JP2003007459A - Producing method of composite for pattern formation by ink jet system, and luminescence equipment - Google Patents
Producing method of composite for pattern formation by ink jet system, and luminescence equipmentInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 75
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 title claims abstract description 11
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title abstract 4
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 title abstract 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 44
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 126
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 25
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 19
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 18
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 15
- 150000004697 chelate complex Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical group [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 11
- -1 tungsten chelate complex Chemical class 0.000 claims description 11
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 claims description 10
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 8
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 7
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 61
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 29
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 15
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 7
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical group [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- RETDKIXQRINZEF-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole;zinc Chemical compound [Zn].C1=CC=C2OC=NC2=C1 RETDKIXQRINZEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 1,4,4-triphenylbuta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)=CC=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMLPKJYZRQZLDA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-phenylethenyl)-4-[4-(2-phenylethenyl)phenyl]benzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C=CC1=CC=CC=C1 ZMLPKJYZRQZLDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017073 AlLi Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- FQNHWXHRAUXLFU-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;tungsten Chemical group [W].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] FQNHWXHRAUXLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N orlistat Chemical compound CCCCCCCCCCC[C@H](OC(=O)[C@H](CC(C)C)NC=O)C[C@@H]1OC(=O)[C@H]1CCCCCC AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- LISFMEBWQUVKPJ-UHFFFAOYSA-N quinolin-2-ol Chemical compound C1=CC=C2NC(=O)C=CC2=C1 LISFMEBWQUVKPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- JFLKFZNIIQFQBS-FNCQTZNRSA-N trans,trans-1,4-Diphenyl-1,3-butadiene Chemical group C=1C=CC=CC=1\C=C\C=C\C1=CC=CC=C1 JFLKFZNIIQFQBS-FNCQTZNRSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003657 tungsten Chemical class 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェット方
式によりパターン形成する際に用いられる発光性を有す
る組成物、及び当該組成物を用いて作製される発光装置
の作製方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composition having a light emitting property, which is used when forming a pattern by an inkjet method, and a method for manufacturing a light emitting device manufactured using the composition.
【０００２】[0002]
【従来の技術】有機発光素子は、蛍光又は燐光が得られ
る有機化合物を含む薄膜を、陽極と陰極から成る一対の
電極間に挟んだ構成を有している。その発光機構は、陰
極から注入された電子と、陽極から注入された正孔が発
光体で成る発光層で再結合して分子励起子を形成し、そ
の分子励起子が基底状態に戻る時に光を放出する現象と
して考えられている。励起状態には一重項状態からの発
光（蛍光）と三重項状態からの発光（燐光）とがある。
輝度は１０Ｖ以下の低電圧で、数千〜数万cd/m2に及
び、有機化合物材料やそのドーパントを適宜選択するこ
とにより青色から赤色までの発光が可能であり、原理的
に表示装置などへの応用が十分可能であると考えられて
いる。2. Description of the Related Art An organic light emitting device has a structure in which a thin film containing an organic compound capable of obtaining fluorescence or phosphorescence is sandwiched between a pair of electrodes consisting of an anode and a cathode. The emission mechanism is that electrons injected from the cathode and holes injected from the anode are recombined in the light emitting layer made of a light emitter to form a molecular exciton, and when the molecular exciton returns to the ground state, light is emitted. Is considered to be a phenomenon of releasing. Excited states include light emission from a singlet state (fluorescence) and light emission from a triplet state (phosphorescence).
Luminance is low voltage of 10V or less, and ranges from several thousand to tens of thousands cd / m 2 , and it is possible to emit light from blue to red by appropriately selecting an organic compound material and its dopant. It is considered to be sufficiently applicable to.
【０００３】有機発光素子の応用は、特開平１０−０１
２３７７号広報にインクジェット方式を用いてアクティ
ブマトリクス型有機ＥＬ表示体を製造する技術が開示さ
れている。これは、薄膜トランジスタを有するガラス基
板に画素電極が形成され、当該画素電極上に赤、緑、青
の各色の発光層を画素毎にインクジェット方式で形成す
るものである。The application of the organic light emitting device is disclosed in JP-A-10-01.
A technique for manufacturing an active matrix type organic EL display body by using an inkjet method is disclosed in the publication No. 2377. This is a method in which a pixel electrode is formed on a glass substrate having a thin film transistor, and a light emitting layer of each color of red, green and blue is formed on each pixel electrode by an inkjet method.
【０００４】発光層を形成する有機化合物の多くは、フ
ォトリソグラフィー等のパターニング工程に対して耐性
がないことが問題であった。インクジェット方式はその
問題点を克服するために開発され、基板上に直接パター
ンを描画することで、そのパターニング工程を不要なも
のとしている。It has been a problem that many organic compounds forming a light emitting layer have no resistance to a patterning process such as photolithography. The inkjet method has been developed to overcome the problem, and by directly drawing a pattern on the substrate, the patterning process is unnecessary.
【０００５】インクジェット方式に用いる有機化合物材
料は、シアノポリフェニレンビニレン、ポリフェニレン
ビニレンなどの前駆体、アロマティックジアアミン、オ
キシジアゾール、ジスチルアリーレン、トリフェニルア
ミン、ジスチリルなどの誘導体、キノリノール系金属、
アゾメチン亜鉛、ポリフィリン亜鉛、ベンゾオキサゾー
ル亜鉛、フェナントロリンユウピウムなどの錯体が適用
可能である。Organic compound materials used in the ink jet system include precursors such as cyanopolyphenylene vinylene and polyphenylene vinylene, aromatic diamines, oxydiazoles, derivatives of distyrylarylene, triphenylamine and distyryl, quinolinol type metals,
Complexes such as azomethine zinc, porphyrin zinc, benzoxazole zinc, and phenanthroline yupium are applicable.
【０００６】上記有機化合物は溶媒に溶解又は分散させ
た状態（これを組成物という）でインクジェット印刷装
置のインクヘッドから滴下され、基板上に被膜を形成す
る。組成物の物性としては、粘度、表面張力、乾燥速度
などが重要なパラメータとなる。また、再現性良く組成
物を滴下するにはインクヘッドの幾何学的構造やその駆
動条件が重要であり、吐出する組成物の量、方向、周期
などがパラメータとなっている。The above-mentioned organic compound is dripped from the ink head of an ink jet printing apparatus in a state of being dissolved or dispersed in a solvent (this is called a composition) to form a film on a substrate. As the physical properties of the composition, viscosity, surface tension, drying rate and the like are important parameters. In addition, the geometrical structure of the ink head and the driving conditions thereof are important for dropping the composition with good reproducibility, and the amount, direction, cycle, etc. of the composition to be ejected are parameters.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】インクジェッット方式
の印刷装置におけるインクヘッドの一例を、図４を参照
して説明する。筐体４０１には圧電素子４０２が装着さ
れた弾性板４０３により一方の面が封止された圧力発生
室４０５とが形成されている。供給される組成物はリザ
ーバー４０４を介して圧力発生室４０５に供給される。
圧力発生室４０５を構成する弾性板４０３は、圧電素子
４０２のたわみ変位により圧力発生室４０５の容積を変
動させ組成物を吐出口４０６から吐出させる。An example of the ink head in the ink jet type printing apparatus will be described with reference to FIG. The housing 401 has a pressure generating chamber 405 whose one surface is sealed by an elastic plate 403 having a piezoelectric element 402 mounted thereon. The supplied composition is supplied to the pressure generating chamber 405 via the reservoir 404.
The elastic plate 403 forming the pressure generating chamber 405 changes the volume of the pressure generating chamber 405 by the flexural displacement of the piezoelectric element 402 and discharges the composition from the discharge port 406.
【０００８】インクヘッドから１回に吐出される組成物
の量は１０〜４０plであり、粘度は１〜２０cpが良いと
考えられている。粘度が低い場合は所定の膜厚を得るこ
とができず、基板上に着弾してからも流れ出して必要以
上にパターンが広がってしまう。また、高すぎるとイン
クヘッドの吐出口から組成物を円滑に吐出できなくな
る。インクジェット方式で基板上に所定のパターンを形
成する場合には、インクヘッドと基板とを相対的に移動
させて描画することになるが、膜厚を稼ごうとして粘度
を高くすると、吐出する組成物の切れが悪くなり、着弾
位置において組成物が糸を引いた形態としてパターンが
形成されてしまい不具合が発生する。It is considered that the amount of the composition ejected from the ink head at one time is 10 to 40 pl and the viscosity is preferably 1 to 20 cp. If the viscosity is low, a predetermined film thickness cannot be obtained, and even if the film has landed on the substrate, it flows out and the pattern spreads more than necessary. Further, if it is too high, the composition cannot be smoothly ejected from the ejection port of the ink head. When a predetermined pattern is formed on a substrate by an inkjet method, the ink head and the substrate are moved relative to each other for drawing, but when the viscosity is increased to increase the film thickness, the composition to be ejected. And the composition is stringed at the landing position to form a pattern, which causes a problem.
【０００９】組成物における溶媒は、基板に滴下後に揮
発するものが適している。しかし、常に連続して滴下し
ていないと溶媒が揮発して、吐出口のところで固まって
しまう。トルエンなど揮発性の高い溶媒を用いる場合
は、特に注意が必要となる。吐出が連続している場合で
も、吐出口の付近に固形物が次第に成長し、最悪の場合
には吐出口を塞いでしまう。それに至らないにしても、
吐出口付近にできる固形物は、吐出する組成物の方向を
変化させ、着弾精度が著しく低下してしまう。さらに、
吐出口の口径が小さくなることにより吐出する組成物の
量が減少し、基板上に形成される有機化合物層の厚さが
減少するという不良が発生する。このような不具合を防
止するために、従来のインクジェット方式では、固形物
による目詰まりを防止するために、頻繁にインクヘッド
をクリーニングする必要に駆られていた。As the solvent in the composition, those which volatilize after being dropped on the substrate are suitable. However, if the solvent is not continuously dripped, the solvent volatilizes and solidifies at the discharge port. Special attention is required when using a highly volatile solvent such as toluene. Even when the ejection is continuous, the solid matter gradually grows in the vicinity of the ejection port, and in the worst case, the ejection port is blocked. Even if it does not reach that,
The solid matter formed in the vicinity of the ejection port changes the direction of the composition to be ejected, and the landing accuracy is significantly reduced. further,
When the diameter of the ejection port is reduced, the amount of the composition to be ejected is reduced, which causes a defect that the thickness of the organic compound layer formed on the substrate is reduced. In order to prevent such a problem, in the conventional inkjet system, it is necessary to frequently clean the ink head in order to prevent clogging due to solid matter.
【００１０】本発明はこのような問題点を鑑みてなされ
たものであり、インクジェット方式による有機化合物層
の形成を簡便でかつ高速に処理することが可能な技術を
提供することを目的とする。具体的には、インクジェッ
ト方式に適した有機発光素子形成用組成物及びその作製
方法を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a technique capable of easily and rapidly processing an organic compound layer by an ink jet method. Specifically, it is an object to provide a composition for forming an organic light emitting device suitable for an inkjet method and a method for producing the same.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明において、インク
ジェット方式によりパターン形成する際に用いられる発
光性を有する組成物は、昇華性を有さず、且つ分子数が
２０以下、又は連鎖する分子の長さが１０μm以下の有
機化合物（これを本明細書において、中分子化合物とい
う）を用いる。そのような材料の一例は、テトラキス
（２−メルカプト−ヘンズオキサゾラト）タングステン
などが上げられる。高分子化合物材料を用いたインクジ
ェット方式によるパターン形成では、滴下した混合物が
糸を引いて線状になってしまうなどの問題点があるが、
連鎖する分子数の少ない中分子化合物ではそのような不
具合が発生しない。また、高分子化合物材料の混合物を
形成する場合には、それを溶かす溶媒とインクヘッドを
構成する部材との組み合わせを考慮する必要がある。実
際にはインクヘッドを構成する部材を腐食しない溶媒を
用いる必要がある。しかし、中分子化合物では、水溶液
に分散させて用いることも可能であり、そのような問題
が発生しない。In the present invention, the composition having a light emitting property used for forming a pattern by an ink jet system has no sublimation property and has a number of molecules of 20 or less or a chain of molecules. An organic compound having a length of 10 μm or less (this is referred to as a medium molecular compound in the present specification) is used. An example of such a material is tetrakis (2-mercapto-henzoxazolato) tungsten and the like. In the pattern formation by the ink jet method using the polymer compound material, there is a problem that the dropped mixture becomes a line by drawing a string.
Such a problem does not occur in a medium-molecular compound having a small number of chained molecules. Further, when forming a mixture of polymer compound materials, it is necessary to consider a combination of a solvent that dissolves the mixture and a member that constitutes the ink head. In practice, it is necessary to use a solvent that does not corrode the members that make up the ink head. However, the medium molecular compound can be used by dispersing it in an aqueous solution, and such a problem does not occur.
【００１２】本発明において、インクジェット方式によ
りパターン形成する際に用いられる発光性を有する組成
物は、昇華性を有さず、且つ分子数が２０以下の中分子
化合物を含有する組成物である。このような中分子化合
物は有機発光素子の発光層を形成上で、ホスト材料とし
て用いる。また、高分子化合物と中分子化合物とを混合
して用いても良い。In the present invention, the luminescent composition used for forming a pattern by the inkjet method is a composition which does not have sublimability and contains a medium molecular compound having a number of molecules of 20 or less. Such a medium molecular compound is used as a host material in forming a light emitting layer of an organic light emitting device. Further, a high molecular compound and a medium molecular compound may be mixed and used.
【００１３】本発明において、インクジェット方式によ
りパターン形成する際に用いられる発光性を有する組成
物の一例は、周期律第６族から選ばれた原子を中心金属
とし、且つ、４員環を形成するπ共役系キレート配位子
を有するキレート錯体から成る組成物である。その代表
的に一例は、タングステン原子を中心金属とし、且つ、
４員環を形成するπ共役系キレート配位子を有するタン
グステンキレート錯体から成る組成物である。当該組成
物をインクジェット方式によりパターン形成する際に適
用される粘度は１〜２０cpであることが望ましい。In the present invention, an example of the composition having a light emitting property used when forming a pattern by the ink jet method has an atom selected from Group 6 of the Periodic Table as a central metal and forms a 4-membered ring. A composition comprising a chelate complex having a π-conjugated chelate ligand. A typical example is a tungsten atom as a central metal, and
A composition comprising a tungsten chelate complex having a π-conjugated chelate ligand forming a 4-membered ring. The viscosity applied when patterning the composition by an inkjet method is preferably 1 to 20 cp.
【００１４】当該組成物により作製される有機発光素子
の発光色を変えるために、発光性を有する組成物に、そ
の発光特性を変化させる蛍光色素が少なくとも一種含ま
せることでその目的を達成できる。In order to change the emission color of the organic light emitting device produced by the composition, the composition can be achieved by including at least one fluorescent dye that changes the emission characteristics of the composition having a light emitting property.
【００１５】さらに、本発明に関わる発光装置の作製方
法は、周期律第６族から選ばれた原子を中心金属とし、
且つ、４員環を形成するπ共役系キレート配位子を有す
るキレート錯体から成る組成物を用いて、インクジェッ
ト方式により当該組成物をインクヘッドから吐出させて
パターンを形成する工程と、加熱処理により組成物から
溶媒を離脱させて発光層を形成する工程とを有してい
る。Further, in the method for manufacturing a light emitting device according to the present invention, an atom selected from Group 6 of the periodic law is used as a central metal,
In addition, by using a composition comprising a chelate complex having a π-conjugated chelate ligand forming a 4-membered ring, a step of ejecting the composition from an ink head by an inkjet method to form a pattern, and a heat treatment. And removing the solvent from the composition to form a light emitting layer.
【００１６】また、他の構成として、スピン塗布法によ
り高分子化合物から成る第１有機化合物層を形成する工
程と、該第１有機化合物層上に周期律第６族から選ばれ
た原子を中心金属とし、且つ、４員環を形成するπ共役
系キレート配位子を有するキレート錯体から成る組成物
を用いて、インクジェット方式により、前記組成物をイ
ンクヘッドから吐出させて第２有機化合物層のパターン
を形成する工程と、加熱処理により組成物から溶媒を離
脱させて発光層を形成する工程とを有している。高分子
化合物の好適な一例は、ポリエチレンジオキシチオフェ
ンである。As another structure, a step of forming a first organic compound layer made of a high molecular compound by a spin coating method, and an atom selected from Group 6 of the periodic law are mainly formed on the first organic compound layer. Using a composition composed of a chelate complex having a π-conjugated chelate ligand forming a 4-membered ring as a metal, the composition is ejected from an ink head by an inkjet method to form a second organic compound layer. The method includes a step of forming a pattern and a step of removing the solvent from the composition by heat treatment to form a light emitting layer. One suitable example of the polymer compound is polyethylenedioxythiophene.
【００１７】当該組成物の代表的な一例は、タングステ
ン原子を中心金属とし、且つ、４員環を形成するπ共役
系キレート配位子を有するタングステンキレート錯体か
ら成る組成物である。A typical example of the composition is a composition comprising a tungsten chelate complex containing a tungsten atom as a central metal and having a π-conjugated chelate ligand forming a 4-membered ring.
【００１８】このように、組成物に分子数が１万から数
百万の及ぶ高分子化合物を用いないことで、吐出口付近
に固形物が生成することを防止し、描画品質を高めるこ
とができる。As described above, by not using a high molecular compound having a number of molecules of 10,000 to several million in the composition, it is possible to prevent a solid substance from being generated in the vicinity of the discharge port and improve the drawing quality. it can.
【００１９】上記発光層は、陽極と陰極の間に形成さ
れ、有機発光素子を形成する部材となる。この有機発光
素子の一方の電極を薄膜トランジスタのソース又はドレ
インに接続してアクティブマトリクス駆動方式の発光装
置とすることもできる。The light emitting layer is formed between the anode and the cathode and serves as a member forming an organic light emitting element. One electrode of the organic light emitting element can be connected to the source or the drain of the thin film transistor to form an active matrix drive type light emitting device.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】本発明の有機発光素子用の組成物
は、昇華性を有さず、且つ分子数が１０以下、又は連鎖
する分子の長さが１０μm以下の有機化合物（中分子化
合物）を用いる。高分子有機化合物材料を用いたインク
ジェット方式によるパターン形成では、滴下した混合物
が糸を引いて線状になってしまうなどの問題点がある
が、連鎖する分子数の少ない中分子化合物ではそのよう
な不具合が発生しない。また、高分子化合物材料の混合
物を形成する場合には、それを溶かす溶媒とインクヘッ
ドを構成する部材との組み合わせを考慮する必要があ
る。実際にはインクヘッドを構成する部材を腐食しない
溶媒を用いる必要がある。しかし、中分子化合物では、
水溶液に分散させて用いることも可能である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The composition for an organic light emitting device of the present invention is an organic compound having no sublimation property and having a number of molecules of 10 or less, or a chain of linked molecules having a length of 10 μm or less (medium molecular compound ) Is used. In the pattern formation by the inkjet method using the high molecular weight organic compound material, there are problems such as the dropped mixture becomes a line by drawing a string, but such a problem occurs in the case of a medium molecular compound having a small number of chained molecules. No problem occurs. Further, when forming a mixture of polymer compound materials, it is necessary to consider a combination of a solvent that dissolves the mixture and a member that constitutes the ink head. In practice, it is necessary to use a solvent that does not corrode the members that make up the ink head. However, for medium-molecule compounds,
It is also possible to use it by dispersing it in an aqueous solution.
【００２１】図１０（Ａ）はインクヘッドの吐出口１０
０１から組成物１００２が吐出され、基板表面１００３
に着弾する過程を模式的に示す図である。組成物１００
２の粘度が適正であり、吐出口１００１から垂直方向
（ａ）に吐出されると目標とする着弾位置に正確に組成
物を付着させることができる。しかし、吐出口付近に固
形物等があるとその影響により斜め方向（ｂ）に吐出さ
れ、着弾位置がそれてしまう。図１０（Ｂ）は上面図で
あり、基板に着弾した組成物１００５が隔壁１００４の
間に滴下されている状態を示している。一方、図１１
（Ａ）は組成物１０５０の粘度が適正範囲よりも高い場
合を示している。吐出口１００１から吐出される組成物
１０５０はその粘度の高さにより裾を引いた形状となっ
ている。このような形状の組成物が基板上に付着した場
合は、図１１（Ｂ）に示すように着弾形状も裾を引いた
形となってしまう。FIG. 10A shows the ejection port 10 of the ink head.
The composition 1002 is discharged from 01, and the substrate surface 1003
It is a figure which shows typically the process of landing on. Composition 100
The viscosity of No. 2 is appropriate, and when the composition is ejected from the ejection port 1001 in the vertical direction (a), the composition can be accurately attached to a target landing position. However, if there is a solid matter or the like in the vicinity of the ejection port, it is ejected in the oblique direction (b) due to its influence, and the landing position deviates. FIG. 10B is a top view and illustrates a state in which the composition 1005 landed on the substrate is dropped between the partition walls 1004. On the other hand, FIG.
(A) shows the case where the viscosity of the composition 1050 is higher than the proper range. The composition 1050 ejected from the ejection port 1001 has a bottomed shape due to its high viscosity. When the composition having such a shape adheres to the substrate, the landing shape also becomes a skirted shape as shown in FIG. 11 (B).
【００２２】図１１で示すような状況は、分子数が１万
から数百万の高分子から成る組成物を用いた場合に特に
発生しやすい傾向がある。The situation shown in FIG. 11 tends to occur particularly when a composition comprising a polymer having a molecular number of 10,000 to several million is used.
【００２３】本発明の有機発光素子用の組成物の一例
は、主として発光層を形成る周期律第６族から選ばれた
原子を中心金属とし、且つ、４員環を形成するπ共役系
キレート配位子を有するキレート錯体から成る組成物で
ある。An example of the composition for an organic light-emitting device of the present invention is a π-conjugated chelate which mainly contains an atom selected from Group 6 of the periodic table which forms a light-emitting layer and which forms a 4-membered ring. A composition comprising a chelate complex having a ligand.
【００２４】このπ共役系配位子を有するタングステン
キレート錯体において、近紫外発光する現象が見いださ
れている。キレート錯体の構造としては、タングステン
原子を中心金属とし、かつ、前記タングステン原子と窒
素原子と炭素原子と１６族原子（酸素原子または硫黄原
子）とからなる４員環のキレート環を有するものがあ
る。In the tungsten chelate complex having this π-conjugated ligand, a phenomenon of near-ultraviolet emission has been found. As the structure of the chelate complex, there is one having a 4-membered chelate ring containing a tungsten atom as a central metal and containing the tungsten atom, a nitrogen atom, a carbon atom and a group 16 atom (oxygen atom or sulfur atom). .
【００２５】タングステン錯体の中でも、合成の容易
さ、収率、発光特性などの観点から、特に下記一般式
（１）で示すものが好ましいと考えている。すなわち、
オキサゾール環ないしはチアゾール環の２位にヒドロキ
シル基ないしはメルカプト基を置換し、さらに前記オキ
サゾール環や前記チアゾール環に多環縮合環を付与した
たものを配位子とする錯体である。Among the tungsten complexes, those represented by the following general formula (1) are considered to be preferable from the viewpoints of easiness of synthesis, yield, emission characteristics and the like. That is,
It is a complex in which a hydroxyl group or a mercapto group is substituted at the 2-position of an oxazole ring or a thiazole ring and a polycyclic condensed ring is added to the oxazole ring or the thiazole ring as a ligand.
【００２６】[0026]
【化１】 [Chemical 1]
【００２７】ただし、XおよびYは、酸素原子または硫黄
原子を表す。また、Zは多環縮合環を表し、置換基を有
していてもよい。However, X and Y represent an oxygen atom or a sulfur atom. Z represents a condensed polycyclic ring and may have a substituent.
【００２８】この系統のタングステンキレート錯体を用
いた有機発光素子は、紫外光領域から可視光領域まで、
幅広い発光領域をカバーできる可能性がある。The organic light-emitting device using the tungsten chelate complex of this system has a range from the ultraviolet light region to the visible light region.
There is a possibility that it can cover a wide light emitting area.
【００２９】近紫外領域にて発光するタングステン錯体
の一例として、下記一般式（２）で表される構造を含有
すると考えられるタングステン錯体は以下の方法により
得ることができる。As an example of a tungsten complex which emits light in the near-ultraviolet region, a tungsten complex which is considered to contain a structure represented by the following general formula (2) can be obtained by the following method.
【００３０】[0030]
【化２】 [Chemical 2]
【００３１】タングステンヘキサカルボニル１．０g
（２．８mmol）および２−メルカプト−ベンゾオキサゾ
ール１．７g（１１．３mmol）を、ジグリム５０mlに溶
解した。次に、８０℃に加熱することにより均一な溶液
とした後、反応温度を１００℃に上げて２４時間撹拌し
た。反応終了後、不溶成分をろ過してから溶媒を減圧留
去し、灰色の固体１．７gを得た。なお、上記の反応経
路は全て窒素気流化にて行った。また、ジグリムはナト
リウム/ベンゾフェノンを用いて乾燥して得る。1.0 g of tungsten hexacarbonyl
(2.8 mmol) and 1.7 g (11.3 mmol) of 2-mercapto-benzoxazole were dissolved in 50 ml of diglyme. Next, after heating to 80 ° C. to form a uniform solution, the reaction temperature was raised to 100 ° C. and the mixture was stirred for 24 hours. After completion of the reaction, insoluble components were filtered off and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.7 g of a gray solid. In addition, all of the above reaction paths were carried out by nitrogen gas flow. Also, diglyme is obtained by drying with sodium / benzophenone.
【００３２】また、その発光特性を変化させるために、
蛍光色素を少なくとも一種含ませておくこともできる。
蛍光色素としては、ローダミン、ジスチリルビフェニ
ル、クマリン、テトラフェニルブタジエン、キナクリド
ンなど、又はその誘導体を用いる。その添加量は、当該
組成物の固形分に対し０．１〜５重量％の割合で添加す
る。Further, in order to change the light emitting characteristic,
It is also possible to include at least one fluorescent dye.
As the fluorescent dye, rhodamine, distyryl biphenyl, coumarin, tetraphenyl butadiene, quinacridone, or the like, or a derivative thereof is used. The amount of addition is 0.1 to 5% by weight relative to the solid content of the composition.
【００３３】この組成物を用いてインクジェット方式を
用いたパターン形成を行う場合には、水系、アルコール
又はグリコール系溶剤に溶解又は分散させたものを用い
る。いずれにしても、インクジェット方式を用いたパタ
ーン形成に適用可能な粘度に調整することができ、簡単
かつ短時間で最適な条件の膜形成を行うことができる。In the case of using this composition to form a pattern using an ink jet system, one dissolved or dispersed in an aqueous solvent, an alcohol solvent or a glycol solvent is used. In any case, the viscosity can be adjusted so as to be applicable to the pattern formation using the inkjet method, and the film formation under the optimum conditions can be easily performed in a short time.
【００３４】次に、このような組成物を用いてインクジ
ェット方式により発光装置を作製する一例について図１
を参照して説明する。Next, an example of producing a light emitting device by an ink jet method using such a composition is shown in FIG.
Will be described with reference to.
【００３５】図１（Ａ）に示すように、基板１００上に
透明画素電極１０１〜１０４を４０〜１２０μmピッ
チ、０．１μmの厚さで形成する。透明画素電極を形成
する材料は、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、又
はこれらの酸化物の混合物を用いる。As shown in FIG. 1A, transparent pixel electrodes 101 to 104 are formed on a substrate 100 with a pitch of 40 to 120 μm and a thickness of 0.1 μm. The material forming the transparent pixel electrode is indium oxide, zinc oxide, tin oxide, or a mixture of these oxides.
【００３６】次いで、図１（Ｂ）に示すようにこの透明
画素電極間パターン間に樹脂材料から成る隔壁１０５を
形成する。この隔壁層の厚さは１〜２μm、幅は２０μm
とし、透明画素電極の端部を覆うように形成する。この
隔壁は、インクヘッッドから吐出し着弾した組成物が流
れ出して隣接する画素と混合しないようにするために設
けるものである。Next, as shown in FIG. 1B, a partition wall 105 made of a resin material is formed between the transparent pixel electrode patterns. This partition layer has a thickness of 1 to 2 μm and a width of 20 μm.
And is formed so as to cover the end portion of the transparent pixel electrode. The partition wall is provided so that the composition discharged from the ink head and landed does not flow out and mix with adjacent pixels.
【００３７】次に、この透明画素電極（陽極）１０１〜
１０４を有するガラス基板１００に対し、第１有機化合
物層としてポリ（エチレンジオキシチオフェン）／ポリ
（スチレンスルホン酸）水溶液（以下、ＰＥＤＯＴ／Ｐ
ＳＳと記す）をスピンコーティングにより３０nmに厚さ
に成膜する。このＰＥＤＯＴ／ＰＳＳは、正孔注入層１
０６として作用する（図１（Ｃ））。Next, the transparent pixel electrodes (anode) 101-
With respect to the glass substrate 100 having 104, a poly (ethylenedioxythiophene) / poly (styrenesulfonic acid) aqueous solution as a first organic compound layer (hereinafter referred to as PEDOT / P
A film of SS) is spin-coated to a thickness of 30 nm. This PEDOT / PSS is a hole injection layer 1
It acts as 06 (FIG. 1 (C)).
【００３８】その後、加熱処理により水分を蒸発させ、
インクジェット印刷装置１０７により、組成物を塗布
し、厚さ０．０５〜０．２μmの第２有機化合物層とし
ての発光層を形成する。組成物としては、アセトニトリ
ル溶液に溶解させたπ共役系配位子を有する金属キレー
ト錯体を用いる。例えば、９０μmピッチの画素に対し
て、粘度１〜２０cp、約８０μm径の組成物を吐出す
る。この組成物は、インクジェット吐出後、８０〜１２
０℃で加熱して溶媒を揮発させ、５０〜１５０nmの発光
層１０８を形成する（図１（Ｄ））。Then, the water is evaporated by heat treatment,
The composition is applied by the inkjet printing device 107 to form a light emitting layer as a second organic compound layer having a thickness of 0.05 to 0.2 μm. As the composition, a metal chelate complex having a π-conjugated ligand dissolved in an acetonitrile solution is used. For example, a composition having a viscosity of 1 to 20 cp and a diameter of about 80 μm is ejected to a 90 μm pitch pixel. This composition is 80-12 after jetting.
The solvent is volatilized by heating at 0 ° C. to form the light emitting layer 108 having a thickness of 50 to 150 nm (FIG. 1D).
【００３９】陰極１０９としてマグネシウム合金（例え
ば、ＡｌＭｇ）を真空蒸着法にて０．１〜０．２μmの
厚さに成膜する。これにより発光装置が完成する（図１
（Ｅ））。As the cathode 109, a magnesium alloy (for example, AlMg) is formed into a film with a thickness of 0.1 to 0.2 μm by a vacuum evaporation method. This completes the light emitting device (Fig. 1
(E)).
【００４０】図２は、本発明の組成物を用いてインクジ
ェット方式によりアクティブマトリクス駆動方式の発光
装置を作製する一例を示している。図２（Ａ）におい
て、基板２００上に能動素子であるＴＦＴ（薄膜トラン
ジスタ）２０１〜２０３が形成されている。ＴＦＴはチ
ャネル形成領域やソース及びドレイン領域などを形成す
る半導体膜、ゲート電極、ゲート絶縁膜等から構成され
ている。ＴＦＴの構造はトップゲート型やボトムゲート
型等それぞれ特色があるが、本発明に適用する場合その
構造に限定はない。FIG. 2 shows an example of producing an active matrix drive type light emitting device by an ink jet method using the composition of the present invention. In FIG. 2A, TFTs (thin film transistors) 201 to 203 which are active elements are formed on a substrate 200. The TFT is composed of a semiconductor film that forms a channel forming region, source and drain regions, a gate electrode, a gate insulating film, and the like. The structure of the TFT has a characteristic such as a top gate type and a bottom gate type, but when applied to the present invention, the structure is not limited.
【００４１】ＴＦＴのソース又はドレイン領域に接続す
る画素電極２０４〜２０６は例えば、６５μmピッチ、
０．１μmの厚さで形成する。このような狭いピッチで
インクジェット方式により有機化合物層を形成する場
合、本発明の組成物を用いるとパターンに裾引き等がな
く微細なパターンを形成することができる。この画素電
極パターン間に樹脂材料から成る隔壁２０８を形成す
る。この隔壁層の厚さは１〜２μm、幅は２０μmとし、
透明画素電極の端部を覆うように形成する。この隔壁
は、インクヘッッドから吐出し着弾した組成物が流れ出
して隣接する画素と混合しないようにするために設ける
ものである（図２（Ａ））。The pixel electrodes 204 to 206 connected to the source or drain region of the TFT are, for example, 65 μm pitch,
It is formed with a thickness of 0.1 μm. When the organic compound layer is formed by the inkjet method with such a narrow pitch, the composition of the present invention can be used to form a fine pattern without skirting or the like. A partition wall 208 made of a resin material is formed between the pixel electrode patterns. The partition layer has a thickness of 1 to 2 μm and a width of 20 μm,
It is formed so as to cover the end of the transparent pixel electrode. The partition walls are provided so that the composition discharged from the ink head and landing does not flow out and mix with adjacent pixels (FIG. 2A).
【００４２】次に、ＴＦＴ２０１〜２０３を有するガラ
ス基板２００に対し、第１有機化合物層としてポリ（エ
チレンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン
酸）水溶液（以下、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと記す）をスピ
ンコーティングにより３０nmに厚さに成膜する。このＰ
ＥＤＯＴ／ＰＳＳは、正孔注入層２０８として作用する
（図２（Ｂ））。Next, a glass substrate 200 having TFTs 201 to 203 is spin-coated with a poly (ethylenedioxythiophene) / poly (styrenesulfonic acid) aqueous solution (hereinafter referred to as PEDOT / PSS) as a first organic compound layer. To a thickness of 30 nm. This P
EDOT / PSS acts as the hole injection layer 208 (FIG. 2B).
【００４３】その後、加熱処理により水分を蒸発させ、
インクジェット印刷装置２０９により、組成物を塗布
し、厚さ０．０５〜０．２μmの第２有機化合物層とし
ての発光層を形成する。組成物としては、アセトニトリ
ル溶液に溶解させたπ共役系配位子を有する金属キレー
ト錯体を用いる。この組成物は、インクジェット吐出
後、８０〜１２０℃で加熱して溶媒を揮発させ発光層２
１０を形成する（図２（Ｃ））。Then, the water is evaporated by heat treatment,
The composition is applied by an inkjet printing device 209 to form a light emitting layer as a second organic compound layer having a thickness of 0.05 to 0.2 μm. As the composition, a metal chelate complex having a π-conjugated ligand dissolved in an acetonitrile solution is used. This composition is heated at 80 to 120 ° C. after ink jet ejection to volatilize the solvent and evaporate the light emitting layer 2.
10 is formed (FIG. 2C).
【００４４】陰極２１１としてマグネシウム合金（例え
ば、ＡｌＭｇ）を真空蒸着法にて０．１〜０．２μmの
厚さに成膜する。これによりアクティブマトリクス駆動
方式の発光装置が完成する（図２（Ｄ））。As the cathode 211, a magnesium alloy (eg, AlMg) is formed into a film with a thickness of 0.1 to 0.2 μm by a vacuum evaporation method. As a result, an active matrix driving type light emitting device is completed (FIG. 2D).
【００４５】尚、図１及び図２で示す発光装置は、正孔
注入層と発光層の２層をもって形成する例を示したが、
その構造に限定されるものではなく、本発明の組成物を
用いてインクジェット方式により発光層並びにそれに付
随する注入層を任意に設ける構成としても良い。In the light emitting device shown in FIGS. 1 and 2, an example in which the light emitting device is formed by two layers of a hole injection layer and a light emitting layer is shown.
The structure is not limited, and the composition of the present invention may be used to arbitrarily provide a light emitting layer and an injection layer associated therewith by an inkjet method.
【００４６】図３はインクジェット方式を用いた印刷装
置の構成を示している。印刷装置はインクヘッド３０
１、基板を固定するステージ３０５などから成ってい
る。その他付随する要素として、処理する基板を保持す
るカセット３０７、そのカセット３０７から搬出入させ
る搬送手段３０６などが備えられていても良い。インク
ジェット用の組成物はリザーバータンク３０２からイン
クヘッド３０１に供給される。組成物は溶媒が気化して
乾燥し、インクヘッド３０１の吐出口に生成物が固まら
ないようにする手段として、処理室３０９内を、ガス供
給手段３１０により、組成物の溶媒と同じ気体を供給し
て雰囲気を置換しておくと乾燥をある程度防止すること
ができ、長時間印刷を続けることができる。FIG. 3 shows the construction of a printing apparatus using the ink jet system. The printing device is an ink head 30.
1. A stage 305 for fixing the substrate and the like. Other accompanying elements may include a cassette 307 that holds a substrate to be processed, a transport unit 306 that carries in and out of the cassette 307, and the like. The composition for inkjet is supplied from the reservoir tank 302 to the ink head 301. As a means for preventing the solvent of the composition from vaporizing and drying and the product from being solidified at the ejection port of the ink head 301, the same gas as the solvent of the composition is supplied by the gas supply means 310 in the processing chamber 309. By replacing the atmosphere, the drying can be prevented to some extent and the printing can be continued for a long time.
【００４７】[0047]
【実施例】[実施例１]本発明の組成物を用いてインクジ
ェット方式により作製される発光装置の具体的な一例を
図面を参照して説明する。図５はアクティブマトリクス
駆動する発光装置の画素構造の一例を上面図で示す。ま
た、図６は図５のＡ−Ａ'線に対応した断面図であり、
両図は共通した符号を用いて画素の構造を説明してい
る。EXAMPLES Example 1 A specific example of a light emitting device manufactured by an inkjet method using the composition of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a top view showing an example of a pixel structure of a light emitting device driven by active matrix. 6 is a sectional view corresponding to the line AA ′ in FIG.
Both figures use the same reference numerals to describe the pixel structure.
【００４８】この画素構造は、一つの画素に２つのＴＦ
Ｔが設けられ、一方はスイッチング動作を目的としたｎ
チャネル型ＴＦＴ６０４であり、他方は有機発光素子に
流す電流を制御する動作を目的としたｐチャネル型ＴＦ
Ｔ６０５である。勿論、本発明のインクジェット方式に
よる印刷装置を用いてアクティブマトリクス駆動の発光
装置を製造するに当たり、一つの画素に設けるＴＦＴの
数に限定はなく、発光装置の駆動方式に従い適切な回路
構成とすれば良い。This pixel structure has two TFs in one pixel.
T is provided, one of which is for switching operation
The channel type TFT 604, and the other is a p channel type TF for the purpose of controlling the current flowing in the organic light emitting element.
It is T605. Of course, in manufacturing an active matrix driving light emitting device using the inkjet printing device of the present invention, the number of TFTs provided in one pixel is not limited, and if the circuit configuration is appropriate according to the driving system of the light emitting device. good.
【００４９】図６で示す如く、有機発光素子５７５は第
１電極５４６、正孔注入層５７１、発光層５７２、第２
電極５７３から成っている。第１電極と第２電極はその
極性により陽極と陰極とに区別することができる。陽極
を形成する材料は酸化インジウムや酸化スズ、酸化亜鉛
などの仕事関数の高い材料を用い、陰極にはＭｇＡｇ、
ＡｌＭｇ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｌｉ、ＡｌＬｉ、ＡｌＬｉＡｇ
などのアルカリ金属又はアルカリ土類金属、代表的には
マグネシウム化合物で形成される仕事関数の低い材料を
用いる。As shown in FIG. 6, the organic light emitting device 575 includes a first electrode 546, a hole injection layer 571, a light emitting layer 572, and a second electrode.
It is composed of an electrode 573. The first electrode and the second electrode can be classified into an anode and a cathode according to their polarities. A material having a high work function such as indium oxide, tin oxide, or zinc oxide is used as a material forming the anode, and MgAg is used as a cathode.
AlMg, Ca, Mg, Li, AlLi, AlLiAg
A material having a low work function formed of an alkali metal or an alkaline earth metal, typically a magnesium compound, is used.
【００５０】ｐチャネル型ＴＦＴ６０５及びｎチャネル
型ＴＦＴ６０４はチャネル形成領域やソース及びドレイ
ン領域、ＬＤＤ領域などが形成される活性層５１６、５
１７を多結晶半導体膜で形成している。ゲート絶縁膜５
１８を介して第１ゲート電極５３３、５３４が形成さて
いるが、活性層を挟んで対向して第２ゲート電極５０
６、５０８が絶縁膜５１０、５１１を介して設けられて
いる。層間絶縁膜５４３、５４４は無機絶縁膜及び有機
絶縁膜を組み合わせて形成されている。配線５０５は映
像データに基づく信号線であり、配線５０７は有機発光
素子に電流を供給する電源供給線である。In the p-channel TFT 605 and the n-channel TFT 604, active layers 516, 5 in which channel forming regions, source and drain regions, LDD regions, etc. are formed.
17 is formed of a polycrystalline semiconductor film. Gate insulating film 5
Although the first gate electrodes 533 and 534 are formed via the first electrode 18, the second gate electrodes 50 are opposed to each other with the active layer interposed therebetween.
6, 508 are provided via insulating films 510 and 511. The interlayer insulating films 543 and 544 are formed by combining an inorganic insulating film and an organic insulating film. The wiring 505 is a signal line based on video data, and the wiring 507 is a power supply line that supplies a current to the organic light emitting element.
【００５１】有機発光素子５７５の第１電極５４６は、
ｐチャネル型ＴＦＴ６０５の電極５５３と接続されてい
る。隔壁５７０は隣接する画素を分離し、インクジェッ
ト方式で発光層を形成する時に組成物が隣接する画素に
及ばないように仕切る目的で形成されている。隔壁はポ
リイミド、アクリル、ポリイミドアミド、ポリベンゾイ
ミダゾールなどの感光性又は熱硬化型の樹脂材料で、第
１電極の端部を覆うように形成してある。有機化合物層
は縦方向に形成しても良いし、横方向に形成しても良
い。The first electrode 546 of the organic light emitting device 575 is
It is connected to the electrode 553 of the p-channel TFT 605. The partition 570 is formed for the purpose of separating adjacent pixels and partitioning the composition so that the composition does not reach the adjacent pixels when the light-emitting layer is formed by an inkjet method. The partition wall is formed of a photosensitive or thermosetting resin material such as polyimide, acrylic, polyimideamide, or polybenzimidazole so as to cover the end portion of the first electrode. The organic compound layer may be formed in the vertical direction or may be formed in the horizontal direction.
【００５２】樹脂材料で形成される隔壁５７０の表面
は、アルゴンなど希ガスを用いたプラズマ処理で表面改
質をし、表面を硬化させておいても良い。正孔注入層５
７１は、スピン塗布法により基板の全面にポリ（エチレ
ンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン酸）
水溶液（以下、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと記す）を塗布し、
その後乾燥させることにより３０nmの厚さに形成する。The surface of the partition wall 570 made of a resin material may be surface-modified by plasma treatment using a rare gas such as argon to harden the surface. Hole injection layer 5
71 is poly (ethylenedioxythiophene) / poly (styrene sulfonic acid) on the entire surface of the substrate by spin coating.
Apply an aqueous solution (hereinafter referred to as PEDOT / PSS),
Then, it is dried to form a thickness of 30 nm.
【００５３】発光層は、インクジェット印刷装置によ
り、π共役系配位子を有する金属キレート錯体をアセト
ニトリル溶液に溶解させた組成物を塗布する。インクヘ
ッッドから吐出された組成物は隔壁で囲まれた領域に着
弾する。その後、窒素雰囲気中８０〜１２０℃で加熱し
て０．１〜０．２μmの厚さの発光層５７２を形成す
る。For the light emitting layer, a composition in which a metal chelate complex having a π-conjugated ligand is dissolved in an acetonitrile solution is applied by an ink jet printer. The composition ejected from the ink head lands on the area surrounded by the partition walls. Then, it is heated at 80 to 120 ° C. in a nitrogen atmosphere to form a light emitting layer 572 having a thickness of 0.1 to 0.2 μm.
【００５４】その上にはパッシベーション膜５７４が形
成されている。パッシベーション膜には窒化シリコン、
酸窒化シリコン、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬ
Ｃ）など酸素や水蒸気に対しバリア性の高い材料を用い
て形成する。A passivation film 574 is formed thereon. Silicon nitride is used for the passivation film,
Silicon oxynitride, diamond-like carbon (DL
It is formed by using a material having a high barrier property against oxygen and water vapor such as C).
【００５５】以上のようにしてアクティブマトリクス駆
動の発光装置を作製することができる。本発明の組成物
を用いて発光装置を作製することで、発光層を精度良く
パターン形成することができ、発光しない欠陥画素の発
生率を低減することができる。As described above, an active matrix driving light emitting device can be manufactured. By manufacturing a light-emitting device using the composition of the present invention, the light-emitting layer can be patterned with high accuracy and the generation rate of defective pixels that do not emit light can be reduced.
【００５６】[実施例２]図７で示すように、図１に従い
作製した発光装置にアクリル、ポリイミド、ポリイミド
アミド、ポリベンゾイミダゾールなどの樹脂層１１１を
形成し、さらにその上にプラスチックやガラスなどの封
止板１１２を固着することにより、密閉性の高い発光装
置を得ることができる。封止板１１２の表面には窒化シ
リコンやＤＬＣをコーティングしておくことでガスバリ
ア性を高め、発光装置の信頼性をさらに向上させること
もできる。Example 2 As shown in FIG. 7, a resin layer 111 made of acryl, polyimide, polyimideamide, polybenzimidazole or the like is formed on the light emitting device manufactured according to FIG. 1, and plastic or glass or the like is further formed thereon. By fixing the sealing plate 112 of 1., it is possible to obtain a light-emitting device having high hermeticity. By coating the surface of the sealing plate 112 with silicon nitride or DLC, the gas barrier property can be improved and the reliability of the light emitting device can be further improved.
【００５７】[実施例３]本実施例では、有機発光素子を
備えた発光表示装置の形態を図８に示す。図８（Ａ）
は、発光装置を示す上面図であり、そのＡ−Ａ'線の断
面図を図８（Ｂ）に示す。絶縁表面を有する基板３００
（例えば、ガラス基板、結晶化ガラス基板、もしくはプ
ラスチック基板等）に、画素領域３０２、ソース側駆動
回路３０１、及びゲート側駆動回路３０３を形成する。
これらの画素領域における有機化合物層は実施例１に従
うものであり、本発明の組成物を用い、インクジェット
方式により形成する。また駆動回路については、公知の
ＴＦＴ及び回路技術を適用すれば良い。[Embodiment 3] In this embodiment, a form of a light emitting display device provided with an organic light emitting element is shown in FIG. FIG. 8 (A)
FIG. 8B is a top view showing the light emitting device, and FIG. 8B shows a sectional view taken along line AA ′. Substrate 300 having an insulating surface
The pixel region 302, the source side driver circuit 301, and the gate side driver circuit 303 are formed on a glass substrate, a crystallized glass substrate, or a plastic substrate, for example.
The organic compound layers in these pixel regions are in accordance with Example 1, and are formed by the inkjet method using the composition of the present invention. Known TFTs and circuit technology may be applied to the drive circuit.
【００５８】３１８はシール材、３１９はＤＬＣ膜であ
り、画素領域および駆動回路部はシール材３１８で覆わ
れ、そのシール材は保護膜３１９で覆われている。さら
に、接着材を用いてカバー材３２０で封止されている。
熱や外力などによる変形に耐えるためカバー材３２０は
基板３００と同じ材質のもの、例えばガラス基板を用い
ることが望ましく、サンドブラスト法などにより図８に
示す凹部形状（深さ３〜１０μm）に加工する。さらに
加工して乾燥剤３２１が設置できる凹部（深さ５０〜２
００μm）を形成することが望ましい。なお、３０８は
ソース側駆動回路３０１及びゲート側駆動回路３０３に
入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力
端子となるＦＰＣ（フレキシブルプリントサーキット）
３０９からビデオ信号やクロック信号を受け取る。318 is a sealing material, 319 is a DLC film, the pixel region and the drive circuit portion are covered with the sealing material 318, and the sealing material is covered with the protective film 319. Further, it is sealed with a cover material 320 using an adhesive material.
The cover material 320 is preferably made of the same material as the substrate 300, for example, a glass substrate, in order to withstand deformation due to heat or external force, and is processed into a recess shape (depth 3 to 10 μm) shown in FIG. 8 by a sandblast method or the like. . Recesses that can be further processed to set the desiccant 321 (depth 50 to 2
00 μm) is desirable. Reference numeral 308 denotes a wiring for transmitting a signal input to the source side driving circuit 301 and the gate side driving circuit 303, and an FPC (flexible printed circuit) that serves as an external input terminal.
A video signal and a clock signal are received from 309.
【００５９】次に、断面構造について図８（Ｂ）を用い
て説明する。基板３００上に絶縁膜３１０が設けられ、
絶縁膜３１０の上方には画素領域３０２、ゲート側駆動
回路３０３が形成されており、画素領域３０２は電流制
御用ＴＦＴ３１１とそのドレインに電気的に接続された
発光素子の一方の電極３１２を含む複数の画素により形
成される。また、ゲート側駆動回路３０３はｎチャネル
型ＴＦＴ３１３とｐチャネル型ＴＦＴ３１４とを組み合
わせたＣＭＯＳ回路を用いて形成される。これらのＴＦ
Ｔ（３１１、３１３、３１４を含む）は、公知の技術に
従い作製すればよい。Next, the sectional structure will be described with reference to FIG. An insulating film 310 is provided on the substrate 300,
A pixel region 302 and a gate side driver circuit 303 are formed above the insulating film 310, and the pixel region 302 includes a plurality of electrodes including a current control TFT 311 and one electrode 312 of a light emitting element electrically connected to its drain. Of pixels. The gate side driver circuit 303 is formed using a CMOS circuit in which an n-channel TFT 313 and a p-channel TFT 314 are combined. These TF
T (including 311, 313, and 314) may be manufactured according to a known technique.
【００６０】画素電極３１２は有機発光素子の陽極とし
て機能する。また、画素電極３１２の両端には隔壁３１
５が形成され、発光素子の電極３１２上には有機化合物
層３１６および有機発光素子の陰極３１７が形成され
る。有機化合物層３１６は正孔注入層や発光層、電子注
入層などを適宜組み合わせて形成する。その全てをイン
クジェット方式の印刷技術で形成しても良いし、実施例
１で示すようにスピン塗布法とインクジェット方式を組
み合わせて形成しても良い。The pixel electrode 312 functions as an anode of the organic light emitting device. In addition, barrier ribs 31 are formed on both ends of the pixel electrode 312.
5 is formed, and the organic compound layer 316 and the cathode 317 of the organic light emitting element are formed on the electrode 312 of the light emitting element. The organic compound layer 316 is formed by appropriately combining a hole injecting layer, a light emitting layer, an electron injecting layer, and the like. All of them may be formed by an inkjet printing technique, or may be formed by combining a spin coating method and an inkjet method as shown in the first embodiment.
【００６１】例えば、実施例１で示すように正孔注入層
としてＰＥＤＯＴから成る第１の有機化合物層を形成
し、その上に本発明のインクジェット方式による印刷装
置を用いて第２の有機化合物層を形成することができ
る。この場合、第２の有機化合物層が発光層となる。適
用する有機化合物材料は、高分子系又は中分子系のもの
が可能であり、その具体例は実施例１で示されている。For example, as shown in Example 1, a first organic compound layer made of PEDOT is formed as a hole injecting layer, and a second organic compound layer is formed on the first organic compound layer by using the ink jet printing apparatus of the present invention. Can be formed. In this case, the second organic compound layer becomes the light emitting layer. The organic compound material to be applied can be a high molecular weight material or a medium molecular weight material, a specific example of which is shown in Example 1.
【００６２】陰極３１７は全画素に共通の配線としても
機能し、接続配線３０８を経由してＦＰＣ３０９に電気
的に接続されている。さらに、画素領域３０２及びゲー
ト側駆動回路３０３に含まれる素子は全て陰極３１７、
シール材３１８、及び保護膜３１９で覆われている。ま
た、シール材３１８を用いて有機発光素子を完全に覆っ
た後、すくなくとも図８に示すようにＤＬＣ膜などから
なる保護膜３１９をシール材３１８の表面（露呈面）に
設けることが好ましい。また、基板の裏面を含む全面に
保護膜を設けてもよい。ここで、外部入力端子（ＦＰ
Ｃ）が設けられる部分に保護膜が成膜されないように注
意することが必要である。マスクを用いて保護膜が成膜
されないようにしてもよいし、マスキングテープで外部
入力端子部分を覆うことで保護膜が成膜されないように
してもよい。The cathode 317 also functions as a wiring common to all pixels, and is electrically connected to the FPC 309 via the connection wiring 308. Further, all the elements included in the pixel region 302 and the gate side driving circuit 303 are the cathode 317,
It is covered with a sealing material 318 and a protective film 319. Further, after the organic light emitting element is completely covered with the sealing material 318, it is preferable to provide a protective film 319 made of a DLC film or the like on the surface (exposed surface) of the sealing material 318 at least as shown in FIG. Further, a protective film may be provided on the entire surface including the back surface of the substrate. Here, the external input terminal (FP
It is necessary to take care so that the protective film is not formed on the portion where C) is provided. A mask may be used to prevent the protective film from being formed, or a masking tape may be used to prevent the protective film from being formed by covering the external input terminal portion.
【００６３】以上のような構造で有機発光素子をシール
材３１８及び保護膜で封入することにより、有機発光素
子を外部から完全に遮断することができ、外部から水分
や酸素等の有機化合物層の酸化による劣化を促す物質が
侵入することを防ぐことができる。従って、信頼性の高
い発光装置を得ることができる。また、画素電極を陰極
とし、有機化合物層と陽極を積層して図８とは逆方向に
発光する構成としてもよい。By encapsulating the organic light emitting element with the sealing material 318 and the protective film in the above-mentioned structure, the organic light emitting element can be completely shielded from the outside, and the organic compound layer such as moisture and oxygen can be protected from the outside. It is possible to prevent a substance that promotes deterioration due to oxidation from entering. Therefore, a highly reliable light emitting device can be obtained. Further, the pixel electrode may be used as a cathode, and the organic compound layer and the anode may be stacked to emit light in a direction opposite to that of FIG.
【００６４】[実施例７]図９はこのような発光装置の外
観を示すものであり、透明画素電極（陽極）９０１と陰
極９０６とが交差するように設けられ、その間に有機化
合物層が形成されている。透明画素電極（陽極）９０１
の間には絶縁膜９０３が形成され、その上に隔壁９０４
が形成されている。但し、この絶縁膜９０３は省略して
も構わない。有機化合物層は、インクジェット方式の他
にスピン塗布方式を適宜組み合わせて形成することが可
能である。スピン塗布法を用いる場合には隔壁９０４上
にもその被膜が形成される。[Embodiment 7] FIG. 9 shows the appearance of such a light emitting device, in which a transparent pixel electrode (anode) 901 and a cathode 906 are provided so as to intersect with each other, and an organic compound layer is formed therebetween. Has been done. Transparent pixel electrode (anode) 901
An insulating film 903 is formed between them, and a partition 904 is formed thereon.
Are formed. However, the insulating film 903 may be omitted. The organic compound layer can be formed by appropriately combining a spin coating method in addition to the inkjet method. When the spin coating method is used, the coating film is also formed on the partition wall 904.
【００６５】発光層等をインクジェット方式で形成する
場合には、昇華性を有さず、且つ分子数が１０以下、又
は連鎖する分子の長さが１０μm以下の有機化合物（中
分子化合物）を用いて形成する。これを用いてインクジ
ェット方式を用いたパターン形成を行う場合には、水
系、アルコール又はグリコール系溶剤に溶解又は分散さ
せたものを用いる。いずれにしても、インクジェット方
式を用いたパターン形成に適用可能な粘度に調整するこ
とができ、簡単かつ短時間で最適な条件の膜形成を行う
ことができる。When the light emitting layer and the like are formed by the ink jet method, an organic compound (medium molecular weight compound) having no sublimation property and having a number of molecules of 10 or less or a chain of molecules having a length of 10 μm or less is used. To form. In the case of using this to form a pattern using an inkjet method, one dissolved or dispersed in an aqueous solvent, an alcohol solvent or a glycol solvent is used. In any case, the viscosity can be adjusted so as to be applicable to the pattern formation using the inkjet method, and the film formation under the optimum conditions can be easily performed in a short time.
【００６６】インクヘッドから吐出された組成物は、隔
壁９０４の間に着弾し、乾燥させることで発光層などを
含む有機層９０５を形成することができる。有機層９０
５は各画素毎に、個々に分離形成しても良いが、図９で
示すように隔壁９０４をストライプ状に形成し、その間
に連続的に形成しても良い。いずれにしても、本発明の
組成物を用いて発光装置を作製することで、発光層を精
度良くパターン形成することができ、発光しない欠陥画
素の発生率を低減することができる。The composition ejected from the ink head is deposited between the partition walls 904 and dried to form an organic layer 905 including a light emitting layer and the like. Organic layer 90
Although 5 may be formed separately for each pixel, the partition walls 904 may be formed in a stripe shape as shown in FIG. 9 and continuously formed between them. In any case, by manufacturing a light emitting device using the composition of the present invention, the light emitting layer can be accurately patterned and the generation rate of defective pixels that do not emit light can be reduced.
【００６７】[実施例８]本発明を用いて形成された発光
装置を用いて様々な電子装置を完成させることができ
る。その様な電子装置の一例としてビデオカメラ、デジ
タルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ（ゴーグル型
ディスプレイ）、カーナビゲーション、プロジェクタ
ー、カーステレオ、パーソナルコンピュータ、携帯情報
端末（モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍
等）などが挙げられる。それらの一例を図１２、１３に
示す。[Embodiment 8] Various electronic devices can be completed by using the light emitting device formed by using the present invention. Examples of such electronic devices include video cameras, digital cameras, head mounted displays (goggles type displays), car navigations, projectors, car stereos, personal computers, personal digital assistants (mobile computers, mobile phones, electronic books, etc.), etc. Can be mentioned. Examples of those are shown in FIGS.
【００６８】図１２（Ａ）はパーソナルコンピュータで
あり、本体２００１、画像入力部２００２、表示部２０
０３、キーボード２００４等を含む。本発明を用いて形
成される発光装置は表示部２００３に組み入れることが
でき、パーソナルコンピュータを完成させることができ
る。FIG. 12A shows a personal computer, which has a main body 2001, an image input section 2002, and a display section 20.
03, keyboard 2004 and the like. The light-emitting device formed using the present invention can be incorporated in the display portion 2003 to complete a personal computer.
【００６９】図１２（Ｂ）はビデオカメラであり、本体
２１０１、表示部２１０２、音声入力部２１０３、操作
スイッチ２１０４、バッテリー２１０５、受像部２１０
６等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示
部２１０２に組み入れることができ、ビデオカメラを完
成させることができる。FIG. 12B shows a video camera, which includes a main body 2101, a display portion 2102, a voice input portion 2103, operation switches 2104, a battery 2105, and an image receiving portion 210.
Including 6 etc. The light-emitting device formed using the present invention can be incorporated in the display portion 2102 and a video camera can be completed.
【００７０】図１２（Ｃ）はモバイルコンピュータ（モ
ービルコンピュータ）であり、本体２２０１、カメラ部
２２０２、受像部２２０３、操作スイッチ２２０４、表
示部２２０５等を含む。本発明を用いて形成される発光
装置は表示部２２０５に組み入れることができ、モバイ
ルコンピュータを完成させることができる。FIG. 12C shows a mobile computer (mobile computer), which includes a main body 2201, a camera section 2202, an image receiving section 2203, operation switches 2204, a display section 2205 and the like. A light-emitting device formed using the present invention can be incorporated in the display portion 2205 and a mobile computer can be completed.
【００７１】図１２（Ｄ）はゴーグル型ディスプレイで
あり、本体２３０１、表示部２３０２、アーム部２３０
３等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示
部２３０２に組み入れることができ、ゴーグル型ディス
プレイを完成させることができる。FIG. 12D shows a goggle type display, which includes a main body 2301, a display portion 2302 and an arm portion 230.
Including 3 etc. The light emitting device formed by using the present invention can be incorporated in the display portion 2302, and a goggle type display can be completed.
【００７２】図１２（Ｅ）はプログラムを記録した記録
媒体（以下、記録媒体と呼ぶ）を用いるプレーヤーであ
り、本体２４０１、表示部２４０２、スピーカ部２４０
３、記録媒体２４０４、操作スイッチ２４０５等を含
む。なお、このプレーヤーは記録媒体としてＤＶＤ(Dig
ital Versatile Disc)、ＣＤ等を用い、音楽鑑賞や映画
鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。本
発明を用いて形成される発光装置は表示部２４０２に組
み入れることができ、ゴーグル型ディスプレイを完成さ
せることができる。FIG. 12E shows a player that uses a recording medium (hereinafter, referred to as a recording medium) in which a program is recorded, and has a main body 2401, a display section 2402, and a speaker section 240.
3, a recording medium 2404, operation switches 2405 and the like. This player uses a DVD (Dig
Ital Versatile Disc), CD, etc. can be used to enjoy music, movies, games, and the Internet. The light emitting device formed by using the present invention can be incorporated in the display portion 2402, and a goggle type display can be completed.
【００７３】図１２（Ｆ）はデジタルカメラであり、本
体２５０１、表示部２５０２、接眼部２５０３、操作ス
イッチ２５０４、受像部（図示しない）等を含む。本発
明を用いて形成される発光装置は表示部２５０２に組み
入れることができ、デジタルカメラを完成させることが
できる。FIG. 12F shows a digital camera, which includes a main body 2501, a display section 2502, an eyepiece section 2503, operation switches 2504, an image receiving section (not shown) and the like. A light-emitting device formed using the present invention can be incorporated in the display portion 2502 and a digital camera can be completed.
【００７４】図１３（Ａ）は携帯電話であり、本体２９
０１、音声出力部２９０２、音声入力部２９０３、表示
部２９０４、操作スイッチ２９０５、アンテナ２９０
６、画像入力部（ＣＣＤ、イメージセンサ等）２９０７
等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部
２９０４に組み入れることができ、デジタルカメラを完
成させることができる。FIG. 13A shows a mobile phone, which is a main body 29.
01, voice output unit 2902, voice input unit 2903, display unit 2904, operation switch 2905, antenna 290
6. Image input unit (CCD, image sensor, etc.) 2907
Including etc. A light-emitting device formed using the present invention can be incorporated in the display portion 2904 and a digital camera can be completed.
【００７５】図１３（Ｂ）は携帯書籍（電子書籍）であ
り、本体３００１、表示部３００２、３００３、記憶媒
体３００４、操作スイッチ３００５、アンテナ３００６
等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部
３００２、３００３に組み入れることができ、携帯書籍
を完成させることができる。FIG. 13B shows a portable book (electronic book) including a main body 3001, display portions 3002 and 3003, a storage medium 3004, operation switches 3005, an antenna 3006.
Including etc. The light-emitting device formed using the present invention can be incorporated in the display portions 3002 and 3003, and a portable book can be completed.
【００７６】図１３（Ｃ）はディスプレイであり、本体
３１０１、支持台３１０２、表示部３１０３等を含む。
本発明を用いて形成される発光装置は表示部３１０３に
組み入れることができ、ディスプレイを完成させること
ができる。尚、図１６（Ｃ）に示すディスプレイは中小
型または大型のもの、例えば５〜２０インチの画面サイ
ズのものである。また、このようなサイズの表示部を形
成するためには、基板の一辺が１ｍを越えるものを用
い、多面取りを行って量産することが好ましい。FIG. 13C shows a display, which includes a main body 3101, a support base 3102, a display portion 3103 and the like.
A light-emitting device formed using the present invention can be incorporated in the display portion 3103 and a display can be completed. The display shown in FIG. 16 (C) is a medium-sized or large-sized display, for example, a screen size of 5 to 20 inches. Further, in order to form a display portion of such a size, it is preferable to use a substrate whose one side is more than 1 m and to carry out multi-face cutting for mass production.
【００７７】[0077]
【発明の効果】本発明のインクジェット方式パターン形
成用組成物を用いることにより、吐出口の目詰まりが無
く、着弾形状に糸引きがなく、描画品質を高めることが
できる。また、当該組成物を用いることにより、発光装
置の生産性を向上させることができる。EFFECT OF THE INVENTION By using the ink jet pattern forming composition of the present invention, there is no clogging of the ejection port, no stringing in the landing shape, and the drawing quality can be improved. Further, by using the composition, productivity of the light emitting device can be improved.
【図１】 インクジェット方式を用いた有機発光装置の
作製工程を説明する断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of an organic light-emitting device using an inkjet method.
【図２】 インクジェット方式を用いた有機発光装置の
作製工程を説明する断面図。2A to 2C are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of an organic light-emitting device using an inkjet method.
【図３】 インクジェット方式の印刷装置の構成を説明
する図。FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of an inkjet printing apparatus.
【図４】 インクヘッドの構成の一例を説明する断面
図。FIG. 4 is a sectional view illustrating an example of the configuration of an ink head.
【図５】 有機発光素子を設ける画素の構成を説明する
上面図。FIG. 5 is a top view illustrating a structure of a pixel provided with an organic light emitting element.
【図６】 有機発光素子を設けたの画素の構成を説明す
る断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a structure of a pixel provided with an organic light emitting element.
【図７】 発光装置の封止構造に一例を示す断面図。FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of a sealing structure of a light emitting device.
【図８】 アクティブマトリクス駆動の発光装置の構成
を示す上面図及び断面図。8A and 8B are a top view and a cross-sectional view illustrating a structure of a light-emitting device driven by active matrix.
【図９】 パッシブマトリクス駆動の発光装置の画素部
の構成を説明する斜視図。FIG. 9 is a perspective view illustrating a structure of a pixel portion of a passive matrix driving light emitting device.
【図１０】 組成物の吐出と基板への付着の過程を説明
する図。FIG. 10 is a diagram illustrating a process of discharging a composition and adhering it to a substrate.
【図１１】 粘度の高い組成物の吐出と基板への付着の
過程を説明する図。FIG. 11 is a diagram illustrating a process of discharging a high-viscosity composition and adhering it to a substrate.
【図１２】 電子装置の一例を示す図。FIG. 12 illustrates an example of an electronic device.
【図１３】 電子装置の一例を示す図。FIG. 13 illustrates an example of an electronic device.
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３６５ Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｂ Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｙ Ｆターム(参考） 2C056 EA01 EA04 FB01 FC01 2H086 BA59 BA61 3K007 AB18 BA06 BB01 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 FA03 5C094 AA43 BA03 BA27 CA19 DA09 DA13 DB01 DB04 EA04 EA05 EB02 FA01 FA02 FB01 FB20 GB10 JA20 5G435 AA17 BB05 CC09 EE37 HH18 HH20 KK05 KK10 Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G09F 9/30 365 H05B 33/14 B H05B 33/14 B41J 3/04 101Y F term (reference) 2C056 EA01 EA04 FB01 FC01 2H086 BA59 BA61 3K007 AB18 BA06 BB01 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 FA03 5C094 AA43 BA03 BA27 CA19 DA09 DA13 DB01 DB04 EA04 EA05 EB02 FA01 FA02 FB01 FB20 GB10 JA20 5G435 AA17 BB05 CC09 EE37 HH18 HKK
Claims (13)
る際に用いられる発光性を有する組成物であって、当該
組成物は、昇華性を有さず、且つ分子数が２０以下の中
分子化合物を含有する組成物であることを特徴とするイ
ンクジェット方式によるパターン形成用組成物。1. A luminescent composition used for pattern formation by an inkjet method, the composition having no sublimation property and containing a medium-molecular compound having a number of molecules of 20 or less. A composition for pattern formation by an inkjet method, which is a composition.
る際に用いられる発光性を有する組成物であって、当該
組成物は、昇華性を有さず、且つ分子数が２０以下の分
子を含有する組成物であることを特徴とするインクジェ
ット方式によるパターン形成用組成物。2. A composition having a light emitting property, which is used when forming a pattern by an inkjet method, wherein the composition has no sublimation property and contains a molecule having a number of 20 or less. The composition for pattern formation by an inkjet method, wherein
る際に用いられる発光性を有する組成物であって、当該
組成物は、周期律第６族から選ばれた原子を中心金属と
し、且つ、４員環を形成するπ共役系キレート配位子を
有するキレート錯体を含有する組成物であることを特徴
とするインクジェット方式によるパターン形成用組成
物。3. A composition having a light emitting property, which is used when forming a pattern by an inkjet method, wherein the composition has an atom selected from Group 6 of the Periodic Table as a central metal and a 4-membered ring. A composition for forming a pattern by an inkjet method, which is a composition containing a chelate complex having a π-conjugated chelate ligand for forming a.
る際に用いられる発光性を有する組成物であって、当該
有機化合物は、周期律第６族から選ばれた原子を中心金
属とし、且つ、４員環を形成するπ共役系キレート配位
子を有するキレート錯体を含有する組成物であり、該有
機化合物の粘度が１〜２０cpであることを特徴とするイ
ンクジェット方式によるパターン形成用組成物。4. A composition having a light emitting property, which is used when forming a pattern by an inkjet method, wherein the organic compound has an atom selected from Group 6 of the Periodic Table as a central metal and a 4-membered ring. A composition for forming a pattern by an inkjet method, which is a composition containing a chelate complex having a π-conjugated chelate ligand for forming an organic compound, wherein the organic compound has a viscosity of 1 to 20 cp.
る際に用いられる発光性を有する組成物であって、当該
組成物は、タングステン原子を中心金属とし、且つ、４
員環を形成するπ共役系キレート配位子を有するタング
ステンキレート錯体を含有する組成物であることを特徴
とするインクジェット方式によるパターン形成用組成
物。5. A composition having a light emitting property, which is used when forming a pattern by an inkjet method, wherein the composition has a tungsten atom as a central metal, and
A composition for pattern formation by an inkjet method, which is a composition containing a tungsten chelate complex having a π-conjugated chelate ligand forming a member ring.
る際に用いられる発光性を有する組成物であって、当該
有機化合物は、タングステン原子を中心金属とし、且
つ、４員環を形成するπ共役系キレート配位子を有する
タングステンキレート錯体を含有する組成物であり、該
有機化合物の粘度が１〜２０cpであることを特徴とする
インクジェット方式によるパターン形成用組成物。6. A luminescent composition used for pattern formation by an inkjet method, wherein the organic compound is a π-conjugated chelate compound having a tungsten atom as a central metal and forming a 4-membered ring. A composition for forming a pattern by an inkjet method, which is a composition containing a tungsten chelate complex having a ligand, wherein the organic compound has a viscosity of 1 to 20 cp.
て、発光性を有する組成物に、その発光特性を変化させ
る蛍光色素が少なくとも一種含まれていることを特徴と
するインクジェット方式によるパターン形成用組成物。7. The pattern according to any one of claims 1 to 6, wherein the composition having a luminescent property contains at least one fluorescent dye that changes its luminescent property. Forming composition.
る際に用いられる発光性を有する組成物であって、当該
組成物は、昇華性を有さず、且つ分子数が２０以下の中
分子を含有する組成物を用いて、インクジェット方式に
より、前記組成物をインクヘッドから吐出させてパター
ンを形成する工程と、加熱処理により前記組成物から溶
媒を離脱させて発光層を形成する工程とを有することを
特徴とする発光装置の作製方法。8. A composition having a light emitting property, which is used when forming a pattern by an inkjet method, wherein the composition does not have a sublimation property and contains a medium molecule having a number of molecules of 20 or less. And a step of ejecting the composition from an ink head by an inkjet method to form a pattern, and a step of removing a solvent from the composition by heat treatment to form a light emitting layer. And a method for manufacturing a light emitting device.
とし、且つ、４員環を形成するπ共役系キレート配位子
を有するキレート錯体を含有する組成物を用いて、イン
クジェット方式により、前記組成物をインクヘッドから
吐出させてパターンを形成する工程と、加熱処理により
前記組成物から溶媒を離脱させて発光層を形成する工程
とを有することを特徴とする発光装置の作製方法。9. An inkjet method using a composition containing a chelate complex having an atom selected from Group 6 of the Periodic Table as a central metal and having a π-conjugated chelate ligand forming a 4-membered ring. And a step of forming a pattern by ejecting the composition from an ink head, and a step of removing a solvent from the composition by heat treatment to form a light emitting layer. .
つ、４員環を形成するπ共役系キレート配位子を有する
タングステンキレート錯体を含有する組成物を用いて、
インクジェット方式により、前記組成物をインクヘッド
から吐出させてパターンを形成する工程と、加熱処理に
より前記組成物から溶媒を離脱させて発光層を形成する
工程とを有することを特徴とする発光装置の作製方法。10. A composition comprising a tungsten chelate complex having a tungsten atom as a central metal and having a π-conjugated chelate ligand forming a 4-membered ring,
A light emitting device comprising: a step of ejecting the composition from an ink head to form a pattern by an inkjet method; and a step of removing a solvent from the composition by heat treatment to form a light emitting layer. Manufacturing method.
る第１有機化合物層を形成する工程と、該第１有機化合
物層上に周期律第６族から選ばれた原子を中心金属と
し、且つ、４員環を形成するπ共役系キレート配位子を
有するキレート錯体を含有する組成物を用いて、インク
ジェット方式により、前記組成物をインクヘッドから吐
出させて第２有機化合物層のパターンを形成する工程
と、加熱処理により前記組成物から溶媒を離脱させて発
光層を形成する工程とを有することを特徴とする発光装
置の作製方法。11. A step of forming a first organic compound layer made of a polymer compound by a spin coating method, an atom selected from Group 6 of the periodic law being a central metal on the first organic compound layer, and Using a composition containing a chelate complex having a π-conjugated chelate ligand forming a 4-membered ring, the composition is ejected from an ink head by an inkjet method to form a pattern of a second organic compound layer. A method for manufacturing a light emitting device, comprising: a step; and a step of removing a solvent from the composition by heat treatment to form a light emitting layer.
る第１有機化合物層を形成する工程と、該第１有機化合
物層上に、タングステン原子を中心金属とし、且つ、４
員環を形成するπ共役系キレート配位子を有するタング
ステンキレート錯体を含有する組成物を用いて、インク
ジェット方式により、前記組成物をインクヘッドから吐
出させて第２有機化合物層のパターンを形成する工程
と、加熱処理により前記組成物から溶媒を離脱させて発
光層を形成する工程とを有することを特徴とする発光装
置の作製方法。12. A step of forming a first organic compound layer composed of a polymer compound by a spin coating method, a tungsten atom as a central metal on the first organic compound layer, and 4
A composition containing a tungsten chelate complex having a π-conjugated chelate ligand forming a member ring is ejected from an ink head by an inkjet method to form a pattern of a second organic compound layer. A method for manufacturing a light emitting device, comprising: a step; and a step of removing a solvent from the composition by heat treatment to form a light emitting layer.
記高分子化合物としてポリエチレンジオキシチオフェン
を用いることを特徴とする発光装置の作製方法。13. The method for manufacturing a light emitting device according to claim 11 or 12, wherein polyethylenedioxythiophene is used as the polymer compound.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080409 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080409 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100811 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20101004 |