JP2002319300A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2002319300A
JP2002319300A JP2001124746A JP2001124746A JP2002319300A JP 2002319300 A JP2002319300 A JP 2002319300A JP 2001124746 A JP2001124746 A JP 2001124746A JP 2001124746 A JP2001124746 A JP 2001124746A JP 2002319300 A JP2002319300 A JP 2002319300A
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circuit
internal potential
fuse
semiconductor memory
selector
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Application number
JP2001124746A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Tanaka
吉洋 田中
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Renesas Micro Systems Co Ltd
Original Assignee
Renesas Micro Systems Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily detect cut off state of a fuse, even after a device has been sealed in a mold as a circuit for compensating an internal potential of a semiconductor memory, and to vary an internal potential, independently of a cut off state of the fuse. SOLUTION: In a semiconductor memory, having an internal potential compensating circuit 2 for outputting the prescribed internal potential by voltage- dividing resistors Ri,..., R1, R2,..., Ri-1 in which reference internal potentials are connected in series and the prescribed internal potential is adjusted by switch transistors Tri,..., Tri-1 to be on/off driven using the prescribed fuse circuit 30 of a selector 13 and connected in parallel with each resistor Ri,..., Ri-1, the device has a test circuit 1 in which on-off of the switch transistors Tri,..., Tri-1 is controlled arbitrarily by external addresses A0-Am-1, and the prescribed internal potential is compensated for.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、特にDRAM等で用いられる内部電位補正回路を
もった半導体記憶装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having an internal potential correction circuit used in a DRAM or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、半導体記憶装置としてのSDRA
Mは、低消費電力化及びプロセスの微細化による耐圧の
問題から、電源電位を降圧した内部電位を使用すること
が主流となっている。しかし、その内部電位は製造プロ
セスのバラツキから設計値とのズレを生じる。この設計
値との差を所定の補正回路を用いて補正している。
2. Description of the Related Art At present, SDRA as a semiconductor memory device is used.
For M, use of an internal potential obtained by stepping down a power supply potential is mainly used due to a problem of a withstand voltage due to low power consumption and miniaturization of a process. However, the internal potential causes a deviation from a design value due to a variation in a manufacturing process. The difference from this design value is corrected using a predetermined correction circuit.

【0003】さらに、近年DRAMはシステム上での実
装数の増大、高速動作により、テスター等の測定装置で
は実現できないノイズ等が発生し、DRAM特有のセン
ス動作に支障をきたしてきた。これを解決する手法とし
てはテスター上で内部電位を変更することが有効と考え
られるが、現在のヒューズを用いた補正回路では不良の
再現が困難である。
Further, in recent years, due to an increase in the number of DRAMs mounted on a system and a high-speed operation, noises and the like that cannot be realized by a measuring device such as a tester have been generated, which has hindered a DRAM-specific sensing operation. As a method for solving this, it is considered effective to change the internal potential on a tester. However, it is difficult to reproduce a defect using a current correction circuit using a fuse.

【0004】従来の半導体記憶装置の内部電位補正回路
として、図14(a)(b)に示すような回路があり、
基準電源を抵抗分割で内部レベルを発生させる回路であ
る。この回路は、特開平7―141041号公報などに
示されたものである。図12(a)では、基準電源に、
直列接続した抵抗R21〜26の抵抗R21〜24と並
列接続したヒューズF11〜14とを接続した回路の、
ヒューズF11〜14を適宜接断して、内部電位を補正
した出力を得ている。また図14(b)では、基準電源
に、直列接続した抵抗R21〜26の抵抗R21〜24
と並列接続した接断回路SW1〜4を設けたもので、こ
こではアルミマスタースライス(以下M/Sという)を
用意したものである。これらヒューズF1〜4を切断し
たり、そのM/Sを切り替えることで内部電位の補正を
行っている。
As an internal potential correction circuit of a conventional semiconductor memory device, there is a circuit as shown in FIGS.
This is a circuit that generates an internal level by dividing a reference power supply by resistance. This circuit is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-144141. In FIG. 12A, the reference power source is
Of a circuit in which the resistors R21 to R24 of the resistors R21 to R26 connected in series and the fuses F11 to F14 connected in parallel are connected,
The fuses F11 to F14 are appropriately disconnected to obtain an output in which the internal potential has been corrected. In FIG. 14B, the resistors R21 to R24 of the resistors R21 to R26 connected in series are connected to the reference power source.
In this case, an aluminum master slice (hereinafter referred to as M / S) is prepared. The internal potential is corrected by cutting these fuses F1 to F4 or switching their M / S.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来技術
では、内部電位を補正するにはモールド開封を行い、ヒ
ューズを切断したり、M/Sを変更しなければならな
い。又、ヒューズは一度切断すると元には戻せないの
で、何度も内部電位を変更することは不可能である。ま
た、このM/Sの変更においてはマスク変更を伴ってし
まい、どちらにしても評価を行うのに多大な時間がかか
ってしまう。さらに、この方法ではテスター上で内部電
位を変更できない為、動作マージンのないデバイスをテ
スターでの選別工程で不良とすることが非常に難しい問
題がある。
However, in the prior art, in order to correct the internal potential, it is necessary to open the mold, cut the fuse, or change the M / S. Further, since the fuse cannot be restored once it has been blown, it is impossible to change the internal potential many times. In addition, the change of the M / S involves a mask change, and in any case, it takes much time to perform the evaluation. Further, in this method, since the internal potential cannot be changed on the tester, there is a problem that it is very difficult to make a device having no operation margin to be defective in a screening process by the tester.

【0006】本発明の主な目的は、内部電位補正用回路
において、デバイスがモールドに封入された後でも容易
にヒューズの切断状態をしることができ、さらにヒュー
ズの切断状態にかかわらず内部電位を変化させることを
可能にしたテスト回路をもつ半導体記憶装置を提供する
ことにある。
A main object of the present invention is to provide a circuit for correcting an internal potential, which can easily cut a fuse even after a device is sealed in a mold, and furthermore, irrespective of a cut state of a fuse. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device having a test circuit capable of changing the threshold voltage.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の構成は、基準内
部電位を分圧して所定内部電位を出力する内部電位補正
回路を有し、所定のヒューズ回路を用いてオン・オフ駆
動されるスイッチトランジスタにより前記所定内部電位
が調整される半導体記憶装置において、前記スイッチト
ランジスタのオン・オフが外部アドレスにより任意に制
御され前記所定内部電位を補正するテスト回路を有する
ことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a switch having an internal potential correction circuit for dividing a reference internal potential and outputting a predetermined internal potential, and which is turned on and off using a predetermined fuse circuit. In a semiconductor memory device in which the predetermined internal potential is adjusted by a transistor, a test circuit for correcting the predetermined internal potential by turning on / off the switch transistor arbitrarily by an external address is provided.

【0008】本発明において、基準内部電位が直列接続
した抵抗により分圧され、スイッチトランジスタが前記
各抵抗にそれぞれ並列接続され所定のヒューズ回路によ
りオン・オフ駆動されることができ、また、テスト回路
が、外部アドレスにより指定されるスイッチトランジス
タの駆動信号と所定のヒューズ回路を用いて指定される
スイッチトランジスタの駆動信号とを切替えるセレクタ
を有することができ、さらに、テスト回路が、外部アド
レスおよび外部コマンドによりそのテストモードが設定
され、このテストモードに従ってセレクタの切替えタイ
ミングが指定されることができ、また、セレクタの各出
力が、出力切替回路により外部に出力され、スイッチト
ランジスタの駆動状態をモニタできるようにでき、さら
に、テスト回路のアドレスの指定が、アドレスピンまた
はI/Oピンによりなされることができる。
In the present invention, the reference internal potential is divided by a resistor connected in series, a switch transistor is connected in parallel to each of the resistors, and can be driven on and off by a predetermined fuse circuit. May have a selector for switching between a drive signal of a switch transistor specified by an external address and a drive signal of a switch transistor specified by using a predetermined fuse circuit, and the test circuit may further include an external address and an external command. To set the test mode, the switching timing of the selector can be designated according to the test mode, and each output of the selector is output to the outside by the output switching circuit, so that the driving state of the switch transistor can be monitored. In addition, the test circuit Can be specified dress is made by the address pins or I / O pins.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】次に図面により本発明の実施形態
を説明する。図1は本発明の一実施形態のブロック図で
ある。この図1に示すように、本実施形態の半導体記憶
装置は、テスト回路1と、内部電位補正回路2と、出力
切替回路3とによって構成され、本実施形態のテスト回
路1中には、テストモード設定回路(TC)11、抵抗
選択用アドレス格納用のレジスタ12、ヒューズ内蔵の
セレクタ13及び抵抗のオン/オフを制御するトランジ
スタTRi,TRi―1が設けられている。なお、この
テスト回路1は、アドレスのピン数nとし、アドレス数
mで、i=m+2としている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the semiconductor memory device of the present embodiment includes a test circuit 1, an internal potential correction circuit 2, and an output switching circuit 3, and the test circuit 1 of the present embodiment includes a test circuit 1. A mode setting circuit (TC) 11, a register 12 for storing an address for resistance selection, a selector 13 with a built-in fuse, and transistors TRi and TRi-1 for controlling on / off of the resistance are provided. In this test circuit 1, the number of address pins is n, the number of addresses is m, and i = m + 2.

【0010】このテスト回路1は、テストモード設定回
路11により、JEDEC準拠のモードレジスタセット
コマンド(以下MRSという)の入力時のアドレスコー
ドにより、内部電位変更用のテストモードにエントリを
行い、アドレスラッチ信号 (以下ALという)およびテ
ストモードエントリ信号(以下TEという)を発生させ
る。このテストモードエントリ信号TEは、テストモー
ド時に電源電位(以下ハイレベル)、通常時はGND電
位 (以下ロウレベル)である。また、アドレスラッチ信
号ALがレジスタ12に入力され,外部より入力された
アドレスを保持する。
In the test circuit 1, the test mode setting circuit 11 makes an entry to a test mode for changing the internal potential in accordance with an address code at the time of inputting a mode register set command (hereinafter referred to as MRS) conforming to JEDEC, and an address latch. A signal (hereinafter referred to as AL) and a test mode entry signal (hereinafter referred to as TE) are generated. The test mode entry signal TE is at the power supply potential (hereinafter, high level) in the test mode, and is normally at the GND potential (hereinafter, low level). Further, the address latch signal AL is input to the register 12, and holds the address input from the outside.

【0011】さらに、セレクタ13は、図2,3の回路
図に示すように、テストモードエントリ信号TEによっ
てセレクタ13の出力をヒューズ部30からの信号とレ
ジスタからのアドレス信号(RA0〜RAm−1)とで
切り換えを行い、抵抗Ri、Ri −1 のオン/オフを制
御して抵抗を可変させ、その内部電位を変更する。この
テスト回路1は、ヒューズの切断とは関係なしに抵抗R
i、Ri−1のオン/オフを制御することが可能であ
る。又、テストモードエントリ信号TEをハイレベルに
せずに、モードレジスタセットコマンドMRSとヒュー
ズ番号リード用のアドレスコード(FRA)の入力によ
り、ヒューズの切断情報を外部に出力させる動作をす
る。
Further, as shown in the circuit diagrams of FIGS. 2 and 3, the selector 13 outputs the output of the selector 13 by the test mode entry signal TE to the signal from the fuse unit 30 and the address signal (RA0 to RAm-1) from the register. ) To switch on and off the resistors Ri and Ri −1 to vary the resistance and change its internal potential. This test circuit 1 has a resistance R
It is possible to control on / off of i, Ri-1. Further, the operation of outputting the fuse cutting information to the outside is performed by inputting the mode register set command MRS and the address code (FRA) for reading the fuse number without setting the test mode entry signal TE to the high level.

【0012】図2のセレクタ13の回路では、電源VC
Cと接地GNDとの間に、直列接続したヒューズF1と
抵抗R11とからなるヒューズ部30を設け、テストモ
ード信号TEとこの信号をインバータ31で反転した信
号をゲート入力としたスイッチトランジスタTR11,
12に、ヒューズF1と抵抗R11との接続点を入力
し、スイッチトランジスタTR11,12の逆の信号を
ゲート入力としたスイッチトランジスタTR13,14
に、レジスタ12からの入力(RA0〜RAm−1)を
入力し、これらトランジスタTR11〜14の出力をト
ランジスタTRi−1に接続している。
In the circuit of the selector 13 shown in FIG.
A fuse unit 30 including a fuse F1 and a resistor R11 connected in series is provided between C and the ground GND, and a test mode signal TE and a switch transistor TR11 having a gate input of a signal obtained by inverting this signal by an inverter 31 are provided.
12, the connection point between the fuse F1 and the resistor R11 is input, and the switch transistors TR13 and TR14 are used as gate inputs of signals opposite to the switch transistors TR11 and TR12.
, Inputs from the register 12 (RA0 to RAm-1), and outputs of these transistors TR11 to TR14 are connected to the transistor TRi-1.

【0013】また、図3のセレクタ13の回路は、図2
のヒューズF1と抵抗R11とのヒューズ部30の接続
を入れ替えたもので、抵抗R12が電源側、ヒューズF
2が接地側となるヒューズ部30aからなり、この他の
部分の回路の、インバータ32と他のスイッチトランジ
スタTR15〜18は、図2のインバータ31とトラン
ジスタTR11〜14と同様である。
The circuit of the selector 13 shown in FIG.
The connection of the fuse portion 30 between the fuse F1 and the resistor R11 of FIG.
2 includes a fuse portion 30a on the ground side, and the inverter 32 and the other switch transistors TR15 to TR18 in the other circuits are the same as the inverter 31 and the transistors TR11 to TR14 in FIG.

【0014】図1を参照すると、SDRAMの通常動作
時(TEがロウレベル時)はヒューズ部 からの出力が
そのまま内部電位補正回路2に伝わり、ヒューズの切断
状態により内部電位が補正される。
Referring to FIG. 1, during normal operation of the SDRAM (when TE is at a low level), the output from the fuse portion is transmitted to the internal potential correction circuit 2 as it is, and the internal potential is corrected by the cut state of the fuse.

【0015】このヒューズによる内部電位補正に対し、
本実施形態において設けられた詳細を、図4に示すよう
なテストモード設定回路11、図5に示すようなヒュー
ズ選択アドレス格納レジスタ (以下レジスタという)1
2、レジスタ12とヒューズ部からの出力を選択するセ
レクタ (以下セレクタという)13、セレクタ13の出
力により制御される内部電位補正回路2及び、図6に示
すような出力切替回路3がある。
With respect to the internal potential correction by this fuse,
The details provided in the present embodiment are described in a test mode setting circuit 11 as shown in FIG. 4 and a fuse selection address storage register (hereinafter referred to as a register) 1 as shown in FIG.
2, a selector (hereinafter referred to as a selector) 13 for selecting an output from the register 12 and the fuse section, an internal potential correction circuit 2 controlled by an output of the selector 13, and an output switching circuit 3 as shown in FIG.

【0016】図4のテストモード設定回路11は、n=
8、m=6の場合とし、外部コマンドとクロックCLK
を入力するMDRSを出力するフリップフロップ(以下
FFという)20と、アドレスA8,A7のANDゲー
ト21と、このANDゲート21の出力とFF20の出
力を入力するANDゲート22と、アドレスA6をイン
バータ23で反転した信号とANDゲート21の出力を
入力するANDゲート24と、アドレスA6をデータ入
力としANDゲート22の出力をクロック入力としTE
を出力するFF25と、ANDゲート24の出力をデー
タ入力としFF20の出力をクロック入力としFRを出
力するFF26と、FF25の出力とこのFF25の出
力を遅延素子27で遅延させインバータ28で反転した
出力信号とを入力しALを出力するANDゲート29と
から構成される。
The test mode setting circuit 11 shown in FIG.
8, m = 6, external command and clock CLK
A flip-flop (hereinafter referred to as FF) 20 for outputting an MDRS, an AND gate 21 for addresses A8 and A7, an AND gate 22 for receiving the output of the AND gate 21 and the output of the FF 20, and an inverter 23 An AND gate 24 for inputting the inverted signal and the output of the AND gate 21; a data input for the address A6; a clock input for the output of the AND gate 22;
25, an output of the AND gate 24 as a data input, an output of the FF 20 as a clock input, and an FF 26 for outputting an FR. And an AND gate 29 which receives a signal and outputs AL.

【0017】このテストモード設定回路11は、外部か
らの入力により、TE、AL及び、ヒューズ番号リード
信号(FR)を発生させる。レジスタ12はALにより
外部から入力されるアドレスを保持し、その信号をセレ
クタ13へと伝える。セレクタ13はレジスタ12から
の信号とヒューズ部からの信号とをTEにより選択して
出力する。この出力は内部電位補正回路2及び出力切替
回路3に伝わる。
The test mode setting circuit 11 generates TE, AL and a fuse number read signal (FR) in response to an external input. The register 12 holds an externally input address through the AL and transmits the signal to the selector 13. The selector 13 selects and outputs a signal from the register 12 and a signal from the fuse unit by TE. This output is transmitted to the internal potential correction circuit 2 and the output switching circuit 3.

【0018】内部電位補正回路2は、図1のように、P
MOSトランジスタTRi、NMOSトランジスタTR
i−1のオン/オフにより、これらと並列接続された直
列抵抗Ri,Ri―1をオン/オフして内部電位を補正
する。この内部電位補正回路2の抵抗Ri,Ri―1と
トランジスタTRi,TRi―1の組み合わせを複数個
用意することで、細かく電圧設定ができる。
As shown in FIG. 1, the internal potential correction circuit 2
MOS transistor TRi, NMOS transistor TR
By turning on / off i-1, series resistances Ri and Ri-1 connected in parallel with these are turned on / off to correct the internal potential. By preparing a plurality of combinations of the resistors Ri, Ri-1 and the transistors TRi, TRi-1 of the internal potential correction circuit 2, the voltage can be finely set.

【0019】また、レジスタ12は、図5の回路に示す
ように、アドレスA1〜Am―1をそれぞれデータ入力
しALをクロック入力とし、セレクタ13へのアドレス
RA0〜RAm−1を出力とするFF41,42…43
から構成される。また、図6の出力切替回路3は、リー
ド信号FRにより通常出力VO0…VOm―1とセレク
タ50からの出力SA0〜SAm―1とを選択し出力回
路を介しヒューズ切断情報を外部へ出力する。
As shown in the circuit of FIG. 5, the register 12 has an FF 41 which inputs addresses A1 to Am-1 as data, inputs AL as a clock input, and outputs addresses RA0 to RAm-1 to the selector 13. , 42 ... 43
Consists of The output switching circuit 3 in FIG. 6 selects the normal outputs VO0 to VOm-1 and the outputs SA0 to SAm-1 from the selector 50 based on the read signal FR, and outputs the fuse cutting information to the outside via the output circuit.

【0020】以下、本実施例の動作につき説明する。ま
ず、図1のTCの動作ついて、図7及び図8のタイミン
グ図を用いて説明する。この回路は外部からJEDEC
準拠のMRSと各ベンダーが自由に設定できる範囲のア
ドレスコードを入力することで、出力としてTE、A
L、FRの信号を発生する。
The operation of this embodiment will be described below. First, the operation of the TC of FIG. 1 will be described with reference to the timing charts of FIGS. This circuit is JEDEC from outside
By inputting the compliant MRS and the address code within the range that each vendor can freely set, TE and A are output as output.
L and FR signals are generated.

【0021】図7のタイミングにおいて、外部クロック
CLKと外部コマンドが入力され、コマンドのモードレ
ジスタセット信号MRSにより、まずヒューズ番号リー
ド信号FRが立上り、次のクロックでこのFRが立下
り、同時にTEが立上り、ALも発生する。またアドレ
スAm−nにはヒューズリードアドレスコードFRAお
よびテストモードエントリアドレスコードTRAが含ま
れ、アドレスA0〜Am−1にはヒューズ選択アドレス
FAが含まれ、このヒューズ選択アドレスFAからレジ
スタ12の出力RA0〜RAm−1が得られ、セレクタ
13の出力SA0〜SAm−1が得られ、セレクタ13
のヒューズ部30からに出力FUが得られる。
At the timing shown in FIG. 7, an external clock CLK and an external command are input, and the fuse number read signal FR first rises by the mode register set signal MRS of the command, and the FR falls at the next clock. Rise and AL also occur. The address Am-n includes a fuse read address code FRA and a test mode entry address code TRA, and the addresses A0 to Am-1 include a fuse selection address FA. To RAm-1 and outputs SA0 to SAm-1 of the selector 13 are obtained.
The output FU is obtained from the fuse unit 30 of FIG.

【0022】図8のタイミング図は、図4の回路に対応
する図で、n=8,m=6の場合を示し、MDRSは、
MRS入力時にクロックの立上りの期間ハイレベルとな
る信号である。
FIG. 8 is a timing chart corresponding to the circuit of FIG. 4 and shows a case where n = 8 and m = 6.
This signal is at a high level during the rising edge of the clock when MRS is input.

【0023】テストモードエントリ信号TEはデバイス
の通常使用時はロウレベルであるが、MRSと内部電位
を変更するアドレスコード入力 (以下テストモード)時
にハイレベルとなり、一度ハイレベルとなるとテストモ
ードから抜けるコマンドを入力するまでレベルを保持す
る。本実施形態では、FRがハイレベルとなる時にTE
がロウレベルとなるようにしている。ALはTEがハイ
レベル出力されると同時に一回だけ一定時間ハイレベル
となり、他の期間はロウレベルである。FRはTEと同
様にモードレジスタセットコマンド入力時のアドレスコ
ードによりハイレベルとなり、次にMRSが入力される
とロウレベルとなる。
The test mode entry signal TE is at a low level during normal use of the device, but attains a high level when an MRS and an address code for changing an internal potential (hereinafter referred to as a test mode). Once at a high level, the command exits the test mode. Hold the level until you enter. In the present embodiment, when FR goes high, TE
Is set to a low level. AL is at a high level once for a certain period of time at the same time that TE is output at a high level, and is at a low level during other periods. FR becomes high level by the address code at the time of inputting the mode register set command similarly to TE, and becomes low level when MRS is next input.

【0024】一方、レジスタ12は、図7のタイミング
図に従って動作し、ALがハイレベルの時にだけ外部ア
ドレスA0〜Am−1を取り込み、ALがロウレベルの
時はこのデータを保持し、その保持したデータをアドレ
ス信号RA0〜RAm−1として出力し続ける。即ち、
テストモード設定と同時に外部アドレスコード(A0〜
Am−1)が入力されると、レジスタ12から外部アド
レスA0〜Am−1の値が出力され続けるわけである。
On the other hand, the register 12 operates according to the timing chart of FIG. 7 and takes in the external addresses A0 to Am-1 only when AL is at a high level, and holds this data when AL is at a low level. Data is continuously output as address signals RA0 to RAm-1. That is,
The external address code (A0 to
When (Am-1) is input, the values of the external addresses A0 to Am-1 are continuously output from the register 12.

【0025】更に、セレクタ13の動作については、図
7、図9のタイミング図に従って実行される。TEの電位
によりセレクタ13の出力をヒューズ部の電位とレジス
タからの入力RA0〜RAm−1 とを選択し、TEが
ハイレベルの時はRA0〜RAm−1の電位を出力し、
TEがロウレベルの時はヒューズ部30からの電位を出
力する。
The operation of the selector 13 is performed according to the timing charts of FIGS. The potential of TE selects the output of the selector 13 between the potential of the fuse unit and the inputs RA0 to RAm-1 from the register. When TE is at a high level, the potential of RA0 to RAm-1 is output.
When TE is at the low level, the potential from the fuse unit 30 is output.

【0026】このヒューズ部の動作は、NMOSトラン
ジスタ用セレクタの場合、図2に示す通り電源VCCと
GNDがヒューズと抵抗を介して接続されており、ヒュ
ーズ切断時はロウレベルを出力し、切断しない場合はハ
イレベルを出力する。PMOSトランジスタ用セレクタ
の場合は、図3に示す通り、NMOS用とは反対の動作
をする。次に、セレクタ13からの出力SA0〜SAm
−1により抵抗Ri、Ri−1と並列に接続されている
トランジスタTRi、TRi−1のオン/オフが制御さ
れ、図10に示すように、内部電位の変更を行う。例え
ばm=2の場合、SA0がロウレベル、SA1がハイレ
ベルの時、内部電位は抵抗R1、R2と基準内部電位
(Vr)によって決定され、以下の式(1)で示される
内部電位(Vref)となる。
The operation of this fuse section is as follows. In the case of an NMOS transistor selector, as shown in FIG. 2, the power supply VCC and GND are connected via a fuse and a resistor. Outputs a high level. In the case of the selector for the PMOS transistor, as shown in FIG. 3, the operation is opposite to that of the selector for the NMOS. Next, outputs SA0 to SAm from the selector 13
The on / off of the transistors TRi, TRi-1 connected in parallel with the resistors Ri, Ri-1 is controlled by -1, and the internal potential is changed as shown in FIG. For example, when m = 2, when SA0 is at the low level and SA1 is at the high level, the internal potential is determined by the resistors R1 and R2 and the reference internal potential (Vr), and the internal potential (Vref) represented by the following equation (1). Becomes

【0027】 Vref =R2 ・Vr/(R1 +R2 )…………(1) 又、SA0がハイレベルであればトランジスタTRiが
オフとなり抵抗Riに電流が流れる為、Vrefは式
(2)の通りとなる。
Vref = R2 · Vr / (R1 + R2) (1) Further, if SA0 is at a high level, the transistor TRi is turned off and a current flows through the resistor Ri. Becomes

【0028】 Vref =R2 ・Vr/(R1 +R2 +Ri)…………(2) 加えて、テストモード設定回路11にMRSとFRをハ
イレベルにするアドレスコードを入力することで、FR
をハイレベルにし、出力切替回路3にて通常のI/Oの
電位をSA0〜SAm−1の電位へと切り替えて出力回
路を介して外部へ出力させる。このFRは次にMRSが
入力されるまではハイレベルである。この時TEの電位
がロウレベルであればヒューズ部からの出力電位がその
まま出力される。すなわちヒューズ切断状態を知ること
ができる。
Vref = R2 · Vr / (R1 + R2 + Ri) (2) In addition, by inputting an address code for setting MRS and FR to a high level in the test mode setting circuit 11, FR
Is set to a high level, the output switching circuit 3 switches the normal I / O potential to the potentials SA0 to SAm-1, and outputs the potential to the outside via the output circuit. This FR is at a high level until the next MRS is input. At this time, if the potential of TE is at the low level, the output potential from the fuse section is output as it is. That is, the fuse cutting state can be known.

【0029】本実施形態の回路によれば、モールド封入
後でもヒューズの切断情報を簡単に知ることができ、ヒ
ューズの切断状態にかかわらずデバイスの内部電位変更
も容易に行うことが可能という効果が得られる。
According to the circuit of the present embodiment, the cutting information of the fuse can be easily known even after the mold is sealed, and the internal potential of the device can be easily changed regardless of the cutting state of the fuse. can get.

【0030】図11、図12は図1の実施形態の具体例
を示す回路図およびそのアドレス、抵抗値と出力電圧の
関係を示す図表であり、内部電位補正回路2の抵抗R
i,Ri−1が4個で、従って4個のトランジスタTR
3〜TR6のある場合を示している。すなわち、4個の
アドレスA0〜A3に対応して、これらのオン・オフの
組合せによってレジスタ12,セレクタ13の出力か
ら、図12に示すように、アドレスの16通り(No1
〜16)のオン・オフの組合せがあり、これからその分
圧抵抗比Vref/Vrが図表のように計算され、基準
内部電圧Vrに対する内部電圧Vrefが計算される。
FIGS. 11 and 12 are circuit diagrams showing specific examples of the embodiment of FIG. 1 and tables showing the relationship between addresses, resistance values and output voltages.
i, Ri-1 and therefore four transistors TR
3 shows a case where there is TR6. That is, in correspondence with the four addresses A0 to A3, from the outputs of the register 12 and the selector 13 according to the combination of ON and OFF, as shown in FIG.
To 16), and the voltage dividing resistance ratio Vref / Vr is calculated as shown in the chart, and the internal voltage Vref with respect to the reference internal voltage Vr is calculated.

【0031】図12で、例えば、No10のアドレス
「1001」では、トランジスタTR3,TR6がオン
となり、トランジスタTR4,TR5がオフとなるので
Vref=(R2+R5)・Vr/(R1+R2+R4
+R5)となり、抵抗R1=25kΩ,R2=100k
Ω,R3=R6=100kΩ,R4=5kΩ,R5=2
0kΩとし、Vr=2.5Vの場合(1)に、内部電圧
Vref=2.0Vが得られる。
In FIG. 12, for example, at the address "1001" of No. 10, the transistors TR3 and TR6 are turned on and the transistors TR4 and TR5 are turned off, so that Vref = (R2 + R5) .Vr / (R1 + R2 + R4).
+ R5), and the resistance R1 = 25 kΩ and R2 = 100 k
Ω, R3 = R6 = 100 kΩ, R4 = 5 kΩ, R5 = 2
When 0 kΩ and Vr = 2.5 V (1), an internal voltage Vref = 2.0 V is obtained.

【0032】この図12では、基準内部電圧Vrが、
2.5Vの場合(1)と、この基準内部電圧Vrが、
2.4Vに変化した場合(2)とを示している。基準内
部電圧Vrが2.0Vを必要とする場合、基準内部電圧
Vrが、2.5Vの場合(1)、No10(または1
6)のアドレス「1001」(または1111)とする
が、基準内部電圧Vrが2.4Vとなってしまった場合
(2)には、No14かNo15のアドレス「110
0」(1101)とすればよい。なお、これら抵抗値と
電圧とはその設計条件により任意の組合せが可能であ
る。
In FIG. 12, the reference internal voltage Vr is
In the case of 2.5 V (1), this reference internal voltage Vr is
(2) when the voltage changes to 2.4 V. When the reference internal voltage Vr requires 2.0 V, when the reference internal voltage Vr is 2.5 V (1), No10 (or 1)
6), the address is “1001” (or 1111). If the reference internal voltage Vr becomes 2.4 V (2), the address “110” of No. 14 or No. 15
0 "(1101). Note that these resistance values and voltages can be arbitrarily combined according to the design conditions.

【0033】本発明の他の実施形態として、アドレスピ
ンの代りに、I/Oピンとしたり、ヒューズ部分をM/
Sにすることもでき、さらに、セレクタ13を、図13
(a)(b)に示すような回路とすることもできる。す
なわち、図2,3のスイッチングトランジスタの代りに
論理回路を用いたもので、トランジスタTR11〜14
の代りに、NANDゲート51,ANDゲート52およ
びORゲート53を用いたもの、またトランジスタTR
15〜18の代りに、ANDゲート54,55およびO
Rゲート56を用いたものである。この回路も図2,3
と同様に動作することは明かである。
As another embodiment of the present invention, an I / O pin is used instead of an address pin, or a fuse portion is M / O.
S, and the selector 13
Circuits such as those shown in FIGS. That is, a logic circuit is used in place of the switching transistor shown in FIGS.
Using a NAND gate 51, an AND gate 52 and an OR gate 53 in place of the transistor TR
Instead of 15-18, AND gates 54, 55 and O
This uses an R gate 56. This circuit is also shown in Figs.
Obviously, it behaves the same as.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
モールドに封入された後でもテスターを用いることで、
内部電位を変更させることができる為、従来テスター上
では不良品として区別することが難しかったシステム上
の不良品をテスターでの選別工程にて取り除くことが可
能となる。さらに、ヒューズ切断状態が分かることで、
基準内部電位が求められ、モールド封入による特性の変
化も含めた状態で最適なヒューズ切断の組み合わせが評
価可能となり、この評価結果を前工程でのヒューズ切断
工程に反映させることで、デバイスの特性改善という効
果が得られる。この評価の際、内部基準電位が分ってい
る為、抵抗と内部電位の組み合わせを特定でき、又、ヒ
ューズの切断、マスク変更なしに、テスターだけで内部
電位変更が可能な為、短時間で内部電位依存評価が可能
であるという効果がある。
As described above, according to the present invention,
By using a tester even after being enclosed in the mold,
Since the internal potential can be changed, it is possible to remove a defective product on the system, which was conventionally difficult to be distinguished as a defective product on a tester, in a sorting process by the tester. Furthermore, knowing the fuse blown state
The reference internal potential is determined, and it is possible to evaluate the optimal combination of fuse blows, including changes in characteristics due to mold encapsulation, and reflect the evaluation results in the fuse blow process in the previous process to improve device characteristics The effect is obtained. In this evaluation, since the internal reference potential is known, the combination of the resistance and the internal potential can be specified, and the internal potential can be changed only by a tester without cutting the fuse or changing the mask. There is an effect that the internal potential dependent evaluation can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態を説明する半導体記憶
装置のブロック図。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory device for explaining a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のセレクタ13の一部分の回路図。FIG. 2 is a circuit diagram of a part of a selector 13 of FIG.

【図3】図1のセレクタ13の他部分の回路図。FIG. 3 is a circuit diagram of another portion of the selector 13 of FIG.

【図4】図1のテストモード設定回路の回路図。FIG. 4 is a circuit diagram of the test mode setting circuit of FIG. 1;

【図5】図1のレジスタ12の部分の回路図。FIG. 5 is a circuit diagram of a register 12 of FIG. 1;

【図6】図1の出力切替回路3の部分の回路図。FIG. 6 is a circuit diagram of a portion of the output switching circuit 3 of FIG. 1;

【図7】図1のテスト回路1の動作を説明する波形図。FIG. 7 is a waveform chart for explaining the operation of the test circuit 1 of FIG. 1;

【図8】図1のテストモード設定回路11の動作を説明
する波形図。
FIG. 8 is a waveform chart for explaining the operation of the test mode setting circuit 11 of FIG. 1;

【図9】図1のセレクタ13の動作を説明する波形図。FIG. 9 is a waveform chart for explaining the operation of the selector 13 in FIG. 1;

【図10】図1の内部電圧補正回路4の動作を説明する
波形図。
FIG. 10 is a waveform chart for explaining the operation of the internal voltage correction circuit 4 of FIG. 1;

【図11】図1の具体例を示す回路図。FIG. 11 is a circuit diagram showing a specific example of FIG. 1;

【図12】図11のアドレス、抵抗値および出力電圧の
関係を示す図。
FIG. 12 is a diagram illustrating a relationship among an address, a resistance value, and an output voltage in FIG. 11;

【図13】(a)(b)は本発明の第2の実施形態の半
導体記憶装置の回路図。
FIGS. 13A and 13B are circuit diagrams of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図14】(a)(b)は従来例の半導体記憶装置の回
路図。
14A and 14B are circuit diagrams of a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 テスト回路 2 内部電位補正回路 3 出力切替回路 11 テストモード設定回路 12 レジスタ 13,50 セレクタ 20,25,26,41〜43 フリップフロップ 20,22,24,29,52,54,55 AND
ゲート 23,28,31,32 インバータ 27 遅延素子 30,30a ヒューズ部 51 NANDゲート 53,56 ORゲート F1,F2,F11〜F14 ヒューズ R1〜R6,R11,R12,R21〜R26,Ri,
Ri−1 抵抗 SW1〜SW4, スイッチ TR1〜TR6,TR11〜TR18,TRi,TRi
−1 トランジスタ
1 Test Circuit 2 Internal Potential Correction Circuit 3 Output Switching Circuit 11 Test Mode Setting Circuit 12 Register 13, 50 Selector 20, 25, 26, 41-43 Flip-Flop 20, 22, 24, 29, 52, 54, 55 AND
Gate 23, 28, 31, 32 Inverter 27 Delay element 30, 30a Fuse part 51 NAND gate 53, 56 OR gate F1, F2, F11 to F14 Fuse R1 to R6, R11, R12, R21 to R26, Ri,
Ri-1 resistors SW1 to SW4, switches TR1 to TR6, TR11 to TR18, TRi, TRi
-1 transistor

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 27/04 G01R 31/28 B W Fターム(参考) 2G132 AA08 AB00 AD05 AG08 AK15 AL14 5F038 AV02 BB05 BB07 DT02 DT03 DT15 EZ20 5L106 AA01 DD12 EE08 5M024 AA20 AA40 AA93 BB29 BB30 BB40 DD40 FF20 FF30 HH01 HH10 MM04 MM05 PP01 PP02 PP03 PP07 PP10 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) H01L 27/04 G01R 31/28 B WF Term (Reference) 2G132 AA08 AB00 AD05 AG08 AK15 AL14 5F038 AV02 BB05 BB07 DT02 DT03 DT15 EZ20 5L106 AA01 DD12 EE08 5M024 AA20 AA40 AA93 BB29 BB30 BB40 DD40 FF20 FF30 HH01 HH10 MM04 MM05 PP01 PP02 PP03 PP07 PP10

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基準内部電位を分圧して所定内部電位を
出力する内部電位補正回路を有し、所定のヒューズ回路
を用いてオン・オフ駆動されるスイッチトランジスタに
より前記所定内部電位が調整される半導体記憶装置にお
いて、前記スイッチトランジスタのオン・オフが外部ア
ドレスにより任意に制御され前記所定内部電位を補正す
るテスト回路を有することを特徴とする半導体記憶装
置。
An internal potential correction circuit for dividing a reference internal potential and outputting a predetermined internal potential, wherein the predetermined internal potential is adjusted by a switch transistor that is turned on and off using a predetermined fuse circuit. A semiconductor memory device, comprising: a test circuit for arbitrarily controlling ON / OFF of the switch transistor by an external address and correcting the predetermined internal potential.
【請求項2】 基準内部電位が直列接続した抵抗により
分圧され、スイッチトランジスタが前記各抵抗にそれぞ
れ並列接続され所定のヒューズ回路によりオン・オフ駆
動される請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the reference internal potential is divided by a resistor connected in series, a switch transistor is connected in parallel to each of the resistors, and is turned on / off by a predetermined fuse circuit.
【請求項3】 テスト回路が、外部アドレスにより指定
されるスイッチトランジスタの駆動信号と所定のヒュー
ズ回路を用いて指定されるスイッチトランジスタの駆動
信号とを切替えるセレクタを有する請求項1または2記
載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor according to claim 1, wherein the test circuit has a selector for switching between a drive signal of the switch transistor specified by the external address and a drive signal of the switch transistor specified by using a predetermined fuse circuit. Storage device.
【請求項4】 テスト回路が、外部アドレスおよび外部
コマンドによりそのテストモードが設定され、このテス
トモードに従ってセレクタの切替えタイミングが指定さ
れる請求項3記載の半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein a test mode of the test circuit is set by an external address and an external command, and a switching timing of a selector is designated according to the test mode.
【請求項5】 セレクタの各出力が、出力切替回路によ
り外部に出力され、スイッチトランジスタの駆動状態を
モニタできるようにした請求項3または4記載の半導体
記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein each output of the selector is output to the outside by an output switching circuit so that a driving state of the switch transistor can be monitored.
【請求項6】 テストモードに従って切替えられるセレ
クタが、トランスファゲートからなる切替回路または論
理回路を組合せた切替回路からなる請求項3,4または
5記載の半導体記憶装置。
6. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the selector switched according to the test mode comprises a switching circuit composed of a transfer gate or a switching circuit combining logic circuits.
【請求項7】 テスト回路のアドレスの指定が、アドレ
スピンまたはI/Oピンによりなされる請求項1,2,
3,4,5または6記載の半導体記憶装置。
7. The test circuit according to claim 1, wherein an address of the test circuit is specified by an address pin or an I / O pin.
7. The semiconductor memory device according to 3, 4, 5, or 6.
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