JP2002292565A - Magnetic separating system of polishing/cutting work liquid waste using abrasive material - Google Patents
Magnetic separating system of polishing/cutting work liquid waste using abrasive materialInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、研磨材を使った研
磨又は切断加工で生じるスラリー廃液から磁気分離によ
り研磨材を回収する廃液処理法、及びそのための磁気分
離システムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a waste liquid treatment method for recovering an abrasive by magnetic separation from a slurry waste liquid generated by polishing or cutting using an abrasive, and a magnetic separation system therefor.
【0002】[0002]
【従来の技術】研磨材を使った研磨又は切断加工の一例
として、ワイヤーソーによる切断加工の様子を図1に示
す。ワイヤーソーは高速度で走る多数本のワイヤーにシ
リコンブロック(インゴット)等の被加工物を押し付
け、研磨材(砥粒)と分散液からなるスラリーを供給し
ながらこの研磨材で一度に多数枚のウエハに切断する装
置である。細径のワイヤーで切断するため、切削粉の発
生が少なく、高い歩留まりが得られること、生産性が高
いことなどから広く用いられている。分散液としては、
水系と油系の二種類があるが、現状では油系が主流であ
る。その廃液の処理はもっぱら産業廃棄物処理業者が行
い、再利用することなく廃棄している。このことは、研
磨材を使って研磨又は切断加工するワイヤーソー以外の
加工装置でも同様であり、また水系の分散液を用いたス
ラリーの場合にも言える。2. Description of the Related Art FIG. 1 shows a cutting process using a wire saw as an example of a polishing or cutting process using an abrasive. The wire saw presses a workpiece such as a silicon block (ingot) against a large number of wires running at a high speed, and supplies a slurry composed of an abrasive (abrasive grains) and a dispersion liquid to a large number of wires at a time. This is a device for cutting into wafers. Since it is cut with a small-diameter wire, it is widely used because of low generation of cutting powder, high yield, and high productivity. As a dispersion,
There are two types, water-based and oil-based, but currently oil-based is the mainstream. The treatment of the waste liquid is performed exclusively by industrial waste treatment companies and is disposed of without reuse. The same applies to a processing apparatus other than a wire saw that performs polishing or cutting processing using an abrasive, and is also applicable to a slurry using an aqueous dispersion.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】研磨材を使った研磨又
は切断加工に使用するスラリーは通常は循環使用される
ので、被加工物を研磨又は切断する時に発生する切削粉
がスラリー中に蓄積される。この切削粉が、加工装置の
加工性能と被加工物の加工精度を低下させる。このた
め、通常は定期的に一部のスラリーを廃棄し、新しいス
ラリーと入れ替える。このことが加工装置のランニング
コストを高くしている。また、大量の産業廃棄物を排出
する(ワイヤーソーの場合は約200 l/d/台)と
いう問題も引き起こしている。一方、後で詳しく述べる
ように、廃棄されるスラリーは切削粉を除去すればまだ
充分に使用できる品質を維持しており、それを再利用せ
ずに廃棄することは、資源節約の観点からも好ましいも
のではない。このような背景から、スラリーの再生ある
いは研磨材の回収が望まれている。従って、本発明の目
的は、研磨材を使った研磨又は切断加工で生じるスラリ
ー廃液から研磨材を磁気分離により回収する廃液処理
法、およびそのための磁気分離システムを提供すること
である。The slurry used for polishing or cutting using an abrasive is usually circulated, so that cutting powder generated when polishing or cutting a workpiece is accumulated in the slurry. You. This cutting powder reduces the processing performance of the processing device and the processing accuracy of the workpiece. For this reason, a part of the slurry is usually discarded periodically and replaced with a new slurry. This increases the running cost of the processing device. It also causes a problem of discharging a large amount of industrial waste (about 200 l / d / unit in the case of a wire saw). On the other hand, as will be described in detail later, the slurry to be discarded is still maintaining a quality that can be used enough if the cutting powder is removed, and discarding it without reusing it is also from the viewpoint of resource saving. Not preferred. From such a background, it is desired to regenerate the slurry or collect the abrasive. Accordingly, an object of the present invention is to provide a waste liquid treatment method for recovering an abrasive by magnetic separation from slurry waste liquid generated by polishing or cutting using an abrasive, and a magnetic separation system therefor.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の廃液処理法は、研磨又は切断加工で使った
研磨材をメカノケミカル的又はコロイド化学的に担磁さ
せて磁気分離することから成る。磁気分離は、超電導磁
石を用いるが、担磁法によっては永久磁石、電磁石を用
いることもできる。また、本発明は、予め研磨材をメカ
ノケミカル的又はコロイド化学的に担磁させ、研磨又は
切断加工に使用した後に磁気分離により回収する廃液処
理法をも提示する。さらに、本発明は、研磨材を使った
研磨又は切断加工中に加工装置(例えばワイヤーソーや
バンドソーなど)と研磨材の間で必然的に生じるメカノ
ケミカル的な作用により研磨材を担磁させて超電導磁気
分離により回収する廃液処理法をも提示する。この場合
には別途の担磁操作を行う必要はない。本発明の上記廃
液処理法を行うための磁気分離システムは、超電導磁
石、その中央に設けられたフィルター、研磨材を含んだ
廃棄スラリーを前記フィルターに通すべく供給する廃棄
スラリー供給部、及び前記フィルターに捕らえられた研
磨材を回収するための研磨材回収部から成る。In order to solve the above-mentioned problems, a waste liquid treatment method of the present invention is characterized in that an abrasive used in polishing or cutting is magnetically separated by mechanochemical or colloidal chemical treatment. Consists of For the magnetic separation, a superconducting magnet is used, but a permanent magnet or an electromagnet can also be used depending on the magnetism. The present invention also provides a waste liquid treatment method in which an abrasive is preliminarily mechanochemically or colloidally magnetized, and is used for polishing or cutting, and then recovered by magnetic separation. Further, the present invention provides a method in which a polishing material is magnetized by a mechanochemical action which necessarily occurs between a processing device (for example, a wire saw or a band saw) and the polishing material during polishing or cutting using the polishing material. A wastewater treatment method recovered by superconducting magnetic separation is also presented. In this case, there is no need to perform a separate magnetizing operation. A magnetic separation system for performing the waste liquid treatment method of the present invention includes a superconducting magnet, a filter provided at the center thereof, a waste slurry supply unit that supplies waste slurry containing abrasives to the filter, and the filter. And an abrasive recovering section for recovering the abrasive captured by the apparatus.
【0005】本発明で回収する研磨材としては、シリ
カ、炭化タングステン、アルミナ、セリア、ジルコニ
ア、チタニア、二酸化マンガン、ダイヤモンド、ボラゾ
ン等が挙げられるが、これらと同等の機能を発揮するも
のも含まれる。研磨材を使って研磨又は切断加工を行う
被加工物は、半導体材料に限定されるものではなく、セ
ラミックス、ガラス、プラスチック、磁性材料、金属材
料、及びそれらの複合材料等も含まれる。The abrasives recovered in the present invention include silica, tungsten carbide, alumina, ceria, zirconia, titania, manganese dioxide, diamond, borazon, and the like, and those exhibiting the same functions as these are also included. . The workpiece to be polished or cut using an abrasive is not limited to a semiconductor material, but includes ceramics, glass, plastic, magnetic materials, metal materials, and composite materials thereof.
【0006】[0006]
【実施例】以下、研磨材を使った研磨又は切断加工の一
例として、シリカを研磨材として使ったワイヤーソーに
よるシリコンブロックの切断加工に関して説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。まず、使用前
および廃棄時のスラリーの成分とその割合等の測定結果
を表1に示す。使用前ではスラリーは研磨材(砥粒)と
オイルからなり、比重は約1.45、粘度は約100c
Pである。ところが廃棄時には比重はあまり変わらない
ものの、粘度は180cPにもなり、加工効率に影響を
与えている。これはシリコンの切削粉の混入が主な理由
であり、シリコンの割合は12%にも及ぶ。表中の「そ
の他」の中には、ワイヤーソーからの鉄粉も含まれてい
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As an example of polishing or cutting using an abrasive, cutting of a silicon block by a wire saw using silica as an abrasive will be described below.
The present invention is not limited to this. First, Table 1 shows the results of measurement of the components of the slurry before use and at the time of disposal, and their ratios. Before use, the slurry consists of an abrasive (abrasive grains) and oil, with a specific gravity of about 1.45 and a viscosity of about 100c.
P. However, at the time of disposal, the specific gravity does not change much, but the viscosity is as high as 180 cP, which affects the processing efficiency. This is mainly due to the mixing of silicon cutting powder, and the proportion of silicon reaches as much as 12%. "Others" in the table also includes iron powder from wire saws.
【0007】[0007]
【表1】 [Table 1]
【0008】図2は廃棄スラリー中の粒子状物質の粒度
分布の測定結果を示す。約15μmとサブミクロンの領
域の粒子が多くあることが分かる。15μm程度の粒子
は砥粒であるSiCであり、サブミクロンの粒子はシリ
コンの切削粉である。加工前の砥粒(GC#1000)
の粒径は4〜25μmで、平均粒径は11μm程度であ
ることが分かっている。このことから、廃棄スラリー中
の砥粒は、充分使用可能な状態にあると考えられる。実
際、廃棄スラリー中の砥粒のSEM観察を行うと、砥粒
は破砕されておらず、充分使用可能であることが確認さ
れた。また、スラリー中のオイルも酸化しておらず、再
利用に問題ないことも確認された。したがって、廃棄ス
ラリーより砥粒あるいはオイルを回収することができれ
ば、廃棄コストおよび砥粒やオイルの再利用による購入
コストの低減が実現され、超電導磁石を導入したとして
も、経済的に成立する。FIG. 2 shows the measurement results of the particle size distribution of the particulate matter in the waste slurry. It can be seen that there are many particles in the submicron region of about 15 μm. Particles of about 15 μm are SiC as abrasive grains, and sub-micron particles are silicon cutting powder. Abrasive before processing (GC # 1000)
Has a particle diameter of 4 to 25 μm and an average particle diameter of about 11 μm. From this, it is considered that the abrasive grains in the waste slurry are in a sufficiently usable state. In fact, SEM observation of the abrasive grains in the waste slurry confirmed that the abrasive grains were not crushed and could be used sufficiently. Also, it was confirmed that the oil in the slurry was not oxidized, and there was no problem in reusing. Therefore, if the abrasive grains or oil can be recovered from the waste slurry, the disposal cost and the purchase cost due to the reuse of the abrasive grains and oil can be reduced, which is economical even if a superconducting magnet is introduced.
【0009】この実施例では、砥粒はSiCであり切削
粉はシリコンである。いずれの材料も超電導磁石を利用
しても担磁することなしに磁気分離することは一般には
困難である。そこでまず、砥粒に担磁し、これを廃棄ス
ラリーから分離することを試みた。これは、砥粒の方が
粒径の大きいことと、混入割合が多いことが理由で、分
離しやすいと判断したためである。砥粒の担磁には、コ
ロイド化学的な手法とメカノケミカル的な手法の両手法
で実施した。In this embodiment, the abrasive grains are SiC and the cutting powder is silicon. In general, it is difficult to magnetically separate any of the materials without using a superconducting magnet without magnetizing. Therefore, first, it was attempted to magnetize the abrasive grains and separate them from the waste slurry. This is because it was determined that the abrasive grains were easier to separate because of the larger particle size and the higher mixing ratio. The magnetizing of the abrasive grains was performed by both a colloidal chemistry method and a mechanochemical method.
【0010】コロイド化学的な手法とは、ここでは砥粒
表面の水酸基を利用して(水)酸化鉄超微粒子(例えば
硫酸第一鉄に水酸化カリウムを反応させ水酸化第一鉄を
水中に生成し、水中および空気中から供給される酸素で
酸化させることにより形成、約50nm程度の粒径と考
えられる。)の水酸基と化学的に反応させ(オール化あ
るいはオキソ化)担磁する手法である。[0010] The colloidal chemistry method means that the (water) iron oxide ultra-fine particles (for example, potassium hydroxide is reacted with ferrous sulfate to make ferrous hydroxide into water using hydroxyl groups on the surface of the abrasive grains) It is formed by oxidizing with oxygen supplied from water and air, and is considered to have a particle size of about 50 nm.) is there.
【0011】図3にコロイド化学的な手法で担磁した砥
粒(平均粒径約12μm)をサマリウム・コバルトの永
久磁石で回収した結果を示す。図中の黒四角と菱形の違
いは、(水)酸化鉄超微粒子を作る過程が異なっている
ことを示し、黒四角はFeSO4 とKOHを混合したも
のであり、菱形はコロイドを析出させて水溶液として混
合したものである。横軸は砥粒(SiC)に対する
(水)酸化鉄超微粒子中の鉄(Fe)の重量分率であ
る。適切に担磁すると、約5重量%程度の担磁で砥粒は
100%の回収が可能であることが理解できる。このこ
とから、コロイド化学的に砥粒を担磁すると、廃棄スラ
リーの中から回収できることが明らかになった。FIG. 3 shows the results of recovery of abrasive grains (average particle size of about 12 μm) magnetized by colloid chemistry using a samarium-cobalt permanent magnet. The difference between the black square and the diamond in the figure indicates that the process of producing the (aqueous) iron oxide ultrafine particles is different, the black square is a mixture of FeSO 4 and KOH, and the diamond is the colloid precipitated. It was mixed as an aqueous solution. The horizontal axis represents the weight fraction of iron (Fe) in the (water) iron oxide ultrafine particles with respect to the abrasive grains (SiC). It can be understood that when properly magnetized, 100% of the abrasive grains can be recovered with about 5% by weight of magnetism. From this, it became clear that when the abrasive grains are colloidally magnetized, they can be recovered from the waste slurry.
【0012】一方、メカノケミカル的な手法とは、磁性
金属片(例えば鉄)と無機粒子を若干の溶媒中で擦り合
わせ、金属片を無機粒子に付着させる方法である。図4
にメカノケミカル的な担磁法の概念図(上図)と担磁の
機構(下図)を模式的に示した。ポットミル5の中に、
鉄線の破片7および鉄球8と砥粒6を入れ、水、アルコ
ールとともに回転する。すると機械的なエネルギーによ
り砥粒表面に鉄線あるいは鉄球表面の鉄が付着する。砥
粒と鉄球あるいは砥粒と鉄線の接触部は局所的には10
00℃以上に昇温していると考えられ、機械的に付着し
ているのみならず化合物を作り強固に付着しているもの
と考えられる。このメカノケミカル的な手法を用い、重
量にして無機砥粒の約2%の鉄を付着させることができ
た。このメカノケミカル的な手法により担磁した砥粒を
3Tの超電導磁場を利用して磁気分離を試みた。その結
果の一例を図5に示す。図5において、左の瓶にはメカ
ノケミカル的な手法で担磁した砥粒の懸濁液が入ってお
り、担磁により砥粒は黒化している。図5中の右の瓶に
は磁気分離後の懸濁液が入っている。図5の写真から明
らかなように、担磁した砥粒はほとんど回収できた。以
上の基礎的な実験から、コロイド化学的あるいはメカノ
ケミカル的な担磁法のいずれの方法を用いても砥粒に担
磁することができ、かつそれを利用して砥粒を磁気分離
できることが明らかになった。On the other hand, the mechanochemical method is a method in which a magnetic metal piece (for example, iron) and inorganic particles are rubbed in a slight solvent to attach the metal pieces to the inorganic particles. FIG.
Fig. 1 schematically shows a conceptual diagram of a mechanochemical magnetizing method (upper figure) and a mechanism of magnetism (lower figure). In the pot mill 5,
The iron wire fragments 7, the iron balls 8 and the abrasive grains 6 are put in, and rotated together with water and alcohol. Then, iron on the surface of the abrasive grain or iron on the surface of the iron ball adheres to the surface of the abrasive grains by mechanical energy. The contact part between the abrasive and the iron ball or between the abrasive and the iron wire is locally 10
It is considered that the temperature has risen to 00 ° C. or higher, and it is considered that not only mechanically adhering but also forming a compound and adhering firmly. Using this mechanochemical technique, about 2% of iron by weight of inorganic abrasive particles could be attached. A magnetic separation of the abrasive grains magnetized by this mechanochemical method was attempted using a 3T superconducting magnetic field. One example of the result is shown in FIG. In FIG. 5, the left bottle contains a suspension of abrasive grains magnetized by a mechanochemical method, and the grains are blackened by the magnetism. The right bottle in FIG. 5 contains the suspension after magnetic separation. As is clear from the photograph in FIG. 5, almost all the magnetized abrasive grains could be recovered. From the above basic experiments, it can be seen that the abrasive grains can be magnetized using either colloidal or mechanochemical magnetizing methods, and that they can be magnetically separated. It was revealed.
【0013】また、廃棄スラリー中に存在する砥粒のS
EM観察をするとともに元素分析を行った(図6)。図
6は砥粒片のSEM写真とその元素分析の結果を示す。
A部には鉄は付着していないが、B部には鉄が付着して
いることが認められる。これは、ワイヤーソーのワイヤ
ー破片がメカノケミカルな反応で付着したものと考えら
れる。この付着した鉄を利用した磁気分離の可能性を実
験で調べた。約200μmのフィルターを利用し、10
Tまでの磁場をかけ、磁気分離を実施した。その結果、
約30%の懸濁成分が分離できることを確認した。さら
に、分離した懸濁成分をXRDで分析したところ、約9
5%が砥粒であることを確認した。この実験により、担
磁することなく砥粒の磁気分離が可能であることが確認
できた。[0013] In addition, the S
EM observation and elemental analysis were performed (FIG. 6). FIG. 6 shows an SEM photograph of the abrasive grains and the results of elemental analysis thereof.
It is recognized that iron does not adhere to the part A, but iron adheres to the part B. This is considered to be due to the fact that the wire fragments of the wire saw were attached by a mechanochemical reaction. The possibility of magnetic separation using the attached iron was examined by experiments. Using a filter of about 200 μm, 10
A magnetic field up to T was applied to perform magnetic separation. as a result,
It was confirmed that about 30% of the suspended components could be separated. Further, when the separated suspended components were analyzed by XRD, about 9%
It was confirmed that 5% was abrasive grains. This experiment confirmed that the magnetic separation of the abrasive grains was possible without magnetism.
【0014】次に、本発明による磁気分離システムの構
成を図7に示す。このシステムは、超電導磁石11、そ
の中央に設けられたフィルター12、廃棄スラリー供給
部(廃棄スラリー槽13、ポンプ17、濾過スラリー槽
14)、及び研磨材回収部(逆洗液槽15、ポンプ1
8、回収槽16、配合調整機(図示せず))から成る。
図7中の実線は廃棄スラリー供給部の処理フローを示
す。廃棄スラリー槽13内にある廃棄スラリーがポンプ
17により超電導磁石11に送られ、フィルター17で
主として研磨剤(砥粒)が捕らえられる。濾過されたス
ラリーは濾過スラリー槽14に貯留される。図7中の一
点鎖線は研磨材回収部のフローを示す。フィルター12
に捕らえられた砥粒は、逆洗液槽15に貯留しておいた
逆洗液(配合に用いる油が最適)を磁場が0の状態にて
流すことにより回収槽16に回収される。この際、油と
砥粒の配合を調整すれば、そのままスラリーとして再利
用できる。Next, FIG. 7 shows the configuration of a magnetic separation system according to the present invention. This system comprises a superconducting magnet 11, a filter 12 provided at the center thereof, a waste slurry supply unit (a waste slurry tank 13, a pump 17, and a filtration slurry tank 14), and an abrasive recovery unit (a backwash liquid tank 15, a pump 1).
8, a recovery tank 16, and a blending adjuster (not shown)).
The solid line in FIG. 7 shows the processing flow of the waste slurry supply unit. The waste slurry in the waste slurry tank 13 is sent to the superconducting magnet 11 by the pump 17, and the filter 17 mainly captures abrasives (abrasives). The filtered slurry is stored in the filtered slurry tank 14. The dashed line in FIG. 7 indicates the flow of the abrasive recovery section. Filter 12
The abrasive particles caught in the tank are collected in the collection tank 16 by flowing the backwash liquid stored in the backwash liquid tank 15 (optimum oil used for mixing) in a state where the magnetic field is zero. At this time, if the composition of the oil and the abrasive grains is adjusted, the slurry can be reused as it is.
【0015】また、濾過スラリー槽14に貯留されたス
ラリーに対し、適切な担磁を行うか磁場の強さを変化さ
せる等の方法により、再度フィルター11を通過させる
ことにより、スラリー中の残りの粒子を補足させて油を
回収することができる。上記磁気分離システムでは、研
磨材回収部として逆洗液槽15、回収槽16、ポンプ1
8等を設けて逆洗方式で研磨材を一回ごとに回収した
が、その代わりにフィルターをカセット式にしてその都
度交換する方式にすることもできる。Further, the slurry stored in the filtration slurry tank 14 is passed through the filter 11 again by a method such as performing appropriate magnetism or changing the strength of the magnetic field, so that the remaining slurry in the slurry is removed. The oil can be recovered by entrapping the particles. In the magnetic separation system, the backwash liquid tank 15, the recovery tank 16, the pump 1
8 and the like are provided, and the abrasive is collected each time by the backwashing method. Alternatively, the filter may be replaced with a cassette type filter and replaced each time.
【0016】[0016]
【発明の効果】本発明により、研磨又は切断加工に使用
した研磨材を含むスラリーを廃棄することなく再利用で
きるので、資源の節約と環境の保全が図られ、併せて加
工コストも低減できる。According to the present invention, the slurry containing the abrasive used for polishing or cutting can be reused without being discarded, thereby saving resources and preserving the environment, and also reducing the processing cost.
【図1】ワイヤーソーによる半導体等の切断加工の全体
模式図(上図)と部分拡大断面図(下図)である。FIG. 1 is an overall schematic view (upper view) and a partially enlarged cross-sectional view (lower view) of a process for cutting a semiconductor or the like using a wire saw.
【図2】廃棄スラリー中の粒子状物質の粒度分布を示
す。FIG. 2 shows the particle size distribution of particulate matter in waste slurry.
【図3】コロイド化学的に担磁した砥粒の永久磁石によ
る磁気分離の結果を示す。FIG. 3 shows the results of magnetic separation of abrasive particles colloidally magnetized by permanent magnets.
【図4】メカノケミカル的な担磁法の模式図である。FIG. 4 is a schematic view of a mechanochemical magnetizing method.
【図5】メカノケミカル的な手法で担磁した砥粒の懸濁
液(左)とその磁気分離後の懸濁液(右)の写真であ
る。FIG. 5 is a photograph of a suspension of abrasive grains magnetized by a mechanochemical technique (left) and a suspension after magnetic separation (right).
【図6】廃棄スラリー中の砥粒のSEM写真と元素分析
の結果を示す。FIG. 6 shows an SEM photograph of abrasive grains in a waste slurry and a result of elemental analysis.
【図7】本発明の磁気分離システムの構成を示す。FIG. 7 shows a configuration of a magnetic separation system of the present invention.
1 ワイヤー 2 シリコンブロック 3 スラリー 4 ガイド 5 ポットミル 6 砥粒 7 鉄線 8 鉄球 11 超電導磁石 12 フィルター 13 廃棄スラリー槽 14 濾過スラリー槽 15 逆洗液槽 16 回収槽 17〜19 ポンプ 20〜23 攪拌器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wire 2 Silicon block 3 Slurry 4 Guide 5 Pot mill 6 Abrasive grain 7 Iron wire 8 Iron ball 11 Superconducting magnet 12 Filter 13 Waste slurry tank 14 Filtration slurry tank 15 Backwash liquid tank 16 Recovery tank 17-19 Pump 20-23 Stirrer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中平 敦 京都市左京区松ヶ崎御所海道町 京都工芸 繊維大学物質工学科内 (72)発明者 武田 真一 岡山市津島中3−1−1 岡山大学工学部 精密応用化学科内 (72)発明者 仁木 丈文 大阪府高石市羽衣5−16−8 仁木工芸株 式会社内 (72)発明者 吉岡 正夫 大阪市天王寺区清水谷町5番16号 株式会 社TKX内 Fターム(参考) 3C011 BB31 3C047 FF06 FF09 GG17 3C058 AA07 AC01 AC04 CB01 CB05 CB06 DA03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Atsushi Nakahira Matsugasaki Imperial Palace Kaido-cho, Kyoto, Sakyo-ku Kyoto Institute of Technology (72) Inventor Shinichi Takeda 3-1-1 Tsushimanaka, Okayama City Precision Engineering, Okayama University Within the Department of Applied Chemistry (72) Inventor Takefumi Niki 5-16-8 Hagoromo, Takaishi City, Osaka Prefecture Inside Niki Crafts Co., Ltd. F term (reference) 3C011 BB31 3C047 FF06 FF09 GG17 3C058 AA07 AC01 AC04 CB01 CB05 CB06 DA03
Claims (5)
カノケミカル的に担磁させて磁気分離により回収する廃
液処理法。1. A waste liquid treatment method in which an abrasive used for polishing or cutting is mechanochemically magnetized and recovered by magnetic separation.
ロイド化学的に担磁させて磁気分離により回収する廃液
処理法。2. A waste liquid treatment method in which an abrasive used for polishing or cutting is colloidally chemically magnetized and recovered by magnetic separation.
イド化学的に担磁させ、研磨又は切断加工に使用した後
に磁気分離により回収する廃液処理法。3. A waste liquid treatment method in which an abrasive is preliminarily mechanochemically or colloidally magnetized, and is used for polishing or cutting, and then recovered by magnetic separation.
工装置と研磨材の間で生じるメカノケミカル的な作用に
より研磨材を担磁させて超電導磁気分離により回収する
廃液処理法。4. A waste liquid treatment method in which a polishing material is magnetized by a mechanochemical action generated between a processing apparatus and the polishing material during polishing or cutting using the polishing material, and is collected by superconducting magnetic separation.
液処理法を行うための磁気分離システムであって、超電
導磁石(11)、その中央に設けられたフィルター(1
2)、研磨材を含んだ廃棄スラリーを前記フィルターに
通すべく供給する廃棄スラリー供給部(13、14、1
7)、及び前記フィルターに捕らえられた研磨材を回収
するための研磨材回収部(15、16、18)から成る
磁気分離システム。5. A magnetic separation system for performing the waste liquid treatment method according to claim 1, wherein the superconducting magnet (11) has a filter (1) provided at the center thereof.
2) a waste slurry supply unit (13, 14, 1) for supplying waste slurry containing an abrasive through the filter;
7), and a magnetic separation system comprising an abrasive collecting section (15, 16, 18) for collecting the abrasive caught by the filter.
Priority Applications (1)
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JP2007207393A (en) * | 2006-02-06 | 2007-08-16 | Hoya Corp | Method for manufacturing glass substrate for magnetic disk, glass substrate for magnetic disk, and method for manufacturing magnetic disk |
JP2012096327A (en) * | 2010-11-02 | 2012-05-24 | Onishi Seisakusho:Kk | Industrial oil purifying device |
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- 2001-03-29 JP JP2001096328A patent/JP2002292565A/en active Pending
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