JP2003001052A - Waste gas treatment apparatus and waste treatment furnace - Google Patents
Waste gas treatment apparatus and waste treatment furnaceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、排ガス処理装置お
よびそれを備えた廃棄物処理炉に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exhaust gas treatment device and a waste treatment furnace equipped with the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、廃棄物処理炉の一種として、
図１に示すような縦型のガス化溶融炉が知られている。
かかる廃棄物処理炉１は、耐火物によって内張りされた
炉本体２の中間部に廃棄物供給装置３を備えており、当
該廃棄物供給装置３によって炉本体２内に廃棄物Ｄが供
給されるようになっている。また、炉本体２の上端に
は、廃棄物Ｄの焼却時に発生したガスを排出するための
排気口４が設けられ、さらに炉本体２の下端には、廃棄
物Ｄから生じた溶融スラグや有価金属などの溶融体Ｍを
排出するための排出口５が設けられている。なお、炉本
体２には、その内部に燃料および酸素含有ガスを供給す
るための供給装置（図示せず）が備えられている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a kind of waste treatment furnace,
A vertical type gasification melting furnace as shown in FIG. 1 is known.
The waste treatment furnace 1 is provided with a waste supply device 3 in the middle of a furnace body 2 lined with refractory material, and the waste D is supplied into the furnace body 2 by the waste supply device 3. It is like this. Further, an exhaust port 4 for discharging gas generated when the waste D is incinerated is provided at the upper end of the furnace body 2, and further, molten slag generated from the waste D and valuables are provided at the lower end of the furnace body 2. A discharge port 5 for discharging the melt M of metal or the like is provided. The furnace body 2 is provided with a supply device (not shown) for supplying the fuel and the oxygen-containing gas to the inside thereof.
【０００３】上記廃棄物供給装置３は、廃棄物供給路６
を通して、供給手段７により炉本体２内に廃棄物Ｄを供
給する。この供給手段７は、例えば、廃棄物Ｄをポンプ
などを用いて圧送する構成、あるいは不活性ガスや燃料
ガスの一部などの搬送気体と共に廃棄物Ｄを搬送して供
給する構成となっている。また、排気口４には排ガス処
理装置１１が備えられており、炉本体２内を図中破線の
矢印に沿って移動するガスは、排気口４から排出され
て、水封装置１２を構成する洗浄液槽内に導入される。
この洗浄液槽内には、例えば、水、酸、アルカリ水、よ
り具体的には塩酸や粘性有機液などの洗浄液Ｆ１が収容
されており、排気口４から排出されたガス（以下、「排
ガス」という）は、導入管（導入部）１３によって、洗
浄液Ｆ１の液面下Ｈ１の位置から洗浄液Ｆ１の中に導入
される。そして、排ガスは、洗浄液Ｆ１によって洗浄さ
れて有害成分が分離され、そして洗浄液Ｆ１の液面より
も上方に位置する上側排出口１２Ａから排気処理装置に
導入される。The waste supply device 3 has a waste supply path 6
The waste D is supplied into the furnace main body 2 by the supply means 7 through the. The supply means 7 is configured, for example, to pump the waste D by using a pump or the like, or to transport and supply the waste D together with a carrier gas such as an inert gas or a part of the fuel gas. . Further, the exhaust port 4 is provided with an exhaust gas treatment device 11, and the gas moving in the furnace main body 2 along the arrow of the broken line in the figure is discharged from the exhaust port 4 to form a water sealing device 12. It is introduced into the cleaning liquid tank.
The cleaning liquid tank contains therein a cleaning liquid F1 such as water, acid, alkaline water, more specifically hydrochloric acid or viscous organic liquid, and the gas discharged from the exhaust port 4 (hereinafter referred to as "exhaust gas"). Is introduced into the cleaning liquid F1 from the position below the liquid surface H1 of the cleaning liquid F1 by the introduction pipe (introducing portion) 13. Then, the exhaust gas is cleaned by the cleaning liquid F1 to separate harmful components, and then introduced into the exhaust treatment device from the upper outlet 12A located above the liquid surface of the cleaning liquid F1.
【０００４】また、炉本体２の排出口５には急冷装置２
１が備えられており、炉本体２内を図中実線の矢印に沿
って移動する溶融体Ｍは、排出口５から水封装置２２内
に導入される。この水封装置２２を構成する冷却液槽内
には、例えば、水、酸、アルカリ水などの冷却液Ｆ２が
収容されており、排出口５から排出された溶融体Ｍは、
導入管２３を通して、冷却液Ｆ２の液面下Ｈ２の位置か
ら冷却液Ｆ２の中に排出されることにより冷却される。A quenching device 2 is provided at the discharge port 5 of the furnace body 2.
1, the melt M moving in the furnace main body 2 along the solid line arrow in the drawing is introduced from the discharge port 5 into the water sealing device 22. In the cooling liquid tank constituting the water sealing device 22, for example, a cooling liquid F2 such as water, acid or alkaline water is stored, and the melt M discharged from the discharge port 5 is
The cooling liquid F2 is cooled by being discharged into the cooling liquid F2 from a position below the liquid level H2 through the introduction pipe 23.
【０００５】従来、このような廃棄物処理炉１の排ガス
処理装置１１にあっては、図２に示すように、排気処理
装置１４と排液処理装置（「排水処理装置」ともいう）１
５が設けられている。この排気処理装置１４は、排ガス
に含まれる有害物質を除去するためのもにであり、洗浄
液Ｆ１の液面よりも上方に位置する上側排出口１２Ａか
ら排出されるガスを導入して、そのガスを処理するよう
になっている。また、排液処理装置１５は、排水中に含
まれる有害物質を除去するためのものであり、洗浄液Ｆ
１の液面よりも下方に位置する下側排出口１２Ｂから排
出される洗浄液Ｆ１を導入して、その洗浄液Ｆ１を処理
するようになっている。Conventionally, in the exhaust gas treatment apparatus 11 of such a waste treatment furnace 1, as shown in FIG. 2, an exhaust treatment apparatus 14 and an effluent treatment apparatus (also called "wastewater treatment apparatus") 1
5 are provided. The exhaust treatment device 14 is for removing harmful substances contained in the exhaust gas, and introduces the gas discharged from the upper discharge port 12A located above the liquid surface of the cleaning liquid F1 to remove the gas. To handle. Further, the waste liquid treatment device 15 is for removing harmful substances contained in the waste water, and the cleaning liquid F
The cleaning liquid F1 discharged from the lower discharge port 12B located below the liquid level of No. 1 is introduced and the cleaning liquid F1 is processed.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、図２に示す従
来の排ガス処理装置１１においては、水封装置１２を構
成する洗浄液槽内の冷却液Ｆ１中に、一酸化炭素や水素
などの可燃成分を含むガスが混入した場合、そのガスが
排液処理装置１５内に滞留して、洗浄液Ｆ１の流通を阻
害したり、排液処理機能を低下させるおそれがあった。
また、排液処理装置１５の定期補修時には、洗浄液Ｆ１
中からの混入ガスの放出を確認しなければならなかっ
た。また、洗浄液Ｆ１中に混入した可燃性ガスは有効に
利用されていなかった。However, in the conventional exhaust gas treating apparatus 11 shown in FIG. 2, flammable components such as carbon monoxide and hydrogen are contained in the cooling liquid F1 in the cleaning liquid tank constituting the water sealing device 12. When the gas containing the gas is mixed, the gas may stay in the drainage treatment apparatus 15 to hinder the flow of the cleaning liquid F1 or reduce the drainage treatment function.
Further, when the drainage treatment device 15 is regularly repaired, the cleaning liquid F1
It was necessary to confirm the emission of mixed gas from inside. In addition, the flammable gas mixed in the cleaning liquid F1 was not effectively used.
【０００７】本発明は、上記従来の排ガス処理装置が有
する課題を有効に解決すべくなされたもので、洗浄液槽
内のガスを効率よく排出して、洗浄液の排液処理能力の
維持、排液処理設備の点検補修作業の効率化、および排
ガスの有効利用を図ることができる排ガス処理装置およ
び廃棄物処理炉を提供することを目的とするものであ
る。The present invention has been made to effectively solve the problems of the above-mentioned conventional exhaust gas treatment apparatus, and efficiently discharges the gas in the cleaning liquid tank to maintain the cleaning liquid drainage treatment capacity and drain the liquid. An object of the present invention is to provide an exhaust gas treatment device and a waste treatment furnace capable of improving the efficiency of inspection and repair work of treatment equipment and effectively utilizing exhaust gas.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の本発明に係る排ガス処理装置は、洗浄液を収容する洗
浄液槽に、上記洗浄液中に排ガスを導入する導入部、上
記洗浄液の液面よりも上方に位置する上側排出口、およ
び上記洗浄液の液面よりも下方に位置する下側排出口を
備えた排ガス処理装置において、上記下側排出口に、ガ
スを排出するためのガス排出手段を備えたことを特徴と
するものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided an exhaust gas treating apparatus according to the present invention, wherein a cleaning liquid tank containing a cleaning liquid is provided with an introduction part for introducing the exhaust gas into the cleaning liquid, and a liquid of the cleaning liquid. In an exhaust gas treatment device having an upper discharge port located above the surface and a lower discharge port located below the liquid surface of the cleaning liquid, a gas discharge for discharging gas to the lower discharge port. It is characterized by having means.
【０００９】また、請求項２に記載の排ガス処理装置
は、請求項１に記載の発明において、上記下側排出口に
備えられる上記ガス排出手段は、上記下側排出口に連通
する内部空間の上方に、ガスを捕集するためのガス捕集
部を有することを特徴とするものである。さらに、請求
項３に記載の排ガス処理装置は、請求項２に記載のガス
排出手段は、上記内部空間の天井部に、上記内部空間内
のガスを上記ガス捕集部に導くために、傾斜角が５度以
上かつ６０度未満の傾斜面を有することを特徴とするも
のである。Further, in the exhaust gas treating apparatus according to a second aspect, in the invention according to the first aspect, the gas discharging means provided in the lower outlet is an internal space communicating with the lower outlet. It is characterized in that it has a gas collecting part for collecting gas in the upper part. Further, in the exhaust gas treating apparatus according to claim 3, the gas discharging means according to claim 2 is inclined to the ceiling part of the internal space to guide the gas in the internal space to the gas collecting part. It is characterized by having an inclined surface having an angle of 5 degrees or more and less than 60 degrees.
【００１０】次いで、請求項４に記載の本発明に係る廃
棄物処理炉は、請求項１〜３のいずれかに記載の排ガス
処理装置を備え、廃棄物の焼却時に発生するガスを上記
導入部から上記洗浄液槽内に導入することを特徴とする
ものである。また、請求項５に記載の廃棄物処理炉は、
請求項４に記載の発明において、上記ガス排出手段から
排出される可燃性ガスを廃棄物処理の関連設備に供給す
る供給系を備えたことを特徴とするものであり、さらに
請求項６に記載の廃棄物処理炉は、請求項５に記載の供
給系が、少なくとも廃棄物処理炉、ガス精製装置、均質
化炉、急冷装置のいずれかに上記可燃性ガスを供給する
ことを特徴とするものである。Next, a waste treatment furnace according to a fourth aspect of the present invention is equipped with the exhaust gas treatment apparatus according to any one of the first to third aspects, and the gas generated at the time of incineration of waste is introduced into the introduction part. Is introduced into the above cleaning liquid tank. Further, the waste treatment furnace according to claim 5,
The invention according to claim 4 is characterized by further comprising a supply system for supplying the combustible gas discharged from the gas discharge means to a facility related to waste treatment, and further, the invention according to claim 6. The waste treatment furnace according to claim 5, wherein the supply system according to claim 5 supplies the combustible gas to at least one of a waste treatment furnace, a gas purification device, a homogenization furnace, and a quenching device. Is.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】図３は、本発明の一実施形態を示
すもので、図１および図２中に示した構成と同一部分に
ついては、同一符号を付してその説明を簡略化する。こ
の排ガス処理装置３０は、排気処理装置１４および排液
処理装置１５のそれぞれに、ガスを排出するためのガス
排出手段が備えられている。排液処理装置１５側のガス
排出手段は、排液処理装置１５の内部空間の上方に、洗
浄液Ｆ１中に混入したガス（以下、「混入ガス」という）
を捕集するガス収集チャンバー（ガス捕集部）３１を備
えている。そして、このチャンバー３１内に捕集された
混入ガスは、配管３２、ポンプ３３、および配管３４を
介して矢印Ａのように排出されるようになっている。FIG. 3 shows an embodiment of the present invention. The same parts as those shown in FIGS. 1 and 2 are designated by the same reference numerals to simplify the description. . In the exhaust gas treatment device 30, each of the exhaust treatment device 14 and the waste liquid treatment device 15 is provided with a gas discharge means for discharging gas. The gas discharging means on the side of the waste liquid treatment device 15 is a gas mixed in the cleaning liquid F1 above the internal space of the waste liquid treatment device 15 (hereinafter referred to as “mixed gas”).
A gas collection chamber (gas collection section) 31 for collecting the gas is provided. Then, the mixed gas collected in the chamber 31 is discharged through the pipe 32, the pump 33, and the pipe 34 as shown by an arrow A.
【００１２】この混入ガスの全て、もしくはその混入ガ
ス中の可燃性ガスは、図示されない供給系を介して、廃
棄物処理炉１やその関連設備などのガス生成系に供給さ
れる。当該ガス生成系としては、廃棄物処理炉１の後段
に接続されるガス精製装置、均質化炉、ガス精製前の急
冷装置などを挙げることができる。そのガス精製装置
は、混合ガスからＨ2 、ＣＯ等の有用成分を精製するも
のである。また、均質化炉は、溶融体Ｍの均質化を図る
ものであり、また急冷装置は、生成ガスの安定化を図る
とともに、有害物質の再生成を防止するものである。ま
た、排液処理装置１５の内部空間の天井部において、下
側排出口１２Ｂとチャンバー３１との間の部位には、傾
斜角θ１が５度以上かつ６０度未満の傾斜面３５が形成
されている。また、排水処理装置１５は、その内部空間
に導入した洗浄液Ｆ１を矢印Ｂのように排出するように
なっている。All of the mixed gas or combustible gas in the mixed gas is supplied to a gas generation system such as the waste treatment furnace 1 and its related equipment via a supply system (not shown). Examples of the gas generation system include a gas purification device connected to the latter stage of the waste treatment furnace 1, a homogenization furnace, and a quenching device before gas purification. The gas purifier purifies useful components such as H 2 and CO from the mixed gas. Further, the homogenizing furnace is for homogenizing the melt M, and the quenching device is for stabilizing the produced gas and preventing the re-generation of harmful substances. Further, in the ceiling portion of the internal space of the drainage treatment device 15, an inclined surface 35 having an inclination angle θ1 of 5 degrees or more and less than 60 degrees is formed in a portion between the lower outlet 12B and the chamber 31. There is. Further, the wastewater treatment device 15 is adapted to discharge the cleaning liquid F1 introduced into its internal space as shown by an arrow B.
【００１３】次に、以上の構成からなる排ガス処理装置
３０およびそれを備えた廃棄物処理炉１の作用について
説明する。廃棄物処理炉１の排気口４から排出された排
ガスは、水封装置１２を構成する洗浄液槽によって洗浄
され、そして上側排出口１２Ａから排気処理装置１４に
導入される。また、その洗浄液層内の洗浄液Ｆ１は、下
側排出口１２Ｂから排液処理装置１５に導入される。Next, the operation of the exhaust gas treating apparatus 30 having the above structure and the waste treatment furnace 1 provided with the apparatus 30 will be described. The exhaust gas discharged from the exhaust port 4 of the waste treatment furnace 1 is washed by the cleaning liquid tank that constitutes the water sealing device 12, and then introduced into the exhaust treatment device 14 from the upper discharge port 12A. Further, the cleaning liquid F1 in the cleaning liquid layer is introduced into the drainage treatment device 15 through the lower outlet 12B.
【００１４】そして、洗浄液Ｆ１中から分離した混入ガ
スは、排液処理装置１５の内部空間の天井部における傾
斜面３５に沿って上昇し、そしてチャンバー３１によっ
て捕集される。この際に、傾斜面３５の傾斜角θ１が５
度以上に設定されていることにより、洗浄液Ｆ１中から
分離した混入ガスは、その傾斜面３５に沿ってスムーズ
に上昇して、効率よく回収される。ちなみに、排液処理
装置１５の内部空間の天井部を水平面とした場合には、
当該水平面に混入ガスが付着して、混入ガスの分離上昇
が阻害されることになる。The mixed gas separated from the cleaning liquid F1 rises along the inclined surface 35 in the ceiling of the internal space of the waste liquid treatment device 15 and is collected by the chamber 31. At this time, the inclination angle θ1 of the inclined surface 35 is 5
Since the mixed gas separated from the cleaning liquid F1 is smoothly set up along the inclined surface 35 by being set to the degree or more, the mixed gas is efficiently collected. By the way, when the ceiling of the internal space of the drainage treatment device 15 is a horizontal surface,
The mixed gas adheres to the horizontal surface, which hinders the separation and increase of the mixed gas.
【００１５】また、傾斜面３５の傾斜角θ１を６０度未
満に設定することにより、排液処理装置１５の大型化を
抑えつつ、混入ガスを効率よく回収することができる。
仮に、傾斜面３５の傾斜角θ１を６０度以上に設定する
と、排液処理装置１５全体の大型化、および設備費など
の増大を招いて不適当である。また、この排液処理装置
１５のチャンバー３１内に捕集した混入ガスを、前述し
たようなガス生成系に供給することにより、その混入ガ
ス中の可燃性ガスを有効に利用することができる。Further, by setting the inclination angle θ1 of the inclined surface 35 to be less than 60 degrees, it is possible to efficiently collect the mixed gas while suppressing the size increase of the drainage treatment device 15.
If the inclination angle θ1 of the inclined surface 35 is set to 60 degrees or more, it is unsuitable because it causes an increase in the size of the entire waste liquid treatment device 15 and an increase in equipment costs. Further, by supplying the mixed gas collected in the chamber 31 of the waste liquid treatment device 15 to the gas generation system as described above, the combustible gas in the mixed gas can be effectively used.
【００１６】このように、排液処理装置１５において混
入ガスを効率よく分離回収することにより、排液処理装
置１５の処理機能の低下を防止することができ、また排
液処理装置１５の定期補修を効率よく実施することがで
きる。これを具体的に示せば、１５０トン／日の廃棄物
処理設備において上記構成からなる排液処理装置１５を
採用した場合には、８ｍ3 ／分のガスを回収することが
でき、また、排液処理装置１５の処理機能を維持するた
めに、排液処理装置１５を一時停止して滞留ガスを放出
させる必要もなくなった。これに対して、従来のものに
あっては、排液処理装置１５を１日に１〜４回程度一時
停止させて、その内部の滞留ガスを放出させる必要があ
った。As described above, by efficiently separating and collecting the mixed gas in the waste liquid treatment device 15, it is possible to prevent the deterioration of the processing function of the waste liquid treatment device 15, and to perform the regular repair of the waste liquid treatment device 15. Can be carried out efficiently. Specifically, when the waste liquid treatment device 15 having the above-mentioned configuration is adopted in the waste treatment facility of 150 tons / day, 8 m 3 / min of gas can be recovered, and In order to maintain the processing function of the liquid processing device 15, it is not necessary to suspend the drainage processing device 15 to release the residual gas. On the other hand, in the conventional device, it is necessary to temporarily stop the drainage treatment device 15 about 1 to 4 times a day to release the stagnant gas therein.
【００１７】[0017]
【発明の効果】以上説明したように、請求項１に記載の
排ガス処理装置によれば、洗浄液を収容する洗浄液槽に
おける下側排出口に、ガスを排出するためのガス排出手
段を備えたことにより、洗浄液槽内のガスを効率よく排
出して、洗浄液の排液処理能力の維持、排液処理設備の
点検補修作業の効率化、および排ガスの有効利用を図る
ことができる。As described above, according to the exhaust gas treating apparatus of the first aspect, the lower discharge port of the cleaning liquid tank containing the cleaning liquid is provided with the gas discharging means for discharging the gas. Thus, it is possible to efficiently discharge the gas in the cleaning liquid tank, maintain the cleaning liquid drainage treatment capacity, improve the efficiency of the drainage treatment facility inspection and repair work, and effectively use the exhaust gas.
【００１８】また、請求項２に記載の排ガス処理装置に
よれば、洗浄液槽の下側排出口に連通する内部空間の上
方に、ガスを捕集するためのガス捕集部を有することに
より、ガスを効率よく捕集することができ、さらに請求
項３に記載の排ガス処理装置によれば、洗浄液槽の下側
排出口に連通する内部空間の天井部に、その内部空間内
のガスをガス捕集部に導くために、傾斜角が５度以上か
つ６０度未満の傾斜面を有することにより、一層効率よ
くガスを捕集することができるといった効果が得られ
る。Further, according to the exhaust gas treating apparatus of the second aspect, by having the gas collecting portion for collecting gas above the internal space communicating with the lower outlet of the cleaning liquid tank, The gas can be collected efficiently, and further, according to the exhaust gas treating apparatus of claim 3, the gas in the internal space is gas-separated in the ceiling part of the internal space communicating with the lower outlet of the cleaning liquid tank. In order to guide the gas to the collecting portion, the inclined surface having an inclination angle of 5 degrees or more and less than 60 degrees has the effect of more efficiently collecting the gas.
【００１９】また、請求項４に記載の廃棄物処理炉によ
れば、請求項１〜３のいずれかに記載の排ガス処理装置
によって、廃棄物の焼却時に発生するガスを導入するこ
とにより、廃棄物処理設備において、洗浄液槽内のガス
を効率よく排出して、洗浄液の排液処理能力の維持、排
液処理設備の点検補修作業の効率化、および排ガスの有
効利用を図ることができ、請求項５に記載の廃棄物処理
炉は、ガス排出手段から排出される可燃性ガスを廃棄物
処理の関連設備に供給することにより、排ガスを有効利
用することができる。さらに、請求項６に記載の廃棄物
処理炉によれば、可燃性ガスを少なくとも廃棄物処理
炉、ガス精製装置、均質化炉、急冷装置のいずれかに供
給して有効利用することができる。According to the waste treatment furnace of the fourth aspect, the waste gas treatment apparatus according to any of the first to third aspects introduces the gas generated at the time of incineration of the waste to dispose of the waste. It is possible to efficiently discharge the gas in the cleaning liquid tank in the material processing facility, maintain the cleaning liquid drainage processing capacity, improve the efficiency of the inspection and repair work of the drainage liquid processing facility, and effectively use the exhaust gas. The waste treatment furnace according to Item 5 can effectively use the exhaust gas by supplying the combustible gas discharged from the gas discharge means to the facility related to the waste treatment. Furthermore, according to the waste treatment furnace of the sixth aspect, the combustible gas can be supplied to at least one of the waste treatment furnace, the gas purification device, the homogenization furnace, and the quenching device for effective use.
【図１】廃棄物処理炉の一例を説明するための概略構成
図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram for explaining an example of a waste treatment furnace.
【図２】従来の排ガス処理装置を説明するための概略構
成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram for explaining a conventional exhaust gas treatment apparatus.
【図３】本発明の排ガス処理装置を説明するための概略
構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram for explaining an exhaust gas treatment apparatus of the present invention.
１ 廃棄物処理炉 ２ 炉本体 ３ 廃棄物供給装置 ４ 排気口 ５ 排出口 ６ 廃棄物供給路 ７ 供給手段 １１ 排ガス処理装置 １２ 水封装置 １２Ａ 上側排出口 １２Ｂ 下側排出口 １３ 導入管（導入部） １４ 排気処理装置 １５ 排液処理装置 ２１ 急冷装置 ２２ 水封装置 ２３ 導入管 ３０ 排ガス処理装置 ３１ ガス収集チャンバー ３２，３４ 配管 ３３ ポンプ ３５ 傾斜面 Ｄ 廃棄物 Ｍ 溶融体 Ｆ１ 洗浄液 Ｆ２ 冷却液 1 Waste treatment furnace 2 furnace body 3 Waste supply device 4 exhaust port 5 outlets 6 Waste supply route 7 Supply means 11 Exhaust gas treatment equipment 12 Water sealing device 12A upper outlet 12B Lower outlet 13 Introductory pipe (introduction section) 14 Exhaust treatment device 15 Wastewater treatment device 21 quenching device 22 Water seal device 23 Introductory pipe 30 Exhaust gas treatment equipment 31 gas collection chamber 32, 34 piping 33 pumps 35 inclined surface D waste M melt F1 cleaning solution F2 coolant
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山手 一記 東京都文京区小石川１−３−25 小石川大 国ビル 三菱マテリアル株式会社環境リサ イクル事業センター内 (72)発明者 小野下 敏雄 東京都文京区小石川１−３−25 小石川大 国ビル 三菱マテリアル株式会社環境リサ イクル事業センター内 (72)発明者 荒川 茂宏 東京都文京区小石川１−３−25 小石川大 国ビル 三菱マテリアル株式会社環境リサ イクル事業センター内 Ｆターム(参考） 3K070 DA12 DA36 4D002 AC10 BA02 CA06 DA26 DA35 EA05 EA07 4D020 AA10 BA01 BA12 BA15 BA23 BB03 BB04 CB01 CC06 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Kazu Yamate 1-3-25 Koishikawa, Bunkyo-ku, Tokyo Koishikawa Univ. Kuni Building Mitsubishi Materials Corporation Environmental Lisa Uccle Business Center (72) Inventor Toshio Onoshita 1-3-25 Koishikawa, Bunkyo-ku, Tokyo Koishikawa Univ. Kuni Building Mitsubishi Materials Corporation Environmental Lisa Uccle Business Center (72) Inventor Shigehiro Arakawa 1-3-25 Koishikawa, Bunkyo-ku, Tokyo Koishikawa Univ. Kuni Building Mitsubishi Materials Corporation Environmental Lisa Uccle Business Center F-term (reference) 3K070 DA12 DA36 4D002 AC10 BA02 CA06 DA26 DA35 EA05 EA07 4D020 AA10 BA01 BA12 BA15 BA23 BB03 BB04 CB01 CC06
Claims (6)
液中に排ガスを導入する導入部と、上記洗浄液の液面よ
りも上方に位置する上側排出口と、上記洗浄液の液面よ
りも下方に位置する下側排出口とを備えた排ガス処理装
置において、 上記下側排出口に、ガスを排出するためのガス排出手段
を備えたことを特徴とする排ガス処理装置。1. A cleaning liquid tank containing a cleaning liquid, an introducing portion for introducing exhaust gas into the cleaning liquid, an upper discharge port located above the liquid surface of the cleaning liquid, and below the liquid surface of the cleaning liquid. An exhaust gas treatment apparatus having a lower exhaust port located therein, characterized in that the lower exhaust port is provided with gas exhaust means for exhausting gas.
出手段は、上記下側排出口に連通する内部空間の上方
に、ガスを捕集するためのガス捕集部を有することを特
徴とする請求項１に記載の排ガス処理装置。2. The gas discharge means provided in the lower discharge port has a gas collecting portion for collecting gas above an internal space communicating with the lower discharge port. The exhaust gas treatment device according to claim 1.
井部に、上記内部空間内のガスを上記ガス捕集部に導く
ために、傾斜角が５度以上かつ６０度未満の傾斜面を有
することを特徴とする請求項２に記載の排ガス処理装
置。3. The gas discharging means has an inclined surface having an inclination angle of 5 degrees or more and less than 60 degrees on the ceiling of the internal space in order to guide the gas in the internal space to the gas collecting section. The exhaust gas treatment apparatus according to claim 2, characterized by having.
ガス処理装置を備え、廃棄物の焼却時に発生するガス
を、上記導入部から上記洗浄液槽内に導入することを特
徴とする廃棄物処理炉。4. A waste product comprising the exhaust gas treatment device according to claim 1, wherein a gas generated at the time of incineration of the waste product is introduced into the cleaning liquid tank from the introduction part. Processing furnace.
ガスを、廃棄物処理の関連設備に供給する供給系を備え
たことを特徴とする請求項４に記載の廃棄物処理炉。5. The waste treatment furnace according to claim 4, further comprising a supply system for supplying the combustible gas discharged from the gas discharge means to a facility related to waste treatment.
炉、ガス精製装置、均質化炉、急冷装置のいずれかに上
記可燃性ガスを供給することを特徴とする請求項５に記
載の廃棄物処理炉。6. The waste product according to claim 5, wherein the supply system supplies the combustible gas to at least one of a waste treatment furnace, a gas purification device, a homogenization furnace, and a quenching device. Processing furnace.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001186159A JP2003001052A (en) | 2001-06-20 | 2001-06-20 | Waste gas treatment apparatus and waste treatment furnace |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011168430A (en) * | 2010-02-17 | 2011-09-01 | Mitsubishi Materials Corp | Polymer treating apparatus and treating method |
| CN107504489A (en) * | 2017-07-26 | 2017-12-22 | 固始县三利朗肯节能装备制造有限公司 | A kind of house refuse is decomposed and exhaust treatment system |
-
2001
- 2001-06-20 JP JP2001186159A patent/JP2003001052A/en not_active Withdrawn
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| CN107504489A (en) * | 2017-07-26 | 2017-12-22 | 固始县三利朗肯节能装备制造有限公司 | A kind of house refuse is decomposed and exhaust treatment system |
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Legal Events
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