JP2002525592A - 磁界測定センサー - Google Patents

磁界測定センサー

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JP2002525592A
JP2002525592A JP2000571095A JP2000571095A JP2002525592A JP 2002525592 A JP2002525592 A JP 2002525592A JP 2000571095 A JP2000571095 A JP 2000571095A JP 2000571095 A JP2000571095 A JP 2000571095A JP 2002525592 A JP2002525592 A JP 2002525592A
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JP2000571095A
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ヤコブ シェルテン
ラルフ レーマン
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フォルシュングスゼントルム ユーリヒ ゲーエムベーハー
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    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N52/00Hall-effect devices
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/548Amorphous silicon PV cells

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  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measuring Magnetic Variables (AREA)

Abstract

(57)【要約】 本発明は、磁界を計るためのセンサーに関するものである。本発明のセンサーは、数層の電気的な半導体の層より成っており、ホール調査と比較してより高い計測感度を有している。前述の層は、逆方向に接続されているパワーダイオードの形に配置されており、陽極層と陰極層とその2つの層を囲む本質導電層より成っている。陽極層はいくつかの陽極層域に絶縁部分によって細分される。これらの陽極層域は互いに絶縁されている。陰極層は、反対側をドープ塗料で絶縁された絶縁部分の反対側に注水域を有している。電子ビームは、注入電圧を前述の注水器域に印加することによって、注射器域と陽極の間で形成される。電子ビームは、均一な部分的電流の形で接地された陽極層域の全域に配送される。本質導電層において形成された磁場のそばで、電子ビームはその流れを変えさせられ、接地された陽極層域で異なる強さの部分的電流になる。磁場は、これらの部分的電流の力の違いを計ることによって計測されることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 当発明は、多層電子半導体層よりなる磁界測定センサーである。
【0002】 磁界測定センサーは、今日多方面に利用されている。例を取れば、オートマ技
術、制御技術、計測技術がある。センサーは、接触することなく間隔を測定し、
回転数を決定し、位置を確認するために使われる。情報技術では、たとえば、固
定プレートに磁気的にプールされているデジタルデータをミニ磁界センサーが読
み取る。分解不能の材料分析には、高感度磁界センサーが、物質不良欠陥を感知
する。また、医学上の診断にも超高感度センサーが導入され、生体磁力の量化に
一役買っている。
【0003】 広く多岐にわたる応用に対応すべく、センサーが満たすべき諸条件も多種多様で
ある。いろいろな材質(金属、半導体、超伝導体)のセンサー、多様な物理原理
に基づくセンサーが必要になる。
【0004】 各センサーは、大まかに次ぎのようにタイプ分けできる。 ―フィールドプレート、音響ゾンデ、磁気ダイオード、半導体磁気トランジスタ
ー、 ―金属と絶縁体からなる、磁気抵抗性均質層・粒状層並びに層組織 ―超伝導体のSQUIDS
【0005】 最もよく利用されるセンサータイプ NiSb針付InSb製フィールドプレート シリジウムまたはIII/V半導体の音響ゾンデ 均質な薄磁気金属層、たとえばNiFeよりなる磁気抵抗性AMRセンサー 最低二層の磁気金属層と一層の非金属層からなるGMRセンサー 作業温度が4Kから80Kにわたる超伝導体NbまたはYBCOからなるSQUIDS
【0006】 磁界や磁界の変化に応じてセンサーの感度は、前記一覧の上から下へ徐々に増
大する。
【0007】 各センサータイプの機能に関して、以下手短に述べる。
【0008】 フィールドプレート〔1〕の抵抗変化の原因、音響圧[2]の原因は、電荷が
磁界上を動く際、電荷に生じるローレンツ力である。
【0009】 AMRセンサー[3]では、抵抗の変化は、先導電子の磁気拡散に基づく。磁気
拡散は、電流方向に比例した磁気化の方向にしたがって変化する。
【0010】 GMR[4]では、機能は、また、境界面における非等方性の拡散に依拠するが
、非等方性拡散は、両磁気化が相互に形成する角度に依存している。
【0011】 SQUIDS[5]では、磁気の働きは、超伝導体リングにおける磁気流が要素流体
量子の倍量でなければならないという原理によって決定される。
【0012】 当発明の課題は、高感度で、極小の磁界の測定や磁界変化の測定にも対応でき
る磁界測定のセンサーを創出することにある。このセンサーは、さらに、室温で
作動可能であり、決してヒステリシス現象を生じないものでなければならない。
【0013】 この課題の解決には、該当センサーは、1の条件、すなわち、遮断方向に始動
されるダイオードもしくはピンダイオードの形で配列された、多層の電気半導層
からなるという条件を満たしていなければならない。このような層配列は、一陽
極層、一陰極層、その間に、ある独自伝導層となっている。陽極層は、例えば、
帯状絶縁部分によって、相互に絶縁した陽極層の領域に区分されている。陰極層
は、絶縁部分に向かい合う領域上に、対立して設定されたインゼクタ領域を示し
ている。陽極層と陰極層は、遮断圧によって結合されているため、層配列は遮断
方向にバイアス電圧がかけられている。陰極層のインゼクタ領域では、注入(イ
ンゼクション)電圧がかけられる。それによって、インゼクタ領域と陽極の間に
、電子ビームが形成されるが、それは、注入(インゼクション)された電子が、
陰極のインゼクタ領域から反対側の陽極に移動するためである。その際、熱拡散
によって電子ビームの分散が生じる。この分散した電子ビームは、互いに絶縁さ
れた各陽極層領域に、均一にぶつかる。陽極層領域は、それぞれ各電流計を通し
て、接地がなされている。したがって、陽極層領域数に応じて、全電子ビームの
対応した一定部分が、それぞれ各陽極層に当たるわけである。電子ビームのこの
部分は、電流という形で、各電流計により測定できる。
【0014】 一方、独自伝導層においては、磁界が、インゼクタ領域と陽極層間を動く電子
ビームの拡散方向に、向かって位置している。その場合、流れる電子にはローレ
ンツ力が働き、ローレンツ力は、電子ビームを回折させる。この電子ビームの回
折の影響で、相互に絶縁した陽極層領域に、全電子ビームの量のうちの、別々の
部分がぶつかることになり、結果として、陽極層領域の部分電流がそれに伴って
変化する。このような部分電流の変化から、磁界が算定される。
【0015】 当磁界測定センサーの機能について、以下の2つの製造型を例に取り、図解で
詳細に解説する。
【0016】 図1は、磁界測定センサーの立体像を示す。センサーは、電気半導層からなる
一連の層からなる。最上層は、この例では、pに設定された層でできた陰極層
2である。最下層は、この例では、nに設定された層でできた陽極層4である
。これらの層の間に独自伝導層3が配される。
【0017】 陽極層4は、複数の相互に絶縁された陽極層領域に分けられる。ここで示され
た例では、陽極層4は、2つの陽極層、4aと4bに分割される。陽極層領域4
aと4bの間には、この両領域を相互に絶縁するために、絶縁部分5が位置する
。絶縁部分5は、このモデル例では、絶縁ベルトという形を取る。
【0018】 陰極層2には、陽極層4の絶縁部分5に向かい合った部分で、いわゆるインゼ
クタ領域1がある。インゼクタ領域は、この場合、nに設定されている。
【0019】 図2は、当センサーの、この一まとまりの層に電気がとおっている状態を示す
。このひとまとまりの層は、ここでは断面図で表される。左側には、pに設定
された陰極層2が見えるが、陰極層2には、その中央に、nに設定されたイン
ゼクタ領域1が付加されている。右側は、絶縁部分5によって相互に絶縁された
両陽極層領域4aと4bを示す。陽極と陰極の間には、独自伝導層3がある。各
陽極層領域4a、4bは、ここで図式的に示した電流計8a、8bによって接地
されている。上部陽極層領域4aの電流計を流れる電流は、この場合、Jlによ
って示され、下部陽極層領域4bを流れる電流は、Jrによって示される。
【0020】 陰極層2と、負の電圧−U2をかける遮断電圧源7は結合されている。遮断電
圧は、独自伝導層の通常の材質、つまり、独自伝導層が剰余伝導率 約10‐4
Ω−cm−1、500m厚さである場合、約100Vになる。インゼクタ領域1は、こ
の領域に負の電圧−U1をかけるインゼクタ電圧源6と結合されている。負の電圧
−U1は陰極ポテンシャルより幾分低めに設定されている。
【0021】 続いて、センサーの機能について、図3をもとに解説する。図3は、図2と同
じ像を示す。電子ビームの動きと磁界が付加されている。
【0022】 遮断電圧U2の負荷によって陰極層2と陽極層4の間には、磁界が生じるが、そ
の大きさは、 E=U2/L (1) Lは、独自伝導層3の厚さを示す。
【0023】 インゼクション電圧U1によって、インゼクタ領域1と、陽極層領域4aと4
bからなる陽極層4との間に、電子ビーム9が形成される。それは、インゼクタ
領域1から注入(インゼクション)された電子が陽極層4に流動するためである
。電子の流動速度vDは、電子の可動性μeと先行の磁界 Exによって得られ
る。 vD= μeEx (2)
【0024】 それにより、陰極と陽極の間の距離L上の流動時間 tDは、次ぎのようになる。 tD=L/vD (3)
【0025】 この時間内に、流動する電子ビーム9は、熱拡散によって広がる。このことは
、図3において、電子ビーム9の、左方陰極層2から、右方陽極層4への動きに
よって示される。陽極層4において、これは、カーブ11に示されるように、つ
りがね状電荷分散となる。陽極層における電荷分散は、バリアンツ <y21/2
を示す。その算定は、次ぎの通り。 <y1/2=(D tD)1/2 (4)
【0026】 アインシュタイン連関を用いると、 μe=(q/kT)D (5)
【0027】 前述の(1)から(3)までの等式によって、次の式が得られる。 <y1/2=(kT/qU2)1/2L (6)
【0028】 このとき、この等式では、kがボルツマン定数、Tが温度、qが電子の初期電
荷を示す。
【0029】 300Kの室温では、U2=100Vの遮断電圧、L=300μmの独自伝導層
幅によって、ヴァリアンツ<y1/2=4.8μmの電子ビーム拡張が得られ、5
00μ mの幅Lでは、ヴァリアンツ<y1/2=8μmの拡張が得られる。
【0030】 これらビーム拡張の大きさが、インゼクタ領域1の幅と絶縁部分5の幅を固定
する。つまり、これらの幅は、拡張<y2>1/2を超えてはならない。だが、そ
れは、上述の例に挙げた数値で、容易に実現可能である。
【0031】 陰極層2のインゼクタ領域1が、陽極層4の絶縁部分5と向かいあって配列さ
れているため、また、陽極層4が同じ大きさの陽極層4aと4bに分割されてい
るため、このシンメトリックな配列により、2つの同じ大きさの電流JlとJr
が、陽極層4aならびに4bに向かうことになる。これらの電流は、電流計8a
及び8bによって計測される。
【0032】 大きさBの磁界10が、独自伝導層3における電子ビーム9の拡散方向に垂直
に位置するとすれば、電子ビームは回折される。電子ビーム中に浮動する電子に
は、ローレンツ力が働く。ローレンツ力は、電子斜フィールド Eyのように作用
する。 Ey=(μeB)Ex (7)
【0033】 これは、陽極層4に達する電子に対しては、回折yBへと導く。 YB=(μeB)L (8)
【0034】 ここで提示された例においては、陽極層4の電圧分散が上に押し上げられたカ
ーブになる。これは、図3の点線の電圧分散カーブ12で示される。それによっ
て、陽極層領域4aの電流Jlが増加し、陽極層領域4bの電流Jrが減少する。
したがって、電流の対称性は損なわれる。
【0035】 陽極層4における電子ビーム9の回折YBが、電子ビーム分散のヴァリアンツ
<y21/2と同じようになるとすれば、非対称であることがはっきりしてくるが
、それは、電流商Qj(B)によって得られる。 Qj(B)=(Jr−Jl)/(Jr+Jl) (9) Qj(B)は、ほぼ値1を取る。
【0036】 磁界Blがそこに加わる。 Bl=(1/μe)(kT/qU21/2 (10)
【0037】 これらの等式は、もはや電子の浮動距離、つまり、独自伝導層3の幅Lを含ま
ない。電流商Qj(B)は、磁界が存在しない場合、値0になる。電流商は、磁
界が等式(10)にしたがって値Blへ変化すると、値−1あるいは+1に単調
に変化する。
【0038】 センサーの磁界感度は、次の上昇によって表される。 δQJ(B)/B=l/Bl=μe(qU2/kT)1/2 (11)
【0039】 すでに前述した数値およびシリジウム中の電子の可動性 e=1000cm2V−1
−1によって、6,2T−1の磁界感度値が得られる。対応する数値は、例えば、
音響ゾンデ 0,1T−1で得られる。したがって、該当のゾンデは、音響ゾンデと
比較して、ファクター(qU2/kT)1/2=62感度の向上が期待できる。
【0040】 前図で示されたセンサーでは、陽極層4は、バンド状の絶縁部分5によって分
離された、2つの同じ大きさの陽極層領域4aと4bに区分された。そのため、
陰極層2の、絶縁部分5に向かい合ったインゼクタ領域1は、同じく帯様の形で
ある。こうした形態のセンサーは、インゼクタ領域の縦方向へ伸びる、磁界の場
コンポーネントしか測定できない。(図3では、これは、図の平面の中へ、ある
いは、平面から外へと伸びる磁界の場コンポーネント)
【0041】 図4は、磁界測定センサーの新型製造モデルを示す。ここでは、陽極層は、4
つの同じ大きさの陽極層領域4a、b、c、dに分割される。対応する絶縁部分
5は、さらに、2つの直角に交差する帯5aと5bから成る。陰極層2のインゼ
クタ領域1は、ここでは、直接絶縁部分5aと5bの交差点に向き合って配列さ
れた、正方面の形になっている。
【0042】 それによって、磁界の両コンポーネントを、電子ビーム9の拡散方向に垂直に
決定することが可能である。さらに、陽極層領域4a、4b、4c、4dの電流
J1、J2、J3、J4が測定される。一方の磁界コンポーネントを決定するに
は、差 Jr−Jlが作られ、もう一方のコンポーネントを決定するには、差J
o−Juが作られる。その際、もし、図4から、電流のそれぞれの記号を選択す
るなら、 Jr=J1+J4 (11) Jl=J2+J3 (12) Jo=J1+J2 (13) Ju=J3+J4 (14)
【0043】 磁界がないとき、提示された対称的な配列において、全ての4つの総電流は、
等式(11)から(14)と同じ大きさであり、したがって、差電流Jr−Jl
とJo−Juは、ゼロである。
【図面の簡単な説明】
【図1】センサーの立体図
【図2】電圧のかかった状態のセンサーの断面図
【図3】図2と同様の図、ただし、電子ビームと磁界の動きが加えられている
【図4】磁界測定センサーの、もう一つの製造モデル
【符号の説明】
1 インゼクタ領域 2 陰極層 3 独自伝導層 4 陽極層 4a、b、c、d 陽極層領域 5 絶縁部分 5a、b 新型製造モデルの交差する絶縁部分 6 インゼクション電圧源 7 遮断電圧源 8a,b,c,d 電流計 9 電子ビーム 磁界 磁界のない電圧分配カーブ 磁界によってずれた電圧分配カーブ L 独自伝導層の幅=陰極と陽極の距離 U1 インゼクタ電圧 U2 遮断電圧 vD 電子の浮動速度 tD 電子の浮動時間 e 電子の運動 EX x方向(陰極と陽極)の電磁場 Ey 電気斜場 <y1/2 電圧分散のヴァリアンツ yB 電気斜場による電子の回折の大きさ 旧型製造型式: Jl 陽極層領域4aにおける電流 Jr 陽極層4bにおける電流 Qj 電流商 B1 磁界 新型製造モデル: J1 陽極層4aの電流 J2 陽極層4bの電流 J3 陽極層4cの電流 J4 陽極層4dの電流 Jr 両右方陽極層領域の電流 Jl 両左方陽極層領域の電流 Jo 両上方陽極層領域の電流 Ju 両下方陽極層領域の電流

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多層電気半導層からなる磁界測定センサー 特性 センサーは、遮断方向で始動されるダイオードを形成する、連続するプラナー半
    導層からなる一連の層で構成されている。 一連の層の内訳は、 −1陰極層(2) −1陽極層(4) −その間の独自伝導層(3) 陽極層(4)は、絶縁部分(5)によって相互に絶縁された陽極層領域(4a,b
    ,c,d)に分割されている。 陰極層(2)には、陽極層(4)上の絶縁部分(5)に向かい合う領域に、向き
    合ったインジェクション領域(1)がある。 インジェクション領域(1)は、陰極層(2)においては、インジェクション圧
    源で結合されている。 陰極層(2)は、遮断圧源で結合され、陽極層領域(4a,b,c,d)は、それぞ
    れ電流計(8a,b,c,d)によって接地されている。
  2. 【請求項2】 請求項1に基づくセンサー 特性 −陰極層(2)は、pに設定された層からなる。 −陽極層(4)は、nに設定された層からなる。 −インゼクタ領域(1)はnに設定された層からなる。
  3. 【請求項3】 請求項1に基づくセンサー 特性 −陰極層(2)は、nに設定された層からなる。 −陽極層(4)は、pに設定された層からなる。 −インゼクタ領域(1)は、pに設定された層からなる。
  4. 【請求項4】 上記請求項のうちの1つに基づくセンサー 特性 陽極層(4)は、帯状絶縁部分(5)によって、2つの平行する陽極層領域(4
    a、b)に分割されている。
  5. 【請求項5】 上記請求項のうちの1つに基づくセンサー 特性 陽極層(4)は、2つの帯状の、垂直に交差する絶縁部分(5)によって、4つ
    の平行な陽極領域(4a、b、c、d)に分割される。
  6. 【請求項6】 上記請求項のうちの1つに基づくセンサー 特性 低い設定とホール及び電子の高い可動性を備えた半導体素材から成る。
  7. 【請求項7】 1から5までの請求項のうちの1つに基づくセンサー 特性 シリジウムから製造
  8. 【請求項8】 1から5までの請求項のうちの1つに基づくセンサー 特性 センサーは、元素周期組織III主要グループの元素とV主要グループの元素である
    、半導素材から成る。
JP2000571095A 1998-09-01 1999-08-19 磁界測定センサー Withdrawn JP2002525592A (ja)

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DE19839671A DE19839671C2 (de) 1998-09-01 1998-09-01 Sensor zur Messung eines Magnetfeldes
DE19839671.6 1998-09-01
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EP (1) EP1114472A2 (ja)
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DE (1) DE19839671C2 (ja)
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10133123C2 (de) * 2001-07-07 2003-05-08 A B Elektronik Gmbh GMR-Modul
US9155798B2 (en) * 2007-08-24 2015-10-13 Regents Of The University Of Minnesota Receptor-targeting reagents containing epidermal factor receptor-binding agents and IL-13 receptor-binding agents or IL-4 receptor-binding agents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1764897A1 (de) * 1968-08-28 1971-12-02 Telefunken Patent Halbleiteranordnung zur Anzeige magnetischer Felder
US4939563A (en) 1989-08-18 1990-07-03 Ibm Corporation Double carrier deflection high sensitivity magnetic sensor
US5808349A (en) * 1994-02-28 1998-09-15 Apti Inc. Magnetized photoconductive semiconductor switch

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