JP2002311460A - Method for driving electrochromic mirror - Google Patents

Method for driving electrochromic mirror

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JP2002311460A
JP2002311460A JP2001111514A JP2001111514A JP2002311460A JP 2002311460 A JP2002311460 A JP 2002311460A JP 2001111514 A JP2001111514 A JP 2001111514A JP 2001111514 A JP2001111514 A JP 2001111514A JP 2002311460 A JP2002311460 A JP 2002311460A
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JP
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group
voltage
mirror
electrochromic
compound
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JP2001111514A
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Japanese (ja)
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Shinji Oshima
伸司 大島
Yoshinori Nishikitani
禎範 錦谷
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Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Oil Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for realizing an EC element system capable of stably maintaining reflectance in the case of coloration against change of temperature at a low cost by setting voltage to hold a coloration state as an optimal value and driving the coloration with the voltage in an electrochromic mirror. SOLUTION: In the method to drive the electrochromic mirror formed by providing an ion conductive layer including electrochromic compound between two conductive substrates at least one of which is transparent, if reflectance of light with wavelength of 633 nm when the voltage E is impressed on the mirror is expressed as TE, and the reflectance of the light with the wavelength of 633 nm when 0 V is impressed on the mirror as voltage to drive coloration is expressed as T0 , and the value of -log10 (TE/T0 ) when a differential coefficient becomes the first minimum value after the differential coefficient is first changed to reduction in a curved line of which a horizontal axis is defined as an absolute value |E| of the impressed voltage and a vertical axis is defined as -log10 (TE/T0 ), obtained by impressing optional voltage on the mirror, is expressed as ODflat , voltage corresponding to the one at which a value of -log10 (TE/T0 ) becomes within a range of 0.9×ODflat to 1.1×ODflat is impressed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、自動車等の防眩ミ
ラー用、装飾用、表示用等として有用なエレクトロクロ
ミックミラーの駆動方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for driving an electrochromic mirror which is useful as an anti-glare mirror, decoration, display or the like for automobiles.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、エレクトロクロミック素子(以
下、EC素子と略称する。)として、いくつかの方式が
考案されている。例えば、酸化タングステン(WO3
のようなエレクトロクロミック活性物質を導電基板上に
真空蒸着法などで成膜し、これを発色剤として用いてい
るものがある(特開昭63−18336号公報)。しか
しながら、このEC素子は、エレクトロクロミック活性
物質の成膜を、真空下で行わなければならないため製造
コストが高騰し、大面積のEC素子を得るためには大型
の真空装置が必要となる。一方、EC素子の制御方法と
しては、透過率あるいは反射率を制御するために、光セ
ンサーを用いたものが知られているが(特開平6−28
1967号公報)、コストがかかるという欠点がある。
特にエレクトロクロミックミラーとしては、自動車用と
いう用途について言えば、低コストが求められ、また広
範囲に及ぶ使用温度領域や振動等の過酷な使用条件下で
も安定した性能を発揮する等、信頼性や安定性の高い方
式で着消色を制御することが望まれていた。
2. Description of the Related Art Several types of electrochromic devices (hereinafter abbreviated as EC devices) have been proposed. For example, tungsten oxide (WO 3 )
Such an electrochromic active material as described above is formed on a conductive substrate by a vacuum evaporation method or the like, and this is used as a color former (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-18336). However, in this EC device, the film formation of the electrochromic active material must be performed in a vacuum, so that the manufacturing cost increases, and a large-sized vacuum device is required to obtain a large-area EC device. On the other hand, as a control method of the EC element, a method using an optical sensor to control the transmittance or the reflectance is known (JP-A-6-28).
No. 1967), which has the disadvantage of high cost.
In particular, for electrochromic mirrors, low cost is required for automotive applications, and reliability and stability are exhibited, such as exhibiting stable performance even under severe operating conditions such as wide operating temperature range and vibration. It has been desired to control the color erasing and discoloring by a method having high performance.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、エレクトロ
クロミックミラーにおいて、着色状態を保持する電圧を
最適値に設定し、当該電圧で着色駆動することで、着色
時の反射率を温度変化に対して安定的に維持できるEC
素子システムを低コストで実現する方法を提供するもの
である。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, in an electrochromic mirror, a voltage for maintaining a colored state is set to an optimum value, and coloring is driven by the voltage, so that the reflectance at the time of coloring changes with temperature. And stable EC
It is intended to provide a method for realizing an element system at low cost.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、少
なくとも一方が透明である2枚の導電基板間に、エレク
トロクロミック化合物を含むイオン伝導層を設けたエレ
クトロクロミックミラーを駆動する方法であって、着色
駆動する電圧として、前記ミラーに電圧Eを印加した際
の波長633nmの光の反射率をTE、0Vを印加した
際の波長633nmの光の反射率をT0とし、前記ミラ
ーに任意の電圧を印加し、横軸を印加電圧の絶対値|E
|、縦軸を−log10(TE/T0)とした曲線において
微分係数が初めて減少に転じた後、最初の極小値となっ
た時の−log10(TE/T0)の値をODflatとした場
合、−log10(TE/T0)の値が0.9×ODflat
1.1×ODflatの範囲内となる電圧に対応する電圧を
印加することを特徴とするエレクトロクロミックミラー
の駆動方法に関する。
That is, the present invention is a method for driving an electrochromic mirror provided with an ion conductive layer containing an electrochromic compound between two conductive substrates at least one of which is transparent. As the voltage for driving for coloring, the reflectance of light having a wavelength of 633 nm when the voltage E is applied to the mirror is T E , the reflectance of light having a wavelength of 633 nm when 0 V is applied is T 0, and the reflectance of the mirror is arbitrary. And the horizontal axis represents the absolute value of the applied voltage | E
|, The value of -log 10 (T E / T 0 ) at the time when the first minimum value is reached after the derivative first decreases in a curve with the vertical axis being −log 10 (T E / T 0 ) If the set to OD flat, the value is 0.9 × OD flat ~ the -log 10 (T E / T 0 )
The present invention relates to a method for driving an electrochromic mirror, which applies a voltage corresponding to a voltage falling within a range of 1.1 × OD flat .

【0005】また、本発明は、前記エレクトロクロミッ
ク化合物が、少なくともアノード性エレクトロクロミッ
ク化合物およびカソード性エレクトロクロミック化合物
からなることを特徴とする前記エレクトロクロミックミ
ラーの駆動方法に関する。また、本発明は、前記エレク
トロクロミック化合物が、アノード性エレクトロクロミ
ック構造およびカソード性エレクトロクロミック構造を
併有している化合物であることを特徴とする前記エレク
トロクロミックミラーの駆動方法に関する。
[0005] The present invention also relates to a driving method of the electrochromic mirror, wherein the electrochromic compound comprises at least an anodic electrochromic compound and a cathodic electrochromic compound. The present invention also relates to the method of driving an electrochromic mirror, wherein the electrochromic compound is a compound having both an anodic electrochromic structure and a cathodic electrochromic structure.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。まず、本発明において用いるエレクトロクロミッ
クミラー(以下、ECミラーと略称する。)について説
明する。本発明のECミラーには2枚の導電基板が使用
される。ここで導電基板とは電極としての機能を果たす
基板を意味する。従って、本発明でいう導電基板には、
基板自体を導電性材料で製造したものと、導電性を持た
ない基板の片面又は両面に電極層を積層させた積層板が
包含される。導電性を備えているか否かに拘らず、基板
自体は常温において平滑な面を有していることが好まし
いが、その面は平面であっても、曲面であっても差し支
えなく、応力で変形するものであっても差し支えない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. First, an electrochromic mirror (hereinafter abbreviated as EC mirror) used in the present invention will be described. Two conductive substrates are used in the EC mirror of the present invention. Here, the conductive substrate means a substrate that functions as an electrode. Therefore, the conductive substrate according to the present invention includes
The substrate includes a substrate manufactured from a conductive material, and a laminate in which an electrode layer is laminated on one or both sides of a non-conductive substrate. Regardless of whether or not it has conductivity, the substrate itself preferably has a smooth surface at room temperature, but the surface may be flat or curved, and may be deformed by stress. It does not matter if it does.

【0007】本発明で使用される2枚の導電基板のうち
一方は透明導電基板であり、他方は光を反射できる反射
性導電基板である。透明導電基板は、通常、透明基板上
に透明電極層を積層させて製造される。ここで、透明と
は可視光領域において10〜100%の光透過率を有す
ることを意味する。透明基板の材質は特に限定されず、
例えば、無色あるいは有色ガラス、強化ガラス等であっ
て差し支えなく、無色あるいは有色の透明性樹脂でもよ
い。ここでいう透明性樹脂の具体例としては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
アミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン等が挙げられる。
One of the two conductive substrates used in the present invention is a transparent conductive substrate, and the other is a reflective conductive substrate capable of reflecting light. The transparent conductive substrate is usually manufactured by laminating a transparent electrode layer on a transparent substrate. Here, "transparent" means having a light transmittance of 10 to 100% in a visible light region. The material of the transparent substrate is not particularly limited,
For example, it may be a colorless or colored glass, a tempered glass, or the like, and may be a colorless or colored transparent resin. Specific examples of the transparent resin referred to here include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyamide, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyphenylenesulfide, polycarbonate, polyimide, polymethylmethacrylate, and polystyrene.

【0008】透明電極層としては、例えば、金、銀、ク
ロム、銅、タングステン等の金属薄膜、金属酸化物から
なる導電膜などが使用できる。前記金属酸化物として
は、例えば、ITO(In23−SnO2)、酸化錫、
酸化銀、酸化亜鉛、酸化バナジウム等が挙げられ、特に
ITOを用いることが好ましい。透明電極層の膜厚は、
特に制限されるものではないが、通常10〜1000n
m、好ましくは50〜300nmの範囲にあり、表面抵
抗(抵抗率)は特に制限されるものではないが、通常
0.5〜500Ω/sq.、好ましくは1〜100Ω/
sq.、より好ましくは3〜30Ω/sq.の範囲にあ
ることが望ましい。透明電極層の形成には、公知の手段
を任意に採用することができるが、透明電極を構成する
金属及び/又は金属酸化物等の種類により、採用する手
段を選択するのが好ましい。通常は、真空蒸着法、イオ
ンプレーティング法、スパッタリング法、ゾルゲル法等
が採用される。
As the transparent electrode layer, for example, a metal thin film of gold, silver, chromium, copper, tungsten or the like, a conductive film made of a metal oxide, or the like can be used. Examples of the metal oxide include ITO (In 2 O 3 —SnO 2 ), tin oxide,
Examples thereof include silver oxide, zinc oxide, and vanadium oxide. In particular, ITO is preferably used. The thickness of the transparent electrode layer is
Although not particularly limited, usually 10 to 1000 n
m, preferably in the range of 50 to 300 nm, and the surface resistance (resistivity) is not particularly limited, but is usually 0.5 to 500 Ω / sq. , Preferably 1 to 100Ω /
sq. , More preferably 3 to 30 Ω / sq. Is desirably within the range. For the formation of the transparent electrode layer, known means can be arbitrarily adopted, but it is preferable to select the means to be adopted depending on the kind of metal and / or metal oxide constituting the transparent electrode. Usually, a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a sol-gel method, or the like is employed.

【0009】本発明で使用可能な反射性導電基板として
は、(1)導電性を持たない透明又は不透明な基板上に
反射性電極層を積層させた積層体、(2)導電性を持た
ない透明基板の一方の面に透明電極層を、他方の面に反
射層を積層させた積層体、(3)導電性を持たない透明
基板上に反射層を、その反射層上に透明電極層を積層さ
せた積層体、(4)反射板を基板とし、これに透明電極
層を積層させた積層体、および(5)基板自体が光反射
層と電極層の両方の機能を備えた板状体などが例示でき
る。
The reflective conductive substrate usable in the present invention includes (1) a laminate in which a reflective electrode layer is laminated on a transparent or opaque substrate having no conductivity, and (2) a non-conductive material. A laminate in which a transparent electrode layer is laminated on one surface of a transparent substrate and a reflective layer is laminated on the other surface, (3) a reflective layer is formed on a transparent substrate having no conductivity, and a transparent electrode layer is formed on the reflective layer. A stacked body, (4) a stacked body in which a reflective plate is used as a substrate and a transparent electrode layer is stacked thereon, and (5) a plate body in which the substrate itself has both functions of a light reflecting layer and an electrode layer. And the like.

【0010】本発明でいう反射性電極層とは、鏡面を有
し、しかも電極として電気化学的に安定な機能を発揮す
る薄膜を意味する。そのような薄膜としては、例えば、
金、白金、タングステン、タンタル、レニウム、オスミ
ウム、イリジウム、銀、ニッケル、パラジウム等の金属
膜や、白金−パラジウム、白金−ロジウム、ステンレス
等の合金膜が挙げられる。このような鏡面を備えた薄膜
の形成には、任意の方法が採用可能であって、例えば、
真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング
法などを適宜採用することができる。
The reflective electrode layer in the present invention means a thin film having a mirror surface and exhibiting an electrochemically stable function as an electrode. As such a thin film, for example,
Examples include a metal film such as gold, platinum, tungsten, tantalum, rhenium, osmium, iridium, silver, nickel, and palladium, and an alloy film such as platinum-palladium, platinum-rhodium, and stainless steel. Any method can be used to form a thin film having such a mirror surface, for example,
A vacuum evaporation method, an ion plating method, a sputtering method, or the like can be appropriately employed.

【0011】反射性電極層を設ける基板は透明である
か、不透明であるかを問わない。従って、反射性電極層
を設ける基板としては、先に例示した透明基板の他、透
明でない各種のプラスチック、ガラス、木材、石材等が
使用可能である。本発明で言う反射板または反射層と
は、鏡面を有する基板又は薄膜を意味し、これには、例
えば、銀、クロム、アルミニウム、ステンレス、ニッケ
ル−クロム等の板状体又はその薄膜が含まれる。なお、
上記した反射性電極層自体が剛性を備えていれば、基板
の使用を省略することができる。また、本発明において
は、これらの導電基板周辺部の導電層面に、導電層の表
面抵抗値よりも低い抵抗値を有する導電材料からなる電
極層を設けることができる。電極層は、導電基板周辺部
全周にわたって設けることもできるし、部分的に切断さ
れてもかまわない。
[0011] The substrate on which the reflective electrode layer is provided may be transparent or opaque. Therefore, as the substrate on which the reflective electrode layer is provided, various non-transparent plastics, glass, wood, stone, and the like can be used in addition to the transparent substrate exemplified above. The reflection plate or the reflection layer referred to in the present invention means a substrate or a thin film having a mirror surface, and includes, for example, a plate-like body such as silver, chromium, aluminum, stainless steel, nickel-chromium, or a thin film thereof. . In addition,
If the reflective electrode layer itself has rigidity, the use of the substrate can be omitted. Further, in the present invention, an electrode layer made of a conductive material having a lower resistance than the surface resistance of the conductive layer can be provided on the surface of the conductive layer around the conductive substrate. The electrode layer may be provided over the entire periphery of the conductive substrate or may be partially cut.

【0012】電極層としては、導電基板よりも高い導電
性が得られるものであれば特に限定されないが、例え
ば、金、銀、クロム、銅、タングステン等の金属からな
る導電膜や、これらの金属を樹脂に分散させた導電ペー
ストから作製した導電膜などが使用できる。電極層の
幅、膜厚および表面抵抗(抵抗率)は使用する導電基板
の導電層の表面抵抗よりも低いものが得られれば、特に
制限されるものではないが、通常、幅は0.05〜10
0mm、好ましくは0.1〜20mm、さらに好ましく
は0.5〜2mmの範囲にあり、膜厚は0.2〜500
μm、好ましくは0.5〜100μm、さらに好ましく
は1〜20μmの範囲にあり、表面抵抗(抵抗率)は使
用する導電基板の導電層の表面抵抗に対して通常1/5
以下、好ましくは1/10以下であることが望ましい。
The electrode layer is not particularly limited as long as it has higher conductivity than the conductive substrate. For example, a conductive film made of a metal such as gold, silver, chromium, copper, tungsten, or the like, A conductive film formed from a conductive paste in which is dispersed in a resin can be used. The width, thickness and surface resistance (resistivity) of the electrode layer are not particularly limited as long as they are lower than the surface resistance of the conductive layer of the conductive substrate to be used. -10
0 mm, preferably 0.1-20 mm, more preferably 0.5-2 mm, and the film thickness is 0.2-500.
μm, preferably 0.5 to 100 μm, more preferably 1 to 20 μm, and the surface resistance (resistivity) is usually 1/5 of the surface resistance of the conductive layer of the conductive substrate used.
Or less, preferably 1/10 or less.

【0013】電極層の形成には、公知の手段を任意に採
用することができるが、電極を構成する材料により、採
用する手段を選択するのが好ましい。金属からなる導電
膜であれば、通常は、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法、ゾルゲル法等が採用される。
また、金属を樹脂に分散させた導電ペーストから導電膜
を作製する際には、スクリーン印刷、ディスペンサー法
等が採用される。
For forming the electrode layer, known means can be arbitrarily used, but it is preferable to select the means to be used depending on the material constituting the electrode. As long as the conductive film is made of a metal, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a sputtering method, a sol-gel method, or the like is usually employed.
When a conductive film is formed from a conductive paste in which a metal is dispersed in a resin, screen printing, a dispenser method, or the like is employed.

【0014】本発明に係るECミラーのイオン伝導層
は、通常、室温で1×10-7S/cm以上、好ましくは
1×10-6S/cm以上、さらに好ましくは1×10-5
S/cm以上のイオン伝導度を示すことが望ましい。ま
た、イオン伝導層の厚さは、通常、1μm以上、好まし
くは10μm以上であり、3mm以下、好ましくは1m
m以下であることが望ましい。本発明においては上記イ
オン伝導層にスペーサを含有させてもよい。
The ion conductive layer of the EC mirror according to the present invention is usually at least 1 × 10 −7 S / cm at room temperature, preferably at least 1 × 10 −6 S / cm, more preferably 1 × 10 −5 S / cm.
It is desirable to exhibit an ionic conductivity of S / cm or more. The thickness of the ion conductive layer is usually 1 μm or more, preferably 10 μm or more, and 3 mm or less, preferably 1 m or more.
m or less. In the present invention, the ion conductive layer may contain a spacer.

【0015】本発明のイオン伝導層にはエレクトロクロ
ミック化合物が含まれる。エレクトロクロミック化合物
としては、本発明の目的を達成するものであれば特に限
定されないが、通常、アノード性エレクトロミック化合
物、カソード性エレクトロクロミック化合物、アノード
性エレクトロクロミック構造とカソード性エレクトロク
ロミック構造を併有する化合物などが挙げられる。
The ion conductive layer of the present invention contains an electrochromic compound. The electrochromic compound is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, but usually has an anodic electrochromic compound, a cathodic electrochromic compound, and both an anodic electrochromic structure and a cathodic electrochromic structure. And the like.

【0016】カソード性エレクトロクロミック化合物と
しては、電気化学的還元反応により吸収スペクトルの増
大を伴うものであれば特に制限されなく、可逆的な酸化
還元反応を示し、スチリル化合物誘導体、ビオロゲン化
合物誘導体、アントラキノン系化合物誘導体などが挙げ
られる。またアノード性エレクトロクロミック化合物と
しては、電気化学的酸化反応により吸収スペクトルの増
大を伴うものであれば特に制限されなく、可逆的な酸化
還元反応を示し、ピラゾリン系化合物誘導体、メタロセ
ン化合物誘導体、フェニレンジアミン化合物誘導体、フ
ェナジン化合物誘導体、フェノキサジン化合物誘導体、
フェノチアジン化合物誘導体、テトラチアフルバレン誘
導体などが挙げられる。
The cathodic electrochromic compound is not particularly limited as long as it increases the absorption spectrum by an electrochemical reduction reaction. The cathodic electrochromic compound exhibits a reversible oxidation-reduction reaction, and is a styryl compound derivative, a viologen compound derivative, an anthraquinone compound. System compound derivatives and the like. The anodic electrochromic compound is not particularly limited as long as the absorption spectrum is increased by an electrochemical oxidation reaction. The anodic electrochromic compound exhibits a reversible oxidation-reduction reaction, and exhibits pyrazoline-based compound derivatives, metallocene compound derivatives, and phenylenediamine. Compound derivatives, phenazine compound derivatives, phenoxazine compound derivatives,
A phenothiazine compound derivative, a tetrathiafulvalene derivative, and the like are given.

【0017】またこれらのカソード性エレクトロクロミ
ック特性を有する構造とアノード性エレクトロクロミッ
ク特性を有する構造を併有する有機化合物(以下、化合
物(A)という。)も使用できる。このような化合物に
おいて、当該化合物に含まれるカソード性エレクトロク
ロミック構造およびアノード性エレクトロクロミック構
造の数は、一分子当りそれぞれ2個以下であることが好
ましい。換言すれば、化合物(A)は、一分子中に1個
のカソード性エレクトロクロミック構造と、1個のアノ
ード性エレクトロクロミック構造を含有する有機化合
物、一分子中に1個のカソード性エレクトロクロミック
構造と、2個のアノード性エレクトロクロミック構造を
含有する有機化合物、一分子中に2個のカソード性エレ
クトロクロミック構造と、1個のアノード性エレクトロ
クロミック構造を含有する有機化合物及び一分子中に2
個のカソード性エレクトロクロミック構造と、2個のア
ノード性エレクトロクロミック構造を含有する有機化合
物からなる群から選ばれる1種又は2種以上であること
が望ましい。
An organic compound (hereinafter, referred to as compound (A)) having both the structure having the cathodic electrochromic property and the structure having the anodic electrochromic property can be used. In such a compound, the number of the cathodic electrochromic structure and the number of the anodic electrochromic structure contained in the compound are preferably two or less per molecule. In other words, the compound (A) is an organic compound containing one cathodic electrochromic structure and one anodic electrochromic structure in one molecule, and one cathodic electrochromic structure in one molecule. An organic compound containing two anodic electrochromic structures, two cathodic electrochromic structures in one molecule, an organic compound containing one anodic electrochromic structure in one molecule, and two organic compounds in one molecule.
It is desirable that one or two or more selected from the group consisting of two organic compounds containing a cathodic electrochromic structure and two anodic electrochromic structures.

【0018】ここでいうカソード性エレクトロクロミッ
ク構造とは、ビオロゲン化合物誘導体構造、アントラキ
ノン系化合物誘導体構造などのいずれかを意味し、アノ
ード性エレクトロクロミック構造とは、ピラゾリン系化
合物誘導体構造、メタロセン化合物誘導体構造、フェニ
レンジアミン化合物誘導体構造、ベンジジン化合物誘導
体構造、フェナジン化合物誘導体構造、フェノキサジン
化合物誘導体構造、フェノチアジン化合物誘導体構造、
テトラチアフルバレン誘導体構造などのいずれかを意味
する。
The term "cathodic electrochromic structure" as used herein means any of a viologen compound derivative structure and an anthraquinone compound derivative structure, and the anodic electrochromic structure means a pyrazoline compound derivative structure and a metallocene compound derivative structure. , Phenylenediamine compound derivative structure, benzidine compound derivative structure, phenazine compound derivative structure, phenoxazine compound derivative structure, phenothiazine compound derivative structure,
It means any of tetrathiafulvalene derivative structures and the like.

【0019】本発明において、エレクトロクロミック活
性物質として機能する化合物(A)は、好ましくは、下
記の一般式(1)で表されるビピリジニウムイオン対構
造と、下記の一般式(2)又は(3)で表されるメタロ
セン構造を含有する。
In the present invention, the compound (A) which functions as an electrochromic active substance preferably has a bipyridinium ion pair structure represented by the following general formula (1) and the following general formula (2) or (3) ) Is contained.

【0020】[0020]

【化1】 Embedded image

【化2】 Embedded image

【0021】一般式(1)において、A-およびB-は同
一でも異なっていてもよく、それぞれ個別にハロゲンア
ニオン、ClO4 -、BF4 -、PF6 -、CH3COO-、お
よびCH3(C64)SO3 -から選ばれる対アニオンを
示す。ここでいうハロゲンアニオンとしては、F-、C
-、Br-、I-等が挙げられる。
[0021] In the general formula (1), A - and B - it may be the same or different, each independently halogen anion, ClO 4 -, BF 4 - , PF 6 -, CH 3 COO -, and CH 3 (C 6 H 4) SO 3 - represents a counter anion selected from. The halogen anion here, F -, C
l -, Br -, I -, and the like.

【0022】一般式(2)および(3)において、R1
およびR2は炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル
基およびアリール基から選ばれる炭化水素基を示す。ア
ルキル基としてはメチル基、エチル基、i−プロピル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n
−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基など
が例示され、アリール基としてはフェニル基が代表例と
して挙げられる。これらの中でも、特に、メチル基、エ
チル基、プロピル基が好ましい。なお、R1またはR2
シクロペンタジエニル環と結合し、環を形成してもよい
し、互いに異なるシクロペンタジエニル環を架橋する基
を形成してもよい。
In the general formulas (2) and (3), R 1
And R 2 represent a hydrocarbon group selected from an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group and an aryl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, and n
-Pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group and the like are exemplified, and as the aryl group, a phenyl group is exemplified. Among these, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group are particularly preferable. Note that R 1 or R 2 may be bonded to a cyclopentadienyl ring to form a ring, or may form a group that bridges different cyclopentadienyl rings.

【0023】mは0≦m≦4の範囲の整数を表し、nは
0≦n≦4の範囲の整数を表す。mおよびnは0または
1であることが好ましく、共に0であることが特に望ま
しい。MeはCr、Co、Fe、Mg、Ni、Os、R
u、V、X−Hf−Y、X−Mo−Y、X−Nb−Y、
X−Ti−Y、X−V−YまたはX−Zr−Yを示し、
好ましくはFeである。なお、ここでいうXおよびYは
水素、ハロゲンまたは炭素数1〜12のアルキル基を表
し、互いに同一でも異なっていてもよい。
M represents an integer in the range of 0 ≦ m ≦ 4, and n represents an integer in the range of 0 ≦ n ≦ 4. m and n are preferably 0 or 1, and particularly preferably 0. Me is Cr, Co, Fe, Mg, Ni, Os, R
u, V, X-Hf-Y, X-Mo-Y, X-Nb-Y,
X-Ti-Y, X-V-Y or X-Zr-Y,
Preferably, it is Fe. Here, X and Y represent hydrogen, halogen or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different from each other.

【0024】化合物(A)として好ましい有機化合物に
は、下記の一般式(4)〜(7)で表される化合物が含
まれる。
Preferred organic compounds as the compound (A) include compounds represented by the following general formulas (4) to (7).

【0025】[0025]

【化3】 Embedded image

【0026】一般式(4)〜(7)において、R1
2、m、n、Me、A-およびB-は、前記一般式
(1)〜(3)における定義と同一である。R3および
4は同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜20、
好ましくは1〜10の2価の炭化水素残基を示す。炭化
水素残基の好適な具体例としてはアルキレン等の炭化水
素基の他、エステル、エーテル、アミド、チオエーテ
ル、アミン、ウレタン、シリルなどが挙げられる。
In the general formulas (4) to (7), R 1 ,
R 2 , m, n, Me, A and B are the same as defined in the general formulas (1) to (3). R 3 and R 4 may be the same or different, and have 1 to 20 carbon atoms;
It preferably represents 1 to 10 divalent hydrocarbon residues. Preferable specific examples of the hydrocarbon residue include hydrocarbon groups such as alkylene, and esters, ethers, amides, thioethers, amines, urethanes, and silyls.

【0027】エステルとしては一般式−R−COO−R
−または−R−OCO−R−(Rは個別に炭素数1〜8
のアルキレンを示す。)で表されるものが挙げられ、具
体的には−C48−COO−C24−、−C48−OC
O−C24−、−C48−COO−C48−、−C48
−OCO−C48−が挙げられる。エーテルとしては一
般式−R−O−R−(Rは個別に炭素数1〜10のアル
キレンを示す。)で表されるものが挙げられ、具体的に
は−C48−O−C24−、−C48−O−C48−が
挙げられる。
The ester is represented by the general formula -R-COO-R
-Or -R-OCO-R- (R independently represents 1 to 8 carbon atoms.
Represents an alkylene. ) Those represented by at can be mentioned, specifically, -C 4 H 8 -COO-C 2 H 4 -, - C 4 H 8 -OC
O-C 2 H 4 -, - C 4 H 8 -COO-C 4 H 8 -, - C 4 H 8
—OCO—C 4 H 8 —. General The ether type -R-O-R- (R is. To individually an alkylene having 1 to 10 carbon atoms) include those represented by, in particular -C 4 H 8 -O-C 2 H 4 -, - C 4 H 8 -O-C 4 H 8 - and the like.

【0028】アミドとしては一般式−R−CONH−R
−または−R−NHCO−R−(Rは個別に炭素数1〜
8のアルキレンを示す。)で表されるものが挙げられ、
具体的には−C48−CONH−C24−、−C48
NHCO−C24−、−C48−CONH−C48−、
−C48−NHCO−C48−が挙げられる。チオエー
テルとしては一般式−R−S−R−(Rは個別に炭素数
1〜10のアルキレンを示す。)で表されるものが挙げ
られ、具体的には−C48−S−C24−、−C48
S−C48−が挙げられる。
The amide is represented by the general formula -R-CONH-R
-Or -R-NHCO-R- (R independently represents 1 to
And 8 represents an alkylene. ),
Specifically -C 4 H 8 -CONH-C 2 H 4 -, - C 4 H 8 -
NHCO-C 2 H 4 -, - C 4 H 8 -CONH-C 4 H 8 -,
—C 4 H 8 —NHCO—C 4 H 8 —. The thioether formula -R-S-R- (R is. To individually an alkylene having 1 to 10 carbon atoms) include those represented by, in particular -C 4 H 8 -S-C 2 H 4 -, - C 4 H 8 -
S-C 4 H 8 - and the like.

【0029】アミンとしては一般式−R−NH−R−
(Rは個別に炭素数1〜10のアルキレンを示す。)で
表されるもの、一般式−R−NH−A−基(Rは個別に
炭素数1〜10のアルキレン、Aは炭素数6〜12のア
リーレン基や置換アリーレン基を各々示す。)が挙げら
れ、具体的には−C48−NH−C24−、−C48
NH−C48−が挙げられる。ウレタンとしては一般式
−R−OCONH−R−または−R−NHCOO−R−
(Rは個別に炭素数1〜8のアルキレンを示す。)で表
されるものが挙げられ、具体的には−C48−OCON
H−C24−、−C48−NHCOO−C24−、−C
48−OCONH−C48−、−C48−NHCOO−
48−が挙げられる。
The amine is represented by the general formula -R-NH-R-
(R independently represents alkylene having 1 to 10 carbon atoms), a general formula -R-NH-A- group (R represents alkylene having 1 to 10 carbon atoms, A represents 6 carbon atoms) . showing respectively 12 arylene groups or substituted arylene group) can be mentioned, specifically, -C 4 H 8 -NH-C 2 H 4 -, - C 4 H 8 -
NH-C 4 H 8 - and the like. As the urethane, a compound represented by the general formula -R-OCONH-R- or -R-NHCOO-R-
(R is. To individually an alkylene having 1 to 8 carbon atoms) include those represented by, specifically, -C 4 H 8 -OCON
H-C 2 H 4 -, - C 4 H 8 -NHCOO-C 2 H 4 -, - C
4 H 8 -OCONH-C 4 H 8 -, - C 4 H 8 -NHCOO-
C 4 H 8 - and the like.

【0030】シリルとしては一般式−R−Si(R’)
2−R−(Rは個別に炭素数1〜8のアルキレン、R’
はメチル基またはエチル基を示す。)で表されるものが
挙げられ、具体的には−C48−Si(CH32−C2
4−、−C48−Si(CH 32−C48−、−C4
8−Si(C252−C24−、−C48−Si(C2
52−C48−が挙げられる。
As the silyl, a compound represented by the general formula -R-Si (R ')
Two-R- (R is independently alkylene having 1 to 8 carbons, R '
Represents a methyl group or an ethyl group. )
And specifically, -CFourH8-Si (CHThree)Two-CTwo
HFour-, -CFourH8-Si (CH Three)Two-CFourH8-, -CFourH
8-Si (CTwoHFive)Two-CTwoHFour-, -CFourH8-Si (CTwo
HFive)Two-CFourH8-.

【0031】R5は炭素数1〜20、好ましくは1〜1
0のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ア
リール基およびアラルキル基に例示される炭化水素基、
炭素数4〜20、好ましくは4〜10の複素環芳香族
基、該炭化水素基または複素環芳香族基の水素の一部が
置換基により置換された置換炭化水素残基または置換複
素環芳香族置換基、炭素数4〜20、好ましくは4〜1
0の複素環芳香族基を示す。
R 5 has 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 1 carbon atoms.
0 hydrocarbon groups exemplified by an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aryl group and an aralkyl group;
A heterocyclic aromatic group having 4 to 20 carbon atoms, preferably 4 to 10 carbon atoms, a substituted hydrocarbon residue or a substituted heterocyclic aromatic group in which a part of hydrogen of the hydrocarbon group or the heterocyclic aromatic group is substituted by a substituent; Group substituent, 4-20 carbon atoms, preferably 4-1
And 0 represents a heterocyclic aromatic group.

【0032】アルキル基としてはメチル基、エチル基、
i−プロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、t−
ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプ
チル基が例示され、シクロアルキル基としてはシクロヘ
キシル基などが例示され、アリール基としてはフェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基な
どが例示され、アルケニル基としては、ビニル基、アリ
ル基が例示され、アラルキル基としては、ベンジル基、
フェニルプロピル基が例示され、複素環芳香族基として
は、2−ピリジル基、4−ピリジル基、2−ピリミジル
基、イソキノリン基が例示される。
As the alkyl group, a methyl group, an ethyl group,
i-propyl group, n-propyl group, n-butyl group, t-
A butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group are exemplified, a cycloalkyl group is exemplified by a cyclohexyl group, and an aryl group is a phenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group. And the like. Examples of the alkenyl group include a vinyl group and an allyl group.Examples of the aralkyl group include a benzyl group and
Examples include a phenylpropyl group, and examples of the heterocyclic aromatic group include a 2-pyridyl group, a 4-pyridyl group, a 2-pyrimidyl group, and an isoquinoline group.

【0033】置換炭化水素残基または置換複素環芳香族
基における置換基としては、炭素数1〜10、好ましく
は1〜5のアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
シル基、ハロゲン、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ
基、アミノ基等が挙げられ、アルコキシ基としては、メ
トキシ基、エトキシ基等が例示され、アルコキシカルボ
ニル基としてはメトキシカルボニル基が、アシル基とし
てはアセチル基などが、ハロゲンとしてはCl、Fなど
が例示され、置換炭化水残基としてはメトキシフェニル
基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、メトキシ
クロロフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニ
ル基、メトキシカルボニルフェニル基、メトキシナフチ
ル基などが代表例として挙げられる。
Examples of the substituent in the substituted hydrocarbon residue or the substituted heterocyclic aromatic group include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, a halogen, a cyano group and a hydroxy group. , A nitro group, an amino group, and the like.Examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group.The alkoxycarbonyl group is a methoxycarbonyl group, the acyl group is an acetyl group, and the halogen is Cl. F and the like, and examples of the substituted hydrocarbon residue include a methoxyphenyl group, a chlorophenyl group, a fluorophenyl group, a methoxychlorophenyl group, a cyanophenyl group, an acetylphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, and a methoxynaphthyl group. Can be

【0034】一般式(4)〜(7)で表される化合物の
具体例を例示すれば、次の通りである。
Specific examples of the compounds represented by formulas (4) to (7) are as follows.

【化4】 Embedded image

【化5】 Embedded image

【化6】 Embedded image

【化7】 Embedded image

【化8】 Embedded image

【化9】 Embedded image

【0035】イオン伝導層におけるこれらのエレクトロ
クロミック化合物の濃度は、特には制限されないが、通
常、イオン伝導層中に1mM以上、好ましくは5mM以
上、さらに好ましくは10mM以上であり、300mM
以下、好ましくは200mM以下、さらに好ましくは1
00mM以下の値にある。
The concentration of these electrochromic compounds in the ion conductive layer is not particularly limited, but is usually 1 mM or more, preferably 5 mM or more, more preferably 10 mM or more, and 300 mM or more in the ion conductive layer.
Or less, preferably 200 mM or less, more preferably 1 mM or less.
It is less than 00 mM.

【0036】また、本発明におけるイオン伝導層は、液
系イオン伝導性物質、ゲル化液系イオン伝導性物質ある
いは固体系イオン伝導性物質のいずれかを用いて形成す
ることができるが、特に固体系イオン伝導性物質を使用
することが望ましく、これによって本発明のECミラー
を実用性に富んだ種々の固体型ECミラーにすることが
できる。
The ion conductive layer in the present invention can be formed using any of a liquid ion conductive substance, a gelled liquid ion conductive substance and a solid ion conductive substance. It is desirable to use a system-based ion conductive material, whereby the EC mirror of the present invention can be made into various solid-state EC mirrors having high practicality.

【0037】液系イオン伝導性物質 液系イオン導電性物質は、塩類、酸類、アルカリ類等の
支持電解質を溶媒に溶解して調製される。これらの支持
電解質は、エレクトロクロミック活性物質がイオン性で
ある場合には使用しなくてもかまわない。溶媒として
は、電気化学セルや電池に一般に使用される溶媒が、い
ずれも使用可能である。具体的には、無水酢酸、メタノ
ール、エタノール、テトラヒドロフラン、プロピレンカ
ーボネート、ニトロメタン、アセトニトリル、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホ
スホアミド、エチレンカーボネート、ジメトキシエタ
ン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、スルホ
ラン、ジメトキシエタン、プロピオンニトリル、グルタ
ロニトリル、アジポニトリル、メトキシアセトニトリ
ル、ジメチルアセトアミド、メチルピロリジノン、ジメ
チルスルホキシド、ジオキソラン、スルホラン、トリメ
チルホスフェイト、ポリエチレングリコール等が使用可
能であって、特に、プロピレンカーボネート、エチレン
カーボネート、ジメチルスルホキシド、ジメトキシエタ
ン、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、スルホラ
ン、ジオキソラン、ジメチルホルムアミド、ジメトキシ
エタン、テトラヒドロフラン、アジポニトリル、メトキ
シアセトニトリル、ジメチルアセトアミド、メチルピロ
リジノン、ジメチルスルホキシド、ジオキソラン、スル
ホラン、トリメチルホスフェイト、ポリエチレングリコ
ール等が好ましい。溶媒はその1種を単独で使用でき、
また2種以上を混合しても使用できる。
Liquid-based ion-conductive substance The liquid-based ion-conductive substance is prepared by dissolving a supporting electrolyte such as salts, acids and alkalis in a solvent. These supporting electrolytes need not be used if the electrochromic active is ionic. As the solvent, any solvent commonly used in electrochemical cells and batteries can be used. Specifically, acetic anhydride, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, propylene carbonate, nitromethane, acetonitrile, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphamide, ethylene carbonate, dimethoxyethane, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, sulfolane, dimethoxy Ethane, propionitrile, glutaronitrile, adiponitrile, methoxyacetonitrile, dimethylacetamide, methylpyrrolidinone, dimethylsulfoxide, dioxolane, sulfolane, trimethylphosphate, polyethylene glycol and the like can be used, especially propylene carbonate, ethylene carbonate, dimethyl Sulfoxide, dimethoxyethane, acetonitrile, γ-butyrolactone, sulf Orchids, dioxolane, dimethylformamide, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, adiponitrile, methoxyacetonitrile, dimethylacetamide, methylpyrrolidinone, dimethyl sulfoxide, dioxolane, sulfolane, trimethyl phosphate, polyethylene glycol, and the like are preferable. One of the solvents can be used alone,
Also, a mixture of two or more types can be used.

【0038】溶媒の使用量は特に制限はないが、通常、
溶媒はイオン伝導層の20重量%以上、好ましくは50
重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上を占め、
かつ98重量%以下、好ましくは95重量%以下、さら
に好ましくは90重量%以下の値にある。
The amount of the solvent used is not particularly limited.
The solvent is at least 20% by weight of the ion conductive layer, preferably at least 50%.
Account for at least 70% by weight, more preferably at least 70% by weight,
And at most 98% by weight, preferably at most 95% by weight, more preferably at most 90% by weight.

【0039】支持電解質としては、電気化学の分野又は
電池の分野で通常使用される塩類、酸類、アルカリ類が
使用できる。塩類としては、特に制限はなく、例えば、
アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン
塩;4級アンモニウム塩;環状4級アンモニウム塩など
が挙げられる。塩類の具体例としてはLiClO4、L
iSCN、LiBF4、LiAsF6、LiCF3SO3
LiPF6、LiI、NaI、NaSCN、NaCl
4、NaBF4、NaAsF6、KSCN、KCl等の
Li、Na、Kのアルカリ金属塩;(CH34NB
4、(C254NBF4、(n−C494NBF4
(C254NBr、(C254NClO4、(n−C4
94NClO4等の4級アンモニウム塩またはこれら
の混合物が好適なものとして挙げられる。
As the supporting electrolyte, salts, acids and alkalis usually used in the field of electrochemistry or the field of batteries can be used. The salts are not particularly limited, for example,
Inorganic ion salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts; quaternary ammonium salts; cyclic quaternary ammonium salts and the like. Specific examples of salts include LiClO 4 , L
iSCN, LiBF 4 , LiAsF 6 , LiCF 3 SO 3 ,
LiPF 6 , LiI, NaI, NaSCN, NaCl
Alkali metal salts of Li, Na, K such as O 4 , NaBF 4 , NaAsF 6 , KSCN, KCl; (CH 3 ) 4 NB
F 4, (C 2 H 5 ) 4 NBF 4, (n-C 4 H 9) 4 NBF 4,
(C 2 H 5 ) 4 NBr, (C 2 H 5 ) 4 NClO 4 , (n-C 4
Quaternary ammonium salts such as H 9 ) 4 NClO 4 and mixtures thereof are preferred.

【0040】酸類としても特に限定されず、無機酸、有
機酸などが、具体的には硫酸、塩酸、リン酸類、スルホ
ン酸類、カルボン酸類などが使用できる。アルカリ類と
しても特に限定されず、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウムなどがいずれも使用可能である。
支持電解質の使用量は任意であるが、一般的には、支持
電解質はイオン伝導層中に0.01M以上、好ましくは
0.1M以上、さらに好ましくは0.5M以上存在し、
その上限値は20M、好ましくは10M、さらに好まし
くは5Mの値にある。
The acids are not particularly limited, and inorganic acids, organic acids and the like, specifically, sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acids, sulfonic acids, carboxylic acids and the like can be used. The alkalis are not particularly limited, and any of sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like can be used.
The use amount of the supporting electrolyte is optional, but generally, the supporting electrolyte is present in the ion conductive layer in an amount of 0.01 M or more, preferably 0.1 M or more, more preferably 0.5 M or more,
Its upper limit is at a value of 20M, preferably 10M, more preferably 5M.

【0041】ゲル化液系イオン伝導性物質 ゲル化液系イオン伝導性物質は、上記した液系イオン伝
導性物質を増粘又はゲル化させた物質を意味し、このも
のは液系イオン伝導性物質にさらにポリマー又はゲル化
剤を配合して調製される。これに使用されるポリマー
は、特に限定されず、例えば、ポリアクリロニトリル、
カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリエ
チレンオキサイド、ポリウレタン、ポリアクリレート、
ポリメタクリレート、ポリアミド、ポリアクリルアミ
ド、セルロース、ポリエステル、ポリプロピレンオキサ
イド、ナフィオンなどが使用できる。ゲル化剤も特には
限定されず、オキシエチレンメタクリレート、オキシエ
チレンアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリル
アミド、寒天などが使用できる。
Gelled liquid-based ion-conductive substance The gelled liquid-based ion-conductive substance means a substance obtained by thickening or gelling the above-mentioned liquid-based ion-conductive substance. It is prepared by further blending a polymer or a gelling agent with the substance. The polymer used for this is not particularly limited, for example, polyacrylonitrile,
Carboxymethylcellulose, polyvinyl chloride, polyethylene oxide, polyurethane, polyacrylate,
Polymethacrylate, polyamide, polyacrylamide, cellulose, polyester, polypropylene oxide, Nafion and the like can be used. The gelling agent is not particularly limited, and oxyethylene methacrylate, oxyethylene acrylate, urethane acrylate, acrylamide, agar, and the like can be used.

【0042】固体系イオン伝導性物質 固体系イオン伝導性物質は、室温で固体であり、かつイ
オン伝導性を有する物質を指し、これには、ポリエチレ
ンオキサイド、オキシエチレンメタクリレートのポリマ
ー、ナフィオン、ポリスチレンスルホン酸、Li3N、
Na-β-Al2 3、Sn(HPO42・H2O等を使用
することができる。このほか、オキシアルキレンメタク
リレート系化合物、オキシアルキレンアクリレート系化
合物またはウレタンアクリレート系化合物を重合するこ
とによって得られる高分子化合物に、支持電解質を分散
させた高分子固体電解質が使用可能である。
[0042]Solid ion conductive material Solid ion conductive materials are solid at room temperature and
A substance that has on-conductivity, including polyethylene
Oxide, oxyethylene methacrylate polymer
ー, Nafion, polystyrene sulfonic acid, LiThreeN,
Na-β-AlTwoO Three, Sn (HPOFour)Two・ HTwoUse O etc.
can do. In addition, oxyalkylene meth
Relate compounds, oxyalkylene acrylate compounds
Compound or urethane acrylate compound
The supporting electrolyte is dispersed in the polymer compound obtained by
The solid polymer electrolyte thus obtained can be used.

【0043】本発明が推奨する高分子固体電解質の第1
の例は、下記の一般式(8)で表されるウレタンアクリ
レートと、上記した溶媒及び支持電解質を含有する組成
物を、固化させて得られる高分子固体電解質である。な
お、高分子固体電解質に関していう固化とは、重合性ま
たは架橋性成分が重合(重縮合)反応又は架橋反応によ
って硬化し、組成物全体が常温で実質的に流動しない状
態になることを指す。この固化によって重合性または架
橋性成分は3次元網目構造(ネットワーク)を形成す
る。
The first of the solid polymer electrolytes recommended by the present invention
Is a solid polymer electrolyte obtained by solidifying a composition containing a urethane acrylate represented by the following general formula (8) and the above-mentioned solvent and supporting electrolyte. The solidification in the context of the polymer solid electrolyte means that the polymerizable or crosslinkable component is cured by a polymerization (polycondensation) reaction or a cross-linking reaction, and the entire composition does not substantially flow at room temperature. By this solidification, the polymerizable or crosslinkable component forms a three-dimensional network structure (network).

【0044】[0044]

【化10】 Embedded image

【0045】(式中、R6およびR7は同一または異なる
基であって、一般式(9)〜(11)で表される基から
選ばれる基を示す。R8およびR9は同一または異なる基
であって、炭素数1〜20、好ましくは2〜12の2価
炭化水素残基を示す。Yはポリエーテル単位、ポリエス
テル単位、ポリカーボネート単位またはこれらの混合単
位を示す。またaは1〜100、好ましくは1〜50、
さらに好ましくは1〜20の範囲の整数である。)
(Wherein, R 6 and R 7 are the same or different groups and represent groups selected from the groups represented by formulas (9) to (11). R 8 and R 9 are the same or different. It is a different group and represents a divalent hydrocarbon residue having 1 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 12. Y represents a polyether unit, a polyester unit, a polycarbonate unit or a mixed unit thereof, and a represents 1 -100, preferably 1-50,
More preferably, it is an integer in the range of 1 to 20. )

【0046】[0046]

【化11】 Embedded image

【0047】一般式(9)〜(11)において、R10
12は同一または異なる基であって、水素原子または炭
素数1〜3のアルキル基を示す。またR13は炭素数1〜
20、好ましくは炭素数2〜8の2〜4価の有機残基を
示す。この有機残基としては、具体的には、アルキルト
リイル基、アルキルテトライル基、下記の一般式(1
2)で示されるアルキレン基等の炭化水素残基などが挙
げられる。
In the general formulas (9) to (11), R 10 to
R 12 is the same or different and represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. R 13 has 1 to 1 carbon atoms.
20, preferably a divalent to tetravalent organic residue having 2 to 8 carbon atoms. Specific examples of the organic residue include an alkyltriyl group, an alkyltetrayl group, and the following general formula (1)
And hydrocarbon residues such as the alkylene group represented by 2).

【0048】[0048]

【化12】 Embedded image

【0049】一般式(12)において、R14は炭素数1
〜3のアルキル基または水素を示し、bは0〜6の整数
である。bが2以上の場合、R14は同一でも異なっても
良い。一般式(12)中の水素原子は、その一部が炭素
数1〜6、好ましくは1〜3のアルコキシ基、炭素数6
〜12のアリールオキシ基などの含酸素炭化水素基によ
り置換されていてもよい。一般式(9)〜(11)にお
けるR13の具体例としては、メチレン基、テトラメチレ
ン基、1−メチル−エチレン基、1,2,3−プロパン
トリイル基、ネオペンタントリイル基等を好ましく挙げ
ることができる。
In the general formula (12), R 14 has 1 carbon atom
Represents an alkyl group of 3 to 3 or hydrogen, and b is an integer of 0 to 6. When b is 2 or more, R 14 may be the same or different. Part of the hydrogen atom in the general formula (12) is an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, and 6 carbon atoms.
To 12 aryloxy groups and the like. Specific examples of R 13 in the general formulas (9) to (11) include a methylene group, a tetramethylene group, a 1-methyl-ethylene group, a 1,2,3-propanetriyl group, a neopentanetriyl group, and the like. Preferred examples are given.

【0050】一般式(8)のR8及びR9で示される2価
の炭化水素残基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭
化水素基、脂環式炭化水素基などが挙げられるが、脂肪
族炭化水素基としては、先の一般式(12)で表される
アルキレン基等を挙げることができる。また、2価の芳
香族炭化水素基および2価の脂環式炭化水素基として
は、下記一般式(13)〜(15)で表される炭化水素
基等が挙げられる。
Examples of the divalent hydrocarbon residue represented by R 8 and R 9 in the general formula (8) include an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group. Examples of the aliphatic hydrocarbon group include an alkylene group represented by the general formula (12). Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group and the divalent alicyclic hydrocarbon group include hydrocarbon groups represented by the following general formulas (13) to (15).

【0051】[0051]

【化13】 Embedded image

【0052】一般式(13)〜(15)において、R15
及びR16は同一または異なる基であって、フェニレン
基、置換フェニレン基(アルキル置換フェニレン基
等)、シクロアルキレン基、置換シクロアルキレン基
(アルキル置換シクロアルキレン基等)を示す。R17
20は同一または異なる基であって、水素原子または炭
素数1〜3のアルキル基を示す。また、cは1〜5の整
数である。一般式(8)におけるR8およびR9の具体例
としては、以下に示す2価の基が挙げられる。
In the general formulas (13) to (15), R 15
And R 16 are the same or different groups and represent a phenylene group, a substituted phenylene group (such as an alkyl-substituted phenylene group), a cycloalkylene group, or a substituted cycloalkylene group (such as an alkyl-substituted cycloalkylene group). R 17 ~
R 20 is the same or different and represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. C is an integer of 1 to 5. Specific examples of R 8 and R 9 in the general formula (8) include the following divalent groups.

【0053】[0053]

【化14】 Embedded image

【0054】一般式(8)におけるYはポリエーテル単
位、ポリエステル単位およびポリカーボネート単位また
はこれらの混合単位を示すが、このポリエーテル単位、
ポリエステル単位、ポリカーボネート単位及びこれらの
混合単位としては、それぞれ下記の一般式(a)〜
(d)で示される単位を挙げることができる。
In the general formula (8), Y represents a polyether unit, a polyester unit, a polycarbonate unit or a mixed unit thereof.
As the polyester unit, the polycarbonate unit, and the mixed unit thereof, the following general formulas (a) to
The unit shown by (d) can be mentioned.

【0055】[0055]

【化15】 Embedded image

【0056】一般式(a)〜(d)において、R21〜R
26は同一または異なる基であって、炭素数1〜20、好
ましくは2〜12の2価の炭化水素残基を示す。R21
26は、直鎖または分岐のアルキレン基などが好まし
い。具体的には、R23はメチレン基、エチレン基、トリ
メチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘ
キサメチレン基、プロピレン基等であることが好まし
く、R21〜R22およびR24〜R26はエチレン基、プロピ
レン基等であることが好ましい。c’は2〜300、好
ましくは10〜200の整数である。d’は1〜30
0、好ましくは2〜200の整数、e’は1〜200、
好ましくは2〜100の整数、e’’は1〜200、好
ましくは2〜100の整数、f’は1〜300、好まし
くは10〜200の整数である。
In the general formulas (a) to (d), R 21 to R
26 is the same or different and represents a divalent hydrocarbon residue having 1 to 20, preferably 2 to 12 carbon atoms. R 21 ~
R 26 is preferably a linear or branched alkylene group. Specifically, R 23 is preferably a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a propylene group or the like, and R 21 to R 22 and R 24 to R 26 are preferably It is preferably an ethylene group, a propylene group or the like. c ′ is an integer of 2 to 300, preferably 10 to 200. d 'is 1 to 30
0, preferably an integer of 2 to 200, e ′ is 1 to 200,
Preferably, e is an integer of 2 to 100, e '' is an integer of 1 to 200, preferably 2 to 100, and f 'is an integer of 1 to 300, preferably 10 to 200.

【0057】一般式(a)〜(d)において、各単位は
同一でも、異なる単位の共重合でも良い。即ち、複数の
21〜R26が存在する場合、R21同志、R22同志、R23
同志、R24同志、R25同志およびR26同志は同一でも異
なっても良い。
In the general formulas (a) to (d), each unit may be the same or a copolymer of different units. That is, when a plurality of R 21 to R 26 are present, R 21 comrades, R 22 comrades, R 23
Comrades, R 24 comrades, R 25 comrades and R 26 each other may be the same or different.

【0058】一般式(8)で表されるウレタンアクリレ
ートの分子量は、通常、重量平均分子量で2,500〜
30,000、好ましくは3,000〜20,000の
範囲にあり、1分子中の重合官能基数は、好ましくは2
〜6、さらに好ましくは2〜4の範囲にある。一般式
(8)で表されるウレタンアクリレートは、公知の方法
により容易に製造することができ、その製法は特に限定
されるものではない。
The urethane acrylate represented by the general formula (8) generally has a molecular weight of 2,500 to
30,000, preferably in the range of 3,000 to 20,000, and the number of polymerizable functional groups in one molecule is preferably 2
-6, more preferably 2-4. The urethane acrylate represented by the general formula (8) can be easily produced by a known method, and the production method is not particularly limited.

【0059】一般式(8)で表されるウレタンアクリレ
ートを含有する高分子固体電解質は、このウレタンアク
リレートに、前記液系イオン伝導性物質で説明した溶媒
と支持電解質を混合したものを前駆体組成物とし、係る
組成物を固化することにより調製されるが、溶媒の添加
量はウレタンアクリレート100質量部当たり、通常1
00〜1200質量部、好ましくは200〜900質量
部の範囲で選ばれる。溶媒の添加量が少なすぎると、最
終的に得られる高分子固体電解質のイオン伝導度が不足
し、多すぎると固体電解質の機械的強度が低下する恐れ
がある。支持電解質の添加量は溶媒添加量の0.1〜3
0質量%、好ましくは1〜20質量%の範囲で選ばれ
る。ウレタンアクリレートを含有する高分子固体電解質
には、必要に応じて架橋剤や重合開始剤を添加すること
ができる。
The polymer solid electrolyte containing the urethane acrylate represented by the general formula (8) is obtained by mixing the urethane acrylate with the solvent and the supporting electrolyte described in the liquid ion-conductive material. The composition is prepared by solidifying the composition, and the amount of the solvent is usually 1 to 100 parts by mass of urethane acrylate.
The amount is selected from the range of 00 to 1200 parts by mass, preferably 200 to 900 parts by mass. If the amount of the solvent is too small, the ionic conductivity of the polymer solid electrolyte finally obtained is insufficient, and if it is too large, the mechanical strength of the solid electrolyte may be reduced. The amount of the supporting electrolyte added is 0.1 to 3 times the amount of the solvent added.
0 mass%, preferably in the range of 1 to 20 mass%. A crosslinking agent or a polymerization initiator can be added to the polymer solid electrolyte containing urethane acrylate as needed.

【0060】本発明が推奨する高分子固体電解質の第2
の例は、アクリロイル変性またはメタクリロイル変性さ
れたポリアルキレンオキシド(以下、この両者を変性ポ
リアルキレンオキシドと総称する。)と、溶媒と、支持
電解質を含有する組成物を固化させて得られる高分子固
体電解質である。
The second preferred solid polymer electrolyte recommended by the present invention
Is an example of a polymer solid obtained by solidifying a composition containing an acryloyl-modified or methacryloyl-modified polyalkylene oxide (hereinafter, both are collectively referred to as a modified polyalkylene oxide), a solvent, and a supporting electrolyte. Electrolyte.

【0061】変性ポリアルキレンオキシドには、単官能
変性ポリアルキレンオキシド、2官能変性ポリアルキレ
ンオキシド、3官能以上の多官能変性ポリアルキレンオ
キシドが包含される。これらの各変性ポリアルキレンオ
キシドは単独で用いても混合して用いてもよく、特に、
単官能変性ポリアルキレンオキシドを必須とし、これに
2官能変性ポリアルキレンオキシドおよび/または多官
能変性ポリアルキレンオキシドを混合使用することが好
ましい。とりわけ、単官能変性ポリアルキレンオキシド
と2官能変性ポリアルキレンオキシドを混合して使用す
ることが好ましい。混合使用する場合の混合比率は任意
に選ぶことができるが、単官能変性ポリアルキレンオキ
シド100質量部に対して、2官能変性ポリアルキレン
オキシドおよび/または多官能変性ポリアルキレンオキ
シドを、合計量で0.1〜20質量部、好ましくは0.
5〜10質量部の範囲で選ばれる。
The modified polyalkylene oxide includes a monofunctional modified polyalkylene oxide, a bifunctional modified polyalkylene oxide, and a trifunctional or higher polyfunctional modified polyalkylene oxide. Each of these modified polyalkylene oxides may be used alone or in combination, and in particular,
It is essential to use a monofunctional modified polyalkylene oxide, and it is preferable to mix and use a bifunctional modified polyalkylene oxide and / or a polyfunctional modified polyalkylene oxide. In particular, it is preferable to use a mixture of a monofunctional modified polyalkylene oxide and a bifunctional modified polyalkylene oxide. The mixing ratio in the case of mixing and using can be arbitrarily selected, but the total amount of the bifunctional modified polyalkylene oxide and / or the polyfunctional modified polyalkylene oxide is 0 with respect to 100 parts by mass of the monofunctional modified polyalkylene oxide. 0.1 to 20 parts by mass, preferably 0.1 to 20 parts by mass.
It is selected in the range of 5 to 10 parts by mass.

【0062】単官能変性ポリアルキレンオキシドは下記
の一般式(16)で表される。
The monofunctional modified polyalkylene oxide is represented by the following general formula (16).

【化16】 (式中、R27、R28、R29およびR30は、それぞれ個別
に水素または1〜5の炭素原子を有するアルキル基を示
し、g’は1以上の整数である。)
Embedded image (In the formula, R 27 , R 28 , R 29 and R 30 each independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and g ′ is an integer of 1 or more.)

【0063】一般式(16)において、R27、R28、R
29およびR30のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、i−プロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、
t−ブチル基、n−ペンチル基等が挙げられ、互いに同
一でも異なってもよく、特にR27は水素またはメチル
基、R28は水素またはメチル基、R29は水素またはメチ
ル基、R30は水素、メチル基またはエチル基であること
がそれぞれ好ましい。一般式(16)において、g’は
1以上の整数、通常1≦g’≦100、好ましくは2≦
g’≦50、さらに好ましくは2≦g’≦30の範囲の
整数である。
In the general formula (16), R 27 , R 28 , R
Examples of the alkyl group of 29 and R 30 include a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, an n-propyl group, an n-butyl group,
t-butyl group, n-pentyl group and the like, which may be the same or different, and in particular, R 27 is hydrogen or methyl group, R 28 is hydrogen or methyl group, R 29 is hydrogen or methyl group, R 30 is It is preferably hydrogen, methyl or ethyl, respectively. In the general formula (16), g ′ is an integer of 1 or more, usually 1 ≦ g ′ ≦ 100, preferably 2 ≦ g ′.
It is an integer in the range of g ′ ≦ 50, more preferably 2 ≦ g ′ ≦ 30.

【0064】一般式(16)で表される化合物の具体例
としては、オキシアルキレンユニットを1〜100、好
ましくは2〜50、さらに好ましくは2〜20の範囲で
持つメトキシポリエチレングリコールメタクリレート、
メトキシポリプロピレングリコールメタクリレート、エ
トキシポリエチレングリコールメタクリレート、エトキ
シポリプロピレングリコールメタクリレート、メトキシ
ポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリプ
ロピレングリコールアクリレート、エトキシポリエチレ
ングリコールアクリレート、エトキシポリプロピレング
リコールアクリレート、またはこれらの混合物等を挙げ
ることができ、これらの中でも特にメトキシポリエチレ
ングリコールメタクリレートおよびメトキシポリエチレ
ングリコールアクリレートが好ましく用いられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (16) include methoxypolyethylene glycol methacrylate having an oxyalkylene unit in the range of 1 to 100, preferably 2 to 50, more preferably 2 to 20;
Methoxy polypropylene glycol methacrylate, ethoxy polyethylene glycol methacrylate, ethoxy polypropylene glycol methacrylate, methoxy polyethylene glycol acrylate, methoxy polypropylene glycol acrylate, ethoxy polyethylene glycol acrylate, ethoxy polypropylene glycol acrylate, or a mixture thereof, among others, Methoxy polyethylene glycol methacrylate and methoxy polyethylene glycol acrylate are preferably used.

【0065】一般式(16)のg’が2以上の場合、オ
キシアルキレンユニットは互いに異なるいわゆる共重合
オキシアルキレンユニットを持つものでもよく、その重
合形態は交互共重合、ブロック共重合またはランダム共
重合のいずれでもよい。その具体例としては、例えば、
オキシエチレンユニットを1〜50、好ましくは1〜2
0の範囲で持ち、かつオキシプロピレンユニットを1〜
50、好ましくは1〜20の範囲で持つ交互共重合体、
ブロック共重合体またはランダム共重合体であるところ
の、メトキシポリ(エチレン・プロピレン)グリコール
メタクリレート、エトキシポリ(エチレン・プロピレ
ン)グリコールメタクリレート、メトキシポリ(エチレ
ン・プロピレン)グリコールアクリレート、エトキシポ
リ(エチレン・プロピレン)グリコールアクリレート、
またはこれらの混合物などが挙げられる。
When g 'in the general formula (16) is 2 or more, the oxyalkylene units may have so-called copolymerized oxyalkylene units which are different from each other, and the polymerization form thereof is alternating copolymerization, block copolymerization or random copolymerization. Either may be used. As a specific example, for example,
1-50, preferably 1-2 oxyethylene units
0 and the oxypropylene unit is 1 to
50, preferably an alternating copolymer having a range of 1 to 20,
Methoxy poly (ethylene / propylene) glycol methacrylate, ethoxy poly (ethylene / propylene) glycol methacrylate, methoxy poly (ethylene / propylene) glycol acrylate, ethoxy poly (ethylene / propylene) glycol acrylate, which is a block copolymer or a random copolymer,
Or a mixture thereof.

【0066】2官能変性ポリアルキレンオキシドは、下
記の一般式(17)で表され、3官能以上の多官能アク
リロイル変性ポリアルキレンオキシドは、下記の一般式
(18)で表される。
The bifunctional modified polyalkylene oxide is represented by the following general formula (17), and the trifunctional or higher polyfunctional acryloyl modified polyalkylene oxide is represented by the following general formula (18).

【0067】[0067]

【化17】 (式中、R31、R32、R33およびR34は、それぞれ個別
に水素または1〜5の炭素原子を有するアルキル基を示
し、h’は1以上の整数である。)
Embedded image (In the formula, R 31 , R 32 , R 33 and R 34 each independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and h ′ is an integer of 1 or more.)

【0068】[0068]

【化18】 (式中、R35、R36およびR37は、それぞれ個別に水素
または1〜5の炭素原子を有するアルキル基であり、
i’は1以上の整数であり、j’は2〜4の整数であ
り、Lはj’価の連結基を示す。)
Embedded image (Wherein R 35 , R 36 and R 37 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms,
i 'is an integer of 1 or more, j' is an integer of 2 to 4, and L represents a j'-valent linking group. )

【0069】一般式(17)において、式中のR31、R
32、R33およびR34は、それぞれ個別に水素または1〜
5の炭素原子を有するアルキル基を示すが、このアルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、i−プロピル基、
n−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ペ
ンチル基等が挙げられる。特に、R31、R32、R33およ
びR34はそれぞれ水素またはメチル基であることが好ま
しい。
In the general formula (17), R 31 and R in the formula
32 , R 33 and R 34 each independently represent hydrogen or 1 to
An alkyl group having 5 carbon atoms is shown, such as a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group,
Examples thereof include an n-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, and an n-pentyl group. In particular, each of R 31 , R 32 , R 33 and R 34 is preferably hydrogen or a methyl group.

【0070】また、一般式(17)中のh’は、1以上
の整数、通常1≦h’≦100、好ましくは2≦h’≦
50、さらに好ましくは2≦h’≦30の範囲の整数で
あるが、そうした化合物の具体例は、オキシアルキレン
ユニットを1〜100、好ましくは2〜50、さらに好
ましくは1〜20の範囲で持つポリエチレングリコール
ジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リプロピレングリコールジメタクリレート、またはこれ
らの混合物等を挙げることができる。また、h’が2以
上の場合、オキシアルキレンユニットが互いに異なるい
わゆる共重合オキシアルキレンユニットを持つものでも
よく、その重合形態は交互共重合、ブロック共重合また
はランダム共重合のいずれでもよい。その例としては、
例えば、オキシエチレンユニットを1〜50、好ましく
は1〜20の範囲で持ち、かつオキシプロピレンユニッ
トを1〜50、好ましくは1〜20の範囲で持つ交互共
重合体、ブロック共重合体またはランダム共重合体であ
るところの、ポリ(エチレン・プロピレン)グリコール
ジメタクリレート、ポリ(エチレン・プロピレン)グリ
コールジアクリレート、またはこれらの混合物などが挙
げられる。
H ′ in the general formula (17) is an integer of 1 or more, usually 1 ≦ h ′ ≦ 100, preferably 2 ≦ h ′ ≦
50, more preferably an integer in the range of 2 ≦ h ′ ≦ 30, but specific examples of such compounds have oxyalkylene units in the range of 1-100, preferably 2-50, more preferably 1-20. Examples thereof include polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, and mixtures thereof. When h ′ is 2 or more, the oxyalkylene units may have so-called copolymerized oxyalkylene units different from each other, and the polymerization form may be any of alternating copolymerization, block copolymerization, or random copolymerization. For example,
For example, an alternating copolymer, a block copolymer or a random copolymer having oxyethylene units in the range of 1 to 50, preferably 1 to 20 and oxypropylene units in the range of 1 to 50, preferably 1 to 20. Examples of the polymer include poly (ethylene / propylene) glycol dimethacrylate, poly (ethylene / propylene) glycol diacrylate, and a mixture thereof.

【0071】一般式(18)におけるR35、R36および
37は、それぞれ個別に水素または1〜5の炭素原子を
有するアルキル基であるが、このアルキル基としては、
メチル基、エチル基、i−プロピル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等が
挙げられる。特にR35、R36およびR37はそれぞれ水素
またはメチル基が好ましい。
R 35 , R 36 and R 37 in the general formula (18) are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
Examples include a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, and an n-pentyl group. Particularly, each of R 35 , R 36 and R 37 is preferably hydrogen or a methyl group.

【0072】また、一般式(18)中のi’は1以上の
整数、通常1≦i’≦100、好ましくは2≦i’≦5
0さらに好ましくは2≦i’≦30の範囲の整数を示す
ものである。一般式(18)中のj’は連結基Lの連結
数であり、2≦j’≦4の範囲の整数である。連結基L
としては、通常、炭素数1〜30、好ましくは1〜20
の2価、3価または4価の炭化水素基である。2価炭化
水素基としては、アルキレン基、アリーレン基、アリー
ルアルキレン基、アルキルアリーレン基、またはこれら
を基本骨格として有する炭化水素基などが挙げられ、具
体的にはメチレン基、エチレン基、
Further, i ′ in the general formula (18) is an integer of 1 or more, usually 1 ≦ i ′ ≦ 100, preferably 2 ≦ i ′ ≦ 5.
0, more preferably an integer in the range of 2 ≦ i ′ ≦ 30. J ′ in the general formula (18) is the number of linked groups L, and is an integer in the range of 2 ≦ j ′ ≦ 4. Linking group L
Usually has 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms.
Is a divalent, trivalent or tetravalent hydrocarbon group. Examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group, an arylene group, an arylalkylene group, an alkylarylene group, and a hydrocarbon group having these as a basic skeleton. Specifically, a methylene group, an ethylene group,

【0073】[0073]

【化19】 などが挙げられる。Embedded image And the like.

【0074】また、3価の炭化水素基としては、アルキ
ルトリイル基、アリールトリイル基、アリールアルキル
トリイル基、アルキルアリールトリイル基、またはこれ
らを基本骨格として有する炭化水素基などが挙げられ、
具体的には
Examples of the trivalent hydrocarbon group include an alkyltriyl group, an aryltriyl group, an arylalkyltriyl group, an alkylaryltriyl group, and a hydrocarbon group having these as a basic skeleton. ,
In particular

【化20】 などが挙げられる。Embedded image And the like.

【0075】また、4価の炭化水素基としては、アルキ
ルテトライル基、アリールテトライル基、アリールアル
キルテトライル基、アルキルアリールテトライル基、ま
たはこれらを基本骨格として有する炭化水素基などが挙
げられ、具体的には
Examples of the tetravalent hydrocarbon group include an alkyltetrayl group, an aryltetrayl group, an arylalkyltetrayl group, an alkylaryltetrayl group, and a hydrocarbon group having these as a basic skeleton. ,In particular

【化21】 等が挙げられる。Embedded image And the like.

【0076】こうした化合物の具体例としては、オキシ
アルキレンユニットを1〜100、好ましくは2〜5
0、さらに好ましくは1〜20の範囲で持つトリメチロ
ールプロパントリ(ポリエチレングリコールアクリレー
ト)、トリメチロールプロパントリ(ポリエチレングリ
コールメタクリレート)、トリメチロールプロパントリ
(ポリプロピレングリコールアクリレート)、トリメチ
ロールプロパントリ(ポリプロピレングリコールメタク
リレート)、テトラメチロールメタンテトラ(ポリエチ
レングリコールアクリレート)、テトラメチロールメタ
ンテトラ(ポリエチレングリコールメタクリレート)、
テトラメチロールメタンテトラ(ポリプロピレングリコ
ールアクリレート)、テトラメチロールメタンテトラ
(ポリプロピレングリコールメタクリレート)、2,2
−ビス[4−(アクリロキシポリエトキシ)フェニル]
プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロキシポリエ
トキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(ア
クリロキシポリイソプロポキシ)フェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−(メタクリロキシポリイソプロポキ
シ)フェニル]プロパン、またはこれらの混合物等を挙
げることができる。
Specific examples of such compounds include oxyalkylene units of 1 to 100, preferably 2 to 5
0, more preferably in the range of 1 to 20, trimethylolpropane tri (polyethylene glycol acrylate), trimethylol propane tri (polyethylene glycol methacrylate), trimethylol propane tri (polypropylene glycol acrylate), trimethylol propane tri (polypropylene glycol methacrylate) ), Tetramethylolmethanetetra (polyethylene glycol acrylate), tetramethylolmethanetetra (polyethylene glycol methacrylate),
Tetramethylol methane tetra (polypropylene glycol acrylate), tetramethylol methane tetra (polypropylene glycol methacrylate), 2, 2
-Bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl]
Propane, 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxypolyisopropoxy) phenyl] propane,
Examples thereof include 2,2-bis [4- (methacryloxypolyisopropoxy) phenyl] propane, and a mixture thereof.

【0077】また、一般式(18)のi’が2以上の場
合、オキシアルキレンユニットが互いに異なるいわゆる
共重合オキシアルキレンユニットを持つものでもよく、
その重合形態は、交互共重合、ブロック共重合、ランダ
ム共重合のいずれであってもよい。オキシエチレンユニ
ットを1〜50、好ましくは1〜20の範囲で持ち、か
つオキシプロピレンユニットを1〜50、好ましくは1
〜20の範囲で持つ交互共重合体、ブロック共重合体ま
たはランダム共重合体であるところの、トリメチロール
プロパントリ(ポリ(エチレン・プロピレン)グリコー
ルアクリレート)、トリメチロールプロパントリ(ポリ
(エチレン・プロピレン)グリコールメタクリレー
ト)、テトラメチロールメタンテトラ(ポリ(エチレン
・プロピレン)グリコールアクリレート)、テトラメチ
ロールメタンテトラ(ポリ(エチレン・プロピレン)グ
リコールメタクリレート)、またはこれらの混合物など
がその具体例である。
When i ′ in the general formula (18) is 2 or more, oxyalkylene units having different so-called copolymerized oxyalkylene units may be used.
The polymerization form may be any of alternating copolymerization, block copolymerization, and random copolymerization. It has an oxyethylene unit in the range of 1 to 50, preferably 1 to 20, and an oxypropylene unit of 1 to 50, preferably 1
Trimethylolpropane tri (poly (ethylene propylene) glycol acrylate), trimethylol propane tri (poly (ethylene propylene) which is an alternating copolymer, block copolymer or random copolymer having a range of ) Glycol methacrylate), tetramethylol methane tetra (poly (ethylene propylene) glycol acrylate), tetramethylol methane tetra (poly (ethylene propylene) glycol methacrylate), or mixtures thereof.

【0078】一般式(17)で表される2官能変性ポリ
アルキレンオキシドと、一般式(18)で表される3官
能以上の多官能変性ポリアルキレンオキシドを併用して
もよい。併用する場合の質量比は、通常、0.01/9
9.9〜99.9/0.01、好ましくは1/99〜9
9/1、さらに好ましくは20/80〜80/20の範
囲が望ましい。
The bifunctional modified polyalkylene oxide represented by the general formula (17) may be used in combination with the trifunctional or higher polyfunctional modified polyalkylene oxide represented by the general formula (18). When used together, the mass ratio is usually 0.01 / 9.
9.9 to 99.9 / 0.01, preferably 1/99 to 9
9/1, more preferably in the range of 20/80 to 80/20.

【0079】上記した変性ポリアルキレンオキシドを含
有する高分子固体電解質は、変性ポリアルキレンオキシ
ドに、前記液系イオン伝導性物質で説明した溶媒と支持
電解質を混合したものを前駆体組成物とし、係る組成物
を固化することにより調製されるが、溶媒の添加量は変
性ポリアルキレンオキシド全量の50〜800質量%、
好ましくは100〜500質量%の範囲で選ばれる。ま
た、支持電解質の添加量は、変性ポリアルキレンオキシ
ド全量と溶媒の合計量の1〜30質量%、好ましくは3
〜20質量%の範囲で選ばれる。
The polymer solid electrolyte containing the modified polyalkylene oxide is obtained by mixing the modified polyalkylene oxide with the solvent and the supporting electrolyte described in the liquid ion-conductive substance as a precursor composition. It is prepared by solidifying the composition, but the amount of the solvent added is 50 to 800% by mass of the total amount of the modified polyalkylene oxide,
Preferably, it is selected in the range of 100 to 500% by mass. The amount of the supporting electrolyte added is 1 to 30% by mass, preferably 3 to 30% by mass of the total amount of the modified polyalkylene oxide and the solvent.
-20% by mass.

【0080】変性ポリアルキレンオキシドを含有する高
分子固体電解質には、必要に応じて架橋剤や重合開始剤
を添加することができる。高分子電解質に添加可能な架
橋剤としては、2つ以上の官能基を有するアクリレート
系架橋剤が好ましい。その具体例としては、例えば、エ
チレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメ
タクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタ
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート等が
挙げられる。これらは使用に際して、単独若しくは混合
物として用いることができる。
A crosslinking agent or a polymerization initiator can be added to the polymer solid electrolyte containing the modified polyalkylene oxide, if necessary. As a crosslinking agent that can be added to the polymer electrolyte, an acrylate-based crosslinking agent having two or more functional groups is preferable. Specific examples thereof include, for example, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate,
Neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethanetetraacrylate, tetramethylolmethanetetramethacrylate, and the like. These can be used alone or as a mixture.

【0081】架橋剤の使用量は、高分子固体電解質に含
まれる重合性のウレタンアクリレートまたは変性ポリア
ルキレンオキシド100モル%に対し、0.01モル%
以上、好ましくは0.1モル%以上であり、10モル%
以下、好ましくは5モル%以下である。
The amount of the crosslinking agent used is 0.01 mol% with respect to 100 mol% of the polymerizable urethane acrylate or modified polyalkylene oxide contained in the solid polymer electrolyte.
Or more, preferably 0.1 mol% or more, and 10 mol%
Or less, preferably 5 mol% or less.

【0082】高分子固体電解質に添加可能な重合開始剤
は、光重合開始剤と熱重合開始剤に大別される。光重合
開始剤の種類は特に限定されず、ベンゾイン系、アセト
フェノン系、ベンジルケタール系、アシルホスフィンオ
キサイド系等の公知のものを用いることができる。具体
的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、4−メトキ
シベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、2,2
−ジメトキシ−2−フェニルジメトキシ−2−フェニル
アセトフェノン、ベンジル、ベンゾイル、2−メチルベ
ンゾイン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル
−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル−2−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、トリフェニ
ルホスフィン、2−クロロチオキサントン、2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2
−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−メチ
ル−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリ
ノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−
オン、1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1
−オン、ジエトキシアセトフェノン、1−(4−イソプ
ロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパ
ン−1−オン、ベンゾイン、2,4,6−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等が、単独で若
しくは混合物として使用できる。
The polymerization initiator that can be added to the solid polymer electrolyte is roughly classified into a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator. The type of the photopolymerization initiator is not particularly limited, and known photopolymerization initiators such as benzoin-based, acetophenone-based, benzylketal-based, and acylphosphine oxide-based can be used. Specifically, acetophenone, benzophenone, 4-methoxybenzophenone, benzoin methyl ether, 2,2
-Dimethoxy-2-phenyldimethoxy-2-phenylacetophenone, benzyl, benzoyl, 2-methylbenzoin, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-one, 1- (4-isopropylphenyl-2-hydroxy- 2-methylpropan-1-one, triphenylphosphine, 2-chlorothioxanthone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one,
1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2
-Dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methyl- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane- 1-
On, 1- (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1
-One, diethoxyacetophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, benzoin, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide or the like, alone or as a mixture. Can be used.

【0083】熱重合開始剤の種類も特には限定されな
い。過酸化物系重合開始剤またはアゾ系重合開始剤等の
公知のものを用いることができる。具体的には、過酸化
物系重合開始剤としては、例えばベンゾイルパーオキサ
イド、メチルエチルパーオキサイド、t−ブチルパーオ
キシピバレート、ジイソプロピルパーオキシカーボネー
ト等が挙げられ、アゾ系としては、例えば2,2’−ア
ゾビス(2−イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビ
スイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−
ジメチルバレロニトリル)、1,1’−アゾビス(シク
ロヘキサン−1−カルボニトリル)等を、単独で若しく
は混合物として用いることができる。
The type of the thermal polymerization initiator is not particularly limited. Known compounds such as a peroxide-based polymerization initiator or an azo-based polymerization initiator can be used. Specifically, the peroxide-based polymerization initiator includes, for example, benzoyl peroxide, methyl ethyl peroxide, t-butyl peroxypivalate, diisopropyl peroxycarbonate, and the like. 2'-azobis (2-isobutyronitrile), 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-
Dimethylvaleronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and the like can be used alone or as a mixture.

【0084】重合開始剤の使用量は、高分子固体電解質
に含まれる重合性のウレタンアクリレートまたは変性ポ
リアルキレンオキシド100質量部に対して0.1質量
部以上、好ましくは0.5質量部以上であり、10質量
部以下、好ましくは5質量部以下である。
The amount of the polymerization initiator used is 0.1 parts by mass or more, preferably 0.5 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the polymerizable urethane acrylate or modified polyalkylene oxide contained in the solid polymer electrolyte. And 10 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or less.

【0085】高分子固体電解質の固化は、重合性のウレ
タンアクリレートまたは変性ポリアルキレンオキシドを
光硬化または熱硬化させることによって達成される。光
硬化は、好ましくは光重合開始剤を含有する高分子固体
電解質に、遠紫外光、紫外光、可視光等を照射すること
によって進行する。光源としては、高圧水銀灯、蛍光
灯、キセノン灯等を使用することができる。光照射量は
特に限定されないが、通常は100mJ/cm2以上、
好ましくは1000mJ/cm2以上であり、その上限
値は50000mJ/cm2、好ましくは20000m
J/cm2であることが好ましい。
The solidification of the polymer solid electrolyte is achieved by photo-curing or heat-curing the polymerizable urethane acrylate or modified polyalkylene oxide. The photocuring proceeds preferably by irradiating a solid polymer electrolyte containing a photopolymerization initiator with far ultraviolet light, ultraviolet light, visible light, or the like. As a light source, a high-pressure mercury lamp, a fluorescent lamp, a xenon lamp, or the like can be used. The light irradiation amount is not particularly limited, but is usually 100 mJ / cm 2 or more,
It is preferably at least 1,000 mJ / cm 2 , and the upper limit is 50,000 mJ / cm 2 , preferably 20,000 mJ / cm 2.
It is preferably J / cm 2 .

【0086】熱硬化は、好ましくは熱重合開始剤をする
高分子固体電解質を、通常0℃以上、好ましくは20℃
以上に加熱することによって進行する。加熱温度は13
0℃以下、好ましくは80℃以下であることが望まし
い。硬化時間は、通常、30分間以上、好ましくは1時
間以上であり、かつ100時間以下、好ましくは40時
間以下であることが望ましい。
The thermosetting is preferably carried out by subjecting the solid polymer electrolyte, which serves as a thermal polymerization initiator, to a temperature of usually 0 ° C. or higher, preferably 20 ° C.
It proceeds by heating as described above. Heating temperature is 13
It is desirably 0 ° C or lower, preferably 80 ° C or lower. The curing time is usually 30 minutes or more, preferably 1 hour or more, and desirably 100 hours or less, preferably 40 hours or less.

【0087】本発明に係るECミラーは任意の方法で製
造することができる。例えば、使用するイオン伝導性物
質が液系またはゲル化液系である場合は、2枚の導電基
板を本発明のスペーサを介して、適当な間隔で対向さ
せ、周縁部をシールした対向導電基板の間に、エレクト
ロクロミック化合物が分散されているイオン伝導性物質
を、真空注入法、大気注入法、メニスカス法等によって
注入し、しかる後、注入口を封鎖する方法で本発明のE
Cミラーを製造することができる。また、使用するイオ
ン伝導性物質の種類によっては、スパッタリング法、蒸
着法、ゾルゲル法などによって一方の導電基板上に、エ
レクトロクロミック化合物を含有するイオン伝導層を形
成させた後、本発明のスペーサを介して、他方の導電基
板を合わせる方法や、あるいはエレクトロクロミック化
合物を含有するイオン伝導性物質を予めフィルム状に成
形し、合わせ板ガラスの製造する要領で本発明のECミ
ラーを製造することもできる。
The EC mirror according to the present invention can be manufactured by any method. For example, when the ion conductive substance to be used is a liquid system or a gelling liquid system, two conductive substrates are opposed to each other at an appropriate interval via the spacer of the present invention, and a peripheral conductive portion is sealed. In the meantime, an ion-conductive substance in which an electrochromic compound is dispersed is injected by a vacuum injection method, an air injection method, a meniscus method, or the like, and thereafter, the E of the present invention is obtained by a method of closing the injection port.
A C mirror can be manufactured. Further, depending on the type of ion conductive material used, after forming an ion conductive layer containing an electrochromic compound on one conductive substrate by a sputtering method, an evaporation method, a sol-gel method, or the like, the spacer of the present invention is used. Alternatively, the EC mirror of the present invention can be manufactured by a method of bonding the other conductive substrate or by forming an ion-conductive substance containing an electrochromic compound into a film in advance and manufacturing a laminated glass sheet.

【0088】使用するイオン伝導性物質が固体系である
場合、とりわけ、ウレタンアクリレートやアクリロイル
またはメタクリロイル変性アルキレンオキシドを含有す
る高分子固体電解質を使用する場合は、エレクトロクロ
ミック化合物を含有して未固化状態にある高分子固体電
解質前駆体を、2枚の導電基板を本発明のスペーサを介
して、適当な間隔で対向させ、周縁部をシールした対向
導電基板の間に、真空注入法、大気注入法、メニスカス
法等によって注入し、注入口を封鎖後、適当な手段で高
分子固体電解質を固化させて固体電解質を得るこことに
より本発明のECミラーを得ることができる。
When the ion-conductive substance to be used is a solid type, particularly when a polymer solid electrolyte containing urethane acrylate, acryloyl or methacryloyl-modified alkylene oxide is used, an unsolidified state containing an electrochromic compound is contained. The solid polymer electrolyte precursor is placed at an appropriate interval between two conductive substrates via the spacer of the present invention, and a vacuum injection method and an air injection method are applied between the opposing conductive substrates whose peripheral edges are sealed. Injection is performed by a meniscus method or the like, the injection port is closed, and the solid polymer electrolyte is solidified by an appropriate means to obtain a solid electrolyte, whereby the EC mirror of the present invention can be obtained.

【0089】次に、本発明のECミラーの着消色に関す
る駆動方法について説明する。本発明においては、EC
ミラーに電圧Eを印加した際の波長633nmの光の反
射率をTE、0Vを印加した際の、波長633nmの光
の反射率をT0とし、前記ミラーに任意の電圧を印加
し、横軸を印加電圧の絶対値|E|、縦軸を−log10
(TE/T0)とした曲線において微分係数が初めて減少
に転じた後、最初の極小値となった時の−log10(T
E/T0)の値をODflatとした場合、−log10(TE
/T0)の値が0.9×ODflat〜1.1×ODflat
範囲内となる電圧に対応する電圧を前記ミラーに印加
し、着色させることを特徴とする。
Next, a description will be given of a driving method relating to the color erasing and erasing of the EC mirror according to the present invention. In the present invention, EC
The reflectance of light at a wavelength of 633 nm when a voltage E is applied to the mirror is T E , the reflectance of light at a wavelength of 633 nm when a voltage of 0 V is applied is T 0, and an arbitrary voltage is applied to the mirror, The axis is the absolute value of the applied voltage | E |, and the vertical axis is -log 10
After the derivative starts decreasing for the first time on the curve (T E / T 0 ), −log 10 (T
When the value of E / T 0 is OD flat , −log 10 (T E
/ T 0 ) is applied with a voltage corresponding to a voltage in a range of 0.9 × OD flat to 1.1 × OD flat to the mirror to color the mirror.

【0090】TEは、電圧Eを印加した後その値が実質
的に変化しなくなった時点における値をいう。TEは通
常20分間電圧を印加した時の反射率の値であり、より
好ましくは20分間以上、例えば30分間電圧を印加し
た時の反射率の値である。
T E refers to the value at the time when the value does not substantially change after the voltage E is applied. TE is usually the reflectance value when a voltage is applied for 20 minutes, more preferably the reflectance value when a voltage is applied for 20 minutes or more, for example, 30 minutes.

【0091】波長633nmの光の反射率とは、例えば
分光光度計にて633nmに波長固定して測定したもの
であってもよいし、He−Neレーザー光のように、実
質的に波長633nmの単一波長光を光源として測定し
たものであってもよい。
The reflectivity of light having a wavelength of 633 nm may be, for example, a value measured by fixing the wavelength to 633 nm using a spectrophotometer, or substantially a light having a wavelength of 633 nm, such as He-Ne laser light. It may be measured using single-wavelength light as a light source.

【0092】測定する電圧の範囲は通常0〜1.6Vで
ある。ただし、エレクトロクロミック化合物の電気化学
的な反応が1段階だけ起こる範囲内でなければならな
い。例えば、カソード性エレクトロミック化合物の場合
は、1電子還元体が生成する反応が1段階目の反応、2
電子還元体が生成する反応が2段階目の反応となる。測
定する電圧の範囲は2電子還元体が生成する電圧よりも
低い電圧にしなければならない。2段階目の反応が起こ
る電圧は、一般的な電気化学的手法で調べることができ
る。例えばクロノポテンショメトリが有効な手法であ
る。測定は「逢坂哲彌,小山昇,大坂武男, 電気化学
法 基礎測定マニュアル,p.133,講談社サイエン
ティフィク(1992)」に記載の方法で行った。
The range of the voltage to be measured is usually 0 to 1.6 V. However, it must be within a range in which the electrochemical reaction of the electrochromic compound occurs in only one stage. For example, in the case of a cathodic electromic compound, the reaction that generates a one-electron reductant is the first-stage reaction,
The reaction in which the electron reductant is generated is the second stage reaction. The voltage range to be measured must be lower than the voltage generated by the two-electron reductant. The voltage at which the second-stage reaction occurs can be determined by a general electrochemical method. For example, chronopotentiometry is an effective technique. The measurement was carried out by the method described in "Tetsuya Osaka, Noboru Koyama, Takeo Osaka, Electrochemical Method Basic Measurement Manual, p. 133, Kodansha Scientific (1992)".

【0093】測定時の電圧の間隔は10mV間隔が好ま
しい。ただし、−log10(TE/T0)の変化が小さい
電圧範囲においては100mV間隔で測定してもよい。
着色状態を維持するために印加する電圧は、−log10
(TE/T0)の値が0.9×ODflat〜1.1×OD
flatの範囲内となる電圧に対応する電圧が好ましい。よ
り好ましくは−log10(TE/T0)の値が0.95×
ODflat〜1.05×ODflatの範囲内となる電圧に対
応する電圧、さらに好ましくは−log10(TE/T0
の値が0.99×ODflat〜1.01×ODflatの範囲
内となる電圧に対応する電圧が望ましい。
The voltage interval at the time of measurement is preferably 10 mV. However, measurement may be performed at 100 mV intervals in a voltage range where the change of -log 10 (T E / T 0 ) is small.
The voltage applied to maintain the colored state is -log 10
The value of (T E / T 0 ) is 0.9 × OD flat to 1.1 × OD
A voltage corresponding to a voltage falling within the flat range is preferable. More preferably, the value of -log 10 (T E / T 0 ) is 0.95 ×
A voltage corresponding to a voltage within the range of OD flat to 1.05 × OD flat , and more preferably −log 10 (T E / T 0 )
Is desirably a voltage corresponding to a voltage that makes the value of 0.99 × OD flat to 1.01 × OD flat .

【0094】[0094]

【発明の効果】本発明のECミラーの駆動方法は、実用
上使用される温度範囲において、特定の電圧領域で駆動
することにより安定的に反射率を維持できることを見出
した。したがって、光センサーや制御回路に特別な温度
補償機能を持たせることを用いない場合でも、実用使用
条件下で安定して駆動できるなどの特長を有する。ま
た、本発明の駆動方法により、ECミラーの耐久性を改
善することができる。
According to the driving method of the EC mirror of the present invention, it has been found that the reflectance can be stably maintained by driving in a specific voltage range in a practically used temperature range. Therefore, even if the optical sensor or the control circuit is not provided with a special temperature compensation function, it can be driven stably under practical use conditions. Further, the durability of the EC mirror can be improved by the driving method of the present invention.

【0095】[0095]

【実施例】以下本発明を実施例および比較例により更に
詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
The present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0096】(実施例1) 《ECミラーの製造》片面がITO被覆された透明ガラ
ス基板の周辺部に、溶液注入口の部分を除いてエポキシ
系接着剤を線状に塗布し、直径200μmのビーズを基
板上に散布した。この上に、同じITO被覆された透明
ガラス基板の反対の面に反射膜(アルミニウム)が形成
された反射性ガラス基板を、ITO面が向かい合うよう
に重ね合わせ、加圧しながら接着剤を硬化させ、注入口
付き空セルを作製した。
(Example 1) << Manufacture of EC mirror >> An epoxy-based adhesive was linearly applied to the periphery of a transparent glass substrate one side of which was coated with ITO, except for the solution injection port, to obtain a 200 μm diameter. Beads were sprinkled on the substrate. On this, a reflective glass substrate having a reflective film (aluminum) formed on the opposite surface of the same ITO-coated transparent glass substrate is overlapped so that the ITO surfaces face each other, and the adhesive is cured while pressing, An empty cell with an inlet was made.

【0097】他方で、メトキシポリエチレングリコール
モノメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 M4
0GN[オキシエチレンユニット数4])1.0g、ポ
リエチレングリコールジメタクリレート(新中村化学工
業株式会社製 9G[オキシエチレンユニット数9])
0.02g、γ−ブチロラクトン4.0g、1−(4−
イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル
プロパン−1−オン0.02g、および2−(5−メチ
ル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール(C
IBA−GEIGY社製 TINUVIN P)0.03gの
混合溶液に、過塩素酸リチウムを0.8mol/L、フ
ェロセンを3mmol/L、および以下の式(19)で
表される化合物を3mmol/L、の濃度となるよう各
々添加し、均一溶液を得た。
On the other hand, methoxypolyethylene glycol monomethacrylate (M4 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
OGN [oxyethylene unit number 4]) 1.0 g, polyethylene glycol dimethacrylate (9G [oxyethylene unit number 9] manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
0.02 g, γ-butyrolactone 4.0 g, 1- (4-
0.02 g of isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one and 2- (5-methyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole (C
To a mixed solution of 0.03 g of TINUVIN P) (IBA-GEIGY), 0.8 mol / L of lithium perchlorate, 3 mmol / L of ferrocene, and 3 mmol / L of a compound represented by the following formula (19): To obtain a uniform solution.

【0098】[0098]

【化22】 Embedded image

【0099】この溶液を脱気後、上述のようにして作成
したセルの注入口より注入した。注入口をエポキシ系接
着剤で封止した後、蛍光灯の光を当ててセル内の溶液を
硬化させ、図1に示す構成のECミラーを得た。
After the solution was degassed, it was injected from the injection port of the cell prepared as described above. After sealing the injection port with an epoxy adhesive, the solution in the cell was cured by irradiating light from a fluorescent lamp to obtain an EC mirror having the configuration shown in FIG.

【0100】《ECミラーの駆動》このECミラーに電
圧を印加し、633nmの反射率を測定した。ここでの
反射率とは、一定電圧をかけ続けた時に最終的に到達し
た値とする。具体的には20分間、一定電圧を印加し続
けた時の値を反射率とした。反射率の測定は0Vから
1.6Vまで100mV間隔で行った。電圧による反射
率の変化が大きい0.7〜0.9Vの間は10mV間隔
で測定を行った。電圧に対して−log10(TE/T0
をプロットし、以下の式でカーブフィッティングを行っ
た。
<< Driving of EC Mirror >> A voltage was applied to this EC mirror, and the reflectance at 633 nm was measured. Here, the reflectance is a value finally reached when a constant voltage is continuously applied. Specifically, the value when a constant voltage was continuously applied for 20 minutes was defined as the reflectance. The measurement of the reflectance was performed from 0 V to 1.6 V at intervals of 100 mV. The measurement was performed at intervals of 10 mV between 0.7 and 0.9 V where the change in reflectance with voltage was large. −log 10 (T E / T 0 ) with respect to the voltage
Was plotted, and curve fitting was performed using the following equation.

【0101】y=[c×Exp[F×(x-b)/(2×R×T)]]/[1+a×E
xp[F×(x-b)/(2×R×T)]]
Y = [c × Exp [F × (xb) / (2 × R × T)]] / [1 + a × E
xp [F × (xb) / (2 × R × T)]]

【0102】上記式における記号の意味は以下のとおり
である。xは電圧(V)、yは−log10(TE/T0) F=96500C/mol(ファラデー定数) R=8.31J/K・mol(気体定数) Tは測定時の絶対温度 a、b、cはフィッティングパラメーター
The meanings of the symbols in the above formula are as follows. x is voltage (V), y is -log 10 (T E / T 0 ) F = 96500 C / mol (Faraday constant) R = 8.31 J / K · mol (gas constant) T is absolute temperature during measurement a, b and c are fitting parameters

【0103】回帰分析によって、フィッティングパラメ
ーターを求めた結果、a=1.848296、b=0.
8515265、c=0.6579933となった。図
2に、横軸を印加電圧の絶対値|E|、縦軸を−log
10(TE/T0)とした曲線を示す。当該曲線において、
微分係数が初めて減少に転じた後、1.3Vの時に最初
の極小値となっている。そこで、1.3Vの時の−lo
10(TE/T0)の値である0.356をODflatとし
た。1.3V印加した時に−log10(TE/T0)の値
が1.0×ODflatとなったことから、1.3VをEC
ミラーの駆動電圧とした。このECミラーは組み立てた
時点では着色していなかった。1.3V定電圧で着色し
た場合の視感度反射率の温度変化を測定したところ、1
0℃から80℃の範囲で反射率の変化幅が小さかった。
反射率は測定した温度範囲で32±1%に収まった。
As a result of obtaining fitting parameters by regression analysis, a = 1.848296 and b = 0.
8515265, c = 0.6579933. In FIG. 2, the horizontal axis represents the absolute value of the applied voltage | E |, and the vertical axis represents -log.
A curve with 10 (T E / T 0 ) is shown. In the curve,
After the derivative starts to decrease for the first time, it becomes the first minimum value at 1.3 V. Therefore, -lo at 1.3V
0.356, which is the value of g 10 (T E / T 0 ), was defined as OD flat . Since the value of -log 10 (T E / T 0 ) became 1.0 × OD flat when 1.3 V was applied, 1.3 V was set to EC.
The drive voltage of the mirror was used. This EC mirror was not colored when assembled. The temperature change of the luminous reflectance when colored at a constant voltage of 1.3 V was measured.
The range of change in reflectance was small in the range of 0 ° C to 80 ° C.
The reflectance fell within 32 ± 1% over the measured temperature range.

【0104】(実施例2) 《ECミラーの製造》片面がITO被覆された透明ガラ
ス基板の周辺部に、溶液注入口の部分を除いてエポキシ
系接着剤を線状に塗布し、直径200μmのビーズを基
板上に散布した。この上に、同じくITO被覆された透
明ガラス基板の導電性面の反対の面に反射膜(アルミニ
ウム)が形成された反射性ガラス基板を、ITO面が向
かい合うように重ね合わせ、加圧しながら接着剤を硬化
させ、注入口付き空セルを作製した。
(Example 2) << Manufacture of EC mirror >> An epoxy-based adhesive was linearly applied to the periphery of a transparent glass substrate one side of which was coated with ITO, except for the solution injection port, to obtain a 200 μm diameter. Beads were sprinkled on the substrate. A reflective glass substrate on which a reflective film (aluminum) is formed on the surface opposite to the conductive surface of the transparent glass substrate also covered with ITO is superimposed thereon so that the ITO surfaces face each other. Was cured to produce an empty cell with an inlet.

【0105】他方で、メトキシポリエチレングリコール
モノメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 M4
0GN[オキシエチレンユニット数4])1.0g、ポ
リエチレングリコールジメタクリレート(新中村化学工
業株式会社製 4G[オキシエチレンユニット数4])
0.02g、プロピレンカーボネート 4.0g、2,
4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キシド0.02g、および2−(5−メチル−2−ヒド
ロキシフェニル)ベンゾトリアゾール(CIBA−GE
IGY社製 TINUVIN P)0.03gの混合溶液に、
過塩素酸リチウムを0.5mol/L、以下の式(2
0)で表される化合物を3mmol/L、の濃度となる
よう各々添加し、均一溶液を得た。
On the other hand, methoxypolyethylene glycol monomethacrylate (M4 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
OGN [oxyethylene unit number 4]) 1.0 g, polyethylene glycol dimethacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. 4G [oxyethylene unit number 4])
0.02 g, propylene carbonate 4.0 g, 2,
0.02 g of 4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 2- (5-methyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole (CIBA-GE
IGY TINUVIN P) 0.03g mixed solution,
0.5 mol / L of lithium perchlorate was obtained by the following formula (2)
Compounds represented by the formula (0) were added to give a concentration of 3 mmol / L to obtain a homogeneous solution.

【0106】[0106]

【化23】 Embedded image

【0107】この溶液を脱気後、上述のようにして作成
したセルの注入口より注入した。注入口をエポキシ系接
着剤で封止した後、蛍光灯の光を当ててセル内の溶液を
硬化させ、図1に示す構成のECミラーを得た。
After the solution was degassed, it was injected from the injection port of the cell prepared as described above. After sealing the injection port with an epoxy adhesive, the solution in the cell was cured by irradiating light from a fluorescent lamp to obtain an EC mirror having the configuration shown in FIG.

【0108】《ECミラーの駆動》実施例1と同様に、
このECミラーに20分間、一定電圧を印加し続けて6
33nmの反射率を測定した。反射率の測定は0Vから
1.6Vまで100mV間隔で行った。電圧による反射
率の変化が大きい0.7〜0.9Vの間は10mV間隔
で測定を行った。電圧に対して−log10(TE/T0
をプロットし、実施例1と同様の方法でカーブフィッテ
ィングを行った。
<< Driving of EC Mirror >> As in the first embodiment,
Continue applying a constant voltage to this EC mirror for 20 minutes.
The reflectivity at 33 nm was measured. The measurement of the reflectance was performed from 0 V to 1.6 V at intervals of 100 mV. The measurement was performed at intervals of 10 mV between 0.7 and 0.9 V where the change in reflectance with voltage was large. −log 10 (T E / T 0 ) with respect to the voltage
Was plotted, and curve fitting was performed in the same manner as in Example 1.

【0109】図3に、横軸を印加電圧の絶対値|E|、
縦軸を−log10(TE/T0)とした曲線を示す。当該
曲線において、微分係数が初めて減少に転じた後、1.
4Vの時に最初の極小値となっている。そこで、1.4
Vの時の−log10(TE/T0)の値である0.342
をODflatとした。1.4V印加した時に−log
10(TE/T0)の値が1.0×ODflatとなったことか
ら、1.4VをECミラーの駆動電圧とした。このEC
ミラーは組み立てた時点では着色していなかった。1.
3V定電圧で着色した場合の視感度反射率の温度変化を
測定したところ、10℃から80℃の範囲で反射率の変
化幅が小さいことが分かった。反射率は測定した温度範
囲で33±1%に収まった。
In FIG. 3, the horizontal axis represents the absolute value of the applied voltage | E |
A curve with the vertical axis being −log 10 (T E / T 0 ) is shown. In the curve, after the derivative starts decreasing for the first time.
It is the first minimum value at 4V. Therefore, 1.4
0.342 which is the value of -log 10 (T E / T 0 ) at the time of V
Was set to OD flat . -Log when 1.4V is applied
Since the value of 10 (T E / T 0 ) became 1.0 × OD flat , 1.4 V was set as the driving voltage of the EC mirror. This EC
The mirror was uncolored when assembled. 1.
When the temperature change of the luminous reflectance when colored at a constant voltage of 3 V was measured, it was found that the change width of the reflectance was small in the range of 10 ° C. to 80 ° C. The reflectivity was within 33 ± 1% over the measured temperature range.

【0110】(実施例3) 《ECミラーの製造》片面がITO被覆された透明ガラ
ス基板の周辺部に、溶液注入口の部分を除いてエポキシ
系接着剤を線状に塗布し、直径200μmのビーズを基
板上に散布した。この上に、同じITO基板の導電性面
の反対の面に反射膜(アルミニウム)が形成された反射
性ガラス基板を、ITO面が向かい合うように重ね合わ
せ、加圧しながら接着剤を硬化させ、注入口付き空セル
を作製した。他方で、プロピレンカーボネート5.0g
および2−(5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール(CIBA−GEIGY社製 TINUVI
NP)0.03gの混合溶液に、過塩素酸リチウムを
0.5mol/Lおよび以下の式(21)で表される化
合物を3mmol/L、の濃度となるよう各々添加し、
均一溶液を得た。
Example 3 << Manufacture of EC Mirror >> An epoxy-based adhesive was linearly applied to the periphery of a transparent glass substrate one side of which was coated with ITO, except for the solution injection port, to obtain a 200 μm diameter. Beads were sprinkled on the substrate. A reflective glass substrate on which a reflective film (aluminum) is formed on the opposite side of the conductive surface of the same ITO substrate is placed on top of this so that the ITO surfaces face each other, and the adhesive is cured while applying pressure. An empty cell with an inlet was made. On the other hand, 5.0 g of propylene carbonate
And 2- (5-methyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole (TINUVI manufactured by CIBA-GEIGY)
NP) To a mixed solution of 0.03 g, lithium perchlorate was added at a concentration of 0.5 mol / L and a compound represented by the following formula (21) at a concentration of 3 mmol / L, respectively.
A homogeneous solution was obtained.

【0111】[0111]

【化24】 この溶液を脱気後、上述のようにして作成したセルの注
入口より注入し、図1に示す構成のECミラーを得た。
Embedded image After this solution was degassed, it was injected from the injection port of the cell prepared as described above, to obtain an EC mirror having the configuration shown in FIG.

【0112】《ECミラーの駆動》実施例1と同様に、
このECミラーに20分間、一定電圧を印加し続けて6
33nmの反射率を測定した。反射率の測定は0Vから
1.6Vまで100mV間隔で行った。電圧による反射
率の変化が大きい0.7〜0.9Vの間は10mV間隔
で測定を行った。電圧に対して−log10(TE/T0
をプロットし、実施例1と同様の方法でカーブフィッテ
ィングを行った。
<< Driving of EC Mirror >> As in the first embodiment,
Continue applying a constant voltage to this EC mirror for 20 minutes.
The reflectivity at 33 nm was measured. The measurement of the reflectance was performed from 0 V to 1.6 V at intervals of 100 mV. The measurement was performed at intervals of 10 mV between 0.7 and 0.9 V where the change in reflectance with voltage was large. −log 10 (T E / T 0 ) with respect to the voltage
Was plotted, and curve fitting was performed in the same manner as in Example 1.

【0113】図4に、横軸を印加電圧の絶対値|E|、
縦軸を−log10(TE/T0)とした曲線を示す。当該
曲線において、微分係数が初めて減少に転じた後、1.
4Vの時に最初の極小値となっている。そこで、1.4
Vの時の−log10(TE/T0)の値である0.434
をODflatとした。1.4V印加した時に−log
10(TE/T0)の値が1.0×ODflatとなったことか
ら、1.4VをECミラーの駆動電圧とした。このEC
ミラーは組み立てた時点では着色していなかった。1.
3V定電圧で着色した場合の視感度反射率の温度変化を
測定したところ、10℃から80℃の範囲で反射率の変
化幅が小さいことが分かった。反射率は測定した温度範
囲で29±1%に収まった。
In FIG. 4, the horizontal axis represents the absolute value of the applied voltage | E |
A curve with the vertical axis being −log 10 (T E / T 0 ) is shown. In the curve, after the derivative starts decreasing for the first time.
It is the first minimum value at 4V. Therefore, 1.4
0.434 which is the value of −log 10 (T E / T 0 ) at the time of V
Was set to OD flat . -Log when 1.4V is applied
Since the value of 10 (T E / T 0 ) became 1.0 × OD flat , 1.4 V was set as the driving voltage of the EC mirror. This EC
The mirror was uncolored when assembled. 1.
When the temperature change of the luminous reflectance when colored at a constant voltage of 3 V was measured, it was found that the change width of the reflectance was small in the range of 10 ° C. to 80 ° C. The reflectance fell within 29 ± 1% over the measured temperature range.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1〜3で用いたECミラーの一例を示す
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of an EC mirror used in Examples 1 to 3.

【図2】実施例1のECミラーにおける印加電圧の絶対
値|E|と−log10(TE/T0)の関係を示す曲線で
ある。
FIG. 2 is a curve showing a relationship between an absolute value | E | of an applied voltage and −log 10 (T E / T 0 ) in the EC mirror of Example 1.

【図3】実施例2のECミラーにおける印加電圧の絶対
値|E|と−log10(TE/T0)の関係を示す曲線で
ある。
FIG. 3 is a curve showing a relationship between an absolute value | E | of an applied voltage and −log 10 (T E / T 0 ) in the EC mirror of Example 2.

【図4】実施例3のECミラーにおける印加電圧の絶対
値|E|と−log10(TE/T0)の関係を示す曲線で
ある。
FIG. 4 is a curve showing a relationship between an absolute value | E | of an applied voltage and −log 10 (T E / T 0 ) in the EC mirror of Example 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基板 2 透明電極層 3 イオン伝導層 4 反射性電極層 5 透明又は不透明な基板 6 シール材 REFERENCE SIGNS LIST 1 transparent substrate 2 transparent electrode layer 3 ion conductive layer 4 reflective electrode layer 5 transparent or opaque substrate 6 sealing material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2K001 AA01 AA06 BA07 BB18 CA22 EA17  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2K001 AA01 AA06 BA07 BB18 CA22 EA17

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも一方が透明である2枚の導電
基板間に、エレクトロクロミック化合物を含むイオン伝
導層を設けたエレクトロクロミックミラーを駆動する方
法であって、着色駆動する電圧として、前記ミラーに電
圧Eを印加した際の波長633nmの光の反射率を
E、0Vを印加した際の波長633nmの光の反射率
をT0とし、前記ミラーに任意の電圧を印加し、横軸を
印加電圧の絶対値|E|、縦軸を−log10(TE
0)とした曲線において微分係数が初めて減少に転じ
た後、最初の極小値となった時の−log10(TE
0)の値をODflatとした場合、−log10(TE/T
0)の値が0.9×ODflat〜1.1×ODflatの範囲
内となる電圧に対応する電圧を印加することを特徴とす
るエレクトロクロミックミラーの駆動方法。
1. A method for driving an electrochromic mirror provided with an ion conductive layer containing an electrochromic compound between two conductive substrates at least one of which is transparent, wherein a voltage for coloring driving is applied to the mirror. The reflectance of light having a wavelength of 633 nm when voltage E is applied is T E , the reflectance of light having a wavelength of 633 nm when 0 V is applied is T 0 , an arbitrary voltage is applied to the mirror, and the horizontal axis is applied. The absolute value of the voltage | E | and the vertical axis is -log 10 (T E /
After the derivative starts decreasing for the first time on the curve defined as T 0 ), the logarithm becomes −log 10 (T E /
When the value of T 0 ) is OD flat , −log 10 (T E / T
0 ) A method of driving an electrochromic mirror, characterized by applying a voltage corresponding to a voltage having a value of 0.9 × OD flat to 1.1 × OD flat .
【請求項2】 エレクトロクロミック化合物が、少なく
ともアノード性エレクトロクロミック性化合物およびカ
ソード性エレクトロクロミック化合物からなることを特
徴とする請求項1記載のエレクトロクロミックミラーの
駆動方法。
2. The method according to claim 1, wherein the electrochromic compound comprises at least an anodic electrochromic compound and a cathodic electrochromic compound.
【請求項3】 エレクトロクロミック化合物が、アノー
ド性エレクトロクロミック構造およびカソード性エレク
トロクロミック構造を併有している化合物であることを
特徴とする請求項1記載のエレクトロクロミックミラー
の駆動方法。
3. The method of driving an electrochromic mirror according to claim 1, wherein the electrochromic compound is a compound having both an anodic electrochromic structure and a cathodic electrochromic structure.
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