JP2003021759A - 光ファイバ - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/027—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
- C03B37/02781—Hollow fibres, e.g. holey fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/14—Non-solid, i.e. hollow products, e.g. hollow clad or with core-clad interface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/42—Photonic crystal fibres, e.g. fibres using the photonic bandgap PBG effect, microstructured or holey optical fibres
Abstract
(57)【要約】
【課題】 実効コア断面積を大きくすると共に、材料劣
化を抑制し、長い寿命を実現すること。 【解決手段】 軸方向に対して垂直な断面に設けられ、
シリカガラスで形成されたコア領域１及びこのコア領域
１を包囲するクラッド領域２と、少なくともクラッド領
域に設けられ、シリカガラス中に所定の断面積を有する
複数の空孔３を含む微細構造とを備え、波長４００ｎｍ
の光の伝搬モードが基底モード以外に少なくとも一つ存
在し、波長の光を伝搬させる構成を採る。
化を抑制し、長い寿命を実現すること。 【解決手段】 軸方向に対して垂直な断面に設けられ、
シリカガラスで形成されたコア領域１及びこのコア領域
１を包囲するクラッド領域２と、少なくともクラッド領
域に設けられ、シリカガラス中に所定の断面積を有する
複数の空孔３を含む微細構造とを備え、波長４００ｎｍ
の光の伝搬モードが基底モード以外に少なくとも一つ存
在し、波長の光を伝搬させる構成を採る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路として好
適な光ファイバに関する。
適な光ファイバに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、紫外光を伝送する光ファイバ
は、材料劣化が生じるため、寿命が短くなるという問題
があった。このような紫外光による材料劣化を抑制する
ためには、シリカガラスにフッ素を添加することが有効
であった。すなわち、シリカガラスで形成される光ファ
イバのコア領域に高い濃度のフッ素を添加し、紫外光に
よる材料劣化を回避しようとしていた。
は、材料劣化が生じるため、寿命が短くなるという問題
があった。このような紫外光による材料劣化を抑制する
ためには、シリカガラスにフッ素を添加することが有効
であった。すなわち、シリカガラスで形成される光ファ
イバのコア領域に高い濃度のフッ素を添加し、紫外光に
よる材料劣化を回避しようとしていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光ファ
イバのコア領域に高い濃度のフッ素を添加すると、コア
領域の屈折率が低下する。そして、コア領域の屈折率が
クラッド領域の屈折率以下に低下すると、光ファイバの
光導波性能が失われてしまう。このため、コア領域に高
い濃度のフッ素を添加することができなかった。
イバのコア領域に高い濃度のフッ素を添加すると、コア
領域の屈折率が低下する。そして、コア領域の屈折率が
クラッド領域の屈折率以下に低下すると、光ファイバの
光導波性能が失われてしまう。このため、コア領域に高
い濃度のフッ素を添加することができなかった。
【０００４】本発明は、実効コア断面積を大きくすると
共に、材料劣化を抑制し、長い寿命を実現することでき
る光ファイバを提供することを目的とする。
共に、材料劣化を抑制し、長い寿命を実現することでき
る光ファイバを提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は次のような手段を講じた。すなわち、請求
項１記載の光ファイバの発明は、軸方向に対して垂直な
断面に設けられ、シリカガラスで形成されたコア領域及
びこのコア領域を包囲するクラッド領域と、少なくとも
クラッド領域に設けられ、シリカガラス中に所定の断面
積を有する複数の空孔を含む微細構造とを備え、波長４
００ｎｍの光の伝搬モードが基底モード以外に少なくと
も一つ存在し、波長４００ｎｍの光を伝搬させる構成を
採る。
め、本発明は次のような手段を講じた。すなわち、請求
項１記載の光ファイバの発明は、軸方向に対して垂直な
断面に設けられ、シリカガラスで形成されたコア領域及
びこのコア領域を包囲するクラッド領域と、少なくとも
クラッド領域に設けられ、シリカガラス中に所定の断面
積を有する複数の空孔を含む微細構造とを備え、波長４
００ｎｍの光の伝搬モードが基底モード以外に少なくと
も一つ存在し、波長４００ｎｍの光を伝搬させる構成を
採る。
【０００６】この構成により、実効コア断面積を大きく
することができる。その結果、光パワー密度を低くする
ことが可能となり、光ファイバの寿命を長くすることが
できる。
することができる。その結果、光パワー密度を低くする
ことが可能となり、光ファイバの寿命を長くすることが
できる。
【０００７】請求項２記載の発明は、請求項１記載の光
ファイバにおいて、コア領域は、１．１重量パーセント
濃度以上のフッ素を含む構成を採る。
ファイバにおいて、コア領域は、１．１重量パーセント
濃度以上のフッ素を含む構成を採る。
【０００８】このように、コア領域が、１．１重量パー
セント濃度以上のフッ素を含むため、紫外光の伝送に伴
う材料劣化を抑制することが可能となり、光ファイバの
寿命を長くすることができる。
セント濃度以上のフッ素を含むため、紫外光の伝送に伴
う材料劣化を抑制することが可能となり、光ファイバの
寿命を長くすることができる。
【０００９】請求項３記載の発明は、請求項１記載の光
ファイバにおいて、空孔を有する領域は、径方向に１０
μｍ以上の幅を有する構成を採る。
ファイバにおいて、空孔を有する領域は、径方向に１０
μｍ以上の幅を有する構成を採る。
【００１０】これにより、コア領域を伝搬する光が光フ
ァイバの外部へ漏洩するのを防ぎ、伝送損失を低減する
ことができる。
ァイバの外部へ漏洩するのを防ぎ、伝送損失を低減する
ことができる。
【００１１】請求項４記載の発明は、請求項１記載の光
ファイバにおいて、断面の中心を含み、空孔を含まない
領域の面積が１５０μｍ2以上であることを特徴とする
請求項１記載の光ファイバ。
ファイバにおいて、断面の中心を含み、空孔を含まない
領域の面積が１５０μｍ2以上であることを特徴とする
請求項１記載の光ファイバ。
【００１２】この構成により、実効コア断面積を十分に
大きくすることができ、光パワー密度を十分に低くする
ことが可能となる。
大きくすることができ、光パワー密度を十分に低くする
ことが可能となる。
【００１３】請求項５記載の発明は、請求項１記載の光
ファイバにおいて、４００ｎｍ以下の所定の波長におけ
る基底モードの実効コア断面積が１００μｍ2以上であ
る構成を採る。
ファイバにおいて、４００ｎｍ以下の所定の波長におけ
る基底モードの実効コア断面積が１００μｍ2以上であ
る構成を採る。
【００１４】この構成により、光パワー密度を十分に低
くすることが可能となる。
くすることが可能となる。
【００１５】請求項６記載の光伝送装置の発明は、請求
項１記載の光ファイバと、光ファイバの両端に配置され
た集光レンズとを備えた構成を採る。
項１記載の光ファイバと、光ファイバの両端に配置され
た集光レンズとを備えた構成を採る。
【００１６】この構成により、紫外光の伝送を長い寿命
にわたって行うことが可能となる。また、レンズにおけ
る結合損失を低減して高効率の伝送を行うことが可能と
なる。
にわたって行うことが可能となる。また、レンズにおけ
る結合損失を低減して高効率の伝送を行うことが可能と
なる。
【００１７】請求項７記載の光伝送媒体の発明は、請求
項１記載の光ファイバを複数束ねて構成された。
項１記載の光ファイバを複数束ねて構成された。
【００１８】この構成により、より多くの光パワーを伝
送することが可能となる。
送することが可能となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の形態に係
る光ファイバの断面を示す図である。コア領域１は、
２．５重量パーセント濃度のＦが添加されたシリカガラ
スで形成されている。コア領域１の径は１９μｍであ
り、その断面積は、２８５μｍ2である。クラッド領域
２は、シリカガラスで形成され、空孔３を有する。クラ
ッド領域２の最大径は１２５μｍであり、空孔３の径
は、１６μｍである。空孔３は、コア領域１の中心を中
心とする半径１７μｍの円周上に等間隔で６個配置され
ている。空孔３は、ファイバ軸に沿って伸びている。
る光ファイバの断面を示す図である。コア領域１は、
２．５重量パーセント濃度のＦが添加されたシリカガラ
スで形成されている。コア領域１の径は１９μｍであ
り、その断面積は、２８５μｍ2である。クラッド領域
２は、シリカガラスで形成され、空孔３を有する。クラ
ッド領域２の最大径は１２５μｍであり、空孔３の径
は、１６μｍである。空孔３は、コア領域１の中心を中
心とする半径１７μｍの円周上に等間隔で６個配置され
ている。空孔３は、ファイバ軸に沿って伸びている。
【００２０】クラッド領域２におけるシリカガラスには
ＦやＯＨやＨ2が添加されていても良く、それによって
クラッド領域２における紫外光による材料劣化を抑制す
ることができる。また、例えば、コア領域１のシリカガ
ラスよりもＦ濃度の低いシリカガラスであっても良く、
それによって線引時のクラッド領域２の粘度をコア領域
１の粘度よりも高めることができる。その結果、線引時
に空孔３の変形を抑制することができる。
ＦやＯＨやＨ2が添加されていても良く、それによって
クラッド領域２における紫外光による材料劣化を抑制す
ることができる。また、例えば、コア領域１のシリカガ
ラスよりもＦ濃度の低いシリカガラスであっても良く、
それによって線引時のクラッド領域２の粘度をコア領域
１の粘度よりも高めることができる。その結果、線引時
に空孔３の変形を抑制することができる。
【００２１】本実施の形態に係る光ファイバは、波長１
９３ｎｍの紫外光を導波させることが可能である。導波
モードは複数存在するが、最低次（伝搬定数が最大）の
ＬＰ０１モードは、１５８μｍ2の実効コア断面積Ａｅ
ｆｆを有する。このように大きなＡｅｆｆを有するた
め、光パワー密度を低くすることができる。さらに、コ
ア領域１を形成するシリカガラスは、１．１重量パーセ
ント濃度以上のＦを含むため、紫外光の伝送に伴う材料
劣化が生じにくい。また、実効コア断面積Ａｅｆｆが大
きく、コア領域１が材料劣化の生じにくい組成を有する
ので、従来の紫外光伝送用光ファイバよりも長い寿命を
実現することができる。
９３ｎｍの紫外光を導波させることが可能である。導波
モードは複数存在するが、最低次（伝搬定数が最大）の
ＬＰ０１モードは、１５８μｍ2の実効コア断面積Ａｅ
ｆｆを有する。このように大きなＡｅｆｆを有するた
め、光パワー密度を低くすることができる。さらに、コ
ア領域１を形成するシリカガラスは、１．１重量パーセ
ント濃度以上のＦを含むため、紫外光の伝送に伴う材料
劣化が生じにくい。また、実効コア断面積Ａｅｆｆが大
きく、コア領域１が材料劣化の生じにくい組成を有する
ので、従来の紫外光伝送用光ファイバよりも長い寿命を
実現することができる。
【００２２】次に、本実施の形態に係る光ファイバの作
製方法について説明する。 （工程Ａ１）ＶＡＤ法等の方法によって、シリカガラス
のスス体を作製し、これをＳｉＦ4などのフッ化物ガス
雰囲気中で焼結してプリフォーム（焼結体）を作製す
る。このとき、プリフォームは６３ｍｍの径を有する。 （工程Ａ２）工程１で作製されたプリフォームに、径が
８．０ｍｍの空孔を形成する。空孔は、ダイヤモンドの
刃先を有する切削工具や超音波切削ツールを用いて形成
することができる。また、焼結体が軟化する温度まで加
熱し、カーボンなどの高融点材料で形成された穿孔工具
を焼結体に挿入し、冷却の直前又は直後に穿孔工具を引
き抜く方法を用いても良い。これにより、プリフォーム
の中心を中心とする半径８．７ｍｍの円周に沿って６個
の空孔が等間隔で形成される。 （工程Ａ３）工程２で形成されたプリフォームを加熱炉
で線引することによって、光ファイバが作製される。こ
の線引工程を図２に示す。
製方法について説明する。 （工程Ａ１）ＶＡＤ法等の方法によって、シリカガラス
のスス体を作製し、これをＳｉＦ4などのフッ化物ガス
雰囲気中で焼結してプリフォーム（焼結体）を作製す
る。このとき、プリフォームは６３ｍｍの径を有する。 （工程Ａ２）工程１で作製されたプリフォームに、径が
８．０ｍｍの空孔を形成する。空孔は、ダイヤモンドの
刃先を有する切削工具や超音波切削ツールを用いて形成
することができる。また、焼結体が軟化する温度まで加
熱し、カーボンなどの高融点材料で形成された穿孔工具
を焼結体に挿入し、冷却の直前又は直後に穿孔工具を引
き抜く方法を用いても良い。これにより、プリフォーム
の中心を中心とする半径８．７ｍｍの円周に沿って６個
の空孔が等間隔で形成される。 （工程Ａ３）工程２で形成されたプリフォームを加熱炉
で線引することによって、光ファイバが作製される。こ
の線引工程を図２に示す。
【００２３】図２において、加熱炉２０によって光ファ
イバプリフォーム２１の先端部を加熱し、牽引手段２２
によって光ファイバプリフォーム２１に軸方向の張力を
加えることにより、光ファイバ２３が線引される。この
とき、光ファイバプリフォーム２１の加熱されていない
方の端部であるガラス管２４を、継手２５、配管２６を
介して圧力制御装置２７に接続することによって、線引
時の空孔２５内部の圧力を調整することができる。その
結果、線引された光ファイバ２３は断面内に空孔を有
し、空孔断面積のファイバ断面積に対する比は所定の値
で実現される。以上の工程により、所望のコア径を有す
る光ファイバを高い歩留まりで作製することができる。
また、加熱炉２０内の圧力の調整や、加熱炉２０内の温
度の調整によっても所望のコア径を有する光ファイバを
作製することができる。
イバプリフォーム２１の先端部を加熱し、牽引手段２２
によって光ファイバプリフォーム２１に軸方向の張力を
加えることにより、光ファイバ２３が線引される。この
とき、光ファイバプリフォーム２１の加熱されていない
方の端部であるガラス管２４を、継手２５、配管２６を
介して圧力制御装置２７に接続することによって、線引
時の空孔２５内部の圧力を調整することができる。その
結果、線引された光ファイバ２３は断面内に空孔を有
し、空孔断面積のファイバ断面積に対する比は所定の値
で実現される。以上の工程により、所望のコア径を有す
る光ファイバを高い歩留まりで作製することができる。
また、加熱炉２０内の圧力の調整や、加熱炉２０内の温
度の調整によっても所望のコア径を有する光ファイバを
作製することができる。
【００２４】また、以下の製造方法を用いても良い。
（工程Ｂ１）図３に示すように、２．５重量パーセント
濃度のＦが添加されたシリカガラスからなるガラスロッ
ド３０と、シリカガラスからなるガラス管３１を束ね
て、シリカガラスからなるジャケット管３２に挿入す
る。これにより、図３に示す断面構造を有するプリフォ
ームを形成する。 （工程Ｂ２）このようにして形成されたプリフォームを
加熱炉で線引することによって、光ファイバを作製す
る。このとき、上記（工程Ａ３）と同様に、プリフォー
ムの空孔内の圧力、加熱炉内の圧力、加熱炉内の温度の
うち少なくとも１つを調整することによって、所望のコ
ア径を有する光ファイバを得ることができる。
濃度のＦが添加されたシリカガラスからなるガラスロッ
ド３０と、シリカガラスからなるガラス管３１を束ね
て、シリカガラスからなるジャケット管３２に挿入す
る。これにより、図３に示す断面構造を有するプリフォ
ームを形成する。 （工程Ｂ２）このようにして形成されたプリフォームを
加熱炉で線引することによって、光ファイバを作製す
る。このとき、上記（工程Ａ３）と同様に、プリフォー
ムの空孔内の圧力、加熱炉内の圧力、加熱炉内の温度の
うち少なくとも１つを調整することによって、所望のコ
ア径を有する光ファイバを得ることができる。
【００２５】また、図１に示す光ファイバにおいて、コ
ア領域１の径を１５μｍとし、１３μｍの径を有する６
個の空孔３をコア領域１の中心を中心とする半径１４μ
ｍの円周上に等間隔で配置した構成を採っても良い。こ
れにより、波長１５７ｎｍの紫外光を導波させることが
可能となる。導波モードは複数存在し、最低次（伝搬定
数が最大）のＬＰ０１モードは１０５μｍ2の実効コア
断面積Ａｅｆｆを有する。このように実効コア断面積Ａ
ｅｆｆが大きく、コアに材料劣化が生じにくい組成を組
成を有する結果、従来の紫外光伝送用光ファイバに比べ
て長い寿命を実現することができる。
ア領域１の径を１５μｍとし、１３μｍの径を有する６
個の空孔３をコア領域１の中心を中心とする半径１４μ
ｍの円周上に等間隔で配置した構成を採っても良い。こ
れにより、波長１５７ｎｍの紫外光を導波させることが
可能となる。導波モードは複数存在し、最低次（伝搬定
数が最大）のＬＰ０１モードは１０５μｍ2の実効コア
断面積Ａｅｆｆを有する。このように実効コア断面積Ａ
ｅｆｆが大きく、コアに材料劣化が生じにくい組成を組
成を有する結果、従来の紫外光伝送用光ファイバに比べ
て長い寿命を実現することができる。
【００２６】次に、本実施の形態の変形例について説明
する。図４に示すような断面構造を有する光ファイバが
形成可能である。コア領域４０は、２．５重量パーセン
ト濃度のＦが添加されたシリカガラスで形成される。コ
ア領域４０の径は、３５．５μｍであり、面積は９９２
μｍ2である。クラッド領域４１は、空孔４２を有する
シリカガラスで形成されている。空孔４２の径は６．７
μｍであり、コア領域４０の中心を中心とする半径２１
μｍの円周上に等間隔で１８個の空孔４２が配置され
る。空孔４２はファイバ軸に沿って伸びている。この光
ファイバには、図１で示した光ファイバと同様に、クラ
ッド領域４１のシリカガラスにＦ、ＯＨ、又はＨ2を添
加しても良く、さらにコア領域４０のシリカガラスより
も高い粘度のシリカガラスを用いると更に好ましい。
する。図４に示すような断面構造を有する光ファイバが
形成可能である。コア領域４０は、２．５重量パーセン
ト濃度のＦが添加されたシリカガラスで形成される。コ
ア領域４０の径は、３５．５μｍであり、面積は９９２
μｍ2である。クラッド領域４１は、空孔４２を有する
シリカガラスで形成されている。空孔４２の径は６．７
μｍであり、コア領域４０の中心を中心とする半径２１
μｍの円周上に等間隔で１８個の空孔４２が配置され
る。空孔４２はファイバ軸に沿って伸びている。この光
ファイバには、図１で示した光ファイバと同様に、クラ
ッド領域４１のシリカガラスにＦ、ＯＨ、又はＨ2を添
加しても良く、さらにコア領域４０のシリカガラスより
も高い粘度のシリカガラスを用いると更に好ましい。
【００２７】図４に示す光ファイバも、波長１９３ｎｍ
の紫外光を導波させることができる。導波モードは複数
存在するが、最低次（伝搬定数が最大）のモードは５０
１μｍ2の実効コア断面積Ａｅｆｆを有する。このよう
に大きな実効コア断面積Ａｅｆｆを有するため、光パワ
ー密度を低くすることができる。さらに、コア領域４０
を形成するシリカガラスは、１．１重量パーセント濃度
以上のＦを含むため、紫外光の伝送に伴う材料劣化が生
じにくい。コア領域４０は、材料劣化が生じにくく、実
効コア断面積Ａｅｆｆが図１に示す光ファイバより更に
大きい結果、さらに長い寿命を実現することができる。
の紫外光を導波させることができる。導波モードは複数
存在するが、最低次（伝搬定数が最大）のモードは５０
１μｍ2の実効コア断面積Ａｅｆｆを有する。このよう
に大きな実効コア断面積Ａｅｆｆを有するため、光パワ
ー密度を低くすることができる。さらに、コア領域４０
を形成するシリカガラスは、１．１重量パーセント濃度
以上のＦを含むため、紫外光の伝送に伴う材料劣化が生
じにくい。コア領域４０は、材料劣化が生じにくく、実
効コア断面積Ａｅｆｆが図１に示す光ファイバより更に
大きい結果、さらに長い寿命を実現することができる。
【００２８】また、図４に示す光ファイバにおいて、コ
ア領域４０の径を２８．９μｍとし、５．５μｍの径を
有する１８個の空孔４２をコア領域４０の中心を中心と
する半径１７μｍの円周上に等間隔で配置した構成を採
っても良い。これにより、波長１５７ｎｍの紫外光を導
波させることが可能となる。導波モードは複数存在し、
最低次（伝搬定数が最大）のモードは、３３２μｍ2の
実効コア断面積Ａｅｆｆを有する。このように大きな実
効コア断面積Ａｅｆｆを有するため、光パワー密度を低
くすることができる。さらに、コア領域４０を形成する
シリカガラスは１．１重量パーセント濃度以上のＦを含
むため、紫外光の伝送に伴う材料劣化が生じにくい。
ア領域４０の径を２８．９μｍとし、５．５μｍの径を
有する１８個の空孔４２をコア領域４０の中心を中心と
する半径１７μｍの円周上に等間隔で配置した構成を採
っても良い。これにより、波長１５７ｎｍの紫外光を導
波させることが可能となる。導波モードは複数存在し、
最低次（伝搬定数が最大）のモードは、３３２μｍ2の
実効コア断面積Ａｅｆｆを有する。このように大きな実
効コア断面積Ａｅｆｆを有するため、光パワー密度を低
くすることができる。さらに、コア領域４０を形成する
シリカガラスは１．１重量パーセント濃度以上のＦを含
むため、紫外光の伝送に伴う材料劣化が生じにくい。
【００２９】図１又は図４に示す光ファイバは、紫外光
の伝送に好適である。図５は、紫外光伝送装置の一つの
形態を示す図である。光ファイバ５０は、一端に入射端
部５０ａと、他端に出射端部５０ｂとを有している。紫
外光発生源５１から出射する紫外光は、レンズ５２によ
って光ファイバ５０の入射端部５０ａにおけるコア領域
に結合される。光ファイバ５０の出射端部５０ｂから出
射した紫外光は、レンズ５３によって対象物５４へ照射
される。
の伝送に好適である。図５は、紫外光伝送装置の一つの
形態を示す図である。光ファイバ５０は、一端に入射端
部５０ａと、他端に出射端部５０ｂとを有している。紫
外光発生源５１から出射する紫外光は、レンズ５２によ
って光ファイバ５０の入射端部５０ａにおけるコア領域
に結合される。光ファイバ５０の出射端部５０ｂから出
射した紫外光は、レンズ５３によって対象物５４へ照射
される。
【００３０】また、図６に示すように、光ファイバ６０
をバンドル化してバンドル６１を形成しても良い。これ
により、より多くの光パワーを伝送することが可能とな
る。
をバンドル化してバンドル６１を形成しても良い。これ
により、より多くの光パワーを伝送することが可能とな
る。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光フ
ァイバは、軸方向に対して垂直な断面に設けられ、シリ
カガラスで形成されたコア領域及びこのコア領域を包囲
するクラッド領域と、少なくともクラッド領域に設けら
れ、シリカガラス中に所定の断面積を有する複数の空孔
を含む微細構造とを備え、波長４００ｎｍの光の伝搬モ
ードが基底モード以外に少なくとも一つ存在し、波長の
光を伝搬させる構成を採る。
ァイバは、軸方向に対して垂直な断面に設けられ、シリ
カガラスで形成されたコア領域及びこのコア領域を包囲
するクラッド領域と、少なくともクラッド領域に設けら
れ、シリカガラス中に所定の断面積を有する複数の空孔
を含む微細構造とを備え、波長４００ｎｍの光の伝搬モ
ードが基底モード以外に少なくとも一つ存在し、波長の
光を伝搬させる構成を採る。
【００３２】この構成により、実効コア断面積を大きく
することができ、光パワー密度を低くすることが可能と
なると共に、紫外線伝送に伴う材料劣化が抑制されるの
で、光ファイバの寿命を長くすることができる。
することができ、光パワー密度を低くすることが可能と
なると共に、紫外線伝送に伴う材料劣化が抑制されるの
で、光ファイバの寿命を長くすることができる。
【図１】本発明の実施の形態に係る光ファイバの断面を
示す図である。
示す図である。
【図２】線引の状態を示す図である。
【図３】プリフォームの断面構造を示す図である。
【図４】実施の形態の変形例に係る光ファイバの断面を
示す図である。
示す図である。
【図５】紫外光伝送装置の一つの形態を示す図である。
【図６】バンドルの断面を示す図である。
１…コア領域、２…クラッド領域、３…空孔、２０…加
熱炉、２１…光ファイバプリフォーム、２２…牽引手
段、２３…光ファイバ、２４…ガラス管、２５…空孔、
２５…継手、２６…配管、２７…圧力制御装置、３０…
ガラスロッド、３１…ガラス管、３２…ジャケット管、
４０…コア領域、４１…クラッド領域、４２…空孔、５
０…光ファイバ、５０ａ…入射端部、５０ｂ…出射端
部、５１…紫外光発生源、５２…レンズ、５３…レン
ズ、５４…対象物、６０…光ファイバ、６１…バンド
ル。
熱炉、２１…光ファイバプリフォーム、２２…牽引手
段、２３…光ファイバ、２４…ガラス管、２５…空孔、
２５…継手、２６…配管、２７…圧力制御装置、３０…
ガラスロッド、３１…ガラス管、３２…ジャケット管、
４０…コア領域、４１…クラッド領域、４２…空孔、５
０…光ファイバ、５０ａ…入射端部、５０ｂ…出射端
部、５１…紫外光発生源、５２…レンズ、５３…レン
ズ、５４…対象物、６０…光ファイバ、６１…バンド
ル。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 茂木 昌春
神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電
気工業株式会社横浜製作所内
Ｆターム(参考） 2H050 AB04Y AB10X AB10Y AB14Y
AC62 AC71 AD00
4G021 BA00 EB19 HA05
Claims (7)
- 【請求項１】 軸方向に対して垂直な断面に設けられ、
シリカガラスで形成されたコア領域及びこのコア領域を
包囲するクラッド領域と、 少なくとも前記クラッド領域に設けられ、シリカガラス
中に所定の断面積を有する複数の空孔を含む微細構造と
を備え、 波長４００ｎｍの光の伝搬モードが基底モード以外に少
なくとも一つ存在し、前記波長の光を伝搬させることを
特徴とする光ファイバ。 - 【請求項２】 前記コア領域は、１．１重量パーセント
濃度以上のフッ素を含むことを特徴とする請求項１記載
の光ファイバ。 - 【請求項３】 前記空孔を有する領域は、径方向に１０
μｍ以上の幅を有することを特徴とする請求項１記載の
光ファイバ。 - 【請求項４】 前記断面の中心を含み、空孔を含まない
領域の面積が１５０μｍ2以上であることを特徴とする
請求項１記載の光ファイバ。 - 【請求項５】 ４００ｎｍ以下の所定の波長における基
底モードの実効コア断面積が１００μｍ2以上であるこ
とを特徴とする請求項１記載の光ファイバ。 - 【請求項６】 請求項１記載の光ファイバと、前記光フ
ァイバの両端に配置された集光レンズとを備えた光伝送
装置。 - 【請求項７】 請求項１記載の光ファイバを複数束ねて
構成された光伝送媒体。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001209830A JP2003021759A (ja) | 2001-07-10 | 2001-07-10 | 光ファイバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001209830A JP2003021759A (ja) | 2001-07-10 | 2001-07-10 | 光ファイバ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003021759A true JP2003021759A (ja) | 2003-01-24 |
Family
ID=19045431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001209830A Withdrawn JP2003021759A (ja) | 2001-07-10 | 2001-07-10 | 光ファイバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003021759A (ja) |
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-
2001
- 2001-07-10 JP JP2001209830A patent/JP2003021759A/ja not_active Withdrawn
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