JP2002326982A - Method for producing sulfonamide - Google Patents

Method for producing sulfonamide

Info

Publication number
JP2002326982A
JP2002326982A JP2001099929A JP2001099929A JP2002326982A JP 2002326982 A JP2002326982 A JP 2002326982A JP 2001099929 A JP2001099929 A JP 2001099929A JP 2001099929 A JP2001099929 A JP 2001099929A JP 2002326982 A JP2002326982 A JP 2002326982A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
benzenesulfonamide derivative
carbon atoms
carbamate
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001099929A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Onishi
智之 大西
Yasuyuki Otake
康之 大竹
Shinji Kuroda
愼ニ 黒田
Naoko Hirose
直子 廣瀬
Sachiko Oka
佐知子 岡
Kunisuke Izawa
邦輔 井澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ajinomoto Co Inc
Original Assignee
Ajinomoto Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ajinomoto Co Inc filed Critical Ajinomoto Co Inc
Priority to JP2001099929A priority Critical patent/JP2002326982A/en
Publication of JP2002326982A publication Critical patent/JP2002326982A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an economical and efficient method for producing a specific N-carbamate type protected benzenesulfonamide derivative which is suitable for industrial production, the specific benzenesulfonamide derivative and its salt derived from the aforesaid derivative and a method for producing a crystal of the benzenesulfonamide derivative salt. SOLUTION: An N-carbamate type protected β-aminoalcohol or an N- carbamate type protected β-aminoepoxide is reacted with N-isobutyl-3- nitrobenzenesulfonamide in the presence of a base to obtain the N-carbamate type protected benzenesulfonamide derivative. In the benzenesulfonamide derivative in which a protecting group of the amino group is benzyloxycarbonyl group, the protecting group is removed by reacting methanesulfonic acid. An impurity is efficiently separated and removed into the mother liquor by crystallizing a methanesulfonate of the benzenesulfonamide derivative containing at least a diastereomer thereof as the impurity from an alcohol or an alcoholic mixed solvent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はN−カルバメート型
保護β−アミノアルコール又はN−カルバメート型保護
β−アミノエポキシドからN−カルバメート型保護ベン
ゼンスルホンアミド誘導体を製造する方法に関する。更
に本発明は該N−カルバメート型保護ベンゼンスルホン
アミド誘導体からベンゼンスルホンアミド誘導体又はそ
の塩を製造する方法に関する。更に本発明は特定のベン
ゼンスルホンアミド誘導体塩結晶の製造方法に関する。
The present invention relates to a method for producing an N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative from an N-carbamate-type protected β-amino alcohol or an N-carbamate-type protected β-aminoepoxide. Furthermore, the present invention relates to a method for producing a benzenesulfonamide derivative or a salt thereof from the N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative. Further, the present invention relates to a method for producing a specific benzenesulfonamide derivative salt crystal.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般式(4) [式中、Aはそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基も
しくは炭素数7〜20のアラルキル基、又はこれらの基
の炭素骨格中にヘテロ原子を含む基を示し、Rはアルキ
ル基又はベンジル基を示し、*は不斉炭素原子であるこ
とを示し、2位と3位の立体配置は2R、3S又は2
S、3Rである。]で表されるN−カルバメート型保護
ベンゼンスルホンアミド誘導体は、HIVプロテアーゼ
阻害剤等の医薬化合物の中間体として有用な化合物であ
る。
2. Description of the Related Art General formula (4) [Wherein, A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, each of which may have a substituent, or a carbon skeleton of these groups. Represents a group containing a hetero atom, R represents an alkyl group or a benzyl group, * represents an asymmetric carbon atom, and the configuration at the 2- and 3-positions is 2R, 3S or 2
S, 3R. The N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative represented by the formula [1] is a compound useful as an intermediate of a pharmaceutical compound such as an HIV protease inhibitor.

【0003】例えば、国際出願WO95/06030には
下記のスキームで示される製造方法が開示されている。
[0003] For example, the international application WO95 / 06030 discloses a production method shown by the following scheme.

【0004】 [0004]

【0005】また、カルバミン酸テトラヒドロフリルエ
ステル誘導体の製造方法として特開平9−124630
号公報に下記のスキームで示される製造方法が開示され
ている。
A method for producing a tetrahydrofuryl carbamic acid derivative is disclosed in JP-A-9-124630.
Discloses a manufacturing method shown by the following scheme.

【0006】上記特開平9−124630号公報の方法
はWO95/06030に開示されている方法と比較し1
工程でN−イソブチルベンゼンスルホンスルホンアミド
基を導入できる点で簡便な製法であるが、本発明者らの
検討によれば、塩基存在下でN−(2−ヒドロキシアル
キル)−4−ニトロベンゼンスルホンアミドの転位が進
行し、2−ヒドロキシアルキル−4−ニトロフェニルア
ミンが副生することが分かった。N−(2−ヒドロキシ
アルキル)−4−ニトロベンゼンスルホンアミドの転位
反応については、例えばK. G. Kleb、アンゲバンテ・ヘ
ミー・インターナショナル・エディション 7巻、4
号、291頁、1968年(Angew. Chem.Internat. Edi
t. 7(1968), 4, 291.)にも記載されている。また本反応
は反応性が高くないため、原料であるN−イソブチル−
4−ニトロベンゼンスルホンアミドが過剰量必要とな
り、原料及び不純物の除去にシリカゲルカラムクロマト
グラフィー等の精製を必要とする(上記特開平9−12
4630号公報の実施例5参照)。結果として収率も高
くなく、必ずしも工業的に適した製造方法ではない。
The method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-124630 is different from the method disclosed in WO95 / 06030 in that
This is a simple production method in that an N-isobutylbenzenesulfonesulfonamide group can be introduced in the process, but according to studies by the present inventors, N- (2-hydroxyalkyl) -4-nitrobenzenesulfonamide is present in the presence of a base. It has been found that the rearrangement proceeds and 2-hydroxyalkyl-4-nitrophenylamine is by-produced. Regarding the rearrangement reaction of N- (2-hydroxyalkyl) -4-nitrobenzenesulfonamide, for example, KG Kleb, Angevante Chemie International Edition Vol. 7, No. 4,
No., p.291, 1968 (Angew. Chem. Internat. Edi
t. 7 (1968), 4, 291.). Since this reaction is not highly reactive, the starting material N-isobutyl-
An excessive amount of 4-nitrobenzenesulfonamide is required, and purification by silica gel column chromatography or the like is required to remove raw materials and impurities (see JP-A-9-12).
No. 4630, Example 5). As a result, the yield is not high, and the production method is not necessarily industrially suitable.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、工業的生産
に適した、経済的かつ効率的な特定のN−カルバメート
型保護ベンゼンスルホンアミド誘導体の製造方法、及び
該誘導体から誘導される特定のベンゼンスルホンアミド
誘導体及びその塩、並びに該ベンゼンスルホンアミド誘
導体塩の結晶の製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an economical and efficient process for producing a specific protected N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative suitable for industrial production, and a specific process derived from the derivative. An object of the present invention is to provide a benzenesulfonamide derivative and a salt thereof, and a method for producing a crystal of the benzenesulfonamide derivative salt.

【0008】[0008]

【問題を解決するための手段】本発明者らはフェニル基
のメタ位(3位)にニトロ基を有するN−カルバメート
型保護ベンゼンスルホンアミド誘導体の製造方法につい
て鋭意検討した結果、驚くべきことにN−カルバメート
型保護β−アミノアルコール、又はN−カルバメート型
保護β−アミノエポキシドを塩基存在下、N−イソブチ
ル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドと反応させるこ
とによって、1工程で、しかも転位反応の問題もなく、
N−カルバメート型保護ベンゼンスルホンアミド誘導体
が収率良く得られることを見いだした。また、特にアミ
ノ基の保護基がベンジルオキシカルボニル基である上記
ベンゼンスルホンアミド誘導体において、メタンスルホ
ン酸を作用させることによって、収率良く脱保護できる
ことを見いだした。更に、少なくともそのジアステレオ
マーを不純物として含有するベンゼンスルホンアミド誘
導体のメタンスルホン酸塩を、アルコール又はアルコー
ル系混合溶媒から晶析することによって、不純物を母液
に効率的に分離除去できることを見いだした。本発明者
らは以上の知見に基づき本発明を完成させた。
The present inventors have conducted intensive studies on a method for producing an N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative having a nitro group at the meta position (3 position) of a phenyl group. By reacting N-carbamate-type protected β-amino alcohol or N-carbamate-type protected β-aminoepoxide with N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide in the presence of a base, the problem of the rearrangement reaction can be reduced in one step. Not
It has been found that N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivatives can be obtained in good yield. In addition, it has been found that the benzenesulfonamide derivative, in which the protecting group for the amino group is a benzyloxycarbonyl group, can be deprotected in good yield by the action of methanesulfonic acid. Furthermore, they have found that the methanesulfonate of a benzenesulfonamide derivative containing at least its diastereomer as an impurity can be efficiently separated and removed from the mother liquor by crystallization from an alcohol or an alcohol-based mixed solvent. The present inventors have completed the present invention based on the above findings.

【0009】すなわち本発明は以下の内容を含むもので
ある。
That is, the present invention includes the following contents.

【0010】一般式(1) [式中、Aはそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基も
しくは炭素数7〜20のアラルキル基、又はこれらの基
の炭素骨格中にヘテロ原子を含む基を示し、Rはアルキ
ル基又はベンジル基を示し、*は不斉炭素原子であるこ
とを示し、2位と3位の立体配置は2S、3S又は2
R、3Rである。]で表されるN−カルバメート型保護
β−アミノアルコール、又は一般式(2) [式中、A、R及び*は前記と同じ意味を示し、2位と
3位の立体配置は2S、3S又は2R、3Rである。]
で表されるN−カルバメート型保護β−アミノエポキシ
ドを塩基存在下、下式(3) で表されるN−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホ
ンアミドと反応させることを特徴とする一般式(4) [式中、A、R及び*は前記と同じ意味を示し、2位と
3位の立体配置は2R、3S又は2S、3Rである。]
で表されるN−カルバメート型保護ベンゼンスルホンア
ミド誘導体の製造方法。
General formula (1) [Wherein, A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, each of which may have a substituent, or a carbon skeleton of these groups. Represents a group containing a hetero atom, R represents an alkyl group or a benzyl group, * represents an asymmetric carbon atom, and the configuration at the 2-position and 3-position is 2S, 3S or 2
R and 3R. An N-carbamate-type protected β-amino alcohol represented by the general formula (2): [Wherein, A, R and * have the same meanings as described above, and the configuration at the 2-position and 3-position is 2S, 3S or 2R, 3R. ]
In the presence of a base, an N-carbamate-type protected β-aminoepoxide represented by the following formula (3) Reacting with N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide represented by the general formula (4): [Wherein, A, R and * have the same meaning as described above, and the configuration at the 2-position and 3-position is 2R, 3S or 2S, 3R. ]
A method for producing an N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative represented by the formula:

【0011】一般式(4)で表されるN−カルバメート
型保護ベンゼンスルホンアミド誘導体を上記製造方法に
より得た後、該N−カルバメート型保護ベンゼンスルホ
ンアミド誘導体のカルバメート型保護基を脱保護するこ
とを特徴とする、一般式(5) [式中、Aはそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基も
しくは炭素数7〜20のアラルキル基、又はこれらの基
の炭素骨格中にヘテロ原子を含む基を示し、*は不斉炭
素原子であることを示し、2位と3位の立体配置は2
R、3S又は2S、3Rである。]で表されるベンゼン
スルホンアミド誘導体又はその塩の製造方法。
After the N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative represented by the general formula (4) is obtained by the above-mentioned production method, the carbamate-type protecting group of the N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative is deprotected. General formula (5) characterized by the following: [Wherein, A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, each of which may have a substituent, or a carbon skeleton of these groups. Represents a group containing a hetero atom, * represents an asymmetric carbon atom, and the configuration at the 2-position and 3-position is 2
R, 3S or 2S, 3R. ] The method for producing a benzenesulfonamide derivative or a salt thereof represented by the formula:

【0012】一般式(6) [式中、Aはそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基も
しくは炭素数7〜20のアラルキル基、又はこれらの基
の炭素骨格中にヘテロ原子を含む基を示し、*は不斉炭
素原子であることを示し、2位と3位の立体配置は2
R、3S又は2S、3Rである。]で表されるN−ベン
ジルオキシカルボニル保護ベンゼンスルホンアミド誘導
体にメタンスルホン酸を作用させてベンジルオキシカル
ボニル保護基を脱保護することを特徴とする、一般式
(5) [式中、A及び*は前記と同じ意味を示し、2位と3位
の立体配置は2R、3S又は2S、3Rである。]で表
されるベンゼンスルホンアミド誘導体又はその塩の製造
方法。
General formula (6) [Wherein, A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, each of which may have a substituent, or a carbon skeleton of these groups. Represents a group containing a hetero atom, * represents an asymmetric carbon atom, and the configuration at the 2-position and 3-position is 2
R, 3S or 2S, 3R. Wherein the benzyloxycarbonyl-protecting group is deprotected by reacting methanesulfonic acid with the N-benzyloxycarbonyl-protected benzenesulfonamide derivative represented by the general formula (5): [Wherein, A and * have the same meanings as described above, and the configuration at the 2- and 3-positions is 2R, 3S or 2S, 3R. ] The method for producing a benzenesulfonamide derivative or a salt thereof represented by the formula:

【0013】少なくともそのジアステレオマーを不純物
として含有する、式(7) [式中、*は不斉炭素原子であることを示し、2位と3
位の立体配置は2R、3S又は2S、3Rである。]で
表されるベンゼンスルホンアミド誘導体のメタンスルホ
ン酸塩を、アルコール又はアルコール系混合溶媒から晶
析し、不純物を母液に分離除去することを特徴とする、
該ベンゼンスルホンアミド誘導体メタンスルホン酸塩の
結晶の製造方法。
Formula (7) containing at least its diastereomer as an impurity [Wherein, * represents an asymmetric carbon atom;
The configuration of the position is 2R, 3S or 2S, 3R. A methanesulfonate of a benzenesulfonamide derivative represented by the following formula: is crystallized from an alcohol or an alcohol-based mixed solvent, and impurities are separated and removed from a mother liquor.
A method for producing crystals of the benzenesulfonamide derivative methanesulfonate.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.

【0015】本発明における式中、Aは水素原子、それ
ぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキ
ル基、炭素数6〜15のアリール基もしくは炭素数7〜
20のアラルキル基、又はこれらの基の炭素骨格中にヘ
テロ原子を含む基を示す。置換基を有する場合の置換基
としては、本発明の反応に特に悪影響を与えない基であ
れば特に限定されず、例えばアルコキシ基(好ましくは
炭素数1〜6)、ニトロ基、アルキル基(好ましくは炭
素数1〜6)、ハロゲン原子等が挙げられる。
In the formula in the present invention, A is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms or an aryl group having 7 to 15 carbon atoms, each of which may have a substituent.
20 represents an aralkyl group or a group containing a hetero atom in the carbon skeleton of these groups. The substituent in the case of having a substituent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction of the present invention. For example, an alkoxy group (preferably having 1 to 6 carbon atoms), a nitro group, an alkyl group (preferably Represents a carbon atom having 1 to 6) and a halogen atom.

【0016】炭素骨格中にヘテロ原子(窒素、酸素、イ
オウ原子等)を含む基としては、例えばメチルチオエチ
ル基、4−ベンジルオキシフェニルメチル基、フェニル
チオメチル基等が挙げられる。
Examples of the group containing a hetero atom (nitrogen, oxygen, sulfur atom, etc.) in the carbon skeleton include a methylthioethyl group, a 4-benzyloxyphenylmethyl group, a phenylthiomethyl group and the like.

【0017】このような基は例えばアミノ酸を原料とし
て導入することができる。例えば、Aが水素原子であれ
ばグリシン、メチル基であればアラニン、イソプロピル
基であればバリン、2−メチルプロピル基であればロイ
シン、1−メチルプロピル基であればイソロイシン、ベ
ンジル基であればフェニルアラニン、メチルチオエチル
基であればメチオニンを原料として用いることにより導
入できる。
Such a group can be introduced, for example, using an amino acid as a raw material. For example, if A is a hydrogen atom, it is glycine; if it is a methyl group, it is alanine; if it is an isopropyl group, it is valine; if it is a 2-methylpropyl group, it is leucine; if it is a 1-methylpropyl group, it is isoleucine; if it is a benzyl group; A phenylalanine or methylthioethyl group can be introduced by using methionine as a raw material.

【0018】また、Aはアミノ酸側鎖の官能基が保護さ
れたアミノ酸、例えばO−ベンジルチロシン等を原料と
して導入される基でもよい。
A may be a group introduced from an amino acid in which the functional group of the amino acid side chain is protected, such as O-benzyltyrosine.

【0019】また、Aは天然アミノ酸由来の原料から導
入される基に限定されず、非天然アミノ酸由来の原料か
ら導入される基(例えばフェニル基、フェニルチオメチ
ル基等)でもよい。
A is not limited to a group introduced from a raw material derived from a natural amino acid, but may be a group introduced from a raw material derived from an unnatural amino acid (for example, a phenyl group or a phenylthiomethyl group).

【0020】Aはベンジル基であるのが特に好ましい。A is particularly preferably benzyl.

【0021】本発明における式中、Rはアルキル基又は
ベンジル基を示す。アルキル基は炭素数1〜8のアルキ
ル基であり、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であ
る。例えば、メチル基、エチル基、tert−ブチル基
等が挙げられる。
In the formula of the present invention, R represents an alkyl group or a benzyl group. The alkyl group is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. For example, a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group and the like can be mentioned.

【0022】Rはtert−ブチル基及びベンジル基で
あるのが特に好ましい。
R is particularly preferably tert-butyl and benzyl.

【0023】本発明において原料として用いられる一般
式(1)で表されるN−カルバメート型保護β−アミノ
アルコール、又は一般式(2)で表されるN−カルバメ
ート型保護β−アミノエポキシドは公知化合物であり、
例えば一般式(8)で表されるN−カルバメート型保護
α−クロロメチルケトンを還元した後に塩基処理する
等、既知の方法によって製造することができる(例えば
国際出願WO00/44706参照)。
The N-carbamate-type protected β-amino alcohol represented by the general formula (1) or the N-carbamate-type protected β-aminoepoxide represented by the general formula (2) used as a raw material in the present invention is known. A compound,
For example, it can be produced by a known method such as reducing the N-carbamate-type protected α-chloromethyl ketone represented by the general formula (8) followed by treatment with a base (for example, see International Application WO00 / 44706).

【0024】 [式中、A、R及び*は前記と同じ意味を示し、2位と
3位の立体配置は2S、3S又は2R、3Rである。]
[0024] [Wherein, A, R and * have the same meanings as described above, and the configuration at the 2-position and 3-position is 2S, 3S or 2R, 3R. ]

【0025】本発明において原料として用いられるN−
イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミド(式
(3))は、例えば特表平9−507862号公報、又
はM. L. Carmellinoら、Boll. Chim. Farm. 1983, 122,
10, 485.に記載されているような既知の方法によって
製造することが出来る。
In the present invention, N-
Isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (formula (3)) is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-507762, ML Carmellino et al., Boll. Chim. Farm. 1983, 122,
It can be manufactured by a known method as described in 10, 485.

【0026】以下、N−カルバメート型保護β−アミノ
アルコール(一般式(1))、又はN−カルバメート型
保護β−アミノエポキシド(一般式(2))を塩基存在
下、N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミ
ド(式(3))と反応させ、N−カルバメート型保護ベ
ンゼンスルホンアミド誘導体(一般式(4))を製造す
る方法について説明する。
Hereinafter, N-carbamate-type protected β-amino alcohol (general formula (1)) or N-carbamate-type protected β-aminoepoxide (general formula (2)) is reacted with N-isobutyl-3-amine in the presence of a base. A method for producing an N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative (general formula (4)) by reacting with nitrobenzenesulfonamide (formula (3)) will be described.

【0027】塩基としては、例えば水素化リチウム、水
素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸セシウム、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、ナトリウムブトキシド、カリウ
ムtert−ブトキシド、トリエチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、
N−メチルモルホリン、ピリジン、2,6−ルチジン、
N,N−ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。特に
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム又は炭酸セシウムが好ましく、炭酸カリウ
ムが最も好ましい。これらの塩基は各々単独で、又は1
種以上を混合して用いてもよい。
As the base, for example, lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride, calcium hydride,
Sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate,
Potassium carbonate, cesium carbonate, sodium methoxide,
Sodium ethoxide, sodium butoxide, potassium tert-butoxide, triethylamine, diisopropylethylamine, dicyclohexylmethylamine,
N-methylmorpholine, pyridine, 2,6-lutidine,
N, N-dimethylaminopyridine and the like can be mentioned. Especially sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate,
Potassium carbonate or cesium carbonate is preferred, and potassium carbonate is most preferred. Each of these bases may be used alone or
Mixtures of more than one species may be used.

【0028】反応溶媒としては、例えばメタノール、エ
タノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−
ブタノール、1,2−ジメチルプロパノール、水等のプ
ロトン性溶媒、又はアセトン、2−ブタノン、メチルイ
ソブチルケトン、トルエン、テトラヒドロフラン、1,
4−ジオキサン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性溶
媒が挙げられる。特にアセトン、2−ブタノン、メチル
イソブチルケトン又はトルエンが好ましく、2−ブタノ
ンが最も好ましい。これらの反応溶媒は各々単独で、又
は1種以上を混合して用いてもよい。
Examples of the reaction solvent include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol and 1-propanol.
Protic solvents such as butanol, 1,2-dimethylpropanol and water, or acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone, toluene, tetrahydrofuran,
Aprotic solvents such as 4-dioxane, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like. Particularly, acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone or toluene is preferred, and 2-butanone is most preferred. These reaction solvents may be used alone or in combination of one or more.

【0029】塩基の使用量は用いる塩基や溶媒の種類に
よっても異なるが、通常1〜10当量であり、好ましく
は1〜6当量である。反応温度も用いる塩基や溶媒の種
類によっても異なるが通常−10〜150℃であり、好
ましくは50〜130℃であり、特に好ましくは70〜
100℃である。反応温度は、反応の途中において変更
してもよい。反応時間は特に限定されないが、好ましく
は10分から50時間程度である。
The amount of the base used varies depending on the type of the base and the solvent used, but is usually 1 to 10 equivalents, preferably 1 to 6 equivalents. The reaction temperature also varies depending on the type of base or solvent used, but is usually -10 to 150 ° C, preferably 50 to 130 ° C, particularly preferably 70 to 130 ° C.
100 ° C. The reaction temperature may be changed during the course of the reaction. The reaction time is not particularly limited, but is preferably about 10 minutes to 50 hours.

【0030】反応は通常撹拌下に行われ、反応終了後、
酸を加えて反応を停止させても良い。酸としては塩酸、
硫酸、酢酸、クエン酸、硫酸水素カリウム水溶液等を好
ましく用いることができる。その後、反応溶液に必要に
応じて水や酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ジエチルエ
ーテル、tert−ブチルメチルエーテル、ジクロロメ
タン、クロロホルム、トルエン、アセトン、2−ブタノ
ン、メチルイソブチルケトン等の有機溶媒を加えて分層
することによって、ベンゼンスルホンアミド誘導体(一
般式(4))の溶液を得ることができる。更に必要によ
り溶液を濃縮し、また25℃から100℃程度の範囲で
溶液の加温を行い、またヘキサン、ヘプタン、低級アル
コール水溶液、水等の貧溶媒を加え、−20℃から室温
の範囲で冷却するなどして晶析を行い、ベンゼンスルホ
ンアミド誘導体(一般式(4))を得ることができる。
クロマトグラフィー等の手段を用いて目的物を単離する
こともできる。また抽出を行わずに、反応溶液を必要に
より濃縮し、直接上記のような条件で冷却晶析を行い、
得られた結晶を水等で洗浄することでベンゼンスルホン
アミド誘導体(一般式(4))の結晶を得ることもでき
る。
The reaction is usually carried out with stirring.
The reaction may be stopped by adding an acid. Hydrochloric acid as the acid,
Sulfuric acid, acetic acid, citric acid, an aqueous solution of potassium hydrogen sulfate and the like can be preferably used. Thereafter, if necessary, water or an organic solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, diethyl ether, tert-butyl methyl ether, dichloromethane, chloroform, toluene, acetone, 2-butanone, and methyl isobutyl ketone are added to the reaction solution to separate the layers. By doing so, a solution of the benzenesulfonamide derivative (general formula (4)) can be obtained. Further, if necessary, the solution is concentrated, and the solution is heated in the range of about 25 ° C. to about 100 ° C., and a poor solvent such as hexane, heptane, a lower alcohol aqueous solution, or water is added. Crystallization is performed by cooling or the like to obtain a benzenesulfonamide derivative (general formula (4)).
The target substance can also be isolated using a means such as chromatography. Also, without performing extraction, the reaction solution is concentrated if necessary, and directly cooled and crystallized under the above conditions,
By washing the obtained crystal with water or the like, a crystal of a benzenesulfonamide derivative (general formula (4)) can be obtained.

【0031】次にN−カルバメート保護ベンゼンスルホ
ンアミド誘導体(一般式(4))を脱保護することによ
って、ベンゼンスルホンアミド誘導体(一般式(5))
を得る方法について説明する。
Next, the N-carbamate protected benzenesulfonamide derivative (general formula (4)) is deprotected to give a benzenesulfonamide derivative (general formula (5))
A method for obtaining the following will be described.

【0032】脱保護の反応条件はN−カルバメート保護
基の種類によって異なる(カルバメート型の保護基につ
いては、例えばプロテクティング・グループス・イン・
オーガニック・ケミストリー 第2版、ジョン・ウィリ
ー・アンド・ソンズ社、1991年(Protecting Group
s in Organic Chemistry 2nd edition (John Wiley&So
ns, Inc. 1991)参照)。
The deprotection reaction conditions differ depending on the type of N-carbamate protecting group (for carbamate-type protecting groups, for example, Protecting Groups in
Organic Chemistry 2nd Edition, John Willie and Sons, 1991 (Protecting Group
s in Organic Chemistry 2nd edition (John Wiley & So
ns, Inc. 1991)).

【0033】例えばtert−ブトキシカルボニル基
(Boc基)の場合は、酸を作用させることによって脱
保護を行うことができる(例えばP. L. Beaulieuら、ジ
ャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー、43
巻、1094頁、2000年(J.Med. Chem., 2000, 4
3, 1094.)、又は国際出願WO99/48885参
照)。
For example, in the case of a tert-butoxycarbonyl group (Boc group), deprotection can be performed by the action of an acid (for example, PL Beaulieu et al., Journal of Medicinal Chemistry, 43).
Volume, 1094, 2000 (J. Med. Chem., 2000, 4
3, 1094.) or International Application WO 99/48885).

【0034】保護基がベンジルオキシカルボニル基(C
bz基)の場合、脱保護は通常水素添加により行われる
が、N−Cbz保護スルホンアミド誘導体(一般式
(6))の場合には副反応としてニトロ基の還元が進行
する為、好ましくない。また、臭化水素酸/酢酸溶液を
作用させることによって脱保護する方法が知られている
ものの、副反応が進行する等の問題点が有り、工業的に
必ずしも満足な方法とは言えない(特開平9−1944
44号公報、実施例22参照)。
When the protecting group is a benzyloxycarbonyl group (C
In the case of (bz group), deprotection is usually performed by hydrogenation, but in the case of N-Cbz protected sulfonamide derivative (general formula (6)), reduction of the nitro group proceeds as a side reaction, which is not preferable. Further, although a method of deprotection by the action of a hydrobromic acid / acetic acid solution is known, it is not always industrially satisfactory due to problems such as the side reaction progressing. Kaihei 9-1944
No. 44, Example 22).

【0035】このような技術背景下において、本発明者
らは驚くべきことにN−Cbz保護スルホンアミド誘導
体(一般式(6))にメタンスルホン酸を作用させるこ
とによってCbz基を収率良く脱保護できることを見い
だした。
Under such a technical background, the present inventors surprisingly surprisingly remove the Cbz group by reacting methanesulfonic acid on the N-Cbz-protected sulfonamide derivative (general formula (6)). I found something that could be protected.

【0036】メタンスルホン酸の使用量は特に制限され
ないが、好ましくはN−Cbz保護ベンゼンスルホンア
ミド誘導体(一般式(6))1gに対して0.1−10
mlを用いる。反応温度も特に限定されないが、好まし
くは0−80℃である。反応時間も特に限定されない
が、好ましくは10分−50時間である。添加物として
例えばチオアニソール、m−クレゾール、エタンジチオ
ール等のカチオンスキャベンジャー(cation scavenge
r)を加えておくのも好ましく、特にチオアニソールを加
えておくのが好ましい。また、反応を阻害しない範囲で
例えばジクロロメタン、ジクロロエタン等の任意の溶媒
を加えてもよい。
The amount of methanesulfonic acid to be used is not particularly limited, but is preferably 0.1-10 to 1 g of the N-Cbz-protected benzenesulfonamide derivative (general formula (6)).
Use ml. Although the reaction temperature is not particularly limited, it is preferably 0-80 ° C. Although the reaction time is not particularly limited, it is preferably 10 minutes to 50 hours. As an additive, for example, cation scavenge such as thioanisole, m-cresol, ethanedithiol, etc.
It is also preferable to add r), and particularly preferable to add thioanisole. Further, any solvent such as dichloromethane, dichloroethane and the like may be added as long as the reaction is not inhibited.

【0037】脱保護により得られたベンゼンスルホンア
ミド誘導体(一般式(5))は、塩としてアルコール又
はアルコール系混合溶媒から晶析を行うことによって純
度の高い結晶を得ることができる。
The benzenesulfonamide derivative (general formula (5)) obtained by the deprotection can obtain high purity crystals by crystallization from alcohol or an alcohol-based mixed solvent as a salt.

【0038】まずベンゼンスルホンアミド誘導体(一般
式(5))の塩にアルコール又はアルコール系混合溶媒
を加える。アルコールとしては例えばメタノール、エタ
ノール、1−プロパノール、2−プロパノール等の炭素
原子数1〜6のアルコールが挙げられる。特にメタノー
ル又はエタノールが好ましい。アルコール系混合溶媒と
は、水又はアルコールと混和する有機溶媒とアルコール
との混合溶媒をいう。アルコールと混和する有機溶媒と
しては、例えばトルエン、酢酸エチル、酢酸イソプロピ
ル、エーテル、メチルtert−ブチルエーテル、ジク
ロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、アセト
ン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン、アセトニ
トリル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。アルコー
ル系混合溶媒としては、特にアルコールと水の混合溶媒
が好ましい。このときアルコールと他の溶媒(例えば
水)の組成比は特に制限されないが、好ましくは5〜9
9%、より好ましくは25〜95%である(%は混合溶
媒におけるアルコールの体積比で示している)。
First, an alcohol or an alcohol-based mixed solvent is added to the salt of the benzenesulfonamide derivative (general formula (5)). Examples of the alcohol include alcohols having 1 to 6 carbon atoms such as methanol, ethanol, 1-propanol and 2-propanol. Particularly, methanol or ethanol is preferable. The alcohol-based mixed solvent refers to a mixed solvent of water or an organic solvent miscible with an alcohol and an alcohol. Examples of the organic solvent miscible with the alcohol include toluene, ethyl acetate, isopropyl acetate, ether, methyl tert-butyl ether, dichloromethane, chloroform, dichloroethane, acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone, acetonitrile, tetrahydrofuran, and the like. As the alcohol-based mixed solvent, a mixed solvent of alcohol and water is particularly preferable. At this time, the composition ratio of the alcohol and another solvent (for example, water) is not particularly limited, but is preferably 5 to 9
It is 9%, more preferably 25-95% (% is indicated by volume ratio of alcohol in the mixed solvent).

【0039】アルコール又はアルコール系混合溶媒の使
用量は特に制限されないが、例えばスルホンアミド誘導
体(一般式(5))の塩1gに対して、2〜20mlの
量の溶媒を使用することができる。
The amount of the alcohol or the alcohol-based mixed solvent is not particularly limited, but for example, 2 to 20 ml of the solvent can be used per 1 g of the salt of the sulfonamide derivative (general formula (5)).

【0040】なお、ベンゼンスルホンアミド誘導体の塩
は、必要により脱塩し、別の酸を加えることにより、別
のベンゼンスルホンアミド誘導体の塩とすることもでき
る。
The salt of the benzenesulfonamide derivative may be desalted as necessary, and then added to another acid to form another salt of the benzenesulfonamide derivative.

【0041】次に反応混合物を冷却して、ベンゼンスル
ホンアミド誘導体(一般式(5))の塩の晶析を行な
う。
Next, the reaction mixture is cooled to crystallize a salt of a benzenesulfonamide derivative (general formula (5)).

【0042】晶析を行う温度は、−10℃から25℃が
好ましい。このとき結晶化は撹拌しながら行っても静置
条件下で行ってもよいが、撹拌しながら行うのが好まし
い。更に、必要により、精製効果を上げるため、30℃
〜80℃程度に加温し、一部結晶を溶解させた後、再度
−10℃〜25℃に冷却するなどして晶析を行うことも
できる。得られた結晶は、アルコール、アルコール系混
合溶媒もしくは水、又はメチルtert−ブチルエーテ
ル、酢酸エチル、酢酸イソプロピルもしくはジクロロメ
タン等の有機溶媒で更に洗浄することもできる。晶析を
行うことにより不純物が母液側に効率的に除去される
為、純度の高いベンゼンスルホンアミド誘導体(一般式
(5))の塩の結晶を得ることができる。
The crystallization temperature is preferably from -10 ° C to 25 ° C. At this time, the crystallization may be carried out with stirring or under static conditions, but preferably with stirring. Further, if necessary, in order to increase the purification effect, 30 ° C.
After heating to about 80 ° C. to partially dissolve the crystals, the crystals can be cooled again to −10 ° C. to 25 ° C. for crystallization. The obtained crystals can be further washed with alcohol, an alcohol-based mixed solvent or water, or an organic solvent such as methyl tert-butyl ether, ethyl acetate, isopropyl acetate or dichloromethane. By performing crystallization, impurities are efficiently removed to the mother liquor side, so that a crystal of a salt of a highly pure benzenesulfonamide derivative (general formula (5)) can be obtained.

【0043】特にN−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−
4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロベ
ンゼンスルホンアミド(式(7))のメタンスルホン酸
塩においては、アルコール又はアルコール系混合溶媒か
ら晶析した場合、不純物であるジアステレオマーが母液
側に効率的に分離除去される為、工業的な観点から優れ
た精製方法となる。
In particular, N- (3-amino-2-hydroxy-
In the methanesulfonate of 4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (formula (7)), when crystallized from an alcohol or an alcohol-based mixed solvent, diastereomers as impurities are present in the mother liquor. Since it is efficiently separated and removed, it is an excellent purification method from an industrial viewpoint.

【0044】以下に実施例により本発明を更に詳細に説
明する。もちろん本実施例は本発明を何ら限定するもの
ではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Of course, the present embodiment does not limit the present invention at all.

【0045】<参考例1> N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの
製造 N−イソブチルアミン(19.72g)にジクロロメタ
ン(270ml)を加え0℃に冷却した。この溶液に1
5%炭酸ナトリウム水溶液(225.8g)を加えた後
に、3−ニトロベンゼンスルホニルクロリド(59.6
4g)のジクロロメタン(100ml)溶液を15分か
けて滴下した。滴下終了後、反応温度を20℃に昇温
し、さらに2時間30分攪拌した後、水(160ml)
を加えて抽出を行った。水層にジクロロメタン(80m
l)を加え再抽出を行った後、ジクロロメタン層を減圧
下濃縮した。これにヘキサン(143ml)、酢酸エチ
ル(71.5ml)を加え、再結晶を行った。濾取して
得た結晶を減圧下乾燥し、N−イソブチル−3−ニトロ
ベンゼンスルホンアミドの結晶を67.6g(収率97
%)得た。1 H-NMR(CDCl3) δppm :0.89 (d, J=6.6Hz, 6H) , 1.69
-1.82 (m, 1H), 2.84 (dd, J=6.3, 6.3Hz, 2H), 4.97
(t, J=6.3Hz, 1H), 7.76 (dd, J=8.1, 8.1Hz, 1H), 8.2
1 (ddd, J=8.1, 1.8, 1.2Hz, 1H), 8.43 (ddd, J=8.1,
2.4, 1.2Hz, 1H),8.70-8.72 (m, 1H) マススペクトル m/e:257.06 ( MH ) 融点;90℃
Reference Example 1 Production of N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide Dichloromethane (270 ml) was added to N-isobutylamine (19.72 g) and cooled to 0 ° C. 1 in this solution
After adding a 5% aqueous sodium carbonate solution (225.8 g), 3-nitrobenzenesulfonyl chloride (59.6) was added.
A solution of 4 g) in dichloromethane (100 ml) was added dropwise over 15 minutes. After completion of the dropwise addition, the reaction temperature was raised to 20 ° C., and the mixture was further stirred for 2 hours and 30 minutes.
Was added to perform extraction. Dichloromethane (80m
After l) was added and re-extraction was performed, the dichloromethane layer was concentrated under reduced pressure. Hexane (143 ml) and ethyl acetate (71.5 ml) were added thereto, and recrystallization was performed. The crystals obtained by filtration were dried under reduced pressure, and 67.6 g of crystals of N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide were obtained (yield 97).
%)Obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm: 0.89 (d, J = 6.6 Hz, 6H), 1.69
-1.82 (m, 1H), 2.84 (dd, J = 6.3, 6.3Hz, 2H), 4.97
(t, J = 6.3Hz, 1H), 7.76 (dd, J = 8.1, 8.1Hz, 1H), 8.2
1 (ddd, J = 8.1, 1.8, 1.2Hz, 1H), 8.43 (ddd, J = 8.1,
2.4, 1.2Hz, 1H), 8.70-8.72 (m, 1H) Mass spectrum m / e: 257.06 (MH ) Melting point; 90 ° C.

【0046】<実施例1> (2R,3S)−N−(3−tertブトキシカルボニ
ルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N
−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの製
造 (2S,3S)−3−tert−ブトキシカルボニルア
ミノ−1,2−エポキシ−4−フェニルブタン(500
mg)、N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホン
アミド(490mg)、炭酸カリウム(262mg)に
アセトン(5.0ml)を加え、60℃にて23時間攪
拌した。これを濾過して炭酸カリウムを取り除き、減圧
下にてアセトンを留去した。ジクロロメタン(10m
l)、水(10ml)を加えて抽出した後、ジクロロメ
タン層を濃縮した。得られた結晶をヘキサン(4m
l)、酢酸エチル(1ml)の混合溶液により洗浄した
後、減圧下乾燥し、(2R,3S)−N−(3−ter
tブトキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フ
ェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロベンゼン
スルホンアミドの結晶を827mg(収率84%)得
た。1 H-NMR(CDCl3) δppm :0.88 (d, J=6.6Hz, 6H), 1.36
(s, 9H), 1.82-1.96 (m,1H), 2.85-2.98 (m, 2H), 3.01
(d, J=7.8Hz, 2H), 3.21 (d, J=6.3Hz, 2H), 3.70-3.9
0 (m, 3H), 4.63 (bs, 1H), 7.20-7.34 (m, 5H), 7.72
(dd, J=7.8, 7.8Hz, 1H), 8.10 (d, J=7.8Hz, 1H), 8.4
2 (d, J=7.8Hz, 1H), 8.63 (s,1H) マススペクトル m/e: 522.36 ( MH+ ) [α]D 20=2.97゜(c 1.0, CHCl3) 融点;114℃
Example 1 (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N
Preparation of -isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (2S, 3S) -3-tert-butoxycarbonylamino-1,2-epoxy-4-phenylbutane (500
mg), N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (490 mg) and potassium carbonate (262 mg) were added with acetone (5.0 ml), and the mixture was stirred at 60 ° C for 23 hours. This was filtered to remove potassium carbonate, and acetone was distilled off under reduced pressure. Dichloromethane (10m
l), water (10 ml) was added for extraction, and the dichloromethane layer was concentrated. The obtained crystals were treated with hexane (4 m
l), washed with a mixed solution of ethyl acetate (1 ml), dried under reduced pressure, and treated with (2R, 3S) -N- (3-ter
827 mg (84% yield) of crystals of t-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide were obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δppm: 0.88 (d, J = 6.6Hz, 6H), 1.36
(s, 9H), 1.82-1.96 (m, 1H), 2.85-2.98 (m, 2H), 3.01
(d, J = 7.8Hz, 2H), 3.21 (d, J = 6.3Hz, 2H), 3.70-3.9
0 (m, 3H), 4.63 (bs, 1H), 7.20-7.34 (m, 5H), 7.72
(dd, J = 7.8, 7.8Hz, 1H), 8.10 (d, J = 7.8Hz, 1H), 8.4
2 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.63 (s, 1H) Mass spectrum m / e: 522.36 (MH + ) [α] D 20 = 2.97 ゜ (c 1.0, CHCl 3 ) Melting point; 114 ° C.

【0047】<実施例2> (2R,3S)−N−(3−tert−ブトキシカルボ
ニルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−
N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの
製造 (2S,3S)−3−tert−ブトキシカルボニルア
ミノ−1,2−エポキシ−4−フェニルブタン(500
mg)、N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホン
アミド(490mg)、炭酸カリウム(525mg)に
2−ブタノン(2.5ml)を加え、80℃において4
8時間攪拌した。水(10ml)を加えた後、得られた
結晶を濾取し、HPLCで分析した結果、(2R,3
S)−N−(3−tertブトキシカルボニルアミノ−
2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N−イソブチ
ル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドが926.1m
g(収率93%)得られていることを確認した。
Example 2 (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl)-
Preparation of N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (2S, 3S) -3-tert-butoxycarbonylamino-1,2-epoxy-4-phenylbutane (500
mg), N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (490 mg) and potassium carbonate (525 mg), and 2-butanone (2.5 ml) was added.
Stir for 8 hours. After adding water (10 ml), the obtained crystals were collected by filtration and analyzed by HPLC.
S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-
926.1 m of 2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide
g (93% yield).

【0048】<実施例3> (2R,3S)−N−(3−tert−ブトキシカルボ
ニルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−
N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの
製造 (2S,3S)−3−tert−ブトキシカルボニルア
ミノ−1,2−エポキシ−4−フェニルブタン(5.0
0g)、N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホン
アミド(4.90g)、炭酸カリウム(5、25g)に
メチルイソブチルケトン(25ml)を加え、90℃に
て6時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、減圧下
においてメチルイソブチルケトンを留去した。得られた
結晶に水(30ml)を加え、結晶を濾取した。さらに
結晶を水(20ml)で洗浄した後、減圧下乾燥し、
(2R,3S)−N−(3−tertブトキシカルボニ
ルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N
−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの結
晶を8.34g(収率84%)得た。
Example 3 (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl)-
Preparation of N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (2S, 3S) -3-tert-butoxycarbonylamino-1,2-epoxy-4-phenylbutane (5.0
0 g), N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (4.90 g), and potassium carbonate (5, 25 g) were added with methyl isobutyl ketone (25 ml), and the mixture was stirred at 90 ° C. for 6 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure. Water (30 ml) was added to the obtained crystals, and the crystals were collected by filtration. The crystals were further washed with water (20 ml) and dried under reduced pressure.
(2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N
8.34 g of crystals of -isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide were obtained (yield 84%).

【0049】<実施例4> (2R,3S)−N−(3−tert−ブトキシカルボ
ニルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−
N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの
製造 (2S,3S)−3−tert−ブトキシカルボニルア
ミノ−1,2−エポキシ−4−フェニルブタン(300
mg)、N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホン
アミド(295mg)、炭酸カリウム(316mg)に
トルエン(1.5ml)を加え、90℃にて21時間攪
拌した。溶液を室温まで冷却し、得られたスラリー溶液
にジクロロメタン(10ml)を加えて結晶を溶かした
後、HPLCで分析した結果、(2R,3S)−N−
(3−tertブトキシカルボニルアミノ−2−ヒドロ
キシ−4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニ
トロベンゼンスルホンアミドが459mg(収率77
%)得られていることを確認した。
Example 4 (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl)-
Preparation of N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (2S, 3S) -3-tert-butoxycarbonylamino-1,2-epoxy-4-phenylbutane (300
mg), N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (295 mg) and potassium carbonate (316 mg) were added with toluene (1.5 ml), and the mixture was stirred at 90 ° C for 21 hours. The solution was cooled to room temperature, and dichloromethane (10 ml) was added to the obtained slurry solution to dissolve the crystals. As a result of analysis by HPLC, (2R, 3S) -N-
459 mg of (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (yield 77)
%) Was confirmed to have been obtained.

【0050】<実施例5> (2R,3S)−N−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−
4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロベ
ンゼンスルホンアミド メタンスルホン酸塩の製造 実施例2の方法で得られた(2R,3S)−N−(3−
tert−ブトキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ
−4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロ
ベンゼンスルホンアミド(5.01g)にエタノール
(49.4ml)を加え、65℃において攪拌した。こ
こにメタンスルホン酸(0.768ml)を加え、1時
間30分攪拌した。この反応液を20℃に冷却し、結晶
を濾取した。結晶をメチル−tert−ブチルエーテル
(25ml、25ml)により2度洗浄を行った。得ら
れた結晶を減圧下乾燥し、(2R,3S)−N−(3−
アミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N−
イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミド メタ
ンスルホン酸塩の結晶を3.90g(収率95%)得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δppm :0.76 (d, J=6.6Hz, 3H), 0.8
3 (d, J=6.6Hz, 3H), 1.80-1.95 (m, 1H), 2.30 (s, 3
H), 2.73-3.13 (m, 5H), 3.33-3.51 (m, 2H), 3.86-3.9
5 (m, 1H), 5.57 (d, J=5.7Hz, 1H), 7.24-7.40 (m, 5
H), 7.76-7.89(bs,3H), 7.90(dd, J=7.8, 7.8Hz, 1H),
8.24 (m, 1H), 8.50 (m, 2H) マススペクトル m/e: 516.32 ( MH) [α]D 25=8.02゜(c 2.0, MeOH) 融点;235−236.2℃
Example 5 (2R, 3S) -N- (3-amino-2-hydroxy-
Production of 4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide methanesulfonate (2R, 3S) -N- (3-
Ethanol (49.4 ml) was added to tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (5.01 g), and the mixture was stirred at 65 ° C. Methanesulfonic acid (0.768 ml) was added thereto, and the mixture was stirred for 1 hour and 30 minutes. The reaction solution was cooled to 20 ° C., and the crystals were collected by filtration. The crystals were washed twice with methyl-tert-butyl ether (25 ml, 25 ml). The obtained crystals were dried under reduced pressure to give (2R, 3S) -N- (3-
Amino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-
3.90 g (yield 95%) of crystals of isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide methanesulfonate were obtained. 1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 0.76 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 0.8
3 (d, J = 6.6Hz, 3H), 1.80-1.95 (m, 1H), 2.30 (s, 3
H), 2.73-3.13 (m, 5H), 3.33-3.51 (m, 2H), 3.86-3.9
5 (m, 1H), 5.57 (d, J = 5.7Hz, 1H), 7.24-7.40 (m, 5
H), 7.76-7.89 (bs, 3H), 7.90 (dd, J = 7.8, 7.8Hz, 1H),
8.24 (m, 1H), 8.50 (m, 2H) Mass spectrum m / e: 516.32 (MH ) [α] D 25 = 8.02 ゜ (c 2.0, MeOH) Melting point: 235-26.2 ° C.

【0051】<参考例2> (2S,3S)−3−tert−ブトキシカルボニルア
ミノ−1−クロロ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブタ
ンの製造方法 (3S)−3−tert−ブトキシカルボニルアミノ−
1−クロロ−4−フェニル−2−ブタノン(2.08
g)にトルエン(4.2ml)とエタノール(16.7
ml)を加え、−10℃で水素化ホウ素ナトリウム(1
33mg)を分割投与し、1時間40分撹拌した。反応
液に酢酸(0.40ml)を加え反応を停止した。1時
間かけて60℃に加温し、さらに60℃で30分攪拌し
た。次いで1時間50分かけて−10℃に冷却し、さら
に−10℃で6時間攪拌した。得られた結晶を濾取し、
トルエン(10.4ml)で洗浄し、さらに0℃の水で
洗浄した後、減圧下で乾燥して、目的の(2S,3S)
−3−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−クロ
ロ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブタン(1.52
g)を得た。この乾燥結晶をHPLCにて分析したとこ
ろ(2S,3S):(2R,3S)=99.2:0.8
の品質の結晶であった。
Reference Example 2 Method for producing (2S, 3S) -3-tert-butoxycarbonylamino-1-chloro-2-hydroxy-4-phenylbutane (3S) -3-tert-butoxycarbonylamino-
1-chloro-4-phenyl-2-butanone (2.08
g) in toluene (4.2 ml) and ethanol (16.7).
ml), and sodium borohydride (1
33 mg) and stirred for 1 hour and 40 minutes. Acetic acid (0.40 ml) was added to the reaction solution to stop the reaction. The mixture was heated to 60 ° C. over 1 hour, and further stirred at 60 ° C. for 30 minutes. Then, it cooled to -10 degreeC over 1 hour and 50 minutes, and also stirred at -10 degreeC for 6 hours. The obtained crystals are collected by filtration,
After washing with toluene (10.4 ml), further washing with water at 0 ° C., and drying under reduced pressure, the desired (2S, 3S)
-3-tert-butoxycarbonylamino-1-chloro-2-hydroxy-4-phenylbutane (1.52
g) was obtained. When the dried crystals were analyzed by HPLC, (2S, 3S): (2R, 3S) = 99.2: 0.8.
Quality crystals.

【0052】<実施例6> (2R,3S)−N−(3−tert−ブトキシカルボ
ニルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−
N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの
製造 参考例2と同様の方法で得られた(2S,3S)−3−
tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−クロロ−2
−ヒドロキシ−4−フェニルブタン(12.6g、(2
S,3S):(2R,3S)=99.2:0.8)にア
セトン(100ml)を加えた。さらに10%水酸化ナ
トリウム水溶液(27.8g)を加え、30℃にて1時
間30分攪拌した。室温まで冷却した後、分液して水層
を取り除き、減圧下においてアセトンを留去した。メチ
ルイソブチルケトン(37.9ml)加え、さらに減圧
下溶媒を留去した。得られた結晶にメチルイソブチルケ
トン(55.5ml)、炭酸カリウム(11.6g)、
N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミド
(10.9g)を加え、90℃にて4時間攪拌した。室
温まで冷却後、減圧下において溶媒を留去した。エタノ
ール(55.5ml)と水(150ml)を加え室温に
おいて5時間攪拌し、この溶液を濾過した。得られた結
晶を減圧下乾燥し、(2R,3S)−N−(3−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ−4−
フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロベンゼ
ンスルホンアミドの結晶を23.1g((2R,3
S):(2S,3S)=99.2:0.8、収率89
%)得た。
Example 6 (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl)-
Production of N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (2S, 3S) -3- obtained by the same method as in Reference Example 2.
tert-butoxycarbonylamino-1-chloro-2
-Hydroxy-4-phenylbutane (12.6 g, (2
(S, 3S) :( 2R, 3S) = 99.2: 0.8) and acetone (100 ml) was added. Further, a 10% aqueous sodium hydroxide solution (27.8 g) was added, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 1 hour and 30 minutes. After cooling to room temperature, liquid separation was performed to remove the aqueous layer, and acetone was distilled off under reduced pressure. Methyl isobutyl ketone (37.9 ml) was added, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Methyl isobutyl ketone (55.5 ml), potassium carbonate (11.6 g),
N-Isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (10.9 g) was added, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 4 hours. After cooling to room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure. Ethanol (55.5 ml) and water (150 ml) were added, the mixture was stirred at room temperature for 5 hours, and the solution was filtered. The obtained crystals were dried under reduced pressure to give (2R, 3S) -N- (3-ter
t-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-
23.1 g of a crystal of phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide ((2R, 3
S): (2S, 3S) = 99.2: 0.8, yield 89
%)Obtained.

【0053】<実施例7> (2R,3S)−N−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−
4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロベ
ンゼンスルホンアミド メタンスルホン酸塩の製造 実施例6の方法で得られた(2R,3S)−N−(3−
tert−ブトキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ
−4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロ
ベンゼンスルホンアミド(5.00g)にエタノール
(55.7ml)を加え、70℃において攪拌した。さ
らにメタンスルホン酸(0.958ml)加え、3時間
攪拌した。さらに、メタンスルホン酸(0.372m
l)加え、3時間攪拌した。20℃に冷却後、結晶を濾
取し、メチル−tert−ブチルエーテル(26ml、
10ml)で2度洗浄した。得られた結晶を減圧下乾燥
し、(2R,3S)−N−(3−アミノ−2−ヒドロキ
シ−4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニト
ロベンゼンスルホンアミド メタンスルホン酸塩の結晶
を4.20g((2R,3S):(2S,3S)=10
0:0、収率99%)得た。
Example 7 (2R, 3S) -N- (3-amino-2-hydroxy-
Preparation of 4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide methanesulfonate (2R, 3S) -N- (3-
Ethanol (55.7 ml) was added to tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (5.00 g), and the mixture was stirred at 70 ° C. Further, methanesulfonic acid (0.958 ml) was added, and the mixture was stirred for 3 hours. Further, methanesulfonic acid (0.372 m
l) added and stirred for 3 hours. After cooling to 20 ° C., the crystals were collected by filtration, and methyl-tert-butyl ether (26 ml,
10 ml) twice. The obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain crystals of (2R, 3S) -N- (3-amino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide methanesulfonate. .20 g ((2R, 3S): (2S, 3S) = 10
0: 0, yield 99%).

【0054】<実施例8> (2R,3S)−N−(3−tertブトキシカルボニ
ルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N
−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの製
造 参考例2と同様の方法で得られた(2S,3S)−3−
tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−クロロ−2
−ヒドロキシ−4−フェニルブタン(1.90g、(2
S,3S):(2R,3S)=99.2:0.8)、N
−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミド
(1.64g)、炭酸カリウム(4.37g)にメチル
エチルケトン(9.5ml)を加え、80℃において1
9時間攪拌した。50℃に冷却後、水(6.3ml)を
加え、分液して水層を取り除いた。HPLCで分析した
結果、(2R,3S)−N−(3−tertブトキシカ
ルボニルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチ
ル)−N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンア
ミドが3.00g(収率91%)得られていることを確
認した。50℃において反応液にヘキサン(45ml)
を15分かけて滴下した後、50℃で1時間攪拌した。
0℃に5時間かけて冷却し、0℃で1時間攪拌した。得ら
れた結晶を濾取し、メチルエチルケトン:ヘキサン=
1:6の混合液(7ml)およびヘキサン(3ml)で
洗浄した。得られた結晶を減圧下乾燥し、(2R,3
S)−N−(3−tert−ブトキシカルボニルアミノ
−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N−イソブ
チル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの結晶を2.
88g((2R,3S):(2S,3S)=99.2:
0.8、収率89%、2工程)得た。
Example 8 (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N
Production of -isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (2S, 3S) -3- obtained in the same manner as in Reference Example 2.
tert-butoxycarbonylamino-1-chloro-2
-Hydroxy-4-phenylbutane (1.90 g, (2
S, 3S): (2R, 3S) = 99.2: 0.8), N
-Isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (1.64 g) and potassium carbonate (4.37 g) were added with methyl ethyl ketone (9.5 ml).
Stir for 9 hours. After cooling to 50 ° C., water (6.3 ml) was added, and the mixture was separated to remove an aqueous layer. As a result of analysis by HPLC, (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide was 3.00 g (yield 91%). ) I confirmed that it was obtained. Hexane (45 ml) was added to the reaction solution at 50 ° C.
Was added dropwise over 15 minutes and then stirred at 50 ° C. for 1 hour.
The mixture was cooled to 0 ° C over 5 hours and stirred at 0 ° C for 1 hour. The obtained crystals were collected by filtration, and methyl ethyl ketone: hexane =
Washed with a 1: 6 mixture (7 ml) and hexane (3 ml). The obtained crystals were dried under reduced pressure to give (2R, 3
1. Crystals of S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide
88 g ((2R, 3S): (2S, 3S) = 99.2:
0.8, 89% yield, two steps).

【0055】<実施例9> (2R,3S)−N−(3−tertブトキシカルボニ
ルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N
−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミドの製
造 参考例2と同様の方法で得られた(2S,3S)−3−
tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−クロロ−2
−ヒドロキシ−4−フェニルブタン(1.90g、(2
S,3S):(2R,3S)=99.2:0.8)、N
−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミド
(1.64g)、炭酸カリウム(4.37g)にメチル
エチルケトン(9.5ml)を加え、80℃において1
9時間攪拌した。50℃に冷却後、水(6.3ml)を
加え、分液して水層を取り除いた。HPLCで分析した
結果、(2R,3S)−N−(3−tertブトキシカ
ルボニルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチ
ル)−N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンア
ミドが3.00g(収率91%)得られていることを確
認した。50℃において反応液にメタノール(6ml)
を加えたのち、水(9ml)を10分かけて滴下した。
50℃で1時間攪拌し、0℃に5時間かけて冷却した後、
0℃で1時間攪拌した。得られた結晶を濾取し、メチル
エチルケトン:ヘキサン=1:6の混合液(7ml)お
よびヘキサン(3ml)で洗浄した。得られた結晶を減
圧下乾燥し、(2R,3S)−N−(3−tertブト
キシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニル
ブチル)−N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホ
ンアミドの結晶を2.81g((2R,3S):(2
S,3S)=99.2:0.8、収率85%、2工程)
得た。
Example 9 (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N
Production of -isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (2S, 3S) -3- obtained in the same manner as in Reference Example 2.
tert-butoxycarbonylamino-1-chloro-2
-Hydroxy-4-phenylbutane (1.90 g, (2
S, 3S): (2R, 3S) = 99.2: 0.8), N
-Isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (1.64 g) and potassium carbonate (4.37 g) were added with methyl ethyl ketone (9.5 ml).
Stir for 9 hours. After cooling to 50 ° C., water (6.3 ml) was added, and the mixture was separated to remove an aqueous layer. As a result of analysis by HPLC, 3.00 g (91% yield) of (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide was obtained. ) I confirmed that it was obtained. At 50 ° C, add methanol (6 ml)
Was added, and water (9 ml) was added dropwise over 10 minutes.
Stir at 50 ° C for 1 hour, cool to 0 ° C over 5 hours,
Stirred at 0 ° C. for 1 hour. The obtained crystals were collected by filtration and washed with a mixed solution of methyl ethyl ketone: hexane = 1: 6 (7 ml) and hexane (3 ml). The obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide as crystals. 81 g ((2R, 3S): (2
S, 3S) = 99.2: 0.8, yield 85%, two steps)
Obtained.

【0056】<実施例10> (2R,3S)−N−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−
4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロベ
ンゼンスルホンアミド メタンスルホン酸塩の製造 参考例2と同様の方法で得られた(2S,3S)−3−
tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−クロロ−2
−ヒドロキシ−4−フェニルブタン(30.0g、(2
S,3S):(2R,3S)=99.2:0.8)、N
−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミド(2
5.9g)、炭酸カリウム(69.1g)にメチルエチ
ルケトン(150ml)を加え、80℃において19時
間攪拌した。50℃に冷却後、水(100ml)を加
え、分液して水層を取り除いた。HPLCで分析した結
果、(2R,3S)−N−(3−tertブトキシカル
ボニルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)
−N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミド
が47.4g(収率91%)得られていることを確認し
た。減圧下においてメチルエチルケトンを留去した後、
エタノール(568ml)を加え、75℃において攪拌
した。さらにメタンスルホン酸(11.8ml)加え、
7時間45分攪拌した。80℃まで加熱した後、20℃
に冷却した。得られた結晶を濾取し、メチル−tert
−ブチルエーテル(284ml)で洗浄した。得られた
結晶を減圧下乾燥し、(2R,3S)−N−(3−アミ
ノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N−イソ
ブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミド メタンス
ルホン酸塩の結晶を44.0g((2R,3S):(2
S,3S)=100:0、収率85%、2工程)得た。
得られた結晶にエタノール(440ml)を加えて70
℃に加熱した後、水(65.9ml)を加えた。この溶
液を70℃から3時間40分かけて15℃に冷却し、一
晩攪拌した後に結晶を濾取した。得られた結晶にメチル
−tert−ブチルエーテル(264ml)を加えて室
温にて1時間攪拌後、結晶を濾取した。得られた結晶を
減圧下乾燥し、(2R,3S)−N−(3−アミノ−2
−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N−イソブチル
−3−ニトロベンゼンスルホンアミド メタンスルホン
酸塩の結晶を39.4g((2R,3S):(2S,3
S)=100:0、収率76%、3工程)得た。
Example 10 (2R, 3S) -N- (3-amino-2-hydroxy-
Production of 4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide methanesulfonate (2S, 3S) -3- obtained by the same method as in Reference Example 2.
tert-butoxycarbonylamino-1-chloro-2
-Hydroxy-4-phenylbutane (30.0 g, (2
S, 3S): (2R, 3S) = 99.2: 0.8), N
-Isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (2
5.9 g) and potassium carbonate (69.1 g) were added with methyl ethyl ketone (150 ml), and the mixture was stirred at 80 ° C. for 19 hours. After cooling to 50 ° C., water (100 ml) was added, and the mixture was separated to remove an aqueous layer. As a result of analysis by HPLC, (2R, 3S) -N- (3-tert-butoxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl)
It was confirmed that 47.4 g (yield 91%) of -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide was obtained. After distilling off methyl ethyl ketone under reduced pressure,
Ethanol (568 ml) was added and stirred at 75 ° C. Further, methanesulfonic acid (11.8 ml) was added,
The mixture was stirred for 7 hours and 45 minutes. After heating to 80 ° C, 20 ° C
And cooled. The obtained crystals were collected by filtration and methyl-tert.
-Washed with butyl ether (284 ml). The obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain (2R, 3S) -N- (3-amino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide methanesulfonate crystals. 0.0 g ((2R, 3S): (2
S, 3S) = 100: 0, yield 85%, two steps).
Ethanol (440 ml) was added to the obtained crystals to give 70
After heating to ° C., water (65.9 ml) was added. The solution was cooled from 70 ° C. to 15 ° C. over 3 hours and 40 minutes, stirred overnight, and the crystals were collected by filtration. Methyl-tert-butyl ether (264 ml) was added to the obtained crystals, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and then filtered. The obtained crystals were dried under reduced pressure to give (2R, 3S) -N- (3-amino-2
-Hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide 39.4 g of crystals of methanesulfonate ((2R, 3S) :( 2S, 3
S) = 100: 0, yield 76%, 3 steps) were obtained.

【0057】<実施例11> (2R,3S)−N−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−
4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロベ
ンゼンスルホンアミド メタンスルホン酸塩の製造 メタンスルホン酸(2.5ml)に(2R,3S)−N
−(3−ベンジロキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキ
シ−4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニト
ロベンゼンスルホンアミド(500mg)を加え、室温
において7時間攪拌した。この反応液に水(2.5m
l)を加え、結晶を濾取した。得られた結晶を水(1.
0ml、1.0ml、1.0ml)により3度洗浄を行
った。この結晶を減圧下乾燥し、(2R,3S)−N−
(3−アミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)
−N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミド
メタンスルホン酸塩の結晶を360mg(収率77
%)得た。
Example 11 (2R, 3S) -N- (3-amino-2-hydroxy-
Preparation of 4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide methanesulfonate (2R, 3S) -N in methanesulfonic acid (2.5 ml)
-(3-benzyloxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide (500 mg) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. Water (2.5 m
l) was added and the crystals were collected by filtration. The obtained crystals were dissolved in water (1.
(0 ml, 1.0 ml, 1.0 ml). The crystals were dried under reduced pressure to give (2R, 3S) -N-
(3-amino-2-hydroxy-4-phenylbutyl)
360 mg of crystals of -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide methanesulfonate (yield 77)
%)Obtained.

【0058】<実施例12> (2R,3S)−N−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−
4−フェニルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロベ
ンゼンスルホンアミド メタンスルホン酸塩の製造 (2R,3S)−N−(3−ベンジロキシカルボニルア
ミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N−イ
ソブチル−3−ニトロベンゼンスルホンアミド(300
mg)に1,2−ジクロロエタン(1.5ml)を加
え、さらにメタンスルホン酸(0.105ml)、チオ
アニソール(0.127ml)を加え、70℃において
7時間攪拌した。この反応液にエタノール(1.5m
l)を加えた後、0℃において30分攪拌した.。得られた
結晶を濾取し、エタノール(1.0ml、1.0ml)
で2度洗浄を行った.。結晶を減圧下乾燥し、(2R,3
S)−N−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニ
ルブチル)−N−イソブチル−3−ニトロベンゼンスル
ホンアミド メタンスルホン酸塩の結晶を258mg
(収率92%)得た.。
Example 12 (2R, 3S) -N- (3-amino-2-hydroxy-
Preparation of 4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide methanesulfonate (2R, 3S) -N- (3-benzyloxycarbonylamino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl -3-nitrobenzenesulfonamide (300
mg), 1,2-dichloroethane (1.5 ml) was added, methanesulfonic acid (0.105 ml) and thioanisole (0.127 ml) were further added, and the mixture was stirred at 70 ° C for 7 hours. Ethanol (1.5m
After adding l), the mixture was stirred at 0 ° C for 30 minutes. The obtained crystals were collected by filtration and ethanol (1.0 ml, 1.0 ml)
Was performed twice. The crystals were dried under reduced pressure, and (2R, 3
258 mg of crystals of S) -N- (3-amino-2-hydroxy-4-phenylbutyl) -N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide methanesulfonate
(Yield 92%).

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明によれば、特定のN−カルバメー
ト型保護ベンゼンスルホンアミド誘導体、該誘導体から
誘導される特定のベンゼンスルホンアミド誘導体及びそ
の塩、並びに該ベンゼンスルホンアミド誘導体のメタン
スルホン酸塩の結晶を工業的に効率よく製造することが
できる。
According to the present invention, a specific N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative, a specific benzenesulfonamide derivative derived from the derivative and a salt thereof, and a methanesulfonate of the benzenesulfonamide derivative Can be industrially efficiently produced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07M 7:00 C07M 7:00 (72)発明者 廣瀬 直子 神奈川県川崎市川崎区鈴木町1−1 味の 素株式会社アミノサイエンス研究所内 (72)発明者 岡 佐知子 神奈川県川崎市川崎区鈴木町1−1 味の 素株式会社アミノサイエンス研究所内 (72)発明者 井澤 邦輔 神奈川県川崎市川崎区鈴木町1−1 味の 素株式会社アミノサイエンス研究所内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC61 AC80 AC81 AC83 AD15 BA92 BB11 BB16 BD70 BE10 BE12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C07M 7:00 C07M 7:00 (72) Inventor Naoko Hirose 1-1 Suzukicho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kawasaki, Kanagawa Prefecture Sinoko Oka 1-1, Suzukicho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside the AminoScience Laboratory, Nonomoto Co., Ltd. (72) Kunisuke Izawa, Suzukicho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture 1-1 Ajinomoto Co., Inc. Amino Science Laboratory F-term (reference) 4H006 AA02 AC61 AC80 AC81 AC83 AD15 BA92 BB11 BB16 BD70 BE10 BE12

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1) [式中、Aはそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基も
しくは炭素数7〜20のアラルキル基、又はこれらの基
の炭素骨格中にヘテロ原子を含む基を示し、Rはアルキ
ル基又はベンジル基を示し、*は不斉炭素原子であるこ
とを示し、2位と3位の立体配置は2S、3S又は2
R、3Rである。]で表されるN−カルバメート型保護
β−アミノアルコール、又は一般式(2) [式中、A、R及び*は前記と同じ意味を示し、2位と
3位の立体配置は2S、3S又は2R、3Rである。]
で表されるN−カルバメート型保護β−アミノエポキシ
ドを塩基存在下、下式(3) で表されるN−イソブチル−3−ニトロベンゼンスルホ
ンアミドと反応させることを特徴とする一般式(4) [式中、A、R及び*は前記と同じ意味を示し、2位と
3位の立体配置は2R、3S又は2S、3Rである。]
で表されるN−カルバメート型保護ベンゼンスルホンア
ミド誘導体の製造方法。
1. General formula (1) [Wherein, A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, each of which may have a substituent, or a carbon skeleton of these groups. Represents a group containing a hetero atom, R represents an alkyl group or a benzyl group, * represents an asymmetric carbon atom, and the configuration at the 2-position and 3-position is 2S, 3S or 2
R and 3R. An N-carbamate-type protected β-amino alcohol represented by the general formula (2): [Wherein, A, R and * have the same meanings as described above, and the configuration at the 2-position and 3-position is 2S, 3S or 2R, 3R. ]
In the presence of a base, an N-carbamate-type protected β-aminoepoxide represented by the following formula (3) Reacting with N-isobutyl-3-nitrobenzenesulfonamide represented by the general formula (4): [Wherein, A, R and * have the same meaning as described above, and the configuration at the 2-position and 3-position is 2R, 3S or 2S, 3R. ]
A method for producing an N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative represented by the formula:
【請求項2】 Aがベンジル基であり、Rがtert−
ブチル基又はベンジル基である請求項1記載の製造方
法。
2. A is a benzyl group and R is tert-
2. The production method according to claim 1, wherein the production method is a butyl group or a benzyl group.
【請求項3】 一般式(4)で表されるN−カルバメー
ト型保護ベンゼンスルホンアミド誘導体を請求項1記載
の製造方法により得た後、該N−カルバメート型保護ベ
ンゼンスルホンアミド誘導体のカルバメート型保護基を
脱保護することを特徴とする、一般式(5) [式中、Aはそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基も
しくは炭素数7〜20のアラルキル基、又はこれらの基
の炭素骨格中にヘテロ原子を含む基を示し、*は不斉炭
素原子であることを示し、2位と3位の立体配置は2
R、3S又は2S、3Rである。]で表されるベンゼン
スルホンアミド誘導体又はその塩の製造方法。
3. The N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative represented by the general formula (4) is obtained by the production method according to claim 1, and then the N-carbamate-type protected benzenesulfonamide derivative is carbamate-type protected. General formula (5), characterized in that the group is deprotected [Wherein, A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, each of which may have a substituent, or a carbon skeleton of these groups. Represents a group containing a hetero atom, * represents an asymmetric carbon atom, and the configuration at the 2-position and 3-position is 2
R, 3S or 2S, 3R. ] The method for producing a benzenesulfonamide derivative or a salt thereof represented by the formula:
【請求項4】Aがベンジル基であり、Rがtert−ブ
チル基又はベンジル基である請求項3記載の製造方法。
4. The method according to claim 3, wherein A is a benzyl group and R is a tert-butyl group or a benzyl group.
【請求項5】 一般式(6) [式中、Aはそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基も
しくは炭素数7〜20のアラルキル基、又はこれらの基
の炭素骨格中にヘテロ原子を含む基を示し、Rはアルキ
ル基又はベンジル基を示し、*は不斉炭素原子であるこ
とを示し、2位と3位の立体配置は2R、3S又は2
S、3Rである。]で表されるN−ベンジルオキシカル
ボニル保護ベンゼンスルホンアミド誘導体にメタンスル
ホン酸を作用させてベンジルオキシカルボニル保護基を
脱保護することを特徴とする、一般式(5) [式中、*は不斉炭素原子であることを示し、2位と3
位の立体配置は2R、3S又は2S、3Rである。]で
表されるベンゼンスルホンアミド誘導体又はその塩の製
造方法。
5. General formula (6) [Wherein, A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, each of which may have a substituent, or a carbon skeleton of these groups. Represents a group containing a hetero atom, R represents an alkyl group or a benzyl group, * represents an asymmetric carbon atom, and the configuration at the 2- and 3-positions is 2R, 3S or 2
S, 3R. Wherein the benzyloxycarbonyl-protecting group is deprotected by reacting methanesulfonic acid with the N-benzyloxycarbonyl-protected benzenesulfonamide derivative represented by the general formula (5): [Wherein, * represents an asymmetric carbon atom;
The configuration of the position is 2R, 3S or 2S, 3R. ] The method for producing a benzenesulfonamide derivative or a salt thereof represented by the formula:
【請求項6】 Aがベンジル基である請求項5記載の製
造方法。
6. The method according to claim 5, wherein A is a benzyl group.
【請求項7】 少なくともそのジアステレオマーを不純
物として含有する、式(7) [式中、*は不斉炭素原子であることを示し、2位と3
位の立体配置は2R、3S又は2S、3Rである。]で
表されるベンゼンスルホンアミド誘導体のメタンスルホ
ン酸塩を、アルコール又はアルコール系混合溶媒から晶
析し、不純物を母液に分離除去することを特徴とする、
該ベンゼンスルホンアミド誘導体メタンスルホン酸塩の
結晶の製造方法。
7. A compound of the formula (7) containing at least its diastereomer as an impurity. [Wherein, * represents an asymmetric carbon atom;
The configuration of the position is 2R, 3S or 2S, 3R. A methanesulfonate of a benzenesulfonamide derivative represented by the following formula: is crystallized from an alcohol or an alcohol-based mixed solvent, and impurities are separated and removed from a mother liquor.
A method for producing crystals of the benzenesulfonamide derivative methanesulfonate.
JP2001099929A 2001-03-02 2001-03-30 Method for producing sulfonamide Pending JP2002326982A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001099929A JP2002326982A (en) 2001-03-02 2001-03-30 Method for producing sulfonamide

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001059094 2001-03-02
JP2001-59094 2001-03-02
JP2001099929A JP2002326982A (en) 2001-03-02 2001-03-30 Method for producing sulfonamide

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002326982A true JP2002326982A (en) 2002-11-15

Family

ID=26610575

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001099929A Pending JP2002326982A (en) 2001-03-02 2001-03-30 Method for producing sulfonamide

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002326982A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012097055A (en) * 2010-11-05 2012-05-24 Sumitomo Seika Chem Co Ltd Method for producing high purity cyclopropane sulfonamide
CN114685327A (en) * 2020-12-30 2022-07-01 重庆博腾制药科技股份有限公司 anti-HIV drug intermediate crystal form and preparation method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012097055A (en) * 2010-11-05 2012-05-24 Sumitomo Seika Chem Co Ltd Method for producing high purity cyclopropane sulfonamide
CN114685327A (en) * 2020-12-30 2022-07-01 重庆博腾制药科技股份有限公司 anti-HIV drug intermediate crystal form and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100708221B1 (en) Method for producing epoxide crystal
JP4482783B2 (en) Process for producing α-amino ketones
JP2002326982A (en) Method for producing sulfonamide
US20060135784A1 (en) Process for producing 3-amino-2-hydroxypropionic acid derivatives
JP4193198B2 (en) Process for producing α-amino ketones
JPWO2010122682A1 (en) Process for producing N-alkoxycarbonyl-tert-leucine
EP3807268B1 (en) Process for the preparation of lifitegrast
JP4143787B2 (en) Method for producing α-aminohalomethyl ketone derivative
JP2002332270A (en) Method of producing sulfonamide derivative
EP1466896A1 (en) Process for producing crystal of benzenesulfonamide derivative, and novel crystal of intermediate therefor and process for producing the same
US6720449B2 (en) Process for preparing optically active amino acid derivatives
JP2000319235A (en) PRODUCTION OF alpha-AMINOKETONE COMPOUND
JPH09323960A (en) Production of 3-amino-1,2-oxirane
JP2022072636A (en) Method for producing amide compound
JP3832919B2 (en) Method for producing optically active cyanohydrin
JP2002080470A (en) Method of producing crystalline epoxide
JPWO2002044136A1 (en) Method for producing N-protected-β-amino alcohol and method for producing N-protected-β-aminoepoxide
EP1505065A1 (en) Process for producing aminoepoxide
JP2002371044A (en) METHOD FOR MANUFACTURING beta-AMINO-alpha-HYDROXYCARBOXYLIC ACID
US20050137408A1 (en) Process for producing aminoepoxide
JPH08283289A (en) Production of peptide derivative
JPH1192450A (en) 3-amino-3-alkoxyacrylic ester and its production