JP2002517510A - Process for producing organic salts of aspartame - Google Patents

Process for producing organic salts of aspartame

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JP2002517510A
JP2002517510A JP2000553452A JP2000553452A JP2002517510A JP 2002517510 A JP2002517510 A JP 2002517510A JP 2000553452 A JP2000553452 A JP 2000553452A JP 2000553452 A JP2000553452 A JP 2000553452A JP 2002517510 A JP2002517510 A JP 2002517510A
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ace
salt
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aspartame
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JP2000553452A
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グロエンエベルド,クリスティアーン
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ホーランド スィートナー カンパニー ブイ.オー.エフ.
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、液体媒体中での製造、そこからの固液分離による湿った固体生成物としての分離および続く乾燥により、固体かつ乾燥した形態のアスパルテームとアセスルファム酸との塩を製造する方法において、該湿った固体生成物を、乾燥の前に、1以上の工程の洗浄操作に付し、ここで、これらの洗浄操作の少なくとも最後の工程が8以上のpHを有する塩基性水性溶液によって行われることを特徴とする方法に関する。得られた固体の乾燥生成物は、従来技術の生成物と比較して改善された安定性を有する。本発明はまた、80℃の温度で48時間、乾燥形態のその塩を加熱した後のアセトアセトアミド含量が塩の乾燥重量に対して10ppm未満のままであるような高められた安定性を有するアスパルテームとアセスルファム酸との塩に関する。   (57) [Summary] The present invention relates to a process for producing a salt of aspartame and acesulfameic acid in solid and dry form by production in a liquid medium, separation therefrom as a wet solid product by solid-liquid separation and subsequent drying. The wet solid product is subjected to one or more steps of washing before drying, wherein at least the last step of these washing operations is performed with a basic aqueous solution having a pH of 8 or more. To a method characterized by the following. The resulting solid dry product has improved stability compared to prior art products. The present invention also relates to an aspartame having an increased stability such that the acetoacetamide content after heating the salt in dry form at a temperature of 80 ° C. for 48 hours remains below 10 ppm relative to the dry weight of the salt With acesulfameic acid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

本発明は、固体かつ乾燥した形態のアスパルテームとアセスルファム酸との塩を
、液体媒体中での製造、そこからの固液分離による湿った固体生成物としての分
離および続く乾燥により製造する方法に関する。本発明によれば、特に、高めら
れた温度に塩をさらした後のアセトアセトアミドの生成の低下された危険性を示
すことによる、乾燥形態で改善された安定性を有するアスパルテームとアセスル
ファム酸との塩が得られる。本発明はまた、そのような新規なアスパルテームと
アセスルファム酸との塩に関する。
The present invention relates to a process for producing a salt of aspartame and acesulfamic acid in solid and dry form by production in a liquid medium, separation therefrom as a wet solid product by solid-liquid separation and subsequent drying. According to the present invention, aspartame and acesulfameic acid having improved stability in dry form, in particular by exhibiting a reduced risk of acetoacetamide formation after exposure of the salt to elevated temperatures. A salt is obtained. The invention also relates to such novel salts of aspartame and acesulfameic acid.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

アスパルテームとアセスルファム酸との塩は、重量に基づいて砂糖の約200倍
の甘味度を有する甘味料であり、それは、特に、パウダーミックス、チューイン
ガム、甘い菓子およびドライ食品における、また特に、アスパルテームなどの甘
味料との望ましくない反応を起こし得るアルデヒドなどの化合物を甘味料の他に
含む種々の製品における使用に適する。
The salt of aspartame and acesulfameic acid is a sweetener having a sweetness of about 200 times the weight of sugar, especially in powder mixes, chewing gum, sweet confectionery and dry foods, and in particular, such as aspartame It is suitable for use in various products that contain compounds other than sweeteners, such as aldehydes, that can cause undesirable reactions with sweeteners.

【0003】 アスパルテームとアセスルファム酸との塩は、かなり前から公知である高甘味度
甘味料アスパルテーム、すなわちα−L−アルパルチル−L−フェニルアラニン
メチルエステル(以降、APMとも言う)、およびアセスルファム酸から構成さ
れる。アセスルファム酸は、これも長い間公知である高甘味度甘味料アセスルフ
ァム−K、すなわち式6−メチル−1,2,3−オキサチアジン−4(3K)−
オン−2,2−ジオキサイドを有するカリウム塩(以降、AceKとも言う)か
ら誘導される酸である。アセスルファム酸は、以降、AceHとも言い、APM
とAceHとの塩は、APM.Aceとも言う。
[0003] The salt of aspartame and acesulfameic acid is composed of the high-potency sweetener aspartame, which has been known for a long time, namely α-L-aspartyl-L-phenylalanine methyl ester (hereinafter also referred to as APM), and acesulfamic acid. Is done. Acesulfame acid is a high-potency sweetener Acesulfame-K, also known for a long time, ie of the formula 6-methyl-1,2,3-oxathiazine-4 (3K)-
It is an acid derived from a potassium salt having on-2,2-dioxide (hereinafter also referred to as AceK). Acesulfameic acid is hereinafter also referred to as AceH, APM
And AceH are salts of APM. Also called Ace.

【0004】 優れた熱安定性および低い吸湿性を有する形態のAPM.Aceの製造は、欧州
特許EP−A−0768041に開示されている。EP−A−0768041に
開示されたAPM.Aceの製造法では、塩が、液体媒体中で行われる塩交換(
transsalification)プロセスの結果として固体として得られる。使用される反
応系(通常はスラリー)における成分として、特に、(i)アスパルテーム、(
ii)アセスルファム酸の無機塩、例えばカリウム塩、および(iii)強酸、例え
ば塩酸が挙げられる。該成分は、任意の所望の順序で反応系に添加することがで
き、成分の比較的均一な分布が生じかつ望ましくない高すぎる局所濃度の酸が存
在し得ないように、系は一定に動かされ、攪拌可能なままである。上記特許出願
に係るAPM.Aceの製造は、上記出願に記載されているように、比較的速い
プロセスによって、好ましくは水性媒体中で、−20〜+90℃の範囲の温度で
常に起こる。EP−A−0768041は、生成したAPM.Aceの回収、乾
燥および/またはさらなる精製に関する情報をあまり示していない。使用された
標準的方法、例えば濾過によって得られた固体の氷水による洗浄などは、塩のA
PM部分の熱的特性に関して優れた熱安定性を有する生成物を得るための要件を
完全に満たしていた。
[0004] APM with excellent thermal stability and low hygroscopicity. The manufacture of Ace is disclosed in European patent EP-A-0 768 041. EP-A-0768041 discloses an APM. In the method of making Ace, the salt is exchanged in a liquid medium for salt exchange (
transsalification) obtained as a solid as a result of the process. As components in the reaction system (usually a slurry) used, in particular, (i) aspartame, (
ii) inorganic salts of acesulfamic acid, such as potassium salts, and (iii) strong acids, such as hydrochloric acid. The components can be added to the reaction system in any desired order and the system is moved constantly so that a relatively uniform distribution of the components occurs and that undesired too high local concentrations of acid can be present. And remain stirrable. The production of APM.Ace according to the above-mentioned patent application always takes place by a relatively fast process, preferably in an aqueous medium, at a temperature in the range of -20 to + 90 ° C., as described in the above-mentioned application. EP-A-0768041 describes the production of APM. It does not provide much information on Ace recovery, drying and / or further purification. The standard methods used, such as washing of the solid obtained by filtration with ice water, can be used for the salt A
The requirements for obtaining a product with excellent thermal stability with respect to the thermal properties of the PM part were completely fulfilled.

【0005】 EP−A−0768041は、APMの熱安定性がAceKよりも一般に低いと
いうことが公知であるので、塩のAPM部分に関する熱安定性に特に注意を払っ
た。ところでまた、AceKに対応する酸、すなわちアセスルファム酸(Ace
H)自体は、例えばAceKより低い安定性を有することも公知であった。AP
M.Ace中のAce部分はAceKにおけると同様に存在し、従って、APM
.AceのAce部分の分解生成物に関しては、何ら注意が払われなかった。
[0005] EP-A-0768041 paid particular attention to the thermal stability of the APM portion of the salt, as it is known that the thermal stability of APM is generally lower than AceK. Incidentally, an acid corresponding to AceK, that is, acesulfamic acid (AceK)
H) itself was also known to have lower stability than, for example, AceK. AP
M. The Ace part in Ace exists as in AceK, and
. No attention was paid to the degradation products of the Ace portion of Ace.

【0006】 EP−A−0768041によれば、APM.Ace(乾燥形態)は、120℃
で1時間、または70℃で70時間加熱したときに0.5%未満の分解が生じる
場合、良好な熱安定性を有する。APM.AceのAce部分の分解は、上記特
許出願の表から明らかなように、メタノール中で行われた比較例1Cおよび1D
においてのみ、明らかであった。
[0006] According to EP-A-0768041, APM. Ace (dry form) is 120 ° C
Has good thermal stability if less than 0.5% decomposition occurs when heated for 1 hour or at 70 ° C. for 70 hours. APM. Decomposition of the Ace portion of Ace was confirmed in Comparative Examples 1C and 1D performed in methanol, as is clear from the table of the above-mentioned patent application.
Only in.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】 しかし、とかくするうち、EP−A−0768041の方法に従って製造された
乾燥APM.Aceの低い水分量ですら、高められた温度、特に、従って以降、
標準的条件であるとみなされる、例えば80℃の温度に、例えば48時間の間、
乾燥形態で長くさらすと、検出可能なアセトアセトアミド濃度、すなわちAPM
.Aceの乾燥重量に基づいて10ppmの検出限界より高いアセトアセトアミ
ド濃度がAPM.Ace中に生じることが明らかになった。アセトアセトアミド
は以降、3Aとも言う。
However, in the meantime, a dried APM. Produced according to the method of EP-A-07668041. Even at low water content of Ace, the elevated temperature, especially
At a temperature of, for example, 80 ° C., which is considered to be a standard condition, for example for 48 hours,
Prolonged exposure in dry form can result in a detectable acetoacetamide concentration, ie, APM
. An acetoacetamide concentration above the detection limit of 10 ppm based on the dry weight of Ace. It was found to occur during Ace. Acetoacetamide is hereinafter also referred to as 3A.

【0008】 食品中、および従って食品中に使用される物質中において、特にアセトアセトア
ミドの存在は、毒物学的理由のために低濃度に制限されるべきである。例えばア
セトアセトアミドのための欧州薬局方(補遺1998)における参照から、12
50ppmの最大許容可能濃度となる。この文脈では、従って、アセトアセトア
ミドの生成が自己触媒的に進行する、すなわち存在する濃度が高いほどより速く
進行することを本出願人が一方で確証したこともあって、本出願人によれば、A
PM.Ace中の3Aの検出可能な濃度の生成が防止されることが重要であると
思われる。
[0008] In foods, and thus in substances used in foods, in particular the presence of acetoacetamide should be limited to low concentrations for toxicological reasons. For example, from the reference in the European Pharmacopoeia for acetoacetamide (Supplement 1998), 12
The maximum allowable concentration is 50 ppm. In this context, therefore, the Applicant has confirmed, on the one hand, that the acetoacetamide formation proceeds autocatalytically, i.e., the higher the concentration present, the faster it proceeds. , A
PM. It seems important that the production of detectable concentrations of 3A in Ace be prevented.

【0009】 本発明の目的は、上記問題、特に、APM.Ace中の3Aの生成を防ぐまたは
妨げることに関して解決することである。
It is an object of the present invention to address the above problems, in particular APM. The solution is to prevent or prevent the production of 3A in Ace.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

驚いたことに、この目的は、本発明に従って、固液分離によって得られた湿った
固体生成物を、乾燥の前に、1以上の工程の洗浄操作に付し、ここで、これらの
洗浄操作の少なくとも最後の工程が8以上のpHを有する塩基性水性溶液によっ
て行われることにおいて達成される。
Surprisingly, this object is achieved according to the invention by subjecting the wet solid product obtained by solid-liquid separation to one or more washing steps before drying, wherein these washing operations are carried out. At least the last step is performed with a basic aqueous solution having a pH of 8 or more.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

乾燥後、こうして得られたAPM.Aceは、乾燥形態で高められた温度に長く
さらされる、すなわち80℃で48時間さらされるとき、3A含量がAPM.A
ceの乾燥重量に基づいて10ppm以下であるという設定されるべき基準を満
たす。
After drying, the thus obtained APM. Ace has a prolonged exposure to elevated temperatures in dry form, ie, when exposed to 80 ° C. for 48 hours, the 3A content has an APM. A
The criterion to be set is 10 ppm or less based on the dry weight of ce.

【0012】 80℃より低い温度、例えば70℃では、APM.Ace中の3Aの生成は、本
出願人の観察によれば、よりゆっくり進行し、さらに低い温度では、その生成の
影響はほとんど無視できる。(本発明に従って製造された)APM.Aceを例
えば60℃で12ヶ月貯蔵すると、検出される濃度の3Aを生じないが、本発明
に従って製造されなかったAPM.Aceは、60℃で1ヶ月後にはすでに、1
0〜20ppmの3Aを含む。APM.Aceを40℃で1年間貯蔵する間、最
初に3Aを含んでいないAPM.Ace中には検出可能な量の3Aは生じない。
At temperatures below 80 ° C., for example 70 ° C., APM. The formation of 3A in Ace, according to the applicant's observations, proceeds more slowly, and at lower temperatures, the effects of its formation are almost negligible. APM. (Made according to the invention). Ace, for example stored at 60 ° C. for 12 months, does not produce a detectable concentration of 3A, but does not produce APM. Ace is already 1 month after 1 month at 60 ° C.
Contains 0-20 ppm of 3A. APM. During storage of Ace for 1 year at 40 ° C., APM. There is no detectable amount of 3A in Ace.

【0013】 本出願人によれば、3Aの生成は、存在する少量のAceHの反応の結果として
今説明され得る。このための理由は、水(2分子)の影響下でアセトアセトアミ
ド−N−スルホン酸がAceH(1分子)から生成し、この酸が次いで、特に反
応してアセトアセトアミドを生じ得るということである。本出願人は今、この反
応が自己触媒的であることを見出した
According to the applicant, the production of 3A can now be explained as a result of the reaction of the small amount of AceH present. The reason for this is that under the influence of water (two molecules) acetoacetamide-N-sulfonic acid is formed from AceH (one molecule), which acid can then in particular react to give acetoacetamide. . Applicants have now found that this reaction is autocatalytic

【0014】 なお、上記EP−A−0768041にも記載されているように、APM.Ac
eの水分量は、これが、スペイン国特許ES−A−8604766に示された方
法と同様に製造されたとしたならば、EP−A−0768041に従う方法と一
致するよりも常に高い。従って、貯蔵および長時間の加熱の条件下での3Aの生
成の上記問題は、そのような場合においてはるかに大きい。
As described in the above-mentioned EP-A-0768041, APM. Ac
The moisture content of e is always higher than in accordance with the method according to EP-A-07688041, provided that it was produced analogously to the method shown in Spanish patent ES-A-8604766. Thus, the above problems of 3A production under conditions of storage and prolonged heating are much greater in such cases.

【0015】 本発明の文脈において使用されるAPM.Aceの液体媒体中での製造のために
、任意の適するプロセスが使用され得る。そのようなプロセスの例は、本明細書
中で引用されたEP−A−0768041およびスペイン国特許ES−A−86
04766に記載されている。従って、それらのプロセスで使用され得る液体媒
体およびプロセス条件、ならびに固液分離法のさらなる説明のために、上記特許
出願の内容が参照される。同じことが、APM.Aceを乾燥形態で得るために
本発明の文脈において行われるべき洗浄操作の後に行われるべき乾燥操作の説明
にも当てはまる。
As used in the context of the present invention, APM. For production of Ace in a liquid medium, any suitable process may be used. Examples of such a process are described in EP-A-0768041 and Spanish patent ES-A-86 cited herein.
04766. Accordingly, reference is made to the contents of the above-mentioned patent applications for a further description of the liquid media and process conditions that can be used in those processes, and solid-liquid separation methods. The same is true for APM. The description also applies to the drying operation to be performed after the washing operation to be performed in the context of the present invention in order to obtain Ace in dry form.

【0016】 本発明に係る方法では、洗浄操作を1以上の工程で行うことが可能であり、ここ
で、最後の洗浄工程は、全ての場合において、8以上のpHを有する塩基性溶液
を用いて行われると理解される。洗浄操作が1工程で行われ、従って洗浄が直ち
にそのような塩基性溶液で行われるならば、生成物中に存在する無機塩を洗い流
すことに特別の注意を払わなければならないであろう。その場合、同じ洗浄結果
を達成するために、より多くの塩基性洗浄液を必要とする。
In the method according to the invention, the washing operation can be carried out in one or more steps, wherein the last washing step uses a basic solution having a pH of 8 or more in all cases. It is understood that it is performed. If the washing operation is performed in one step, and therefore the washing is performed immediately with such a basic solution, special care will have to be taken to wash out the inorganic salts present in the product. In that case, more basic cleaning solution is required to achieve the same cleaning result.

【0017】 8以上のpHを有する塩基性水性溶液としては、原則として、使用される濃度で
8以上のpHを有する溶液を生じる無機または有機化合物の任意の溶液を選択す
ることができる。本特許出願がpHに言及する場合、全ての場合において、当該
溶液のpHは、較正されたpH計を使用して室温(20℃)で測定されることを
意味する。当業者であれば、本発明の文脈において、APM.Aceと望ましく
ない方法で反応する塩基、あるいは使用後に、得られる生成物に望ましくない汚
染物または望ましくない臭いもしくは風味特性を残す塩基は使用されないことは
明らかであろう。好ましくは、回収されたAPM.Ace中に残渣を全くまたは
ほとんど残さない塩基が使用される。
As the basic aqueous solution having a pH of 8 or more, it is possible in principle to select any solution of an inorganic or organic compound which results in a solution having a pH of 8 or more at the concentration used. When the present patent application refers to pH, it means in all cases that the pH of the solution is measured at room temperature (20 ° C.) using a calibrated pH meter. Those skilled in the art will understand, in the context of the present invention, that APM. It will be clear that no base is used which reacts in an undesired manner with Ace or which leaves, after use, undesired contaminants or undesired odor or flavor characteristics in the resulting product. Preferably, the recovered APM. A base that leaves no or little residue in Ace is used.

【0018】 本発明の文脈において、塩基性水性溶液中に使用され得る塩基の例としては、無
機水酸化物、例えばアルカリ金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物、例
えば水酸化ナトリウム、カリウム、カルシウムおよびマグネシウムが挙げられ、
また、水酸化アンモニウム、ならびに有機塩基、例えば安息香酸ナトリウムまた
はカリウム、および食品の製造での使用に適する同様の塩基も挙げられる。
In the context of the present invention, examples of bases which may be used in basic aqueous solutions include inorganic hydroxides, such as alkali metal hydroxides and alkaline earth metal hydroxides, such as sodium hydroxide, potassium hydroxide , Calcium and magnesium,
Also included are ammonium hydroxide, and organic bases such as sodium or potassium benzoate, and similar bases suitable for use in the manufacture of food products.

【0019】 塩基性水性溶液は、好ましくは、水酸化ナトリウムおよび/または水酸化カリウ
ムの溶液である。
The basic aqueous solution is preferably a solution of sodium hydroxide and / or potassium hydroxide.

【0020】 好ましくは、塩基性洗浄操作は、8〜13のpH、特に約10.5〜約11.5
の範囲のpHを有する塩基の水性溶液を使用して行われる。非常に高いpH、例
えば13.5以上の値が選択されるならば、APM.Ace中のAPMがラセミ
化し始めるおよび/またはエステル加水分解またはジケトピペラジン生成などの
望ましくない副反応を高められた程度に受けるという危険性がある。洗浄操作の
ために使用される塩基性水性溶液のpHが8未満であるように選択されると、洗
浄操作の効果が小さすぎる。
Preferably, the basic washing operation is carried out at a pH between 8 and 13, especially between about 10.5 and about 11.5.
The reaction is carried out using an aqueous solution of a base having a pH in the range of If a very high pH, for example a value of 13.5 or higher, is selected, the APM. There is a risk that the APM in Ace will begin to racemize and / or undergo an increased degree of undesirable side reactions such as ester hydrolysis or diketopiperazine formation. If the pH of the basic aqueous solution used for the washing operation is selected to be less than 8, the effect of the washing operation is too small.

【0021】 通常、洗浄操作で使用される塩基性溶液の温度は20℃以下であり、好ましくは
、15〜5℃の範囲である。洗浄操作自体も、好ましくは、塩基性溶液のために
上記した温度で行われる。これにより、洗浄操作中の不必要な温度変化が防止さ
れる。洗浄操作が行われる温度が高いほど、分離除去される母液を介して失われ
る所望の生成物(APM.Ace)の量は増加する。母液を介して除去される溶
解されたAPM.Aceのかかる量は回収することができることは確かであるが
、これは、不必要な追加のプロセス工程を必要とする。
Usually, the temperature of the basic solution used in the washing operation is 20 ° C. or lower, preferably 15 to 5 ° C. The washing operation itself is also preferably performed at the temperatures described above for the basic solution. This prevents unnecessary temperature changes during the cleaning operation. The higher the temperature at which the washing operation is performed, the greater the amount of desired product (APM.Ace) lost through the mother liquor that is separated off. Dissolved APM. Removed via mother liquor. While it is true that such amounts of ace can be recovered, this requires unnecessary additional process steps.

【0022】 塩基洗浄操作に使用される時間、すなわち、塩基性水性溶液の存在下での回収さ
れた固体APM.Aceの滞在時間はあまり決定的でない。当業者であれば、洗
浄操作のための最適条件を簡単に決定することができる。明らかなように、塩基
性洗浄操作がより多くの時間を要すると、分解および/または望ましくない副生
物の生成の危険性は増加する。一般には、APM.Aceを少なくとも数秒間、
通常は数分以下、例えば2〜20分間、塩基性水性溶液と接触させる。湿った結
晶ケーキ中に存在する液体媒体が実際、塩基性溶液によってその時間に置き換え
られるところの、塩基性洗浄操作のために使用されるべき時間は、当業者には明
らかなように、洗浄されるべきAPM.Aceの量およびこのために使用される
装置に一部依存する。
The time used for the base washing operation, ie the recovered solid APM. In the presence of a basic aqueous solution. Ace's stay time is not very decisive. One skilled in the art can easily determine the optimal conditions for the washing operation. As can be seen, the risk of decomposition and / or formation of unwanted by-products increases as the basic washing operation takes more time. Generally, APM. Ace for at least a few seconds
It is usually contacted with the basic aqueous solution for a few minutes or less, for example for 2 to 20 minutes. The time to be used for a basic washing operation, where the liquid medium present in the wet crystal cake is actually replaced by the basic solution at that time, will be known to those skilled in the art. APM to be. It depends in part on the amount of Ace and the equipment used for this.

【0023】 塩基性溶液による洗浄操作およびその前の任意の洗浄操作は、当業者に公知の任
意の結晶洗浄法を使用して行うことができる。一実施態様では、例えば水平な濾
布上での固液分離後に得られたAPM.Ace結晶物質がその同じ濾布上で処理
され、この際に、所望により、濾布の上で加圧し、または濾布の下で減圧しなが
ら、塩基性洗浄液を用いて、まずこれを結晶物質の上部に(小さい)層で適用し
、次いでそれを結晶物質および濾布を通して排出する。濾布は、遠心分離に取り
付けることもできる。
The washing operation with a basic solution and any preceding washing operation can be performed using any crystal washing method known to those skilled in the art. In one embodiment, for example, the APM. Obtained after solid-liquid separation on a horizontal filter cloth. The Ace crystalline material is treated on the same filter cloth, optionally by using a basic washing solution while applying pressure on the filter cloth or depressurizing under the filter cloth, first removing the crystalline material. In a (small) layer on top of it, then drain it through the crystalline material and filter cloth. The filter cloth can also be attached to a centrifuge.

【0024】 本発明に従う塩基性水性溶液による洗浄操作を適用する前に、好ましくは最初に
、少なくとも1回の水による洗浄操作を行う。これは、本発明に従って必要とさ
れる塩基性洗浄水の量および塩基性洗浄操作自体の結果としての副生物の生成を
制限することを可能にする。所望ならば、所望の乾燥生成物を得るために、当業
者に公知の方法で乾燥することにより、APM.Aceを高品位化する前に、本
発明に従う塩基性洗浄操作を1回以上繰り返すこともできる。
Before applying the washing operation with a basic aqueous solution according to the invention, preferably at least one washing operation with water is first performed. This makes it possible to limit the amount of basic washing water required according to the invention and the formation of by-products as a result of the basic washing operation itself. If desired, to obtain the desired dry product, the APM. Prior to upgrading Ace, the basic washing operation according to the present invention may be repeated one or more times.

【0025】 本発明に従う方法において使用される塩基性洗浄液の量は、一般に決定的ではな
い。好ましくは、APM.Aceの量(乾燥重量として計算)に対して少なくと
も10重量%の塩基性水性溶液が使用される。洗浄液の最適量は、APM.Ac
eが製造された方法ならびに塩基性洗浄操作が行なわれる条件および装置に依存
して、当業者によって簡単に決定され得る。例えば、湿った結晶物質の残留水分
量が低いほど、必要とする使用されるべき塩基性洗浄液の量は少ない。
The amount of basic wash used in the method according to the invention is generally not critical. Preferably, APM. A basic aqueous solution of at least 10% by weight, based on the amount of Ace (calculated as dry weight), is used. The optimum amount of the cleaning solution is APM. Ac
e can be readily determined by one skilled in the art depending on the method by which e was produced and the conditions and equipment under which the basic washing operation is performed. For example, the lower the residual moisture content of the wet crystalline material, the smaller the amount of basic cleaning liquid to be used required.

【0026】 塩基性洗浄操作に付された後に、こうして得られたAPM.Aceはまだなお湿
っており、これを次いで、任意の公知の方法で乾燥させることができる。特に、
APM.Aceが上記したEP−A−0768041の実施態様に従って製造さ
れると(この場合、製造は水性媒体中で行なわれる)、特に良好な熱安定性、非
常に低い残留水分量および非常に低い吸湿性を有するAPM.Aceが得られ、
一方、高められた温度で乾燥形態で長時間貯蔵したときの3Aの生成の危険性も
非常に低下される。
After being subjected to a basic washing operation, the thus obtained APM. Ace is still wet, which can then be dried in any known manner. In particular,
APM. If Ace is prepared according to the embodiment of EP-A-07668041 described above, in which case the preparation is carried out in an aqueous medium, in particular good thermal stability, very low residual moisture content and very low hygroscopicity APM. Ace is obtained,
On the other hand, the risk of formation of 3A when stored for a long time in dry form at elevated temperatures is also greatly reduced.

【0027】 本発明の方法によれば、新規な改善された形態のAPM.Aceが、高められた
安定性、特に、乾燥形態のAPM.Aceを高められた温度に長時間暴露する、
すなわち80℃で48時間暴露することを含む条件下での3Aの可能な生成に関
して高められた安定性を伴って提供される。この新規な改善された形態のAPM
.Aceでは、上記暴露後の3A含量は、APM.Aceの乾燥重量に基づいて
10ppmの検出限界より下のままである。
According to the method of the present invention, a new and improved form of APM. Ace has increased stability, especially APM. Exposing Ace to elevated temperatures for extended periods of time,
That is, it is provided with enhanced stability with respect to the possible formation of 3A under conditions involving exposure to 80 ° C. for 48 hours. This new and improved form of APM
. In Ace, the 3A content after the above exposure was APM. It remains below the detection limit of 10 ppm based on the dry weight of Ace.

【0028】 この新規なAPM.Aceは、すなわち、乾燥形態のAPM.Aceを80℃の
温度で48時間加熱した後に、そのアセトアセトアミド含量がAPM.Aceの
乾燥重量に対して10ppm未満のままであることを特徴とする。APM.Ac
eの他の特性は、本発明より前に使用されたAPM.Ace製造法において得ら
れた生成物の特性に対応する。新規な生成物は、3Aの生成の危険性に関しての
み、従来技術の生成物と区別される。
This new APM. Ace, that is, APM. After heating Ace at a temperature of 80 ° C. for 48 hours, its acetoacetamide content was reduced to APM. It is characterized by remaining less than 10 ppm based on the dry weight of Ace. APM. Ac
e is a characteristic of the APM.e used prior to the present invention. It corresponds to the characteristics of the product obtained in the ace production process. The new products are distinguished from the products of the prior art only with regard to the danger of producing 3A.

【0029】[0029]

【実施例】【Example】

次に、本発明を、以下の実施例および比較例を参照して説明する。実施例は本発
明を決して制限するものではない。
Next, the present invention will be described with reference to the following Examples and Comparative Examples. The examples do not limit the invention in any way.

【0030】 3Aのための全ての分析は、HPLC(高性能液体クロマトグラフィー)技術、
特に勾配溶離法を使用して行なわれた。全ての場合において、注入体積は250
μlであり、総分析時間は50分であった(流速1.5ml/分)。
All analyzes for 3A were performed using HPLC (High Performance Liquid Chromatography) technology,
In particular, this was done using a gradient elution method. In all cases, the injection volume was 250
μl and the total analysis time was 50 minutes (flow rate 1.5 ml / min).

【0031】装置 :サーモスタット制御されたカラムオーブン、20℃に設定(Hewlett Pack
ard HP 1090);カラム長250mm、内径4mm、LiChrospher 100 RP-18(5
μm粒子、Merck製)を充填、;可変波長検出器(Spectra Physics, Spectra 20
0)、300nmでUV検出;3Aのための検出限界:約10ppm(乾燥AP
M.Aceの乾燥重量に対する)
Apparatus : thermostatically controlled column oven, set at 20 ° C. (Hewlett Pack
ard HP 1090); column length 250 mm, inner diameter 4 mm, LiChrospher 100 RP-18 (5
μm particles, Merck); variable wavelength detector (Spectra Physics, Spectra 20)
0), UV detection at 300 nm; detection limit for 3A: about 10 ppm (dry AP)
M. Ace dry weight)

【0032】移動相 :下記成分、すなわち (1)2回蒸留された水 (2)メタノール、HPLCグレード(Chromasolv; Riedel de Haen 34860) (3)テトラブチルアンモニウムヒドロキシスルフェート(TBAHS); Flu
ka 86875 (4)0.1Mの水性水酸化カリウム溶液
Mobile phase : the following components: (1) double distilled water (2) methanol, HPLC grade (Chromasolv; Riedel de Haen 34860) (3) tetrabutylammonium hydroxysulfate (TBAHS); Flu
ka 86875 (4) 0.1 M aqueous potassium hydroxide solution

【0033】 下記組成を有する3種類の溶媒(A、B、C)を調製した。Three kinds of solvents (A, B, C) having the following compositions were prepared.

【表1】 [Table 1]

【0034】 使用された溶離勾配は以下の通りであった。The elution gradient used was as follows:

【表2】 [Table 2]

【0035】 pH測定は、ROSS(商標)Combination pH電極 8155SCを備えた、Knick Porta
mess 752 Calimatic pH計を使用して行なわれた。
The pH measurement was performed using a Knick Porta equipped with a ROSS ™ Combination pH electrode 8155SC.
This was done using a mess 752 Calimatic pH meter.

【0036】実施例I シェル温度50℃の1リットルのクリスタライザーにおいて、下記を攪拌しな
がら一緒にした。すなわち、466gの脱イオン水、141gのAceK(0.
70モル)および65gのAPM(0.21モル;水分量4%)である。次いで
、水中の33%HCl溶液を、pHが3.5になるまでピペットを使用して25
分間滴下した。次いで、5gのAPMを5分ごとに添加し(全部で150g、す
なわち0.49モルの追加の添加)、この際、追加のHCl溶液の滴下によりp
Hを3.5に制御した。全てのAPMが投入された後、33%HClの最後の量
を投入し、その結果、全部で77gの33%HCl(0.70モル)を投入した
。実験を開始して約3時間後に冷却を開始した(10℃の低温槽)。3時間冷却
した後、合計716gのスラリーが得られた。このスラリーを、10℃の壁温を
有する冷却されたブフナー漏斗で濾別した後、そのpHを固体KOHによって1
1.0に上げた10℃の脱イオン水各180mlで2度洗浄した。集められた湿
ったケーキの水分量は19.2重量%であった。湿ったケーキを50℃の流動床
で1時間乾燥させた。乾燥後の水分量は<0.1重量%であった。この生成物中
にアセトアセトアミド(3A)は全く示されなかった。
EXAMPLE I In a 1 liter crystallizer at a shell temperature of 50 ° C., the following were combined with stirring: That is, 466 g of deionized water, 141 g of AceK (0.
70 mol) and 65 g of APM (0.21 mol; water content 4%). A 33% HCl solution in water is then pipetted to pH 3.5 for 25 minutes.
Dropped for minutes. 5 g of APM are then added every 5 minutes (150 g in total, ie an additional addition of 0.49 mol), with additional HCl solution being added dropwise by addition of p.
H was controlled at 3.5. After all the APM had been charged, a final amount of 33% HCl was charged, resulting in a total charge of 77 g of 33% HCl (0.70 mol). Approximately 3 hours after the start of the experiment, cooling was started (10 ° C. low temperature bath). After cooling for 3 hours, a total of 716 g of slurry was obtained. After the slurry was filtered off on a cooled Buchner funnel with a wall temperature of 10 ° C., the pH was raised to 1 with solid KOH.
Washed twice with 180 ml each of 10 ° C. deionized water raised to 1.0. The moisture content of the collected wet cake was 19.2% by weight. The wet cake was dried in a fluidized bed at 50 ° C. for 1 hour. The water content after drying was <0.1% by weight. No acetoacetamide (3A) was shown in this product.

【0037】 乾燥した生成物を80℃で48時間保持した後、3A含量を再測定した。なお
も3Aは検出され得なかった。60℃で13週間貯蔵した後、3Aは検出され得
なかった。60℃で1年間貯蔵した後、3Aはなおも検出され得なかった。
After holding the dried product at 80 ° C. for 48 hours, the 3A content was measured again. Still, 3A could not be detected. After storage at 60 ° C. for 13 weeks, 3A could not be detected. After storage at 60 ° C. for 1 year, 3A could still not be detected.

【0038】比較例A シェル温度20℃の25リットルのクリスタライザーに、6.03kgのAc
eK(30モル)が添加された20リットルの脱イオン水を充填した。次いで、
シェル温度サーモスタットを50℃に設定し、その結果、クリスタライザー温度
は実験中、徐々に上昇した。さらに、3.07kgのAPMを攪拌しながら2分
間で添加した(10モル;水分量4%)。全APM添加時間中、水中の33%H
Cl溶液を、35g/分の速度で投入した。9分後、反応混合物はもはや攪拌さ
れ得なかった。その後、追加の水5kgを添加した。10分後、混合物は再び攪
拌することができた。さらに10分後、500gのAPMを添加した。次いで、
20分間、5分ごとに500gのAPMを添加した。反応混合物が再び粘稠にな
ったので、APM添加を15分間停止した。次いで、30分間、5分ごとに50
0gのAPMを添加した後、最後の630gのAPMを添加した。添加されたA
PMの合計量は9.2kg(30モル)であり、添加されたHCl溶液の合計量
は3.3kg(30モル)であった。次いで、サーモスタットを10℃に設定し
た。3時間冷却した後、クリスタライザーの温度は22.8℃であり、スラリー
を3リットルずつ遠心分離した。各部分を2回洗浄し、各洗浄は、20℃の脱イ
オン水300mlを用いて行なわれた。集められた湿ったケーキの水分量は5.
7重量%であった。湿ったケーキを50℃および低速度(約70rpm)で羽根
ドライヤーにおいて3時間乾燥させた。合計量12.25kgの乾燥したAPM
.Aceが得られた。乾燥後の水分量は<0.1重量%であった。この生成物に
おいてアセトアセトアミド(3A)の存在は全く示されなかった。
Comparative Example A 6.03 kg of Ac was added to a 25 liter crystallizer having a shell temperature of 20 ° C.
20 liters of deionized water to which eK (30 moles) had been added was charged. Then
The shell temperature thermostat was set at 50 ° C., so that the crystallizer temperature gradually increased during the experiment. Further, 3.07 kg of APM was added over 2 minutes with stirring (10 mol; water content 4%). 33% H in water during the entire APM addition time
The Cl solution was introduced at a rate of 35 g / min. After 9 minutes, the reaction mixture could no longer be stirred. Thereafter, an additional 5 kg of water was added. After 10 minutes, the mixture could be stirred again. After another 10 minutes, 500 g of APM was added. Then
For 20 minutes, 500 g of APM was added every 5 minutes. The APM addition was stopped for 15 minutes as the reaction mixture became viscous again. Then 30 minutes, 50 every 5 minutes
After adding 0 g of APM, the last 630 g of APM was added. A added
The total amount of PM was 9.2 kg (30 mol) and the total amount of added HCl solution was 3.3 kg (30 mol). The thermostat was then set at 10 ° C. After cooling for 3 hours, the crystallizer temperature was 22.8 ° C and the slurry was centrifuged in 3 liter increments. Each portion was washed twice, each wash using 300 ml of 20 ° C. deionized water. The moisture content of the collected wet cake is 5.
7% by weight. The wet cake was dried at 50 ° C. and low speed (about 70 rpm) for 3 hours in a blade dryer. 12.25 kg dry APM in total
. Ace was obtained. The water content after drying was <0.1% by weight. No acetoacetamide (3A) was shown in this product.

【0039】 乾燥した生成物を80℃で48時間保持した後、3A含量を再測定した。この
とき、3A含量は17ppmであった。 乾燥したAPM.Aceのサンプルを40℃で14週間貯蔵した後、生成物中
に3Aは示されなかった。 乾燥したAPM.Aceを60℃で1ヶ月貯蔵した後、17ppmの3Aが認
められた。3Aの濃度は、60℃で13週間貯蔵した後、32ppmに上昇した
After holding the dried product at 80 ° C. for 48 hours, the 3A content was measured again. At this time, the 3A content was 17 ppm. Dried APM. After storing the Ace sample at 40 ° C. for 14 weeks, no 3A was shown in the product. Dried APM. After storing Ace at 60 ° C. for 1 month, 17 ppm of 3A was observed. The concentration of 3A rose to 32 ppm after storage at 60 ° C. for 13 weeks.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ,BA ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CU, CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,GD,G E,GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS ,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK, LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,M N,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU ,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM, TR,TT,UA,UG,US,UZ,VN,YU,Z A,ZW──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (81) Designated country EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE ), OA (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG), AP (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW), EA (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM), AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR , BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS , JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液体媒体中での製造、そこからの固液分離による湿った固体生
成物としての分離および続く乾燥により、固体かつ乾燥した形態のアスパルテー
ムとアセスルファム酸との塩を製造する方法において、該湿った固体生成物を、
乾燥の前に、1以上の工程の洗浄操作に付し、ここで、これらの洗浄操作の少な
くとも最後の工程が8以上のpHを有する塩基性水性溶液によって行われること
を特徴とする方法。
1. A process for producing a salt of aspartame and acesulfameic acid in solid and dry form by production in a liquid medium, separation therefrom as a wet solid product by solid-liquid separation and subsequent drying. The wet solid product is
Prior to drying, a method comprising subjecting to one or more washing steps, wherein at least the last step of these washing steps is performed with a basic aqueous solution having a pH of 8 or more.
【請求項2】 塩基性水性溶液が、水酸化ナトリウムおよび/または水酸化カ
リウムの溶液であることを特徴とする、請求項1記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the basic aqueous solution is a solution of sodium hydroxide and / or potassium hydroxide.
【請求項3】 塩基性水性溶液が、8〜13の範囲、特に約10.5〜約11
.5の範囲のpHを有することを特徴とする、請求項1または2記載の方法。
3. The method according to claim 1, wherein the basic aqueous solution is in the range from 8 to 13, in particular from about 10.5 to about 11
. 3. The method according to claim 1, wherein the method has a pH in the range of 5.
【請求項4】 塩基性水性溶液の温度が20℃以下であり、特に15〜5℃の
範囲であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項記載の方法。
4. The process as claimed in claim 1, wherein the temperature of the basic aqueous solution is below 20 ° C., in particular in the range from 15 to 5 ° C.
【請求項5】 洗浄操作が、20℃以下である、特に15〜5℃の範囲にある
温度で行なわれることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein the washing operation is carried out at a temperature below 20 ° C., in particular in the range from 15 to 5 ° C.
【請求項6】 アスパルテームとアセスルファム酸との塩を、少なくとも数秒
間、好ましくは2〜20分間、塩基性水性溶液と接触させることを特徴とする、
請求項1〜5のいずれか1項記載の方法。
6. Contacting the salt of aspartame with acesulfameic acid with a basic aqueous solution for at least a few seconds, preferably for 2 to 20 minutes.
The method according to claim 1.
【請求項7】 塩基性水性溶液による洗浄操作が適用される前に、少なくとも
1回の水による洗浄操作が最初に行なわれることを特徴とする、請求項1〜6の
いずれか1項記載の方法。
7. The method according to claim 1, wherein at least one washing operation with water is performed first before the washing operation with the basic aqueous solution is applied. Method.
【請求項8】 APM.Aceの量(乾燥重量として計算)に対して少なくと
も10重量%の塩基性水性溶液が使用されることを特徴とする、請求項1〜7の
いずれか1項記載の方法。
8. APM. 8. The process according to claim 1, wherein at least 10% by weight of the basic aqueous solution, based on the amount of ace (calculated as dry weight), is used.
【請求項9】 80℃の温度で48時間、乾燥形態の該塩を加熱した後に、ア
セトアセトアミド含量が、塩の乾燥重量に対して10ppm未満のままであるこ
とを特徴とする、高められた安定性を有するアスパルテームとアセスルファム酸
との塩。
9. An enhanced acetoacetamide content after heating the salt in dry form at a temperature of 80 ° C. for 48 hours, characterized in that the acetoacetamide content remains below 10 ppm relative to the dry weight of the salt. A stable salt of aspartame and acesulfameic acid.
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