JP2003019449A - 固体粒子を移動ウエブ上に分配するための組立体 - Google Patents
固体粒子を移動ウエブ上に分配するための組立体Info
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- B05C19/04—Apparatus specially adapted for applying particulate materials to surfaces the particulate material being projected, poured or allowed to flow onto the surface of the work
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- B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
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- B05B16/90—Spray booths comprising conveying means for moving objects or other work to be sprayed in and out of the booth, e.g. through the booth
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 固体粒子を移動ウエブ上に均一に分配する。
【解決手段】 本組立体は、第一方向に引かれる移動ウ
エブ、及び、固体粒子を移動ウエブ上へ均一に分配する
散布装置を有する。散布装置は、上面及び下面を有する
回転円板を有する。上面は、固体粒子が回転円板の上面
に当たるとき、固体粒子を外方に分散するようになって
いる。散布装置は、回転円板のまわりに位置決めされた
バフルを更に有する。バフルは、第一直径及び第二直径
を有し、第一直径は、第二直径よりも小さく、第一直径
は、ウエブが移動する第一方向と直角に配向し、第二直
径は、ウエブが移動する第一方向と平行に配向する。散
布装置はまた、回転円板の上面への固体粒子の予定され
た供給を行うように、回転円板の上方に位置決めされた
供給組立体を有する。
エブ、及び、固体粒子を移動ウエブ上へ均一に分配する
散布装置を有する。散布装置は、上面及び下面を有する
回転円板を有する。上面は、固体粒子が回転円板の上面
に当たるとき、固体粒子を外方に分散するようになって
いる。散布装置は、回転円板のまわりに位置決めされた
バフルを更に有する。バフルは、第一直径及び第二直径
を有し、第一直径は、第二直径よりも小さく、第一直径
は、ウエブが移動する第一方向と直角に配向し、第二直
径は、ウエブが移動する第一方向と平行に配向する。散
布装置はまた、回転円板の上面への固体粒子の予定され
た供給を行うように、回転円板の上方に位置決めされた
供給組立体を有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、移動ウエブ上に固
体粒子を均一に分配するための分配組立体に関する。よ
り詳細には、本発明は、化粧板の製造に使用される、移
動するペーパーウエブ上に酸化アルミニウム粒子を分配
するための組立体に関する。
体粒子を均一に分配するための分配組立体に関する。よ
り詳細には、本発明は、化粧板の製造に使用される、移
動するペーパーウエブ上に酸化アルミニウム粒子を分配
するための組立体に関する。
【0002】
【従来の技術】酸化アルミニウムは、一般に、出来た化
粧板の耐摩耗性を改善させるために、化粧板の最上層
(オーバーレイ層)に施される。化粧板にとって最適な
表面を得るために、酸化アルミニウムは、オーバーレイ
層の製造に使用される紙に沿って均一に分配されなけれ
ばならない。当業者が認識するように、オーバーレイ層
への酸化アルミニウムの適切な供給を確保することに責
任を負うべき当業者は、効率的で、一貫した、かつ、費
用効果的な方法で、酸化アルミニウムを施す問題に、一
貫して直面している。
粧板の耐摩耗性を改善させるために、化粧板の最上層
(オーバーレイ層)に施される。化粧板にとって最適な
表面を得るために、酸化アルミニウムは、オーバーレイ
層の製造に使用される紙に沿って均一に分配されなけれ
ばならない。当業者が認識するように、オーバーレイ層
への酸化アルミニウムの適切な供給を確保することに責
任を負うべき当業者は、効率的で、一貫した、かつ、費
用効果的な方法で、酸化アルミニウムを施す問題に、一
貫して直面している。
【0003】例えば、サリーの米国特許第301481
2号は、粒子を分散させる方法及び装置を開示してい
る。開示された発明によれば、回転円錐形の羽根車24
が、粒子を周辺部36に分配して、その下を移動する基
材を被覆する。粒子は、実質的に円形パターンに分散さ
れ、その装置は、投げ飛ばす粒子の分配を制御するため
の頭上構造を用いない。その結果、おそらく、粒子の真
に均一な分配は達成されず、また、下を移動する基材の
幅を越えて投擲されたときに、からなりの粒子が無駄に
なるであろう(米国特許第3014812号の図3参
照)。
2号は、粒子を分散させる方法及び装置を開示してい
る。開示された発明によれば、回転円錐形の羽根車24
が、粒子を周辺部36に分配して、その下を移動する基
材を被覆する。粒子は、実質的に円形パターンに分散さ
れ、その装置は、投げ飛ばす粒子の分配を制御するため
の頭上構造を用いない。その結果、おそらく、粒子の真
に均一な分配は達成されず、また、下を移動する基材の
幅を越えて投擲されたときに、からなりの粒子が無駄に
なるであろう(米国特許第3014812号の図3参
照)。
【0004】ブレームの米国特許第3650243号
も、少量の粉末材料を、下を移動する表面上へ付与する
ようになった回転装置を開示する。サリーの特許と同様
に、ブレームの装置も、下を移動する表面上への粉状材
料の分配を制御するためのバフル構造を利用しない。粒
子の分配を制御するための構造が内ために、効率的かつ
費用有効な方法で粒子の均一な分配を確保しない装置に
なる。
も、少量の粉末材料を、下を移動する表面上へ付与する
ようになった回転装置を開示する。サリーの特許と同様
に、ブレームの装置も、下を移動する表面上への粉状材
料の分配を制御するためのバフル構造を利用しない。粒
子の分配を制御するための構造が内ために、効率的かつ
費用有効な方法で粒子の均一な分配を確保しない装置に
なる。
【0005】さらに、上述したブレーム及びサリーの特
許、ドナリーズの米国特許第3664297号、及び、
スパダフォラ等の同第4743456号は、画像上への
現像薬の分配のための遠心装置を開示する。従来装置に
よれば、ドナリーズ及びスパダフォラ等は、便利で、信
頼性があり、かつ、効率的な方法で、移動するウエブを
均一に被覆する装置を提供し損ねている。
許、ドナリーズの米国特許第3664297号、及び、
スパダフォラ等の同第4743456号は、画像上への
現像薬の分配のための遠心装置を開示する。従来装置に
よれば、ドナリーズ及びスパダフォラ等は、便利で、信
頼性があり、かつ、効率的な方法で、移動するウエブを
均一に被覆する装置を提供し損ねている。
【0006】ゴールドマンの米国特許第858508
号、ケッペルの同第2768928号、ヴォーゲルの同
第3670694号、トビアスの同第4069791
号、トスの同第4243696号、シマダ等の同第47
05702号、クルーズ等の同第4728035号、マ
ラジーに対する4798164号、リンドグレーンの同
第4940503号、及び、オア等の同第561208
1号は、移動ウエブ上に均一な被覆を作るように設計さ
れた他の被覆装置を開示している。しかしながら、前に
論じた特許によれば、これら従来技術の装置は、制御さ
れた効率的な方法で、粒子を移動ウエブ上に均一に分配
する能力が、大変制限されている。
号、ケッペルの同第2768928号、ヴォーゲルの同
第3670694号、トビアスの同第4069791
号、トスの同第4243696号、シマダ等の同第47
05702号、クルーズ等の同第4728035号、マ
ラジーに対する4798164号、リンドグレーンの同
第4940503号、及び、オア等の同第561208
1号は、移動ウエブ上に均一な被覆を作るように設計さ
れた他の被覆装置を開示している。しかしながら、前に
論じた特許によれば、これら従来技術の装置は、制御さ
れた効率的な方法で、粒子を移動ウエブ上に均一に分配
する能力が、大変制限されている。
【0007】
【発明の解決しようとする課題】これらの解決策の各々
は、問題で満ちており、決して望ましい方法で、粒子を
施さない結果となる。それゆえ、固体粒子を移動ウエブ
上に均一に分配することができる、信頼性のある、効率
的な装置の必要性が存在する。本発明は、そのような装
置を提供する。
は、問題で満ちており、決して望ましい方法で、粒子を
施さない結果となる。それゆえ、固体粒子を移動ウエブ
上に均一に分配することができる、信頼性のある、効率
的な装置の必要性が存在する。本発明は、そのような装
置を提供する。
【0008】
【課題を解決するための手段】したがって、本発明の目
的は、分配組立体を提供することにある。分配組立体
は、第一方向に引かれる移動ウエブと、固体粒子を移動
ウエブ上へ均一に分配する散布装置とを有する。散布装
置は、上面及び下面を有する回転円板を有する。上面
は、固体粒子が回転円板の上面に当たるとき、固体粒子
を外方に分配するようになっている。散布装置は、回転
円板のまわりに位置決めされたバフルを更に有する。バ
フルは、第一直径及び第二直径を有し、第一直径は、第
二直径よりも小さく、第一直径は、ウエブが移動する第
一方向と直角に配向され、第二直径は、ウエブが移動す
る第一方向と平行に配向される。散布装置はまた、固体
粒子を、回転円板に予定量供給するために、回転円板の
まわりに位置決めされた供給組立体を有する。
的は、分配組立体を提供することにある。分配組立体
は、第一方向に引かれる移動ウエブと、固体粒子を移動
ウエブ上へ均一に分配する散布装置とを有する。散布装
置は、上面及び下面を有する回転円板を有する。上面
は、固体粒子が回転円板の上面に当たるとき、固体粒子
を外方に分配するようになっている。散布装置は、回転
円板のまわりに位置決めされたバフルを更に有する。バ
フルは、第一直径及び第二直径を有し、第一直径は、第
二直径よりも小さく、第一直径は、ウエブが移動する第
一方向と直角に配向され、第二直径は、ウエブが移動す
る第一方向と平行に配向される。散布装置はまた、固体
粒子を、回転円板に予定量供給するために、回転円板の
まわりに位置決めされた供給組立体を有する。
【0009】本発明の他の目的及び利点は、本発明の実
施形態を示す添付図面と関連して参照されるとき、以下
の詳細な説明から明らかになるであろう。
施形態を示す添付図面と関連して参照されるとき、以下
の詳細な説明から明らかになるであろう。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の詳細な実施形態を、ここ
に開示する。しかしながら、開示した実施形態は、種々
の形態で具体化することができる本発明の例示に過ぎな
いことを理解すべきである。したがって、ここに開示さ
れた詳細は、限定と解釈されるべきでなく、単に、請求
項の基礎、及び、発明の実施方及び/又は使用の仕方を
当業者に教示する基礎と解釈されるべきである。
に開示する。しかしながら、開示した実施形態は、種々
の形態で具体化することができる本発明の例示に過ぎな
いことを理解すべきである。したがって、ここに開示さ
れた詳細は、限定と解釈されるべきでなく、単に、請求
項の基礎、及び、発明の実施方及び/又は使用の仕方を
当業者に教示する基礎と解釈されるべきである。
【0011】図1乃至図4を参照すると、固体粒子12
を移動ウエブ14に均一に施すための分配組立体10が
開示されている。本発明の好適な実施形態によれば、分
配組立体10は、特に、化粧板の製造に使用される移動
ウエブに、酸化アルミニウムを均一に分配するようにな
っている。それゆえ、分配組立体10は、とりわけ、酸
化アルミニウムをウエブ14内に含浸させるように紙を
加熱するための炉20を含む、紙処理ライン18に含む
ようになっているのが、好ましい。
を移動ウエブ14に均一に施すための分配組立体10が
開示されている。本発明の好適な実施形態によれば、分
配組立体10は、特に、化粧板の製造に使用される移動
ウエブに、酸化アルミニウムを均一に分配するようにな
っている。それゆえ、分配組立体10は、とりわけ、酸
化アルミニウムをウエブ14内に含浸させるように紙を
加熱するための炉20を含む、紙処理ライン18に含む
ようになっているのが、好ましい。
【0012】分配組立体10は、主として、移動ウエブ
14、及び、固体粒子12を移動ウエブ14に均一に分
配する散布装置16で構成される。散布装置16及び移
動ウエブ14は、それぞれフレーム構造によって支持さ
れ、かつ、フレーム構造内に収容される。特に、散布装
置16は、実質的に、0.794cm板26、1.27
cm板28、及び、0.794cm板26と1.27c
m板28との間に位置した0.635cmスペーサ30
で構成されたプラットフォーム24によって支持され
る。
14、及び、固体粒子12を移動ウエブ14に均一に分
配する散布装置16で構成される。散布装置16及び移
動ウエブ14は、それぞれフレーム構造によって支持さ
れ、かつ、フレーム構造内に収容される。特に、散布装
置16は、実質的に、0.794cm板26、1.27
cm板28、及び、0.794cm板26と1.27c
m板28との間に位置した0.635cmスペーサ30
で構成されたプラットフォーム24によって支持され
る。
【0013】分配チャンバ32が、プラットフォーム2
4の下に形成される。分配チャンバ32は、包囲体を構
成し、移動ウエブ14に粒子が分配されるときに、移動
ウエブ14がこの包囲体の中を通過する。それゆえ、分
配チャンバ32は、側壁34、移動ウエブ14の通過の
ための入口スリット38を備えた入口壁36、移動ウエ
ブ14の通過のための出口スリット42を備えた出口壁
40、及び、底面44によって構成される。
4の下に形成される。分配チャンバ32は、包囲体を構
成し、移動ウエブ14に粒子が分配されるときに、移動
ウエブ14がこの包囲体の中を通過する。それゆえ、分
配チャンバ32は、側壁34、移動ウエブ14の通過の
ための入口スリット38を備えた入口壁36、移動ウエ
ブ14の通過のための出口スリット42を備えた出口壁
40、及び、底面44によって構成される。
【0014】実際には、入口スリット38及び出口スリ
ット42は、ウエブ14の通過に要する開きを最小に
し、これにより、周囲空気の乱流を最小にする透明ゲー
ト46又は窓で覆われる。図1に示すように、透明ゲー
ト通路46は、分配装置10の変更なしに、1.22メ
ートル幅のウエブと1.53メートル幅のウエブの両方
のたやすい通過を可能にする三部分組立体48、50、
52である。
ット42は、ウエブ14の通過に要する開きを最小に
し、これにより、周囲空気の乱流を最小にする透明ゲー
ト46又は窓で覆われる。図1に示すように、透明ゲー
ト通路46は、分配装置10の変更なしに、1.22メ
ートル幅のウエブと1.53メートル幅のウエブの両方
のたやすい通過を可能にする三部分組立体48、50、
52である。
【0015】プラットフォーム24の有利な位置に覗き
ガラスを設けることによって、分配チャンバ内で起こる
粒子の分配の観察を容易にする。覗きガラスは、プラッ
トフォーム24の下にある種々の要素の観察を可能にす
る。
ガラスを設けることによって、分配チャンバ内で起こる
粒子の分配の観察を容易にする。覗きガラスは、プラッ
トフォーム24の下にある種々の要素の観察を可能にす
る。
【0016】分配チャンバ32は、複数の空気導入口5
6を更に備える。これら空気導入口56は、分配チャン
バ32内で空気を均一に分配するのを補助する。特に、
これら空気導入口56は、移動ウエブ14上の粒子の分
配を補助する下降気流を引き起こす。
6を更に備える。これら空気導入口56は、分配チャン
バ32内で空気を均一に分配するのを補助する。特に、
これら空気導入口56は、移動ウエブ14上の粒子の分
配を補助する下降気流を引き起こす。
【0017】移動ウエブ14は、加工ライン18の両端
に位置した一連のローラー(図示せず)によって、分配
チャンバ32内で、散布装置16の下で引かれる。実際
には、当業者が間違いなく認識するように、ウエブ14
は、起こる加工の要件に応じて、物理的な支持部材と空
気送風によって、ウエブ14の経路に沿う種々の箇所で
支持される。当業者は、加工されるペーパーウエブに酸
化アルミニウムを含浸させるためもに、酸化アルミニウ
ムの散布に続く、加熱の付与に使用される種々の炉組立
体20を認識するであろう。
に位置した一連のローラー(図示せず)によって、分配
チャンバ32内で、散布装置16の下で引かれる。実際
には、当業者が間違いなく認識するように、ウエブ14
は、起こる加工の要件に応じて、物理的な支持部材と空
気送風によって、ウエブ14の経路に沿う種々の箇所で
支持される。当業者は、加工されるペーパーウエブに酸
化アルミニウムを含浸させるためもに、酸化アルミニウ
ムの散布に続く、加熱の付与に使用される種々の炉組立
体20を認識するであろう。
【0018】散布装置16に関して、散布装置16は、
ウエブ14がその下を通過するときに、固体粒子12が
移動ウエブ14上に落下するように、ウエブ14の上方
に支持される。これを考慮して、散布装置16は、移動
ウエブ14に対して、横方向に中心がおかれる。図1乃
至図4を参照すると、散布装置16は、回転円板58を
有し、回転円板58は、固体粒子12が回転円板58の
上面に当たるとき、固体粒子12を外側へ分配する。散
布装置16は、回転円板58の上面を離れる固体粒子1
2の分配を制御するための、回転円板58の周囲に位置
決めされた、目の形をしたバフル62を更に有する。散
布装置16はまた、回転円板58の上面60に、固体粒
子12の所定供給量を与えるように、回転円板58の上
方に位置決めされた供給組立体64を有する。
ウエブ14がその下を通過するときに、固体粒子12が
移動ウエブ14上に落下するように、ウエブ14の上方
に支持される。これを考慮して、散布装置16は、移動
ウエブ14に対して、横方向に中心がおかれる。図1乃
至図4を参照すると、散布装置16は、回転円板58を
有し、回転円板58は、固体粒子12が回転円板58の
上面に当たるとき、固体粒子12を外側へ分配する。散
布装置16は、回転円板58の上面を離れる固体粒子1
2の分配を制御するための、回転円板58の周囲に位置
決めされた、目の形をしたバフル62を更に有する。散
布装置16はまた、回転円板58の上面60に、固体粒
子12の所定供給量を与えるように、回転円板58の上
方に位置決めされた供給組立体64を有する。
【0019】使用中、供給組立体64は、固体粒子12
を回転円板58上に落とし、固体粒子12は、回転円板
58によって、半径方向外方に押し進められる。散布し
た固体粒子12は、バフル62に接触して、その下で移
動するウエブ14上に落ちる。
を回転円板58上に落とし、固体粒子12は、回転円板
58によって、半径方向外方に押し進められる。散布し
た固体粒子12は、バフル62に接触して、その下で移
動するウエブ14上に落ちる。
【0020】供給組立体64は、供給管68に連結され
たツインスクリューフィーダ66を有する。本発明の好
適な実施形態によれば、ツインスクリューフィーダ66
は、K−トロンツインスクリューフィーダモデルKV2
MVT20であるが、当業者は、本発明に従って使用す
ることができる多くのフィーダを認識するであろう。ツ
インスクリューフィーダ66は、固体粒子12を一定量
供給管68に供給し、供給管は、固体粒子12を回転円
板58の中心に近い所定位置に差し向ける。
たツインスクリューフィーダ66を有する。本発明の好
適な実施形態によれば、ツインスクリューフィーダ66
は、K−トロンツインスクリューフィーダモデルKV2
MVT20であるが、当業者は、本発明に従って使用す
ることができる多くのフィーダを認識するであろう。ツ
インスクリューフィーダ66は、固体粒子12を一定量
供給管68に供給し、供給管は、固体粒子12を回転円
板58の中心に近い所定位置に差し向ける。
【0021】ツインスクリューフィーダ66の遠位端に
は、落下シュート70に取り付けられている。落下シュ
ート70は、収集漏斗72の中へ、固体粒子12、例え
ば酸化アルミニウムの層流を生じさせることによって、
供給管68の収集漏斗72の中への固体粒子12の供給
を改善する。供給管68の中を通る固体粒子12の供給
は、収集漏斗72の遠位端に近い位置で、駆動軸76に
二つの蝶ねじ74を位置決めすることによって高められ
る。蝶ねじ74は、固体粒子12が、供給管68と駆動
軸76との間に作られた環状空間を通るときに、固体粒
子12の分配/攪拌を均等にする。
は、落下シュート70に取り付けられている。落下シュ
ート70は、収集漏斗72の中へ、固体粒子12、例え
ば酸化アルミニウムの層流を生じさせることによって、
供給管68の収集漏斗72の中への固体粒子12の供給
を改善する。供給管68の中を通る固体粒子12の供給
は、収集漏斗72の遠位端に近い位置で、駆動軸76に
二つの蝶ねじ74を位置決めすることによって高められ
る。蝶ねじ74は、固体粒子12が、供給管68と駆動
軸76との間に作られた環状空間を通るときに、固体粒
子12の分配/攪拌を均等にする。
【0022】固体粒子12の供給は、供給管68をプラ
ットフォーム24に取り付ける取付カラー78を設ける
ことによって、更に高められる。取付カラー78は、回
転円板58に対する供給管68の調節を可能にする。こ
のことは、供給管68の放出量が、スクリューフィーダ
66の放出量と実質的に等しくなるように、供給管68
の放出量の調節を可能にする。
ットフォーム24に取り付ける取付カラー78を設ける
ことによって、更に高められる。取付カラー78は、回
転円板58に対する供給管68の調節を可能にする。こ
のことは、供給管68の放出量が、スクリューフィーダ
66の放出量と実質的に等しくなるように、供給管68
の放出量の調節を可能にする。
【0023】これを考慮して、供給管68は、固体粒子
12を実質的に回転円板58の中心に隣接した位置に案
内するように向けられる。好適な実施形態により、固体
粒子12は回転円板58の中心に差し向けられるが、本
発明の精神から逸脱することなく、固体粒子を他の位置
に差し向けてもよいと考えられる。
12を実質的に回転円板58の中心に隣接した位置に案
内するように向けられる。好適な実施形態により、固体
粒子12は回転円板58の中心に差し向けられるが、本
発明の精神から逸脱することなく、固体粒子を他の位置
に差し向けてもよいと考えられる。
【0024】回転円板58の中心への固体粒子12の供
給は、回転円板58を支持しかつ駆動する駆動軸76の
まわりに、供給管68を同軸に配向することによって達
成される。供給管68内の駆動軸76の制御された位置
決めは、駆動軸76を供給管68の中心に取り付けるフ
ランジ取付軸受87によって達成される。このようにし
て、固体粒子12は、駆動軸76に隣接する供給管68
に、回転円板58の中心へ向って供給される。本発明の
分配装置10の理想的な作動を行うために、供給管68
の遠位端80を回転円板58の上方約0.3175cm
に位置決めするのがよいことが分かっている。しかしな
がら、供給管68の正確な位置を、本発明の精神から逸
脱することなく、作動パラメータの変化に基づいて、変
えてもよい。回転円板への粒子の供給は、種々の機構、
例えば、(図5に示すように、)回転円板の回転面に均
一に散布するために、粒子を流すことができる中空の駆
動軸を使用して達成されることが、更に考えられる。。
給は、回転円板58を支持しかつ駆動する駆動軸76の
まわりに、供給管68を同軸に配向することによって達
成される。供給管68内の駆動軸76の制御された位置
決めは、駆動軸76を供給管68の中心に取り付けるフ
ランジ取付軸受87によって達成される。このようにし
て、固体粒子12は、駆動軸76に隣接する供給管68
に、回転円板58の中心へ向って供給される。本発明の
分配装置10の理想的な作動を行うために、供給管68
の遠位端80を回転円板58の上方約0.3175cm
に位置決めするのがよいことが分かっている。しかしな
がら、供給管68の正確な位置を、本発明の精神から逸
脱することなく、作動パラメータの変化に基づいて、変
えてもよい。回転円板への粒子の供給は、種々の機構、
例えば、(図5に示すように、)回転円板の回転面に均
一に散布するために、粒子を流すことができる中空の駆
動軸を使用して達成されることが、更に考えられる。。
【0025】本発明の好適な実施形態によれば、回転円
板58は、ほぼ平滑な表面を備えた、直径40.64c
m、厚さ0.3175cmの積層板である。その表面
は、回転円板58の円周のまわりに均一な分配を行うよ
うに、その上に落とされた固体粒子12に接触する。固
体粒子12の均一な分配は、回転円板58の上面60
に、四つの0.635cmのキーストック(keyst
ock)片を取り付けることによって、更に高められ
る。各キーストック片は、回転円板58の中心から半径
方向外方に延びるように向けられている。0.635c
mのキーストックは、固体粒子12が回転円板58に接
触して、回転円板58によって外方に投げ飛ばされると
きに、固体粒子12の均一な分配を容易にするために、
互いに90度間隔を隔てた位置で、回転円板58の上面
60に固着される。
板58は、ほぼ平滑な表面を備えた、直径40.64c
m、厚さ0.3175cmの積層板である。その表面
は、回転円板58の円周のまわりに均一な分配を行うよ
うに、その上に落とされた固体粒子12に接触する。固
体粒子12の均一な分配は、回転円板58の上面60
に、四つの0.635cmのキーストック(keyst
ock)片を取り付けることによって、更に高められ
る。各キーストック片は、回転円板58の中心から半径
方向外方に延びるように向けられている。0.635c
mのキーストックは、固体粒子12が回転円板58に接
触して、回転円板58によって外方に投げ飛ばされると
きに、固体粒子12の均一な分配を容易にするために、
互いに90度間隔を隔てた位置で、回転円板58の上面
60に固着される。
【0026】回転円板の好適な構造で説明したが、当業
者は、本発明の精神から逸脱することことなく多くの変
更例が適用されることを認識するであろう。例えば、本
発明の好適な実施形態により、40.64cm円板の使
用を上で説明したが、本発明の精神から逸脱することな
く、種々の寸法の円板を使用してもよいことが、事前の
実験から知られている。
者は、本発明の精神から逸脱することことなく多くの変
更例が適用されることを認識するであろう。例えば、本
発明の好適な実施形態により、40.64cm円板の使
用を上で説明したが、本発明の精神から逸脱することな
く、種々の寸法の円板を使用してもよいことが、事前の
実験から知られている。
【0027】回転円板58による固体粒子12の均一な
分配の更なる改善が、回転円板58の上面60の上方に
位置決めされたプレート84によって、達成される。プ
レート84は、駆動軸76に固定され、回転円板58と
共に回転する。
分配の更なる改善が、回転円板58の上面60の上方に
位置決めされたプレート84によって、達成される。プ
レート84は、駆動軸76に固定され、回転円板58と
共に回転する。
【0028】上述したように、回転円板58は、駆動軸
76によって支持されている。駆動軸76は、モータ8
6に連結される。モータ86は、固体粒子12が回転円
板58に当たるとき、固体粒子12を外側に分配するの
に相応しい力を生じさせるように、駆動軸76及び回転
円板58を、回転させる。モータ86は、好ましくは、
連続可変速モータである。しかしながら、本発明の精神
から逸脱することなく、様々なモータを使用してもよ
い。
76によって支持されている。駆動軸76は、モータ8
6に連結される。モータ86は、固体粒子12が回転円
板58に当たるとき、固体粒子12を外側に分配するの
に相応しい力を生じさせるように、駆動軸76及び回転
円板58を、回転させる。モータ86は、好ましくは、
連続可変速モータである。しかしながら、本発明の精神
から逸脱することなく、様々なモータを使用してもよ
い。
【0029】ゴム要素を備えたラブジョイ(love
joy)カップリング88が、モータ86を駆動軸76
に連結して、固体粒子12の分配に影響を及ぼす望まし
くない振動を減らす。モータ86と駆動軸76は共に、
支持アーム99で支持される。実際には、駆動軸76が
回転して回転円板58を駆動するとき、振動を減ずる仕
方で、第一軸受90及び第二軸受92が、駆動軸76を
支持アーム99に連結する。
joy)カップリング88が、モータ86を駆動軸76
に連結して、固体粒子12の分配に影響を及ぼす望まし
くない振動を減らす。モータ86と駆動軸76は共に、
支持アーム99で支持される。実際には、駆動軸76が
回転して回転円板58を駆動するとき、振動を減ずる仕
方で、第一軸受90及び第二軸受92が、駆動軸76を
支持アーム99に連結する。
【0030】バフル62が、回転円板58を取り囲み、
かつ、回転円板58の下を通るウエブ14への固体粒子
12の分配を制御する。バフル62は、回転円板58の
上方の空間を包囲し、かつ、回転円板58から半径方向
外方に位置決めされる。回転円板58の周囲を取り囲む
バフル62の形状、即ち、回転円板58から半径方向外
方に位置決めされたバフル62の部分は、回転円板58
の下を通るウエブ14上での固体粒子12の均一な分配
を確保するように、特別に形成される。
かつ、回転円板58の下を通るウエブ14への固体粒子
12の分配を制御する。バフル62は、回転円板58の
上方の空間を包囲し、かつ、回転円板58から半径方向
外方に位置決めされる。回転円板58の周囲を取り囲む
バフル62の形状、即ち、回転円板58から半径方向外
方に位置決めされたバフル62の部分は、回転円板58
の下を通るウエブ14上での固体粒子12の均一な分配
を確保するように、特別に形成される。
【0031】これを考慮して、バフル62は、回転円板
58の周囲に広がるとき、ほぼ目の形に形成される。よ
り詳細には、目の形をしたバフル62は、第一点及び第
二点で交わる第一円弧94及び第二円弧96(即ち、上
半部及び下半部)によって構成される。したがって、目
の形をしたバフル62は、第一直径98及び第二直径1
00を含むものと定義され、第一直径98は、第二直径
100よりも小さい。バフル62が移動ウエブ14の上
方に位置決めされるとき、第一直径98が、移動ウエブ
14が走行している方向と平行に、即ち、移動ウエブ1
4が走行している方向に向けられ、第二直径100が、
移動ウエブ14が走行している方向と直角に、即ち、移
動ウエブを横切る方向に向けられるのが、望ましい。目
の形をしたバフル62が、このように正しく向けられる
と、固体粒子12の均一な分配が、その下を移動するウ
エブ14上に分散される。
58の周囲に広がるとき、ほぼ目の形に形成される。よ
り詳細には、目の形をしたバフル62は、第一点及び第
二点で交わる第一円弧94及び第二円弧96(即ち、上
半部及び下半部)によって構成される。したがって、目
の形をしたバフル62は、第一直径98及び第二直径1
00を含むものと定義され、第一直径98は、第二直径
100よりも小さい。バフル62が移動ウエブ14の上
方に位置決めされるとき、第一直径98が、移動ウエブ
14が走行している方向と平行に、即ち、移動ウエブ1
4が走行している方向に向けられ、第二直径100が、
移動ウエブ14が走行している方向と直角に、即ち、移
動ウエブを横切る方向に向けられるのが、望ましい。目
の形をしたバフル62が、このように正しく向けられる
と、固体粒子12の均一な分配が、その下を移動するウ
エブ14上に分散される。
【0032】一般に、図6を参照すると、グリットバフ
ルは、グリット供給源からのグリット又は粒子の全体の
流れが、バフルに衝突して、移動ウエブ上へ向け直され
るように配置される。グリットバフルの形状寸法は、ウ
エブ上へのグリットの堆積が、ウエブに沿って均一であ
り、かつ、ウエブを横切って、均一であるようなもので
ある。
ルは、グリット供給源からのグリット又は粒子の全体の
流れが、バフルに衝突して、移動ウエブ上へ向け直され
るように配置される。グリットバフルの形状寸法は、ウ
エブ上へのグリットの堆積が、ウエブに沿って均一であ
り、かつ、ウエブを横切って、均一であるようなもので
ある。
【0033】グリットバフルは、グリットの均一な被覆
を移動ウエブ上へうまく堆積させる、一定の形状寸法を
有する必要がある。一般的な形状が、図6に平面図で見
える。以下の仮定が妥当性を有する。−グリット供給源
は、図に示すように、角度aと角度ωとの間に、グリッ
トの一様な半径方向の流れを生じさせる。−グリット供
給源によって放出された全てのグリットは、グリットバ
フルに衝突して、移動ウエブ上へ真直ぐ下方に落ちる。
を移動ウエブ上へうまく堆積させる、一定の形状寸法を
有する必要がある。一般的な形状が、図6に平面図で見
える。以下の仮定が妥当性を有する。−グリット供給源
は、図に示すように、角度aと角度ωとの間に、グリッ
トの一様な半径方向の流れを生じさせる。−グリット供
給源によって放出された全てのグリットは、グリットバ
フルに衝突して、移動ウエブ上へ真直ぐ下方に落ちる。
【0034】図6に示すように、dx、又は、同等に、
dθによって作られた微小バフル部分を考える。グリッ
ト供給源による一様な半径方向の放出を仮定すると、バ
フルに当たってウエブへ落下するマス流量dmは、下記
の(0.1)式によって与えられる。
dθによって作られた微小バフル部分を考える。グリッ
ト供給源による一様な半径方向の放出を仮定すると、バ
フルに当たってウエブへ落下するマス流量dmは、下記
の(0.1)式によって与えられる。
【0035】ここで、mTは、グリット供給源による合
計のマス流量であり、θTは、下記の(0.2)式によ
って与えられる。 θT =ω-α (0.2)
計のマス流量であり、θTは、下記の(0.2)式によ
って与えられる。 θT =ω-α (0.2)
【0036】目的は、ウエブに亘って、グリッドの一様
な分配を達成することであり、即ち、
な分配を達成することであり、即ち、
【0037】グリッド供給源によって放出された全ての
グリットmTは、ウエブ上へ方向を直されるので、
グリットmTは、ウエブ上へ方向を直されるので、
【0038】ここで、wは、ウエブの幅である。(0.
1)式を(0.4)式に代入すると、下記の(0.5)
式が得られる。 dθ/ dx =θT / w (0.5)
1)式を(0.4)式に代入すると、下記の(0.5)
式が得られる。 dθ/ dx =θT / w (0.5)
【0039】(0.5)式をxについて積分すると、下
記の(0.6)式が得られる。 θ= (θT / w)(x - w +δ) +α (0.6)
記の(0.6)式が得られる。 θ= (θT / w)(x - w +δ) +α (0.6)
【0040】ここで、下記の(0.7)式の境界条件を
使用して、積分定数を求めた。 θ=α at x = w -δ (0.7)
使用して、積分定数を求めた。 θ=α at x = w -δ (0.7)
【0041】垂直方向(MD)のバフル座標yは、下記
の(0.8)式を通じて、水平方向(CD)のバフル座
標x及び角度θと関係付けられる。 y / x =tanθ (0.8)
の(0.8)式を通じて、水平方向(CD)のバフル座
標x及び角度θと関係付けられる。 y / x =tanθ (0.8)
【0042】所要のバフルの形状の式は、(0.6)式
と(0.8)式との組み合わせによって得られる。 y = f(x) = x tan((θT / w)(x - w +δ) +α) (0.9)
と(0.8)式との組み合わせによって得られる。 y = f(x) = x tan((θT / w)(x - w +δ) +α) (0.9)
【0043】注目すべきは、所要のバフル形状が、グリ
ットのマス流量mT及び移動ウエブ速度と無関係である
ことである。
ットのマス流量mT及び移動ウエブ速度と無関係である
ことである。
【0044】一例として、グリット供給源を、移動ウエ
ブの中心線上に位置させた配置を考える。さらに、グリ
ット供給源に、180°の角度に亘って放出させる。す
ると、パラメータ値a、ω、及びδが、下記の(0.1
0)式によって与えられる。 α = 0 ω =π (0.10) δ = 0
ブの中心線上に位置させた配置を考える。さらに、グリ
ット供給源に、180°の角度に亘って放出させる。す
ると、パラメータ値a、ω、及びδが、下記の(0.1
0)式によって与えられる。 α = 0 ω =π (0.10) δ = 0
【0045】そして、(0.9)式は、下記の(0.1
1)式となる。 y = x tan((π/ w) x - π/ 2) (0.11)
1)式となる。 y = x tan((π/ w) x - π/ 2) (0.11)
【0046】360°の角度範囲に亘って連続するバフ
ルは、バフルの「上側」部分についての(0.11)式
を用い、次いで、その結果をx軸を中心に反映させて、
バフルの「底」部分を得ることによって得られる。
ルは、バフルの「上側」部分についての(0.11)式
を用い、次いで、その結果をx軸を中心に反映させて、
バフルの「底」部分を得ることによって得られる。
【0047】作動中、固体粒子12は、ツインスクリュ
ーフィーダ66によって、供給管68へ供給されて、上
面60の中心位置に落とされる。円板58の回転は、半
径方向外向きの圧力を固体粒子12に付与し、固体粒子
12は、回転円板58の上面60に沿って押し流され
て、回転円板58の外周から飛ばされる。次いで、固体
粒子12は、バフル62に接触して、その下を通る移動
ウエブ14上へ落下する。
ーフィーダ66によって、供給管68へ供給されて、上
面60の中心位置に落とされる。円板58の回転は、半
径方向外向きの圧力を固体粒子12に付与し、固体粒子
12は、回転円板58の上面60に沿って押し流され
て、回転円板58の外周から飛ばされる。次いで、固体
粒子12は、バフル62に接触して、その下を通る移動
ウエブ14上へ落下する。
【0048】本発明の好適な実施形態によれば、回転円
板及び駆動軸は、およそ400〜3000rpm、より
詳細には、およそ1100rpmの速度で回転すること
が分かった。極端に高い回転速度は、良くない過度の気
流を作り、また、非常に低い回転速度は、酸化アルミニ
ウム粒子を回転円板から「投げ飛ばさ」ないことが分か
った。移動ウエブの線速度は、およそ毎分30乃至10
0メートルにすべきであることが、更に考えられる。し
かしながら、我々はまた、移動ウエブをおよそ毎分4.
57乃至12.19メートルの速度で走らせ、所望の結
果を得た。その結果、我々は、より速いライン速度が、
製造を最適にするのに、広く使用されるものとを考える
が、我々は、本発明の精神の中で、より速いライン速度
又はより遅いライン速度が可能であることを予想する。
板及び駆動軸は、およそ400〜3000rpm、より
詳細には、およそ1100rpmの速度で回転すること
が分かった。極端に高い回転速度は、良くない過度の気
流を作り、また、非常に低い回転速度は、酸化アルミニ
ウム粒子を回転円板から「投げ飛ばさ」ないことが分か
った。移動ウエブの線速度は、およそ毎分30乃至10
0メートルにすべきであることが、更に考えられる。し
かしながら、我々はまた、移動ウエブをおよそ毎分4.
57乃至12.19メートルの速度で走らせ、所望の結
果を得た。その結果、我々は、より速いライン速度が、
製造を最適にするのに、広く使用されるものとを考える
が、我々は、本発明の精神の中で、より速いライン速度
又はより遅いライン速度が可能であることを予想する。
【0049】図5を参照すると、収集組立体116につ
いての別の実施形態が示されている。収集組立体116
の機能は、図1、図2及び図3に上記示したものと実質
的に同じであるが、変形例の収集組立体116は、スク
リューフィーダ116から回転円板158までの固体粒
子の通過を容易にする中空駆動軸176を有する。この
実施形態による中空駆動軸176の使用は、固体粒子を
回転円板158の中心へ一直線に供給することを可能に
し、その結果、移動ウエブ上の分配を改善する。
いての別の実施形態が示されている。収集組立体116
の機能は、図1、図2及び図3に上記示したものと実質
的に同じであるが、変形例の収集組立体116は、スク
リューフィーダ116から回転円板158までの固体粒
子の通過を容易にする中空駆動軸176を有する。この
実施形態による中空駆動軸176の使用は、固体粒子を
回転円板158の中心へ一直線に供給することを可能に
し、その結果、移動ウエブ上の分配を改善する。
【0050】中空駆動軸176を有する収集組立体11
6は、第一端180及び第二端182を有する。取付ら
れた管189を定置漏斗188が、中空駆動軸176に
差し込まれる。取付られた管189は、実質的に中空駆
動軸176の全長に延びて、回転円板158に隣接して
終わる。定置漏斗188は、収集組立体の中に通される
べき固体粒子を受けるために、中空駆動軸176の頂上
に位置する。
6は、第一端180及び第二端182を有する。取付ら
れた管189を定置漏斗188が、中空駆動軸176に
差し込まれる。取付られた管189は、実質的に中空駆
動軸176の全長に延びて、回転円板158に隣接して
終わる。定置漏斗188は、収集組立体の中に通される
べき固体粒子を受けるために、中空駆動軸176の頂上
に位置する。
【0051】回転円板158は、中空駆動軸176の第
二端182に連結される。図1及び図2に示された実施
形態のように、プレート184が、回転円板158の上
方に位置決めされる。プレート184は、プレート及び
回転円板158が中空駆動軸176と共に回転するよう
に、回転円板158に連結される。回転円板158に接
触する固体粒子の分配を可能にするために、第二端18
2の縁と回転円板158の上面との間に、間隔(例え
ば、0.635cm)があけられる。本発明の好適な実
施形態によれば、カップリング軸ハブ178が、中空駆
動軸176の第二端182を、プレート184に、そし
て最終的には回転円板158に、固定する。カップリン
グ軸ハブ178、及び、中空駆動軸176の第二端18
2には、要素の正切な整合のための合わせキー190、
192が設けられている。
二端182に連結される。図1及び図2に示された実施
形態のように、プレート184が、回転円板158の上
方に位置決めされる。プレート184は、プレート及び
回転円板158が中空駆動軸176と共に回転するよう
に、回転円板158に連結される。回転円板158に接
触する固体粒子の分配を可能にするために、第二端18
2の縁と回転円板158の上面との間に、間隔(例え
ば、0.635cm)があけられる。本発明の好適な実
施形態によれば、カップリング軸ハブ178が、中空駆
動軸176の第二端182を、プレート184に、そし
て最終的には回転円板158に、固定する。カップリン
グ軸ハブ178、及び、中空駆動軸176の第二端18
2には、要素の正切な整合のための合わせキー190、
192が設けられている。
【0052】回転円板158の回転は、プーリー19
4、196及び駆動ベルト198を介して、中空駆動軸
176の中央部分に連結されたギアモータ186によっ
て与えられる。中空駆動軸176及び回転円板158の
円滑な回転は、プラットフォーム124に連結されたフ
ランジ軸受200、及び、ピロウブロック軸受202に
よって確保される。
4、196及び駆動ベルト198を介して、中空駆動軸
176の中央部分に連結されたギアモータ186によっ
て与えられる。中空駆動軸176及び回転円板158の
円滑な回転は、プラットフォーム124に連結されたフ
ランジ軸受200、及び、ピロウブロック軸受202に
よって確保される。
【0053】開示した供給組立体116は、図1、図2
及び図3を参照して開示したものとほぼ同様に機能す
る。簡単にいえば、固体粒子は、定置漏斗188に供給
され、定置漏斗188の内管189の中を通って、中空
駆動軸176の下まで供給される。次いで、固定粒子
は、中空駆動軸176の第二端182より出て、回転円
板158に接触して、外方に「投げ飛ば」される。図5
に示した供給組立体の好適な構造によれば、中空駆動軸
の内径は、固体粒子の自由流れを確保するために、およ
そ1.27cmであるのがよい。しかしながら、当業者
は、全ての構成要素の寸法が、作動パラメータの種々の
変化に適合するように変えられてもよいことを、認識す
るであろう。
及び図3を参照して開示したものとほぼ同様に機能す
る。簡単にいえば、固体粒子は、定置漏斗188に供給
され、定置漏斗188の内管189の中を通って、中空
駆動軸176の下まで供給される。次いで、固定粒子
は、中空駆動軸176の第二端182より出て、回転円
板158に接触して、外方に「投げ飛ば」される。図5
に示した供給組立体の好適な構造によれば、中空駆動軸
の内径は、固体粒子の自由流れを確保するために、およ
そ1.27cmであるのがよい。しかしながら、当業者
は、全ての構成要素の寸法が、作動パラメータの種々の
変化に適合するように変えられてもよいことを、認識す
るであろう。
【0054】好適な実施形態を示し、かつ、説明した
が、かかる開示によって、本発明を限定するものではな
く、むしろ、添付の請求項に記載されたように本発明の
精神及び範囲内に含まれる全ての変更及び代替構造を含
むものである。
が、かかる開示によって、本発明を限定するものではな
く、むしろ、添付の請求項に記載されたように本発明の
精神及び範囲内に含まれる全ての変更及び代替構造を含
むものである。
【図1】本発明による分配組立体の正面図である。
【図2】バフル内に形成された空間に集中して、図1に
示した分配組立体の詳細断面図である。
示した分配組立体の詳細断面図である。
【図3】図1に示す分配組立体の側面図である。
【図4】バフル及び回転円板を示す底面図である。
【図5】本発明による別の供給組立体の側面図である。
【図6】数学的考察に基づいたグリットバフルの幾何図
形的配置の概略線図である。
形的配置の概略線図である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 アーネスト エル フェルプス
アメリカ合衆国 テキサス州 76706 ワ
コ イースト ニューランド ドライヴ
506
(72)発明者 マイケル イー イングリム
アメリカ合衆国 テキサス州 76513 ベ
ルトン ペコス トレイル 521
(72)発明者 ティモシー ジェイ レイ
アメリカ合衆国 テキサス州 76513 ベ
ルトン ウッドランド トレイルズ 120
(72)発明者 ジェイ ピー オブライエン
アメリカ合衆国 テキサス州 76579 ト
ロイ イーグル ブラフ ドライヴ 1358
(72)発明者 グレゴリー エス レイノルズ
アメリカ合衆国 テキサス州 76504 テ
ンプル シダー クリーク ロード 5481
(72)発明者 スティーヴン シー ダウェル
アメリカ合衆国 テキサス州 76557 ム
ーディー リトリート レーン 13279
(72)発明者 コリー エス ハーグローヴ
アメリカ合衆国 テキサス州 76501 テ
ンプル ノース エルム ループ 18904
(72)発明者 エドウィン アール マッサー ジュニア
アメリカ合衆国 テキサス州 76579 ト
ロイ ゴーツ ロード ナンバー 130
1460
(72)発明者 ブルース エイ クラーク
アメリカ合衆国 テキサス州 76502 テ
ンプル ティンバーライン 219
(72)発明者 ウィルトン ティー カトー
アメリカ合衆国 テキサス州 76501 テ
ンプル ロウワー トロイ ロード 7084
Fターム(参考) 2B002 AA04 AA05 AA16
4F033 PA14 PB23 PD01
Claims (9)
- 【請求項1】 固体粒子(12)を移動ウエブ(14)
上へ均一に分配するための散布装置(16)であって、 前記固体粒子(12)が当たるときに、固体粒子(1
2)を外方に分配するように形成された上面(60)を
有する回転円板(58)と、 前記回転円板(58)のまわりに位置決めされ、かつ、
固体粒子(12)を前記移動ウエブ(14)上に均一に
分配するように形成されているバフル(62)と、 固体粒子(12)を前記回転円板(58)の上面(6
0)へ所定量供給するように、前記回転円板(58)の
まわりに位置決めされた供給組立体(64)と、を有す
る、散布装置。 - 【請求項2】 キーストック(82)が、前記回転円板
(58)の上面(60)に設けられる、請求項1記載の
散布装置。 - 【請求項3】 前記供給組立体(64)は、前記固体粒
子(12)を、前記回転円板(58)の中心に隣接した
位置に案内するように形成される、請求項1又は2記載
の散布装置。 - 【請求項4】 前記バフル(62)は、下記の等式で定
義される、請求項1、2又は3記載の散布装置。 y = x tan((π/w)x - (π/2)) ここで、wは、前記移動ウエブの幅であり、360°の
角度範囲に亘る粒子放出をさせるための連続バフルは、
前記バフルの上側部分についての上記関係を用い、か
つ、その結果をx軸を中心に反映させて前記バフルの底
部分を得ることによって得られる。 - 【請求項5】 前記バフル(62)は、目の形に形成さ
れる、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の散布装
置。 - 【請求項6】 バフル(62)は、第一直径(98)及
び第二直径(100)を有し、前記第二直径(100)
は、前記第一直径(98)よりも長く、前記第一直径
(98)は、前記移動ウエブ(14)の方向に配向さ
れ、前記第二直径(100)は、前記移動ウエブ(1
4)の方向と直角に配向される、請求項1乃至5のいず
れか一項に記載の散布装置。 - 【請求項7】 前記回転円板(58)は、およそ400
乃至3000rpmで回転されるように形成される、請
求項1乃至6のいずれか一項に記載の散布装置。 - 【請求項8】 前記回転円板(58)は、円形である、
請求項1記載の散布装置。 - 【請求項9】 分配組立体(10)であって、 第一方向に引かれるように形成された移動ウエブ(1
4)と、 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の散布装置(1
2)と、を有する、分配組立体。
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