JP2002270643A - Semiconductor chip and semiconductor device - Google Patents

Semiconductor chip and semiconductor device

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JP2002270643A JP2001068801A JP2001068801A JP2002270643A JP 2002270643 A JP2002270643 A JP 2002270643A JP 2001068801 A JP2001068801 A JP 2001068801A JP 2001068801 A JP2001068801 A JP 2001068801A JP 2002270643 A JP2002270643 A JP 2002270643A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor chip for which the pitch of external electrode terminals can be made fine, the density of the external electrode terminals can be increased, and a semiconductor device provided with the semiconductor chip. SOLUTION: First external electrode terminals 118 are formed on the integrated circuit 12 of a semiconductor chip 1, and second external electrode terminals 117 are formed on the periphery of the integrated circuit 12. Solder bump electrodes 15 are placed on the first external electrode terminals 118. The second external electrode terminals 117 are formed with the size thereof being smaller than the size of the first external electrode terminals 118 and is arranged, so that the pitch thereof is smaller than the pitch of the first external electrode terminals. Stud bump electrodes 13 are placed on the second external electrode terminals 117, and the semiconductor chip 1 is placed on a wiring board so as to construct a semiconductor device.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップ及び
半導体装置に関し、特に外部電極端子(パッド)を有す
る半導体チップ及びこの半導体チップを配線基板に実装
した半導体装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor chip and a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor chip having external electrode terminals (pads) and a semiconductor device having the semiconductor chip mounted on a wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6(A)に示す半導体装置に組み込ま
れる半導体チップ100は、単結晶シリコン基板101
の主面に集積回路102を備え、この集積回路102の
周辺領域に外部電極端子(ボンディングパッド)103
を備えている。外部電極端子103は、単結晶シリコン
基板101の周辺領域のほとんどすべての周囲に渡っ
て、所定間隔において複数配列されている。
2. Description of the Related Art A semiconductor chip 100 incorporated in a semiconductor device shown in FIG.
An external electrode terminal (bonding pad) 103 is provided in a peripheral region of the integrated circuit
It has. A plurality of external electrode terminals 103 are arranged at a predetermined interval over almost the entire periphery of the single crystal silicon substrate 101.

【0003】図6(B)に示すように、外部電極端子1
03にはスタッドバンプ電極104が配設されるように
なっている。スタッドバンプ電極104は、半導体チッ
プ100の外部電極端子103と図示しない配線基板の
端子との間を電気的かつ機械的に接続するようになって
おり、配線基板上にフリップチップ方式において半導体
チップ100を実装し、半導体装置を構築するようにな
っている。スタッドバンプ電極104は、ワイヤボンデ
ィング装置を利用し、ボンディングワイヤの一端を外部
電極端子101にボンディングし、ボンディングワイヤ
の他端を引き上げつつ切断することにより形成されてい
る。
[0003] As shown in FIG.
03 is provided with a stud bump electrode 104. The stud bump electrodes 104 electrically and mechanically connect the external electrode terminals 103 of the semiconductor chip 100 and the terminals of a wiring board (not shown) on the wiring board. And build a semiconductor device. The stud bump electrode 104 is formed by bonding one end of a bonding wire to the external electrode terminal 101 using a wire bonding device, and cutting the wire while pulling up the other end of the bonding wire.

【0004】この種の半導体装置においては、スタッド
バンプ電極104が細径のボンディングワイヤから形成
され、スタッドバンプ電極104の配列間隔を縮小する
ことができるので、結果として外部電極端子103の配
列間隔を50μm〜70μm程度のファインピッチにお
いて形成することができる。
In this type of semiconductor device, the stud bump electrodes 104 are formed from small-diameter bonding wires, and the arrangement intervals of the stud bump electrodes 104 can be reduced. As a result, the arrangement intervals of the external electrode terminals 103 can be reduced. It can be formed at a fine pitch of about 50 μm to 70 μm.

【0005】一方、図7(A)に示す半導体装置に組み
込まれる半導体チップ200は、単結晶シリコン基板2
01の主面に集積回路202を備え、この集積回路20
2上及びその周辺領域上を含む全面に外部電極端子(バ
ンプ電極パッド)203を備えている。この外部電極端
子203は、所定間隔において、行列状に複数配列され
ている。
On the other hand, a semiconductor chip 200 incorporated in the semiconductor device shown in FIG.
01 is provided with an integrated circuit 202 on the main surface thereof.
External electrode terminals (bump electrode pads) 203 are provided on the entire surface including the upper surface 2 and its peripheral region. The external electrode terminals 203 are arranged in a matrix at predetermined intervals.

【0006】図7(B)に示すように、外部電極端子2
03にははんだバンプ電極204が配設されるようにな
っている。はんだバンプ電極204は、半導体チップ2
00の外部電極端子203と図示しない配線基板の端子
との間を電気的かつ機械的に接続するようになってお
り、配線基板上にフリップチップ方式において半導体チ
ップ200を実装し、半導体装置を構築するようになっ
ている。はんだバンプ電極204は、例えばPb−Sn
はんだバンプ電極、Pbを含まないSn−Agはんだバ
ンプ電極等を使用し、スクリーン印刷法やめっき法によ
り形成されている。
[0006] As shown in FIG.
03 is provided with a solder bump electrode 204. The solder bump electrode 204 is connected to the semiconductor chip 2
The semiconductor device 200 is electrically and mechanically connected between the external electrode terminals 203 and the terminals of a wiring board (not shown), and the semiconductor chip 200 is mounted on the wiring board by a flip-chip method to construct a semiconductor device. It is supposed to. The solder bump electrode 204 is made of, for example, Pb-Sn
It is formed by a screen printing method or a plating method using a solder bump electrode, a Sn-Ag solder bump electrode containing no Pb, and the like.

【0007】この種の半導体装置においては、単結晶シ
リコン基板201の主面の全域を有効に利用することが
でき、例えば150μm〜250μmの配列間隔により
多数のはんだバンプ電極204を高密度において配設す
ることができる。
In this type of semiconductor device, the entire area of the main surface of the single crystal silicon substrate 201 can be effectively used. For example, a large number of solder bump electrodes 204 are arranged at a high density with an arrangement interval of 150 μm to 250 μm. can do.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記図
6(A)及び図6(B)に示す半導体チップ100にお
いて、スタッドバンプ電極104をボンディングした時
に外部電極端子103下にダメージを伴うので、外部電
極端子103は集積回路102上、集積回路102の結
線用配線上等に配設することができない。つまり、外部
電極端子103の配置領域は単結晶シリコン基板101
の主面上において集積回路102の周辺領域に限られて
しまい、外部電極端子103のファインピッチ化は図れ
るものの、外部電極端子103を高密度において配設す
ることが難しい。
However, in the semiconductor chip 100 shown in FIGS. 6A and 6B, when the stud bump electrodes 104 are bonded, damage is caused below the external electrode terminals 103. The electrode terminal 103 cannot be provided on the integrated circuit 102, on a wiring for connection of the integrated circuit 102, or the like. That is, the arrangement region of the external electrode terminals 103 is the single crystal silicon substrate 101.
Is limited to the peripheral area of the integrated circuit 102 on the main surface, and the fine pitch of the external electrode terminals 103 can be achieved, but it is difficult to arrange the external electrode terminals 103 at high density.

【0009】一方、上記図7(A)及び図7(B)に示
す半導体チップ200においては、はんだバンプ電極2
04の占有面積が大きく、高密度化を促進するに従い、
隣接するはんだバンプ電極204間がショートする恐れ
がある。つまり、外部電極端子203は図6(A)及び
図6(B)に示す半導体チップ100の外部電極端子1
03に匹敵するほど配列間隔を縮小することができない
ので、外部電極端子203の高密度化は図れるものの、
外部電極端子203をファインピッチにおいて配設する
ことが難しい。
On the other hand, in the semiconductor chip 200 shown in FIG. 7A and FIG.
As the area occupied by the 04 increases and promotes higher density,
There is a possibility that a short circuit occurs between adjacent solder bump electrodes 204. That is, the external electrode terminal 203 is the external electrode terminal 1 of the semiconductor chip 100 shown in FIGS. 6A and 6B.
Since the arrangement interval cannot be reduced so as to be equal to that of the external electrode terminal 203, the density of the external electrode terminals 203 can be increased.
It is difficult to arrange the external electrode terminals 203 at a fine pitch.

【0010】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものである。従って、本発明は、外部電極端子のファ
インピッチ化を図りつつ、外部電極端子の高密度化を図
ることができる半導体チップを提供することである。
The present invention has been made to solve the above problems. Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor chip capable of increasing the density of external electrode terminals while achieving fine pitch of the external electrode terminals.

【0011】さらに、本発明の目的は、上記目的を達成
しつつ、回路動作速度の高速化を実現することができる
半導体チップを提供することである。
It is a further object of the present invention to provide a semiconductor chip capable of realizing a higher circuit operating speed while achieving the above object.

【0012】さらに、本発明の目的は、上記目的を達成
しつつ、耐ノイズ性を向上することができる半導体チッ
プを提供することである。
It is a further object of the present invention to provide a semiconductor chip which can improve the noise resistance while achieving the above object.

【0013】さらに、本発明の目的は、上記目的を達成
しつつ、配線構造を簡易に実現することができる半導体
チップを提供することである。
It is a further object of the present invention to provide a semiconductor chip which can easily realize a wiring structure while achieving the above object.

【0014】そしてさらに、本発明の目的は、外部電極
端子のファインピッチ化を図りつつ、外部電極端子の高
密度化を図ることができる半導体チップを備えた半導体
装置を提供することである。
It is still another object of the present invention to provide a semiconductor device having a semiconductor chip capable of increasing the density of external electrode terminals while achieving fine pitch of the external electrode terminals.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第1の特徴は、半導体基板主面の回路上に
所定間隔において複数配設された第1の外部電極端子
と、半導体基板主面の回路周辺上に複数配設され、第1
の外部電極端子に比べて端子サイズが小さく、かつ配列
間隔が小さい第2の外部電極端子とを備えた半導体チッ
プとしたことである。ここで、「第1の外部電極端子」
は、はんだバンプ電極が形成される電極パッドとして使
用されることが好ましい。「はんだバンプ電極」には、
Pbが主組成元素として含まれるはんだバンプ電極、P
bを含まないPbフリーはんだバンプ電極等が少なくと
も含まれる。「はんだバンプ電極」は、スクリーン印刷
法、めっき法等により第1の外部電極端子上に形成する
ことができる。一方、「第2の外部電極端子」は、スタ
ッドバンプ電極が形成される電極パッドとして使用され
ることが好ましい。「スタッドバンプ電極」には、Au
スタッドバンプ電極、Cu若しくはCu合金スタッドバ
ンプ電極等が少なくとも含まれる。「スタッドバンプ電
極」は、ワイヤボンディング装置を利用し、第2の外部
電極端子上にワイヤの一端をボンディングし、他端を引
き上げつつ切断することにより形成することができる。
「スタッドバンプ電極」の先端、つまりワイヤの切断さ
れた他端は比較的尖った形状を有するようになってお
り、「スタッドバンプ電極」の全体的な形状は「鋲」に
類似した形状で形成されることが好ましい。「第1の外
部電極端子」は半導体基板主面の中央部に配設され、
「第2の外部電極端子」は半導体基板主面の周辺部に配
設されるようになっている。また、逆に、「第1の外部
電極端子」は半導体基板主面の周辺部に配設され、「第
2の外部電極端子」は半導体基板主面の中央部に配設さ
れるようになっている。
In order to solve the above problems, a first feature of the present invention is that a plurality of first external electrode terminals are provided at predetermined intervals on a circuit on a main surface of a semiconductor substrate; A plurality of semiconductor substrates are arranged around the circuit on the main surface of the semiconductor substrate.
And a second external electrode terminal having a smaller terminal size and a smaller arrangement interval than the external electrode terminal. Here, the “first external electrode terminal”
Is preferably used as an electrode pad on which a solder bump electrode is formed. "Solder bump electrode"
A solder bump electrode containing Pb as a main constituent element;
At least a Pb-free solder bump electrode containing no b is included. The “solder bump electrode” can be formed on the first external electrode terminal by a screen printing method, a plating method, or the like. On the other hand, the "second external electrode terminal" is preferably used as an electrode pad on which a stud bump electrode is formed. "Stud bump electrode" includes Au
At least a stud bump electrode, a Cu or Cu alloy stud bump electrode, etc. are included. The "stud bump electrode" can be formed by bonding one end of the wire onto the second external electrode terminal using a wire bonding apparatus, and cutting while pulling up the other end.
The tip of the "stud bump electrode", that is, the other cut end of the wire, has a relatively sharp shape, and the overall shape of the "stud bump electrode" is shaped like a "stud" Is preferably performed. The “first external electrode terminal” is provided at the center of the main surface of the semiconductor substrate,
The “second external electrode terminal” is arranged on the periphery of the main surface of the semiconductor substrate. Conversely, the “first external electrode terminal” is provided at the periphery of the semiconductor substrate main surface, and the “second external electrode terminal” is provided at the center of the semiconductor substrate main surface. ing.

【0016】このように構成される本発明の第1の特徴
に係る半導体チップにおいては、半導体基板主面の回路
上の全域に第1の外部電極端子を配設したので、この第
1の外部電極端子を高密度で配設することができ、かつ
半導体基板主面の回路周辺上に小さい端子サイズで小さ
い配列間隔において第2の外部電極端子を配設したの
で、この第2の外部電極端子の配列間隔をファインピッ
チにすることができる。
In the semiconductor chip according to the first aspect of the present invention having such a configuration, the first external electrode terminals are provided on the entire area of the circuit on the main surface of the semiconductor substrate. Since the electrode terminals can be arranged at a high density and the second external electrode terminals are arranged at a small arrangement size and at a small arrangement interval on the periphery of the circuit on the main surface of the semiconductor substrate, the second external electrode terminals are arranged. Can be set to a fine pitch.

【0017】さらに、本発明の第1の特徴に係る半導体
チップにおいては、第1の外部電極端子と第2の外部電
極端子とに分散させて入力信号、出力信号、入出力信
号、電源等の結線を行うことができるので、特に第1の
外部電極端子を迂回するような引き回し配線並びにこの
ような引き回し配線の層数を減少することができる。従
って、第1の外部電極端子及び第2の外部電極端子を含
む半導体チップの配線構造を簡易に実現することができ
る。また、半導体チップの配線構造を簡易に実現するこ
とができる結果、半導体チップの製造においては製造上
の歩留まりを向上することができる。
Further, in the semiconductor chip according to the first aspect of the present invention, the input signal, the output signal, the input / output signal, the power supply, and the like are distributed to the first external electrode terminal and the second external electrode terminal. Since the connection can be performed, it is possible to reduce the number of wirings and the number of layers of such wirings that bypass the first external electrode terminals. Therefore, the wiring structure of the semiconductor chip including the first external electrode terminals and the second external electrode terminals can be easily realized. In addition, as a result of simplifying the wiring structure of the semiconductor chip, it is possible to improve the manufacturing yield in manufacturing the semiconductor chip.

【0018】さらに、本発明の第1の特徴に係る半導体
チップにおいては、第1の外部電極端子は第2の外部電
極端子と同一配線層において同一導電性材料により形成
することができるので、第2の外部電極端子を形成する
工程において同時に第1の外部電極端子を形成すること
ができ、再配線プロセスをなくすことができる。従っ
て、本発明の第1の特徴に係る半導体チップにおいて
は、配線構造を簡易に実現することができ、再配線を減
少することができるので、配線に付加される抵抗や容量
を減少することができ、回路動作の高速化を実現するこ
とができる。さらに、配線構造を簡易に実現することが
できるので、半導体チップの製造上の歩留まりを向上す
ることができる。
Further, in the semiconductor chip according to the first feature of the present invention, the first external electrode terminal can be formed of the same conductive material in the same wiring layer as the second external electrode terminal. In the step of forming the second external electrode terminal, the first external electrode terminal can be formed at the same time, and the rewiring process can be eliminated. Therefore, in the semiconductor chip according to the first aspect of the present invention, the wiring structure can be easily realized and the number of rewirings can be reduced, so that the resistance and capacitance added to the wiring can be reduced. It is possible to realize a high-speed circuit operation. Further, since the wiring structure can be easily realized, the production yield of the semiconductor chip can be improved.

【0019】本発明の第2の特徴は、本発明の第1の特
徴に係る半導体チップの第1の外部電極端子を少なくと
も電源電圧用外部電極端子として使用した半導体チップ
としたことである。ここで、「電源電圧」とは、半導体
チップの回路の動作電源電圧又は基準電源電圧という意
味で使用される。
A second feature of the present invention is that the semiconductor chip according to the first feature of the present invention is a semiconductor chip in which the first external electrode terminal is used at least as an external electrode terminal for power supply voltage. Here, the “power supply voltage” is used to mean an operation power supply voltage of a circuit of a semiconductor chip or a reference power supply voltage.

【0020】このように構成される本発明の第2の特徴
に係る半導体チップにおいては、第1の外部電極端子の
端子サイズが大きく、第1の外部電極端子を通して供給
される電源電圧の電圧降下(電源経路の抵抗値)を減少
することができるので、ノイズに強く、安定な回路動作
を実現することができる。
In the semiconductor chip according to the second aspect of the present invention, the size of the first external electrode terminal is large, and the voltage drop of the power supply voltage supplied through the first external electrode terminal is reduced. (Resistance value of the power supply path) can be reduced, so that a stable circuit operation resistant to noise can be realized.

【0021】本発明の第3の特徴は、半導体基板主面の
回路上に所定間隔において複数配設された第1の外部電
極端子と、半導体基板主面の回路周辺上に複数配設さ
れ、第1の外部電極端子に比べて端子サイズが小さく、
かつ配列間隔が小さい第2の外部電極端子とを備えた半
導体チップと、第1の外部電極端子に対応する第1の内
部電極端子と、第2の外部電極端子に対応する第2の内
部電極端子とを備えた配線基板と、第1の外部電極端子
と第1の内部電極端子との間のはんだバンプ電極と、第
2の外部電極端子と第2の内部電極端子との間のスタッ
ドバンプ電極とを備えた半導体装置としたことである。
ここで、「第1の外部電極端子」、「第2の外部電極端
子」、「はんだバンプ電極」、「スタッドバンプ電極」
等の用語の定義は、本発明の第1の特徴に係る半導体チ
ップの「第1の外部電極端子」等の用語の定義と同一で
ある。「配線基板」とは、少なくとも半導体チップを実
装することができ、かつ封止体の一部として使用される
基板という意味で使用される。この「配線基板」には、
樹脂基板(例えば、プリント配線基板)、樹脂テープ基
板、セラミックス基板、炭化珪素基板、ガラス基板等が
少なくとも含まれる意味で使用される。「第1の内部電
極端子」とは、半導体チップの第1の外部電極端子には
んだバンプ電極を介在させて電気的かつ機械的に接続す
るための端子という意味で使用される。同様に、「第2
の内部電極端子」とは、半導体チップの第2の外部電極
端子にスタッドバンプ電極を介在させて電気的かつ機械
的に接続するための端子という意味で使用される。な
お、「配線基板」には、別途、実装ボード、電子機器等
に電気的に接続し、半導体装置を実装するための外部電
極端子が配設されるようになっている。
A third feature of the present invention is that a plurality of first external electrode terminals are provided at predetermined intervals on a circuit on the main surface of the semiconductor substrate, and a plurality of first external electrode terminals are provided around the circuit on the main surface of the semiconductor substrate, The terminal size is smaller than the first external electrode terminal,
A semiconductor chip including a second external electrode terminal having a small arrangement interval, a first internal electrode terminal corresponding to the first external electrode terminal, and a second internal electrode corresponding to the second external electrode terminal Terminal, a solder bump electrode between the first external electrode terminal and the first internal electrode terminal, and a stud bump between the second external electrode terminal and the second internal electrode terminal And a semiconductor device including the electrodes.
Here, “first external electrode terminal”, “second external electrode terminal”, “solder bump electrode”, “stud bump electrode”
Definitions of terms such as "first external electrode terminal" of the semiconductor chip according to the first feature of the present invention are the same as those of the first embodiment. The term “wiring board” is used to mean a board on which at least a semiconductor chip can be mounted and which is used as a part of a sealing body. This "wiring board"
A resin substrate (for example, a printed wiring board), a resin tape substrate, a ceramic substrate, a silicon carbide substrate, a glass substrate, and the like are used at least. The term "first internal electrode terminal" is used to mean a terminal for electrically and mechanically connecting the first external electrode terminal of the semiconductor chip with a solder bump electrode interposed therebetween. Similarly, "second
Is used to mean a terminal for electrically and mechanically connecting a second external electrode terminal of a semiconductor chip with a stud bump electrode interposed therebetween. The “wiring board” is separately provided with external electrode terminals that are electrically connected to a mounting board, an electronic device, or the like, and that mount a semiconductor device.

【0022】このように構成される本発明の第3の特徴
に係る半導体装置においては、本発明の第1の特徴に係
る半導体チップにおいて得られる効果と同様の効果を得
ることができる。
In the semiconductor device according to the third aspect of the present invention thus configured, the same effect as that obtained in the semiconductor chip according to the first aspect of the present invention can be obtained.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】次に、図面を参照して、本発明に
係る半導体チップ及び半導体装置を、本発明の実施の形
態により説明する。以下の図面の記載において、同一又
は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。但
し、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関
係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なることに
留意すべきである。従って、具体的な厚みや寸法は以下
の説明を参酌して判断すべきものである。また、図面相
互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が
含まれていることは勿論である。
Next, a semiconductor chip and a semiconductor device according to the present invention will be described with reference to the drawings according to embodiments of the present invention. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic, and the relationship between the thickness and the planar dimension, the ratio of the thickness of each layer, and the like are different from actual ones. Therefore, specific thicknesses and dimensions should be determined in consideration of the following description. In addition, it is needless to say that dimensional relationships and ratios are different between drawings.

【0024】(第1の実施の形態) 半導体チップの構造:図1に示すように、本発明の第1
の実施の形態に係る半導体チップ1は、半導体基板11
の主面の集積回路12上に所定間隔において複数配設さ
れた第1の外部電極端子118と、半導体基板11の主
面の集積回路12の周辺上に複数配設され、第1の外部
電極端子118に比べて端子サイズが小さく、かつ配列
間隔が小さい第2の外部電極端子117とを備えて構築
されている。
(First Embodiment) Structure of semiconductor chip: As shown in FIG.
The semiconductor chip 1 according to the embodiment has a semiconductor substrate 11
A plurality of first external electrode terminals 118 disposed on the main surface of the integrated circuit 12 at predetermined intervals and a plurality of first external electrode terminals disposed on the periphery of the integrated circuit 12 on the main surface of the semiconductor substrate 11; The second external electrode terminal 117 having a smaller terminal size and a smaller arrangement interval than the terminal 118 is constructed.

【0025】集積回路12は、本発明の第1の実施の形
態に係る半導体チップ1において、半導体基板11の中
央部分の大半の領域に配設されている。集積回路12
は、例えば論理回路、記憶回路等を主体として構築され
ており、ここではインターフェイス回路としての入力回
路、出力回路又は入出力回路を含む意味で使用されてい
る。
The integrated circuit 12 is provided in most of the central portion of the semiconductor substrate 11 in the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention. Integrated circuit 12
Is mainly composed of, for example, a logic circuit, a storage circuit, and the like, and is used herein to include an input circuit, an output circuit, or an input / output circuit as an interface circuit.

【0026】図2に示すように、半導体基板11は単結
晶シリコン基板により構成されており、この半導体基板
11の主面に多数のトランジスタ121が配設されてい
る。本発明の第1の実施の形態に係る半導体チップ1に
おいて、トランジスタ121には絶縁ゲート型電界効果
トランジスタが使用されているが、これに限定されるも
のではなく、トランジスタ121はバイポーラトランジ
スタ等であってもよい。さらに、図示しないが、集積回
路12には抵抗素子、容量素子等の回路の構築に必須の
素子が配設されている。
As shown in FIG. 2, the semiconductor substrate 11 is formed of a single crystal silicon substrate, and a large number of transistors 121 are provided on the main surface of the semiconductor substrate 11. In the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention, an insulated gate field effect transistor is used as the transistor 121, but the present invention is not limited to this, and the transistor 121 is a bipolar transistor or the like. You may. Further, although not shown, the integrated circuit 12 is provided with elements such as a resistance element and a capacitance element that are essential for constructing a circuit.

【0027】半導体基板11の主面上には、トランジス
タ121等の周囲を取り囲み、トランジスタ121間等
を相互に電気的に分離する素子分離絶縁膜111が配設
されている。この素子分離絶縁膜111上には、層間絶
縁膜112を介在させて、トランジスタ121間、回路
間等を結線する第1層目の配線113A〜113Dが配
設されている。この第1層目の配線113A〜113D
は、いずれも層間絶縁膜112に形成された接続孔(符
号を付けない。)を通してトランジスタ121の電極
(ソース領域又はドレイン領域等)に電気的に接続され
ている。第1層目の配線113A〜113Dは、いずれ
も同一配線層に配設され、例えばAl合金(Al−S
i、Al−Cu、Al−Cu−Si)膜、Cu膜等によ
り形成されている。
On the main surface of the semiconductor substrate 11, an element isolation insulating film 111 surrounding the transistors 121 and the like and electrically isolating the transistors 121 and the like from each other is provided. On the element isolation insulating film 111, first-layer wirings 113A to 113D for connecting the transistors 121, between circuits, and the like are provided with an interlayer insulating film 112 interposed therebetween. The first-layer wirings 113A to 113D
Are electrically connected to an electrode (a source region or a drain region or the like) of the transistor 121 through a connection hole (not numbered) formed in the interlayer insulating film 112. The first-layer wirings 113A to 113D are all disposed in the same wiring layer, and are, for example, Al alloy (Al-S
i, Al-Cu, Al-Cu-Si) film, Cu film and the like.

【0028】さらに、第1層目の配線113A〜113
D上には層間絶縁膜114を介在させて第2層目の配線
115A〜115Cが配設され、第2層目の配線115
A〜115C上には層間絶縁膜116を介在させて第1
の外部電極端子118及び第2の外部電極端子117が
配設されている。第2層目の配線115A〜115C
は、層間絶縁膜114に形成された接続孔(符号を付け
ない。)を通して第1層目の配線113A〜113Dに
電気的に接続されている。第2層目の配線115A〜1
15Cは第1層目の配線113A〜113Dと同様に例
えばAl合金膜により形成されている。
Further, the first-layer wirings 113A to 113A
Second wiring layers 115A to 115C are arranged on D with an interlayer insulating film 114 interposed therebetween.
A to 115C with an interlayer insulating film 116 interposed therebetween.
The external electrode terminal 118 and the second external electrode terminal 117 are provided. Second-layer wirings 115A to 115C
Are electrically connected to the first-layer wirings 113A to 113D through connection holes (not numbered) formed in the interlayer insulating film 114. Second layer wiring 115A-1
15C is formed of, for example, an Al alloy film similarly to the first-layer wirings 113A to 113D.

【0029】第1の外部電極端子118、第2の外部電
極端子117は、いずれも、第3層目の配線として、同
一配線層において同一配線材料により形成されている。
例えば、第1の外部電極端子118及び第2の外部電極
端子117は、第1層目の配線113A〜113D、第
2層目の配線115A〜115Cのそれぞれと同様にA
l合金膜、Cu膜等により形成されている。
The first external electrode terminal 118 and the second external electrode terminal 117 are both formed of the same wiring material in the same wiring layer as the third layer wiring.
For example, the first external electrode terminal 118 and the second external electrode terminal 117 are connected to the A lines in the same manner as the first-layer wirings 113A to 113D and the second-layer wirings 115A to 115C.
It is formed of a 1 alloy film, a Cu film, or the like.

【0030】図2に示す第1の外部電極端子118は、
層間絶縁膜116に形成された接続孔を通して第2層目
の配線115B、115Cのそれぞれに接続され、これ
らの第2層目の配線115B、115Cのそれぞれに電
源電圧を供給するようになっている。すなわち、多数配
設された第1の外部電極端子118のうち、その幾つか
の第1の外部電極端子118は電源電圧用外部電極端子
として使用されるようになっている。電源電圧は、集積
回路12の回路動作電圧例えば3.3V〜5Vの電圧で
あり、又は集積回路12の回路基準電圧例えば0Vであ
る。第1の外部電極端子118に接続された第2層目の
配線115Bは第1層目の配線113Bを通してトラン
ジスタ121に電源電圧を供給し、第2層目の配線11
5Cは第1層目の配線113Dを通してトランジスタ1
21に電源電圧を供給するようになっている。第1の外
部電極端子118は、集積回路12上のほぼ全面の領域
において、行列状に規則的に配列されている。この第1
の外部電極端子118は、行方向、列方向のそれぞれ
に、150μm〜250μmの比較的大きな間隔におい
て配列されている。
The first external electrode terminal 118 shown in FIG.
The wiring is connected to each of the second-layer wirings 115B and 115C through a connection hole formed in the interlayer insulating film 116, and a power supply voltage is supplied to each of the second-layer wirings 115B and 115C. . In other words, of the multiple first external electrode terminals 118, some of the first external electrode terminals 118 are used as power supply voltage external electrode terminals. The power supply voltage is a circuit operating voltage of the integrated circuit 12, for example, a voltage of 3.3 V to 5 V, or a circuit reference voltage of the integrated circuit 12, for example, 0 V. The second-layer wiring 115B connected to the first external electrode terminal 118 supplies a power supply voltage to the transistor 121 through the first-layer wiring 113B, and the second-layer wiring 11B.
5C is the transistor 1 through the first-layer wiring 113D.
21 is supplied with a power supply voltage. The first external electrode terminals 118 are regularly arranged in a matrix in a substantially entire area on the integrated circuit 12. This first
Are arranged at relatively large intervals of 150 μm to 250 μm in the row direction and the column direction, respectively.

【0031】第1の外部電極端子118上には最終保護
膜119が形成されており、この最終保護膜119の電
極開口(符号は付けない。)から露出する第1の外部電
極端子118の表面上にはバリアメタル膜131が配設
されている。バリアメタル膜131は、必ずしもこれに
限定されるものではないが、例えばCr膜上にNi膜、
Pd膜のそれぞれを順次積層した複合膜を実用的に使用
することができる。
A final protective film 119 is formed on the first external electrode terminal 118, and the surface of the first external electrode terminal 118 exposed from an electrode opening (not shown) of the final protective film 119. A barrier metal film 131 is provided thereon. Although the barrier metal film 131 is not necessarily limited to this, for example, a Ni film on a Cr film,
A composite film in which each of the Pd films is sequentially laminated can be used practically.

【0032】同図2に示す第2の外部電極端子117
は、層間絶縁膜116に形成された接続孔を通して第2
層目の配線115Aに接続され、主に、この第2層目の
配線115Aに入力信号の伝達を行う、若しくは第2層
目の配線115Aから出力信号の伝達を行う、若しくは
第2層目の配線115Aとの間で入出力信号の伝達を行
うようになっている。すなわち、多数配設された第2の
外部電極端子117のうち、その大半の第2の外部電極
端子117は入力信号用、出力信号用又は入出力信号用
外部電極端子として使用されるようになっている。第2
の外部電極端子117に接続された第2層目の配線11
5Aは第1層目の配線113Aを通してトランジスタ1
21に接続され、第2の外部電極端子117とトランジ
スタ121との間において信号の伝達が行われるように
なっている。第2の外部電極端子117は、集積回路1
2の周辺領域上の、半導体基板11の周縁に沿ったほぼ
全域において、1列で規則的に配列されている。この第
2の外部電極端子117は、第1の外部電極端子118
の端子サイズに比べて端子サイズが小さく、さらに配列
方向に50μm〜70μmの比較的小さな間隔において
配列されている。
The second external electrode terminal 117 shown in FIG.
Is formed through a connection hole formed in the interlayer insulating film 116.
It is connected to the wiring 115A of the second layer and mainly transmits an input signal to the wiring 115A of the second layer, or transmits an output signal from the wiring 115A of the second layer, or Input / output signals are transmitted to and from the wiring 115A. That is, of the many second external electrode terminals 117 provided, most of the second external electrode terminals 117 are used as input signal, output signal, or input / output signal external electrode terminals. ing. Second
Of the second layer connected to the external electrode terminal 117 of FIG.
5A is the transistor 1 through the first-layer wiring 113A.
The signal is transmitted between the second external electrode terminal 117 and the transistor 121. The second external electrode terminal 117 is connected to the integrated circuit 1
In substantially the entire region along the periphery of the semiconductor substrate 11 on the peripheral region of No. 2, they are regularly arranged in one row. The second external electrode terminal 117 is connected to the first external electrode terminal 118
The terminal size is smaller than the terminal size of (1), and they are arranged at relatively small intervals of 50 μm to 70 μm in the arrangement direction.

【0033】第2の外部電極端子117上には最終保護
膜119が形成されており、この最終保護膜119の電
極開口(符号は付けない。)から露出する第2の外部電
極端子117の表面上にはバリアメタル膜130が配設
されている。バリアメタル膜130はバリアメタル膜1
31と同一層に形成され、同一導電性材料により形成さ
れている。
On the second external electrode terminal 117, a final protective film 119 is formed, and the surface of the second external electrode terminal 117 exposed from the electrode opening (not shown) of the final protective film 119. A barrier metal film 130 is provided thereon. The barrier metal film 130 is the barrier metal film 1
31 are formed in the same layer and are formed of the same conductive material.

【0034】半導体装置の構造:上記図1及び図2に示
すように、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置
10は、上記半導体チップ1と、この半導体チップ1の
第1の外部電極端子118に対応する第1の内部電極端
子22と、半導体チップ1の第2の外部電極端子117
に対応する第2の内部電極端子21とを備えた配線基板
2と、第1の外部電極端子118と第1の内部電極端子
22との間のはんだバンプ電極15と、第2の外部電極
端子117と第2の内部電極端子21との間のスタッド
バンプ電極13とを少なくとも備えて構築されている。
さらに、半導体装置10においては、半導体チップ1と
配線基板2との間に、少なくとも半導体チップ1の集積
回路12を保護する封止体4が配設されている。この封
止体4には、例えば滴下塗布法により滴下しその後に硬
化させたポリイミド系樹脂を実用的に使用することがで
きる。
Structure of Semiconductor Device: As shown in FIGS. 1 and 2, the semiconductor device 10 according to the first embodiment of the present invention includes the semiconductor chip 1 and a first external part of the semiconductor chip 1. A first internal electrode terminal 22 corresponding to the electrode terminal 118, and a second external electrode terminal 117 of the semiconductor chip 1;
A wiring board 2 having a second internal electrode terminal 21 corresponding to the above, a solder bump electrode 15 between a first external electrode terminal 118 and a first internal electrode terminal 22, and a second external electrode terminal It is configured to include at least the stud bump electrode 13 between the first internal electrode terminal 117 and the second internal electrode terminal 21.
Further, in the semiconductor device 10, the sealing body 4 that protects at least the integrated circuit 12 of the semiconductor chip 1 is provided between the semiconductor chip 1 and the wiring board 2. For this sealing body 4, for example, a polyimide resin dropped by a drop coating method and then cured can be practically used.

【0035】配線基板2は、配線基材20と、配線基材
20の表面上(図2中、下側表面上)の第1の内部電極
端子22及び第2の内部電極端子21と、配線基材20
の裏面上(図2中、上側表面上)の外部電極端子25及
び26と、第1の内部電極端子22と外部電極端子26
との間を電気的に接続する接続孔配線24と、第2の内
部電極端子21と外部電極端子25との間を電気的に接
続する接続孔配線23とを少なくとも備えて構成されて
いる。
The wiring board 2 includes a wiring substrate 20, a first internal electrode terminal 22 and a second internal electrode terminal 21 on the surface of the wiring substrate 20 (on the lower surface in FIG. 2), Substrate 20
The external electrode terminals 25 and 26 on the back surface (on the upper surface in FIG. 2), the first internal electrode terminal 22 and the external electrode terminal 26
And a connection hole wiring 23 electrically connecting the second internal electrode terminal 21 and the external electrode terminal 25 to each other.

【0036】配線基材20には、例えばエポキシ系樹脂
基板を実用的に使用することができる。第1の内部電極
端子22、第2の内部電極端子21、外部電極端子2
5、26のそれぞれには、例えばCu膜、Ni膜等の単
層膜、Cu膜上にNiめっき膜を形成した複合膜、Cu
膜やNi膜上にAuめっき膜を形成した複合膜等を実用
的に使用することができる。接続孔配線23、24に
は、例えばCu膜を実用的に使用することができる。図
2においては詳細に示していないが、第1の内部電極端
子22、第2の内部電極端子21等の他に配線が配線基
材20の表面上、裏面上のそれぞれに配設されている。
そして、外部電極端子25上には、図示しない実装ボー
ドや電子機器に実装するためのはんだバンプ電極30が
配設されるようになっており、同様に外部電極端子26
上にははんだバンプ電極31が配設されるようになって
いる。
As the wiring base 20, for example, an epoxy resin substrate can be practically used. First internal electrode terminal 22, second internal electrode terminal 21, external electrode terminal 2
For example, a single film such as a Cu film and a Ni film, a composite film in which a Ni plating film is formed on a Cu film,
A composite film in which an Au plating film is formed on a film or a Ni film can be practically used. For the connection hole wirings 23 and 24, for example, a Cu film can be practically used. Although not shown in detail in FIG. 2, in addition to the first internal electrode terminal 22, the second internal electrode terminal 21, and the like, wirings are provided on the front surface and the rear surface of the wiring base 20, respectively. .
On the external electrode terminal 25, a solder bump electrode 30 for mounting on a mounting board or an electronic device (not shown) is provided.
A solder bump electrode 31 is provided on the upper side.

【0037】なお、本発明においては、上記半導体装置
10の配線基板2に、樹脂テープ基板(例えば、ポリイ
ミド系樹脂テープ基板)、セラミックス基板、炭化珪素
基板、ガラス基板等を使用することができる。
In the present invention, a resin tape substrate (for example, a polyimide resin tape substrate), a ceramic substrate, a silicon carbide substrate, a glass substrate, or the like can be used as the wiring substrate 2 of the semiconductor device 10.

【0038】半導体チップ1の第1の外部電極端子11
8と配線基板2の第1の内部電極端子22との間に配設
されたはんだバンプ電極15は、例えばPbを主組成元
素とするはんだバンプ電極(例えば、Pb−Sn等の2
元系はんだや3元系以上のはんだが含まれる。)、Pb
を含まないPbフリーはんだ(例えば、Sn−Ag等の
2元系はんだや3元系以上のはんだが含まれる。)等を
実用的に使用することができる。第1の外部電極端子1
18、第1の内部電極端子22のそれぞれの端子サイズ
はほぼ同一に設定されており、リフロー処理後(最終的
な構造)のはんだバンプ電極15においては、第1の外
部電極端子118、第1の内部電極端子22のそれぞれ
の端子サイズに応じて電流が流れる方向と直交する断面
積が大きくなっている。すなわち、はんだバンプ電極1
5の電流経路の抵抗値が小さいので、電流容量の大きな
電源電圧の供給、高速動作を決定するクロック信号の供
給等にはんだバンプ電極15を使用することが好まし
い。はんだバンプ電極15は、例えばスクリーン印刷
法、めっき法、ボール搭載法等により、第1の外部電極
端子118上、又は第1の内部電極端子22上、又は第
1の外部電極端子118上及び第1の内部電極端子22
上の双方に形成することができる。
First external electrode terminal 11 of semiconductor chip 1
8 and the first internal electrode terminal 22 of the wiring board 2 are solder bump electrodes 15 having, for example, Pb as a main composition element (for example, Pb-Sn or the like).
Base solders and solders of three or more bases are included. ), Pb
Pb-free solder (for example, a binary solder such as Sn-Ag or a ternary solder or more is included) or the like can be practically used. First external electrode terminal 1
18, the first internal electrode terminals 22 are set to have substantially the same terminal size. In the solder bump electrode 15 after the reflow processing (final structure), the first external electrode terminals 118 and the first The cross-sectional area orthogonal to the direction in which the current flows increases according to the size of each of the internal electrode terminals 22. That is, the solder bump electrode 1
Since the resistance value of the current path 5 is small, it is preferable to use the solder bump electrode 15 for supplying a power supply voltage having a large current capacity, supplying a clock signal for determining high-speed operation, and the like. The solder bump electrode 15 may be formed on the first external electrode terminal 118, or on the first internal electrode terminal 22, or on the first external electrode terminal 118 or the first external electrode terminal 118 by, for example, a screen printing method, a plating method, a ball mounting method, or the like. 1 internal electrode terminal 22
It can be formed on both of the above.

【0039】半導体チップ1の第2の外部電極端子11
7と配線基板2の第2の内部電極端子21との間に配設
されたスタッドバンプ電極13は、例えばAu、Cu、
Cu合金等を実用的に使用することができる。このスタ
ッドバンプ電極13は、ワイヤボンディング装置を利用
し、半導体チップ1の第2の外部電極端子117(又は
配線基板2の第2の内部電極端子21)上にワイヤの先
端をボンディングし、ワイヤの他端を引き上げるととも
に切断することにより形成することができる。従って、
スタッドバンプ電極13の上部(ワイヤの他端側)は尖
った形状において形成されている。
Second external electrode terminal 11 of semiconductor chip 1
The stud bump electrode 13 disposed between the first internal electrode terminal 7 and the second internal electrode terminal 21 of the wiring board 2 is made of, for example, Au, Cu,
A Cu alloy or the like can be used practically. The stud bump electrode 13 is bonded to the second external electrode terminal 117 of the semiconductor chip 1 (or the second internal electrode terminal 21 of the wiring board 2) by using a wire bonding apparatus, and the tip of the wire is bonded. It can be formed by raising and cutting the other end. Therefore,
The upper portion (the other end of the wire) of the stud bump electrode 13 is formed in a sharp shape.

【0040】スタッドバンプ電極13との電気的かつ機
械的な接続信頼性を向上するために、配線基板2の第2
の内部電極端子21上(図2中、下側表面上)には例え
ばSn−Ag等からなるはんだバンプ電極14が配設さ
れている。さらに、このはんだバンプ電極14は、第2
の外部電極端子117と第2の内部電極端子21との間
の間隔の調節(スタッドバンプ電極13の高さ調節)を
行うようになっている。例えば、第1の外部電極端子1
18と第1の内部電極端子22との間に配設されるはん
だバンプ電極15は100μm程度の高さで形成され、
これに対してスタッドバンプ電極13が60μm程度の
高さで形成されるので、はんだバンプ電極14は、これ
らの高さの差を緩和し、スタッドバンプ電極13により
第2の外部電極端子117と第2の内部電極端子21と
の間を確実に電気的に接続するようになっている。
In order to improve the electrical and mechanical connection reliability with the stud bump electrodes 13, the second
A solder bump electrode 14 made of, for example, Sn-Ag or the like is disposed on the internal electrode terminal 21 (on the lower surface in FIG. 2). Further, this solder bump electrode 14 is
The adjustment of the distance between the external electrode terminal 117 and the second internal electrode terminal 21 (the height adjustment of the stud bump electrode 13) is performed. For example, the first external electrode terminal 1
The solder bump electrode 15 provided between the first internal electrode terminal 22 and the first internal electrode terminal 22 is formed at a height of about 100 μm,
On the other hand, since the stud bump electrode 13 is formed with a height of about 60 μm, the solder bump electrode 14 reduces the difference between these heights, and the stud bump electrode 13 allows the second external electrode terminal 117 and the second The second internal electrode terminal 21 is securely connected electrically.

【0041】スタッドバンプ電極13は、半導体チップ
1の第2の外部電極端子117の端子サイズと同等の平
面面積の範囲内において形成されるようになっている。
このため、はんだバンプ電極15の電流が流れる方向と
直交する断面積に比べて、スタッドバンプ電極13の同
一方向の断面積は小さくなるが、スタッドバンプ電極1
3には抵抗値が小さいAu等を使用しているので、スタ
ッドバンプ電極13自体の抵抗値は小さくすることがで
きる。
The stud bump electrode 13 is formed within a plane area equivalent to the terminal size of the second external electrode terminal 117 of the semiconductor chip 1.
Therefore, the cross-sectional area of the stud bump electrode 13 in the same direction is smaller than the cross-sectional area of the solder bump electrode 15 orthogonal to the current flowing direction.
Since Au or the like having a small resistance value is used for 3, the resistance value of the stud bump electrode 13 itself can be reduced.

【0042】このように構成される本発明の第1の実施
の形態に係る半導体チップ1においては、半導体基板1
1の主面の集積回路12上の全域に第1の外部電極端子
118を配設したので、この第1の外部電極端子118
を高密度で配設することができ、かつ半導体基板11の
主面の集積回路12の周辺上に小さい端子サイズで小さ
い配列間隔において第2の外部電極端子117を配設し
たので、この第2の外部電極端子117の配列間隔をフ
ァインピッチにすることができる。
In the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention thus configured, the semiconductor substrate 1
Since the first external electrode terminals 118 are provided on the entire area of the integrated circuit 12 on the main surface of the first external electrode terminals 118, the first external electrode terminals 118 are provided.
Can be arranged at a high density, and the second external electrode terminals 117 are arranged on the periphery of the integrated circuit 12 on the main surface of the semiconductor substrate 11 with a small terminal size and a small arrangement interval. Of the external electrode terminals 117 can be set to a fine pitch.

【0043】さらに、本発明の第1の実施の形態に係る
半導体チップ1においては、第1の外部電極端子118
と第2の外部電極端子117とに分散させて入力信号、
出力信号、入出力信号、電源電圧等の結線を行うことが
できるので、特に第1の外部電極端子118を迂回する
ような引き回し配線(例えば、第3層目の配線)並びに
このような引き回し配線の層数を減少することができ
る。つまり、集積回路12の中央部分に配設された回路
の信号や電源電圧は第1の外部電極端子118を使用し
て配線基板2との間で伝達を行い、集積回路12の内部
の周辺に配設された回路(例えば、インターフェイス回
路等)の信号や電源電圧は第2の外部電極端子117を
使用して配線基板2との間で伝達を行うことができる。
従って、第1の外部電極端子118及び第2の外部電極
端子117を含む半導体チップ1の配線構造を簡易に実
現することができる。また、半導体チップ1の配線構造
を簡易に実現することができる結果、半導体チップ1の
製造上の歩留まりを向上することができる。
Further, in the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention, the first external electrode terminals 118
And the second external electrode terminal 117 to distribute the input signal,
Since connection of an output signal, an input / output signal, a power supply voltage, and the like can be performed, in particular, a lead-out wiring (for example, a third-layer wiring) bypassing the first external electrode terminal 118 and such a lead-out wiring Can be reduced. In other words, signals and power supply voltages of a circuit disposed in the central portion of the integrated circuit 12 are transmitted to and from the wiring board 2 using the first external electrode terminals 118, and are transmitted to the periphery of the inside of the integrated circuit 12. Signals and power supply voltages of a circuit (for example, an interface circuit) provided can be transmitted to and from the wiring board 2 using the second external electrode terminal 117.
Therefore, the wiring structure of the semiconductor chip 1 including the first external electrode terminals 118 and the second external electrode terminals 117 can be easily realized. In addition, as a result of simplifying the wiring structure of the semiconductor chip 1, the yield in manufacturing the semiconductor chip 1 can be improved.

【0044】さらに、本発明の第1の実施の形態に係る
半導体チップ1においては、第1の外部電極端子118
は第2の外部電極端子117と同一配線層において同一
導電性材料により形成することができる。上記図7
(A)及び図7(B)に示す半導体チップ200におい
ては、図6(A)及び図6(B)に示す外部電極端子1
03が配設された半導体チップ100と同様のものに、
外部電極端子203及びこの外部電極端子203と外部
電極端子103との間を電気的に接続する配線を配設す
るために、半導体チップ200の製造後に再配線プロセ
スが追加されていたが、本発明の第1の実施の形態に係
る半導体チップ1においては、第2の外部電極端子11
7を形成する工程において同時に第1の外部電極端子1
18を形成することができるので、上記再配線プロセス
をなくすことができる。従って、本発明の第1の実施の
形態に係る半導体チップ1においては、配線構造を簡易
に実現することができ、再配線を減少することができる
ので、配線に付加される抵抗や容量を減少することがで
き、集積回路12の回路動作の高速化を実現することが
できる。さらに、配線構造を簡易に実現することができ
るので、半導体チップ1の製造上の歩留まりを向上する
ことができる。
Furthermore, in the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention, the first external electrode terminals 118
Can be formed of the same conductive material in the same wiring layer as the second external electrode terminal 117. FIG. 7 above
In the semiconductor chip 200 shown in FIGS. 6A and 6B, the external electrode terminals 1 shown in FIGS.
03 is the same as the semiconductor chip 100 in which
In order to arrange the external electrode terminals 203 and wiring for electrically connecting the external electrode terminals 203 and the external electrode terminals 103, a rewiring process is added after the semiconductor chip 200 is manufactured. In the semiconductor chip 1 according to the first embodiment, the second external electrode terminals 11
7 at the same time as the first external electrode terminal 1
18 can be formed, so that the rewiring process can be eliminated. Therefore, in the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention, the wiring structure can be easily realized, and the rewiring can be reduced, so that the resistance and capacitance added to the wiring can be reduced. The speed of the circuit operation of the integrated circuit 12 can be increased. Further, since the wiring structure can be easily realized, the production yield of the semiconductor chip 1 can be improved.

【0045】さらに、本発明の第1の実施の形態に係る
半導体チップ1においては、第1の外部電極端子118
の端子サイズが大きく、第1の外部電極端子118を通
して供給される電源電圧の電圧降下(電源経路の抵抗
値)を減少することができるので、ノイズに強く、集積
回路12の安定な回路動作を実現することができる。
Furthermore, in the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention, the first external electrode terminals 118
Of the power supply voltage supplied through the first external electrode terminal 118 (resistance value of the power supply path) can be reduced, so that the integrated circuit 12 is resistant to noise and operates stably. Can be realized.

【0046】そしてさらに、本発明の第1の実施の形態
に係る半導体装置10においては、本発明の第1の実施
の形態に係る半導体チップ1において得られる効果と同
様の効果を得ることができる。
Further, in the semiconductor device 10 according to the first embodiment of the present invention, the same effects as those obtained in the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention can be obtained. .

【0047】(第2の実施の形態)本発明の第2の実施
の形態は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体チッ
プ1の第2の外部電極端子117の配列形態を変更した
例を説明するものである。
(Second Embodiment) In the second embodiment of the present invention, the arrangement of the second external electrode terminals 117 of the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention is changed. This is an example.

【0048】本発明の第2の実施の形態に係る半導体チ
ップ1は、図3に示すように、第2の外部電極端子11
7を、2列に配列し、一方の列に対して他方の列の配列
間隔を半ピッチずらした千鳥状に配列したものである。
第2の外部電極端子117には、本発明の第1の実施の
形態に係る半導体チップ1の第2の外部電極端子117
と同様に、スタッドバンプ電極13が配設されるように
なっている(図2参照。)。また、第1の外部電極端子
118にははんだバンプ電極15が配設されるようにな
っている。
The semiconductor chip 1 according to the second embodiment of the present invention has a second external electrode terminal 11 as shown in FIG.
7 are arranged in two rows, and are arranged in a zigzag pattern in which the arrangement interval of the other row is shifted by half a pitch with respect to one row.
The second external electrode terminal 117 of the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention is connected to the second external electrode terminal 117.
Similarly, the stud bump electrode 13 is provided (see FIG. 2). The first external electrode terminal 118 is provided with the solder bump electrode 15.

【0049】なお、図示しないが、この半導体チップ1
を搭載する配線基板2の第2の内部電極端子21の配列
形態も千鳥状になっており、この半導体チップ1及び配
線基板2により半導体装置10が構築されている(図2
参照。)。
Although not shown, this semiconductor chip 1
The arrangement of the second internal electrode terminals 21 of the wiring board 2 on which the semiconductor chip 1 and the wiring board 2 are mounted is also staggered, and the semiconductor device 10 is constructed by the semiconductor chip 1 and the wiring board 2.
reference. ).

【0050】このように構成される本発明の第2の実施
の形態に係る半導体チップ1においては、上記本発明の
第1の実施の形態に係る半導体チップ1により得られる
効果と同様の効果を得ることができる。さらに、半導体
チップ1においては、第2の外部電極端子117を千鳥
状に配列したので、隣接するスタッドバンプ電極13間
の間隔に余裕を持たせることができ、スタッドバンプ電
極13間のショート等を防止することができる。
The semiconductor chip 1 according to the second embodiment of the present invention thus configured has the same effects as those obtained by the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention. Obtainable. Further, in the semiconductor chip 1, since the second external electrode terminals 117 are arranged in a staggered manner, it is possible to provide a margin in the interval between the adjacent stud bump electrodes 13 and to prevent a short circuit between the stud bump electrodes 13 or the like. Can be prevented.

【0051】(第3の実施の形態)本発明の第3の実施
の形態は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体チッ
プ1の第1の外部電極端子118、第2の外部電極端子
117の配列形態を変更した例を説明するものである。
(Third Embodiment) A third embodiment of the present invention relates to a first external electrode terminal 118 and a second external electrode of the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention. 14 illustrates an example in which the arrangement of the terminals 117 is changed.

【0052】本発明の第3の実施の形態に係る半導体チ
ップ1は、図4に示すように、集積回路12が第1の集
積回路12A及び第2の集積回路12Bに2分割されて
左右に配設され、この分割された第1の集積回路12A
上及び第2の集積回路12B上に第1の外部電極端子1
18を配列している。この第1の外部電極端子118上
には、本発明の第1の実施の形態に係る半導体チップ1
の第1の外部電極端子118と同様にはんだバンプ電極
15が配設されるようになっている(図2参照。)。
In the semiconductor chip 1 according to the third embodiment of the present invention, as shown in FIG. 4, an integrated circuit 12 is divided into a first integrated circuit 12A and a second integrated circuit 12B, and is divided into right and left. And the divided first integrated circuit 12A
The first external electrode terminal 1 on the second integrated circuit 12B
18 are arranged. The semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention is provided on the first external electrode terminals 118.
The solder bump electrodes 15 are provided in the same manner as the first external electrode terminals 118 (see FIG. 2).

【0053】さらに、半導体チップ1において、第1の
集積回路12Aと第2の集積回路12Bとの間の領域、
すなわち集積回路12の周辺領域上には、第2の外部電
極端子117が配列されている。この第2の外部電極端
子117は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体チ
ップ1において、図4中、左右方向に2列で上下方向に
複数配列されている。なお、第2の外部電極端子117
の配列数は4列程度までが実用的である。第2の外部電
極端子117には、本発明の第1の実施の形態に係る半
導体チップ1の第2の外部電極端子117と同様にスタ
ッドバンプ電極13が配設されるようになっている(図
2参照。)。結果的に、本発明の第3の実施の形態に係
る半導体チップ1は、半導体基板11の主面の中央部に
第2の外部電極端子117が配設され、半導体基板11
の主面の周辺部に第1の外部電極端子118が配設され
るレイアウトになっている。
Further, in the semiconductor chip 1, a region between the first integrated circuit 12A and the second integrated circuit 12B,
That is, the second external electrode terminals 117 are arranged on the peripheral region of the integrated circuit 12. In the semiconductor chip 1 according to the third embodiment of the present invention, a plurality of the second external electrode terminals 117 are arranged in two rows in the left-right direction and in the vertical direction in FIG. The second external electrode terminal 117
Is practically up to about four rows. The second external electrode terminal 117 is provided with the stud bump electrode 13 similarly to the second external electrode terminal 117 of the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention (see FIG. 2). See FIG. 2.) As a result, in the semiconductor chip 1 according to the third embodiment of the present invention, the second external electrode terminal 117 is provided at the center of the main surface of the semiconductor substrate 11, and the semiconductor substrate 11
The layout is such that the first external electrode terminals 118 are arranged in the periphery of the main surface of the first embodiment.

【0054】このように構成される本発明の第3の実施
の形態に係る半導体チップ1においては、上記本発明の
第1の実施の形態に係る半導体チップ1により得られる
効果と同様の効果を得ることができる。
The semiconductor chip 1 according to the third embodiment of the present invention thus configured has the same effects as those obtained by the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention. Obtainable.

【0055】なお、本発明の第3の実施の形態に係る半
導体チップ1においては、上記本発明の第2の実施の形
態に係る半導体チップ1の第2の外部電極端子117と
同様に、第2の外部電極端子117の配列形態を千鳥状
にしてもよい。
In the semiconductor chip 1 according to the third embodiment of the present invention, like the second external electrode terminal 117 of the semiconductor chip 1 according to the second embodiment of the present invention, The arrangement of the two external electrode terminals 117 may be staggered.

【0056】さらに、本発明の第3の実施の形態に係る
半導体チップ1においては、集積回路12を4分割以上
に分割してもよい。
Further, in the semiconductor chip 1 according to the third embodiment of the present invention, the integrated circuit 12 may be divided into four or more.

【0057】(第4の実施の形態)本発明の第4の実施
の形態は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体チッ
プ1の集積回路12、特にインターフェイス回路(入力
回路、出力回路又は入出力回路等)に供給される電源の
強化を図った例を説明するものである。
(Fourth Embodiment) A fourth embodiment of the present invention relates to an integrated circuit 12 of a semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention, particularly an interface circuit (input circuit, output circuit). Or an example in which the power supplied to an input / output circuit or the like is enhanced.

【0058】本発明の第4の実施の形態に係る半導体チ
ップ1は、図5に示すように、電源電圧用外部電極端子
として使用される第1の外部電極端子118と、集積回
路12特にインターフェイス回路に電源電圧を供給する
第2の外部電極端子117との間を配線118Aにより
接続し、インターフェイス回路の電源供給の強化を図っ
たものである。配線118Aは、例えば第1の外部電極
端子118、第2の外部電極端子117のそれぞれと同
一層の第3層目の配線層により形成されている。この第
3層目の配線層は、多層配線構造の最上層の配線層とい
う意味で使用されており、第1の外部電極端子118及
び第2の外部電極端子117以外には基本的に配線は配
置されないので、このような配線118Aは比較的容易
に配設することができる。
As shown in FIG. 5, a semiconductor chip 1 according to a fourth embodiment of the present invention has a first external electrode terminal 118 used as a power supply voltage external electrode terminal and an integrated circuit 12, especially an interface. The circuit is connected to a second external electrode terminal 117 for supplying a power supply voltage to the circuit by a wiring 118A to enhance the power supply of the interface circuit. The wiring 118A is formed of, for example, a third wiring layer of the same layer as each of the first external electrode terminal 118 and the second external electrode terminal 117. The third wiring layer is used in the sense that it is the uppermost wiring layer of the multilayer wiring structure. Basically, the wiring is not provided except for the first external electrode terminal 118 and the second external electrode terminal 117. Since they are not arranged, such wirings 118A can be arranged relatively easily.

【0059】このように構成される本発明の第4の実施
の形態に係る半導体チップ1においては、上記本発明の
第1の実施の形態に係る半導体チップ1により得られる
効果と同様の効果を得ることができるとともに、インタ
ーフェイス回路の電源強化を図ることができ、集積回路
12の回路動作上の信頼性を向上することができる。
The semiconductor chip 1 according to the fourth embodiment of the present invention thus configured has the same effects as those obtained by the semiconductor chip 1 according to the first embodiment of the present invention. As a result, the power supply of the interface circuit can be strengthened, and the reliability of the integrated circuit 12 in circuit operation can be improved.

【0060】(その他の実施の形態)本発明は上記複数
の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をな
す論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解
すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実
施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
(Other Embodiments) Although the present invention has been described with reference to the plurality of embodiments, it should not be understood that the description and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples, and operation techniques will be apparent to those skilled in the art.

【0061】例えば、上記第1の実施の形態に係る半導
体チップ1は、3層配線構造により形成され、第3層目
の配線により第1の外部電極端子118及び第2の外部
電極端子117を形成した場合を説明したが、本発明
は、4層以上の多層配線構造を採用した半導体チップ1
としてもよい。なお、このような多層配線構造の場合、
第1の外部電極端子118、第2の外部電極端子117
のそれぞれは最上層の配線層において形成することがで
きる。
For example, the semiconductor chip 1 according to the first embodiment is formed by a three-layer wiring structure, and the first external electrode terminal 118 and the second external electrode terminal 117 are formed by the third layer wiring. Although the case where the semiconductor chip is formed is described, the present invention relates to a semiconductor chip 1 employing a multilayer wiring structure of four or more layers.
It may be. In the case of such a multilayer wiring structure,
First external electrode terminal 118, second external electrode terminal 117
Can be formed in the uppermost wiring layer.

【0062】また、上記第1の実施の形態に係る半導体
装置10においては、配線基板2の外部電極端子25に
はんだバンプ電極30が、外部電極端子26にはんだバ
ンプ電極31がそれぞれ配設されているが、本発明は、
配線基板2の外部電極端子25及び26を第1の内部電
極端子21及び第2の内部電極端子22と同一表面上に
配設し、外部電極端子25、26のそれぞれをボンディ
ングワイヤを通して実装ボード等に接続するようにして
もよい。
In the semiconductor device 10 according to the first embodiment, the solder bump electrodes 30 are provided on the external electrode terminals 25 of the wiring board 2 and the solder bump electrodes 31 are provided on the external electrode terminals 26, respectively. However, the present invention
The external electrode terminals 25 and 26 of the wiring board 2 are disposed on the same surface as the first internal electrode terminal 21 and the second internal electrode terminal 22, and each of the external electrode terminals 25 and 26 is mounted on a mounting board or the like through a bonding wire. May be connected.

【0063】このように、本発明はここでは記載してい
ない様々な実施の形態等を含むことは勿論である。した
がって、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特
許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められ
るものである。
As described above, the present invention naturally includes various embodiments and the like not described herein. Therefore, the technical scope of the present invention is defined only by the matters specifying the invention according to the claims that are appropriate from the above description.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明は、外部電極端子のファインピッ
チ化を図りつつ、外部電極端子の高密度化を図ることが
できる半導体チップを提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor chip capable of increasing the density of the external electrode terminals while achieving a fine pitch of the external electrode terminals.

【0065】さらに、本発明は、回路動作速度の高速化
を実現することができる半導体チップを提供することが
できる。
Further, the present invention can provide a semiconductor chip capable of realizing a high circuit operation speed.

【0066】さらに、本発明は、耐ノイズ性を向上する
ことができる半導体チップを提供することができる。
Further, the present invention can provide a semiconductor chip capable of improving noise resistance.

【0067】さらに、本発明は、配線構造を簡易に実現
することができる半導体チップを提供することができ
る。
Further, the present invention can provide a semiconductor chip capable of easily realizing a wiring structure.

【0068】そしてさらに、本発明は、外部電極端子の
ファインピッチ化を図りつつ、外部電極端子の高密度化
を図ることができる半導体チップを備えた半導体装置を
提供することができる。
Further, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device having a semiconductor chip capable of increasing the density of the external electrode terminals while achieving a fine pitch of the external electrode terminals.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体チップ
の要部の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a main part of a semiconductor chip according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の
要部拡大断面図である。
FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;

【図3】本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置に
組み込まれる半導体チップの要部平面図である。
FIG. 3 is a plan view of a main part of a semiconductor chip incorporated in a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置に
組み込まれる半導体チップの要部平面図である。
FIG. 4 is a plan view of a main part of a semiconductor chip incorporated in a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置に
組み込まれる半導体チップの要部平面図である。
FIG. 5 is a main part plan view of a semiconductor chip incorporated in a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】(A)は本発明の先行技術に係る半導体チップ
の要部平面図、(B)は(A)に示す半導体チップの外
部電極端子部分の拡大断面図である。
6A is a plan view of a main part of a semiconductor chip according to the prior art of the present invention, and FIG. 6B is an enlarged sectional view of an external electrode terminal portion of the semiconductor chip shown in FIG.

【図7】(A)は本発明の先行技術に係る半導体チップ
の要部平面図、(B)は(A)に示す半導体チップの外
部電極端子部分の拡大断面図である。
7A is a plan view of a main part of a semiconductor chip according to the prior art of the present invention, and FIG. 7B is an enlarged sectional view of an external electrode terminal portion of the semiconductor chip shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 配線基板 20 配線基材 21 第2の内部電極端子 22 第1の内部電極端子 23,24 接続孔配線 25,26 外部電極端子 4 封止体 10 半導体装置 11 半導体基板 117 第2の外部電極端子 118 第1の外部電極端子 118A 配線 12 集積回路 12A 第1の集積回路 12B 第2の集積回路 121 トランジスタ 130,131 バリアメタル膜 13 スタッドバンプ電極 14,15 はんだバンプ電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 2 Wiring board 20 Wiring base 21 Second internal electrode terminal 22 First internal electrode terminal 23, 24 Connection hole wiring 25, 26 External electrode terminal 4 Sealing body 10 Semiconductor device 11 Semiconductor substrate 117 Second External electrode terminal 118 First external electrode terminal 118A Wiring 12 Integrated circuit 12A First integrated circuit 12B Second integrated circuit 121 Transistor 130, 131 Barrier metal film 13 Stud bump electrode 14, 15 Solder bump electrode

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/92 604J Fターム(参考) 5F033 HH07 HH09 HH11 HH17 JJ01 JJ07 JJ09 JJ11 JJ17 KK01 KK09 KK11 MM08 MM13 NN06 NN07 QQ37 UU03 VV07 XX03 5F044 QQ02 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) H01L 21/92 604J F-term (Reference) 5F033 HH07 HH09 HH11 HH17 JJ01 JJ07 JJ09 JJ11 JJ17 KK01 KK09 KK11 MM08 MM13 NN06 NN07 VQ07U XX03 5F044 QQ02

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板主面の回路上に所定間隔にお
いて複数配設された第1の外部電極端子と、 前記半導体基板主面の回路周辺上に複数配設され、前記
第1の外部電極端子に比べて端子サイズが小さく、かつ
配列間隔が小さい第2の外部電極端子とを備えたことを
特徴する半導体チップ。
A plurality of first external electrode terminals provided on a circuit on a main surface of the semiconductor substrate at predetermined intervals; and a plurality of first external electrode terminals provided on a periphery of the circuit on the main surface of the semiconductor substrate. A semiconductor chip comprising: a second external electrode terminal having a smaller terminal size and a smaller arrangement interval than the terminal.
【請求項2】 前記第1の外部電極端子には、はんだバ
ンプ電極が形成され、 前記第2の外部電極端子には、スタッドバンプ電極が形
成されるようになっていることを特徴とする請求項1に
記載の半導体チップ。
2. The method according to claim 1, wherein a solder bump electrode is formed on the first external electrode terminal, and a stud bump electrode is formed on the second external electrode terminal. Item 2. A semiconductor chip according to item 1.
【請求項3】 前記第1の外部電極端子は、少なくとも
電源電圧用外部電極端子として使用されることを特徴と
する請求項2に記載の半導体チップ。
3. The semiconductor chip according to claim 2, wherein the first external electrode terminal is used at least as a power supply voltage external electrode terminal.
【請求項4】 前記半導体基板主面の中央部又は周辺部
に第1の外部電極端子が配設され、 前記半導体基板主面の周辺部又は中央部に第2の外部電
極端子が配設されていることを特徴とする請求項1に記
載の半導体チップ。
4. A first external electrode terminal is provided at a central portion or a peripheral portion of the semiconductor substrate main surface, and a second external electrode terminal is provided at a peripheral portion or a central portion of the semiconductor substrate main surface. The semiconductor chip according to claim 1, wherein:
【請求項5】 半導体基板主面の回路上に所定間隔にお
いて複数配設された第1の外部電極端子と、前記半導体
基板主面の回路周辺上に複数配設され、前記第1の外部
電極端子に比べて端子サイズが小さく、かつ配列間隔が
小さい第2の外部電極端子とを備えた半導体チップと、 前記第1の外部電極端子に対応する第1の内部電極端子
と、前記第2の外部電極端子に対応する第2の内部電極
端子とを備えた配線基板と、 前記第1の外部電極端子と第1の内部電極端子との間の
はんだバンプ電極と、 前記第2の外部電極端子と第2の内部電極端子との間の
スタッドバンプ電極とを備えたことを特徴とする半導体
装置。
5. A plurality of first external electrode terminals provided at predetermined intervals on a circuit on a semiconductor substrate main surface, and a plurality of first external electrode terminals provided on a periphery of the circuit on the semiconductor substrate main surface. A semiconductor chip including a second external electrode terminal having a terminal size smaller than the terminal and having a small arrangement interval; a first internal electrode terminal corresponding to the first external electrode terminal; A wiring board including a second internal electrode terminal corresponding to the external electrode terminal; a solder bump electrode between the first external electrode terminal and the first internal electrode terminal; and a second external electrode terminal And a stud bump electrode between the first and second internal electrode terminals.
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