JP2002331532A - Microlens forming method - Google Patents

Microlens forming method

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JP2002331532A
JP2002331532A JP2001141431A JP2001141431A JP2002331532A JP 2002331532 A JP2002331532 A JP 2002331532A JP 2001141431 A JP2001141431 A JP 2001141431A JP 2001141431 A JP2001141431 A JP 2001141431A JP 2002331532 A JP2002331532 A JP 2002331532A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microlens forming method capable of simply performing the alignment of the optical axis of an optical device (an optical element, an optical part or the like) with that of a microlens at a low cost. SOLUTION: A photomask (1) having a microlens pattern for forming the microlens and an alignment mark pattern is used, and the alignment mark (5) of the microlens is aligned with the alignment mark (4) of the optical element by setting the alignment mark of the optical device having the optical element (3) to the light emitting or receiving center of the optical element to align the optical axis of the microlens with that of the optical device. A film (9) for a lens marker, to which the microlens pattern having an alignment mark (8) at the center thereof is transferred, is formed on a substrate (12), and a liquid resin for the microlens is injected on the film for the lens marker to form a liquid microlens which is, in turn, irradiated with UV rays to be cured to form the microlens.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光学装置のマイクロ
レンズ製造技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for manufacturing a microlens of an optical device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は、特開2000−180605号
公報(特願平10−358956号)に記載された従来
のマイクロレンズ製造方法の一例を示す。この従来の方
法は、液状の紫外線(UV光)硬化樹脂を、インクジェ
ットヘッド13によリ、レンズ用液状樹脂14として基
板12上に射出し、表面張力により球状化させたところ
を、UV光照射15により硬化させて、マイクロレンズ
21を形成するものである。ピエゾ駆動素子などを用い
て、液状の紫外線(UV光)硬化樹脂の射出量を正確に
制御することができ、再現性と制御性の高いマイクロレ
ンズアレイを作製することが可能である。また、任意の
基板12上にダイレクトにレンズを形成することができ
るため、半導体レーザや、受光素子、光導波路などの光
部品にマイクロレンズを一体化することが容易である。
滴下された液状樹脂が基板となす角、すなわち接触角
は、液状樹脂と基板の表面張力の関係に大きく依存す
る。液状樹脂と基板の表面張力の関係は、樹脂の粘度、
樹脂と基板のそれぞれの温度、基板の表面形状などによ
って決定されるが、それらの条件が同一であれば接触角
は一意的に決定されるため、マイクロレンズの製造方法
として適用することは可能である。マイクロレンズのレ
ンズ特性を表わすパラメータとしては、焦点距離、F
数、レンズ直径(開口径)などが挙げられる。これらの
レンズパラメータにおいて、F数は、樹脂の接触角と樹
脂の屈折率とから容易に導くことができる。すなわち、
所定の接触角を形成する樹脂(屈折率は既知)と基板の
組み合わせを用意すれば、所望のF数をもつマイクロレ
ンズを作製することができる。また、レンズ直径に関し
ては、接触角が射出量に因らず一定であることから、射
出量のみで制御することができる。
2. Description of the Related Art FIG. 6 shows an example of a conventional microlens manufacturing method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-180605 (Japanese Patent Application No. 10-358956). In this conventional method, a liquid ultraviolet (UV) curable resin is injected onto a substrate 12 by an inkjet head 13 as a liquid resin 14 for a lens, and is spheroidized by surface tension. 15 to form the microlenses 21. Using a piezo drive element or the like, the injection amount of the liquid ultraviolet (UV light) curable resin can be accurately controlled, and a microlens array with high reproducibility and controllability can be manufactured. Further, since a lens can be formed directly on an arbitrary substrate 12, it is easy to integrate a microlens into an optical component such as a semiconductor laser, a light receiving element, and an optical waveguide.
The angle between the dropped liquid resin and the substrate, that is, the contact angle, largely depends on the relationship between the liquid resin and the surface tension of the substrate. The relationship between the liquid resin and the surface tension of the substrate is the viscosity of the resin,
It is determined by the temperature of the resin and the substrate, the surface shape of the substrate, etc.If the conditions are the same, the contact angle is uniquely determined, so it can be applied as a method of manufacturing microlenses. is there. The parameters representing the lens characteristics of the microlens include the focal length, F
Number, lens diameter (opening diameter) and the like. In these lens parameters, the F number can be easily derived from the contact angle of the resin and the refractive index of the resin. That is,
If a combination of a resin (having a known refractive index) and a substrate that forms a predetermined contact angle is prepared, a microlens having a desired F-number can be manufactured. Further, regarding the lens diameter, since the contact angle is constant regardless of the emission amount, it can be controlled only by the emission amount.

【0003】上記従来技術においては、さまざまなレン
ズ特性を持つマイクロレンズを簡便に作製することが可
能である。しかしながら、この従来技術はマイクロレン
ズを一つずつ作製する方式であり、インクジェットヘッ
ドをマルチノズル化することにより、マイクロレンズア
レイを一括して作製することも可能であるが、ターゲッ
ト位置と射出ヘッドのアライメント精度は、装置のステ
ージ駆動精度および観察系の分解能などに大きく依存す
る。つまり、マイクロレンズの形成位置確度を高めるた
めには、装置の高精度化をはかる必要がある。装置の高
精度化は、装置の高価格化を意味しており、マイクロレ
ンズの製造コストを増加させることになる。したがっ
て、マイクロレンズを低コストで製造するためには、マ
イクロレンズの形成位置確度が装置精度に影響されない
製造方法とすることが必要となる。
In the above prior art, microlenses having various lens characteristics can be easily manufactured. However, this prior art is a method of manufacturing micro lenses one by one, and it is possible to collectively manufacture a micro lens array by forming a multi-nozzle ink jet head. The alignment accuracy greatly depends on the stage driving accuracy of the apparatus, the resolution of the observation system, and the like. That is, in order to increase the accuracy of the formation position of the microlens, it is necessary to increase the precision of the apparatus. Increasing the precision of the device means increasing the price of the device, which increases the manufacturing cost of the microlens. Therefore, in order to manufacture the microlens at low cost, it is necessary to provide a manufacturing method in which the accuracy of the formation position of the microlens is not affected by the accuracy of the device.

【0004】図7に、上記マイクロレンズの形成位置確
度が装置精度に影響されない製造方法として提案された
マイクロレンズの製造方法の一例を示す〔例えば、特開
昭62−83337号公報(特願昭60−220375
号)〕。これは、基板12上に設けた感光性樹脂23を
フォトマスク22を用い、露光6、現像してパターニン
グにより、基板12上のマイクロレンズを形成すべき部
分に、感光性樹脂23よりなる円盤状の透明樹脂(以
下、凸型レンズマーカ用膜と呼ぶ)24を形成する方法
である。この凸型レンズマーカである円盤状の透明樹脂
24は、マイクロレンズパタンを有する上記フォトマス
ク22を用いたフォトリソグラフィー技術によって作製
されるため、凸型レンズマーカ用膜24の形状、配列ピ
ッチの正確性、および再現性は共に高い。
FIG. 7 shows an example of a manufacturing method of a microlens proposed as a manufacturing method in which the accuracy of the formation position of the microlens is not affected by the accuracy of the apparatus [for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-83337 (Japanese Patent Application No. 60-220375
issue)〕. This is because a photosensitive resin 23 provided on the substrate 12 is exposed to light using a photomask 22, developed, and patterned to form a disc-shaped portion of the photosensitive resin 23 on a portion of the substrate 12 where a microlens is to be formed. (Hereinafter referred to as a convex lens marker film) 24. Since the disc-shaped transparent resin 24 serving as the convex lens marker is manufactured by photolithography using the photomask 22 having a microlens pattern, the shape and the arrangement pitch of the convex lens marker film 24 can be accurately determined. Both sex and reproducibility are high.

【0005】このような凸型レンズマーカ用膜24がタ
ーゲット基板上に形成されている場合には、液状UV光
硬化樹脂25の液滴の射出位置は、上記凸型レンズマー
カ用膜24上であればよいので、位置精度は大幅に緩和
される。凸型レンズマーカ用膜24上に射出された液滴
は、凸型レンズマーカ用膜24上を濡れ広がるが、その
周縁部で広がりは止まり、おのずと球形状を形成する。
凸型レンズマーカ用膜24が円形であるために、レンズ
中心はレンズマーカの中心と正確に一致し、さらには、
マイクロレンズ26の直径は凸型レンズマーカ用膜24
の径によって正確に保持される。
When such a convex lens marker film 24 is formed on a target substrate, the ejection position of the droplet of the liquid UV light curable resin 25 is set on the convex lens marker film 24. Since it is enough, the positional accuracy is greatly reduced. The liquid droplets ejected onto the convex lens marker film 24 wet and spread on the convex lens marker film 24, but stop spreading at the peripheral portion, and naturally form a spherical shape.
Since the convex lens marker film 24 is circular, the center of the lens exactly matches the center of the lens marker.
The diameter of the micro lens 26 is the convex lens marker film 24.
Is accurately retained by the diameter of

【0006】ここで、フォトマスク22のアライメント
は、通常、マスクに形成しておいたアライメントマーク
を用いて行われる。このアライメントマークは、マスク
のマイクロレンズパタン以外の部分に形成されるが、こ
れを夕ーゲット面に設けられたアライメントマークとし
てアライメントされる。ターゲット面に設けられるアラ
イメントマークパタンとしては、配線層に形成された微
細パターンであることが多いが、光素子などのチップ部
品や光導波路などの光部品(まとめて光部品と呼ぶ)上
にアライメントマークパタンが作製されることもある。
Here, the alignment of the photomask 22 is usually performed by using an alignment mark formed on the mask. This alignment mark is formed on a portion other than the microlens pattern of the mask, and is aligned as an alignment mark provided on the target surface. The alignment mark pattern provided on the target surface is often a fine pattern formed on the wiring layer, but is aligned on chip components such as optical elements and optical components such as optical waveguides (collectively referred to as optical components). A mark pattern may be produced.

【0007】光部品が搭載された配線層上にアライメン
トマークが形成されている場合には、光部品の搭載精度
を高めなければ、光部品とマイクロレンズとの光軸はず
れることになる。したがって、光軸を合わせるために
は、高精度の光部品の実装技術が必要となり、実装コス
トの増加を招いてしまうことになる。また、光部品にア
ライメントマークを形成する場合には、フォトマスク2
2側のアライメントマークと一致させるためには、光部
品のサイズがマイクロレンズのサイズよりも十分大きく
なければならない。アライメントマークをマイクロレン
ズ内に設けることもできるが、光透過部分にマークパタ
ーンを形成することは、透過光に対して反射・散乱・減
衰などの影響をもたらすために、好ましくない。
When an alignment mark is formed on a wiring layer on which an optical component is mounted, unless the mounting accuracy of the optical component is improved, the optical axes of the optical component and the microlens will be shifted. Therefore, in order to align the optical axes, a high-precision optical component mounting technique is required, which leads to an increase in mounting cost. When forming an alignment mark on an optical component, the photomask 2
In order to match the alignment marks on the two sides, the size of the optical component must be sufficiently larger than the size of the microlens. Although an alignment mark can be provided in the microlens, it is not preferable to form a mark pattern in a light transmitting portion because the transmitted light has effects such as reflection, scattering, and attenuation.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のマイク
ロレンズの製造方法において、紫外線硬化樹脂を滴下す
る位置確度は装置精度に依存するため、高精度なマイク
ロレンズの形成を行うためには、装置の高精度化を図ら
なければならず、装置の高コスト化、ひいてはマイクロ
レンズの製造コストの増加を招いていた。また、液状樹
脂の滴下位置の精度を緩和するために、あらかじめ夕ー
ゲット基板上に円盤状のレンズマーカを形成しておく手
法が提案されているが、レンズマーカと光部品(光学装
置)とのアライメントマークの形成について幾つかの課
題があった。例えば、正確に光部品を搭載するための高
価な搭載装置が必要であったり、光部品の表面にアライ
メントマークを形成しておかねばならないことであった
り、アライメントマークを形成するためには光部品がマ
イクロレンズよりも大きいことが必要であったり、アラ
イメントマークをマイクロレンズ内に設けると光透過特
性に影響を及ぼしレンズ効果が劣化するなどの問題があ
った。
In the above-described conventional method for manufacturing a microlens, the positional accuracy of dropping the ultraviolet curable resin depends on the precision of the apparatus. It is necessary to improve the precision of the device, which results in an increase in the cost of the device and an increase in the manufacturing cost of the microlens. In addition, in order to ease the accuracy of the drop position of the liquid resin, a method of forming a disk-shaped lens marker on a sunset substrate in advance has been proposed. There have been several problems with the formation of alignment marks. For example, an expensive mounting device for accurately mounting an optical component is required, an alignment mark must be formed on the surface of the optical component, or an optical component is required to form an alignment mark. Is required to be larger than the microlens, and when the alignment mark is provided in the microlens, the light transmission characteristics are affected and the lens effect is deteriorated.

【0009】本発明の目的は、上記従来技術の問題を解
決して、光学装置(光素子、光部品等)とマイクロレン
ズとの光軸合わせを、簡易に低コストでアライメントす
ることができるマイクロレンズ形成方法を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to provide a micro-lens which can easily and inexpensively align an optical axis of an optical device (optical element, optical component, etc.) with a micro-lens. An object of the present invention is to provide a lens forming method.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は特許請求の範囲に記載のような構成とする
ものである。すなわち、光信号光が透過する基板を介し
て光信号が光素子に入出力する光学装置(光素子、光部
品等)の上記基板表面にマイクロレンズを形成する方法
であって、上記マイクロレンズを形成する部分を規定す
るマイクロレンズパタンと、該パタンの内部に形成され
たアライメントマークパタンとを有するフォトマスクを
用い、他方、光学装置のアライメントマークを、上記光
素子の発光または受光中心とするか、もしくは光素子上
に別に形成したアライメントマークを設け、上記フォト
マスクのアライメントマークと、上記光学装置のアライ
メントマークとを位置合わせすることにより、上記フォ
トマスクと上記光学装置の位置を合わせ、上記マイクロ
レンズを形成する基板上に、上記マイクロレンズ材料と
屈折率の等しい感光性材料膜を形成する工程と、上記感
光性材料膜上に、上記フォトマスクを用い露光、および
現像することにより、中心にアライメントマークを有す
るマイクロレンズパタンを転写したレンズマーカ用膜を
形成する工程と、上記レンズマーカ用膜のマイクロレン
ズパタン上に、レンズ用液状樹脂を射出して、液状のマ
イクロレンズを形成する工程と、UV光を照射して、上
記液状のマイクロレンズを硬化させてマイクロレンズを
形成する工程とを少なくとも含むマイクロレンズ形成方
法とするものである。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present invention is configured as described in the claims. That is, a method of forming a microlens on the substrate surface of an optical device (optical element, optical component, etc.) for inputting / outputting an optical signal to / from an optical element through a substrate through which optical signal light passes, A photomask having a microlens pattern that defines a portion to be formed and an alignment mark pattern formed inside the pattern is used, while the alignment mark of the optical device is used as the light emission or light reception center of the optical element. Alternatively, by providing an alignment mark separately formed on the optical element and aligning the alignment mark of the photomask with the alignment mark of the optical device, the photomask and the optical device are aligned with each other, On a substrate on which a lens is formed, a photosensitive material film having a refractive index equal to that of the microlens material is formed. Forming a lens marker film on the photosensitive material film by transferring a microlens pattern having an alignment mark at the center by exposing and developing using the photomask; and A step of injecting a liquid resin for a lens onto the microlens pattern of the marker film to form a liquid microlens, and irradiating UV light to cure the liquid microlens to form a microlens And a method of forming a microlens including at least steps of:

【0011】このような請求項1に記載の工程でマイク
ロレンズを作製すると、光学装置(光素子あるいは光部
品等)とマイクロレンズとの光軸合わせが、従来に比べ
て格段に容易となり、位置精度の高いマイクロレンズを
低コストで形成することが可能となる。
When the microlens is manufactured by the process according to the first aspect, alignment of the optical axis between the optical device (optical element or optical component, etc.) and the microlens becomes much easier as compared with the related art. A highly accurate microlens can be formed at low cost.

【0012】また、請求項2に記載のように、光信号光
が透過する基板を介して光信号が光素子に入出力する光
学装置の上記基板表面にマイクロレンズを形成する方法
であって、上記マイクロレンズを形成する部分を規定す
るマイクロレンズパタンと、該パタンの内部に形成され
たアライメントマークパタンとを有するフォトマスクを
用い、他方、光学装置のアライメントマークを、上記光
素子の発光または受光中心とするか、もしくは光素子上
に別に形成したアライメントマークを設け、上記フォト
マスクのアライメントマークと、上記光学装置のアライ
メントマークとを位置合わせすることにより、上記フォ
トマスクと上記光学装置の位置を合わせ、上記マイクロ
レンズを形成する基板上に、感光性材料膜を形成する工
程と、上記基板上に形成した感光性材料膜に、上記フォ
トマスクを用いて、上記マイクロレンズを形成する部分
を規定するマイクロレンズパタンと、該パタンの内部に
形成したアライメントマークパタンとを転写する工程
と、上記感光性材料膜を過現像して、該感光性材料膜に
転写された上記アライメントマークを消去し、上記マイ
クロレンズを形成する部分を残したレンズマーカ用膜を
形成する工程と、上記マイクロレンズを形成する部分
に、レンズ用液状樹脂を射出し、液状のマイクロレンズ
を形成する工程と、UV光を照射して、上記液状のマイ
クロレンズを硬化させてマイクロレンズを形成する工程
とを少なくとも含むマイクロレンズ形成方法とするもの
である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of forming a microlens on a surface of an optical device for inputting / outputting an optical signal to / from an optical element through a substrate through which an optical signal light passes. A photomask having a microlens pattern defining a portion for forming the microlens and an alignment mark pattern formed inside the pattern is used. On the other hand, the alignment mark of the optical device is emitted or received by the optical element. The center or the alignment mark formed separately on the optical element is provided, and the alignment mark of the photomask is aligned with the alignment mark of the optical device, so that the positions of the photomask and the optical device are adjusted. Forming a photosensitive material film on a substrate on which the microlenses are formed; Using the photomask, transferring a microlens pattern defining a portion where the microlens is to be formed and an alignment mark pattern formed inside the pattern to the formed photosensitive material film; Over-developing the material film to erase the alignment mark transferred to the photosensitive material film and forming a lens marker film leaving a portion where the micro lens is formed; and forming the micro lens. A microlens formation including at least a step of injecting a liquid resin for a lens to form a liquid microlens and a step of irradiating UV light to cure the liquid microlens to form a microlens. Method.

【0013】このように請求項2に記載の過現像を行
い、アライメントマークを消去し、マイクロレンズを形
成する部分を残す工程を用いることにより、レンズマー
カとマイクロレンズの樹脂材料の屈折率を整合させる必
要がなくなり、マイクロレンズ用樹脂材料の選択の幅が
広くなる効果がある。
[0013] By using the step of performing the over-development, erasing the alignment mark and leaving the portion where the microlens is formed as described above, the refractive index of the resin material of the lens marker and the refractive index of the microlens are matched. This eliminates the necessity to perform the process, and has the effect of widening the range of selection of the resin material for the microlens.

【0014】また、請求項3に記載のように、請求項2
において、上記感光性材料膜を過現像して、アライメン
トマークを消去し、マイクロレンズを形成する部分を残
したレンズマーカ用膜は、上記基板表面上の上記マイク
ロレンズを形成する部分に近接して、該マイクロレンズ
を形成する部分の外側の領域に形成され、かつ上記光信
号光の波長に対して吸収性を有する材料よりなるマイク
ロレンズ形成方法とするものである。
Further, as described in claim 3, claim 2
In the above, the photosensitive material film is over-developed, the alignment mark is erased, and the lens marker film leaving the portion where the microlens is formed is close to the portion where the microlens is formed on the substrate surface. And a method for forming a microlens formed in a region outside a portion where the microlens is formed and made of a material having an absorptivity to the wavelength of the optical signal light.

【0015】上記請求項3のようなマイクロレンズ形成
方法とすることにより、レンズマーカ用樹脂材料は、使
用波長に対して透明である必要がなく、光素子がアレイ
状に配置されている場合には、あえて着色した材料を用
いることにより、隣接チャネル間の光学的クロストーク
を低減し得る効果がある。
According to the third aspect of the present invention, the resin material for the lens marker does not need to be transparent to the wavelength to be used, and can be used when the optical elements are arranged in an array. The use of a colored material has the effect of reducing optical crosstalk between adjacent channels.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】〈実施の形態1〉図1に本発明の
第1の実施の形態を示す。図1において、マイクロレン
ズの製造方法は、光信号光が透過する基板12を介して
ダイボンドされた光素子3に入出力する光学装置におけ
る上記基板12の表面にマイクロレンズを形成する方法
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS <First Embodiment> FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, the method of manufacturing a microlens is a method of forming a microlens on the surface of the substrate 12 in an optical device that inputs and outputs optical elements 3 that are die-bonded through a substrate 12 through which optical signal light passes.

【0017】マイクロレンズを形成する部分を規定する
マイクロレンズパタンと、該パタンの内部に形成したア
ライメントマークパタン(中心アライメント用微小マー
ク)5を有するフォトマスク1〔図1(a)〕を用い、
上記光素子3上のアライメントマーク(光素子の発光ま
たは受光中心)4と、上記フォトマスク1のアライメン
トマーク5とを位置合わせすることにより、フォトマス
ク1と光学装置3の位置を合わせて、光学装置3とマイ
クロレンズとの光軸合わせを行う〔図1(b)〕。マイ
クロレンズを形成する基板12上に、マイクロレンズ材
料と屈折率の等しい感光性材料膜2を形成し、上記感光
性材料膜2を、フォトマスク1を用い、露光した後、現
像することにより、中心に凹型アライメントマーク8を
有する凸型レンズマーカ用膜(マイクロレンズパタンを
転写したレンズマーカ用膜)9を形成する〔図1
(c)〕。レンズマーカ用膜9のマイクロレンズパタン
上に、インクジェットヘッド13〔図1(d)〕を用
い、レンズ用液状樹脂14を射出/吐出して〔図1
(e)〕、液状のマイクロレンズ16を形成し、UV光
照射15して、該液状のマイクロレンズ16を硬化させ
て〔図1(f)〕、マイクロレンズ17〔図1(g)〕
を形成する。
Using a photomask 1 (FIG. 1 (a)) having a microlens pattern defining a portion where a microlens is to be formed and an alignment mark pattern (central alignment minute mark) 5 formed inside the pattern.
By aligning the alignment mark (light emission or light receiving center of the optical element) 4 on the optical element 3 with the alignment mark 5 on the photomask 1, the positions of the photomask 1 and the optical device 3 are aligned. The optical axes of the device 3 and the microlens are aligned (FIG. 1B). A photosensitive material film 2 having a refractive index equal to that of the microlens material is formed on a substrate 12 on which a microlens is formed, and the photosensitive material film 2 is exposed using a photomask 1 and then developed. A convex lens marker film 9 having a concave alignment mark 8 at the center (lens marker film to which a microlens pattern is transferred) 9 is formed [FIG.
(C)]. The liquid resin 14 for the lens is injected / discharged onto the microlens pattern of the lens marker film 9 using the ink jet head 13 (FIG. 1D) [FIG.
(E)], a liquid microlens 16 is formed, and UV light irradiation 15 is applied to cure the liquid microlens 16 [FIG. 1 (f)] and a microlens 17 [FIG. 1 (g)].
To form

【0018】マイクロレンズ17を形成する部分を規定
するマイクロレンズパタン(以後、レンズマーカ用膜と
呼ぶ)は、露光した箇所が硬化するネガ型の感光性材料
膜2を用いているので、その中心部に十字、または円盤
状等の形をしたアライメントマークが形成される。この
アライメントマークは、遮光部分であるため、凸型レン
ズマーカ用膜9の中心部には、アライメントマークパタ
ンに対応した凹み(窪み)のある凹型アライメントマー
ク8が形成される。しかしながら、この凹型アライメン
トマーク8の凹みの部分は、続いて行われるレンズ用液
状樹脂14の液滴の射出/吐出の工程で塞がれ、凸型レ
ンズマーカ用膜9と全く同じ固相となり、均質なマイク
ロレンズを形成することができる。ここで、凸型レンズ
マーカ用膜およびマイクロレンズ用樹脂材料の屈折率を
整合させておけば、レンズマーカ用膜9と凹型アライメ
ントマーク8間の凹みは光学的には界面とはならず、均
質で透明なマイクロレンズを得ることができた。
The microlens pattern (hereinafter referred to as a lens marker film) that defines the portion where the microlenses 17 are formed uses the negative photosensitive material film 2 in which the exposed portions are hardened. A cross-shaped or disk-shaped alignment mark is formed in the portion. Since the alignment mark is a light-shielding portion, a concave alignment mark 8 having a depression (a depression) corresponding to the alignment mark pattern is formed at the center of the convex lens marker film 9. However, the concave portion of the concave alignment mark 8 is closed in the subsequent step of injecting / discharging the droplets of the liquid resin 14 for the lens, and becomes the same solid phase as the film 9 for the convex lens marker. A uniform microlens can be formed. Here, if the refractive indexes of the convex lens marker film and the microlens resin material are matched, the dent between the lens marker film 9 and the concave alignment mark 8 does not become an optical interface, but becomes uniform. Thus, a transparent microlens was obtained.

【0019】〈実施の形態2〉図2に本発明の第2の実
施の形態を示す。図2において、露光した部分が除去さ
れるポジ型の感光性樹脂を用いて、レンズマーカを形成
するものである。ポジ型の感光性樹脂を用いることで、
上記実施の形態1とは反対に、マイクロレンズ部分が凹
んだ(窪んだ)形状のレンズマーカ用膜(凹型レンズマ
ーカ用膜)10が形成される。マイクロレンズを形成す
る部分を規定するマイクロレンズパタンと、該パタンの
内部に形成したアライメントマークパタン5とを有する
フォトマスク1〔図2(a)〕を用い、光素子3のアラ
イメントマークパタンを光素子(光学装置)3の発光ま
たは受光中心とし、フォトマスク1のアライメントマー
クパタン5とを位置合わせすることにより、フォトマス
ク1と光学装置3の位置を合わせ、ポジ型の感光性材料
膜2′を形成した基板12を、上記マイクロレンズパタ
ンを有するフォトマスク1を用いて露光6する〔図2
(b)〕。現像して、内部に、凸型アライメントマーク
7を有する凹型レンズマーカ用膜10を形成する〔図2
(c)〕。以下、インクジェットヘット13〔図2
(d)〕を用いて、レンズ用液状樹脂14を射出〔図2
(e)〕し、液状マイクロレンズ16形成し、UV光照
射15〔図2(f)〕して、マイクロレンズ17を形成
する工程〔図2(g)〕は、上記実施の形態1とほぼ同
様である。
<Embodiment 2> FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention. In FIG. 2, a lens marker is formed by using a positive photosensitive resin from which an exposed portion is removed. By using a positive photosensitive resin,
Contrary to the first embodiment, a lens marker film (concave lens marker film) 10 having a concave (recessed) microlens portion is formed. Using a photomask 1 (FIG. 2A) having a microlens pattern defining a part where a microlens is to be formed and an alignment mark pattern 5 formed inside the pattern, the alignment mark pattern of the optical element 3 is irradiated with light. By aligning the alignment mark pattern 5 of the photomask 1 with the light-emitting or light-receiving center of the element (optical device) 3, the photomask 1 and the optical device 3 are aligned, and a positive photosensitive material film 2 ′ is formed. Is exposed 6 using the photomask 1 having the microlens pattern [FIG.
(B)]. By developing, a concave lens marker film 10 having a convex alignment mark 7 therein is formed [FIG.
(C)]. Hereinafter, the inkjet head 13 [FIG.
(D)] to inject the liquid resin 14 for the lens [FIG.
(E)], a step of forming a liquid microlens 16 and irradiating UV light 15 [FIG. 2 (f)] to form a microlens 17 [FIG. 2 (g)] is substantially the same as that of the first embodiment. The same is true.

【0020】本実施の形態2においも、上述の実施の形
態1と同様に光素子の発光/受光中心とマイクロレンズ
の位置を合わせるために、マイクロレンズの中心部にア
ライメントマークが形成されている。このアライメント
マークは現像処理工程において、エッチングされずに残
るため、図2に示すように微小な凸型アライメントマー
ク7となる。しかしながら、続いて行われる液体樹脂の
射出工程によって、微小凸部は覆われるので、上記実施
の形態1と同様に、レンズマーカ用樹脂材料とマイクロ
レンズ用樹脂材料との屈折率を整合させることにより、
この微小凸部は光学的に透明となる。なお、凹型レンズ
マーカ用膜におては、レンズマーカ用樹脂材料として、
撥水性の高い材料を用いることが好ましい。
In the second embodiment, similarly to the first embodiment, an alignment mark is formed at the center of the microlens in order to align the light emitting / receiving center of the optical element with the position of the microlens. . Since this alignment mark remains without being etched in the developing process, it becomes a minute convex alignment mark 7 as shown in FIG. However, since the minute protrusions are covered by the subsequent liquid resin injection step, by matching the refractive indices of the lens marker resin material and the microlens resin material as in the first embodiment. ,
These minute projections become optically transparent. In the film for the concave lens marker, as a resin material for the lens marker,
It is preferable to use a material having high water repellency.

【0021】〈実施の形態3〉本実施の形態3では、図
3に示すごとく、図2の場合において凹型レンズマーカ
用膜10の内部に形成された凸型アライメントマーク7
を除去し、凹型レンズマーカ用膜とマイクロレンズの樹
脂材料の屈折率を整合させる必要がなく、マイクロレン
ズ用樹脂材料の選択幅を広くすることができるマイクロ
レンズの形成方法について述べる。
Third Embodiment In the third embodiment, as shown in FIG. 3, the convex alignment mark 7 formed inside the concave lens marker film 10 in the case of FIG.
A method of forming a microlens that eliminates the need to match the refractive indices of the concave lens marker film and the resin material of the microlens and can increase the selection range of the resin material for the microlens will be described.

【0022】図3(c)に示すように、ポジ型の感光性
材料膜2′を形成した基板12を用い、フォトマスク1
のアライメントマークパタン5と光素子3上のアライメ
ントマークパタン(発光/受光中心)4とを位置合わせ
することにより、フォトマスク1と光素子(光学装置)
3の位置合わせをした後、露光6して現像する工程にお
いて過現像を行い、ポジ型の感光性材料膜2′に転写さ
れた凸型アライメントマーク7を除去し、マイクロレン
ズ形成部分の外周側の縁を規定する凹型レンズマーカ用
膜10′を形成する。次に、マイクロレンズを形成する
部分である凹型レンズマーカ用膜10′上に、レンズ用
液状樹脂14を射出して〔図3(e)〕、液状のマイク
ロレンズ16を形成し、UV光照射15して、硬化させ
〔図3(f)〕、マイクロレンズ17をを形成する工程
〔図3(g)〕は、上記実施の形態1〜2と同様であ
る。
As shown in FIG. 3C, a photomask 1 is formed by using a substrate 12 on which a positive photosensitive material film 2 'is formed.
By aligning the alignment mark pattern 5 and the alignment mark pattern (light emitting / receiving center) 4 on the optical element 3, the photomask 1 and the optical element (optical device) are aligned.
After the alignment of 3, the over-development is performed in the step of exposing and developing 6 to remove the convex alignment marks 7 transferred to the positive photosensitive material film 2 ', and the outer peripheral side of the microlens forming portion Of the concave lens marker film 10 'that defines the edge of. Next, the liquid resin 14 for the lens is injected onto the concave lens marker film 10 ', which is the part where the microlens is formed (FIG. 3E), to form the liquid microlens 16 and to irradiate UV light. 15 and curing (FIG. 3F) to form the microlenses 17 (FIG. 3G) are the same as in the first and second embodiments.

【0023】このようなマイクロレンズ形成方法とする
ことにより、レンズマーカとマイクロレンズの樹脂材料
の屈折率を整合する必要がなくなり、マイクロレンズ用
樹脂材料の選択の幅を広くすることができる。また、凹
型レンズマーカ用膜の樹脂材料として、使用波長に対し
て透明である必要がなく、光素子がアレイ状に配置され
ている場合などにおいて、あえて着色した材料を用いる
ことにより、隣接チャネル間の光学的クロストークを低
減する効果も期待できる。しかし、一般的にポジ型(光
分解型)の感光性材料は種類が少ないため、樹脂の信頼
性などの実績が優先する場合には、ネガ型感光性樹脂を
用いる方が得策である。なお、上記実施の形態1〜3で
使用したレンズマーカ作製用マスクパタンの一例を図5
に示した。図5ではアライメントマークとして微小円盤
状のものを示したが、十字形状等であってもかまわな
い。
By adopting such a method of forming a microlens, it is not necessary to match the refractive indexes of the resin materials of the lens marker and the microlens, and the range of selection of the resin material for the microlens can be widened. In addition, the resin material for the concave lens marker film does not need to be transparent to the wavelength used, and when the optical elements are arranged in an array, for example, by using a colored material, the distance between adjacent channels can be reduced. Can also be expected to reduce optical crosstalk. However, in general, there are few types of positive type (photodecomposition type) photosensitive materials. Therefore, when performance such as resin reliability is prioritized, it is better to use a negative type photosensitive resin. FIG. 5 shows an example of the lens marker manufacturing mask pattern used in the first to third embodiments.
It was shown to. FIG. 5 shows a minute disk-shaped alignment mark, but may have a cross shape or the like.

【0024】〈実施の形態4〉図4に示すように、本実
施の形態4においては、リング状のレンズマーカパター
ン19を有するフォトマスク1〔図4(a)〕を用い
て、リング状レンズマーカ用膜11を形成することによ
り、マイクロレンズを作製する場合について説明する。
ポジ型の感光性樹脂を用いてパターニングする点は、上
記実施の形態2と同じであるが、マイクロレンズ用の樹
脂材料を滴下した際に、リング状レンズマーカ用膜11
の外側の縁でマイクロレンズの外形が決定される点が異
なる。
<Embodiment 4> As shown in FIG. 4, in Embodiment 4, a ring-shaped lens is formed by using a photomask 1 (FIG. 4A) having a ring-shaped lens marker pattern 19. A case where a microlens is manufactured by forming the marker film 11 will be described.
The point of patterning using a positive photosensitive resin is the same as that of the second embodiment, but when the resin material for the microlens is dropped, the ring-shaped lens marker film 11 is formed.
In that the outer shape of the microlens is determined by the outer edge of.

【0025】凹型レンズマーカ用膜10(図2)は、マ
イクロレンズ用の樹脂を滴下した際に、その広がりを止
めるために、撥水性材料を用いたり、レンズマーカの厚
みを厚くしたりする、などの工夫が必要であった。これ
らは、作製プロセスを制限し、困難化させる要因であ
り、また、縁部のわずかな欠け、荒れなどによって、樹
脂がレンズマーカ用膜上に広がってしまうことがある。
凹型レンズマーカ用膜10(図2)と凸型レンズマーカ
用膜9(図1)とでは、凸型レンズマーカ用膜9の方
が、再現性良くマイクロレンズを形成することができ
る。すなわち、本実施の形態4に示すリング状レンズマ
ーカ用膜11は、凸型レンズマーカ用膜9の持つマイク
ロレンズ作製の再現性の良さと、凹型レンズマーカ用膜
10が持つマイクロレンズ用樹脂材料の選択肢の広さの
両方の良い点を併せ持つものである。
The concave lens marker film 10 (FIG. 2) is formed by using a water-repellent material or increasing the thickness of the lens marker in order to stop the spread of the resin for the micro lens when the resin is dropped. Ingenuity such as was necessary. These are factors that limit and make the manufacturing process difficult, and the resin may spread on the lens marker film due to slight chipping or roughening of the edge.
With the concave lens marker film 10 (FIG. 2) and the convex lens marker film 9 (FIG. 1), the convex lens marker film 9 can form microlenses with higher reproducibility. That is, the ring-shaped lens marker film 11 shown in the fourth embodiment has good reproducibility of microlens production of the convex lens marker film 9 and microlens resin material of the concave lens marker film 10. It has both good points of the breadth of options.

【0026】上記実施の形態3と同様に、リング状レン
ズマーカ用膜11においても、マイクロレンズ中心部の
アライメントマークは、過現像によって除去することが
できる。その際に、リング部分も同様に過現像されるた
め、リング幅の設計には注意する必要がある。なお、上
記実施の形態においては、液状樹脂を射出する方式に、
インクジェット方式を取り上げてきたが、これは、イン
クジェット方式に限定するものではなく、微小量の液滴
を制御性良く滴下することができる方式であれば適用す
ることができ、例えば、ディスペンサ方式を用いること
も可能である。また、上記実施の形態においては、光素
子としてシングルチャネルのものを取り上げてきたが、
これは単チャネルに限定するものではない。一次元ない
し二次元状に配列された光素子アレイにおいても、全く
同様に、上記本発明のマイクロレンズ形成方法を適用す
ることができる。
As in the third embodiment, in the ring-shaped lens marker film 11, the alignment mark at the center of the microlens can be removed by overdeveloping. At this time, the ring portion is similarly overdeveloped, so that care must be taken in designing the ring width. In the above embodiment, the method of injecting the liquid resin is as follows.
Although the ink-jet method has been described, this is not limited to the ink-jet method, and any method can be used as long as it can drop a minute amount of liquid droplets with good controllability. For example, a dispenser method is used. It is also possible. In the above embodiment, a single-channel optical device has been described.
This is not limited to a single channel. The microlens forming method of the present invention can be applied to optical element arrays arranged one-dimensionally or two-dimensionally in the same manner.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明の微小量の液滴が基板上で球形状
となる性質を利用したマイクロレンズ形成方法によれ
ば、マイクロレンズの直径とアレイ配列の正確性・再現
性を高めるために用いられるレンズマーカのマスクパタ
ーンにおいて、マイクロレンズの中心部に微小なアライ
メントパターンを形成し、これと光素子(光学装置)の
発光/受光中心とをアライメントすることによって、そ
れらの光軸を容易に合わせることが可能となる。光素子
とマイクロレンズとの光軸を合わせるために用いられ、
その形成位置精度を高めるために使用されるレンズマー
カとして、特別なアライメントマークを形成する必要が
なく、光素子をフリップチップなどの高級な実装方法を
用いて搭載する必要もなく、また、チップ表面に新たに
アライメントマークを設ける必要もない。さらに、チッ
プ外形が小さく、マイクロレンズの投影サイズ内に収ま
ってしまうために、アライメントマークを形成すること
のできない場合においても、光素子と光軸が合ったマイ
クロレンズを低コストで作製することができる。また、
マイクロレンズと光素子のアライメントに用いられるレ
ンズマーカが、光透過領域内にあるにもかかわらず、光
学的もしくは物理的に除去することができ、不要な境界
面の増加を防ぐことができる。
According to the microlens forming method of the present invention utilizing the property that a minute amount of liquid droplets become spherical on a substrate, it is possible to improve the accuracy and reproducibility of the microlens diameter and array arrangement. In the mask pattern of the lens marker to be used, a minute alignment pattern is formed at the center of the microlens, and the alignment of this pattern with the emission / reception center of the optical element (optical device) facilitates the alignment of those optical axes. It becomes possible to match. Used to align the optical axis of the optical element and the micro lens,
There is no need to form a special alignment mark as a lens marker used to improve the formation position accuracy, and it is not necessary to mount an optical element using a high-level mounting method such as a flip chip, It is not necessary to newly provide an alignment mark. Furthermore, even if the alignment mark cannot be formed because the chip outer shape is small and fits within the projection size of the microlens, it is possible to manufacture a microlens with the optical axis aligned with the optical element at low cost. it can. Also,
Although the lens marker used for the alignment of the microlens and the optical element is located in the light transmission region, it can be removed optically or physically, and an unnecessary increase in the boundary surface can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1で例示したマイクロレン
ズ形成方法を説明する図。
FIG. 1 is a diagram for explaining a microlens forming method exemplified in Embodiment 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態2で例示したマイクロレン
ズ形成方法を説明する図。
FIG. 2 is a diagram illustrating a method of forming a microlens exemplified in Embodiment 2 of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態3で例示したマイクロレン
ズ形成方法を説明する図。
FIG. 3 is a diagram illustrating a microlens forming method exemplified in Embodiment 3 of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態4で例示したマイクロレン
ズ形成方法を説明する図。
FIG. 4 is a diagram illustrating a microlens forming method exemplified in Embodiment 4 of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態1〜3で使用したレンズマ
ーカ作製用マスクパタンの一例を示す平面図。
FIG. 5 is a plan view showing an example of a lens marker manufacturing mask pattern used in Embodiments 1 to 3 of the present invention.

【図6】従来の微小量の液滴の表面張力を利用したマイ
クロレンズの製造方法を示す説明図。
FIG. 6 is an explanatory view showing a conventional method for manufacturing a microlens utilizing the surface tension of a minute amount of droplets.

【図7】従来のレンズマーカを用いたマイクロレンズの
製造方法を示す説明図。
FIG. 7 is an explanatory view showing a conventional method for manufacturing a micro lens using a lens marker.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…フォトマスク(マイクロレンズパタン) 2…感光性材料膜 2′…感光性材料膜 3…光学装置(光素子) 4…光素子上のアライメントマーク(例えば発光/受光
中心) 5…マイクロレンズのアライメントマーク(例えば中心
アライメント用微小マーク) 6…露光 7…凸型アライメントマーク 8…凹型アライメントマーク 9…凸型レンズマーカ用膜 10…凹型レンズマーカ用膜 10′…凹型レンズマーカ用膜 11…リング状レンズマーカ用膜 12…基板 13…インクジェットヘッド 14…レンズ用液状樹脂 15…UV光照射 16…液状マイクロレンズ 17…マイクロレンズ 18…レンズマーカ作製用マスクパタン 19…リング状レンズマーカパタン 20…ステージ 21…マイクロレンズ 22…フォトマスク(マイクロレンズパタン) 23…感光性樹脂 24…円盤状の透明樹脂(凸型レンズマーカ用膜) 25…液状UV光硬化樹脂 26…マイクロレンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Photomask (micro lens pattern) 2 ... Photosensitive material film 2 '... Photosensitive material film 3 ... Optical device (optical element) 4 ... Alignment mark (for example, light emission / light receiving center) on an optical element 5 ... Micro lens Alignment mark (for example, minute mark for center alignment) 6 ... Exposure 7 ... Convex alignment mark 8 ... Concave alignment mark 9 ... Film for convex lens marker 10 ... Film for concave lens marker 10 '... Film for concave lens marker 11 ... Ring Film for lens lens marker 12 ... Substrate 13 ... Inkjet head 14 ... Liquid resin for lens 15 ... UV light irradiation 16 ... Liquid micro lens 17 ... Micro lens 18 ... Mask pattern for producing lens marker 19 ... Ring lens marker pattern 20 ... Stage 21: micro lens 22: photo mask (micro lens Tan) 23 ... photosensitive resin 24 ... disc-like transparent resin (convex lens marker for film) 25 ... liquid UV light curable resin 26 ... microlenses

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光信号光が透過する基板を介して光信号が
光素子に入出力する光学装置の上記基板表面にマイクロ
レンズを形成する方法であって、 上記マイクロレンズを形成する部分を規定するマイクロ
レンズパタンと、該パタンの内部に形成されたアライメ
ントマークパタンとを有するフォトマスクを用い、 他方、光学装置のアライメントマークを、上記光素子の
発光または受光中心とするか、もしくは光素子上に別に
形成したアライメントマークを設け、上記フォトマスク
のアライメントマークと、上記光学装置のアライメント
マークとを位置合わせすることにより、上記フォトマス
クと上記光学装置の位置を合わせ、上記マイクロレンズ
を形成する基板上に、上記マイクロレンズ材料と屈折率
の等しい感光性材料膜を形成する工程と、 上記感光性材料膜上に、上記フォトマスクを用い露光、
および現像することにより、中心にアライメントマーク
を有するマイクロレンズパタンを転写したレンズマーカ
用膜を形成する工程と、 上記レンズマーカ用膜のマイクロレンズパタン上に、レ
ンズ用液状樹脂を射出して、液状のマイクロレンズを形
成する工程と、 UV光を照射して、上記液状のマイクロレンズを硬化さ
せてマイクロレンズを形成する工程とを少なくとも含む
ことを特徴とするマイクロレンズ形成方法。
1. A method of forming a microlens on a surface of an optical device for inputting / outputting an optical signal to / from an optical element through a substrate through which an optical signal light is transmitted, wherein a portion for forming the microlens is defined. A photomask having a microlens pattern to be formed and an alignment mark pattern formed inside the pattern is used. On the other hand, the alignment mark of the optical device is used as the light emission or light reception center of the optical element or on the optical element. A substrate that forms the microlens by aligning the alignment mark of the photomask with the alignment mark of the optical device, thereby aligning the position of the photomask with the optical device. Forming a photosensitive material film having a refractive index equal to that of the microlens material, Serial on the photosensitive material film, exposed using the photomask,
Forming a lens marker film by transferring a microlens pattern having an alignment mark at the center by developing, and injecting a liquid resin for a lens onto the microlens pattern of the lens marker film, A microlens forming method, comprising: irradiating UV light to cure the liquid microlens to form a microlens.
【請求項2】光信号光が透過する基板を介して光信号が
光素子に入出力する光学装置の上記基板表面にマイクロ
レンズを形成する方法であって、 上記マイクロレンズを形成する部分を規定するマイクロ
レンズパタンと、該パタンの内部に形成されたアライメ
ントマークパタンとを有するフォトマスクを用い、 他方、光学装置のアライメントマークを、上記光素子の
発光または受光中心とするか、もしくは光素子上に別に
形成したアライメントマークを設け、上記フォトマスク
のアライメントマークと、上記光学装置のアライメント
マークとを位置合わせすることにより、上記フォトマス
クと上記光学装置の位置を合わせ、上記マイクロレンズ
を形成する基板上に、感光性材料膜を形成する工程と、 上記基板上に形成した感光性材料膜に、上記フォトマス
クを用いて、上記マイクロレンズを形成する部分を規定
するマイクロレンズパタンと、該パタンの内部に形成し
たアライメントマークパタンとを転写する工程と、 上記感光性材料膜を過現像して、該感光性材料膜に転写
された上記アライメントマークを消去し、上記マイクロ
レンズを形成する部分を残したレンズマーカ用膜を形成
する工程と、 上記マイクロレンズを形成する部分に、レンズ用液状樹
脂を射出して、液状のマイクロレンズを形成する工程
と、 UV光を照射して、上記液状のマイクロレンズを硬化さ
せてマイクロレンズを形成する工程とを少なくとも含む
ことを特徴とするマイクロレンズ形成方法。
2. A method for forming a microlens on a surface of an optical device for inputting and outputting an optical signal to and from an optical element through a substrate through which an optical signal light is transmitted, wherein a portion for forming the microlens is defined. A photomask having a microlens pattern to be formed and an alignment mark pattern formed inside the pattern is used. On the other hand, the alignment mark of the optical device is used as the light emission or light reception center of the optical element or on the optical element. A substrate that forms the microlens by aligning the alignment mark of the photomask with the alignment mark of the optical device, thereby aligning the photomask with the optical device. Forming a photosensitive material film on the photosensitive material film formed on the substrate; Using a photomask, transferring a microlens pattern defining a portion where the microlens is to be formed, and an alignment mark pattern formed inside the pattern; and overdeveloping the photosensitive material film, A step of erasing the alignment mark transferred to the photosensitive material film and forming a lens marker film leaving a part where the microlens is formed; and injecting a liquid resin for the lens into the part where the microlens is formed. Forming a microlens in a liquid state; and irradiating UV light to cure the microlens in the liquid state to form a microlens.
【請求項3】請求項2において、上記感光性材料膜を過
現像して、アライメントマークを消去し、マイクロレン
ズを形成する部分を残したレンズマーカ用膜は、上記基
板表面上の上記マイクロレンズを形成する部分に近接し
て、該マイクロレンズを形成する部分の外側の領域に形
成され、かつ上記光信号光の波長に対して吸収性を有す
る材料よりなることを特徴とするマイクロレンズ形成方
法。
3. The lens marker film according to claim 2, wherein the photosensitive material film is overdeveloped to erase the alignment mark and leave a portion where a microlens is to be formed. A microlens forming method, wherein the microlens is formed in a region outside the portion where the microlens is formed, in the vicinity of the portion where the microlens is formed, and which is made of a material that absorbs the wavelength of the optical signal light. .
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003019826A (en) * 2001-07-09 2003-01-21 Seiko Epson Corp Organic el array exposing head, its fabricating method and imaging apparatus comprising it
JP2005101323A (en) * 2003-09-25 2005-04-14 Hamamatsu Photonics Kk Optical semiconductor device
WO2005052666A1 (en) * 2003-11-27 2005-06-09 Ibiden Co., Ltd. Ic chip mounting board, substrate for mother board, device for optical communication, method for manufacturing substrate for mounting ic chip thereon, and method for manufacturing substrate for mother board
US7070207B2 (en) 2003-04-22 2006-07-04 Ibiden Co., Ltd. Substrate for mounting IC chip, multilayerd printed circuit board, and device for optical communication
US7150568B2 (en) 2003-02-06 2006-12-19 Seiko Epson Corporation Light-receiving element, manufacturing method for the same, optical module, and optical transmitting device
US7179728B2 (en) 2002-09-25 2007-02-20 Seiko Epson Corporation Optical component and manufacturing method thereof, microlens substrate and manufacturing method thereof, display device, and imaging device
US7187702B2 (en) 2002-09-25 2007-03-06 Seiko Epson Corporation Surface-emitting light emitting device, manufacturing method for the same, optical module, and optical transmission apparatus
US7197212B2 (en) 2002-09-27 2007-03-27 Seiko Epson Corporation Optical waveguide and method of manufacturing the same, circuit board, optical module, and optical transfer apparatus
JP2007106002A (en) * 2005-10-13 2007-04-26 Matsushita Electric Works Ltd Method for molding minute shape
US7261474B2 (en) 2003-02-10 2007-08-28 Seiko Epson Corporation Connection structure between optical element and optical fiber, connection method thereof, and optical module
WO2007111236A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Ibiden Co., Ltd. Photoelectric wiring board, optical communication device and method for manufacturing optical communication device
US7674987B2 (en) * 2007-03-29 2010-03-09 Ibiden Co., Ltd. Multilayer printed circuit board
US7729570B2 (en) 2007-05-18 2010-06-01 Ibiden Co., Ltd. Photoelectric circuit board and device for optical communication
US8076782B2 (en) 2002-04-01 2011-12-13 Ibiden Co., Ltd. Substrate for mounting IC chip
JP2012068539A (en) * 2010-09-24 2012-04-05 Fujitsu Ltd Optical module and manufacturing method thereof
US8249402B2 (en) 2004-10-22 2012-08-21 Ibiden Co., Ltd. Multilayer printed circuit board
US20120279422A1 (en) * 2011-05-06 2012-11-08 Nokia Corporation Apparatus And Associated Methods

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102147511B (en) * 2010-02-10 2014-09-24 新科实业有限公司 Method for manufacturing polymer micro-lens and collimator having polymer micro-lens

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003019826A (en) * 2001-07-09 2003-01-21 Seiko Epson Corp Organic el array exposing head, its fabricating method and imaging apparatus comprising it
US8120040B2 (en) 2002-04-01 2012-02-21 Ibiden Co., Ltd. Substrate for mounting IC chip, manufacturing method of substrate for mounting IC chip, device for optical communication, and manufacturing method of device for optical communication
US8076782B2 (en) 2002-04-01 2011-12-13 Ibiden Co., Ltd. Substrate for mounting IC chip
US7179728B2 (en) 2002-09-25 2007-02-20 Seiko Epson Corporation Optical component and manufacturing method thereof, microlens substrate and manufacturing method thereof, display device, and imaging device
US7187702B2 (en) 2002-09-25 2007-03-06 Seiko Epson Corporation Surface-emitting light emitting device, manufacturing method for the same, optical module, and optical transmission apparatus
US7197212B2 (en) 2002-09-27 2007-03-27 Seiko Epson Corporation Optical waveguide and method of manufacturing the same, circuit board, optical module, and optical transfer apparatus
US7150568B2 (en) 2003-02-06 2006-12-19 Seiko Epson Corporation Light-receiving element, manufacturing method for the same, optical module, and optical transmitting device
US7520680B2 (en) 2003-02-06 2009-04-21 Seiko Epson Corporation Light-receiving element, manufacturing method for the same, optical module, and optical transmitting device
US7261474B2 (en) 2003-02-10 2007-08-28 Seiko Epson Corporation Connection structure between optical element and optical fiber, connection method thereof, and optical module
US7070207B2 (en) 2003-04-22 2006-07-04 Ibiden Co., Ltd. Substrate for mounting IC chip, multilayerd printed circuit board, and device for optical communication
US7693382B2 (en) 2003-04-22 2010-04-06 Ibiden Co., Ltd. Substrate for mounting IC chip, multilayered printed circuit board, and device for optical communication
JP2005101323A (en) * 2003-09-25 2005-04-14 Hamamatsu Photonics Kk Optical semiconductor device
US7437030B2 (en) 2003-11-27 2008-10-14 Ibiden Co., Ltd. Substrate for mounting IC chip, substrate for motherboard, device for optical communication, manufacturing method of substrate for mounting IC chip, and manufacturing method of substrate for motherboard
JPWO2005052666A1 (en) * 2003-11-27 2008-03-06 イビデン株式会社 IC chip mounting substrate, motherboard substrate, optical communication device, IC chip mounting substrate manufacturing method, and motherboard substrate manufacturing method
US7526152B2 (en) 2003-11-27 2009-04-28 Ibiden Co., Ltd. Substrate for mounting IC chip, substrate for motherboard, device for optical communication, manufacturing method of substrate for mounting IC chip, and manufacturing method of substrate for motherboard
WO2005052666A1 (en) * 2003-11-27 2005-06-09 Ibiden Co., Ltd. Ic chip mounting board, substrate for mother board, device for optical communication, method for manufacturing substrate for mounting ic chip thereon, and method for manufacturing substrate for mother board
US8249402B2 (en) 2004-10-22 2012-08-21 Ibiden Co., Ltd. Multilayer printed circuit board
JP2007106002A (en) * 2005-10-13 2007-04-26 Matsushita Electric Works Ltd Method for molding minute shape
US7734125B2 (en) 2006-03-24 2010-06-08 Ibiden Co., Ltd. Optoelectronic wiring board, optical communication device, and method of manufacturing the optical communication device
WO2007111236A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Ibiden Co., Ltd. Photoelectric wiring board, optical communication device and method for manufacturing optical communication device
US8311375B2 (en) 2006-03-24 2012-11-13 Ibiden Co., Ltd. Optoelectronic wiring board, optical communication device, and method of manufacturing the optical communication device
US7674987B2 (en) * 2007-03-29 2010-03-09 Ibiden Co., Ltd. Multilayer printed circuit board
US7729570B2 (en) 2007-05-18 2010-06-01 Ibiden Co., Ltd. Photoelectric circuit board and device for optical communication
JP2012068539A (en) * 2010-09-24 2012-04-05 Fujitsu Ltd Optical module and manufacturing method thereof
US20120279422A1 (en) * 2011-05-06 2012-11-08 Nokia Corporation Apparatus And Associated Methods
WO2012152992A1 (en) * 2011-05-06 2012-11-15 Nokia Corporation An apparatus and associated methods for controlling a liquid lens shape
US8717680B2 (en) 2011-05-06 2014-05-06 Nokia Corporation Apparatus and associated methods

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