を重合硬化して光学材料を
製造する方法は、さらに詳しく述べるならば以下の通り
である。前述の様に、主原料および副原料を混合後、型
に注入硬化して製造されるが、主原料である化合物と所
望により使用される副原料、抗酸化成分、硬化触媒、ラ
ジカル重合開始剤、密着性改善剤、安定剤等は、全て同
一容器内で同時に撹拌下に混合しても、各原料を段階的
に添加混合しても、数成分を別々に混合後さらに同一容
器内で再混合しても良い。各原料および副原料はいかな
る順序で混合してもかまわない。

【００７０】混合にあたり、設定温度、これに要する時
間等は基本的には各成分が十分に混合される条件であれ
ばよいが、過剰の温度、時間は各原料、添加剤間の好ま
しくない反応が起こり、さらには粘度の上昇を来たし注
型操作を困難にする等適当ではない。混合温度は−２０
℃から１００℃程度の範囲で行われるべきであり、好ま
しい温度範囲は−１０℃から５０℃、さらにに好ましい
のは、−５℃から３０℃である。混合時間は、１分から
５時間、好ましくは５分から２時間、さらに好ましくは
５分から３０分、最も好ましいのは５分から１５分程度
である。各原料、添加剤の混合前、混合時あるいは混合
後に、減圧下に脱ガス操作を行う事は、後の中型重合硬
化中の気泡発生を防止する点からは好ましい方法であ
る。この時の減圧度は０．１ｍｍＨｇから７００ｍｍＨ
ｇ程度で行うが、好ましいのは１０ｍｍＨｇから３００
ｍｍＨｇである。さらに、型への注入に際して、０．１
〜５μｍ程度の孔径のミクロフィルター等で不純物等を
濾過し除去することは本発明の光学材料の品質をさらに
高める上からも好ましい。

【００７１】

【発明の効果】本発明の化合物を重合硬化して得られる
樹脂により十分に高い強度を有し高い屈折率と良好なア
ッベ数のバランスの良い従来技術にない光学材料が得ら
れた。

【００７２】

【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、
評価は以下の方法で行った。 屈折率、アッベ数：アッベ屈折計を用い、２５℃で測定
した 耐衝撃性：２．５ｍｍ厚の平板に１２７ｃｍの高さより
３００ｇの鉄球を落下させて、破壊しないものを○、破
壊したものを×とした。 耐熱性：ＴＭＡを用い、１ｍｍのピンに１０ｇの荷重を
与え１０℃／分で昇温し軟化点を測定した。軟化点が１
００℃以上のものを○、８０℃以上１００℃未満のもの
を△、８０℃以下のものを×とした。

【００７３】合成例１（１，３−ビス（β−エピチオプ
ロピルチオカルボキシアミドメチル）ベンゼン（化合物
Ａ）の合成）

【化１２】 文献（例えばＦ．Ｐ．Ｄｏｙｌｅら、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．，１９６０，２６６０）既知の方法で合成したβ
−エピチオプロピルメルカプタン２１２．４ｇ（２．０
ｍｏｌ）、ｍ−キシリレンジイソシアネート１８８．２
ｇ（１．０ｍｏｌ）およびジブチルスズジラウレート
０．３ｇを乾燥フラスコ中で混合し６０℃で５時間攪拌
した。冷却後、ヘキサンで洗浄し、１，３−ビス（β−
エピチオプロピルチオカルボキシアミドメチル）ベンゼ
ンを３８８．６ｇ（収率９７％）得た。生成物の分析値
は以下の通りであった。

【表１】 ¹Ｈ−ＮＭＲ：2.2ppm(2H)、2.5ppm(2H)、2.7ppm(2H)、
3.0-3.1ppm(4H)、4.2ppm(4H)、5.4ppm(2H)、7.1-7.2ppm
(1H)、7.3-7.4ppm(3H)¹³ Ｃ−ＮＭＲ：25.6ppm、33.8ppm、38.6ppm、44.4ppm、
126.2ppm、126.5ppm、126.9ppm、141.0ppm、170.5ppm マススペクトル（ＥＩ）：Ｍ⁺４００（理論値４００）

【００７４】合成例２（１，３−ビス（β−エピチオプ
ロピルチオカルボキシアミドメチル）シクロヘキサン
（化合物Ｂ）の合成）

【化１３】 合成例１においてｍ−キシリレンジイソシアネートの代
わりに１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘ
キサンを用い、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチ
オカルボキシアミドメチル）シクロヘキサン（化合物
Ｂ）を３９８．５ｇ（収率９８％）得た。生成物の分析
値は以下の通りであった。

【表２】 ¹Ｈ−ＮＭＲ：1.2-1.8ppm(10H)、2.2ppm(2H)、2.5ppm(2
H)、2.7ppm(2H)、3.0-3.1ppm(4H)、3.2-3.4ppm(4H)、4.
6ppm(2H)¹³ Ｃ−ＮＭＲ：23.0ppm、25.6ppm、29.3ppm、33.8ppm、
34.5ppm、34.8ppm、38.6ppm、39.8ppm、170.5ppm マススペクトル（ＥＩ）：Ｍ⁺４０６（理論値４０６）

【００７５】合成例３（ビス（β−エピチオプロピルチ
オカルボキシアミドメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン（化合物Ｃ）の合成）

【化１４】 合成例１においてｍ−キシリレンジイソシアネートの代
わりにノルボルネンジイソシアネートを用い、ビス（β
−エピチオプロピルチオカルボキシアミドメチル）ビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン（化合物Ｃ）を４０１．９
ｇ（収率９６％）得た。生成物の分析値は以下の通りで
あった。

【表３】 ¹Ｈ−ＮＭＲ：1.2-1.8ppm(10H)、2.2ppm(2H)、2.5ppm(2
H)、2.7ppm(2H)、3.0-3.1ppm(4H)、3.2-3.4ppm(4H)、4.
6ppm(2H)¹³ Ｃ−ＮＭＲ：25.6ppm、31.4ppm、32.9ppm、33.8ppm、
37.2ppm、39.5ppm、38.6ppm、41.8ppm、170.5ppm マススペクトル（ＥＩ）：Ｍ⁺４１８（理論値４１８）

【００７６】合成例４（２，５−ビス（β−エピチオプ
ロピルチオカルボキシアミドメチル）-１，４−ジチア
ン（化合物Ｄ）の合成）

【化１５】 合成例１においてｍ−キシリレンジイソシアネートの代
わりに２，５−ビス（イソシアネートメチル）-１，４
−ジチアンを用い、２，５−ビス（β−エピチオプロピ
ルチオカルボキシアミドメチル）-１，４−ジチアン
（化合物Ｄ）を４２５．０ｇ（収率９６％）得た。生成
物の分析値は以下の通りであった。

【表４】 ¹Ｈ−ＮＭＲ：2.2ppm(2H)、2.5ppm(2H)、2.7ppm(2H)、
3.0-3.1ppm(4H)、3.1-3.4ppm(6H)、3.5-3.6ppm(4H)、5.
4ppm(2H)¹³ Ｃ−ＮＭＲ：25.6ppm、32.5ppm、32.8ppm、38.6ppm、
44.2ppm、45.2ppm、174.3ppm マススペクトル（ＥＩ）：Ｍ⁺４４２（理論値４４２）

【００７７】実施例１〜１３ 下記表５に示す化合物１００重量部に対しテトラブチル
ホスホニウムブロマイド０．１重量部を混合攪拌し、均
一液とした。減圧下脱気したのちレンズ用モールドに注
入し、オーブン中５０℃から１１０℃まで２２時間かけ
て昇温して重合硬化させ、レンズを製造した。得られた
レンズは優れた光学物性、高い衝撃性、良好な耐熱性お
よび物理特性を示し、さらに表面状態は良好であり、脈
理、面変形も見られなかった。得られたレンズの諸物性
を表５に示した。

【００７８】

【表５】 化合物Ｅ：下記（式ａ）においてＲ＝ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＣＨ
₂ＣＨ₂である化合物。 化合物Ｆ：下記（式ａ）においてＲが

【化１６】 である化合物。

【化１７】 化合物Ｇ：下記（式ｂ）においてＲ＝ＣＨ₂Ｃ₆Ｈ₁₀ＣＨ
₂である化合物

【化１８】 化合物Ｈ：下記（式ｃ）で表される化合物

【化１９】 化合物Ｉ：下記（式ｄ）で表される化合物

【化２０】 化合物Ｊ：ＨＳＣＨ₂ＣＨ₂ＳＣＨ₂ＣＨ₂ＳＨ 化合物Ｋ：下記（式ｅ）においてＲ＝ＣＨ₂Ｃ₆Ｈ₄ＣＨ₂
である化合物。

【化２１】

【００７９】比較例１〜５ 表６に示す化合物１００重量部に対しテトラブチルホス
ホニウムボロマイド０．１重量部を室温で混合攪拌し、
均一液とした。減圧下脱気したのちレンズ用モールドに
注入し、オーブン中２０℃から１１０℃まで２２時間か
けて昇温して重合硬化させ、レンズを製造した。得られ
たレンズの諸物性を表６に示した。

【００８０】

【表６】 化合物Ｋ：１，２：６，７−ジエピチオ−４−チアヘプ
タン 化合物Ｌ：ｍ−キシリレンジイソシアネート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堀越 裕 東京都葛飾区新宿６丁目１番１号 三菱瓦 斯化学株式会社東京研究所内 Ｆターム(参考） 4J030 BA05 BB35 BF07 BF09 BG25

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記（１）式と（２）式で表される構造を
   それぞれ１分子中に１個以上有するエピスルフィド化合
   物。 【化１】 【化２】 （Ｘ、ＹはそれぞれＯまたはＳを示す。）
2. 【請求項２】下記（３）式で表される構造を１分子中に
   １個以上有するエピスルフィド化合物。 【化３】 （Ｒ¹は単結合または炭素数１から１０の炭化水素でス
   ルフィド結合を有しても良い。Ｘ、ＹはＯまたはＳを示
   す。ｐは０または１を示す。）
3. 【請求項３】下記（４）式で表される構造を１分子中に
   １個以上有するエピスルフィド化合物。 【化４】 （ＸはＯまたはＳを示す。）
4. 【請求項４】下記（５）式で表されるエピスルフィド化
   合物。 【化５】 （Ｒ²は炭素数１から２０の炭化水素でスルフィド結合
   を有しても良い。ＸはＯまたはＳを示す。）
5. 【請求項５】請求項１〜４のいずれか１項記載のエピス
   ルフィド化合物を含有する樹脂用組成物。
6. 【請求項６】請求項５記載の組成物を重合硬化して得ら
   れる光学材料。
7. 【請求項７】請求項６記載の光学材料からなる光学レン
   ズ。
8. 【請求項８】請求項５記載の組成物を重合硬化して樹脂
   を得る方法。