JP2002523768A - Bolometer with meandering stress-harmonic part - Google Patents

Bolometer with meandering stress-harmonic part

Info

Publication number
JP2002523768A
JP2002523768A JP2000567921A JP2000567921A JP2002523768A JP 2002523768 A JP2002523768 A JP 2002523768A JP 2000567921 A JP2000567921 A JP 2000567921A JP 2000567921 A JP2000567921 A JP 2000567921A JP 2002523768 A JP2002523768 A JP 2002523768A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bolometer
level
stress
meandering
electrically connected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000567921A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
ジュ、サング、ベク
Original Assignee
デーウー・エレクトロニクス・カンパニー・リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by デーウー・エレクトロニクス・カンパニー・リミテッド filed Critical デーウー・エレクトロニクス・カンパニー・リミテッド
Priority claimed from PCT/KR1998/000265 external-priority patent/WO2000012984A1/en
Publication of JP2002523768A publication Critical patent/JP2002523768A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 赤外線ボロメーターは、アクティブマトリックスレベル、支持レベル、一対のポスト、及び吸収レベルを含む。前記アクティブマトリックスレベルは、一対の接続端子を有する基板を含む。前記支持レベルは、一対の支持橋脚を含み、前記各々の支持橋脚は、その上部に形成された伝導線を含み、ここで前記伝導線の一端は、対応する前記接続端子に電気的に接続されている。前記吸収レベルは、吸収体により取り囲まれた蛇行状のボロメーター要素と、前記吸収体の下部に形成された蛇行状の応力調和部とを含む。前記吸収体内で均一に分布する圧縮応力を形成するために、前記蛇行状のボロメーター要素と同一形状で同一材料からなる、90度の角度をなして形成されている前記蛇行状の応力調和部が形成され、前記吸収レベルは撓むことなく、最適の吸収効率を保障することができる。 (57) Abstract An infrared bolometer includes an active matrix level, a support level, a pair of posts, and an absorption level. The active matrix level includes a substrate having a pair of connection terminals. The support level includes a pair of support piers, each of the support piers includes a conductive wire formed thereon, wherein one end of the conductive wire is electrically connected to a corresponding one of the connection terminals. ing. The absorption level includes a meandering bolometer element surrounded by an absorber and a meandering stress-conditioning portion formed below the absorber. The meandering stress harmony portion formed at an angle of 90 degrees and formed of the same material as the meandering bolometer element to form a compressive stress uniformly distributed in the absorber. Is formed, and the absorption level does not bend, so that optimum absorption efficiency can be ensured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 (技術分野) 本発明は、赤外線ボロメーターに関し、特に蛇行状の応力調和部を有する赤外
線ボロメーターに関する。
TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an infrared bolometer, and more particularly to an infrared bolometer having a meandering stress-harmonic portion.

【0002】 (背景技術) ボロメーターは、放射熱流束により材料(いわゆる、ボロメーター要素)の抵抗
が変化すること用いるエネルギー検出器である。前記ボロメーター要素は、金属
や半導体から作られる。ボロメーター要素が金属の場合、前記抵抗変化は根本的
に担体移動度の変化によるものであり、抵抗変化は温度が上がるにつれて減少す
る。対照的に、高い抵抗率の半導体ボロメーター要素では、温度に応じて担体密
度が指数関数的に変化し、より高い検出能力を得ることができる。しかしながら
、ボロメーターを構築するための薄膜半導体からなるボロメーター要素の製造は
困難である。
BACKGROUND OF THE INVENTION A bolometer is an energy detector that uses the resistance of a material (a so-called bolometer element) to change due to radiant heat flux. The bolometer element is made of metal or semiconductor. If the bolometer element is a metal, the change in resistance is fundamentally due to a change in carrier mobility, and the change in resistance decreases with increasing temperature. In contrast, in high resistivity semiconductor bolometer elements, the carrier density varies exponentially with temperature, and higher detection capabilities can be obtained. However, it is difficult to manufacture a bolometer element made of a thin film semiconductor for constructing a bolometer.

【0003】 図1及び図2は、各々、ボロメーター100を示す斜視図及び断面図で、ボロメ
ーター100は、アクティブマトリックスレベル110と、支持レベル120と、少なく
とも一対のポスト170と、吸収レベル130とを含む。
FIGS. 1 and 2 are perspective and sectional views, respectively, showing a bolometer 100 that includes an active matrix level 110, a support level 120, at least one pair of posts 170, and an absorption level 130. And

【0004】 アクティブマトリックスレベル110は、集積回路(図示せず)を含む基板112と、
一対の接続端子114と、保護層116とを含む。金属からなる各々の接続端子114は
、基板112の上部に位置する。例えば、シリコン窒化物(SiNx)からなる保護層116
は、基板112を覆っている。前記一対の接続端子114は、集積回路に電気的に接続
されている。
An active matrix level 110 includes a substrate 112 containing an integrated circuit (not shown),
It includes a pair of connection terminals 114 and a protective layer 116. Each connection terminal 114 made of metal is located above the substrate 112. For example, the protective layer 116 made of silicon nitride (SiNx)
Covers the substrate 112. The pair of connection terminals 114 are electrically connected to an integrated circuit.

【0005】 支持レベル120は、例えば、シリコン酸化物(SiO2)のような絶縁物質からなる
一対の支持橋脚140を含み、各々の支持橋脚140の上部に伝導線165が形成されて
いる。伝導線165の一端は、ビアホール155を介して、対応する接続端子114に電
気的に接続されている。
The support level 120 includes a pair of support piers 140 made of, for example, an insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ), and a conductive line 165 is formed on each support pier 140. One end of the conductive wire 165 is electrically connected to the corresponding connection terminal 114 via the via hole 155.

【0006】 吸収レベル130は、チタン(Ti)からなるボロメーター要素185と、例えば、シリ
コン酸化物(SiO2)またはシリコン窒化酸化物(SiOxNy)のような絶縁物質からなる
吸収体195と、吸収体195の上部に形成された赤外線吸収コーティング197とを含
む。ボロメーター要素185は、それ自体の抵抗を増加させるために蛇行状の形態
をとる。
The absorption level 130 includes a bolometer element 185 made of titanium (Ti), an absorber 195 made of an insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride oxide (SiOxNy), An infrared absorbing coating 197 formed on the body 195. Bolometer element 185 takes a meandering configuration to increase its own resistance.

【0007】 各々のポスト170は、吸収レベル130と支持レベル120との間に形成される。各
々のポスト170は、例えば、チタン(Ti)のような金属からなり、また、シリコン
酸化物(SiO2)またはシリコン窒化酸化物(SiOxNy)を例とする絶縁物質により取り
囲まれた電線管172を含む。電線管172の上端は、蛇行状のボロメーター要素185
の一端に電気的に接続され、電線管172の下端は、支持橋脚140上の伝導線165に
電気的に接続されているため、吸収レベル130で蛇行状のボロメーター要素185の
両端は、電線管172、伝導線165、及び接続端子114を介して、アクティブマトリ
ックスレベル110の集積回路に電気的に接続されている。赤外線放射熱にさらさ
れたとき、蛇行状のボロメーター要素185の抵抗は変化し、よって電圧と電流が
変化することになる。前記変化された電流または電圧は、集積回路により増幅さ
れ、このような方式で増幅された電流または電圧は、検出回路(図示せず)により
検出される。
[0007] Each post 170 is formed between an absorption level 130 and a support level 120. Each post 170 is made of a metal such as titanium (Ti), and has a conduit 172 surrounded by an insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride oxide (SiOxNy). Including. The top end of the conduit 172 has a meandering bolometer element 185
And the lower end of the conduit 172 is electrically connected to the conducting wire 165 on the support pier 140, so that both ends of the meandering bolometer element 185 at the absorption level 130 are It is electrically connected to the integrated circuit of the active matrix level 110 via the tube 172, the conductive line 165, and the connection terminal 114. When exposed to infrared radiant heat, the resistance of the serpentine bolometer element 185 changes, thus causing the voltage and current to change. The changed current or voltage is amplified by an integrated circuit, and the amplified current or voltage is detected by a detection circuit (not shown).

【0008】 上述した赤外線吸収ボロメーター100にはある欠点がある。例えば、吸収レベ
ル130は構造的に非対称であるため、つまり、列方向に形成されたボロメーター
要素185の長さと、行方向に形成されたボロメーター要素185との長さが異なるた
め、図3に示すように吸収体195の内部に形成された圧縮応力が不均一に分布し
、吸収体195は長手方向に撓むことになり、赤外線ボロメーター100の全体的な吸
収効率を低減させる。
The infrared absorption bolometer 100 described above has certain disadvantages. For example, because absorption level 130 is structurally asymmetric, ie, the length of bolometer element 185 formed in the column direction is different from the length of bolometer element 185 formed in the row direction, FIG. As shown in (1), the compressive stress formed inside the absorber 195 is unevenly distributed, and the absorber 195 bends in the longitudinal direction, thereby reducing the overall absorption efficiency of the infrared bolometer 100.

【0009】 (発明の開示) 従って、本発明はこのような課題に着目してなされたものであり、その目的と
することは、吸収体の内部に不均一に分布した圧縮応力効果をうち消す蛇行状の
応力調和部を含む赤外線ボロメーターを提供することにある。
(Disclosure of the Invention) Accordingly, the present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to eliminate the effect of compressive stress unevenly distributed inside the absorber. It is an object of the present invention to provide an infrared bolometer including a meandering stress harmonizing part.

【0010】 本発明によれば、上記の目的を達成するために、基板と少なくとも一対の接続
端子を有するアクティブマトリックスレベルと、各々の支持橋脚が伝導線を含み
、前記伝導線の一端が対応する接続端子に電気的に接続される、少なくとも一対
の前記支持橋脚を有する支持レベルと、応力調和部、吸収体、及びボロメーター
要素を有する吸収レベルと、各々が前記吸収レベルと前記支持レベルとの間に位
置し、絶縁物質により取り囲まれた電線管を有し、前記吸収レベルの前記ボロメ
ーター要素の各々の端が前記対応する電線管と伝導線とを介して対応する接続端
子に電気的に接続されている少なくとも一対のポストから構成される赤外線ボロ
メーターが提供される。
According to the present invention, in order to achieve the above object, an active matrix level having a substrate and at least a pair of connection terminals, each supporting pier includes a conductive wire, and one end of the conductive wire corresponds to the active bridge level. A support level electrically connected to a connection terminal, a support level having at least a pair of the support piers, an absorption level having a stress harmony section, an absorber, and a bolometer element, each of the support level and the support level; A conduit located between the bolometer elements, the end of the bolometer element of the absorption level being electrically connected to a corresponding connection terminal via the corresponding conduit and a conductive line. An infrared bolometer comprising at least a pair of posts connected is provided.

【0011】 (発明を実施するための最良の形態) 図4及び図6は、本発明の2つの実施例による赤外線ボロメーター200を説明
する断面図、図5及び図7は赤外線ボロメーター200の吸収レベル230を説明する
正面図である。図4乃至図7では、同一参照番号は同一部分を示す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION FIGS. 4 and 6 are cross-sectional views illustrating an infrared bolometer 200 according to two embodiments of the present invention, and FIGS. 5 is a front view illustrating an absorption level 230. FIG. 4 to 7, the same reference numerals indicate the same parts.

【0012】 本発明の第1の実施例により、図4に示す本発明のボロメーター200は、アク
ティブマトリックスレベル210と、支持レベル220と、少なくとも一対以上のポス
ト260と、吸収レベル230とを含む。
According to a first embodiment of the present invention, the bolometer 200 of the present invention shown in FIG. 4 includes an active matrix level 210, a support level 220, at least one or more posts 260, and an absorption level 230. .

【0013】 アクティブマトリックスレベル210は、集積回路(図示せず)を含む基板212と、
少なくとも一対以上の接続端子214と、保護層216とを含む。金属からなる接続端
子214は、基板212の上部に位置するとともに、基板212の集積回路に電気的に接
続されている。例として、シリコン窒化物(SiNx)からなる保護層216は、基板212
を覆っている。
The active matrix level 210 includes a substrate 212 containing an integrated circuit (not shown),
At least one or more connection terminals 214 and a protective layer 216 are included. The connection terminal 214 made of metal is located above the substrate 212 and is electrically connected to the integrated circuit on the substrate 212. As an example, a protective layer 216 made of silicon nitride (SiNx)
Is covered.

【0014】 支持レベル220は、例えば、シリコン酸化物(SiO2)またはシリコン窒化酸化物(
SiOxNy)のような絶縁物質からなる一対の支持橋脚240と、例えば、チタン(Ti)の
ような金属からなる少なくとも一対の伝導線255とを含む。各々の伝導線255は、
対応する支持橋脚240の上部に位置し、伝導線255の一端は、ビアホール245を介
して、対応する接続端子214に電気的に接続されている。
The support level 220 may include, for example, silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride oxide (
It includes a pair of supporting piers 240 made of an insulating material such as SiOxNy) and at least a pair of conductive wires 255 made of a metal such as titanium (Ti). Each conduction line 255
One end of the conductive wire 255 is electrically connected to the corresponding connection terminal 214 via the via hole 245, which is located above the corresponding support pier 240.

【0015】 吸収レベル230は、吸収体295により取り囲まれた蛇行状のボロメーター要素28
5と、吸収体295の下部に位置する蛇行状の応力調和部275と、吸収体295の上部に
位置する赤外線吸収コーティング297とを含む。吸収体295は、例えば、シリコン
酸化物(SiO2)またはシリコン窒化酸化物(SiOxNy)のような絶縁物質からなる。蛇
行状のボロメーター要素285は、例えば、チタン(Ti)のような金属からなる。
The absorption level 230 includes a meandering bolometer element 28 surrounded by an absorber 295.
5, a meandering stress-conditioning portion 275 located below the absorber 295, and an infrared absorbing coating 297 located above the absorber 295. The absorber 295 is made of an insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride oxide (SiOxNy). The meandering bolometer element 285 is made of, for example, a metal such as titanium (Ti).

【0016】 図5は吸収レベル230の平面図である。前記図面は、蛇行状のボロメーター要
素285と、蛇行状の応力調和部275を図示するために、重複する赤外線吸収コーテ
ィング297と吸収体295を透過して示している。蛇行状の応力調和部275と、蛇行
状のボロメーター要素285とは、同一形状で、同一材料からなる。正面から見た
とき、蛇行状のボロメーター要素285は、蛇行状の応力調和部275に対して上部に
位置し、90度の角度をなして形成されている。
FIG. 5 is a plan view of the absorption level 230. The figure shows the serpentine bolometer element 285 and the serpentine stress-conditioning portion 275 through the overlapping infrared absorbing coating 297 and absorber 295. The meandering stress harmonizing section 275 and the meandering bolometer element 285 are of the same shape and made of the same material. When viewed from the front, the meandering bolometer element 285 is located at an upper part with respect to the meandering stress matching part 275 and is formed at an angle of 90 degrees.

【0017】 図4に戻って、各々のポスト260は、吸収レベル230と支持レベル220との間に
形成されている。各々のポスト260は、例えばシリコン酸化物(SiO2)またはシリ
コン窒化酸化物(SiOxNy)のような絶縁物質264により取り囲まれた、例えばチタ
ン(Ti)のような金属からなる電線管262を含む。電線管262の上端は、蛇行状のボ
ロメーター要素285の一端に電気的に接続され、その下端は、対応する支持橋脚2
40の上部に形成された伝導線255に電気的に接続されていることにより、吸収レ
ベル230で蛇行状のボロメーター要素285の両端は、電線管262、伝導線255、及び
接続端子214を介して、アクティブマトリックスレベル210の集積回路に電気的に
接続されている。赤外線エネルギーが吸収されたとき、蛇行状のボロメーター要
素285の抵抗は増加され、増加された抵抗は検出回路(図示せず)により検出され
る。
Returning to FIG. 4, each post 260 is formed between an absorption level 230 and a support level 220. Each post 260 includes a conduit 262 made of a metal such as titanium (Ti) surrounded by an insulating material 264 such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride oxide (SiOxNy). The upper end of the conduit 262 is electrically connected to one end of the serpentine bolometer element 285, and the lower end is connected to the corresponding support pier 2
The ends of the meandering bolometer element 285 at the absorption level 230 are electrically connected to the conductive line 255 formed on the upper part of the 40 through the conduit 262, the conductive line 255, and the connection terminal 214. And is electrically connected to the active matrix level 210 integrated circuit. When infrared energy is absorbed, the resistance of the serpentine bolometer element 285 is increased, and the increased resistance is detected by a detection circuit (not shown).

【0018】 図6及び図7は、上述した第1実施例と幾つかの有意差を有する本発明の好適
なその他の実施例である。電線管262対の1つは、蛇行状のボロメーター要素285
の一端に電気的に接続され、電線管262対のもう1つは、蛇行状の応力調和部275
の一端に電気的に接続されている。蛇行状のボロメーター要素285と蛇行状の応
力調和部275との他端は、互いに電気的に接続されている。従って、蛇行状のボ
ロメーター要素285と蛇行状の応力調和部275とは、相互直列に電気的に接続され
、蛇行状の応力調和部275がボロメーター要素として作用することにより、ボロ
メーター要素の抵抗を増加させる。
FIGS. 6 and 7 show another preferred embodiment of the present invention having some significant differences from the first embodiment described above. One of the 262 pairs of conduits has a meandering bolometer element 285
And one end of the pair of conduits 262 is a meandering stress harmonizing section 275.
Is electrically connected to one end. The other ends of the meandering bolometer element 285 and the meandering stress reconciliation unit 275 are electrically connected to each other. Therefore, the meandering bolometer element 285 and the meandering stress-conditioning unit 275 are electrically connected in series with each other, and the meandering stress-conditioning unit 275 acts as a bolometer element. Increase resistance.

【0019】 本発明の赤外線ボロメーター200において、吸収体295内で均一に分布した圧縮
応力を形成するために、吸収体295の下部に、蛇行状のボロメーター要素285と同
一形状で同一材料からなる、90度の角度をなして形成されている蛇行状の応力
調和部275が形成されている。その結果、吸収レベル230は撓むことなく、最適の
吸収効率を保障することができる。
In the infrared bolometer 200 of the present invention, in order to form a compressive stress uniformly distributed in the absorber 295, a lower portion of the absorber 295 is made of the same material as the meandering bolometer element 285 and has the same shape. In other words, a meandering stress harmonizing portion 275 formed at an angle of 90 degrees is formed. As a result, the absorption level 230 can ensure optimal absorption efficiency without bending.

【0020】 上記において、本発明の好適な実施例について説明したが、本発明の請求範囲
を逸脱することなく、当業者は種々の改変をなし得るであろう。
While the preferred embodiments of the present invention have been described above, those skilled in the art will be able to make various modifications without departing from the scope of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 従来の赤外線ボロメーターを示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a conventional infrared bolometer.

【図2】 図1の赤外線ボロメーターのA−A面における示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the infrared bolometer of FIG. 1 taken along plane AA.

【図3】 図1の赤外線ボロメーターの吸収レベルを示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing an absorption level of the infrared bolometer of FIG. 1;

【図4】 本発明の一つの実施例である赤外線ボロメーターを示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing an infrared bolometer according to one embodiment of the present invention.

【図5】 図4の赤外線ボロメーターの吸収レベルを示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing an absorption level of the infrared bolometer of FIG. 4;

【図6】 本発明のその他の実施例による赤外線ボロメーターを示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating an infrared bolometer according to another embodiment of the present invention.

【図7】 図6の赤外線ボロメーターの吸収レベルを示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing an absorption level of the infrared bolometer of FIG. 6;

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 3層構造の赤外線ボロメーターであって、 基板及び少なくとも一対の接続端子を含むアクティブマトリックスレベルと、 それぞれ対応する接続端子に電気的に接続された一端を有する伝導線をそれぞ
れ備えた少なくとも一対の支持橋脚を有する支持レベルと、 吸収体の下部に形成された応力調和部及び前記吸収体により取り囲まれたボロ
メーター要素を含む吸収レベルと、 前記吸収レベルと前記支持レベルとの間に配置され、それぞれ絶縁物質により
取り囲まれた電線管を含む少なくとも一対のポストとを有し、 前記電線管の上端が前記吸収レベルに結合され、その下端が対応する前記伝導
線の他端に電気的に結合されていることを特徴とする赤外線ボロメーター。
1. An infrared bolometer having a three-layer structure, comprising: an active matrix level including a substrate and at least one pair of connection terminals; and a conductive line having one end electrically connected to each corresponding connection terminal. A support level having at least one pair of support piers, an absorption level including a stress harmony portion formed at a lower portion of the absorber and a bolometer element surrounded by the absorber, and between the absorption level and the support level. And at least one pair of posts each including a conduit surrounded by an insulating material, the upper end of the conduit being coupled to the absorption level, the lower end being electrically connected to the other end of the corresponding conductive line. Infrared bolometer characterized by being coupled to one another.
【請求項2】 前記応力調和部が、前記ボロメーター要素と同一形状をな
していることを特徴とする請求項1に記載のボロメーター。
2. The bolometer according to claim 1, wherein the stress adjustment section has the same shape as the bolometer element.
【請求項3】 前記ボロメーター要素及び前記応力調和部が、蛇行状をな
していることを特徴とする請求項2に記載のボロメーター。
3. The bolometer according to claim 2, wherein the bolometer element and the stress adjustment section have a meandering shape.
【請求項4】 前記ボロメーター要素及び前記応力調和部が、同一材料か
らなることを特徴とする請求項2に記載のボロメーター。
4. The bolometer according to claim 2, wherein the bolometer element and the stress adjustment section are made of the same material.
【請求項5】 前記材料が、チタン(Ti)からなることを特徴とする請求項
4に記載のボロメーター。
5. The bolometer according to claim 4, wherein the material comprises titanium (Ti).
【請求項6】 前記応力調和部が、前記ボロメーター要素に対して90度
の角度をなして形成されていることを特徴とする請求項4に記載のボロメーター
6. The bolometer according to claim 4, wherein the stress adjustment section is formed at an angle of 90 degrees with respect to the bolometer element.
【請求項7】 前記吸収レベルのボロメーター要素の各々の端が、対応す
る電線管と伝導線を介し、対応する接続端子に電気的に接続されていることを特
徴とする請求項6に記載のボロメーター。
7. The apparatus according to claim 6, wherein each end of the absorption level bolometer element is electrically connected to a corresponding connection terminal via a corresponding conduit and a conductive wire. Bolometer.
【請求項8】 前記ボロメーター要素と前記応力調和部の各々の一端が、
対応する電線管に電気的に接続され、前記ボロメーター要素と前記応力調和部の
他端が、互いに電気的に接続されていることを特徴とする請求項6に記載のボロ
メーター。
8. One end of each of the bolometer element and the stress harmony portion,
The bolometer according to claim 6, wherein the bolometer element is electrically connected to a corresponding conduit, and the other end of the bolometer element and the other end of the stress adjustment unit are electrically connected to each other.
【請求項9】 前記アクティブマトリックスレベルは、更に前記基板を覆
う保護層を含むことを特徴とする請求項1に記載のボロメーター。
9. The bolometer of claim 1, wherein the active matrix level further includes a protective layer covering the substrate.
【請求項10】 前記吸収レベルは、更に前記吸収体の上部に形成された
赤外線吸収コーティングを含むことを特徴とする請求項1に記載のボロメーター
10. The bolometer of claim 1, wherein the absorption level further comprises an infrared absorbing coating formed on the absorber.
JP2000567921A 1998-08-31 1998-08-31 Bolometer with meandering stress-harmonic part Pending JP2002523768A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/KR1998/000265 WO2000012984A1 (en) 1998-08-31 1998-08-31 Bolometer with a serpentine stress balancing member

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002523768A true JP2002523768A (en) 2002-07-30

Family

ID=19531106

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000567921A Pending JP2002523768A (en) 1998-08-31 1998-08-31 Bolometer with meandering stress-harmonic part

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2002523768A (en)
DE (1) DE69830622T2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004522162A (en) * 2001-06-01 2004-07-22 レイセオン・カンパニー Improved high-speed, multi-level uncooled bolometer and method of manufacturing the same
CN114485950A (en) * 2021-12-07 2022-05-13 北京安酷智芯科技有限公司 Plane image sensor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004522162A (en) * 2001-06-01 2004-07-22 レイセオン・カンパニー Improved high-speed, multi-level uncooled bolometer and method of manufacturing the same
CN114485950A (en) * 2021-12-07 2022-05-13 北京安酷智芯科技有限公司 Plane image sensor

Also Published As

Publication number Publication date
DE69830622T2 (en) 2005-11-03
DE69830622D1 (en) 2005-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6140154B2 (en)
US6094127A (en) Infrared bolometer and method for manufacturing same
JP3608298B2 (en) Thermal infrared sensor and manufacturing method thereof
JPH0298965A (en) Multielement infrared ray detection sensor
US7232998B2 (en) Bolometer-type infrared solid-state image sensor
JP2002523768A (en) Bolometer with meandering stress-harmonic part
JP2000019010A (en) Infrared ray bolometer of 3-layer structure
US6242738B1 (en) Structurally stable infrared bolometer
JP3396719B2 (en) Infrared bolometer
JP3866040B2 (en) Structurally stable infrared bolometer
EP1117978B1 (en) Bolometer with a serpentine stress balancing member
JP2009265091A (en) Highly isolated thermal detector
JP2002531821A (en) Infrared bolometer
US6201244B1 (en) Bolometer including an absorber made of a material having a low deposition-temperature and a low heat-conductivity
KR100299642B1 (en) Three-level infra-red bolometer
JP3538383B2 (en) Infrared bolometer and manufacturing method thereof
JP2002523770A (en) Bolometer with reflective layer
JP2002523769A (en) Bolometer including an absorber made of a material having low deposition temperature and low thermal conductivity
JP2002531820A (en) Bolometer with zinc oxide bolometer element
KR100313043B1 (en) Method for manufacturing an infrared bolometer
KR100529132B1 (en) Method for manufacturing an infrared bolometer
JP2000019011A (en) Manufacture of infrared ray bolometer of 3-layer structure
KR100529133B1 (en) Infrared rays absorption bolometer
KR20000044819A (en) Infrared ray absorption bolometer
KR20000044815A (en) Infrared bolometer

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050520

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070424

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070925