JP2002514267A - Apparatus for electrolytically treating a plate-shaped workpiece and a method for electrically shielding an edge area of the workpiece during the electrolytic processing - Google Patents
Apparatus for electrolytically treating a plate-shaped workpiece and a method for electrically shielding an edge area of the workpiece during the electrolytic processingInfo
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】 本発明に係る装置は、プレート形状の被処理物、好ましくはプリント配線回路基板を、連続送り設備配置にて電気分解的に処理するために用いられ、被処理物は上記設備配置を通って実質的に水平な搬送方向で搬送平面に案内可能であるようになっており、上記本発明に係る装置は、搬送平面に実質的に平行に対向して位置した対抗電極(2)、並びに搬送平面と対抗電極の間に配置された、被処理物(1)のエッジ範囲にて高い電流密度の場を遮蔽するためのスクリーン(11)を有し、その際、上記スクリーンはそれぞれ少なくとも2つの実質的に互いに平行に配置された平坦部分(12,13)の形状に形成され、スクリーンの一方の部分(13)が搬送平面に対向するように配設され、他方の部分(12)が対抗電極に対向するように配置され、その際、上記スクリーンは、搬送平面に対して実質的に平行で且つ搬送方向(23)に対して実質的に垂直に延在する方向(20)にて変位可能なように取り付けられている。プリント配線回路基板素材片の利用可能な範囲は、この装置によって、析出金属の層厚の要求される許容差が維持されない約12mmの縁にまで延びる。 (57) [Summary] The apparatus according to the present invention is used for electrolytically treating a plate-shaped workpiece, preferably a printed circuit board, in a continuous feed facility arrangement, wherein the workpiece is as described above. The device according to the invention can be guided in a substantially horizontal transport direction to the transport plane through the equipment arrangement, and the device according to the invention comprises a counter-electrode ( 2) and a screen (11) arranged between the transport plane and the counter electrode for shielding a field with a high current density in the edge area of the workpiece (1), wherein the screen is used Are each formed in the form of at least two substantially parallel flat parts (12, 13), one part (13) of the screen being arranged opposite the transport plane and the other part (12) is the counter electrode The screen is displaceable in a direction (20) extending substantially parallel to the transport plane and substantially perpendicular to the transport direction (23). So that it is attached. The available area of the printed circuit board blank is extended by this device to an edge of about 12 mm, where the required tolerance of the deposited metal layer thickness is not maintained.
Description
【発明の詳細な説明】 プレート形状の被処理物を電気分解的に処理するための装置と電気分解的処理の 際に被処理物のエッジ範囲を電気的に遮蔽するための方法 本発明は、プレート形状の被処理物を電気分解的に処理するための装置に関し 、並びに被処理物のエッジ範囲を電気的に遮蔽するための方法に関する。好まし くは上記装置と上記方法とは、導体プレート(プリント配線回路基板等)や導体 箔の電気メッキやエッチングの場合に被処理物が通過の際に水平に又は垂直に整 列される連続設備配置において用いられる。 連続電気メッキ設備配置において一般的に種々の幅の被処理物が作り出される 。当該設備配置における陽極は、最も幅広いプレートや箔でも問題なく処理可能 なように寸法決めされなければならない。この状況において比較的狭いプレート 又は箔が上記設備配置で被処理物の搬送方向に対し横向きでガルヴァーニ作用を 受ける(電気メッキされる)ならば、そのエッジ範囲において電場線が集中する ので、中央部よりも当該エッジ範囲において相当に厚めの金属層が作り出される 。通常、金属層の厚みに対する所定の許容度が設定され、その結果、金属化され たプレートや箔の上の実際に使用可能な範囲がその全幅に対しても小さいことと なる。導体プレートや導体箔の製造の際に、当該プレートや箔の後続す る処理加工の際の要求に由来する金属層の厚みに対して僅かな許容度のみが容認 されるにすぎない。更に、導体プレートは一般に高価な材料に関わっている。そ れ故、利用物(ブランク/素材片,Nutzen)とも称されるガルヴァーニ作用を受 けた生の導体プレートの最大利用を達成するのが望ましい。それ故、均一な層厚 が導体プレート乃至導体箔のエッジ範囲にまで達成される。電気メッキされるべ き対象物のエッジ範囲における層厚に影響を及ぼすための公知のやり方は、電気 的に非伝導性のスクリーンを用いてこのエッジ範囲での電気的遮蔽にある。 DE-P 3937926 C2において、特に導体プレートの処理のために 電気メッキ設備配置での力線を遮断するための装置が記載されている。そこに含 まれた図2及び3においてスクリーンが示されており、これは、それ自体個々に 調整可能な複数の部分スクリーンを備えて構成されている。軸線まわりに部分ス クリーンを回転することによって、各個々の部分スクリーンの遮蔽効果は増加し 、また減少する。個々のスクリーンが十分に狭く、それ故、これらのスクリーン が十分に多数ある場合、エッジ覆いは最適に設定可能である。 しかしながら、大目に見なければならない欠点は、実際に遮蔽されないはずの 導体プレートの範囲にわたって残留遮蔽が残ることである。更にこの装置を構造 的に実現するための経費は相当である。それ故に、上記公報における図4に示さ れたように、被処理物のエッジ範囲と陽極との間の平坦なスクリーンが実用上好 ま しい。しかしながら、スクリーンのこの配置では、最適な或る輪郭状のスクリー ニングが可能でなく、求められる層厚許容度が素材片での比較的大きなエッジ範 囲において達成不可能である。更にこの配置でも大きな技術的実現経費が欠点で ある。 電気メッキ操作は強い構造を必要とする。それ故、JP-A-62/15159 3から公知のものと同様の平坦でずらすことが可能なスクリーンが実用上好結果 であることが証明された。ここで用いられたスクリーンは被処理物のエッジ範囲 と陽極の間で直線状に作用する駆動装置によって変位される。 このように平坦に形成されたスクリーンは、スクリーンによる被処理物の覆い に依って且つスクリーンと陽極若しくは被処理物の表面の間の間隔に依って、被 処理物のエッジ範囲での力線の密集度を減少する。陽極と被処理物の間隔並びに 陽極と陰極の電流密度はまた電解処理にとって重要である。電解処理の間のスク リーンの位置は、これらのパラメータに基づいて折衷状態を構成し、その結果、 最適なスクリーニングが複雑な実験において決定されなければならない。目的は 、高い電流密度の場合にエッジを焼くことなく、許された許容度の範囲で大きな 使用範囲を達成することである。微細な導体プレートで平均的な電流密度の場合 において、使用可能でないエッジは実用上約30mmの幅を有する。15A/d m2までの電流密度の場合、このスクリーンでの使用可能でないエッジは既に約 50mmの幅を有する。 US-A-3862891に、電気メッキフレームと陽極、並び に物品担体に据え付けられた電気メッキされるべき対象物に沿って力線の密集度 を均一化するための電気的に不伝導性の遮蔽スクリーンを有する電気メッキ装置 が記載されている。上記遮蔽スクリーンは、側壁に固定され適当なガイドでネジ 締めされて上記装置としっかりと結合された多数のスクリーン部分を備えて構成 される。当該スクリーン部分は互いに平行に且つ電気メッキされるベき対象物と 陽極に対し平行に向けられる。当該スクリーン部分は、電気メッキされるべき対 象物と陽極の間の空間に部分的に突出し、その際、陽極の近くに位置したスクリ ーン部分は電気メッキされるべき対象物の近くに位置したスクリーン部分よりも 更に突出する。この装置で一様な電気メッキ層の厚みが電気メッキフレームの平 面において達成可能であることが述べられる。 この装置で、被処理物のできる限り狭いエッジ範囲でのみ金属層厚の設定され た許容度が達成されず、被処理物の残りの表面が全ての位置で金属層厚の均一性 のための要求を満たすので、異なる外寸の被処理物を電解的に最適なように処理 することは可能でない。僅かな準備期間を可能にするためには連続的な操作/運 転が特に望ましい。 それ故、本発明の課題は、従来技術の欠点を回避し、特にプレート形状の被処 理物を電気分解的に処理するための装置を提供することにある。この装置を用い て上記プレート乃至箔が連続的に電解処理可能である。上記装置は同時に処理さ れるべきプレート乃至箔の表面で金属層厚の一様な分布を達成するために、いつ で も迅速に自動的に、または場合によっては手動で、上記プレート乃至箔の変化す るフォーマット/幅に適合させることができる。連続操作/運転の間、所定の層 厚許容度が維持できないプレート乃至箔のエッジ範囲はできるだけ小さくされる べきである。しかしながら、更にまたプレート乃至箔を短い処理時間で電解する ことができ、その結果、上記装置で単位時間当たりの被処理物の高い処理量(ス ループット)を可能にするために、できる限り高い電解電流を用いることが求め られる。大きな電解電流ですら、被処理物上の金属層の厚みは常にエッジ範囲ま でできる限り均一に維持されるべきである。 この課題は請求項1に係る電解処理装置によって、及び請求項10に係る電気 遮蔽方法によって解決される。 本発明に係る装置は、被処理物が搬送の実質的に水平な方向における搬送平面 で案内可能に通される連続設備配置(システム)を実質的に構成する。この連続 設備配置に、搬送平面に向かって実質的に平行に対向する対抗電極が配置され、 並びに搬送平面と対抗電極の間に、被処理物のエッジ範囲において高い電流密度 場(Stromdichtefelder)を遮蔽するためのスクリーンが配置される。当該スクリ ーンは各々実質的に互いに平行に配設された少なくとも2つの平坦部分の形状を しており、スクリーンの一方の部分は搬送平面に対向するように配設され、他方 の部分は対抗電極に対向するように配設されている。スクリーンは、実質的に搬 送平面に対し平行に且つ実質的に搬送方向に対し横向きに延びるような 方向において変位可能なように取り付けられる。 更に、連続設備配置は電解処理のために求められる更なる特徴、例えば処理液 体を収容するための容器、場合によってはノズル、液体を個々のユニットに移送 するためのポンプと配管、上記設備配置を通して被処理物を搬送するための駆動 ユニット及び上記設備配置において保持するための案内要素並びに電源、電極と 被処理物のための接触要素及び電流供給線を有する。 本発明に係る方法は、連続設備配置においてプレート状の被処理物の電解処理 の間にそのエッジ範囲を電気的に遮蔽するために用いられる。 上記装置と方法とは、とりわけ導体プレート(プリント配線回路基板等)や導 体箔の電解処理に適する。被処理物は電解によって金属化(金属被覆)されるか 、エッチングされうる。一方の場合において、被処理物は陰極として連結され、 対抗電極が陽極として連結される。他方の場合において、被処理物と対抗電極と は入れ替えられた極性で連結される。 本発明の好適な実施形態は従属請求項に記載されている。 搬送平面に直接的に対向するスクリーンの部分は、被処理物のエッジの方へ間 隔bだけスクリーンの他の部分から引っ込められるように配設される。それによ って力線の集中に対する被処理物のエッジ範囲の非常に効果的な遮蔽が可能とな る。スクリーン部分のそのような引っ込み配置(互い違いに段状とする配置)な しでは、金属層厚の最適な一様分布を達成することは可能でない。 それぞれ処理されるべきプレート乃至箔の変化するフォーマットにスクリーン 配置を特に良好に適合するために、スクリーンの平坦部分は互いに無関係にずら す(変位する)ことが可能なように取り付けられうる。陽極と移動する被処理物 の位置に対して予め決定されるべきスクリーン部分の位置によって、スクリーン 部分のそれぞれの位置が決定され、そのようなフォーマットの通過の際に調整さ れる。 特に、上記間隔bは適当な構造要素によって調整可能である。 好ましくは対抗電極と搬送平面に対する平坦部分の間隔もまた互いに無関係に調 整可能である。 上記間隔b並びに対抗電極、搬送平面と平坦部分の間隔の自動調整のために、 例えば制御されたモータ駆動装置が備えられ、これによってスクリーンが変位可 能である。 好適な実施形態において、平坦部分は、被処理物や対抗電極と同時に同一空間 を占めうるようなエッジ範囲を有する。その際、このエッジ範囲は開口及び/又 は縁に凹部を有する。 比較的狭い素材片も効率的に処理することができるために、狭い被処理物でも エッジ範囲において確実に遮蔽されうるように、平坦部分は搬送方向に対し横向 きに見て幅広に作られるようになっている。 一般的に、好ましくは搬送平面の両側に配設された対抗電極は、比較的長い連 続設備配置の場合に、電極の単独のスイッチオフを保証するために、搬送方向に 関して見て多数の部分セグメントに 分けられる。これは被処理物が向かい合って位置していない対抗電極に対する電 流の流れを避けるために必要である。これら部分セグメントで電流の流れを遮断 することができないならば、エッジ範囲での電流密度はプレートや箔の前縁で増 加して、そこで金属層が求められる許容度の範囲外の厚みで析出することとなる 。好ましくは、本発明に係るスクリーンは対抗電極のそのようなセグメント化( セグメントに分けること)の際に搬送方向で見て、対抗電極の部分セグメントの 長さに対応する長さを有する。 本発明を以下に図1〜3に基づいて詳細に記載する。 図1a:二重スクリーンを通る断面図とそれによって得られた層厚パターン; 図1b:二重スクリーンの平面図; 図2:スクリーンの種々の平坦部分のエッジ範囲の平面図; 図3a:従来技術に係る遮蔽スクリーンなしでの電気メッキ設備配置の概略的な 横断面図とそれによって得られた層厚パターン; 図3bと3c:従来技術に係るスクリーン設備配置を通る概略的な横断面図とそ れによって得られた層厚パターン。 従来技術に係る遮蔽スクリーンなしの電気メッキ設備配置の場合でのプレート 状の被処理物上の通例得られる層厚パターンが図3aに示されている。唯一のス クリーン部分を備えた公知のスクリーン設備配置を用いた場合の、対応するパタ ーンが図3bと3cに再現されている。 図3aは、電気メッキ後の例えば導体プレートの遮蔽されてい ないエッジの層厚dを示す。素材片の中央範囲においてd=1の相対的な層厚が 、実際上例えば0.03mmの層厚で、達成される。同時にこの層厚は所望の層 厚を構成する。陽極2に対する被処理物1、例えば導体プレートの位置は横断面 で搬送方向に対し横向きに示される。図面の範囲外の範囲3に、導体プレートの 不図示の電気接触部が位置する。連続電気メッキ設備配置における導体プレート のための搬送・案内手段はまた図面に示されない。 導体プレートの下側での層厚パターンが上側でのパターンに対して鏡像の関係 にあるので、唯一の陽極が一方の側に示される。陽極/陰極間隔、即ち、陽極表 面の被処理物の表面に対する隔たりは連続電気メッキ設備配置の場合、実際上約 60mmから約120mmになる。ここに概略的にスケッチされた層厚パターン 4は先ず導体プレートの側縁(側方エッジ)5からの相対的な間隔a=1で相対 的な予定層厚(所望層厚、Soll-Schichtdicke)d=1を達成する。電気力線は、 導体プレートを越えて突出する陽極表面から延びる力線密度のためだけでなく、 局所的な電流密度が導体プレートでの範囲に設定されるためにも、導体プレート の側縁で集中する。それ故、そこで望ましくない「層厚下降」7がd=1より少 ない相対的な厚みで形成される。最大の層厚は本例の場合、導体プレートの側縁 に直接的に形成される。所謂焼け現象(陰極電流密度が高すぎる場合に一般的に 形成される粒状の金属層)を避けるために、このピーク電流密度は、そのような 焼け現象が生じる限界電流密度より下でなければならない。それ故、対 応して低い平均電流密度が電気メッキ操作のために調整(設定)されなければな らない。 図3bに電気メッキ設備配置が概略的に示されており、当該設備配置は陽極2 の近傍に変位可能に配置された平坦なスクリーン8を有する。しかしながら、こ のスクリーンを用いることによって、層厚の基礎パターンに変化は生じない。こ の場合においてまた、スクリーンの使用なしよりも小さいとはいえ、「層厚下降 」が生じる。ただ、この下降の弱い形成によって、導体プレート素材片の使用可 能な範囲は大きくなる。 図3cに係る設備配置の場合において、使用可能な範囲は図3bにしたがう設 備配置の場合とほぼ同じ大きさである。ここで、スクリーン8は被処理物1の表 面の近くに配置されている。導体プレートに対する間隔が僅かになるにつれて、 スクリーンエッジ9は益々力線を集中するように導体プレートに作用する。それ 故、層厚盛り上がり10がこの位置で生じる。この盛り上がりは導体プレートの 側縁5にまで続く。導体プレートからのスクリーンのこの間隔でも、導体プレー トの使用可能な範囲は図3bにしたがう設備配置の場合よりも大きくない。 これとは反対に、図1aの上部分に、本発明に係る二重スクリーン11が横断 面で示される。これは、対抗電極に直接的に対向する(陽極近くの)平坦部分1 2と、被処理物に直接的に対向する(陰極近くの)平坦部分13とを備えてなっ ている。両方の平坦部分は好ましくはプラスチックでなる構造要素14によって 互 いに連結されている。これら構造要素は、お互いの、且つ陽極と陰極に対するス クリーン部分12,13の場所におけるそれらの位置の変更を可能とする。これ は、両方の平坦部分の間の間隔15並びに両方のスクリーン部分の前縁16,1 7の位置が調整可能であることを意味する。それ故、部分13を越えるスクリー ン部分12の突出長さ18(間隔b)が設定可能である。二重スクリーン11は 搬送方向に対し横向きにずれることができるように軸受19に支承されている。 当然ながら、お互いのスクリーン部分の相対的な設定のための他の構造的な解 決も選択可能である。 スクリーンパラメータが正しく設定された場合、二重スクリーン11が「層厚 下降」7と層厚盛り上がり10をほぼ完全に補償する(図1aでの下側の図部分 参照)。調整可能なスクリーンパラメータは、間隔15、突出長さ18(間隔b )及び陽極と被処理物の間の間隔における二重スクリーンの位置である。 陽極に対する陽極に近いスクリーン部分12の間隔と被処理物に対する陰極に 近いスクリーン部分13の間隔とは連続設備配置の組み立て後に目的に合致して もはや変更されないので、間隔15と突出長さ18(間隔b)の調整は一般的に 操作乃至運転開始に際して単に手動で実施されなければならない。不図示の制御 可能な駆動装置は、搬送方向に対し横向きの二重スクリーン11及び/又は12 の動き20を生じる。 一定の幅を有した導体プレート素材片だけが加工処理される場 合、導体プレートのエッジ範囲における所定の覆い21を得るために、スクリー ンが単に一度手で設定されることを必要とする。 しかしながら、導体プレートの幅が定常的に変化する場合、導体プレート覆い は好ましくは公知の制御・駆動手段を備えたモータ駆動装置で設定される。 搬送方向に対し横向きのスクリーンの長さは、少なくとも最狭の導体プレート 素材片でも十分なエッジ覆いが可能であるような程度でなければならない。 基本的に、スクリーン12,13が互いにしっかりと結合されず、個々に単独 で搬送方向に対し横向きに変位することも可能である。これは、電気メッキ設備 配置において或る被処理物から他のもので大きな電流密度差が生じる時に特に有 利である。そして陰極に近いスクリーン13はエッジの焼け現象の回避のために 最適なように設定可能である。 図1bにおいて更に二重スクリーン11が平面図で陽極1の方に見て示される 。二重スクリーンの間にスクリーンの保持のための軸受19が配置され、同時に 陽極を担持する。陽極はセグメントに分けられ、互いに電気的に絶縁されて、そ れでこれらは被処理物が搬送方向に連続設備配置に入れられる際に個々にスイッ チオンされ、被処理物が上記設備配置から出る際にスイッチオフされうる。この 機能は刊行物DE-P 3939681 A1に記載されている。この刊行物が 参照される。二重スクリーンの必要な幅22は目的に適って陽極セグメントの幅 に依存する。被処理物の 搬送方向は矢印23によって示される。 図2において、平坦部分12,13の所定の実施形態に対する例が再現される 。スクリーン部分の前範囲に目打ちすることによって、エッジ効果が幾らか減少 する。前縁16,17での凹部の形成はまた、金属層の一様な分布をもたらす。 そのような目打ち及び/又は凹部の付け加えは細かな調整に良好に適する。 本発明に係るやり方の全ては共に、微細な導体技術においても、導体プレート 素材片の使用可能な範囲を実用上導体プレートエッジで少なくとも12mmにま で達することをもたらす。更なる細かな調整が両方の平坦なスクリーン12,1 3の間に第3のスクリーン部分を配置することによって達成可能である。この追 加的なスクリーン部分の装着は、唯一の均一の幅を有した導体プレート素材片が 連続設備配置において加工処理される場合、特に有利で僅かな費用に結び付く。 変化するフォーマットにスクリーン部分の位置を適合するためのモータ駆動装置 がこの場合には省略される。 開示された特徴の全て並びに開示された特徴の組み合わせは、それらが公知で あると明示して示されない限り、本発明の対象(サブジェクトマター)である。 参照番号リスト: 1 被処理物(例えばプリント配線回路基板) 2 対抗電極(例えば陽極) 3 接触範囲 4 層厚パターン 5 導体プレートエッジ 6 突出する対抗電極範囲 7 「層厚下降」 8 従来技術にしたがう単一スクリーン 9 単一スクリーン8の前縁 10 層厚盛り上がり 11 二重スクリーン 12 対抗電極に直接的に対向する(陽極に近い)スクリーン部分 13 被処理物に直接的に対向する(陰極に近い)スクリーン部分 14 スクリーン部分12,13を調整するための構造要素 15 スクリーン部分12,13の間の間隔 16 スクリーン部分12の前縁 17 スクリーン部分13の前縁 18 被処理物に対向するスクリーン13を越えて対抗電極に対向するスクリー ン12の突出長さ(間隔b) 19 二重スクリーンを保持するための軸受 20 スクリーンの動き 21 導体プレート覆い 22 スクリーン幅 23 搬送方向DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Equipment for electrolytic treatment of plate-shaped workpieces For electrically shielding the edge area of the workpiece during processing The present invention relates to an apparatus for electrolytically treating a plate-shaped workpiece. As well as a method for electrically shielding the edge area of the workpiece. Preferred In other words, the above-described apparatus and the above-described method include a conductor plate (such as a printed circuit board) and a conductor. In the case of electroplating or etching of foils, the workpiece is aligned horizontally or vertically as it passes. Used in a continuous installation arrangement. Workpieces of various widths are generally produced in continuous electroplating equipment arrangements . The anode in the installation can handle the widest range of plates and foils without any problems It must be dimensioned as follows. Relatively narrow plates in this situation Alternatively, the foil is placed in the above-mentioned facility and the galvanic action is performed in the direction If received (electroplated), the electric field lines concentrate in the edge area Therefore, a considerably thicker metal layer is created in the edge area than in the center. . Usually, a certain tolerance for the thickness of the metal layer is set, and consequently the metallization That the actual usable area on the plate or foil is smaller than its full width. Become. When manufacturing conductor plates and foils, Only marginal tolerances for metal layer thickness due to processing requirements It is just done. In addition, conductor plates generally involve expensive materials. So Therefore, it is subject to galvanic action, also referred to as use material (blank / material piece, Nutzen). It is desirable to achieve maximum utilization of the bare conductor plate. Therefore, uniform layer thickness Is achieved up to the edge area of the conductor plate or conductor foil. Should be electroplated A known way to influence the layer thickness in the area of the edge of the object An electrically shielding screen is used in this edge region using a non-conductive screen. In DE-P 3937926 C2, especially for the treatment of conductor plates An apparatus is described for interrupting lines of force in an electroplating facility arrangement. Including there The screens are shown in FIGS. 2 and 3 which are shown individually in themselves. It comprises a plurality of adjustable partial screens. Partial rotation around the axis By rotating the clean, the shielding effect of each individual partial screen is increased , Also decreases. The individual screens are narrow enough and therefore these screens Is large enough, the edge covering can be set optimally. However, the drawback that must be tolerated is that it should not be actually shielded The residual shielding remains over the area of the conductor plate. Further construction of this device The cost of achieving this is substantial. Therefore, as shown in FIG. As a result, a flat screen between the edge area of the workpiece and the anode is practically preferable. Ma New However, with this arrangement of screens, an optimal contoured screen Layering is not possible and the required layer thickness tolerance is relatively large Unattainable in the box. In addition, this arrangement has the disadvantage of significant technical realization costs. is there. Electroplating operations require strong structures. Therefore, JP-A-62 / 15159 3 is a flat and displaceable screen similar to the known ones. It was proved that. The screen used here is the edge area of the workpiece And the anode are displaced by a linearly acting drive. The screen formed flat in this way covers the object to be treated with the screen. Depending on the distance between the screen and the anode or the surface of the workpiece. Reduces the density of field lines in the edge area of the workpiece. The distance between the anode and the workpiece, The anode and cathode current densities are also important for the electrolysis process. Screen during electrolysis The position of the lean constitutes a compromise based on these parameters, and as a result, Optimal screening must be determined in complex experiments. My goal is In the case of high current densities, without burning edges, large within the allowed tolerance Achieving the range of use. Average current density with fine conductor plate The non-usable edge has a width of about 30 mm in practice. 15A / d For current densities up to m2, the unusable edges on this screen are already about It has a width of 50 mm. US-A-3862891, electroplating frame and anode, side by side Of field lines along the object to be electroplated mounted on the article carrier Electroplating apparatus having an electrically impermeable shielding screen for homogenizing Is described. The above shielding screen is fixed to the side wall and screwed with a suitable guide Consists of a number of screen parts that are tightened and tightly connected to the above device Is done. The screen parts are parallel to each other and the object to be electroplated It is oriented parallel to the anode. The screen part is the pair to be electroplated. Partially protrudes into the space between the elephant and the anode, with the screen located near the anode Screen is closer than the screen located closer to the object to be electroplated. Protrude further. With this equipment, the uniform thickness of the electroplating layer It is stated that it is achievable in terms of aspects. With this device, the metal layer thickness is set only in the narrowest possible edge range of the workpiece. Tolerance has not been achieved and the remaining surface of the workpiece has a uniform metal layer thickness at all locations. Processing requirements for different external dimensions to be optimally treated electrolytically. It is not possible to do. Continuous operation / operation is required to allow for a short preparation period. Rolling is particularly desirable. The object of the present invention is therefore to avoid the disadvantages of the prior art and in particular to treat plate-shaped workpieces. An object of the present invention is to provide an apparatus for electrolytically treating a physical substance. Using this device Thus, the plate or foil can be continuously subjected to electrolytic treatment. The above equipment is processed simultaneously In order to achieve a uniform distribution of the metal layer thickness on the surface of the plate or foil to be so Change the plate or foil quickly and automatically or in some cases manually. Format / width. During continuous operation / operation, Edge area of plate or foil where thickness tolerance cannot be maintained should be as small as possible Should. However, furthermore, the plate or foil is electrolyzed in a short processing time As a result, the above apparatus can process a large amount of workpieces per unit time It is necessary to use as high an electrolytic current as possible to Can be Even with large electrolytic currents, the thickness of the metal layer on the workpiece is always Should be kept as uniform as possible. This object is achieved by an electrolytic treatment device according to claim 1 and by an electric treatment device according to claim 10. It is solved by a shielding method. The apparatus according to the present invention is configured such that the object to be processed has a transport plane in a substantially horizontal direction of transport. A continuous equipment arrangement (system) which is guided so as to be able to be guided is substantially constituted. This series A counter electrode which is arranged substantially parallel to the transport plane in the installation arrangement; High current density between the transfer plane and the counter electrode in the edge area of the workpiece A screen is arranged for shielding the field (Stromdichtefelder). The script The shape of at least two flat portions each arranged substantially parallel to one another. One part of the screen is arranged to face the transport plane, and the other part is Is disposed so as to face the counter electrode. The screen is virtually carried Extend parallel to the transport plane and substantially transverse to the transport direction It is mounted so that it can be displaced in the direction. In addition, the continuous equipment arrangement is an additional feature required for the electrolytic treatment, for example the processing solution Transfers containers, possibly nozzles, and liquids to individual units Pumps and piping for transporting the workpiece through the above equipment arrangement Units and guide elements for holding in the arrangement of the equipment, power supplies, electrodes and It has a contact element for a workpiece and a current supply line. The method according to the present invention provides a method for electrolytically treating a plate-like workpiece in a continuous facility arrangement. Used to electrically shield the edge area. The devices and methods described above include, among other things, conductor plates (such as printed circuit boards) and conductors. Suitable for electrolytic treatment of body foil. Is the object to be treated metallized (metallized) by electrolysis? , Can be etched. In one case, the workpiece is connected as a cathode, A counter electrode is connected as the anode. In the other case, the object to be treated and the counter electrode Are connected with the reversed polarity. Preferred embodiments of the invention are set out in the dependent claims. The part of the screen directly facing the transport plane is located between the edges of the workpiece. It is arranged so that it can be withdrawn from the rest of the screen by a distance b. It This makes it possible to very effectively shield the edge area of the workpiece from the concentration of the field lines. You. Such a recessed arrangement of the screen part (alternately stepped arrangement) Then, it is not possible to achieve an optimal uniform distribution of the metal layer thickness. Screen in changing format of plate or foil to be processed respectively The flat parts of the screen are shifted independently of one another, in order to adapt the arrangement particularly well. (Displacement). Workpiece moving with anode The position of the screen part to be predetermined with respect to the position of the screen The position of each of the parts is determined and adjusted during passage through such a format. It is. In particular, said spacing b can be adjusted by suitable structural elements. Preferably, the distance between the counter electrode and the flat part relative to the transport plane is also adjusted independently of one another. Can be adjusted. For automatic adjustment of the interval b and the counter electrode, the interval between the transport plane and the flat part, For example, a controlled motor drive is provided, which allows the screen to be displaced. Noh. In a preferred embodiment, the flat portion is in the same space as the workpiece and the counter electrode at the same time. Has an edge range that can occupy the edge. In this case, this edge area is defined by the opening and / or Has a recess at the edge. Since relatively narrow material pieces can be processed efficiently, even small workpieces can be processed. The flat part is transverse to the transport direction to ensure that it is shielded in the edge area It is designed to be made wider when viewed. In general, the counter electrodes, preferably arranged on both sides of the transport plane, are relatively long strings In the case of a continuous installation, in order to guarantee a single switch-off of the electrodes, In terms of multiple sub-segments Divided. This applies to the counter electrode where the workpiece is not Necessary to avoid current flow. Cut off current flow in these partial segments If not, the current density in the edge area will increase at the leading edge of the plate or foil. In addition, the metal layer will be deposited there with a thickness outside the required tolerance range . Preferably, the screen according to the invention has such a segmentation of the counter electrode ( Segmenting), when viewed in the transport direction, It has a length corresponding to the length. The invention is described in detail below with reference to FIGS. FIG. 1a: cross-section through a double screen and the resulting layer thickness pattern; FIG. 1b: plan view of a double screen; Figure 2: Plan view of the edge area of various flat parts of the screen; Figure 3a: Schematic of electroplating equipment arrangement without shielding screen according to the prior art. Cross-sectional views and the resulting layer thickness patterns; 3b and 3c: schematic cross-sections and cross-sections through a screen installation arrangement according to the prior art. The resulting layer thickness pattern. Plate in case of electroplating equipment arrangement without shielding screen according to prior art FIG. 3a shows a customarily obtained layer thickness pattern on a to-be-processed workpiece. Only su Corresponding pattern when using known screen equipment arrangement with clean part Are reproduced in FIGS. 3b and 3c. FIG. 3a shows the shielding of eg a conductor plate after electroplating. The layer thickness d of the non-edge is shown. In the central area of the material piece, the relative layer thickness of d = 1 This is achieved in practice with a layer thickness of, for example, 0.03 mm. At the same time this layer thickness is the desired layer Make up thickness. The position of the workpiece 1, for example, the conductor plate, with respect to the anode 2 is a cross section. Is shown laterally to the transport direction. In the range 3 outside the range of the drawing, An electrical contact (not shown) is located. Conductor plate in continuous electroplating equipment arrangement The transport and guidance means for are also not shown in the drawing. Layer thickness pattern on the lower side of the conductor plate is a mirror image of the pattern on the upper side , So only one anode is shown on one side. Anode / cathode spacing, ie anode table The distance between the surface and the surface of the workpiece is practically about It goes from 60 mm to about 120 mm. Layer thickness pattern schematically sketched here 4 is a relative distance a = 1 from a side edge (side edge) 5 of the conductor plate. The desired predetermined layer thickness (desired layer thickness, Soll-Schichtdicke) d = 1. The lines of electric force are Not only because of the field line density extending from the anode surface protruding beyond the conductor plate, Because the local current density is set in the range at the conductor plate, the conductor plate Concentrate on the side edges of Therefore, the undesired “layer thickness drop” 7 is less than d = 1. Formed with no relative thickness. The maximum layer thickness in this case is the side edge of the conductor plate Is formed directly. The so-called burning phenomenon (generally when the cathode current density is too high To avoid the formation of a granular metal layer), this peak current density It must be below the critical current density at which burning occurs. Hence the pair A correspondingly lower average current density must be adjusted (set) for the electroplating operation. No. FIG. 3b schematically shows an electroplating equipment arrangement in which the arrangement of the anode 2 Has a flat screen 8 displaceably disposed in the vicinity of. However, this No change occurs in the basic pattern of the layer thickness. This In the case of the above, although smaller than without the use of a screen, Is generated. However, due to this weak descent, the use of conductor plate material pieces is possible. The effective range becomes large. In the case of the equipment arrangement according to FIG. 3c, the usable range is set according to FIG. 3b. It is almost the same size as the equipment arrangement. Here, the screen 8 is a table of the workpiece 1. It is located near the surface. As the distance from the conductor plate becomes smaller, The screen edge 9 acts on the conductor plate in such a way as to concentrate the field lines more and more. It Therefore, a layer thickness swell 10 occurs at this position. This swelling of the conductor plate Continues to side edge 5. This spacing of the screen from the conductor plate also The usable range of the plant is no greater than in the case of the arrangement according to FIG. 3b. On the contrary, the upper part of FIG. 1a is traversed by a double screen 11 according to the invention. Shown in plane. This is the flat part 1 (near the anode) directly opposite the counter electrode. 2 and a flat portion 13 (close to the cathode) directly facing the workpiece. ing. Both flat parts are provided by a structural element 14, which is preferably made of plastic. Mutual Connected. These structural elements are connected to each other and to the anode and cathode. It is possible to change their position at the location of the clean parts 12,13. this Is the distance 15 between both flat parts as well as the leading edges 16,1 of both screen parts. 7 means that the position is adjustable. Therefore, the screen beyond part 13 The protruding length 18 (interval b) of the connection portion 12 can be set. Double screen 11 It is supported by a bearing 19 so that it can be shifted laterally with respect to the transport direction. Of course, other structural solutions for the relative setting of the screen parts to each other The decision is also selectable. If the screen parameters are set correctly, the dual screen 11 The "fall" 7 and the thickness buildup 10 are almost completely compensated (lower part of FIG. reference). Adjustable screen parameters include spacing 15, protrusion length 18 (spacing b ) And the position of the double screen at the distance between the anode and the workpiece. The distance between the screen part 12 near the anode to the anode and the cathode to the workpiece The distance between the close screen parts 13 is suitable for the purpose after assembling the continuous equipment arrangement. Adjustment of the spacing 15 and the protrusion length 18 (spacing b) is generally not changed anymore. It must simply be performed manually at the start of operation. Control not shown Possible drives are double screens 11 and / or 12 transverse to the transport direction. Of motion 20. When only conductive plate material pieces with a certain width are processed In order to obtain a predetermined covering 21 in the edge area of the conductor plate, Need only be set once by hand. However, if the width of the conductor plate changes constantly, Is preferably set by a motor driving device provided with a known control / driving means. The length of the screen transverse to the transport direction should be at least the narrowest conductor plate It must be of such a size that sufficient edge covering is possible even with a piece of material. Basically, the screens 12 and 13 are not firmly connected to each other, It is also possible to displace laterally with respect to the transport direction. This is the electroplating equipment This is especially useful when large current density differences occur from one workpiece to another in the arrangement. It is profitable. The screen 13 close to the cathode is used to avoid edge burning. It can be set as optimal. In FIG. 1b a further double screen 11 is shown in plan view towards the anode 1. . Bearings 19 for holding the screen are arranged between the double screens and at the same time Carry the anode. The anode is divided into segments, electrically insulated from each other, and They are individually switched when the workpieces are placed in a continuous installation in the transport direction. It can be turned on when the workpiece is exited from the facility arrangement. this The function is described in the publication DE-P 3939681 A1. This publication Referenced. The required width 22 of the double screen is the width of the anode segment for the purpose Depends on. To be treated The transport direction is indicated by arrow 23. In FIG. 2, an example for a given embodiment of the flat parts 12, 13 is reproduced. . Perforating the front area of the screen area reduces some edge effects I do. The formation of recesses at the leading edges 16, 17 also results in a uniform distribution of the metal layer. Such perforations and / or addition of recesses are well suited for fine adjustment. All of the approaches according to the present invention, even in the fine conductor technology, The usable range of the material strip is practically reduced to at least 12 mm at the conductor plate edge. Bring to reach by. Further fine adjustment is required for both flat screens 12,1 This can be achieved by placing a third screen portion between the three. This additional The mounting of the additional screen part requires only one piece of conductor plate material with a uniform width. When processed in a continuous installation, it is particularly advantageous and leads to low costs. Motor drive to adapt screen position to changing format Is omitted in this case. All of the disclosed features as well as combinations of the disclosed features are Unless explicitly indicated, the subject is a subject matter. Reference number list: 1. Objects to be processed (for example, printed circuit boards) 2 Counter electrode (eg anode) 3 Contact range 4 Layer thickness pattern 5 Conductor plate edge 6. Protruding counter electrode range 7 "Descent of layer thickness" 8 Single screen according to the prior art 9 Front edge of single screen 8 10 layer thickness rise 11 Double screen 12 Screen part directly facing the counter electrode (close to the anode) 13 Screen part directly facing the object (close to the cathode) 14. Structural elements for adjusting the screen parts 12, 13 15 Spacing between screen parts 12, 13 16 Front edge of screen part 12 17 Front edge of screen part 13 18 Screen facing the counter electrode beyond the screen 13 facing the workpiece Length of protrusion 12 (interval b) 19 Bearings for holding double screens 20 Screen movement 21 Conductor plate cover 22 screen width 23 Transport direction
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】平成11年5月7日(1999.5.7) 【補正内容】 前縁16,17での凹部の形成はまた、金属層の一様な分布をもたらす。そのよ うな目打ち及び/又は凹部の付け加えは細かな調整に良好に適する。 本発明に係るやり方の全ては共に、微細な導体技術においても、導体プレート 素材片の使用可能な範囲を実用上導体プレートエッジで少なくとも12mmにま で達することをもたらす。更なる細かな調整が両方の平坦なスクリーン12,1 3の間に第3のスクリーン部分を配置することによって達成可能である。この追 加的なスクリーン部分の装着は、唯一の均一の幅を有した導体プレート素材片が 連続設備配置において加工処理される場合、特に有利で僅かな費用に結び付く。 変化するフォーマットにスクリーン部分の位置を適合するためのモータ駆動装置 がこの場合には省略される。[Procedure of Amendment] Article 184-8, Paragraph 1 of the Patent Act [Submission date] May 7, 1999 (1999.5.7) [Correction contents] The formation of recesses at the leading edges 16, 17 also results in a uniform distribution of the metal layer. That's it The perforations and / or the addition of recesses are well suited for fine adjustment. All of the approaches according to the present invention, even in the fine conductor technology, The usable range of the material strip is practically reduced to at least 12 mm at the conductor plate edge. Bring to reach by. Further fine adjustment is required for both flat screens 12,1 This can be achieved by placing a third screen portion between the three. This additional The mounting of the additional screen part requires only one piece of conductor plate material with a uniform width. When processed in a continuous installation, it is particularly advantageous and leads to low costs. Motor drive to adapt screen position to changing format Is omitted in this case.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 プレーゼ ヴォルフガング ドイツ連邦共和国 デー・16816 ノイル ッピン ベヒリンダー ショースゼー 131 (72)発明者 ヴェヒター ラルフ・ペーター ドイツ連邦共和国 デー・90518 アルテ ンドルフ インドゥストリーシュトラーセ 5ベー 【要約の続き】 約12mmの縁にまで延びる。────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Praise Wolfgang Germany Day 16816 Noil Appin Bechlinder Shoessee 131 (72) Inventor Vechter Ralph Peter Germany Day 90518 Arte Ndorf Industriestrasse 5 bases [Continuation of summary] Extends to an edge of about 12 mm.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009293114A (en) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | Hitachi Cable Ltd | Electrolytic plating device and electrolytic plating method |
JP2011074405A (en) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Hitachi Cable Ltd | Continuous electroplating apparatus of copper foil |
JP2016513752A (en) * | 2013-04-10 | 2016-05-16 | ポスコ | Electroplating equipment to prevent edge overplating |
-
1998
- 1998-04-23 JP JP54649398A patent/JP4177902B2/en not_active Expired - Lifetime
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JP2016513752A (en) * | 2013-04-10 | 2016-05-16 | ポスコ | Electroplating equipment to prevent edge overplating |
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