JP2003012615A - New diaminodihydroxybenzene and method for producing the same - Google Patents

New diaminodihydroxybenzene and method for producing the same

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JP2003012615A
JP2003012615A JP2001354682A JP2001354682A JP2003012615A JP 2003012615 A JP2003012615 A JP 2003012615A JP 2001354682 A JP2001354682 A JP 2001354682A JP 2001354682 A JP2001354682 A JP 2001354682A JP 2003012615 A JP2003012615 A JP 2003012615A
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JP
Japan
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group
general formula
acid
dinitro
diamino
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Application number
JP2001354682A
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Japanese (ja)
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Sunao Nagai
永井  直
Hisaharu Kuboyama
久春 久保山
Kozo Kato
加藤  高蔵
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new diaminodihydroxybenzene, and to provide a method for producing the diaminodihydroxybenzene. SOLUTION: [1] This diaminodihydroxybenzene is represented by the general formula (1). [wherein, R<1> is H or a hydrocarbon; R<2> is a hydrocarbon, OR<3> or NR<4> R<5> (R<3> to R<5> are each the same or different and H or a hydrocarbon)]. [2] The method for producing the diaminodihydroxybenzene represented by the general formula (1) is characterized by reducing a dinitrodihydroxybenzene represented by the general formula (2). [wherein, R<1> and R<2> are the same as those defined in the general formula (1)].

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は樹脂原料、樹脂添加
剤、特に感光性樹脂として有用な新規なジアミノジヒド
ロキシベンゼン類、ジニトロジヒドロキシベンゼン類お
よびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin material, a resin additive, a novel diaminodihydroxybenzene and dinitrodihydroxybenzene useful as a photosensitive resin, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまで一般式(1)で示されるジアミ
ノジヒドロキシベンゼン類及び一般式(2)で示される
ジニトロジヒドロキシベンゼン類は報告例が無かった。
2. Description of the Related Art There have been no reports of diaminodihydroxybenzenes represented by the general formula (1) and dinitrodihydroxybenzenes represented by the general formula (2).

【0003】また、特にウレタンやポリイミド向けの樹
脂原料、添加剤として、または感光性樹脂材料として一
般式(1)で示されるジアミノジヒドロキシベンゼン類
は特徴的な物性が期待されるものの合成例は報告されて
いなかった。
Further, diaminodihydroxybenzenes represented by the general formula (1) as resin raw materials, additives, or photosensitive resin materials, especially for urethane and polyimide, are expected to have characteristic physical properties, but synthetic examples are reported. Was not done.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、樹脂
原料、樹脂添加剤として用いる際に、従来のアミン類に
比べ特徴的な物性を示す新規なジアミノジヒドロキシベ
ンゼン類を提供することである。更に、その新規化合物
を工業的に製造できる方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide novel diaminodihydroxybenzenes which, when used as a resin raw material or a resin additive, show characteristic physical properties as compared with conventional amines. . Furthermore, it is to provide a method capable of industrially producing the novel compound.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは新規なジア
ミノジヒドロキシベンゼン類を種々探索し、ジヒドロキ
シ安息香酸誘導体を原料としてジニトロ化、還元するこ
とにより、カルボニル基、アミド基またはアシル基を有
する新規なジアミノジヒドロキシベンゼン類を合成し
た。また、当該ジアミノジヒドロキシベンゼン類はジア
ミノレゾルシンに比較して酸化分解が抑制されるという
特徴があった。即ち本発明は [1]一般式(1)で示されるジアミノジヒドロキシベ
ンゼン類。
Means for Solving the Problems The present inventors have searched various novel diaminodihydroxybenzenes and have a carbonyl group, an amide group or an acyl group by dinitration and reduction using a dihydroxybenzoic acid derivative as a raw material. New diaminodihydroxybenzenes were synthesized. In addition, the diaminodihydroxybenzenes have a characteristic that oxidative decomposition is suppressed as compared with diaminoresorcin. That is, the present invention is [1] diaminodihydroxybenzenes represented by the general formula (1).

【0006】[0006]

【化3】 [Chemical 3]

【0007】(式中、R1は、水素原子、炭化水素基を
表す。R2は炭化水素基、OR3またはNR45(R3
5は同一または相異なり、水素原子、炭化水素基を表
す)を表す) [2] 一般式(2)で示されるジニトロジヒドロキシ
ベンゼン類。
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. R 2 represents a hydrocarbon group, OR 3 or NR 4 R 5 (R 3 ~
R 5 are the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group) [2] Dinitrodihydroxybenzenes represented by the general formula (2).

【0008】[0008]

【化4】 [Chemical 4]

【0009】(式中R1、R2は前記一般式(1)につい
て定義した通り) [3] 一般式(2)で示されるジニトロジヒドロキシ
ベンゼン類を還元することを特徴とする一般式(1)で
示されるジアミノジヒドロキシベンゼン類の製造方法。 [4]R1が水素原子、R2が水酸基であることを特徴と
する[1]記載のジアミノジヒドロキシベンゼン類及び
[2]記載のジニトロジヒドロキシベンゼン類。
(Wherein R 1 and R 2 are as defined for the general formula (1)) [3] The general formula (1) characterized by reducing the dinitrodihydroxybenzenes represented by the general formula (2). The manufacturing method of the diamino dihydroxy benzenes shown by these. [4] The diaminodihydroxybenzenes according to [1], wherein R 1 is a hydrogen atom and R 2 is a hydroxyl group,
[2] The dinitrodihydroxybenzenes described.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明を以下に具体的に説明す
る。一般式(1)〜(2)においてR1は水素原子、炭
化水素基を表す。R2は炭化水素基、OR3またはNR4
5(R3〜R5は同一または相異なり、水素原子、炭化
水素基を表す)を表す。上述のR1〜R5で表される炭化
水素基としては、低級アルキル基、低級アルケニル基、
アラルキル基、アリール基を表す。低級アルキル基とし
ては直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換基、例
えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル
基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-
ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、シクロペン
チル基、n-へキシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基、シクロオクチル基等を表す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be specifically described below. In formulas (1) and (2), R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. R 2 is a hydrocarbon group, OR 3 or NR 4
R 5 (R 3 to R 5 are the same or different and represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group). Examples of the hydrocarbon group represented by R 1 to R 5 above include a lower alkyl group, a lower alkenyl group,
Represents an aralkyl group and an aryl group. The lower alkyl group may be a linear, branched or cyclic C1-C8 substituent such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert. -
A butyl group, an n-pentyl group, a neopentyl group, a cyclopentyl group, an n-hexyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and the like.

【0011】低級アルケニル基としては、直鎖または分
岐の炭素数2〜6のアルケニル基であり、例えば、ビニ
ル基、アリル基、イソプロペニル基、4-ペンテニル基、
5-ヘキセニル基等が挙げられる。アラルキル基として
は、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ベンズヒドリ
ル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。また、アリ
ール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が
挙げられる。
The lower alkenyl group is a linear or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, and examples thereof include vinyl group, allyl group, isopropenyl group, 4-pentenyl group,
5-hexenyl group and the like can be mentioned. Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a benzhydryl group, a phenylpropyl group and the like. Moreover, examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.

【0012】一般式(1)の具体的な例としては、3,
5−ジアミノ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸、3,5
−ジアミノ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸メチル、
3,5−ジアミノ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸エチ
ル、3,5−ジアミノ−2,6−ジヒドロキシ−4−メ
チル安息香酸、3,5−ジアミノ−2,6−ジヒドロキ
シ−4−イソプロピル安息香酸、3,5−ジアミノ−
2,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジアミノ−
2,4−ジヒドロキシ安息香酸メチル、3,5−ジアミ
ノ−2,4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸、3,
5−ジアミノ−2,4−ジヒドロキシ−6−エチル安息
香酸、2,4−ジアミノ−3,5−ジヒドロキシ安息香
酸、2,4−ジアミノ−3,5−ジヒドロキシ安息香酸
メチル、2,4−ジアミノ−3,5−ジヒドロキシ安息
香酸エチル、2,4−ジアミノ−3,5−ジヒドロキシ
−6−メチル安息香酸、2,4−ジアミノ−3,5−ジ
ヒドロキシ−6−イソプロピル安息香酸、3,5−ジア
ミノ−2,6−ジヒドロキシベンズアミド、N,N-ジメチ
ル−3,5−ジアミノ−2,6−ジヒドロキシベンズア
ミド、N,N-ジエチル−3,5−ジアミノ−2,6−ジヒ
ドロキシベンズアミド、
As a concrete example of the general formula (1), 3,
5-diamino-2,6-dihydroxybenzoic acid, 3,5
-Methyl diamino-2,6-dihydroxybenzoate,
Ethyl 3,5-diamino-2,6-dihydroxybenzoate, 3,5-diamino-2,6-dihydroxy-4-methylbenzoic acid, 3,5-diamino-2,6-dihydroxy-4-isopropylbenzoic acid , 3,5-diamino-
2,4-dihydroxybenzoic acid, 3,5-diamino-
Methyl 2,4-dihydroxybenzoate, 3,5-diamino-2,4-dihydroxy-6-methylbenzoic acid, 3,
5-diamino-2,4-dihydroxy-6-ethylbenzoic acid, 2,4-diamino-3,5-dihydroxybenzoic acid, methyl 2,4-diamino-3,5-dihydroxybenzoate, 2,4-diamino Ethyl-3,5-dihydroxybenzoate, 2,4-diamino-3,5-dihydroxy-6-methylbenzoic acid, 2,4-diamino-3,5-dihydroxy-6-isopropylbenzoic acid, 3,5- Diamino-2,6-dihydroxybenzamide, N, N-dimethyl-3,5-diamino-2,6-dihydroxybenzamide, N, N-diethyl-3,5-diamino-2,6-dihydroxybenzamide,

【0013】3,5−ジアミノ−2,6−ジヒドロキシ
−4−メチルベンズアミド、3,5−ジアミノ−2,6
−ジヒドロキシ−4−イソプロピルベンズアミド、
3',5'−ジアミノ−2',6'−ジヒドロキシアセトフ
ェノン、3',5'−ジアミノ−2',6'−ジヒドロキシ
プロピオフェノン、3',5'−ジアミノ−2',6'−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、3',5'−ジアミノ−
2',4'−ジヒドロキシアセトフェノン、3',5'−ジ
アミノ−2',4'−ジヒドロキシプロピオフェノン、
3',5'−ジアミノ−2',4'−ジヒドロキシベンゾフ
ェノンを挙げることができる。
3,5-Diamino-2,6-dihydroxy-4-methylbenzamide, 3,5-diamino-2,6
-Dihydroxy-4-isopropylbenzamide,
3 ', 5'-diamino-2', 6'-dihydroxyacetophenone, 3 ', 5'-diamino-2', 6'-dihydroxypropiophenone, 3 ', 5'-diamino-2', 6'- Dihydroxybenzophenone, 3 ', 5'-diamino-
2 ', 4'-dihydroxyacetophenone, 3', 5'-diamino-2 ', 4'-dihydroxypropiophenone,
Mention may be made of 3 ', 5'-diamino-2', 4'-dihydroxybenzophenone.

【0014】一般式(2)の具体的な例としては、3,
5−ジニトロ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸、3,5
−ジニトロ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸メチル、
3,5−ジニトロ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸エチ
ル、3,5−ジニトロ−2,6−ジヒドロキシ−4−メ
チル安息香酸、3,5−ジニトロ−2,6−ジヒドロキ
シ−4−イソプロピル安息香酸、3,5−ジニトロ−
2,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジニトロ−
2,4−ジヒドロキシ安息香酸メチル、3,5−ジニト
ロ−2,4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸、3,
5−ジニトロ−2,4−ジヒドロキシ−6−エチル安息
香酸、2,4−ジニトロ−3,5−ジヒドロキシ安息香
酸、2,4−ジニトロ−3,5−ジヒドロキシ安息香酸
メチル、2,4−ジニトロ−3,5−ジヒドロキシ安息
香酸エチル、2,4−ジニトロ−3,5−ジヒドロキシ
−6−メチル安息香酸、2,4−ジニトロ−3,5−ジ
ヒドロキシ−6−イソプロピル安息香酸、3,5−ジニ
トロ−2,6−ジヒドロキシベンズアミド、N,N-ジメチ
ル−3,5−ジニトロ−2,6−ジヒドロキシベンズア
ミド、N,N-ジエチル−3,5−ジニトロ−2,6−ジヒ
ドロキシベンズアミド、
As a concrete example of the general formula (2), 3,
5-dinitro-2,6-dihydroxybenzoic acid, 3,5
-Methyl dinitro-2,6-dihydroxybenzoate,
Ethyl 3,5-dinitro-2,6-dihydroxybenzoate, 3,5-dinitro-2,6-dihydroxy-4-methylbenzoic acid, 3,5-dinitro-2,6-dihydroxy-4-isopropylbenzoic acid , 3,5-dinitro-
2,4-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dinitro-
Methyl 2,4-dihydroxybenzoate, 3,5-dinitro-2,4-dihydroxy-6-methylbenzoic acid, 3,
5-Dinitro-2,4-dihydroxy-6-ethylbenzoic acid, 2,4-dinitro-3,5-dihydroxybenzoic acid, methyl 2,4-dinitro-3,5-dihydroxybenzoate, 2,4-dinitro Ethyl-3,5-dihydroxybenzoate, 2,4-dinitro-3,5-dihydroxy-6-methylbenzoic acid, 2,4-dinitro-3,5-dihydroxy-6-isopropylbenzoic acid, 3,5- Dinitro-2,6-dihydroxybenzamide, N, N-dimethyl-3,5-dinitro-2,6-dihydroxybenzamide, N, N-diethyl-3,5-dinitro-2,6-dihydroxybenzamide,

【0015】3,5−ジニトロ−2,6−ジヒドロキシ
−4−メチルベンズアミド、3,5−ジニトロ−2,6
−ジヒドロキシ−4−イソプロピルベンズアミド、
3',5'−ジニトロ −2',6'−ジヒドロキシアセト
フェノン、3',5'−ジニトロ −2',6'−ジヒドロ
キシプロピオフェノン、3',5'−ジニトロ−2',6'
−ジヒドロキシベンゾフェノン、3',5'−ジニトロ
−2',4'−ジヒドロキシアセトフェノン、3',5'−
ジニトロ −2',4'−ジヒドロキシプロピオフェノ
ン、3',5'−ジニトロ −2',4'−ジヒドロキシベ
ンゾフェノンを挙げることができる。
3,5-Dinitro-2,6-dihydroxy-4-methylbenzamide, 3,5-dinitro-2,6
-Dihydroxy-4-isopropylbenzamide,
3 ', 5'-dinitro-2', 6'-dihydroxyacetophenone, 3 ', 5'-dinitro-2', 6'-dihydroxypropiophenone, 3 ', 5'-dinitro-2', 6 '
-Dihydroxybenzophenone, 3 ', 5'-dinitro
-2 ', 4'-dihydroxyacetophenone, 3', 5'-
Dinitro-2 ', 4'-dihydroxypropiophenone and 3', 5'-dinitro-2 ', 4'-dihydroxybenzophenone can be mentioned.

【0016】一般式(1)で示されるジアミノジヒドロ
キシベンゼン類は対応するジニトロジヒドロキシベンゼ
ン類を還元することにより容易に導くことができる。還
元方法はニトロ基をアミノ基に還元する方法ならばどの
ようなものでもかまわないが例えば、パラジウム-炭
素、ラネーニッケル触媒、白金触媒、ルテニウム触媒、
ロジウムアルミナ等の重金属触媒存在下での接触水素添
加反応、酸性条件下で亜鉛、鉄、塩化スズ等の金属存在
下還元する方法、硫化ナトリウム、ナトリウムヒドロス
ルフィド、亜二チオン酸ナトリウム、硫化アンモニウム
等の硫化物を用いる方法が挙げられる。後処理の容易さ
から接触水素添加反応が好ましい。反応の条件は特に限
定はなく、従来法に準じて実施することができる。接触
水素添加反応を例に取れば、上述の重金属触媒存在下、
水素ガス雰囲気下で反応を行う。
The diaminodihydroxybenzenes represented by the general formula (1) can be easily derived by reducing the corresponding dinitrodihydroxybenzenes. The reduction method may be any method as long as it reduces a nitro group to an amino group, for example, palladium-carbon, Raney nickel catalyst, platinum catalyst, ruthenium catalyst,
Catalytic hydrogenation reaction in the presence of heavy metal catalysts such as rhodium alumina, reduction method in the presence of metals such as zinc, iron and tin chloride under acidic conditions, sodium sulfide, sodium hydrosulfide, sodium dithionite, ammonium sulfide, etc. The method using the sulfide of is mentioned. The catalytic hydrogenation reaction is preferred because of the ease of post-treatment. The reaction conditions are not particularly limited and can be carried out according to conventional methods. Taking the catalytic hydrogenation reaction as an example, in the presence of the above-mentioned heavy metal catalyst,
The reaction is performed in a hydrogen gas atmosphere.

【0017】触媒の使用量は特に限定は無いが、通常原
料に対し0.01mol%〜10当量、好ましくは0.
1mol%〜1当量、更に好ましくは1mol%〜50
mol%である。
The amount of the catalyst used is not particularly limited, but is usually 0.01 mol% to 10 equivalents, preferably 0.
1 mol% to 1 equivalent, more preferably 1 mol% to 50
It is mol%.

【0018】反応時の水素の圧力は、0.1MPa〜2
0MPa、好ましくは0.1MPa〜10MPa、更に
好ましくは0.1MPa〜5MPaである。反応温度は
−50〜100℃、好ましくは−30〜70℃、さらに
好ましくは0〜50℃である。反応時間は0.01〜1
0時間、好ましくは0.05〜5時間、さらに好ましく
は0.1〜3時間である。
The pressure of hydrogen during the reaction is 0.1 MPa to 2 MPa.
The pressure is 0 MPa, preferably 0.1 MPa to 10 MPa, more preferably 0.1 MPa to 5 MPa. The reaction temperature is -50 to 100 ° C, preferably -30 to 70 ° C, more preferably 0 to 50 ° C. Reaction time is 0.01-1
It is 0 hours, preferably 0.05 to 5 hours, more preferably 0.1 to 3 hours.

【0019】反応後は反応溶液を水に加え析出する結晶
をろ別する、あるいは有機溶媒で抽出した後溶媒を留去
することにより目的物の粗結晶を得ることができる。必
要に応じて、目的物を析出させる前に溶液をろ過し、触
媒を取り除いてもよい。さらに精製を必要とする場合は
再結晶等により純度を上げることができる。再結晶に用
いる溶媒としては特に限定はないが、水、ペンタン、ヘ
キサンもしくはヘプタン等の炭化水素類、トルエン、キ
シレンもしくはエチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、
メタノール、エタノール、プロパノールもしくはブタノ
ール等のアルコール類、酢酸エステル等のエステル類が
挙げられる。これらの溶媒は単独または混合で用いても
よい。
After the reaction, the target solution can be obtained as crude crystals by adding the reaction solution to water and filtering out the precipitated crystals, or by extracting with an organic solvent and distilling off the solvent. If necessary, the catalyst may be removed by filtering the solution before depositing the target substance. When further purification is required, the purity can be increased by recrystallization or the like. The solvent used for recrystallization is not particularly limited, but water, hydrocarbons such as pentane, hexane or heptane, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene or ethylbenzene,
Examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, propanol or butanol, and esters such as acetic acid ester. These solvents may be used alone or as a mixture.

【0020】一般式(2)で示されるジニトロジヒドロ
キシベンゼン類は対応するジヒドロキシベンゼン類をジ
ニトロ化して得ることができる。原料のジヒドロキシベ
ンゼン類としては、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、
2,6−ジヒドロキシ安息香酸類メチル、2,6−ジヒ
ドロキシ安息香酸類エチル、2,6−ジヒドロキシ−4
−メチル安息香酸、2,6−ジヒドロキシ−4−イソプ
ロピル安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,
4−ジヒドロキシ安息香酸メチル、2,4−ジヒドロキ
シ安息香酸エチル、2,4−ジヒドロキシ安息香酸プロ
ピル、2,4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸、
2,4−ジヒドロキシ−6−エチル安息香酸、3,5−
ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸
類メチル、3,5−ジヒドロキシ安息香酸類エチル、
The dinitrodihydroxybenzenes represented by the general formula (2) can be obtained by dinitration of the corresponding dihydroxybenzenes. Examples of the raw material dihydroxybenzenes include 2,6-dihydroxybenzoic acid,
Methyl 2,6-dihydroxybenzoates, ethyl 2,6-dihydroxybenzoates, 2,6-dihydroxy-4
-Methylbenzoic acid, 2,6-dihydroxy-4-isopropylbenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,
Methyl 4-dihydroxybenzoate, ethyl 2,4-dihydroxybenzoate, propyl 2,4-dihydroxybenzoate, 2,4-dihydroxy-6-methylbenzoic acid,
2,4-dihydroxy-6-ethylbenzoic acid, 3,5-
Dihydroxybenzoic acid, methyl 3,5-dihydroxybenzoates, ethyl 3,5-dihydroxybenzoate,

【0021】3,5−ジヒドロキシ−4−メチル安息香
酸、3,5−ジヒドロキシ−4−イソプロピル安息香
酸、2,6−ジヒドロキシベンズアミド、N,N-ジメチル
−2,6−ジヒドロキシベンズアミド、N,N-ジエチル−
2,6−ジヒドロキシベンズアミド、2,6−ジヒドロ
キシ−4−メチルベンズアミド、2,6−ジヒドロキシ
−4−イソプロピルベンズアミド、2',6'−ジヒドロ
キシアセトフェノン、2',6'−ジヒドロキシプロピオ
フェノン、2',6'−ジヒドロキシベンゾフェノン、
2',4'−ジヒドロキシアセトフェノン、2',4'−ジ
ヒドロキシプロピオフェノン、2',4'−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン等を挙げることができる。
3,5-Dihydroxy-4-methylbenzoic acid, 3,5-dihydroxy-4-isopropylbenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzamide, N, N-dimethyl-2,6-dihydroxybenzamide, N, N -Diethyl-
2,6-dihydroxybenzamide, 2,6-dihydroxy-4-methylbenzamide, 2,6-dihydroxy-4-isopropylbenzamide, 2 ', 6'-dihydroxyacetophenone, 2', 6'-dihydroxypropiophenone, 2 ', 6'-dihydroxybenzophenone,
2 ', 4'-dihydroxyacetophenone, 2', 4'-dihydroxypropiophenone, 2 ', 4'-dihydroxybenzophenone and the like can be mentioned.

【0022】ニトロ化方法は通常のベンゼン環をニトロ
化する方法ならばどのようなものでもかまわないが例え
ば、硝酸-硫酸、硝酸等を用いる方法、硝酸塩と酸を用
いる方法、硝酸-無水酢酸を用いる方法、N2O4等の窒素
酸化物を用いる方法、ニトロソ化した後酸化する方法が
挙げられる。経済性から硝酸を用いる方法が好ましい。
Any nitration method may be used as long as it is an ordinary method for nitrating a benzene ring. For example, nitric acid-sulfuric acid, nitric acid or the like, a method using a nitrate and an acid, or nitric acid-acetic anhydride is used. Examples thereof include a method of using, a method of using a nitrogen oxide such as N 2 O 4 , and a method of nitrosating and then oxidizing. The method using nitric acid is preferable from the economical point of view.

【0023】反応の条件は特に限定はなく、従来法に準
じて実施することができるが、通常は窒素あるいはアル
ゴン等の不活性ガス雰囲気下で行い、用いるニトロ化試
剤の量は原料に対し2当量以上あれば十分であるが、2
〜20当量、好ましくは2.2〜10当量である。反応
温度は−50〜100℃、好ましくは−30〜70℃、
さらに好ましくは0〜50℃である。反応時間は0.0
1〜10時間、好ましくは0.05〜5時間、さらに好
ましくは0.1〜3時間である。
The reaction conditions are not particularly limited, and the reaction can be carried out according to the conventional method, but it is usually carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon, and the amount of the nitrating agent used is 2 with respect to the raw material. It is enough if more than equivalent, but 2
-20 equivalents, preferably 2.2-10 equivalents. The reaction temperature is -50 to 100 ° C, preferably -30 to 70 ° C.
More preferably, it is 0 to 50 ° C. Reaction time is 0.0
It is 1 to 10 hours, preferably 0.05 to 5 hours, and more preferably 0.1 to 3 hours.

【0024】反応後は反応溶液を水に加え析出する結晶
をろ別する、あるいは有機溶媒で抽出した後溶媒を留去
することにより目的物の粗結晶を得ることができる。さ
らに精製を必要とする場合は再結晶等により純度を上げ
ることができる。再結晶に用いる溶媒としては特に限定
はないが、水、ペンタン、ヘキサンもしくはヘプタン等
の炭化水素類、トルエン、キシレンもしくはエチルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、
プロパノールもしくはブタノール等のアルコール類、酢
酸エステル等のエステル類が挙げられる。これらの溶媒
は単独または混合で用いてもよい。
After the reaction, the target solution can be obtained as a crude crystal by adding the reaction solution to water and separating the precipitated crystal by filtration, or by extracting with an organic solvent and distilling off the solvent. When further purification is required, the purity can be increased by recrystallization or the like. The solvent used for recrystallization is not particularly limited, but includes water, hydrocarbons such as pentane, hexane or heptane, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene or ethylbenzene, methanol, ethanol,
Examples thereof include alcohols such as propanol and butanol, and esters such as acetic acid ester. These solvents may be used alone or as a mixture.

【0025】本発明の新規なジアミノジヒドロキシベン
ゼン類は感光性樹脂組成物、特にポジ型感光性樹脂組成
物の製造での使用に適している。当該組成物は本発明で
提供されるジアミノジヒドロキシベンゼン類を含有する
ポリアミド類と感光性ジアゾキノン化合物を含むものが
一般的であるが、溶解促進剤としてビスフェノール類を
添加しても良い。本発明で提供されるジアミノジヒドロ
キシベンゼン類を含有するポリアミドとしては当該ジア
ミノジヒドロキシベンゼン類を含有するものならばどの
ようなものでも良いが、例えば一般式(3)
The novel diaminodihydroxybenzenes of the present invention are suitable for use in the production of photosensitive resin compositions, especially positive-working photosensitive resin compositions. The composition is generally one containing polyamides containing diaminodihydroxybenzenes provided in the present invention and a photosensitive diazoquinone compound, but bisphenols may be added as a dissolution accelerator. Any polyamide containing the diaminodihydroxybenzenes may be used as the polyamide containing the diaminodihydroxybenzenes provided in the present invention. For example, the polyamide represented by the general formula (3)

【0026】[0026]

【化5】 [Chemical 5]

【0027】(式中R1,R2は一般式(1)で定義した
とおり。Yは2価の脂肪族又は環式化合物基、Eはアル
ケニル基またはアルキニル基を少なくとも1個有する脂
肪族又は環式化合物基、mは2〜500を表す)または
一般式(4)
(Wherein R 1 and R 2 are as defined in the general formula (1). Y is a divalent aliphatic or cyclic compound group, E is an aliphatic group having at least one alkenyl group or alkynyl group, or Cyclic compound group, m represents 2 to 500) or general formula (4)

【0028】[0028]

【化6】 [Chemical 6]

【0029】(式中R1、R2、Y、E、mは一般式
(3)で定義したとおりであり、Zは下記構造を示し、
(Wherein R 1 , R 2 , Y, E and m are as defined in the general formula (3), Z is the following structure,

【0030】[0030]

【化7】 [Chemical 7]

【0031】(式中、R6とR7は2価の有機基、R8
9は1価の有機基を示す)、また、a、bはモル分率
を示し、a+b=100モル%である)で示されるシロ
キサン構造を含有するポリアミド類を挙げることができ
る。
(Wherein R 6 and R 7 are divalent organic groups, R 8 and R 9 are monovalent organic groups), and a and b are mole fractions, and a + b = 100 moles. %). Polyamides containing a siloxane structure represented by

【0032】一般式(3)、(4)のポリアミドは、当
該ジアミノジヒドロキシベンゼン(一般式(4)の場合
には、さらにZの構造を有するジアミン)とYの構造を
有するジカルボン酸と、更にEの構造を有する酸無水物
からなり、このポリアミドを約300〜400℃で加熱
すると脱水閉環し、ポリベンゾオキサゾールという耐熱
性樹脂に変化する。一般式(3)、(4)のYは、例え
ば、エチレン基、ヘキシレン基、シクロヘキシレン基、
p−フェニレン基、m−フェニレン基、o−フェニレン
基、
The polyamides represented by the general formulas (3) and (4) are obtained by adding the diaminodihydroxybenzene (in the case of the general formula (4), a diamine having a Z structure) and a dicarboxylic acid having a Y structure, It is composed of an acid anhydride having a structure of E, and when this polyamide is heated at about 300 to 400 ° C., it undergoes a dehydration ring closure and changes into a heat resistant resin called polybenzoxazole. Y in the general formulas (3) and (4) is, for example, an ethylene group, a hexylene group, a cyclohexylene group,
p-phenylene group, m-phenylene group, o-phenylene group,

【0033】[0033]

【化8】 [Chemical 8]

【0034】(式中、Aは-CH2-,-C(CH3)2-,-O
-,-S-,-SO2-,-CO-,-NHCO-,-C(CF3)2-
を表す) 等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、一般式(3)(4)のEは、例えば、
(In the formula, A is --CH 2- , --C (CH 3 ) 2- , --O
-, - S -, - SO 2 -, - CO -, - NHCO -, - C (CF 3) 2 -
Represents), but is not limited thereto.
Further, E in the general formulas (3) and (4) is, for example,

【0035】[0035]

【化9】 [Chemical 9]

【0036】(式中、R10はH、-CH2CH3、-CH2
CH=CHCH3、-CH2C≡CCH3を表し、R11
H、-CH3を表す) 等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
当該ポリアミドはジアミノジヒドロキシベンゼン類(一
般式(4)の場合には、さらにZの構造を有するジアミ
ン)とYの構造を有するジカルボン酸誘導体とを反応さ
せてポリアミドを合成した後、一般式(3)、(4)の
Eに示すアルケニル基又はアルキニル基を少なくとも1
個有する酸無水物を用いて末端のアミノ基をキャップす
るものである。
(In the formula, R 10 is H, --CH 2 CH 3 , --CH 2
CH═CHCH 3 , —CH 2 C≡CCH 3 , R 11 represents H, —CH 3 ) and the like, but are not limited thereto.
The polyamide is synthesized by reacting a diaminodihydroxybenzene (in the case of the general formula (4), a diamine having a Z structure) with a dicarboxylic acid derivative having a Y structure to synthesize a polyamide, ), At least 1 alkenyl group or alkynyl group represented by E of (4)
The terminal amino group is capped with an acid anhydride having one unit.

【0037】更に、一般式(4)のZは、例えばFurther, Z in the general formula (4) is, for example,

【0038】[0038]

【化10】 [Chemical 10]

【0039】等であるがこれらに限定されるものではな
い。一般式(4)のZは、例えば、シリコンウェハーの
ような基板に対して、特に優れた密着性が必要な場合に
用いる。本発明で用いる感光性ジアゾキノン化合物は、
1,2−ベンゾキノンジアジドあるいは1,2−ナフト
キノンジアジド構造を有する化合物であり、米国特許明
細書第2,772,972号、第2,797,213
号、第3,669,658号により公知の物質である。
However, the present invention is not limited to these. Z in the general formula (4) is used when particularly excellent adhesion is required for a substrate such as a silicon wafer. The photosensitive diazoquinone compound used in the present invention is
It is a compound having a 1,2-benzoquinonediazide or 1,2-naphthoquinonediazide structure, and is disclosed in US Pat. Nos. 2,772,972 and 2,797,213.
No. 3,669,658.

【0040】当該ポジ型感光性樹脂組成物においては露
光部における溶解速度を増加させて感度を向上させるた
め、ビスフェノール化合物類を含有させてもよい。これ
らの例としてはビス(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン、ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、(4−ヒ
ドロキシフェニル)(3−ヒドロキシフェニル)メタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチル
ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−tert−ブ
チルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、3,3−ビ
ス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)ペンタン、
ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メ
タン、2,2−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)−3−メチルブタン、1,1−ビス(2−
ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エタン、1,
1−ビス(2−ヒドロキシ−3−メチル−5−tert−ブ
チルフェニル)エタン等を挙げることができるがこれら
に限定されるものではない。
The positive photosensitive resin composition may contain bisphenol compounds in order to increase the dissolution rate in the exposed area and improve the sensitivity. Examples of these are bis (4-hydroxyphenyl) methane, bis (2-hydroxyphenyl) methane, (4-hydroxyphenyl) (3-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane,
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -3-methylbutane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-tert-butylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethyl) Phenyl) propane, 3,3-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) pentane,
Bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane, 2,2-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3-methylbutane, 1,1-bis (2-
Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) ethane, 1,
Examples thereof include 1-bis (2-hydroxy-3-methyl-5-tert-butylphenyl) ethane, but are not limited thereto.

【0041】上記説明における感光性樹脂組成物には、
必要によりレベリング剤、シランカップリング剤等の添
加剤を添加することができる。本発明においてはこれら
の成分を溶剤に溶解し、ワニス状にして使用する。上記
説明による感光性樹脂組成物は、半導体用途のみなら
ず、多層回路の層間絶縁やフレキシブル銅張板のカバー
コート、ソルダーレジスト膜や液晶配向膜等としても有
用である。
The photosensitive resin composition in the above description includes
If necessary, additives such as a leveling agent and a silane coupling agent can be added. In the present invention, these components are dissolved in a solvent to form a varnish for use. The photosensitive resin composition according to the above description is useful not only for semiconductor applications but also for interlayer insulation of multilayer circuits, cover coats of flexible copper clad boards, solder resist films, liquid crystal alignment films, and the like.

【0042】以下に実施例を示すが、本発明はこれらの
実施例に何ら限定されるものではない。
Examples will be shown below, but the present invention is not limited to these examples.

【0043】[0043]

【実施例】(実施例1)3,5−ジニトロ−2,6−ジ
ヒドロキシ安息香酸の合成 50ml三ツ口フラスコに2,6−ジヒドロキシ安息香
酸 6.16g(40mmol)、酢酸 50mlを加え、窒素
雰囲気、室温で撹拌しながら60%硝酸12mlを30
分かけて滴下した。反応溶液は37℃まで昇温した。室
温で2時間撹拌した後、反応液に酢酸エチルを加え目的
物を抽出した。有機相を飽和食塩水で3回洗浄した後、
溶媒を濃縮した。0〜5℃でヘキサンを加え結晶を析出
させた。結晶をろ別後、減圧下、室温で乾燥することに
より3,5−ジニトロ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸
の淡黄色結晶が8.46g(34mmol、収率85%、LC
純度98%)得られた。目的物の構造及び物性は以下の
通り。
Example 1 Synthesis of 3,5-dinitro-2,6-dihydroxybenzoic acid In a 50 ml three-necked flask, 6.16 g (40 mmol) of 2,6-dihydroxybenzoic acid and 50 ml of acetic acid were added, and a nitrogen atmosphere was added. While stirring at room temperature, add 30% of 60% nitric acid
It dripped over minutes. The temperature of the reaction solution was raised to 37 ° C. After stirring at room temperature for 2 hours, ethyl acetate was added to the reaction solution to extract the desired product. After washing the organic phase three times with saturated saline,
The solvent was concentrated. Hexane was added at 0 to 5 ° C to precipitate crystals. The crystals were filtered off and dried under reduced pressure at room temperature to give 8.46 g (34 mmol, yield 85%, LC) of pale yellow crystals of 3,5-dinitro-2,6-dihydroxybenzoic acid.
Purity 98%) was obtained. The structure and physical properties of the target product are as follows.

【0044】[0044]

【化11】 [Chemical 11]

【0045】融点 300℃以上1 H-NMR (CD3OD) δ: 8.90 (s 1H) FD-mass 244(M+)Melting point 300 ° C. or higher 1 H-NMR (CD 3 OD) δ: 8.90 (s 1H) FD-mass 244 (M + )

【0046】(実施例2)3,5−ジアミノ−2,6−
ジヒドロキシ安息香酸の合成 50ml三ツ口フラスコに3,5−ジニトロ−2,6−
ジヒドロキシ安息香酸2.44g(10mmol)、5%パラ
ジウム-炭素0.4g、エタノール20ml、酢酸5m
lを加え、常圧、水素雰囲気下、75℃で撹拌した。反
応途中から結晶が一部析出した。計算量の水素を吸収後
(1.5時間後)、室温まで冷却し、反応溶液をろ過し
てパラジウム-炭素を取り除いた。パラジウム-炭素に付
着した結晶はN,N-ジメチルホルムアミドを用いて抽出
し、ろ液に併せた。得られた反応溶液を濃縮後、ヘキサ
ンを加えることにより結晶を析出させた。結晶をろ別
後、減圧下、室温で乾燥することにより3,5−ジアミ
ノ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸の紫色結晶が1.7
g(9.1mmol、収率91%、LC純度98%)得られた。
目的物の構造及び物性は以下の通り。
(Example 2) 3,5-diamino-2,6-
Synthesis of dihydroxybenzoic acid 3,5-dinitro-2,6-in a 50 ml three-necked flask.
Dihydroxybenzoic acid 2.44 g (10 mmol), 5% palladium-carbon 0.4 g, ethanol 20 ml, acetic acid 5 m
1 was added, and the mixture was stirred at 75 ° C. under normal pressure and hydrogen atmosphere. Some crystals precipitated during the reaction. After absorbing a calculated amount of hydrogen (after 1.5 hours), the mixture was cooled to room temperature, and the reaction solution was filtered to remove palladium-carbon. The crystals attached to palladium-carbon were extracted with N, N-dimethylformamide and combined with the filtrate. After concentrating the obtained reaction solution, hexane was added to precipitate crystals. After the crystals were filtered off, the crystals were dried under reduced pressure at room temperature to obtain 1.75-purple crystals of 3,5-diamino-2,6-dihydroxybenzoic acid.
g (9.1 mmol, yield 91%, LC purity 98%) was obtained.
The structure and physical properties of the target product are as follows.

【0047】[0047]

【化12】 [Chemical 12]

【0048】融点 300℃以上1 H-NMR (CD3SOCD3) δ: 5.89 (s 1H), 8.85 (s, 2H),
9.55 (s, 2H), 13.63 (s, 1H) FD-mass 184(M+)
Melting point 300 ° C. or higher 1 H-NMR (CD 3 SOCD 3 ) δ: 5.89 (s 1H), 8.85 (s, 2H),
9.55 (s, 2H), 13.63 (s, 1H) FD-mass 184 (M + )

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明により、樹脂原料、樹脂添加剤と
して用いる際に、従来のアミン類に比べ特徴的な物性を
示す新規なジアミノジヒドロキシベンゼン類が提供で
き、その新規化合物を工業的に製造できる方法も同時に
提供できた。
Industrial Applicability According to the present invention, when used as a resin raw material or a resin additive, it is possible to provide a novel diaminodihydroxybenzene which exhibits physical properties more characteristic than conventional amines, and to industrially produce the novel compound. I was able to provide a way to do it at the same time.

フロントページの続き Fターム(参考) 4H006 AA02 AC52 BA25 BA32 BA61 BB11 BB14 BC10 BC11 BC19 BE20 4H039 CA71 CB30 4J001 DA01 DB01 DB04 DC10 DC16 DD02 DD05 DD07 DD08 EB02 EB30 EB44 EB55 EB56 EB57 EB58 EB59 EB60 EC44 EC45 JA17 JA20 4J002 AA001 EN106 Continued front page    F-term (reference) 4H006 AA02 AC52 BA25 BA32 BA61                       BB11 BB14 BC10 BC11 BC19                       BE20                 4H039 CA71 CB30                 4J001 DA01 DB01 DB04 DC10 DC16                       DD02 DD05 DD07 DD08 EB02                       EB30 EB44 EB55 EB56 EB57                       EB58 EB59 EB60 EC44 EC45                       JA17 JA20                 4J002 AA001 EN106

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1)で示されるジアミノジヒド
ロキシベンゼン類。 【化1】 (式中、R1は、水素原子、炭化水素基を表す。R2は炭
化水素基、OR3またはNR45(R3〜R5は同一また
は相異なり、水素原子、炭化水素基を表す)を表す)
1. Diaminodihydroxybenzenes represented by the general formula (1). [Chemical 1] (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. R 2 represents a hydrocarbon group, OR 3 or NR 4 R 5 (R 3 to R 5 are the same or different and represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Represents) represents)
【請求項2】 一般式(2)で示されるジニトロジヒド
ロキシベンゼン類。 【化2】 (式中R1、R2は前記一般式(1)について定義した通
り)
2. A dinitrodihydroxybenzene represented by the general formula (2). [Chemical 2] (In the formula, R 1 and R 2 are as defined for the general formula (1))
【請求項3】 一般式(2)で示されるジニトロジヒド
ロキシベンゼン類を還元することを特徴とする一般式
(1)で示されるジアミノジヒドロキシベンゼン類の製
造方法。
3. A method for producing diaminodihydroxybenzenes represented by general formula (1), which comprises reducing dinitrodihydroxybenzenes represented by general formula (2).
【請求項4】R1が水素原子、R2が水酸基であることを
特徴とする請求項1記載のジアミノジヒドロキシベンゼ
ン類及び請求項2記載のジニトロジヒドロキシベンゼン
類。
4. The diaminodihydroxybenzenes according to claim 1 and the dinitrodihydroxybenzenes according to claim 2 , wherein R 1 is a hydrogen atom and R 2 is a hydroxyl group.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005247997A (en) * 2004-03-03 2005-09-15 Sumitomo Bakelite Co Ltd Benzoxazole resin precursor, polybenzoxazole resin, resin membrane and semiconductor device

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