JP2002287148A - Method for manufacturing liquid crystal device, liquid crystal device and electronic apparatus - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal device, liquid crystal device and electronic apparatus

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JP2002287148A
JP2002287148A JP2001093920A JP2001093920A JP2002287148A JP 2002287148 A JP2002287148 A JP 2002287148A JP 2001093920 A JP2001093920 A JP 2001093920A JP 2001093920 A JP2001093920 A JP 2001093920A JP 2002287148 A JP2002287148 A JP 2002287148A
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liquid crystal
substrates
substrate
sealing material
crystal device
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Tsuyoshi Maeda
強 前田
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Seiko Epson Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a liquid crystal device wherein contaminants and impurities remaining in the inner part of a liquid crystal can be reduced to the utmost, an alignment defect is eliminated and the reduction of the life of the liquid crystal can be prevented. SOLUTION: When the liquid crystal device provide with a liquid crystal layer 41 interposed between substrates 10 and 20 and alignment layers 11 and 21 formed on the surfaces on the liquid crystal layer side of the substrates is manufactured, at least one substrate is constituted of a light transmitting material, and the alignment layers are constituted of an obliquely deposited film consisting of an inorganic material. A sealing material 30 is constituted of a UV curing type sealing material and the entire surfaces of the substrates are irradiated with UV to cure the sealing material and burn off the organic contaminants on the surfaces of the alignment layers, simultaneously when or after the sealing material is disposed between the substrates to stick the both substrates to each other and before the liquid crystal is injected between the substrates.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置の製造方
法及びそれにより得られた液晶装置と電子機器に関し、
特に、斜方蒸着膜を配向膜として選択し、紫外線全面照
射を行う技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal device, and a liquid crystal device and an electronic device obtained by the method.
In particular, the present invention relates to a technique in which an obliquely deposited film is selected as an alignment film and the entire surface is irradiated with ultraviolet light.

【0002】[0002]

【従来の技術】ノート型パーソナルコンピュータ、携帯
型ゲーム機や電子手帳などの種々の電子機器には表示部
として消費電力の少ない液晶表示装置が多用されてい
る。特に近年は表示内容の多用化に伴って、カラー表示
が可能な液晶表示装置の需要が高まっている。液晶装置
は一般に、対向配置された一対の基板がシール材を介し
て所定のセルギャップをあけて貼り合わされ、前記基板
のシール材に囲まれた領域に主に液晶駆動用の電極や配
線と配向膜とが形成され、前記基板間のシール材に囲ま
れた領域に液晶が封入されて構成されている。このよう
に基板間に封入された液晶は、通常、シール材の一部に
形成された封入口を介して真空雰囲気において基板間に
充填され、真空充填後に封入口を封止材で閉塞すること
で基板間に封入されている。
2. Description of the Related Art Various electronic devices such as a notebook personal computer, a portable game machine, and an electronic organizer often use a liquid crystal display device with low power consumption as a display unit. In particular, in recent years, demand for a liquid crystal display device capable of performing color display has been increasing with the frequent use of display contents. In general, a liquid crystal device is configured such that a pair of substrates disposed opposite to each other are bonded together with a predetermined cell gap therebetween via a sealing material, and the region surrounded by the sealing material is mainly aligned with electrodes and wirings for driving a liquid crystal. A film is formed, and liquid crystal is sealed in a region surrounded by a sealant between the substrates. The liquid crystal sealed between the substrates as described above is usually filled between the substrates in a vacuum atmosphere through a sealing hole formed in a part of the sealing material, and the sealing hole is closed with the sealing material after vacuum filling. Is sealed between the substrates.

【0003】また、配向膜は液晶分子を所定の方向に配
向させるために設けられ、ポリイミド等の分子配向性を
有する有機樹脂膜をそれぞれの基板の液晶層側に液晶と
接するように設け、この有機樹脂膜表面をラビングロー
ルで擦り付けて目的の配向性を付与するなどの処理を施
して実用に供されている。次に、前記シール材として
は、熱硬化型樹脂あるいは紫外線硬化型樹脂からなるシ
ール剤を基板面に環状に塗布し、塗布後に加熱するか、
紫外線の照射を行ってシール剤を硬化させてシール材と
している。
An alignment film is provided for aligning liquid crystal molecules in a predetermined direction. An organic resin film having molecular alignment such as polyimide is provided on the liquid crystal layer side of each substrate so as to be in contact with the liquid crystal. The surface of the organic resin film is subjected to a treatment such as rubbing with a rubbing roll to impart a desired orientation, and is used for practical use. Next, as the sealing material, a sealing agent made of a thermosetting resin or an ultraviolet curing resin is applied to the substrate surface in a ring shape, and then heated after application,
The sealant is cured by irradiation with ultraviolet rays to form a seal material.

【0004】図9はこの種の液晶装置を製造するために
紫外線硬化型のシール剤を用いて液晶パネルを製造する
場合の一工程を示す説明図である。図9において適切な
セルギャップをあけて対向配置したガラス基板100、
101の周縁部に紫外線硬化型の未硬化のシール剤層1
02が介在され、一方の基板100と他方の基板101
の内面側に配向膜103、104が形成されて液晶セル
105が構成されている。図9に示す液晶パネル105
は液晶が注入される前の状態を示し、基板100、10
1間には液晶が注入されていない状態とされている。
FIG. 9 is an explanatory view showing one step in the case of manufacturing a liquid crystal panel using an ultraviolet-curing type sealant in order to manufacture this type of liquid crystal device. In FIG. 9, a glass substrate 100 which is disposed to face with an appropriate cell gap,
UV curable uncured sealant layer 1 on the periphery of 101
02, one substrate 100 and the other substrate 101
A liquid crystal cell 105 is formed by forming alignment films 103 and 104 on the inner surface side of the liquid crystal cell. The liquid crystal panel 105 shown in FIG.
Indicates a state before liquid crystal is injected, and the substrates 100, 10
No liquid crystal is injected between the two.

【0005】図9に示す状態の液晶セル105の未硬化
のシール剤層102を硬化させるためには、シール剤層
102の内側を覆い隠すことができる大きさの遮蔽板1
06を上側の基板100上に配置し、この遮蔽板106
を介して上方から紫外光(UV光)を照射し、遮蔽板1
06に覆われていない領域に存在するシール剤層102
を硬化させることでシール材を構成し、このシール材硬
化の後に液晶の注入工程を行うものである。この工程に
おいて遮蔽板106にてシール剤層102の内側を遮蔽
するのは、有機高分子材料からなる配向膜が紫外線照射
(UV照射)によって損傷しないようにするためであ
る。
In order to cure the uncured sealant layer 102 of the liquid crystal cell 105 in the state shown in FIG. 9, a shield plate 1 large enough to cover the inside of the sealant layer 102 is required.
06 on the upper substrate 100, and the shielding plate 106
Irradiates ultraviolet light (UV light) from above through the shielding plate 1
06 existing in the area not covered by the sealant layer 102
Is cured to form a sealing material, and after the curing of the sealing material, a liquid crystal injection step is performed. The reason why the inside of the sealant layer 102 is shielded by the shield plate 106 in this step is to prevent the alignment film made of an organic polymer material from being damaged by ultraviolet irradiation (UV irradiation).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
の液晶装置の構造は、カラー表示化、高精細化、高開口
率化などの要求から年々複雑に形成されてきており、基
板に形成する電極や配線等が微細化されてきていること
から、基板表面には、基板上に形成する種々の電極や配
線を形成した際の成膜処理に伴う微細な不純物や汚染物
などが洗浄工程を経たとしても微量程度残留しているも
のである。特に、先の配向膜の表面を擦り付けるラビン
グ処理を行った場合、配向膜の表面にはラビング処理に
伴う汚染物や不純物が残留し易い傾向があり、これらの
汚染物や不純物を満足に取り除く手段が現状では明確に
確立されている訳ではないために、微量の汚染物や不純
物を残留させたまま液晶パネルを完成されてしまうこと
が一般的な現状である。
However, the structure of this type of liquid crystal device has been increasingly complicated year by year due to demands for color display, high definition, high aperture ratio, and the like. And fine wiring and the like have been miniaturized, fine impurities and contaminants accompanying the film forming process when forming various electrodes and wiring formed on the substrate have passed through the cleaning process on the substrate surface. Even a small amount remains. In particular, when the rubbing treatment for rubbing the surface of the alignment film is performed, contaminants and impurities accompanying the rubbing treatment tend to remain on the surface of the alignment film. However, since liquid crystal panels are not clearly established at present, liquid crystal panels are generally completed while leaving a small amount of contaminants and impurities.

【0007】このような微量の汚染物や不純物は、通常
では液晶装置の表示に悪影響を及ぼす可能性は低いが、
液晶を長時間駆動している間に液晶中に汚染物の影響で
イオンが残留するようになると、液晶層自体の比抵抗が
低下して駆動中の液晶に微弱な電流が流れるようにな
り、消費電力が余計に必要となる、あるいは、このこと
が原因となって配向不良を引き起こし易いなどの問題が
あり、液晶の寿命を縮めてしまうおそれがあった。ま
た、フリッカや焼き付きなど表示不良のおそれがあっ
た。
[0007] Such a small amount of contaminants and impurities are usually unlikely to adversely affect the display of the liquid crystal device,
If ions remain due to contaminants in the liquid crystal while driving the liquid crystal for a long time, the specific resistance of the liquid crystal layer itself decreases, and a weak current flows through the liquid crystal during driving, There is a problem that extra power consumption is required or an alignment defect is likely to be caused due to this, and there is a possibility that the life of the liquid crystal may be shortened. In addition, there is a fear of display failure such as flicker or burn-in.

【0008】本発明は上述の問題点に鑑みてなされたも
のであり、紫外線を有効に活用して液晶の内部に残留す
る汚染物や不純物をできる限り少なくすることができ、
配向不良を無くするとともに、液晶の寿命を短くしない
ようにできる液晶装置の製造方法の提供を目的の1つと
する。また、本発明はそのような優れた液晶装置、並び
にそのような液晶装置を備えた電子機器の提供を目的と
する。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and it is possible to minimize the amount of contaminants and impurities remaining in the liquid crystal by effectively utilizing ultraviolet rays.
An object is to provide a method for manufacturing a liquid crystal device which can eliminate alignment defects and shorten the life of liquid crystal. Another object of the present invention is to provide such an excellent liquid crystal device and an electronic apparatus provided with such a liquid crystal device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、一対の基板と、これらの基板間に形成され
たシール材により前記基板間に挟持された液晶層と、前
記基板の液晶層側の面に形成された配向膜とを具備して
なる液晶装置を製造するに際し、前記配向膜を無機系材
料からなる斜方蒸着膜から構成し、前記シール材を紫外
線硬化型樹脂から構成し、前記基板間にシール材を配し
て両基板を貼り合わせると同時か、あるいは、両基板を
貼り合わせた後であって前記基板間に液晶を注入する前
に、前記基板に紫外線を全面照射して前記シール材を硬
化させると同時に前記配向膜表面の汚染有機物を焼損す
ることを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a pair of substrates; a liquid crystal layer sandwiched between the substrates by a sealing material formed between the substrates; When manufacturing a liquid crystal device comprising an alignment film formed on the surface of the liquid crystal layer side, the alignment film is composed of an obliquely deposited film made of an inorganic material, and the sealing material is made of an ultraviolet curable resin. And simultaneously arranging a sealant between the substrates and bonding both substrates, or after bonding both substrates and before injecting liquid crystal between the substrates, applying ultraviolet light to the substrates. The sealing material is cured by irradiating the entire surface, and at the same time, contaminant organic substances on the surface of the alignment film are burned.

【0010】基板全面に紫外線を照射するので、基板上
に形成されている配向膜の全面に紫外線が照射されるこ
ととなり、配向膜上に残留している前工程での有機系の
不純物や汚染物を紫外線照射により焼却することができ
る。液晶パネルのシール剤を硬化させる工程の前工程に
おいて各基板には種々の配線工程や電極形成工程などを
含む種々の成膜工程が施され、更に配向膜の形成工程も
施される。これらの諸工程において例え洗浄処理を行っ
たとしても、微量の不純物や汚染物は配向膜の表面部分
に存在している。これら微量の不純物や汚染物において
有機物系のものはシール剤を紫外線硬化させる際の紫外
線照射で焼損させることができる。よって液晶注入後に
液晶中に存在する不純物や汚染物量を削減でき、基板間
注入後に液晶の比抵抗が低下する割合が少なくなり、結
果的に液晶の配向不良を少なくし、液晶の寿命を短くす
ることがない液晶装置を提供できる。
Since the entire surface of the substrate is irradiated with ultraviolet light, the entire surface of the alignment film formed on the substrate is irradiated with ultraviolet light, and organic impurities and contamination remaining on the alignment film in the previous process are removed. The object can be incinerated by ultraviolet irradiation. Prior to the step of curing the sealant of the liquid crystal panel, each substrate is subjected to various film forming steps including various wiring steps and electrode forming steps, and further to an alignment film forming step. Even if a cleaning process is performed in these steps, trace impurities and contaminants are present on the surface of the alignment film. Among these trace impurities and contaminants, organic substances can be burned out by irradiation with ultraviolet rays when the sealant is cured with ultraviolet rays. Therefore, the amount of impurities and contaminants present in the liquid crystal after the injection of the liquid crystal can be reduced, and the rate of decrease in the specific resistance of the liquid crystal after the injection between the substrates is reduced. As a result, the alignment defect of the liquid crystal is reduced and the life of the liquid crystal is shortened. It is possible to provide a liquid crystal device without any problem.

【0011】次に本発明は、前記斜方蒸着を基板法線か
ら70〜85度傾斜した方向から行うことを特徴とす
る。基板法線からこの範囲の角度で斜方蒸着すること
で、液晶に対してプレチルト角を確実に発揮できる配向
性を備えた配向膜とすることができる。本発明は、前記
基板として液晶駆動用の電極を設けてなるものを用い、
前記基板間に液晶を注入した後に測定した液晶層の比抵
抗が基板間注入前の液晶の比抵抗に比べて低下する割合
を1/10以下とすることを特徴とする。この程度の比
抵抗の低下割合であるならば、液晶の比抵抗の低下を液
晶表示に悪影響のない状態に抑えることができる。ま
た、この程度の比抵抗の低下であれば、液晶の表示に実
質的な悪影響は無く、長い期間使用しても液晶の劣化も
少なく、液晶の駆動電力が高くなるおそれも少ない。
Next, the present invention is characterized in that the oblique deposition is performed from a direction inclined by 70 to 85 degrees from the normal line of the substrate. By obliquely vapor-depositing at an angle in this range from the substrate normal, an alignment film having an alignment property capable of reliably exhibiting a pretilt angle with respect to the liquid crystal can be obtained. The present invention uses a substrate provided with an electrode for driving a liquid crystal as the substrate,
The rate at which the specific resistance of the liquid crystal layer measured after injecting the liquid crystal between the substrates is lower than the specific resistance of the liquid crystal before the injection between the substrates is 1/10 or less. If the specific resistance decreases at such a rate, the decrease in the specific resistance of the liquid crystal can be suppressed to a state that does not adversely affect the liquid crystal display. Further, if the specific resistance is reduced to such a degree, there is no substantial adverse effect on the display of the liquid crystal, the liquid crystal is not deteriorated even when used for a long period, and the driving power of the liquid crystal is less likely to be increased.

【0012】本発明の液晶装置は前記のいずれかに記載
の製造方法により得られたことを特徴とする。これらの
液晶装置であるならば、不純物や残留物による配向不良
がなく、高い比抵抗を有し、均一な液晶配向を実現でき
る液晶装置を提供できる。本発明の電子機器は先に記載
の液晶装置を表示手段として備えたことを特徴とする。
これらの電子機器であるならば、不純物や残留物による
配向不良がなく、高い比抵抗を有し、均一な液晶配向を
実現できる液晶装置を表示手段として備えた電子機器を
提供できる。
[0012] A liquid crystal device according to the present invention is obtained by any one of the above-described manufacturing methods. With these liquid crystal devices, it is possible to provide a liquid crystal device which does not have alignment defects due to impurities or residues, has high specific resistance, and can realize uniform liquid crystal alignment. An electronic apparatus according to another aspect of the invention includes the liquid crystal device described above as a display unit.
With these electronic devices, it is possible to provide an electronic device including, as a display means, a liquid crystal device which does not have alignment defects due to impurities or residues, has high specific resistance, and can realize uniform liquid crystal alignment.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明をパッシブマトリク
ス型の液晶表示装置に適用した第1の実施の形態につい
て図面に基づいて説明するが、本発明は以下の実施の形
態に限定されるものではない。本実施の形態において製
造しようとするのは、図1に断面構造を図2に平面構造
を示す単純マトリクス型の液晶表示装置Aである。ただ
しこの形態において偏光板や位相差板など、実際の液晶
表示装置には搭載されるが、本発明の説明に不要な要素
部分の説明と表示は省略してある。また、各構成要素の
寸法や数は、実体を反映するものではなく、図示と説明
が容易なように寸法や数を適宜調整してある。なお、以
下の説明において液晶の駆動方式は、説明の便宜上、パ
ッシブマトリクス方式としたが、後述する他の実施の形
態の如くアクティブマトリクス方式であっても差し支え
ないのは勿論である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a first embodiment in which the present invention is applied to a passive matrix type liquid crystal display device will be described with reference to the drawings, but the present invention is limited to the following embodiments. is not. What is to be manufactured in the present embodiment is a simple matrix type liquid crystal display device A whose sectional structure is shown in FIG. 1 and whose planar structure is shown in FIG. However, in this embodiment, although it is mounted on an actual liquid crystal display device such as a polarizing plate or a retardation plate, description and display of element parts unnecessary for the description of the present invention are omitted. The dimensions and the numbers of the respective components do not reflect the substance, and the dimensions and the numbers are appropriately adjusted for easy illustration and explanation. In the following description, the driving method of the liquid crystal is a passive matrix method for convenience of explanation, but it goes without saying that an active matrix method may be used as in other embodiments described later.

【0014】この例の液晶表示装置Aは、基本的に、規
定のセルギャップをあけて対向配置された一対のガラス
基板、即ち第1の基板10および第2の基板20と、前
記一対の基板間の周縁部側に挟持されて平面視額縁状に
形成されたシール材30と、前記基板10、20とシー
ル材30とに囲まれて区画された領域40に充填された
液晶層41とを具備してなる。前記第1の基板10の内
面側(液晶側)には、基板側から順に、ITO(Indium
Tin Oxide:インジウム錫酸化物)などの透明導電材料
からなる多数のストライプ状の第1電極12が形成され
ている。各第1電極12の一方の端末はシール材30よ
り外側の基板上に延出されて接続端末が形成され、第1
電極12の上には、斜方蒸着膜からなる配向膜11が形
成されている。
The liquid crystal display device A of this embodiment basically includes a pair of glass substrates, that is, a first substrate 10 and a second substrate 20, which are opposed to each other with a predetermined cell gap, and a pair of the substrates. A sealing material 30 sandwiched between the peripheral portions between the sealing material 30 and formed in a frame shape in a plan view, and a liquid crystal layer 41 filled in a region 40 surrounded by the substrates 10 and 20 and the sealing material 30 are filled. It is provided. On the inner surface side (liquid crystal side) of the first substrate 10, an ITO (Indium)
A large number of striped first electrodes 12 made of a transparent conductive material such as Tin Oxide (indium tin oxide) are formed. One end of each first electrode 12 extends on the substrate outside the sealing material 30 to form a connection end,
On the electrode 12, an alignment film 11 made of an obliquely deposited film is formed.

【0015】一方、第2基板20の内側面には、基板側
から順に、画素領域に対応してR(赤),G(緑),B
(青)の順に配列されたカラーフィルタ23、セルギャ
ップを隔てて第1電極12と交差する位置に形成された
ITOなどの透明導電材からなる多数のストライプ状の
第2電極22と、斜方蒸着膜からなる配向膜21とが形
成されている。また、前記第2電極22の一方の端末が
シール材30より外側の基板上に延出され、接続端末と
されている。また、基板間の領域40には、外圧に抗し
てセルギャップを一定に保つスペーサ42が散布されて
いる。本実施の形態の液晶表示装置Aにおいて実際に
は、基板10の上に位相差板および偏光板が設けられる
が、図示および説明を省略する。
On the other hand, on the inner surface of the second substrate 20, R (red), G (green), B
Color filters 23 arranged in the order of (blue), a plurality of striped second electrodes 22 made of a transparent conductive material such as ITO formed at positions intersecting the first electrodes 12 with a cell gap therebetween, An alignment film 21 made of a vapor-deposited film is formed. In addition, one end of the second electrode 22 extends on the substrate outside the sealing material 30 and is a connection terminal. In the region 40 between the substrates, spacers 42 for keeping the cell gap constant against external pressure are dispersed. In the liquid crystal display device A of the present embodiment, a retardation plate and a polarizing plate are actually provided on the substrate 10, but illustration and description are omitted.

【0016】以上のような構成の液晶表示装置Aは、概
略、図3(A)ないし図3(D)に示す工程を経て製造
される。まず、図3(A)に示すように、第1基板10
を用意し、次に、図3(B)に示すように、第1基板1
0の下面(液晶側の面)上にフォトリソグラフィ技術に
より第1電極12を形成し、さらに、その上に配向膜1
1を斜方蒸着法により形成する。第1電極12は、一方
の端末が接続端末となるように、後に形成されるシール
材より外側の基板上に延出させて形成する。また、第2
基板20においては第2電極22上に斜方蒸着法により
配向膜21を形成する。
The liquid crystal display device A having the above structure is manufactured through the steps shown in FIGS. 3A to 3D. First, as shown in FIG.
And then, as shown in FIG. 3B, the first substrate 1
A first electrode 12 is formed on the lower surface (surface on the liquid crystal side) of the first electrode 12 by a photolithography technique.
1 is formed by an oblique evaporation method. The first electrode 12 is formed so as to extend on a substrate outside a sealing material formed later so that one terminal is a connection terminal. Also, the second
On the substrate 20, an alignment film 21 is formed on the second electrode 22 by an oblique deposition method.

【0017】ここで以下に斜方蒸着法について説明す
る。斜方蒸着法とは、酸化シリコン(SiO)等の無機
系の配向膜を基板上に形成できる方法として知られてお
り、基板の成膜面に対して傾斜した方向に蒸着源を設置
し、この蒸着源から発生させた蒸着粒子を基板上に斜め
方向に堆積させ、傾斜したカラム状の結晶からなる薄膜
を形成する技術である。具体的には、基板法線に対して
70〜85度程度傾けた方向から、換言すると、基板面
から5〜20度程度傾斜した角度の方向から先の無機材
料を蒸着させ、基板に対して所定の角度で配列された柱
状結晶を成長させる方法である。
Here, the oblique deposition method will be described below. The oblique deposition method is known as a method capable of forming an inorganic alignment film such as silicon oxide (SiO) on a substrate. This is a technique in which vapor deposition particles generated from the vapor deposition source are obliquely deposited on a substrate to form a thin film made of inclined columnar crystals. Specifically, the inorganic material is deposited from a direction inclined at about 70 to 85 degrees with respect to the substrate normal, in other words, from a direction inclined at about 5 to 20 degrees from the substrate surface, This is a method of growing columnar crystals arranged at a predetermined angle.

【0018】図4に先の斜方蒸着法によるカラム状の結
晶構造からなる配向膜と液晶分子の配向状態の関係を示
す。第1基板10側においてはカラム状の結晶45が電
極12上に所定の角度で並列形成されている。図中θ1
は基板面に対する蒸着角度(例えば基板面に対して5〜
20度、換言すると基板法線に対して70〜85度を示
す。)を示し、θpはカラム状の結晶45の基板面から
の角度を示す。前述のSiOの斜方蒸着による無機配向
膜の場合、大略、蒸着角度が基板法線に対して0〜25
゜までは液晶分子41aにプレチルトを付与することは
できない。換言すると、カラム状の結晶が生成できずに
ランダム配向か平行配向の結晶となる。
FIG. 4 shows the relationship between the alignment film having a columnar crystal structure formed by the oblique deposition method and the alignment state of the liquid crystal molecules. On the first substrate 10 side, columnar crystals 45 are formed in parallel on the electrode 12 at a predetermined angle. Θ 1 in the figure
Is the deposition angle with respect to the substrate surface (for example,
20 degrees, that is, 70 to 85 degrees with respect to the substrate normal. ), And θ p indicates the angle of the columnar crystal 45 from the substrate surface. In the case of the inorganic alignment film formed by oblique deposition of SiO, the deposition angle is generally 0 to 25 with respect to the substrate normal.
Until ゜, the pretilt cannot be given to the liquid crystal molecules 41a. In other words, a columnar crystal cannot be generated, and becomes a crystal of random orientation or parallel orientation.

【0019】これに対して蒸着角度が基板法線に対して
70゜(基板面に対しては20°)においては概ね15
〜20度のプレチルトを液晶分子41aに付与可能であ
り、蒸着角度が基板法線に対して75゜(基板面に対し
ては15゜)においては概ね20〜25゜のプレチルト
を液晶分子41aに付与可能であり、蒸着角度が基板法
線に対して80゜(基板面に対しては10°)において
は概ね20〜30°のプレチルトを液晶分子41aに付
与可能であり、蒸着角度が基板法線に対して5゜(基板
面に対しては85゜)においては概ね27〜37゜のプ
レチルトを液晶分子41aに付与可能である。また、斜
方蒸着法において異なるプレチルト角を付与できる蒸着
角度を2種類組み合わせて2段蒸着することでプレチル
ト角として1゜〜6゜程度の値を容易に得ることができ
る。以上のように斜方蒸着膜においては比較的低い範囲
のプレチルト角(1〜6゜)から高いプレチルト角(1
5〜30゜)を得ることができるので、種々のプレチル
ト角に対応することができる。このようにして形成した
斜方蒸着法による配向膜11、21は、ポリイミド等の
有機系の配向膜ではないので、紫外線に対する耐光性が
高く、耐熱性にも優れている。
On the other hand, when the deposition angle is 70 ° with respect to the substrate normal (20 ° with respect to the substrate surface), it is approximately 15 °.
A pretilt of 2020 degrees can be imparted to the liquid crystal molecules 41a, and a pretilt of approximately 20 to 25 ° is applied to the liquid crystal molecules 41a when the deposition angle is 75 ° with respect to the substrate normal (15 ° with respect to the substrate surface). When the deposition angle is 80 ° relative to the substrate normal (10 ° relative to the substrate surface), a pretilt of approximately 20 to 30 ° can be applied to the liquid crystal molecules 41a. At 5 ° to the line (85 ° to the substrate surface), a pretilt of approximately 27 to 37 ° can be given to the liquid crystal molecules 41a. In addition, a value of about 1 ° to 6 ° can be easily obtained as the pretilt angle by performing two-stage vapor deposition by combining two kinds of vapor deposition angles that can provide different pretilt angles in the oblique vapor deposition method. As described above, in the obliquely deposited film, the pretilt angle (1 to 6 °) in a relatively low range to the high pretilt angle (1
5 to 30 °), so that various pretilt angles can be handled. Since the alignment films 11 and 21 formed by the oblique deposition method are not organic alignment films such as polyimide, they have high light resistance to ultraviolet light and excellent heat resistance.

【0020】次に、図3(C)に示すように、紫外線硬
化性樹脂インクをディスペンサ等の塗布装置を用いて描
画して、未硬化のシール材301を額縁状に描画する。
ついで、第1基板10とは別に、第2基板20の一方の
面に、詳細を省略するが、カラーフィルタ23を形成
し、その上に第2電極22を形成する。第2電極22
は、一方の端末が接続端末となるように、第1基板10
上に形成されるシール材301より外側の基板上に延出
させる。続いて、第2電極22の上にも、先の斜方蒸着
法と同等の斜方蒸着法により配向膜21を形成する。さ
らに、配向膜21の上に、スペーサ42を散布する。対
角1インチ(2.54cm)以下のサイズのパネルで
は、スペーサ42を散布しない場合が多い。
Next, as shown in FIG. 3C, the ultraviolet-curable resin ink is drawn using a coating device such as a dispenser, and the uncured sealing material 301 is drawn in a frame shape.
Next, separately from the first substrate 10, a color filter 23 is formed on one surface of the second substrate 20, though not described in detail, and a second electrode 22 is formed thereon. Second electrode 22
Is the first substrate 10 such that one terminal is a connection terminal.
It extends over the substrate outside the sealing material 301 formed thereon. Subsequently, an alignment film 21 is also formed on the second electrode 22 by the same oblique deposition method as the above oblique deposition method. Further, spacers 42 are scattered on the alignment film 21. In a panel having a diagonal size of 1 inch (2.54 cm) or less, the spacers 42 are often not sprayed.

【0021】そして、図3(D)に示すように、第1基
板10と第2基板20とを、それぞれ配向膜11,21
が内側を向くように真空雰囲気で貼り合わせ、第1基板
10と第2基板20とのずれを修正するためのアライメ
ントを行ったのち、大気圧に戻すことにより第1基板1
0と第2基板20とが均一に加圧され、均一なセルギャ
ップの液晶パネルが得られる。その後、第1基板10側
から第1基板10の全面に、換言すると液晶パネルの全
面に紫外線(UV光)を照射することにより、未硬化の
シール材301を硬化させてシール材30として液晶注
入前のパネルを完成する。ここで、前述のシール材30
の硬化時に、紫外線照射と加熱とを併用すると、シール
材301の硬化がさらに促進され、より短時間で硬化が
達成される。ここで紫外線(UV光)を照射する場合、
未硬化のシール材301を完全に硬化させる目的と、配
向膜11、21上の有機物や残留物を紫外線で十分に焼
損させる目的から、紫外線の照射量を第1基板10の表
面部分において1000〜10000mJ/cm2程度
の範囲とすることが好ましい。
Then, as shown in FIG. 3D, the first substrate 10 and the second substrate 20 are respectively aligned with the alignment films 11 and 21.
Are bonded in a vacuum atmosphere so that the first substrate 1 faces inward, alignment is performed to correct the displacement between the first substrate 10 and the second substrate 20, and then the first substrate 1 is returned to the atmospheric pressure.
0 and the second substrate 20 are uniformly pressed, and a liquid crystal panel having a uniform cell gap is obtained. Thereafter, by irradiating the entire surface of the first substrate 10 from the first substrate 10 side, in other words, the entire surface of the liquid crystal panel with ultraviolet rays (UV light), the uncured sealing material 301 is cured to inject liquid crystal as the sealing material 30. Complete the previous panel. Here, the aforementioned sealing material 30
When the ultraviolet irradiation and the heating are used together during the curing, the curing of the sealing material 301 is further promoted, and the curing is achieved in a shorter time. Here, when irradiating ultraviolet rays (UV light),
For the purpose of completely curing the uncured sealing material 301 and for the purpose of sufficiently burning organic substances and residues on the alignment films 11 and 21 with ultraviolet light, the amount of ultraviolet light applied to the surface of the first substrate 10 is set to 1000 to 1000. It is preferable to be in the range of about 10,000 mJ / cm 2 .

【0022】上述のごとく完成された液晶パネルには、
図示略のシール材の注入口から真空注入法などの常法に
より液晶の注入がなされ、注入口をシール材で閉塞する
ことで液晶表示パネルが完成される。
The liquid crystal panel completed as described above includes:
Liquid crystal is injected from a sealing material injection port (not shown) by a conventional method such as a vacuum injection method, and the liquid crystal display panel is completed by closing the injection port with the sealing material.

【0023】先のような構成の液晶表示パネルには、斜
方蒸着による無機系の配向膜11、21が形成されてい
るので、未硬化のシール材301を紫外線によって硬化
させる際に、配向膜11、21が損傷を受けるおそれは
ない。また、紫外線を照射する際、紫外線を配向膜1
1、21の全面に照射することになるので、配向膜1
1、21の表面部分に残留している有機系の不純物や残
留物を確実に焼損除去することができる。
In the liquid crystal display panel having the above-described structure, the inorganic alignment films 11 and 21 are formed by oblique vapor deposition. There is no danger of the 11, 11 being damaged. When irradiating with ultraviolet light, the ultraviolet light is applied to the alignment film 1.
Since the entire surface of each of the alignment films 1 and 21 is irradiated,
Organic impurities and residues remaining on the surface portions of 1, 21 can be reliably removed by burning.

【0024】ここで配向膜11、21の表面部分に存在
している有機系の不純物や残留物とは、配向膜11、2
1の成膜工程において、あるいは、配向膜11、21の
成膜工程の前工程において、あるいは、配向膜11、2
1の形成後の搬送工程や貼り合わせ工程等において配向
膜11、21の上に残留した各種の微量の有機系の異物
を意味する。これらの有機系の不純物や残留物が残留し
た状態で液晶の注入がなされるとこれらの有機系の不純
物や残留物が液晶中に混入されることとなる。これらの
有機系の不純物や残留物は、微量であれば液晶表示装置
の表示に悪影響はないが、量が多くなると表示に悪影響
を及ぼすおそれを有し、また、量の多少にかかわらず、
液晶中に無駄なイオンが発生する原因となって、長期間
の使用においては液晶自体に駆動中に微弱電流を流す原
因となり、液晶の駆動電力を無駄に向上させてしまう原
因となり、また、液晶の寿命を短くする原因となるおそ
れがある。この点において先の紫外線を配向膜11、2
1の全面に照射するならば、配向膜11、21上に存在
する微量の有機系の不純物あるいは残留物を効率的に焼
損除去することができる。なお、紫外線の照射によって
微量の有機系の不純物や残留物を完全に除去できるわけ
ではないが、これらを焼損させることで微量の不純物や
残留物を更に減容して液晶に対する悪影響が生じ難い状
態とすることが確実にできる。
Here, the organic impurities and residues existing on the surface portions of the alignment films 11 and 21 are referred to as the alignment films 11 and 2.
1 or in a process prior to the process of forming the alignment films 11 and 21 or in the process of forming the alignment films 11 and 2
1 means various kinds of trace amounts of organic foreign matter remaining on the alignment films 11 and 21 in a transporting step, a bonding step, and the like after the formation of 1. If liquid crystal is injected while these organic impurities and residues remain, these organic impurities and residues will be mixed into the liquid crystal. These organic impurities and residues do not adversely affect the display of the liquid crystal display device if the amount is small, but may have a bad influence on the display if the amount is large, and regardless of the amount,
It causes unnecessary ions to be generated in the liquid crystal, causes a weak current to flow while driving the liquid crystal itself for a long period of use, and causes a wasteful improvement in the driving power of the liquid crystal. May shorten the life of the device. At this point, the ultraviolet light is applied to the alignment films 11, 2
If the entire surface of the substrate 1 is irradiated, a trace amount of organic impurities or residues existing on the alignment films 11 and 21 can be efficiently removed by burning. It is not possible to completely remove trace amounts of organic impurities and residues by irradiating ultraviolet rays, but by burning them, the trace amounts of impurities and residues are further reduced, so that adverse effects on the liquid crystal hardly occur. Can be reliably performed.

【0025】なお、紫外線による有機系の不純物や残留
物の除去という観点から見れば、従来のポリイミド系の
樹脂配向膜を備えた液晶パネルでは、紫外線を照射する
と配向膜自体を損傷させるおそれがあるので、樹脂系配
向膜に紫外線を直接照射することはできない。従って、
樹脂系の配向膜を用いた液晶パネルにおいては、従来配
向膜を遮蔽板で覆い隠し、シール材の部分のみに紫外線
を照射してシール材の硬化を行っているが、この製造方
法では樹脂系配向膜に付着した不純物や残留物は除去で
きない。この点において本実施の形態では、紫外線に損
傷を受けにくい無機系の斜方蒸着膜の配向膜を適用し、
それに紫外線を照射するので、配向膜を損傷させるおそ
れのない状態で、配向膜上の不純物あるいは残留物を焼
損させることができる。
From the viewpoint of removing organic impurities and residues by ultraviolet rays, in a liquid crystal panel provided with a conventional polyimide resin alignment film, there is a possibility that the alignment film itself may be damaged when irradiated with ultraviolet rays. Therefore, the resin-based alignment film cannot be directly irradiated with ultraviolet rays. Therefore,
In a liquid crystal panel using a resin-based alignment film, the alignment film is conventionally covered with a shielding plate, and only the sealing material is irradiated with ultraviolet rays to cure the sealing material. Impurities and residues attached to the alignment film cannot be removed. In this regard, in this embodiment, an orientation film of an inorganic oblique deposition film that is not easily damaged by ultraviolet light is applied,
Irradiation with ultraviolet rays can burn off impurities or residues on the alignment film without risk of damaging the alignment film.

【0026】なお、通常、液晶表示装置に用いる液晶は
注入前の状態では1013Ω・cm程度、例えば1015
1012Ω・cmの範囲の比抵抗を有するが、この液晶を
液晶パネルの内部に注入し、注入後に液晶パネルの電極
に通電して液晶層の比抵抗を測定すると比抵抗は低下す
る。この低下の割合は、例えば1013Ω・cmの比抵抗
の液晶ならば1012Ω・cm程度の比抵抗となるよう
に、低下割合として1/10以下であることが好まし
い。1/10を超える低下率、例えば、比抵抗が1/1
00、比抵抗が1/1000となるような大きな低下率
であれば、駆動中の液晶に電流が流れ易く電力の無駄と
なり易い、表示にむらが出る可能性を有するなどの問題
を生じやすい。1/10以下の例えば、1/1〜1/1
0の範囲の低下率であるならば、長期間使用しても液晶
の劣化を生じることがなく、駆動中に液晶に電流が流れ
ることがなく、表示むらも生じることなく、配向不良も
生じない。
Normally, the liquid crystal used in the liquid crystal display device is about 10 13 Ω · cm, for example, 10 15 Ω · cm before injection.
It has a specific resistance in the range of 10 12 Ω · cm. However, when this liquid crystal is injected into the liquid crystal panel, and after the injection, a current is applied to the electrodes of the liquid crystal panel and the specific resistance of the liquid crystal layer is measured, the specific resistance decreases. The rate of this reduction is preferably 1/10 or less so that, for example, a liquid crystal having a specific resistance of 10 13 Ω · cm has a specific resistance of about 10 12 Ω · cm. Reduction rate exceeding 1/10, for example, specific resistance is 1/1
If the rate of decrease is as large as 00, the specific resistance tends to be 1/1000, and the current tends to flow into the liquid crystal being driven, power is easily wasted, and there is a possibility that the display may become uneven. 1/10 or less, for example, 1/1 to 1/1
If the rate of decrease is in the range of 0, the liquid crystal does not deteriorate even after long-term use, current does not flow through the liquid crystal during driving, display unevenness does not occur, and alignment failure does not occur. .

【0027】ところで先の実施の形態においては、液晶
パネルの駆動方式としてパッシブマトリクス方式の構造
の場合の製造方法について説明したが、液晶パネルの駆
動方式はアクティブマトリクス方式でも差し支えないの
は勿論であるので、以下にアクティブマトリクス形式の
液晶表示装置の製造方法について説明する。図5は、T
FD素子をスイッチング素子に用いたアクティブマトリ
クス型の透過型液晶表示装置の一例を示す。図5(A)
は液晶表示装置の全体構成を示す概略斜視図であり、図
5(B)は図5(A)における一画素の拡大図である。
この例の液晶表示装置60は、図5(A)に示すよう
に、2枚の基板、すなわちTFD素子が形成された側の
素子基板61(第1基板)と対向基板62(第2基板)
とが対向配置され、これら基板間に額縁型にシール材6
3が配置され、基板間のシール材63に囲まれた領域に
液晶層(図示略)が挟持されている。なお、この例の液
晶表示装置60においても先の実施の形態の液晶パネル
と同様に基板61、62間の周縁部にシール材63が介
在されてその内側に液晶が封入されるとともに、基板6
1、62の液晶と接する側の面には先の実施の形態の場
合と同等の斜方蒸着法による配向膜が形成されているが
配向膜については図示を省略して図4では基板とその回
路部分を主体として示している。
In the above embodiment, the manufacturing method in the case of a passive matrix structure has been described as a driving method of the liquid crystal panel. However, the driving method of the liquid crystal panel may of course be an active matrix method. Therefore, a method for manufacturing an active matrix type liquid crystal display device will be described below. FIG.
An example of an active matrix transmission type liquid crystal display device using an FD element as a switching element will be described. FIG. 5 (A)
FIG. 5 is a schematic perspective view showing the overall configuration of the liquid crystal display device, and FIG. 5B is an enlarged view of one pixel in FIG. 5A.
As shown in FIG. 5A, the liquid crystal display device 60 of this example has two substrates, that is, an element substrate 61 (first substrate) on which a TFD element is formed and a counter substrate 62 (second substrate).
Are arranged facing each other, and a sealing material 6
3 is arranged, and a liquid crystal layer (not shown) is sandwiched in a region surrounded by a seal material 63 between the substrates. In the liquid crystal display device 60 of this example, similarly to the liquid crystal panel of the previous embodiment, a sealing material 63 is interposed between the substrates 61 and 62 so that the liquid crystal is sealed inside the sealing material 63 and the substrate 6 is also sealed.
An alignment film is formed on the surface in contact with the liquid crystal of Nos. 1 and 62 by an oblique vapor deposition method equivalent to that of the previous embodiment. However, the alignment film is not shown in FIG. The circuit portion is mainly shown.

【0028】図5に示す素子側の基板61の液晶層側に
は、多数のデータ線64が設けられており、各データ線
64に対して多数の画素電極65がTFD素子66を介
して接続されていて、画素電極65は平面視マトリクス
状に配置されている。一方、対向基板62の内面側に
は、短冊状の多数の走査線67がデータ線64に交差す
る方向に形成されている。TFD素子66は、図5
(B)に示すように、第1の導電膜68と、第1の導電
膜68の表面に形成された絶縁膜69と、絶縁膜69の
表面に形成された第2の導電膜70とから構成されてい
る。そして、TFD素子66の第1の導電膜68がデー
タ線64に接続され、第2の導電膜70が画素電極65
に接続されている。
A large number of data lines 64 are provided on the liquid crystal layer side of the element-side substrate 61 shown in FIG. 5, and a large number of pixel electrodes 65 are connected to each data line 64 via a TFD element 66. The pixel electrodes 65 are arranged in a matrix in plan view. On the other hand, on the inner surface side of the opposing substrate 62, a number of strip-shaped scanning lines 67 are formed in a direction crossing the data lines 64. The TFD element 66 shown in FIG.
As shown in (B), the first conductive film 68, an insulating film 69 formed on the surface of the first conductive film 68, and a second conductive film 70 formed on the surface of the insulating film 69. It is configured. Then, the first conductive film 68 of the TFD element 66 is connected to the data line 64, and the second conductive film 70 is connected to the pixel electrode 65.
It is connected to the.

【0029】本発明は以上のようなTFD素子をスイッ
チング素子に用いたアクティブマトリクス型の液晶表示
装置60にも適用することができ、先の実施の形態と同
様にシール材硬化の際に全面に紫外線(紫外光)を照射
してシール材を硬化すれば良い。この例の液晶表示装置
60においても先の液晶表示装置Aの場合と同様な効果
を得ることができる。即ち、基板61、62を貼り合わ
せた後、液晶を注入する前に、未硬化の状態のシール材
を紫外線照射によって硬化させてシール材63とする際
に、斜方蒸着による配向膜が損傷を受けるおそれはない
とともに、紫外線を照射する際、紫外線を配向膜の全面
に照射することになるので、配向膜の表面部分に残留し
ている有機系の不純物や残留物を焼損させることができ
る。ここでの紫外線の照射条件としては先の実施の形態
の場合と同等の条件を採用することができる。
The present invention can also be applied to an active matrix type liquid crystal display device 60 using the above-mentioned TFD element as a switching element. Irradiation with ultraviolet rays (ultraviolet light) may be used to cure the sealing material. In the liquid crystal display device 60 of this example, the same effect as in the case of the liquid crystal display device A can be obtained. That is, after the substrates 61 and 62 are bonded and before the liquid crystal is injected, the uncured sealing material is cured by irradiation with ultraviolet rays to form the sealing material 63. Since there is no danger of being irradiated and when irradiating the ultraviolet rays, the ultraviolet rays are applied to the entire surface of the alignment film, so that organic impurities and residues remaining on the surface portion of the alignment film can be burned. Here, as the irradiation conditions of the ultraviolet rays, the same conditions as those in the above embodiment can be adopted.

【0030】図6は、TFT素子をスイッチング素子に
用いたアクティブマトリクス型の液晶表示装置の一例を
示すもので、図6(A)はこの例の液晶表示装置の全体
構成を示す斜視図であり、図6(B)は図6(A)にお
ける一画素の拡大図である。本例の液晶表示装置80
は、図6(A)に示すように、TFD素子を用いた液晶
表示装置である先の例とほぼ同様の構成を有している。
すなわち、TFT素子が形成された側の素子基板(第1
基板)74と対向基板(第2基板)75とが対向配置さ
れ、これら基板間にシール材73が額縁型に配置され、
基板間のシール材73に囲まれた領域に液晶層(図示
略)が封入されている。素子基板74の液晶側表面上に
は、多数のソース線76(データ線)および多数のゲー
ト線77(走査線)が互いに交差するように格子状に設
けられている。各ソース線76と各ゲート線77の交差
点の近傍にはTFT素子78が形成されており、各TF
T素子78を介して画素電極79が接続され、多数の画
素電極79は平面視マトリクス状に配置されている。一
方、対向基板75の液晶層側の表面上には、表示領域に
対応してITOなどからなる透明導電材料製の共通電極
85が形成されている。
FIG. 6 shows an example of an active matrix type liquid crystal display device using a TFT element as a switching element. FIG. 6A is a perspective view showing the entire structure of the liquid crystal display device of this example. FIG. 6B is an enlarged view of one pixel in FIG. Liquid crystal display device 80 of this example
Has almost the same configuration as the previous example, which is a liquid crystal display device using a TFD element, as shown in FIG.
That is, the element substrate on which the TFT element is formed (first substrate)
A substrate (substrate) 74 and an opposing substrate (second substrate) 75 are arranged to face each other, and a sealing material 73 is arranged between these substrates in a frame shape.
A liquid crystal layer (not shown) is sealed in a region surrounded by the seal member 73 between the substrates. On the liquid crystal side surface of the element substrate 74, a large number of source lines 76 (data lines) and a large number of gate lines 77 (scanning lines) are provided in a grid pattern so as to intersect each other. A TFT element 78 is formed near the intersection of each source line 76 and each gate line 77,
The pixel electrodes 79 are connected via the T elements 78, and the many pixel electrodes 79 are arranged in a matrix in plan view. On the other hand, a common electrode 85 made of a transparent conductive material such as ITO is formed on the surface of the counter substrate 75 on the liquid crystal layer side corresponding to the display area.

【0031】TFT素子78は、図6(B)に示すよう
に、ゲート線77から延びるゲート電極81と、ゲート
電極81を覆う絶縁膜(図示略)と、絶縁膜上に形成さ
れた半導体層82と、半導体層82中のソース領域に接
続されたソース線76から延びるソース電極83と、半
導体層82中のドレイン領域に接続されたドレイン電極
84とを有している。そして、TFT素子78のドレイ
ン電極84が画素電極79に接続されている。
As shown in FIG. 6B, the TFT element 78 includes a gate electrode 81 extending from the gate line 77, an insulating film (not shown) covering the gate electrode 81, and a semiconductor layer formed on the insulating film. 82, a source electrode 83 extending from a source line 76 connected to a source region in the semiconductor layer 82, and a drain electrode 84 connected to a drain region in the semiconductor layer 82. The drain electrode 84 of the TFT element 78 is connected to the pixel electrode 79.

【0032】本発明は以上のようなTFT素子をスイッ
チング素子に用いたアクティブマトリクス型の液晶表示
装置80にも適用することができ、先の実施の形態と同
様にシール材硬化の際に全面に紫外線を照射してシール
材を硬化すれば良い。即ち、基板74、75を貼り合わ
せた後、液晶を注入する前に、未硬化の状態のシール材
を紫外線照射によって硬化させてシール材73とする際
に、斜方蒸着による配向膜が損傷を受けるおそれはない
とともに、紫外線を照射する際、紫外線を配向膜の全面
に照射することになるので、配向膜の表面部分に残留し
ている有機系の不純物や残留物を焼損させることができ
る。ここでの紫外線の照射条件としては先の実施の形態
の場合と同等の条件を採用することができる。
The present invention can be applied to an active matrix type liquid crystal display device 80 using the above-described TFT element as a switching element, and the entire surface is cured when the sealing material is cured as in the previous embodiment. The sealing material may be cured by irradiating ultraviolet rays. That is, when the uncured sealing material is cured by ultraviolet irradiation to form the sealing material 73 after the substrates 74 and 75 are bonded and before the liquid crystal is injected, the alignment film due to oblique deposition may be damaged. Since there is no danger of being irradiated and when irradiating ultraviolet rays, ultraviolet rays are radiated to the entire surface of the alignment film, so that organic impurities and residues remaining on the surface portion of the alignment film can be burned. Here, as the irradiation conditions of the ultraviolet rays, the same conditions as those in the above embodiment can be adopted.

【0033】(電子機器の実施形態)次に、前記の液晶
表示装置A、60、80のいずれかを備えた電子機器の
具体例について説明する。図7(A)は、携帯電話の一
例を示した斜視図である。図7(A)において、符号5
00は携帯電話本体を示し、符号501は前記の液晶表
示装置A、60、80のいずれかを用いた液晶表示部
(表示手段)を示している。図7(B)は、ワープロ、
パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視
図である。図7(B)において、符号600は情報処理
装置、符号601はキーボードなどの入力部、符号60
3は情報処理装置本体、符号602は前記の液晶表示装
置A、60、80のいずれかを用いた液晶表示部(表示
手段)を示している。図7(C)は、腕時計型電子機器
の一例を示した斜視図である。図7(C)において、符
号700は時計本体を示し、符号701は前記の液晶表
示装置A、60、80のいずれかを用いた液晶表示部
(表示手段)を示している。図7(A)〜(C)に示す
それぞれの電子機器は、前記の液晶パネルA、60、8
0のいずれかを用いた液晶表示部を備えたものであるの
で、不純物や残留物による配向不良がなく、高い比抵抗
を示し、均一な液晶配向を実現できる液晶表示装置を有
する電子機器を提供することができる特徴を有する。
(Embodiment of Electronic Apparatus) Next, a specific example of an electronic apparatus provided with any one of the liquid crystal display devices A, 60 and 80 will be described. FIG. 7A is a perspective view illustrating an example of a mobile phone. In FIG. 7A, reference numeral 5
Reference numeral 00 denotes a mobile phone main body, and reference numeral 501 denotes a liquid crystal display unit (display means) using any one of the liquid crystal display devices A, 60, and 80. FIG. 7B shows a word processor,
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a portable information processing device such as a personal computer. 7B, reference numeral 600 denotes an information processing device, reference numeral 601 denotes an input unit such as a keyboard, and reference numeral 60 denotes an input unit.
Reference numeral 3 denotes an information processing apparatus main body, and reference numeral 602 denotes a liquid crystal display unit (display means) using any one of the liquid crystal display devices A, 60, and 80. FIG. 7C is a perspective view illustrating an example of a wristwatch-type electronic device. In FIG. 7C, reference numeral 700 denotes a watch main body, and reference numeral 701 denotes a liquid crystal display unit (display means) using any one of the liquid crystal display devices A, 60, and 80. Each of the electronic devices shown in FIGS. 7A to 7C includes the liquid crystal panels A, 60, and 8 described above.
0 is provided with a liquid crystal display portion using any one of the above, so that there is no defective alignment due to impurities or residues, a high specific resistance is provided, and an electronic device having a liquid crystal display device capable of realizing uniform liquid crystal alignment is provided. Features that can be.

【0034】図8は投射型の電子機器に本発明方法によ
る液晶装置を適用した一例を示すもので、図8は3板式
の投射型液晶表示装置の一例を示す概略構成図である。
図中、符号510は光源、513,514はダイクロイ
ックミラー、515,516,517は反射ミラー、5
18,519,520はリレーレンズ、522,52
3,524は液晶ライトバルブ(液晶装置)、525は
クロスダイクロイックプリズム、526は投射レンズ系
を示す。
FIG. 8 shows an example in which a liquid crystal device according to the present invention is applied to a projection type electronic apparatus. FIG. 8 is a schematic diagram showing an example of a three-panel projection type liquid crystal display device.
In the figure, reference numeral 510 is a light source, 513 and 514 are dichroic mirrors, 515, 516 and 517 are reflection mirrors,
18, 519 and 520 are relay lenses, 522 and 52
3, 524 denotes a liquid crystal light valve (liquid crystal device), 525 denotes a cross dichroic prism, and 526 denotes a projection lens system.

【0035】光源510は、メタルハライド等のランプ
511とランプ511の光を反射するリフレクタ512
とから構成されている。青色光・緑色光反射のダイクロ
イックミラー513は、光源510からの白色光のうち
の赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反
射する。透過した赤色光は反射ミラー517で反射さ
れ、赤色光用液晶ライトバルブ522に入射される。
The light source 510 includes a lamp 511 such as a metal halide and a reflector 512 for reflecting light from the lamp 511.
It is composed of The dichroic mirror 513 that reflects blue light and green light transmits red light out of white light from the light source 510 and reflects blue light and green light. The transmitted red light is reflected by the reflection mirror 517 and is incident on the liquid crystal light valve 522 for red light.

【0036】一方、ダイクロイックミラー513で反射
された色光のうち、緑色光は、緑色光反射のダイクロイ
ックミラー514によって反射され、緑色用液晶ライト
バルブ523に入射される。一方、青色光は、第2のダ
イクロイックミラー514も透過する。青色光に対して
は、光路長が緑色光、赤色光と異なるのを補償するため
に、入射レンズ518、リレーレンズ519、出射レン
ズ520を含むリレーレンズ系からなる導光手段521
が設けられ、これを介して青色光が青色光用液晶ライト
バルブ524に入射される。
On the other hand, among the color lights reflected by the dichroic mirror 513, the green light is reflected by the dichroic mirror 514 that reflects green light, and is incident on the liquid crystal light valve 523 for green. On the other hand, the blue light also passes through the second dichroic mirror 514. For the blue light, in order to compensate for the difference in the optical path length from the green light and the red light, a light guiding means 521 including a relay lens system including an entrance lens 518, a relay lens 519, and an exit lens 520.
, Through which blue light is incident on the blue light liquid crystal light valve 524.

【0037】各ライトバルブにより変調された3つの色
光は、クロスダイクロイックプリズム525に入射す
る。このプリズムは、4つの直角プリズムが貼り合わさ
れ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光
を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されたもので
ある。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成
されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された
光は、投射光学系である投射レンズ系526によってス
クリーン527上に投射され、画像が拡大されて表示さ
れる。
The three color lights modulated by the respective light valves enter the cross dichroic prism 525. This prism has four right angle prisms bonded together, and a dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are formed in a cross shape on the inner surface. The three color lights are combined by these dielectric multilayer films to form light representing a color image. The synthesized light is projected on a screen 527 by a projection lens system 526, which is a projection optical system, and an image is enlarged and displayed.

【0038】ここで先の液晶ライトバルブ522、52
3、524にあっては、高精細化の要求の基に画素間の
間隔が極めて短く形成される傾向になってきており、こ
の傾向に基づいて隣接する画素電極の電界が隣の画素の
電界に影響を及ぼすおそれが生じてきている。このよう
な場合に液晶のプレチルトを高くすることが有効である
と考えられ、ポリイミドの配向膜よりも斜方蒸着法によ
る配向膜の方が先に説明した如くプレチルト角を大きく
できるので有利である。このような背景に基づき、本発
明で得られる斜方蒸着法による配向膜を備えた液晶装置
が投射型液晶表示装置においても有効となる。また、そ
の他の効果においては先の実施の形態と同等である。
Here, the liquid crystal light valves 522, 52
3, 524, there is a tendency that the interval between pixels is extremely short due to the demand for higher definition, and based on this tendency, the electric field of an adjacent pixel electrode is reduced to the electric field of an adjacent pixel. There is a possibility that the influence will be exerted. In such a case, it is considered effective to increase the pretilt of the liquid crystal, and the orientation film formed by the oblique deposition method is more advantageous than the polyimide alignment film because the pretilt angle can be increased as described above. . Based on such a background, the liquid crystal device provided with the orientation film formed by the oblique deposition method according to the present invention is effective also in the projection type liquid crystal display device. Other effects are the same as those of the previous embodiment.

【0039】[0039]

【実施例】ガラス基板上にITOの透明電極と配向膜と
して蒸着角85°で形成した厚さ500ÅのSiO斜方
蒸着膜を用いた第1基板と、同じくガラス基板上にIT
Oの透明電極と配向膜として蒸着角85°で形成した厚
さ500ÅのSiO斜方蒸着膜を用いた第2基板とを
4.5μmのセルギャップをあけ、シール剤として、ア
クリル系のUV硬化型の樹脂を用いて貼り合わせてパネ
ル試料とした。このパネル試料の全面に4KWの水冷式
メタルハライドランプを使用して紫外線を照射し、シー
ル剤の硬化を行った。パネル試料表面での紫外線強度は
80mW/cm2(365nm)とした。また、紫外線
照射時のガラス基板の温度は約50℃になるように温度
制御した。また、シール剤の硬化条件は1500mJ/
cm2である。このように得られたパネルに対して、1
13(Ω・cm)の比抵抗を有する液晶材料を注入し、
注入後に液晶パネルの電極に通電して液晶層の比抵抗を
測定したところ、比抵抗が約1012(Ω・cm)となっ
ていた。この実施例において比抵抗の若干の低下は見ら
れるが、以下に示す比較例1〜5のいずれの例よりも比
抵抗の低下割合は小さくなり、不純物や残留物による配
向不良がなく、高い比抵抗を得ることができるという本
発明方法の効果を確認することができた。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A transparent substrate of ITO and a first substrate using an obliquely deposited SiO film having a thickness of 500.degree.
Acrylic UV cured as a sealant, with a 4.5 μm cell gap between a transparent electrode of O and a second substrate using a 500 ° thick SiO obliquely deposited film formed at a deposition angle of 85 ° as an alignment film. A panel sample was obtained by bonding using a mold resin. The entire surface of the panel sample was irradiated with ultraviolet rays using a 4 KW water-cooled metal halide lamp to cure the sealant. The ultraviolet intensity on the surface of the panel sample was 80 mW / cm 2 (365 nm). Further, the temperature of the glass substrate during ultraviolet irradiation was controlled to be about 50 ° C. The curing condition of the sealing agent was 1500 mJ /
cm 2 . For the panel thus obtained, 1
Inject a liquid crystal material having a specific resistance of 0 13 (Ωcm)
After the injection, the electrodes of the liquid crystal panel were energized to measure the specific resistance of the liquid crystal layer. The specific resistance was about 10 12 (Ω · cm). Although a slight decrease in specific resistance is observed in this example, the rate of decrease in specific resistance is smaller than in any of Comparative Examples 1 to 5 shown below, and there is no orientation defect due to impurities or residues, and a high specific resistance is obtained. The effect of the method of the present invention that resistance can be obtained was confirmed.

【0040】「比較例1」前記の各ガラス基板に対して
斜方蒸着膜を省略し、代わりに厚さ500Åのポリイミ
ド薄膜を形成し、このポリイミド薄膜にラビングロール
を擦り付けて配向処理を施し、次いで先の例と同等のセ
ルギャップをあけてシール剤で貼り合わせてパネル試料
とした。このパネル試料の全面に4KWの水冷式メタル
ハライドランプを使用して紫外線を照射し、シール剤の
硬化を行った。パネル試料表面での紫外線強度は80m
W/cm2(365nm)とした。また、紫外線照射時
のガラス基板の温度は約50℃になるように温度制御し
た。また、シール剤の硬化条件は1500mJ/cm2
である。このように得られたパネル試料に対して、10
13(Ω・cm)の比抵抗を有する液晶材料を注入し、注
入後に液晶パネルの電極に通電して液晶層の比抵抗を測
定したところ、比抵抗が約109(Ω・cm)となり、
先の例よりも比抵抗が4桁も低下した。これは、ポリイ
ミド薄膜に直接紫外線を照射したので、ポリイミド薄膜
の一部が損傷し、液晶中に混入された結果と、ポリイミ
ド薄膜のラビング処理によりポリイミド薄膜の一部ある
いはラビングロールの毛の一部、またはラビング時にポ
リイミド薄膜表面部分に残留していた残留物の一部が配
向膜表面に残留し、液晶の注入に伴って液晶内部に混入
された結果であると思われる。
[Comparative Example 1] The oblique deposition film was omitted for each of the above glass substrates, a polyimide thin film having a thickness of 500 mm was formed instead, and a rubbing roll was rubbed on the polyimide thin film to perform an orientation treatment. Next, a panel sample was obtained by bonding with a sealant with a cell gap equivalent to that of the previous example. The entire surface of the panel sample was irradiated with ultraviolet rays using a 4 KW water-cooled metal halide lamp to cure the sealant. The UV intensity on the panel sample surface is 80m
W / cm 2 (365 nm). Further, the temperature of the glass substrate during ultraviolet irradiation was controlled to be about 50 ° C. The curing condition of the sealing agent is 1500 mJ / cm 2.
It is. For the panel sample thus obtained, 10
A liquid crystal material having a specific resistance of 13 (Ω · cm) was injected, and after injection, a current was applied to the electrodes of the liquid crystal panel and the specific resistance of the liquid crystal layer was measured. The specific resistance was about 10 9 (Ω · cm).
The specific resistance decreased by four orders of magnitude from the previous example. This is because the polyimide thin film was directly irradiated with ultraviolet rays, so that a part of the polyimide thin film was damaged and mixed into the liquid crystal, and a part of the polyimide thin film or a part of the rubbing roll hair by the rubbing treatment of the polyimide thin film. It is considered that a part of the residue remaining on the surface of the polyimide thin film at the time of rubbing remains on the surface of the alignment film and is mixed into the liquid crystal with the injection of the liquid crystal.

【0041】「比較例2」前記比較例1とほぼ同等の製
造条件で、紫外線の照射時にマスクを用いてポリイミド
薄膜を覆い隠し、シール剤のみに紫外線を照射する条件
でパネル試料を作成した。このように得られたパネル試
料に対して、1013(Ω・cm)の比抵抗を有する液晶
材料を注入し、注入後に液晶パネルの電極に通電して液
晶層の比抵抗を測定したところ、比抵抗が約1011(Ω
・cm)となり、先の実施例よりも比抵抗が2桁も低下
した。これは、ポリイミド薄膜のラビング処理によりポ
リイミド薄膜の一部あるいはラビングロールの毛の一部
またはラビング時にポリイミド薄膜表面部分に残留した
残留物の一部が配向膜表面に残留し、液晶の注入に伴っ
て液晶内部に混入された結果であると思われる。
[Comparative Example 2] Under the same manufacturing conditions as in Comparative Example 1, a panel sample was prepared under the condition that the polyimide thin film was covered using a mask when irradiating ultraviolet rays and only the sealant was irradiated with ultraviolet rays. A liquid crystal material having a specific resistance of 10 13 (Ω · cm) was injected into the panel sample thus obtained, and after injection, a current was supplied to the electrodes of the liquid crystal panel to measure the specific resistance of the liquid crystal layer. The specific resistance is about 10 11
Cm), and the specific resistance was reduced by two orders of magnitude compared to the previous example. This is because part of the polyimide thin film or part of the rubbing roll bristles due to the rubbing treatment of the polyimide thin film or part of the residue remaining on the surface of the polyimide thin film during rubbing remains on the alignment film surface. It is considered that the result was mixed into the liquid crystal.

【0042】「比較例3」前記比較例1で用いたポリイ
ミド薄膜を配向膜として用い、シール剤としてエポキシ
樹脂からなる熱硬化型のものを用い、紫外線照射を行わ
ずに、250℃に60分加熱してシール剤の硬化を行っ
てパネル試料を作成した。このように得られたパネル試
料に対して、1013(Ω・cm)の比抵抗を有する液晶
材料を注入し、注入後に液晶パネルの電極に通電して液
晶層の比抵抗を測定したところ、比抵抗が約1011(Ω
・cm)となり、先の実施例よりも比抵抗が2桁も低下
した。この比較例3では紫外線照射を行なっていない
が、ポリイミド薄膜の配向膜を用いているので、この配
向膜に起因した混入物が液晶内部に混入したものと思わ
れる。
Comparative Example 3 The polyimide thin film used in Comparative Example 1 was used as an alignment film, and a thermosetting epoxy resin was used as a sealant. A panel sample was prepared by heating to cure the sealant. A liquid crystal material having a specific resistance of 10 13 (Ω · cm) was injected into the panel sample thus obtained, and after injection, a current was supplied to the electrodes of the liquid crystal panel to measure the specific resistance of the liquid crystal layer. The specific resistance is about 10 11
Cm), and the specific resistance was reduced by two orders of magnitude compared to the previous example. In Comparative Example 3, no ultraviolet irradiation was performed, but since an alignment film of a polyimide thin film was used, it is considered that contaminants caused by this alignment film were mixed in the liquid crystal.

【0043】「比較例4」先の実施例と同等のSiO斜
方蒸着膜を配向膜として用い、シール剤も同等のものを
用いたが、紫外線を照射する場合に全面照射ではなく、
マスクを用いてシール剤以外の部分を覆い隠し、シール
剤部分にのみ紫外線を照射してパネル試料を作成した。
このように得られたパネル試料に対して、1013(Ω・
cm)の比抵抗を有する液晶材料を注入し、注入後に液
晶パネルの電極に通電して液晶層の比抵抗を測定したと
ころ、比抵抗が約1011(Ω・cm)となり、先の実施
例よりも比抵抗が2桁も低下した。この比較例4では、
SiO斜方蒸着膜に紫外線を照射していないので、斜方
蒸着膜の表面部分あるいはパネルの他の部分に残留して
いた不純物や残留物が液晶中に混入し、この結果として
先の実施例よりも2桁も比抵抗が低下したものと思われ
る。
Comparative Example 4 The same obliquely deposited SiO film as in the previous example was used as the alignment film, and the same sealant was used.
A portion other than the sealant was covered using a mask, and only the sealant portion was irradiated with ultraviolet rays to prepare a panel sample.
With respect to the panel sample thus obtained, 10 13 (Ω ·
cm), a specific resistance of about 10 11 (Ω · cm) was obtained when the specific resistance of the liquid crystal layer was measured by applying a current to the electrodes of the liquid crystal panel and then measuring the specific resistance of the liquid crystal layer. The resistivity decreased by two orders of magnitude. In Comparative Example 4,
Since the SiO oblique deposition film was not irradiated with ultraviolet rays, impurities and residues remaining on the surface portion of the oblique deposition film or other portions of the panel were mixed into the liquid crystal. It is thought that the resistivity decreased by two orders of magnitude.

【0044】「比較例5」先の実施例と同等のSiO斜
方蒸着膜を配向膜として用い、シール剤として熱硬化型
のものを用いてパネル試料を作成した。このように得ら
れたパネル試料に対して、1013(Ω・cm)の比抵抗
を有する液晶材料を注入し、注入後に液晶パネルの電極
に通電して液晶層の比抵抗を測定したところ、比抵抗が
約1011(Ω・cm)となり、先の実施例よりも比抵抗
が2桁も低下した。この比較例5では、SiO斜方蒸着
膜に紫外線を照射していないので、斜方蒸着膜の表面部
分あるいはパネルの他の部分に残留していた不純物や残
留物が液晶中に混入し、この結果として先の実施例より
も2桁も比抵抗が低下したものと思われる。
"Comparative Example 5" A panel sample was prepared using an obliquely deposited SiO film equivalent to that of the previous example as an alignment film and a thermosetting sealant. A liquid crystal material having a specific resistance of 10 13 (Ω · cm) was injected into the panel sample thus obtained, and after injection, a current was supplied to the electrodes of the liquid crystal panel to measure the specific resistance of the liquid crystal layer. The specific resistance was about 10 11 (Ω · cm), which was two orders of magnitude lower than in the previous example. In Comparative Example 5, since the SiO oblique deposition film was not irradiated with ultraviolet rays, impurities and residues remaining on the surface portion of the oblique deposition film or other portions of the panel were mixed into the liquid crystal. As a result, it is considered that the specific resistance was reduced by two orders of magnitude as compared with the previous example.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、不
純物や残留物による配向不良がなく、高い比抵抗を示
し、均一な液晶配向を実現できる液晶装置を提供するこ
とができる特徴を有する。即ち、液晶の比抵抗が低下す
ると、電圧保持率が低下し、コントラスト低下やフリッ
カーなどの表示不良を生じやすくなるおそれがあり、液
晶に電流が流れ易くなることによって消費電力が上昇す
るなどの問題を生じるが、本発明方法によりこれらの問
題を生じない液晶装置を提供できる。
As described above, according to the present invention, there is a feature that it is possible to provide a liquid crystal device which is free from defective alignment due to impurities and residues, has a high specific resistance, and can realize a uniform liquid crystal alignment. . That is, when the specific resistance of the liquid crystal decreases, the voltage holding ratio decreases, and there is a possibility that display defects such as a decrease in contrast and flicker may easily occur. However, the method of the present invention can provide a liquid crystal device which does not cause these problems.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は本発明に係る方法が適用される液晶表
示装置の一例を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a liquid crystal display device to which a method according to the present invention is applied.

【図2】 図2は図1に示す液晶表示装置の平面略図で
ある。
FIG. 2 is a schematic plan view of the liquid crystal display device shown in FIG.

【図3】 図3は液晶パネルの組み立て順序の一例を示
すもので、図3(A)は一方の基板の断面図、図3
(B)は一方の基板に電極と配向膜を形成した状態を示
す断面図、図3(C)は他方の基板の断面図、図3
(D)は基板を貼り合わせて紫外線を照射している状態
を示す断面図である。
3A and 3B show an example of an assembling order of a liquid crystal panel. FIG. 3A is a cross-sectional view of one substrate, and FIG.
3B is a cross-sectional view showing a state in which an electrode and an alignment film are formed on one substrate, FIG. 3C is a cross-sectional view of the other substrate, and FIG.
(D) is a sectional view showing a state in which the substrates are bonded and irradiated with ultraviolet rays.

【図4】 図4は本発明に係る斜方蒸着膜の一構造例を
示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing one structural example of an oblique deposition film according to the present invention.

【図5】 図5は本発明に係る方法が適用される液晶表
示装置の第2の例を示すもので、図5(A)は液晶表示
装置全体の斜視図、図5(B)は液晶表示装置の1つの
画素部を示す拡大斜視図である。
5A and 5B show a second example of a liquid crystal display device to which the method according to the present invention is applied. FIG. 5A is a perspective view of the entire liquid crystal display device, and FIG. FIG. 3 is an enlarged perspective view illustrating one pixel portion of the display device.

【図6】 図6は本発明に係る方法が適用される液晶表
示装置の第3の例を示すもので、図6(A)は液晶表示
装置全体の斜視図、図6(B)は液晶表示装置の1つの
画素部を示す拡大斜視図である。
6A and 6B show a third example of a liquid crystal display device to which the method according to the present invention is applied. FIG. 6A is a perspective view of the entire liquid crystal display device, and FIG. FIG. 3 is an enlarged perspective view illustrating one pixel portion of the display device.

【図7】 図7は本発明方法により得られた液晶装置を
備えた電子機器の例を示すもので、図7(A)は携帯電
話の斜視図、図7(B)はノートパソコンなどの携帯型
情報端末の斜視図、図7(C)は腕時計型の携帯情報端
末である。
FIGS. 7A and 7B show an example of an electronic device provided with a liquid crystal device obtained by the method of the present invention. FIG. 7A is a perspective view of a mobile phone, and FIG. FIG. 7C is a perspective view of a portable information terminal, which is a wristwatch-type portable information terminal.

【図8】 図8は本発明方法により液晶装置を備えた投
射型表示装置の一例を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing an example of a projection display device provided with a liquid crystal device according to the method of the present invention.

【図9】 図9は従来の液晶表示装置の製造方法におい
て液晶表示装置に紫外線を照射している状態を示す断面
図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which a liquid crystal display device is irradiated with ultraviolet rays in a conventional liquid crystal display device manufacturing method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 液晶装置 10、20 基板 11、21 配向膜 30 シール材 40 液晶層 61、62 基板 63、73 シール材 74、75 基板 500、600、700 電子機器 501、602、701 表示部(表示手段) A Liquid crystal device 10, 20 Substrate 11, 21 Alignment film 30 Sealing material 40 Liquid crystal layer 61, 62 Substrate 63, 73 Sealing material 74, 75 Substrate 500, 600, 700 Electronic equipment 501, 602, 701 Display unit (display means)

フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 NA09 NA25 NA44 QA14 QA16 TA04 TA09 TA12 TA16 TA17 TA18 2H090 HD14 LA03 LA04 LA12 LA15 LA16 LA20 MA11 MB06 Continued on the front page F term (reference) 2H089 NA09 NA25 NA44 QA14 QA16 TA04 TA09 TA12 TA16 TA17 TA18 2H090 HD14 LA03 LA04 LA12 LA15 LA16 LA20 MA11 MB06

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の基板と、これらの基板間に形成さ
れたシール材により前記基板間に挟持された液晶層と、
前記基板の液晶層側の面に形成された配向膜とを具備し
てなる液晶装置を製造するに際し、 少なくとも一方の前記基板を透光性の材料から構成し、
前記配向膜を無機系材料からなる斜方蒸着膜から構成
し、前記シール材を紫外線硬化型シール材から構成し、
前記基板間にシール材を配して両基板を貼り合わせると
同時か、あるいは両基板を貼り合わせた後であって前記
基板間に液晶を注入する前に、貼り合わせた前記両基板
に紫外線を全面照射して前記シール材を硬化させると同
時に前記配向膜表面の汚染有機物を焼損することを特徴
とする液晶装置の製造方法。
A pair of substrates; a liquid crystal layer sandwiched between the substrates by a sealing material formed between the substrates;
When manufacturing a liquid crystal device comprising an alignment film formed on the liquid crystal layer side of the substrate, at least one of the substrates is made of a translucent material,
The alignment film is composed of an obliquely deposited film made of an inorganic material, and the sealing material is composed of an ultraviolet-curable sealing material.
At the same time as disposing a sealing material between the substrates and laminating both substrates, or after laminating both substrates and before injecting liquid crystal between the substrates, ultraviolet light is applied to the laminated substrates. A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: irradiating the entire surface to cure the sealant and burning out contaminant organic substances on the surface of the alignment film.
【請求項2】 前記斜方蒸着を基板法線から70〜85
度傾斜した方向から行うことを特徴とする請求項1記載
の液晶装置の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the oblique deposition is performed at 70 to 85 from the normal of the substrate.
2. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the method is performed from a direction inclined at an angle.
【請求項3】 前記基板として液晶駆動用の電極を設け
てなるものを用い、前記基板間に液晶を注入した後に測
定した液晶層の比抵抗が基板間注入前の液晶の比抵抗に
比べて低下する割合を1/10以下とすることを特徴と
する請求項1に記載の液晶装置の製造方法。
3. A substrate provided with an electrode for driving liquid crystal is used as the substrate, and the specific resistance of the liquid crystal layer measured after injecting the liquid crystal between the substrates is smaller than the specific resistance of the liquid crystal before the injection between the substrates. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein a decreasing rate is set to 1/10 or less.
【請求項4】 前記請求項1〜3のいずれかに記載の製
造方法により得られたことを特徴とする液晶装置。
4. A liquid crystal device obtained by the manufacturing method according to claim 1.
【請求項5】 前記請求4に記載の液晶装置を表示手段
として備えたことを特徴とする電子機器。
5. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 4 as display means.
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