JP2002353491A - Semiconductor light-receiving element - Google Patents

Semiconductor light-receiving element

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JP2002353491A JP2001154444A JP2001154444A JP2002353491A JP 2002353491 A JP2002353491 A JP 2002353491A JP 2001154444 A JP2001154444 A JP 2001154444A JP 2001154444 A JP2001154444 A JP 2001154444A JP 2002353491 A JP2002353491 A JP 2002353491A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor light-receiving element that can prevent unwanted stray light from entering a light-receiving element for detecting signal light, and can reduce the mixture of an output signal due to signal light and a signal due to the unwanted stray light. SOLUTION: In the semiconductor light-receiving element, at least one step section is formed on the main surface of a semiconductor substrate via a slope, and a first light-receiving element for detecting signal light is formed on the optical axis of the signal light, on the bottom surface at the step section.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報処理、光計
測、光通信等に使用する半導体受光素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor light receiving element used for optical information processing, optical measurement, optical communication, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】光情報処理、光計測、光通信等の光デバ
イス分野では、一般的に信号光を受光素子で検出し、そ
の受光素子からの光電流を検出信号として利用してい
る。図7は、従来の信号光検出用受光素子を用いたシス
テムの一例として、光ピックアップ装置について簡略的
に表わしたものである。図7において、1は半導体基
板、4はP型拡散領域、5はPN接合、6は(第1の)
受光素子、7は光電流、8は信号光、9は信号光の光
軸、10は迷光、19は半導体レーザ素子、20はレー
ザ光、21、23、26はレンズ、22はハーフミラ
ー、24は光ディスクである。
2. Description of the Related Art In the field of optical devices such as optical information processing, optical measurement, and optical communication, signal light is generally detected by a light receiving element, and a photocurrent from the light receiving element is used as a detection signal. FIG. 7 schematically shows an optical pickup device as an example of a system using a conventional light receiving element for signal light detection. In FIG. 7, 1 is a semiconductor substrate, 4 is a P-type diffusion region, 5 is a PN junction, and 6 is (first)
A light receiving element, 7 is a photocurrent, 8 is a signal light, 9 is an optical axis of the signal light, 10 is a stray light, 19 is a semiconductor laser element, 20 is a laser light, 21, 23, and 26 are lenses, 22 is a half mirror, and 24 Is an optical disk.

【0003】図7に示した光ピックアップ装置の働きを
簡単に説明すると、半導体レーザ素子19から出射され
たレーザ光20は、ハーフミラー22、およびレンズ2
3を介して、光ディスク24に集光、照射され、光ディ
スク24に記録された情報を検出する。そして、光ディ
スク24で再び反射されたレーザ光20は、レンズ2
3、ハーフミラー22を通った後、レンズ26を介し
て、(第1の)受光素子6に入射され、光信号として検
出される。図7に記載している(第1の)受光素子6で
は、その断面構造はN型半導体基板1にP型拡散領域4
を埋め込み、PN接合5を形成することにより受光素子
としての機能を有している。
The operation of the optical pickup device shown in FIG. 7 will be briefly described. Laser light 20 emitted from a semiconductor laser element 19 is divided into a half mirror 22 and a lens 2.
The information is condensed and irradiated on the optical disc 24 via 3 and the information recorded on the optical disc 24 is detected. Then, the laser beam 20 reflected again from the optical disk 24 is
3. After passing through the half mirror 22, the light enters the (first) light receiving element 6 via the lens 26 and is detected as an optical signal. In the (first) light receiving element 6 shown in FIG. 7, the cross-sectional structure is such that the P-type diffusion region 4 is formed in the N-type semiconductor substrate 1.
And a PN junction 5 is formed to function as a light receiving element.

【0004】光ディスク24から反射され、(第1の)
受光素子6の表面から入射した信号光8は、半導体結晶
中に電子・正孔対のキャリアを発生させ、このキャリア
を光電流7として取り出すことにより、検出信号として
利用している。また、受光素子表面に入射される光は、
光の波長、半導体不純物濃度、半導体表面の反射率等に
よって決定される深さまで入射し、その入射する深さま
での至る所で、電子・正孔対キャリアを発生させる。
The (first) light reflected from the optical disk 24
The signal light 8 incident from the surface of the light receiving element 6 generates a carrier of an electron-hole pair in the semiconductor crystal, and the carrier is extracted as a photocurrent 7 to be used as a detection signal. The light incident on the light receiving element surface is
Light is incident to a depth determined by the wavelength of light, the semiconductor impurity concentration, the reflectivity of the semiconductor surface, and the like, and electron-hole pair carriers are generated everywhere up to the incident depth.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来構成では、以下に示す課題がある。図7のように構
成された光ピックアップ装置内において、半導体レーザ
素子19から出射されたレーザ光20は、光ディスク2
4で反射され、信号光8として(第1の)受光素子6に
すべて入射される訳ではなく、レーザ光20が(第1
の)受光素子6に入射するまでの様々な行程で、光学部
品の表面などで反射光が発生し、その反射光がさらに様
々なところで乱反射する。このため、光ピックアップ装
置内には、微少たりとも迷光10とよばれる信号光8以
外の不要な光が様々な方向に飛びかっている。
However, the above-mentioned conventional configuration has the following problems. In the optical pickup device configured as shown in FIG. 7, the laser beam 20 emitted from the semiconductor laser
4, the laser light 20 is not reflected on the (first) light receiving element 6 as the signal light 8 but is entirely incident on the (first) light receiving element 6.
In the various processes until the light enters the light receiving element 6), reflected light is generated on the surface of the optical component or the like, and the reflected light is irregularly reflected at various other places. For this reason, unnecessary light other than the signal light 8 called the stray light 10 is flying in various directions in the optical pickup device.

【0006】図7に示すように、従来の受光素子は、半
導体基板1の表面付近に受光素子としての機能をもつP
N接合5が形成されているために、様々な方向に飛びか
っている迷光10も入射しやすい形状、位置にある。こ
の不要な迷光10が(第1の)受光素子6に入射すると
不要な光電流が発生し、本来、信号光8からのみの光電
流を検出信号として利用したいにもかかわらず、検出信
号に不要な迷光10による信号が混ざってしまうことに
なる。検出信号にこのような迷光10による不要な信号
がのっていると、光検出信号をサーボ信号、光ディスク
記録情報の読み取り信号として利用する光ピックアップ
装置では、サーボ誤動作、光ディスク記録情報の誤読等
の要因となる。
As shown in FIG. 7, a conventional light receiving element has a P near the surface of a semiconductor substrate 1 having a function as a light receiving element.
Since the N-junction 5 is formed, the stray light 10 flying in various directions has a shape and a position where it is easy to enter. When the unnecessary stray light 10 is incident on the (first) light receiving element 6, an unnecessary photocurrent is generated, and although the photocurrent only from the signal light 8 is originally desired to be used as the detection signal, it is unnecessary for the detection signal. The signals due to the stray light 10 will be mixed. If an unnecessary signal due to such stray light 10 is included in the detection signal, an optical pickup device that uses the light detection signal as a servo signal and a read signal for recording information on the optical disk may cause a servo malfunction, erroneous reading of the optical disk recording information, and the like. It becomes a factor.

【0007】このような不要な光電流の発生源となる迷
光は、上記光ピックアップ装置以外にも様々な光デバイ
ス装置内に見られ、光信号検出に悪影響を及ぼす可能性
がある。
[0007] Such stray light, which is a source of unnecessary photocurrent, is found in various optical device devices other than the above-described optical pickup device, and may adversely affect optical signal detection.

【0008】本発明は、上記従来の課題を解決するもの
で、信号光を検出する受光素子に不要な迷光が入射する
ことを低減させることを目的とした受光素子を提供する
ことを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to provide a light receiving element for reducing unnecessary stray light from being incident on a light receiving element for detecting signal light. .

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の第1の半導体受光素子は、半導体基板の主
面に斜面を介して少なくとも一つの段差部(凹部)が形
成され、前記段差部底面の信号光の光軸上に、前記信号
光の検出を目的とした第1の受光素子が形成されている
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a first semiconductor light receiving element of the present invention has at least one step (recess) formed on a principal surface of a semiconductor substrate via a slope. A first light receiving element for detecting the signal light is formed on the optical axis of the signal light on the bottom surface of the step portion.

【0010】このように、信号光を検出するための信号
光検出用の受光素子を、半導体基板表面より深い位置に
ある段差部底面部に形成することにより、従来、半導体
基板の表面付近に形成した信号光検出用の受光素子に入
射しやすかった迷光を、信号光検出用の受光素子に入射
しにくくし、信号光の検出信号に、不要な迷光による信
号が混ざることを低減させることができる。
As described above, the light receiving element for detecting the signal light for detecting the signal light is formed on the bottom of the stepped portion at a position deeper than the surface of the semiconductor substrate, so that the light receiving element is conventionally formed near the surface of the semiconductor substrate. The stray light that is likely to be incident on the light receiving element for signal light detection is less likely to be incident on the light receiving element for signal light detection, and it is possible to reduce the possibility that the signal due to unnecessary stray light is mixed with the detection signal of the signal light. .

【0011】また、本発明の第2の半導体受光素子は、
半導体基板の主面に斜面を介して少なくとも一つの段差
部(凹部)が形成され、前記段差部底面の信号光の光軸
上に、前記信号光の検出を目的とした第1の受光素子が
形成され、かつ信号光の光軸上にない前記段差部斜面上
に、前記信号光の検出を目的としない第2の受光素子が
形成されていることを特徴とする。
Further, a second semiconductor light receiving element according to the present invention comprises:
At least one step (recess) is formed on the main surface of the semiconductor substrate via a slope, and a first light receiving element for detecting the signal light is provided on the optical axis of the signal light on the bottom of the step. A second light receiving element not intended to detect the signal light is formed on the slope of the stepped portion which is formed and is not on the optical axis of the signal light.

【0012】このように、段差底面部に形成した信号光
検出用の第1の受光素子以外に、段差斜面部にも信号光
を検出することを目的としない第2の受光素子を形成
し、半導体基板表面に入射した迷光により発生した不要
なキャリアをその第2の受光素子で吸収し、第1の受光
素子からの検出信号とは別の出力信号として出力させる
ことにより、第1の受光素子からの信号光の検出信号に
不要な迷光による信号が混ざることをさらに低減させる
ことができる。
As described above, in addition to the first light receiving element for detecting signal light formed on the bottom surface of the step, the second light receiving element not intended for detecting the signal light is also formed on the slope of the step. Unnecessary carriers generated by the stray light incident on the surface of the semiconductor substrate are absorbed by the second light receiving element and output as an output signal different from a detection signal from the first light receiving element, so that the first light receiving element It is possible to further reduce mixing of a signal due to unnecessary stray light with a detection signal of the signal light from the camera.

【0013】また、本発明の半導体受光素子において
は、前記段差部底面が、半導体基板の主面から垂直に入
射した光により発生するキャリアが拡散する最大深さよ
りも深い位置に設けられていることを特徴とする。
Further, in the semiconductor light receiving element of the present invention, the bottom surface of the step portion is provided at a position deeper than a maximum depth at which carriers generated by light vertically incident from the main surface of the semiconductor substrate are diffused. It is characterized by.

【0014】これにより、迷光によるキャリアが及ぼす
信号光による出力信号への影響を、最大限減らすことが
できる。
Thus, it is possible to minimize the influence of the signal light exerted by the carrier due to the stray light on the output signal.

【0015】また、本発明の半導体受光素子において
は、前記第1の受光素子及び前記第2の受光素子と同一
半導体基板上に、前記第1の受光素子及び前記第2の受
光素子からの光電流を信号として検出するための少なく
とも一つの回路が形成されていることを特徴とする。
Further, in the semiconductor light receiving element of the present invention, light from the first light receiving element and the second light receiving element is provided on the same semiconductor substrate as the first light receiving element and the second light receiving element. At least one circuit for detecting a current as a signal is formed.

【0016】このように、同一半導体基板に、受光素子
とその受光素子からの光電流信号を入力する回路部を近
隣に形成することにより、光電流信号が増幅回路等の信
号処理回路に入力されるまでにノイズが乗りにくくな
り、信号ノイズレベルを低減させることができる。
As described above, by forming a light receiving element and a circuit section for inputting a photocurrent signal from the light receiving element on the same semiconductor substrate in the vicinity, the photocurrent signal is input to a signal processing circuit such as an amplifier circuit. By this time, it becomes difficult for noise to ride, and the signal noise level can be reduced.

【0017】また、本発明の半導体受光素子において
は、さらに、前記受光素子が形成された段差部と同一半
導体基板面に第2の段差部が形成され、前記第2の段差
部底面部に、半導体レーザ素子が配置されていることを
特徴とする。この第2の段差部を形成している斜面を、
前記半導体レーザ素子からの出射光を反射するためのミ
ラーとして利用し、前記半導体レーザ素子からの出射光
を光源として利用する。
Further, in the semiconductor light receiving device of the present invention, a second step portion is further formed on the same semiconductor substrate surface as the step portion on which the light receiving element is formed, and the second step portion has a bottom surface portion. The semiconductor laser device is provided. The slope forming the second step is
The light emitted from the semiconductor laser element is used as a mirror for reflecting the light, and the light emitted from the semiconductor laser element is used as a light source.

【0018】このように、半導体レーザ素子と信号光を
検出する第1の受光素子を同一半導体基板に配置するこ
とにより、信号光としての光源、受光素子、信号増幅回
路等をモジュール化させることが可能となる。
As described above, by arranging the semiconductor laser element and the first light receiving element for detecting signal light on the same semiconductor substrate, the light source as signal light, the light receiving element, the signal amplifying circuit and the like can be modularized. It becomes possible.

【0019】さらに、本発明の光学系は、前記の半導体
受光素子と、光ディスク、光学レンズ、光を波面変換す
る光学部材、反射ミラー、プリズム及び半導体レーザ素
子から選択される少なくとも一種の光学部品とを配置し
たことを特徴とする。
Further, the optical system of the present invention comprises the above-mentioned semiconductor light receiving element and at least one kind of optical component selected from an optical disk, an optical lens, an optical member for converting light into a wavefront, a reflecting mirror, a prism and a semiconductor laser element. Are arranged.

【0020】このように、受光素子と回路形成部を同一
基板上に形成した半導体基板と、半導体レーザ素子を一
体化したものに、レンズ等の光学部品を配置させること
により、容易に光ピックアップ装置などの信号光を検出
する部分を形成することができ、迷光などが発生しやす
い状況においても、安定して信号光の情報を検出するこ
とができる。
As described above, by arranging optical components such as lenses on a semiconductor substrate in which a light receiving element and a circuit forming portion are formed on the same substrate and a semiconductor laser element, an optical pickup device can be easily obtained. Thus, a portion for detecting signal light can be formed, and information on signal light can be stably detected even in a situation where stray light or the like is likely to occur.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明による実施の形態に
ついて、図面を用いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0022】(実施の形態1)図1は、本発明の第1の
実施の形態による半導体受光素子の構成図である。図1
において、1は半導体基板、2は斜面、3は段差部、4
はP型拡散領域、5はPN接合、6は第1の受光素子、
7は光電流、8は信号光、9は信号光の光軸、10は迷
光である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving element according to a first embodiment of the present invention. FIG.
, 1 is a semiconductor substrate, 2 is a slope, 3 is a step portion, 4
Is a P-type diffusion region, 5 is a PN junction, 6 is a first light receiving element,
7, a photocurrent; 8, a signal light; 9, an optical axis of the signal light; and 10, a stray light.

【0023】本実施例では、半導体基板1の主面に斜面
2を介して段差部3が形成されており、その段差部3の
底面に、信号光の光軸9上にあり信号光8を検出するこ
とを目的とした信号光検出用の第1の受光素子6を形成
していることが特徴である。
In this embodiment, a step 3 is formed on the main surface of the semiconductor substrate 1 via the slope 2, and the signal light 8 is located on the optical axis 9 of the signal light on the bottom surface of the step 3. It is characterized in that a first light receiving element 6 for signal light detection for the purpose of detection is formed.

【0024】図1に示す半導体受光素子において、従
来、半導体基板1の表面付近に形成した信号光検出用の
受光素子に入射しやすかった迷光10は、段差部3の底
面に形成した第1の受光素子6に到達する前に、段差部
3の斜面2より半導体基板1に入射しやすくなるため、
信号光8検出用の第1の受光素子6に入射しにくくな
る。
In the semiconductor light receiving element shown in FIG. 1, stray light 10 which has conventionally been easily incident on the signal light detecting light receiving element formed near the surface of the semiconductor substrate 1 is firstly formed on the bottom surface of the step portion 3. Before the light reaches the light receiving element 6, the light can easily enter the semiconductor substrate 1 from the slope 2 of the stepped portion 3.
It becomes difficult to enter the first light receiving element 6 for detecting the signal light 8.

【0025】このため、第1の受光素子6には、従来よ
りも迷光10が入射しにくくなるため、迷光10による
光電流が低減され、信号光8の検出信号に不要な迷光1
0による信号が混ざることを低減させることができる。
For this reason, the stray light 10 is less likely to enter the first light receiving element 6 than in the prior art, so that the photocurrent due to the stray light 10 is reduced, and the stray light 1 unnecessary for the detection signal of the signal light 8 is reduced.
It is possible to reduce mixing of signals due to zero.

【0026】また、図1に示すような段差部3は、例え
ばN型シリコン半導体基板1表面に酸化膜等のエッチン
グマスクを施し、水酸化カリウム系エッチング液等によ
り異方性エッチングを行うことにより形成させることが
できる。この段差部形成後、段差部3の底面にP型拡散
領域2を形成させることにより、受光素子を形成させる
ことができる。
The step portion 3 as shown in FIG. 1 is formed by, for example, applying an etching mask such as an oxide film on the surface of the N-type silicon semiconductor substrate 1 and performing anisotropic etching with a potassium hydroxide-based etching solution or the like. Can be formed. After the formation of the step portion, the light receiving element can be formed by forming the P-type diffusion region 2 on the bottom surface of the step portion 3.

【0027】(実施の形態2)図2は、本発明の第2の
実施の形態による半導体受光素子の構成図である。図2
において、11は迷光によるキャリア、12は迷光10
が半導体基板1に垂直に入射した場合に、迷光10が進
入しキャリアが発生、拡散することができる最大深さで
あり、その他の図2に示す第1の実施の形態による構成
図と同一箇所には、同一符号を付して詳細説明を省略す
る。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving element according to a second embodiment of the present invention. FIG.
, 11 is a carrier due to stray light, and 12 is a stray light 10
Is the maximum depth at which stray light 10 can enter and generate and diffuse carriers when vertically incident on the semiconductor substrate 1, and is the same as that in the configuration diagram according to the first embodiment shown in FIG. Are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.

【0028】本実施例では、半導体基板1の主面から光
源として使用している波長の迷光10が垂直に入射した
場合に、迷光10が進入し、キャリア11が発生、拡散
することができる最大深さ12よりも深い位置に、段差
部3の底面および第1の受光素子6を形成したことを特
徴とする。
In this embodiment, when the stray light 10 of the wavelength used as a light source is vertically incident from the main surface of the semiconductor substrate 1, the stray light 10 enters and generates and diffuses the carriers 11 at the maximum. The bottom surface of the step portion 3 and the first light receiving element 6 are formed at a position deeper than the depth 12.

【0029】迷光10は、従来の課題で述べたように、
光デバイス装置内で様々に乱反射している。このため当
然、半導体基板1の表面からも迷光10は半導体基板内
に入射し、キャリア11を発生させる。
As described in the conventional problem, the stray light 10
Various irregular reflections occur in the optical device. Therefore, the stray light 10 naturally enters the semiconductor substrate from the surface of the semiconductor substrate 1 and generates carriers 11.

【0030】このとき、迷光10が最も半導体基板内に
奥深く進入するのは、迷光10が半導体基板1の主面に
対し垂直に入射した場合であり、また光の波長、半導体
不純物濃度、半導体表面の反射率等で決まる深さまで進
入し、キャリアを発生させる。
At this time, the stray light 10 penetrates the deepest into the semiconductor substrate when the stray light 10 is perpendicularly incident on the main surface of the semiconductor substrate 1, and the light wavelength, the semiconductor impurity concentration, the semiconductor surface To a depth determined by the reflectivity of the substrate and generate carriers.

【0031】このような半導体基板1の表面から入射し
た迷光10によるキャリア11も、当然、再結合するま
での間、半導体基板1内部を拡散する。この半導体基板
1の表面から入射した迷光10によるキャリア11が第
1の受光素子6に吸収され、光電流7として出力される
ことになれば当然、信号光8の検出信号に不要な迷光1
0による信号が混ざり、光信号検出に悪影響を及ぼすこ
ととなる。
The carriers 11 caused by the stray light 10 incident from the surface of the semiconductor substrate 1 naturally diffuse inside the semiconductor substrate 1 until they are recombined. If the carrier 11 due to the stray light 10 incident from the surface of the semiconductor substrate 1 is absorbed by the first light receiving element 6 and is output as the photocurrent 7, the stray light 1 unnecessary for the detection signal of the signal light 8 is naturally obtained.
The signals due to 0 are mixed, which has an adverse effect on optical signal detection.

【0032】本実施例では、半導体基板1の表面から入
射した迷光10により発生したキャリア11が、半導体
基板1の内部に到達できる最大深さ12よりも深い位置
に、段差部3の底面および第1の受光素子6を形成する
ことにより、キャリア11が信号光8を検出するための
第1の受光素子6に到達できないようにしている。この
ため迷光10によるキャリア11が及ぼす信号光8によ
る出力信号への影響を最大限減らすことができる。
In the present embodiment, the carrier 11 generated by the stray light 10 incident from the surface of the semiconductor substrate 1 is located at a position deeper than the maximum depth 12 that can reach the inside of the semiconductor substrate 1 and the bottom of the step portion 3 and the second The formation of the first light receiving element 6 prevents the carrier 11 from reaching the first light receiving element 6 for detecting the signal light 8. Therefore, the influence of the signal light 8 on the output signal due to the carrier 11 due to the stray light 10 can be reduced to the maximum.

【0033】(実施の形態3)図3は、本発明の第3の
実施の形態による半導体受光素子の構成図である。図3
において、13は第2の受光素子、14は第2の受光素
子からの光電流、15はP型拡散領域であり、その他の
図3に示す第2の実施の形態による構成図と同一箇所に
は同一符号を付して詳細説明を省略する。
(Embodiment 3) FIG. 3 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving device according to a third embodiment of the present invention. FIG.
In the figure, 13 is a second light receiving element, 14 is a photocurrent from the second light receiving element, 15 is a P-type diffusion region, which is located at the same position as in the configuration diagram according to the second embodiment shown in FIG. Are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.

【0034】本実施例では、本発明の第1の半導体受光
素子と同じく、半導体基板1の主面に斜面2を介して段
差部3が形成されており、その段差部3の底面に、信号
光の光軸9上にあり、信号光8を検出することを目的と
した、信号光検出用の第1の受光素子6を形成し、さら
に信号光の光軸9上にない位置にある斜面2上に、信号
光8を検出することを目的としない第2の受光素子13
を形成していることを特徴とする。
In this embodiment, like the first semiconductor photodetector of the present invention, a step portion 3 is formed on the main surface of a semiconductor substrate 1 with a slope 2 interposed therebetween, and a signal surface is provided on the bottom surface of the step portion 3. A first light receiving element 6 for signal light detection is formed on the optical axis 9 of the light and intended to detect the signal light 8, and further, a slope located at a position not on the optical axis 9 of the signal light. 2, a second light receiving element 13 not intended to detect the signal light 8
Is formed.

【0035】第2の実施の形態で述べたように、半導体
基板1の表面からも迷光10は半導体基板内に入射し、
キャリア11を発生させる。本実施例では、迷光10が
半導体基板1の表面から入射することにより発生した、
キャリア11による第1の受光素子6への影響をなくす
ため、段差部3の斜面2上で、信号光の光軸9上にない
位置に、第2の受光素子13を形成し、半導体基板1の
表面付近で浮遊拡散している迷光10によるキャリア1
1を、その第2の受光素子13より吸収する。第2の受
光素子13に吸収された迷光10によるキャリア11
は、第2の受光素子13からの光電流14として外部出
力され、第1の受光素子6からの光電流7による検出信
号と区別される。また、同様に斜面2より入射した迷光
10により発生したキャリアについても、この第2の受
光素子13により吸収されることにより、第1の受光素
子6への影響を低減させることができる。
As described in the second embodiment, the stray light 10 also enters the semiconductor substrate from the surface of the semiconductor substrate 1,
A carrier 11 is generated. In the present embodiment, the stray light 10 is generated by being incident from the surface of the semiconductor substrate 1,
In order to eliminate the influence of the carrier 11 on the first light receiving element 6, the second light receiving element 13 is formed on the slope 2 of the step 3 at a position not on the optical axis 9 of the signal light, and the semiconductor substrate 1 is formed. 1 due to stray light 10 floating and diffusing near the surface of
1 is absorbed by the second light receiving element 13. Carrier 11 due to stray light 10 absorbed by second light receiving element 13
Is externally output as a photocurrent 14 from the second light receiving element 13 and is distinguished from a detection signal by the photocurrent 7 from the first light receiving element 6. Similarly, the carrier generated by the stray light 10 incident from the slope 2 is also absorbed by the second light receiving element 13, so that the influence on the first light receiving element 6 can be reduced.

【0036】このため、第1の受光素子6からの信号光
8の検出信号に不要な迷光10による信号が混ざること
を、さらに低減させることができる。
For this reason, it is possible to further reduce the mixing of the signal due to the unnecessary stray light 10 with the detection signal of the signal light 8 from the first light receiving element 6.

【0037】第3の実施の形態に示す受光素子構造は、
第1の受光素子6を構成するための段差部3を形成する
前に、第2の受光素子13を構成するためのP型拡散領
域15を半導体基板1表面に埋め込んでおき、その後、
段差部3を形成するためにエッチングを施すことにより
形成することができる。
The light receiving element structure shown in the third embodiment is as follows.
Before forming the step portion 3 for forming the first light receiving element 6, a P-type diffusion region 15 for forming the second light receiving element 13 is embedded in the surface of the semiconductor substrate 1, and thereafter,
It can be formed by performing etching to form the step portion 3.

【0038】(実施の形態4)図4は、本発明の第4の
実施の形態による半導体受光素子の構成図である。図4
において、16は回路形成部であり、その他の図4に示
す第3の実施の形態による構成図と同一箇所には同一符
号を付して詳細説明を省略する。
(Embodiment 4) FIG. 4 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving device according to a fourth embodiment of the present invention. FIG.
In the figure, reference numeral 16 denotes a circuit forming portion, and the same portions as those in the configuration diagram according to the third embodiment shown in FIG.

【0039】本実施例では、第1の受光素子6および第
2の受光素子13からのそれぞれの光電流7および14
を入力信号とし、入力信号を検出するための回路、およ
び増幅回路、演算回路などの機能を有する回路形成部1
6を、同一半導体基板1上に形成したことを特徴とす
る。
In this embodiment, the photocurrents 7 and 14 from the first light-receiving element 6 and the second light-receiving element 13, respectively.
And a circuit for detecting the input signal, and a circuit forming section 1 having functions such as an amplifier circuit and an arithmetic circuit.
6 is formed on the same semiconductor substrate 1.

【0040】このように同一半導体基板1に、受光素子
とその受光素子からの光電流信号を入力する回路部を近
隣に形成することにより、光電流信号が増幅回路等の信
号処理回路に入力されるまでにノイズが乗りにくくな
り、信号ノイズレベルを低減させることができる等のメ
リットがある。また、受光素子チップと外付け回路とし
ての回路チップを個々に作成、組み合わせるよりも、コ
スト低減させることができる。
As described above, by forming a light receiving element and a circuit section for inputting a photocurrent signal from the light receiving element on the same semiconductor substrate 1, the photocurrent signal is input to a signal processing circuit such as an amplifier circuit. There is an advantage that noise becomes difficult to be taken by the time, and the signal noise level can be reduced. Further, the cost can be reduced as compared with the case where the light receiving element chip and the circuit chip as the external circuit are individually formed and combined.

【0041】(実施の形態5)図5は、本発明の第5の
実施の形態による半導体受光素子の構成図である。図5
において、17は第2の段差部、18は斜面、19は半
導体レーザ素子、20はレーザ光であり、その他の図5
に示す第4の実施の形態による構成図と同一箇所には同
一符号を付して詳細説明を省略する。
(Embodiment 5) FIG. 5 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving device according to a fifth embodiment of the present invention. FIG.
In FIG. 5, 17 is a second step portion, 18 is a slope, 19 is a semiconductor laser device, 20 is a laser beam, and FIG.
The same parts as those in the configuration diagram according to the fourth embodiment shown in FIG.

【0042】本実施例では、第1の受光素子6を形成す
るための段差部3とは別に、第2の段差部17を形成
し、この第2の段差部17の底面部に半導体レーザ素子
19が配置され、半導体レーザ素子19から出射された
レーザ光20を、斜面18により半導体基板1に対し垂
直方向に反射させていることを特徴とする。
In this embodiment, a second step 17 is formed separately from the step 3 for forming the first light receiving element 6, and a semiconductor laser device is formed on the bottom of the second step 17. The laser light 20 emitted from the semiconductor laser element 19 is reflected by the slope 18 in a direction perpendicular to the semiconductor substrate 1.

【0043】このように、半導体レーザ素子19と信号
光9を検出する第1の受光素子6を同一半導体基板1に
配置することにより、信号光としての光源、受光素子、
信号増幅回路等をモジュール化させることが可能とな
り、コストの低減、また光学部品の組立アライメント簡
素化などのメリットがある。
As described above, by disposing the semiconductor laser element 19 and the first light receiving element 6 for detecting the signal light 9 on the same semiconductor substrate 1, a light source as signal light, a light receiving element,
The signal amplification circuit and the like can be made into a module, which has advantages such as cost reduction and simplification of alignment of optical components.

【0044】このように半導体レーザ素子19からのレ
ーザ光を、半導体基板1に対して垂直方向に出射させる
ためには、斜面18が半導体基板1の主面に対し45°
程度の傾きをもった構造が必要である。このような基板
構造は、半導体基板1として、<110>方向を軸とし
て5°〜15°のオフアングルを有する(100)面シ
リコン半導体基板を用い、酸化膜等のエッチングマスク
を用いて、水酸化カリウム系エッチング液等により異方
性エッチングを行うことにより、(111)面を斜面と
する段差が形成されることによるものである。この場
合、半導体基板1の主面に対し、39°〜49°の角度
を持った斜面18を形成することができる。また、この
斜面18でレーザ光20を効率よく反射させるために、
斜面18の上に高反射率コーティング薄膜(例えば、A
u約3000Å)が形成されており、反射率が99%以
上になっている。また、第2の段差部17の底面に半田
メッキを形成することにより、この半田と半導体レーザ
素子19のAu電極を熱により融合させて、半導体レー
ザ素子19を固定することができる。
In order to emit the laser beam from the semiconductor laser device 19 in the direction perpendicular to the semiconductor substrate 1 as described above, the inclined surface 18 must be at 45 ° to the main surface of the semiconductor substrate 1.
A structure having a slight inclination is required. Such a substrate structure uses a (100) plane silicon semiconductor substrate having an off angle of 5 ° to 15 ° around the <110> direction as an axis of the semiconductor substrate 1, and using an etching mask such as an oxide film to form water. This is because a step having a (111) plane as a slope is formed by performing anisotropic etching with a potassium oxide-based etchant or the like. In this case, the slope 18 having an angle of 39 ° to 49 ° with respect to the main surface of the semiconductor substrate 1 can be formed. Further, in order to efficiently reflect the laser beam 20 on the slope 18,
A high-reflectance coating film (for example, A
u about 3000 °) is formed, and the reflectance is 99% or more. Further, by forming the solder plating on the bottom surface of the second step portion 17, the solder and the Au electrode of the semiconductor laser element 19 can be fused by heat, and the semiconductor laser element 19 can be fixed.

【0045】(実施の形態6)図6は、本発明の第6の
実施の形態による半導体受光素子の構成図である。図6
において、21、23、26はレンズ、22はハーフミ
ラー、24は光ディスク、25はミラーであり、その他
の図6に示す第5の実施の形態による構成図と同一箇所
には同一符号を付して詳細説明を省略する。
(Embodiment 6) FIG. 6 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving device according to a sixth embodiment of the present invention. FIG.
, 23, and 26 are lenses, 22 is a half mirror, 24 is an optical disk, and 25 is a mirror, and the same reference numerals are given to the same portions as those in the other configuration diagrams according to the fifth embodiment shown in FIG. Therefore, detailed description is omitted.

【0046】本実施例では、半導体基板1の信号光8入
射側に、レンズ21、23、26、ハーフミラー22、
光ディスク24、ミラー25等、少なくとも一つの光学
部品を配置したことを特徴としている。
In this embodiment, the lenses 21, 23, 26, the half mirror 22,
It is characterized in that at least one optical component such as an optical disk 24 and a mirror 25 is arranged.

【0047】本実施例のように、受光素子6と回路形成
部16を同一基板上に形成した半導体基板1と半導体レ
ーザ素子19を一体化したものに、半導体基板1の信号
光8入射側にレンズ21等の光学部品を配置させること
により、容易に光ピックアップ装置などの信号光を検出
する部分を形成することができ、迷光などが発生しやす
い状況においても、安定して信号光の情報を検出するこ
とができる。
As in this embodiment, the semiconductor substrate 1 in which the light receiving element 6 and the circuit forming portion 16 are formed on the same substrate and the semiconductor laser element 19 are integrated, and the semiconductor substrate 1 is provided on the signal light 8 incident side. By arranging optical components such as the lens 21, it is possible to easily form a portion for detecting signal light, such as an optical pickup device, and to stably transmit information on signal light even in a situation where stray light or the like is likely to occur. Can be detected.

【0048】これまでの本発明の実施の形態についての
説明において、N型シリコン半導体基板にP型拡散領域
を埋め込むことにより、PN接合を形成し、半導体受光
素子としての機能を有する説明をしたが、本発明は、N
型シリコン半導体基板に限定されるものではなく、P型
シリコン半導体基板、化合物半導体基板などに形成され
た全ての受光素子としての機能を有したものに対し有効
であり、受光素子構造に関する発明を説明したものであ
る。
In the above description of the embodiment of the present invention, a description has been given of a case where a P-type diffusion region is buried in an N-type silicon semiconductor substrate to form a PN junction and function as a semiconductor light receiving element. , The present invention relates to N
The invention is not limited to the type silicon semiconductor substrate, but is effective for all devices having a function as a light receiving element formed on a P type silicon semiconductor substrate, a compound semiconductor substrate, and the like. It was done.

【0049】また、本発明の実施の形態において、説明
を簡略化するため、信号光を検出するための第1の受光
素子、および第1の受光素子を構成するための段差部
を、図中に一組しか記載していないが、複数個の段差部
を形成し、その複数個の段差部にそれぞれ受光素子を形
成する場合においても本発明は適用されるものである。
このように複数個の段差部および受光素子を形成する形
態として、検出信号光を回折素子などにより2本以上の
信号光に分割しているような光学系などがあげられる。
In the embodiment of the present invention, for the sake of simplicity, a first light receiving element for detecting a signal light and a step portion for constituting the first light receiving element are shown in FIG. However, the present invention is also applicable to a case where a plurality of steps are formed and a light receiving element is formed in each of the steps.
As an embodiment in which a plurality of steps and a light receiving element are formed as described above, there is an optical system in which a detection signal light is divided into two or more signal lights by a diffraction element or the like.

【0050】また、信号光の波長についても、特に限定
はしていないが、ある特定の波長に限定したものであっ
ても、本発明は適用される。
The wavelength of the signal light is not particularly limited, but the present invention is applicable to a case where the wavelength is limited to a specific wavelength.

【0051】また、半導体基板上に第1の受光素子、第
2の受光素子、回路形成部、および半導体レーザ素子
が、単純に並んでいるが、それぞれの配置については、
特にこの限りではなく、任意の位置関係にあってよい。
Further, the first light receiving element, the second light receiving element, the circuit forming section, and the semiconductor laser element are simply arranged on the semiconductor substrate.
In particular, the present invention is not limited to this, and may be in any positional relationship.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明の半導体受光
素子は、半導体基板の主面に斜面を介して段差部が形成
され、その段差部の底面の信号光の光軸上に、信号光を
検出することを目的とした第1の受光素子が形成されて
いるため、従来、半導体基板の表面付近に形成した信号
光検出用の受光素子に入射しやすかった迷光を、信号光
検出用の第1の受光素子に入射しにくくすることができ
る。
As described above, in the semiconductor light receiving device of the present invention, a step is formed on the main surface of the semiconductor substrate through the slope, and the signal light is placed on the optical axis of the signal light on the bottom surface of the step. Since the first light receiving element for detecting the light is formed, the stray light that has been easily incident on the light receiving element for signal light detection formed near the surface of the semiconductor substrate in the past is converted to the signal light detection for signal light. It is possible to make it difficult to enter the first light receiving element.

【0053】また、信号光を検出する第1の受光素子以
外に、信号光の光軸上にない位置にある段差斜面部に、
信号光を検出することを目的としない第2の受光素子が
形成されているため、半導体基板表面に入射した迷光に
より発生した不要なキャリアを、その第2の受光素子で
吸収し、第1の受光素子からの検出信号とは別の出力信
号として出力させることにより、信号光の検出信号に不
要な迷光による信号が混ざることを低減させることがで
きる。
Further, in addition to the first light receiving element for detecting the signal light, a stepped slope portion at a position not on the optical axis of the signal light is provided.
Since the second light receiving element not intended to detect signal light is formed, unnecessary carriers generated by stray light incident on the surface of the semiconductor substrate are absorbed by the second light receiving element, and the first light receiving element is used. By outputting the detection signal from the light receiving element as an output signal different from the detection signal, it is possible to reduce mixing of a signal due to unnecessary stray light with the detection signal of the signal light.

【0054】従って、光情報処理、光計測、光通信等に
幅広く使用することができ、その工業的価値は大であ
る。
Therefore, it can be widely used for optical information processing, optical measurement, optical communication and the like, and its industrial value is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態による半導体受光素
子の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving element according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態による半導体受光素
子の構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving element according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施の形態による半導体受光素
子の構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving element according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4の実施の形態による半導体受光素
子の構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving element according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第5の実施の形態による半導体受光素
子の構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving element according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第6の実施の形態による半導体受光素
子の構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram of a semiconductor light receiving element according to a sixth embodiment of the present invention.

【図7】従来の半導体受光素子の構成図である。FIG. 7 is a configuration diagram of a conventional semiconductor light receiving element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体基板 2 斜面 3 段差部 4 P型拡散領域 5 PN接合 6 第1の受光素子 7 光電流 8 信号光 9 信号光の光軸 10 迷光 11 迷光によるキャリア 12 迷光が進入しキャリアが発生、拡散することがで
きる最大深さ 13 第2の受光素子 14 第2の受光素子からの光電流 15 P型拡散領域 16 回路形成部 17 第2の段差部 18 斜面 19 半導体レーザ素子 20 レーザ光 21 レンズ 22 ハーフミラー 23 レンズ 24 光ディスク 25 ミラー 26 レンズ
Reference Signs List 1 semiconductor substrate 2 slope 3 stepped portion 4 P-type diffusion region 5 PN junction 6 first light receiving element 7 photocurrent 8 signal light 9 optical axis of signal light 10 stray light 11 carrier due to stray light 12 stray light enters and generates and diffuses carriers Maximum depth that can be performed 13 Second light receiving element 14 Photocurrent from second light receiving element 15 P-type diffusion region 16 Circuit forming part 17 Second stepped part 18 Slope 19 Semiconductor laser element 20 Laser light 21 Lens 22 Half mirror 23 Lens 24 Optical disk 25 Mirror 26 Lens

フロントページの続き (72)発明者 茶藤 哲夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 嶋崎 豊幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5D119 AA20 BA01 CA10 FA05 FA25 JA07 JA43 KA02 KA23 LB04 LB05 5F049 MA02 MB02 NA04 NB01 NB07 NB08 QA20 RA07 TA20 5F088 AA02 AB03 BA03 BA16 BB10 EA09 EA11 GA07 Continuing on the front page (72) Inventor Tetsuo Chato 1006 Kadoma Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Reference) 5D119 AA20 BA01 CA10 FA05 FA25 JA07 JA43 KA02 KA23 LB04 LB05 5F049 MA02 MB02 NA04 NB01 NB07 NB08 QA20 RA07 TA20 5F088 AA02 AB03 BA03 BA16 BB10 EA09 EA11 GA07

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板の主面に斜面を介して少なく
とも一つの段差部が形成され、前記段差部底面の信号光
の光軸上に、前記信号光の検出を目的とした第1の受光
素子が形成されていることを特徴とする半導体受光素
子。
At least one step portion is formed on a main surface of a semiconductor substrate via a slope, and a first light receiving portion for detecting the signal light is provided on an optical axis of the signal light on the bottom surface of the step portion. A semiconductor light receiving element, wherein the element is formed.
【請求項2】 半導体基板の主面に斜面を介して少なく
とも一つの段差部が形成され、前記段差部底面の信号光
の光軸上に、前記信号光の検出を目的とした第1の受光
素子が形成され、かつ信号光の光軸上にない前記段差部
斜面上に、前記信号光の検出を目的としない第2の受光
素子が形成されていることを特徴とする半導体受光素
子。
2. A method according to claim 1, wherein at least one step portion is formed on the main surface of the semiconductor substrate via a slope, and a first light receiving portion for detecting the signal light is provided on the optical axis of the signal light on the bottom surface of the step portion. A semiconductor light receiving element, wherein an element is formed and a second light receiving element not intended for detecting the signal light is formed on the slope of the stepped portion which is not on the optical axis of the signal light.
【請求項3】 前記段差部底面が、半導体基板の主面か
ら垂直に入射した光により発生するキャリアが拡散する
最大深さよりも深い位置に設けられていることを特徴と
する請求項1又は2に記載の半導体受光素子。
3. The stepped bottom surface is provided at a position deeper than a maximum depth at which carriers generated by light vertically incident from a main surface of a semiconductor substrate are diffused. 4. The semiconductor light receiving element according to claim 1.
【請求項4】 前記第1の受光素子及び前記第2の受光
素子と同一半導体基板上に、前記第1の受光素子及び前
記第2の受光素子からの光電流を信号として検出するた
めの少なくとも一つの回路が形成されていることを特徴
とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体受光素
子。
4. At least for detecting a photocurrent from the first light receiving element and the second light receiving element as a signal on the same semiconductor substrate as the first light receiving element and the second light receiving element. 4. The semiconductor light receiving device according to claim 1, wherein one circuit is formed.
【請求項5】 さらに、前記受光素子が形成された段差
部と同一半導体基板面に第2の段差部が形成され、前記
第2の段差部底面部に、半導体レーザ素子が配置されて
いることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の
半導体受光素子。
5. A semiconductor device comprising: a second step portion formed on the same semiconductor substrate surface as the step portion on which the light receiving element is formed; and a semiconductor laser device disposed on the bottom surface of the second step portion. The semiconductor light-receiving element according to claim 1, wherein:
【請求項6】 前記半導体受光素子と、光ディスク、光
学レンズ、光を波面変換する光学部材、反射ミラー、プ
リズム及び半導体レーザ素子から選択される少なくとも
一種の光学部品とを配置したことを特徴とする光学系。
6. The semiconductor light-receiving element and at least one kind of optical component selected from an optical disk, an optical lens, an optical member for converting light into a wavefront, a reflection mirror, a prism, and a semiconductor laser element. Optical system.
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