JP2002336680A - Vaporizing tank - Google Patents
Vaporizing tankInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、液体試料
を気化するための気化タンクに関する。The present invention relates to a vaporization tank for vaporizing a liquid sample, for example.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の気化タンクとして、例えば、図３
に示すように、液体試料Ｓを導入する導入口（図示せ
ず）と、この導入口から導入された液体試料Ｓを貯留す
る本体１と、この本体１において前記液体試料Ｓを気化
したのち、下流側へ導出するための導出口（図示せず）
とを備え、前記本体１の上面、下面および側面にヒータ
２，３，４が設けられているものがある。2. Description of the Related Art As a conventional vaporization tank, for example, FIG.
As shown in FIG. 1, an inlet (not shown) for introducing the liquid sample S, a main body 1 for storing the liquid sample S introduced from the inlet, and after the liquid sample S is vaporized in the main body 1, Outlet for taking out to the downstream side (not shown)
In some cases, heaters 2, 3, and 4 are provided on the upper, lower, and side surfaces of the main body 1.
【０００３】上記のような構成からなる従来の気化タン
クＴでは、前記ヒータ２，３，４の加熱によって、本体
１内の液体試料Ｓを気化し、その液面高さが一定レベル
Ｌ以下となった場合には、新たに液体試料Ｓを導入する
ようにしていた。なお、２ａ，３ａ，４ａは、それぞれ
ヒータ２，３，４の温度を測定するための温度センサで
ある。In the conventional vaporization tank T having the above-described structure, the liquid sample S in the main body 1 is vaporized by heating the heaters 2, 3, and 4 so that the liquid level is reduced to a certain level L or less. When this happens, a new liquid sample S is introduced. 2a, 3a and 4a are temperature sensors for measuring the temperatures of the heaters 2, 3 and 4, respectively.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
構成からなる従来の気化タンクＴでは、前記本体１内に
おける液体試料Ｓが気化したときに、蒸発潜熱がその液
面付近から奪われることになり、液面付近の温度が低下
することとなっていた。そして、前記本体１の上面、下
面および側面に設けられていたヒータ２，３，４から、
上記のように温度が低下した液面付近に熱が伝達される
までに時間がかかるため、本体１内の液体試料Ｓの液面
付近の温度が低下している時間が長くなってしまい、前
記液面付近からの液体試料Ｓの蒸発が促進されず、本体
１内における液体試料Ｓの気化量が制限されるという問
題があった。However, in the conventional vaporization tank T having the above-described structure, when the liquid sample S in the main body 1 is vaporized, latent heat of evaporation is taken from the vicinity of the liquid surface. , And the temperature near the liquid surface was to be reduced. Then, from the heaters 2, 3, and 4 provided on the upper surface, the lower surface, and the side surface of the main body 1,
As described above, it takes time until heat is transferred to the vicinity of the liquid surface where the temperature has decreased, so that the time during which the temperature near the liquid surface of the liquid sample S in the main body 1 has decreased increases. There is a problem that the evaporation of the liquid sample S from the vicinity of the liquid surface is not promoted, and the amount of vaporization of the liquid sample S in the main body 1 is limited.
【０００５】この発明は上述の事柄に留意してなされた
もので、その目的は、液体試料の気化量の増大を図るこ
とが可能な気化タンクを提供することである。[0005] The present invention has been made in consideration of the above-mentioned matters, and an object of the present invention is to provide a vaporization tank capable of increasing a vaporization amount of a liquid sample.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の気化タンクは、液状の試料を貯留する本体
と、この本体内の液状の試料を加熱して気化するための
加熱手段と、前記本体に液状の試料を導入するための導
入口と、前記本体において気化した試料を導出するため
の導出口とを備えた気化タンクであって、前記加熱手段
を前記本体内に貯留された液状の試料の液面付近に設け
た（請求項１）。In order to achieve the above object, a vaporization tank according to the present invention comprises a main body for storing a liquid sample, and a heating means for heating the liquid sample in the main body to vaporize the liquid sample. A vaporization tank provided with an inlet for introducing a liquid sample into the main body, and an outlet for deriving the vaporized sample in the main body, wherein the heating means is stored in the main body. The liquid sample was provided in the vicinity of the liquid surface (claim 1).
【０００７】また、液状の試料を貯留する本体と、この
本体の上下両面と側面とに設けられ、本体内の液状の試
料を加熱して気化する加熱手段と、前記本体に液状の試
料を導入するための導入口と、前記本体において気化し
た試料を導出するための導出口とを備えた気化タンクで
あって、前記加熱手段が前記本体内に貯留された液状の
試料の液面付近にも設けられているとしてもよい（請求
項２）。Also, a main body for storing a liquid sample, heating means provided on the upper and lower surfaces and side surfaces of the main body for heating and vaporizing the liquid sample in the main body, and introducing the liquid sample into the main body And an outlet for extracting the sample vaporized in the main body, wherein the heating means is also provided near the liquid surface of the liquid sample stored in the main body. It may be provided (claim 2).
【０００８】上記の構成により、液体試料の気化量の増
大を図ることが可能な気化タンクを提供することが可能
となる。[0008] With the above configuration, it is possible to provide a vaporization tank capable of increasing the vaporization amount of the liquid sample.
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施例を、図を
参照しながら説明する。図１（Ａ）は、本発明の一実施
例に係る気化タンクＤの構成を概略的に示す側面図、図
１（Ｂ）は、前記気化タンクＤの構成を概略的に示す説
明図であり、より詳しくは、後述する加熱手段２を除い
た状態で示す気化タンクＤの平面図である。本発明の気
化タンクＤは、液状の試料（液体試料）Ｓを貯留する本
体１と、この本体１の上下両面と側面とに設けられた加
熱手段２，３，４と、前記本体１内に貯留された液状の
試料Ｓの液面付近に設けられた加熱手段５，５…と、前
記加熱手段３，４，５の温度を測定するための温度セン
サ３ａ，４ａ，５ａと、前記本体１内の試料Ｓの温度を
計測するための温度センサ６と、前記本体１に液状の試
料Ｓを導入するための導入口（図示せず）と、前記本体
１において気化した試料Ｓを導出するための導出口（図
示せず）とを備えている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A is a side view schematically illustrating a configuration of a vaporization tank D according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is an explanatory diagram schematically illustrating a configuration of the vaporization tank D. More specifically, it is a plan view of a vaporization tank D shown in a state where a heating means 2 described later is removed. The vaporization tank D of the present invention comprises a main body 1 for storing a liquid sample (liquid sample) S, heating means 2, 3, 4 provided on both upper and lower surfaces and side surfaces of the main body 1. Are provided near the liquid surface of the stored liquid sample S, temperature sensors 3a, 4a, 5a for measuring the temperatures of the heating means 3, 4, 5; A temperature sensor 6 for measuring the temperature of the sample S therein, an inlet (not shown) for introducing a liquid sample S into the main body 1, and a sample S vaporized in the main body 1 (Not shown).
【００１０】前記試料Ｓは、例えば、ＳｉＣｌ4 であ
る。なお、試料Ｓは、気化タンクＤに液状として供給で
きるものであればよい。The sample S is, for example, SiCl 4 . The sample S may be anything that can be supplied to the vaporization tank D as a liquid.
【００１１】前記本体１は、中空のほぼ円柱（円筒）形
状をしており、その外径寸法は、例えば、上面および底
面が、直径５０８ｍｍの円形状をしており、高さが１５
５ｍｍとなっている。また、本体１には、後述するカー
トリッジヒータである加熱手段５，５…を差し込むため
に加工された穴（図示せず）を加熱手段５の数と同数
（例えば、６つ）だけ有している。The main body 1 has a hollow substantially columnar (cylindrical) shape, and its outer diameter is, for example, a circular shape having a diameter of 508 mm on the top and bottom surfaces and a height of 15 mm.
5 mm. The main body 1 has the same number (for example, six) of holes (not shown) formed for inserting heating means 5, 5... I have.
【００１２】そして、本体１内に貯留される試料Ｓは、
その液面が、本体１の底面から適宜の高さの位置に設け
られた下限レベルラインＬよりも常に上側にあり、前記
下限レベルラインＬより一定距離だけ上方の位置に設け
られた上限レベルラインＨよりも常に下側にあるように
調整される。Then, the sample S stored in the main body 1 is
The liquid level is always above the lower limit level line L provided at an appropriate height from the bottom surface of the main body 1 and the upper limit level line provided at a position above the lower limit level line L by a certain distance. It is adjusted so that it is always below H.
【００１３】前記加熱手段２，３，４，５はそれぞれ、
前記本体１内の液状の試料Ｓを加熱して気化するための
ものであり、例えば、ヒータからなる。この実施例で
は、前記本体１の上面に設けられた加熱手段２と本体１
の側面に設けられた加熱手段４の容量は、合わせて８７
０Ｗであり、前記本体１の下面に設けられた加熱手段３
の容量は、３２０Ｗであり、前記加熱手段５，５…の容
量は、合わせて２２００Ｗであり、全容量は３３９０Ｗ
である。そして、試料Ｓの液面付近に設けられる加熱手
段５の容量は、全容量の約６５％となっている。The heating means 2, 3, 4, 5 are respectively
This is for heating and evaporating the liquid sample S in the main body 1 and includes, for example, a heater. In this embodiment, a heating means 2 provided on the upper surface of
Of the heating means 4 provided on the side surface of
0 W, and heating means 3 provided on the lower surface of the main body 1
Is 320 W, the capacity of the heating means 5, 5... Is 2200 W in total, and the total capacity is 3390 W.
It is. The capacity of the heating means 5 provided near the liquid surface of the sample S is about 65% of the total capacity.
【００１４】前記加熱手段５は、ほぼ円筒形状で長細い
カートリッジヒータから構成されており、前記本体１
に、例えば、６つ差し込まれる。各加熱手段５は、前記
本体１に水平に差し込まれた状態で、かつ他の加熱手段
５と平行となるように設置され、その本体１の底面から
の高さＲは、前記下限レベルラインＬよりも低くなるよ
うに設定されている。なお、前記加熱手段５は、常にそ
の全体が試料Ｓの液面下にあるように配置してもよい
が、例えば、試料Ｓの液面が前記下限レベルラインＬ付
近にある場合などに、加熱手段５の一部が試料Ｓの液面
より上側に出るように配置してあってもよい。The heating means 5 is composed of a substantially cylindrical and thin cartridge heater.
For example, six are inserted. Each heating means 5 is installed so as to be horizontally inserted in the main body 1 and parallel to the other heating means 5, and the height R from the bottom surface of the main body 1 is equal to the lower limit level line L. It is set to be lower than The heating means 5 may be arranged so that the whole thereof is always below the liquid level of the sample S. However, for example, when the liquid level of the sample S is near the lower limit level line L, the heating means 5 is heated. The means 5 may be arranged so that part of the means 5 comes out above the liquid level of the sample S.
【００１５】前記温度センサ５ａは、複数ある加熱手段
５，５…に対して個別に設けられていてもよいが、一つ
の加熱手段５のみに対して設けられていてもよい。な
お、前記温度センサ５ａは、例えば、加熱手段５の中央
部を計測するように配置される。The temperature sensor 5a may be provided individually for a plurality of heating means 5, 5,..., Or may be provided for only one heating means 5. The temperature sensor 5a is arranged to measure, for example, a central portion of the heating unit 5.
【００１６】前記温度センサ３ａ，４ａ，５ａによって
計測される各加熱手段３，４，５の温度は、加熱手段
３，４，５の温度を調整する図示しない加熱手段温調器
に出力される。The temperatures of the heating means 3, 4 and 5 measured by the temperature sensors 3a, 4a and 5a are outputted to a heating means temperature controller (not shown) for adjusting the temperatures of the heating means 3, 4 and 5. .
【００１７】前記温度センサ６は、前記本体１内の試料
Ｓの液面付近の温度を検知できるように本体１内に配置
される。前記温度センサ６の配置場所は、例えば、前記
加熱手段５の高さＲよりも４．５ｍｍ下の位置とするこ
とができる。本実施例では、前記本体１の上面に温度セ
ンサ６挿入用の竪穴（図示せず）を設けてあり、この竪
穴から前記温度センサ６が挿入された状態で保持され
る。そして、温度センサ６が検知した試料Ｓの液面付近
の温度は、前記加熱手段温調器に電気的に直列に接続さ
れて用いられる液温度制御用温調器（図示せず）に出力
される。前記温度センサ６の配置場所としては、前記試
料Ｓの液面より常に下側となる位置が好ましく、例え
ば、前記加熱手段５よりも少し下側とすればよい。The temperature sensor 6 is disposed in the main body 1 so as to detect the temperature near the liquid level of the sample S in the main body 1. The location of the temperature sensor 6 can be, for example, a position 4.5 mm below the height R of the heating means 5. In this embodiment, a vertical hole (not shown) for inserting the temperature sensor 6 is provided on the upper surface of the main body 1, and the temperature sensor 6 is held in a state inserted from the vertical hole. The temperature near the liquid surface of the sample S detected by the temperature sensor 6 is output to a temperature controller for liquid temperature control (not shown) which is electrically connected to the heater temperature controller and used in series. You. The location of the temperature sensor 6 is preferably a position that is always lower than the liquid level of the sample S, and may be, for example, slightly lower than the heating unit 5.
【００１８】なお、前記液温度制御用温調器は、本体１
内の試料Ｓの温度を調整するためのものであり、前記温
度センサ６から送られてきた試料Ｓの温度に基づいて、
前記加熱手段温調器に対して加熱手段３，４，５の温度
を上昇・低下させる指令を発するものである。また、前
記加熱手段温調器は、前記液温度制御用温調器からの指
令に応じて、加熱手段３，４，５の温度を上昇・低下さ
せるかあるいは維持する制御を行うのである。The temperature controller for controlling the liquid temperature comprises a main body 1
The temperature of the sample S sent from the temperature sensor 6 for adjusting the temperature of the sample S in the
It issues commands to the heating means temperature controller to raise and lower the temperatures of the heating means 3, 4, and 5. Further, the heating means temperature controller performs control for raising / lowering or maintaining the temperature of the heating means 3, 4, 5 in accordance with a command from the liquid temperature controlling temperature controller.
【００１９】上記の構成からなる気化タンクＤでは、ま
ず、試料Ｓをその液面が本体１内の前記下限レベルライ
ンＬよりも上側で上限レベルラインＨよりも下側となる
ように本体１内に注入した状態とし、続いて、前記加熱
手段２，３，４，５によって試料Ｓを加熱するのであ
り、加熱されて気化した試料Ｓは、前記導入口から下流
側へと送られることになる。In the vaporization tank D having the above structure, first, the sample S is placed in the main body 1 so that the liquid level of the sample S is higher than the lower limit level line L in the main body 1 and lower than the upper limit level line H. Then, the sample S is heated by the heating means 2, 3, 4, and 5, and the heated and vaporized sample S is sent from the inlet to the downstream side. .
【００２０】そして、上記の構成からなる気化タンクＤ
では、試料Ｓの液面付近に加熱手段５を設けてあること
から、試料Ｓの蒸発時に、試料Ｓの液面付近から蒸発潜
熱が奪われても、前記加熱手段５からすぐに熱を供給す
ることができ、液面付近の温度が低下する時間を非常に
短くすることが可能となる。そのため、前記液面付近か
らの試料Ｓの蒸発を促進でき、本体１内における液体試
料Ｓの気化量の増大を図ることが可能となるのである。Then, the vaporizing tank D having the above configuration
Since the heating means 5 is provided in the vicinity of the liquid surface of the sample S, even when latent heat of evaporation is taken from the vicinity of the liquid surface of the sample S during the evaporation of the sample S, heat is supplied from the heating means 5 immediately. And the time during which the temperature in the vicinity of the liquid level decreases can be extremely shortened. Therefore, the evaporation of the sample S from the vicinity of the liquid surface can be promoted, and the amount of vaporization of the liquid sample S in the main body 1 can be increased.
【００２１】ここで、上記の構成からなる気化タンクＤ
の性能を調べるために、従来の気化タンクとの比較実験
を行った。図２は、上記比較実験に用いた気化システム
７の構成を概略的に示す説明図である。前記気化システ
ム７は、上流側から順に、試料Ｓを貯留しておく貯留槽
８と、予熱器９と、本発明の気化タンクＤまたは従来の
気化タンクＴと、二つの恒温槽１０，１０とを有してい
る。Here, the vaporizing tank D having the above configuration
In order to investigate the performance of this, a comparative experiment with a conventional vaporization tank was performed. FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of the vaporization system 7 used in the above-mentioned comparative experiment. The vaporization system 7 includes, in order from the upstream side, a storage tank 8 for storing the sample S, a preheater 9, a vaporization tank D of the present invention or a conventional vaporization tank T, and two thermostat tanks 10, 10. have.
【００２２】なお、この実験に使用した従来の気化タン
クＴは、図３に示すものであり、本体１の上面に設けら
れたヒータ２の容量は８００Ｗ、下面に設けられたヒー
タ３の容量は１７００Ｗ、側面に設けられたヒータ４の
容量は１０００Ｗで、全容量は３５００Ｗであり、下面
に設けられたヒータ３の容量が重視されているものであ
る。The conventional vaporization tank T used in this experiment is shown in FIG. 3, in which the capacity of the heater 2 provided on the upper surface of the main body 1 is 800 W, and the capacity of the heater 3 provided on the lower surface is 800 W. 1700 W, the capacity of the heater 4 provided on the side surface is 1000 W, and the total capacity is 3500 W, and the capacity of the heater 3 provided on the lower surface is emphasized.
【００２３】前記貯留槽８から気化タンクＤ（Ｔ）への
試料Ｓの供給は、例えば、窒素などの不活性ガス１１を
貯留槽８内へと送り、貯留槽８内の圧力を高めることに
よって行われる。The sample S is supplied from the storage tank 8 to the vaporization tank D (T) by, for example, sending an inert gas 11 such as nitrogen into the storage tank 8 and increasing the pressure in the storage tank 8. Done.
【００２４】前記二つの恒温槽１０，１０は、それぞれ
二つのマスフローコントローラ１１，１１を備えてお
り、各マスフローコントローラ１１のフルスケールは、
２５ＳＬＭ（０℃、Ｌ／ｍｉｎ：０℃において１分間あ
たりに流れる体積（Ｌ））である。そのため、計４つあ
るマスフローコントローラ１１のフルスケールは１００
ＳＬＭとなり、気化システム７において、それ以上の気
体を発生させることはできない。また、前記各恒温槽１
０の下流側の圧力は、例えば、大気圧である。Each of the two thermostats 10, 10 has two mass flow controllers 11, 11, and the full scale of each mass flow controller 11 is as follows.
25 SLM (0 ° C., L / min: volume (L) flowing per minute at 0 ° C.). Therefore, the full scale of the four mass flow controllers 11 is 100
It becomes an SLM, and no more gas can be generated in the vaporization system 7. In addition, each of the thermostats 1
The pressure downstream of 0 is, for example, atmospheric pressure.
【００２５】なお、各気化タンクＤ，Ｔの設定温度は、
それぞれ７５℃である。The set temperature of each of the vaporization tanks D and T is as follows:
Each is 75 ° C.
【００２６】上記の構成からなる気化システム７によ
り、本発明の気化タンクＤと従来の気化タンクＴとで同
様の実験を行った結果、従来の気化タンクＴを用いた場
合には、試料Ｓの最大発生（気化）量は２５ＳＬＭであ
り、そのときの気化タンクＴ内の圧力は、９ｋＰａであ
った。The same experiment was conducted with the vaporization tank D of the present invention and the conventional vaporization tank T using the vaporization system 7 having the above configuration. As a result, when the conventional vaporization tank T was used, the sample S The maximum generation (vaporization) amount was 25 SLM, and the pressure in the vaporization tank T at that time was 9 kPa.
【００２７】一方、本発明の気化タンクＤを用いた場合
には、試料Ｓの最大発生（気化）量は１００ＳＬＭであ
り、そのときの気化タンクＤ内の圧力は、６４〜７０ｋ
Ｐａであった。なお、前記タンク内の圧力から、本発明
の気化タンクＤによれば、１００ＳＬＭ以上の気化発生
量を得られると考えられるが、今回の実験で用いた気化
システム７では、最大１００ＳＬＭまでしか気化発生を
行えないないため、上述したことを確認することができ
なかった。On the other hand, when the vaporization tank D of the present invention is used, the maximum generation (vaporization) amount of the sample S is 100 SLM, and the pressure in the vaporization tank D at that time is 64 to 70 k.
Pa. Although it is considered that the vaporization tank D of the present invention can obtain a vaporization amount of 100 SLM or more from the pressure in the tank, the vaporization system 7 used in the present experiment can only vaporize up to 100 SLM. Cannot be performed, so that the above-mentioned items could not be confirmed.
【００２８】上記比較実験から、本発明の気化タンクＤ
は、少なくとも従来の４倍の気化量を得ることが可能で
あることがわかる。From the above comparative experiment, it was found that the vaporization tank D of the present invention
Shows that it is possible to obtain a vaporization amount at least four times that of the conventional method.
【００２９】そして、上記気化タンクＤは、従来の気化
タンクＴと、そのヒータ容量およびタンク寸法をほぼ同
じにして製作することができるため、その大型化を回避
しつつ、大流量仕様の装置とすることができ、ユーティ
リティの省力化にも貢献することができる。The vaporization tank D can be manufactured with the same heater capacity and tank dimensions as the conventional vaporization tank T, so that it is possible to avoid an increase in the size of the vaporization tank T and to use a device with a large flow rate specification. It can also contribute to labor saving of utilities.
【００３０】また、同一の気化発生量で比較すると、本
発明の気化タンクＤのランニングコストは、従来の気化
タンクＴよりも低くなり、ひいてはコストダウンを図る
ことも可能となる。Also, when the same amount of vaporization is compared, the running cost of the vaporization tank D of the present invention is lower than that of the conventional vaporization tank T, and the cost can be reduced.
【００３１】なお、上記の構成からなる気化タンクＤで
は、加熱手段３，４，５に対してのみ温度センサ３ａ，
４ａ，５ａを設けているが、このような構成に限るもの
ではなく、例えば、前記加熱手段２に対しても温度セン
サを設けるようにしてもよい。In the vaporizing tank D having the above configuration, the temperature sensors 3a,
Although 4 a and 5 a are provided, the present invention is not limited to such a configuration. For example, a temperature sensor may be provided for the heating unit 2.
【００３２】[0032]
【発明の効果】上記の構成からなる本発明によれば、液
体試料の気化量の増大を図ることが可能な気化タンクを
提供することができる。According to the present invention having the above configuration, it is possible to provide a vaporization tank capable of increasing the vaporization amount of a liquid sample.
【図１】（Ａ）は、本発明の一実施例に係る気化タンク
の構成を概略的に示す説明図、（Ｂ）は、上記実施例の
構成を概略的に示す説明図である。FIG. 1A is an explanatory diagram schematically showing a configuration of a vaporization tank according to one embodiment of the present invention, and FIG. 1B is an explanatory diagram schematically showing a configuration of the above embodiment.
【図２】上記気化タンクを用いた気化システムの構成を
概略的に示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing a configuration of a vaporization system using the vaporization tank.
【図３】従来の気化タンクの構成を概略的に示す説明図
である。FIG. 3 is an explanatory view schematically showing a configuration of a conventional vaporization tank.
１…本体、２，３，４，５…加熱手段、Ｄ…気化タン
ク、Ｓ…試料。1 ... body, 2, 3, 4, 5 ... heating means, D ... vaporization tank, S ... sample.
Claims (2)
内の液状の試料を加熱して気化するための加熱手段と、
前記本体に液状の試料を導入するための導入口と、前記
本体において気化した試料を導出するための導出口とを
備えた気化タンクであって、前記加熱手段を前記本体内
に貯留された液状の試料の液面付近に設けたことを特徴
とする気化タンク。1. A main body for storing a liquid sample, heating means for heating and vaporizing the liquid sample in the main body,
An inlet for introducing a liquid sample into the main body, and a vaporization tank provided with an outlet for extracting a vaporized sample in the main body, wherein the heating means includes a liquid stored in the main body. A vaporization tank provided near the liquid level of the sample.
の上下両面と側面とに設けられ、本体内の液状の試料を
加熱して気化する加熱手段と、前記本体に液状の試料を
導入するための導入口と、前記本体において気化した試
料を導出するための導出口とを備えた気化タンクであっ
て、前記加熱手段が前記本体内に貯留された液状の試料
の液面付近にも設けられていることを特徴とする気化タ
ンク。2. A main body for storing a liquid sample, heating means provided on both upper and lower surfaces and side surfaces of the main body for heating and evaporating the liquid sample in the main body, and introducing the liquid sample into the main body. And an outlet for extracting the sample vaporized in the main body, wherein the heating means is also provided near the liquid surface of the liquid sample stored in the main body. A vaporization tank characterized by being provided.
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002336680A true JP2002336680A (en) | 2002-11-26 |
| JP5156159B2 JP5156159B2 (en) | 2013-03-06 |
Family
ID=18992190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001146558A Expired - Lifetime JP5156159B2 (en) | 2001-05-16 | 2001-05-16 | Vaporization tank |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5156159B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012020227A (en) * | 2010-07-14 | 2012-02-02 | Horiba Stec Co Ltd | Liquid sample heating vaporizer |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4883074A (en) * | 1972-02-09 | 1973-11-06 | ||
| WO1994006529A1 (en) * | 1992-09-21 | 1994-03-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Liquid gasification apparatus |
-
2001
- 2001-05-16 JP JP2001146558A patent/JP5156159B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4883074A (en) * | 1972-02-09 | 1973-11-06 | ||
| WO1994006529A1 (en) * | 1992-09-21 | 1994-03-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Liquid gasification apparatus |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012020227A (en) * | 2010-07-14 | 2012-02-02 | Horiba Stec Co Ltd | Liquid sample heating vaporizer |
| US8661919B2 (en) | 2010-07-14 | 2014-03-04 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Liquid sample heating vaporizer |
| KR101822658B1 (en) * | 2010-07-14 | 2018-01-26 | 가부시키가이샤 호리바 에스텍 | Liquid sample heating vaporizer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5156159B2 (en) | 2013-03-06 |
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| JPH0450895Y2 (en) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070420 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20100217 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110823 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111118 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20111128 |
|
| A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20120203 |
|
| A521 | Written amendment |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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