JP2002357541A - 画像形成装置用汚染モニター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像形成のための部品の汚染状況をモニタリ
ングすると共に、汚染物質の種類や発生源、発生状況を
明らかにするための情報を得ることができる画像形成装
置用汚染モニターを提供する。 【解決手段】 屈折率が大きく赤外領域で透明な高屈折
率材２と、赤外線光源１と、検出器３及び反射鏡４とで
構成された画像形成装置用汚染モニターであって、画像
形成装置内に設けられた高屈折率材２内を、全反射を繰
り返しながら赤外線ＩＲが通過する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複写機やプリンタ
などの画像形成装置用汚染モニターに関する。

【０００２】

【従来の技術】画像形成装置の構成部品であるベルトや
ローラなどから発生する汚染物質、あるいは画像形成装
置の設置環境の雰囲気中に含まれる汚染物質により、ミ
ラーやレンズなど画像形成のための重要な部品にくもり
が生じやすい。くもりが生じれば画像品質が低下すると
いう問題があり、従来はミラーやレンズの汚染状況が的
確に把握されぬまま定期的なクリーニングを行なってい
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ミラーやレンズの定期
的なクリーニングは画像形成装置の使用頻度により、時
として、くもりが生じ画像品質が低下した後になること
もあった。従って、汚染状況が的確に把握できれば、適
正なタイミングで効率よくクリーニングを行なうことが
でき、常に最良の画像品質を保つことができる。

【０００４】本発明は、画像形成のための部品の汚染状
況をモニタリングすると共に、汚染物質の種類や発生
源、発生状況を明らかにするための情報を得ることがで
きる画像形成装置用汚染モニターを提供することを目的
とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】屈折率が大きく赤外領域
で透明な高屈折率材に、赤外線を臨界角より大きな入射
角で入射させると界面で全反射が生じる。この時、界面
に赤外線を吸収する物質が付着していると反射光のエネ
ルギーが減少する。赤外分光法の分野では、全反射吸収
スペクトル法（ＡＴＲ法）とか多重反射吸収スペクトル
法（ＭＩＲ法）などと呼ばれている方法と同じ原理であ
る。

【０００６】この高屈折率材を画像形成装置内のベルト
やローラあるいは外気取り込み口付近に設置し、ベルト
やローラ等の機械部品から発生する汚染物質、あるいは
外気とともに取り込まれる汚染物質を高屈折率材界面に
付着せしめ、反射光のエネルギー低下を検出すること
で、画像品質に影響を与える前にミラーやレンズなど画
像形成のための重要な部品の汚染状況をモニタリングす
ることができる。

【０００７】また、反射光のエネルギー低下だけではな
く、高屈折率材界面に付着した物質のスペクトルやその
経時的変化を捉え、ミラーやレンズなど画像形成のため
の重要な部品を汚染する汚染物質の種類や発生源、発生
状況を明らかにするための情報を得ることができる。

【０００８】上記目的を達成するために、請求項１記載
の発明は、屈折率が大きく赤外領域で透明な高屈折率材
と、赤外線光源と、検出器及び反射鏡とで構成された画
像形成装置用汚染モニターであって、画像形成装置内に
設けられた高屈折率材内を、全反射を繰り返しながら赤
外線が通過することを特徴とする画像形成装置用汚染モ
ニターに関する。

【０００９】また、請求項２記載の発明は、高屈折率材
の半分を画像形成装置内の雰囲気に触れないよう覆いで
被覆し、覆いのない測定部位と覆いのある参照部位とに
赤外線が交互に入射するよう高屈折率材が移動すること
を特徴とする請求項１記載の画像形成装置用汚染モニタ
ーに関する。

【００１０】また、請求項３記載の発明は、参照部位の
覆いとは別に測定部位に着脱可能な覆いを設けたことを
特徴とする請求項２記載の画像形成装置用汚染モニター
に関する。

【００１１】また、請求項４記載の発明は、材質、形
状、大きさとも同一の２枚一組の高屈折率材を並べて配
置し、一方の高屈折率材を画像形成装置内の雰囲気に触
れないよう覆いで被覆し、覆いのない測定用の高屈折率
材と覆いのある参照用の高屈折率材に赤外線が交互に入
射するよう両高屈折率材が移動することを特徴とする請
求項１記載の画像形成装置用汚染モニターに関する。

【００１２】また、請求項５記載の発明は、材質、形
状、大きさとも同一の２枚一組の高屈折率材で構成され
た測定用の高屈折率材と参照用の高屈折率材を、回転軸
を中心とした同一円周上の任意の位置に配置し、測定用
の高屈折率材と参照用の高屈折率材とに赤外線が交互に
入射するよう両高屈折率材が回転することを特徴とする
請求項１記載の画像形成装置用汚染モニターに関する。

【００１３】また、請求項６記載の発明は、２枚一組の
高屈折率材を複数組用意し、各組毎に測定用の高屈折率
材及び参照用の高屈折率材を構成し、全ての高屈折率材
を、回転軸を中心とする同一円周上に配置したことを特
徴とする請求項１記載の画像形成装置用汚染モニターに
関する。

【００１４】また、請求項７記載の発明は、２枚一組の
高屈折率材を複数組用意し、各組毎に測定用の高屈折率
材及び参照用の高屈折率材を構成し、公転軸を中心とす
る円周上の自転軸を中心とした同一円周上の任意の位置
に各組の測定用の高屈折率材及び参照用の高屈折率材を
配置したことを特徴とする請求項１記載の画像形成装置
用汚染モニターに関する。

【００１５】また、請求項８記載の発明は、参照用の高
屈折率材の覆いとは別に、測定用の高屈折率材に着脱可
能な覆いを設けたことを特徴とする請求項４〜７のいず
れか記載の画像形成装置用汚染モニターに関する。

【００１６】また、請求項９記載の発明は、赤外線光源
と高屈折率材との間に干渉計を設置すると共に、検出器
からの信号をフーリエ変換するためのデータ処理装置を
設置することを特徴とする請求項１〜８のいずれか記載
の画像形成装置用汚染モニターに関する。

【００１７】また、請求項１０記載の発明は、データ処
理装置は、処理されたデータを時系列的に並べて表示す
る機能を有することを特徴とする請求項９記載の画像形
成装置用汚染モニターに関する。

【００１８】また、請求項１１記載の発明は、データ処
理装置は、時系列的に並べられたデータのうち、互いに
隣り合うデータの差を時系列的に並べて表示する機能を
有することを特徴とする請求項１０記載の画像形成装置
用汚染モニターに関する。

【００１９】請求項１記載の発明においては、画像形成
装置内には高屈折率材のみが設置され、その他の光学系
を構成するミラーやレンズ等は画像形成装置外に設置さ
れるので、画像形成装置のベルトやローラ等の機械部品
から発生する汚染物質で画像形成装置用汚染モニターの
光学系の汚染が防げる。

【００２０】請求項２記載の発明においては、高屈折率
材に画像形成装置内の雰囲気に触れない参照部位を設け
ることで、汚染物質が界面に付着しない参照部位におけ
る反射光のエネルギーを随時参照できるので、赤外線光
源の変動や検出器の経時変化などに関係なく、安定した
モニターが得られる。

【００２１】請求項３記載の発明においては、高屈折率
材の測定部位に着脱可能な覆いを設けることで、モニタ
リング開始まで測定部位が清浄に保てる。

【００２２】請求項４記載の発明においては、高屈折率
材として測定用の高屈折率材と参照用の高屈折率材を用
いることで、測定面積が増え、モニターの感度があが
る。また、測定用の高屈折率材が汚染され、回復出来な
い状態になった時、測定用の高屈折率材のみを交換し、
参照用の高屈折率材は継続して使用できるので、ランニ
ングコストが押さえられる。

【００２３】請求項５記載の発明においては、回転によ
り測定用の高屈折率材と参照用の高屈折率材とを入れ替
えることで、駆動系が簡略化される。

【００２４】請求項６記載の発明においては、複数の高
屈折率材対を設けることにより、同一条件のモニタリン
グを繰り返し行なったり、異なるモニタリング条件を選
択することが可能となる。

【００２５】請求項７記載の発明においては、同一条件
でモニタリングを行なっている時は、公転軸による複数
の高屈折率材対の回転を行なわずに、測定用の高屈折率
材と参照用の高屈折率材とを入れ替える回転を専用の自
転軸で行なうことで、回転の後に残る振動を少なくで
き、測定用の高屈折率材と参照用の高屈折率材とを入れ
替えてからモニタリング開始までの待ち時間が少なくな
る。

【００２６】請求項８記載の発明においては、測定用の
高屈折率材に着脱可能な覆いを設けることで、モニタリ
ング開始まで測定用の高屈折率材が清浄に保てる。

【００２７】請求項９記載の発明においては、赤外線光
源と高屈折率材との間に干渉計を設置すること及び検出
器からの信号をフーリエ変換するためのデータ処理装置
を設置することで、汚染物質の赤外スペクトルデータが
得られ、汚染物質の量だけでなく、汚染物質の種類のモ
ニタリングも行なえる。

【００２８】請求項１０記載の発明においては、汚染物
質の赤外スペクトルデータを時系列的に並べて表示する
ことで、汚染物質の種類の時間的発生状況が明らかにな
る。

【００２９】請求項１１記載の発明においては、時系列
的に並べられた赤外スペクトルデータのうち、互いに隣
り合う赤外スペクトルデータ差を時系列的に並べて表示
することで、汚染物質の種類毎の時間的発生状況がより
明瞭になる。

【００３０】なお、高屈折率材の赤外線入射面及び出射
面を清浄するクリーナーを取り付けることで、長時間の
使用によって付着する高屈折率材の赤外線入射面及び出
射面の汚れを取り除くことができ、画像形成装置用汚染
モニターとして安定した作動が確保される。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
従って説明する。図１は本発明の第１の実施の形態に係
る汚染モニターの構成図、図２は本発明の第２の実施の
形態に係る汚染モニターの構成図、図３は本発明の第３
の実施の形態に係る汚染モニターの構成図であり、図
１、図２、図3各々の（ａ）はモニターの側面図、
（ｂ）は高屈折率材の上面図である。図１、図２、図3
で示すように、赤外線光源１から出た赤外線ＩＲは、反
射鏡４を介して臨界角以下（図１、図２、図3では入射
角０°）で高屈折率材２に入射し、界面で全反射した
後、高屈折率材２を出て検出器３に到達する。汚染物質
が界面に付着しない時の反射光のエネルギーと、付着し
た時の反射光のエネルギーとの比で、汚染物質の量を推
定することができる。

【００３２】図１、図２、図3に示した形状の高屈折率
材２では、その長さや厚みを変えることで全反射の回数
を変えることができる。この時用いる高屈折率材２は、
図１、図２、図3に示した形状のもののほか、トロイド
ミラーとコーンミラーとを組み合わせて、両端は円錐状
になっているロッド状の高屈折率材２を用いることも可
能である。

【００３３】高屈折率材２の材質は、臭化ヨウ化タリウ
ム（ＫＲＳ−５）、臭化塩化タリウム（ＫＲＳ−６）、
ゲルマニウム（Ｇｅ）、シリコン（Ｓｉ）、硫化亜鉛
（ＺｎＳ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、塩化銀（Ａｇ
Ｃｌ）、臭化銀（ＡｇＢｒ）など、赤外分光法の分野で
内反射エレメントとして用いられている材質を用いるこ
とができる。

【００３４】図４は本発明の実施の形態に係る高屈折率
材の設置図である。画像形成装置５の内部に高屈折率材
２が設置された１例を示している。

【００３５】図５は本発明の第４の実施の形態に係る汚
染モニターの構成図、図６は本発明の第５の実施の形態
に係る汚染モニターの構成図、図７は本発明の第６の実
施の形態に係る汚染モニターの構成図であり、図５、図
６、図７各々の（ａ）はモニターの側面図、（ｂ）は高
屈折率材の上面図である。図５、図６、図７で示すよう
に、全反射が起こる界面には接触しないように覆い６を
取り付けて、画像形成装置内の雰囲気に触れない参照部
位を設けた高屈折率材２を用い、この高屈折率材２が平
行移動することにより参照部位と覆い６のない測定部位
とに赤外線ＩＲが交互に入射することで、汚染物質が界
面に付着しない時の反射光のエネルギーを随時参照でき
るようにした。

【００３６】また、図５に示すように、高屈折率材２の
測定部位に着脱可能な覆い６ａを取り付け、モニタリン
グを開始する時にこれを取り外せるようにした。

【００３７】図８は本発明の第７の実施の形態に係る高
屈折率材の上面図であり、（ａ）は赤外線が測定用の高
屈折率材に入射しているときの上面図、（ｂ）は赤外線
が参照用の高屈折率材に入射しているときの上面図であ
る。図８に示すように、材質、形状、大きさとも同一の
２枚一組になった高屈折率材２の一方の高屈折率材２を
画像形成装置内の雰囲気に触れないよう覆い６で被覆
し、参照用の高屈折率材２とし、これを他方の覆い６の
ない測定用の高屈折率材２と共に平行移動することによ
り、参照用の高屈折率材２と測定用の高屈折率材２とに
赤外線ＩＲが交互に入射することで、画像形成装置内の
汚染物質が界面に付着しない時の反射光のエネルギーを
随時参照できるようにした。図８にしめすように、測定
用の高屈折率材２に着脱可能な覆い６ａを取り付け、モ
ニタリングを開始する時にこれを取り外せるようにし
た。

【００３８】図９は本発明の第８の実施の形態に係る汚
染モニターの構成図である。図９に示すように、材質、
形状、大きさとも同一の測定用の高屈折率材２、及び参
照用の高屈折率材２からなる２枚一組の高屈折率材対を
回転軸７に対して対称に配置し、回転軸７が回転するこ
とにより高屈折率材対のそれぞれの高屈折率材２に赤外
線ＩＲが交互に入射することで、画像形成装置内の汚染
物質が界面に付着しない時の反射光のエネルギーを随時
参照できるようにした。

【００３９】図１０は本発明の第９の実施の形態に係る
高屈折率材の構成図であり、（ａ）は高屈折率材の斜視
図、（ｂ）は高屈折率材の上面図である。図１０に示す
ように、材質、形状、大きさとも同一の高屈折率材対
で、高屈折率材２の長さまたは厚みを変えることで赤外
線ＩＲの反射回数を変えたものや、材質の異なる高屈折
率材対を複数用意し、それらを回転軸７を中心とする円
周上に配置する。回転軸７が回転することにより、高屈
折率材対のそれぞれの高屈折率材２に赤外線ＩＲが交互
に入射し、汚染物質が界面に付着しない時の反射光のエ
ネルギーを随時参照したり、モニタリング条件を変更す
ることができる。また、同一の高屈折率材対を複数用い
れば同一条件のモニタリングを繰り返すことが可能であ
る。

【００４０】図１１は本発明の第１０の実施の形態に係
る高屈折率材の構成図であり、（ａ）は高屈折率材の側
面図、（ｂ）は高屈折率材の上面図である。図１１に示
すように、材質、形状、大きさとも同一の高屈折率材対
で、高屈折率材２の長さまたは厚みを変えることで赤外
線ＩＲの反射回数を変えたものや、材質の異なる高屈折
率材対を複数用意し、それらを、公転軸８を中心とする
円周上の自転軸９に対して対称に配置する。自転軸９が
回転することにより、高屈折率材対のそれぞれの高屈折
率材２に赤外線ＩＲが交互に入射し、汚染物質が界面に
付着しない時の反射光のエネルギーを随時参照したり、
公転軸８が回転することにより、モニタリング条件を変
更することができる。また、同一の高屈折率材対を複数
用いれば同一条件のモニタリングを繰り返すことが可能
である。

【００４１】図１２は本発明の第１１の実施の形態に係
る汚染モニターの構成図である。図１２に示すように、
赤外線光源１から出た赤外線ＩＲは、干渉計１０で変調
され、反射鏡４を介して臨界角以下（図１２では入射角
０°）で高屈折率材２に入射し、界面で全反射した後、
高屈折率材２を出て検出器３に到達する。検出器３から
の出力信号をデータ処理装置１１でフーリエ変換処理す
ることで、汚染物質の赤外スペクトルを得ることができ
るようにした。

【００４２】また、データ処理装置１１に、設定積算回
数毎の赤外スペクトルを時系列的に並べて表示する機能
を付加した。

【００４３】また、データ処理装置１１に、時系列的に
並べられたデータのうち、互いに隣り合うデータの差を
時系列的に並べて表示する機能を付加した。

【００４４】また、図示しないが、図１〜図１２の高屈
折率材２の赤外線入射面及び出射面を清浄に保つための
クリーナーを設けると、より信頼性の高いものとなる。

【００４５】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、画像形成
装置内には高屈折率材のみが設置され、その他の光学系
を構成するミラーやレンズ等は画像形成装置外に設置さ
れるので、画像形成装置のベルトやローラ等の機械部品
から発生する汚染物質で画像形成装置用汚染モニターの
光学系が汚染されることを防ぐことができる。

【００４６】請求項２記載の発明によれば、高屈折率材
に画像形成装置内の雰囲気に触れない参照部位を設ける
ことで、汚染物質が界面に付着しない参照部位における
反射光のエネルギーを随時参照できるので、赤外線光源
の変動や検出器の経時変化などに関係なく、安定したモ
ニターを得ることができる。

【００４７】請求項３記載の発明によれば、高屈折率材
の測定部位に着脱可能な覆いを設けることで、モニタリ
ング開始まで測定部位を清浄に保つことができる。

【００４８】請求項４記載の発明によれば、高屈折率材
として測定用の高屈折率材と参照用の高屈折率材を用い
ることで、測定面積が増え、モニターの感度があがる。
また、測定用の高屈折率材が汚染され、回復出来ない状
態になった時、測定用の高屈折率材のみを交換し、参照
用の高屈折率材は継続して使用できるので、ランニング
コストを押さえることができる。

【００４９】請求項５記載の発明によれば、回転により
測定用の高屈折率材と参照用の高屈折率材とを入れ替え
ることで、駆動系を簡略化することができる。

【００５０】請求項６記載の発明によれば、複数の高屈
折率材対で構成することにより、同一条件のモニタリン
グを繰り返し行なったり、異なるモニタリング条件を選
択することができる。

【００５１】請求項７記載の発明によれば、同一条件で
モニタリングを行なっている時は、公転軸による複数の
高屈折率材対の回転を行なわずに、測定用の高屈折率材
と参照用の高屈折率材とを入れ替える回転を専用の自転
軸で行なうことで、回転の後に残る振動を少なくでき、
測定用の高屈折率材と参照用の高屈折率材とを入れ替え
てからモニタリング開始までの待ち時間を少なくするこ
とができる。

【００５２】請求項８記載の発明によれば、測定用の高
屈折率材に着脱可能な覆いを設けることで、モニタリン
グ開始まで測定用の高屈折率材を清浄に保つことができ
る。

【００５３】請求項９記載の発明によれば、赤外線光源
と高屈折率材との間に干渉計を設置すること及び検出器
からの信号をフーリエ変換するためのデータ処理装置を
設置することで、汚染物質の赤外スペクトルデータが得
られ、汚染物質の量だけでなく、汚染物質の種類のモニ
タリングもできる。

【００５４】請求項１０記載の発明によれば、汚染物質
の赤外スペクトルデータを時系列的に並べて表示するこ
とで、汚染物質の種類の時間的発生状況を明らかにする
ことができる。

【００５５】請求項１１記載の発明によれば、時系列的
に並べられた赤外スペクトルデータのうち、互いに隣り
合う赤外スペクトルデータ差を時系列的に並べて表示す
ることで、汚染物質の種類毎の時間的発生状況をより明
瞭にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る汚染モニター
の構成図である。

【図２】本発明の第２の実施の形態に係る汚染モニター
の構成図である。

【図３】本発明の第３の実施の形態に係る汚染モニター
の構成図である。

【図４】本発明の実施の形態に係る高屈折率材の設置図
である。

【図５】本発明の第４の実施の形態に係る汚染モニター
の構成図である。

【図６】本発明の第５の実施の形態に係る汚染モニター
の構成図である。

【図７】本発明の第６の実施の形態に係る汚染モニター
の構成図である。

【図８】本発明の第７の実施の形態に係る高屈折率材の
上面図である。

【図９】本発明の第８の実施の形態に係る汚染モニター
の構成図である。

【図１０】本発明の第９の実施の形態に係る高屈折率材
の構成図である。

【図１１】本発明の第１０の実施の形態に係る高屈折率
材の構成図である。

【図１２】本発明の第１１の実施の形態に係る汚染モニ
ターの構成図である。

【符号の説明】

ＩＲ 赤外線 １ 赤外線光源 ２ 高屈折率材 ３ 検出器 ４ 反射鏡 ５ 画像形成装置 ６ 覆い ６ａ 着脱可能な覆い ７ 回転軸 ８ 公転軸 ９ 自転軸 １０ 干渉計 １１ データ処理装置

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G051 AA42 AB01 BA06 CB01 CB02 2G059 AA05 BB01 CC19 EE02 EE09 EE12 FF08 GG00 HH01 JJ13 KK01 PP04 2G086 EE12 2H027 DA50 DE07 ED04 HA02 HA03 HA06 HA12 HB05 HB06 HB16 HB17 2H071 BA41 DA32 EA04

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 屈折率が大きく赤外領域で透明な高屈折
   率材と、赤外線光源と、検出器及び反射鏡とで構成され
   た画像形成装置用汚染モニターであって、画像形成装置
   内に設けられた高屈折率材内を、全反射を繰り返しなが
   ら赤外線が通過することを特徴とする画像形成装置用汚
   染モニター。
2. 【請求項２】 高屈折率材の半分を画像形成装置内の雰
   囲気に触れないよう覆いで被覆し、覆いのない測定部位
   と覆いのある参照部位とに赤外線が交互に入射するよう
   高屈折率材が移動することを特徴とする請求項１記載の
   画像形成装置用汚染モニター。
3. 【請求項３】 参照部位の覆いとは別に測定部位に着脱
   可能な覆いを設けたことを特徴とする請求項２記載の画
   像形成装置用汚染モニター。
4. 【請求項４】 材質、形状、大きさとも同一の２枚一組
   の高屈折率材を並べて配置し、一方の高屈折率材を画像
   形成装置内の雰囲気に触れないよう覆いで被覆し、覆い
   のない測定用の高屈折率材と覆いのある参照用の高屈折
   率材に赤外線が交互に入射するよう両高屈折率材が移動
   することを特徴とする請求項１記載の画像形成装置用汚
   染モニター。
5. 【請求項５】 材質、形状、大きさとも同一の２枚一組
   の高屈折率材で構成された測定用の高屈折率材と参照用
   の高屈折率材を、回転軸を中心とした同一円周上の任意
   の位置に配置し、測定用の高屈折率材と参照用の高屈折
   率材とに赤外線が交互に入射するよう両高屈折率材が回
   転することを特徴とする請求項１記載の画像形成装置用
   汚染モニター。
6. 【請求項６】 ２枚一組の高屈折率材を複数組用意し、
   各組毎に測定用の高屈折率材及び参照用の高屈折率材を
   構成し、全ての高屈折率材を、回転軸を中心とする同一
   円周上に配置したことを特徴とする請求項１記載の画像
   形成装置用汚染モニター。
7. 【請求項７】 ２枚一組の高屈折率材を複数組用意し、
   各組毎に測定用の高屈折率材及び参照用の高屈折率材を
   構成し、公転軸を中心とする円周上の自転軸を中心とし
   た同一円周上の任意の位置に各組の測定用の高屈折率材
   及び参照用の高屈折率材を配置したことを特徴とする請
   求項１記載の画像形成装置用汚染モニター。
8. 【請求項８】 参照用の高屈折率材の覆いとは別に、測
   定用の高屈折率材に着脱可能な覆いを設けたことを特徴
   とする請求項４〜７のいずれか記載の画像形成装置用汚
   染モニター。
9. 【請求項９】 赤外線光源と高屈折率材との間に干渉計
   を設置すると共に、検出器からの信号をフーリエ変換す
   るためのデータ処理装置を設置することを特徴とする請
   求項１〜８のいずれか記載の画像形成装置用汚染モニタ
   ー。
10. 【請求項１０】 データ処理装置は、処理されたデータ
    を時系列的に並べて表示する機能を有することを特徴と
    する請求項９記載の画像形成装置用汚染モニター。
11. 【請求項１１】 データ処理装置は、時系列的に並べら
    れたデータのうち、互いに隣り合うデータの差を時系列
    的に並べて表示する機能を有することを特徴とする請求
    項１０記載の画像形成装置用汚染モニター。