JP2002308838A - Method for producing optically active 3-substituted-4- substituted oxybutylamines - Google Patents
Method for producing optically active 3-substituted-4- substituted oxybutylaminesInfo
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- JP2002308838A JP2002308838A JP2001299919A JP2001299919A JP2002308838A JP 2002308838 A JP2002308838 A JP 2002308838A JP 2001299919 A JP2001299919 A JP 2001299919A JP 2001299919 A JP2001299919 A JP 2001299919A JP 2002308838 A JP2002308838 A JP 2002308838A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、排尿異常改善剤と
して有用な、(9R)−7−[3,5−ビス(トリフル
オロメチル)ベンジル]−6,7,8,9,10,11
−ヘキサヒドロ−5−(4−ヒドロキシメチルフェニ
ル)−9−メチル−6,13−ジオキソ−13H−
[1,4]−ジアゾシノ[2,1−g][1,7]ナフ
チリジンの製造中間体として、又、その他の医・農薬の
製造中間体として有用な化合物である光学活性3−置換
−4−ヒドロキシ−ブチルアミン類及びその誘導体の製
造方法に関するものである。The present invention relates to (9R) -7- [3,5-bis (trifluoromethyl) benzyl] -6,7,8,9,10,11 which is useful as an agent for improving abnormal urination.
-Hexahydro-5- (4-hydroxymethylphenyl) -9-methyl-6,13-dioxo-13H-
Optically active 3-substituted-4, which is a compound useful as an intermediate for producing [1,4] -diazosino [2,1-g] [1,7] naphthyridine and as an intermediate for producing other medical and agricultural chemicals -Hydroxy-butylamines and their derivatives.
【0002】[0002]
【従来の技術および課題】従来、光学活性3−置換−4
−ヒドロキシ−ブチルアミン類及びその誘導体の製造方
法としては、テトラヘドロン(Tetrahedron) 39巻
3107項(1983年)、およびジャーナル オブ
メディシナルケミストリー(J. Med. Chem.)30巻
1948項(1987年)を参考にして、(S)−3
−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチルエステル
を用いて(R)−3−メチル−4−(2−テトラヒドロ
ピラニルオキシ)ブチルアミンを合成する方法が、特開
平10−109989号公報に報告されているが、光学
活性3−置換−4−ヒドロキシ−ブチルアミン類及びそ
の誘導体の製造方法として満足できるものではなく、さ
らに工業的に有利な方法が求められている。BACKGROUND OF THE INVENTION Conventionally, optically active 3-substituted-4
-Production methods for hydroxy-butylamines and derivatives thereof are described in Tetrahedron 39, 3107 (1983), and Journal of Medicinal Chemistry (J. Med. Chem.) 30, 30 1948 (1987). Refer to (S) -3
A method of synthesizing (R) -3-methyl-4- (2-tetrahydropyranyloxy) butylamine using -hydroxy-2-methylpropionic acid methyl ester is reported in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-109989. However, it is not satisfactory as a method for producing optically active 3-substituted-4-hydroxy-butylamines and derivatives thereof, and a more industrially advantageous method is required.
【0003】光学活性2−置換−3−シアノプロパン酸
エステル類の製造方法としては、特開平11−8011
3号公報に、ラセミの2−メチル−3−シアノプロピオ
ン酸メチルから発酵法および酵素法により、光学活性2
−メチル−3−シアノプロピオン酸メチルを合成する方
法が報告されている。 また、ザ ジャーナル オブオ
ーガニック ケミストリー(J. Org. Chem.)60巻
2627−2629項(1995年)に、光学活性(S)
−2−[(メタンスルホニル)オキシ]プロパン酸エチル
をフッ化セシウム存在下で反応させる方法が報告されて
いるが、光学活性2−置換−3−シアノプロパン酸エス
テル類の製造方法として満足できるものではなく、さら
に工業的に有利な方法が求められている。 また同文献
には、1−アリル 4−エチル 2−シアノ−3−メチ
ルブタンジオエートにギ酸アンモニウム存在下、8時
間、ジオキサン還流により、2−メチル−3−シアノプ
ロピオン酸エチルを収率55%で合成する方法が報告さ
れているが、さらに収率が良く、工業的に有利な方法が
求められている。A method for producing optically active 2-substituted-3-cyanopropanoic acid esters is disclosed in JP-A-11-8011.
No. 3 discloses an optical activity of 2 from racemic methyl 2-methyl-3-cyanopropionate by fermentation and enzymatic methods.
A method for synthesizing methyl-methyl-3-cyanopropionate has been reported. Also, The Journal of Organic Chemistry (J. Org. Chem.) 60
2627-2629 (1995), the optical activity (S)
A method has been reported in which ethyl-2-[(methanesulfonyl) oxy] propanoate is reacted in the presence of cesium fluoride, but is satisfactory as a method for producing optically active 2-substituted-3-cyanopropanoic esters. Instead, more industrially advantageous methods are being sought. In addition, in the literature, 1-allyl-4-ethyl 2-cyano-3-methylbutanediate was refluxed with dioxane for 8 hours in the presence of ammonium formate to give ethyl 2-methyl-3-cyanopropionate in a yield of 55%. However, there is a demand for an industrially advantageous method with a higher yield.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意研究を行った結果、効率的な製造方
法を見出し、本発明を完成した。Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found an efficient manufacturing method and completed the present invention.
【0005】即ち、本発明は、式(4)That is, the present invention provides the following formula (4)
【0006】[0006]
【化20】 Embedded image
【0007】(式中、R1は直鎖、分枝若しくは環状のC
1-6アルキル基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルケ
ニル基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルキニル基、
フェニル基又はベンジル基を表し、R2は水素原子、ア
ルカリ金属、アルカリ土類金属、直鎖、分枝若しくは環
状のC1-6アルキル基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6ア
ルケニル基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルキニル
基、フェニル基又はベンジル基を表す。)で表される、
2−置換−3−シアノプロパン酸エステル類又はその鏡
像異性体を還元することを特徴とする、式(5)Wherein R 1 is a straight, branched or cyclic C 1
1-6 alkyl group, straight-chain, branched or cyclic C 2-6 alkenyl group, straight-chain, branched or cyclic C 2-6 alkynyl group,
R 2 represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group, a linear, branched or cyclic C 2-6 alkenyl; Represents a group, linear, branched or cyclic C 2-6 alkynyl group, phenyl group or benzyl group. ),
Formula (5), wherein 2-substituted-3-cyanopropanoic acid esters or their enantiomers are reduced.
【0008】[0008]
【化21】 Embedded image
【0009】(式中、R1は前記と同じ意味を表す。)
で表される、3−置換−4−ヒドロキシブチルアミン類
又はその鏡像異性体の製造方法及び;上記の製造方法に
おいて得られた、式(5)で表される、3−置換−4−
ヒドロキシブチルアミン類又はその鏡像異性体の水酸基
を保護することを特徴とする式(6)(Wherein, R 1 has the same meaning as described above.)
And a method for producing a 3-substituted-4-hydroxybutylamine or an enantiomer thereof; and a 3-substituted-4- compound represented by the formula (5) obtained by the above-mentioned production method.
Formula (6), wherein the hydroxyl group of hydroxybutylamines or its enantiomer is protected.
【0010】[0010]
【化22】 Embedded image
【0011】(式中、R4は水酸基の保護基を表す。)
で表される、3−置換−4−置換オキシ−ブチルアミン
類又はその鏡像異性体の製造方法及び;式(4)(In the formula, R 4 represents a hydroxyl-protecting group.)
A method for producing a 3-substituted-4-substituted oxy-butylamine or an enantiomer thereof represented by the formula: and a formula (4):
【0012】[0012]
【化23】 Embedded image
【0013】(式中、R1及びR2は前記と同じ意味を表
す。)で表される、2−置換−3−シアノプロパン酸エ
ステル類又はその鏡像異性体を還元し、式(7)(Wherein R 1 and R 2 have the same meanings as described above), and the 2-substituted-3-cyanopropanoic acid esters or their enantiomers are reduced to give a compound of the formula (7)
【0014】[0014]
【化24】 Embedded image
【0015】(式中、R1は前記と同じ意味を表す。)
で表される、3−置換−4−ヒドロキシブチロニトリル
類又はその鏡像異性体とした後、還元することを特徴と
する、式(5)(In the formula, R 1 has the same meaning as described above.)
A compound represented by the formula (5), which is reduced after being converted to a 3-substituted-4-hydroxybutyronitrile or an enantiomer thereof represented by the formula:
【0016】[0016]
【化25】 Embedded image
【0017】(式中、R1は前記と同じ意味を表す。)
で表される、3−置換−4−ヒドロキシブチルアミン類
又はその鏡像異性体の製造方法及び;上記の製造方法に
おいて得られた、式(5)で表される、3−置換−4−
ヒドロキシブチルアミン類又はその鏡像異性体の水酸基
を保護することを特徴とする式(6)(In the formula, R 1 has the same meaning as described above.)
And a method for producing a 3-substituted-4-hydroxybutylamine or an enantiomer thereof; and a 3-substituted-4- compound represented by the formula (5) obtained by the above-mentioned production method.
Formula (6), wherein the hydroxyl group of hydroxybutylamines or its enantiomer is protected.
【0018】[0018]
【化26】 Embedded image
【0019】(式中、R4は水酸基の保護基を表す。)
で表される、3−置換−4−置換オキシ−ブチルアミン
類又はその鏡像異性体の製造方法及び;式(4)(In the formula, R 4 represents a hydroxyl-protecting group.)
A method for producing a 3-substituted-4-substituted oxy-butylamine or an enantiomer thereof represented by the formula: and a formula (4):
【0020】[0020]
【化27】 Embedded image
【0021】(式中、R1及びR2は前記と同じ意味を表
す。)で表される、2−置換−3−シアノプロパン酸エ
ステル類又はその鏡像異性体を、還元することにより、
式(7)(Wherein R 1 and R 2 have the same meanings as described above), by reducing a 2-substituted-3-cyanopropanoic acid ester or an enantiomer thereof,
Equation (7)
【0022】[0022]
【化28】 Embedded image
【0023】(式中、R1は前記と同じ意味を表す。)
で表される、3−置換−4−ヒドロキシブチロニトリル
類又はその鏡像異性体とし、次に水酸基を保護すること
を特徴とする式(8)(Wherein, R 1 has the same meaning as described above.)
A 3-substituted-4-hydroxybutyronitrile or an enantiomer thereof represented by the formula: and then protecting a hydroxyl group by the following formula (8):
【0024】[0024]
【化29】 Embedded image
【0025】(式中、R1及びR4は前記と同じ意味を表
す。)で表される、3−置換−4−置換オキシ−ブチロ
ニトリル類又はその鏡像異性体の製造法及び;上記の製
造方法において得られた、式(8)で表される、3−置
換−4−置換オキシ−ブチロニトリル類又はその鏡像異
性体を還元することを特徴とする式(6)Wherein R 1 and R 4 have the same meanings as described above, and a process for producing 3-substituted-4-substituted oxy-butyronitriles or enantiomers thereof; Reducing a 3-substituted-4-substituted oxy-butyronitrile or an enantiomer thereof represented by the formula (8) obtained by the method, characterized by the formula (6)
【0026】[0026]
【化30】 Embedded image
【0027】(式中、R4は水酸基の保護基を表す。)
で表される、3−置換−4−置換オキシ−ブチルアミン
類又はその鏡像異性体の製造方法に関する。(In the formula, R 4 represents a hydroxyl-protecting group.)
And a method for producing a 3-substituted-4-substituted oxy-butylamine or an enantiomer thereof.
【0028】[0028]
【発明の実施の形態】以下、更に詳細に本発明を説明す
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
【0029】まず、R1、R2、R3及びXの各置換基にお
ける語句について説明する。First, the terms in the substituents R 1 , R 2 , R 3 and X will be described.
【0030】尚、本明細書中「n」はノルマルを、
「i」はイソを、「s」はセカンダリーを、「t」はタ
ーシャリーを、「c」、はシクロを、「o」はオルト
を、「m」はメタを、「p」はパラを意味する。In this specification, “n” represents normal,
"I" is iso, "s" is secondary, "t" is tertiary, "c" is cyclo, "o" is ortho, "m" is meta, "p" is para. means.
【0031】直鎖、分枝若しくは環状のC1-6アルキル基
としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−
プロピル基、c−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチ
ル基、s−ブチル基、t−ブチル基、c−ブチル基、n
−ペンチル基、c−ペンチル基、n−ヘキシル基及びc
−ヘキシル基等が挙げられる。Examples of the linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group and an i-
Propyl, c-propyl, n-butyl, i-butyl, s-butyl, t-butyl, c-butyl, n
-Pentyl group, c-pentyl group, n-hexyl group and c
-Hexyl group and the like.
【0032】直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルケニル
基としては、ビニル基、アリル基、2−プロぺニル基、
1−メチルビニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル
基、3−ブテニル基、1−メチル−1−プロぺニル基、
1−メチル−2−プロぺニル基、2−メチル−2−プロ
ぺニル基、1−エチル−2−ビニル基、1−ペンテニル
基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテ
ニル基、1,2−ジメチル−1−プロぺニル基、1,2
−ジメチル−2−プロぺニル基、1−エチル−1−プロ
ぺニル基、1−エチル−2−プロぺニル基、1−メチル
−1−ブテニル基、1−メチル−2−ブテニル基、2−
メチル−1−ブテニル基、1−i−プロピルビニル基、
2,4−ペンタジエニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘ
キセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5
−ヘキセニル基、2,4−ヘキサジエニル基、1−メチ
ル−1−ペンテニル基、1−c−ペンテニル基及び1−
c−ヘキセニル基等が挙げられる。Examples of the linear, branched or cyclic C 2-6 alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a 2-propenyl group,
1-methylvinyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group,
1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 1-ethyl-2-vinyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group A 1,2-dimethyl-1-propenyl group, 1,2
-Dimethyl-2-propenyl group, 1-ethyl-1-propenyl group, 1-ethyl-2-propenyl group, 1-methyl-1-butenyl group, 1-methyl-2-butenyl group, 2-
Methyl-1-butenyl group, 1-i-propylvinyl group,
2,4-pentadienyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5
-Hexenyl group, 2,4-hexadienyl group, 1-methyl-1-pentenyl group, 1-c-pentenyl group and 1-
c-hexenyl group and the like.
【0033】直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルキニル
基としては、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロ
ピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチ
ニル基、1−ペンチニル基、2−ペンチニル基、3−ペ
ンチニル基、4−ペンチニル基、1−ヘキシニル基、2
−ヘキシニル基、3−ヘキシニル基、4−ヘキシニル基
及び5−ヘキシニル基等が挙げられる。The linear, branched or cyclic C 2-6 alkynyl group includes ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1-butynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 1- Pentynyl group, 2-pentynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-hexynyl group, 2
-Hexynyl group, 3-hexynyl group, 4-hexynyl group, 5-hexynyl group and the like.
【0034】アルカリ金属としては、リチウム、ナトリ
ウム及びカリウム等が挙げられる。Examples of the alkali metal include lithium, sodium and potassium.
【0035】アルカリ土類金属としては、マグネシウム
及びカルシウム等が挙げられる。Examples of the alkaline earth metal include magnesium and calcium.
【0036】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。[0036] Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
【0037】C1-4アルキルスルホニルオキシ基として
は、直鎖、分枝及び環状のアルキルスルホニルオキシ基
が含まれ、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニ
ルオキシ基、n−プロピルスルホニルオキシ基、i−プ
ロピルスルホニルオキシ基、c−プロピルスルホニルオ
キシ基、n−ブチルスルホニルオキシ基、i−ブチルス
ルホニルオキシ基、s−ブチルスルホニルオキシ基、t
−ブチルスルホニルオキシ基及びc−ブチルスルホニル
オキシ基等が挙げられる。The C 1-4 alkylsulfonyloxy group includes straight-chain, branched and cyclic alkylsulfonyloxy groups, methanesulfonyloxy group, ethanesulfonyloxy group, n-propylsulfonyloxy group, i-propyl Sulfonyloxy group, c-propylsulfonyloxy group, n-butylsulfonyloxy group, i-butylsulfonyloxy group, s-butylsulfonyloxy group, t
-Butylsulfonyloxy group and c-butylsulfonyloxy group.
【0038】アリールスルホニルオキシ基としては、ベ
ンゼンスルホニルオキシ基、o−トルエンスルホニルオ
キシ基、m−トルエンスルホニルオキシ基、p−トルエ
ンスルホニルオキシ基、α−ナフタレンスルホニルオキ
シ基及びβ−ナフタレンスルホニルオキシ基等が挙げら
れる。Examples of the arylsulfonyloxy group include benzenesulfonyloxy, o-toluenesulfonyloxy, m-toluenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy, α-naphthalenesulfonyloxy and β-naphthalenesulfonyloxy. Is mentioned.
【0039】ハロゲン化アルキルスルホニルオキシ基と
しては、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙
げられる。Examples of the halogenated alkylsulfonyloxy group include a trifluoromethanesulfonyloxy group.
【0040】水酸基の保護基としては、水酸基の保護基
として通常知られている保護基であれば特に制限はな
く、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、
トリイソプロピルシリル基、t-ブチルジメチルシリル
基、t-ブチルジフェニルシリル基などの三置換シリル
基;メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、1
−(エトキシ)エチル基、メトキシイソプロピル基など
の1−(アルコキシ)アルキル基;テトラヒドロフラニ
ル基、テトラヒドロピラニル基などの2−オキサシクロ
アルキル基;t-ブチル基などのアルキル基;ベンジル
基、パラメトキシベンジル基などのアラルキル基;アリ
ル基、プロペニル基などのアルケニル基;パラメトキシ
フェニル基などのアリール基;アセチル基、トリフルオ
ロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイ
ル基、ベンゾイル基、メチルベンゾイル基などのアシル
基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プ
ロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボ
ニル基、ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシ
カルボニル基、t-ブチルオキシカルボニル基などのア
ルコキシカルボニル基等が挙げられ、中間体としての使
い勝手の点から2−オキサシクロアルキル基及びアシル
基等が好ましく、例えば、テトラヒドロピラニル基及び
ベンゾイル基が好ましい。The protecting group for the hydroxyl group is not particularly limited as long as it is a protecting group generally known as a protecting group for a hydroxyl group. For example, a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group,
Trisubstituted silyl groups such as triisopropylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group; methoxymethyl group, methoxyethoxymethyl group, 1
-1- (alkoxy) alkyl groups such as (ethoxy) ethyl group and methoxyisopropyl group; 2-oxacycloalkyl groups such as tetrahydrofuranyl group and tetrahydropyranyl group; alkyl groups such as t-butyl group; benzyl group and para group Aralkyl groups such as methoxybenzyl group; alkenyl groups such as allyl group and propenyl group; aryl groups such as paramethoxyphenyl group; acetyl group, trifluoroacetyl group, propionyl group, butyryl group, pivaloyl group, benzoyl group, methylbenzoyl group Acyl groups such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, t-butyloxycarbonyl group, etc. Etc., and 2-oxa-cycloalkyl group and acyl group are preferable in terms of usability as intermediates, for example, a tetrahydropyranyl group and a benzoyl group.
【0041】好ましい、R1、R2、R3及びXについて
説明する。Preferred R 1 , R 2 , R 3 and X will be described.
【0042】好ましいR1としては、直鎖、分枝若しく
は環状のC1-6アルキル基、フェニル基及びベンジル基が
挙げられ、より好ましくはメチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル
基、s−ブチル基、t−ブチル基、ベンジル基及びフェ
ニル基が挙げられ、更に好ましくはメチル基が挙げられ
る。[0042] Preferred R 1, straight-chain, branched or cyclic C 1-6 alkyl group and a phenyl group and a benzyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, i- propyl Groups, n-butyl group, i-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, benzyl group and phenyl group, and more preferably a methyl group.
【0043】好ましいR2としては、直鎖、分枝若しく
は環状のC1-6アルキル基、直鎖、分枝若しくは環状のC
2-6アルケニル基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アル
キニル基、フェニル基及びベンジル基が挙げられ、より
好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i
−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチ
ル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、ベンジル基及
びフェニル基が挙げられ、更に好ましくはメチル基、エ
チル基及びベンジル基が挙げられる。Preferred R 2 is a linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group, a linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group.
2-6 alkenyl group, linear, branched or cyclic C 2-6 alkynyl group, phenyl group and benzyl group, more preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group, i
-Propyl group, n-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, benzyl group and phenyl group, more preferably methyl group, ethyl group and benzyl group. No.
【0044】好ましいR3としては、直鎖、分枝若しく
は環状のC1-6アルキル基、直鎖、分枝若しくは環状のC
2-6アルケニル基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アル
キニル基、フェニル基及びベンジル基が挙げられ、より
好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i
−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチ
ル基、アリル基、2−ブテニル基、1−メチル−2−プ
ロぺニル基、2−メチル−2−プロぺニル基、2−ペン
テニル基、1,2−ジメチル−2−プロぺニル基、1−
エチル−2−プロぺニル基、1−メチル−2−ブテニル
基、2,4−ペンタジエニル基、2−ヘキセニル基、
2,4−ヘキサジエニル基及びベンジル基が挙げられ、
更に好ましくはメチル基、エチル基、t−ブチル基、ア
リル基、及びベンジル基が挙げられる。Preferred R 3 is a straight-chain, branched or cyclic C 1-6 alkyl group, a straight-chain, branched or cyclic C 1-6 alkyl group.
2-6 alkenyl group, linear, branched or cyclic C 2-6 alkynyl group, phenyl group and benzyl group, more preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group, i
-Propyl group, n-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, allyl group, 2-butenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 2 -Pentenyl group, 1,2-dimethyl-2-propenyl group, 1-
Ethyl-2-propenyl group, 1-methyl-2-butenyl group, 2,4-pentadienyl group, 2-hexenyl group,
2,4-hexadienyl group and benzyl group,
More preferred are a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group, an allyl group, and a benzyl group.
【0045】好ましいXとしては、ハロゲン原子及びC
1-4アルキルスルホニルオキシ基が挙げられ、より好ま
しくは、塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ
基が挙げられ、更に好ましくは塩素原子が挙げられる。Preferred X is a halogen atom and C
1-4 alkylsulfonyloxy group, more preferably, chlorine atom, bromine atom and methanesulfonyloxy group, further preferably, chlorine atom.
【0046】R1、R2、R3及びXの好ましい組み合わ
せを以下に示した。Preferred combinations of R 1 , R 2 , R 3 and X are shown below.
【0047】R1がメチル基であり、R2が直鎖、分枝若
しくは環状のC1-6アルキル基、直鎖、分枝若しくは環状
のC2-6アルケニル基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6ア
ルキニル基、フェニル基又はベンジル基であり、Xが塩
素原子であり、R3が直鎖、分枝若しくは環状のC1-6ア
ルキル基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルケニル
基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルキニル基、フェ
ニル基又はベンジル基。R 1 is a methyl group, R 2 is a linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group, a linear, branched or cyclic C 2-6 alkenyl group, linear, branched or cyclic C 2-6 alkynyl group, a phenyl group or a benzyl group, X is a chlorine atom, R 3 is a linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group, straight chain, branched or cyclic A C 2-6 alkenyl group, a linear, branched or cyclic C 2-6 alkynyl group, a phenyl group or a benzyl group;
【0048】好ましい製造方法を以下に示した。 (1) 式(3)A preferred production method is shown below. (1) Equation (3)
【0049】[0049]
【化31】 Embedded image
【0050】(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を
表し、R3は、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類
金属、直鎖、分枝若しくは環状のC1-6アルキル基、直
鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルケニル基、直鎖、分枝
若しくは環状のC2-6アルキニル基、フェニル基又はベン
ジル基を表す。)で表される、3−置換−2−シアノブ
タンジカルボン酸類又はその鏡像異性体を脱炭酸するこ
とにより製造される式(4)(Wherein, R 1 and R 2 have the same meanings as described above, and R 3 is a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group) A straight-chain, branched or cyclic C 2-6 alkenyl group, a straight-chain, branched or cyclic C 2-6 alkynyl group, a phenyl group or a benzyl group. Formula (4) produced by decarboxylation of cyanobutanedicarboxylic acids or their enantiomers
【0051】[0051]
【化32】 Embedded image
【0052】(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を
表す。)で表される、2−置換−3−シアノプロパン酸
エステル類又はその鏡像異性体を還元することを特徴と
する、式(5)(Wherein R 1 and R 2 have the same meanings as described above), characterized in that they reduce 2-substituted-3-cyanopropanoic acid esters or their enantiomers. Equation (5)
【0053】[0053]
【化33】 Embedded image
【0054】(式中、R1は前記と同じ意味を表す。)
で表される、3−置換−4−ヒドロキシブチルアミン類
又はその鏡像異性体の製造方法。 (2) 式(1)(In the formula, R 1 has the same meaning as described above.)
A method for producing a 3-substituted-4-hydroxybutylamine or an enantiomer thereof represented by the formula: (2) Equation (1)
【0055】[0055]
【化34】 Embedded image
【0056】(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を
表し、Xはハロゲン原子、C1-4アルキルスルホニルオキ
シ基、ハロゲン化アルキルスルホニルオキシ基又はアリ
ールスルホニルオキシ基を表す。)で表される光学活性
2−置換酢酸類又はその鏡像異性体と式(2)(Wherein, R 1 and R 2 have the same meanings as described above, and X represents a halogen atom, a C 1-4 alkylsulfonyloxy group, a halogenated alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group.) An optically active 2-substituted acetic acid or an enantiomer thereof represented by the formula (2):
【0057】[0057]
【化35】 Embedded image
【0058】(式中、R3は、前記と同じ意味を表
す。)で表されるシアノ酢酸類を塩基の存在下で反応さ
せることにより製造される式(3)(Wherein, R 3 has the same meaning as described above), which is produced by reacting a cyanoacetic acid represented by the formula (3) in the presence of a base.
【0059】[0059]
【化36】 Embedded image
【0060】(式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ
意味を表す。)で表される、3−置換−2−シアノブタ
ンジカルボン酸類又はその鏡像異性体を用いることを特
徴とする(1)記載の3−置換−4−ヒドロキシブチル
アミン類又はその鏡像異性体の製造方法。(Wherein R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as described above), characterized by using 3-substituted-2-cyanobutanedicarboxylic acids or their enantiomers. (1) A method for producing a 3-substituted-4-hydroxybutylamine or an enantiomer thereof according to (1).
【0061】本願発明の3−置換−4−ヒドロキシブチ
ルアミン類及びその誘導体の製造方法は下記の反応スキ
ームで表される。The process for producing the 3-substituted-4-hydroxybutylamines and derivatives thereof of the present invention is represented by the following reaction scheme.
【0062】[0062]
【化37】 Embedded image
【0063】光学活性2−置換−3−シアノプロパン酸
エステル類(4)を還元することにより、光学活性3−
置換−4−ヒドロキシブチルアミン類(5)を製造する
ことができ、又、光学活性2−置換−3−シアノプロパ
ン酸エステル類(4)のエステルを選択的に還元し、光
学活性3−置換−4−ヒドロキシブチロニトリル類
(7)とした後、更に還元することにより光学活性3−
置換−4−ヒドロキシブチルアミン類(5)を製造する
こともできる。By reducing the optically active 2-substituted-3-cyanopropanoic acid esters (4), the optically active 3-
The substituted 4-hydroxybutylamines (5) can be produced, and the ester of the optically active 2-substituted-3-cyanopropanoic acid esters (4) is selectively reduced to give the optically active 3-substituted After being converted to 4-hydroxybutyronitriles (7), the optically active 3-
Substituted-4-hydroxybutylamines (5) can also be produced.
【0064】光学活性3−置換−4−ヒドロキシブチル
アミン類(5)は、水酸基を保護することにより、光学
活性3−置換−4−置換オキシ−ブチルアミン類(6)
とすることができる。The optically active 3-substituted-4-hydroxybutylamines (5) can be protected by protecting the hydroxyl group to form the optically active 3-substituted-4-substituted oxy-butylamines (6).
It can be.
【0065】光学活性3−置換−4−置換オキシ−ブチ
ルアミン類(6)は又、光学活性3−置換−4−ヒドロ
キシブチロニトリル類(7)の水酸基を保護し、光学活
性3−置換−4−置換オキシ−ブチロニトリル類(8)
とした後、還元することによっても製造することができ
る。The optically active 3-substituted-4-substituted oxy-butylamines (6) also protect the hydroxyl group of the optically active 3-substituted-4-hydroxybutyronitriles (7) to give an optically active 3-substituted oxy-butylamine. 4-substituted oxy-butyronitriles (8)
, And then can be produced by reduction.
【0066】光学活性2−置換−3−シアノプロパン酸
エステル類(4)は、光学活性2−置換酢酸類(1)と
シアノ酢酸類との縮合反応により製造される3−置換−
2−シアノブタンジカルボン酸類(3)を脱炭酸する事
により製造することができる。The optically active 2-substituted-3-cyanopropanoic acid esters (4) are prepared by a condensation reaction of the optically active 2-substituted acetic acids (1) with cyanoacetic acids.
It can be produced by decarboxylating 2-cyanobutanedicarboxylic acids (3).
【0067】上記反応スキームの製造工程は、逐次進め
ることもできるが、条件を選ぶことにより連続化するこ
とも可能である。The production steps of the above reaction scheme can be carried out sequentially, but can be made continuous by selecting conditions.
【0068】得られた化合物(6)は特開平10−10
9989号公報記載の薬理活性化合物に導くことができ
る。The obtained compound (6) was prepared according to the method described in
No. 9989 can be derived.
【0069】〔化合物(1)から化合物(3)の製造〕
光学活性2−置換酢酸類(1)又はその鏡像異性体とシ
アノ酢酸類(2)を塩基存在下で反応させることによ
り、3−置換−2−シアノブタンジカルボン酸(3)又
はその鏡像異性体を製造することができる。[Production of Compound (3) from Compound (1)]
An optically active 2-substituted acetic acid (1) or an enantiomer thereof is reacted with a cyanoacetic acid (2) in the presence of a base to give a 3-substituted-2-cyanobutanedicarboxylic acid (3) or an enantiomer thereof. Can be manufactured.
【0070】反応は大気中でも実施可能であるが、窒
素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ま
しい。The reaction can be carried out in the air, but is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon.
【0071】使用する塩基としては、無機塩基及び有機
塩基が挙げられる。The base used includes an inorganic base and an organic base.
【0072】無機塩基としては、水素化リチウム、水素
化ナトリウム及び水素化カリウム等の水素化アルカリ金
属、水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金属、金
属リチウム、金属ナトリウム及び金属カリウム等のアル
カリ金属、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸カルシウム及び炭酸セシウム等の金属炭酸塩、
ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド及び
リチウムヘキサメチルジシラジド等の金属アミド、カリ
ウムt-ブトキシド、ナトリウムメトキシド及びナトリウ
ムエトキシド等の金属アルコキシド、水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化カルシウ
ム等の金属水酸化物等が挙げられる。Examples of the inorganic base include an alkali metal hydride such as lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride, an alkaline earth metal hydride such as calcium hydride, and an alkali metal such as lithium metal, sodium metal and potassium potassium. Metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate and cesium carbonate;
Metal amides such as sodium amide, lithium diisopropylamide and lithium hexamethyldisilazide, metal alkoxides such as potassium t-butoxide, sodium methoxide and sodium ethoxide, lithium hydroxide,
Metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and calcium hydroxide are exemplified.
【0073】有機塩基としては、トリエチルアミン、ピ
ロリジン、ピペリジン、モルホリン等の脂肪族アミン
類、ピリジン等の芳香族アミン類等が挙げられる。Examples of the organic base include aliphatic amines such as triethylamine, pyrrolidine, piperidine and morpholine, and aromatic amines such as pyridine.
【0074】好ましい塩基としては、無機塩基が挙げら
れ、例えば、水素化アルカリ金属及び金属炭酸塩が挙げ
られ、又、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸カルシウム及び炭酸セシウムが挙げ
られ、又、例えば、水素化ナトリウム、炭酸カリウム及
び炭酸セシウムが挙げられる。Preferred bases include inorganic bases, such as alkali metal hydrides and metal carbonates. Also, for example, lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride, lithium carbonate, sodium carbonate,
Examples include potassium carbonate, calcium carbonate and cesium carbonate, and also include, for example, sodium hydride, potassium carbonate and cesium carbonate.
【0075】反応の操作及び条件は、使用する塩基の種
類によって、多少異なる。The operation and conditions of the reaction differ somewhat depending on the type of base used.
【0076】水素化アルカリ金属、水素化アルカリ土類
金属、アルカリ金属、金属アミド、金属アルコキシド等
の塩基性の高い塩基を用いる場合は、以下に示す条件で
反応を行うことができる。When a highly basic base such as an alkali metal hydride, alkaline earth metal hydride, alkali metal, metal amide, or metal alkoxide is used, the reaction can be carried out under the following conditions.
【0077】即ち、上述の反応を行う際、シアノ酢酸類
(2)(無溶媒又は溶媒で希釈)に塩基を加えてもよい
が、塩基(無溶媒又は溶媒で希釈)にシアノ酢酸類
(2)を加える事もできる。シアノ酢酸類(2)と塩基
を含む溶液を撹拌した後、光学活性2−置換酢酸類
(1)又はその鏡像異性体(無溶媒又は溶媒で希釈)を
加え反応させてもよいが、前記のシアノ酢酸類(2)に
塩基を加えて調整した反応溶液(無溶媒又は溶媒で希
釈)を、光学活性2−置換酢酸類(1)又はその鏡像異
性体(無溶媒又は溶媒で希釈)に加え、反応させる事も
できる。That is, when the above reaction is carried out, a base may be added to the cyanoacetic acid (2) (without solvent or diluted with a solvent). ) Can be added. After stirring the solution containing the cyanoacetic acid (2) and the base, the optically active 2-substituted acetic acid (1) or an enantiomer thereof (without solvent or diluted with a solvent) may be added and reacted. A reaction solution prepared by adding a base to cyanoacetic acid (2) (without solvent or diluted with a solvent) is added to the optically active 2-substituted acetic acid (1) or its enantiomer (without solvent or diluted with solvent). , Can also react.
【0078】シアノ酢酸類(2)に塩基を加えるか又は
塩基にシアノ酢酸類(2)を加える際の温度としては、
通常−110℃から反応に使用する溶媒の沸点の範囲で
行うことができ、好ましくは−50〜70℃の範囲であ
り、さらに好ましくは−5〜50℃の範囲である。The temperature at which the base is added to the cyanoacetic acid (2) or when the cyanoacetic acid (2) is added to the base is as follows:
The reaction can be usually carried out within the range of -110 ° C to the boiling point of the solvent used in the reaction, preferably in the range of -50 to 70 ° C, more preferably in the range of -5 to 50 ° C.
【0079】シアノ酢酸類(2)に塩基を加えるか又は
塩基にシアノ酢酸類(2)を加える際の時間としては、
内温上昇が初期温度から0〜10℃の範囲内の変動で収
まるのであれば特に限定はしないが、1分から24時間
の範囲で行うことができ、好ましくは、1分から10時
間の範囲である。The time for adding the base to the cyanoacetic acid (2) or adding the cyanoacetic acid (2) to the base is as follows.
There is no particular limitation as long as the internal temperature rise falls within a range of 0 to 10 ° C. from the initial temperature, but it can be performed in a range of 1 minute to 24 hours, and preferably in a range of 1 minute to 10 hours. .
【0080】シアノ酢酸類(2)に塩基を加えるか又は
塩基にシアノ酢酸類(2)を加え撹拌する際の温度とし
ては−110℃から反応に使用する溶媒の沸点の範囲で
行うことができ、好ましくは−10〜100℃の範囲で
あり、さらに好ましくは0〜70℃の範囲である。The temperature at which a base is added to the cyanoacetic acid (2) or the base is added and the stirring is carried out can be from -110 ° C. to the boiling point of the solvent used in the reaction. , Preferably in the range of -10 to 100C, more preferably in the range of 0 to 70C.
【0081】シアノ酢酸類(2)に塩基を加えるか又は
塩基にシアノ酢酸類(2)を加え撹拌する際の時間は、
通常0.1〜10時間の範囲で行うことができ、好まし
くは0.25〜1時間攪拌すれば充分である。The time when a base is added to the cyanoacetic acids (2) or when the cyanoacetic acids (2) are added to the base and stirred is as follows:
Usually, the reaction can be carried out for 0.1 to 10 hours, preferably 0.25 to 1 hour.
【0082】光学活性2−置換酢酸類(1)又はその鏡
像異性体をシアノ酢酸類(2)に塩基を加えて調整した
反応溶液に加えるか、又はシアノ酢酸類(2)に塩基を
加えて調整した反応溶液を光学活性2−置換酢酸類
(1)又はその鏡像異性体に加える際の温度範囲として
は−110℃から反応に使用する溶媒の沸点の範囲で行
うことができ、好ましくは−50〜100℃の範囲であ
り、さらに好ましくは−10〜100℃の範囲である。The optically active 2-substituted acetic acid (1) or its enantiomer is added to a reaction solution prepared by adding a base to cyanoacetic acid (2), or a base is added to cyanoacetic acid (2). The temperature range for adding the adjusted reaction solution to the optically active 2-substituted acetic acid (1) or its enantiomer can be from -110 ° C to the boiling point of the solvent used in the reaction, preferably-. The temperature is in the range of 50 to 100C, and more preferably in the range of -10 to 100C.
【0083】光学活性2−置換酢酸類(1)又はその鏡
像異性体をシアノ酢酸類(2)に塩基を加えて調整した
反応溶液に加えるか、又はシアノ酢酸類(2)に塩基を
加えて調整した反応溶液を光学活性2−置換酢酸類
(1)又はその鏡像異性体に加える際の時間としては、
内温上昇が初期温度から0〜10℃の範囲内の変動で収
まるのであれば特に限定はしないが、1分から24時間
の範囲で行うことができ、好ましくは、1分から10時
間行えば充分である。The optically active 2-substituted acetic acid (1) or its enantiomer is added to a reaction solution prepared by adding a base to cyanoacetic acid (2), or a base is added to cyanoacetic acid (2). The time for adding the prepared reaction solution to the optically active 2-substituted acetic acid (1) or its enantiomer is as follows:
There is no particular limitation as long as the internal temperature rise falls within a range of 0 to 10 ° C. from the initial temperature, but it can be carried out in a range of 1 minute to 24 hours, preferably 1 minute to 10 hours. is there.
【0084】反応させる温度としては特に限定されるも
のではないが、通常−110℃から反応に使用する溶媒
の沸点の範囲で行うことができ、好ましくは−10〜1
00℃の範囲である。The reaction temperature is not particularly limited, but it can be usually from -110 ° C to the boiling point of the solvent used in the reaction, preferably from -10 to 1
It is in the range of 00 ° C.
【0085】反応させる時間は、反応させる温度により
変化するため一概に規定できないが、例えば、反応温度
が25℃の場合は、通常1〜50時間の範囲であり、好
ましくは3〜20時間行えば充分である。The reaction time varies depending on the reaction temperature and cannot be specified unconditionally. For example, when the reaction temperature is 25 ° C., the reaction time is usually in the range of 1 to 50 hours, preferably 3 to 20 hours. Is enough.
【0086】金属炭酸塩等の塩基性のさほど高くない塩
基を用いる場合は、以下に示す条件で反応を行うことが
できる。When a base not so basic such as a metal carbonate is used, the reaction can be carried out under the following conditions.
【0087】即ち、上述の反応を行う際、シアノ酢酸類
(2)、光学活性2−置換酢酸類(1)及び塩基は、任
意の順番で加えることができ、最終的に、シアノ酢酸類
(2)、光学活性2−置換酢酸類(1)及び塩基の3つ
が混合された状態になっていればどのような方法を用い
ても構わない。又、その際の温度は、通常−110℃か
ら反応に使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができ、
好ましくは−50〜70℃の範囲であり、さらに好まし
くは−5〜50℃の範囲である。又、加える際の時間
は、特に限定されない。That is, in carrying out the above reaction, the cyanoacetic acid (2), the optically active 2-substituted acetic acid (1) and the base can be added in an arbitrary order. 2) Any method may be used as long as three optically active 2-substituted acetic acids (1) and a base are mixed. In addition, the temperature at that time can be carried out usually in the range of -110 ° C to the boiling point of the solvent used in the reaction,
The temperature is preferably in the range of -50 to 70C, and more preferably in the range of -5 to 50C. The time for adding is not particularly limited.
【0088】反応させる温度としては特に限定されるも
のではないが、通常−110℃から反応に使用する溶媒
の沸点の範囲で行うことができ、好ましくは−10〜1
00℃の範囲である。The reaction temperature is not particularly limited, but it can be usually from -110 ° C to the boiling point of the solvent used in the reaction, preferably from -10 to -1.
It is in the range of 00 ° C.
【0089】反応させる時間は、反応させる温度により
変化するため一概に規定できないが、例えば、反応温度
が25℃の場合は、通常1〜50時間の範囲であり、好
ましくは3〜20時間行えば充分である。The reaction time varies depending on the reaction temperature and cannot be specified unconditionally. For example, when the reaction temperature is 25 ° C., the reaction time is usually in the range of 1 to 50 hours, preferably 3 to 20 hours. Is enough.
【0090】光学活性2−置換酢酸類(1)又はその鏡
像異性体は、合成品を用いることができるが、市販品を
そのまま用いることもできる。As the optically active 2-substituted acetic acid (1) or its enantiomer, a synthetic product can be used, but a commercial product can also be used as it is.
【0091】光学活性2−置換酢酸類(1)又はその鏡
像異性体とシアノ酢酸類(2)のモル比は任意に設定で
きるが、通常0.5〜5((2)/(1))倍モルの範
囲が挙げられ、好ましくは0.8〜2.1((2)/
(1))倍モルの範囲があげられる。The molar ratio of the optically active 2-substituted acetic acid (1) or its enantiomer to the cyanoacetic acid (2) can be arbitrarily set, but is usually from 0.5 to 5 ((2) / (1)). And a molar ratio of from 0.8 to 2.1 ((2) /
(1)) The range of the molar amount is mentioned.
【0092】使用する塩基のシアノ酢酸類(2)に対す
るモル比も任意に設定できる。水素化アルカリ金属、水
素化アルカリ土類金属、アルカリ金属、金属アミド、金
属アルコキシド等の塩基性の高い塩基を用いる場合は、
通常0.5〜5(塩基/(2))倍モルが挙げられる
が、塩基が1倍モル以上になるとラセミ化が進行するた
め、ラセミ化を抑えるためには1倍モル以下が好まし
く、更に好ましくは0.8〜1倍モルの範囲があげられ
る。The molar ratio of the base used to the cyanoacetic acids (2) can also be set arbitrarily. When using a highly basic base such as alkali metal hydride, alkaline earth metal hydride, alkali metal, metal amide, and metal alkoxide,
Usually, a 0.5 to 5 (base / (2)) mole is used, but when the base is 1 mole or more, racemization proceeds. Therefore, to suppress racemization, 1 mole or less is preferable. Preferably, the range is 0.8 to 1 mole.
【0093】金属炭酸塩等の塩基性のさほど高くない塩
基を用いる場合は、通常0.5〜5(塩基/(2))倍
モルが挙げられ、好ましくは、例えば、0.8〜2.0倍
モルの範囲が挙げられ、又、例えば、0.8〜1.5倍モ
ルの範囲が挙げられ、又、例えば、0.8〜1.2倍モル
の範囲が挙げられる。When a base having a not so high basicity such as a metal carbonate is used, the molar ratio is usually 0.5 to 5 (base / (2)) times, and preferably 0.8 to 2.5 times. The molar range is 0 times, for example, the range of 0.8 to 1.5 times, and for example, the range of 0.8 to 1.2 times.
【0094】反応は無溶媒でも進行するが、通常は溶媒
を用いた方が好ましく、溶媒の種類としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族化
合物類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化
水素類、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン化炭
化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニト
リル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N, N−ジメ
チルホルムアミド、N−メチルピロリドン、N, N’−ジ
メチルイミダゾリノン等のアミド類、ジメチルスルホキ
シドおよびこれらの混合物があげられ、好ましくはアミ
ド類があげられ、より好ましくは、N, N−ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン及びN, N’−ジメチル
イミダゾリノンが挙げられる。The reaction proceeds even without solvent, but it is usually preferable to use a solvent. Examples of the solvent include aromatic compounds such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, and carbonized compounds such as hexane, heptane and cyclohexane. Hydrogens, halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride, ethers such as dioxane, tetrahydrofuran and dimethoxyethane, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile, N , N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, amides such as N, N'-dimethylimidazolinone, dimethylsulfoxide and mixtures thereof, preferably amides, more preferably N, N- Dimethylformamide, N-methylpyrroli Emissions and N, N'-dimethyl imidazolinone and the like.
【0095】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは5.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent to be used can be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 5.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0096】尚、ここでいう溶媒を使用する際の量と
は、光学活性2−置換酢酸類(1)又はその鏡像異性
体、シアノ酢酸類(2)、塩基等を溶媒で希釈して使用
する場合においては、それらの溶媒量をも付加した、用
いた溶媒量の総和を意味する。The amount of the solvent used here means that the optically active 2-substituted acetic acid (1) or its enantiomer, cyanoacetic acid (2), a base or the like is diluted with a solvent. In this case, the total amount of the used solvents means the sum of the amounts of the solvents.
【0097】反応の転化率に関しては、あまり高くして
しまうと、ラセミ化する割合が増えてしまうため、好ま
しい転化率としては、例えば、95%以下、又は、例え
ば、98%以下の範囲である。If the conversion of the reaction is too high, the rate of racemization increases, so that a preferable conversion is, for example, 95% or less, or for example, 98% or less. .
【0098】反応終了後、反応混合物を冷水等へ注ぎ入
れる、あるいは冷水等を反応混合物へ注ぎ入れた後、塩
酸等の酸を加えて中性〜酸性とし、例えば酢酸エチル、
トルエン等の溶媒を抽出溶媒として加えて抽出操作を行
う。 分離した有機層に、場合によっては重曹水溶液、
食塩水溶液等を加えて水洗操作を行う。 分離した有機
層を硫酸マグネシウム等の乾燥剤で乾燥し、減圧下で溶
媒を留去することで3位の不斉炭素の光学純度の高い3
−置換−2−シアノブタンジカルボン酸類(3)又はは
その鏡像異性体を得ることができる。 さらにシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー、蒸留あるいは再結晶によ
り容易に精製することができる。After completion of the reaction, the reaction mixture is poured into cold water or the like, or cold water or the like is poured into the reaction mixture, and then an acid such as hydrochloric acid is added to make the mixture neutral to acidic.
An extraction operation is performed by adding a solvent such as toluene as an extraction solvent. In the separated organic layer, an aqueous solution of sodium bicarbonate,
Washing operation is performed by adding a saline solution or the like. The separated organic layer is dried with a desiccant such as magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure.
-Substituted-2-cyanobutanedicarboxylic acids (3) or enantiomers thereof can be obtained. Further, it can be easily purified by silica gel column chromatography, distillation or recrystallization.
【0099】〔化合物(3)から化合物(4)の製造〕
化合物(3)を脱炭酸することにより化合物(4)を製
造することができる。[Production of Compound (4) from Compound (3)]
Compound (4) can be produced by decarboxylation of compound (3).
【0100】A. 特にR3が、水素原子、アルカリ金属、
アルカリ土類金属、直鎖、分枝若しくは環状のC1-6アル
キル基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルキニル基、
フェニル基又はベンジル基の場合、大気中、若しくは不
活性ガス雰囲気下で、化合物(3)を含水溶媒中で加熱
することにより化合物(4)が得られる。 この際、塩
を加えて反応を行ってもよい。A. Particularly when R 3 is a hydrogen atom, an alkali metal,
Alkaline earth metal, linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group, linear, branched or cyclic C 2-6 alkynyl group,
In the case of a phenyl group or a benzyl group, compound (4) can be obtained by heating compound (3) in a water-containing solvent in the air or under an inert gas atmosphere. At this time, the reaction may be performed by adding a salt.
【0101】この際、加熱温度としては通常50〜25
0℃が挙げられ、好ましくは100〜200℃が挙げら
れる。At this time, the heating temperature is usually 50 to 25.
0 ° C, preferably 100 to 200 ° C.
【0102】化合物(3)に対する水の量としては通常
1.0〜20倍モルが挙げられ、好ましくは1.0〜10
倍モルが挙げられる。The amount of water relative to compound (3) is usually 1.0 to 20 moles, and preferably 1.0 to 10 moles.
Times molar.
【0103】塩としては、酢酸リチウム、酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウムなどの金属酢酸塩、塩化リチウム、塩
化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウムなどの金
属塩化物、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウ
ム、臭化カルシウムなどの金属臭化物、ヨウ化リチウ
ム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなどの金属ヨウ
化物、あるいはシアン化リチウム、シアン化ナトリウ
ム、シアン化カリウム、シアン化カルシウムなどのシア
ン化物、リン酸ナトリウム、リン酸カリウムなどのリン
酸塩類、あるいは酢酸テトラメチルアンモニウムなどの
アンモニウム塩類が挙げられ、好ましくは塩化ナトリウ
ム、シアン化ナトリウムが挙げられる。Examples of the salt include metal acetates such as lithium acetate, sodium acetate and potassium acetate; metal chlorides such as lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride and calcium chloride; lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide; Metal bromides such as calcium bromide, metal iodides such as lithium iodide, sodium iodide, and potassium iodide, or cyanides such as lithium cyanide, sodium cyanide, potassium cyanide, and calcium cyanide, sodium phosphate, and phosphoric acid Phosphates such as potassium and ammonium salts such as tetramethylammonium acetate are exemplified, and preferred are sodium chloride and sodium cyanide.
【0104】化合物(3)に対する塩の量としては通常
0〜20倍モルが挙げられる。The amount of the salt relative to the compound (3) is usually 0 to 20 moles.
【0105】反応は無溶媒でも進行するが、通常は溶媒
を用いた方が好ましく、溶媒の種類としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族化
合物類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化
水素類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン
等のハロゲン化炭化水素類、エチレングリコール、ジエ
チレングリコールなどのアルコール類、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類、アセトニトリル、イソブチロニトリル
等のニトリル類、N, N−ジメチルホルムアミド、N−メ
チルピロリドン、N, N’−ジメチルイミダゾリノン等の
アミド類、ジメチルスルホキシドおよびこれらの混合物
があげられ、好ましくは、N, N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドが挙げられる。The reaction proceeds even without solvent, but it is usually preferable to use a solvent. Examples of the type of solvent include aromatic compounds such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, and carbonized compounds such as hexane, heptane and cyclohexane. Hydrogens, chloroform, methylene chloride, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, ethylene glycol, alcohols such as diethylene glycol, dioxane, tetrahydrofuran, ethers such as dimethoxyethane,
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile, amides such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, N, N'-dimethylimidazolinone, dimethyl sulfoxide And a mixture thereof, and preferably, N, N-dimethylformamide and dimethylsulfoxide.
【0106】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent used can be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0107】B. 特にR3が、直鎖、分枝若しくは環状の
C2-6アルケニル基、又はベンジル基の場合、化合物
(3)に金属触媒とギ酸の存在下、加熱することで合物
(4)が得られる。B. In particular, when R 3 is linear, branched or cyclic
In the case of a C 2-6 alkenyl group or a benzyl group, compound (4) is obtained by heating compound (3) in the presence of a metal catalyst and formic acid.
【0108】使用する金属触媒としては、Pd/C、Pd(OA
c)2、Pd(OAc)2-PPh3 、Pd2(dba)3(dba:ジベンジリデ
ンアセトン)、Pd2(dba)3-PPh3、PdCl2(PPh3)2、PdCl
2(CH3CN) 2、PdCl2、Pd(PPh3)4などのパラジウム触媒が
挙げられる。As the metal catalyst to be used, Pd / C, Pd (OA
c)Two, Pd (OAc)Two-PPhThree , PdTwo(dba)Three(Dba: dibenzylide
Acetone), PdTwo(dba)Three-PPhThree, PdClTwo(PPhThree)Two, PdCl
Two(CHThreeCN) Two, PdClTwo, Pd (PPhThree)FourSuch as palladium catalyst
No.
【0109】使用する金属触媒の量としては、化合物
(3)に対して、通常0.001〜1.0モル倍が挙げら
れる。The amount of the metal catalyst to be used is usually 0.001 to 1.0 mole times with respect to the compound (3).
【0110】使用するギ酸の量としては、化合物(3)
に対して、通常1.0〜10モル倍が挙げられ、好まし
くは1.0〜5.0倍モルが挙げられる。The amount of formic acid to be used may be the same as that of compound (3)
The molar ratio is usually 1.0 to 10 moles, preferably 1.0 to 5.0 moles.
【0111】反応系中に、更にホスフィン配位子を加え
て反応することもできる。The reaction can be carried out by further adding a phosphine ligand to the reaction system.
【0112】ホスフィン配位子としては、トリフェニル
ホスフィン、P(p-Tol)3(p-Tol:パラトリル)、dpp
e(Ph2P(CH2)2PPh2)、dppb(Ph2P(CH2)4PPh2)等
のアリールホスフィン類及びトリノルマルブチルホスフ
ィン等のアルキルホスフィン類が挙げられる。Examples of the phosphine ligand include triphenylphosphine, P (p-Tol) 3 (p-Tol: paratolyl), dpp
aryl phosphines such as e (Ph 2 P (CH 2 ) 2 PPh 2 ) and dppb (Ph 2 P (CH 2 ) 4 PPh 2 ); and alkyl phosphines such as tri-normal butyl phosphine.
【0113】ホスフィン配位子を加える場合の使用量
は、金属触媒の使用量に対して、通常0.5〜10当量
の範囲であり、好ましくは1〜5当量の範囲である。When the phosphine ligand is added, the amount used is usually in the range of 0.5 to 10 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents, based on the amount of the metal catalyst used.
【0114】反応は無溶媒でも進行するが、通常は溶媒
を用いた方が好ましく、溶媒の種類としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族化
合物類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化
水素類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン
等のハロゲン化炭化水素類、エチレングリコール、ジエ
チレングリコールなどのアルコール類、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類、アセトニトリル、イソブチロニトリル
等のニトリル類、N, N−ジメチルホルムアミド、N−メ
チルピロリドン、N, N’−ジメチルイミダゾリノン等の
アミド類、ジメチルスルホキシドおよびこれらの混合物
があげられ、好ましくはエーテル類、さらに好ましくは
テトラヒドロフランがあげられる。溶媒を使用する際の
量は、反応基質に対し、通常0.1〜30質量倍の範囲
を用いる事ができるが、好ましくは1.0〜20質量倍
が挙げられる。The reaction proceeds even without solvent, but it is usually preferable to use a solvent. Examples of the type of the solvent include aromatic compounds such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, and carbonized compounds such as hexane, heptane and cyclohexane. Hydrogens, chloroform, methylene chloride, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, ethylene glycol, alcohols such as diethylene glycol, dioxane, tetrahydrofuran, ethers such as dimethoxyethane,
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile, amides such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, N, N'-dimethylimidazolinone, dimethyl sulfoxide And mixtures thereof, preferably ethers, and more preferably tetrahydrofuran. The amount of the solvent to be used can be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0115】反応温度は、通常0〜200℃で行われる
が、好ましくは20〜150℃が挙げられ、さらに好ま
しくは25〜70℃が挙げられる。The reaction temperature is usually from 0 to 200 ° C, preferably from 20 to 150 ° C, more preferably from 25 to 70 ° C.
【0116】〔化合物(4)から化合物(5)の製造〕
化合物(4)を還元することにより化合物(5)を製造
することができる。[Production of Compound (5) from Compound (4)]
Compound (5) can be produced by reducing compound (4).
【0117】還元方法として試薬還元と接触水素添加が
挙げられる。The reduction methods include reagent reduction and catalytic hydrogenation.
【0118】A. 試薬還元 還元剤としては、たとえばBH3-THF、BH3-SMe2、LiAlH(O
Me)3、LiAlH4、AlH3、LiBEt3H、 (i-Bu)2AlH、NaAlEt2H
2、NaBH4-ZnCl2、NaBH4-BF3OEt2、NaBH4-TMSCl、NaBH4-
LiCl、NaBH4-AlCl3、NaBH4-CoCl2などが挙げられる。A. Reagent Reduction As the reducing agent, for example, BH 3 -THF, BH 3 -SMe 2 , LiAlH (O
Me) 3, LiAlH 4, AlH 3, LiBEt 3 H, (i-Bu) 2 AlH, NaAlEt 2 H
2, NaBH 4 -ZnCl 2, NaBH 4 -BF 3 OEt 2, NaBH 4 -TMSCl, NaBH 4 -
LiCl, NaBH 4 -AlCl 3 , NaBH 4 -CoCl 2 and the like.
【0119】使用する還元剤の量としては、化合物
(4)に対して通常1.0〜20モル倍が挙げられる。The amount of the reducing agent used is usually 1.0 to 20 moles per mole of the compound (4).
【0120】反応は通常、溶媒を必要とし、溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物
類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素
類、メタノール、エタノール、t−ブチルアルコール、
エチレングリコール、ジエチレングリコールなどのアル
コール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、ジグライム等のエーテル類あるいはこれらの
混合物が挙げられる。The reaction usually requires a solvent. Examples of the solvent include aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane, methanol, ethanol, t-butyl alcohol, and the like.
Examples include alcohols such as ethylene glycol and diethylene glycol, ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, and diglyme, and mixtures thereof.
【0121】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent to be used can be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0122】反応温度は、通常−80℃から使用する溶
媒の沸点の範囲が挙げられるが、好ましくは−30℃か
ら使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられる。The reaction temperature is usually from -80 ° C to the boiling point of the solvent used, preferably from -30 ° C to the boiling point of the solvent used.
【0123】還元剤としてLiAlH4を用いる場合、使用す
るLiAlH4の量としては、化合物(4)に対して通常1.
0〜20倍モルが挙げられ、好ましくは1.0〜2.0倍
モルが挙げられる。When LiAlH 4 is used as the reducing agent, the amount of LiAlH 4 used is usually 1.
The molar amount is 0 to 20 times, preferably 1.0 to 2.0 times.
【0124】反応は通常、溶媒を必要とし、溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物
類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素
類、メタノール、エタノール、t−ブチルアルコール、
エチレングリコール、ジエチレングリコールなどのアル
コール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、ジグライム等のエーテル類あるいはこれらの
混合物が挙げられ、好ましくはエーテル類が挙げられ、
さらに好ましくはテトラヒドロフランが挙げられる。The reaction usually requires a solvent. Examples of the solvent include aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane, methanol, ethanol, t-butyl alcohol, and the like.
Ethylene glycol, alcohols such as diethylene glycol, dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, ethers such as diglyme or mixtures thereof, preferably ethers,
More preferably, tetrahydrofuran is used.
【0125】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent to be used can be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0126】反応温度は、通常−80℃から使用する溶
媒の沸点の範囲が挙げられるが、好ましくは−50℃か
ら使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられ、さらに好まし
くは−20℃から使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられ
る。The reaction temperature is usually from -80 ° C to the boiling point of the solvent used, preferably from -50 ° C to the boiling point of the solvent used, and more preferably from -20 ° C. The range of the boiling point of the solvent is mentioned.
【0127】B. 接触水素添加 化合物(4)に対して水素を通常4.0〜100倍モル
を使用する。B. Catalytic Hydrogenation Hydrogen is generally used in a molar amount of 4.0 to 100 times that of compound (4).
【0128】化合物(4)に対して触媒を通常0.00
1〜1.0倍モル使用する。The catalyst is usually added to the compound (4) in an amount of 0.00
Use 1- to 1.0-fold molar.
【0129】触媒として、酸化白金(IV)、白金ブラッ
ク、白金カーボン粉末、白金カーボンサルファイド粉末
などの白金触媒、パラジウムカーボン、パラジウムアル
ミナ、パラジウムブラック、酸化パラジウムなどのパラ
ジウム触媒、オスミウムカーボンなどのオスミウム触
媒、レニウムカーボンなどのレニウム触媒、ラネーニッ
ケルなどのニッケル触媒が挙げられる。Examples of the catalyst include platinum catalysts such as platinum (IV) oxide, platinum black, platinum carbon powder and platinum carbon sulfide powder; palladium catalysts such as palladium carbon, palladium alumina, palladium black and palladium oxide; and osmium catalysts such as osmium carbon. And rhenium catalysts such as rhenium carbon, and nickel catalysts such as Raney nickel.
【0130】反応系中に、硫酸、塩酸、リン酸、過塩素
酸などの酸類、アンモニア、ピリジン、トリエチルアミ
ン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基を加
えて反応することもできる。In the reaction system, an acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid or perchloric acid, or a base such as ammonia, pyridine, triethylamine, sodium hydroxide or potassium hydroxide can be added for the reaction.
【0131】反応は通常溶媒を必要とし、溶媒として
水、ギ酸、酢酸などの有機酸類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族化合物類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、t−ブチ
ルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ールなどのアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタン、ジグライム等のエーテル類あ
るいはこれらの混合物が挙げられる。The reaction usually requires a solvent, such as water, organic acids such as formic acid and acetic acid, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, hexane, heptane and cyclohexane. And hydrocarbons such as methanol, ethanol, t-butyl alcohol, ethylene glycol and diethylene glycol, ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane and diglyme, and mixtures thereof.
【0132】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent used can be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0133】反応温度は、通常−80℃から使用する溶
媒の沸点の範囲が挙げられるが、好ましくは25℃から
使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられる。The reaction temperature is usually from -80 ° C to the boiling point of the solvent used, preferably from 25 ° C to the boiling point of the solvent used.
【0134】反応圧力は通常、常圧〜20MPaが挙げら
れる。 〔化合物(5)から化合物(6)の製造〕化合物(5)
の水酸基を保護することにより化合物(6)を製造する
ことができる。The reaction pressure is usually from normal pressure to 20 MPa. [Production of Compound (6) from Compound (5)] Compound (5)
Compound (6) can be produced by protecting the hydroxyl group of
【0135】水酸基の保護基としては、前述の保護基が
挙げられ、これら保護基の導入および除去は文献記載の
方法を適宜採用して行うことができる(Green, T.W.; W
uts,P.G.M. “Protective Groups in Organic Synthesi
s”, 2nd Ed., Wiley Interscience Publication, John
-Weiley&Sons, New York, 1991, pp 14-118)。Examples of the protecting group for a hydroxyl group include the above-mentioned protecting groups, and the introduction and removal of these protecting groups can be carried out by appropriately employing the methods described in the literature (Green, TW; W
uts, PGM “Protective Groups in Organic Synthesi
s ”, 2nd Ed., Wiley Interscience Publication, John
-Weiley & Sons, New York, 1991, pp 14-118).
【0136】例えば、水酸基の保護基としてt−ブチル
ジメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基など
のかさ高い三置換シリル基を保護基とする場合、反応
は、t−ブチルジメチルシリルクロリド、t−ブチルジ
フェニルシリルクロリドなどの三置換シリルハライドま
たはt−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスル
ホネート、t−ブチルジフェニルシリルトリフルオロメ
タンスルホネートなどの三置換シリルトリフルオロメタ
ンスルホネートを、イミダゾール、2,6−ルチジンな
どの塩基の存在下に、化合物(5)と反応させることに
より行うことができる。For example, when a bulky trisubstituted silyl group such as a t-butyldimethylsilyl group or a t-butyldiphenylsilyl group is used as a protecting group for a hydroxyl group, the reaction is carried out using t-butyldimethylsilyl chloride, Trisubstituted silyl halides such as butyldiphenylsilyl chloride or trisubstituted silyltrifluoromethanesulfonates such as t-butyldimethylsilyltrifluoromethanesulfonate and t-butyldiphenylsilyltrifluoromethanesulfonate can be used in the presence of a base such as imidazole or 2,6-lutidine. The reaction can be carried out by reacting with compound (5) below.
【0137】又、例えば、水酸基の保護基としてアセチ
ル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基などのア
シル基を保護基とする場合、反応は無水酢酸、無水トリ
フルオロ酢酸などのカルボン酸無水物または塩化ベンゾ
イルなどのカルボン酸ハロゲン化物を、ピリジン、トリ
エチルアミンなどの塩基の存在下に化合物(5)と反応
させることにより行うことができ、また、水酸基の保護
基としてメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基
などのアルコキシカルボニル基を保護基とする場合、反
応はクロロ炭酸メチル、クロロ炭酸エチルなどのクロロ
炭酸エステルをピリジン、トリエチルアミンなどの塩基
の存在下に化合物(5)と反応させることにより行うこ
とができる。When an acyl group such as an acetyl group, a trifluoroacetyl group or a benzoyl group is used as a protecting group for a hydroxyl group, for example, the reaction is carried out with a carboxylic acid anhydride such as acetic anhydride, trifluoroacetic anhydride or a chloride. The reaction can be carried out by reacting a carboxylic acid halide such as benzoyl with a compound (5) in the presence of a base such as pyridine or triethylamine. In addition, as a protecting group for a hydroxyl group, an alkoxy group such as a methoxycarbonyl group or an ethoxycarbonyl group can be used. When a carbonyl group is used as a protecting group, the reaction can be carried out by reacting a chlorocarbonate such as methyl chlorocarbonate or ethyl chlorocarbonate with compound (5) in the presence of a base such as pyridine or triethylamine.
【0138】又、例えば、水酸基の保護基としてテトラ
ヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基などの2−
オキサシクロアルキル基を保護基とする場合、反応は、
2,3−ジヒドロフラン、2,3−ジヒドロピランなどの
不飽和環状エーテルを、酸の存在下に、化合物(5)と
反応させることにより行うことができる。Further, for example, as a protective group for a hydroxyl group, a 2-hydroxy group such as a tetrahydrofuranyl group or a tetrahydropyranyl group may be used.
When using an oxacycloalkyl group as a protecting group, the reaction is as follows:
The reaction can be carried out by reacting an unsaturated cyclic ether such as 2,3-dihydrofuran or 2,3-dihydropyran with the compound (5) in the presence of an acid.
【0139】使用する酸としては、塩酸、硫酸などの鉱
酸、あるいはギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、マンデル
酸、酒石酸などのカルボン酸類、あるいはメタンスルホ
ン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、
トリフルオロメタンスルホン酸、カンファースルホン酸
などのスルホン酸類、オキシ塩化リン、Amberlite IR-1
20(H型)が挙げられる。Examples of the acid used include mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, mandelic acid, and tartaric acid; methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and the like.
Sulfonic acids such as trifluoromethanesulfonic acid and camphorsulfonic acid, phosphorus oxychloride, Amberlite IR-1
20 (H type).
【0140】化合物(5)に対する酸の量としては、通
常0.001〜2.0倍モルが挙げられる。The amount of the acid to the compound (5) is usually 0.001 to 2.0 moles.
【0141】化合物(5)に対する不飽和環状エーテル
の量としては、0.8〜10倍モルが挙げられる。The amount of the unsaturated cyclic ether based on the compound (5) is 0.8 to 10 moles.
【0142】反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用い
てもよく、溶媒の種類としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼン等の芳香族化合物類、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素類、クロロ
ホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等のハロゲン化
炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニ
トリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N, N−ジ
メチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、N, N’−
ジメチルイミダゾリノン等のアミド類、ジメチルスルホ
キシドおよびこれらの混合物が挙げられ、好ましくはハ
ロゲン化炭化水素類、エーテル類が挙げられる。The reaction proceeds without solvent, but a solvent may be used. Examples of the solvent include benzene, toluene,
Xylene, aromatic compounds such as chlorobenzene, hexane, heptane, hydrocarbons such as cyclohexane, chloroform, methylene chloride, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, dioxane, tetrahydrofuran, ethers such as dimethoxyethane, acetone, methyl ethyl ketone, Ketones such as methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, N, N'-
Examples thereof include amides such as dimethylimidazolinone, dimethyl sulfoxide and mixtures thereof, and preferably include halogenated hydrocarbons and ethers.
【0143】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent to be used may be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0144】反応温度は、通常−80〜200℃で行わ
れるが、好ましくは−30℃から使用する溶媒の沸点の
範囲が挙げられる。The reaction is usually carried out at a temperature of from -80 to 200 ° C., preferably from -30 ° C. to the boiling point of the solvent used.
【0145】〔化合物(4)から化合物(7)の製造〕
化合物(4)を還元することにより化合物(7)を製造
することができる。[Production of compound (7) from compound (4)]
Compound (7) can be produced by reducing compound (4).
【0146】還元方法として試薬還元と接触水素添加が
挙げられる。The reduction method includes reagent reduction and catalytic hydrogenation.
【0147】A. 試薬還元 還元剤としては、たとえばBH3-THF、BH3-SMe2、LiAlH(O
Me)3、LiAlH4、AlH3、NaBH(OMe)3、LiBEt3H、(i-Bu)2Al
H、NaAlEt2H2、NaBH4-ZnCl2、NaBH4-BF3OEt2、NaBH4-TM
SCl、NaBH4-LiCl、NaBH4-AlCl3、NaBH4-CoCl2、NaBH4-H
SCH2CH2SHなどが挙げられる。A. Reagent Reduction As the reducing agent, for example, BH 3 -THF, BH 3 -SMe 2 , LiAlH (O
Me) 3, LiAlH 4, AlH 3, NaBH (OMe) 3, LiBEt 3 H, (i-Bu) 2 Al
H, NaAlEt 2 H 2 , NaBH 4 -ZnCl 2 , NaBH 4 -BF 3 OEt 2 , NaBH 4 -TM
SCl, NaBH 4 -LiCl, NaBH 4 -AlCl 3, NaBH 4 -CoCl 2, NaBH 4 -H
SCH 2 CH 2 SH and the like.
【0148】使用する還元剤の量としては、化合物
(4)に対して通常0.5〜20モル倍が挙げられる。The amount of the reducing agent to be used is usually 0.5 to 20 moles per mole of Compound (4).
【0149】反応は通常、溶媒を必要とし、溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物
類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素
類、メタノール、エタノール、t−ブチルアルコール、
エチレングリコール、ジエチレングリコールなどのアル
コール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、ジグライム等のエーテル類あるいはこれらの
混合物が挙げられる。The reaction usually requires a solvent. Examples of the solvent include aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane, methanol, ethanol, t-butyl alcohol, and the like.
Examples include alcohols such as ethylene glycol and diethylene glycol, ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, and diglyme, and mixtures thereof.
【0150】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent to be used can be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0151】反応温度は、通常−80℃から使用する溶
媒の沸点の範囲が挙げられるが、好ましくは−30℃か
ら使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられる。The reaction temperature is usually from -80 ° C to the boiling point of the solvent used, preferably from -30 ° C to the boiling point of the solvent used.
【0152】還元剤としてLiAlH4を用いる場合、使用す
るLiAlH4の量としては、化合物(4)に対して通常0.
5〜1.0倍モルが挙げられる。[0152] When using the LiAlH 4 as a reducing agent, the amount of LiAlH 4 used, usually 0 to the compound (4).
5 to 1.0 times mol.
【0153】反応は通常、溶媒を必要とし、溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物
類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素
類、メタノール、エタノール、t−ブチルアルコール、
エチレングリコール、ジエチレングリコールなどのアル
コール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、ジグライム等のエーテル類あるいはこれらの
混合物が挙げられ、好ましくはエーテル類が挙げられ、
さらに好ましくはテトラヒドロフランが挙げられる。The reaction usually requires a solvent. Examples of the solvent include aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane, methanol, ethanol, t-butyl alcohol, and the like.
Ethylene glycol, alcohols such as diethylene glycol, dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, ethers such as diglyme or mixtures thereof, preferably ethers,
More preferably, tetrahydrofuran is used.
【0154】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent to be used may be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0155】反応温度は、通常−80℃から使用する溶
媒の沸点の範囲が挙げられるが、好ましくは−50℃か
ら使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられ、さらに好まし
くは−20℃から使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられ
る。The reaction temperature is usually from -80 ° C to the boiling point of the solvent used, preferably from -50 ° C to the boiling point of the solvent used, more preferably from -20 ° C. The range of the boiling point of the solvent is mentioned.
【0156】B. 接触水素添加 化合物(4)に対して水素を通常2.0〜100倍モル
を使用する。B. Catalytic hydrogenation Hydrogen is usually used in a molar amount of 2.0 to 100 times that of compound (4).
【0157】化合物(4)に対して触媒を通常0.00
1〜1.0倍モル使用する。The catalyst is usually added to the compound (4) in an amount of 0.00
Use 1- to 1.0-fold molar.
【0158】触媒として、酸化白金(IV)、白金ブラッ
ク、白金カーボン粉末、白金カーボンサルファイド粉末
などの白金触媒、パラジウムカーボン、パラジウムアル
ミナ、パラジウムブラック、酸化パラジウムなどのパラ
ジウム触媒、オスミウムカーボンなどのオスミウム触
媒、レニウムカーボンなどのレニウム触媒、ラネーニッ
ケルなどのニッケル触媒が挙げられる。Examples of the catalyst include platinum catalysts such as platinum (IV) oxide, platinum black, platinum carbon powder and platinum carbon sulfide powder, palladium catalysts such as palladium carbon, palladium alumina, palladium black and palladium oxide, and osmium catalysts such as osmium carbon. And rhenium catalysts such as rhenium carbon, and nickel catalysts such as Raney nickel.
【0159】反応系中に、硫酸、塩酸、リン酸、過塩素
酸などの酸類、アンモニア、ピリジン、トリエチルアミ
ン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基を加
えて反応することもできる。In the reaction system, an acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid or perchloric acid, or a base such as ammonia, pyridine, triethylamine, sodium hydroxide or potassium hydroxide can be added for the reaction.
【0160】反応は通常溶媒を必要とし、溶媒として
水、ギ酸、酢酸などの有機酸類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族化合物類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、t−ブチ
ルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ールなどのアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタン、ジグライム等のエーテル類あ
るいはこれらの混合物が挙げられる。The reaction usually requires a solvent, such as water, organic acids such as formic acid and acetic acid, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, hexane, heptane and cyclohexane. And hydrocarbons such as methanol, ethanol, t-butyl alcohol, ethylene glycol and diethylene glycol, ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane and diglyme, and mixtures thereof.
【0161】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent to be used may be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0162】反応温度は、通常−80℃から使用する溶
媒の沸点の範囲が挙げられるが、好ましくは25℃から
使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられる。The reaction temperature is usually from -80 ° C to the boiling point of the solvent used, preferably from 25 ° C to the boiling point of the solvent used.
【0163】反応圧力は通常、常圧〜20MPaが挙げら
れる。The reaction pressure is usually from normal pressure to 20 MPa.
【0164】〔化合物(7)から化合物(5)の製造〕
化合物(7)を還元することにより化合物(5)を製造
することができる。[Production of Compound (5) from Compound (7)]
Compound (5) can be produced by reducing compound (7).
【0165】還元方法として試薬還元と接触水素添加が
挙げられる。The reduction method includes reagent reduction and catalytic hydrogenation.
【0166】A. 試薬還元 還元剤としては、たとえばBH3-THF、BH3-SMe2、LiAlH(O
Me)3、LiAlH4、AlH3、LiBEt3H、 (i-Bu)2AlH、NaAlEt2H
2、NaBH4-ZnCl2、NaBH4-BF3OEt2、NaBH4-TMSCl、NaBH4-
LiCl、NaBH4-AlCl3、NaBH4-CoCl2などが挙げられる。A. Reagent Reduction As the reducing agent, for example, BH 3 -THF, BH 3 -SMe 2 , LiAlH (O
Me) 3, LiAlH 4, AlH 3, LiBEt 3 H, (i-Bu) 2 AlH, NaAlEt 2 H
2, NaBH 4 -ZnCl 2, NaBH 4 -BF 3 OEt 2, NaBH 4 -TMSCl, NaBH 4 -
LiCl, NaBH 4 -AlCl 3 , NaBH 4 -CoCl 2 and the like.
【0167】使用する還元剤の量としては、化合物
(7)に対して通常1.0〜20モル倍が挙げられる。The amount of the reducing agent used is usually 1.0 to 20 moles per mole of the compound (7).
【0168】反応は通常、溶媒を必要とし、溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物
類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素
類、メタノール、エタノール、t−ブチルアルコール、
エチレングリコール、ジエチレングリコールなどのアル
コール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、ジグライム等のエーテル類あるいはこれらの
混合物が挙げられる。The reaction usually requires a solvent. Examples of the solvent include aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane, methanol, ethanol, t-butyl alcohol, and the like.
Examples include alcohols such as ethylene glycol and diethylene glycol, ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, and diglyme, and mixtures thereof.
【0169】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent to be used may be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0170】反応温度は、通常−80℃から使用する溶
媒の沸点の範囲が挙げられるが、好ましくは−30℃か
ら使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられる。The reaction temperature is usually from -80 ° C to the boiling point of the solvent used, preferably from -30 ° C to the boiling point of the solvent used.
【0171】還元剤としてLiAlH4を用いる場合、使用す
るLiAlH4の量としては、化合物(7)に対して通常1.
0〜20倍モルが挙げられ、好ましくは0.5〜1.3倍
モルが挙げられる。When LiAlH 4 is used as the reducing agent, the amount of LiAlH 4 used is usually 1.
The molar amount is 0 to 20 times, preferably 0.5 to 1.3 times.
【0172】反応は通常、溶媒を必要とし、溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物
類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素
類、メタノール、エタノール、t−ブチルアルコール、
エチレングリコール、ジエチレングリコールなどのアル
コール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、ジグライム等のエーテル類あるいはこれらの
混合物が挙げられ、好ましくはエーテル類が挙げられ、
さらに好ましくはテトラヒドロフランが挙げられる。The reaction usually requires a solvent. Examples of the solvent include aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane, methanol, ethanol, t-butyl alcohol, and the like.
Ethylene glycol, alcohols such as diethylene glycol, dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, ethers such as diglyme or mixtures thereof, preferably ethers,
More preferably, tetrahydrofuran is used.
【0173】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent to be used can be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0174】反応温度は、通常−80℃から使用する溶
媒の沸点の範囲が挙げられるが、好ましくは−50℃か
ら使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられ、さらに好まし
くは−20℃から使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられ
る。The reaction temperature is usually from -80 ° C to the boiling point of the solvent used, preferably from -50 ° C to the boiling point of the solvent used, more preferably from -20 ° C. The range of the boiling point of the solvent is mentioned.
【0175】B. 接触水素添加 化合物(7)に対して水素を通常2.0〜100倍モル
を使用する。B. Catalytic hydrogenation Hydrogen is usually used in a molar amount of 2.0 to 100 times that of compound (7).
【0176】化合物(7)に対して触媒を通常0.00
1〜1.0倍モル使用する。The catalyst is usually added to the compound (7) in an amount of 0.00
Use 1- to 1.0-fold molar.
【0177】触媒として、酸化白金(IV)、白金ブラッ
ク、白金カーボン粉末、白金カーボンサルファイド粉末
などの白金触媒、パラジウムカーボン、パラジウムアル
ミナ、パラジウムブラック、酸化パラジウムなどのパラ
ジウム触媒、オスミウムカーボンなどのオスミウム触
媒、レニウムカーボンなどのレニウム触媒、ラネーニッ
ケルなどのニッケル触媒が挙げられる。Examples of the catalyst include platinum catalysts such as platinum (IV) oxide, platinum black, platinum carbon powder and platinum carbon sulfide powder; palladium catalysts such as palladium carbon, palladium alumina, palladium black and palladium oxide; and osmium catalysts such as osmium carbon. And rhenium catalysts such as rhenium carbon, and nickel catalysts such as Raney nickel.
【0178】反応系中に、硫酸、塩酸、リン酸、過塩素
酸などの酸類、アンモニア、ピリジン、トリエチルアミ
ン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基を加
えて反応することもできる。In the reaction system, an acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid or perchloric acid, or a base such as ammonia, pyridine, triethylamine, sodium hydroxide or potassium hydroxide can be added for the reaction.
【0179】反応は通常溶媒を必要とし、溶媒として
水、ギ酸、酢酸などの有機酸類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族化合物類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、t−ブチ
ルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ールなどのアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタン、ジグライム等のエーテル類あ
るいはこれらの混合物が挙げられる。The reaction usually requires a solvent, such as water, organic acids such as formic acid and acetic acid, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, hexane, heptane and cyclohexane. And hydrocarbons such as methanol, ethanol, t-butyl alcohol, ethylene glycol and diethylene glycol, ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, dimethoxyethane and diglyme, and mixtures thereof.
【0180】溶媒を使用する際の量は、反応基質に対
し、通常0.1〜30質量倍の範囲を用いる事ができる
が、好ましくは1.0〜20質量倍が挙げられる。The amount of the solvent used can be usually 0.1 to 30 times by mass, preferably 1.0 to 20 times by mass, based on the reaction substrate.
【0181】反応温度は、通常−80℃から使用する溶
媒の沸点の範囲が挙げられるが、好ましくは25℃から
使用する溶媒の沸点の範囲が挙げられる。The reaction temperature is usually from -80 ° C to the boiling point of the solvent used, preferably from 25 ° C to the boiling point of the solvent used.
【0182】反応圧力は通常、常圧〜20MPaが挙げら
れる。The reaction pressure is usually from normal pressure to 20 MPa.
【0183】〔化合物(7)から化合物(8)の製造〕
化合物(7)の水酸基を保護することにより化合物
(8)を製造することができる。水酸基を保護すること
による化合物(8)の製造方法は、化合物(5)から化
合物(6)を製造する方法と同様の条件で行うことがで
きる。[Production of Compound (8) from Compound (7)]
Compound (8) can be produced by protecting the hydroxyl group of compound (7). The method for producing compound (8) by protecting the hydroxyl group can be carried out under the same conditions as the method for producing compound (6) from compound (5).
【0184】〔化合物(8)から化合物(6)の製造〕
化合物(8)を還元することにより化合物(6)を製造
することができる。還元することによる化合物(6)の
製造方法は、化合物(7)から化合物(5)を製造する
方法と同様の条件で行うことができる。[Production of Compound (6) from Compound (8)]
Compound (6) can be produced by reducing compound (8). The method for producing compound (6) by reduction can be performed under the same conditions as the method for producing compound (5) from compound (7).
【0185】[0185]
【実施例】以下実施例によって本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明は、これらによって限定されるもの
ではない。尚、(R)−2−クロロプロピオン酸エチル(1
-a)は、市販の光学活性(S)−乳酸エチルから文献
(ジャーナル オブ メディシナル ケミストリー
(J. Med. Chem.) 29巻 1183−1188項
(1986年)に報告されている。)の方法に従って合
成したものを用い、(S)−2−クロロプロピオン酸エチ
ル(1-b)は、市販の試薬を用いた。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto. In addition, ethyl (R) -2-chloropropionate (1
-a) was obtained from a commercially available optically active (S) -ethyl lactate using the literature (Journal of Medicinal Chemistry).
(J. Med. Chem.) Vol. 29, paragraphs 1183-1188 (1986). ), And a commercially available reagent was used as ethyl (S) -2-chloropropionate (1-b).
【0186】化合物の光学純度は、下記に示す方法によ
り決定した。The optical purity of the compound was determined by the following method.
【0187】化合物(3-c) 分析機器:HPLC(高速液体クロマトグラフィー) 分析条件:カラム:CHIRALPAC AD-H (4.6 mm×250 mm)
を2本直結、移動層:ヘキサン/2−プロパノール/
エタノール = 9 : 1 : 0.1、流量:1.0mL/min.、検
出波長:230nm、カラム温度:7℃Compound (3-c) Analytical equipment: HPLC (high performance liquid chromatography) Analytical conditions: Column: CHIRALPAC AD-H (4.6 mm × 250 mm)
Directly, moving bed: hexane / 2-propanol /
Ethanol = 9: 1: 0.1, flow rate: 1.0 mL / min., Detection wavelength: 230 nm, column temperature: 7 ° C
【0188】化合物(4-a)及び(4-b) 分析機器:HPLC(高速液体クロマトグラフィー) 分析条件:カラム:CHIRAL RU-2(資生堂(株)製)、
カラムサイズ:4.6mmI.D.×250 mm、移動層:メチルア
ルコール、流速:0.5mL / min.、測定波長:220n
m、カラム温度:30℃Compounds (4-a) and (4-b) Analytical equipment: HPLC (high performance liquid chromatography) Analytical conditions: Column: CHIRAL RU-2 (manufactured by Shiseido Co., Ltd.)
Column size: 4.6 mm ID × 250 mm, moving bed: methyl alcohol, flow rate: 0.5 mL / min, measurement wavelength: 220 n
m, column temperature: 30 ° C
【0189】化合物(5-a) 前処理:化合物(5-a)(50mg)のジクロロメタン(3m
L)溶液にトリエチルアミン(147mg)を加え、次いで塩
化ベンゾイル(205mg)を加えた後、室温で1時間攪拌
した。この反応溶液0.1mLをジクロロメタン(1mL)で
希釈した溶液を分析に供した。 分析機器:HPLC(高速液体クロマトグラフィー) 分析条件:カラム:CHIRALCEL OD-H (4.6 mm×250 m
m)、移動層:ヘキサン/2−プロパノール/エタノール
= 90 : 9 : 1、流量:1mL/min.、検出波長:254n
m、カラム温度:35℃Compound (5-a) pretreatment: Compound (5-a) (50 mg) in dichloromethane (3 m
L) The solution was added with triethylamine (147 mg) and then with benzoyl chloride (205 mg), and then stirred at room temperature for 1 hour. A solution obtained by diluting 0.1 mL of the reaction solution with dichloromethane (1 mL) was used for analysis. Analytical instrument: HPLC (High Performance Liquid Chromatography) Analysis conditions: Column: CHIRALCEL OD-H (4.6 mm × 250 m
m), mobile phase: hexane / 2-propanol / ethanol
= 90: 9: 1, flow rate: 1 mL / min., Detection wavelength: 254 n
m, column temperature: 35 ° C
【0190】化合物(7-a) 分析機器:GC(ガスクロマトグラフィー) 分析条件:カラム:SUPELCO γ-CD(30.0m×250μm×0.2
5 μm)、80℃(20min.保持)、5℃/min.(昇
温)、200℃(10min.保持)、圧力68.8kPa、カ
ラム流量0.7mL/min.、カラム平均線速度20cm/se
c、スプリット比100:1、注入口温度200℃、検
出器温度250℃Compound (7-a) Analytical instrument: GC (gas chromatography) Analytical conditions: Column: SUPELCO γ-CD (30.0 mx 250 μm x 0.2
5 ° C), 80 ° C (20 min. Hold), 5 ° C / min. (Heating), 200 ° C (10 min. Hold), pressure 68.8 kPa, column flow rate 0.7 mL / min., Column average linear velocity 20 cm / se
c, split ratio 100: 1, inlet temperature 200 ° C, detector temperature 250 ° C
【0191】化合物(6-a)については、前処理とし
て、(6-a)のアセトニトリル溶液にトリエチルアミ
ン、塩化ベンゾイルを加え、常温で約10分間放置した
後、HPLCにて測定した。Compound (6-a) was pretreated by adding triethylamine and benzoyl chloride to an acetonitrile solution of (6-a), left at room temperature for about 10 minutes, and then measured by HPLC.
【0192】〔実施例1〕 (3R)−1−アリル 4−エチル 2−シアノ−3−
メチルブタンジオエート(3-a)の合成Example 1 (3R) -1-allyl 4-ethyl 2-cyano-3-
Synthesis of methyl butane diate (3-a)
【0193】[0193]
【化38】 Embedded image
【0194】窒素雰囲気化下、300mL反応フラスコに
N, N−ジメチルホルムアミド(80mL)を加え、これに
60%水素化ナトリウム2.23g(55.7mmol)をは
かり込み0〜5℃とした。 同温にて激しく撹拌しなが
らシアノ酢酸アリル(2-a)(7.33g, 59mmol)を
滴下後、25℃で15分間撹拌し、水素化ナトリウムを
完全に反応させた。 この反応溶液を0〜5℃とし、
(R)−2−クロロプロピオン酸エチル(1-a)(4.0g,
29.3mmol)を滴下後、25℃にて18時間撹拌し
た。 反応溶液を氷水に注ぎ、希塩酸を加えてpHを中性
〜酸性にした。 酢酸エチルを加えて抽出し、さらに食
塩水で水洗した。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を留去すると表題化合物が粗生成物として得
られた。 これを蒸留操作により低沸点不純物を留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製するこ
とにより表題化合物(3R)−1−アリル 4−エチル
2−シアノ−3−メチルブタンジオエート(3-a)
(5.8g, 収率88%)が得られた。Under a nitrogen atmosphere, in a 300 mL reaction flask
N, N-dimethylformamide (80 mL) was added, and 2.23 g (55.7 mmol) of 60% sodium hydride was weighed and brought to 0 to 5 ° C. At the same temperature, allyl cyanoacetate (2-a) (7.33 g, 59 mmol) was added dropwise with vigorous stirring, followed by stirring at 25 ° C. for 15 minutes to completely react sodium hydride. The reaction solution is brought to 0 to 5 ° C,
Ethyl (R) -2-chloropropionate (1-a) (4.0 g,
After dropwise addition of 29.3 mmol), the mixture was stirred at 25 ° C for 18 hours. The reaction solution was poured into ice water, and diluted hydrochloric acid was added to adjust the pH to neutral to acidic. Ethyl acetate was added for extraction, followed by washing with brine. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off to obtain the title compound as a crude product. This was distilled to remove impurities having a low boiling point by distillation, and purified by silica gel column chromatography to give the title compound (3R) -1-allyl 4-ethyl 2-cyano-3-methylbutanediate (3-a).
(5.8 g, yield 88%) was obtained.
【0195】〔実施例2〕 (3S)−1−アリル 4−エチル 2−シアノ−3−
メチルブタンジオエート(3-b)の合成Example 2 (3S) -1-allyl 4-ethyl 2-cyano-3-
Synthesis of methyl butane diate (3-b)
【0196】[0196]
【化39】 Embedded image
【0197】窒素雰囲気化下、300mL反応フラスコに
N, N−ジメチルホルムアミド(80mL)を加え、これに
60%水素化ナトリウム2.34g(59mmol)をはかり
込み0〜5℃とした。 同温にて激しく撹拌しながらシ
アノ酢酸アリル(2-a)(7.33g, 59mmol)を滴下
後、25℃で15分間撹拌し、水素化ナトリウムを完全
に反応させた。 この反応溶液を0〜5℃とし、光学活
性(S)−2−クロロプロピオン酸エチル(1-b)(4.0
g, 29.3mmol)を滴下後、25℃にて18時間撹拌し
た。 反応溶液を氷水に注ぎ、希塩酸を加えてpHを中性
〜酸性にした。酢酸エチルを加えて抽出し、さらに食塩
水で水洗した。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去すると表題化合物(3-b)が粗生成物と
して得られた。Under a nitrogen atmosphere, in a 300 mL reaction flask
N, N-dimethylformamide (80 mL) was added, and 2.34 g (59 mmol) of 60% sodium hydride was weighed and brought to 0 to 5 ° C. At the same temperature, allyl cyanoacetate (2-a) (7.33 g, 59 mmol) was added dropwise with vigorous stirring, followed by stirring at 25 ° C. for 15 minutes to completely react sodium hydride. The temperature of this reaction solution was adjusted to 0 to 5 ° C, and optically active ethyl (S) -2-chloropropionate (1-b) (4.0
g, 29.3 mmol), and the mixture was stirred at 25 ° C. for 18 hours. The reaction solution was poured into ice water, and diluted hydrochloric acid was added to adjust the pH to neutral to acidic. Ethyl acetate was added for extraction, followed by washing with brine. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off to obtain the title compound (3-b) as a crude product.
【0198】〔実施例3〕 (3R)−1−メチル 4−エチル 2−シアノ−3−
メチルブタンジオエート(3-c)の合成Example 3 (3R) -1-methyl 4-ethyl 2-cyano-3-
Synthesis of methyl butane diate (3-c)
【0199】[0199]
【化40】 Embedded image
【0200】窒素雰囲気化下、300mL反応フラスコに
N, N−ジメチルホルムアミド(80mL)を加え、これに
60%水素化ナトリウム2.23g(55.7mmol)をは
かり込み0〜5℃とした。 同温にて激しく撹拌しなが
らシアノ酢酸メチル(2-b)(5.80g, 58.6mmol)
を滴下後、25℃で15分間撹拌し、水素化ナトリウム
を完全に反応させた。 この反応溶液を0〜5℃とし、
(R)−2−クロロプロピオン酸エチル(1-a)(4.0g,
29.3mmol)を滴下後、25℃にて18時間撹拌し
た。 反応溶液を氷水に注ぎ、希塩酸を加えてpHを中性
〜酸性にした。酢酸エチルを加えて抽出し、さらに食塩
水で水洗した。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去すると表題化合物が粗生成物として得ら
れた。これを蒸留操作により低沸点不純物を留去し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り表題化合物(3R)−1−メチル 4−エチル 2−
シアノ−3−メチルブタンジオエート(3-c)(4.96
g, 収率85%)が得られた。Under a nitrogen atmosphere, in a 300 mL reaction flask
N, N-dimethylformamide (80 mL) was added, and 2.23 g (55.7 mmol) of 60% sodium hydride was weighed and brought to 0 to 5 ° C. Methyl cyanoacetate (2-b) (5.80 g, 58.6 mmol) with vigorous stirring at the same temperature.
After dropwise addition, the mixture was stirred at 25 ° C. for 15 minutes to completely react sodium hydride. The reaction solution is brought to 0 to 5 ° C,
Ethyl (R) -2-chloropropionate (1-a) (4.0 g,
After dropwise addition of 29.3 mmol), the mixture was stirred at 25 ° C for 18 hours. The reaction solution was poured into ice water, and diluted hydrochloric acid was added to adjust the pH to neutral to acidic. Ethyl acetate was added for extraction, followed by washing with brine. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off to obtain the title compound as a crude product. This was distilled to remove impurities having a low boiling point by distillation, and purified by silica gel column chromatography to give the title compound (3R) -1-methyl 4-ethyl 2-
Cyano-3-methylbutanediate (3-c) (4.96)
g, 85% yield).
【0201】〔実施例4〕 (3R)−1−メチル 4−エチル 2−シアノ−3−
メチルブタンジオエート(3-c)の合成(塩基として炭
酸カリウムを使用) 窒素雰囲気化下、100mL反応フラスコにN, N−ジメチ
ルホルムアミド(40mL)を加え、これに(R)−2−ク
ロロプロピオン酸エチル(1-a)(2.0g, 14.7mmo
l)とシアノ酢酸メチル(2-b)(2.9g, 29.3mmo
l)をはかり込んだ。 次いで、激しく撹拌しながら炭
酸カリウム4.05g(29.3mmol)を加えた後、25
℃にて16時間撹拌した。 反応溶液を水に注ぎ、希塩
酸を加えてpHを中性〜酸性にした。 酢酸エチルを加え
て抽出し、さらに食塩水で水洗した。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると表題化合物が
粗生成物として得られた。 これを蒸留操作により低沸
点不純物を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製することにより表題化合物(3R)−1−メチ
ル 4−エチル 2−シアノ−3−メチルブタンジオエ
ート(3-c)(2.33g, 収率80%、3位の光学純度
95%ee)が得られた。 なお表題化合物の光学純度
は、光学活性カラムで分析することにより決定した。Example 4 (3R) -1-methyl 4-ethyl 2-cyano-3-
Synthesis of methyl butane diate (3-c) (using potassium carbonate as a base) Under a nitrogen atmosphere, N, N-dimethylformamide (40 mL) was added to a 100 mL reaction flask, and (R) -2-chloropropion was added thereto. Ethyl acid (1-a) (2.0 g, 14.7 mmol)
l) and methyl cyanoacetate (2-b) (2.9 g, 29.3 mmol)
l) was measured. Then, while stirring vigorously, 4.05 g (29.3 mmol) of potassium carbonate was added.
Stirred at C for 16 hours. The reaction solution was poured into water, and the pH was adjusted to neutral to acidic by adding dilute hydrochloric acid. Ethyl acetate was added for extraction, followed by washing with brine. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off to obtain the title compound as a crude product. The low boiling impurities were distilled off by distillation, and the residue was purified by silica gel column chromatography to give the title compound (3R) -1-methyl 4-ethyl 2-cyano-3-methylbutanediate (3-c) ( 2.33 g, a yield of 80%, and an optical purity of 95% ee at the third position were obtained. Note that the optical purity of the title compound was determined by analyzing with an optically active column.
【0202】〔実施例5〕 (3R)−1−メチル 4−エチル 2−シアノ−3−
メチルブタンジオエート(3-c)の合成(塩基として炭
酸セシウムを使用) 窒素雰囲気化下、100mL反応フラスコにN, N−ジメチ
ルホルムアミド(40mL)を加え、これに(R)−2−ク
ロロプロピオン酸エチル(1-a)(4.0g, 29.3mmo
l)とシアノ酢酸メチル(2-b)(3.05g, 30.8mmo
l)をはかり込んだ。 次いで、激しく撹拌しながら炭
酸セシウム10.0g(30.7mmol)を加えた後、40
℃にて6時間撹拌した。 反応溶液を水に注ぎ、希塩酸
を加えてpHを中性〜酸性にした。 酢酸エチルを加えて
抽出し、さらに食塩水で水洗した。Example 5 (3R) -1-methyl 4-ethyl 2-cyano-3-
Synthesis of methyl butanediate (3-c) (using cesium carbonate as base) N, N-dimethylformamide (40 mL) was added to a 100 mL reaction flask under a nitrogen atmosphere, and (R) -2-chloropropion was added thereto. Ethyl acid (1-a) (4.0 g, 29.3 mmol)
l) and methyl cyanoacetate (2-b) (3.05 g, 30.8 mmol)
l) was measured. Then, with vigorous stirring, 10.0 g (30.7 mmol) of cesium carbonate was added.
Stirred at C for 6 hours. The reaction solution was poured into water, and the pH was adjusted to neutral to acidic by adding dilute hydrochloric acid. Ethyl acetate was added for extraction, followed by washing with brine.
【0203】有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去すると表題化合物が粗生成物として得られ
た。 これを蒸留操作により低沸点不純物を留去し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り表題化合物(3R)−1−メチル 4−エチル 2−
シアノ−3−メチルブタンジオエート(3-c)(4.3g,
収率74%、3位の光学純度93%ee)が得られた。
なお表題化合物の光学純度は、光学活性カラムで分析す
ることにより決定した。After drying the organic layer over anhydrous magnesium sulfate,
Evaporation of the solvent gave the title compound as a crude product. This was distilled to remove impurities having a low boiling point by distillation, and purified by silica gel column chromatography to give the title compound (3R) -1-methyl 4-ethyl 2-
Cyano-3-methylbutanediate (3-c) (4.3 g,
A yield of 74% and an optical purity of the third position of 93% ee) were obtained.
Note that the optical purity of the title compound was determined by analyzing with an optically active column.
【0204】〔実施例6〕 (3R)−1−t−ブチル 4−エチル 2−シアノ−3
−メチルブタンジオエート(3-d)の合成Example 6 (3R) -1-t-butyl 4-ethyl 2-cyano-3
-Methylbutane diate (3-d) synthesis
【0205】[0205]
【化41】 Embedded image
【0206】窒素雰囲気化下、300mL反応フラスコに
N, N−ジメチルホルムアミド(80mL)を加え、これに
60%水素化ナトリウム2.11g(52.8mmol)をは
かり込み0〜5℃とした。 同温にて激しく撹拌しなが
らシアノ酢酸t−ブチル(2-c)(8.274g, 58.6m
mol)を滴下後、25℃で15分間撹拌し、水素化ナト
リウムを完全に反応させた。 この反応溶液を0〜5℃
とし、(R)−2−クロロプロピオン酸エチル(1-a)
(4.0g, 29.3mmol)を滴下後、25℃にて18時
間撹拌した。 反応溶液を氷水に注ぎ、希塩酸を加えて
pHを中性〜酸性にした。 酢酸エチルを加えて抽出し、
さらに食塩水で水洗した。 有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去すると表題化合物が粗生成物
として得られた。 これを蒸留操作により低沸点不純物
を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
することにより表題化合物(3R)−1−t−ブチル 4
−エチル 2−シアノ−3−メチルブタンジオエート
(3-d)(6.01g, 収率85%)が得られた。Under a nitrogen atmosphere, in a 300 mL reaction flask
N, N-dimethylformamide (80 mL) was added, and 2.11 g (52.8 mmol) of 60% sodium hydride was weighed and brought to 0 to 5 ° C. While vigorously stirring at the same temperature, t-butyl cyanoacetate (2-c) (8.274 g, 58.6 m)
mol) was added dropwise, followed by stirring at 25 ° C. for 15 minutes to completely react sodium hydride. This reaction solution is 0 to 5 ° C.
And ethyl (R) -2-chloropropionate (1-a)
(4.0 g, 29.3 mmol) was added dropwise, followed by stirring at 25 ° C. for 18 hours. Pour the reaction solution into ice water and add dilute hydrochloric acid
The pH was made neutral to acidic. Add ethyl acetate and extract,
Further, it was washed with saline. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off to obtain the title compound as a crude product. The low-boiling impurities were distilled off by distillation, and the residue was purified by silica gel column chromatography to give the title compound (3R) -1-t-butyl4.
-Ethyl 2-cyano-3-methylbutanediate (3-d) (6.01 g, 85% yield) was obtained.
【0207】〔実施例7〕 (R)−2−メチル−3−シアノプロピオン酸エチル(4
-a)の合成Example 7 Ethyl (R) -2-methyl-3-cyanopropionate (4
Synthesis of -a)
【0208】[0208]
【化42】 Embedded image
【0209】窒素雰囲気下、100mL反応フラスコにテ
トラヒドロフラン(10mL)を加え、これに酢酸パラジ
ウム(0.050g, 0.22mmol)、トリフェニルホス
フィン(0.117g, 0.45mmol)、ギ酸(1.02g,
22mmol)をはかり込み、常温で10分間撹拌した。
これに実施例1で得られた(3R)−1−アリル4−
エチル 2−シアノ−3−メチルブタンジオエート(3-
a)(1.0g, 4.4mmol)のテトラヒドロフラン(20
mL)溶液を加えて2時間、加熱還流した。反応溶液を常
温とした後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルを加えて抽
出し、食塩水で水洗した。 有機層を硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去すると表題化合物が粗生成物とし
て得られた。 これを蒸留(120℃/1.3−2.6kP
a)により精製し、表題化合物(R)−2−メチル−3−
シアノプロピオン酸エチル(4-a)(0.561g, 収率
90%, 96%ee)が得られた。Under a nitrogen atmosphere, tetrahydrofuran (10 mL) was added to a 100 mL reaction flask, and palladium acetate (0.050 g, 0.22 mmol), triphenylphosphine (0.117 g, 0.45 mmol), and formic acid (1.02 g) were added thereto. ,
22 mmol) and stirred at room temperature for 10 minutes.
The (3R) -1-allyl 4- obtained in Example 1
Ethyl 2-cyano-3-methylbutanediate (3-
a) (1.0 g, 4.4 mmol) of tetrahydrofuran (20
mL) solution and heated to reflux for 2 hours. After the reaction solution was brought to room temperature, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, and ethyl acetate was added for extraction, followed by washing with brine. After the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was distilled off to obtain the title compound as a crude product. This was distilled (120 ° C / 1.3-2.6 kP
a) to give the title compound (R) -2-methyl-3-
Ethyl cyanopropionate (4-a) (0.561 g, 90% yield, 96% ee) was obtained.
【0210】〔実施例8〕 (S)−2−メチル−3−シアノプロピオン酸エチル(4
-b)の合成Example 8 Ethyl (S) -2-methyl-3-cyanopropionate (4
-b) Synthesis
【0211】[0211]
【化43】 Embedded image
【0212】窒素雰囲気下、300mL反応フラスコにテ
トラヒドロフラン(60mL)を加え、これに酢酸パラジ
ウム(0.329g, 1.47mmol)、トリフェニルホス
フィン(0.769g, 2.93mmol)、ギ酸(6.74g,
146mmol)をはかり込み、常温で10分間撹拌し
た。 これに実施例2で得られた約11gの粗生成物
(3S)−1−アリル 4−エチル 2−シアノ−3−
メチルブタンジオエート(3-b)のテトラヒドロフラン
(120mL)溶液を加えて2時間、加熱還流した。反応
溶液を常温とした後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルを
加えて抽出し、食塩水で水洗した。 有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると表題化合物が粗生
成物として得られた。 これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製することにより表題化合物(S)−
2−メチル−3−シアノプロピオン酸エチル(4-b)
(3.62g, (1-b)からの収率88%, 96%ee)が
得られた。なお表題化合物の光学純度は、光学活性カラ
ムで分析することにより決定した。Under a nitrogen atmosphere, tetrahydrofuran (60 mL) was added to a 300 mL reaction flask, and palladium acetate (0.329 g, 1.47 mmol), triphenylphosphine (0.769 g, 2.93 mmol) and formic acid (6.74 g) were added thereto. ,
146 mmol) and stirred at room temperature for 10 minutes. About 11 g of crude product (3S) -1-allyl 4-ethyl 2-cyano-3-obtained in Example 2
A solution of methylbutanediate (3-b) in tetrahydrofuran (120 mL) was added, and the mixture was heated under reflux for 2 hours. After the reaction solution was brought to room temperature, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, and ethyl acetate was added for extraction, followed by washing with brine. After the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was distilled off to obtain the title compound as a crude product. This was purified by silica gel column chromatography to give the title compound (S)-
Ethyl 2-methyl-3-cyanopropionate (4-b)
(3.62 g, 88% yield from (1-b), 96% ee) was obtained. Note that the optical purity of the title compound was determined by analyzing with an optically active column.
【0213】〔実施例9〕 (R)−2−メチル−3−シアノプロピオン酸エチル(4
-a)の合成Example 9 Ethyl (R) -2-methyl-3-cyanopropionate (4
Synthesis of -a)
【0214】[0214]
【化44】 Embedded image
【0215】50mL反応フラスコに、実施例3で得られ
た(3R)−1−メチル 4−エチル 2−シアノ−3
−メチルブタンジオエート(3-c)(1g, 5.03mmo
l)、ジメチルスルホキシド(5mL)、水(0.15mL,
8.33mmol)をはかり込み、窒素雰囲気下、2時間、
180℃で加熱撹拌した。 反応溶液を常温まで冷却
し、酢酸エチル、水を加えて抽出し、有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると表題化合物が
粗生成物として得られた。 これを蒸留(120−13
0℃/1.3−2.6kPa)により精製すると、表題の
(R)−2−メチル−3−シアノプロピオン酸エチル(4
-a)(0.58g, 収率82%, 光学収率95%ee)が得
られた。 なお表題化合物の光学純度は、光学活性カラ
ムで分析することにより決定した。The (3R) -1-methyl 4-ethyl 2-cyano-3 obtained in Example 3 was placed in a 50 mL reaction flask.
-Methylbutane diate (3-c) (1 g, 5.03 mmol)
l), dimethyl sulfoxide (5 mL), water (0.15 mL,
8.33 mmol) under nitrogen atmosphere for 2 hours.
The mixture was heated and stirred at 180 ° C. The reaction solution was cooled to room temperature, extracted with ethyl acetate and water, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off to obtain the title compound as a crude product. This is distilled (120-13)
(0 ° C./1.3-2.6 kPa) to give the title ethyl (R) -2-methyl-3-cyanopropionate (4.
-a) (0.58 g, yield 82%, optical yield 95% ee) was obtained. Note that the optical purity of the title compound was determined by analyzing with an optically active column.
【0216】〔実施例10〕 (R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチルアミン(5
-a)の合成Example 10 (R) -3-methyl-4-hydroxy-butylamine (5
Synthesis of -a)
【0217】[0219]
【化45】 Embedded image
【0218】100mL反応フラスコに、実施例7で得ら
れた(R)−2−メチル−3−シアノプロピオン酸エチ
ル(4-a)(0.50g, 3.55mmol)をはかり込み、テ
トラヒドロフラン(5mL)を加え、窒素雰囲気下とし
た。 これに0℃でLiAlH4(0.242g, 6.38mmo
l)を加え、1時間撹拌した後、0℃で水(0.6mL)を
加え、次いで15%水酸化ナトリウム水溶液(0.2m
L)を加え、30分間撹拌した。 沈殿物をセライトろ
過し、酢酸エチルで洗浄し、ろ液を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、濃縮すると表題化合物が粗生成物として得
られた。 これを蒸留(80−130℃/1.1−1.4
kPa)により精製し、表題化合物(R)−3−メチル−4
−ヒドロキシ−ブチルアミン(5-a)(0.306g, 収
率84%)が得られた。Ethyl (R) -2-methyl-3-cyanopropionate (4-a) (0.50 g, 3.55 mmol) obtained in Example 7 was weighed into a 100 mL reaction flask, and tetrahydrofuran (5 mL) was added. ) Was added under a nitrogen atmosphere. LiAlH 4 (0.242g, 6.38mmo) was added to this at 0 ° C.
l) and stirred for 1 hour, water (0.6 mL) was added at 0 ° C, and then a 15% aqueous sodium hydroxide solution (0.2 mL).
L) was added and stirred for 30 minutes. The precipitate was filtered through celite, washed with ethyl acetate, and the filtrate was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to give the title compound as a crude product. This is distilled (80-130 ° C / 1.1-1.4).
kPa) to give the title compound (R) -3-methyl-4
-Hydroxy-butylamine (5-a) (0.306 g, 84% yield) was obtained.
【0219】〔実施例11〕 (R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチロニトリル
(7-a)の合成Example 11 Synthesis of (R) -3-methyl-4-hydroxy-butyronitrile (7-a)
【0220】[0220]
【化46】 Embedded image
【0221】窒素雰囲気下、100mL反応フラスコに、
実施例7で得られた(R)−2−メチル−3−シアノプ
ロピオン酸エチル(4-a)(1.0g, 7.09mmol)をは
かり込み、テトラヒドロフラン(8mL)を加えて、0℃
とした。 これにLiAlH4(0.215g, 5.67mmol)
を加え、同温で30分間撹拌した。 水(1mL)を加
え、次いで15%水酸化ナトリウム水溶液(0.2mL)
を加えた後、常温で30分間撹拌した。 沈殿物をセラ
イトろ過し、酢酸エチルで洗浄し、ろ液を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、濃縮すると表題の粗生成物が得られ
た。 これを蒸留(130℃/0.53kPa)することで
表題化合物(R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチ
ロニトリル(7-a)(0.52g, 収率74%)が得られ
た。In a 100 mL reaction flask under a nitrogen atmosphere,
Ethyl (R) -2-methyl-3-cyanopropionate (4-a) (1.0 g, 7.09 mmol) obtained in Example 7 was weighed, tetrahydrofuran (8 mL) was added, and the mixture was added at 0 ° C.
And LiAlH 4 (0.215 g, 5.67 mmol)
Was added and stirred at the same temperature for 30 minutes. Water (1 mL) is added, followed by a 15% aqueous sodium hydroxide solution (0.2 mL)
Was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The precipitate was filtered through celite, washed with ethyl acetate, and the filtrate was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to obtain the title crude product. This was distilled (130 ° C./0.53 kPa) to give the title compound (R) -3-methyl-4-hydroxy-butyronitrile (7-a) (0.52 g, yield 74%).
【0222】〔実施例12〕 (R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチロニトリル
(7-a)の合成 窒素雰囲気下、100mL反応フラスコに、ジメトキシエ
タン(30mL)を加え、撹拌しながらこれにLiAlH
4(0.74g, 19.1mmol)を加えて−10℃とした。
これに(R)−2−メチル−3−シアノプロピオン酸
エチル(4-a)(5.0g, 35.4mmol, 94%ee)のジ
メトキシエタン(30mL)溶液を同温で、40分間かけ
て滴下した後、2時間撹拌した。 水を加え、次いで2
0%塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。 有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮すると表題の粗生
成物が得られた。 これを蒸留(130℃/0.53kP
a)することで表題化合物(R)−3−メチル−4−ヒド
ロキシ−ブチロニトリル(7-a)(2.8g, 収率80%,
94%ee)が得られた。 なお表題化合物の光学純度
は、光学活性カラムで分析することにより決定した。Example 12 Synthesis of (R) -3-methyl-4-hydroxy-butyronitrile (7-a) Under a nitrogen atmosphere, dimethoxyethane (30 mL) was added to a 100 mL reaction flask, and the mixture was stirred. LiAlH
4 (0.74 g, 19.1 mmol) was added to -10 ° C.
A solution of ethyl (R) -2-methyl-3-cyanopropionate (4-a) (5.0 g, 35.4 mmol, 94% ee) in dimethoxyethane (30 mL) was added thereto at the same temperature for 40 minutes. After the dropwise addition, the mixture was stirred for 2 hours. Add water, then 2
0% hydrochloric acid was added, and the mixture was extracted with chloroform. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to obtain the title crude product. This is distilled (130 ° C / 0.53 kP
a) to give the title compound (R) -3-methyl-4-hydroxy-butyronitrile (7-a) (2.8 g, 80% yield,
94% ee). Note that the optical purity of the title compound was determined by analyzing with an optically active column.
【0223】〔実施例13〕 (R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチルアミン(5
-a)の合成Example 13 (R) -3-methyl-4-hydroxy-butylamine (5
Synthesis of -a)
【0224】[0224]
【化47】 Embedded image
【0225】窒素雰囲気下、50mL反応フラスコに、実
施例11で得られた(R)−3−メチル−4−ヒドロキ
シ−ブチロニトリル(7-a)(0.1g, 1.01mmol)を
はかり込み、テトラヒドロフラン(1mL)を加えて、0
℃とした。 これにLiAlH4(0.047g, 1.25mmo
l)を加えた後、常温で1時間撹拌した。 0℃で水
(0.1mL)を加え、次いで15%水酸化ナトリウム水
溶液(0.1mL)を加えた後、常温で30分間撹拌し
た。 沈殿物をセライトろ過し、酢酸エチルで洗浄し、
ろ液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮すると表題
化合物が粗生成物として得られた。 これを蒸留(80
−130℃/1.1−1.4kPa)により精製し、表題化
合物(R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチルアミ
ン(5-a)(0.075g, 収率72%, 94%ee)が得ら
れた。 なお表題化合物の光学純度は、光学活性カラム
で分析することにより決定した。Under a nitrogen atmosphere, (R) -3-methyl-4-hydroxy-butyronitrile (7-a) (0.1 g, 1.01 mmol) obtained in Example 11 was weighed into a 50 mL reaction flask, Add tetrahydrofuran (1 mL) and add 0
° C. Add LiAlH 4 (0.047g, 1.25mmo)
After l) was added, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. At 0 ° C., water (0.1 mL) was added, and then a 15% aqueous sodium hydroxide solution (0.1 mL) was added, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. The precipitate was filtered through celite, washed with ethyl acetate,
The filtrate was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to give the title compound as a crude product. This is distilled (80
(130 ° C./1.1-1.4 kPa) to give the title compound (R) -3-methyl-4-hydroxy-butylamine (5-a) (0.075 g, 72% yield, 94% ee). was gotten. Note that the optical purity of the title compound was determined by analyzing with an optically active column.
【0226】〔実施例14〕 (R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチルアミン(5
-a)の合成 (R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチロニトリル
(7-a)(1.01g, 10mmol)のエタノール(10m
L)溶液にPtO2(0.05g)、35%塩酸(2.0g)を加
えて、水素圧下(0.7MPa)、50℃で4時間撹拌し
た。 触媒をろ過後、濃縮し、20%水酸化ナトリウム
水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮すると表題化合物
(R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチルアミン(5
-a)(0.95g, 収率90%, 94%ee)が得られた。
なお表題化合物の光学純度は、光学活性カラムで分析
することにより決定した。Example 14 (R) -3-Methyl-4-hydroxy-butylamine (5
Synthesis of (R) -3-methyl-4-hydroxy-butyronitrile (7-a) (1.01 g, 10 mmol) in ethanol (10 m
L) PtO 2 (0.05 g) and 35% hydrochloric acid (2.0 g) were added to the solution, and the mixture was stirred under hydrogen pressure (0.7 MPa) at 50 ° C. for 4 hours. After filtration, the catalyst was concentrated, a 20% aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was extracted with chloroform. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to give the title compound (R) -3-methyl-4-hydroxy-butylamine (5
-a) (0.95 g, yield 90%, 94% ee) was obtained.
Note that the optical purity of the title compound was determined by analyzing with an optically active column.
【0227】〔実施例15〕 (R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチルアミン(5
-a)の合成 (R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチロニトリル
(7-a)(1.01g, 10mmol)のエタノール(10m
L)溶液に2%Pt-C50%含水品(0.2g)、35%塩酸
(2.0g)を加えて、水素圧下(0.7MPa)、50℃で
4時間撹拌した。触媒をろ過後、濃縮し、20%水酸化
ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮すると表
題化合物(R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチル
アミン(5-a)(0.78g, 収率74%)が得られた。Example 15 (R) -3-methyl-4-hydroxy-butylamine (5
Synthesis of (R) -3-methyl-4-hydroxy-butyronitrile (7-a) (1.01 g, 10 mmol) in ethanol (10 m
L) A solution containing 2% Pt-C and 50% water (0.2 g) and 35% hydrochloric acid (2.0 g) were added to the solution, and the mixture was stirred at 50 ° C for 4 hours under a hydrogen pressure (0.7 MPa). After filtration, the catalyst was concentrated, a 20% aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was extracted with chloroform.
The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to give the title compound (R) -3-methyl-4-hydroxy-butylamine (5-a) (0.78 g, yield 74%).
【0228】〔実施例16〕 (R)−3−メチル−4−(2−テトラヒドロピラニル
オキシ)ブチルアミン(6-a)の合成Example 16 Synthesis of (R) -3-methyl-4- (2-tetrahydropyranyloxy) butylamine (6-a)
【0229】[0229]
【化48】 Embedded image
【0230】100mL反応フラスコに、実施例10で得
られた(R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチルア
ミン(5-a)(0.50g, 4.85mmol)をはかり込み、
テトラヒドロフラン(5mL)を加え、3,4−ジヒドロ
ピラン(0.61g, 7.25mmol)を加えて0℃とし
た。 同温で撹拌しながら、35%塩酸(0.561g,
5.38mmol)を滴下し、その後常温で5時間撹拌し
た。 反応溶液に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え
て、pHを中性〜アルカリ性とし、酢酸エチルで抽出し
た。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮す
ると表題化合物が粗生成物として得られた。 これを蒸
留(80−100℃/0.8−1.2kPa)により精製
し、表題化合物(R)−3−メチル−4−(2−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)ブチルアミン(6-a)(0.73
g, 収率80%, 3位の光学純度95%ee)が得られ
た。 なお表題化合物の光学純度は、光学活性カラムで
分析することにより決定した。(R) -3-Methyl-4-hydroxy-butylamine (5-a) (0.50 g, 4.85 mmol) obtained in Example 10 was weighed into a 100 mL reaction flask.
Tetrahydrofuran (5 mL) was added and 3,4-dihydropyran (0.61 g, 7.25 mmol) was added to bring the temperature to 0 ° C. While stirring at the same temperature, 35% hydrochloric acid (0.561 g,
(5.38 mmol) was added dropwise, followed by stirring at room temperature for 5 hours. A 15% aqueous sodium hydroxide solution was added to the reaction solution to make the pH neutral to alkaline, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to give the title compound as a crude product. This was purified by distillation (80-100 ° C./0.8-1.2 kPa) to give the title compound (R) -3-methyl-4- (2-tetrahydropyranyloxy) butylamine (6-a) (0.8%). 73
g, a yield of 80%, and an optical purity of 95% ee at the third position). Note that the optical purity of the title compound was determined by analyzing with an optically active column.
【0231】〔実施例17〕 (R)−3−メチル−4−(2−テトラヒドロピラニル
オキシ)ブチルアミン(6-a)の合成 500mL反応フラスコに、(R)−3−メチル−4−ヒ
ドロキシ−ブチルアミン(5-a)(25g, 243mmol)
をはかり込み、テトラヒドロフラン(250mL)を加
え、3,4−ジヒドロピラン(24.5g, 291mmol)
を加えた。 20〜30℃で撹拌しながら、メタンスル
ホン酸(24.5g, 255mmol)を滴下し、その後、室
温で1時間撹拌した。 反応溶液に15%水酸化ナトリ
ウム水溶液を加えて、pHを中性〜アルカリ性とし、クロ
ロホルムで抽出した。 有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、濃縮すると表題化合物(R)−3−メチル−
4−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)ブチルアミン
(6-a)(43.1g, 収率95%, 3位の光学純度95
%ee)が得られた。 なお表題化合物の光学純度は、光
学活性カラムで分析することにより決定した。Example 17 Synthesis of (R) -3-methyl-4- (2-tetrahydropyranyloxy) butylamine (6-a) In a 500 mL reaction flask, (R) -3-methyl-4-hydroxy was added. -Butylamine (5-a) (25 g, 243 mmol)
And tetrahydrofuran (250 mL) was added, and 3,4-dihydropyran (24.5 g, 291 mmol) was added.
Was added. While stirring at 20 to 30 ° C, methanesulfonic acid (24.5 g, 255 mmol) was added dropwise, followed by stirring at room temperature for 1 hour. A 15% aqueous sodium hydroxide solution was added to the reaction solution to make the pH neutral to alkaline, and the mixture was extracted with chloroform. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to give the title compound (R) -3-methyl-
4- (2-tetrahydropyranyloxy) butylamine (6-a) (43.1 g, yield 95%, optical purity 95 at the 3-position)
% Ee). Note that the optical purity of the title compound was determined by analyzing with an optically active column.
【0232】〔実施例18〕 (R)−3−メチル−4−(2−テトラヒドロピラニル
オキシ)ブチロニトリル(8-a)の合成Example 18 Synthesis of (R) -3-methyl-4- (2-tetrahydropyranyloxy) butyronitrile (8-a)
【0233】[0233]
【化49】 Embedded image
【0234】50mL反応フラスコに、実施例11で得ら
れた(R)−3−メチル−4−ヒドロキシ−ブチロニト
リル(7-a)(0.1g, 1.01mmol)をはかり込み、テ
トラヒドロフラン(1mL)を加え、3,4−ジヒドロピ
ラン(0.127g, 1.51mmol)を加えた。 常温で
撹拌しながら、p−トルエンスルホン酸(0.019g,
0.10mmol)を加え、その後常温で6時間撹拌した。
反応溶液に飽和重曹水溶液を加えて、酢酸エチルで抽
出した。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃
縮すると表題の粗生成物が得られた。 これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製することで表題化合
物(R)−3−メチル−4−(2−テトラヒドロピラニ
ルオキシ)ブチロニトリル(8-a)(0.106g, 収率
57%)が得られた。In a 50 mL reaction flask, (R) -3-methyl-4-hydroxy-butyronitrile (7-a) (0.1 g, 1.01 mmol) obtained in Example 11 was weighed, and tetrahydrofuran (1 mL) was added. And 3,4-dihydropyran (0.127 g, 1.51 mmol) was added. While stirring at room temperature, p-toluenesulfonic acid (0.019 g,
(0.10 mmol) was added, followed by stirring at room temperature for 6 hours.
To the reaction solution was added a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to obtain the title crude product. This was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (R) -3-methyl-4- (2-tetrahydropyranyloxy) butyronitrile (8-a) (0.106 g, yield 57%). Was.
【0235】〔実施例19〕 (R)−3−メチル−4−(2−テトラヒドロピラニル
オキシ)ブチルアミン(6-a)の合成Example 19 Synthesis of (R) -3-methyl-4- (2-tetrahydropyranyloxy) butylamine (6-a)
【0236】[0236]
【化50】 Embedded image
【0237】窒素雰囲気下、50mL反応フラスコにテト
ラヒドロフラン(1mL)を加えて、0℃とした。 これ
にLiAlH4(0.021g, 0.553mmol)を加えた後、同
温で撹拌しながら、実施例18で得られた(R)−3−
メチル−4−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)ブチ
ロニトリル(8-a)(0.10g, 0.546mmol)のテト
ラヒドロフラン(2mL)溶液を加えた。 常温で2時間
撹拌した後、0℃で水(0.1mL)を加え、次いで15
%水酸化ナトリウム水溶液(0.1mL)を加え、30分
間撹拌した。 沈殿物をセライトろ過し、酢酸エチルで
洗浄し、ろ液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮す
ると表題化合物が粗生成物として得られた。 これを蒸
留(80−100℃/0.8−1.2kPa)により精製
し、表題化合物(R)−3−メチル−4−(2−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)−ブチルアミン(6-a)(0.0
72g, 収率70%, 3位の光学純度95%ee)が得ら
れた。なお表題化合物の光学純度は、光学活性カラムで
分析することにより決定した。Under a nitrogen atmosphere, tetrahydrofuran (1 mL) was added to a 50 mL reaction flask, and the temperature was adjusted to 0 ° C. LiAlH 4 (0.021 g, 0.553 mmol) was added thereto, and the mixture was stirred at the same temperature, and the (R) -3- obtained in Example 18 was obtained.
A solution of methyl-4- (2-tetrahydropyranyloxy) butyronitrile (8-a) (0.10 g, 0.546 mmol) in tetrahydrofuran (2 mL) was added. After stirring at room temperature for 2 hours, water (0.1 mL) was added at 0 ° C.
% Sodium hydroxide aqueous solution (0.1 mL) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. The precipitate was filtered through celite, washed with ethyl acetate, and the filtrate was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated to give the title compound as a crude product. This was purified by distillation (80-100 ° C / 0.8-1.2 kPa) to give the title compound (R) -3-methyl-4- (2-tetrahydropyranyloxy) -butylamine (6-a) (0 .0
72 g, a yield of 70%, and an optical purity of 95% ee at the third position were obtained. Note that the optical purity of the title compound was determined by analyzing with an optically active column.
【0238】[0238]
【発明の効果】本発明方法を用いると、光学活性3−置
換−4−置換オキシ−ブチルアミン類又はその鏡像異性
体を効率よく、しかも安価に製造することができる。According to the method of the present invention, optically active 3-substituted-4-substituted oxy-butylamines or their enantiomers can be produced efficiently and at low cost.
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07D 309/12 C07D 309/12 // A61K 31/4375 A61K 31/4375 A61P 13/02 A61P 13/02 C07B 53/00 C07B 53/00 F G 61/00 300 61/00 300 C07D 487/04 147 C07D 487/04 147 C07M 7:00 C07M 7:00 (72)発明者 関 健一 千葉県船橋市坪井町722番地1 日産化学 工業株式会社物質科学研究所内 (72)発明者 河村 保夫 千葉県船橋市坪井町722番地1 日産化学 工業株式会社物質科学研究所内 Fターム(参考) 4C050 AA01 BB07 CC07 EE02 FF01 GG07 HH01 4C062 AA20 4C086 AA04 CB09 ZA81 4H006 AA02 AC22 AC41 AC52 AC54 AC81 BA26 BA52 BA55 BA66 BE22 BN10 BU32 QN30 4H039 CA42 CA71 CB30 CF10 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) C07D 309/12 C07D 309/12 // A61K 31/4375 A61K 31/4375 A61P 13/02 A61P 13/02 C07B 53/00 C07B 53/00 FG 61/00 300 61/00 300 C07D 487/04 147 C07D 487/04 147 C07M 7:00 C07M 7:00 (72) Inventor Kenichi Seki 722-1, Tsuboi-cho, Funabashi-shi, Chiba Nissan Chemical (72) Inventor Yasuo Kawamura 722 Tsuboi-cho, Funabashi-shi, Chiba F-term (reference) 4M050 AA01 BB07 CC07 EE02 FF01 GG07 HH01 4C062 AA20 4C086 AA04 CB09 ZA81 4H006 AA02 AC22 AC41 AC52 AC54 AC81 BA26 BA52 BA55 BA66 BE22 BN10 BU32 QN30 4H039 CA42 CA71 CB30 CF10
Claims (8)
基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルケニル基、直
鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルキニル基、フェニル基
又はベンジル基を表し、R2は水素原子、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、直鎖、分枝若しくは環状のC1-6
アルキル基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルケニル
基、直鎖、分枝若しくは環状のC2-6アルキニル基、フェ
ニル基又はベンジル基を表す。)で表される、2−置換
−3−シアノプロパン酸エステル類又はその鏡像異性体
を還元することを特徴とする、式(5) 【化2】 (式中、R1は前記と同じ意味を表す。)で表される、
3−置換−4−ヒドロキシブチルアミン類又はその鏡像
異性体の製造方法。(1) Formula (4) (Wherein R 1 is a linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group, a linear, branched or cyclic C 2-6 alkenyl group, a linear, branched or cyclic C 2-6 alkynyl) R 2 represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a linear, branched or cyclic C 1-6 group;
Represents an alkyl group, a linear, branched or cyclic C 2-6 alkenyl group, a linear, branched or cyclic C 2-6 alkynyl group, a phenyl group or a benzyl group. ), Wherein the 2-substituted-3-cyanopropanoic acid ester or its enantiomer is reduced. (Wherein, R 1 represents the same meaning as described above).
A process for producing 3-substituted-4-hydroxybutylamines or enantiomers thereof.
3は、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、直
鎖、分枝若しくは環状のC1-6アルキル基、直鎖、分枝若
しくは環状のC2-6アルケニル基、直鎖、分枝若しくは環
状のC2-6アルキニル基、フェニル基又はベンジル基を表
す。)で表される、3−置換−2−シアノブタンジカル
ボン酸類又はその鏡像異性体を脱炭酸することにより製
造される式(4) 【化4】 (式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を表す。)で表
される、2−置換−3−シアノプロパン酸エステル類又
はその鏡像異性体を用いることを特徴とする請求項1記
載の3−置換−4−ヒドロキシブチルアミン類又はその
鏡像異性体の製造方法。2. Formula (3) (Wherein, R 1 and R 2 represent the same meaning as described above;
3 is a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group, a linear, branched or cyclic C 2-6 alkenyl group, a linear, branched or Represents a cyclic C 2-6 alkynyl group, phenyl group or benzyl group. Formula (4) which is produced by decarboxylation of a 3-substituted-2-cyanobutanedicarboxylic acid or an enantiomer thereof represented by the following formula: (Wherein, R 1 and R 2 have the same meanings as described above), and a 2-substituted-3-cyanopropanoic acid ester or an enantiomer thereof is used. A process for producing the 3-substituted-4-hydroxybutylamines or the enantiomers thereof as described above.
ロゲン原子、C1-4アルキルスルホニルオキシ基、ハロゲ
ン化アルキルスルホニルオキシ基又はアリールスルホニ
ルオキシ基を表す。)で表される光学活性2−置換酢酸
類又はその鏡像異性体と式(2) 【化6】 (式中、R3は、前記と同じ意味を表す。)で表される
シアノ酢酸類を塩基の存在下で反応させることにより製
造される式(3) 【化7】 (式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表
す。)で表される、3−置換−2−シアノブタンジカル
ボン酸類又はその鏡像異性体を用いることを特徴とする
請求項2記載の3−置換−4−ヒドロキシブチルアミン
類又はその鏡像異性体の製造方法。3. Formula (1) (Wherein, R 1 and R 2 represent the same meaning as described above, and X represents a halogen atom, a C 1-4 alkylsulfonyloxy group, a halogenated alkylsulfonyloxy group, or an arylsulfonyloxy group.) Optically active 2-substituted acetic acids or their enantiomers and formula (2) (Wherein, R 3 has the same meaning as described above), which is produced by reacting a cyanoacetic acid represented by the formula (3) in the presence of a base: (Wherein, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as described above), wherein 3-substituted-2-cyanobutanedicarboxylic acids or their enantiomers are used. Item 3. A process for producing a 3-substituted-4-hydroxybutylamine or an enantiomer thereof according to Item 2.
シブチルアミン類又はその鏡像異性体の製造方法におい
て得られた、式(5) 【化8】 (式中、R1は前記と同じ意味を表す。)で表される、
3−置換−4−ヒドロキシブチルアミン類又はその鏡像
異性体の水酸基を保護することを特徴とする式(6) 【化9】 (式中、R4は水酸基の保護基を表す。)で表される、
3−置換−4−置換オキシ−ブチルアミン類又はその鏡
像異性体の製造方法。4. A compound of the formula (5) obtained by the process for producing a 3-substituted-4-hydroxybutylamine or an enantiomer thereof according to claim 3. (Wherein, R 1 represents the same meaning as described above).
Formula (6) wherein the hydroxyl group of the 3-substituted-4-hydroxybutylamine or its enantiomer is protected. (In the formula, R 4 represents a hydroxyl-protecting group.)
A process for producing 3-substituted-4-substituted oxy-butylamines or enantiomers thereof.
れる、2−置換−3−シアノプロパン酸エステル類又は
その鏡像異性体を還元し、式(7) 【化11】 (式中、R1は前記と同じ意味を表す。)で表される、
3−置換−4−ヒドロキシブチロニトリル類又はその鏡
像異性体とした後、還元することを特徴とする、式
(5) 【化12】 (式中、R1は前記と同じ意味を表す。)で表される、
3−置換−4−ヒドロキシブチルアミン類又はその鏡像
異性体の製造方法。5. The formula (4) (Wherein, R 1 and R 2 have the same meanings as described above), and the 2-substituted-3-cyanopropanoic acid esters or their enantiomers are reduced to give a compound of the formula (7) ] (Wherein, R 1 represents the same meaning as described above).
Formula (5), which is reduced to a 3-substituted-4-hydroxybutyronitrile or an enantiomer thereof, and then reduced. (Wherein, R 1 represents the same meaning as described above).
A process for producing 3-substituted-4-hydroxybutylamines or enantiomers thereof.
シブチルアミン類又はその鏡像異性体の製造方法におい
て得られた、式(5) 【化13】 (式中、R1は前記と同じ意味を表す。)で表される、
3−置換−4−ヒドロキシブチルアミン類又はその鏡像
異性体の水酸基を保護することを特徴とする式(6) 【化14】 (式中、R4は水酸基の保護基を表す。)で表される、
3−置換−4−置換オキシ−ブチルアミン類又はその鏡
像異性体の製造方法。6. A compound of formula (5) obtained by the process for producing a 3-substituted-4-hydroxybutylamine or an enantiomer thereof according to claim 5. (Wherein, R 1 represents the same meaning as described above).
Formula (6) wherein the hydroxyl group of the 3-substituted-4-hydroxybutylamine or its enantiomer is protected. (In the formula, R 4 represents a hydroxyl-protecting group.)
A process for producing 3-substituted-4-substituted oxy-butylamines or enantiomers thereof.
れる、2−置換−3−シアノプロパン酸エステル類又は
その鏡像異性体を、還元することにより、式(7) 【化16】 (式中、R1は前記と同じ意味を表す。)で表される、
3−置換−4−ヒドロキシブチロニトリル類又はその鏡
像異性体とし、次に水酸基を保護することを特徴とする
式(8) 【化17】 (式中、R1及びR4は前記と同じ意味を表す。)で表さ
れる、3−置換−4−置換オキシ−ブチロニトリル類又
はその鏡像異性体の製造法。7. Formula (4) (Wherein R 1 and R 2 represent the same meaning as described above), by reducing a 2-substituted-3-cyanopropanoic acid ester or an enantiomer thereof to obtain a compound represented by the formula (7): Embedded image (Wherein, R 1 represents the same meaning as described above).
Formula (8), which is a 3-substituted-4-hydroxybutyronitrile or an enantiomer thereof, and then protects a hydroxyl group. (Wherein, R 1 and R 4 have the same meanings as described above.) A method for producing a 3-substituted-4-substituted oxy-butyronitrile or an enantiomer thereof.
シ−ブチロニトリル類又はその鏡像異性体の製造方法に
おいて得られた、式(8) 【化18】 (式中、R1及びR4は前記と同じ意味を表す。)で表さ
れる、3−置換−4−置換オキシ−ブチロニトリル類又
はその鏡像異性体を還元することを特徴とする式(6) 【化19】 (式中、R4は水酸基の保護基を表す。)で表される、
3−置換−4−置換オキシ−ブチルアミン類又はその鏡
像異性体の製造方法。8. A compound of the formula (8) obtained by the process for producing a 3-substituted-4-substituted oxy-butyronitrile or an enantiomer thereof according to claim 7. (Wherein R 1 and R 4 represent the same meaning as described above), characterized by reducing a 3-substituted-4-substituted oxy-butyronitrile or an enantiomer thereof. ) (In the formula, R 4 represents a hydroxyl-protecting group.)
A process for producing 3-substituted-4-substituted oxy-butylamines or enantiomers thereof.
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JP2001299919A JP2002308838A (en) | 2001-02-08 | 2001-09-28 | Method for producing optically active 3-substituted-4- substituted oxybutylamines |
Applications Claiming Priority (3)
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JP2001-31655 | 2001-02-08 | ||
JP2001299919A JP2002308838A (en) | 2001-02-08 | 2001-09-28 | Method for producing optically active 3-substituted-4- substituted oxybutylamines |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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ID=26609092
Family Applications (1)
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JP (1) | JP2002308838A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008013556A (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Lab Servier | New naphthalene compound, method for producing the same and pharmacological composition containing the same |
-
2001
- 2001-09-28 JP JP2001299919A patent/JP2002308838A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008013556A (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Lab Servier | New naphthalene compound, method for producing the same and pharmacological composition containing the same |
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