JP2002311627A - Electrophotographic photoreceptor, image forming method, image forming device and process cartridge - Google Patents
Electrophotographic photoreceptor, image forming method, image forming device and process cartridgeInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、複写機やプリンタ
ーの分野において用いられる電子写真感光体、及び該電
子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、プ
ロセスカートリッジに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member used in the field of copying machines and printers, and to an image forming method, an image forming apparatus and a process cartridge using the electrophotographic photosensitive member.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、電子写真感光体(以下単に、感光
体とも云う)は有機光導電物質を含有する有機電子写真
感光体(以後、有機感光体とも云う)が最も広く用いら
れている。有機感光体は可視光から赤外光まで各種露光
光源に対応した材料を開発しやすいこと、環境汚染のな
い材料を選択できること、製造コストが安いことなどが
他の感光体に対して有利な点であるが、欠点としては機
械的強度が弱く、多数枚の複写やプリント時に感光体表
面の劣化や傷が発生しやすいことである。2. Description of the Related Art In recent years, as an electrophotographic photosensitive member (hereinafter, also simply referred to as a photosensitive member), an organic electrophotographic photosensitive member containing an organic photoconductive material (hereinafter, also referred to as an organic photosensitive member) is most widely used. Organic photoreceptors are advantageous over other photoreceptors in that they are easy to develop materials for various exposure light sources from visible light to infrared light, that they can select materials that do not pollute the environment, and that they have low manufacturing costs. However, the drawback is that the mechanical strength is weak, and the photoreceptor surface is likely to be degraded or damaged during copying or printing a large number of sheets.
【0003】上記のような有機感光体の耐久性を向上す
るための課題としてクリーニングブレード等の擦過によ
る摩耗を抑制することが強く求められてきた。そのため
のアプローチとして、感光体の表面に高強度の保護層を
設置するなどの技術が検討されてきた。例えば特開平6
−118681号公報では感光体の表面層として、コロ
イダルシリカ含有硬化性シロキサン樹脂を用いることが
報告されている。しかし、シロキサン結合(Si−O−
Si結合)が三次元的に繰り返されてなるシリカのみか
らなる保護層では、表面にクラック(亀裂)が発生した
り、感光層との接着性が悪化したり、感光層の静電特性
が低下して問題となっていた。[0003] As a problem for improving the durability of the organic photoreceptor, there has been a strong demand for suppressing the abrasion of a cleaning blade or the like due to abrasion. As an approach therefor, techniques such as providing a high-strength protective layer on the surface of the photoreceptor have been studied. For example, JP-A-6
JP-A-118681 reports that a colloidal silica-containing curable siloxane resin is used as a surface layer of a photoreceptor. However, a siloxane bond (Si-O-
In a protective layer made of only silica formed by repeating three-dimensionally (Si bond), cracks (cracks) are generated on the surface, adhesion to the photosensitive layer is deteriorated, and electrostatic characteristics of the photosensitive layer are reduced. Was a problem.
【0004】又、耐摩耗性と感光層との接着性を改善す
る試みとして有機ポリマーと架橋されたシロキサン成分
の両特性を併せ持つ、有機−無機のハイブリッドポリマ
ーが提案されている。例えば特開2000−22172
3号公報には電子写真感光体の保護層としてポリシロキ
サンとシリル基含有ビニル系樹脂とが化学的に結合した
重合体を含有する保護層が報告されている。しかしなが
ら、このような保護層を有する感光体は機械的な耐摩耗
特性は改善されるが、繰り返し使用時の電子写真特性が
不十分であり、カブリや画像ボケが発生しやすく、この
ような保護層を有する感光体はカールソンプロセス等の
最も広く使用されている電子写真方式の感光体としては
不適であった。As an attempt to improve abrasion resistance and adhesion to a photosensitive layer, an organic-inorganic hybrid polymer having both characteristics of an organic polymer and a crosslinked siloxane component has been proposed. For example, JP-A-2000-22172
No. 3 discloses a protective layer containing a polymer in which polysiloxane and a silyl group-containing vinyl resin are chemically bonded as a protective layer of an electrophotographic photosensitive member. However, the photoreceptor having such a protective layer has improved mechanical abrasion resistance, but has insufficient electrophotographic properties upon repeated use, and is liable to cause fogging and image blur. The photoreceptor having a layer was not suitable as the most widely used electrophotographic photoreceptor such as the Carlson process.
【0005】そこで、機械的な耐摩耗性と繰り返し使用
時の電子写真特性を同時に満足する電子写真感光体の保
護層として、本研究者等は電荷輸送性能付与基を有し、
且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂層を感光体の保
護層として提案してきた(特願平11−70308
号)。この保護層を有する感光体は従来の重要な課題で
あった耐摩擦特性、及び繰り返し使用時の電子写真特性
(帯電、感度、残留電位特性等)が改善され、高耐久の
有機感光体として十分に実用性を有している。しかしな
がら、この保護層を有する感光体もデジタル方式の電子
写真画像形成では尚以下のような問題を有している。Therefore, as a protective layer of an electrophotographic photoreceptor which simultaneously satisfies both mechanical abrasion resistance and electrophotographic characteristics upon repeated use, the present researchers have a charge transporting performance imparting group,
In addition, a siloxane-based resin layer having a crosslinked structure has been proposed as a protective layer of a photoreceptor (Japanese Patent Application No. 11-70308).
issue). A photoreceptor having this protective layer has been improved in the conventional abrasion resistance characteristics and electrophotographic characteristics (charging, sensitivity, residual potential characteristics, etc.) upon repeated use, which have been important issues, and is sufficient as a highly durable organic photoreceptor. Has practicality. However, the photoreceptor having this protective layer still has the following problems in digital electrophotographic image formation.
【0006】即ち、デジタル方式の電子写真画像形成で
は、一般に反転現像方式(露光部分を現像する現像方
法)が用いられているが、この反転現像を用いた画像形
成方法の特有の問題として、本来白地部分として画像形
成されるべき箇所に、トナーが付着してカブリ発生させ
る現象や、感光体の局部的な欠陥による黒ポチの発生が
知られている。That is, in the digital type electrophotographic image forming, a reversal developing method (developing method for developing an exposed portion) is generally used. A phenomenon in which toner adheres to a portion where an image is to be formed as a white background portion to cause fogging, and occurrence of black spots due to a local defect of the photoconductor are known.
【0007】上記シロキサン系樹脂層を保護層とする感
光体はフタロシアニン系の顔料等で形成された感光層と
組み合わせると、画像形成を一定時間休止し、その後画
像形成を再開した直後の帯電電位が2回目以降の帯電電
位よりも低くなる問題を有する。この現象は特に反転現
像では感光体1回転目に画像形成したコピー画像が2回
転目以降に比較して明らかに劣る原因となる。画像欠陥
としては本来白地へのトナーカブリとして現れるため目
立ちやすく深刻である。When the photoreceptor having the siloxane-based resin layer as a protective layer is combined with a photoreceptor layer formed of a phthalocyanine-based pigment or the like, the charging potential immediately after resuming the image formation for a certain period of time and then resuming the image formation is reduced. There is a problem that the charge potential is lower than the charge potential after the second time. This phenomenon causes a copy image formed on the first rotation of the photoreceptor to be clearly inferior to that after the second rotation, particularly in reversal development. The image defect is conspicuous and serious because it originally appears as toner fog on a white background.
【0008】又、上記シロキサン系樹脂層を保護層とす
る感光体は高温高湿環境下等で黒ポチの発生を十分に抑
制できていない。又、シロキサン結合に残留する親水性
基(例えば水酸基)等が原因で高温高湿環境下等で帯電
電位が低下しやすい傾向がある。更に高湿環境では画像
の解像度が従来の有機感光体に比べて著しく低下する問
題も明らかとなった。Further, the photoreceptor using the siloxane-based resin layer as a protective layer cannot sufficiently suppress the occurrence of black spots in a high-temperature and high-humidity environment. In addition, the charge potential tends to decrease under a high-temperature and high-humidity environment due to a hydrophilic group (eg, a hydroxyl group) remaining in the siloxane bond. Further, a problem that the resolution of an image is significantly reduced in a high-humidity environment as compared with a conventional organic photoreceptor has also become apparent.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点に鑑み、電位安定性の良好な、且つ黒ポチ等
の画像欠陥を発生しない電子写真感光体を提供すること
であり、更に詳しくは黒ポチ等の画像欠陥を発生させ
ず、繰り返し使用でも電位安定性の良好な電子写真感光
体、及び該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像
形成装置、プロセスカートリッジを提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having good potential stability and free from image defects such as black spots in view of the above-mentioned problems of the prior art. More specifically, the present invention provides an electrophotographic photosensitive member that does not generate image defects such as black spots and has good potential stability even when used repeatedly, and an image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge using the electrophotographic photosensitive member. It is in.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は感光体を
構成する各層に検討を加えた結果、上記課題に対し下記
のような感光体構成を採用することにより達成された。The object of the present invention has been attained by adopting the following photoreceptor constitution to solve the above problems as a result of studying each layer constituting the photoreceptor.
【0011】1.導電性支持体上に、中間層を介して感
光層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複
数回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有
機ケイ素化合物を用いて行われたN型半導性微粒子とバ
インダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層が、有
機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分及び電荷輸送構
造成分を有する樹脂を含有することを特徴とする電子写
真感光体。1. In an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive support via an intermediate layer, the intermediate layer is subjected to a plurality of surface treatments, and the final surface treatment is performed using a reactive organosilicon compound. Wherein the surface layer of the photosensitive layer contains a resin having an organic polymer component, a siloxane condensate component and a charge transport structure component. Photoreceptor.
【0012】2.前記シロキサン縮合体成分が少なくと
もエポキシ基又はその開環基を有する有機ケイ素化合物
を用いて形成されることを特徴とする前記1に記載の電
子写真感光体。2. 2. The electrophotographic photoreceptor according to the above 1, wherein the siloxane condensate component is formed using an organosilicon compound having at least an epoxy group or a ring-opening group thereof.
【0013】3.前記反応性有機ケイ素化合物がメチル
ハイドロジェンポリシロキサンであることを特徴とする
前記1又は2に記載の電子写真感光体。3. 3. The electrophotographic photoreceptor according to the above item 1 or 2, wherein the reactive organic silicon compound is methyl hydrogen polysiloxane.
【0014】4.前記反応性有機ケイ素化合物が前記一
般式(1)で示される有機ケイ素化合物であることを特
徴とする前記1又は2に記載の電子写真感光体。4. 3. The electrophotographic photoreceptor according to the above item 1 or 2, wherein the reactive organic silicon compound is an organic silicon compound represented by the general formula (1).
【0015】5.前記一般式(1)のRが炭素数4から
8までのアルキル基であることを特徴とする前記4に記
載の電子写真感光体。[0015] 5. 5. The electrophotographic photoreceptor according to the above item 4, wherein R in the general formula (1) is an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms.
【0016】6.導電性支持体上に、中間層を介して感
光層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複
数回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有
機チタン化合物を用いて行われたN型半導性微粒子とバ
インダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層が、有
機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分及び電荷輸送構
造成分を有する樹脂を含有することを特徴とする電子写
真感光体。6. In an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive support via an intermediate layer, the intermediate layer is subjected to a plurality of surface treatments, and the final surface treatment is performed using a reactive organic titanium compound. Wherein the surface layer of the photosensitive layer contains a resin having an organic polymer component, a siloxane condensate component and a charge transport structure component. Photoreceptor.
【0017】7.導電性支持体上に、中間層を介して感
光層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複
数回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有
機ジルコニウム化合物を用いて行われたN型半導性微粒
子とバインダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層
が、有機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分及び電荷
輸送構造成分を有する樹脂を含有することを特徴とする
電子写真感光体。[7] In an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive support via an intermediate layer, the intermediate layer is subjected to a plurality of surface treatments, and the final surface treatment is performed using a reactive organic zirconium compound. Wherein the surface layer of the photosensitive layer contains a resin having an organic polymer component, a siloxane condensate component and a charge transport structure component. Photoreceptor.
【0018】8.前記シロキサン縮合体成分が少なくと
もエポキシ基又はその開環基を有する有機ケイ素化合物
を用いて形成されることを特徴とする前記6又は7に記
載の電子写真感光体。[8] The electrophotographic photoreceptor according to the above item 6 or 7, wherein the siloxane condensate component is formed using an organosilicon compound having at least an epoxy group or a ring-opening group thereof.
【0019】9.前記複数回の表面処理のうち、少なく
とも1回の表面処理がアルミナ、シリカ、及びジルコニ
アの少なくとも1種以上の表面処理であることを特徴と
する前記1〜8の何れか1項に記載の電子写真感光体。9. 9. The electron according to any one of 1 to 8, wherein at least one of the plurality of surface treatments is a surface treatment of at least one of alumina, silica, and zirconia. Photoreceptor.
【0020】10.前記N型半導性微粒子が少なくとも
シリカ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応
性有機ケイ素化合物を用いた表面処理を行うことを特徴
とする前記1〜5の何れか1項に記載の電子写真感光
体。[10] The electrophotography according to any one of the above items 1 to 5, wherein the N-type semiconductor fine particles are subjected to a surface treatment with at least silica or alumina, and then subjected to a surface treatment with a reactive organic silicon compound. Photoconductor.
【0021】11.前記N型半導性微粒子が少なくとも
シリカ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応
性有機チタン化合物を用いた表面処理を行うことを特徴
とする前記6に記載の電子写真感光体。11. 7. The electrophotographic photoreceptor according to the above item 6, wherein the N-type semiconductor fine particles are subjected to a surface treatment with at least silica or alumina, and then subjected to a surface treatment with a reactive organic titanium compound.
【0022】12.前記N型半導性微粒子が少なくとも
シリカ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応
性有機ジルコニウム化合物を用いた表面処理を行うこと
を特徴とする前記7に記載の電子写真感光体。12. 8. The electrophotographic photoreceptor according to the item 7, wherein the N-type semiconductor fine particles are subjected to a surface treatment using at least silica or alumina, and then subjected to a surface treatment using a reactive organic zirconium compound.
【0023】13.前記N型半導性微粒子が酸化チタン
粒子であることを特徴とする前記1〜12の何れか1項
に記載の電子写真感光体。13. The electrophotographic photoreceptor according to any one of the above items 1 to 12, wherein the N-type semiconductor fine particles are titanium oxide particles.
【0024】14.前記N型半導性微粒子が、ルチル型
の結晶型を有することを特徴とする前記1〜13の何れ
か1項に記載の電子写真感光体。14. 14. The electrophotographic photoreceptor according to any one of the items 1 to 13, wherein the N-type semiconductive fine particles have a rutile crystal type.
【0025】15.前記N型半導性微粒子の数平均一次
粒径が10nm以上200nm以下であることを特徴と
する前記1〜14の何れか1項に記載の電子写真感光
体。[15] 15. The electrophotographic photoreceptor according to any one of the items 1 to 14, wherein the N-type semiconductive fine particles have a number average primary particle size of 10 nm or more and 200 nm or less.
【0026】16.導電性支持体上に、中間層を介して
感光層を有する電子写真感光体において、該中間層が、
フッ素原子を有する反応性有機ケイ素化合物を用いて表
面処理された酸化チタン粒子とバインダー樹脂を含有し
ており、該感光層の表面層が、有機ポリマー成分、シロ
キサン縮合体成分及び電荷輸送構造成分を有する樹脂を
含有することを特徴とする電子写真感光体。16. In an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive support via an intermediate layer, the intermediate layer is
It contains titanium oxide particles surface-treated with a reactive organic silicon compound having a fluorine atom and a binder resin, and the surface layer of the photosensitive layer contains an organic polymer component, a siloxane condensate component, and a charge transport structure component. An electrophotographic photoreceptor characterized by containing a resin having the same.
【0027】17.前記シロキサン縮合体成分が少なく
ともエポキシ基又はその開環基を有する有機ケイ素化合
物を用いて形成されることを特徴とする前記16に記載
の電子写真感光体。17. 17. The electrophotographic photoreceptor as described in 16 above, wherein the siloxane condensate component is formed using an organosilicon compound having at least an epoxy group or a ring-opening group thereof.
【0028】18.前記酸化チタン粒子の数平均一次粒
径が10nm以上200nm以下であることを特徴とす
る前記16又は17に記載の電子写真感光体。18. 18. The electrophotographic photoreceptor according to the above item 16 or 17, wherein the number average primary particle diameter of the titanium oxide particles is 10 nm or more and 200 nm or less.
【0029】19.前記中間層のバインダー樹脂がポリ
アミド樹脂であることを特徴とする前記1〜18の何れ
か1項に記載の電子写真感光体。19. 19. The electrophotographic photoconductor according to any one of items 1 to 18, wherein the binder resin of the intermediate layer is a polyamide resin.
【0030】20.電子写真感光体の周辺に、少なくと
も帯電手段、像露光手段、現像手段、転写手段、クリー
ニング手段を有し、繰り返し画像形成を行う画像形成方
法において、該電子写真感光体が前記1〜19の何れか
1項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画
像形成方法。20. In an image forming method in which at least a charging unit, an image exposing unit, a developing unit, a transferring unit, and a cleaning unit are provided around an electrophotographic photosensitive member, and the image forming method for repeatedly forming an image, the electrophotographic photosensitive member is An image forming method, comprising the electrophotographic photoreceptor according to any one of the preceding claims.
【0031】21.前記20に記載の画像形成方法を用
いることを特徴とする画像形成装置。21. An image forming apparatus using the image forming method according to the above item 20.
【0032】22.前記21に記載の画像形成装置に用
いられるプロセスカートリッジが、少なくとも前記1〜
19の何れか1項に記載の電子写真感光体と帯電器、像
露光器、現像器、転写器、クリーニング器の少なくとも
1つを一体として有しており、該画像形成装置に出し入
れ可能に構成されたことを特徴とするプロセスカートリ
ッジ。22. The process cartridge used in the image forming apparatus according to the item 21, wherein at least
20. An electrophotographic photosensitive member according to any one of the above items 19 and at least one of a charger, an image exposure device, a developing device, a transfer device, and a cleaning device, which are integrally formed so as to be able to be taken in and out of the image forming apparatus. Process cartridge characterized by being done.
【0033】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明の電子写真感光体は導電性支持体と感光層の間に設
ける中間層に特定の表面処理を施されたN型半導性微粒
子とバインダー樹脂とを含有させることを特徴としてい
る。そのN型半導性微粒子の表面処理は、複数回の表
面処理が行われ、かつ該複数回の表面処理のうち最後の
表面処理が反応性有機ケイ素化合物を用いた表面処理で
あることを特徴とするもの、フッ素原子を有する反応
性有機ケイ素化合物を用いた表面処理であることを特徴
とするもの、複数回の表面処理が行われ、かつ該複数
回の表面処理のうち最後の表面処理が反応性有機チタン
化合物を用いた表面処理であることを特徴とするもの、
及び複数回の表面処理が行われ、かつ該複数回の表面
処理のうち最後の表面処理が反応性有機ジルコニウム化
合物を用いた表面処理であることを特徴としている。Hereinafter, the present invention will be described in detail. The electrophotographic photoreceptor of the present invention is characterized in that an intermediate layer provided between a conductive support and a photosensitive layer contains N-type semiconductor fine particles subjected to a specific surface treatment and a binder resin. The surface treatment of the N-type semiconductor particles is performed a plurality of times, and the last one of the plurality of times is a surface treatment using a reactive organosilicon compound. What is to be characterized in that it is a surface treatment using a reactive organosilicon compound having a fluorine atom, a plurality of times surface treatment is performed, and the last surface treatment of the plurality of times surface treatment is Characterized in that it is a surface treatment using a reactive organic titanium compound,
And a plurality of surface treatments is performed, and the last of the plurality of surface treatments is a surface treatment using a reactive organic zirconium compound.
【0034】これらの4つのうち何れか一つの表面処理
を施されたN型半導性微粒子を含有させて導電性支持体
と感光層の間に中間層を設け、該感光層の表面層とし
て、有機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分及び電荷
輸送構造成分を有する樹脂を含有し、該シロキサン縮合
体成分が少なくともエポキシ基又はその開環基を有する
有機ケイ素化合物を用いて形成された層を設けることに
より、残電上昇や、帯電電位低下といった電子写真特性
を劣化させることなく、黒ポチの発生を著しく抑制する
ことができ、更には、レーザー露光によるモアレの発生
も改善できることを見出したものである。An intermediate layer is provided between the conductive support and the photosensitive layer by containing N-type semiconductor fine particles which have been subjected to any one of these four surface treatments. Providing a layer containing an organic polymer component, a siloxane condensate component, and a resin having a charge transport structure component, wherein the siloxane condensate component is formed using an organosilicon compound having at least an epoxy group or a ring-opening group thereof. Thereby, the occurrence of black spots can be significantly suppressed without deteriorating electrophotographic characteristics such as an increase in residual charge and a decrease in charging potential, and furthermore, it has been found that the occurrence of moiré due to laser exposure can be improved. .
【0035】更に、本発明においては、前述のN型半導
性微粒子として酸化チタン微粒子を用いることが特に好
ましいものであることを見出したのである。Further, in the present invention, it has been found that it is particularly preferable to use titanium oxide fine particles as the N-type semiconductive fine particles.
【0036】以下、本発明に用いられるN型半導性微粒
子及び酸化チタンについて、更に、上記表面処理につい
て詳細に説明する。Hereinafter, the surface treatment of the N-type semiconductor fine particles and titanium oxide used in the present invention will be described in detail.
【0037】本発明に用いられるN型半導性微粒子と
は、導電性キャリアを電子とする性質をもつ微粒子を示
す。すなわち、導電性キャリアを電子とする性質とは、
該N型半導性微粒子を絶縁性バインダーに含有させるこ
とにより、基体からのホール注入を効率的にブロック
し、また、感光層からの電子に対してはブロッキング性
を示さない性質を有するものをいう。The N-type semiconductive fine particles used in the present invention are fine particles having a property of using a conductive carrier as an electron. That is, the property of making the conductive carrier an electron is as follows.
By incorporating the N-type semiconductive fine particles into an insulating binder, it is possible to efficiently block holes from being injected from the substrate, and to exhibit a property of not blocking the electrons from the photosensitive layer. Say.
【0038】前記N型半導性微粒子は、具体的には酸化
チタン(TiO2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ
(SnO2)等の微粒子が挙げられるが、本発明では、
特に酸化チタンが好ましく用いられる。Specific examples of the N-type semiconductive fine particles include fine particles of titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ) and the like.
Particularly, titanium oxide is preferably used.
【0039】本発明に用いられるN型半導性微粒子の平
均粒径は、数平均一次粒径において10nm以上200
nm以下の範囲のものが好ましく、より好ましくは10
nm〜100nm、特に好ましくは、15nm〜50n
mである。The average particle size of the N-type semiconductor fine particles used in the present invention is 10 nm or more in number average primary particle size.
nm or less, more preferably 10 nm or less.
nm to 100 nm, particularly preferably 15 nm to 50 n
m.
【0040】数平均一次粒径の値が前記範囲内にあるN
型半導性微粒子を用いた中間層は層内での分散を緻密な
ものとすることができ、十分な電位安定性、及び黒ポチ
発生防止機能を有する。When the value of the number average primary particle size is within the above range,
The intermediate layer using the semiconductive fine particles can make the dispersion in the layer dense, and has a sufficient potential stability and a function to prevent occurrence of black spots.
【0041】前記N型半導性微粒子の数平均一次粒径
は、例えば酸化チタンの場合、透過型電子顕微鏡観察に
よって10000倍に拡大し、ランダムに100個の粒
子を一次粒子として観察し、画像解析によりフェレ径の
数平均径として測定値される。The number average primary particle diameter of the N-type semiconductive fine particles is, for example, in the case of titanium oxide, magnified 10000 times by transmission electron microscopy, and 100 particles are randomly observed as primary particles. It is measured as the number average diameter of Feret diameter by analysis.
【0042】本発明に用いられるN型半導性微粒子の形
状は、樹枝状、針状および粒状等の形状があり、このよ
うな形状のN型半導性微粒子は、例えば酸化チタン粒子
では、結晶型としては、アナターゼ型、ルチル型及びア
モルファス型等があるが、いずれの結晶型のものを用い
てもよく、また2種以上の結晶型を混合して用いてもよ
い。その中でもルチル型のものが最も良い。The shape of the N-type semiconductor fine particles used in the present invention includes dendrites, needles, and particles. The N-type semiconductor fine particles having such a shape are, for example, titanium oxide particles. The crystal form includes an anatase type, a rutile type, an amorphous type, and the like. Any of the crystal types may be used, or two or more types may be mixed and used. Among them, the rutile type is best.
【0043】本発明のN型半導性微粒子に行われる表面
処理の1つは、複数回の表面処理を行い、かつ該複数回
の表面処理の中で、最後の表面処理が反応性有機ケイ素
化合物を用いた表面処理を行うものである。また、該複
数回の表面処理の中で、少なくとも1回の表面処理がア
ルミナ、シリカ、及びジルコニアから選ばれる少なくと
も1種類以上の表面処理を行い、最後に反応性有機ケイ
素化合物を用いた表面処理を行うことが好ましい。One of the surface treatments performed on the N-type semiconductor fine particles of the present invention is that a plurality of surface treatments are performed, and the last one of the plurality of surface treatments is a reactive organosilicon. A surface treatment using a compound is performed. Further, among the plurality of surface treatments, at least one surface treatment performs at least one or more surface treatments selected from alumina, silica, and zirconia, and finally, a surface treatment using a reactive organosilicon compound. Is preferably performed.
【0044】尚、アルミナ処理、シリカ処理、ジルコニ
ア処理とはN型半導性微粒子表面にアルミナ、シリカ、
或いはジルコニアを析出させる処理を云い、これらの表
面に析出したアルミナ、シリカ、ジルコニアにはアルミ
ナ、シリカ、ジルコニアの水和物も含まれる。又、反応
性有機ケイ素化合物の表面処理とは、処理液に反応性有
機ケイ素化合物を用いることを意味する。The alumina treatment, the silica treatment, and the zirconia treatment mean that alumina, silica,
Alternatively, it refers to a treatment for depositing zirconia, and the alumina, silica, and zirconia deposited on these surfaces include hydrates of alumina, silica, and zirconia. Further, the surface treatment of the reactive organosilicon compound means to use the reactive organosilicon compound in the treatment solution.
【0045】また、本発明のN型半導性微粒子に行われ
る表面処理の他の方法としては、複数回の表面処理を行
い、かつ該複数回の表面処理の中で、最後の表面処理に
反応性有機チタン化合物や或いは反応性有機ジルコニウ
ム化合物を用いて表面処理を行うものである。また、該
複数回の表面処理の中で、少なくとも1回の表面処理が
上記同様アルミナ、シリカ、及びジルコニアから選ばれ
る少なくとも1種類以上の表面処理を行い、最後に反応
性有機チタン化合物或いは反応性有機ジルコニウム化合
物を用いた表面処理を行うものであることが好ましい。As another method of the surface treatment performed on the N-type semiconductive fine particles of the present invention, the surface treatment is performed a plurality of times, and in the plurality of the surface treatments, the last surface treatment is performed. The surface treatment is performed using a reactive organic titanium compound or a reactive organic zirconium compound. In the plurality of surface treatments, at least one surface treatment performs at least one kind of surface treatment selected from alumina, silica, and zirconia as described above, and finally, the reactive organic titanium compound or the reactive organic titanium compound. It is preferable to perform a surface treatment using an organic zirconium compound.
【0046】この様に、酸化チタン粒子の様なN型半導
性微粒子の表面処理を少なくとも2回以上行うことによ
り、N型半導性微粒子表面が均一に表面被覆(処理)さ
れ、該表面処理されたN型半導性微粒子を中間層に用い
ると、中間層内における酸化チタン粒子等のN型半導性
微粒子の分散性が良好で、かつ黒ポチ等の画像欠陥を発
生させない良好な感光体を得ることができるのである。As described above, by performing the surface treatment of the N-type semiconductor fine particles such as titanium oxide particles at least twice, the surface of the N-type semiconductor fine particles is uniformly coated (treated). When the treated N-type semiconductive fine particles are used for the intermediate layer, the dispersibility of the N-type semiconductive fine particles such as titanium oxide particles in the intermediate layer is good, and good image defects such as black spots are not generated. A photoreceptor can be obtained.
【0047】また、該複数回の表面処理をアルミナ及び
シリカの表面処理を行い、次いで反応性有機ケイ素化合
物を用いた表面処理を行うものや、アルミナ及びシリカ
を用いた表面処理の後に反応性有機チタン化合物或いは
反応性有機ジルコニウム化合物を用いた表面処理を行う
ものが特に好ましい。The surface treatment may be performed a plurality of times by subjecting the surface treatment to alumina and silica, and then to the surface treatment using a reactive organosilicon compound. Those that perform a surface treatment using a titanium compound or a reactive organic zirconium compound are particularly preferable.
【0048】なお、前述のアルミナ及びシリカの処理は
同時に行っても良いが、特にアルミナ処理を最初に行
い、次いでシリカ処理を行うことが好ましい。また、ア
ルミナとシリカの処理をそれぞれ行う場合のアルミナ及
びシリカの処理量は、アルミナよりもシリカの多いもの
が好ましい。The above-mentioned treatment of alumina and silica may be carried out simultaneously, but it is particularly preferred to carry out the alumina treatment first and then the silica treatment. In the case where alumina and silica are respectively treated, the amount of alumina and silica to be treated is preferably larger than that of alumina.
【0049】前記酸化チタン等のN型半導性微粒子のア
ルミナ、シリカ、及びジルコニア等の金属酸化物による
表面処理は湿式法で行うことができる。例えば、シリ
カ、又はアルミナの表面処理を行ったN型半導性微粒子
は以下の様に作製することができる。The surface treatment of the N-type semiconductor fine particles such as titanium oxide with a metal oxide such as alumina, silica, and zirconia can be performed by a wet method. For example, N-type semiconductive particles having been subjected to silica or alumina surface treatment can be prepared as follows.
【0050】N型半導性微粒子として酸化チタン粒子を
用いる場合、酸化チタン粒子(数平均一次粒子径:50
nm)を50〜350g/Lの濃度で水中に分散させて
水性スラリーとし、これに水溶性のケイ酸塩又は水溶性
のアルミニウム化合物を添加する。その後、アルカリ又
は酸を添加して中和し、酸化チタン粒子の表面にシリ
カ、又はアルミナを析出させる。続いて濾過、洗浄、乾
燥を行い目的の表面処理酸化チタンを得る。前記水溶性
のケイ酸塩としてケイ酸ナトリウムを使用した場合に
は、硫酸、硝酸、塩酸等の酸で中和することができる。
一方、水溶性のアルミニウム化合物として硫酸アルミニ
ウムを用いたときは水酸化ナトリウムや水酸化カリウム
等のアルカリで中和することができる。When titanium oxide particles are used as the N-type semiconductive fine particles, titanium oxide particles (number average primary particle diameter: 50
nm) at a concentration of 50 to 350 g / L in water to form an aqueous slurry, to which a water-soluble silicate or a water-soluble aluminum compound is added. Thereafter, neutralization is performed by adding an alkali or an acid to deposit silica or alumina on the surface of the titanium oxide particles. Subsequently, filtration, washing and drying are performed to obtain a target surface-treated titanium oxide. When sodium silicate is used as the water-soluble silicate, it can be neutralized with an acid such as sulfuric acid, nitric acid or hydrochloric acid.
On the other hand, when aluminum sulfate is used as the water-soluble aluminum compound, it can be neutralized with an alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
【0051】なお、上記表面処理の金属酸化物の量は、
前記表面処理時の仕込量にて酸化チタン粒子等のN型半
導性微粒子100質量部に対して、0.1〜50質量
部、更に好ましくは1〜10質量部の金属酸化物が用い
られる。尚、前述のアルミナとシリカ処理の場合も例え
ば酸化チタン粒子の場合、酸化チタン粒子100質量部
に対して各々1〜10質量部用いることが好ましく、ア
ルミナよりもシリカの量が多いことが好ましい。The amount of the metal oxide in the above surface treatment is as follows:
0.1 to 50 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass of metal oxide is used with respect to 100 parts by mass of the N-type semiconductive fine particles such as titanium oxide particles in the charged amount at the time of the surface treatment. . In the case of the above-mentioned treatment with alumina and silica, for example, in the case of titanium oxide particles, it is preferable to use 1 to 10 parts by mass for 100 parts by mass of titanium oxide particles, and it is preferable that the amount of silica is larger than that of alumina.
【0052】上記の金属酸化物の表面処理の次に行われ
る反応性有機ケイ素化合物を用いた表面処理は以下の様
な湿式法で行うことが好ましい。The surface treatment using a reactive organic silicon compound, which is performed after the surface treatment of the metal oxide, is preferably performed by the following wet method.
【0053】即ち、有機溶剤や水に対して前記反応性有
機ケイ素化合物を溶解または懸濁させた液に前記金属酸
化物で処理された酸化チタンを添加し、この液を数分か
ら1時間程度撹拌する。そして場合によっては該液に加
熱処理を施した後に、濾過等の工程を経た後乾燥し、表
面を有機ケイ素化合物で被覆した酸化チタン粒子を得
る。なお、有機溶剤や水に対して酸化チタンを分散させ
た懸濁液に前記反応性有機ケイ素化合物を添加しても構
わない。That is, the titanium oxide treated with the metal oxide is added to a solution in which the reactive organosilicon compound is dissolved or suspended in an organic solvent or water, and the solution is stirred for several minutes to one hour. I do. In some cases, the liquid is subjected to a heat treatment, filtered, etc., and then dried to obtain titanium oxide particles whose surface is coated with an organosilicon compound. Note that the reactive organic silicon compound may be added to a suspension in which titanium oxide is dispersed in an organic solvent or water.
【0054】尚、本発明において酸化チタン粒子表面が
反応性有機ケイ素化合物により被覆されていることは、
光電子分光法(ESCA)、オージェ電子分光法(Au
ger)、2次イオン質量分析法(SIMS)や拡散反
射FI−IR等の表面分析手法を複合することによって
確認されるものである。In the present invention, the fact that the surface of the titanium oxide particles is coated with the reactive organosilicon compound is as follows.
Photoelectron spectroscopy (ESCA), Auger electron spectroscopy (Au
ger) is confirmed by combining surface analysis methods such as secondary ion mass spectrometry (SIMS) and diffuse reflection FI-IR.
【0055】前記表面処理に用いられる反応性有機ケイ
素化合物の量は、前記表面処理時の仕込量にて前記金属
酸化物で処理された酸化チタン100質量部に対し、反
応性有機ケイ素化合物を0.1〜50質量部、更に好ま
しくは1〜10質量部が好ましい。表面処理量が上記範
囲よりも少ないと表面処理効果が十分に付与されず、中
間層内における酸化チタン粒子の分散性等が悪くなる。
また、上記範囲を超えてしまうと電子写真特性を劣化さ
せ、その結果残留電位上昇や帯電電位の低下を招いてし
まう。The amount of the reactive organosilicon compound used in the surface treatment is such that the amount of the reactive organosilicon compound is 0 with respect to 100 parts by mass of the titanium oxide treated with the metal oxide at the amount charged during the surface treatment. 0.1 to 50 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass. If the surface treatment amount is less than the above range, the surface treatment effect is not sufficiently provided, and the dispersibility and the like of the titanium oxide particles in the intermediate layer deteriorate.
Further, when the ratio exceeds the above range, electrophotographic characteristics are degraded, and as a result, a residual potential rises and a charged potential lowers.
【0056】本発明で用いられる反応性有機ケイ素化合
物としては下記一般式(2)で表される有機ケイ素化合
物が挙げられるが、酸化チタン表面の水酸基等の反応性
基と縮合反応をする化合物であれば、下記化合物に限定
されない。The reactive organosilicon compound used in the present invention includes an organosilicon compound represented by the following general formula (2), and is a compound that undergoes a condensation reaction with a reactive group such as a hydroxyl group on the surface of titanium oxide. If present, it is not limited to the following compounds.
【0057】一般式(2) (R)n−Si−(X)4-n (式中、Siはケイ素原子、Rは該ケイ素原子に炭素が
直接結合した形の有機基を表し、Xは加水分解性基を表
し、nは0〜3の整数を表す。) 一般式(2)で表される有機ケイ素化合物において、R
で示されるケイ素に炭素が直接結合した形の有機基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、オクチル、ドデシル等のアルキル基、フェニ
ル、トリル、ナフチル、ビフェニル等のアリール基、γ
−グリシドキシプロピル、β−(3,4−エポキシシク
ロヘキシル)エチル等の含エポキシ基、γ−アクリロキ
シプロピル、γ−メタアクリロキシプロピルの含(メ
タ)アクリロイル基、γ−ヒドロキシプロピル、2,3
−ジヒドロキシプロピルオキシプロピル等の含水酸基、
ビニル、プロペニル等の含ビニル基、γ−メルカプトプ
ロピル等の含メルカプト基、γ−アミノプロピル、N−
β(アミノエチル)−γ−アミノプロピル等の含アミノ
基、γ−クロロプロピル、1,1,1−トリフロオロプ
ロピル、ノナフルオロヘキシル、パーフルオロオクチル
エチル等の含ハロゲン基、その他ニトロ、シアノ置換ア
ルキル基を挙げられる。また、Xの加水分解性基として
はメトキシ、エトキシ等のアルコキシ基、ハロゲン基、
アシルオキシ基が挙げられる。Formula (2) (R) n -Si- (X) 4-n (wherein Si is a silicon atom, R is an organic group in which carbon is directly bonded to the silicon atom, and X is Represents a hydrolyzable group, and n represents an integer of 0 to 3.) In the organosilicon compound represented by the general formula (2), R
Organic groups in the form of carbon directly bonded to silicon represented by, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl,
Alkyl groups such as hexyl, octyl and dodecyl, aryl groups such as phenyl, tolyl, naphthyl and biphenyl, and γ
Epoxy-containing groups such as glycidoxypropyl, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl, (meth) acryloyl-containing γ-acryloxypropyl and γ-methacryloxypropyl, γ-hydroxypropyl, 2, 3
-A hydroxyl group such as dihydroxypropyloxypropyl,
Vinyl, vinyl-containing groups such as propenyl, mercapto-containing groups such as γ-mercaptopropyl, γ-aminopropyl, N-
amino-containing groups such as β (aminoethyl) -γ-aminopropyl; halogen-containing groups such as γ-chloropropyl, 1,1,1-trifluoropropyl, nonafluorohexyl, and perfluorooctylethyl; and other nitro and cyano groups And substituted alkyl groups. Examples of the hydrolyzable group for X include methoxy, ethoxy and other alkoxy groups, halogen groups,
An acyloxy group is exemplified.
【0058】また、一般式(2)で表される有機ケイ素
化合物は、単独でも良いし、2種以上組み合わせて使用
しても良い。The organosilicon compound represented by the general formula (2) may be used alone or in combination of two or more.
【0059】また、一般式(2)で表される有機ケイ素
化合物の具体的化合物で、nが2以上の場合、複数のR
は同一でも異なっていても良い。同様に、nが2以下の
場合、複数のXは同一でも異なっていても良い。又、一
般式(2)で表される有機ケイ素化合物を2種以上を用
いるとき、R及びXはそれぞれの化合物間で同一でも良
く、異なっていても良い。When the specific compound of the organosilicon compound represented by the general formula (2) is 2 or more, a plurality of R
May be the same or different. Similarly, when n is 2 or less, a plurality of Xs may be the same or different. When two or more organosilicon compounds represented by the general formula (2) are used, R and X may be the same or different between the respective compounds.
【0060】nが0の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。テトラクロロシラン、ジエトキシジクロロ
シラン、テトラメトキシシラン、フェノキシトリクロロ
シラン、テトラアセトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトラアリロキシシラン、テトラプロポキシシラ
ン、テトライソプロポキシシラン、テトラキス(2−メ
トキシエトキシ)シラン、テトラブトキシシラン、テト
ラフェノキシシラン、テトラキス(2−エチルブトキ
シ)シラン、テトラキス(2−エチルヘキシロキシ)シ
ラン等が挙げられる。Examples of the compound in which n is 0 include the following compounds. Tetrachlorosilane, diethoxydichlorosilane, tetramethoxysilane, phenoxytrichlorosilane, tetraacetoxysilane, tetraethoxysilane, tetraallyloxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrakis (2-methoxyethoxy) silane, tetrabutoxysilane , Tetraphenoxysilane, tetrakis (2-ethylbutoxy) silane, tetrakis (2-ethylhexyloxy) silane and the like.
【0061】nが1の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。即ち、トリクロロシラン、メチルトリクロ
ロシラン、ビニルトリクロロシラン、エチルトリクロロ
シラン、アリルトリクロロシラン、n−プロピルトリク
ロロシラン、n−ブチルトリクロロシラン、クロロメチ
ルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
ルカプトメチルトリメトキシシラン、トリメトキシビニ
ルシラン、エチルトリメトキシシラン、3,3,4,
4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルトリク
ロロシラン、フェニルトリクロロシラン、3,3,3−
トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロ
プロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、3
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、2−アミノエチルアミノ
メチルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラ
ン、メチルトリアセトキシシラン、クロロメチルトリエ
トキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、3−アリルチオプロピルトリメト
キシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、3−ブロモプロピルトリエトキシシラン、3−ア
リルアミノプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリ
エトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、3−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、ビス(エチルメチルケト
オキシム)メトキシメチルシラン、ペンチルトリエトキ
シシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリ
エトキシシラン等が挙げられる。Examples of the compound in which n is 1 include the following compounds. That is, trichlorosilane, methyltrichlorosilane, vinyltrichlorosilane, ethyltrichlorosilane, allyltrichlorosilane, n-propyltrichlorosilane, n-butyltrichlorosilane, chloromethyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, Trimethoxyvinylsilane, ethyltrimethoxysilane, 3,3,4
4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyltrichlorosilane, phenyltrichlorosilane, 3,3,3-
Trifluoropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, triethoxysilane, 3
-Mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminoethylaminomethyltrimethoxysilane, benzyltrichlorosilane, methyltriacetoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, ethyltriacetoxysilane, phenyltrimethoxysilane, 3-allylthiopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-bromopropyltriethoxysilane, 3-allylaminopropyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, 3-aminopropyl Triethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, bis (ethylmethylketoxime) methoxymethylsilane, pentyltriethoxysilane, octyl Triethoxysilane, a dodecyloxy triethoxy silane and the like.
【0062】nが2の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。ジメチルジクロロシラン、ジメトキシメチ
ルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチル−3,
3,3−トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジエト
キシシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチ
ル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、3−ク
ロロプロピルジメトキシメチルシラン、クロロメチルジ
エトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキ
シ−3−メルカプトプロピルメチルシラン、3,3,
4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルメ
チルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、
ジアセトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビ
ニルシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジクロ
ロシラン、3−アミノプロピルジエトキシメチルシラ
ン、3−(2−アミノエチルアミノプロピル)ジメトキ
シメチルシラン、t−ブチルフェニルジクロロシラン、
3−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、
3−(3−シアノプロピルチオプロピル)ジメトキシメ
チルシラン、3−(2−アセトキシエチルチオプロピ
ル)ジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−2−
ピペリジノエチルシラン、ジブトキシジメチルシラン、
3−ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、
ジエトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシ−3−グ
リシドキシプロピルメチルシラン、3−(3−アセトキ
シプロピルチオ)プロピルジメトキシメチルシラン、ジ
メトキシメチル−3−ピペリジノプロピルシラン、ジエ
トキシメチルオクタデシルシラン等が挙げられる。Examples of the compound in which n is 2 include the following compounds. Dimethyldichlorosilane, dimethoxymethylsilane, dimethoxydimethylsilane, methyl-3,
3,3-trifluoropropyldichlorosilane, diethoxysilane, diethoxymethylsilane, dimethoxymethyl-3,3,3-trifluoropropylsilane, 3-chloropropyldimethoxymethylsilane, chloromethyldiethoxysilane, diethoxydimethyl Silane, dimethoxy-3-mercaptopropylmethylsilane, 3,3
4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexylmethyldichlorosilane, methylphenyldichlorosilane,
Diacetoxymethylvinylsilane, diethoxymethylvinylsilane, 3-methacryloxypropylmethyldichlorosilane, 3-aminopropyldiethoxymethylsilane, 3- (2-aminoethylaminopropyl) dimethoxymethylsilane, t-butylphenyldichlorosilane,
3-methacryloxypropyldimethoxymethylsilane,
3- (3-cyanopropylthiopropyl) dimethoxymethylsilane, 3- (2-acetoxyethylthiopropyl) dimethoxymethylsilane, dimethoxymethyl-2-
Piperidinoethylsilane, dibutoxydimethylsilane,
3-dimethylaminopropyldiethoxymethylsilane,
Diethoxymethylphenylsilane, diethoxy-3-glycidoxypropylmethylsilane, 3- (3-acetoxypropylthio) propyldimethoxymethylsilane, dimethoxymethyl-3-piperidinopropylsilane, diethoxymethyloctadecylsilane and the like. Can be
【0063】nが3の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。トリメチルクロロシラン、メトキシトリメ
チルシラン、エトキシトリメチルシラン、メトキシジメ
チル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、3−
クロロプロピルメトキシジメチルシラン、メトキシ−3
−メルカプトプロピルメチルメチルシラン等が挙げられ
る。Examples of the compound wherein n is 3 include the following compounds. Trimethylchlorosilane, methoxytrimethylsilane, ethoxytrimethylsilane, methoxydimethyl-3,3,3-trifluoropropylsilane, 3-
Chloropropylmethoxydimethylsilane, methoxy-3
-Mercaptopropylmethylmethylsilane.
【0064】また、一般式(2)で表される有機ケイ素
化合物は、好ましくは前記一般式(1)で示される有機
ケイ素化合物が用いられる。The organosilicon compound represented by the general formula (2) is preferably an organosilicon compound represented by the general formula (1).
【0065】一般式(1)で表される有機ケイ素化合物
においては、更に好ましくはRが炭素数4から8までの
アルキル基である有機ケイ素化合物が好ましく、具体的
な好ましい化合物例としては、トリメトキシn−ブチル
シラン、トリメトキシi−ブチルシラン、トリメトキシ
ヘキシルシラン、トリメトキシオクチルシランが挙げら
れる。In the organosilicon compound represented by the general formula (1), more preferably, an organosilicon compound in which R is an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms is preferable. Examples include n-butylsilane, trimethoxy i-butylsilane, trimethoxyhexylsilane, and trimethoxyoctylsilane.
【0066】又、最後の表面処理に用いる好ましい反応
性有機ケイ素化合物としてはハイドロジェンポリシロキ
サン化合物が挙げられる。該ハイドロジェンポリシロキ
サン化合物の分子量は1000〜20000のものが一
般に入手しやすく、又、黒ポチ発生防止機能も良好であ
る。特にメチルハイドロジェンポリシロキサンを最後の
表面処理に用いると良好な効果が得られる。A preferred reactive organosilicon compound used in the final surface treatment is a hydrogen polysiloxane compound. The hydrogen polysiloxane compound having a molecular weight of 1,000 to 20,000 is generally easily available, and has a good black spot prevention function. Particularly, when methyl hydrogen polysiloxane is used for the final surface treatment, a good effect can be obtained.
【0067】本発明の酸化チタンの表面処理の他の1つ
はフッ素原子を有する有機ケイ素化合物により表面処理
を施された酸化チタン粒子である。該フッ素原子を有す
る有機ケイ素化合物を用いた表面処理、前記した湿式法
で行うのが好ましい。Another one of the surface treatments of the titanium oxide of the present invention is titanium oxide particles which have been subjected to a surface treatment with a fluorine atom-containing organosilicon compound. The surface treatment using the organosilicon compound having a fluorine atom is preferably performed by the above-mentioned wet method.
【0068】即ち、有機溶剤や水に対して前記フッ素原
子を有する有機ケイ素化合物を溶解または懸濁させ、こ
の中に未処理の酸化チタンを添加し、このような溶液を
数分から1時間程度撹拌して混合し、場合によっては加
熱処理を施した後に、濾過などの工程を経て乾燥し、酸
化チタン表面をフッ素原子を有する有機ケイ素化合物で
被覆する。なお、有機溶剤や水に対して酸化チタンを分
散した懸濁液に前記フッ素原子を有する有機ケイ素化合
物を添加しても構わない。That is, the above-mentioned organosilicon compound having a fluorine atom is dissolved or suspended in an organic solvent or water, untreated titanium oxide is added thereto, and such a solution is stirred for several minutes to one hour. After the mixture is subjected to a heat treatment in some cases, it is dried through a step such as filtration, and the surface of the titanium oxide is coated with an organosilicon compound having a fluorine atom. The organic silicon compound having a fluorine atom may be added to a suspension in which titanium oxide is dispersed in an organic solvent or water.
【0069】尚、前記酸化チタン表面がフッ素原子を有
する有機ケイ素化合物によって被覆されていることは、
光電子分光法(ESCA)、オージェ電子分光法(Au
ger)、2次イオン質量分析法(SIMS)や拡散反
射FI−IR等の表面分析装置を用いて複合的に確認す
ることができる。The fact that the titanium oxide surface is coated with an organosilicon compound having a fluorine atom is as follows.
Photoelectron spectroscopy (ESCA), Auger electron spectroscopy (Au
ger) can be confirmed compositely using a surface analyzer such as secondary ion mass spectrometry (SIMS) or diffuse reflection FI-IR.
【0070】本発明に用いられるフッ素原子を有する有
機ケイ素化合物としては、3,3,4,4,5,5,
6,6,6−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、
3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラ
ン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジクロ
ロシラン、ジメトキシメチル−3,3,3−トリフルオ
ロプロピルシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,
6−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン等が挙
げられる。The fluorine-containing organosilicon compound used in the present invention includes 3,3,4,4,5,5,5
6,6,6-nonafluorohexyltrichlorosilane,
3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldichlorosilane, dimethoxymethyl-3,3,3-trifluoropropylsilane, 3,3,4,4,5 , 5,6,6
6-nonafluorohexylmethyldichlorosilane and the like.
【0071】なお、本発明では、上記のN型半導性微粒
子に最後に行われる表面処理を反応性有機チタン化合物
や反応性有機ジルコニウム化合物を用いて行われるもの
も含まれるが、具体的な表面処理方法は、上記反応性有
機ケイ素化合物を用いた表面処理方法に準ずる方法によ
って行われるものである。In the present invention, the surface treatment finally performed on the N-type semiconductor fine particles described above may be performed by using a reactive organic titanium compound or a reactive organic zirconium compound. The surface treatment method is performed by a method according to the surface treatment method using the above reactive organosilicon compound.
【0072】また、前記N型半導性微粒子表面が反応性
有機チタン化合物や反応性有機ジルコニウム化合物によ
って被覆されていることは、光電子分光法(ESC
A)、オージェ電子分光法(Auger)、2次イオン
質量分析法(SIMS)や拡散反射FI−IR等の表面
分析手法を複合的に用いることにより高精度に確認され
るものである。The fact that the surface of the N-type semiconductor fine particles is coated with a reactive organic titanium compound or a reactive organic zirconium compound is confirmed by photoelectron spectroscopy (ESC).
(A), Auger electron spectroscopy (Auger), secondary ion mass spectroscopy (SIMS), and surface analysis such as diffuse reflection FI-IR are used in a complex manner to confirm the results with high accuracy.
【0073】前記N型半導性微粒子の表面処理に用いら
れる具体的な反応性有機チタン化合物としては、テトラ
プロポキシチタン、テトラブトキシチタン等の金属アル
コキシド化合物やジイソプロポキシチタニウムビス(ア
セチルアセテート)、ジイソプロポキシチタニウムビス
(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタニ
ウムビス(ラクテート)、ジブトキシチタニウムビス
(オクチレングリコレート)、ジイソプロポキシチタニ
ウムビス(トリエタノールアミナート)等の金属キレー
ト化合物が挙げられる。また、反応性有機ジルコニウム
化合物としては、テトラブトキシジルコニウムやブトキ
シジルコニウムトリ(アセチルアセテート)等の金属ア
ルコキシド化合物や金属キレート化合物が挙げられる。Specific reactive organic titanium compounds used for the surface treatment of the N-type semiconductive fine particles include metal alkoxide compounds such as tetrapropoxytitanium and tetrabutoxytitanium, diisopropoxytitanium bis (acetylacetate), and the like. Metal chelate compounds such as diisopropoxytitanium bis (ethylacetoacetate), diisopropoxytitanium bis (lactate), dibutoxytitanium bis (octylene glycolate), diisopropoxytitanium bis (triethanolaminate) and the like. . Examples of the reactive organic zirconium compound include metal alkoxide compounds such as tetrabutoxyzirconium and butoxyzirconium tri (acetylacetate) and metal chelate compounds.
【0074】次に、前記表面処理が施された酸化チタン
粒子等のN型半導性微粒子(以下、表面処理N型半導性
微粒子ともいう。また、特に、表面処理が施された酸化
チタン粒子を表面処理酸化チタンとも云う)を用いた中
間層の構成について説明する。Next, N-type semiconductive fine particles such as the above-mentioned surface-treated titanium oxide particles (hereinafter also referred to as surface-treated N-type semiconductive fine particles. The structure of the intermediate layer using particles (also referred to as surface-treated titanium oxide) will be described.
【0075】本発明の中間層は、前記複数回の表面処理
を行って得られた表面処理酸化チタン等の表面処理N型
半導性微粒子をバインダー樹脂とともに溶媒中に分散さ
せた液を導電性支持体上に塗布することにより作製され
る。The intermediate layer of the present invention is formed by dispersing a liquid obtained by dispersing a surface-treated N-type semiconductor fine particle such as a surface-treated titanium oxide obtained by performing the surface treatment a plurality of times together with a binder resin in a solvent. It is produced by coating on a support.
【0076】本発明の中間層は導電性支持体と感光層の
間に設けられ、該導電性支持体と感光層との接着性改
良、及び該支持体からの電荷注入を防止するバリア機能
を有する。該中間層のバインダー樹脂としては、ポリア
ミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニ
ルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビ
ニルアルコール樹脂やメラミン樹脂、エポキシ樹脂、ア
ルキッド樹脂等の熱硬化性樹脂やこれらの樹脂の繰り返
し単位のうちの2つ以上を含む共重合体樹脂が挙げられ
る。これらバインダー樹脂の中でポリアミド樹脂が特に
好ましく、特には共重合、メトキシメチロール化等のア
ルコール可溶性ポリアミドが好ましい。The intermediate layer of the present invention is provided between the conductive support and the photosensitive layer to improve the adhesion between the conductive support and the photosensitive layer and to function as a barrier to prevent charge injection from the support. Have. Examples of the binder resin for the intermediate layer include thermosetting resins such as polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol resin and melamine resin, epoxy resin, and alkyd resin, and these resins. And copolymer resins containing two or more of the above repeating units. Among these binder resins, polyamide resins are particularly preferable, and alcohol-soluble polyamides such as copolymerization and methoxymethylol are particularly preferable.
【0077】前記バインダー樹脂中に分散される本発明
の表面処理N型半導性微粒子の量は、例えば表面処理酸
化チタンの場合では、該バインダー樹脂100質量部に
対し、10〜10,000質量部、好ましくは50〜
1,000質量部である。該表面処理酸化チタンをこの
範囲で用いることにより、該酸化チタンの分散性を良好
に保つことができ、黒ポチの発生しない、良好な中間層
を形成することができる。The amount of the surface-treated N-type semiconductive fine particles of the present invention dispersed in the binder resin is, for example, in the case of surface-treated titanium oxide, 10 to 10,000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. Parts, preferably 50 to
It is 1,000 parts by mass. By using the surface-treated titanium oxide in this range, the dispersibility of the titanium oxide can be kept good, and a good intermediate layer free of black spots can be formed.
【0078】本発明の中間層の膜厚は0.5〜15μm
が好ましい。膜厚を前記範囲で用いることにより、黒ポ
チの発生しない、電子写真特性の良好な中間層を形成で
きる。The thickness of the intermediate layer of the present invention is 0.5 to 15 μm.
Is preferred. By using the film thickness in the above-mentioned range, an intermediate layer having good electrophotographic characteristics without black spots can be formed.
【0079】本発明の中間層を形成するために作製する
中間層塗布液は前記表面処理酸化チタン等の表面処理N
型半導性微粒子、バインダー樹脂、分散溶媒等から構成
されるが、分散溶媒としては他の感光層の作製に用いら
れる溶媒と同様なものが適宜用いられる。The coating solution for the intermediate layer prepared for forming the intermediate layer of the present invention is a surface-treated N
It is composed of a mold semiconductive fine particle, a binder resin, a dispersion solvent and the like. As the dispersion solvent, the same solvent as that used for producing other photosensitive layers is appropriately used.
【0080】即ち、本発明の中間層、感光層、その他の
層の形成に用いられる溶媒又は分散媒としては、n−ブ
チルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソ
プロパノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチ
レンジアミン、N,N−ジメチルホルムアミド、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、
シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
ロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタ
ン、1,2−ジクロロプロパン、1,1,2−トリクロ
ロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、トリクロロ
エチレン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、
ジオキソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、
ブタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ等が挙げ
られる。That is, n-butylamine, diethylamine, ethylenediamine, isopropanolamine, triethanolamine, triethylenediamine, N, N are used as solvents or dispersion media for forming the intermediate layer, photosensitive layer and other layers of the present invention. -Dimethylformamide, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone,
Cyclohexanone, benzene, toluene, xylene, chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,2-dichloropropane, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethane, tetrahydrofuran,
Dioxolan, dioxane, methanol, ethanol,
Butanol, isopropanol, ethyl acetate, butyl acetate, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve and the like.
【0081】中間層塗布液溶媒としては、これらに限定
されるものではないが、メタノール、エタノール、ブタ
ノール、1−プロパノール、イソプロパノール等が好ま
しく用いられる。また、これらの溶媒は単独或いは2種
以上の混合溶媒として用いることもできる。The solvent for the coating liquid for the intermediate layer is not limited to these, but methanol, ethanol, butanol, 1-propanol, isopropanol and the like are preferably used. In addition, these solvents can be used alone or as a mixed solvent of two or more kinds.
【0082】また、中間層塗布溶媒としては、中間層塗
布時の乾燥ムラの発生を防止するために高い樹脂溶解性
を有するメタノールと直鎖アルコールとの混合溶媒を用
いることが好ましく、好ましい溶媒の比率は、体積比で
メタノール1に対して直鎖アルコールを0.05〜0.
6の比率で混合したものがよい。この様に塗布溶媒を混
合溶媒とすることで溶媒の蒸発速度が適切に保たれ、塗
布時の乾燥ムラに伴う画像欠陥の発生を抑えることがで
きる。As the solvent for coating the intermediate layer, it is preferable to use a mixed solvent of methanol and straight-chain alcohol having high resin solubility in order to prevent drying unevenness during coating of the intermediate layer. The ratio of the volume ratio of the linear alcohol to the methanol is 0.05 to 0.
A mixture of 6 is preferred. By using the coating solvent as a mixed solvent in this manner, the evaporation rate of the solvent is appropriately maintained, and the occurrence of image defects due to uneven drying during coating can be suppressed.
【0083】中間層塗布液の作製に用いられる表面処理
酸化チタンの分散手段としてはサンドミル、ボールミ
ル、超音波分散等いずれの分散手段を用いても良い。As a dispersing means of the surface-treated titanium oxide used for preparing the coating liquid for the intermediate layer, any dispersing means such as a sand mill, a ball mill and an ultrasonic dispersing means may be used.
【0084】前記中間層を含め、本発明の電子写真感光
体を製造するための塗布加工方法としては、浸漬塗布、
スプレー塗布、円形量規制型塗布等の塗布加工法が用い
られるが、感光層の上層側の塗布加工は下層の膜を極力
溶解させないため、又、均一塗布加工を達成するためス
プレー塗布又は円形量規制型(円形スライドホッパ型が
その代表例)塗布等の塗布加工方法を用いるのが好まし
い。なお前記スプレー塗布については例えば特開平3−
90250号及び特開平3−269238号公報に詳細
に記載され、前記円形量規制型塗布については例えば特
開昭58−189061号公報に詳細に記載されてい
る。Coating processing methods for manufacturing the electrophotographic photoreceptor of the present invention including the intermediate layer include dip coating,
Coating methods such as spray coating and circular amount control type coating are used, but the coating process on the upper layer side of the photosensitive layer is performed by spray coating or circular coating to minimize the dissolution of the lower layer film and to achieve uniform coating processing. It is preferable to use a coating method such as a regulated type (a typical example is a circular slide hopper type). The spray coating is described in, for example,
No. 90250 and JP-A-3-269238, and the circular amount-control type coating is described in detail, for example, in JP-A-58-189061.
【0085】次に、本発明の表面層について記載する。
本発明の表面層は有機ポリマー成分、シロキサン縮合体
成分及び電荷輸送構造成分を有する樹脂を含有する。Next, the surface layer of the present invention will be described.
The surface layer of the present invention contains an organic polymer component, a siloxane condensate component, and a resin having a charge transport structure component.
【0086】前記樹脂を構成する有機ポリマー成分とは
有機モノマー単位から構成されるポリマー成分を云う。
有機モノマー単位とは例えば、ビニル系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等を構成するモノ
マー単位を意味する。本発明の樹脂はこの有機ポリマー
成分が、シロキサン縮合体成分及び電荷輸送性構造成分
と化学的な結合をして、均一化している。ここで化学的
な結合とは、化学反応によって生成する共有結合、水素
結合、イオン結合を含む。The organic polymer component constituting the resin is a polymer component composed of organic monomer units.
The organic monomer unit means, for example, a monomer unit constituting a vinyl resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, or the like. In the resin of the present invention, the organic polymer component is chemically bonded to the siloxane condensate component and the charge transporting structural component, and is homogenized. Here, the chemical bond includes a covalent bond, a hydrogen bond, and an ionic bond generated by a chemical reaction.
【0087】本発明の樹脂中に有機ポリマー成分を導入
するには、有機ポリマー成分の側鎖にシリル基を有する
ビニル系樹脂、或いは側鎖にシロキサン縮合体成分を既
に形成しているビニル系樹脂を用いることができる。To introduce an organic polymer component into the resin of the present invention, a vinyl resin having a silyl group on the side chain of the organic polymer component or a vinyl resin having a siloxane condensate component already formed on the side chain Can be used.
【0088】本発明で用いられるシリル基含有ビニル系
樹脂の製造方法は特に限定されるものではない。例え
ば、一旦ビニル系樹脂を得た後、シリル基を導入して得
てもよいし、またはシリル基を有するビニル系化合物と
各種ビニル系化合物を重合させて得てもよい。詳しく
は、シリル基含有ビニル系樹脂は例えば、(イ)ヒドロ
キシシラン化合物を炭素−炭素二重結合を有するビニル
系樹脂と反応させることにより製造してもよく、また
(ロ)下記一般式(3);The method for producing the silyl group-containing vinyl resin used in the present invention is not particularly limited. For example, it may be obtained by once introducing a silyl group after obtaining a vinyl resin, or by polymerizing a vinyl compound having a silyl group with various vinyl compounds. Specifically, the silyl group-containing vinyl resin may be produced, for example, by reacting (a) a hydroxysilane compound with a vinyl resin having a carbon-carbon double bond, and (b) the following general formula (3) );
【0089】[0089]
【化1】 Embedded image
【0090】(式中、R3は水素原子、炭素数1〜10
のアルキル基、炭素数1〜10のアラルキル基、R4は
重合性二重結合を有する有機基、Xはハロゲン原子、ア
ルコキシ基、アシロキシ基、アミノキシ基、フェノキシ
基を示し、nは1〜3の整数である。)で表されるシラ
ンモノマーと各種ビニル系化合物とを重合することによ
り製造してもよい。(Wherein R 3 is a hydrogen atom, having 1 to 10 carbon atoms)
R 4 is an organic group having a polymerizable double bond, X is a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, an aminooxy group, a phenoxy group, and n is 1 to 3 Is an integer. )) And various vinyl compounds.
【0091】ここで、上記(イ)で示される製造方法で
使用されるヒドロキシシラン化合物としては、例えばメ
チルジクロルシラン、トリクロルシラン、フェニルジク
ロルシランなどのハロゲン化シラン類;メチルジエトキ
シシラン、メチルジメトキシシラン、フェニルジメトキ
シシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシランな
どのアルコキシシラン類;メチルジアセトキシシラン、
フェニルジアセトキシシラン、トリアセトキシシランな
どのアセトキシシラン類;メチルジアミノキシシラン、
トリアミノキシシラン、ジメチルアミノキシシラン、ト
リアミノシランなどのアミノシラン類が挙げられる。こ
れらのヒドロキシシラン化合物は単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。Here, examples of the hydroxysilane compound used in the production method shown in the above (a) include halogenated silanes such as methyldichlorosilane, trichlorosilane and phenyldichlorosilane; methyldiethoxysilane; Alkoxysilanes such as methyldimethoxysilane, phenyldimethoxysilane, trimethoxysilane and triethoxysilane; methyldiacetoxysilane;
Acetoxysilanes such as phenyldiacetoxysilane and triacetoxysilane; methyldiaminoxysilane,
Examples include aminosilanes such as triaminoxysilane, dimethylaminoxysilane, and triaminosilane. These hydroxysilane compounds can be used alone or in combination of two or more.
【0092】また、(イ)で示される製造方法で使用さ
れるビニル系樹脂としては、水酸基を含むビニル系樹脂
を除く以外に特に限定はなく、例えば(メタ)アクリル
酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリ
ル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、
シクロヘキシル(メタ)アクリレートなどの(メタ)ア
クリル酸エステル;(メタ)アクリル酸、イタコン酸、
フマル酸などのカルボン酸および無水マレイン酸などの
酸無水物;グリシジル(メタ)アクリレートなどのエポ
キシ化合物;ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、アミノエチルビニルエーテルなどのアミノ化合物;
(メタ)アクリルアミド、イタコン酸ジアミド、α−エ
チルアクリルアミド、クロトンアミド、フマル酸ジアミ
ド、マレイン酸ジアミド、N−ブトキシメチル(メタ)
アクリルアミドなどのアミド化合物;アクリロニトリ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビニル、酢酸
ビニル、プロピオン酸ビニルなどからなるグループから
選ばれる1またはそれ以上のビニル系化合物を重合また
は共重合したビニル系樹脂が好ましい。The vinyl resin used in the production method shown in (a) is not particularly limited, except for the vinyl resin containing a hydroxyl group. For example, methyl (meth) acrylate, (meth) acryl Ethyl acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate,
(Meth) acrylic acid esters such as cyclohexyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, itaconic acid,
Carboxylic acids such as fumaric acid and acid anhydrides such as maleic anhydride; epoxy compounds such as glycidyl (meth) acrylate; amino compounds such as diethylaminoethyl (meth) acrylate and aminoethyl vinyl ether;
(Meth) acrylamide, itaconic diamide, α-ethylacrylamide, crotonamide, fumaric diamide, maleic diamide, N-butoxymethyl (meth)
Amide compounds such as acrylamide; vinyl resins obtained by polymerizing or copolymerizing one or more vinyl compounds selected from the group consisting of acrylonitrile, styrene, α-methylstyrene, vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl propionate and the like are preferable. .
【0093】一方、(ロ)で示される製造方法で使用さ
れるシランモノマーとしては、シリル基、特に加水分解
性を有するシリル基を有し、後述の各種ビニル系化合物
と重合可能なモノマーであれば特に制限されず、例え
ば、CH2=CHSi(CH3)(OCH3)2、CH2=
CHSi(OCH3)3、CH2=CHSi(CH3)Cl
2、CH2=CHSiCl3、CH2=CHCOO(C
H2)2Si(CH3)(OCH 3)2、CH2=CHCOO
(CH2)2Si(OCH3)3、CH2=CHCOO(C
H2)3Si(CH3)(OCH3)2、CH2=CHCOO
(CH2)3Si(OCH 3)3、CH2=CHCOO(C
H2)2Si(CH3)Cl2、CH2=CHCOO(C
H2)2SiCl3、CH2=CHCOO(CH2)3Si
(CH3)Cl2、CH2=CHCOO(CH2)3SiC
l3、CH2=C(CH3)COO(CH2)2Si(C
H3)(OCH3)2、CH2=C(CH3)COO(C
H2)2Si(OCH3) 3、CH2=C(CH3)COO
(CH2)3Si(CH3)(OCH3)2、CH2=C(C
H3)COO(CH2)3Si(OCH3)3、CH2=C
(CH3)COO(CH2)2Si(CH3)Cl2、CH2
=C(CH3)COO(CH2)2SiCl3、CH2=C
(CH3)COO(CH2)3Si(CH3)Cl2、CH2
=C(CH3)COO(CH2)3SiCl3、On the other hand, in the production method shown in (b)
Silane groups include, especially,
Various vinyl compounds described below having a silyl group
There is no particular limitation as long as the monomer can be polymerized with, for example,
If CHTwo= CHSi (CHThree) (OCHThree)Two, CHTwo=
CHSi (OCHThree)Three, CHTwo= CHSi (CHThree) Cl
Two, CHTwo= CHSiClThree, CHTwo= CHCOO (C
HTwo)TwoSi (CHThree) (OCH Three)Two, CHTwo= CHCOO
(CHTwo)TwoSi (OCHThree)Three, CHTwo= CHCOO (C
HTwo)ThreeSi (CHThree) (OCHThree)Two, CHTwo= CHCOO
(CHTwo)ThreeSi (OCH Three)Three, CHTwo= CHCOO (C
HTwo)TwoSi (CHThree) ClTwo, CHTwo= CHCOO (C
HTwo)TwoSiClThree, CHTwo= CHCOO (CHTwo)ThreeSi
(CHThree) ClTwo, CHTwo= CHCOO (CHTwo)ThreeSiC
lThree, CHTwo= C (CHThree) COO (CHTwo)TwoSi (C
HThree) (OCHThree)Two, CHTwo= C (CHThree) COO (C
HTwo)TwoSi (OCHThree) Three, CHTwo= C (CHThree) COO
(CHTwo)ThreeSi (CHThree) (OCHThree)Two, CHTwo= C (C
HThree) COO (CHTwo)ThreeSi (OCHThree)Three, CHTwo= C
(CHThree) COO (CHTwo)TwoSi (CHThree) ClTwo, CHTwo
= C (CHThree) COO (CHTwo)TwoSiClThree, CHTwo= C
(CHThree) COO (CHTwo)ThreeSi (CHThree) Cl2, CHTwo
= C (CHThree) COO (CHTwo)ThreeSiClThree,
【0094】[0094]
【化2】 Embedded image
【0095】等が挙げられる。これらのシランモノマー
は単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。And the like. These silane monomers can be used alone or in combination of two or more.
【0096】(ロ)で示される製造方法で使用される各
種ビニル系化合物としては、上記(イ)の製造方法で使
用されるビニル系樹脂の説明で例示したビニル系化合物
を使用することが可能であるが、これらの例示以外に、
水酸基を含むビニル系化合物、例えば、2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシビニルエーテ
ル、N−メチロールアクリルアミドなどを挙げることが
できる。これらのビニル系化合物は単独でまたは2種以
上を混合して使用することができる。As the various vinyl compounds used in the production method shown in (b), the vinyl compounds exemplified in the description of the vinyl resin used in the production method (a) can be used. However, besides these examples,
Vinyl compounds containing a hydroxyl group, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyvinyl ether, N-methylolacrylamide, and the like can be given. These vinyl compounds can be used alone or in combination of two or more.
【0097】シリル基含有ビニル系樹脂(A)の合成 モノマーとして、メチルメタクリレート65部、n−ブ
チルアクリレート35部、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン(KBM503:信越化学社製)2
0部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート16部をイ
ソプロピルアルコール130部に混合溶解し、80℃に
て攪拌した。テトラヒドロフラン10部にアゾビスイソ
ブチロニトリル4部を溶解した液を滴下し、4時間反応
させて固形分濃度50質量%のシリル基含有ビニル系樹
脂(A)を得た。Synthesis of Silyl Group-Containing Vinyl Resin (A) As monomers, 65 parts of methyl methacrylate, 35 parts of n-butyl acrylate, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM503: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 2
0 parts and 16 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate were mixed and dissolved in 130 parts of isopropyl alcohol, and stirred at 80 ° C. A solution obtained by dissolving 4 parts of azobisisobutyronitrile in 10 parts of tetrahydrofuran was added dropwise and reacted for 4 hours to obtain a silyl group-containing vinyl resin (A) having a solid concentration of 50% by mass.
【0098】シリル基含有ビニル系樹脂(B)の合成 モノマーとして、メチルメタクリレート65部、n−ブ
チルアクリレート35部、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン(KBM503:信越化学社製)2
0部、N−メチロールアクリルアミド10部、アクリル
酸6部をイソプロピルアルコール130部に混合溶解
し、80℃にて攪拌した。キシレン10部にアゾビスイ
ソブチロニトリル4部を溶解した液を滴下し、4時間反
応させて固形分濃度50質量%のシリル基含有ビニル系
樹脂(B)を得た。Synthesis of Silyl Group-Containing Vinyl Resin (B) As monomers, 65 parts of methyl methacrylate, 35 parts of n-butyl acrylate, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM503: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 2
0 parts, 10 parts of N-methylolacrylamide and 6 parts of acrylic acid were mixed and dissolved in 130 parts of isopropyl alcohol, and stirred at 80 ° C. A solution obtained by dissolving 4 parts of azobisisobutyronitrile in 10 parts of xylene was dropped and reacted for 4 hours to obtain a silyl group-containing vinyl resin (B) having a solid concentration of 50% by mass.
【0099】又、側鎖にシロキサン縮合体成分を有する
ビニル系樹脂は側鎖に前記シリル基を有するビニル系樹
脂と有機ケイ素化合物とを反応させて、ビニル系樹脂の
側鎖にシロキサン縮合体を形成することが出来る。The vinyl resin having a siloxane condensate component in the side chain is obtained by reacting the vinyl resin having a silyl group in the side chain with an organosilicon compound to form a siloxane condensate on the side chain of the vinyl resin. Can be formed.
【0100】本発明で用いられるシリル基含有ビニル系
樹脂の重合度は特に制限されないが、100〜500で
あることが望ましい。The polymerization degree of the silyl group-containing vinyl resin used in the present invention is not particularly limited, but is preferably from 100 to 500.
【0101】本発明のシロキサン縮合体成分とはシロキ
サン結合が複数個、三次元的に連なった構造を有してい
る。The siloxane condensate component of the present invention has a structure in which a plurality of siloxane bonds are three-dimensionally connected.
【0102】又、本発明のシロキサン縮合体は、少なく
ともエポキシ基又はその開環基を有する有機ケイ素化合
物を用いて形成されることが好ましい。The siloxane condensate of the present invention is preferably formed using an organosilicon compound having at least an epoxy group or a ring-opening group thereof.
【0103】即ち、エポキシ基又はその開環基を有する
有機ケイ素化合物を用いて形成されたシロキサン縮合体
を有する本発明の樹脂層は、電子写真感光体の表面層と
して用いると、電子写真感光体の耐摩耗特性を改善し、
且つ高湿環境や低湿環境で画像ボケを発生させない。That is, when the resin layer of the present invention having a siloxane condensate formed using an organosilicon compound having an epoxy group or its ring-opening group is used as a surface layer of an electrophotographic photosensitive member, Improve the wear resistance of
In addition, image blur does not occur in a high humidity environment or a low humidity environment.
【0104】本発明に好ましく用いられるエポキシ基又
はその開環基を有する有機ケイ素化合物としては(3−
グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン、2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリエトキシシラン、5,6−エポキシヘキシルト
リエトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)メチ
ルジエトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)メ
チルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)エチルメチルジメトキシシラン、(3−グリ
シドキシプロピル)ジメチルエトキシシラン、ジエトキ
シ−3−グリシドキシプロピルメチルシラン等が挙げら
れる。The organosilicon compound having an epoxy group or a ring-opening group thereof preferably used in the present invention includes (3-
Glycidoxypropyl) trimethoxysilane, 2-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 5,6-epoxyhexyltriethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) methyldiethoxysilane , (3-glycidoxypropyl) methyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) dimethylethoxysilane, diethoxy-3-glycidoxypropylmethylsilane And the like.
【0105】本発明のシロキサン縮合体成分を形成する
には、上記エポキシ基又はその開環基を有する有機ケイ
素化合物以外に前記一般式(2)で示され有機ケイ素化
合物及びその具体例で示された化合物を併用して重縮合
を形成するのが好ましい。In order to form the siloxane condensate component of the present invention, in addition to the above-mentioned organosilicon compound having an epoxy group or a ring-opening group thereof, the organosilicon compound represented by the general formula (2) and the specific examples thereof can be used. It is preferable to form a polycondensation by using the compounds in combination.
【0106】架橋構造を有するシロキサン系樹脂の原料
として用いられる前記一般式(2)の有機ケイ素化合物
は、一般にはケイ素原子に結合している加水分解性基の
数(4−n)のnが3のとき、有機ケイ素化合物の高分
子化反応は抑制される。nが0、1又は2のときは高分
子化反応が起こりやすく、特に1或いは0では高度に架
橋反応を進めることが可能である。従って、これらをコ
ントロールすることにより得られる塗布層液の保存性や
塗布膜の硬度等を制御することが出来る。The organosilicon compound of the general formula (2) used as a raw material of the siloxane-based resin having a crosslinked structure generally has n of the number (4-n) of hydrolyzable groups bonded to silicon atoms. At 3, the polymerization reaction of the organosilicon compound is suppressed. When n is 0, 1 or 2, a polymerization reaction easily occurs. In particular, when n is 1 or 0, the crosslinking reaction can be advanced to a high degree. Therefore, by controlling these, it is possible to control the storability of the obtained coating layer liquid and the hardness of the coating film.
【0107】本発明の電荷輸送性構造成分とは電子或い
は正孔のドリフト移動度を有する性質を示す電荷輸送性
構造基であり、又別の定義としてはTime−Of−F
light法などの電荷輸送性能を検知できる公知の方
法により電荷輸送に起因する検出電流が得られる電荷輸
送性構造基である。The charge-transporting structural component of the present invention is a charge-transporting structural group exhibiting the property of having electron or hole drift mobility. Another definition is Time-Of-F.
It is a charge transporting structural group capable of obtaining a detection current due to charge transport by a known method capable of detecting charge transport performance such as a light method.
【0108】本発明の樹脂中に電荷輸送性構造成分を導
入するには、有機ケイ素化合物と反応性電荷輸送性化合
物を用い、シロキサン縮合体中に電荷輸送性構造成分を
組み込むことができる。ここで反応性電荷輸送性化合物
とは前記有機ケイ素化合物、或いは有機ポリマーの側鎖
シリル基と化学結合可能な反応性基を有する電荷輸送性
化合物を意味する。以下、反応性電荷輸送性化合物につ
いて説明する。In order to introduce a charge transporting structural component into the resin of the present invention, an organic silicon compound and a reactive charge transporting compound can be used, and the charge transporting structural component can be incorporated into a siloxane condensate. Here, the reactive charge transporting compound means the organic silicon compound or the charge transporting compound having a reactive group capable of chemically bonding to the side chain silyl group of the organic polymer. Hereinafter, the reactive charge transporting compound will be described.
【0109】前記反応性電荷輸送性化合物としては水酸
基、メルカプト基、アミン基、シリル基を有する電荷輸
送性化合物等が挙げられる。Examples of the reactive charge transporting compound include a charge transporting compound having a hydroxyl group, a mercapto group, an amine group and a silyl group.
【0110】水酸基を有する電荷輸送性化合物は下記一
般式(4)で表される。 一般式(4) X−(R7−OH)m ここにおいて、 X:電荷輸送性構造基、 R7:単結合、置換又は無置換のアルキレン基、アリー
レン基、 m:1〜5の整数である。The charge transporting compound having a hydroxyl group is represented by the following general formula (4). X- (R 7 -OH) m wherein X: a charge-transporting structural group, R 7 : a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, an arylene group, m: an integer of 1 to 5 is there.
【0111】その中でも代表的なものを挙げれば下記の
ごときものがある。例えばトリアリールアミン系化合物
は、トリフェニルアミン等のトリアリールアミン構造を
電荷輸送性構造基=Xとして有し、前記Xを構成する炭
素原子を介して、又はXから延長されたアルキレン、ア
リーレン基を介して水酸基を有する化合物が好ましく用
いられる。[0111] Among them, representative ones are as follows. For example, a triarylamine-based compound has a triarylamine structure such as triphenylamine as a charge-transporting structural group = X, and an alkylene or arylene group extended from a carbon atom constituting X or extended from X. A compound having a hydroxyl group via is preferably used.
【0112】次に、水酸基を有する電荷輸送性化合物の
合成例について述べる。 化合物B−1の合成Next, a synthesis example of a charge transporting compound having a hydroxyl group will be described. Synthesis of Compound B-1
【0113】[0113]
【化3】 Embedded image
【0114】ステップA 温度計、冷却管、撹拌装置、滴下ロートの付いた四頭コ
ルベンに、化合物(1)49gとオキシ塩化リン184
gを入れ加熱溶解した。滴下ロートよりジメチルホルム
アミド117gを徐々に滴下し、その後反応液温を85
〜95℃に保ち、約15時間撹拌を行った。次に反応液
を大過剰の温水に徐々に注いだ後、撹拌しながらゆっく
り冷却した。Step A In a four-headed kolben equipped with a thermometer, a cooling pipe, a stirrer, and a dropping funnel, 49 g of the compound (1) and 184 phosphorus oxychloride were added.
g was added and dissolved by heating. 117 g of dimethylformamide was gradually added dropwise from the dropping funnel.
The mixture was kept at 9595 ° C. and stirred for about 15 hours. Next, the reaction solution was gradually poured into a large excess of warm water, and then slowly cooled while stirring.
【0115】析出した結晶を濾過及び乾燥した後、シリ
カゲル等により不純物吸着及びアセトニトリルでの再結
晶により精製を行って化合物(2)を得た。収量は30
gであった。 ステップB 化合物(2)30gとエタノール100mlをコルベン
に投入し撹拌した。水素化ホウ素ナトリウム1.9gを
徐々に添加した後、液温を40〜60℃に保ち、約2時
間撹拌を行った。次に反応液を約300mlの水に徐々
にあけ、撹拌して結晶を析出させた。濾過後充分水洗し
て、乾燥し化合物(3)を得た。収量は30gであっ
た。The precipitated crystals were filtered and dried, and then purified by adsorption of impurities using silica gel or the like and recrystallization using acetonitrile to obtain Compound (2). Yield 30
g. Step B 30 g of compound (2) and 100 ml of ethanol were charged into a kolben and stirred. After gradually adding 1.9 g of sodium borohydride, the solution was kept at 40 to 60 ° C. and stirred for about 2 hours. Next, the reaction solution was gradually poured into about 300 ml of water, and stirred to precipitate crystals. After filtration, the resultant was sufficiently washed with water and dried to obtain a compound (3). The yield was 30 g.
【0116】メルカプト基を有する電荷輸送性化合物は
下記一般式(5)で表される。 一般式(5) X−(R8−SH)m ここにおいて、 X:電荷輸送性構造基、 R8:単結合、置換又は無置換のアルキレン、アリーレ
ン基、 m:1〜5の整数である。The charge transporting compound having a mercapto group is represented by the following general formula (5). X- (R 8 -SH) m wherein X is a charge transporting structural group, R 8 is a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene or arylene group, and m is an integer of 1 to 5. .
【0117】アミン基を有する電荷輸送性化合物は下記
一般式(6)で表される。 一般式(6) X−(R9−NR10H)m ここにおいて、 X:電荷輸送性構造基、 R9:単結合、置換、無置換のアルキレン、置換、無置
換のアリーレン基、 R10:水素原子、置換、無置換のアルキル基、置換、無
置換のアリール基、 m:1〜5の整数である。The charge transporting compound having an amine group is represented by the following general formula (6). X- (R 9 -NR 10 H) m wherein X: charge-transporting structural group, R 9 : single bond, substituted, unsubstituted alkylene, substituted, unsubstituted arylene group, R 10 : A hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, m: an integer of 1 to 5.
【0118】アミノ基を有する電荷輸送性化合物の中
で、第一級アミン化合物(−NH2)の場合は2個の水
素原子が有機珪素化合物と反応し、シロキサン構造に連
結しても良い。第2級アミン化合物(−NHR10)の場
合は1個の水素原子が有機珪素化合物と反応し、R10は
ブランチとして残存する基でも良く、架橋反応を起こす
基でも良く、電荷輸送物質を含む化合物残基でもよい。Among the charge transporting compounds having an amino group, in the case of a primary amine compound (—NH 2 ), two hydrogen atoms may react with an organosilicon compound and be linked to a siloxane structure. In the case of a secondary amine compound (—NHR 10 ), one hydrogen atom reacts with the organosilicon compound, and R 10 may be a group that remains as a branch or a group that causes a cross-linking reaction, and includes a charge transport material. It may be a compound residue.
【0119】更に、シリル基を有する電荷輸送性化合物
は下記一般式(7)で表される。 一般式(7) X−(−R1−Si(R11)3-a(R12)a)n 式中、Xは電荷輸送性構造基であり、R11は水素原子、
置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基を示し、
R12は加水分解性基又は水酸基を示し、R1は置換若し
くは無置換のアルキレン基を示す。aは1〜3の整数を
示し、nは整数を示す。Further, the charge transporting compound having a silyl group is represented by the following general formula (7). X-(— R 1 —Si (R 11 ) 3-a (R 12 ) a ) n In the formula, X is a charge transporting structural group, R 11 is a hydrogen atom,
A substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group;
R 12 represents a hydrolyzable group or a hydroxyl group, and R 1 represents a substituted or unsubstituted alkylene group. a represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer.
【0120】前記一般式(4)〜(7)の代表例を下記
に示す。Representative examples of the general formulas (4) to (7) are shown below.
【0121】[0121]
【化4】 Embedded image
【0122】[0122]
【化5】 Embedded image
【0123】[0123]
【化6】 Embedded image
【0124】[0124]
【化7】 Embedded image
【0125】本発明の反応性電荷輸送性化合物としては
同一分子内に複数の反応性基を有する化合物が好まし
い。このことにより、反応性電荷輸送性化合物は有機ケ
イ素化合物との反応性が向上し、本発明の表面層に良好
な電荷輸送特性を付与する。The reactive charge transporting compound of the present invention is preferably a compound having a plurality of reactive groups in the same molecule. As a result, the reactivity of the reactive charge transporting compound with the organosilicon compound is improved, and the surface layer of the present invention has good charge transporting properties.
【0126】本発明の樹脂の電荷輸送性構造成分とは前
記一般式(4)〜(7)中の電荷輸送性構造基Xに相当
する化学構造成分を示す。電荷輸送性構造基Xの具体的
な化合物構造としては、例えば正孔輸送型CTMとして
は、キサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、トリ
アゾール、イミダゾール、イミダゾロン、イミダゾリ
ン、ビスイミダゾリジン、スチリル、ヒドラゾン、ベン
ジジン、ピラゾリン、スチルベン化合物、アミン、オキ
サゾロン、ベンゾチアゾール、ベンズイミダゾール、キ
ナゾリン、ベンゾフラン、アクリジン、フェナジン、ア
ミノスチルベン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ
−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアントラセンな
どの化学構造を有する基が挙げられる。The charge transporting structural component of the resin of the present invention refers to a chemical structural component corresponding to the charge transporting structural group X in the general formulas (4) to (7). As a specific compound structure of the charge transporting structural group X, for example, as a hole transporting type CTM, xazole, oxadiazole, thiazole, triazole, imidazole, imidazolone, imidazoline, bisimidazolidin, styryl, hydrazone, benzidine, The chemical structure of pyrazoline, stilbene compound, amine, oxazolone, benzothiazole, benzimidazole, quinazoline, benzofuran, acridine, phenazine, aminostilbene, poly-N-vinylcarbazole, poly-1-vinylpyrene, poly-9-vinylanthracene Groups.
【0127】一方、電子輸送型CTMとしては無水コハ
ク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水ピロメリッ
ト酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノジメタン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼ
ン、トリニトロベンゼン、テトラニトロベンゼン、ニト
ロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロル
イミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾキノン、ナフ
トキノン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキ
ノン、1−クロロアントラキノン、ジニトロアントラキ
ノン、4−ニトロベンゾフェノン、4,4′−ジニトロ
ベンゾフェノン、4−ニトロベンザルマロンジニトリ
ル、α−シアノ−β−(p−シアノフェニル)−2−
(p−クロロフェニル)エチレン、2,7−ジニトロフ
ルオレン、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,
4,5,7−テトラニトロフルオレノン、9−フルオレ
ニリデンジシアノメチレンマロノニトリル、ポリニトロ
−9−フルオロニリデンジシアノメチレンマロノジニト
リル、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安
息香酸、3,5−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安
息香酸、5−ニトロサリチル酸、3,5−ジニトロサリ
チル酸、フタル酸、メリット酸などの化学構造を有する
基が挙げられる。On the other hand, succinic anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, melitic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, nitrobenzene, dinitrobenzene, trinitrobenzene, Tetranitrobenzene, nitrobenzonitrile, picryl chloride, quinone chlorimide, chloranil, bromanyl, benzoquinone, naphthoquinone, diphenoquinone, tropoquinone, anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, dinitroanthraquinone, 4-nitrobenzophenone, 4,4'-dinitrobenzophenone, 4-nitrobenzalmalonedinitrile, α-cyano-β- (p-cyanophenyl) -2-
(P-chlorophenyl) ethylene, 2,7-dinitrofluorene, 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,
4,5,7-tetranitrofluorenone, 9-fluorenylidenedicyanomethylenemalononitrile, polynitro-9-fluoronylidenedicyanomethylenemalonodinitrile, picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, 3, Examples include groups having a chemical structure such as 5-dinitrobenzoic acid, pentafluorobenzoic acid, 5-nitrosalicylic acid, 3,5-dinitrosalicylic acid, phthalic acid, and melitic acid.
【0128】本発明で用いられる反応性電荷輸送性化合
物の分子量は700以下、100以上が好ましい。70
0以下の反応性電荷輸送性化合物を用いることにより、
残電上昇が小さく電子写真特性が良好で、且つクリーニ
ング性の優れた表面層を形成できる。更に、450以
下、100以上の分子量の反応性電荷輸送性化合物が好
ましい。The molecular weight of the reactive charge transporting compound used in the present invention is preferably 700 or less and 100 or more. 70
By using a reactive charge transporting compound of 0 or less,
It is possible to form a surface layer having a small residual electric charge, good electrophotographic characteristics, and excellent cleaning properties. Further, a reactive charge transporting compound having a molecular weight of 450 or less and 100 or more is preferable.
【0129】前記、電荷輸送性構造基Xは上式中では1
価の基として示されているが、有機ケイ素化合物、シロ
キサン縮合体成分と反応させる反応性電荷輸送性化合物
が2つ以上の反応性官能基を有している場合は樹脂中で
2価以上のクロスリンク基として接合してもよく、単に
ペンダント基として接合していてもよい。In the above formula, the charge transporting structural group X is 1
Although it is shown as a valence group, when the reactive charge transporting compound to be reacted with the organosilicon compound and the siloxane condensate component has two or more reactive functional groups, It may be joined as a crosslink group, or may be joined simply as a pendant group.
【0130】本発明の表面層は有機ポリマー成分、シロ
キサン縮合体成分及び電荷輸送構造成分を有する樹脂を
含有するが、表面層中のこれらの樹脂は相互に化学結合
により結合しており、表面層全体が架橋構造を有する表
面層で形成されている。The surface layer of the present invention contains a resin having an organic polymer component, a siloxane condensate component and a charge transporting structural component. These resins in the surface layer are mutually bonded by a chemical bond. The whole is formed of a surface layer having a crosslinked structure.
【0131】本発明の表面層中の有機ポリマー成分とシ
ロキサン縮合体成分の総質量に対する電荷輸送性構造成
分の比が1:0.01〜10であることが好ましい。電
荷輸送性構造成分の配合比が少ないと繰り返し使用時の
電子写真特性(帯電、感度、残留電位特性等)が劣化
し、一方多いと膜強度が低下する。The ratio of the charge transporting structural component to the total weight of the organic polymer component and the siloxane condensate component in the surface layer of the present invention is preferably from 1: 0.01 to 10:10. When the blending ratio of the charge transporting structural component is small, the electrophotographic characteristics (charging, sensitivity, residual potential characteristics, etc.) at the time of repeated use are deteriorated.
【0132】本発明の表面層の有機ポリマー成分、シロ
キサン縮合体成分、及び電荷輸送性構造成分の比率は有
機ポリマー成分1に対し、シロキサン縮合体成分0.2
5〜4、電荷輸送性構造成分0.02〜50の配合比で
構成されていることが好ましい。シロキサン縮合体成分
の配合比が少ないと膜強度が低下し、一方多いとクリー
ニング性が劣化し、ブレードめくれが発生しやすい。
又、下層の感光層に対する接着性が悪化する。電荷輸送
性構造成分の配合比が少ないと繰り返し使用時の電子写
真特性(帯電、感度、残留電位特性等)が劣化し、一方
多いと膜強度が低下する。The ratio of the organic polymer component, the siloxane condensate component and the charge transporting structural component in the surface layer of the present invention is such that the ratio of the organic polymer component 1 to the siloxane condensate component 0.2
Preferably, the composition ratio is 5 to 4, and the charge transporting structural component is 0.02 to 50. When the compounding ratio of the siloxane condensate component is small, the film strength is reduced, while when it is too large, the cleaning property is deteriorated and the blade is easily turned up.
Further, the adhesiveness to the lower photosensitive layer is deteriorated. When the blending ratio of the charge transporting structural component is small, the electrophotographic characteristics (charging, sensitivity, residual potential characteristics, etc.) at the time of repeated use are deteriorated.
【0133】又、上記シロキサン縮合体成分はエポキシ
基又はその開環基を有する有機ケイ素化合物とその他の
有機ケイ素化合物の質量比が1:0.01〜100の比
率で形成されることが好ましい。更に、該質量比は1:
1〜20の比率が好ましい。The siloxane condensate component is preferably formed at a mass ratio of the organosilicon compound having an epoxy group or its ring-opening group to the other organosilicon compound of 1: 0.01 to 100. Further, the mass ratio is 1:
A ratio of 1 to 20 is preferred.
【0134】本発明の表面層の膜厚は0.03〜30μ
m、好ましくは0.03〜10μm、最も好ましくは
0.1〜5μmであることが望ましい。特に本発明の表
面層を保護層として用いる場合は保護層の膜厚が0.0
3〜10μm、好ましくは0.1〜5μmであることが
望ましい。本発明の表面層を保護層をした場合は、保護
層の膜厚がこのように比較的厚くても、従来から問題と
なっていた感度や残留電位等の静電特性を低下させるこ
となく、耐摩耗特性、トナーのクリーニング性能やクリ
ーニングブレードのめくれに対する安定性を向上させる
ことができる。更に高湿環境でも鮮明な画像を得ること
が出来る。The thickness of the surface layer of the present invention is 0.03 to 30 μm.
m, preferably 0.03 to 10 μm, most preferably 0.1 to 5 μm. In particular, when the surface layer of the present invention is used as a protective layer, the protective layer has a thickness of 0.0
It is desirably 3 to 10 μm, preferably 0.1 to 5 μm. When a protective layer is used as the surface layer of the present invention, even if the thickness of the protective layer is relatively large, without lowering electrostatic characteristics such as sensitivity and residual potential, which have been a problem in the past. The abrasion resistance, the cleaning performance of the toner, and the stability of the cleaning blade against turning up can be improved. Further, a clear image can be obtained even in a high humidity environment.
【0135】上記のような表面層には、本発明の効果を
阻害しない範囲内で、金属酸化物粒子が配合されていて
よい。金属酸化物粒子を配合することによって本発明の
表面層の耐摩耗特性をさらに向上させることができ、ト
ナーのクリーニング性能やクリーニングブレードのめく
れに対する安定性を向上させることができる。The above-mentioned surface layer may contain metal oxide particles as long as the effects of the present invention are not impaired. By incorporating the metal oxide particles, the wear resistance of the surface layer of the present invention can be further improved, and the cleaning performance of the toner and the stability of the cleaning blade against turning up can be improved.
【0136】前記金属酸化物粒子の一次粒径は5nm〜
500nmであることが好ましい。これらの金属酸化物
粒子は通常は液相法によって合成され、コロイド粒子と
して得ることができる。金属原子の例としてはSi、T
i、Al、Cr、Zr、Sn、Fe、Mg、Mn、N
i、Cuなどが挙げられる。The primary particle diameter of the metal oxide particles is from 5 nm to
Preferably it is 500 nm. These metal oxide particles are usually synthesized by a liquid phase method and can be obtained as colloid particles. Examples of metal atoms include Si, T
i, Al, Cr, Zr, Sn, Fe, Mg, Mn, N
i, Cu and the like.
【0137】又、前記金属酸化物粒子は該粒子表面に前
記有機ケイ素化合物と反応性を有する化合物基を有する
ことが好ましい。該反応性を有する化合物基としては、
例えば水酸基、アミノ基等が挙げられる。このような反
応性基を有する金属酸化物粒子を用いることにより、本
発明樹脂のシロキサン縮合成分と該金属酸化物粒子表面
が化学結合をした複合化された表面層を形成し、ブレー
ドクリーニング等の擦過に対して摩耗しにくい、電子写
真特性の良好な表面層を形成することができる。配合量
としては、表面層全質量の0.1〜30質量%が好まし
い。これらの配合量が30質量%を越えるとクリーニン
グ性能が劣化し、高湿環境での画像が劣化する。The metal oxide particles preferably have a compound group having a reactivity with the organosilicon compound on the particle surface. As the reactive compound group,
Examples include a hydroxyl group and an amino group. By using a metal oxide particle having such a reactive group, a siloxane condensation component of the resin of the present invention and a surface layer in which the surface of the metal oxide particle is chemically bonded to form a complex surface layer are formed. It is possible to form a surface layer having good electrophotographic properties, which is not easily worn by abrasion. The amount is preferably 0.1 to 30% by mass of the total mass of the surface layer. If the amount of these components exceeds 30% by mass, the cleaning performance deteriorates, and the image in a high humidity environment deteriorates.
【0138】また、表面層には、有機微粒子等が配合さ
れていてよい。これらを配合することによって表面層の
表面エネルギーを低下させ、クリーニング特性を向上さ
せることができる。有機微粒子としては、フッ素樹脂、
シリコーン樹脂、アクリル樹脂、オレフィン樹脂等が挙
げられ、特に良好なものとしてはポリテトラフルオロエ
チレン、ポリフッ化ビニルデン等のフッ素樹脂ならびに
ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン樹脂が挙
げられる。有機微粒子は1種または2種以上混合して用
いてもよい。The surface layer may contain organic fine particles or the like. By blending these, the surface energy of the surface layer can be reduced, and the cleaning characteristics can be improved. As organic fine particles, fluorine resin,
Silicone resins, acrylic resins, olefin resins and the like are mentioned, and particularly preferable ones are fluorine resins such as polytetrafluoroethylene and polyvinyldene fluoride and olefin resins such as polyethylene and polypropylene. Organic fine particles may be used alone or in combination of two or more.
【0139】有機微粒子の大きさとしては、平均体積粒
径あるいは粒子投影像の最大長さとして0.01〜1.
0μm、好ましくは0.01〜0.3μmであることが
望ましい。有機微粒子の配合量は、表面層全質量の0.
1〜30質量%が好ましい。これらの配合量が30質量
%を越えると感光体の感度が低下し、繰り返し使用時
に、感光体の残留電位が上昇しカブリが生じる。As the size of the organic fine particles, the average volume particle size or the maximum length of the projected image of the particles is 0.01 to 1.
It is desirably 0 μm, preferably 0.01 to 0.3 μm. The compounding amount of the organic fine particles is 0.1% of the total mass of the surface layer.
1-30 mass% is preferable. If the content of these components exceeds 30% by mass, the sensitivity of the photoreceptor decreases, and the residual potential of the photoreceptor increases during repeated use, causing fog.
【0140】また本発明中の表面層にはヒンダードフェ
ノール、ヒンダードアミン、チオエーテル又はホスファ
イト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、
環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。Further, an antioxidant having a hindered phenol, hindered amine, thioether or phosphite partial structure can be added to the surface layer in the present invention.
This is effective in improving the potential stability and image quality when the environment changes.
【0141】ここでヒンダードフェノールとはフェノー
ル化合物の水酸基に対しオルト位置に分岐アルキル基を
有する化合物類及びその誘導体を云う(但し、水酸基が
アルコキシに変成されていても良い)。Here, hindered phenol refers to compounds having a branched alkyl group at the ortho position to the hydroxyl group of the phenol compound and derivatives thereof (however, the hydroxyl group may be modified to alkoxy).
【0142】又、ヒンダードアミンは、例えば下記構造
式で示される有機基を有する化合物類が挙げられる。Examples of the hindered amine include compounds having an organic group represented by the following structural formula.
【0143】[0143]
【化8】 Embedded image
【0144】式中のR13は水素原子又は1価の有機基、
R14、R15、R16、R17はアルキル基、R18は水素原
子、水酸基又は1価の有機基を示す。In the formula, R 13 is a hydrogen atom or a monovalent organic group,
R 14 , R 15 , R 16 and R 17 each represent an alkyl group, and R 18 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group.
【0145】ヒンダードフェノール部分構造を持つ酸化
防止剤としては、例えば特開平1−118137号(P
7〜P14)記載の化合物が挙げられるが本発明はこれ
に限定されるものではない。Examples of the antioxidant having a hindered phenol partial structure include, for example, JP-A-1-118137 (P.
7 to P14), but the present invention is not limited thereto.
【0146】ヒンダードアミン部分構造を持つ酸化防止
剤としては、例えば特開平1−118138号(P7〜
P9)記載の化合物も挙げられるが本発明はこれに限定
されるものではない。Examples of antioxidants having a hindered amine partial structure include, for example, JP-A-1-118138 (P7-
The compounds described in P9) may also be mentioned, but the present invention is not limited thereto.
【0147】以下に代表的な酸化防止剤の化合物例を挙
げる。The following are examples of typical antioxidant compounds.
【0148】[0148]
【化9】 Embedded image
【0149】[0149]
【化10】 Embedded image
【0150】[0150]
【化11】 Embedded image
【0151】[0151]
【化12】 Embedded image
【0152】又、製品化されている酸化防止剤としては
以下のような化合物、例えば「イルガノックス107
6」、「イルガノックス1010」、「イルガノックス
1098」、「イルガノックス245」、「イルガノッ
クス1330」、「イルガノックス3114」、「イル
ガノックス1076」、「3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシビフェニル」以上ヒンダードフェノール
系、「サノールLS2626」、「サノールLS76
5」、「サノールLS2626」、「サノールLS77
0」、「サノールLS744」、「チヌビン144」、
「チヌビン622LD」、「マークLA57」、「マー
クLA67」、「マークLA62」、「マークLA6
8」、「マークLA63」以上ヒンダードアミン系、
「スミライザーTPS」、「スミライザーTP−D」以
上チオエーテル系、「マーク2112」、「マークPE
P−8」、「マークPEP−24G」、「マークPEP
−36」、「マーク329K」、「マークHP−10」
以上ホスファイト系が挙げられる。これらの中で特にヒ
ンダードフェノール、ヒンダードアミン系酸化防止剤が
好ましい。酸化防止剤の添加量としては表面層固形分の
総質量100部に対し、0.1〜10質量部を用いるこ
とが好ましい。Examples of commercially available antioxidants include the following compounds, for example, “Irganox 107
6, Irganox 1010, Irganox 1098, Irganox 245, Irganox 1330, Irganox 3114, Irganox 1076, 3,5-di-t-butyl- 4
-Hydroxybiphenyl "or more hindered phenols," Sanol LS2626 "," Sanol LS76 "
5 "," Sanol LS2626 "," Sanol LS77 "
0 "," Sanol LS744 "," Tinuvin 144 ",
“Tinuvin 622LD”, “Mark LA57”, “Mark LA67”, “Mark LA62”, “Mark LA6”
8 "," mark LA63 "or more hindered amine-based,
"SUMILIZER TPS", "SUMILIZER TP-D" or higher thioether type, "Mark 2112", "Mark PE"
P-8 "," Mark PEP-24G "," Mark PEP "
-36 "," Mark 329K "," Mark HP-10 "
The phosphite type is mentioned above. Among these, hindered phenol and hindered amine antioxidants are particularly preferred. The addition amount of the antioxidant is preferably 0.1 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the total solid content of the surface layer.
【0153】次に、前記表面層の製造方法について記載
する。本発明において表面層は上記のような表面層が形
成されればいかなる方法によって形成されてよい。以下
に、代表的な本発明の表面層の製造方法について記載す
る。Next, a method of manufacturing the surface layer will be described. In the present invention, the surface layer may be formed by any method as long as the above-mentioned surface layer is formed. Hereinafter, a typical method for producing the surface layer of the present invention will be described.
【0154】本発明の表面層はシリル基を側鎖に持つ有
機ポリマー、有機ケイ素化合物及び反応性電荷輸送性化
合物を含有する塗布液を感光層上に塗布した後、硬化す
ることにより形成することができる。特に有機ケイ素化
合物に少なくともエポキシ基又はその開環基を有する有
機ケイ素化合物を用いることが好ましい。The surface layer of the present invention is formed by applying a coating solution containing an organic polymer having a silyl group in a side chain, an organosilicon compound and a reactive charge transporting compound onto the photosensitive layer and then curing the coating solution. Can be. In particular, it is preferable to use an organosilicon compound having at least an epoxy group or its ring-opening group in the organosilicon compound.
【0155】又、本発明の表面層は少なくともエポキシ
基又はその開環基を有する有機ケイ素化合物を用いて形
成されたシロキサン縮合物を側鎖に持つ有機ポリマーと
反応性電荷輸送性化合物を含有する塗布液を感光層上に
塗布した後、硬化することによっても形成することがで
きる。The surface layer of the present invention contains at least an organic polymer having a side chain of a siloxane condensate formed using an organosilicon compound having an epoxy group or its ring-opening group, and a reactive charge transporting compound. It can also be formed by applying a coating liquid on the photosensitive layer and then curing.
【0156】具体的には、側鎖にシリル基を有するビニ
ル系樹脂を少なくともエポキシ基又はその開環基を有す
る有機ケイ素化合物、反応性電荷輸送性化合物と混合し
た塗布液を塗布、硬化してもよく、又、側鎖にシリル基
を有するビニル系樹脂と少なくともエポキシ基又はその
開環基を有する有機ケイ素化合物を混合し、予めビニル
系樹脂の側鎖にシロキサン縮合体を形成し、その後有機
ケイ素化合物、反応性電荷輸送性化合物と混合した塗布
液を塗布、硬化してもよい。Specifically, a coating liquid obtained by mixing a vinyl resin having a silyl group in the side chain with at least an epoxy group or an organosilicon compound having a ring-opening group thereof, and a reactive charge transporting compound is applied and cured. Alternatively, a vinyl-based resin having a silyl group in the side chain and an organosilicon compound having at least an epoxy group or a ring-opening group thereof are mixed, and a siloxane condensate is previously formed on the side chain of the vinyl-based resin, and then the organic A coating solution mixed with a silicon compound and a reactive charge transporting compound may be applied and cured.
【0157】当該硬化によって、シロキサン縮合体が3
次元化され、シロキサン縮合体とシリル基含有ビニル系
樹脂、及び反応性電荷輸送性化合物がシリル基や反応性
基を介して化学的に結合し、これによって耐摩耗性、感
光層との接着性およびクリーニング特性の良好な表面層
が形成される。By this curing, the siloxane condensate becomes 3
The siloxane condensate, the silyl group-containing vinyl resin, and the reactive charge transporting compound are chemically bonded via the silyl group and the reactive group, thereby providing abrasion resistance and adhesion to the photosensitive layer. In addition, a surface layer having good cleaning characteristics is formed.
【0158】上記いずれの製造方法でも、原料となる有
機ケイ素化合物、シロキサン縮合体、シリル基を有する
ビニル系樹脂、及び反応性電荷輸送性化合物の塗布液中
の配合比は得られる表面層中の有機ポリマー成分、シロ
キサン縮合体成分、電荷輸送性構造成分の配合比が前記
範囲内になるような比率であればよく、例えば、有機ケ
イ素化合物、シリル基含有ビニル系樹脂、反応性電荷輸
送性化合物の質量比は100:25〜400:1〜10
00の配合比が好ましい。In any of the above production methods, the compounding ratio of the organic silicon compound, the siloxane condensate, the vinyl resin having a silyl group, and the reactive charge transporting compound as the raw materials in the coating solution is as follows. It is sufficient that the compounding ratio of the organic polymer component, the siloxane condensate component, and the charge transporting structural component is within the above range. For example, an organic silicon compound, a silyl group-containing vinyl resin, and a reactive charge transporting compound Is 100: 25 to 400: 1 to 10.
A mixing ratio of 00 is preferred.
【0159】又、有機ケイ素化合物はエポキシ基又はそ
の開環基を有する有機ケイ素化合物とその他の有機ケイ
素化合物の質量比が1:0.01〜100の比率で配合
されることが好ましい。更に、その配合比は質量比で
1:1〜20の比率が好ましい。The organosilicon compound is preferably blended in a weight ratio of the organosilicon compound having an epoxy group or its ring-opening group to the other organosilicon compound of 1: 0.01 to 100. Further, the compounding ratio is preferably from 1: 1 to 20 in terms of mass ratio.
【0160】有機ケイ素化合物、シリル基含有ビニル系
樹脂、反応性電荷輸送性化合物の反応を促進するために
は、塗布液中、或いは塗布液生成過程で金属キレート化
合物を添加することが好ましい。ここで金属キレート化
合物は、ジルコニウム、チタンおよびアルミニウムの群
から選ばれる金属のキレート化合物である(以下、金属
キレート化合物(III)という)。金属キレート化合物
(III)は、前記の有機ケイ素化合物とシリル基含有ビ
ニル系樹脂、反応性電荷輸送性化合物との加水分解およ
び/または部分縮合反応を促進し、3成分の共縮合物の
形成を促進する作用をなすものと考えられる。In order to promote the reaction of the organosilicon compound, the silyl group-containing vinyl resin and the reactive charge transporting compound, it is preferable to add a metal chelate compound in the coating solution or during the process of forming the coating solution. Here, the metal chelate compound is a chelate compound of a metal selected from the group of zirconium, titanium and aluminum (hereinafter, referred to as metal chelate compound (III)). The metal chelate compound (III) promotes the hydrolysis and / or partial condensation reaction of the organosilicon compound with the silyl group-containing vinyl resin and the reactive charge transporting compound to form a three-component co-condensate. It is thought to have a promoting effect.
【0161】このような金属キレート化合物(III)の
例としては、一般式(8)、(9)、(10)で表され
る化合物、あるいはこれらの化合物の部分加水分解物が
挙げられる。Examples of such a metal chelate compound (III) include compounds represented by the general formulas (8), (9) and (10), or partial hydrolysates of these compounds.
【0162】 一般式(8) Zr(OR5)p(R6COCHCOR7)4-p 一般式(9) Ti(OR5)q(R6COCHCOR7)4-q 一般式(10) Al(OR5)r(R6COCHCOR7)3-r 一般式(8)、(9)、(10)におけるR5およびR6
は、それぞれ独立に炭素数1〜6の1価の炭化水素基、
具体的には、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、
n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、
フェニル基等を示し、R7は、R5およびR6と同様の炭
素数1〜6の1価の炭化水素基のほか、炭素数1〜16
のアルコキシ基、具体的には、メトキシ基、エトキシ
基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキ
シ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ラウリル
オキシ基、ステアリルオキシ基等を示す。また、pおよ
びqは0〜3の整数、rは0〜2の整数である。General formula (8) Zr (OR 5 ) p (R 6 COCHCOR 7 ) 4-p General formula (9) Ti (OR 5 ) q (R 6 COCHCOR 7 ) 4-q General formula (10) Al ( OR 5 ) r (R 6 COCHCOR 7 ) 3-r R 5 and R 6 in the general formulas (8), (9) and (10)
Is independently a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
Specifically, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group,
n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group,
A phenyl group or the like; R 7 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms similar to R 5 and R 6 ,
An alkoxy group, specifically, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a t-butoxy group, a lauryloxy group, a stearyloxy group, etc. . Further, p and q are integers of 0 to 3, and r is an integer of 0 to 2.
【0163】このような金属キレート化合物(III)の
具体例としては、トリ−n−ブトキシ・エチルアセトア
セテートジルコニウム、ジ−n−ブトキシ・ビス(エチ
ルアセトアセテート)ジルコニウム、n−ブトキシ・ト
リス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラ
キス(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、
テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウ
ム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウ
ム等のジルコニウムキレート化合物;ジ−i−プロポキ
シ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジ−
i−プロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウ
ム、ジ−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チ
タニウム等のチタンキレート化合物;ジ−i−プロポキ
シ・エチルアセトアセテートアルミニウム、ジ−i−プ
ロポキシ・アセチルアセトナートアルミニウム、i−プ
ロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウ
ム、i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトナート)ア
ルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミ
ニウム、トリス(エチルアセテート)アルミニウム、ト
リス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセ
チルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)ア
ルミニウム等のアルミニウムキレート化合物等が挙げら
れる。これらの化合物のうち、トリ−n−ブトキシ・エ
チルアセトアセテートジルコニウム、ジ−i−プロポキ
シ・ビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジ−i
−プロポキシ・エチルアセトアセテートアルミニウム、
トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムが好ま
しい。これらの金属キレート化合物(III)は、単独で
または2種以上を混合して使用することができる。Specific examples of such metal chelate compound (III) include zirconium tri-n-butoxyethylacetoacetate, zirconium di-n-butoxybis (ethylacetoacetate), and zirconium n-butoxytris (ethyl). Acetoacetate) zirconium, tetrakis (n-propylacetoacetate) zirconium,
Zirconium chelate compounds such as tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium and tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; di-i-propoxybis (ethylacetoacetate) titanium, di-
titanium chelate compounds such as i-propoxybis (acetylacetate) titanium and di-i-propoxybis (acetylacetone) titanium; aluminum di-i-propoxyethylacetoacetate, aluminum di-i-propoxyacetylacetonate, i-propoxy bis (ethylacetoacetate) aluminum, i-propoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (ethylacetate) aluminum, tris (acetylacetonato) aluminum, monoacetylacetate Aluminum chelate compounds such as natobis (ethylacetoacetate) aluminum and the like. Of these compounds, tri-n-butoxyethylacetoacetate zirconium, di-i-propoxybis (acetylacetonato) titanium, di-i
-Aluminum propoxy-ethyl acetoacetate,
Tris (ethyl acetoacetate) aluminum is preferred. These metal chelate compounds (III) can be used alone or in combination of two or more.
【0164】金属キレート化合物(III)の添加量は、
有機ケイ素化合物、シロキサン縮合体、シリル基含有ビ
ニル系樹脂、及び反応性電荷輸送性化合物等の塗布液固
形分(塗布液固形分とは塗布液を乾燥した後、残留する
成分)の全質量に対する配合量が0.01〜20質量
%、好ましくは0.5〜20質量%となるような量であ
る。金属キレート化合物(III)の量が少なすぎると表
面層の3次元化が達成されないおそれがあり、一方、多
すぎると塗液のポットライフが悪化する。The addition amount of the metal chelate compound (III)
Coating solution solids (organic silicon compounds, siloxane condensates, silyl group-containing vinyl resins, reactive charge transporting compounds, etc.) (based on the total mass of coating solution solids are the components remaining after drying the coating solution) The amount is such that the amount is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.5 to 20% by mass. If the amount of the metal chelate compound (III) is too small, the three-dimensional surface layer may not be achieved. On the other hand, if the amount is too large, the pot life of the coating solution is deteriorated.
【0165】表面層の塗布液を塗布した後の硬化条件
は、使用される有機ケイ素化合物の反応性に依存する
が、60〜150℃にて30分〜6時間の乾燥を行わせ
るのが好ましい。The curing conditions after the application of the coating solution for the surface layer depend on the reactivity of the organosilicon compound used, but it is preferable to carry out drying at 60 to 150 ° C. for 30 minutes to 6 hours. .
【0166】これらの硬化反応を促進するためには有機
溶媒が存在することが好ましい。ここで使用可能な有機
溶媒としては、アルコール類、芳香族炭化水素類、エー
テル類、ケトン類、エステル類などが好適である。有機
溶媒の使用量は有機ケイ素化合物に対して限定されるも
のではなく、使用目的に応じて調製される。In order to accelerate these curing reactions, an organic solvent is preferably present. As the organic solvent usable here, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, ketones, esters and the like are suitable. The amount of the organic solvent used is not limited to the amount of the organosilicon compound, but is adjusted according to the purpose of use.
【0167】硬化反応促進させる溶媒としては有機ケイ
素化合物、シリル基含有ビニル系樹脂、反応性基を有す
る電荷輸送性化合物を均一に溶解させる溶媒が好ましく
用いられる。これらの溶媒としてはアルコール類、芳香
族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類など
が用いられるが、特に下記に例示ような溶媒が好まし
い。As the solvent for accelerating the curing reaction, a solvent capable of uniformly dissolving the organic silicon compound, the silyl group-containing vinyl resin, and the charge transporting compound having a reactive group is preferably used. As these solvents, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, ketones, esters and the like are used, and particularly preferred are the solvents exemplified below.
【0168】アルコール系溶媒としては炭素数1〜4の
アルコール、即ちメタノール、エタノール、n−プロパ
ノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、is
o−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタ
ノールが好ましく用いられる。Examples of the alcohol solvent include alcohols having 1 to 4 carbon atoms, that is, methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, is
o-Butanol, sec-butanol and tert-butanol are preferably used.
【0169】非アルコール系溶媒としてはエチルメチル
ケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチル
ケトン等のケトン系の溶媒が好ましく用いられる。As the non-alcohol solvent, ketone solvents such as ethyl methyl ketone, methyl isopropyl ketone and methyl isobutyl ketone are preferably used.
【0170】上記表面層塗布液中には、更に、硬化促進
剤必要により添加することができる。A curing accelerator can be further added to the above surface layer coating solution, if necessary.
【0171】硬化促進剤としては、ナフテン酸、オクチ
ル酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン酸、炭酸などのアルカ
リ金属塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのア
ルカリ性化合物;アルキルチタン酸、リン酸、p−トル
エンスルホン酸、フタル酸などの酸性化合物;エチレン
ジアミン、ヘキサンジアミン、ジエチレントリアミン、
トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、
ピペリジン、ピペラジン、メタフェニレンジアミン、エ
タノールアミン、トリエチルアミン、エポキシ樹脂の硬
化剤として用いられる各種変性アミン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)−
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノ
エチル)−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アニリノプロピルトリメトキシシランなどのアミン系
化合物、(C4H9)2Sn(OCOC11H23)2、(C4
H9)2Sn(OCOCH=CHCOOCH3)2、(C4
H9)2Sn(OCOCH=CHCOOC4H9)2、(C8
H17)2Sn(OCOC11H 23)2、(C8H17)2Sn
(OCOCH=CHCOOCH3)2、(C8H17)2Sn
(OCOCH=CHCOOC4H9)2、(C8H17)2S
n(OCOCH=CHCOOC8H17)2、Sn(OCO
CC8H17)2、などのカルボン酸型有機スズ化合物;
(C4H9)2Sn(SCH2COO)2、(C4H9)2Sn
(SCH2COOC8H17)2、(C8H17)2Sn(SC
H2COO)2、(C8H17)2Sn(SCH 2CH2CO
O)2、(C8H17)2Sn(SCH2COOCH2CH2O
COCH2S)2、(C8H17)2Sn(SCH2COOC
H2CH2CH2CH2OCOCH2S)2、(C8H17)2S
n(SCH2COOC8H17)2、(C8H17)2Sn(S
CH2COOC12H25)2、などのメルカプチド型有機ス
ズ化合物;(C4H9)2SnO、(C8H17)2SnO、
(C4H9)2SnO、(C8H17)2SnOなどの有機ス
ズオキサイドとエチルシリケート、エチルシリケート4
0、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フタル
酸ジオクチルなどのエステル化合物との反応生成物など
の有機スズ化合物などが使用される。[0171] As the curing accelerator, naphthenic acid,
Alkaline such as luic acid, nitrous acid, sulfurous acid, aluminate, carbonic acid
Li metal salts; sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.
Lucari compound: alkyl titanic acid, phosphoric acid, p-toluene
Acidic compounds such as enesulfonic acid and phthalic acid; ethylene
Diamine, hexanediamine, diethylenetriamine,
Triethylenetetramine, tetraethylenepentamine,
Piperidine, piperazine, metaphenylenediamine, d
Hardness of tanolamine, triethylamine, epoxy resin
Various modified amines used as an agent
Piltriethoxysilane, γ- (2-aminoethyl)-
Aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-amino
Ethyl) -aminopropylmethyldimethoxysilane, γ
-Amines such as anilinopropyltrimethoxysilane
Compound, (CFourH9)TwoSn (OCOC11Htwenty three)Two, (CFour
H9)TwoSn (OCOCH = CHCOOCHThree)Two, (CFour
H9)TwoSn (OCOCH = CHCOOCFourH9)Two, (C8
H17)TwoSn (OCOC11H twenty three)Two, (C8H17)TwoSn
(OCOCH = CHCOOCHThree)Two, (C8H17)TwoSn
(OCOCH = CHCOOCFourH9)Two, (C8H17)TwoS
n (OCOCH = CHCOOC8H17)Two, Sn (OCO
CC8H17)TwoCarboxylic acid type organotin compounds such as
(CFourH9)TwoSn (SCHTwoCOO)Two, (CFourH9)TwoSn
(SCHTwoCOOC8H17)Two, (C8H17)TwoSn (SC
HTwoCOO)Two, (C8H17)TwoSn (SCH TwoCHTwoCO
O)Two, (C8H17)TwoSn (SCHTwoCOOCHTwoCHTwoO
COCHTwoS)Two, (C8H17)TwoSn (SCHTwoCOOC
HTwoCHTwoCHTwoCHTwoOCOCHTwoS)Two, (C8H17)TwoS
n (SCHTwoCOOC8H17)Two, (C8H17)TwoSn (S
CHTwoCOOC12Htwenty five)Two, Such as mercaptide organics
Compound; (CFourH9)TwoSnO, (C8H17)TwoSnO,
(CFourH9)TwoSnO, (C8H17)TwoOrganic materials such as SnO
Oxide and ethyl silicate, ethyl silicate 4
0, dimethyl maleate, diethyl maleate, phthalate
Reaction products with ester compounds such as dioctyl acid
And the like are used.
【0172】上記塗布液中の硬化促進剤の添加量は、塗
布液固形分(固形分とは塗布液成分中の乾燥後に残留す
る成分を意味する)100質量部に対して0.1〜20
質量部、好ましくは0.5〜100質量部である。これ
らの量が少なすぎると膜の強度が低下するおそれがあ
り、一方、多すぎると塗液のポットライフが悪化する。The amount of the curing accelerator added in the coating solution is 0.1 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the solid content of the coating solution (the solid content means a component remaining after drying in the components of the coating solution).
It is parts by mass, preferably 0.5 to 100 parts by mass. If these amounts are too small, the strength of the film may be reduced, while if too large, the pot life of the coating liquid deteriorates.
【0173】又、上記塗布液には前記した金属酸化物粒
子、有機微粒子、酸化防止剤を必要に応じて添加し、本
発明の表面層を作製することが出来る。The surface layer of the present invention can be prepared by adding the above-mentioned metal oxide particles, organic fine particles, and antioxidants to the coating solution as required.
【0174】本発明においては、表面層塗布液の全固形
分濃度を調製し、併せて粘度も調製するために、有機溶
媒を使用することができる。このような有機溶媒として
は、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケ
トン類、エステル類等の有機溶剤を使用することが好ま
しい。前記アルコール類としては、例えば1価または2
価のアルコールを挙げることができ、具体的にはメタノ
ール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチ
ルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ヘキシルア
ルコール、n−オクチルアルコール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn
−プロピルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチ
ルエーテル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等を挙
げることができる。これらのうち、炭素数1〜8の1価
の飽和脂肪族アルコールが好ましい。また、前記芳香族
炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等を挙げることができ、前記エーテル類の具体例
としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン等を挙げる
ことができ、前記エステル類の具体例としては、酢酸エ
チル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、炭酸プロピ
レン等を挙げることができる。これらの有機溶媒は、単
独または2種以上を混合して使用することができる。有
機溶媒の添加方法は特に限定されるものではなく、本発
明の表面保護液を調製する際および/または調製後の適
宜の段階で添加することができる。In the present invention, an organic solvent can be used to adjust the total solid content of the surface layer coating solution and also adjust the viscosity. As such an organic solvent, it is preferable to use an organic solvent such as alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, ketones and esters. As the alcohols, for example, monovalent or divalent
Alcohols, specifically methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, t-butyl alcohol, n-hexyl alcohol, n-octyl alcohol, Ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol,
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n
-Propyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate and the like. Among them, monovalent saturated aliphatic alcohols having 1 to 8 carbon atoms are preferred. Specific examples of the aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene and the like. Specific examples of the ethers include tetrahydrofuran and dioxane, and specific examples of the esters. Examples include ethyl acetate, n-propyl acetate, n-butyl acetate, propylene carbonate and the like. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. The method for adding the organic solvent is not particularly limited, and the organic solvent can be added when preparing the surface protective solution of the present invention and / or at an appropriate stage after the preparation.
【0175】次に、前記中間層、表面層以外の本発明の
感光体構成について記載する。本発明の感光体としては
セレンやアモルファスシリコン等を用いた無機感光体に
も適用できるが、本発明の目的からは有機電子写真感光
体(有機感光体とも云う)に本発明の中間層、表面層を
適用することが好ましい。Next, the structure of the photoreceptor of the present invention other than the intermediate layer and the surface layer will be described. The photoreceptor of the present invention can be applied to an inorganic photoreceptor using selenium, amorphous silicon, or the like. However, for the purpose of the present invention, an organic electrophotographic photoreceptor (also referred to as an organic photoreceptor) is applied to the intermediate layer and the surface of the present invention. Preferably, a layer is applied.
【0176】本発明において、有機感光体とは電子写真
感光体の構成に必要不可欠な電荷発生機能及び電荷輸送
機能の少なくとも一方の機能を有機化合物に持たせて構
成された電子写真感光体を意味し、公知の有機電荷発生
物質又は有機電荷輸送物質から構成された感光体、電荷
発生機能と電荷輸送機能を高分子錯体で構成した感光体
等公知の有機電子写真感光体を全て含有する。In the present invention, the organic photoreceptor means an electrophotographic photoreceptor constituted by giving an organic compound at least one of a charge generation function and a charge transport function which are essential for the constitution of the electrophotographic photoreceptor. Further, it includes all known organic electrophotographic photosensitive members such as a photosensitive member composed of a known organic charge generating substance or an organic charge transporting substance, and a photosensitive member composed of a polymer complex having a charge generating function and a charge transporting function.
【0177】有機感光体の層構成は、特に限定はない
が、電荷発生層、電荷輸送層、或いは電荷発生・電荷輸
送層(電荷発生と電荷輸送の機能を同一層に有する層)
等の感光層とその上に表面層を塗設した構成をとるのが
好ましい。又、本発明の表面層は保護層の機能と電荷輸
送の機能を有しているので電荷輸送層の代わりに用いて
もよい。The layer constitution of the organic photoreceptor is not particularly limited, but may be a charge generation layer, a charge transport layer, or a charge generation / charge transport layer (a layer having the functions of charge generation and charge transport in the same layer).
It is preferable to adopt a configuration in which a photosensitive layer such as described above and a surface layer are coated thereon. Further, since the surface layer of the present invention has a function of a protective layer and a function of transporting charges, it may be used instead of the charge transporting layer.
【0178】以下に本発明に好ましく用いられる具体的
な感光体の構成について記載する。 導電性支持体 本発明の感光体に用いられる導電性支持体としてはシー
ト状、円筒状のどちらを用いても良いが、画像形成装置
をコンパクトに設計するためには円筒状導電性支持体の
方が好ましい。The specific constitution of the photosensitive member preferably used in the present invention will be described below. Conductive Support As the conductive support used in the photoreceptor of the present invention, any of a sheet shape and a cylindrical shape may be used, but in order to design the image forming apparatus compactly, the cylindrical conductive support is used. Is more preferred.
【0179】本発明の円筒状導電性支持体とは回転する
ことによりエンドレスに画像を形成できるに必要な円筒
状の支持体を意味し、真直度で0.1mm以下、振れ
0.1mm以下の範囲にある導電性の支持体が好まし
い。この真円度及び振れの範囲を超えると、良好な画像
形成が困難になる。The cylindrical conductive support of the present invention means a cylindrical support necessary for forming an image endlessly by rotation, and has a straightness of 0.1 mm or less and a runout of 0.1 mm or less. Conductive supports in the range are preferred. Exceeding the ranges of the roundness and the shake make it difficult to form a good image.
【0180】導電性の材料としてはアルミニウム、ニッ
ケルなどの金属ドラム、又はアルミニウム、酸化錫、酸
化インジュウムなどを蒸着したプラスチックドラム、又
は導電性物質を塗布した紙・プラスチックドラムを使用
することができる。導電性支持体としては常温で比抵抗
103Ωcm以下が好ましい。As the conductive material, a metal drum such as aluminum or nickel, a plastic drum on which aluminum, tin oxide, indium oxide, or the like is deposited, or a paper / plastic drum coated with a conductive substance can be used. The conductive support preferably has a specific resistance of 10 3 Ωcm or less at room temperature.
【0181】本発明で用いられる導電性支持体は、その
表面に封孔処理されたアルマイト膜が形成されたものを
用いても良い。アルマイト処理は、通常例えばクロム
酸、硫酸、シュウ酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸等
の酸性浴中で行われるが、硫酸中での陽極酸化処理が最
も好ましい結果を与える。硫酸中での陽極酸化処理の場
合、硫酸濃度は100〜200g/l、アルミニウムイ
オン濃度は1〜10g/l、液温は20℃前後、印加電
圧は約20Vで行うのが好ましいが、これに限定される
ものではない。又、陽極酸化被膜の平均膜厚は、通常2
0μm以下、特に10μm以下が好ましい。The conductive support used in the present invention may have a surface on which a sealed alumite film is formed. The alumite treatment is usually performed in an acidic bath such as chromic acid, sulfuric acid, oxalic acid, phosphoric acid, boric acid, and sulfamic acid, but anodizing treatment in sulfuric acid gives the most preferable result. In the case of anodic oxidation treatment in sulfuric acid, it is preferable that the sulfuric acid concentration is 100 to 200 g / l, the aluminum ion concentration is 1 to 10 g / l, the liquid temperature is around 20 ° C., and the applied voltage is about 20 V. It is not limited. The average thickness of the anodic oxide coating is usually 2
It is preferably 0 μm or less, particularly preferably 10 μm or less.
【0182】中間層 本発明においては導電性支持体と感光層の間に、バリヤ
ー機能を備えた前記した中間層を設ける。Intermediate Layer In the present invention, the above-mentioned intermediate layer having a barrier function is provided between the conductive support and the photosensitive layer.
【0183】感光層 本発明の感光体の感光層構成は前記中間層上に電荷発生
機能と電荷輸送機能を1つの層に持たせた単層構造の感
光層構成でも良いが、より好ましくは感光層の機能を電
荷発生層(CGL)と電荷輸送層(CTL)に分離した
構成をとるのがよい。機能を分離した構成を取ることに
より繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく制御で
き、その他の電子写真特性を目的に合わせて制御しやす
い。負帯電用の感光体では中間層の上に電荷発生層(C
GL)、その上に電荷輸送層(CTL)の構成を取るこ
とが好ましい。正帯電用の感光体では前記層構成の順が
負帯電用感光体の場合の逆となる。本発明の最も好まし
い感光層構成は前記機能分離構造を有する負帯電感光体
構成である。Photosensitive Layer The photosensitive layer of the photoreceptor of the present invention may have a single-layered structure in which a charge generation function and a charge transport function are provided in one layer on the intermediate layer. It is preferable to adopt a configuration in which the functions of the layers are separated into a charge generation layer (CGL) and a charge transport layer (CTL). By adopting a configuration in which functions are separated, an increase in residual potential due to repeated use can be controlled to be small, and other electrophotographic characteristics can be easily controlled according to the purpose. In the photoreceptor for negative charging, the charge generation layer (C
GL) and a charge transport layer (CTL) thereon. In the case of a positively charged photoreceptor, the order of the layer configuration is opposite to that of the negatively charged photoreceptor. The most preferred photosensitive layer structure of the present invention is a negatively charged photosensitive member having the function-separated structure.
【0184】以下に機能分離負帯電感光体の感光層構成
について説明する。 電荷発生層 電荷発生層には電荷発生物質(CGM)を含有する。そ
の他の物質としては必要によりバインダー樹脂、その他
添加剤を含有しても良い。The structure of the photosensitive layer of the function-separated negatively charged photosensitive member will be described below. Charge generation layer The charge generation layer contains a charge generation material (CGM). As other substances, a binder resin and other additives may be contained as necessary.
【0185】電荷発生物質(CGM)としては公知の電
荷発生物質(CGM)を用いることができる。例えばフ
タロシアニン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、アズレニ
ウム顔料などを用いることができる。これらの中で繰り
返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくできるCGM
は複数の分子間で安定な凝集構造をとりうる立体、電位
構造を有するものであり、具体的には特定の結晶構造を
有するフタロシアニン顔料、ペリレン顔料のCGMが挙
げられる。例えばCu−Kα線に対するブラッグ角2θ
が27.2°に最大ピークを有するチタニルフタロシア
ニン、同2θが12.4に最大ピークを有するベンズイ
ミダゾールペリレン等のCGMは繰り返し使用に伴う劣
化がほとんどなく、残留電位増加小さくすることができ
る。As the charge generation material (CGM), a known charge generation material (CGM) can be used. For example, phthalocyanine pigments, azo pigments, perylene pigments, azurenium pigments, and the like can be used. Among them, CGM that can minimize the increase in residual potential due to repeated use
Has a steric and potential structure capable of forming a stable aggregation structure among a plurality of molecules, and specifically includes CGM of a phthalocyanine pigment and a perylene pigment having a specific crystal structure. For example, Bragg angle 2θ for Cu-Kα ray
CGM such as titanyl phthalocyanine having a maximum peak at 27.2 ° and benzimidazole perylene having a maximum peak at 2θ of 12.4 have almost no deterioration due to repeated use, and the residual potential increase can be reduced.
【0186】電荷発生層にCGMの分散媒としてバイン
ダーを用いる場合、バインダーとしては公知の樹脂を用
いることができるが、最も好ましい樹脂としてはホルマ
ール樹脂、ブチラール樹脂、シリコーン樹脂、シリコー
ン変性ブチラール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ
る。バインダー樹脂と電荷発生物質との割合は、バイン
ダー樹脂100質量部に対し20〜600質量部が好ま
しい。これらの樹脂を用いることにより、繰り返し使用
に伴う残留電位増加を最も小さくできる。電荷発生層の
膜厚は0.01μm〜2μmが好ましい。When a binder is used as a dispersion medium for CGM in the charge generation layer, a known resin can be used as the binder, but the most preferred resin is a formal resin, a butyral resin, a silicone resin, a silicone-modified butyral resin, a phenoxy resin. Resins. The ratio between the binder resin and the charge generating substance is preferably from 20 to 600 parts by mass per 100 parts by mass of the binder resin. By using these resins, the increase in residual potential due to repeated use can be minimized. The thickness of the charge generation layer is preferably from 0.01 μm to 2 μm.
【0187】電荷輸送層 電荷輸送層には電荷輸送物質(CTM)及びCTMを分
散し製膜するバインダー樹脂を含有する。その他の物質
としては必要により酸化防止剤等の添加剤を含有しても
良い。Charge Transport Layer The charge transport layer contains a charge transport material (CTM) and a binder resin for dispersing the CTM and forming a film. As other substances, additives such as antioxidants may be contained as necessary.
【0188】電荷輸送物質(CTM)としては公知の電
荷輸送物質(CTM)を用いることができる。例えばト
リフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル
化合物、ベンジジン化合物、ブタジエン化合物などを用
いることができる。これら電荷輸送物質は通常、適当な
バインダー樹脂中に溶解して層形成が行われる。これら
の中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくで
きるCTMは高移動度で、且つ組み合わされるCGMと
のイオン化ポテンシャル差が0.5(eV)以下の特性
を有するものであり、好ましくは0.25(eV)以下
である。As the charge transport material (CTM), a known charge transport material (CTM) can be used. For example, triphenylamine derivatives, hydrazone compounds, styryl compounds, benzidine compounds, butadiene compounds and the like can be used. These charge transport materials are usually dissolved in a suitable binder resin to form a layer. Among these, the CTM that can minimize the increase in residual potential due to repeated use has a high mobility and a characteristic in which the ionization potential difference with the CGM to be combined is 0.5 (eV) or less, and is preferably 0. .25 (eV) or less.
【0189】CGM、CTMのイオン化ポテンシャルは
表面分析装置AC−1(理研計器社製)で測定される。The ionization potential of CGM and CTM is measured with a surface analyzer AC-1 (manufactured by Riken Keiki Co., Ltd.).
【0190】電荷輸送層(CTL)に用いられる樹脂と
しては、例えばポリスチレン、アクリル樹脂、メタクリ
ル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニル
ブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂並
びに、これらの樹脂の繰り返し単位のうちの2つ以上を
含む共重合体樹脂。又これらの絶縁性樹脂の他、ポリ−
N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げら
れる。Examples of the resin used for the charge transport layer (CTL) include polystyrene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl butyral resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, and alkyd. Resins, polycarbonate resins, silicone resins, melamine resins, and copolymer resins containing two or more of the repeating units of these resins. In addition to these insulating resins, poly-
A high-molecular organic semiconductor such as N-vinylcarbazole may be used.
【0191】これらCTLのバインダーとして最も好ま
しいものはポリカーボネート樹脂である。ポリカーボネ
ート樹脂はCTMの分散性、電子写真特性を良好にする
ことにおいて、最も好ましい。バインダー樹脂と電荷輸
送物質との割合は、バインダー樹脂100質量部に対し
10〜200質量部が好ましい。又、電荷輸送層の膜厚
は10〜40μmが好ましい。The most preferred binder for these CTLs is a polycarbonate resin. Polycarbonate resins are most preferred for improving the dispersibility and electrophotographic properties of CTM. The ratio of the binder resin to the charge transporting material is preferably from 10 to 200 parts by mass per 100 parts by mass of the binder resin. The thickness of the charge transport layer is preferably from 10 to 40 μm.
【0192】表面層 感光体の表面層として、前記した本発明のシロキサン系
樹脂層を設けることにより、本発明の最も好ましい層構
成を有する感光体を得ることができる。Surface Layer By providing the siloxane-based resin layer of the present invention as the surface layer of the photoconductor, a photoconductor having the most preferred layer configuration of the present invention can be obtained.
【0193】上記では本発明の最も好ましい感光体の層
構成を例示したが、本発明では上記以外の感光体層構成
でも良い。Although the most preferred layer configuration of the photoreceptor of the present invention has been described above, other layer configurations of the photoreceptor may be used in the present invention.
【0194】図1は本発明の画像形成方法の一例として
の画像形成装置の断面図である。図1に於いて50は像
担持体である感光体ドラム(感光体)で、有機感光層を
ドラム上に塗布し、その上に本発明の表面層を塗設した
感光体で、接地されて時計方向に駆動回転される。52
はスコロトロンの帯電器(帯電手段)で、感光体ドラム
50周面に対し一様な帯電をコロナ放電によって与えら
れる。この帯電器52による帯電に先だって、前画像形
成での感光体の履歴をなくすために発光ダイオード等を
用いた帯電前露光部51による露光を行って感光体周面
の除電をしてもよい。FIG. 1 is a sectional view of an image forming apparatus as an example of the image forming method of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 50 denotes a photoreceptor drum (photoreceptor) serving as an image carrier, which is a photoreceptor having an organic photosensitive layer applied on the drum and a surface layer of the present invention applied thereon. It is driven and rotated clockwise. 52
Is a scorotron charger (charging means) for uniformly charging the peripheral surface of the photosensitive drum 50 by corona discharge. Prior to the charging by the charger 52, in order to eliminate the history of the photoconductor in the previous image formation, exposure by the pre-charging exposure unit 51 using a light emitting diode or the like may be performed to remove the charge on the peripheral surface of the photoconductor.
【0195】感光体への一様帯電の後、像露光器(像露
光手段)53により画像信号に基づいた像露光が行われ
る。この図の像露光器53は図示しないレーザーダイオ
ードを露光光源とする。回転するポリゴンミラー53
1、fθレンズ等を経て反射ミラー532により光路を
曲げられた光により感光体ドラム上の走査がなされ、静
電潜像が形成される。After the photosensitive member is uniformly charged, an image exposing device (image exposing means) 53 performs image exposure based on an image signal. The image exposure device 53 in this figure uses a laser diode (not shown) as an exposure light source. Rotating polygon mirror 53
1. The light on the photosensitive drum is scanned by the light whose optical path is bent by the reflection mirror 532 via the fθ lens and the like, and an electrostatic latent image is formed.
【0196】ここで本発明の反転現像とは帯電器52に
より、感光体表面を一様に帯電し、像露光が行われた領
域、即ち感光体の露光部電位(露光部領域)を現像手段
により、顕像化する画像形成方法である。一方未露光部
電位は現像スリーブ541に印加される現像バイアス電
位により現像されない。Here, the reversal development of the present invention means that the surface of the photosensitive member is uniformly charged by the charger 52, and the region where image exposure has been performed, that is, the exposed portion potential (exposed portion region) of the photosensitive member is developed. Is an image forming method for visualizing the image. On the other hand, the unexposed portion potential is not developed by the developing bias potential applied to the developing sleeve 541.
【0197】その静電潜像は次いで現像器(現像手段)
54で現像される。感光体ドラム50周縁にはトナーと
キャリアとから成る現像剤を内蔵した現像器54が設け
られていて、マグネットを内蔵し現像剤を保持して回転
する現像スリーブ541によって現像が行われる。現像
器54内部は現像剤攪拌搬送部材544、543、搬送
量規制部材542等から構成されており、現像剤は攪
拌、搬送されて現像スリーブに供給されるが、その供給
量は該搬送量規制部材542により制御される。該現像
剤の搬送量は適用される電子写真感光体の線速及び現像
剤比重によっても異なるが、一般的には20〜200m
g/cm2の範囲である。The electrostatic latent image is then developed by a developing device (developing means).
Developed at. A developing device 54 containing a developer including a toner and a carrier is provided on the periphery of the photoreceptor drum 50, and development is performed by a developing sleeve 541 that contains a magnet and rotates while holding the developer. The inside of the developing device 54 is composed of developer stirring / conveying members 544 and 543, a conveyance amount regulating member 542, and the like. The developer is agitated and conveyed to be supplied to the developing sleeve. Controlled by member 542. The transport amount of the developer varies depending on the linear velocity of the applied electrophotographic photosensitive member and the specific gravity of the developer, but is generally 20 to 200 m.
g / cm 2 .
【0198】現像剤は、例えばフェライトをコアとして
そのまわりに絶縁性樹脂をコーティングしたキャリア
と、前述のスチレンアクリル系樹脂を主材料としてカー
ボンブラック等の着色剤と荷電制御剤と本発明の低分子
量ポリオレフィンからなる着色粒子に、シリカ、酸化チ
タン等を外添したトナーとからなるもので、現像剤は搬
送量規制部材によって層厚を規制されて現像域へと搬送
され、現像が行われる。この時通常は感光体ドラム50
と現像スリーブ541の間に直流バイアス、必要に応じ
て交流バイアス電圧をかけて現像が行われる。また、現
像剤は感光体に対して接触あるいは非接触の状態で現像
される。感光体の電位測定は電位センサー547を図1
のように現像位置上部に設けて行う。The developer includes, for example, a carrier having ferrite as a core and an insulating resin coated around the core, a coloring agent such as carbon black and the like, and a low molecular weight of the present invention. The toner is composed of a toner in which silica, titanium oxide, or the like is externally added to colored particles of polyolefin, and the developer is transported to a development area with the layer thickness regulated by a transport amount regulating member, where development is performed. At this time, usually, the photosensitive drum 50
The development is performed by applying a DC bias and an AC bias voltage if necessary between the developing sleeve 541 and the developing sleeve 541. The developer is developed in a state of contact or non-contact with the photoconductor. In order to measure the potential of the photoconductor, the potential sensor 547 is used as shown in FIG.
As described above.
【0199】記録紙Pは画像形成後、転写のタイミング
の整った時点で給紙ローラー57の回転作動により転写
域へと給紙される。After the image is formed, the recording paper P is fed to the transfer area by the rotation of the paper feed roller 57 at the time when the transfer timing is adjusted.
【0200】転写域においてはトナーと逆極性の電荷を
付与する転写電極(転写手段)58により感光体上のト
ナーが給紙された記録紙Pに転写される。In the transfer area, the toner on the photoreceptor is transferred to the fed recording paper P by a transfer electrode (transfer means) 58 for applying a charge of the opposite polarity to the toner.
【0201】次いで記録紙Pは分離電極(分離手段)5
9によって除電がなされ、感光体ドラム50の周面より
分離して定着装置(定着手段)60に搬送され、熱ロー
ラー601と圧着ローラー602の加熱、加圧によって
トナーを溶着したのち排紙ローラー61を介して装置外
部に排出される。なお前記の転写電極58及び分離電極
59は記録紙Pの通過後感光体ドラム50の周面より退
避離間して次なるトナー像の形成に備える。Next, the recording paper P is separated from the separation electrode (separation means) 5.
9, the toner is removed from the peripheral surface of the photosensitive drum 50, conveyed to a fixing device (fixing unit) 60, and heated and pressed by the heat roller 601 and the pressure roller 602 to fuse the toner and then discharge the paper 61. Is discharged out of the apparatus via The transfer electrode 58 and the separation electrode 59 are retracted and separated from the peripheral surface of the photosensitive drum 50 after the recording paper P has passed to prepare for the formation of the next toner image.
【0202】一方記録紙Pを分離した後の感光体ドラム
50は、クリーニング器(クリーニング手段)62のブ
レード621の圧接により残留トナーを除去・清掃し、
再び帯電前露光部51による除電と帯電器52による帯
電を受けて次なる画像形成のプロセスに入る。On the other hand, the photosensitive drum 50 from which the recording paper P has been separated removes and cleans residual toner by pressing the blade 621 of the cleaning device (cleaning means) 62.
Upon receiving the charge elimination by the pre-charge exposure unit 51 and the charging by the charger 52 again, the image forming process starts.
【0203】尚、70は感光体、帯電器、転写器、分離
器及びクリーニング器が一体化されている着脱可能なプ
ロセスカートリッジである。Reference numeral 70 denotes a detachable process cartridge in which a photosensitive member, a charger, a transfer device, a separator, and a cleaning device are integrated.
【0204】本発明の画像形成方法及び画像形成装置は
電子写真複写機、レーザープリンター、LEDプリンタ
ー及び液晶シャッター式プリンター等の電子写真装置一
般に適応するが、更に、電子写真技術を応用したディス
プレー、記録、軽印刷、製版及びファクシミリ等の装置
にも幅広く適用することができる。The image forming method and the image forming apparatus of the present invention are applicable to electrophotographic apparatuses in general, such as electrophotographic copying machines, laser printers, LED printers, and liquid crystal shutter printers. , Light printing, plate making and facsimile.
【0205】[0205]
【実施例】以下、実施例をあげて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の様態はこれに限定されない。なお、文中
「部」とは「質量部」を表す。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto. In the description, “parts” means “parts by mass”.
【0206】中間層塗布液の作製 以下の様にして、各実施例、比較例の中間層塗布液を作
製した。Preparation of Coating Liquid for Intermediate Layer Coating liquids for the intermediate layer of each Example and Comparative Example were prepared as follows.
【0207】(中間層塗布液1の作製)ポリアミド樹脂
CM8000(東レ社製)1質量部、酸化チタンSMT
500SAS(1回目:シリカ・アルミナ処理、2回
目:メチルハイドロジェンポリシロキサン処理:テイカ
社製)3質量部、メタノール10質量部を同一容器中に
加え超音波ホモジナイザーを用いて分散して、中間層塗
布液1を作製した。(Preparation of Intermediate Layer Coating Solution 1) 1 part by mass of polyamide resin CM8000 (manufactured by Toray Industries, Inc.), titanium oxide SMT
3 parts by weight of 500SAS (first time: silica / alumina treatment, second time: methylhydrogenpolysiloxane treatment: manufactured by Teica), 3 parts by weight of methanol and 10 parts by weight of methanol were added to the same vessel, and dispersed using an ultrasonic homogenizer. Application liquid 1 was prepared.
【0208】(中間層塗布液2〜7の作製)酸化チタン
及びその表面処理と粒径、バインダー樹脂、酸化チタン
/バインダー樹脂質量比及び溶剤を表1に示す様にした
他は中間層塗布液1と同様にしてそれぞれ中間層塗布液
2〜7を作製した。(Preparation of Intermediate Layer Coating Solutions 2 to 7) Intermediate layer coating solution except that titanium oxide and its surface treatment and particle size, binder resin, titanium oxide / binder resin mass ratio and solvent were as shown in Table 1. In the same manner as in Example 1, intermediate layer coating solutions 2 to 7 were prepared.
【0209】(中間層塗布液8の作製)酸化チタンMT
500SA(一次処理はシリカ・アルミナ処理)の2回
目の表面処理をジイソプロポキシチタニウムビス(アセ
チルアセテート)で行った他は中間層塗布液1と同様に
して中間層塗布液8を作製した。(Preparation of Intermediate Layer Coating Solution 8) Titanium oxide MT
Intermediate layer coating liquid 8 was prepared in the same manner as intermediate layer coating liquid 1 except that the second surface treatment of 500SA (primary treatment was silica / alumina treatment) was performed with diisopropoxytitanium bis (acetyl acetate).
【0210】(中間層塗布液9の作製)酸化チタンMT
500SA(一次処理はシリカ・アルミナ処理)の2回
目の表面処理をブトキシジルコニウムトリ(アセチルア
セテート)で行った他は中間層塗布液1と同様にして中
間層塗布液9を作製した。(Preparation of Intermediate Layer Coating Solution 9) Titanium oxide MT
Intermediate layer coating liquid 9 was prepared in the same manner as intermediate layer coating liquid 1 except that the second surface treatment of 500SA (primary treatment was silica / alumina treatment) was performed with butoxyzirconium tri (acetyl acetate).
【0211】(中間層塗布液10〜12の作製:比較
例)酸化チタン及びその表面処理と粒径、バインダー樹
脂、酸化チタン/バインダー樹脂質量比、及び溶剤の種
類を表1に示すようにした他は中間層塗布液1と同様に
してそれぞれ中間層塗布液10〜12を作製した。(Preparation of Intermediate Layer Coating Solutions 10 to 12: Comparative Example) Titanium oxide and its surface treatment and particle size, binder resin, titanium oxide / binder resin mass ratio, and type of solvent were as shown in Table 1. Other than that, the intermediate layer coating liquids 10 to 12 were prepared in the same manner as the intermediate layer coating liquid 1.
【0212】(中間層塗布液13の作製:比較例)ポリ
アミド樹脂CM8000(東レ社製)1質量部、メタノ
ール10質量部に溶解して、中間層塗布液13を作製し
た。(Preparation of Coating Solution 13 for Intermediate Layer: Comparative Example) Coating solution 13 for intermediate layer was prepared by dissolving 1 part by mass of polyamide resin CM8000 (manufactured by Toray Industries, Ltd.) and 10 parts by mass of methanol.
【0213】[0213]
【表1】 [Table 1]
【0214】尚、表1中、一次処理欄に記載のものは一
次処理後の酸化チタン粒子表面に析出した物質であり、
二次処理欄に記載のものは二次処理時に用いた物質を示
す。In Table 1, those described in the column of primary treatment are substances precipitated on the surface of the titanium oxide particles after the primary treatment.
Those described in the secondary treatment column indicate substances used in the secondary treatment.
【0215】感光体1の作製 〈中間層〉円筒形アルミニウム基体上に中間層塗布液1
を浸漬塗布し、4μmの乾燥膜厚で中間層を設けた。Preparation of Photoreceptor 1 <Intermediate Layer> An intermediate layer coating solution 1 was formed on a cylindrical aluminum substrate.
Was applied by dip coating to form an intermediate layer with a dry film thickness of 4 μm.
【0216】 〈電荷発生層〉 Y型チタニルフタロシアニン(Cu−Kα特性X線によるX線回折の 最大ピーク角度が2θで27.3) 60g シリコーン変性ブチラール樹脂(X−40−1211M:信越化学社製) 700g 2−ブタノン 2000ml を混合し、サンドミルを用いて10時間分散し、電荷発
生層塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層の上に
浸漬塗布法で塗布し、乾燥膜厚0.2μmの電荷発生層
を形成した。<Charge Generation Layer> Y-type titanyl phthalocyanine (the maximum peak angle of X-ray diffraction by Cu-Kα characteristic X-ray is 27.3 at 2θ) 60 g Silicon-modified butyral resin (X-40-1211M: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) 700 g of 2-butanone (2000 ml) were mixed and dispersed for 10 hours using a sand mill to prepare a charge generation layer coating solution. This coating solution was applied onto the intermediate layer by a dip coating method to form a charge generation layer having a dry film thickness of 0.2 μm.
【0217】 〈電荷輸送層〉 電荷輸送物質〔N−(4−メチルフェニル)−N−{4− (β−フェニルスチリル)フェニル}−p−トルイジン〕 225g ポリカーボネート(粘度平均分子量20,000) 300g 酸化防止剤(例示化合物1−3) 6g ジクロロメタン 2000ml を混合し、溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この
塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾
燥膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。<Charge Transport Layer> Charge transport substance [N- (4-methylphenyl) -N- {4- (β-phenylstyryl) phenyl} -p-toluidine] 225 g Polycarbonate (viscosity average molecular weight 20,000) 300 g 6 g of an antioxidant (exemplary compound 1-3) and 2,000 ml of dichloromethane were mixed and dissolved to prepare a charge transport layer coating solution. This coating solution was applied on the charge generation layer by a dip coating method to form a charge transport layer having a dry film thickness of 20 μm.
【0218】 〈表面層A:本発明の表面層〉 シリル基含有ビニル系樹脂(A)(固形分:50質量%) 100g メチルトリメトキシシラン 70g 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 30g 2−ブチルアルコール 100g ブチルセロソルブ 75g ジ−i−プロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム 10g を混合し、よく攪拌した後、攪拌下、純水30gを滴下
し、60℃で4時間反応させた。次いで室温まで冷却し
てジオクチルスズジマレエートエステルの2−プロピル
アルコール溶液(固形分:15質量%)10g及び反応
性電荷輸送剤(B−1)50部を添加、攪拌し、コーテ
ィング液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上
に円形量規制型塗布装置により乾燥膜厚3μmの表面層
を形成し、120℃、1時間の加熱硬化を行い、本発明
の有機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分及び電荷輸
送構造成分を有する表面層Aを有する感光体1を作製し
た。<Surface Layer A: Surface Layer of the Present Invention> Silyl group-containing vinyl resin (A) (solid content: 50% by mass) 100 g methyltrimethoxysilane 70 g 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane 30 g 2-butyl 100 g of alcohol, 75 g of butyl cellosolve, 10 g of di-i-propoxyethyl acetoacetate aluminum were mixed and stirred well, and then 30 g of pure water was added dropwise with stirring, followed by reaction at 60 ° C. for 4 hours. Next, the mixture was cooled to room temperature, 10 g of a 2-propyl alcohol solution of dioctyltin dimaleate ester (solid content: 15% by mass) and 50 parts of a reactive charge transport agent (B-1) were added, followed by stirring to prepare a coating liquid. did. This coating solution was used to form a surface layer having a dry film thickness of 3 μm on the charge transporting layer by a circular quantity control type coating device, and was heated and cured at 120 ° C. for 1 hour. Photoconductor 1 having surface layer A having the components and the charge transporting structural component was prepared.
【0219】感光体2〜9の作製 感光体1で用いた中間層塗布液の代わりに表2に示す中
間層塗布液を使用し、表2に示した乾燥膜厚で中間層を
設けた他は感光体1と同様にして感光体2〜9を作製し
た。Preparation of Photoreceptors 2 to 9 The coating solution for the intermediate layer shown in Table 2 was used in place of the coating solution for the intermediate layer used for the photoreceptor 1, and the intermediate layer having the dry film thickness shown in Table 2 was provided. The photoreceptors 2 to 9 were produced in the same manner as in photoreceptor 1.
【0220】感光体10の製造 感光体1と同様にして電荷輸送層までを作製した。Production of Photoreceptor 10 In the same manner as for Photoreceptor 1, the components up to the charge transport layer were prepared.
【0221】 〈表面層B:本発明の表面層〉 メチルトリメトキシシラン 70g 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 30g 2−プロパノール 50g 3%酢酸 10g を混合し、50℃で24時間攪拌を行い、メチルトリメ
トキシシランと3−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランのオリゴマー化溶液を調製した。<Surface Layer B: Surface Layer of the Present Invention> 70 g of methyltrimethoxysilane, 30 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 50 g of 2-propanol, and 10 g of 3% acetic acid were mixed and stirred at 50 ° C. for 24 hours. An oligomerization solution of methyltrimethoxysilane and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane was prepared.
【0222】 メチルトリメトキシシランオリゴマー化液 160g テトラメトキシシラン 10g シリル基含有ビニル系樹脂(B)(固形分:50質量%) 60g 反応性電荷輸送性化合物(例示化合物(B−1)) 40g 酸化防止剤(例示化合物2−1) 2g 2−プロパノール 100g 2−ブタノン 100g アルミキレートA(W)(川研ケミカル社製) 10g を混合し、保護層用の塗布液を調製した。この塗布液を
前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により乾燥
膜厚2μmの表面層を形成し、120℃、1時間の加熱
硬化を行い、本発明の有機ポリマー成分、シロキサン縮
合体成分及び電荷輸送構造成分を有する表面層Bを有す
る感光体10を作製した。Methyltrimethoxysilane oligomerization liquid 160 g Tetramethoxysilane 10 g Silyl group-containing vinyl resin (B) (solid content: 50% by mass) 60 g Reactive charge transporting compound (exemplified compound (B-1)) 40 g Oxidation An inhibitor (Exemplified Compound 2-1) 2 g 2-propanol 100 g 2-butanone 100 g Aluminum chelate A (W) (manufactured by Kawaken Chemical Co., Ltd.) 10 g was mixed to prepare a coating solution for a protective layer. This coating solution was used to form a surface layer having a dry film thickness of 2 μm on the charge transporting layer by a circular amount control type coating device, and was cured by heating at 120 ° C. for 1 hour. A photoreceptor 10 having a surface layer B having a component and a charge transporting structural component was prepared.
【0223】感光体11〜14の作製(比較例) 感光体1で用いた中間層塗布液の代わりに表2に示す中
間層塗布液を使用し、表2に示した乾燥膜厚で中間層を
設けた他は感光体1と同様にして感光体11〜14を作
製した。Preparation of Photoreceptors 11 to 14 (Comparative Example) The intermediate layer coating solution shown in Table 2 was used in place of the intermediate layer coating solution used in Photoreceptor 1, and the intermediate layer having a dry film thickness shown in Table 2 was used. Photoconductors 11 to 14 were produced in the same manner as in Photoconductor 1, except that.
【0224】感光体15の作製(比較例) 〈表面層C:本発明外の表面層〉感光体1の作製におい
て、表面層中の例示化合物(B−1)を除いた以外は同
様にして電荷輸送性構造単位を有しないシロキサン系樹
脂層の表面層Cを有する感光体15を作製した。Preparation of Photoreceptor 15 (Comparative Example) <Surface Layer C: Surface Layer Outside the Present Invention> The preparation of photoreceptor 1 was carried out in the same manner except that Exemplified Compound (B-1) in the surface layer was omitted. Photoconductor 15 having surface layer C of a siloxane-based resin layer having no charge transporting structural unit was produced.
【0225】評価 評価機としてコニカ社製デジタル複写機Konica7
075(コロナ帯電、レーザ露光、反転現像、静電転
写、爪分離、ブレードクリーニング、クリーニング補助
ブラシローラー採用プロセスを有する)を用い、該複写
機に感光体1〜15を搭載し評価した。クリーニング性
及び画像評価は、画素率が7%の文字画像、人物顔写
真、ベタ白画像、ベタ黒画像がそれぞれ1/4等分にあ
るオリジナル画像をA4中性紙に複写して行った。複写
条件は最も厳しいと思われる高温高湿環境(30℃、8
0%RH)にて連続20万枚コピー行いハーフトーン、
ベタ白画像、ベタ黒画像を作製し下記の評価を行った。
又、感光体の膜厚減耗量の評価も下記のように行った。Evaluation Konica Digital Copier 7 manufactured by Konica Corporation was used as an evaluation machine.
075 (corona charging, laser exposure, reversal development, electrostatic transfer, nail separation, blade cleaning, cleaning auxiliary brush roller adoption process), and the photoconductors 1 to 15 were mounted on the copying machine and evaluated. The cleaning performance and the image evaluation were performed by copying an original image in which a character image having a pixel ratio of 7%, a portrait photograph, a solid white image, and a solid black image were each equal to 1/4 on A4 neutral paper. Copying conditions are considered to be the most severe in a high-temperature and high-humidity environment (30 ° C, 8
0% RH) to perform 200,000 copies continuously, halftone,
A solid white image and a solid black image were prepared and evaluated as follows.
The evaluation of the thickness loss of the photoreceptor was also performed as follows.
【0226】評価基準 画像濃度(マクベス社製RD−918を使用して測定。
紙の反射濃度を「0」とした相対反射濃度で測定した。
初期及び1万枚コピー毎20万枚コピーまで評価し
た。) ◎:黒ベタ画像が1.2以上 ○:黒ベタ画像が1.2未満〜1.0 ×:黒ベタ画像が1.0未満 カブリ(初期及び1万枚コピー毎20万枚コピーまでベ
タ白画像を目視で判定) ◎:20万枚コピーを通してカブリの発生なし ○:15万枚コピー後にカブリがわずかに発生 ×:10万枚コピーでカブリ発生 解像度(文字画像の判別容易性で判定) ○:初期と20万枚コピー後の解像度に差がない △:ハーフトーン画像で20万枚コピー後の解像度に軽
微な低下有り ×:20万枚コピー後の解像度に顕著な低下有り 黒ポチ(初期及び1万枚コピー毎20万枚コピーまでの
ベタ白画像で評価)黒ポチの評価は、長径が0.4mm
以上の黒ポチがA4紙当たり何個あるかで判定した。
尚、黒ポチ長径はビデオプリンター付き顕微鏡等で測定
できる。黒ポチ評価の判定基準は、下記に示す通りであ
る。Evaluation Criteria Image density (measured using Macbeth RD-918.
The measurement was made at a relative reflection density where the reflection density of the paper was "0".
Evaluation was made up to 200,000 copies at initial and every 10,000 copies. ◎: Black solid image is 1.2 or more ○: Black solid image is less than 1.2 to 1.0 ×: Black solid image is less than 1.0 Fog (solid up to 200,000 copies at initial and every 10,000 copies)白: No fogging occurs after copying 200,000 copies. :: Fog occurs slightly after copying 150,000 copies. X: Fogging occurs after copying 100,000 copies. Resolution (determined by ease of character image discrimination) :: There is no difference between the initial and the resolution after 200,000 copies. △: There is a slight decrease in the resolution after 200,000 copies in the halftone image. X: The remarkable decrease in the resolution after 200,000 copies. (Evaluated with a solid white image up to 200,000 copies at initial and every 10,000 copies.)
Judgment was made based on the number of black spots per A4 sheet.
Incidentally, the length of the black spot is measured by a microscope equipped with a video printer. The criterion for black spot evaluation is as follows.
【0227】A・・・0.4mm以上の黒ポチ頻度:全
ての複写画像が3個/A4以下 B・・・0.4mm以上の黒ポチ頻度:4個/A4以
上、19個/A4以下が1枚以上発生 C・・・0.4mm以上の黒ポチ頻度:20個/A4以
上が1枚以上発生 ΔV12の評価 上記20万枚コピー後、1時間の休止をはさんでΔV12
の評価の評価を行った。現像位置に電位センサーを設置
し、感光体の1回目と2回目の黒べた部電位を測定し、
その差の絶対値をΔV12とした。A: Black spot frequency of 0.4 mm or more: all copied images are 3 pieces / A4 or less B: Black spot frequency of 0.4 mm or more: 4 pieces / A4 or more, 19 pieces / A4 or less C: Black spots of 0.4 mm or more: 20 / A4 or more of one or more sheets ΔEvaluation of ΔV 12 After copying the above 200,000 sheets, a pause of one hour was performed, and ΔV 12 was reached.
Was evaluated. A potential sensor was installed at the development position, and the first and second black solid portion potentials of the photoconductor were measured.
The absolute value of the difference was [Delta] V 12.
【0228】その他評価条件 尚、上記デジタル複写機Konica7075を用いた
その他の評価条件は下記の条件に設定した。Other Evaluation Conditions The other evaluation conditions using the digital copying machine Konica 7075 were set as follows.
【0229】帯電条件 帯電器;スコロトロン帯電器、初期帯電電位を−750
V 露光条件 露光部電位を−50Vにする露光量に設定。Charging Conditions Charger: Scorotron charger, initial charging potential was -750
V Exposure conditions Exposure amount is set so that the exposure portion potential is -50V.
【0230】現像条件 DCバイアス;−550V 現像剤は、フェライトをコアとして絶縁性樹脂をコーテ
ィングしたキャリアとスチレンアクリル系樹脂を主材料
としてカーボンブラック等の着色剤と荷電制御剤と本発
明の低分子量ポリオレフィンからなる着色粒子に、シリ
カ、酸化チタン等を外添したトナーの現像剤を使用 転写条件 転写極;コロナ帯電方式 クリーニング条件 クリーニング部に硬度70°、反発弾性34%、厚さ2
(mm)、自由長9mmのクリーニングブレードをカウ
ンター方向に線圧20(g/cm)となるように重り荷
重方式で当接した。Developing conditions DC bias: -550 V The developer was a carrier coated with an insulating resin with ferrite as a core, a styrene acrylic resin as a main material, a colorant such as carbon black, a charge control agent, and the low molecular weight of the present invention. A toner developer in which silica, titanium oxide or the like is externally added to colored particles made of polyolefin is used. Transfer condition Transfer pole; corona charging method Cleaning condition Hardness 70 °, rebound resilience 34%, thickness 2 in cleaning section
(Mm), a cleaning blade having a free length of 9 mm was abutted in the counter direction by a weight load method so as to have a linear pressure of 20 (g / cm).
【0231】評価結果を表2に示した。The evaluation results are shown in Table 2.
【0232】[0232]
【表2】 [Table 2]
【0233】表2から明らかなように本発明の中間層、
表面層を有する感光体1〜10は、画像濃度、カブリ、
解像度等の画像特性が良好であり、電位変動特性(ΔV
12)及び黒ポチの発生も少なく、又膜厚減耗量も少なく
全ての特性がバランスを持って改善されている。As apparent from Table 2, the intermediate layer of the present invention,
Photoconductors 1 to 10 having a surface layer have image density, fog,
Image characteristics such as resolution are good, and potential fluctuation characteristics (ΔV
12 ) and the occurrence of black spots is small, and the thickness loss is small, and all characteristics are improved in a balanced manner.
【0234】一方、本発明外の中間層を有する感光体1
1は黒ポチの発生が著しく、画像濃度やカブリの評価も
劣っている。感光体12〜14は、本発明の感光体1〜
10に比し電位変動特性(ΔV12)が大きく、黒ポチ発
生の防止効果も小さい。又、本発明外の表面層を有する
感光体15は本発明の感光体1〜10に比しカブリ発
生、解像度低下が大きく、電位変動特性(ΔV12)も大
きい。On the other hand, photosensitive member 1 having an intermediate layer outside the present invention
In No. 1, the occurrence of black spots was remarkable, and the evaluation of image density and fog was inferior. The photoconductors 12 to 14 are the photoconductors 1 to 5 of the present invention.
As compared with No. 10, the potential fluctuation characteristic (ΔV 12 ) is large, and the effect of preventing occurrence of black spots is small. In addition, the photoreceptor 15 having a surface layer outside the present invention has larger fogging and lower resolution and a larger potential variation characteristic (ΔV 12 ) than the photoreceptors 1 to 10 of the present invention.
【0235】[0235]
【発明の効果】実施例からも明らかなように、本発明の
表面層と中間層を有する感光体を用いることにより、良
好な画像特性、良好な帯電特性、及び黒ポチ等の画像欠
陥を発生しない電子写真感光体を提供する事が出来る。
又該電子写真感光体を用いた良好な電子写真画像を達成
できる画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカート
リッジを提供する事が出来る。As is clear from the examples, the use of the photoreceptor having the surface layer and the intermediate layer according to the present invention produces good image characteristics, good charge characteristics, and image defects such as black spots. It is possible to provide an electrophotographic photoreceptor that does not need to be used.
Further, it is possible to provide an image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge capable of achieving a good electrophotographic image using the electrophotographic photosensitive member.
【図1】本発明の画像形成方法の一例としての画像形成
装置の断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view of an image forming apparatus as an example of an image forming method of the present invention.
50 感光体ドラム(又は感光体) 51 帯電前露光部 52 帯電器 53 像露光器 54 現像器 541 現像スリーブ 543,544 現像剤攪拌搬送部材 547 電位センサー 57 給紙ローラー 58 転写電極 59 分離電極(分離器) 60 定着装置 61 排紙ローラー 62 クリーニング器 70 プロセスカートリッジ Reference Signs List 50 photoconductor drum (or photoconductor) 51 pre-charging exposure unit 52 charger 53 image exposure device 54 developing device 541 developing sleeve 543, 544 developer stirring and conveying member 547 potential sensor 57 paper feed roller 58 transfer electrode 59 separation electrode (separation) Device) 60 fixing device 61 paper discharge roller 62 cleaning device 70 process cartridge
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内野 哲 東京都八王子市石川町2970番地コニカ株式 会社内 (72)発明者 濱口 進一 東京都日野市さくら町1番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 早田 裕文 東京都日野市さくら町1番地コニカ株式会 社内 Fターム(参考) 2H068 AA04 AA44 BA57 BA58 BB28 BB33 CA06 CA29 CA33 FA27 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tetsu Uchino Konica Corporation, 2970 Ishikawa-cho, Hachioji-shi, Tokyo In-house (72) Inventor Shinichi Hamaguchi 1st Konica Corporation, Sakura-cho, Hino-shi, Tokyo In-house (72) Inventor Hirofumi Hayata 1st Sakuracho, Hino-shi, Tokyo Konica Corporation F-term (reference) 2H068 AA04 AA44 BA57 BA58 BB28 BB33 CA06 CA29 CA33 FA27
Claims (22)
層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複数
回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有機
ケイ素化合物を用いて行われたN型半導性微粒子とバイ
ンダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層が、有機
ポリマー成分、シロキサン縮合体成分及び電荷輸送構造
成分を有する樹脂を含有することを特徴とする電子写真
感光体。1. An electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer on a conductive support via an intermediate layer, wherein the intermediate layer is subjected to a plurality of surface treatments, and the final surface treatment is a reactive organosilicon. The composition contains N-type semiconductor fine particles and a binder resin, and the surface layer of the photosensitive layer contains a resin having an organic polymer component, a siloxane condensate component, and a charge transport structure component. An electrophotographic photosensitive member characterized by the following.
エポキシ基又はその開環基を有する有機ケイ素化合物を
用いて形成されることを特徴とする請求項1に記載の電
子写真感光体。2. The electrophotographic photoconductor according to claim 1, wherein the siloxane condensate component is formed using an organosilicon compound having at least an epoxy group or a ring-opening group thereof.
イドロジェンポリシロキサンであることを特徴とする請
求項1又は2に記載の電子写真感光体。3. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the reactive organosilicon compound is methyl hydrogen polysiloxane.
式(1)で示される有機ケイ素化合物であることを特徴
とする請求項1又は2に記載の電子写真感光体。 一般式(1) R−Si−(X)3 (式中、Rはアルキル基、アリール基、Xはメトキシ
基、エトキシ基、ハロゲン基を表す。)4. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the reactive organosilicon compound is an organosilicon compound represented by the following general formula (1). General formula (1) R-Si- (X) 3 (wherein, R represents an alkyl group, an aryl group, and X represents a methoxy group, an ethoxy group, or a halogen group.)
までのアルキル基であることを特徴とする請求項4に記
載の電子写真感光体。5. The compound of the general formula (1) wherein R has 4 to 8 carbon atoms.
The electrophotographic photosensitive member according to claim 4, wherein the alkyl group is
層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複数
回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有機
チタン化合物を用いて行われたN型半導性微粒子とバイ
ンダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層が、有機
ポリマー成分、シロキサン縮合体成分及び電荷輸送構造
成分を有する樹脂を含有することを特徴とする電子写真
感光体。6. An electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive support via an intermediate layer, wherein the intermediate layer is subjected to a plurality of surface treatments, and the final surface treatment is a reactive organic titanium. The composition contains N-type semiconductor fine particles and a binder resin, and the surface layer of the photosensitive layer contains a resin having an organic polymer component, a siloxane condensate component, and a charge transport structure component. An electrophotographic photosensitive member characterized by the following.
層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複数
回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有機
ジルコニウム化合物を用いて行われたN型半導性微粒子
とバインダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層
が、有機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分及び電荷
輸送構造成分を有する樹脂を含有することを特徴とする
電子写真感光体。7. An electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive support via an intermediate layer, wherein the intermediate layer is subjected to a plurality of surface treatments, and the final surface treatment is a reactive organic zirconium. The composition contains N-type semiconductor fine particles and a binder resin, and the surface layer of the photosensitive layer contains a resin having an organic polymer component, a siloxane condensate component, and a charge transport structure component. An electrophotographic photosensitive member characterized by the following.
エポキシ基又はその開環基を有する有機ケイ素化合物を
用いて形成されることを特徴とする請求項6又は7に記
載の電子写真感光体。8. The electrophotographic photosensitive member according to claim 6, wherein the siloxane condensate component is formed using an organosilicon compound having at least an epoxy group or a ring-opening group thereof.
も1回の表面処理がアルミナ、シリカ、及びジルコニア
の少なくとも1種以上の表面処理であることを特徴とす
る請求項1〜8の何れか1項に記載の電子写真感光体。9. The method according to claim 1, wherein at least one of the plurality of surface treatments is a surface treatment of at least one of alumina, silica, and zirconia. Item 2. The electrophotographic photosensitive member according to Item 1.
リカ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応性
有機ケイ素化合物を用いた表面処理を行うことを特徴と
する請求項1〜5の何れか1項に記載の電子写真感光
体。10. The method according to claim 1, wherein the N-type semiconductor fine particles are subjected to a surface treatment with at least silica or alumina, and then subjected to a surface treatment with a reactive organosilicon compound. 13. The electrophotographic photoreceptor according to item 6.
リカ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応性
有機チタン化合物を用いた表面処理を行うことを特徴と
する請求項6に記載の電子写真感光体。11. The electrophotographic photosensitive member according to claim 6, wherein the N-type semiconductor fine particles are subjected to a surface treatment with at least silica or alumina, and then subjected to a surface treatment with a reactive organic titanium compound. body.
リカ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応性
有機ジルコニウム化合物を用いた表面処理を行うことを
特徴とする請求項7に記載の電子写真感光体。12. The electrophotographic photosensitive member according to claim 7, wherein the N-type semiconductor fine particles are subjected to a surface treatment with at least silica or alumina, and then subjected to a surface treatment with a reactive organic zirconium compound. body.
子であることを特徴とする請求項1〜12の何れか1項
に記載の電子写真感光体。13. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the N-type semiconductor fine particles are titanium oxide particles.
結晶型を有することを特徴とする請求項1〜13の何れ
か1項に記載の電子写真感光体。14. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the N-type semiconductor fine particles have a rutile crystal type.
径が10nm以上200nm以下であることを特徴とす
る請求項1〜14の何れか1項に記載の電子写真感光
体。15. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the N-type semiconductor fine particles have a number average primary particle size of 10 nm or more and 200 nm or less.
光層を有する電子写真感光体において、該中間層が、フ
ッ素原子を有する反応性有機ケイ素化合物を用いて表面
処理された酸化チタン粒子とバインダー樹脂を含有して
おり、該感光層の表面層が、有機ポリマー成分、シロキ
サン縮合体成分及び電荷輸送構造成分を有する樹脂を含
有することを特徴とする電子写真感光体。16. An electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer on a conductive support via an intermediate layer, wherein the intermediate layer is surface-treated with a reactive organosilicon compound having a fluorine atom. An electrophotographic photosensitive member containing particles and a binder resin, wherein the surface layer of the photosensitive layer contains a resin having an organic polymer component, a siloxane condensate component, and a charge transport structure component.
もエポキシ基又はその開環基を有する有機ケイ素化合物
を用いて形成されることを特徴とする請求項16に記載
の電子写真感光体。17. The electrophotographic photoreceptor according to claim 16, wherein the siloxane condensate component is formed using an organosilicon compound having at least an epoxy group or a ring-opening group thereof.
が10nm以上200nm以下であることを特徴とする
請求項16又は17に記載の電子写真感光体。18. The electrophotographic photosensitive member according to claim 16, wherein the number average primary particle diameter of the titanium oxide particles is 10 nm or more and 200 nm or less.
ミド樹脂であることを特徴とする請求項1〜18の何れ
か1項に記載の電子写真感光体。19. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the binder resin of the intermediate layer is a polyamide resin.
帯電手段、像露光手段、現像手段、転写手段、クリーニ
ング手段を有し、繰り返し画像形成を行う画像形成方法
において、該電子写真感光体が請求項1〜19の何れか
1項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画
像形成方法。20. An image forming method for forming an image repeatedly, comprising at least a charging unit, an image exposing unit, a developing unit, a transferring unit, and a cleaning unit around the electrophotographic photosensitive member. Item 20. An image forming method comprising the electrophotographic photosensitive member according to any one of Items 1 to 19.
いることを特徴とする画像形成装置。21. An image forming apparatus using the image forming method according to claim 20.
いられるプロセスカートリッジが、少なくとも請求項1
〜19の何れか1項に記載の電子写真感光体と帯電器、
像露光器、現像器、転写器、クリーニング器の少なくと
も1つを一体として有しており、該画像形成装置に出し
入れ可能に構成されたことを特徴とするプロセスカート
リッジ。22. A process cartridge used in the image forming apparatus according to claim 21.
20. The electrophotographic photosensitive member and the charger according to any one of items 19 to 19,
A process cartridge having at least one of an image exposing unit, a developing unit, a transfer unit, and a cleaning unit, and configured to be able to be taken in and out of the image forming apparatus.
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