JP2002355547A - 筒型ディフューザーおよび多段式流動反応器 - Google Patents
筒型ディフューザーおよび多段式流動反応器Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】円筒部の開孔、脱落を防止できる筒型ディフュ
ーザーおよび該筒型ディフューザーを備えた多段式流動
反応器を提案する。 【解決手段】筒型ディフューザーの円筒部にセラミック
製の内筒を挿入し、耐摩耗性を向上させる。セラミック
として、シリカ、アルミナ、４窒化珪素のうちの１種と
することが好ましい。高さ方向に内部を区画する複数の
隔壁を有る多段式流動反応器において、該隔壁の下面に
配設される複数の筒型ディフューザーの少なくとも一部
を、円筒部にセラミック製の内筒を挿入した筒型ディフ
ューザーとすることにより、ディフューザーの開孔、落
下を防止できる。
ーザーおよび該筒型ディフューザーを備えた多段式流動
反応器を提案する。 【解決手段】筒型ディフューザーの円筒部にセラミック
製の内筒を挿入し、耐摩耗性を向上させる。セラミック
として、シリカ、アルミナ、４窒化珪素のうちの１種と
することが好ましい。高さ方向に内部を区画する複数の
隔壁を有る多段式流動反応器において、該隔壁の下面に
配設される複数の筒型ディフューザーの少なくとも一部
を、円筒部にセラミック製の内筒を挿入した筒型ディフ
ューザーとすることにより、ディフューザーの開孔、落
下を防止できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、多段式流動反応器
に係り、とくに、触媒粒子の流動性を維持するために流
動反応器の隔壁に装着される気体流通用ディフューザー
の改善に関する。
に係り、とくに、触媒粒子の流動性を維持するために流
動反応器の隔壁に装着される気体流通用ディフューザー
の改善に関する。
【０００２】
【従来の技術】流動反応器は、温度均一性に優れている
ため、例えば、ベンゼンやブタンからのマレイン酸の製
造、ナフタリンからの無水フタル酸の製造など、強い発
熱を伴う酸化反応用の反応器として従来から使用されて
いる。この流動反応器では、原料ガスの急冷を行うため
に、反応器の高さ方向に反応器内部を区画する複数の隔
壁を設け、該隔壁上に触媒層を配設した構造とすること
がある。
ため、例えば、ベンゼンやブタンからのマレイン酸の製
造、ナフタリンからの無水フタル酸の製造など、強い発
熱を伴う酸化反応用の反応器として従来から使用されて
いる。この流動反応器では、原料ガスの急冷を行うため
に、反応器の高さ方向に反応器内部を区画する複数の隔
壁を設け、該隔壁上に触媒層を配設した構造とすること
がある。
【０００３】図２に、隔壁を高さ方向に２段とした流動
反応器の例を模式的に示す。図中、１は流動反応器であ
り、２ａ、２ｂは気体流通用の筒型ディフューザー（以
下、単にディフューザーともいう）、３ａ、３ｂは隔
壁、４はサイクロン、５ａ，５ｂが触媒層である。２段
式流動反応器１では、下段の触媒層５ａに、原料ガス７
が送り込まれ、下段および上段の触媒層の触媒粒子を介
して、目的の反応生成ガス（製品）８が生成される。な
お、サイクロン４で反応生成ガスに含まれた触媒粒子を
分離し触媒層に回収する。
反応器の例を模式的に示す。図中、１は流動反応器であ
り、２ａ、２ｂは気体流通用の筒型ディフューザー（以
下、単にディフューザーともいう）、３ａ、３ｂは隔
壁、４はサイクロン、５ａ，５ｂが触媒層である。２段
式流動反応器１では、下段の触媒層５ａに、原料ガス７
が送り込まれ、下段および上段の触媒層の触媒粒子を介
して、目的の反応生成ガス（製品）８が生成される。な
お、サイクロン４で反応生成ガスに含まれた触媒粒子を
分離し触媒層に回収する。
【０００４】流動反応器１では、触媒層５における触媒
粒子の流動性を維持するため、反応器下部から触媒粒子
流動のためのガス（流動用ガス６）を流通させる。触媒
粒子の均一流動を生起させるためには、この流動用ガス
６を触媒層５ａ、５ｂ全体に均一に流通させることが重
要となる。そのため、流動反応器１では、流動用ガス６
を分散させるためのディフューザー２ａ、２ｂを、隔壁
３ａ、３ｂの下面に複数個配設する。
粒子の流動性を維持するため、反応器下部から触媒粒子
流動のためのガス（流動用ガス６）を流通させる。触媒
粒子の均一流動を生起させるためには、この流動用ガス
６を触媒層５ａ、５ｂ全体に均一に流通させることが重
要となる。そのため、流動反応器１では、流動用ガス６
を分散させるためのディフューザー２ａ、２ｂを、隔壁
３ａ、３ｂの下面に複数個配設する。
【０００５】ディフューザー２ａ、２ｂとしては、種々
の形式のものが考えられているが、ガス停止時の触媒粒
子の落下防止やメンテナンスの容易さから円筒型のディ
フューザーが広く用いられている。円筒型ディフューザ
ーの一例を模式的に図３に示す。円筒型ディフューザー
２は、円筒部21とキャップ23とを有し、円筒部21の下部
端とキャップ23との間にオリフィスプレート22を支持す
る構造とするのが通常である。円筒部21下部はねじ構造
24とされ、キャップ23をねじ込み可能として、オリフィ
スプレート22が摩耗した時にも交換できるようになって
いる。また、円筒型ディフューザー２は、円筒部21の長
手方向が隔壁３の下面側で垂直方向となるように、隔壁
３に溶接等により接合されている。
の形式のものが考えられているが、ガス停止時の触媒粒
子の落下防止やメンテナンスの容易さから円筒型のディ
フューザーが広く用いられている。円筒型ディフューザ
ーの一例を模式的に図３に示す。円筒型ディフューザー
２は、円筒部21とキャップ23とを有し、円筒部21の下部
端とキャップ23との間にオリフィスプレート22を支持す
る構造とするのが通常である。円筒部21下部はねじ構造
24とされ、キャップ23をねじ込み可能として、オリフィ
スプレート22が摩耗した時にも交換できるようになって
いる。また、円筒型ディフューザー２は、円筒部21の長
手方向が隔壁３の下面側で垂直方向となるように、隔壁
３に溶接等により接合されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】円筒型ディフューザー
２では、触媒粒子が下部に落ちないように、オリフィス
部分におけるガス（流動用ガス６）の線速度が50〜100
ｍ／ｓとなるように設計されている。一方、オリフィス
部分より上部の円筒部21では、オリフィス部分の数十倍
の断面積を有するため、ガスの線速度はオリフィス部分
に比べ大幅に低下する。これにより、流動する触媒粒子
同士が強い衝突を起こすことを防止し、触媒粒子の破砕
や摩耗の低減が図られている。
２では、触媒粒子が下部に落ちないように、オリフィス
部分におけるガス（流動用ガス６）の線速度が50〜100
ｍ／ｓとなるように設計されている。一方、オリフィス
部分より上部の円筒部21では、オリフィス部分の数十倍
の断面積を有するため、ガスの線速度はオリフィス部分
に比べ大幅に低下する。これにより、流動する触媒粒子
同士が強い衝突を起こすことを防止し、触媒粒子の破砕
や摩耗の低減が図られている。
【０００７】しかしながら、多段の隔壁を有する流動反
応器では、下段触媒層の触媒粒子が流動用ガスに随伴し
て、 上段へ移動する。上段の隔壁３ｂに配設されたディ
フューザー２ｂでは、ガスと共に触媒粒子が内部を通過
するため、まずオリフィスプレート22が摩耗する。オリ
フィスプレート22は、上記したように交換可能であり、
キャップ23を取り外すことにより容易に交換できる。オ
リフィスプレート22の摩耗に加えて、上段の隔壁３ｂに
配設されたディフューザー２ｂでは、円筒部21に開孔が
生じたり、あるいはひどい場合にはディフューザー本体
が落下するという現象が多発するという問題があった。
開孔が生じたり落下した円筒部は、交換する必要がある
が、円筒部21は、隔壁３に直接接合されており、しかも
ディフューザー同士の間隔が狭いため、円筒部の交換に
は困難が伴う。
応器では、下段触媒層の触媒粒子が流動用ガスに随伴し
て、 上段へ移動する。上段の隔壁３ｂに配設されたディ
フューザー２ｂでは、ガスと共に触媒粒子が内部を通過
するため、まずオリフィスプレート22が摩耗する。オリ
フィスプレート22は、上記したように交換可能であり、
キャップ23を取り外すことにより容易に交換できる。オ
リフィスプレート22の摩耗に加えて、上段の隔壁３ｂに
配設されたディフューザー２ｂでは、円筒部21に開孔が
生じたり、あるいはひどい場合にはディフューザー本体
が落下するという現象が多発するという問題があった。
開孔が生じたり落下した円筒部は、交換する必要がある
が、円筒部21は、隔壁３に直接接合されており、しかも
ディフューザー同士の間隔が狭いため、円筒部の交換に
は困難が伴う。
【０００８】本発明は、上記した従来技術の問題に鑑み
て、円筒部の開孔、脱落を防止できる筒型ディフューザ
ーおよび該筒型ディフューザーを複数の隔壁下面に配設
してなる多段式流動反応器を提案することを目的とす
る。
て、円筒部の開孔、脱落を防止できる筒型ディフューザ
ーおよび該筒型ディフューザーを複数の隔壁下面に配設
してなる多段式流動反応器を提案することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記した
課題を達成するために、円筒部の開孔および落下の原因
について鋭意検討した。この結果、本発明者らは、ま
ず、筒型ディフューザー内における流動用ガスの挙動に
ついて次のように考えた。流動用ガス６は、オリフィス
を通過したのち、円筒部21に広がり隔壁上部の触媒層へ
流入する。円筒部21内部では、図４（ａ）に示すよう
に、円筒部21の断面積が広いため、流動用ガス６の線速
度は減少する。しかし、流動用ガス６に触媒粒子が随伴
された場合には、触媒粒子51は、オリフィスを通過した
後、図４（ｂ）に示すように、円筒部21内で広がるが、
固体であるため流動用ガス６のように線速度が急激に減
少することなく、ほぼ直線的に、円筒部21内壁に衝突す
る。内壁に衝突した触媒粒子51は、円筒部21の内壁に沿
うように上昇する。
課題を達成するために、円筒部の開孔および落下の原因
について鋭意検討した。この結果、本発明者らは、ま
ず、筒型ディフューザー内における流動用ガスの挙動に
ついて次のように考えた。流動用ガス６は、オリフィス
を通過したのち、円筒部21に広がり隔壁上部の触媒層へ
流入する。円筒部21内部では、図４（ａ）に示すよう
に、円筒部21の断面積が広いため、流動用ガス６の線速
度は減少する。しかし、流動用ガス６に触媒粒子が随伴
された場合には、触媒粒子51は、オリフィスを通過した
後、図４（ｂ）に示すように、円筒部21内で広がるが、
固体であるため流動用ガス６のように線速度が急激に減
少することなく、ほぼ直線的に、円筒部21内壁に衝突す
る。内壁に衝突した触媒粒子51は、円筒部21の内壁に沿
うように上昇する。
【００１０】このような検討結果から、本発明者らは、
円筒部の開孔、 落下は、流動用ガスに随伴する触媒粒子
による円筒部21内壁の摩耗が原因であるという考えに想
到した。円筒型ディフューザーは、従来から、隔壁と同
じ材質で製造されている。隔壁は廉価な鉄系材料で製造
されことが多く、したがって、ディフューザーも鉄系材
料で製造されていた。鉄系材料は廉価で加工性が優れて
いるため、複雑な形状を有するディフューザー用素材と
して広く用いられてきた。従来から円筒型ディフューザ
ーの円筒部は、ガスの線速度も低下し、摩耗が少ないと
考えられていたが、実際には、円筒部における摩耗が最
も顕著となっていることから、本発明者らは、ディフュ
ーザーの円筒部を耐摩耗性に優れた材料製とすることが
良いことに思い至った。
円筒部の開孔、 落下は、流動用ガスに随伴する触媒粒子
による円筒部21内壁の摩耗が原因であるという考えに想
到した。円筒型ディフューザーは、従来から、隔壁と同
じ材質で製造されている。隔壁は廉価な鉄系材料で製造
されことが多く、したがって、ディフューザーも鉄系材
料で製造されていた。鉄系材料は廉価で加工性が優れて
いるため、複雑な形状を有するディフューザー用素材と
して広く用いられてきた。従来から円筒型ディフューザ
ーの円筒部は、ガスの線速度も低下し、摩耗が少ないと
考えられていたが、実際には、円筒部における摩耗が最
も顕著となっていることから、本発明者らは、ディフュ
ーザーの円筒部を耐摩耗性に優れた材料製とすることが
良いことに思い至った。
【００１１】耐摩耗性に優れた材料としては、シリカや
アルミナなどのセラミックス素材が考えられるが、これ
らの材料は耐摩耗性に優れるものの、加工性が低いため
複雑な形状とすることが困難であり、また、隔壁に溶接
することもできない。そこで、本発明者らは、より耐摩
耗性に優れ、溶接可能な鉄系材料であるステンレス鋼製
ディフューザーを検討した。しかしながら、ステンレス
鋼製ディフューザーとしても、耐摩耗性は若干向上する
が、開孔が全く無くなる等の顕著な改善とはならなかっ
た。
アルミナなどのセラミックス素材が考えられるが、これ
らの材料は耐摩耗性に優れるものの、加工性が低いため
複雑な形状とすることが困難であり、また、隔壁に溶接
することもできない。そこで、本発明者らは、より耐摩
耗性に優れ、溶接可能な鉄系材料であるステンレス鋼製
ディフューザーを検討した。しかしながら、ステンレス
鋼製ディフューザーとしても、耐摩耗性は若干向上する
が、開孔が全く無くなる等の顕著な改善とはならなかっ
た。
【００１２】そこで、本発明者らは、円筒部の摩耗が内
側から生じていることに鑑みて、ディフューザー円筒部
の内部側のみを耐摩耗性に優れた材料とすることに想到
した。本発明者らは、ディフューザー円筒部に、耐摩耗
性に優れた、シリカ、アルミナ、４窒化珪素等のセラミ
ック製内筒を挿入することにより、円筒部内壁の摩耗が
顕著に軽減し、円筒部の開孔および落下が防止できるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
側から生じていることに鑑みて、ディフューザー円筒部
の内部側のみを耐摩耗性に優れた材料とすることに想到
した。本発明者らは、ディフューザー円筒部に、耐摩耗
性に優れた、シリカ、アルミナ、４窒化珪素等のセラミ
ック製内筒を挿入することにより、円筒部内壁の摩耗が
顕著に軽減し、円筒部の開孔および落下が防止できるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】すなわち、 本発明は、流動反応器における
気体流通用の筒型ディフューザーであって、セラミック
製の内筒を備えたことを特徴とする筒型ディフューザー
であり、該セラミック製の内筒が、シリカ、アルミナ、
４窒化珪素のうちの１種からなる内筒であることが好ま
しい。また、 本発明は、高さ方向に内部を区画する複数
の隔壁を有し、該隔壁の下面に複数の気体流通用筒型デ
ィフューザーを配設してなる多段式流動反応器であっ
て、少なくとも前記複数の気体流通用筒型ディフューザ
ーの一部をセラミック製の内筒を備えた筒型ディフュー
ザーとすることを特徴とする多段式流動反応器であり、
前記セラミック製の内筒が、シリカ、アルミナ、４窒化
珪素のうちの１種からなる内筒であることが好ましい。
気体流通用の筒型ディフューザーであって、セラミック
製の内筒を備えたことを特徴とする筒型ディフューザー
であり、該セラミック製の内筒が、シリカ、アルミナ、
４窒化珪素のうちの１種からなる内筒であることが好ま
しい。また、 本発明は、高さ方向に内部を区画する複数
の隔壁を有し、該隔壁の下面に複数の気体流通用筒型デ
ィフューザーを配設してなる多段式流動反応器であっ
て、少なくとも前記複数の気体流通用筒型ディフューザ
ーの一部をセラミック製の内筒を備えた筒型ディフュー
ザーとすることを特徴とする多段式流動反応器であり、
前記セラミック製の内筒が、シリカ、アルミナ、４窒化
珪素のうちの１種からなる内筒であることが好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の筒型ディフューザーの一
例を模式的に図１に示す。本発明の筒型ディフューザー
２は、円筒部21の内側に挿入された内筒25を備える構造
を有する。内筒25は、円筒部の内側を触媒粒子の衝突か
ら保護するように、円筒部内に挿入され、オリフィスプ
レート22あるいはキャップ23により支持され、 取り替え
可能に置設されることが好ましい。
例を模式的に図１に示す。本発明の筒型ディフューザー
２は、円筒部21の内側に挿入された内筒25を備える構造
を有する。内筒25は、円筒部の内側を触媒粒子の衝突か
ら保護するように、円筒部内に挿入され、オリフィスプ
レート22あるいはキャップ23により支持され、 取り替え
可能に置設されることが好ましい。
【００１５】内筒25は、セラミック製とされる。セラミ
ックの種類は、使用する触媒の種類、流動反応器の使用
条件等に応じ適宜選択でき、とくに限定されない。な
お、経済的観点から、シリカ、アルミナ、４窒素珪素の
うちの１種とすることが好ましい。内筒の厚みは、厚す
ぎると、円筒部における線速度が十分に落ちないため好
ましくなく、また、薄すぎる内筒が壊れ易くなる。この
ため、取扱いの容易さと機械的強度を保つという観点か
ら、内筒の厚みは、ディフューザー円筒部内径の 1／50
〜 1／10の範囲内とすることが好ましい。具体的には、
0.5 〜２mm程度の厚みとすることが好ましい。
ックの種類は、使用する触媒の種類、流動反応器の使用
条件等に応じ適宜選択でき、とくに限定されない。な
お、経済的観点から、シリカ、アルミナ、４窒素珪素の
うちの１種とすることが好ましい。内筒の厚みは、厚す
ぎると、円筒部における線速度が十分に落ちないため好
ましくなく、また、薄すぎる内筒が壊れ易くなる。この
ため、取扱いの容易さと機械的強度を保つという観点か
ら、内筒の厚みは、ディフューザー円筒部内径の 1／50
〜 1／10の範囲内とすることが好ましい。具体的には、
0.5 〜２mm程度の厚みとすることが好ましい。
【００１６】なお、円筒部内の線速度の観点から、内筒
の厚みを薄くしたい場合には、金網などで補強してもな
んら問題はない。また、内筒の高さは、オリフィスから
広がる触媒粒子の挙動から、（ディフューザー円筒部長
さ）±20mmの範囲とすることが好ましい。内筒が余りに
短いと、ディフューザー円筒部内壁に衝突した触媒粒子
は、内壁に沿って上昇するため、この内壁に沿って上昇
する触媒粒子やオリフィスから広がる触媒粒子の衝突に
より円筒部に摩耗が生じやすく、円筒部に開孔が発生す
ることがある。一方、内筒が余りに長いと、隔壁上部の
触媒層で流動が生じないデッド部分が生じたり、原料ガ
スの急冷や触媒の再生などを妨げる場合がある。
の厚みを薄くしたい場合には、金網などで補強してもな
んら問題はない。また、内筒の高さは、オリフィスから
広がる触媒粒子の挙動から、（ディフューザー円筒部長
さ）±20mmの範囲とすることが好ましい。内筒が余りに
短いと、ディフューザー円筒部内壁に衝突した触媒粒子
は、内壁に沿って上昇するため、この内壁に沿って上昇
する触媒粒子やオリフィスから広がる触媒粒子の衝突に
より円筒部に摩耗が生じやすく、円筒部に開孔が発生す
ることがある。一方、内筒が余りに長いと、隔壁上部の
触媒層で流動が生じないデッド部分が生じたり、原料ガ
スの急冷や触媒の再生などを妨げる場合がある。
【００１７】本発明の筒型ディフューザー２は、上記し
たセラミック製の内筒を備える以外は、従来の円筒型デ
ィフューザーと同じ構造としても何ら問題はない。すな
わち、円筒部21下部をねじ構造24とし、キャップ23をね
じ込み可能として、円筒部21の下部端とキャップ23との
間でオリフィスプレート22を支持する構造とすることが
好ましい。また、筒型ディフューザーの円筒部21は、隔
壁３の下面側で円筒部の軸方向が垂直方向となるよう
に、隔壁３に接合されることが好ましい。なお、円筒部
21は、隔壁３とは溶接可能な同一材質の材料、例えば炭
素鋼製とし、溶接により隔壁３に接合することが好まし
い。
たセラミック製の内筒を備える以外は、従来の円筒型デ
ィフューザーと同じ構造としても何ら問題はない。すな
わち、円筒部21下部をねじ構造24とし、キャップ23をね
じ込み可能として、円筒部21の下部端とキャップ23との
間でオリフィスプレート22を支持する構造とすることが
好ましい。また、筒型ディフューザーの円筒部21は、隔
壁３の下面側で円筒部の軸方向が垂直方向となるよう
に、隔壁３に接合されることが好ましい。なお、円筒部
21は、隔壁３とは溶接可能な同一材質の材料、例えば炭
素鋼製とし、溶接により隔壁３に接合することが好まし
い。
【００１８】また、 本発明は、高さ方向に内部を区画す
る複数の隔壁を有し、該隔壁の下面に、上記したような
セラミック製の内筒を備えた構造の筒型ディフューザー
を複数配設してなる多段式流動反応器である。なお、隔
壁を反応器の下から第一段、第二段、第三段等とした場
合、第一段の隔壁に配設される筒型ディフューザーは、
セラミックス製内筒を必ずしも備える必要はない。第二
段以上の上段の隔壁に配設される筒型ディフューザーに
は、耐摩耗性の観点からセラミックス製内筒を備えるこ
とが好ましい。また、１つの隔壁下面には複数の筒型デ
ィフューザーが配設されるが、全てのディフューザーに
セラミックス製内筒を装着する必要はなく、筒型ディフ
ューザーが破損しやすい箇所にのみ設置してもよい。
る複数の隔壁を有し、該隔壁の下面に、上記したような
セラミック製の内筒を備えた構造の筒型ディフューザー
を複数配設してなる多段式流動反応器である。なお、隔
壁を反応器の下から第一段、第二段、第三段等とした場
合、第一段の隔壁に配設される筒型ディフューザーは、
セラミックス製内筒を必ずしも備える必要はない。第二
段以上の上段の隔壁に配設される筒型ディフューザーに
は、耐摩耗性の観点からセラミックス製内筒を備えるこ
とが好ましい。また、１つの隔壁下面には複数の筒型デ
ィフューザーが配設されるが、全てのディフューザーに
セラミックス製内筒を装着する必要はなく、筒型ディフ
ューザーが破損しやすい箇所にのみ設置してもよい。
【００１９】
【実施例】ナフタリンを触媒酸化して、無水フタル酸を
製造する２段式流動反応器において、上段（下から２段
目）の隔壁下面に設置されている筒型ディフューザー
（内径37mm×長さ254mm ）の全数（363 本）に、本発明
の筒型ディフューザーを適用した。本発明の筒型ディフ
ューザーは、厚さ１mmのアルミナ製内筒（外径36mm×長
さ 250mm）を挿入した筒型ディフューザーとした。な
お、筒型ディフューザーの円筒部は炭素鋼製とし、炭素
鋼製の隔壁に溶接で接合した。
製造する２段式流動反応器において、上段（下から２段
目）の隔壁下面に設置されている筒型ディフューザー
（内径37mm×長さ254mm ）の全数（363 本）に、本発明
の筒型ディフューザーを適用した。本発明の筒型ディフ
ューザーは、厚さ１mmのアルミナ製内筒（外径36mm×長
さ 250mm）を挿入した筒型ディフューザーとした。な
お、筒型ディフューザーの円筒部は炭素鋼製とし、炭素
鋼製の隔壁に溶接で接合した。
【００２０】このような筒型ディフューザーを配設した
流動反応器を運転し、無水フタル酸の製造を継続した。
一年間運転した後、筒型ディフューザーの全数（363
本）を目視で点検した結果、脱落したディフューザーは
見られなかった。また、円筒部に開孔が観察されたディ
フューザーは一個もなかった。一方、上記したと同じナ
フタリンから無水フタル酸を製造する２段式流動反応器
の上段（下から第２段目）の隔壁下面に設置されている
比較例の筒型ディフューザーの全数を、本発明の範囲か
ら外れる比較例の筒型ディフューザとした。比較例の筒
型ディフューザーは、円筒部をステンレス鋼製としセラ
ミック製内筒を挿入しない筒型ディフューザーとした。
なお、この比較例の筒型ディフューザーは隔壁に溶接に
より接合取り付けた。このような筒型ディフューザーを
配設した流動反応器を運転し、無水フタル酸の製造を一
年間継続した後、筒型ディフューザーの全数を目視で点
検した。その結果、脱落したディフューザーが１本、ま
た、円筒部に開孔が発生したディフューザーが２本観察
された。
流動反応器を運転し、無水フタル酸の製造を継続した。
一年間運転した後、筒型ディフューザーの全数（363
本）を目視で点検した結果、脱落したディフューザーは
見られなかった。また、円筒部に開孔が観察されたディ
フューザーは一個もなかった。一方、上記したと同じナ
フタリンから無水フタル酸を製造する２段式流動反応器
の上段（下から第２段目）の隔壁下面に設置されている
比較例の筒型ディフューザーの全数を、本発明の範囲か
ら外れる比較例の筒型ディフューザとした。比較例の筒
型ディフューザーは、円筒部をステンレス鋼製としセラ
ミック製内筒を挿入しない筒型ディフューザーとした。
なお、この比較例の筒型ディフューザーは隔壁に溶接に
より接合取り付けた。このような筒型ディフューザーを
配設した流動反応器を運転し、無水フタル酸の製造を一
年間継続した後、筒型ディフューザーの全数を目視で点
検した。その結果、脱落したディフューザーが１本、ま
た、円筒部に開孔が発生したディフューザーが２本観察
された。
【００２１】このように、本発明によれば、筒型ディフ
ューザーの耐摩耗性が向上し、２段式流動反応器におい
て上段隔壁の下面に設置されている筒型ディフューザー
の開孔および脱落を防止することができる。
ューザーの耐摩耗性が向上し、２段式流動反応器におい
て上段隔壁の下面に設置されている筒型ディフューザー
の開孔および脱落を防止することができる。
【００２２】
【発明の効果】以上、詳述したように、本発明によれ
ば、多段式流動反応器の筒型ディフューザーの開孔、脱
落を防止でき、反応器の点検、保守作業の軽減が可能と
なり、操業の安定化と効率化に格段の効果を奏する。
ば、多段式流動反応器の筒型ディフューザーの開孔、脱
落を防止でき、反応器の点検、保守作業の軽減が可能と
なり、操業の安定化と効率化に格段の効果を奏する。
【図１】本発明の筒型ディフューザーの一例を模式的に
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】本発明の実施に好適な流動反応器の一例を模式
的に示す断面図である。
的に示す断面図である。
【図３】従来の円筒型ディフューザーを模式的に示す断
面図である。
面図である。
【図４】円筒型ディフューザーにおける流動用ガスおよ
び触媒粒子の挙動を模式的に示す説明図である。
び触媒粒子の挙動を模式的に示す説明図である。
１ 流動反応器 ２、２ａ、２ｂ 筒型ディフューザー（ディフューザ
ー） ３、３ａ、３ｂ 隔壁 ４ サイクロン ５ａ、５ｂ 触媒層 ６ 流動用ガス ７ 原料ガス ８ 反応生成ガス 21 円筒部 22 オリフィスプレート 23 キャップ 24 ネジ構造 25 内筒 51 触媒粒子
ー） ３、３ａ、３ｂ 隔壁 ４ サイクロン ５ａ、５ｂ 触媒層 ６ 流動用ガス ７ 原料ガス ８ 反応生成ガス 21 円筒部 22 オリフィスプレート 23 キャップ 24 ネジ構造 25 内筒 51 触媒粒子
Claims (2)
- 【請求項１】 流動反応器における気体流通用の筒型デ
ィフューザーであって、セラミック製の内筒を備えたこ
とを特徴とする筒型ディフューザー。 - 【請求項２】 高さ方向に内部を区画する複数の隔壁を
有し、該隔壁の下面に複数の気体流通用筒型ディフュー
ザーを配設してなる多段式流動反応器であって、少なく
とも前記複数の気体流通用筒型ディフューザーの一部を
セラミック製の内筒を備えた筒型ディフューザーとする
ことを特徴とする多段式流動反応器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001166113A JP2002355547A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | 筒型ディフューザーおよび多段式流動反応器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001166113A JP2002355547A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | 筒型ディフューザーおよび多段式流動反応器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002355547A true JP2002355547A (ja) | 2002-12-10 |
Family
ID=19008694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001166113A Pending JP2002355547A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | 筒型ディフューザーおよび多段式流動反応器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002355547A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6373523B1 (ja) * | 2017-06-19 | 2018-08-15 | 旭化成株式会社 | 化合物の製造方法 |
-
2001
- 2001-06-01 JP JP2001166113A patent/JP2002355547A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6373523B1 (ja) * | 2017-06-19 | 2018-08-15 | 旭化成株式会社 | 化合物の製造方法 |
| CN109134307A (zh) * | 2017-06-19 | 2019-01-04 | 旭化成株式会社 | 化合物的制造方法 |
| CN109134307B (zh) * | 2017-06-19 | 2019-07-23 | 旭化成株式会社 | 化合物的制造方法 |
| CN110256286A (zh) * | 2017-06-19 | 2019-09-20 | 旭化成株式会社 | 化合物的制造方法 |
| US11161806B2 (en) | 2017-06-19 | 2021-11-02 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Process for producing compound |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040309 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071204 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080415 |