JP2003017251A - Manufacturing method of organic electroluminescent display - Google Patents

Manufacturing method of organic electroluminescent display

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JP2003017251A
JP2003017251A JP2001196318A JP2001196318A JP2003017251A JP 2003017251 A JP2003017251 A JP 2003017251A JP 2001196318 A JP2001196318 A JP 2001196318A JP 2001196318 A JP2001196318 A JP 2001196318A JP 2003017251 A JP2003017251 A JP 2003017251A
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Japan
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light emitting
organic
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region
substrate
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JP2001196318A
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Kazuo Suzuki
一雄 鈴木
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Canon Electronics Inc
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Canon Electronics Inc
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/20Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
    • H10K71/231Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers

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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a means of obtaining a high performance organic electroluminescent display device at low cost. SOLUTION: A step or a groove is provided between the luminous region and the non-luminous region on the substrate that constitutes the organic electroluminescent display device, and the organic layer of the luminous part is covered by a mask member by aligning the edge of the mask member with the step or groove, and, thereby, the organic layer of the non-luminous part that is not masked is removed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイス、光
源として利用可能な有機エレクトロルミネセンス表示装
置とその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescence display device that can be used as a display device and a light source, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、タン(Tang)らは有機蛍光色
素を有機発光層とし、これと電子写真の感光体等に用い
られている有機電荷輸送化合物とを積層した二層構造を
有する有機エレクトロルミネセンス(EL)素子を提案
した(特開昭59−194393号公報)。有機EL素
子は、無機EL素子に比べ低電圧駆動、高輝度に加えて
多数の色の発光が容易に得られるという特徴があること
から、素子構造や有機蛍光色素、有機電荷輸送化合物に
ついて多くの試みが報告されている(Jpn.J.Ap
pl.Phys.第27巻、L269頁(1988
年)、J.Appl.Phys.第65巻、3610頁
(1989年))。
2. Description of the Related Art In recent years, Tang et al. Have an organic electroluminescent dye as an organic light emitting layer, and an organic electroluminescent layer having a two-layer structure in which the organic fluorescent dye is laminated with an organic charge transporting compound used in an electrophotographic photoreceptor or the like. A luminescence (EL) device has been proposed (JP-A-59-194393). Organic EL devices are characterized in that they can be driven at a low voltage and have high brightness and can easily emit light of many colors as compared with inorganic EL devices. Therefore, many organic EL devices have a large number of elements, organic fluorescent dyes, and organic charge transport compounds. Attempts have been reported (Jpn. J. Ap.
pl. Phys. Volume 27, L269 (1988)
Year), J. Appl. Phys. 65, 3610 (1989)).

【0003】これまでに、有機発光層に用いる材料とし
ては、低分子量の有機蛍光色素が一般に用いられている
が、WO9013148号公開明細書の実施例には、可
溶性前駆体を電極上にスピンコート塗布し、熱処理を行
なうことにより共役系高分子に変換されたポリ(p−フ
ェニレンビニレン)薄膜が得られ、それを用いたEL素
子が開示されている。また、溶媒に可溶な高分子発光材
料をスピンコート塗布した例も公開されている(AP
L,58,1982(1991))。
Up to now, a low molecular weight organic fluorescent dye has been generally used as a material for the organic light emitting layer, but in the examples of WO 9013148, a soluble precursor is spin-coated on an electrode. By coating and heat treatment, a poly (p-phenylene vinylene) thin film converted into a conjugated polymer is obtained, and an EL device using the same is disclosed. In addition, an example in which a polymer light-emitting material soluble in a solvent is applied by spin coating has been published (AP
L, 58, 1982 (1991)).

【0004】有機EL素子を利用した有機EL表示装置
としては、図6に示すようにガラス等からなる透明な基
板1の表面に透明電極が陽極3として形成され、この上
に発光体である有機層5が形成され、さらにその上に金
属等からなる陰極7が形成されたものがよく知られてい
る。なお、陰極7上には通常、有機層5の劣化を防ぐ
為、絶縁材料等からなる保護膜9が形成されている。
As an organic EL display device using an organic EL element, a transparent electrode is formed as an anode 3 on the surface of a transparent substrate 1 made of glass or the like as shown in FIG. It is well known that the layer 5 is formed and the cathode 7 made of metal or the like is further formed on the layer 5. A protective film 9 made of an insulating material or the like is usually formed on the cathode 7 in order to prevent deterioration of the organic layer 5.

【0005】また基板1上には取り出し電極4が形成さ
れており、陰極7と電気的に接合されている。さらに取
り出し電極4は異方性導電膜10を介してFPC11に
接着されている。
A take-out electrode 4 is formed on the substrate 1 and is electrically connected to the cathode 7. Further, the extraction electrode 4 is adhered to the FPC 11 via the anisotropic conductive film 10.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】有機層5の形成は真空
蒸着法で行うことが一般的であるが、これをスピンコー
トやディッピングなどで行えば、より簡便に有機EL表
示装置を作成でき、大面積化も容易である。
The formation of the organic layer 5 is generally carried out by a vacuum vapor deposition method. However, if this is carried out by spin coating or dipping, an organic EL display device can be produced more easily. It is easy to increase the area.

【0007】ここで、一般にディスプレイの配線パター
ンは細く複雑であるため、マスクを通してAlなどの金
属を蒸着して形成する陰極7をそのままFPC11に接
続する取り出し電極4として使うのは困難であり、基板
1に予めパターニングされた取り出し電極4に陰極7を
蒸着・接合している。
Here, since the wiring pattern of the display is generally thin and complicated, it is difficult to use the cathode 7 formed by vapor-depositing a metal such as Al through the mask as the extraction electrode 4 directly connected to the FPC 11, and the substrate. The cathode 7 is vapor-deposited and bonded to the take-out electrode 4 which is patterned in advance.

【0008】しかしながら、スピンコートにより有機層
5を塗布する方法ではパターニングされた取り出し電極
4を含めた基板1の全面に有機層が成膜されてしまうた
め、陰極7と取り出し電極4との間に絶縁物である有機
層5が介在することになり、この接合部の有機層5を陰
極7形成前に除去する必要がある。
However, in the method of applying the organic layer 5 by spin coating, the organic layer is formed on the entire surface of the substrate 1 including the patterned lead-out electrode 4, so that it is formed between the cathode 7 and the lead-out electrode 4. Since the organic layer 5 which is an insulator intervenes, the organic layer 5 at the junction needs to be removed before forming the cathode 7.

【0009】有機層5を除去する手段として異方性のド
ライエッチングである反応性イオンエッチング(RI
E)が効果的であるが、発光部の保護の為にマスクを被
せておいても有機層とマスクの隙間などから若干の反応
ガスの回り込みがあり、発光部にダメージを与えてしま
うといった課題がある。
As a means for removing the organic layer 5, anisotropic dry etching such as reactive ion etching (RI
E) is effective, but there is a problem that even if a mask is put on to protect the light emitting part, some reaction gas wraps around from the gap between the organic layer and the mask and the light emitting part is damaged. There is.

【0010】また他の手段としては、基板にパターニン
グされた電極の上にマスキング用シール材などのマスキ
ング部材を塗布・硬化しておき有機層を全面に形成した
後にマスキング部材を剥がし、取り出し電極を露出させ
る方法もあるが、マスキング部材の厚みが薄いときれい
に剥がすことが出来ず、厚いとスピンコートで成膜した
マスキング部近傍の有機層の膜厚が不均一になる問題が
ある。
As another means, a masking member such as a masking sealing material is applied and cured on the electrode patterned on the substrate to form an organic layer on the entire surface, and then the masking member is peeled off to remove the extraction electrode. There is also a method of exposing it, but if the masking member is thin, it cannot be peeled off cleanly, and if it is thick, there is a problem that the film thickness of the organic layer near the masking portion formed by spin coating becomes uneven.

【0011】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、安価に高性能な有機エレクトロルミネセンス表示装
置を得る手段を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a means for obtaining a high-performance organic electroluminescence display device at low cost.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の第1は、基板上
に、陽極、有機発光層を含む有機層、及び陰極とからな
る積層体の形成された発光部と、前記積層体の形成され
ていない非発光部とを有する有機エレクトロルミネセン
ス表示装置の製造方法であって、前記基板として、前記
積層体を形成して発光部とする発光部領域及び前記非発
光部となる非発光部領域との間に段差を有するものを用
いること、前記有機層を形成する際には、前記発光部領
域及び前記非発光部領域を含む前記基板上全面に前記有
機層を形成し、該有機層のうち前記非発光部領域に形成
された部分を除去すること、該除去の際にはマスク部材
を用い、該マスク部材の端部を前記基板の段差部に合わ
せ、前記有機層のうち前記発光部領域に形成された部分
を前記マスク部材で覆っておくこと、を特徴とする。
A first aspect of the present invention is to provide a light emitting portion in which a laminated body including an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode is formed on a substrate, and to form the laminated body. A method of manufacturing an organic electroluminescence display device having a non-light emitting portion, which is not formed, wherein a light emitting portion region which forms the light emitting portion by forming the laminate as the substrate, and a non light emitting portion which becomes the non light emitting portion. What has a step between the organic layer and the organic layer is used, and when the organic layer is formed, the organic layer is formed on the entire surface of the substrate including the light emitting part region and the non-light emitting part region. And removing a portion of the organic layer that is formed in the non-light emitting portion region, using a mask member at the time of removing, and aligning an end portion of the mask member with a step portion of the substrate, The portion formed in the partial region is the mask member To keep covering, characterized by.

【0013】このような方法によれば、不要な非発光部
領域の有機層を除去する際の加工の影響が、万一マスク
部材の下部から内側に回り込んだとしても、基板の段差
部分によってブロックされ、陽極付近の発光部の有機層
を確実に保護することが可能となる。
According to such a method, even if the influence of processing when removing the unnecessary organic layer in the non-light-emission part region wraps around from the lower part of the mask member to the inner part, it is caused by the stepped part of the substrate. It is blocked, and it becomes possible to reliably protect the organic layer in the light emitting portion near the anode.

【0014】本発明の第2は、基板上に、陽極、有機発
光層を含む有機層、及び陰極とからなる積層体の形成さ
れた発光部と、前記積層体の形成されていない非発光部
とを有する有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造
方法であって、前記基板として、前記積層体を形成して
発光部とする発光部領域及び前記非発光部となる非発光
部領域との間に溝を有するものを用いること、前記有機
層を形成する際には、前記発光部領域及び前記非発光部
領域を含む前記基板上全面に前記有機層を形成し、該有
機層のうち前記非発光部領域に形成された部分を除去す
ること、該除去の際にはマスク部材を用い、該マスク部
材の端部を前記基板の溝部に合わせ、前記有機層のうち
前記発光部領域に形成された部分を前記マスク部材で覆
っておくこと、を特徴とする。
A second aspect of the present invention is to provide a light emitting portion on a substrate in which a laminated body including an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode is formed, and a non-light emitting portion in which the laminated body is not formed. A method of manufacturing an organic electroluminescence display device comprising: a groove formed between the light emitting portion region that forms the light emitting portion by forming the laminate as the substrate and the non-light emitting portion region that becomes the non-light emitting portion. When forming the organic layer, the organic layer is formed on the entire surface of the substrate including the light emitting part region and the non-light emitting part region, and the non-light emitting part of the organic layer is used. A portion formed in the light emitting portion region of the organic layer by removing a portion formed in the region, using a mask member at the time of removing, and aligning an end portion of the mask member with a groove portion of the substrate; Is covered with the mask member, And butterflies.

【0015】このような方法によれば、不要な非発光部
領域の有機層を除去する際の加工の影響が、万一マスク
部材の下部から内側に回り込んだとしても、基板の溝部
分によってブロックされ、陽極付近の発光部の有機層を
確実に保護することが可能となる。
According to such a method, even if the influence of processing when removing the unnecessary organic layer in the non-light-emitting portion region wraps around from the lower part of the mask member to the inner side, it may be affected by the groove part of the substrate. It is blocked, and it becomes possible to reliably protect the organic layer in the light emitting portion near the anode.

【0016】本発明の第3は、基板上に、陽極、有機発
光層を含む有機層、及び陰極とからなる積層体の形成さ
れた発光部と、前記積層体の形成されていない非発光部
とを有する有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造
方法であって、前記基板として、前記積層体を形成して
発光部とする発光部領域及び前記非発光部となる非発光
部領域との間に、前記発光部領域が凸であるような段差
を有するものを用いること、前記有機層を形成する際に
は、前記非発光部領域に前記発光部領域の面と同じ高さ
になるようにシール材を塗布し、前記発光部領域及び前
記シール材上を含む前記基板上全面に前記有機層を形成
し、前記陰極を形成するより前に前記シール材を除去す
ること、を特徴とする。
A third aspect of the present invention is to provide, on a substrate, a light emitting portion in which a laminated body including an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode is formed, and a non-light emitting portion in which the laminated body is not formed. A method for manufacturing an organic electroluminescence display device having, wherein, as the substrate, between the light emitting part region which forms the light emitting part by forming the laminate and the non-light emitting part region which becomes the non-light emitting part, A material having a stepped portion such that the light emitting portion region is convex is used, and when the organic layer is formed, a sealing material is formed so that the non-light emitting portion region is flush with the surface of the light emitting portion region. Is applied to form the organic layer on the entire surface of the substrate including the light emitting portion region and the sealing material, and the sealing material is removed before forming the cathode.

【0017】このような方法によれば、段差の高さ分だ
けシール材の厚みがとれることとなり、剥がすときに破
れたり、残渣が残ったりしてしまうことなく、不要な部
分の有機層の除去を確実に行うことが出来る。
According to such a method, the thickness of the sealing material can be made equal to the height of the step, and the organic layer is removed from unnecessary portions without tearing or leaving residue when peeled. Can be done reliably.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の第1は、基板上に、陽
極、有機発光層を含む有機層、及び陰極とからなる積層
体の形成された発光部と、前記積層体の形成されていな
い非発光部とを有する有機エレクトロルミネセンス表示
装置の製造方法であって、前記基板として、前記積層体
を形成して発光部とする発光部領域及び前記非発光部と
なる非発光部領域との間に段差を有するものを用いるこ
と、前記有機層を形成する際には、前記発光部領域及び
前記非発光部領域を含む前記基板上全面に前記有機層を
形成し、該有機層のうち前記非発光部領域に形成された
部分を除去すること、該除去の際にはマスク部材を用
い、該マスク部材の端部を前記基板の段差部に合わせ、
前記有機層のうち前記発光部領域に形成された部分を前
記マスク部材で覆っておくこと、を特徴とする。また、
前記段差は前記発光部領域が凸であるような段差であ
り、前記マスク部材は凹形状を有することが好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION According to the first aspect of the present invention, a light emitting portion in which a laminated body including an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode is formed on a substrate, and the laminated body is formed. A method of manufacturing an organic electroluminescence display device having a non-light emitting portion, wherein a light emitting portion region which forms the light emitting portion by forming the laminate as the substrate, and a non light emitting portion region which becomes the non light emitting portion, A layer having a step between the organic layers is formed, and when the organic layer is formed, the organic layer is formed on the entire surface of the substrate including the light emitting part region and the non-light emitting part region. Removing a portion formed in the non-light emitting region, a mask member is used for the removal, and an end portion of the mask member is aligned with a step portion of the substrate;
A portion of the organic layer formed in the light emitting portion region is covered with the mask member. Also,
It is preferable that the step is a step in which the light emitting portion region is convex, and the mask member has a concave shape.

【0019】図2は本発明の有機EL表示装置の製造方
法の一実施形態を示す断面図である。1は基板、3は陽
極、4は取り出し電極、5は基板面全面に形成された有
機層、6はマスク部材である。
FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of a method for manufacturing an organic EL display device of the present invention. Reference numeral 1 is a substrate, 3 is an anode, 4 is an extraction electrode, 5 is an organic layer formed on the entire surface of the substrate, and 6 is a mask member.

【0020】このようにしておくことで、不要な非発光
部領域の有機層を除去する際の加工の影響が、万一マス
ク部材6の下部から内側に回り込んだとしても、基板の
段差部分によってブロックされ、陽極3付近の発光部の
有機層を確実に保護することが可能となる。
By doing so, even if the influence of the processing at the time of removing the unnecessary organic layer in the non-light-emitting region wraps around from the bottom of the mask member 6 to the inside, the stepped portion of the substrate It is possible to reliably protect the organic layer in the light emitting portion near the anode 3 by being blocked by the.

【0021】さらには、前記段差は前記非発光部領域に
対して斜面を構成していることが好ましい。この段差の
好ましい一実施形態は図1に示すようなものであり、そ
の角度は基板表面に対して90度より大きく180度未
満であることが望ましい。これは、この角度を90度以
下にすると段差部で陰極が断線する可能性が高く、18
0度では本発明による効果が得られないからである。
Further, it is preferable that the step forms an inclined surface with respect to the non-light emitting portion region. One preferable embodiment of this step is as shown in FIG. 1, and its angle is preferably more than 90 degrees and less than 180 degrees with respect to the substrate surface. This is because if the angle is 90 degrees or less, the cathode is likely to be broken at the step portion.
This is because the effect of the present invention cannot be obtained at 0 degree.

【0022】本発明の第2は、基板上に、陽極、有機発
光層を含む有機層、及び陰極とからなる積層体の形成さ
れた発光部と、前記積層体の形成されていない非発光部
とを有する有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造
方法であって、前記基板として、前記積層体を形成して
発光部とする発光部領域及び前記非発光部となる非発光
部領域との間に溝を有するものを用いること、前記有機
層を形成する際には、前記発光部領域及び前記非発光部
領域を含む前記基板上全面に前記有機層を形成し、該有
機層のうち前記非発光部領域に形成された部分を除去す
ること、該除去の際にはマスク部材を用い、該マスク部
材の端部を前記基板の溝部に合わせ、前記有機層のうち
前記発光部領域に形成された部分を前記マスク部材で覆
っておくこと、を特徴とする。
A second aspect of the present invention is to provide, on a substrate, a light emitting portion in which a laminated body including an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode is formed, and a non-light emitting portion in which the laminated body is not formed. A method of manufacturing an organic electroluminescence display device comprising: a groove formed between the light emitting portion region that forms the light emitting portion by forming the laminate as the substrate and the non-light emitting portion region that becomes the non-light emitting portion. When forming the organic layer, the organic layer is formed on the entire surface of the substrate including the light emitting part region and the non-light emitting part region, and the non-light emitting part of the organic layer is used. A portion formed in the light emitting portion region of the organic layer by removing a portion formed in the region, using a mask member at the time of removing, and aligning an end portion of the mask member with a groove portion of the substrate; Is covered with the mask member, And butterflies.

【0023】図4は本発明の有機EL表示装置の製造方
法の一実施形態を示す断面図である。図2と同じ符号は
同じ部材を指す。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing one embodiment of the method of manufacturing the organic EL display device of the present invention. The same reference numerals as those in FIG. 2 indicate the same members.

【0024】このようにしておくことで、不要な非発光
部領域の有機層を除去する際の加工の影響が、万一マス
ク部材6の下部から内側に回り込んだとしても、基板の
溝部分によってブロックされ、陽極3付近の発光部の有
機層を確実に保護することが可能となる。
By doing so, even if the influence of the processing for removing the unnecessary organic layer in the non-light emitting region wraps around from the lower part of the mask member 6 to the inner side, the groove part of the substrate is formed. It is possible to reliably protect the organic layer in the light emitting portion near the anode 3 by being blocked by the.

【0025】また、前記溝の形状は、その上から有機層
を形成した後においてもマスク部材の端部が溝にはまり
やすいように、最深部よりも開口部が広いV字もしくは
テーパー状であることが好ましい。
Further, the shape of the groove is V-shaped or tapered so that the opening is wider than the deepest part so that the end of the mask member can easily fit into the groove even after the organic layer is formed thereon. It is preferable.

【0026】本発明の第3は、基板上に、陽極、有機発
光層を含む有機層、及び陰極とからなる積層体の形成さ
れた発光部と、前記積層体の形成されていない非発光部
とを有する有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造
方法であって、前記基板として、前記積層体を形成して
発光部とする発光部領域及び前記非発光部となる非発光
部領域との間に、前記発光部領域が凸であるような段差
を有するものを用いること、前記有機層を形成する際に
は、前記非発光部領域に前記発光部領域の面と同じ高さ
になるようにシール材を塗布し、前記発光部領域及び前
記シール材上を含む前記基板上全面に前記有機層を形成
し、前記陰極を形成するより前に前記シール材を除去す
ること、を特徴とする。
A third aspect of the present invention is to provide a light emitting portion on a substrate, in which a laminated body including an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode is formed, and a non-light emitting portion in which the laminated body is not formed. A method for manufacturing an organic electroluminescence display device having, wherein, as the substrate, between the light emitting part region which forms the light emitting part by forming the laminate and the non-light emitting part region which becomes the non-light emitting part, A material having a stepped portion such that the light emitting portion region is convex is used, and when the organic layer is formed, a sealing material is formed so that the non-light emitting portion region is flush with the surface of the light emitting portion region. Is applied to form the organic layer on the entire surface of the substrate including the light emitting portion region and the sealing material, and the sealing material is removed before forming the cathode.

【0027】図5は本発明の有機EL表示装置の製造方
法の一実施形態を示す断面図である。図2と同じ符号は
同じ部材を指し、8はシール材である。
FIG. 5 is a sectional view showing an embodiment of a method for manufacturing an organic EL display device of the present invention. The same reference numerals as in FIG. 2 indicate the same members, and 8 is a sealing material.

【0028】すなわち、予め非発光部領域にマスキング
用のシール材8を塗布・硬化しておき、例えばスピンコ
ートなどで基板1全面に有機層5を塗布した後に、非発
光部領域に塗布してあるシール材8とともに有機層5を
除去することが可能である。
That is, the sealing material 8 for masking is applied and cured in the non-light emitting area in advance, and the organic layer 5 is applied to the entire surface of the substrate 1 by, for example, spin coating, and then applied in the non-light emitting area. It is possible to remove the organic layer 5 together with some sealing material 8.

【0029】通常、マスキング用のシール材を塗布して
スピンコートにより有機層を成膜する場合、マスキング
シール材の端部が壁となり、その近傍では有機層の膜厚
が中央部と異なってしまい発光輝度のばらつきの原因と
なるため、シール材の膜厚は薄い方が好ましい。しかし
マスキングシール材の膜厚が薄いと膜強度が弱くなり、
剥がすときに破れたり、残渣が残ったりしてしまう。
Usually, when a masking sealant is applied and an organic layer is formed by spin coating, the edge of the masking sealant serves as a wall, and the thickness of the organic layer in the vicinity is different from the central part. It is preferable that the thickness of the sealing material is thin because it causes variation in emission brightness. However, if the masking sealing material is thin, the film strength will be weak,
When peeled off, it will be torn or residue will remain.

【0030】そこで、本発明のように、段差形状を有す
る基板の非発光部領域に発光部領域の面と同じ高さにな
るようにシール材8を塗布・硬化することにより、シー
ル材端部に壁を作ることなく、段差の高さ分だけシール
材の厚みがとれる。この方法であれば高価なRIE装置
を使わずに非発光部領域の有機層の除去が可能になる。
Therefore, as in the present invention, the sealing material 8 is applied and cured in the non-light emitting area of the substrate having the stepped shape so as to have the same height as the surface of the light emitting area. The thickness of the sealing material can be taken by the height of the step without forming a wall on the inside. With this method, the organic layer in the non-light emitting region can be removed without using an expensive RIE device.

【0031】また、本発明の有機エレクトロルミネッセ
ンス表示装置は上記本発明の製造方法を用いて製造され
たことを特徴とするものをも含むものである。
Further, the organic electroluminescence display device of the present invention includes a device characterized by being manufactured by the manufacturing method of the present invention.

【0032】以下、上記本発明による有機エレクトロル
ミネセンス(EL)表示装置の製造方法および有機EL
表示装置について詳細に説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device according to the present invention and an organic EL device.
The display device will be described in detail.

【0033】段差形状を有する基板1は透光性を有する
もので、ガラス基板や合成樹脂からなる基板が好まし
く、ガラス基板としてはソーダ石灰ガラス、バリウム・
ストロンチウム含有ガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガ
ラス、無アルカリガラスなどが用いられ、合成樹脂基板
としてはポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエ
ーテルサルファイド樹脂、ポリサルフォン樹脂などが用
いられる。
The step-like substrate 1 has a light-transmitting property, and is preferably a glass substrate or a substrate made of synthetic resin, and the glass substrate is soda-lime glass, barium.
Strontium-containing glass, borosilicate glass, quartz glass, non-alkali glass, or the like is used, and as the synthetic resin substrate, polycarbonate resin, acrylic resin, polyether sulfide resin, polysulfone resin, or the like is used.

【0034】基板1上には陽極3と取り出し電極4が形
成されている。陽極3は仕事関数の大きい(4eV以
上)金属、合金、電気伝導性化合物またはこれらの混合
物が好ましく、具体的にはAu、Pt、Ag、Cu、C
uI、ITO、SnO2、ZnOなどが挙げられる。こ
の陽極3は前記有機発光層からの発光を陽極3側から取
り出す場合、可視光透過率が10%以上であることが望
ましい。また陽極3のシート抵抗は500Ω/□以下と
してあるものが望ましい。さらに陽極3の膜厚は材料に
もよるが、通常10nm〜1μmの範囲で選択される。
An anode 3 and a take-out electrode 4 are formed on the substrate 1. The anode 3 is preferably a metal, an alloy, an electrically conductive compound or a mixture thereof having a large work function (4 eV or more), specifically, Au, Pt, Ag, Cu, C.
Examples include uI, ITO, SnO 2 , ZnO and the like. When the light emitted from the organic light emitting layer is taken out from the anode 3 side, the anode 3 preferably has a visible light transmittance of 10% or more. The sheet resistance of the anode 3 is preferably 500 Ω / □ or less. Further, the film thickness of the anode 3 depends on the material, but is usually selected in the range of 10 nm to 1 μm.

【0035】取り出し電極4は導電性材料であれば制限
はなく、可視光透過性も不要である。陽極3と同じ材料
が使えることはいうまでもなく、異なる材料、抵抗、膜
厚のものでも使用することが出来る。また、ITOとC
rなど異種材料の積層構造であっても問題はない。この
陽極3と取り出し電極4の形成は真空蒸着法やスパッタ
リング法、メッキ法等の方法で成膜出来、陽極3と取り
出し電極4は同時に形成しても順次形成しても良い。
The extraction electrode 4 is not limited as long as it is a conductive material, and it does not need to transmit visible light. It goes without saying that the same material as that of the anode 3 can be used, and a different material, resistance, and film thickness can also be used. Also, ITO and C
There is no problem even with a laminated structure of different materials such as r. The anode 3 and the take-out electrode 4 can be formed by a method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or a plating method. The anode 3 and the take-out electrode 4 may be formed simultaneously or sequentially.

【0036】図2に示すように基板1及び陽極3上には
有機層5が形成されるが、有機層5としては材料の種
類、構成、膜厚、色素のドーピング形態などについて特
に限定されるものではなく、1種類または多種類の有機
発光材料のみからなる薄膜や、1種類または多種類の有
機発光材料と正孔輸送材料、電子注入材料との混合物か
らなる薄膜など有機EL素子の発光層として機能する単
層構造でも発光層以外に正孔輸送材料、電子注入材料を
個別に有する2層以上の積層構造であってもよい。これ
ら有機層5の構成材料は、高分子系、低分子系に関わら
ず、従来より有機EL素子で用いられている正孔輸送材
料、有機発光材料、電子注入材料をそのまま使用でき
る。
As shown in FIG. 2, an organic layer 5 is formed on the substrate 1 and the anode 3, but the organic layer 5 is not particularly limited in terms of material type, constitution, film thickness, and dye doping form. However, the light emitting layer of an organic EL element such as a thin film made of only one or many kinds of organic light emitting materials and a thin film made of a mixture of one or many kinds of organic light emitting materials and a hole transport material and an electron injection material. A single-layer structure that functions as a single layer structure or a stacked-layer structure including two or more layers each having a hole-transporting material and an electron-injecting material other than the light-emitting layer may be used. As the constituent material of the organic layer 5, regardless of whether it is a high molecular type or a low molecular type, a hole transporting material, an organic light emitting material, and an electron injecting material which have been conventionally used in an organic EL element can be used as they are.

【0037】正孔輸送材料としては、トリアゾール誘導
体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フ
ェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、ピラ
ゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、アニリン系共重合
体、ポリアリールアルカン誘導体、スチルベン誘導体、
ヒドラゾン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサ
ゾール誘導体、スチリルアントランセン誘導体、フルオ
レノン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系化合物な
どが挙げられる。有機発光材料としては、ベンゾチアゾ
ール系、金属キレート化オキシノイド化合物、スチルベ
ンゼン系化合物、芳香族ジメチルリジン化合物、ジスチ
ルピラジン誘導体ベンゾイミダゾール系、ベンゾオイサ
ゾール系などが挙げられる。電子注入材料としては、ニ
トロ置換フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘
導体、チオピランジオイシド誘導体などの複素環テトラ
カルボン酸無水物、フレオレニリンデンメタン誘導体、
オキサジアゾール誘導体、8−キノリノール誘導体、カ
ルボジイミド、アントロン誘導体などが挙げられる。
As the hole transport material, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, aniline copolymers, polyarylalkane derivatives, stilbene derivatives,
Examples thereof include hydrazone derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, silazane derivatives, and polysilane compounds. Examples of the organic light emitting material include benzothiazole compounds, metal chelated oxinoid compounds, stilbenzene compounds, aromatic dimethyl lysine compounds, distilpyrazine derivatives benzimidazole compounds, and benzooisazole compounds. Examples of electron injection materials include nitro-substituted fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, heterocyclic tetracarboxylic acid anhydrides such as thiopyrandioiside derivatives, fluorenylindene methane derivatives,
Examples include oxadiazole derivatives, 8-quinolinol derivatives, carbodiimides, anthrone derivatives and the like.

【0038】以上に述べた材料は低分子系の有機材料で
あるが、高分子系の有機材料、例えばポリ(N−ビニル
カルバゾール)、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチ
オフェン及びその誘導体、ポリ(P−フェニレンビニレ
ン)及びその誘導体、ポリ(2、5−チエニレンビニレ
ン)及びその誘導体など用いることもでき、その場合に
も成膜法は特に限定されない。すなわち、低分子系の有
機材料の場合にはその成膜法として真空蒸着法を用いる
ことが一般的だが、高分子系の有機材料の場合にはその
成膜法としてスピンコートや印刷法などの他、キャステ
ィング法、ディッピング法、バーコート法、ロールコー
ト法等の塗布法を用いることが出来、もちろん材料との
組み合わせに制限は無い。また、ここで高分子系の有機
材料がポリ(p−フェニレンビニレン)及びその誘導
体、ポリ(2,5−チエニレンビニレン)及びその誘導
体等の共役系高分子のように前駆体を経由した成膜も可
能である。
The materials described above are low molecular weight organic materials, but high molecular weight organic materials such as poly (N-vinylcarbazole), polyaniline and its derivatives, polythiophene and its derivatives, and poly (P-phenylene). Vinylene) and its derivative, poly (2,5-thienylenevinylene) and its derivative, etc. can also be used, and in that case, the film forming method is not particularly limited. That is, in the case of a low molecular weight organic material, it is general to use a vacuum deposition method as the film forming method, but in the case of a high molecular weight organic material, the film forming method such as spin coating or printing method is used. In addition, a coating method such as a casting method, a dipping method, a bar coating method, or a roll coating method can be used, and of course, there is no limitation in combination with a material. In addition, here, a polymer-based organic material is a compound such as poly (p-phenylene vinylene) and its derivative, and poly (2,5-thienylene vinylene) and its derivative, which are conjugated polymers and pass through a precursor. Membranes are also possible.

【0039】ここでスピンコートなどの塗布法で成膜し
た時に同時に成膜される非発光部領域の有機層5の除去
手段について説明する。これは前述したように、非発光
部領域の取り出し電極4上に成膜された有機層5が絶縁
物として働く為に、陰極7を蒸着して取り出し電極4と
電気的に接合する前に前記有機層5を除去することを目
的とするものである。
Here, a means for removing the organic layer 5 in the non-light emitting portion region which is simultaneously formed when the film is formed by a coating method such as spin coating will be described. As described above, since the organic layer 5 formed on the extraction electrode 4 in the non-light emitting region functions as an insulator, the cathode 7 is vapor-deposited before being electrically joined to the extraction electrode 4. The purpose is to remove the organic layer 5.

【0040】有機層5の除去手段として、ウエットエッ
チングは発光部領域の有機層5へのダメージが大きく、
また機械的にかきとる方法では除去が不完全であった
り、有機物の微粒子が発生して発光部に付着する可能性
があるためドライエッチングが有効である。特にサイド
エッチングの少ない異方性のエッチングである反応性イ
オンエッチング(RIE)が好ましい。
As a means for removing the organic layer 5, wet etching causes a large damage to the organic layer 5 in the light emitting region,
In addition, dry removal is effective because mechanical removal may be incomplete or organic fine particles may be generated and adhere to the light emitting portion. Reactive ion etching (RIE), which is anisotropic etching with less side etching, is particularly preferable.

【0041】RIEは異方性のエッチングであるためサ
イドエッチングは少ないものの、有機層5のエッチング
には反応ガスとして酸素ガスを使用する。一般に有機層
は酸素による劣化が著しく、たとえ発光部領域の有機層
の保護の為にマスク部材を発光部に直接置いたとしても
基板の反りなどにより隙間が出来、その隙間から酸素が
侵入し、発光部の有機層を劣化させてしまうことがあ
る。そこで本発明のように基板の発光部領域と非発光部
領域との間に段差あるいは溝を設けその段差あるいは溝
に端部を合わせて凹形状のマスク部材をかぶせて発光部
領域の有機層を囲むことにより、酸素ガスの侵入を防止
できる。
Since RIE is anisotropic etching, side etching is small, but oxygen gas is used as a reaction gas for etching the organic layer 5. Generally, the organic layer is significantly deteriorated by oxygen, and even if the mask member is directly placed on the light emitting portion to protect the organic layer in the light emitting portion, a gap is formed due to the warp of the substrate, and oxygen enters through the gap, The organic layer of the light emitting part may be deteriorated. Therefore, as in the present invention, a step or a groove is provided between the light emitting portion region and the non-light emitting portion region of the substrate, and an end portion is aligned with the step or the groove and a concave mask member is covered to form an organic layer in the light emitting portion region. By surrounding it, invasion of oxygen gas can be prevented.

【0042】また、この有機層5の除去には、上記第3
の本発明のようにマスキング用のシール材を用いる方法
を用いても良い。この方法を用いた場合でも次の陰極の
形成は、エッチングによって有機層を除去する上記の方
法と同様に行うことが出来る。
The removal of the organic layer 5 is carried out by the above-mentioned third step.
The method of using a sealing material for masking as in the present invention may be used. Even when this method is used, the formation of the next cathode can be carried out in the same manner as the above method of removing the organic layer by etching.

【0043】図3は、本発明の有機EL表示装置の一実
施形態の概念図を示す側面図及び平面図であり、3は陽
極、4は取り出し電極、7は陰極を表している。
FIG. 3 is a side view and a plan view showing a conceptual view of one embodiment of the organic EL display device of the present invention. 3 is an anode, 4 is a take-out electrode, and 7 is a cathode.

【0044】取り出し電極4上の有機層を除去した後
に、この図3に示すように陰極7を成膜するが、陰極7
としては仕事関数の小さい(4eV以下)金属、合金、
電気伝導性化合物およびこれらの混合物を電極物質とす
るものが用いられる。このような電極物質の具体例とし
ては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネ
シウム、リチウム、マグネシウム−銀合金、アルミニウ
ム/酸化アルミニウム、アルミニウム・リチウム合金、
インジウム、希土類金属などがあげられる。この陰極7
はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法に
より薄膜を形成させることにより作成することが出来
る。
After removing the organic layer on the take-out electrode 4, a cathode 7 is formed as shown in FIG.
Is a metal, alloy, which has a small work function (4 eV or less)
An electrically conductive compound or a mixture thereof is used as an electrode material. Specific examples of such an electrode material include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium-silver alloy, aluminum / aluminum oxide, aluminum-lithium alloy,
Examples include indium and rare earth metals. This cathode 7
Can be formed by forming a thin film of these electrode substances by a method such as vapor deposition or sputtering.

【0045】以上のようにして有機エレクトロルミネセ
ンス表示装置の基本構成を形成することが出来る。なお
陰極7の上には陰極7や有機層5が空気中の酸素や水分
に触れないよう、これを覆って保護膜9が形成される。
As described above, the basic structure of the organic electroluminescence display device can be formed. A protective film 9 is formed on the cathode 7 so as to prevent the cathode 7 and the organic layer 5 from contacting oxygen and moisture in the air.

【0046】[0046]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明は以下の例のみに限定されるものではない。
The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to the following examples.

【0047】(実施例1)以下、本発明の有機エレクト
ロルミネセンス表示装置(以下有機EL表示装置)の製
造方法を詳しく説明する。
(Example 1) Hereinafter, a method for manufacturing an organic electroluminescence display device (hereinafter referred to as an organic EL display device) of the present invention will be described in detail.

【0048】図1は本発明の有機EL表示装置の一実施
形態の概念図を示す側面図及び平面図であり、図2は本
発明の有機EL表示装置の製造方法の一実施形態を示す
断面図である。図1において、図2と同じ符号は同じ部
材を指す。
FIG. 1 is a side view and a plan view showing a conceptual view of one embodiment of the organic EL display device of the present invention, and FIG. 2 is a cross section showing one embodiment of the method of manufacturing the organic EL display device of the present invention. It is a figure. 1, the same reference numerals as those in FIG. 2 indicate the same members.

【0049】図1には本実施例の有機EL表示装置に用
いる基板1が示され、図1(a)は側面図で、図1
(b)は平面図である。このガラス基板からなる基板1
上にはITO膜からなる陽極3と、同じくITO膜から
なる取り出し電極4が形成されている。基板1には40
mm□、厚み1.1mmのガラス板を用い、エッチング
加工により図1(a)に示すように0.5mmの段差が
約45°の傾斜をもって設けてある。陽極3及び取り出
し電極4は、基板1の上に厚み1500ÅのITO膜を
スパッタリング法により成膜し、さらにフォトエッチン
グにより図1(b)のようにパターニングしたものであ
る。
FIG. 1 shows a substrate 1 used in the organic EL display device of this embodiment. FIG. 1A is a side view and FIG.
(B) is a plan view. Substrate 1 made of this glass substrate
An anode 3 made of an ITO film and an extraction electrode 4 also made of an ITO film are formed on the top. 40 on board 1
A glass plate having a size of mm □ and a thickness of 1.1 mm is used, and a step of 0.5 mm is provided with an inclination of about 45 ° by etching as shown in FIG. The anode 3 and the take-out electrode 4 are formed by forming an ITO film having a thickness of 1500Å on the substrate 1 by a sputtering method and further patterning by photoetching as shown in FIG. 1B.

【0050】有機層に用いる発光材料としてはMEH−
PPVをキシレンに5wt%の濃度に溶解したものを使
用した。
MEH- is used as a light emitting material for the organic layer.
PPV dissolved in xylene at a concentration of 5 wt% was used.

【0051】有機層の成膜は以下のように行った。まず
基板1をアセトン、IPAで各10分づつ超音波洗浄し
た後、乾燥窒素ガスで乾燥させ、さらにUVオゾン洗浄
を10分間行った。その後基板1をスピンコーターにセ
ットし、MEH−PPV溶液1cm3を基板1の中央に
滴下し、1500rpmの回転速度で1分間回転させ基
板上に有機層5を成膜した。その後、基板1を取り出し
真空オーブンに入れ80℃、1.3×102Paの雰囲
気で30分間乾燥させた。
The film formation of the organic layer was performed as follows. First, the substrate 1 was ultrasonically cleaned with acetone and IPA for 10 minutes each, and then dried with dry nitrogen gas, and further UV ozone cleaning was performed for 10 minutes. After that, the substrate 1 was set on a spin coater, 1 cm 3 of the MEH-PPV solution was dropped on the center of the substrate 1, and the organic layer 5 was formed on the substrate by rotating at a rotation speed of 1500 rpm for 1 minute. After that, the substrate 1 was taken out and placed in a vacuum oven, and dried in an atmosphere of 80 ° C. and 1.3 × 10 2 Pa for 30 minutes.

【0052】次に発光部領域以外に成膜された有機層5
を反応性イオンエッチング(RIE)により除去した。
まずスピンコートで有機層5を全面に成膜した基板1上
の発光部領域上にマスク部材6を被せた。マスク部材6
は20mm□、厚み1.1mmのガラス板の外周部0.
5mmを残して深さ0.7mmの凹形状にエッチング加
工したものを用いた。なお基板1上の段差はその斜面部
にマスク部材6の内側のエッジがかかる位置に設けられ
ている。その後マスク部材6をセットした基板1をRI
E装置のチャンバー内にセットし、3×10-3Paまで
減圧し、酸素ガスを10cm3/分の流量で2分間流し
マスクで覆った以外の部分の有機層5を除去した。
Next, the organic layer 5 formed in a region other than the light emitting region
Was removed by reactive ion etching (RIE).
First, the mask member 6 was covered on the light emitting portion region on the substrate 1 on which the organic layer 5 was formed on the entire surface by spin coating. Mask member 6
Is 20 mm □ and the outer peripheral portion of the glass plate having a thickness of 1.1 mm is 0.
What was etched into a concave shape having a depth of 0.7 mm while leaving 5 mm was used. The step on the substrate 1 is provided at a position where the inner edge of the mask member 6 is applied to the inclined surface portion. After that, the substrate 1 on which the mask member 6 is set is RI
It was set in the chamber of the E apparatus, the pressure was reduced to 3 × 10 −3 Pa, oxygen gas was caused to flow for 2 minutes at a flow rate of 10 cm 3 / min, and the organic layer 5 except the portion covered with the mask was removed.

【0053】その後基板1を蒸着装置にセットして、図
3に示すように陰極7としてAlを1500Åの厚さに
蒸着し取り出し電極4に接合した。
After that, the substrate 1 was set in a vapor deposition apparatus, and as the cathode 7, Al was vapor deposited to a thickness of 1500 Å as shown in FIG.

【0054】そして蒸着装置から基板を取り出した後、
陽極3と取り出し電極4間に直流電圧を印加したところ
10Vで3000cd/m2のオレンジ色の発光が得ら
れ、全面にわたり均一な発光で画素の劣化も認められな
かった。
Then, after taking out the substrate from the vapor deposition apparatus,
When a direct current voltage was applied between the anode 3 and the extraction electrode 4, orange light emission of 3000 cd / m 2 was obtained at 10 V, and uniform light emission was observed over the entire surface and no deterioration of pixels was observed.

【0055】(実施例2)図4に示した形態の実施例を
説明する。このガラス基板からなる基板1上にはITO
膜からなる陽極3と、同じくITO膜からなる取り出し
電極4が形成されている。
(Embodiment 2) An embodiment of the form shown in FIG. 4 will be described. ITO is formed on the substrate 1 made of this glass substrate.
An anode 3 made of a film and an extraction electrode 4 also made of an ITO film are formed.

【0056】基板1には40mm□、厚み1.1mmの
ガラス板を用い、エッチング加工により図4に示すよう
に幅1mm、深さ0.5mmのV字形状の溝が設けてあ
る。陽極3及び取り出し電極4は、基板1の上に厚み1
500ÅのITO膜をスパッタリング法により成膜し、
さらにフォトエッチングにより図1(b)のようにパタ
ーニングしたものである。
A glass plate having a size of 40 mm and a thickness of 1.1 mm is used as the substrate 1, and a V-shaped groove having a width of 1 mm and a depth of 0.5 mm is provided by etching as shown in FIG. The anode 3 and the take-out electrode 4 have a thickness of 1 on the substrate 1.
An ITO film of 500 Å is formed by the sputtering method,
Further, it is patterned by photoetching as shown in FIG.

【0057】有機層に用いる発光材料としてはMEH−
PPVをキシレンに5wt%の濃度に溶解したものを使
用した。
As a light emitting material used for the organic layer, MEH-
PPV dissolved in xylene at a concentration of 5 wt% was used.

【0058】有機層の成膜は以下のように行った。まず
基板1をアセトン、IPAで各10分づつ超音波洗浄し
た後、乾燥窒素ガスで乾燥させ、さらにUVオゾン洗浄
を10分間行った。その後基板1をスピンコーターにセ
ットし、MEH−PPV溶液1cm3を基板1の中央に
滴下し、1500rpmの回転速度で1分間回転させ基
板上に有機層5を成膜した。その後、基板1を取り出し
真空オーブンに入れ80℃、1.3×102の雰囲気で
30分間乾燥させた。
The film formation of the organic layer was performed as follows. First, the substrate 1 was ultrasonically cleaned with acetone and IPA for 10 minutes each, and then dried with dry nitrogen gas, and further UV ozone cleaning was performed for 10 minutes. After that, the substrate 1 was set on a spin coater, 1 cm 3 of the MEH-PPV solution was dropped on the center of the substrate 1, and the organic layer 5 was formed on the substrate by rotating at a rotation speed of 1500 rpm for 1 minute. After that, the substrate 1 was taken out and put in a vacuum oven, and dried in an atmosphere of 80 ° C. and 1.3 × 10 2 for 30 minutes.

【0059】次に発光部領域以外に成膜された有機層5
を反応性イオンエッチング(RIE)により除去した。
まずスピンコートで有機層5を全面に成膜した基板1上
の発光部領域の上にマスク部材6を被せた。マスク部材
6は20mm□、厚み1.1mmのガラス板の外周部
0.5mmを残して深さ0.7mmの凹形状にエッチン
グ加工したものを用いた。なお基板1上のV字溝は溝の
内側にマスク部材6のエッジが沈み込む位置に設けられ
ている。その後マスク部材6をセットした基板1をRI
E装置のチャンバー内にセットし、3×10-3Paまで
減圧し、酸素ガスを10cm3/分の流量で2分間流し
てマスクされた以外の部分の有機層5を除去した後にチ
ャンバーから取り出した。その後基板1を蒸着装置にセ
ットして、図3に示すように陰極7としてAlを150
0Åの厚さに蒸着し取り出し電極4に接合した。
Next, the organic layer 5 formed in a region other than the light emitting region
Was removed by reactive ion etching (RIE).
First, the mask member 6 was covered on the light emitting region on the substrate 1 on which the organic layer 5 was formed by spin coating. As the mask member 6, a glass plate of 20 mm square and 1.1 mm in thickness was used, which was etched into a concave shape of 0.7 mm in depth, leaving 0.5 mm of the outer peripheral portion. The V-shaped groove on the substrate 1 is provided at a position where the edge of the mask member 6 sinks inside the groove. After that, the substrate 1 on which the mask member 6 is set is RI
E Set in the chamber of the apparatus, depressurize to 3 × 10 −3 Pa, and let oxygen gas flow at a flow rate of 10 cm 3 / min for 2 minutes to remove the organic layer 5 except the masked portion, and then take out from the chamber. It was After that, the substrate 1 is set in a vapor deposition apparatus, and as shown in FIG.
It was vapor-deposited to a thickness of 0Å and joined to the extraction electrode 4.

【0060】そして蒸着装置から基板を取り出した後、
陽極3と取り出し電極4間に直流電圧を印加したところ
10Vで3000cd/m2のオレンジ色の発光が得ら
れ、全面にわたり均一な発光で画素の劣化も認められな
かった。
Then, after taking out the substrate from the vapor deposition apparatus,
When a direct current voltage was applied between the anode 3 and the extraction electrode 4, orange light emission of 3000 cd / m 2 was obtained at 10 V, and uniform light emission was observed over the entire surface and no deterioration of pixels was observed.

【0061】(実施例3)図5に示した形態の実施例を
説明する。ガラス基板からなる基板1上にはITO膜か
らなる陽極3と、同じくITO膜からなる取り出し電極
4が形成されている。
(Embodiment 3) An embodiment of the form shown in FIG. 5 will be described. An anode 3 made of an ITO film and an extraction electrode 4 also made of an ITO film are formed on a substrate 1 made of a glass substrate.

【0062】基板1は40mm□、厚み1.1mmのガ
ラス板を用い、エッチング加工により図1(a)に示す
ように0.5mmの段差が約45°の傾斜をもって設け
てある。陽極3及び取り出し電極4は、基板1の上に厚
み1500ÅのITO膜をスパッタリング法により成膜
し、さらにフォトエッチングにより図1(b)のように
パターニングしたものである。
As the substrate 1, a glass plate having a size of 40 mm square and a thickness of 1.1 mm is used, and a step of 0.5 mm is provided with an inclination of about 45 ° by etching as shown in FIG. The anode 3 and the take-out electrode 4 are formed by forming an ITO film having a thickness of 1500Å on the substrate 1 by a sputtering method and further patterning by photoetching as shown in FIG. 1B.

【0063】有機層に用いる発光材料としてはMEH−
PPVをキシレンに5wt%の濃度に溶解したものを使
用した。
As a light emitting material used for the organic layer, MEH-
PPV dissolved in xylene at a concentration of 5 wt% was used.

【0064】有機層の成膜は以下のように行った。まず
基板1をアセトン、IPAで各10分づつ超音波洗浄し
た後、乾燥窒素ガスで乾燥させ、さらにUVオゾン洗浄
を10分間行った。次にシール材8としてシリコーンシ
ール材(信越化学工業株式会社製 X−31−1293
−W)を図5に示すように基板1の段差の低い部分に
0.5mmの厚みに塗布し、シール材上面が基板1の発
光部領域面とほぼ平面になるようにした。そして20
℃、55%RH環境で1時間硬化させた。その後基板1
をスピンコーターにセットし前記発光材料としてMEH
−PPV溶液1cm 3を基板1の中央に滴下し、150
0rpmの回転速度で1分間回転させ基板上に有機層5
を成膜した。その後、基板1を取り出し真空オーブンに
入れ80℃、1.3×102Paの雰囲気で30分間乾
燥させた。
The film formation of the organic layer was performed as follows. First
Substrate 1 is ultrasonically cleaned with acetone and IPA for 10 minutes each.
After that, dry with dry nitrogen gas, and further UV ozone cleaning
Was carried out for 10 minutes. Next, a silicone seal is used as the sealing material 8.
Material (X-31-1293 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
-W) as shown in FIG.
Apply to a thickness of 0.5 mm, and the top surface of the sealing material
It was made to be almost flat with the light area region surface. And 20
It was cured at 55 ° C. and 55% RH for 1 hour. Then substrate 1
Is set on a spin coater and MEH is used as the light emitting material.
-PPV solution 1 cm 3Is dropped on the center of the substrate 1, and 150
The organic layer 5 is rotated on the substrate for 1 minute at a rotation speed of 0 rpm.
Was deposited. After that, take out the substrate 1 and put it in a vacuum oven.
Put 80 ℃, 1.3 × 102Dry in Pa atmosphere for 30 minutes
Let it dry.

【0065】そしてシール材8を剥がし取り出し電極4
を露出させた後、基板1を蒸着装置にセットして、図3
に示すように陰極7としてAlを1500Åの厚さに蒸
着し取り出し電極4に接合した。
Then, the sealing material 8 is peeled off and the electrode 4 is taken out.
After exposing the substrate, the substrate 1 is set in the vapor deposition apparatus, and the substrate shown in FIG.
As shown in (1), Al was vapor-deposited to a thickness of 1500 Å as the cathode 7 and joined to the extraction electrode 4.

【0066】蒸着装置から基板を取り出した後、陽極3
と取り出し電極4間に直流電圧を印加したところ10V
で3000cd/m2のオレンジ色の発光が得られ、全
面にわたり均一な発光で画素の劣化も認められなかっ
た。
After removing the substrate from the vapor deposition apparatus, the anode 3
When a DC voltage is applied between the extraction electrode 4 and the extraction electrode 4, 10V
At this time, an orange emission of 3000 cd / m 2 was obtained, and uniform emission was observed over the entire surface, and no deterioration of pixels was observed.

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明によれば、発光部の有機層へのダ
メージを与えることなく非発光部領域上の有機層を除去
できることから、有機層の形成をスピンコート、キャス
ティング、ディッピングなどの簡便な成膜法で行うこと
で安価に、しかも信頼性高く有機EL表示装置を製造す
ることが可能となり、有機EL表示装置の大型化にも役
立つ。
According to the present invention, the organic layer on the non-light emitting region can be removed without damaging the organic layer of the light emitting unit. Therefore, the organic layer can be formed easily by spin coating, casting, dipping or the like. It is possible to manufacture an organic EL display device at low cost and with high reliability by performing such a film formation method, which is also useful for increasing the size of the organic EL display device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の有機EL表示装置の一実施形態の概念
図を示す側面図及び平面図である。
FIG. 1 is a side view and a plan view showing a conceptual view of an embodiment of an organic EL display device of the present invention.

【図2】本発明の有機EL表示装置の製造方法の一実施
形態を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing one embodiment of a method for manufacturing an organic EL display device of the present invention.

【図3】本発明の有機EL表示装置の一実施形態の概念
図を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a conceptual diagram of one embodiment of the organic EL display device of the present invention.

【図4】本発明の有機EL表示装置の製造方法の一実施
形態を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing one embodiment of a method for manufacturing an organic EL display device of the present invention.

【図5】本発明の有機EL表示装置の製造方法の一実施
形態を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing one embodiment of a method for manufacturing an organic EL display device of the present invention.

【図6】従来の有機EL表示装置の構造の一例を示す断
面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of the structure of a conventional organic EL display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 3 陽極 4 取り出し電極 5 有機層 6 マスク部材 7 陰極 8 シール材 9 保護層 10 異方性導電膜 11 FPC 1 substrate 3 anode 4 Extraction electrode 5 organic layers 6 Mask member 7 cathode 8 Seal material 9 Protective layer 10 Anisotropic conductive film 11 FPC

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 33/14 H05B 33/14 A Fターム(参考) 3K007 AB11 AB18 BA06 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 5C094 AA14 AA32 AA43 AA44 AA48 BA27 CA19 DA13 DB01 DB04 EA04 EA05 EB02 FA01 FA03 FA04 FB01 FB12 FB15 FB20 GB10 JA09 5G435 AA14 AA17 BB05 CC09 HH12 HH14 KK05 KK10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05B 33/14 H05B 33/14 AF term (reference) 3K007 AB11 AB18 BA06 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 5C094 AA14 AA32 AA43 AA44 AA48 BA27 CA19 DA13 DB01 DB04 EA04 EA05 EB02 FA01 FA03 FA04 FB01 FB12 FB15 FB20 GB10 JA09 5G435 AA14 AA17 BB05 CC09 HH12 HH14 KK05 KK10

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、陽極、有機発光層を含む有機
層、及び陰極とからなる積層体の形成された発光部と、
前記積層体の形成されていない非発光部とを有する有機
エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法であって、
前記基板として、前記積層体を形成して発光部とする発
光部領域及び前記非発光部となる非発光部領域との間に
段差を有するものを用いること、前記有機層を形成する
際には、前記発光部領域及び前記非発光部領域を含む前
記基板上全面に前記有機層を形成し、該有機層のうち前
記非発光部領域に形成された部分を除去すること、該除
去の際にはマスク部材を用い、該マスク部材の端部を前
記基板の段差部に合わせ、前記有機層のうち前記発光部
領域に形成された部分を前記マスク部材で覆っておくこ
と、を特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置
の製造方法。
1. A light emitting section in which a laminated body including an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode is formed on a substrate,
A method for manufacturing an organic electroluminescent display device having a non-light-emitting part in which the laminate is not formed,
As the substrate, a substrate having a step between the light emitting portion region which forms the laminated body and serves as a light emitting portion and the non-light emitting portion region which serves as the non-light emitting portion is used, and when the organic layer is formed, Forming the organic layer on the entire surface of the substrate including the light emitting part region and the non-light emitting part region, and removing a part of the organic layer formed in the non-light emitting part region; Is a mask member, an end of the mask member is aligned with a stepped portion of the substrate, and a portion of the organic layer formed in the light emitting region is covered with the mask member. Manufacturing method of electroluminescent display device.
【請求項2】 前記段差は前記発光部領域が凸であるよ
うな段差であり、前記マスク部材は凹形状を有すること
を特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネセ
ンス表示装置の製造方法。
2. The method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 1, wherein the step is a step in which the light emitting portion region is convex, and the mask member has a concave shape. .
【請求項3】 前記段差は前記非発光部領域に対して斜
面を構成していることを特徴とする請求項2に記載の有
機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
3. The method for manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 2, wherein the step forms a slope with respect to the non-light emitting region.
【請求項4】 前記非発光部領域と前記斜面とのなす角
度は90度より大きく180度未満であることを特徴と
する請求項3に記載の有機エレクトロルミネセンス表示
装置の製造方法。
4. The method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 3, wherein an angle formed by the non-light emitting region and the slope is greater than 90 degrees and less than 180 degrees.
【請求項5】 前記非発光部領域に形成された有機層の
除去は、ドライエッチング加工により行うことを特徴と
する請求項1から4のうちのいずれか1項に記載の有機
エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
5. The organic electroluminescence display according to claim 1, wherein the organic layer formed in the non-light emitting region is removed by a dry etching process. Device manufacturing method.
【請求項6】 前記ドライエッチング加工は、反応性イ
オンエッチング加工であることを特徴とする請求項5に
記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方
法。
6. The method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 5, wherein the dry etching process is a reactive ion etching process.
【請求項7】 基板上に、陽極、有機発光層を含む有機
層、及び陰極とからなる積層体の形成された発光部と、
前記積層体の形成されていない非発光部とを有する有機
エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法であって、
前記基板として、前記積層体を形成して発光部とする発
光部領域及び前記非発光部となる非発光部領域との間に
溝を有するものを用いること、前記有機層を形成する際
には、前記発光部領域及び前記非発光部領域を含む前記
基板上全面に前記有機層を形成し、該有機層のうち前記
非発光部領域に形成された部分を除去すること、該除去
の際にはマスク部材を用い、該マスク部材の端部を前記
基板の溝部に合わせ、前記有機層のうち前記発光部領域
に形成された部分を前記マスク部材で覆っておくこと、
を特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置の製
造方法。
7. A light emitting section having a laminated body formed of an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode on a substrate,
A method for manufacturing an organic electroluminescent display device having a non-light-emitting part in which the laminate is not formed,
As the substrate, a substrate having a groove between a light emitting portion region which forms the laminated body and serves as a light emitting portion and a non-light emitting portion region which serves as the non-light emitting portion is used, and when the organic layer is formed, Forming the organic layer on the entire surface of the substrate including the light emitting part region and the non-light emitting part region, and removing a part of the organic layer formed in the non-light emitting part region; Using a mask member, aligning the end of the mask member with the groove of the substrate, and covering the portion of the organic layer formed in the light emitting region with the mask member,
A method for manufacturing an organic electroluminescence display device, comprising:
【請求項8】 前記溝の形状は最深部よりも開口部が広
いV字もしくはテーパー状であることを特徴とする請求
項7に記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製
造方法。
8. The method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 7, wherein the groove has a V-shape or a taper shape in which an opening is wider than the deepest part.
【請求項9】 前記非発光部領域に形成された有機層の
除去は、ドライエッチング加工により行うことを特徴と
する請求項7又は8に記載の有機エレクトロルミネセン
ス表示装置の製造方法。
9. The method for manufacturing an organic electroluminescent display device according to claim 7, wherein the organic layer formed in the non-light emitting region is removed by dry etching.
【請求項10】 前記ドライエッチング加工は、反応性
イオンエッチング加工であることを特徴とする請求項9
に記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方
法。
10. The dry etching process is a reactive ion etching process.
A method for manufacturing the organic electroluminescence display device according to 1.
【請求項11】 基板上に、陽極、有機発光層を含む有
機層、及び陰極とからなる積層体の形成された発光部
と、前記積層体の形成されていない非発光部とを有する
有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法であっ
て、前記基板として、前記積層体を形成して発光部とす
る発光部領域及び前記非発光部となる非発光部領域との
間に、前記発光部領域が凸であるような段差を有するも
のを用いること、前記有機層を形成する際には、前記非
発光部領域に前記発光部領域の面と同じ高さになるよう
にシール材を塗布し、前記発光部領域及び前記シール材
上を含む前記基板上全面に前記有機層を形成し、前記陰
極を形成するより前に前記シール材を除去すること、を
特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造
方法。
11. An organic electroluminescent device having, on a substrate, a light emitting portion in which a laminated body including an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode is formed, and a non-light emitting portion in which the laminated body is not formed. A method of manufacturing a luminescence display device, wherein the substrate has the light emitting portion region between a light emitting portion region which forms the light emitting portion by forming the laminate and a non-light emitting portion region which becomes the non-light emitting portion. Using a material having a convex step, when forming the organic layer, a sealing material is applied to the non-light emitting area so that the height is the same as the surface of the light emitting area. Manufacturing the organic electroluminescent display device, characterized in that the organic layer is formed on the entire surface of the substrate including the light emitting portion region and the sealing material, and the sealing material is removed before forming the cathode. Method.
【請求項12】 基板上に、陽極、有機発光層を含む有
機層、及び陰極とからなる積層体の形成された発光部
と、前記積層体の形成されていない非発光部とを有する
有機エレクトロルミネセンス表示装置であって、前記基
板は、前記積層体を形成して発光部とする発光部領域と
前記非発光部となる非発光部領域との間に段差を有する
ことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装
置。
12. An organic electroluminescent device having a light emitting portion on a substrate, in which a laminated body including an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode is formed, and a non-light emitting portion in which the laminated body is not formed. In the luminescence display device, the substrate has a step between a light emitting portion region which forms the laminate and serves as a light emitting portion and a non-light emitting portion region which serves as the non-light emitting portion. Electroluminescence display device.
【請求項13】 前記段差は前記発光部領域が凸である
ような段差であることを特徴とする請求項12に記載の
有機エレクトロルミネセンス表示装置。
13. The organic electroluminescence display device according to claim 12, wherein the step is a step in which the light emitting portion region is convex.
【請求項14】 前記段差は前記非発光部領域に対して
斜面を構成することを特徴とする請求項13に記載の有
機エレクトロルミネセンス表示装置。
14. The organic electroluminescence display device according to claim 13, wherein the step forms a slope with respect to the non-light emitting region.
【請求項15】 前記非発光部領域と前記斜面とのなす
角度は90度より大きく180度未満であることを特徴
とする請求項14に記載の有機エレクトロルミネセンス
表示装置。
15. The organic electroluminescence display device according to claim 14, wherein an angle formed by the non-light emitting region and the slope is greater than 90 degrees and less than 180 degrees.
【請求項16】 基板上に、陽極、有機発光層を含む有
機層、及び陰極とからなる積層体の形成された発光部
と、前記積層体の形成されていない非発光部とを有する
有機エレクトロルミネセンス表示装置であって、前記基
板は、前記積層体を形成して発光部とする発光部領域と
前記非発光部となる非発光部領域との間に溝を有するこ
とを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置。
16. An organic electroluminescent device having a light emitting portion on a substrate, in which a laminated body including an anode, an organic layer including an organic light emitting layer, and a cathode is formed, and a non-light emitting portion in which the laminated body is not formed. In the luminescence display device, the substrate has a groove between a light emitting portion region which forms the laminate and serves as a light emitting portion and a non-light emitting portion region which serves as the non-light emitting portion. Electroluminescence display device.
【請求項17】 前記溝の形状は最深部よりも開口部が
広いV字もしくはテーパー状であることを特徴とする請
求項16に記載の有機エレクトロルミネセンス表示装
置。
17. The organic electroluminescence display device according to claim 16, wherein the groove has a V-shape or a taper shape in which the opening is wider than the deepest part.
【請求項18】 前記非発光部に取り出し電極を有する
ことを特徴とする請求項12から17のうちのいずれか
1項に記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
18. The organic electroluminescence display device according to claim 12, wherein the non-light emitting portion has an extraction electrode.
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