JP2003017569A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2003017569A
JP2003017569A JP2001199273A JP2001199273A JP2003017569A JP 2003017569 A JP2003017569 A JP 2003017569A JP 2001199273 A JP2001199273 A JP 2001199273A JP 2001199273 A JP2001199273 A JP 2001199273A JP 2003017569 A JP2003017569 A JP 2003017569A
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JP
Japan
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channel transistor
circuit
fuse
value
conductive
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JP2001199273A
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Japanese (ja)
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Katsukichi Watanabe
克吉 渡辺
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that a normal semiconductor integrated circuit chip except for a capacitor breaking insulation of a gate oxidation film cannot be relieved. SOLUTION: Separation circuits 4, 5, 6 being in a continuity state or a non- continuity state in wiring at the side of a power source 50 or GND 60 securing decoupling capacities 1, 2, 3 are provided, the decoupling capacities 1, 2, 3 judge quality by operation from a tester during a wafer test process of products, and inferiority can eliminate leak current due to the decoupling capacity even for the decoupling capacity which has gate oxidation film short-circuiting by invalidating the decoupling capacity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、ゲート酸化膜の
絶縁が破壊されたキャパシタ以外の正常な半導体集積回
路チップを救済することのできる半導体集積回路に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit capable of repairing a normal semiconductor integrated circuit chip other than a capacitor in which insulation of a gate oxide film is destroyed.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は、従来技術による半導体集積回路
チップ内のゲート酸化膜によるキャパシタの構成を示す
図である。図5において、1,2,3は、それぞれ個別
のキャパシタであり、50は電源であり、60はGND
(グランド)である。通常、電源−GND(グランド)
間に配置されるデカップリングコンデンサとしての機能
を持つキャパシタは半導体集積回路チップ内のレイアウ
ト上の都合もあり、この様に分散して配置される。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a diagram showing the structure of a capacitor formed of a gate oxide film in a semiconductor integrated circuit chip according to the prior art. In FIG. 5, 1, 2 and 3 are individual capacitors, 50 is a power supply, and 60 is GND.
(Ground). Normally, power supply-GND (ground)
The capacitors having a function as a decoupling capacitor arranged between them are arranged in such a dispersed manner because of layout convenience in the semiconductor integrated circuit chip.

【0003】次に動作について説明する。図5に示した
キャパシタ1,2,3は、マイクロコンピュータシステ
ムにおいて、ノイズ対策や動作の安定性を確保するため
に、電源−GND間に配置されたデカップリングコンデ
ンサであり、このようなデカップリングコンデンサは絶
縁膜である薄いゲート酸化膜により、容量を確保してい
る。
Next, the operation will be described. Capacitors 1, 2 and 3 shown in FIG. 5 are decoupling capacitors arranged between the power supply and GND in order to secure noise countermeasures and operation stability in the microcomputer system. The capacitor secures the capacity by a thin gate oxide film which is an insulating film.

【0004】しかし、プロセスの製造欠陥などにより、
ゲート酸化膜中に異物が存在する等の原因により、絶縁
破壊が発生し、電源−GND間に電流を流すリークパス
を生ずることがある。
However, due to manufacturing defects in the process,
Dielectric breakdown may occur due to the presence of foreign matter in the gate oxide film, and a leak path may flow between the power supply and GND.

【0005】このようにプロセスの欠陥により、キャパ
シタ1,2,3の何れか一つにおいて、動作はするが電
流値が製品およびテストの工程での規格として定められ
ている値よりも増えた場合、通常であれば不良品として
廃却される。
As a result of the process defect, when any one of the capacitors 1, 2 and 3 operates, but the current value exceeds the value specified as the standard in the product and test process. , It is usually discarded as a defective product.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体集積回路
は以上のように構成されているので、このような不良品
として廃却される半導体集積回路チップのうち、その不
良の原因となったゲート酸化膜の絶縁が破壊されたキャ
パシタ以外の正常なものについては、その不良の原因さ
えなければ製品化できるにもかかわらず、そのような半
導体集積回路チップについても廃却されてしまうという
課題があった。
Since the conventional semiconductor integrated circuit is configured as described above, the gate of the semiconductor integrated circuit chip that is discarded as such a defective product is the gate causing the defect. As for normal capacitors other than capacitors whose oxide film insulation is destroyed, there is a problem that such semiconductor integrated circuit chips will also be discarded, even if they can be commercialized if there is no cause for their defects. It was

【0007】この発明は、上記のような課題を解決する
ためのもので、ゲート酸化膜の絶縁が破壊されたキャパ
シタ以外の正常な半導体集積回路チップを救済すること
のできる半導体集積回路を提供することを目的とする。
The present invention is intended to solve the above problems and provides a semiconductor integrated circuit capable of relieving a normal semiconductor integrated circuit chip other than a capacitor in which the insulation of the gate oxide film is destroyed. The purpose is to

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体集
積回路は、デカップリング容量を確保している電源また
はGND側の配線に導通状態および非導通状態となる切
り離し回路を備え、デカップリング容量は製品のウェハ
ーテスト工程中にテスターからの操作により良・不良を
判断し、不良については容量を無効化するものである。
A semiconductor integrated circuit according to the present invention is provided with a decoupling circuit which is in a conducting state and a non-conducting state in a power source or a GND side wiring which secures the decoupling capacitance, and the decoupling capacitance is During the wafer test process of the product, it is judged whether the product is good or bad by the operation from the tester and invalidates the capacity for the bad.

【0009】この発明に係る半導体集積回路は、切り離
し回路が、Pチャネルトランジスタと、Pチャネルトラ
ンジスタのゲートに制御信号を供給するゲート制御回路
とを有し、ゲート制御回路の制御信号の値に応じてPチ
ャネルトランジスタが導通状態および非導通状態のいず
れかにされることにより切り離し回路の導通状態および
非導通状態が制御されるものである。
In the semiconductor integrated circuit according to the present invention, the decoupling circuit has a P-channel transistor and a gate control circuit for supplying a control signal to the gate of the P-channel transistor, and the decoupling circuit is responsive to the value of the control signal of the gate control circuit. The P-channel transistor is made conductive or non-conductive to control the conductive or non-conductive state of the disconnection circuit.

【0010】この発明に係る半導体集積回路は、切り離
し回路が、ヒューズと、ヒューズに流れる電流の値を表
す信号を出力する電流計とを有し、ヒューズを接続され
た状態および切断された状態のいずれかにすることによ
って切り離し回路の導通状態および非導通状態が制御さ
れるものである。
In the semiconductor integrated circuit according to the present invention, the disconnecting circuit has a fuse and an ammeter for outputting a signal representing the value of the current flowing through the fuse, and the fuse is connected and disconnected. By making either of them, the conductive state and the non-conductive state of the disconnection circuit are controlled.

【0011】この発明に係る半導体集積回路は、ゲート
制御回路が、不揮発性メモリからなり、不揮発性メモリ
に記憶された値がゲート制御回路の制御信号として出力
され、テストを行う時に不揮発性メモリの値を切り替え
て電流値測定可能なモードを設けたものである。
In the semiconductor integrated circuit according to the present invention, the gate control circuit comprises a non-volatile memory, the value stored in the non-volatile memory is output as a control signal for the gate control circuit, and the non-volatile memory of the non-volatile memory is used when a test is performed. A mode is provided in which the value can be switched and the current value can be measured.

【0012】この発明に係る半導体集積回路は、ゲート
制御回路が、ヒューズを備えた外部入力信号受容回路か
らなり、ヒューズが切断されているときは、Pチャネル
トランジスタが非導通状態となり、ヒューズが接続され
ているときは、Pチャネルトランジスタが外部入力信号
の値に応じて導通状態および非導通状態のいずれかにさ
れ、外部入力信号によって導通状態にされるPチャネル
トランジスタを指定することにより、どのデカップリン
グ容量に流れる電流が異常であるかを判定するものであ
る。
In the semiconductor integrated circuit according to the present invention, the gate control circuit comprises an external input signal receiving circuit provided with a fuse, and when the fuse is cut off, the P-channel transistor becomes non-conductive and the fuse is connected. , The P-channel transistor is made conductive or non-conductive depending on the value of the external input signal, and by specifying the P-channel transistor to be made conductive by the external input signal, which decoupling is performed. It is to determine whether the current flowing through the ring capacitance is abnormal.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態1.図1は、この発明による実施の形態1の
構成を示す図である。図1において、1,2,3は、そ
れぞれ、デカップリング容量をなす個別のキャパシタで
あり、4,5,6は、それぞれ、キャパシタ1,2,3に
接続されてキャパシタ1,2,3の対応するキャパシタ
を切り離す手段を備えた切り離し回路である。50は電
源であり、60はGND(グランド)である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below. Embodiment 1. 1 is a diagram showing a configuration of a first embodiment according to the present invention. In FIG. 1, reference numerals 1, 2, and 3 are individual capacitors that form decoupling capacitances, and reference numerals 4, 5, and 6 are connected to the capacitors 1, 2, and 3, respectively. It is a disconnection circuit having means for disconnecting the corresponding capacitor. 50 is a power supply and 60 is a GND (ground).

【0014】次に動作について説明する。デカップリン
グ容量をなすキャパシタ1,2,3は、製品のウェハー
テスト工程中にテスターからの操作により、良・不良を
判断できるよう、チップ設計、およびテスト設計が行わ
れている。チップ設計およびテスト設計の後に、ウェハ
ーテスト工程が行われ、ウェハーテスト工程において不
良と判断されたキャパシタは、不良キャパシタとしてそ
の不良キャパシタに接続されている切り離し回路(4,
5,6)を有効にして、不良キャパシタは電源−GDN
から切り離されて無効化される。
Next, the operation will be described. The capacitors 1, 2, and 3 that form the decoupling capacitance are designed in a chip and a test so that a good / defective judgment can be made by an operation from a tester during a wafer test process of a product. After the chip design and the test design, a wafer test process is performed, and a capacitor determined to be defective in the wafer test process is a disconnection circuit (4, 4) connected to the defective capacitor as a defective capacitor.
5,6) is enabled and the defective capacitor is the power supply-GDN.
It is separated from and invalidated.

【0015】以上のように、この実施の形態1の半導体
集積回路は、ゲート酸化膜を誘電体として電源−GND
(グランド)間にデカップリング容量1,2,3を内蔵
している半導体集積回路において、デカップリング容量
1,2,3を確保している電源50またはGND60側
の配線に導通状態および非導通状態となる切り離し回路
4,5,6を備え、デカップリング容量1,2,3は製
品のウェハーテスト工程中にテスターからの操作により
良・不良を判断し、不良については容量を無効化するこ
とが可能であり、無効化することによりゲート酸化膜シ
ョートがあるデカップリング容量に対してもデカップリ
ング容量によるリーク電流をなくすことが可能なもので
ある。
As described above, in the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment, the gate oxide film is used as the dielectric material for the power supply-GND.
In a semiconductor integrated circuit having decoupling capacitors 1, 2, and 3 built in between (ground), a conducting state and a non-conducting state in a wiring on the power supply 50 side or the GND 60 side that secures the decoupling capacitances 1, 2, and 3. The decoupling capacitors 1, 2, and 3 are equipped with the decoupling circuits 4, 5, and 6 to judge whether the decoupling capacitors 1, 2, and 3 are good or bad by the operation from the tester during the wafer test process of the product, and invalidate the capacity for the bad. It is possible to eliminate the leak current due to the decoupling capacitance even for the decoupling capacitance having the gate oxide film short circuit by making it invalid.

【0016】以上のように、この実施の形態1によれ
ば、キャパシタ1,2,3のうちの一つ若しくは複数の
キャパシタが、ゲート酸化膜不良などで電流値が増加し
て不良キャパシタと判定された場合、切り離し回路を切
断することにより、不良キャパシタを切り離して無効化
するようにしたので、その半導体集積回路チップを正常
品として扱うことが可能となり、製品の歩留まりを向上
することができる効果が得られる。
As described above, according to the first embodiment, one or more of the capacitors 1, 2, and 3 are determined to be defective capacitors because the current value increases due to a defective gate oxide film or the like. In this case, by disconnecting the disconnecting circuit, the defective capacitor is disconnected and invalidated, so that the semiconductor integrated circuit chip can be treated as a normal product and the yield of the product can be improved. Is obtained.

【0017】実施の形態2.図2はこの発明の実施の形
態2であるPチャネルトランジスタを用いた切り離し回
路を示す図である。図2において、4は切り離し回路で
あり、7はソース側の端子が電源50に接続されドレイ
ン側の端子9が図1のキャパシタに接続されるPチャネ
ルトランジスタである。8は出力端子がPチャネルトラ
ンジスタ7のゲートに接続された不揮発性メモリをなす
フラッシュメモリであり、9はPチャネルトランジスタ
7のドレイン側の端子であり、このドレイン側の端子9
が図1のキャパシタに接続されている。50は電源であ
る。
Embodiment 2. FIG. 2 is a diagram showing a disconnection circuit using a P-channel transistor according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 2, 4 is a disconnecting circuit, and 7 is a P-channel transistor whose source side terminal is connected to the power supply 50 and whose drain side terminal 9 is connected to the capacitor of FIG. 8 is a flash memory whose output terminal is connected to the gate of the P-channel transistor 7 and constitutes a non-volatile memory, 9 is a drain-side terminal of the P-channel transistor 7, and this drain-side terminal 9
Are connected to the capacitor of FIG. 50 is a power supply.

【0018】この実施の形態2では、切り離し回路4
が、Pチャネルトランジスタ7と、Pチャネルトランジ
スタ7のゲートに制御信号を供給するフラッシュメモリ
8からなるゲート制御回路とを有する。
In the second embodiment, the disconnecting circuit 4
Has a P-channel transistor 7 and a gate control circuit including a flash memory 8 for supplying a control signal to the gate of the P-channel transistor 7.

【0019】また、この実施の形態2では、上記のPチ
ャネルトランジスタ7をNチャネルトランジスタに置き
換えて、ゲート制御回路を構成することもできる。
Further, in the second embodiment, the P-channel transistor 7 may be replaced with an N-channel transistor to form a gate control circuit.

【0020】次に動作について説明する。フラッシュメ
モリ8の値は、このフラッシュメモリを内蔵した半導体
集積回路の内部回路が動作すれば、0または1のいずれ
にも設定することが可能である。Pチャネルトランジス
タ7のゲートには、フラッシュメモリ8の値が制御信号
として入力されている。
Next, the operation will be described. The value of the flash memory 8 can be set to either 0 or 1 if the internal circuit of the semiconductor integrated circuit incorporating this flash memory operates. The value of the flash memory 8 is input to the gate of the P-channel transistor 7 as a control signal.

【0021】そこで、テスト工程中でこのフラッシュメ
モリ8の値が変更可能なように、フラッシュメモリの値
を変更する工程を追加する。
Therefore, a step of changing the value of the flash memory 8 is added so that the value of the flash memory 8 can be changed during the test step.

【0022】テスト工程のフローは以下のようにする。
最初に、全部のフラッシュメモリ8の値を「L」に設定
してPチャネルトランジスタ7を導通状態にして切り離
し回路4を無効にして(全部のキャパシタが有効な状態
にして)、半導体集積回路チップの電流特性評価を行
う。その際に、異常値でなければそのまま次工程テスト
に送る。
The flow of the test process is as follows.
First, the value of all the flash memories 8 is set to "L" to make the P-channel transistor 7 conductive and the disconnection circuit 4 invalid (all capacitors effective), and the semiconductor integrated circuit chip The current characteristic of is evaluated. At that time, if it is not an abnormal value, it is directly sent to the next process test.

【0023】電流特性評価の工程で、不良があった場
合、フラッシュメモリ8の値をキャパシタ1,2,3毎
に「H」に切り替えて、電流値測定を行い、電流値が良
品の範囲内に入るかを確認する。これは即ち電流異常で
あるキャパシタがキャパシタ1,2,3のうちのいずれ
であるかをつきとめることに相当する。
If there is a defect in the current characteristic evaluation process, the value of the flash memory 8 is switched to "H" for each of the capacitors 1, 2 and 3, and the current value is measured. Confirm whether to enter. This corresponds to finding out which one of the capacitors 1, 2, and 3 has the abnormal current.

【0024】こうして、キャパシタ1,2,3のうち、
いずれが不良であるかを特定したあと、その不良のキャ
パシタに接続されたフラッシュメモリ8を「H」に設定
してPチャネルトランジスタ7を非導通状態にして切り
離し回路4を有効にして(キャパシタとして無効な状態
にして)、次工程に進める。
Thus, of the capacitors 1, 2, 3
After identifying which one is defective, the flash memory 8 connected to the defective capacitor is set to “H” to make the P-channel transistor 7 non-conductive to enable the disconnection circuit 4 (as a capacitor). (Invalid state) and proceed to the next step.

【0025】製品の品質を確保するため、事前にどれだ
けのキャパシタを無効化してもかまわないかは、あらか
じめ求めておく。
In order to ensure the quality of the product, it is necessary to determine in advance how many capacitors may be disabled.

【0026】以上のように、この実施の形態2の半導体
集積回路は、実施の形態1の半導体集積回路において、
切り離し回路4が、Pチャネルトランジスタ7と、Pチ
ャネルトランジスタ7のゲートに制御信号を供給するゲ
ート制御回路(不揮発性メモリ8)とを有し、ゲート制
御回路の制御信号の値に応じてPチャネルトランジスタ
7が導通状態および非導通状態のいずれかにされること
により切り離し回路4の導通状態および非導通状態が制
御されるものである。
As described above, the semiconductor integrated circuit of the second embodiment is the same as the semiconductor integrated circuit of the first embodiment.
The disconnection circuit 4 has a P-channel transistor 7 and a gate control circuit (nonvolatile memory 8) that supplies a control signal to the gate of the P-channel transistor 7, and the P-channel transistor is provided in accordance with the value of the control signal of the gate control circuit. The conductive state and the non-conductive state of the disconnection circuit 4 are controlled by setting the transistor 7 to the conductive state or the non-conductive state.

【0027】さらに、この実施の形態2の半導体集積回
路は、ゲート制御回路が、不揮発性メモリ8からなり、
不揮発性メモリ8に記憶された値がゲート制御回路の制
御信号として出力され、テストを行う時に不揮発性メモ
リ8の値を切り替えて電流値測定可能なモードを設けた
ものである。
Further, in the semiconductor integrated circuit of the second embodiment, the gate control circuit is composed of the nonvolatile memory 8,
The value stored in the non-volatile memory 8 is output as a control signal of the gate control circuit, and the value of the non-volatile memory 8 is switched at the time of testing to provide a mode in which the current value can be measured.

【0028】以上のように、この実施の形態2によれ
ば、切り離し回路をPチャネルトランジスタと、Pチャ
ネルトランジスタのゲートに制御信号を供給するゲート
制御回路とを有し、ゲート制御回路の制御信号の値に応
じてPチャネルトランジスタが導通状態および非導通状
態のいずれかにされることにより切り離し回路の導通状
態および非導通状態が制御されるようにしたので、キャ
パシタ1,2,3のうちの一つ若しくは複数のキャパシ
タがゲート酸化膜不良などで電流値が増加した場合、テ
スト工程において、その選別を行うと同時に良品化を行
うことができる効果が得られる。
As described above, according to the second embodiment, the decoupling circuit includes the P-channel transistor and the gate control circuit that supplies the control signal to the gate of the P-channel transistor. Since the P-channel transistor is turned on or off depending on the value of, the conduction and non-conduction states of the disconnection circuit are controlled. When the current value of one or a plurality of capacitors increases due to a defective gate oxide film or the like, it is possible to obtain the effect of being able to select the capacitors and make them non-defective in the test process.

【0029】また、この実施の形態2によれば、ゲート
制御回路が、不揮発性メモリからなり、不揮発性メモリ
に記憶された値がゲート制御回路の制御信号として出力
され、テストを行う時に不揮発性メモリの値を切り替え
て電流値測定可能なモードを設けたので、キャパシタ
1,2,3のうちの一つ若しくは複数のキャパシタがゲ
ート酸化膜不良などで電流値が増加した場合、テスト工
程において、その選別を行うと同時に良品化を行うこと
ができる効果が得られる。
Further, according to the second embodiment, the gate control circuit is composed of a non-volatile memory, and the value stored in the non-volatile memory is output as a control signal of the gate control circuit, so that the non-volatile memory is used when performing a test. Since the mode in which the current value can be measured by switching the memory value is provided, when the current value of one or more of the capacitors 1, 2 and 3 increases due to a defective gate oxide film, etc., in the test process, It is possible to obtain the effect that the product can be made good at the same time as the selection.

【0030】実施の形態3.図3は、この発明の実施の
形態3であるヒューズを用いた切り離し回路を示す図で
ある。図3において、4は切り離し回路であり、10は
一方の端子が電源50に接続されもう一方の端子が電流
計11に接続されたヒューズである。11はセンスアン
プなどの電流計であり一方の端子がヒューズ10に接続
され、もう一方の端子である低電圧側の端子12が図1
のキャパシタに接続される。13は電流計11から出力
される判定信号であり、電流計11に流れる電流に応じ
て「H」および「L」が反転する。12は電流計11の
低電圧側の端子で、この低電圧側の端子12が図1のキ
ャパシタに接続される。50は電源である。
Embodiment 3. 3 is a diagram showing a disconnecting circuit using a fuse according to a third embodiment of the present invention. In FIG. 3, 4 is a disconnecting circuit, and 10 is a fuse whose one terminal is connected to the power source 50 and whose other terminal is connected to the ammeter 11. Reference numeral 11 denotes an ammeter such as a sense amplifier, one terminal of which is connected to the fuse 10 and the other terminal, which is a low-voltage side terminal 12, is shown in FIG.
Connected to the capacitor. A determination signal 13 is output from the ammeter 11, and “H” and “L” are inverted according to the current flowing through the ammeter 11. Reference numeral 12 is a low-voltage side terminal of the ammeter 11, and this low-voltage side terminal 12 is connected to the capacitor of FIG. 50 is a power supply.

【0031】この実施の形態3では、切り離し回路4
が、ヒューズ10と、ヒューズ10に流れる電流の値を
表す判定信号13を出力する電流計11とを有する。
In the third embodiment, the disconnecting circuit 4
Has a fuse 10 and an ammeter 11 that outputs a determination signal 13 representing the value of the current flowing through the fuse 10.

【0032】次に動作について説明する。電流計11は
自身に電流が流れているかを判定する回路である。電流
計11はキャパシタ1,2,3に接続されているだけな
ので、キャパシタ1,2,3が正常であれば電源投入後
に電源電位が安定した後には電流は流れない。
Next, the operation will be described. The ammeter 11 is a circuit that determines whether or not a current is flowing through itself. Since the ammeter 11 is only connected to the capacitors 1, 2 and 3, if the capacitors 1, 2 and 3 are normal, no current will flow after the power supply potential is stabilized after the power is turned on.

【0033】したがって、この電流計11に定常的に電
流が流れるようであれば、不良品と判断することができ
る。
Therefore, if a current constantly flows through the ammeter 11, it can be determined that the product is defective.

【0034】この電流計11に電流が流れている場合、
その情報をデジタルデータとして電流計11の判定信号
13として出力し、このデータをテスターで読み取るこ
とが可能なように、テスト時に設定する。その手段は、
電流計11の判定信号13を直接テスト用PAD(パッ
ド:pad)に出力するか、あるいはレジスタへの書き
込みを行って書き込んだデータを読み取ることができる
ようにしておく。
When current is flowing through the ammeter 11,
The information is output as the determination signal 13 of the ammeter 11 as digital data, and this data is set at the time of the test so that it can be read by the tester. The means is
The determination signal 13 of the ammeter 11 is directly output to the test PAD (pad: pad), or written in the register so that the written data can be read.

【0035】テストのフローは、以下のようにする。最
初、全部のヒューズ10は接続された状態なので、全部
のキャパシタが有効な状態になっている。この状態で半
導体集積回路チップの電流特性評価を行う。その際に、
異常値でなければそのまま次工程のテストに送る。
The test flow is as follows. Initially, all the fuses 10 are connected, so that all the capacitors are valid. In this state, the current characteristics of the semiconductor integrated circuit chip are evaluated. At that time,
If it is not an abnormal value, it is sent to the test of the next process as it is.

【0036】そこで、不良であった場合、各電流計11
の判定信号13をテスターで確認し、電流計11の判定
信号13が異常であるキャパシタ、即ち電流が流れてい
るキャパシタをつきとめる。こうして、キャパシタ1,
2,3のうちいずれのキャパシタが不良であるかを特定
したあと、そのキャパシタに接続されたヒューズ10を
切断する。
Therefore, if there is a defect, each ammeter 11
The determination signal 13 of No. 1 is confirmed by a tester, and the capacitor in which the determination signal 13 of the ammeter 11 is abnormal, that is, the capacitor through which the current is flowing is identified. Thus, the capacitor 1,
After identifying which of the capacitors 2 and 3 is defective, the fuse 10 connected to the capacitor is cut off.

【0037】ヒューズ10の切断は、切断すべきヒュー
ズが複数ある場合、それらの複数のヒューズを共に切断
しても構わない。
When there are a plurality of fuses to be blown, the fuses 10 may be blown together.

【0038】こうして、電流計11に異常電流が流れな
い状態、即ち、不良のキャパシタを無効化した状態で、
次工程に進む。また、製品の品質を確保するため、事前
にどれだけのキャパシタを無効化してもかまわないか
は、あらかじめ求めておく。
Thus, in a state where no abnormal current flows through the ammeter 11, that is, in a state where the defective capacitor is invalidated,
Go to the next step. Also, in order to secure the quality of the product, it is necessary to determine in advance how many capacitors may be disabled.

【0039】以上のように、この実施の形態3の半導体
集積回路は、実施の形態1の半導体集積回路において、
切り離し回路4が、ヒューズ10と、ヒューズ10に流
れる電流の値を表す信号13を出力する電流計11とを
有し、ヒューズ10を接続された状態および切断された
状態のいずれかにすることによって切り離し回路4の導
通状態および非導通状態が制御されるものである。
As described above, the semiconductor integrated circuit of the third embodiment is the same as the semiconductor integrated circuit of the first embodiment.
The disconnection circuit 4 has the fuse 10 and the ammeter 11 that outputs the signal 13 representing the value of the current flowing through the fuse 10, and brings the fuse 10 into either the connected state or the disconnected state. The conduction state and the non-conduction state of the disconnection circuit 4 are controlled.

【0040】以上のように、この実施の形態3によれ
ば、切り離し回路が、ヒューズと、ヒューズに流れる電
流の値を表す信号を出力する電流計とを有し、ヒューズ
を接続された状態および切断された状態のいずれかにす
ることによって切り離し回路の導通状態および非導通状
態が制御されるようにしたので、キャパシタ1,2,3
のうちのいずれか一つないし複数のキャパシタがゲート
酸化膜不良などで電流値が増加した場合、テスト工程に
おいて、その選別を行うと同時に良品化を行うことがで
きる効果が得られる。
As described above, according to the third embodiment, the disconnecting circuit has the fuse and the ammeter that outputs the signal indicating the value of the current flowing through the fuse, and the state in which the fuse is connected and Since the conducting state and the non-conducting state of the disconnection circuit are controlled by making the circuit into any one of the disconnected states, the capacitors 1, 2, 3
When the current value of any one of the capacitors or a plurality of capacitors increases due to a defective gate oxide film or the like, it is possible to obtain the effect of being able to select the capacitors and to make them non-defective in the test process.

【0041】実施の形態4.図4は、この発明の実施の
形態4のPチャネルトランジスタとヒューズを用いた切
り離し回路を示す図である。図4において、4は切り離
し回路である。14はPチャネルトランジスタであり、
ソース側の端子が電源50に接続され、ドレイン側の端
子15が図1のキャパシタに接続される。15はPチャ
ネルトランジスタ14のドレイン側の端子である。16
はインバータであり、出力端子がPチャネルトランジス
タ14のゲートに接続され、入力端子がインバータ17
の出力端子に接続されている。17はインバータであ
り、出力端子がインバータ16の入力端子およびPチャ
ネルトランジスタ18のゲートに接続され、入力端子が
Pチャネルトランジスタ18のドレイン側の端子および
ヒューズ19の高電圧側の端子に接続されている。
Fourth Embodiment Fourth Embodiment FIG. 4 is a diagram showing a disconnection circuit using a P-channel transistor and a fuse according to a fourth embodiment of the present invention. In FIG. 4, reference numeral 4 is a disconnecting circuit. 14 is a P-channel transistor,
The source side terminal is connected to the power supply 50, and the drain side terminal 15 is connected to the capacitor of FIG. Reference numeral 15 is a drain-side terminal of the P-channel transistor 14. 16
Is an inverter, the output terminal of which is connected to the gate of the P-channel transistor 14 and the input terminal of which is the inverter 17
Is connected to the output terminal of. Reference numeral 17 denotes an inverter, the output terminal of which is connected to the input terminal of the inverter 16 and the gate of the P-channel transistor 18, and the input terminal of which is connected to the drain-side terminal of the P-channel transistor 18 and the high-voltage side terminal of the fuse 19. There is.

【0042】18はPチャネルトランジスタであり、ソ
ース側の端子が電源50に接続され、ドレイン側の端子
がインバータ17の入力端子に接続され、ゲートがイン
バータ17の出力端子に接続されている。19はヒュー
ズであり、高電圧側の端子がPチャネルトランジスタ2
1のドレイン側の端子に接続され、低電圧側の端子がN
チャネルトランジスタ20のソース側の端子に接続され
ている。20はNチャネルトランジスタであり、ソース
側の端子がヒューズ19の低電圧側の端子に接続され、
ドレイン側の端子がグランド(GND)に接続され、ゲ
ートがNAND回路22の出力端子に接続されている。
21はPチャネルトランジスタであり、ソース側の端子
が電源50に接続され、ドレイン側の端子がヒューズ1
9の高電圧側の端子に接続され、ゲートがNAND回路
22の出力端子に接続されている。
Reference numeral 18 denotes a P-channel transistor, the source side terminal of which is connected to the power supply 50, the drain side terminal thereof is connected to the input terminal of the inverter 17, and the gate thereof is connected to the output terminal of the inverter 17. Reference numeral 19 is a fuse whose high-voltage side terminal is the P-channel transistor 2
1 is connected to the drain side terminal and the low voltage side terminal is N
It is connected to the source-side terminal of the channel transistor 20. 20 is an N-channel transistor, the source side terminal is connected to the low voltage side terminal of the fuse 19,
The drain side terminal is connected to the ground (GND), and the gate is connected to the output terminal of the NAND circuit 22.
21 is a P-channel transistor, the source side terminal is connected to the power supply 50, and the drain side terminal is the fuse 1
9 is connected to the terminal on the high voltage side, and the gate is connected to the output terminal of the NAND circuit 22.

【0043】22はNAND回路であり、2つの入力端
子の一方にはテストモード信号23が入力され、もう一
方の入力端子にはセレクト信号24が入力され、出力端
子はNチャネルトランジスタ20およびPチャネルトラ
ンジスタ21のゲートに接続されている。23はテスト
モード信号であり、24はセレクト信号である。セレク
ト信号24はそのままテスト時入力できるようPADに
接続しているものとする。また、ドレイン側の端子15
は図1のキャパシタ1,2,3に接続されている。50
は電源であり、60はGND(グランド)である。
A NAND circuit 22 has a test mode signal 23 input to one of two input terminals, a select signal 24 input to the other input terminal, and an N-channel transistor 20 and a P-channel output terminal. It is connected to the gate of the transistor 21. Reference numeral 23 is a test mode signal, and 24 is a select signal. It is assumed that the select signal 24 is directly connected to the PAD so that it can be input during the test. In addition, the terminal 15 on the drain side
Are connected to the capacitors 1, 2 and 3 of FIG. Fifty
Is a power source, and 60 is a GND (ground).

【0044】25は外部入力信号受容回路であり、テス
トモード信号23とセレクト信号24とが外部入力信号
として入力されていて、NAND回路22と、Pチャネ
ルトランジスタ21と、Nチャネルトランジスタ20
と、ヒューズ19と、Pチャネルトランジスタ18と、
インバータ17と、インバータ16とから構成されてい
る。
An external input signal receiving circuit 25 receives the test mode signal 23 and the select signal 24 as external input signals, and the NAND circuit 22, the P channel transistor 21, and the N channel transistor 20 are input.
, Fuse 19, P-channel transistor 18,
It is composed of an inverter 17 and an inverter 16.

【0045】この実施の形態4では、切り離し回路4
は、ヒューズ19を含む外部入力信号受容回路25から
なるゲート制御回路と、Pチャネルトランジスタ14と
からなる。
In the fourth embodiment, the separation circuit 4
Includes a gate control circuit including an external input signal receiving circuit 25 including a fuse 19, and a P-channel transistor 14.

【0046】また、この実施の形態4では、上記のPチ
ャネルトランジスタ14をNチャネルトランジスタに置
き換えてゲート制御回路を構成することもできる。
In the fourth embodiment, the P-channel transistor 14 may be replaced with an N-channel transistor to form a gate control circuit.

【0047】次に動作について説明する。まず、ヒュー
ズ19が接続されている場合について説明する。モード
信号23は通常使用時には、「L」となるように設定さ
れた信号である。モード信号23が「L」のときにはN
AND回路22の出力の値はセレクト信号24の値にか
かわらず「H」となるので、Pチャネルトランジスタ2
1は非導通状態になり、Nチャネルトランジスタ20は
導通状態となる。
Next, the operation will be described. First, the case where the fuse 19 is connected will be described. The mode signal 23 is a signal set to be "L" during normal use. N when the mode signal 23 is "L"
Since the value of the output of the AND circuit 22 becomes "H" regardless of the value of the select signal 24, the P-channel transistor 2
1 becomes non-conductive, and N-channel transistor 20 becomes conductive.

【0048】したがって、ヒューズ19が接続されてい
る場合、ヒューズ19の高電圧側の端子はグランド電位
となり、インバータ17の入力端子に入力される信号の
値は「L」となる。するとインバータ17の出力信号の
値は「H」となり、この出力信号がインバータ16に入
力されて、インバータ16からの出力信号の値は「L」
となる。Pチャネルトランジスタ14のゲートには、イ
ンバータ16からの値「L」の信号が入力されるので、
Pチャネルトランジスタ14は導通状態となる。
Therefore, when the fuse 19 is connected, the terminal on the high voltage side of the fuse 19 becomes the ground potential, and the value of the signal input to the input terminal of the inverter 17 becomes "L". Then, the value of the output signal of the inverter 17 becomes "H", this output signal is input to the inverter 16, and the value of the output signal from the inverter 16 is "L".
Becomes Since the signal of the value “L” from the inverter 16 is input to the gate of the P-channel transistor 14,
The P-channel transistor 14 becomes conductive.

【0049】したがって、ヒューズ19が接続されてい
る状態のときには、モード信号23が「L」とされる
と、Pチャネルトランジスタ14のゲートの電位はLレ
ベルとなり、Pチャネルトランジスタ14は導通状態と
なる。
Therefore, when the fuse 19 is connected and the mode signal 23 is set to "L", the potential of the gate of the P-channel transistor 14 becomes L level, and the P-channel transistor 14 becomes conductive. .

【0050】次にテスト時には、モード信号23は
「H」とされる。モード信号23が「H」のとき、NA
ND回路22の出力信号の値は、セレクト信号24の値
が「L」のときは「H」となり、セレクト信号24の値
が「H」のときは「L」となる。
Next, at the time of the test, the mode signal 23 is set to "H". When the mode signal 23 is "H", NA
The value of the output signal of the ND circuit 22 becomes "H" when the value of the select signal 24 is "L", and becomes "L" when the value of the select signal 24 is "H".

【0051】セレクト信号24の値が「L」のときはN
AND回路22の出力信号の値が「H」になるので、上
述したモード信号23の値が「L」の場合にNAND回
路22の出力信号の値が「H」になる場合と同様に、P
チャネルトランジスタ14は非導通状態となる。
When the value of the select signal 24 is "L", N
Since the value of the output signal of the AND circuit 22 becomes "H", as in the case where the value of the output signal of the NAND circuit 22 becomes "H" when the value of the mode signal 23 described above is "L", P
The channel transistor 14 becomes non-conductive.

【0052】一方、セレクト信号24の値が「H」のと
きはNAND回路22の出力信号の値が「L」となり、
Nチャネルトランジスタ20は非導通状態となり、Pチ
ャネルトランジスタ21は導通状態となる。したがっ
て、ヒューズ19の高電圧側の端子はPチャネルトラン
ジスタ21を介して電源50に接続されて、高電圧側の
端子の電位が「H」となる。ヒューズ19の高電圧側の
端子からの値「H」の信号がインバータ17の入力端子
に入力され、その結果、インバータ16の出力端子から
は値「H」の信号が出力されて、Pチャネルトランジス
タ14のゲートに入力される。こうして、ゲートに値
「H」の信号が供給されたPチャネルトランジスタ14
は非導通状態となる。
On the other hand, when the value of the select signal 24 is "H", the value of the output signal of the NAND circuit 22 becomes "L",
N-channel transistor 20 becomes non-conductive, and P-channel transistor 21 becomes conductive. Therefore, the high-voltage side terminal of the fuse 19 is connected to the power supply 50 via the P-channel transistor 21, and the potential of the high-voltage side terminal becomes “H”. The signal of the value “H” from the high voltage side terminal of the fuse 19 is input to the input terminal of the inverter 17, and as a result, the signal of the value “H” is output from the output terminal of the inverter 16, and the P-channel transistor Input to 14 gates. Thus, the P-channel transistor 14 whose gate is supplied with the signal of the value "H"
Becomes non-conductive.

【0053】このように、テストモード時には、モード
信号23は「H」とされ、セレクト信号24の値に応じ
て、Pチャネルトランジスタ21およびNチャネルトラ
ンジスタ20のゲートの電位が変わり、テストしたいキ
ャパシタに対応するセレクト信号24を「H」にするこ
とで、そのキャパシタに対応するPチャネルトランジス
タ14のゲートの電位を「H」にすることができる。ゲ
ートの電位を「H」にしたPチャネルトランジスタ14
のドレイン側の端子15に接続されたキャパシタを回路
から切り離すことが可能となる。
As described above, in the test mode, the mode signal 23 is set to "H", the potentials of the gates of the P-channel transistor 21 and the N-channel transistor 20 change according to the value of the select signal 24, and the capacitor to be tested is changed. By setting the corresponding select signal 24 to "H", the potential of the gate of the P-channel transistor 14 corresponding to the capacitor can be set to "H". P-channel transistor 14 whose gate potential is "H"
It becomes possible to disconnect the capacitor connected to the drain side terminal 15 from the circuit.

【0054】次にヒューズ19が切断された場合につい
て説明する。ヒューズ19が切断されていると、ヒュー
ズ19の高電圧側の端子は、Nチャネルトランジスタ2
0のソース側の端子から切り離されていることになる。
したがって、NAND回路22の出力信号の値が「H」
となり、Nチャネルトランジスタ20が導通状態となり
Pチャネルトランジスタ21が非導通状態となった場合
には、ヒューズ19の高電圧側の端子はNチャネルトラ
ンジスタ20のソース側の端子から切り離されているの
で、ヒューズ19の高電圧側の端子の電位は電源50と
等しい電位となる。
Next, the case where the fuse 19 is blown will be described. When the fuse 19 is cut off, the high-voltage side terminal of the fuse 19 is connected to the N-channel transistor 2
It means that it is disconnected from the source side terminal of 0.
Therefore, the value of the output signal of the NAND circuit 22 is “H”.
When the N-channel transistor 20 becomes conductive and the P-channel transistor 21 becomes non-conductive, the high-voltage side terminal of the fuse 19 is disconnected from the source-side terminal of the N-channel transistor 20. The electric potential of the high voltage side terminal of the fuse 19 becomes equal to that of the power source 50.

【0055】一方、NAND回路22の出力信号の値が
「L」となり、Nチャネルトランジスタ20が非導通状
態となりPチャネルトランジスタ21が導通状態となっ
た場合には、ヒューズ19の高電圧側の端子はPチャネ
ルトランジスタを介して電源50に電気的に接続されて
いるので、ヒューズ19の高電圧側の端子の電位はヒュ
ーズ19の高電圧側の端子の電位は電源電圧と等しい電
位となる。
On the other hand, when the value of the output signal of the NAND circuit 22 becomes "L", the N-channel transistor 20 becomes non-conductive and the P-channel transistor 21 becomes conductive, the terminal of the fuse 19 on the high voltage side. Is electrically connected to the power supply 50 through the P-channel transistor, the potential of the high-voltage side terminal of the fuse 19 is equal to the power-source voltage.

【0056】このように、ヒューズ19が切断されてい
る場合、モード信号23およびセレクト信号24の値に
かかわらず、Pチャネルトランジスタ14のゲートの電
位は「H」となり、Pチャネルトランジスタ14は非導
通状態となる。
Thus, when the fuse 19 is blown, the gate potential of the P-channel transistor 14 becomes "H" regardless of the values of the mode signal 23 and the select signal 24, and the P-channel transistor 14 is non-conductive. It becomes a state.

【0057】テストのフローは以下のようにする。最
初、全部のヒューズが接続された状態にあるので、全部
のキャパシタが有効な状態となっている。このときは、
モード信号23はあえてテストモードであることを指定
する「H」にせずに、モード信号23を「L」にして全
部のキャパシタを有効な状態にして半導体集積回路チッ
プの電流特性評価を行う。その際に、異常がなければそ
のまま次工程のテストに送る。
The test flow is as follows. Initially, all the fuses are connected, so that all the capacitors are valid. At this time,
The mode signal 23 is not set to "H" that designates the test mode, but the mode signal 23 is set to "L" to activate all the capacitors and the current characteristics of the semiconductor integrated circuit chip are evaluated. At that time, if there is no abnormality, send it to the test of the next process as it is.

【0058】電流特性評価において、不良であった場
合、モード信号23を「H」にして、かつ各キャパシタ
1,2,3に対応するセレクト信号24を順次「H」に
して、各キャパシタを無効化してゆく。キャパシタの無
効化により、異常電流がなくなれば、その無効化された
キャパシタが不良であることが特定される。
In the current characteristic evaluation, when the capacitors are defective, the mode signal 23 is set to "H" and the select signals 24 corresponding to the capacitors 1, 2 and 3 are sequentially set to "H" to disable each capacitor. It will turn into. If the invalid current disappears due to the invalidation of the capacitor, it is specified that the invalidated capacitor is defective.

【0059】こうして、キャパシタ1,2,3のうちい
ずれが不良であるかを特定した後、そのキャパシタに対
応するヒューズ19を切断する。ヒューズの切断は、切
断すべきヒューズが複数ある場合、それらの複数のヒュ
ーズを共に切断しても構わない。
After identifying which of the capacitors 1, 2, and 3 is defective in this way, the fuse 19 corresponding to the capacitor is cut off. When there are a plurality of fuses to be blown, the fuses may be blown together.

【0060】こうして、電流計11に異常電流が流れな
い状態、即ち、不良のキャパシタを無効化した状態で、
次工程に進む。また、製品の品質を確保するため、事前
にどれだけのキャパシタを無効化してもかまわないか
は、あらかじめ求めておく。例えば、図5でキャパシタ
1の電流値が異常である場合、キャパシタ1をカットし
てもあらかじめ最低限確保したい電源−GND間の容量
が確保できるならば、キャパシタ1のみをカットするこ
とにより製品の歩留まりの向上を行うことができる。
Thus, in a state where no abnormal current flows through the ammeter 11, that is, in a state where the defective capacitor is invalidated,
Go to the next step. Also, in order to secure the quality of the product, it is necessary to determine in advance how many capacitors may be disabled. For example, in the case where the current value of the capacitor 1 is abnormal in FIG. 5, even if the capacitor 1 is cut, if the minimum capacity between the power supply and the GND that is desired to be secured in advance can be secured, by cutting only the capacitor 1 The yield can be improved.

【0061】以上のように、この実施の形態4の半導体
集積回路は、実施の形態1の半導体集積回路において、
切り離し回路4が、Pチャネルトランジスタ14と、P
チャネルトランジスタ14のゲートに制御信号を供給す
るゲート制御回路(外部入力信号受容回路25)とを有
し、上記ゲート制御回路の制御信号の値に応じてPチャ
ネルトランジスタ14が導通状態および非導通状態のい
ずれかにされることにより切り離し回路4の導通状態お
よび非導通状態が制御されるものである。
As described above, the semiconductor integrated circuit of the fourth embodiment is the same as the semiconductor integrated circuit of the first embodiment.
The disconnecting circuit 4 includes a P-channel transistor 14 and a P-channel transistor 14.
A gate control circuit (external input signal receiving circuit 25) for supplying a control signal to the gate of the channel transistor 14, and the P-channel transistor 14 is in a conductive state or a non-conductive state according to the value of the control signal of the gate control circuit. By setting either of the above, the conducting state and the non-conducting state of the disconnection circuit 4 are controlled.

【0062】この実施の形態4の半導体集積回路は、ゲ
ート制御回路が、ヒューズ19を備えた外部入力信号受
容回路25からなり、ヒューズ19が切断されていると
きは、Pチャネルトランジスタ14が非導通状態とな
り、ヒューズ19が接続されているときは、Pチャネル
トランジスタ14が外部入力信号23、24の値に応じ
て導通状態および非導通状態のいずれかにされ、外部入
力信号23、24によって導通状態にされるPチャネル
トランジスタ14を指定することにより、どのデカップ
リング容量に流れる電流が異常であるかを判定できるも
のである。
In the semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment, the gate control circuit is composed of the external input signal receiving circuit 25 having the fuse 19, and when the fuse 19 is cut off, the P-channel transistor 14 is non-conductive. When the fuse 19 is connected, the P-channel transistor 14 is turned on or off depending on the value of the external input signals 23 and 24, and turned on by the external input signals 23 and 24. By designating the P-channel transistor 14 to be turned on, it is possible to determine which decoupling capacitance the current flowing through is abnormal.

【0063】以上のように、この実施の形態4によれ
ば、切り離し回路をPチャネルトランジスタと、Pチャ
ネルトランジスタのゲートに制御信号を供給するゲート
制御回路とを有し、ゲート制御回路の制御信号の値に応
じてPチャネルトランジスタが導通状態および非導通状
態のいずれかにされることにより切り離し回路の導通状
態および非導通状態が制御されるようにしたので、キャ
パシタ1,2,3のうちの一つ若しくは複数のキャパシ
タがゲート酸化膜不良などで電流値が増加した場合、テ
スト工程において、その選別を行うと同時に良品化を行
うことができる効果が得られる。
As described above, according to the fourth embodiment, the decoupling circuit has the P-channel transistor and the gate control circuit for supplying the control signal to the gate of the P-channel transistor. Since the P-channel transistor is turned on or off depending on the value of, the conduction and non-conduction states of the disconnection circuit are controlled. When the current value of one or a plurality of capacitors increases due to a defective gate oxide film or the like, it is possible to obtain the effect of being able to select the capacitors and make them non-defective in the test process.

【0064】この実施の形態4によれば、ゲート制御回
路が、ヒューズを備えた外部入力信号受容回路からな
り、ヒューズが切断されているときは、Pチャネルトラ
ンジスタが非導通状態となり、ヒューズが接続されてい
るときは、Pチャネルトランジスタが外部入力信号の値
に応じて導通状態および非導通状態のいずれかにされ、
外部入力信号によって導通状態にされるPチャネルトラ
ンジスタを指定することにより、どのデカップリング容
量に流れる電流が異常であるかを判定できるようにした
ので、キャパシタ1,2,3のうちの一つ若しくは複数
のキャパシタがゲート酸化膜不良などで電流値が増加し
た場合、テスト工程において、その選別を行うと同時に
良品化を行うことができる効果が得られる。
According to the fourth embodiment, the gate control circuit comprises an external input signal receiving circuit having a fuse. When the fuse is blown, the P-channel transistor becomes non-conductive and the fuse is connected. The P-channel transistor is turned on or off depending on the value of the external input signal,
By designating the P-channel transistor that is made conductive by the external input signal, it is possible to determine which decoupling capacitor the current flowing is abnormal. Therefore, one of the capacitors 1, 2, 3 or When the current value of the plurality of capacitors increases due to a defective gate oxide film or the like, it is possible to obtain the effect of being able to perform the screening as well as the non-defective product in the test process.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、キャ
パシタのうちの一つ若しくは複数のキャパシタが、ゲー
ト酸化膜不良などで電流値が増加して不良キャパシタと
判定された場合、切り離し回路を切断することにより、
不良キャパシタを切り離して無効化するように構成した
ので、その半導体集積回路チップを正常品として扱うこ
とが可能となり、製品の歩留まりの向上を行うことがで
きる効果がある。
As described above, according to the present invention, when one or more of the capacitors are judged to be defective due to an increase in current value due to a defective gate oxide film or the like, a disconnection circuit is provided. By cutting
Since the defective capacitor is separated and invalidated, the semiconductor integrated circuit chip can be treated as a normal product, and the yield of products can be improved.

【0066】この発明によれば、切り離し回路をPチャ
ネルトランジスタと、Pチャネルトランジスタのゲート
に制御信号を供給するゲート制御回路とを有し、ゲート
制御回路の制御信号の値に応じてPチャネルトランジス
タが導通状態および非導通状態のいずれかにされること
により切り離し回路の導通状態および非導通状態が制御
されるように構成したので、キャパシタのうちの一つ若
しくは複数のキャパシタがゲート酸化膜不良などで電流
値が増加した場合、テスト工程において、その選別を行
うと同時に良品化を行うことができる効果がある。
According to the present invention, the decoupling circuit has the P-channel transistor and the gate control circuit for supplying the control signal to the gate of the P-channel transistor, and the P-channel transistor is provided in accordance with the value of the control signal of the gate control circuit. Since the disconnection circuit is configured to control the conduction state and the non-conduction state depending on whether it is in the conduction state or the non-conduction state, one or more of the capacitors may have a defective gate oxide film or the like. When the current value increases due to, in the test process, there is an effect that the product can be selected and the product can be made good at the same time.

【0067】この発明によれば、切り離し回路が、ヒュ
ーズと、ヒューズに流れる電流の値を表す信号を出力す
る電流計とを有し、ヒューズを接続された状態および切
断された状態のいずれかにすることによって切り離し回
路の導通状態および非導通状態が制御されるように構成
したので、キャパシタのうちのいずれか一つないし複数
のキャパシタがゲート酸化膜不良などで電流値が増加し
た場合、テスト工程において、その選別を行うと同時に
良品化を行うことができる効果がある。
According to the present invention, the disconnecting circuit has the fuse and the ammeter for outputting the signal indicating the value of the current flowing through the fuse, and the fuse is connected to either the connected state or the disconnected state. The disconnection circuit is configured to control the conduction state and the non-conduction state by performing the test process when the current value of any one or more of the capacitors increases due to a defective gate oxide film. In the above, there is an effect that the product can be made good at the same time as the selection.

【0068】この発明によれば、ゲート制御回路が、不
揮発性メモリからなり、不揮発性メモリに記憶された値
がゲート制御回路の制御信号として出力され、テストを
行う時に不揮発性メモリの値を切り替えて電流値測定可
能なモードを設けるように構成したので、キャパシタの
うちの一つ若しくは複数のキャパシタがゲート酸化膜不
良などで電流値が増加した場合、テスト工程において、
その選別を行うと同時に良品化を行うことができる効果
がある。
According to the present invention, the gate control circuit is composed of the non-volatile memory, and the value stored in the non-volatile memory is output as the control signal of the gate control circuit, and the value of the non-volatile memory is switched when performing the test. Therefore, if one or more of the capacitors have an increased current value due to a defective gate oxide film, etc., in the test process,
There is an effect that a good product can be obtained simultaneously with the selection.

【0069】この発明によれば、ゲート制御回路が、ヒ
ューズを備えた外部入力信号受容回路からなり、ヒュー
ズが切断されているときは、Pチャネルトランジスタが
非導通状態となり、ヒューズが接続されているときは、
Pチャネルトランジスタが外部入力信号の値に応じて導
通状態および非導通状態のいずれかにされ、外部入力信
号によって導通状態にされるPチャネルトランジスタを
指定することにより、どのデカップリング容量に流れる
電流が異常であるかを判定するようにしたので、キャパ
シタのうちの一つ若しくは複数のキャパシタがゲート酸
化膜不良などで電流値が増加した場合、テスト工程にお
いて、その選別を行うと同時に良品化を行うことができ
る効果がある。
According to the present invention, the gate control circuit is composed of the external input signal receiving circuit provided with the fuse, and when the fuse is blown, the P-channel transistor becomes non-conductive and the fuse is connected. when,
The P-channel transistor is made conductive or non-conductive depending on the value of the external input signal, and by designating the P-channel transistor to be made conductive by the external input signal, the current flowing in which decoupling capacitor is changed. Since it is determined whether it is abnormal, if one or more of the capacitors have an increased current value due to a defective gate oxide film, etc., in the test process, the selection is performed and the product is made good at the same time. There is an effect that can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1の半導体集積回路の
キャパシタ構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a capacitor configuration of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 この発明の実施の形態2の半導体集積回路の
切り離し回路を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a disconnection circuit of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 この発明の実施の形態3の半導体集積回路の
切り離し回路を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a disconnecting circuit of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図4】 この発明の実施の形態4の半導体集積回路の
切り離し回路を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a disconnection circuit of a semiconductor integrated circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】 従来の半導体集積回路のキャパシタ構成を示
す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a capacitor configuration of a conventional semiconductor integrated circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,3 キャパシタ、4,5,6 切り離し回路、
7 Pチャネルトランジスタ、8 不揮発性メモリ、9
Pチャネルトランジスタのドレイン側の端子、10
ヒューズ、11 電流計、12 電流計の低電圧側の端
子、13 判定信号、14 Pチャネルトランジスタ、
15 Pチャネルトランジスタのドレイン側の端子、1
6,17 インバータ、18 Pチャネルトランジス
タ、19ヒューズ、20 Nチャネルトランジスタ、2
1 Pチャネルトランジスタ、22 NAND回路、2
3 テストモード信号、24 セレクト信号、25 外
部入力信号受容回路、50 電源、60 グランド。
1,2,3 capacitors, 4,5,6 disconnection circuit,
7 P-channel transistor, 8 Non-volatile memory, 9
D-side terminal of P-channel transistor, 10
Fuse, 11 ammeter, 12 ammeter low voltage side terminal, 13 judgment signal, 14 P-channel transistor,
15 P-channel transistor drain side terminal, 1
6,17 Inverter, 18 P-channel transistor, 19 fuse, 20 N-channel transistor, 2
1 P-channel transistor, 22 NAND circuit, 2
3 Test mode signal, 24 select signal, 25 external input signal receiving circuit, 50 power supply, 60 ground.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G132 AH07 AK11 4M106 AA01 AA08 AB08 AC08 BA20 CA04 CA11 CA14 5F038 AC03 AC20 AV15 AV17 CD02 CD03 DF04 DF05 DT12 DT15 EZ20 5F064 BB05 BB07 BB09 BB12 BB31 CC23 DD44 FF27 FF36    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2G132 AH07 AK11                 4M106 AA01 AA08 AB08 AC08 BA20                       CA04 CA11 CA14                 5F038 AC03 AC20 AV15 AV17 CD02                       CD03 DF04 DF05 DT12 DT15                       EZ20                 5F064 BB05 BB07 BB09 BB12 BB31                       CC23 DD44 FF27 FF36

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ゲート酸化膜を誘電体として電源−GN
D(グランド)間にデカップリング容量を内蔵している
半導体集積回路において、 上記デカップリング容量を確保している電源またはGN
D側の配線に導通状態および非導通状態となる切り離し
回路を備え、 上記デカップリング容量は製品のウェハーテスト工程中
にテスターからの操作により良・不良を判断し、不良に
ついてはデカップリング容量を無効化することを特徴と
する半導体集積回路。
1. A power supply-GN using a gate oxide film as a dielectric.
In a semiconductor integrated circuit having a built-in decoupling capacitance between D (ground), a power supply or GN that secures the decoupling capacitance.
The D side wiring is equipped with a disconnecting circuit that makes it conductive and non-conductive. The decoupling capacitance is judged to be good or bad by the operation from the tester during the wafer test process of the product, and the decoupling capacitance is invalid for the defect. A semiconductor integrated circuit characterized by the following:
【請求項2】 切り離し回路が、 Pチャネルトランジスタと、 上記Pチャネルトランジスタのゲートに制御信号を供給
するゲート制御回路とを有し、 上記ゲート制御回路の制御信号の値に応じて上記Pチャ
ネルトランジスタが導通状態および非導通状態のいずれ
かにされることにより上記切り離し回路の導通状態およ
び非導通状態が制御されることを特徴とする請求項1記
載の半導体集積回路。
2. The disconnection circuit has a P-channel transistor and a gate control circuit for supplying a control signal to the gate of the P-channel transistor, and the P-channel transistor is provided according to the value of the control signal of the gate control circuit. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the conductive state and the non-conductive state of the disconnection circuit are controlled by making the conductive state and the non-conductive state.
【請求項3】 切り離し回路が、 ヒューズと、 上記ヒューズに流れる電流の値を表す信号を出力する電
流計とを有し、 上記ヒューズを接続された状態および切断された状態の
いずれかにすることによって上記切り離し回路の導通状
態および非導通状態が制御されることを特徴とする請求
項1記載の半導体集積回路。
3. The disconnecting circuit has a fuse and an ammeter that outputs a signal indicating the value of the current flowing through the fuse, and sets the fuse to either a connected state or a disconnected state. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a conduction state and a non-conduction state of the separation circuit are controlled by the.
【請求項4】 ゲート制御回路が、 不揮発性メモリからなり、 上記不揮発性メモリに記憶された値が上記ゲート制御回
路の制御信号として出力され、 テストを行う時に上記不揮発性メモリの値を切り替えて
電流値測定可能なモードを設けたことを特徴とする請求
項2記載の半導体集積回路。
4. The gate control circuit comprises a non-volatile memory, and the value stored in the non-volatile memory is output as a control signal of the gate control circuit, and the value of the non-volatile memory is switched when a test is performed. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein a mode capable of measuring a current value is provided.
【請求項5】 ゲート制御回路が、 ヒューズを備えた外部入力信号受容回路からなり、 上記ヒューズが切断されているときは、Pチャネルトラ
ンジスタが非導通状態となり、上記ヒューズが接続され
ているときは、上記Pチャネルトランジスタが外部入力
信号の値に応じて導通状態および非導通状態のいずれか
にされ、 上記外部入力信号によって導通状態にされる上記Pチャ
ネルトランジスタを指定することにより、どのデカップ
リング容量に流れる電流が異常であるかを判定すること
を特徴とする請求項2記載の半導体集積回路。
5. The gate control circuit comprises an external input signal receiving circuit having a fuse, when the fuse is cut off, the P-channel transistor becomes non-conductive, and when the fuse is connected, , Which P-channel transistor is made conductive or non-conductive depending on the value of the external input signal, and which decoupling capacitance is specified by designating the P-channel transistor which is made conductive by the external input signal. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein it is determined whether or not the current flowing through is abnormal.
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