JP2002336681A - Gas-liquid contact apparatus and freezing concentration separation method - Google Patents

Gas-liquid contact apparatus and freezing concentration separation method

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JP2002336681A
JP2002336681A JP2001148989A JP2001148989A JP2002336681A JP 2002336681 A JP2002336681 A JP 2002336681A JP 2001148989 A JP2001148989 A JP 2001148989A JP 2001148989 A JP2001148989 A JP 2001148989A JP 2002336681 A JP2002336681 A JP 2002336681A
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JP
Japan
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water
solvent
ice
gas
freezing
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Application number
JP2001148989A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenji Hayashi
賢二 林
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Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
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  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a gas-liquid contact apparatus which maintains solvent absorption efficiency and increases the concentration of a solvent in finally discharged water by reducing the quantity of water to be replenished. SOLUTION: Before the water in which the solvent in gas is absorbed is discharged from a treating tank 14 and sent to a freezing apparatus, initial ice C1 in which the solvent is hardly contained is formed on a cooled surface with fresh water. When the water containing the solvent is introduced on the initial ice C1, the solvent is not frozen but water is frozen to form ice of nearly pure water due to the difference of the freezing point. Because the initial ice C1 has a smoothed surface free from ruggedness, the ice plate C2 formed on the surface of the initial ice C1 hardly contains the solvent. The ice is melted to be recycled in the treating tank 14 to reduce the use quantity of the fresh water. The solvent in the unfrozen water separated from the water has high concentration and the water in which the concentration of the solvent is increased, is used for a detergent, fuel or a coating liquid to be applied to a planographic printing plate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラント等より大
気へ排出される、例えば揮発性有機化合物(VOC)ガ
スを回収する気液接触装置及び凍結濃縮分離方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas-liquid contacting device for recovering, for example, volatile organic compound (VOC) gas discharged from a plant or the like into the atmosphere, and a freeze concentration separation method.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6に示すように、プラント等より大気
へ排出されるVOCガスGを吸収処理する散水型気液接
触装置158で使用される水は、処理塔160、16
2、164内において、ガスと接触することで溶剤濃度
が徐々に上昇してくる。この溶剤を吸収した水がそのま
ま処理槽166、168、170へ還流されると、処理
槽全体の水中の溶剤濃度が上昇し、この水を処理塔へ供
給しても、連続的に良好な状態で溶剤を吸収できない
(溶剤の捕集効率が低下する)。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 6, water used in a water spray type gas-liquid contacting device 158 for absorbing and processing VOC gas G discharged from a plant or the like to the atmosphere is supplied to processing towers 160 and 16.
In 2 and 164, the solvent concentration gradually increases due to contact with the gas. When the water that has absorbed the solvent is returned to the processing tanks 166, 168, and 170 as it is, the concentration of the solvent in the water in the entire processing tank increases. Cannot absorb solvent (solvent collection efficiency is reduced).

【0003】このため、溶剤吸収効率を維持するために
は、新鮮水Wを導水管172から処理槽170へ連続的
に給水する必要があり、補給水量の削減を図ることがで
きない。
Therefore, in order to maintain the solvent absorption efficiency, it is necessary to continuously supply fresh water W from the water pipe 172 to the treatment tank 170, and it is not possible to reduce the amount of replenishing water.

【0004】また、散水型気液接触装置158の処理槽
166の排水管174から最終的に排出される水W1が
含有する溶剤の濃度を如何に高濃度とし、蒸留して再利
用するかがランニングコストを削減する上で大きなポイ
ントとなる。
[0004] Further, it is determined how high the concentration of the solvent contained in the water W1 finally discharged from the drain pipe 174 of the treatment tank 166 of the water spray type gas-liquid contacting device 158 is, and how the solvent is distilled and reused. This is a major point in reducing running costs.

【0005】そこで、本出願人は、凍結濃縮分離装置に
よって、溶剤を吸収した水を氷と濃縮された溶剤含有水
とに分離する気液接触装置を提案している(特願200
0−074783参照)。
Accordingly, the present applicant has proposed a gas-liquid contacting device that separates water that has absorbed a solvent into ice and concentrated water containing a solvent by using a freeze-concentrating / separating device (Japanese Patent Application No. 200-131).
0-074783).

【0006】この気液接触装置を使用することで、補給
水量を削減でき、溶剤吸収効率を維持すると共に、最終
的に排出される水が含有する溶剤の濃度を高濃度とする
ことができる。しかし、凍結濃縮分離時に、氷に溶剤が
含有しないようにするためには、もう少し工夫する必要
がある。
By using this gas-liquid contact device, the amount of replenishing water can be reduced, the solvent absorption efficiency can be maintained, and the concentration of the solvent contained in the finally discharged water can be increased. However, it is necessary to devise a little more in order to prevent the solvent from being contained in the ice during the freeze concentration separation.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事実を考
慮して、溶剤を吸収した水を凍結分離する際に、凍結条
件を規定することにより、溶剤が可能な限り含まれない
氷を製氷し、補給水量を削減することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above facts, the present invention regulates freezing conditions when freezing water that has absorbed a solvent, thereby making ice containing as little solvent as possible. And reduce the amount of makeup water.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、ガス発生源からガスが導入される処理塔とこの処理
塔へ水を供給すると共に溶剤を吸収した水が還流する処
理槽とで構成される気液接触ユニットと、前記処理槽か
ら排水され溶剤を含有する水を凍結する凍結手段と、前
記凍結手段で凍結された氷を融解して前記処理槽へ送水
するリサイクル手段と、を備えた気液接触装置におい
て、前記溶剤を含有する水が凍結して付着する前記凍結
手段の冷却面を平滑化したことを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a processing tower into which a gas is introduced from a gas generating source, a processing tank for supplying water to the processing tower and refluxing water having absorbed a solvent. A gas-liquid contact unit composed of, a freezing means for freezing water containing a solvent drained from the processing tank, and a recycling means for melting the ice frozen by the freezing means and sending water to the processing tank, The cooling surface of the freezing means, to which the water containing the solvent freezes and adheres, is smoothed.

【0009】上記構成では、ガス中の溶剤を吸収した水
が、処理槽から排水され凍結手段へ送られる。凍結手段
が溶剤を含有した水を凍結することで、凝固点の違いか
ら溶剤は凍結することなく、水は凍結して純水に近い氷
となる。
In the above configuration, the water having absorbed the solvent in the gas is drained from the treatment tank and sent to the freezing means. When the freezing means freezes the water containing the solvent, the water does not freeze due to the difference in the freezing point, and the water freezes to become ice close to pure water.

【0010】ここで、溶剤を含有する水が凍結して付着
する凍結手段の冷却面は平滑化されているので、表面に
凹凸や亀裂がある冷却面と比較すると、凍結するとき溶
剤が取り込まれ難いので、綺麗な氷が製氷される。そし
て、リサイクル手段が、溶剤を余り含まない氷を融解し
て処理槽へ送水して、再び、処理塔へ導入されたガスと
接触して、ガス中の溶剤を吸収する。このように、綺麗
な氷を溶解し水として再利用することで、処理槽へ補給
する新鮮水の補給水量を削減することができる。
Since the cooling surface of the freezing means to which the water containing the solvent freezes and adheres is smoothed, the solvent is taken in at the time of freezing as compared with the cooling surface having unevenness or cracks on the surface. Because it is difficult, beautiful ice is made. Then, the recycling means melts the ice containing little solvent and sends it to the processing tank, and again contacts the gas introduced into the processing tower to absorb the solvent in the gas. In this way, the amount of fresh water to be supplied to the treatment tank can be reduced by melting and reusing clean ice as water.

【0011】また、水と分離された未凍結水の溶剤の濃
度は、従来の気液接触装置と比較すると、濃縮されて高
くなっており、この高濃度の溶剤を含有する水を洗浄
剤、燃料、平版印刷版に塗布する塗布液として使用する
ことも可能となる。
Further, the concentration of the solvent of the unfrozen water separated from the water is concentrated and higher than that of the conventional gas-liquid contacting device. It can also be used as a fuel and a coating liquid for applying to a lithographic printing plate.

【0012】請求項2に記載の発明は、前記冷却面を平
滑化する手段として、前記凍結手段へ溶剤含有量の少な
い清水を送り、冷却面の表面に初期氷を形成することを
特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, as means for smoothing the cooling surface, clear water having a low solvent content is sent to the freezing means to form initial ice on the surface of the cooling surface. .

【0013】上記構成では、凍結手段へ溶剤含有量の少
ない清水を送ることで、冷却面の表面に凹凸や亀裂のな
い氷が初期氷として形成される。この初期氷の表面に溶
剤を含有する処理水を流すことにより、ほぼ溶剤が取り
込まれない氷が製氷され、効率良く溶剤と水を分離する
ことができる。
In the above configuration, by sending clear water having a low solvent content to the freezing means, ice without irregularities or cracks on the surface of the cooling surface is formed as initial ice. By flowing treated water containing a solvent over the surface of the initial ice, ice that hardly takes in the solvent is made, and the solvent and water can be separated efficiently.

【0014】請求項3に記載の発明は、前記清水に含ま
れる溶剤濃度が500ppm以下であることを特徴とし
ている。
The invention according to claim 3 is characterized in that the concentration of the solvent contained in the fresh water is 500 ppm or less.

【0015】請求項4に記載の発明は、前記冷却面の表
面に初期氷が形成された前記凍結手段へ導入する溶剤を
含有する水の温度を5℃以下としたことを特徴としてい
る。
According to a fourth aspect of the present invention, the temperature of water containing a solvent to be introduced into the freezing means in which initial ice is formed on the surface of the cooling surface is set to 5 ° C. or less.

【0016】上記構成では、凍結手段へ導入される溶剤
を含有する水の温度を5℃以下とすることで、初期氷の
表面を融かして凹凸や亀裂を発生させないので、初期氷
の表面にほとんど溶剤を含有しない氷が製氷される。
In the above configuration, the temperature of the water containing the solvent introduced into the freezing means is set to 5 ° C. or less, so that the surface of the initial ice is melted and irregularities and cracks are not generated. Ice containing almost no solvent is produced.

【0017】請求項5に記載の発明は、溶剤が含まれた
水を凍結装置で凍結して、氷と溶剤濃度が高い濃縮液と
に分離する凍結濃縮分離方法において、前記凍結装置の
冷却面に清水で初期氷を形成し、この初期氷の表面に溶
剤が含まれた水を製氷させることで、氷と濃縮液に分離
することを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a freeze-concentration / separation method in which water containing a solvent is frozen by a freezing device and separated into ice and a concentrated solution having a high solvent concentration. In this method, initial ice is formed with clear water, and water containing a solvent is made on the surface of the initial ice to separate it into ice and a concentrated liquid.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】図1及び図2に示すように、本形態に係る
気液接触装置10では、処理塔12と処理槽14で構成
される気液接触ユニット30を備えている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the gas-liquid contact device 10 according to the present embodiment includes a gas-liquid contact unit 30 composed of a processing tower 12 and a processing tank 14.

【0020】気液接触ユニット30の処理槽14には、
補給管24が接続されている。この補給管24には、ポ
ンプ20が設けられており、ポンプ20を作動させるこ
とで、貯留タンク52から処理水として新鮮な水及び後
述するリサクル水が補給される。また、処理槽14の側
壁に接続された給水管26には送液ポンプ28が設けら
れており処理塔12の頂部へ水が揚水される。処理塔1
2の頂部へ揚水された水は散水装置32によって、下方
へ向けて散水される。
In the processing tank 14 of the gas-liquid contact unit 30,
A supply pipe 24 is connected. The supply pipe 24 is provided with a pump 20. By operating the pump 20, fresh water and recycle water described later are supplied from the storage tank 52 as treated water. A liquid supply pump 28 is provided in a water supply pipe 26 connected to the side wall of the processing tank 14, and water is pumped to the top of the processing tower 12. Processing tower 1
The water pumped to the top of 2 is sprinkled downward by a sprinkler 32.

【0021】一方の処理塔12の外周壁には、プラント
Pから排出された揮発性有機化合物(VOC)ガスが取
り込まれるガス管34が接続されており、連続して処理
塔12内へVOCガスが送られてくる。
A gas pipe 34 for taking in a volatile organic compound (VOC) gas discharged from the plant P is connected to the outer peripheral wall of the processing tower 12, and the VOC gas is continuously introduced into the processing tower 12. Is sent.

【0022】このガス管34から処理塔12へ取り込ま
れたVOCガスは上昇しながら散水装置32で散水され
た水と接触してバッチ処理され、含有する溶剤の濃度が
低下される。そして、水と接触したVOCガスは、処理
塔12の頂部に接続された排気管40を通じて環境に影
響を与えないガスとして大気に放出される。
The VOC gas taken into the processing tower 12 from the gas pipe 34 comes into contact with the water sprinkled by the sprinkler 32 while being raised, and is batch-processed, so that the concentration of the contained solvent is reduced. Then, the VOC gas that has come into contact with water is released to the atmosphere as a gas that does not affect the environment through an exhaust pipe 40 connected to the top of the processing tower 12.

【0023】また、処理槽14には、排水管44が接続
されている。排水管44には、電磁弁78が設けられて
おり、この電磁弁78を操作することで、処理槽14の
水が中間タンク16へ排水される。
A drain pipe 44 is connected to the processing tank 14. The drain pipe 44 is provided with an electromagnetic valve 78. By operating the electromagnetic valve 78, water in the processing tank 14 is drained to the intermediate tank 16.

【0024】そして、処理槽14に補給管24から補給
される水量と処理槽14から排水される水量は、ほぼ同
じとされており、バッチ処理でVOCガスを止めること
なく、溶剤を回収できる構成となっている。
The amount of water supplied to the processing tank 14 from the supply pipe 24 and the amount of water drained from the processing tank 14 are substantially the same, so that the solvent can be recovered without stopping the VOC gas in batch processing. It has become.

【0025】一方、処理槽14には、濃度センサ80が
設けられており、処理槽14の溶剤濃度を検出して、制
御部84へ信号を送る。制御部84は、電磁弁78及び
ポンプ20と接続されており、濃度センサ80の検出結
果に基づき、処理槽14内の水を入れ替えるようになっ
ている。
On the other hand, a concentration sensor 80 is provided in the processing tank 14, detects the solvent concentration in the processing tank 14, and sends a signal to the control unit 84. The control unit 84 is connected to the electromagnetic valve 78 and the pump 20, and replaces water in the processing tank 14 based on the detection result of the concentration sensor 80.

【0026】ここで、濃度センサ80が検出した処理槽
14内の水の溶剤濃度が所定値以上になると、ポンプ2
0を作動させ、補給管24を通じて新鮮な水を処理槽1
4へ送ると共に、電磁弁78を開き排水管44から溶剤
濃度が高い水を排水して、処理槽14の中を新鮮水に置
き換える。
Here, when the concentration of the solvent in the water in the processing tank 14 detected by the concentration sensor 80 exceeds a predetermined value, the pump 2
0, and fresh water is supplied to the treatment tank 1 through the supply pipe 24.
At the same time, the electromagnetic valve 78 is opened, and water having a high solvent concentration is drained from the drain pipe 44 to replace the processing tank 14 with fresh water.

【0027】以上のような操作を繰り返すことにより、
VOCガス中の溶剤を高効率で捕集することができ、ま
た、排水される水の溶剤濃度も高濃度となる。このた
め、次工程の回収効率が上がり、設備コスト及びランニ
ングコストが削減できる。
By repeating the above operation,
The solvent in the VOC gas can be collected with high efficiency, and the solvent concentration of the drained water becomes high. For this reason, the recovery efficiency in the next step is increased, and equipment costs and running costs can be reduced.

【0028】なお、気液接触方式としては、散水方式、
充填方式が知られているが、方式についてば特定されな
い。また、気液接触のユニットの数は、本形態のように
1つに特定されるものでなく、複数あってもよい。
As the gas-liquid contact method, a water spray method,
Although the filling method is known, the method is not specified. The number of gas-liquid contact units is not limited to one as in the present embodiment, but may be plural.

【0029】さらに、処理対象となる揮発性有機化合物
ガス濃度は、100ppm以上が好ましく、1000p
pm以上が効果が顕著に現れる。また、溶剤ガスの種類
として、水との溶解度パラメータの差が19(cal・
cm-31/2以内が好ましく、15(cal・cm-3
1/2以内がより好ましい(溶解度パラメータ:Hild
ebrandの溶解パラメータ)。
Further, the concentration of the volatile organic compound gas to be treated is preferably 100 ppm or more,
At pm or more, the effect appears remarkably. Further, as a type of the solvent gas, a difference in solubility parameter with water is 19 (cal ·
cm −3 ) within 1/2 , preferably 15 (cal · cm −3 )
More preferably within 1/2 (solubility parameter: Hild)
ebrand dissolution parameters).

【0030】さらに、揮発性有機化合物の溶剤は水溶性
であればよく、メチルエチルケトンに限定されず、メタ
ノール、エタノール、及びn−プロパノール等のアルコ
ール類、エチレングリコール等の多価アルコール類、ア
セトン、メチルアセトン、及びシクロヘキサン等のケト
ン類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、及び乳酸エチル等のエステル類でもよい。さらに、
混合溶剤ガスでも処理可能である。
Further, the solvent of the volatile organic compound is not limited to methyl ethyl ketone as long as it is water-soluble. Alcohols such as methanol, ethanol and n-propanol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol, acetone, methyl Ketones such as acetone and cyclohexane, and esters such as methyl formate, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, and ethyl lactate may be used. further,
It can be treated with mixed solvent gas.

【0031】さらに、補給される水の温度は30℃以下
が好ましく、15℃以下がより好ましい。また、補給さ
れる水の溶剤濃度は2000ppm以下が好ましい。さ
らに、本例では、VOCガス中の溶剤を回収する処理水
として水を使用したが、汚泥水や微生物を含む活性汚泥
でも同様な効果を得ることができる。
Further, the temperature of the replenished water is preferably 30 ° C. or lower, more preferably 15 ° C. or lower. The solvent concentration of the replenished water is preferably 2000 ppm or less. Furthermore, in this example, water was used as the treated water for recovering the solvent in the VOC gas, but the same effect can be obtained with activated sludge containing sludge water or microorganisms.

【0032】次に、中間タンク16に貯留された1バッ
チ分の排水をどのようにリサイクル水とするかを説明す
る。
Next, how to use the waste water of one batch stored in the intermediate tank 16 as recycled water will be described.

【0033】電磁切替え弁18には、清水が貯留された
清水タンク90の給水管94が接続されており、電磁切
替え弁18を切り替えることで、清水タンク90から清
水が凍結装置22へ送水され、或は中間タンク16に貯
留された溶剤を含有する水が、凍結装置22へ送水され
る。
A water supply pipe 94 of a fresh water tank 90 in which fresh water is stored is connected to the electromagnetic switching valve 18. By switching the electromagnetic switching valve 18, fresh water is sent from the fresh water tank 90 to the freezing device 22. Alternatively, water containing a solvent stored in the intermediate tank 16 is sent to the freezing device 22.

【0034】凍結装置22は、環状につながった管状の
冷却管36を備えている。この冷却管36には、供給管
38から溶剤を含有する水又は清水が給水される。そし
て、冷却管36内の水は、制御部84で駆動力が制御さ
れた循環ポンプ42によって、設定された流速で冷却面
36A(図3参照)に沿って循環する。
The freezing device 22 includes a tubular cooling pipe 36 connected in a ring shape. Water or fresh water containing a solvent is supplied to the cooling pipe 36 from a supply pipe 38. Then, the water in the cooling pipe 36 is circulated along the cooling surface 36A (see FIG. 3) at the set flow velocity by the circulation pump 42 whose driving force is controlled by the control unit 84.

【0035】冷却管36の鉛直部は、冷媒が循環する冷
却コイル46によって冷却され、図3(A)〜図3
(C)に示すように、冷却面36Aに後述する初期氷C
1と氷板C2が形成される。
The vertical portion of the cooling pipe 36 is cooled by a cooling coil 46 through which a refrigerant circulates, and is shown in FIGS.
As shown in (C), an initial ice C (described later) is formed on the cooling surface 36A.
1 and an ice plate C2 are formed.

【0036】また、冷却管36の下方には、開閉扉48
が設けられており、初期氷C1と氷板C2を取り出せる
ようになっている。なお、冷却管36内の未凍結水は、
排水管50を通じて蒸留器64へ送られる。
An opening / closing door 48 is provided below the cooling pipe 36.
Are provided so that the initial ice C1 and the ice plate C2 can be taken out. The unfrozen water in the cooling pipe 36 is
It is sent to the still 64 through the drain pipe 50.

【0037】一方、凍結装置22から取り出された溶剤
を殆ど含まない初期氷C1と氷板C2は、投入管54を
通じて蓄氷タンク56へ一旦蓄氷され、その後、冷水
(或は氷粒の混じった水)としてポンプ58で冷水管6
2を通じて熱交換器60へ送られる。このように、氷を
蓄氷して冷水として供給することで、熱交換器60へ安
定した冷媒の供給が可能となる。この熱交換器60は、
冷水の冷熱を利用するもので、工場内の空調等に使用さ
れている。
On the other hand, the initial ice C1 and the ice plate C2 containing almost no solvent removed from the freezing device 22 are temporarily stored in the ice storage tank 56 through the input pipe 54, and thereafter, are cooled with cold water (or mixed ice particles). Chilled water pipe 6 with pump 58
2 to the heat exchanger 60. Thus, by storing ice and supplying it as cold water, stable supply of the refrigerant to the heat exchanger 60 becomes possible. This heat exchanger 60 is
It uses the cold heat of cold water, and is used for air conditioning in factories and the like.

【0038】さらに、熱交換器60で熱交換された冷水
(溶剤を殆ど含有しない水)は、リサイクル水として貯
留タンク52へ送られ、処理槽14へ再び送水される。
Further, the cold water (water containing almost no solvent) heat-exchanged in the heat exchanger 60 is sent to the storage tank 52 as recycled water, and sent again to the processing tank 14.

【0039】一方、凍結装置22から排出された高濃度
の溶剤を含有する水は、蒸留器64へ送られる。蒸留器
64は、溶剤と水との沸点の差を利用して気化によって
溶剤と水を分離するもので、蒸留塔66へ高濃度の溶剤
を含有する水が供給口68から投入される。蒸留塔66
内では、蒸気と液とが接触し、低沸成分の溶剤が蒸気の
方に集まり、高沸成分の水が液の方に多く集まる。
On the other hand, the water containing the high-concentration solvent discharged from the freezing device 22 is sent to the still 64. The distillation device 64 separates the solvent and the water by vaporization by utilizing the difference in boiling point between the solvent and the water. Water containing a high concentration of the solvent is supplied to the distillation column 66 from the supply port 68. Distillation tower 66
Inside, the vapor and the liquid come into contact with each other, so that the solvent with a low boiling component collects toward the vapor and the water with a high boiling component collects more toward the liquid.

【0040】これにより、溶剤が蒸発蒸気として排気管
70を通じて凝縮器72へ送られ、凝縮器72で凝縮さ
れることにより、高濃度の溶剤を含む溶液として回収タ
ンク74へ回収される。また、溶剤と分離された水は、
排水口76から排水され、送水ポンプ86を備えた送水
管82を通じて、貯留タンク52へ送られる。
As a result, the solvent is sent to the condenser 72 through the exhaust pipe 70 as vaporized vapor, and is condensed by the condenser 72 to be collected in the collection tank 74 as a solution containing a high-concentration solvent. The water separated from the solvent is
The water is drained from the drain port 76 and sent to the storage tank 52 through a water pipe 82 having a water pump 86.

【0041】ここで、冷凍装置22で溶剤を含む水を凍
結分離して、溶剤を殆ど含まない氷と高濃度の溶剤を含
む水に分離する手順を説明する。
Here, a procedure for freezing and separating water containing a solvent in the refrigeration apparatus 22 to separate ice containing almost no solvent and water containing a high concentration of solvent will be described.

【0042】先ず、中間タンク16から溶剤を含有する
水を冷却管36へ給水する前に、電磁切り替え弁18を
制御部84が操作して、清水タンク90から清水が冷却
管36へ送水される。この清水は不純物(溶剤等)を殆
ど含んでおらず、冷却管36内を循環させることによ
り、図3(A)に示すように、冷却面36Aに2.0m
m以下の初期氷C1が形成される。
First, before supplying water containing a solvent from the intermediate tank 16 to the cooling pipe 36, the control unit 84 operates the electromagnetic switching valve 18, and fresh water is sent from the fresh water tank 90 to the cooling pipe 36. . This clean water contains almost no impurities (solvents, etc.), and is circulated through the cooling pipe 36, so that the cooling surface 36A has a height of 2.0 m as shown in FIG.
m or less of initial ice C1 is formed.

【0043】この初期氷C1は溶剤を殆ど含んでいない
ので、凹凸や亀裂のない表面状態の氷を製氷することが
できる。そして、冷却管36に残った未凍結水は、送水
ポンプ92により循環管96を通じて清水タンク90へ
戻される。なお、清水としては、溶剤濃度が500pp
m以下であれば使用可能であり、300ppm以下であ
ることが好ましい。
Since the initial ice C1 contains almost no solvent, it is possible to produce ice having a surface state free from irregularities and cracks. The unfrozen water remaining in the cooling pipe 36 is returned to the fresh water tank 90 through the circulation pipe 96 by the water supply pump 92. In addition, the solvent concentration of the fresh water is 500 pp
m or less can be used, and preferably 300 ppm or less.

【0044】次に、電磁切り替え弁18が切り替えら
れ、中間タンク16から溶剤を含有する水が冷却管36
へ給水され、図3(B)及び図3(C)に示すように、
初期氷C1の表面に氷板C2が製氷される。ここで、冷
却管36へ送水する溶剤を含有する水の温度は、5℃以
下であることが好ましく、さらには、3℃以下であるこ
とが望ましい。
Next, the electromagnetic switching valve 18 is switched, and the water containing the solvent is supplied from the intermediate tank 16 to the cooling pipe 36.
Water, and as shown in FIGS. 3 (B) and 3 (C),
An ice plate C2 is made on the surface of the initial ice C1. Here, the temperature of the water containing the solvent to be sent to the cooling pipe 36 is preferably 5 ° C. or lower, more preferably 3 ° C. or lower.

【0045】これは、溶剤を含有する水の温度が高い
と、初期氷C1の表面を融かして凹凸や亀裂を発生させ
ることになり、溶剤が取り込まれた氷板C2が製氷され
る恐れがあるからである。なお、溶剤を含有する水の温
度を制御する手段として、中間タンク16に冷却コイル
を取付けることが考えられる。
This is because if the temperature of the water containing the solvent is high, the surface of the initial ice C1 is melted to generate irregularities and cracks, and the ice plate C2 into which the solvent is taken may be iced. Because there is. As a means for controlling the temperature of the water containing the solvent, it is conceivable to attach a cooling coil to the intermediate tank 16.

【0046】このように、氷板C2が製氷される冷却面
を初期氷により平滑化することで、表面に凹凸や亀裂が
ある場合と比較すると、ほとんど溶剤を含まない氷が製
氷される。なお、冷却面を平滑化する手段としては、冷
却面36Aをコーティング仕上げすることも考えられ
る。
As described above, the cooling surface on which the ice plate C2 is made is smoothed with the initial ice, so that ice containing almost no solvent is made as compared with the case where the surface has irregularities or cracks. As means for smoothing the cooling surface, coating the cooling surface 36A may be considered.

【0047】次に、本発明の効果を実証するために、図
4に示す表のように、異なる条件で製氷テストを行って
見た。なお、本発明はこのテストに限定されるものでは
なく、本発明の趣旨を逸脱しない限り本発明に包含され
る。
Next, in order to demonstrate the effect of the present invention, an ice making test was performed under different conditions as shown in the table of FIG. Note that the present invention is not limited to this test, and is included in the present invention without departing from the gist of the present invention.

【0048】プラントPから排出されたメタノールを含
有する排ガスから、気液接触装置としてスクラバーにて
メタノールを回収した。
From the exhaust gas containing methanol discharged from the plant P, methanol was collected by a scrubber as a gas-liquid contact device.

【0049】メタノールを含有する排ガスを1.0Nm
3/minの割合で処理搭12に導入した。排ガス中の
メタノールの含有量は3000ppmであった。処理槽
14から汲み上げた水を処理塔12の散水装置32から
散水し、排ガスを導入してバッチ処理したところ、処理
槽14から排出された水中のメタノール濃度は1000
0ppmとなった。
The exhaust gas containing methanol is 1.0 Nm
It was introduced into the processing tower 12 at a rate of 3 / min. The content of methanol in the exhaust gas was 3000 ppm. The water pumped up from the treatment tank 14 was sprinkled from the sprinkler 32 of the treatment tower 12, and was subjected to batch treatment by introducing exhaust gas. The methanol concentration in the water discharged from the treatment tank 14 was 1000
It became 0 ppm.

【0050】この溶剤としてのメタノール濃度1000
0ppmの水を凍結装置22に導入し、凍結濃縮処理し
た。このとき、初期氷の厚み、初期氷をつくる清水の溶
剤濃度、初期氷面へ導入する溶剤を含有する水の温度の
条件を変えて、氷内に含まれる溶剤濃度、未凍結の濃縮
液の溶剤濃度を測定して見た。
The methanol concentration of this solvent is 1000
0 ppm of water was introduced into the freezing device 22 and subjected to freeze concentration treatment. At this time, the conditions of the thickness of the initial ice, the solvent concentration of the fresh water for forming the initial ice, and the temperature of the water containing the solvent to be introduced to the initial ice surface are changed to change the concentration of the solvent contained in the ice and the concentration of the unfrozen concentrate. The solvent concentration was measured and viewed.

【0051】条件5と条件6を比較すると判るように、
初期氷C1に含まれる溶剤濃度が大きいと、製氷された
氷全体の溶剤含有濃度は405ppmとなり、初期氷C
1に溶剤が含まれない場合の270ppmに比較して大
きい。しかし、未凍結濃縮液の溶剤濃度は、29200
ppmと29500ppmであり、余り大きな相違がな
い。
As can be seen by comparing condition 5 and condition 6,
If the concentration of the solvent contained in the initial ice C1 is high, the concentration of the solvent in the whole ice produced becomes 405 ppm,
1 is larger than 270 ppm when no solvent is contained. However, the solvent concentration of the unfrozen concentrate is 29200
ppm and 29500 ppm, and there is no significant difference.

【0052】また、条件1〜条件3を比較すると判るよ
うに、初期氷C1の表面へ導入する溶剤を含む水の温度
を、23℃、10℃、5℃と変えることにより、初期氷
C1の表面状態が変化することに起因して、氷全体の溶
剤含有濃度は473ppm、434.5ppm、290
ppmと変化する。しかし、未凍結濃縮液の溶剤濃度
は、29000ppm、29100ppm、29400
ppmと、余り大きな相違がない。
Further, as can be seen by comparing the conditions 1 to 3, the temperature of the water containing the solvent introduced to the surface of the initial ice C1 was changed to 23 ° C., 10 ° C., and 5 ° C. Due to the change in the surface state, the solvent content of the whole ice was 473 ppm, 434.5 ppm, 290 ppm.
ppm. However, the solvent concentration of the unfrozen concentrate was 29000 ppm, 29100 ppm, 29400 ppm.
ppm, there is not much difference.

【0053】以上のように、製氷された氷板を融解して
処理槽14へリターンして排ガスを処理した後、図5の
表に示すように、排気管40から大気に放出されるガス
を採取して、揮発性有機化合物(VOC)ガスの除去率
を求めて見た。
As described above, after the ice-making plate is melted and returned to the treatment tank 14 to treat the exhaust gas, as shown in the table of FIG. Samples were taken to determine the removal rate of volatile organic compound (VOC) gas.

【0054】この結果、氷内溶剤含有濃度が、100p
pm、300ppm、800ppm、2000ppmの
順に、VOCガスの除去率が、93%、90%、85
%、70%という結果が得られ、VOCガスを吸収する
処理液として再利用できることが判る。
As a result, when the concentration of the solvent in ice was 100 p
pm, 300 ppm, 800 ppm, 2000 ppm, the removal rate of VOC gas was 93%, 90%, 85%
% And 70%, indicating that the solution can be reused as a processing solution absorbing VOC gas.

【0055】なお、凍結装置22へ送る水に含まれる溶
剤成分の濃度としては、1000ppmが好ましく、さ
らに、5000ppm以上が溶剤を高濃度に濃縮するた
めには好ましい。
The concentration of the solvent component contained in the water sent to the freezing device 22 is preferably 1000 ppm, and more preferably 5000 ppm or more in order to concentrate the solvent to a high concentration.

【0056】さらに、凍結装置22で濃縮した水をその
まま洗浄液や重油等の代替燃料として再利用してもよ
い。また、この濃縮水を蒸留器64へ送る場合、水中に
含まれる溶剤成分濃度として、1%以上が好ましく、1
0%以上がより好ましい。
Further, the water concentrated by the freezing device 22 may be reused as it is as an alternative fuel such as a washing liquid or heavy oil. When this concentrated water is sent to the still 64, the concentration of the solvent component contained in the water is preferably 1% or more, preferably 1% or more.
0% or more is more preferable.

【0057】さらに、熱交換された冷水は、活性汚泥等
を用いた廃水処理設備で分解処理してもよく、含有する
溶剤成分の濃度によっては(COD値、BOD値が許容
値内であれば)、そのまま放流しても構わない。
Further, the cold water that has undergone heat exchange may be decomposed in a wastewater treatment facility using activated sludge or the like, and depending on the concentration of the contained solvent component (if the COD value and the BOD value are within the allowable values, ), It may be discharged as it is.

【0058】また、水スクラバーは、スプレー式、充填
式等、その方式は限定されず、水にガスを吸収させる方
式はスクラバーでなくてもよい。さらに、凍結装置22
で濃縮された溶剤を含有する水を溶剤と水に分離する手
段として、蒸留器64を使用したが、膜分離装置、遠心
分離装置等を用いても良い。
The type of the water scrubber, such as a spray type or a filling type, is not limited, and the type of absorbing gas into water may not be a scrubber. Further, the freezing device 22
The distiller 64 is used as a means for separating the water containing the solvent concentrated in the above into the solvent and the water, but a membrane separator, a centrifuge, or the like may be used.

【0059】ここで、VOCガスを発生する製造工程の
1つであるPS版の製造工程を簡単に説明しておく。
Here, the production process of the PS plate, which is one of the production processes for generating VOC gas, will be briefly described.

【0060】PS版は、99.5重量%アルミニウム
に、銅を0.01重量%、チタンを0.03重量%、鉄
を0.3重量%、ケイ素を0.1重量%含有するJIS
―A1050アルミニウム材の厚み0.30mm圧延板
を、400メッシュのパミストン(共立窯業製)の20
重量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6,10−
ナイロン)とを用いてその表面を砂目立てした後、よく
水で洗浄した。
The PS plate is a JIS containing 99.5% by weight of aluminum, 0.01% by weight of copper, 0.03% by weight of titanium, 0.3% by weight of iron, and 0.1% by weight of silicon.
-A1050 rolled sheet of aluminum material with a thickness of 0.30 mm was converted to a 400 mesh
Weight percent aqueous suspension and a rotating nylon brush (6,10-
(Nylon) and the surface was grained, and then washed well with water.

【0061】これを15重量%水酸化ナトリウム水溶液
(アルミニウム4.5重量%含有)に浸漬してアルミニ
ウムの溶解量が5g/m2 になるようにエッチングした
後、流水で水洗した。さらに、1重量%硝酸で中和し、
次に0.7重量%硝酸水溶液(アルミニウム0.5重量
%含有)中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧
9.3ボルトの矩形波交番波形電圧(電流比r=0.9
0、特公昭58−5796号公報実施例に記載されてい
る電流波形)を用いて160クーロン/dm2の陽極時
電気量で電解粗面化処理を行った。水洗後、35℃の1
0重量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミ
ニウム溶解量が1g/m2 になるようにエッチングした
後、水洗した。次に、50℃30重量%の硫酸水溶液中
に浸漬し、デスマットした後、水洗した。
This was immersed in a 15% by weight aqueous solution of sodium hydroxide (containing 4.5% by weight of aluminum), etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m 2 , and washed with running water. Furthermore, neutralize with 1% by weight nitric acid,
Next, in a 0.7% by weight nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum), a rectangular wave alternating waveform voltage (current ratio r = 0.9) having an anode voltage of 10.5 volts and a cathode voltage of 9.3 volts was used.
0, a current waveform described in Examples of JP-B-58-5796), and an electrolytic surface roughening treatment was carried out at an anode electricity amount of 160 coulomb / dm 2 . After washing with water,
It was immersed in a 0% by weight aqueous sodium hydroxide solution, etched so that the amount of aluminum dissolved was 1 g / m 2 , and washed with water. Next, it was immersed in a 50% by weight aqueous solution of 30% by weight sulfuric acid, desmutted, and washed with water.

【0062】さらに、35℃の硫酸20重量%水溶液
(アルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。すなわち電
流密度13A/dm2 で電解を行い、電解時間の調節に
より陽極酸化皮膜重量2.7g/m2 とした。ジアゾ樹
脂と結合剤を用いたネガ型感光性平版印刷版を作成する
為に、この支持体を水洗後、70℃のケイ酸ナトリウム
の3重量%水溶液に30秒間浸漬処理し、水洗乾燥し
た。
Further, a porous anodic oxide film forming treatment was carried out in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by weight of aluminum) at 35 ° C. using a direct current. That is, electrolysis was performed at a current density of 13 A / dm 2 , and the anodic oxide film weight was adjusted to 2.7 g / m 2 by adjusting the electrolysis time. To prepare a negative photosensitive lithographic printing plate using a diazo resin and a binder, the support was washed with water, immersed in a 3% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried.

【0063】以上のようにして得られたアルミニウム支
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.30で、JIS B00601に規定する中
心線平均粗さRaは0.58μmであった。
[0063] The thus-obtained aluminum support, reflection density was measured with Macbeth RD920 reflection densitometer 0.30, the center line average roughness R a as defined in JIS B00601 is 0.58μm met Was.

【0064】次に上記支持体にメチルメタクリレート/
エチルアクリレート/2−アクリルアミド−2−メチル
プロパンスルホン酸ナトリウム共重合体(平均分子量約
6万)(モル比50/30/20)の1.0重量%水溶
液をロールコーターにより乾燥後の塗布量が0.05g
/m2 になるように塗布した。
Next, methyl methacrylate /
A 1.0% by weight aqueous solution of ethyl acrylate / 2-acrylamide-2-methylpropane sodium sulfonate copolymer (average molecular weight: about 60,000) (molar ratio: 50/30/20) was dried by a roll coater to obtain an applied amount of 1.0% by weight. 0.05g
/ M 2 .

【0065】さらに、塗布液として下記感光液−1を、
本形態で用いたバーコーターを用いて塗布し、110℃
で45秒間乾燥させた。乾燥塗布量は2.0g/m2
あった。 感光液−1 ジアゾ樹脂−1 0.50g 結合剤−1 5.00g スチライトHS−2(大同工業(株)製) 0.10g ビクトリアピュアブルーBOH 0.15g トリクレジルホスフェート 0.50g ジピコリン酸 0.20g FC−430(3M社製界面活性剤) 0.05g 溶剤 1−メトキシ−2−プロパノール 25.00g 乳酸メチル 12.00g メタノール 30.00g メチルエチルケトン 30.00g 水 3.00g 上記のジアゾ樹脂―1は、次ぎのようにして得たもので
ある。まず、4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩(純度
99.5%)29.4gを25℃にて、96%硫酸70
mlに徐々に添加し、かつ20分間攪拌した。これに、
パラホルムアルデヒド(純度92%)3.26gを約1
0分かけて徐々に添加し、該混合物を30℃にて、4時
間攪拌し、縮合反応を進行させた。なお、上記ジアゾ化
合物とホルムアルデヒドとの縮合モル比は1:1であ
る。この反応生成物を攪拌しつつ氷水2リットル中に注
ぎ込み、塩化ナトリウム130gを溶解した冷濃厚水溶
液で処理した。この沈澱物を吸引濾過により回収し、部
分的に乾燥した固体を1リットルの水に溶解し、濾過
し、氷で冷却し、かつ、ヘキサフルオロリン酸カリ23
gを溶解した水溶液で処理した。最後に、この沈澱物を
濾過して回収し、かつ風乾して、ジアゾ樹脂−1gを得
た。
Further, the following photosensitive solution-1 was used as a coating solution.
Apply using the bar coater used in the present embodiment, 110 ° C
For 45 seconds. The dry coating amount was 2.0 g / m 2 . Photosensitive solution-1 Diazo resin-1 0.50 g Binder-1 5.00 g Stylite HS-2 (manufactured by Daido Kogyo Co., Ltd.) 0.10 g Victoria Pure Blue BOH 0.15 g Tricresyl phosphate 0.50 g Dipicolinic acid 0 .20 g FC-430 (Surfactant manufactured by 3M) 0.05 g Solvent 1-methoxy-2-propanol 25.00 g Methyl lactate 12.00 g Methanol 30.00 g Methyl ethyl ketone 30.00 g Water 3.00 g The above diazo resin-1 Is obtained as follows. First, 29.4 g of 4-diazodiphenylamine sulfate (99.5% purity) was added at 25 ° C. to 96% sulfuric acid 70%.
ml and stirred for 20 minutes. to this,
3.26 g of paraformaldehyde (92% purity)
The mixture was gradually added over 0 minutes, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 4 hours to allow the condensation reaction to proceed. The condensation molar ratio between the diazo compound and formaldehyde is 1: 1. The reaction product was poured into 2 liters of ice water with stirring, and treated with a cold concentrated aqueous solution in which 130 g of sodium chloride was dissolved. The precipitate is collected by suction filtration, the partially dried solid is dissolved in one liter of water, filtered, cooled on ice and washed with potassium hexafluorophosphate 23.
g was dissolved in an aqueous solution. Finally, the precipitate was collected by filtration and air-dried to obtain 1 g of diazo resin.

【0066】結合剤−1は、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート/アクリロニトリル/メチルメタクリレート
/メタクリル酸共重合体(重量比50/20/26/
4、平均分子量75,000、酸含量0.4meq/
g)の水不溶性、アルカリ水可溶性の皮膜形成性高分子
である。
Binder-1 was 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylonitrile / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (weight ratio 50/20/26 /
4, average molecular weight 75,000, acid content 0.4 meq /
g) is a water-insoluble, alkaline water-soluble film-forming polymer.

【0067】スチライトHS−2(大同工業(株)製)
は、結合剤よりも感脂性の高い高分子化合物であって、
スチレン/マレイン酸モノ−4−メチル−2−ペンチル
エステル=50/50(モル比)の共重合体であり、平
均分子量は約100,000であった。このようにして
作成した感光層の表面に下記の様にしてマット層形成用
樹脂液を吹き付けてマット層を設けた。
Stylite HS-2 (manufactured by Daido Industry Co., Ltd.)
Is a polymer compound having a higher oil sensitivity than the binder,
It was a copolymer of styrene / mono-4-methyl-2-pentyl maleate = 50/50 (molar ratio), and the average molecular weight was about 100,000. A mat layer-forming resin solution was sprayed on the surface of the thus prepared photosensitive layer as described below to form a mat layer.

【0068】マット層形成用樹脂液としてメチルメタク
リレート/エチルアクリレート/2−アクリルアミド−
2−メチルプロパンスルホン酸(仕込重量比65:2
0:15)共重合体の一部をナトリウム塩とした12%
水溶液を準備し、回転霧化静電塗装機で霧化頭回転数2
5,000rpm、樹脂液の送液量は4.0ml/分、
霧化頭への印加電圧は−90kV、塗布時の周囲温度は
25℃、相対湿度は50%とし、塗布液2.5秒で塗布
面に蒸気を吹き付けて湿潤させ、ついで湿潤した3秒後
に温度60℃、湿度10%の温風を5秒間吹き付けて乾
燥させた。マットの高さは平均約6μm、大きさは平均
約30μm、塗布量は150mg/m2 であった。
As a resin solution for forming a mat layer, methyl methacrylate / ethyl acrylate / 2-acrylamide-
2-methylpropanesulfonic acid (65: 2 weight ratio charged)
0:15) 12% of a part of the copolymer as a sodium salt
Prepare an aqueous solution and use a rotary atomizing electrostatic coating machine to atomize the head 2 times
5,000 rpm, the feeding amount of the resin liquid is 4.0 ml / min,
The voltage applied to the atomizing head was -90 kV, the ambient temperature during coating was 25 ° C, the relative humidity was 50%, and the coating surface was sprayed with steam for 2.5 seconds to wet the coating surface. Hot air with a temperature of 60 ° C. and a humidity of 10% was blown for 5 seconds to dry. The average height of the mat was about 6 μm, the average size was about 30 μm, and the application amount was 150 mg / m 2 .

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明は上記構成としたので、補給水量
を削減し、溶剤吸収効率を維持すると共に最終的に排出
される処理液の溶剤濃度を高濃度として、再利用するこ
とができる。また、冷熱を利用することで、省エネを図
ることができる。
Since the present invention has the above-described structure, the amount of replenishing water can be reduced, the solvent absorption efficiency can be maintained, and the solvent concentration of the treatment liquid finally discharged can be increased and reused. In addition, energy can be saved by using cold heat.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本形態に係る気液接触装置を示す斜視図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view showing a gas-liquid contact device according to the present embodiment.

【図2】本形態に係る気液接触装置を示すブロック図で
ある。
FIG. 2 is a block diagram showing a gas-liquid contact device according to the embodiment.

【図3】氷板が製氷される様子を表した模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a state in which an ice plate is made with ice.

【図4】初期氷の溶剤含有量、凍結装置へ導入する処理
水の温度の条件を変え、氷に含有される溶剤濃度と濃縮
液の溶剤濃度を求めたテスト結果である。
FIG. 4 shows test results obtained by changing the solvent content of the initial ice and the temperature of the treated water introduced into the freezing apparatus, and obtaining the concentration of the solvent contained in the ice and the concentration of the solvent in the concentrated solution.

【図5】リサイクル水を用いてガスを回収したときの回
収除去率を示す表である。
FIG. 5 is a table showing a recovery rate when a gas is recovered using recycled water.

【図6】従来の気液接触装置を示す側面図である。FIG. 6 is a side view showing a conventional gas-liquid contact device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 処理塔 14 処理槽 22 凍結装置(凍結手段) 36 冷却管 36A 冷却面 42 循環ポンプ(凍結手段) 56 蓄氷タンク(リサイクル手段) 60 熱交換器(リサイクル手段、熱交換手段) 90 清水タンク C1 初期氷 C2 氷板 Reference Signs List 12 processing tower 14 processing tank 22 freezing device (freezing means) 36 cooling pipe 36A cooling surface 42 circulation pump (freezing means) 56 ice storage tank (recycling means) 60 heat exchanger (recycling means, heat exchange means) 90 fresh water tank C1 Initial ice C2 ice plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01D 53/77 B01D 53/34 ZAB C02F 1/22 Fターム(参考) 4D002 AA40 AB03 AC10 BA02 BA13 CA01 CA07 DA35 EA02 EA08 EA14 FA01 GA01 GA02 GA03 GB02 GB05 GB08 GB11 GB20 HA08 4D020 AA08 BA23 BC01 BC10 CB25 CC10 CC12 DA02 DA03 DB06 DB20 4D037 AA15 AB11 BA21 4G075 AA03 AA37 AA45 BB02 BB04 BD13 CA02 CA03 CA51 DA02 EB01 EC01 EC06 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B01D 53/77 B01D 53/34 ZAB C02F 1/22 F-term (Reference) 4D002 AA40 AB03 AC10 BA02 BA13 CA01 CA07 DA35 EA02 EA08 EA14 FA01 GA01 GA02 GA03 GB02 GB05 GB08 GB11 GB20 HA08 4D020 AA08 BA23 BC01 BC10 CB25 CC10 CC12 DA02 DA03 DB06 DB20 4D037 AA15 AB11 BA21 4G075 AA03 AA37 AA45 BB02 BB04 BD13 CA02 CA03 CA01 EC02

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガス発生源からガスが導入される処理塔
とこの処理塔へ水を供給すると共に溶剤を吸収した水が
還流する処理槽とで構成される気液接触ユニットと、前
記処理槽から排水され溶剤を含有する水を凍結する凍結
手段と、前記凍結手段で凍結された氷を融解して前記処
理槽へ送水するリサイクル手段と、を備えた気液接触装
置において、 前記溶剤を含有する水が凍結して付着する前記凍結手段
の冷却面を平滑化したことを特徴とする気液接触装置。
A gas-liquid contact unit comprising: a processing tower into which gas is introduced from a gas generating source; a processing tank for supplying water to the processing tower and refluxing water having absorbed a solvent; A gas-liquid contact device comprising: a freezing unit that freezes water containing a solvent drained from the container; and a recycling unit that melts the ice frozen by the freezing unit and sends the water to the processing tank. A cooling surface of the freezing means on which the freezing water is frozen and adhered, is smoothed.
【請求項2】 前記冷却面を平滑化する手段として、前
記凍結手段へ溶剤含有量の少ない清水を送り、冷却面の
表面に初期氷を形成することを特徴とする請求項1に記
載の気液接触装置。
2. The air according to claim 1, wherein the means for smoothing the cooling surface includes sending clear water having a low solvent content to the freezing means, and forming initial ice on the surface of the cooling surface. Liquid contact device.
【請求項3】 前記清水に含まれる溶剤濃度が500p
pm以下であることを特徴とする請求項2に記載の気液
接触装置。
3. The solvent concentration in the fresh water is 500 p.
3. The gas-liquid contact device according to claim 2, wherein the pressure is not more than pm.
【請求項4】 前記冷却面の表面に初期氷が形成された
前記凍結手段へ導入する溶剤を含有する水の温度を5℃
以下としたことを特徴とする請求項2又は請求項3に記
載の気液接触装置。
4. The temperature of water containing a solvent to be introduced into the freezing means, in which initial ice is formed on the surface of the cooling surface, is set at 5 ° C.
The gas-liquid contact device according to claim 2 or 3, wherein:
【請求項5】 溶剤が含まれた水を凍結装置で凍結し
て、氷と溶剤濃度が高い濃縮液とに分離する凍結濃縮分
離方法において、 前記凍結装置の冷却面に清水で初期氷を形成し、この初
期氷の表面に溶剤が含まれた水を製氷させることで、氷
と濃縮液に分離することを特徴とする凍結濃縮分離方
法。
5. A freeze-concentration / separation method for freezing water containing a solvent with a freezing device to separate ice and a concentrated solution having a high solvent concentration, wherein an initial ice is formed on the cooling surface of the freezing device with fresh water. A freeze-concentration / separation method characterized in that water containing a solvent is made into ice on the surface of the initial ice to separate it into ice and a concentrate.
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