JP2002294287A - Detergent for electronic part - Google Patents

Detergent for electronic part

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JP2002294287A
JP2002294287A JP2001103637A JP2001103637A JP2002294287A JP 2002294287 A JP2002294287 A JP 2002294287A JP 2001103637 A JP2001103637 A JP 2001103637A JP 2001103637 A JP2001103637 A JP 2001103637A JP 2002294287 A JP2002294287 A JP 2002294287A
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JP
Japan
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acid
carbon atoms
group
cleaning agent
ether
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Application number
JP2001103637A
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Japanese (ja)
Inventor
Teruo Sakai
暉夫 坂井
Masao Fukuda
政雄 福田
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Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a detergent for electronic parts which is used for removing organic substances, such as a liquid crystal, remaining on electronic parts, such as a liquid crystal panel, having minute gaps, is excellent in detergency and rinsability, and does not corrode a liquid crystal panel. SOLUTION: This detergent contains a specific salt comprising an ammonium cation and a phosphate anion and/or an organic acid anion and an anionic surfactant and/or a solubilizing assistant.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品用洗浄
剤、とくに、狭いギャップを有する液晶パネルに残存す
る液晶を除去するのに好適に用いられる洗浄剤に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning agent for electronic parts, and more particularly to a cleaning agent suitably used for removing liquid crystal remaining on a liquid crystal panel having a narrow gap.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまで電子部品用洗浄剤、とくに液晶
パネル用の洗浄剤としては、非イオン性界面活性剤と水
からなる水系洗浄剤(特開平4−38100号公報な
ど)、非水溶性溶剤を用いた非水系洗浄剤(特開平4−
292699号公報など)、水溶性溶剤と水からなる準
水系洗浄剤(特開平4−170500号公報など)など
が提案されている。
2. Description of the Related Art Until now, cleaning agents for electronic parts, especially for liquid crystal panels, include aqueous cleaning agents comprising a nonionic surfactant and water (JP-A-4-38100, etc.), and water-insoluble agents. Non-aqueous cleaning agent using solvent
No. 292699), and a quasi-aqueous detergent comprising a water-soluble solvent and water (Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-170500) have been proposed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の洗浄剤が洗浄できる液晶パネル基板間のギャップは1
0μm程度であり、このギャップが2〜5μmとなると
これらの洗浄剤では洗浄不良、リンス不良となって液晶
パネルの電極等の金属部が電蝕し易くなる。本発明は、
狭いギャップを有する電子部品、とくに液晶パネルに残
存する液晶の洗浄性、リンス性に優れ、洗浄後の液晶パ
ネルの電極部分に電蝕が発生しない電子部品用洗浄剤を
提供することを目的とする。
However, the gap between the liquid crystal panel substrates which can be cleaned with these cleaning agents is one.
When the gap is 2 to 5 μm, these cleaning agents cause poor cleaning and poor rinsing, and metal parts such as electrodes of the liquid crystal panel are easily eroded. The present invention
It is an object of the present invention to provide a cleaning agent for electronic parts having a narrow gap, particularly excellent in cleaning and rinsing properties of liquid crystal remaining on the liquid crystal panel, and which does not cause electrolytic corrosion on electrode portions of the liquid crystal panel after cleaning. .

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。す
なわち、本発明は一般式(1)で示される塩(A)とア
ニオン界面活性剤(B)および/または融点20℃以
下、炭素数6〜26のアルコールおよび融点20℃以
下、炭素数6〜50の脂肪酸からなる群から選ばれる1
種または2種以上の可溶化助剤(C)を含有することを
特徴とする電子部品用洗浄剤である。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to achieve the above object, and as a result, have reached the present invention. That is, the present invention provides a salt (A) represented by the general formula (1) and an anionic surfactant (B) and / or an alcohol having a melting point of 20 ° C. or less, an alcohol having a carbon number of 6 to 26 and a melting point of 20 ° C. or less, and a carbon number of 6 to 6. 1 selected from the group consisting of 50 fatty acids
A cleaning agent for electronic parts, characterized by containing one or more solubilizing aids (C).

【化2】 〔式中、R1は炭素数1〜24の炭化水素基、R2、R3
およびR4は、H、炭素数1〜24の炭化水素基または
一般式(2)で表される基で、R1、R2、R3、R4は互
いに結合して環を形成していてもよい。Xn-はn価の燐
酸エステルアニオン(u)および/または有機酸アニオ
ン(v)、nは1〜4の整数を表す。〕 ─(R5O)p─H (2) 〔式中、R5は炭素数2〜4のアルキレン基、pは1〜
6の整数を表す。〕
Embedded image [Wherein, R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, R 2 , R 3
And R 4 are H, a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms or a group represented by the general formula (2), wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are bonded to each other to form a ring. You may. X n- represents an n-valent phosphate ester anion (u) and / or an organic acid anion (v), and n represents an integer of 1 to 4. ─ (R 5 O) p ─H (2) wherein R 5 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and p is 1 to
Represents an integer of 6. ]

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】一般式(1)において、R1とし
ては、炭素数1〜24(好ましくは1〜14)の直鎖も
しくは分岐の飽和または不飽和炭化水素基、脂環式炭化
水素基および芳香環含有炭化水素基が挙げられる。直鎖
もしくは分岐の炭化水素基としては、アルキル基(メチ
ル基、エチル基、n−およびi−プロピル基、n−、i
−およびt−ブチル基、オクチル基、2−エチルヘキシ
ル基、デシル基、オクタデシル基、ドコシル基およびテ
トラコシル基など)、アルケニル基(ビニル基、プロペ
ニル基、アリル基、ブテニル基およびオレイル基など)
が挙げられる。脂環式炭化水素基としては、シクロアル
キル基(シクロヘキシル基、シクロデシル基、シクロド
デシル基など)、シクロアルケニル基(シクロヘキセニ
ル基、シクロオクテニル基、シクロドデセニル基など)
などが挙げられる。芳香環含有炭化水素基としては、ア
リール基(フェニル基、ナフチル基など)、アラルキル
基(ベンジル基、フェネチル基など)、アルキルアリー
ル基(メチルフェニル基、エチルフェニル基、ノニルフ
ェニル基など)などが挙げられる。これらの炭化水素基
の中では、洗浄性およびリンス性の観点から好ましいの
はアルキル基およびアルケニル基である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the general formula (1), R 1 represents a linear or branched saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 24 (preferably 1 to 14) carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon. And aromatic ring-containing hydrocarbon groups. Examples of the linear or branched hydrocarbon group include an alkyl group (methyl group, ethyl group, n- and i-propyl group, n-, i-
-And t-butyl, octyl, 2-ethylhexyl, decyl, octadecyl, docosyl and tetracosyl, etc., alkenyl (vinyl, propenyl, allyl, butenyl and oleyl)
Is mentioned. Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cycloalkyl group (cyclohexyl group, cyclodecyl group, cyclododecyl group, etc.) and a cycloalkenyl group (cyclohexenyl group, cyclooctenyl group, cyclododecenyl group, etc.)
And the like. Examples of the aromatic ring-containing hydrocarbon group include an aryl group (such as a phenyl group and a naphthyl group), an aralkyl group (such as a benzyl group and a phenethyl group), and an alkylaryl group (such as a methylphenyl group, an ethylphenyl group, and a nonylphenyl group). No. Among these hydrocarbon groups, alkyl groups and alkenyl groups are preferred from the viewpoint of detergency and rinsing properties.

【0006】R2、R3およびR4は、水素または炭素数
1〜24の炭化水素基であり、炭化水素基としては、前
記R1として例示したものが挙げられる。Xn-として
は、n価の燐酸エステルアニオン(u)、有機酸アニオ
ン(v)が挙げられ、nは1〜4(好ましくは1または
2)の整数である。
R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and examples of the hydrocarbon group include those exemplified above for R 1 . X n- includes an n-valent phosphate ester anion (u) and an organic acid anion (v), and n is an integer of 1 to 4 (preferably 1 or 2).

【0007】一般式(2)において、R5は炭素数2〜
4のアルキレン基(エチレン基、プロピレン基、ブチレ
ン基など)であり、これらのうち洗浄性の観点から好ま
しいのは炭素数2または3のアルキレン基である。pは
1〜6(好ましくは1〜3)の整数である。
In the general formula (2), R 5 has 2 to 2 carbon atoms.
And an alkylene group having 4 or more carbon atoms (ethylene group, propylene group, butylene group, etc.). Of these, alkylene groups having 2 or 3 carbon atoms are preferable from the viewpoint of detergency. p is an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 3).

【0008】本発明における塩(A)は、アミン誘導体
カチオン(w)と、Xn-で表される燐酸エステルアニオ
ン(u)および/または有機酸アニオン(v)から構成
される。アミン誘導体カチオン(w)としては、少なく
とも1個の炭化水素基が窒素原子に結合した下記〜
のアンモニウムカチオンが挙げられる。
The salt (A) in the present invention comprises an amine derivative cation (w) and a phosphate anion (u) and / or an organic acid anion (v) represented by X n- . As the amine derivative cation (w), at least one hydrocarbon group bonded to a nitrogen atom:
Ammonium cation.

【0009】 炭素数1〜24の炭化水素基を4個含
む4級アンモニウムカチオン トリメチルアルキルアンモニウム[トリメチルヘキシル
アンモニウム、トリメチルオクチルアンモニウム、トリ
メチルデシルアンモニウム、トリメチルココナットアル
キル(炭素数8〜25、以下同様)アンモニウム、トリ
メチルテトラデシルアンモニウム、トリメチルオクタデ
シルアンモニウムなど];トリブチルアルキルアンモニ
ウム[トリブチルオクチルアンモニウム、トリブチルデ
シルアンモニウムなど];ジメチルエチルアルキルアン
モニウム[ジメチルエチルヘキサデシルアンモニウム、
ジメチルエチルオクタデシルアンモニウム、ジメチルエ
チルココナットアルキルアンモニウムなど];メチルジ
エチルアルキルアンモニウム[メチルジエチルヘキサデ
シルアンモニウム、メチルジエチルココナットアルキル
アンモニウムなど];ジメチルアルキルベンジルアンモ
ニウム[ジメチルデシルベンジルアンモニウム、ジメチ
ルドデシルベンジルアンモニウム、ジメチルココナット
アルキルベンジルアンモニウムなど];ジメチルジアル
キルアンモニウム[ジメチルジヘキシルアンモニウム、
ジメチルジドデシルアンモニウムなど];メチルトリア
ルキルアンモニウム[メチルトリオクチルアンモニウ
ム、メチルトリデシルアンモニウムなど] 炭素数1〜24の炭化水素基を3個含むアンモニウ
ムカチオン ジメチルアルキルアンモニウム[ジメチルヘキシルアン
モニウム、ジメチルオクチルアンモニウム、ジメチルコ
コナットアルキルアンモニウムなど];ジエチルアルキ
ルアンモニウム[ジエチルブチルアンモニウム、ジエチ
ルオクチルアンモニウム、ジエチルココナットアルキル
アンモニウムなど] 炭素数1〜24の炭化水素基を2個含むアンモニウ
ムカチオン メチルアルキルアンモニウム[メチルヘキシルアンモニ
ウム、メチルオクチルアンモニウム、メチルココナット
アルキルアンモニウムなど];エチルアルキルアンモニ
ウム[エチルブチルアンモニウム、エチルオクチルアン
モニウム、エチルココナットアルキルアンモニウムな
ど] 炭素数1〜24の炭化水素基を1個含むアンモニウ
ムカチオン モノアルキルアンモニウム[メチルアンモニウム、エチ
ルアンモニウム、ブチルアンモニウム、ヘキシルアンモ
ニウム、オクチルアンモニウム、ドデシルアンモニウ
ム、ココナットアルキルアンモニウムなど] オキシアルキレン基(繰り返し単位数1〜6)を含
むアンモニウムカチオン ジヒドロキシエチルヘキシルアンモニウム、ビス(2−
ヒドロキシエトキシエチル)オクチルアンモニウムなど
上記〜のうち、洗浄性とリンス性の観点から好まし
いのは、、更に好ましいのはである。の中で好
ましいのは、トリメチルデシルアンモニウム、ジメチル
ジドデシルアンモニウム、および特に好ましいのはトリ
メチルオクチルアンモニウム、ジメチルジオクチルアン
モニウムである。
A quaternary ammonium cation containing four hydrocarbon groups having 1 to 24 carbon atoms, trimethylalkylammonium [trimethylhexylammonium, trimethyloctylammonium, trimethyldecylammonium, trimethylcoconut alkyl (C8 to C25; the same applies hereinafter) Ammonium, trimethyltetradecylammonium, trimethyloctadecylammonium, etc.]; tributylalkylammonium [tributyloctylammonium, tributyldecylammonium, etc.]; dimethylethylalkylammonium [dimethylethylhexadecylammonium,
Dimethyl ethyl octadecyl ammonium, dimethyl ethyl coconut alkyl ammonium, etc.]; methyl diethyl alkyl ammonium [methyl diethyl hexadecyl ammonium, methyl diethyl coconut alkyl ammonium, etc.]; dimethyl alkyl benzyl ammonium [dimethyl decyl benzyl ammonium, dimethyl dodecyl benzyl ammonium, dimethyl] Coconut alkyl benzyl ammonium etc.]; dimethyl dialkyl ammonium [dimethyl dihexylammonium,
Dimethyldidodecylammonium etc.]; methyltrialkylammonium [methyltrioctylammonium, methyltridecylammonium etc.] Ammonium cation containing three hydrocarbon groups having 1 to 24 carbon atoms dimethylalkylammonium [dimethylhexylammonium, dimethyloctylammonium, Dimethyl coconut alkyl ammonium etc.]; diethyl alkyl ammonium [diethyl butyl ammonium, diethyl octyl ammonium, diethyl coconut alkyl ammonium etc.] An ammonium cation containing two hydrocarbon groups having 1 to 24 carbon atoms methyl alkyl ammonium [methylhexyl ammonium, Methyl octyl ammonium, methyl coconut alkyl ammonium, etc.]; ethyl alkyl ammonium Ammonium [ethyl butyl ammonium, ethyl octyl ammonium, ethyl coconut alkyl ammonium, etc.] Ammonium cation containing one hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms Monoalkyl ammonium [methyl ammonium, ethyl ammonium, butyl ammonium, hexyl ammonium, octyl ammonium , Dodecyl ammonium, coconut alkyl ammonium, etc.] ammonium cation containing an oxyalkylene group (number of repeating units 1 to 6) dihydroxyethylhexylammonium, bis (2-
Among the above, such as hydroxyethoxyethyl) octylammonium, those which are preferable from the viewpoint of detergency and rinsing properties are more preferable. Preferred among them are trimethyldecylammonium, dimethyldidodecylammonium, and particularly preferred are trimethyloctylammonium, dimethyldioctylammonium.

【0010】燐酸エステルアニオン(u)としては、下
記一般式(3)で表されるものが挙げられる。
The phosphate anion (u) includes those represented by the following general formula (3).

【化3】 一般式(3)において、R6は炭素数4〜18(好まし
くは6〜14)の炭化水素基、R7は炭素数2〜4(好
ましくは2または3)のアルキレン基、mは0〜50
(好ましくは0〜30)の数、nは1または2(好まし
くは1)を表す。R6としては、アルキル基、アルケニ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基お
よびアルキルアリール基が挙げられ、前記R1として例
示した炭化水素基のうち炭素数4〜18のものが挙げら
れる。(u)を構成する燐酸エステルとしては、炭素数
4〜18の炭化水素基を有するホスフェート[n−ブチ
ルホスフェート、n−ヘキシルホスフェート、n−オク
チルホスフェート、2−エチルヘキシルホスフェート、
ドバノール23(三菱化学社製側鎖率約20%、炭素数
12、13の混合アルコール)ホスフェート、テトラデ
シルホスフェートおよびドデシルホスフェート、ベンジ
ルホスフェートなど];ポリ(n=1〜100)オキシ
アルキレンアルキルエーテルホスフェート[n−オクチ
ルアルコールエチレンオキサイド(以下EOと略記)1
0モル付加物のホスフェートなど]などのモノホスフェ
ートおよび/またはジホスフェートが挙げられる。これ
らは1種または2種以上の併用の何れでもよい。これら
のうち、洗浄性の観点から好ましいのは炭素数4〜18
の炭化水素基を有するホスフェートの中では、n−ブチ
ルホスフェート、n−ヘキシルホスフェート、n−オク
チルホスフェートおよび2−エチルヘキシルホスフェー
トなどのモノホスフェートおよび/またはジ−n−ブチ
ルホスフェート、ジ−n−ヘキシルホスフェート、ジ−
n−オクチルホスフェートおよびジ−2−エチルヘキシ
ルホスフェートなどのジホスフェートである。ポリ(n
=1〜100)オキシアルキレンアルキルエーテルホス
フェートの中では、ポリ(n=3〜20)オキシアルキ
レンアルキルエーテルモノホスフェート、ポリ(n=3
〜20)オキシアルキレンアルキルエーテルジホスフェ
ートである。
Embedded image In the general formula (3), R 6 is a hydrocarbon group having 4 to 18 (preferably 6 to 14) carbon atoms, R 7 is an alkylene group having 2 to 4 (preferably 2 or 3) carbons, and m is 0 to 0. 50
(Preferably 0 to 30), n represents 1 or 2 (preferably 1). Examples of R 6 include an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkylaryl group. Among the hydrocarbon groups exemplified as R 1 , those having 4 to 18 carbon atoms are exemplified. Examples of the phosphate constituting (u) include phosphates having a hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms [n-butyl phosphate, n-hexyl phosphate, n-octyl phosphate, 2-ethylhexyl phosphate,
Dovananol 23 (Mitsubishi Chemical Corporation side chain ratio: about 20%, mixed alcohol having 12 or 13 carbon atoms) phosphate, tetradecyl phosphate, dodecyl phosphate, benzyl phosphate, etc.]; poly (n = 1 to 100) oxyalkylene alkyl ether phosphate [N-octyl alcohol ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO) 1
Monophosphate and / or diphosphate. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, those having 4 to 18 carbon atoms are preferable from the viewpoint of detergency.
Among the phosphates having the following hydrocarbon groups, monophosphates such as n-butyl phosphate, n-hexyl phosphate, n-octyl phosphate and 2-ethylhexyl phosphate and / or di-n-butyl phosphate, di-n-hexyl phosphate , Ji-
diphosphates such as n-octyl phosphate and di-2-ethylhexyl phosphate. Poly (n
= 1 to 100) oxyalkylene alkyl ether phosphate, among which poly (n = 3 to 20) oxyalkylene alkyl ether monophosphate and poly (n = 3)
-20) oxyalkylene alkyl ether diphosphate.

【0011】有機酸アニオン(v)を構成する有機酸と
しては、下記の(v1)カルボン酸、(v2)スルホン
酸、(v3)スルフィン酸、(v4)フェノールなどが
挙げられる。 有機酸アニオン(v)は通常1〜4価で
あり、好ましくは1〜2価、更に好ましくは2価であ
る。 (v1)カルボン酸 飽和もしくは不飽和の脂肪族、脂環式および芳香族カル
ボン酸、並びに天然油脂脂肪酸が挙げられる。飽和もし
くは不飽和の脂肪族カルボン酸(炭素数2〜32)とし
ては、モノカルボン酸〔ヘプタン酸、オクタン酸、ラウ
リン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、モンタン酸、ウ
ンデシレン酸、オレイン酸、エルカ酸、オキシカルボン
酸(グリコール酸、乳酸、グルコン酸など)など〕、ポ
リカルボン酸〔ジカルボン酸[コハク酸、アジピン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、イタコン酸、オ
キシカルボン酸(グリセリン酸、酒石酸、リンゴ酸な
ど)など]、3価〜4価またはそれ以上のポリカルボン
酸[1,2,4−ブタントリカルボン酸、1,2,5−
ヘキサントリカルボン酸、1,3−ジカルボキシル−2
−メチル−2−メチレンカルボキシプロパン、オキシカ
ルボン酸(クエン酸など)など]など〕、飽和もしくは
不飽和の脂環式カルボン酸(炭素数6〜50)として
は、モノカルボン酸(シクロヘキサンカルボン酸な
ど)、ポリカルボン酸〔ジカルボン酸(1,4−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、ダイマー酸など)、3価〜4価
またはそれ以上のポリカルボン酸(1,2,4−シクロ
ヘキサントリカルボン酸など)〕、芳香族カルボン酸
(炭素数7〜16)としては、モノカルボン酸(安息香
酸、p−t−ブチル安息香酸、サリチル酸、2−ナフタ
レンカルボン酸など)、ポリカルボン酸〔ジカルボン酸
(フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、2,6−ナ
フタレンジカルボン酸など)、3価〜4価またはそれ以
上のポリカルボン酸(1,2,4−ベンゼントリカルボ
ン酸、ピロメリット酸など)〕、天然油脂脂肪酸として
は、ヤシ油脂肪酸、パーム油脂肪酸、コーン油脂肪酸な
ど。これらのカルボン酸は、1種または2種以上の併用
の何れでもよい。上記のカルボン酸のうち、洗浄性とリ
ンス性の観点から好ましいのはポリカルボン酸、更に好
ましいのは脂肪族飽和ジカルボン酸、とくにアジピン酸
およびセバシン酸である。
Examples of the organic acid constituting the organic acid anion (v) include the following (v1) carboxylic acid, (v2) sulfonic acid, (v3) sulfinic acid, and (v4) phenol. The organic acid anion (v) is usually 1 to 4, preferably 1 to 2, and more preferably divalent. (V1) Carboxylic Acids Saturated or unsaturated aliphatic, alicyclic and aromatic carboxylic acids, and natural fatty acid fatty acids. As saturated or unsaturated aliphatic carboxylic acids (2-32 carbon atoms), monocarboxylic acids [heptanoic acid, octanoic acid, lauric acid, myristic acid, stearic acid, montanic acid, undecylenic acid, oleic acid, erucic acid, Oxycarboxylic acids (glycolic acid, lactic acid, gluconic acid, etc.), polycarboxylic acids [dicarboxylic acids [succinic acid, adipic acid,
Azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, itaconic acid, oxycarboxylic acid (glyceric acid, tartaric acid, malic acid, etc.); trivalent to tetravalent or higher polycarboxylic acid [1,2,4-butanetricarboxylic acid] , 1,2,5-
Hexanetricarboxylic acid, 1,3-dicarboxyl-2
-Methyl-2-methylenecarboxypropane, oxycarboxylic acid (eg, citric acid)], and saturated or unsaturated alicyclic carboxylic acids (with 6 to 50 carbon atoms) include monocarboxylic acids (such as cyclohexanecarboxylic acid). ), Polycarboxylic acids [dicarboxylic acid (1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, dimer acid, etc.), trivalent to tetravalent or higher polycarboxylic acid (1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid, etc.)], aromatic Examples of the carboxylic acids (C 7 to C 16) include monocarboxylic acids (benzoic acid, pt-butylbenzoic acid, salicylic acid, 2-naphthalenecarboxylic acid, etc.), polycarboxylic acids [dicarboxylic acids (phthalic acid, isophthalic acid, Terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, etc.) trivalent to tetravalent or higher polycarboxylic acids (1, , 4-benzenetricarboxylic acid, and pyromellitic acid)], as the natural fats and oils fatty acids, coconut oil fatty acid, palm oil fatty acid, such as corn oil fatty acids. These carboxylic acids may be used alone or in combination of two or more. Of the above carboxylic acids, polycarboxylic acids are preferred from the viewpoint of detergency and rinsing properties, and more preferred are aliphatic saturated dicarboxylic acids, particularly adipic acid and sebacic acid.

【0012】(v2)スルホン酸 脂肪族直鎖または分岐のスルホン酸[炭素数1〜4(メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン
酸など)、炭素数5〜20(ヘキサンスルホン酸、オク
タンスルホン酸など)];芳香族スルホン酸[炭素数6
〜10(ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン
酸、キシレンスルホン酸、トルエンジスルホン酸な
ど)、炭素数11〜26(ヘキシルベンゼンスルホン
酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンジ
スルホン酸など)]など。 (v3)スルフィン酸 脂肪族直鎖または分岐スルフィン酸[炭素数1〜4(メ
タンスルフィン酸、エタンスルフィン酸、プロパンスル
フィン酸など)、炭素数5〜20(ヘキサンスルフィン
酸、オクタンスルフィン酸、ドデシルスルフィン酸な
ど)];芳香族スルフィン酸[炭素数6〜10(ベンゼ
ンスルフィン酸、p−トルエンスルフィン酸、キシレン
スルフィン酸など)、炭素数11〜26(ヘキシルベン
ゼンスルフィン酸、ドデシルベンゼンスルフィン酸な
ど)]など。 (v4)フェノール 1価フェノール〔単環(炭素数6〜20、例えばフェノ
ール、クレゾール、ブチルフェノール、オクチルフェノ
ール、ノニルフェノール)、多環(炭素数10〜20、
例えばフェニルフェノール、ナフトール)など〕;2価
フェノール〔単環(炭素数6〜16、例えばハイドロキ
ノン、レゾルシン)、多環(炭素数13〜20、例えば
ビスフェノールF、ビスフェノールA、ビスフェノール
S)など〕;3価〜4価またはそれ以上のフェノール
〔単環(炭素数6〜16、例えば1,3,5−トリヒド
ロキシベンゼン)、多環(炭素数13〜20、例えば
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン)など〕な
ど。上記(v1)〜(v4)の有機酸は、1種または2
種以上の併用の何れでもよく、上記有機酸のうち、洗浄
性とリンス性の観点から好ましいのは(v1)である。
(V2) Sulfonic acid Aliphatic linear or branched sulfonic acid [1 to 4 carbon atoms (methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, etc.), 5 to 20 carbon atoms (hexanesulfonic acid, octanesulfonic acid, etc.) Acid, etc.)]; aromatic sulfonic acid [having 6 carbon atoms]
10 to 10 (benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, toluenedisulfonic acid, etc.), 11 to 26 carbon atoms (hexylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenedisulfonic acid, etc.)] and the like. (V3) Sulfinic acid Aliphatic linear or branched sulfinic acid [1 to 4 carbon atoms (methanesulfinic acid, ethanesulfinic acid, propanesulfinic acid, etc.), 5 to 20 carbon atoms (hexanesulfinic acid, octanesulfinic acid, dodecylsulfinic acid) Aromatic sulfinic acid [C6 to C10 (benzenesulfinic acid, p-toluenesulfinic acid, xylenesulfinic acid, etc.), C11 to C26 (hexylbenzenesulfinic acid, dodecylbenzenesulfinic acid, etc.)] Such. (V4) Phenol monovalent phenol [monocyclic (C6-20, for example, phenol, cresol, butylphenol, octylphenol, nonylphenol), polycyclic (C10-20,
Divalent phenol [monocyclic (C6 to C16, for example, hydroquinone, resorcinol), polycyclic (C13 to C20, for example, bisphenol F, bisphenol A, bisphenol S), etc.]; Trivalent to tetravalent or more phenols (monocyclic (C6 to C16, for example, 1,3,5-trihydroxybenzene), polycyclic (C13 to C20, for example 2,3,4-trihydroxy) Benzophenone). The organic acids (v1) to (v4) are one or two
Any of a combination of two or more of them may be used, and among the above organic acids, (v1) is preferred from the viewpoint of detergency and rinsing properties.

【0013】本発明における塩(A)は、アミンと炭酸
ジエステルとの反応で得られる、相当する4級アンモニ
ウム炭酸塩と、酸性燐酸エステルもしくはカルボン酸と
のアニオン交換反応により形成され、その際発生する炭
酸ガスは系外に除去せしめられる。具体的には、以下に
示す方法等により製造することができる。例えば、トリ
メチルオクチルアンモニウムオクチルホスフェートの場
合では、先ずジメチルオクチルアミン1モルと等モル以
上(1〜1.4モル)のジメチルカーボネートと溶媒と
してメタノールをオートクレーブに仕込み、1〜20k
g/cm2の加圧下、60〜150℃で反応させること
により、トリメチルオクチルアンモニウムメチルカーボ
ネートのメタノール溶液(30〜80重量%)が得られ
る。別にオクチルアルコール3モルと、無水燐酸1モル
を60〜70℃で反応させることによりオクチル燐酸モ
ノ、ジ、混合エステルを得、次にオクチルモノホスフェ
ート、ジホスフェート、混合エステルにトリメチルオク
チルアンモニウムメチルカーボネートのメタノール溶液
を80〜90℃で徐々に添加し、発生する二酸化炭素お
よびメタノールを留去する。次いで水を添加し、充分に
アニオン交換反応を行った後、更に水で希釈し、トリメ
チルオクチルアンモニウムオクチルホスフェートの水溶
液を得る。必要ならば水分を除去して、乾燥品を得るこ
ともできる。
The salt (A) in the present invention is formed by an anion exchange reaction between the corresponding quaternary ammonium carbonate obtained by the reaction of an amine and a carbonic acid diester with an acidic phosphate or a carboxylic acid. The generated carbon dioxide gas is removed outside the system. Specifically, it can be manufactured by the following method or the like. For example, in the case of trimethyloctylammonium octyl phosphate, 1 mol of dimethyloctylamine and at least equimolar (1 to 1.4 mol) of dimethyl carbonate and methanol as a solvent are charged into an autoclave, and 1 to 20 k
By reacting at 60 to 150 ° C. under a pressure of g / cm 2 , a methanol solution of trimethyloctyl ammonium methyl carbonate (30 to 80% by weight) is obtained. Separately, 3 moles of octyl alcohol and 1 mole of phosphoric anhydride are reacted at 60 to 70 ° C. to obtain mono-, di-, and mixed esters of octyl phosphoric acid. Then, octyl monophosphate, diphosphate, and mixed esters are mixed with trimethyloctyl ammonium methyl carbonate. A methanol solution is gradually added at 80 to 90 ° C., and the generated carbon dioxide and methanol are distilled off. Then, water is added, and after an anion exchange reaction is sufficiently performed, the mixture is further diluted with water to obtain an aqueous solution of trimethyloctyl ammonium octyl phosphate. If necessary, moisture can be removed to obtain a dried product.

【0014】本発明におけるアニオン界面活性剤(B)
としては、カルボン酸またはその塩(B1)、硫酸エス
テル塩(B2)、カルボキシメチル化物の塩(B3)、
スルホン酸塩(B4)及びリン酸エステル塩(B5)が
挙げられる。
The anionic surfactant (B) in the present invention
As a carboxylic acid or a salt thereof (B1), a sulfate salt (B2), a carboxymethylated salt (B3),
Sulfonate (B4) and phosphate ester salt (B5).

【0015】カルボン酸またはその塩(B1)として
は、炭素数8〜22の飽和または不飽和脂肪酸またはそ
の塩が挙げられ、具体的にはカプリン酸,ラウリン酸,
ミリスチン酸,パルミチン酸,ステアリン酸,アラキジ
ン酸,ベヘン酸,オレイン酸,リノール酸,リシノール
酸およびヤシ油,パーム核油,米ぬか油,牛脂などをケ
ン化して得られる高級脂肪酸の混合物が挙げられる。塩
としてはそれらのナトリウム,カリウム,アンモニウ
ム,アルカノールアミン(モノ−、ジ−およびトリ−エ
タノールアミン、n−およびi−プロパノールアミンな
ど)などの塩が挙げられる。
The carboxylic acid or its salt (B1) includes a saturated or unsaturated fatty acid having 8 to 22 carbon atoms or a salt thereof. Specifically, capric acid, lauric acid,
Mixtures of myristic acid, palmitic acid, stearic acid, arachidic acid, behenic acid, oleic acid, linoleic acid, ricinoleic acid and higher fatty acids obtained by saponifying coconut oil, palm kernel oil, rice bran oil, tallow, and the like. Salts include their sodium, potassium, ammonium, alkanolamines (such as mono-, di- and tri-ethanolamine, n- and i-propanolamine) and the like.

【0016】硫酸エステル塩(B2)としては、高級ア
ルコール硫酸エステル塩[炭素数8〜18の脂肪族アル
コールの硫酸エステル塩、例えばオクチルアルコール硫
酸エステル塩、デシルアルコール硫酸エステル塩、ラウ
リルアルコール硫酸エステル塩、ステアリルアルコール
硫酸エステル塩、チーグラー触媒を用いて合成されたア
ルコール(例えば、ALFOL 1214:CONDE
A社製)の硫酸エステル塩,オキソ法で合成されたアル
コール(たとえばドバノール23、25、45:三菱化
学社製、トリデカノール:協和発酵社製、オキソコール
1213、1215、1415:日産化学社製、ダイヤ
ドール115−L、115H、135:三菱化学社製)
の硫酸エステル塩];高級アルキルエーテル硫酸エステ
ル塩[炭素数8〜18の脂肪族アルコールのEO1〜1
0モル付加物の硫酸エステル塩、例えばラウリルアルコ
ールEO2モル付加物の硫酸エステル塩、オクチルアル
コールEO3モル付加物の硫酸エステル塩];硫酸化油
[天然の不飽和油脂または不飽和のロウをそのまま硫酸
化して中和したもの、例えばヒマシ油、落花生油、オリ
ーブ油、ナタネ油、牛脂、羊脂などの硫酸化物のナトリ
ウム、カリウム、アンモニウム、アルカノールアミン
(前記のもの)塩];硫酸化脂肪酸エステル[不飽和脂
肪酸の低級(炭素数1〜6)アルコールエステルを硫酸
化して中和したもの、例えばオレイン酸ブチル、リシノ
レイン酸ブチルなどの硫酸化物のナトリウム、カリウ
ム、アンモニウム、アルカノールアミン(前記のもの)
塩など];および硫酸化オレフィン[炭素数12〜18
のオレフィンを硫酸化して中和したもの、例えばティー
ポール(シェル社製)]などが挙げられる。
Examples of the sulfate (B2) include higher alcohol sulfates [sulfate esters of aliphatic alcohols having 8 to 18 carbon atoms, such as octyl alcohol sulfate, decyl alcohol sulfate, lauryl alcohol sulfate] , Stearyl alcohol sulfate, alcohol synthesized using a Ziegler catalyst (eg, ALFOL 1214: CONDE)
A), an alcohol synthesized by the oxo method (for example, dovanol 23, 25, 45: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, tridecanol: manufactured by Kyowa Hakko Co., Ltd., oxocol 1213, 1215, 1415: manufactured by Nissan Chemical Industries, diamond Doll 115-L, 115H, 135: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
Sulfuric acid ester salt]; higher alkyl ether sulfate salt [EO1 to EO1 of aliphatic alcohol having 8 to 18 carbon atoms]
Sulfate adducts of 0 mol adducts, for example, sulfate adducts of lauryl alcohol EO 2 mol adducts, sulfate adducts of octyl alcohol EO 3 mol adducts]; sulfated oils [natural unsaturated fats or oils and sulfuric acid as it is Neutralized, for example, castor oil, peanut oil, olive oil, rapeseed oil, sodium, potassium, ammonium, alkanolamine (as described above) salts of sulfates such as tallow, sheep tallow, etc .; Sulfated and neutralized lower (C1-6) alcohol esters of saturated fatty acids, for example, sodium, potassium, ammonium and alkanolamines of sulfates such as butyl oleate and butyl ricinoleate (as described above)
Salts, etc.]; and sulfated olefins [C 12-18]
Obtained by sulfating and neutralizing olefins, for example, Teapol (manufactured by Shell).

【0017】カルボキシメチル化物の塩(B3)として
は、炭素数8〜16の脂肪族アルコールのカルボキシメ
チル化物の塩[オクチルアルコールカルボキシメチル化
ナトリウム塩,デシルアルコールカルボキシメチル化ナ
トリウム塩、ラウリルアルコールカルボキシメチル化ナ
トリウム塩、ドバノール23カルボキシメチル化ナトリ
ウム塩、リデカノールカルボキシメチル化ナトリウム塩
など];および炭素数8〜16の脂肪族アルコールのE
O1〜10モル付加物のカルボキシメチル化物の塩[オ
クチルアルコールEO3モル付加物カルボキシメチル化
ナトリウム塩、ラウリルアルコールEO4モル付加物カ
ルボキシメチル化ナトリウム塩、ドバノール23EO3
モル付加物カルボキシメチル化ナトリウム塩、トリデカ
ノールEO5モル付加物カルボキシメチル化ナトリウム
塩など]などが挙げられる。
Examples of the carboxymethylated salt (B3) include salts of carboxymethylated aliphatic alcohols having 8 to 16 carbon atoms [octyl alcohol carboxymethylated sodium salt, decyl alcohol carboxymethylated sodium salt, lauryl alcohol carboxymethyl]. Sodium salt, dovanol 23 sodium carboxymethylated salt, lidecanol carboxymethylated sodium salt, etc.]; and E of aliphatic alcohol having 8 to 16 carbon atoms
Salt of carboxymethylated product of O1 to 10 mol adduct [octyl alcohol EO 3 mol adduct carboxymethylated sodium salt, lauryl alcohol EO 4 mol adduct carboxymethylated sodium salt, dovanol 23EO3
Mole adduct carboxymethylated sodium salt, tridecanol EO 5 mol adduct carboxymethylated sodium salt, etc.].

【0018】スルホン酸塩(B4)としては、アルキル
(炭素数8〜24)ベンゼンスルホン酸塩(ドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム塩など);アルキル(炭素
数8〜24)ナフタレンスルホン酸塩(ドデシルナフタ
レンスルホン酸ナトリウム塩など);スルホコハク酸ジ
エステル塩(スルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルエ
ステルのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、
アルカノールアミン塩など);α−オレフィン(炭素数
12〜18)スルホン酸塩(1−ドデセンスルホン酸塩
など);イゲポンT型などが挙げられる。これらの中で
は、洗浄性の観点からスルホコハク酸ジエステル塩、と
くにスルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルエステルの
ナトリウム塩が好ましい。
Examples of the sulfonic acid salt (B4) include alkyl (8-24 carbon atoms) benzenesulfonic acid salt (such as sodium salt of dodecylbenzenesulfonic acid); alkyl (8-24 carbon atoms) naphthalenesulfonic acid salt (dodecylnaphthalenesulfonic acid) Acid sodium salt); sulfosuccinic acid diester salt (sodium, potassium, ammonium salt of di-2-ethylhexyl sulfosuccinate)
Alkanolamine salts); α-olefins (C12-18) sulfonates (such as 1-dodecenesulfonate); and Igepon T type. Among these, a sulfosuccinic acid diester salt, particularly a sodium salt of sulfosuccinic acid di-2-ethylhexyl ester, is preferred from the viewpoint of detergency.

【0019】リン酸エステル塩(B5)としては、高級
アルコール(炭素数8〜60)リン酸エステル塩[ラウ
リルアルコールリン酸モノエステルジナトリウム塩,ラ
ウリルアルコールリン酸ジエステルナトリウム塩な
ど];高級アルコール(炭素数8〜60)EO付加物リ
ン酸エステル塩[オレイルアルコールEO5モル付加物
リン酸モノエステルジナトリウム塩など];アルキル
(炭素数4〜60)フェノールEO付加物リン酸エステ
ル塩[デシルフェニルEO10モル付加物リン酸エステ
ル塩など]などが挙げられる。これらの中では、洗浄性
の観点から高級アルコール(炭素数8〜60)EO付加
物リン酸エステル塩、とくにオレイルアルコールEO5
モル付加物リン酸モノエステルジナトリウム塩が好まし
い。
Examples of the phosphate ester salt (B5) include higher alcohol (8 to 60 carbon atoms) phosphate ester salts such as monosodium lauryl alcohol phosphate monoester and sodium lauryl alcohol phosphate diester; Phosphoric acid ester salt of EO adduct [8 to 60 carbon atoms] oleyl alcohol EO 5 mol adduct phosphoric acid monoester disodium salt etc .; Phosphate ester salt of alkyl (4 to 60 carbon atoms) phenol EO [decylphenyl EO10 Phosphoric acid ester salt of a molar addition product] and the like. Among them, from the viewpoint of detergency, higher alcohol (8 to 60 carbon atoms) EO adduct phosphate ester salts, especially oleyl alcohol EO5
Molar adduct disodium phosphate monoester is preferred.

【0020】本発明における可溶化助剤(C)として
は、融点20℃以下、炭素数6〜26のアルコール(C
1)および融点20℃以下、炭素数6〜50の脂肪酸
(C2)が挙げられる。(C1)としては、直鎖または
分岐の脂肪族飽和1価アルコール(ヘキサノール、ヘプ
タノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウ
ンデカノールなど);脂肪族不飽和アルコール(2−ヘ
キセン−1−オール、2−ヘプテン−1−オール、2−
オクテン−1−オール、2−ドデセン−1−オール、2
−ウンデセン−1−オール、2−テトラデセン−1−オ
ール、2−ペンタデセン−1−オール、5−ヘキセン−
1−オール、6−ヘプテン−1−オール、8−ノネン−
1−オール、10−ウンデセン−1−オール、11−ド
デセン−1−オール、12−トリデセン−1−オール、
15−ヘキサデセン−1−オール、オレイルアルコー
ル、リノレイルアルコール、リノレニルアルコール、イ
ソステアリルアルコールなど);脂環式アルコール(シ
クロノナノール、シクロデカノール、シクロウンデカノ
ールなど);芳香族アルコール(ベンジルアルコール、
フェニルエチルアルコールなど)が挙げられる。(C
2)としては、直鎖または分岐の飽和脂肪酸(ヘキサン
酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、2−メチルペ
ンタン酸、4−エチルペンタン酸、6−プロピルノナン
酸、5−メチルドデカン酸、11−メチルオクタデカン
酸、9−オクチルヘプタデカン酸、2,2−ジメチルド
デカン酸、3,3−ジメチルテトラデカン酸、13,1
6−ジメチルトリコサン酸など);直鎖または分岐の不
飽和脂肪酸(3−ヘキセン酸、6−ヘプテン酸、9−ヘ
ンデセン酸、3−ドデセン酸、4−テトラデセン酸、9
−ヘキサデセン酸、11−オクタデセン酸、2,5−ジ
メチル−2−ヘプタデカエン酸、オレイン酸、リノール
酸、リノレン酸など);脂環式カルボン酸(ダイマー酸
など)が挙げられる。(C1)、(C2)は1種または
2種以上の併用のいずれでもよい。上記(C1)と(C
2)のうち、臭気の観点から好ましいのは(C1)、さ
らに好ましいのは、脂肪族飽和および不飽和アルコー
ル、とくにウンデカノール、オレイルアルコールおよび
イソステアリルアルコールである。
As the solubilizing aid (C) in the present invention, alcohols having a melting point of 20 ° C. or lower and 6 to 26 carbon atoms (C
1) and fatty acids (C2) having a melting point of 20 ° C. or lower and 6 to 50 carbon atoms. (C1) includes linear or branched aliphatic saturated monohydric alcohols (hexanol, heptanol, octanol, nonanol, decanol, undecanol, etc.); aliphatic unsaturated alcohols (2-hexen-1-ol, 2-heptene- 1-ol, 2-
Octen-1-ol, 2-dodecene-1-ol, 2
-Undecene-1-ol, 2-tetradecene-1-ol, 2-pentadecene-1-ol, 5-hexene-
1-ol, 6-hepten-1-ol, 8-nonene-
1-ol, 10-undecene-1-ol, 11-dodecene-1-ol, 12-tridecene-1-ol,
15-hexadecene-1-ol, oleyl alcohol, linoleyl alcohol, linolenyl alcohol, isostearyl alcohol, etc .; alicyclic alcohols (cyclononanol, cyclodecanol, cycloundecanol, etc.); aromatic alcohols ( benzyl alcohol,
Phenylethyl alcohol). (C
2) includes linear or branched saturated fatty acids (hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, 2-methylpentanoic acid, 4-ethylpentanoic acid, 6-propylnonanoic acid, 5-methyldodecanoic acid, 11 -Methyloctadecanoic acid, 9-octylheptadecanoic acid, 2,2-dimethyldodecanoic acid, 3,3-dimethyltetradecanoic acid, 13,1
Linear or branched unsaturated fatty acids (3-hexenoic acid, 6-heptenoic acid, 9-hendesenoic acid, 3-dodecenoic acid, 4-tetradecenoic acid, 9)
-Hexadecenoic acid, 11-octadecenoic acid, 2,5-dimethyl-2-heptadecaenoic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid and the like; and alicyclic carboxylic acids (dimer acid and the like). (C1) and (C2) may be used alone or in combination of two or more. (C1) and (C
Of the 2), (C1) is preferred from the viewpoint of odor, and more preferred are aliphatic saturated and unsaturated alcohols, particularly undecanol, oleyl alcohol and isostearyl alcohol.

【0021】本発明の洗浄剤には、必要により疎水性溶
剤(D)および親水性溶剤(E)を加えることができ
る。疎水性溶剤(D)としては、20℃における水に対
する溶解度が3%未満の、炭化水素(D1)、エステル
(D2)、ケトン(D3)、エーテル(D4)、アミン
(D5)、アミド(D6)、アルコール(D7)、グリ
コールエーテル(D8)などが挙げられる。
The cleaning agent of the present invention can optionally contain a hydrophobic solvent (D) and a hydrophilic solvent (E). Examples of the hydrophobic solvent (D) include hydrocarbons (D1), esters (D2), ketones (D3), ethers (D4), amines (D5), and amides (D6) having a solubility in water at 20 ° C. of less than 3%. ), Alcohol (D7), glycol ether (D8) and the like.

【0022】炭化水素(D1)としては、炭素数8〜2
0の鎖状または環状炭化水素が挙げられる。鎖状炭化水
素としては、飽和炭化水素(オクタン、ノナン、デカ
ン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサ
デカン、イソオクタン、イソノナン、イソデカン、イソ
ウンデカン、イソドデカン、イソトリデカン、イソテト
ラデカン、イソペンタデカン、イソヘキサデカンな
ど);不飽和炭化水素(オクテン、ノネン、デセン、ウ
ンデセン、ドデセン、トリデセン、テトラデセン、ペン
タデセン、ヘキサデセンなど)が挙げられる。環状炭化
水素としては、脂環式炭化水素(イソプロピルシクロヘ
キサン、テトラリン、リモネンなど);芳香族炭化水素
[アルキル(炭素数2〜14)ベンゼン、ジアルキル
(炭素数合計2〜14)ベンゼンなど]が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、鎖状炭化水素、更に好まし
いのは飽和および不飽和炭化水素、とくに炭素数8〜1
5(オクタン、ノナン、デカン、ドデカン、トリデカ
ン、テトラデカン、ペンタデカン、オクテン、ノネン、
デセン、ウンデセン、ドデセン、トリデセン、テトラデ
セン、ペンタデセン、ヘキサデセンなど)の炭化水素で
ある。
The hydrocarbon (D1) has 8 to 2 carbon atoms.
0 chain or cyclic hydrocarbons. Examples of the chain hydrocarbon include saturated hydrocarbons (octane, nonane, decane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, isooctane, isononane, isodecane, isoundecane, isododecane, isotridecane, isotetradecane, isopentadecane, isohexadecane, etc.); And saturated hydrocarbons (octene, nonene, decene, undecene, dodecene, tridecene, tetradecene, pentadecene, hexadecene, etc.). Examples of the cyclic hydrocarbon include alicyclic hydrocarbons (such as isopropylcyclohexane, tetralin, and limonene); and aromatic hydrocarbons (such as alkyl (2 to 14 carbon atoms) benzene and dialkyl (total 2 to 14 carbon atoms) benzene). Can be
Of these, preferred are chain hydrocarbons, more preferred are saturated and unsaturated hydrocarbons, particularly those having 8 to 1 carbon atoms.
5 (octane, nonane, decane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, octene, nonene,
Decene, undecene, dodecene, tridecene, tetradecene, pentadecene, hexadecene, etc.).

【0023】エステル(D2)としては、炭素数4〜1
6の、モノ−およびジ−カルボン酸エステルおよび、ラ
クトンが挙げられる。モノカルボン酸エステルを構成す
るモノカルボン酸成分としては、前記(v1)で例示し
たモノカルボン酸のうち炭素数1〜18のものが挙げら
れ、ジカルボン酸エステルを構成するジカルボン酸成分
としては、前記(v1)で例示したジカルボン酸のうち
炭素数4〜10のものが挙げられる。カルボン酸エステ
ルを構成するアルコール成分としては、エーテル基を含
有していてもよい炭素数1〜10の脂肪族1価アルコー
ル(メタノール、エタノール、2−エチルヘキサノー
ル、メトキシブタノール、エトキシエタノール、3−メ
トキシ−3−メチルブタノールなど)および炭素数2〜
10の脂肪族2価アルコール(エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、1,3−または1,4−ブタンジ
オール、1,6−ヘキサンジオール、1,10−デカン
ジオールなど)などが挙げられる。モノカルボン酸エス
テルの具体例としては、メチルシクロヘキシル酢酸、2
−エチルへキシル酢酸、メトキシブチル酢酸、エトキシ
エチル酢酸、ブトキシエトキシエチル酢酸、3−メトキ
シ3−メチルブチル酢酸、1,6ージアセトキシヘキサ
ン、オクチル酸メチル、ラウリン酸メチル、ステアリン
酸メチル、安息香酸メチル、安息香酸ブチルなどが挙げ
られる。ジカルボン酸エステルの具体例としては、コハ
ク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジメチ
ル、アジピン酸ジエチルなどが挙げられる。
As the ester (D2), a compound having 4 to 1 carbon atoms is used.
6, mono- and di-carboxylic acid esters and lactones. Examples of the monocarboxylic acid component constituting the monocarboxylic acid ester include those having 1 to 18 carbon atoms among the monocarboxylic acids exemplified in the above (v1). Examples of the dicarboxylic acid component constituting the dicarboxylic acid ester include the aforementioned Among the dicarboxylic acids exemplified in (v1), those having 4 to 10 carbon atoms can be mentioned. As an alcohol component constituting the carboxylic acid ester, an aliphatic monohydric alcohol having 1 to 10 carbon atoms which may contain an ether group (methanol, ethanol, 2-ethylhexanol, methoxybutanol, ethoxyethanol, 3-methoxy -3-methylbutanol) and having 2 to 2 carbon atoms
And 10 aliphatic dihydric alcohols (such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,3- or 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, and 1,10-decanediol). Specific examples of the monocarboxylic acid ester include methylcyclohexylacetic acid, 2
-Ethylhexylacetic acid, methoxybutylacetic acid, ethoxyethylacetic acid, butoxyethoxyethylacetic acid, 3-methoxy-3-methylbutylacetic acid, 1,6-diacetoxyhexane, methyl octylate, methyl laurate, methyl stearate, methyl benzoate And butyl benzoate. Specific examples of the dicarboxylic acid ester include dimethyl succinate, diethyl succinate, dimethyl adipate, diethyl adipate and the like.

【0024】ラクトンとしては、炭素数4〜18のγ−
ラクトン(γ−ブチロラクトン、γ−カプロラクトン、
γ−カプリロラクトン、γ−ラウロラクトン、γ−パル
ミトラクトン、γ−ステアロラクトンなど);炭素数5
〜6のδ−ラクトン(δ−バレロラクトン、δ−カプロ
ラクトンなど);炭素数6〜10のε−ラクトン(ε−
カプロラクトンなど);炭素数9〜17の大環状ラクト
ンなどが挙げられる。これらのうち、洗浄性の観点から
好ましいのはモノカルボン酸エステル、および更に好ま
しいのはジカルボン酸エステル、とくにアジピン酸ジメ
チル、アジピン酸ジエチルである。
As the lactone, γ- having 4 to 18 carbon atoms can be used.
Lactones (γ-butyrolactone, γ-caprolactone,
γ-caprylolactone, γ-laurolactone, γ-palmitolactone, γ-stealolactone, etc.);
Δ-lactone having 6 to 6 carbon atoms (δ-valerolactone, δ-caprolactone, etc.); ε-lactone having 6 to 10 carbon atoms (ε-lactone)
Caprolactone); and a macrocyclic lactone having 9 to 17 carbon atoms. Of these, monocarboxylic acid esters are preferable from the viewpoint of detergency, and dicarboxylic acid esters are more preferable, particularly dimethyl adipate and diethyl adipate.

【0025】ケトン(D3)としては、炭素数8〜20
の鎖状または環状ケトンが挙げられる。鎖状ケトンとし
ては、例えばエチルn−ヘキシルケトン、ジ−n−ブチ
ルケトン、ジ−n−ヘキシルケトン、ジ−n−オクチル
ケトン、メチルヘプテノンなどが挙げられる。環状ケト
ンとしては、脂環式ケトン(ジシクロヘキシルケトン、
アセトフェノン、プロピオフェノン、バレロフェノンジ
ヘキシル−n−ヘキシル−シクロペンテン−2−オン、
1−1−メチル−4−イソプロペニル−6−シクロヘキ
セン−2−オン、2−t−ブチル−シクロヘキサノンな
ど);芳香族ケトン(ジベンジルフェノンなど)などが
挙げられる。これらのうち、洗浄性の観点から好ましい
のは鎖状ケトン、さらに好ましいのはジ−n−ヘキシル
ケトンおよびジ−n−オクチルケトンである。
The ketone (D3) has 8 to 20 carbon atoms.
Or a chain or cyclic ketone of Examples of the chain ketone include ethyl n-hexyl ketone, di-n-butyl ketone, di-n-hexyl ketone, di-n-octyl ketone, and methylheptenone. As the cyclic ketone, alicyclic ketones (dicyclohexyl ketone,
Acetophenone, propiophenone, valerophenone dihexyl-n-hexyl-cyclopenten-2-one,
1-1-methyl-4-isopropenyl-6-cyclohexen-2-one, 2-t-butyl-cyclohexanone and the like; and aromatic ketones (dibenzylphenone and the like). Among these, chain ketones are preferred from the viewpoint of detergency, and more preferred are di-n-hexyl ketone and di-n-octyl ketone.

【0026】エーテル(D4)としては、炭素数10〜
20の鎖状または環状エーテルが挙げられる。鎖状エー
テルとしては、n−アミルエーテル、n−ヘキシルエー
テル、n−オクチルエーテル、メチル−n−デシルエー
テル、エチル−n−デシルエーテル、エチル−n−テト
ラデシルエーテル、n−ブチルドデシルエーテルなどが
挙げられる。環状エーテルとしては、脂環式エーテル
(ジシクロヘキシルエーテル、n−ブチルフェニルエー
テルなど);芳香族エーテル(n−ヘキシルベンジルエ
ーテル、p−クレジルメチルエーテルなど)などが挙げ
られる。これらのうち、洗浄性の観点から好ましいのは
鎖状エーテル、更に好ましいのはn−ヘキシルエーテル
およびn−オクチルエーテルである。
The ether (D4) has 10 to 10 carbon atoms.
20 chain or cyclic ethers. Examples of the chain ether include n-amyl ether, n-hexyl ether, n-octyl ether, methyl-n-decyl ether, ethyl-n-decyl ether, ethyl-n-tetradecyl ether, and n-butyl dodecyl ether. No. Examples of the cyclic ether include alicyclic ethers (such as dicyclohexyl ether and n-butylphenyl ether); and aromatic ethers (such as n-hexylbenzyl ether and p-cresyl methyl ether). Of these, chain ethers are preferred from the viewpoint of detergency, and more preferred are n-hexyl ether and n-octyl ether.

【0027】アミン(D5)としては、炭素数8〜20
の非環状または環状アミンが挙げられる。非環状アミン
としては、トリプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミ
ン、トリ−n−ヘキシルアミンなどが挙げられる。環状
アミンとしては、脂環式アミン(ジエチルシクロヘキシ
ルアミンなど);芳香族アミン(ジエチルベンジルアミ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−n−ジブチル
アニリンなど)などが挙げられる。これらのうち洗浄性
の観点から好ましいのは非環状アミン、更に好ましいの
はトリ−n−ブチルアミンおよびトリ−n−ヘキシルア
ミンである。
The amine (D5) has 8 to 20 carbon atoms.
Acyclic or cyclic amines. Examples of the acyclic amine include tripropylamine, tri-n-butylamine, and tri-n-hexylamine. Examples of the cyclic amine include an alicyclic amine (such as diethylcyclohexylamine); an aromatic amine (such as diethylbenzylamine, N, N-dimethylaniline, and N, Nn-dibutylaniline). Of these, acyclic amines are preferable from the viewpoint of detergency, and tri-n-butylamine and tri-n-hexylamine are more preferable.

【0028】アミド(D6)としては、炭素数6〜16
の鎖状または環状アミドが挙げられる。鎖状アミドとし
てはヘキサンアミド、2−エチルヘキサンアミド、n−
デカンアミドなどが挙げられる。環状アミドとしては、
脂環式アミド(シクロヘキサンアミド、4−メチルヘキ
サンアミド、4−ブチルヘキサンアミドなど);芳香族
アミド(アセトアニリドなど)などが挙げられる。これ
らのうち洗浄性の観点から好ましいのは鎖状アミド、更
に好ましいのはヘキサンアミドおよび2−エチルヘキサ
ンアミドである。
As the amide (D6), the amide (D6) has 6 to 16 carbon atoms.
Or a linear or cyclic amide of Hexaneamide, 2-ethylhexaneamide, n-
Decanamide and the like. As the cyclic amide,
Alicyclic amides (such as cyclohexaneamide, 4-methylhexaneamide, and 4-butylhexaneamide); and aromatic amides (such as acetanilide). Of these, chain amides are preferred from the viewpoint of detergency, and more preferred are hexaneamide and 2-ethylhexaneamide.

【0029】アルコール(D7)としては、炭素数6〜
14の鎖状または環状アルコールが挙げられる。鎖状ア
ルコールとしては、n−ヘキサノール、n−オクタノー
ル、n−デカノール、n−ドデカノール、n−テトラデ
カノールなどが挙げられる。環状アルコールとしては、
脂環式アルコール〔[アルキル(炭素数1〜8)]シク
ロペンタノール、[アルキル(炭素数1〜8)]シクロ
ヘキサノールなど〕;芳香脂肪族アルコール〔[アルキ
ル(炭素数1〜8)]ベンジルアルコール、[アルキル
(炭素数1〜8)]シンナミルアルコールなど〕などが
挙げられる。これらのうち洗浄性の観点から好ましいの
は鎖状アルコール、更に好ましいのはn−ヘキサノー
ル、n−オクタノールおよびn−デカノールである。
As the alcohol (D7), a compound having 6 to 6 carbon atoms is used.
14 linear or cyclic alcohols. Examples of the chain alcohol include n-hexanol, n-octanol, n-decanol, n-dodecanol, n-tetradecanol and the like. As the cyclic alcohol,
Alicyclic alcohols [[alkyl (C1-8)] cyclopentanol, [alkyl (C1-8)] cyclohexanol, etc.]; araliphatic alcohols [[alkyl (C1-8)] benzyl) Alcohol, [alkyl (1-8 carbon atoms)] cinnamyl alcohol and the like. Of these, chain alcohols are preferred from the viewpoint of detergency, and more preferred are n-hexanol, n-octanol and n-decanol.

【0030】グリコールエーテル(D8)としては、ア
ルキル基の炭素数が1〜8またはそれ以上のカルビトー
ル(ジエチレングリコールモノ−n−ヘキシルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノメチルモノ−n−ヘ
キシルエーテルなど);アルキル基の炭素数が1〜8ま
たはそれ以上のカルビトールアセテート(ジエチレング
リコールモノ−n−ヘキシルエーテルアセテートな
ど);セロソルブ(エチレングリコールモノ−n−ヘキ
シルエーテル、エチレングリコールモノ−2−エチルヘ
キシルエーテル、エチレングリコールモノブチルモノ−
n−ヘキシルエーテルなど);セロソルブアセテート
(エチレングリコールモノ−n−ヘキシルエーテルアセ
テートなど);その他のグリコールエーテル(トリエチ
レングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノ−n−ヘキシルエーテルアセテートなど)など
が挙げられる。
The glycol ether (D8) includes carbitols having 1 to 8 or more carbon atoms in the alkyl group (diethylene glycol mono-n-hexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, diethylene glycol monomethyl mono-n-hexyl). Carbitol acetate having an alkyl group having 1 to 8 or more carbon atoms (such as diethylene glycol mono-n-hexyl ether acetate); cellosolve (ethylene glycol mono-n-hexyl ether, ethylene glycol mono-2-ethylhexyl) Ether, ethylene glycol monobutyl mono-
cellosolve acetate (such as ethylene glycol mono-n-hexyl ether acetate); and other glycol ethers (such as triethylene glycol dibutyl ether and triethylene glycol mono-n-hexyl ether acetate).

【0031】(D1)〜(D8)は、1種または2種以
上の併用の何れでもよい。(D1)〜(D8)のうち、
洗浄性とリンス性の観点から好ましいのは(D1)、
(D2)、(D8)、および更に好ましいのは(D1)
および(D8)である。
(D1) to (D8) may be used alone or in combination of two or more. (D1) to (D8)
From the viewpoints of detergency and rinsing property, (D1) is preferable.
(D2), (D8), and more preferably (D1)
And (D8).

【0032】上記の疎水性溶剤(D)の沸点は、通常1
40℃〜320℃、好ましくは160〜270℃であ
る。
The boiling point of the above-mentioned hydrophobic solvent (D) is usually 1
It is 40 to 320 ° C, preferably 160 to 270 ° C.

【0033】本発明における親水性溶剤(E)として
は、20℃における水に対する溶解度が3%以上の、水
溶性グリコールエーテル(E1)、水溶性アミド(E
2)などが挙げられる。
As the hydrophilic solvent (E) in the present invention, a water-soluble glycol ether (E1) or a water-soluble amide (E1) having a solubility in water at 20 ° C. of 3% or more is used.
2) and the like.

【0034】グリコールエーテル(E1)としては、ア
ルキル基の炭素数が1〜5のカルビトール類、例えばジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジエチルエーテルなど;アルキル基
の炭素数が1〜4のカルビトールアセテート類、例えば
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートな
ど;アルキル基の炭素数が1〜3のセロソルブ類、例え
ばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレング
リコールモノエチルエーテルなど;アルキル基の炭素数
が1または2のセロソルブアセテート類、例えばエチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテートなど;その他
のグリコールエーテル、例えばプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、3−
メチル−3−メトキシ−1−ブタノールなど;その他の
グリコールエーテルアセテート、例えばプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、3−メチル−
3−メトキシ−1−ブタノールアセテートなどが挙げら
れる。上記化合物の中では、洗浄性とリンス性の観点か
ら好ましいのはカルビトール類、その他のグリコールエ
ーテル、その他のグリコールエーテルアセテートであ
る。カルビトール類の中では、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールジエチルエーテルが好まし
い。その他のグリコールエーテルの中では3−メチル−
3−メトキシ−1−ブタノールが好ましい。その他のグ
リコールエーテルアセテートの中では3−メチル−3−
メトキシ−1−ブタノールアセテートが好ましい。
Examples of the glycol ether (E1) include carbitols having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, for example, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether. Carbitol acetates having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl group, such as diethylene glycol monoethyl ether acetate;
Cellosolves having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; cellosolve acetates having an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms, such as ethylene glycol monomethyl Ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, etc .; other glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, 3-
Methyl-3-methoxy-1-butanol and the like; other glycol ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methyl-
3-methoxy-1-butanol acetate and the like. Among the above compounds, carbitols, other glycol ethers, and other glycol ether acetates are preferred from the viewpoint of detergency and rinsing properties. Among carbitols, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether are preferred. Among other glycol ethers, 3-methyl-
3-Methoxy-1-butanol is preferred. Among other glycol ether acetates, 3-methyl-3-
Methoxy-1-butanol acetate is preferred.

【0035】水溶性アミド(E2)としては、2−ピロ
リドン、N−アルキル(炭素数1〜3)−2−ピロリド
ンなどが挙げられる。これらのうち、洗浄性とリンス性
の観点から好ましいのはN−エチル−2−ピロリドン、
N−プロピル−2−ピロリドン、N−イソプロピル−2
−ピロリドン、および更に好ましいのはN−メチル−2
−ピロリドンである。(E1)、(E2)は1種または
2種以上の併用の何れでもよい。
Examples of the water-soluble amide (E2) include 2-pyrrolidone, N-alkyl (1 to 3 carbon atoms) -2-pyrrolidone and the like. Among these, N-ethyl-2-pyrrolidone is preferable from the viewpoint of detergency and rinsing property,
N-propyl-2-pyrrolidone, N-isopropyl-2
-Pyrrolidone, and more preferably N-methyl-2
-Pyrrolidone. (E1) and (E2) may be either one kind or a combination of two or more kinds.

【0036】本発明の洗浄剤には、さらに必要により
水、非イオン界面活性剤、その他の添加剤などを加える
ことができる。非イオン界面活性剤としては、例えば、
アルキレンオキシド(炭素数2〜4)付加型非イオン界
面活性剤[高級アルコール(炭素数8〜18)、アルキ
ルフェノール(炭素数10〜24)、高級脂肪酸(炭素
数12〜24)または高級アルキルアミン(炭素数8〜
24)等に直接アルキレンオキシドを付加させたもの
(Mn158〜200,000);グリコールにアルキ
レンオキシドを付加させて得られるポリオキシアルキレ
ングリコール(Mn150〜6,000)に高級脂肪酸
などを反応させたもの;多価アルコール(エチレングリ
コール、プロピレングリコール、グリセリン、ペンタエ
リスリトール、ソルビタンなどの2価〜8価またはそれ
以上の多価アルコール)に高級脂肪酸を反応させて得ら
れたエステル化物にアルキレンオキシドを付加させたも
の(Mn250〜30,000)、多価(2価〜8価ま
たはそれ以上)アルコールアルキル(炭素数3〜60)
エーテルにアルキレンオキシドを付加させたもの(Mn
120〜30,000)など]、および多価アルコール
アルキル(炭素数3〜60)エーテルなどが挙げられ
る。界面活性剤のHLBは通常1.5〜18、好ましく
は3〜16である。これらのうち、洗浄性の観点から好
ましいのはアルキレンオキシド付加型非イオン界面活性
剤、更に好ましいのは高級アルコール、アルキルフェノ
ールなどのアルキレンオキシド付加型非イオン界面活性
剤、とくに高級アルコールのアルキレンオキシド(3〜
20モル)付加型非イオン界面活性剤である。
The detergent of the present invention may further contain water, a nonionic surfactant, other additives, and the like, if necessary. As the nonionic surfactant, for example,
Alkylene oxide (2-4 carbon atoms) addition type nonionic surfactant [higher alcohol (8-18 carbon atoms), alkylphenol (10-24 carbon atoms), higher fatty acid (12-24 carbon atoms) or higher alkylamine ( 8 carbon atoms
24) directly added alkylene oxide (Mn 158 to 200,000); polyoxyalkylene glycol (Mn 150 to 6,000) obtained by adding alkylene oxide to glycol, and reacted with a higher fatty acid or the like. An alkylene oxide is added to an esterified product obtained by reacting a higher alcohol with a polyhydric alcohol (a dihydric to octahydric or higher polyhydric alcohol such as ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, pentaerythritol, and sorbitan). (Mn 250 to 30,000), polyvalent (divalent to octavalent or higher) alcohol alkyl (C3 to C60)
A product obtained by adding an alkylene oxide to an ether (Mn
120 to 30,000)], and a polyhydric alcohol alkyl (C3 to C60) ether. The HLB of the surfactant is usually from 1.5 to 18, preferably from 3 to 16. Of these, preferred are alkylene oxide-added nonionic surfactants from the viewpoint of detergency, more preferred are alkylene oxide-added nonionic surfactants such as higher alcohols and alkylphenols, and particularly preferred are alkylene oxides (3 ~
20 mol) is an addition type nonionic surfactant.

【0037】その他の添加剤としては、防錆剤(クロム
酸塩、亜硝酸塩、アミンの高級脂肪酸塩など)、酸化防
止剤[フェノール化合物(2,6−ジ−t−ブチル−4
−メチルフェノールなど)、含硫化合物(ジラウリルチ
オジプロピオネートなど)、アミン化合物(オクチル化
ジフェニルアミンなど)、リン化合物(トリフェニルホ
スファイトなど)など]、金属イオン封鎖剤(エチレン
ジアミン四酢酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メ
タリン酸ナトリウムなど)、ビルダー(トリポリリン酸
ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム
など)などが挙げられる。
Other additives include rust inhibitors (chromates, nitrites, higher fatty acid salts of amines, etc.), antioxidants [phenol compounds (2,6-di-t-butyl-4)
-Methylphenol, etc.), sulfur-containing compounds (such as dilaurylthiodipropionate), amine compounds (such as octylated diphenylamine), phosphorus compounds (such as triphenylphosphite), etc., and sequestering agents (sodium ethylenediaminetetraacetate, Sodium polyphosphate, sodium metaphosphate, etc.), and builders (sodium tripolyphosphate, sodium pyrophosphate, sodium silicate, etc.).

【0038】本発明の洗浄剤における(A)〜(E)の
含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、塩(A)は好ま
しくは0.5〜95%、更に好ましくは1〜80%、と
くに1.5〜60%;アニオン界面活性剤(B)は好ま
しくは0.5〜95%、更に好ましくは1〜70%、と
くに1.5〜50%;可溶化助剤(C)は好ましくは
0.5〜30%、更に好ましくは1〜20%、とくに
1.5〜10%;疎水性溶剤(D)は通常95%以下、
好ましくは10〜90%、更に好ましくは15〜85
%;親水性溶剤(E)は通常85%以下、好ましくは1
0〜75%、更に好ましくは20〜65%である。
The content of (A) to (E) in the detergent of the present invention is preferably 0.5 to 95%, more preferably 1 to 80%, based on the total weight of the detergent. %, Especially 1.5 to 60%; the anionic surfactant (B) is preferably 0.5 to 95%, more preferably 1 to 70%, particularly 1.5 to 50%; solubilizing aid (C) Is preferably 0.5 to 30%, more preferably 1 to 20%, particularly 1.5 to 10%; the hydrophobic solvent (D) is usually 95% or less,
Preferably 10 to 90%, more preferably 15 to 85
%; The content of the hydrophilic solvent (E) is usually 85% or less, preferably 1%.
It is 0 to 75%, more preferably 20 to 65%.

【0039】また、本発明における水、非イオン界面活
性剤およびその他の添加剤の含有量は、洗浄剤の全重量
に基づいて、非イオン界面活性剤は通常40%以下、好
ましくは0.5〜30%;水は、通常99%以下、好ま
しくは1〜40%、更に好ましくは3〜25%;その他
の添加剤のうち、防錆剤は通常20%以下、好ましくは
0.1〜10%;酸化防止剤は通常5%以下、好ましく
は0.01〜1%;金属イオン封鎖剤は通常20%以
下、好ましくは0.5〜10%;ビルダーは通常20%
以下、好ましくは0.5〜10%である。
In the present invention, the content of water, nonionic surfactant and other additives is usually 40% or less, preferably 0.5%, based on the total weight of the detergent. Water is usually 99% or less, preferably 1 to 40%, more preferably 3 to 25%; among other additives, the rust inhibitor is usually 20% or less, preferably 0.1 to 10%. %; Antioxidant is usually 5% or less, preferably 0.01 to 1%; sequestering agent is usually 20% or less, preferably 0.5 to 10%; builder is usually 20%.
Hereinafter, it is preferably 0.5 to 10%.

【0040】本発明の洗浄剤は、(A)と(B)および
/または(C)からなり、必要により、疎水性溶剤
(D)、親水性溶剤(E)、水、非イオン界面活性剤お
よびその他の添加剤を加えることができる。(A)と
(B)からなるものは、高温における洗浄安定性に優
れ、(A)と(C)からなるものは、低温における洗浄
安定性に優れ、また(A)、(B)および(C)からな
るものは高温および低温における洗浄安定性が優れると
いう作用効果を有している。本発明の洗浄剤が(A)と
(B)からなる場合の重量%は、(A)は好ましくは5
〜95、更に好ましくは20〜80、(B)は好ましく
は5〜95、更に好ましくは20〜80である。本発明
の洗浄剤が(A)と(C)からなる場合の重量%は、
(A)は60〜99、好ましくは70〜95、(C)は
1〜40、好ましくは5〜30である。また、本発明の
洗浄剤が(A)、(B)および(C)からなる場合の重
量%は、(A)は2〜95、好ましくは10〜80、
(B)は2〜95、好ましくは10〜80、(C)は1
〜40、好ましくは2〜30である。
The detergent of the present invention comprises (A), (B) and / or (C), and if necessary, a hydrophobic solvent (D), a hydrophilic solvent (E), water, a nonionic surfactant And other additives can be added. Those composed of (A) and (B) have excellent cleaning stability at high temperature, those composed of (A) and (C) have excellent cleaning stability at low temperature, and (A), (B) and (B). The composition consisting of C) has the effect of having excellent cleaning stability at high and low temperatures. When the detergent of the present invention comprises (A) and (B), (A) is preferably 5% by weight.
To 95, more preferably 20 to 80, and (B) is preferably 5 to 95, more preferably 20 to 80. When the detergent of the present invention comprises (A) and (C),
(A) is 60 to 99, preferably 70 to 95, and (C) is 1 to 40, preferably 5 to 30. When the detergent of the present invention comprises (A), (B) and (C), (A) is 2 to 95, preferably 10 to 80,
(B) is 2 to 95, preferably 10 to 80, and (C) is 1 to 95.
-40, preferably 2-30.

【0041】本発明の洗浄剤の25℃における粘度は、
通常2〜30mm2/s、好ましくは3〜15mm2
s、更に好ましくは4〜10mm2/sである。粘度は
オストワルド、ウベローデなどの粘度計にて測定でき
る。
The viscosity of the detergent of the present invention at 25 ° C. is as follows:
Normal 2~30mm 2 / s, preferably 3~15mm 2 /
s, more preferably 4 to 10 mm 2 / s. The viscosity can be measured with a viscometer such as Ostwald or Ubbelohde.

【0042】本発明の洗浄剤が適用できる電子部品は特
に限定はなく、液晶パネル、プリント基盤、サーマルヘ
ッド等が挙げられる。また、洗浄の対象となる有機物と
しては液晶ではTFT液晶、STN液晶、TN液晶など
いずれもが対象であり、その他電子部品に付着した洗浄
除去すべき有機物が挙げられる。本発明の洗浄剤はこれ
らのうち、とくに、狭いギャップを有する液晶セルに残
存する液晶を洗浄除去するのに好適に用いることができ
る。例えば液晶パネルは上下2枚のガラス基板の周縁部
をシール材で張り合わせて作られた空のセルの中に、上
記の液晶が封入された電子部品であるが、空セルの中に
液晶を封入する方法としては、真空にした注入室で開口
部を液晶に浸漬し、その後、大気圧に戻すことによって
セル中に液晶を導き、開口部を閉じることで液晶パネル
が作成される。この際に上下のガラス基板がシールされ
た外側のわずかなギャップに液晶が入り込むことは避け
られず、洗浄によって取り除かなければならない。液晶
などの残渣が残っていると、ガラス基板上の電極の絶縁
不良が起こる。
The electronic component to which the cleaning agent of the present invention can be applied is not particularly limited, and examples thereof include a liquid crystal panel, a printed board, and a thermal head. In addition, as the organic substance to be cleaned, any liquid crystal includes TFT liquid crystal, STN liquid crystal, TN liquid crystal, and the like, and other organic substances adhering to electronic components and to be removed by cleaning. Among these, the cleaning agent of the present invention can be suitably used particularly for cleaning and removing liquid crystal remaining in a liquid crystal cell having a narrow gap. For example, a liquid crystal panel is an electronic component in which the above-mentioned liquid crystal is sealed in an empty cell made by laminating the periphery of two upper and lower glass substrates with a sealing material, but the liquid crystal is sealed in an empty cell. As a method of performing this, the opening is immersed in the liquid crystal in the injection chamber evacuated, then the liquid crystal is guided into the cell by returning the pressure to the atmospheric pressure, and the liquid crystal panel is formed by closing the opening. At this time, it is unavoidable that the liquid crystal enters a small gap outside the upper and lower glass substrates sealed, and must be removed by washing. If residues such as liquid crystal remain, insulation failure of the electrodes on the glass substrate occurs.

【0043】本発明の洗浄剤を用いて例えば狭いギャッ
プの液晶残渣を洗浄する方法としては、超音波洗浄、シ
ャワー洗浄、揺動による洗浄方法が適用でき、複数の方
法を組み合わせることもできる。洗浄温度は、通常10
〜70℃、好ましくは15〜60℃程度である。洗浄時
間は通常3〜60分、好ましくは5〜30分である。水
によるリンス温度は、通常10〜90℃、好ましくは1
5〜70℃である。リンス後に液晶セルは、60〜15
0℃で5〜120分間程度加熱乾燥されて後に、清浄な
液晶セル電子部品となる。
As a method for cleaning, for example, a liquid crystal residue having a narrow gap using the cleaning agent of the present invention, an ultrasonic cleaning, a shower cleaning, a oscillating cleaning method can be applied, and a plurality of methods can be combined. The washing temperature is usually 10
To 70 ° C, preferably about 15 to 60 ° C. The washing time is usually 3 to 60 minutes, preferably 5 to 30 minutes. The rinsing temperature with water is usually 10 to 90 ° C, preferably 1 to 90 ° C.
5 to 70 ° C. After rinsing, the liquid crystal cell
After being dried by heating at 0 ° C. for about 5 to 120 minutes, it becomes a clean liquid crystal cell electronic component.

【0044】[0044]

【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以
下において部および%は重量部および重量%を示す。は
じめに、実施例および比較例で用いた洗浄剤成分の組
成、洗浄試験、並びに腐蝕試験方法を示す。
EXAMPLES The present invention will be described in detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto. In the following, parts and% indicate parts by weight and% by weight, respectively. First, the composition of the detergent components, the cleaning test, and the corrosion test method used in Examples and Comparative Examples are shown.

【0045】1.洗浄剤成分の組成 A−1 :トリメチルオクチルアンモニウム・ブチルホ
スフェート塩 A−2 :トリメチルオクチルアンモニウム・ポリ(n
=10)オキシエチレンセチルエーテルホスフェート
(モノホスフェート:ジホスフェート=1:1)塩 A−3 :ジメチルドジデシルアンモニウム・セバシン
酸塩 B4−1:スルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルエス
テルのナトリウム塩 B5−1:オレイルアルコールEO5モル付加物リン酸
モノエステルジナトリウム塩 C1−1:オレイルアルコール C1−2:ウンデカノール D1−1:ドデカン D1−2:テトラデセン D1−3:テトラデセン D8−1:ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル E1−1:ジエチレングリコールモノブチルエーテル E1−2:ジエチレングリコールジエチルエーテル E1−3:3−メチル3−メトキシ−1−ブタノール E1−4:3−メチル3−メトキシ−1−ブタノールア
セテート E2−1:N−メチル−2−ピロリドン 非イオン界面活性剤:高級アルコール(炭素数16〜1
8混合物)のEO9モル付加物
1. Composition of detergent components A-1: trimethyloctylammonium / butyl phosphate salt A-2: trimethyloctylammonium / poly (n)
= 10) Oxyethylene cetyl ether phosphate (monophosphate: diphosphate = 1: 1) salt A-3: dimethyldodidecylammonium sebacate B4-1: sodium salt of di-2-ethylhexyl sulfosuccinate B5-1 : Oleyl alcohol EO 5 mol adduct phosphoric acid monoester disodium salt C1-1: oleyl alcohol C1-2: undecanol D1-1: dodecane D1-2: tetradecene D1-3: tetradecene D8-1: diethylene glycol monohexyl ether E1- 1: diethylene glycol monobutyl ether E1-2: diethylene glycol diethyl ether E1-3: 3-methyl 3-methoxy-1-butanol E1-4: 3-methyl 3-methoxy-1-butanol acetate E -1: N-methyl-2-pyrrolidone nonionic surfactant: higher alcohol (carbon number 16-1
8 mixture) of 9 mol EO adduct

【0046】2.洗浄試験 液晶パネル(ギャップ4μm)5枚を1組としてギャッ
プに液晶(TFT液晶)を封入し、室温で30分静置す
る。調製した各々の洗浄剤にて20℃および50℃で、
10分間超音波洗浄を行い、それぞれを50℃の純水で
3分間リンスし、さらに同条件にてリンスを2回繰り返
した。次いで、120℃の循風乾燥機中で10分間乾燥
する。洗浄後と、リンス後の液晶パネルを偏光顕微鏡で
観察し、洗浄性、リンス性を次の4段階で評価した。 <洗浄性> 評価基準 4:ギャップ部が完全に洗浄された 3:ギャップ部に僅かに液晶残りがある 2:ギャップ部に液晶残りが多い 1:ギャップ部が殆ど洗浄されていない <リンス性> 評価基準 4:リンス性が極めて良好 3:リンス性が良好 2:リンス出来ない洗浄液がややある 1:リンス出来ない洗浄液が多量にある
2. Cleaning test A set of five liquid crystal panels (gap 4 μm) is filled with liquid crystal (TFT liquid crystal) in the gap, and allowed to stand at room temperature for 30 minutes. At 20 ° C. and 50 ° C. with each prepared detergent,
Ultrasonic cleaning was performed for 10 minutes, each was rinsed with pure water at 50 ° C. for 3 minutes, and the rinse was repeated twice under the same conditions. Next, it is dried in a circulating air dryer at 120 ° C. for 10 minutes. After washing and rinsing, the liquid crystal panel was observed with a polarizing microscope, and the washing and rinsing properties were evaluated in the following four stages. <Cleanability> Evaluation criteria 4: Gap portion was completely cleaned 3: Gap portion has a small amount of liquid crystal residue 2: Gap portion has a large amount of liquid crystal residue 1: Gap portion is hardly cleaned <Rinseability> Evaluation criteria 4: Very good rinsing property 3: Good rinsing property 2: Some washing liquid that cannot be rinsed 1: A large amount of cleaning liquid that cannot be rinsed

【0047】3.腐蝕試験 洗浄、リンス後乾燥させた液晶パネルを40℃で90%
RHの環境下に30日間保存した後、液晶パネルの配線
部分を顕微鏡で観察し、次の4段階で評価した。 <防蝕性> 評価基準 4:腐蝕なし 3:腐蝕わずかに有り 2:腐蝕やや多い 1:腐蝕多い
3. Corrosion test 90% of liquid crystal panel washed, rinsed and dried at 40 ° C
After being stored in an RH environment for 30 days, the wiring portion of the liquid crystal panel was observed with a microscope and evaluated in the following four steps. <Corrosion resistance> Evaluation criteria 4: No corrosion 3: Slightly corrosive 2: Slightly corrosive 1: Corrosive

【0048】実施例1〜11、比較例1〜3 表1、2に洗浄剤の処方と性能評価結果を示す。Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 3 Tables 1 and 2 show the formulations of cleaning agents and the results of performance evaluation.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【表2】 [Table 2]

【0051】[0051]

【発明の効果】本発明の洗浄剤は、狭いギャップに残存
する液晶等の有機物に対して優れた洗浄力を有してお
り、洗浄後のリンス性にも優れている。また、本発明の
洗浄剤は、低温および高温での洗浄安定性が優れている
ので、洗浄不良やリンス不良に由来する腐蝕が液晶パネ
ル等の電子部品に発生せず、極めて信頼性の高い電子部
品を低コストで効率よく製造できる。
The cleaning agent of the present invention has excellent detergency against organic substances such as liquid crystal remaining in a narrow gap, and also has excellent rinsing properties after cleaning. Further, since the cleaning agent of the present invention has excellent cleaning stability at low and high temperatures, corrosion due to poor cleaning and poor rinsing does not occur on electronic components such as liquid crystal panels, and extremely reliable electronic devices. Parts can be manufactured efficiently at low cost.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C11D 3/32 C11D 3/32 17/08 17/08 H05K 3/26 H05K 3/26 E Fターム(参考) 4H003 AB22 AB39 AC08 AE05 AE10 BA12 DA15 ED02 ED03 ED28 ED29 ED30 ED32 FA15 FA21 FA23 5E343 AA02 AA22 CC22 CC50 CC52 CC55 EE02 GG20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (Reference) C11D 3/32 C11D 3/32 17/08 17/08 H05K 3/26 H05K 3/26 EF term (reference 4H003 AB22 AB39 AC08 AE05 AE10 BA12 DA15 ED02 ED03 ED28 ED29 ED30 ED32 FA15 FA21 FA23 5E343 AA02 AA22 CC22 CC50 CC52 CC55 EE02 GG20

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1)で示される塩(A)とアニ
オン界面活性剤(B)および/または融点20℃以下、
炭素数6〜26のアルコールおよび融点20℃以下、炭
素数6〜50の脂肪酸からなる群から選ばれる1種また
は2種以上の可溶化助剤(C)を含有することを特徴と
する電子部品用洗浄剤。 【化1】 〔式中、R1は炭素数1〜24の炭化水素基、R2、R3
およびR4は、H、炭素数1〜24の炭化水素基または
一般式(2)で表される基で、R1、R2、R3、R4は互
いに結合して環を形成していてもよい。Xn-はn価の燐
酸エステルアニオン(u)および/または有機酸アニオ
ン(v)、nは1〜4の整数を表す。〕 ─(R5O)p─H (2) 〔式中、R5は炭素数2〜4のアルキレン基、pは1〜
6の整数を表す。〕
1. A salt (A) represented by the general formula (1) and an anionic surfactant (B) and / or a melting point of not higher than 20 ° C.
An electronic component comprising: one or more solubilizing agents (C) selected from the group consisting of alcohols having 6 to 26 carbon atoms and fatty acids having a melting point of 20 ° C. or lower and 6 to 50 carbon atoms. Cleaning agent. Embedded image [Wherein, R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, R 2 , R 3
And R 4 are H, a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms or a group represented by the general formula (2), wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are bonded to each other to form a ring. You may. X n- represents an n-valent phosphate ester anion (u) and / or an organic acid anion (v), and n represents an integer of 1 to 4. ─ (R 5 O) p ─H (2) wherein R 5 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and p is 1 to
Represents an integer of 6. ]
【請求項2】 (B)がジ(アルキルまたはアルケニ
ル)スルホコハク酸エステル塩である請求項1記載の洗
浄剤。
2. The cleaning agent according to claim 1, wherein (B) is a di (alkyl or alkenyl) sulfosuccinic acid ester salt.
【請求項3】 (A)が相当する4級アンモニウム炭酸
塩と酸性燐酸エステルもしくは有機酸とのアニオン交換
反応により形成されてなる塩である請求項1または2い
ずれか記載の洗浄剤。
3. The cleaning agent according to claim 1, wherein (A) is a salt formed by an anion exchange reaction between the corresponding quaternary ammonium carbonate and an acidic phosphate or an organic acid.
【請求項4】 さらに、1種以上の疎水性溶剤(D)お
よび/または1種以上の親水性溶剤(E)を含有する請
求項1〜3いずれか記載の洗浄剤。
4. The cleaning agent according to claim 1, further comprising one or more hydrophobic solvents (D) and / or one or more hydrophilic solvents (E).
【請求項5】 (D)が、炭素数8〜20の炭化水素、
炭素数4〜16のエステルおよびアルキル基の炭素数が
1〜8のグリコールエーテルからなる群から選ばれる疎
水性溶剤であり、(E)が水溶性グリコールエーテルお
よび水溶性アミドからなる群から選ばれる親水性溶剤で
ある請求項1〜4いずれか記載の洗浄剤。
(D) is a hydrocarbon having 8 to 20 carbon atoms,
A hydrophobic solvent selected from the group consisting of esters having 4 to 16 carbon atoms and glycol ethers having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group, wherein (E) is selected from the group consisting of water-soluble glycol ethers and water-soluble amides The cleaning agent according to any one of claims 1 to 4, which is a hydrophilic solvent.
【請求項6】 さらに、水、非イオン界面活性剤、防錆
剤、抗酸化剤、金属イオン封鎖剤および/またはビルダ
ーを含有する請求項1〜5いずれか記載の洗浄剤。
6. The cleaning agent according to claim 1, further comprising water, a nonionic surfactant, a rust inhibitor, an antioxidant, a sequestering agent and / or a builder.
【請求項7】 洗浄剤の全重量に基づく(A)の含有量
が0.5〜95%、(B)の含有量が0.5〜95%お
よび(C)の含有量が0.5〜30%である請求項1〜
6いずれか記載の洗浄剤。
7. The content of (A) is from 0.5 to 95%, the content of (B) is from 0.5 to 95% and the content of (C) is from 0.5 to 95% based on the total weight of the detergent. 1 to 30%.
6. The cleaning agent according to any one of 6.
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