JP2002269526A - Ic label - Google Patents

Ic label

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JP2002269526A
JP2002269526A JP2001388823A JP2001388823A JP2002269526A JP 2002269526 A JP2002269526 A JP 2002269526A JP 2001388823 A JP2001388823 A JP 2001388823A JP 2001388823 A JP2001388823 A JP 2001388823A JP 2002269526 A JP2002269526 A JP 2002269526A
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thermoplastic resin
circuit
label
resin film
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友嗣 高橋
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Yupo Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an IC label recordable of information on the surface, which is free of the risk with regard to security in that an internal IC circuit of wiring circuit is seen through, excellent in strength and water resistance, usable both outdoors and indoors and further both in the atmosphere and in water, usable as a sticker for frozen food vessel, industrial product, various chemical vessel or the like and usable for physical distribution management, manufacturing process management, or the like. SOLUTION: This IC label comprises a thermoplastic resin film layer A laminated and stuck to at least one side of an IC circuit layer B or an IC circuit protective layer C containing the IC circuit layer B via an adhesive layer D.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、データの送受信を
行う配線回路とIC回路を積層構成の内部に持ち、デー
タの書き込みや読み出しが行えるICを内包したICラ
ベルに関するものである。本発明により得られるICラ
ベルは、表面への情報記録が可能であり、内部のIC回
路や配線回路が透けて見えてしまうというセキュリティ
ー上の心配がなく、強度と耐水性に優れ、屋内外を問わ
ず、大気中、水中でも用いることが出来、冷凍食品用容
器、工業製品、各種薬品容器等のステッカー、物流管理
用途、製造工程管理用途などに使用可能である。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an IC label including an IC capable of writing and reading data, in which a wiring circuit for transmitting and receiving data and an IC circuit are provided in a laminated structure. The IC label obtained by the present invention can record information on the surface, does not have security concerns that the internal IC circuit and wiring circuit can be seen through, has excellent strength and water resistance, and can be used indoors and outdoors. Regardless, it can be used in the air or water, and can be used for containers for frozen foods, industrial products, stickers for various chemical containers, etc., distribution management use, manufacturing process management use, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ICモジュールを内包し、外部の
リーダ、ライタを介してデータを非接触で送受信するカ
ードが普及し始めている。同様な用途でICラベルの提
案もなされている。例えば、特開平11−277961
号公報や特開平11−277963号公報、特開平11
−134460号公報や特開平11−231782号公
報にはICラベルの構造と使用例が開示されている。
2. Description of the Related Art In recent years, cards that include an IC module and that transmit and receive data without contact via external readers and writers have begun to spread. IC labels have been proposed for similar uses. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-277961
And Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-277963,
JP-A-134460 and JP-A-11-231782 disclose the structure and use example of an IC label.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述の特許
文献に開示されているようなICラベルの用途を更に拡
大できるような表面への情報記録適性、セキュリティー
性、強度、耐水性を実現するICラベルの提供を目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention realizes information recording aptitude, security, strength, and water resistance so that the use of an IC label as disclosed in the above-mentioned patent document can be further expanded. The purpose is to provide an IC label.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、特定の積層構
成を規定し、用いる表面の熱可塑性樹脂フィルムの特性
を規定し、その内部もしくは表面にIC回路と配線回路
を有するIC回路層を持ち、強度、耐水性に優れるにも
かかわらず、外観は従来の単なる紙ラベルに見え、違和
感を与えないものである。すなわち、本発明は、IC回
路層(B)またはIC回路層(B)を含むIC回路保護
層(C)の少なくとも片面に接着剤層(D)を介して熱
可塑性樹脂フィルム層(A)を設け、片面に粘着剤層
(G)を積層貼合して形成されることを特徴とするIC
ラベル、を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention defines a specific lamination structure, defines the characteristics of a thermoplastic resin film on a surface to be used, and forms an IC circuit layer having an IC circuit and a wiring circuit inside or on the surface thereof. Despite having excellent holding strength, strength and water resistance, the appearance looks like a conventional mere paper label and does not give a sense of incongruity. That is, in the present invention, the thermoplastic resin film layer (A) is provided on at least one surface of the IC circuit layer (B) or the IC circuit protective layer (C) including the IC circuit layer (B) via the adhesive layer (D). IC formed by laminating and laminating an adhesive layer (G) on one side
Label, provide.

【0005】本発明のICラベルの好ましい実施態様で
は、熱可塑性樹脂フィルム層(A)とIC回路層(B)
の間に光隠蔽層(E)を設けるのが好ましい。更に光隠
蔽層(E)とIC回路層(B)の間に熱可塑性樹脂フィ
ルム層(F)、接着剤層(D)を設けるのが好ましい。
また、IC回路層(B)がICラベルより小さく、IC
回路層(B)の厚みがIC回路保護層(C)の厚さ以下
であることを特徴とする。熱可塑性樹脂フィルム層
(A)とIC回路保護層(C)との間に接着剤層(D)
を設けることが好ましい。熱可塑性樹脂フィルム層
(A)とIC回路保護層(C)の間に光隠蔽層(E)を
設けることが好ましい。また、熱可塑性樹脂フィルム層
(A)と接着剤層(D)の間に、接着剤層(D)と熱可
塑性樹脂フィルム層(F)を設けることが好ましい。
In a preferred embodiment of the IC label of the present invention, the thermoplastic resin film layer (A) and the IC circuit layer (B)
It is preferable to provide a light shielding layer (E) between them. Further, it is preferable to provide a thermoplastic resin film layer (F) and an adhesive layer (D) between the light shielding layer (E) and the IC circuit layer (B).
Also, the IC circuit layer (B) is smaller than the IC label,
The thickness of the circuit layer (B) is equal to or less than the thickness of the IC circuit protection layer (C). Adhesive layer (D) between thermoplastic resin film layer (A) and IC circuit protection layer (C)
Is preferably provided. It is preferable to provide a light shielding layer (E) between the thermoplastic resin film layer (A) and the IC circuit protection layer (C). Further, it is preferable to provide an adhesive layer (D) and a thermoplastic resin film layer (F) between the thermoplastic resin film layer (A) and the adhesive layer (D).

【0006】これらICラベルは、白色度が85%以上
であるのが好ましく、また全光線透過率が15%以下で
あるのが好ましい。熱可塑性樹脂フィルム層(A)が、
不透明度が80%以上であり、かつ白色度が90%以上
であるのが好ましい。熱可塑性樹脂フィルム層(A)
が、次式で算出された空孔率が10〜60%であるのが
好ましい。 空孔率(%)=[(ρ0 −ρ)/ρ0 ]×100 (式中、ρ0 はフィルムの真密度であり、ρはフィルム
の密度である。) 熱可塑性樹脂フィルム層(A)、及び熱可塑性樹脂フィ
ルム層(F)に用いられる熱可塑性樹脂が、ポリオレフ
ィン系樹脂及び/又はポリエステル系樹脂であるのが好
ましく、ポリオレフィン系樹脂が、プロピレン系樹脂で
あるのが好ましい。また、熱可塑性樹脂フィルム層
(A)の表面に記録層を設けることが好ましい。
[0006] These IC labels preferably have a whiteness of 85% or more, and a total light transmittance of 15% or less. The thermoplastic resin film layer (A)
It is preferable that the opacity is 80% or more and the whiteness is 90% or more. Thermoplastic resin film layer (A)
However, it is preferable that the porosity calculated by the following equation is 10 to 60%. Porosity (%) = [(ρ 0 −ρ) / ρ 0 ] × 100 (where, ρ 0 is the true density of the film and ρ is the density of the film.) Thermoplastic resin film layer (A ) And the thermoplastic resin used for the thermoplastic resin film layer (F) are preferably a polyolefin-based resin and / or a polyester-based resin, and the polyolefin-based resin is preferably a propylene-based resin. Further, it is preferable to provide a recording layer on the surface of the thermoplastic resin film layer (A).

【0007】以下に、本発明を詳細に説明する。本発明
における各層は以下のとおりである。 (1)熱可塑性樹脂フィルム層(A) 本発明の熱可塑性樹脂フィルム層(A)は熱可塑性樹脂
と無機微細粉末及び/又は有機フィラーとで構成され
る。使用される熱可塑性樹脂としては、高密度ポリエチ
レン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン等のエ
チレン系樹脂、あるいはプロピレン系樹脂、ポリメチル
−1−ペンテン、エチレン−環状オレフィン共重合体等
のポリオレフィン系樹脂、ナイロン−6、ナイロン−
6,6、ナイロン−6,10、ナイロン−6,12等の
ポリアミド系樹脂、ポリエチレンテレフタレートやその
共重合体、ポリエチレンナフタレート、脂肪族ポリエス
テル等の熱可塑性ポリエステル系樹脂、ポリカーボネー
ト、アタクティックポリスチレン、シンジオタクティッ
クポリスチレン、ポリフェニレンスルフィド等の熱可塑
性樹脂が挙げられる。これらは2種以上混合して用いる
こともできる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. Each layer in the present invention is as follows. (1) Thermoplastic resin film layer (A) The thermoplastic resin film layer (A) of the present invention comprises a thermoplastic resin and inorganic fine powder and / or organic filler. As the thermoplastic resin used, high-density polyethylene, medium-density polyethylene, ethylene-based resin such as low-density polyethylene, or propylene-based resin, polymethyl-1-pentene, polyolefin-based resin such as ethylene-cyclic olefin copolymer, Nylon-6, nylon-
6,6, Nylon-6,10, Nylon-6,12 and other polyamide resins, polyethylene terephthalate and copolymers thereof, polyethylene naphthalate, thermoplastic polyester resins such as aliphatic polyester, polycarbonate, atactic polystyrene, Thermoplastic resins such as syndiotactic polystyrene and polyphenylene sulfide; These may be used in combination of two or more.

【0008】これらの中でも、ポリオレフィン系樹脂を
用いることが好ましい。更にポリオレフィン系樹脂の中
でも、コスト面、耐水性、耐薬品性の面からプロピレン
系樹脂、高密度ポリエチレンがより好ましい。かかるプ
ロピレン系樹脂としては、プロピレン単独重合体であり
アイソタクティックないしはシンジオタクティック及び
種々の程度の立体規則性を示すポリプロピレン、プロピ
レンを主成分とし、これとエチレン、ブテン−1、ヘキ
セン−1、ヘプテン−1,4−メチルペンテン−1等の
α−オレフィンとの共重合体が使用される。この共重合
体は、2元系でも3元系でも4元系でもよく、またラン
ダム共重合体でもブロック共重合体であってもよい。
[0008] Among them, it is preferable to use a polyolefin resin. Further, among the polyolefin-based resins, a propylene-based resin and a high-density polyethylene are more preferable in terms of cost, water resistance, and chemical resistance. As such a propylene-based resin, a propylene homopolymer, isotactic or syndiotactic and polypropylene exhibiting various degrees of stereoregularity, propylene as a main component, and ethylene, butene-1, hexene-1, A copolymer with an α-olefin such as heptene-1,4-methylpentene-1 is used. This copolymer may be a binary, ternary, or quaternary system, and may be a random copolymer or a block copolymer.

【0009】無機微細粉末としては、粒径が通常0.0
1〜15μm、好ましくは0.01〜8μm、更に好ま
しくは0.03〜4μmのものが使用できる。具体的に
は、炭酸カルシウム、焼成クレイ、シリカ、けいそう
土、タルク、酸化チタン、硫酸バリウム、アルミナなど
の粉末を使用することができる。有機フィラーとして
は、主成分である熱可塑性樹脂とは異なる種類の樹脂を
選択することが好ましい。例えば熱可塑性樹脂フィルム
がポリオレフィン系樹脂フィルムである場合には、有機
フィラーとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ナイロン
−6、ナイロン−6,6、環状オレフィン環状オレフィ
ンの単独重合体や環状オレフィンとエチレンとの共重合
体等であってその融点が120℃〜300℃、ないしは
ガラス転移温度が120℃〜280℃を有するものを挙
げることができる。
[0009] As the inorganic fine powder, the particle size is usually 0.0
1 to 15 μm, preferably 0.01 to 8 μm, more preferably 0.03 to 4 μm can be used. Specifically, powders such as calcium carbonate, calcined clay, silica, diatomaceous earth, talc, titanium oxide, barium sulfate, and alumina can be used. As the organic filler, it is preferable to select a resin different from the thermoplastic resin as the main component. For example, when the thermoplastic resin film is a polyolefin resin film, as the organic filler, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, nylon-6, nylon-6,6, a homopolymer or cyclic olefin cyclic olefin Examples thereof include copolymers of olefin and ethylene having a melting point of 120 to 300 ° C or a glass transition temperature of 120 to 280 ° C.

【0010】更に必要により、安定剤、光安定剤、分散
剤、滑剤等を配合してもよい。安定剤としては、立体障
害フェノール系やリン系、アミン系等の安定剤を0.0
01〜1重量%、光安定剤としては、立体障害アミンや
ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系などの光安定
剤を0.001〜1重量%、無機微細粉末の分散剤例え
ば、シランカップリング剤、オレイン酸やステアリン酸
等の高級脂肪酸、金属石鹸、ポリアクリル酸、ポリメタ
クリル酸ないしはそれらの塩等を0.01〜4重量%配
合してもよい。
If necessary, stabilizers, light stabilizers, dispersants, lubricants and the like may be added. As the stabilizer, a sterically hindered phenol-based, phosphorus-based, amine-based stabilizer, etc.
0.01 to 1% by weight, as a light stabilizer, 0.001 to 1% by weight of a sterically hindered amine, a benzotriazole-based or benzophenone-based light stabilizer, a dispersant of an inorganic fine powder, for example, a silane coupling agent, A higher fatty acid such as an acid or stearic acid, metal soap, polyacrylic acid, polymethacrylic acid or a salt thereof may be blended in an amount of 0.01 to 4% by weight.

【0011】本発明の熱可塑性樹脂フィルム層(A)を
形成する熱可塑性樹脂フィルムは、単層であっても、ベ
ース層と表面層の2層構造であっても、ベース層の表裏
面に表面層が存在する3層構造であっても、ベース層と
表面層間に他の樹脂フィルム層が存在する多層構造であ
っても良く、少なくとも1軸方向に延伸されていても良
い。また、この多層構造が延伸されている場合その延伸
軸数は、2層構造では1軸/1軸、1軸/2軸、2軸/
1軸、3層構造では1軸/1軸/2軸、1軸/2軸/1
軸、2軸/1軸/1軸、1軸/2軸/2軸、2軸/2軸
/1軸、2軸/2軸/2軸であっても良く、それ以上の
層構造の場合、延伸軸数は任意に組み合わされる。
The thermoplastic resin film forming the thermoplastic resin film layer (A) of the present invention may have a single-layer structure or a two-layer structure consisting of a base layer and a surface layer. It may be a three-layer structure having a surface layer, a multi-layer structure having another resin film layer between the base layer and the surface layer, or may be stretched in at least one axial direction. When the multilayer structure is stretched, the number of stretching axes is 1 axis / 1 axis, 1 axis / 2 axes, 2 axes /
1-axis / 1-axis / 2-axis, 1-axis / 2-axis / 1
Axis, 2 axes / 1 axis / 1 axis, 1 axis / 2 axes / 2 axes, 2 axes / 2 axes / 1 axis, 2 axes / 2 axes / 2 axes, and in the case of a layer structure of more layers The number of stretching axes is arbitrarily combined.

【0012】熱可塑性樹脂フィルム層(A)が単層のポ
リオレフィン系樹脂フィルムであり、無機微細粉末及び
/又は有機フィラーを含有する場合には、通常ポリオレ
フィン系樹脂40〜99.5重量%、無機微細粉末及び
/又は有機フィラー60〜0.5重量%からなり、好ま
しくはポリオレフィン系樹脂50〜97重量%、無機微
細粉末及び/又は有機フィラー無機50〜3重量%から
なる。熱可塑性樹脂フィルムが多層構造であってベース
層及び表面層が無機微細粉末及び/又は有機フィラーを
含有する場合は、通常基材層がポリオレフィン系樹脂4
0〜99.5重量%、無機微細粉末及び/又は有機フィ
ラー60〜0.5重量%からなり、表面層がポリオレフ
ィン系樹脂25〜100重量%、無機微細粉末及び/又
は有機フィラー75〜0重量%からなり、好ましくはベ
ース層がポリオレフィン系樹脂50〜97重量%、無機
微細粉末及び/又は有機フィラー50〜3重量%からな
り、表面層がポリオレフィン系樹脂30〜97重量%、
無機微細粉末70〜3重量%からなる。
When the thermoplastic resin film layer (A) is a single-layer polyolefin resin film and contains an inorganic fine powder and / or an organic filler, the polyolefin resin usually contains 40 to 99.5% by weight of inorganic resin. It comprises 60 to 0.5% by weight of a fine powder and / or an organic filler, preferably 50 to 97% by weight of a polyolefin-based resin, and 50 to 3% by weight of an inorganic fine powder and / or an inorganic filler. When the thermoplastic resin film has a multilayer structure and the base layer and the surface layer contain an inorganic fine powder and / or an organic filler, the base layer is usually made of a polyolefin resin 4.
0 to 99.5% by weight, inorganic fine powder and / or organic filler 60 to 0.5% by weight, and the surface layer is a polyolefin resin 25 to 100% by weight, inorganic fine powder and / or organic filler 75 to 0% by weight. %, Preferably the base layer is 50 to 97% by weight of the polyolefin resin, the inorganic fine powder and / or the organic filler is 50 to 3% by weight, and the surface layer is 30 to 97% by weight of the polyolefin resin.
It consists of 70 to 3% by weight of inorganic fine powder.

【0013】単層構造、又は多層構造のベース層に含有
される無機微細粉末及び/又は有機フィラーが60重量
%を越えては、縦延伸後に行う横延伸時に延伸樹脂フィ
ルムが破断し易い。表面層に含有される無機微細粉末及
び/又は有機フィラーが75重量%を越えては、横延伸
後の表面層の表面強度が低く、使用時の機械的衝撃等に
より表面層が破壊しやすくなり好ましくない。
If the content of the inorganic fine powder and / or the organic filler contained in the base layer having a single-layer structure or a multi-layer structure exceeds 60% by weight, the stretched resin film is liable to break at the time of transverse stretching after longitudinal stretching. If the amount of the inorganic fine powder and / or the organic filler contained in the surface layer exceeds 75% by weight, the surface strength of the surface layer after the transverse stretching is low, and the surface layer is easily broken by a mechanical impact during use. Not preferred.

【0014】[熱可塑性樹脂フィルムの成形]熱可塑性
樹脂フィルム層(A)、(F)を形成する熱可塑性樹脂
フィルムの成形方法は特に限定されず、公知の種々の方
法が使用できるが、具体例としてはスクリュー型押出機
に接続された単層または多層のTダイやIダイを使用し
て溶融樹脂をシート状に押し出すキャスト成形、カレン
ダー成形、圧延成形、インフレーション成形、熱可塑性
樹脂と有機溶媒やオイルとの混合物のキャスト成形また
はカレンダー成形後の溶剤やオイルの除去、熱可塑性樹
脂の溶液からの成形と溶媒除去などが挙げられる。延伸
する場合には、公知の種々の方法が使用できるが、具体
例としてはロール群の周速差を利用した縦延伸、テンタ
ーオーブンを使用した横延伸などが挙げられる。
[Formation of thermoplastic resin film] The method of forming the thermoplastic resin film for forming the thermoplastic resin film layers (A) and (F) is not particularly limited, and various known methods can be used. Examples include cast molding, calender molding, rolling molding, inflation molding, extrusion of molten resin using a single-layer or multilayer T-die or I-die connected to a screw type extruder, thermoplastic resin and organic solvent. And removal of solvent and oil after cast molding or calender molding of a mixture with oil and oil, molding from a thermoplastic resin solution and solvent removal, and the like. In the case of stretching, various known methods can be used, and specific examples include longitudinal stretching using a difference in peripheral speed between roll groups, and transverse stretching using a tenter oven.

【0015】[延伸]延伸には、公知の種々の方法が使
用できるが、具体例としては、非結晶性樹脂の場合は使
用する熱可塑性樹脂のガラス転移点温度以上、結晶性樹
脂の場合には非結晶部分のガラス転移点温度以上から結
晶部分の融点以下のそれぞれの熱可塑性樹脂に好適な公
知の温度範囲で行うことができ、ロール群の周速差を利
用した縦延伸、テンターオーブンを使用した横延伸、圧
延、テンターオーブンとリニアモーターの組み合わせに
よる同時二軸延伸などが挙げられる。
[Stretching] Various known methods can be used for stretching. As a specific example, in the case of an amorphous resin, the temperature is equal to or higher than the glass transition temperature of the thermoplastic resin used, and in the case of a crystalline resin, Can be carried out in a known temperature range suitable for each thermoplastic resin from the glass transition point temperature of the non-crystalline portion to the melting point of the crystalline portion or less, the longitudinal stretching using a peripheral speed difference of the roll group, a tenter oven. Examples include transverse stretching, rolling, and simultaneous biaxial stretching using a combination of a tenter oven and a linear motor.

【0016】延伸倍率は、特に限定されず、目的と使用
する熱可塑性樹脂の特性により適宜選択される。例を挙
げると、熱可塑性樹脂としてプロピレン単独重合体ない
しはその共重合体を使用する時には一方向に延伸する場
合は約1.2〜12倍、好ましくは2〜10倍であり、
二軸延伸の場合には面積倍率で1.5〜60倍、好まし
くは10〜50倍である。その他の熱可塑性樹脂を使用
する時には一方向に延伸する場合は1.2〜10倍、好
ましくは2〜5倍であり、二軸延伸の場合には面積倍率
で1.5〜20倍、好ましくは4〜12倍である。更
に、必要に応じて高温での熱処理が施される。
The stretching ratio is not particularly limited, and is appropriately selected depending on the purpose and the characteristics of the thermoplastic resin used. For example, when a propylene homopolymer or a copolymer thereof is used as the thermoplastic resin, when it is stretched in one direction, it is about 1.2 to 12 times, preferably 2 to 10 times,
In the case of biaxial stretching, the area ratio is 1.5 to 60 times, preferably 10 to 50 times. When using other thermoplastic resins, when stretched in one direction, it is 1.2 to 10 times, preferably 2 to 5 times, and in the case of biaxial stretching, the area ratio is 1.5 to 20 times, preferably Is 4 to 12 times. Further, a heat treatment at a high temperature is performed as necessary.

【0017】延伸温度は使用する熱可塑性樹脂の融点よ
り2〜150℃低い温度であり、樹脂がプロピレン単独
重合体(融点155〜167℃)のときは152〜16
4℃、高密度ポリエチレン(融点121〜134℃)の
ときは110〜120℃、ポリエチレンテレフタレート
(融点246〜252℃)のときは104〜115℃で
ある。また、延伸速度は20〜350m/分である。熱
可塑性樹脂フィルムが、無機微細粉末ないしは有機フィ
ラーを含有する場合には、フィルム表面に微細な亀裂
が、フィルム内部には微細な空孔が生じる。延伸後の熱
可塑性樹脂フィルムの肉厚は、20〜350μm、好ま
しくは35〜300μmの範囲である。
The stretching temperature is a temperature which is lower by 2 to 150 ° C. than the melting point of the thermoplastic resin to be used, and when the resin is a propylene homopolymer (melting point: 155 to 167 ° C.)
The temperature is 110-120 ° C for 4 ° C, high-density polyethylene (melting point 121-134 ° C), and 104-115 ° C for polyethylene terephthalate (melting point 246-252 ° C). The stretching speed is from 20 to 350 m / min. When the thermoplastic resin film contains an inorganic fine powder or an organic filler, fine cracks are generated on the film surface, and fine pores are generated inside the film. The thickness of the stretched thermoplastic resin film is in the range of 20 to 350 μm, preferably 35 to 300 μm.

【0018】[延伸後のフィルムの物性]本発明に用い
られる、熱可塑性樹脂フィルム層(A)を形成する熱可
塑性樹脂フィルムの延伸後の物性は、JIS−P−81
38に基づく不透明度が80〜100%、より好ましく
は85〜100%であり、かつ、JIS−L−1015
に基づく白色度が90〜100%、より好ましくは95
〜100%であることを特徴とする。不透明度がこの範
囲を逸脱すると、内部のIC回路層(B)が透けて見え
てしまったり、光隠蔽層(E)の着色が透けて見えてし
まい好ましくない。また、白色度がこの範囲を逸脱する
と、ICラベルの表面に記録される文字や画像情報の識
別を不鮮明にし、また、外観上も好ましくない。
[Physical Properties of Stretched Film] The physical properties of the thermoplastic resin film forming the thermoplastic resin film layer (A) used in the present invention after the stretching are determined according to JIS-P-81.
Opacity based on No. 38 is 80 to 100%, more preferably 85 to 100%, and JIS-L-1015
90-100%, more preferably 95%
~ 100%. If the opacity deviates from this range, the internal IC circuit layer (B) can be seen through, and the color of the light shielding layer (E) can be seen through, which is not preferable. Further, if the whiteness deviates from this range, the identification of characters and image information recorded on the surface of the IC label becomes unclear, and the appearance is also undesirable.

【0019】熱可塑性樹脂フィルム層(A)は、次式で
算出された空孔率が10〜60%で、好ましくは、10
〜35%、より好ましくは15〜25%である。10%
未満では軽量化がはかりにくく、60%超ではICラベ
ルとしての強度に難点が生じやすい。 空孔率(%) = [(ρ0 −ρ)/ρ0 ]×100 式中のρ0 は延伸フィルムの真密度を表わし、ρは延伸
フィルムの密度(JIS−P−8118)を表すが、延
伸前の材料が多量の空気を含有するものでない限り、真
密度は延伸前の密度にほぼ等しい。
The thermoplastic resin film layer (A) has a porosity calculated by the following equation of 10 to 60%, preferably 10 to 60%.
~ 35%, more preferably 15 ~ 25%. 10%
If it is less than 60%, it is difficult to reduce the weight, and if it is more than 60%, it is easy to cause difficulty in the strength as an IC label. Porosity (%) = [(ρ 0 −ρ) / ρ 0 ] × 100 In the formula, ρ 0 represents the true density of the stretched film, and ρ represents the density of the stretched film (JIS-P-8118). Unless the material before stretching contains a large amount of air, the true density is approximately equal to the density before stretching.

【0020】[表面改質層の形成]熱可塑性樹脂フィル
ム層(A)を形成する熱可塑性樹脂フィルムの帯電防止
および各種印刷適性向上のために、少なくとも表面側に
表面処理を行って表面改質層を形成することが好まし
い。表面処理の方法としては、表面酸化処理と表面処理
剤の組み合わせである。表面酸化処理としては、フィル
ムに一般的に使用されるコロナ放電処理、フレーム処
理、プラズマ処理、グロー放電処理、オゾン処理などを
単独または組み合わせて使用する。これらのうちで好ま
しくはコロナ処理、フレーム処理であり、処理量はコロ
ナ処理の場合、600〜12,000J/m2 (10〜
200W・分/m2 )、好ましくは1,200〜9, 0
00J/m2 (20〜180W・分/m2 )、フレーム
処理の場合、8,000〜200, 000J/m2 、好
ましくは20, 000〜100, 000J/m2 が用い
られる。
[Formation of Surface Modified Layer] In order to prevent the static charge of the thermoplastic resin film forming the thermoplastic resin film layer (A) and to improve various printing suitability, at least the surface side is subjected to a surface treatment to modify the surface. Preferably, a layer is formed. The surface treatment method is a combination of a surface oxidation treatment and a surface treatment agent. As the surface oxidation treatment, a corona discharge treatment, a flame treatment, a plasma treatment, a glow discharge treatment, an ozone treatment and the like generally used for a film are used alone or in combination. Among these, corona treatment and frame treatment are preferable, and the amount of treatment is 600 to 12,000 J / m 2 (10 to 10 in case of corona treatment).
200 W · min / m 2 ), preferably 1,200 to 9.0
00J / m 2 (20~180W · min / m 2), when the frame processing, 8,000~200, 000J / m 2, preferably 20, 000~100, 000J / m 2 is used.

【0021】[表面処理剤]前段の表面処理剤は、主と
して下記のプライマー、帯電防止性ポリマーより選ばれ
たものであり、単独あるいは2成分以上の混合物であ
る。ドライラミネート時の密着性向上と帯電防止の観点
から、表面処理剤として好ましいものはプライマーない
しはプライマーと帯電防止性ポリマーとの組み合わせで
ある。
[Surface Treatment Agent] The surface treatment agent in the former stage is mainly selected from the following primers and antistatic polymers, and may be used alone or as a mixture of two or more components. From the viewpoints of improving adhesion during dry lamination and preventing static charge, a preferable surface treatment agent is a primer or a combination of a primer and an antistatic polymer.

【0022】 プライマー プライマーとしては、例えば、ポリエチレンイミン、炭
素数1〜12のアルキル変性ポリエチレンイミン、ポリ
(エチレンイミン−尿素)及びポリアミンポリアミドの
エチレンイミン付加物及びポリアミンポリアミドのエピ
クロルヒドリン付加物等のポリエチレンイミン系重合
体、アクリル酸アミド−アクリル酸エステル共重合体、
アクリル酸アミド−アクリル酸エステル−メタクリル酸
エステル共重合体、ポリアクリルアミドの誘導体、オキ
サゾリン基含有アクリル酸エステル系重合体及びポリア
クリル酸エステル等のアクリル酸エステル系重合体、ポ
リビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリビ
ニルアルコール、樹脂等の水溶性樹脂、またポリ酢酸ビ
ニル、ポリウレタン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、
ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリプロピレン及びアクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体等の水分散性樹脂等が
用いられる。
Primers Examples of the primer include polyethyleneimine, such as polyethyleneimine, an alkyl-modified polyethyleneimine having 1 to 12 carbon atoms, poly (ethyleneimine-urea), an ethyleneimine adduct of polyamine polyamide, and an epichlorohydrin adduct of polyamine polyamide. -Based polymer, acrylamide-acrylate copolymer,
Acrylic amide-acrylic ester-methacrylic ester copolymers, polyacrylamide derivatives, acrylate polymers such as oxazoline group-containing acrylate polymers and polyacrylates, polyvinylpyrrolidone, polyethylene glycol, polyvinyl Alcohol, water-soluble resin such as resin, polyvinyl acetate, polyurethane, ethylene-vinyl acetate copolymer,
Water-dispersible resins such as polyvinylidene chloride, chlorinated polypropylene and acrylonitrile-butadiene copolymer are used.

【0023】これらの内で好ましくは、ポリエチレンイ
ミン系重合体、ウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル
等であり、より好ましくはポリエチレンイミン系重合体
であり、更に好ましくは重合度が20〜3, 000のポ
リエチレンイミン、ポリアミンポリアミドのエチレンイ
ミン付加体、ないしはこれらが炭素数1〜24のハロゲ
ン化アルキル、ハロゲン化アルケニル、ハロゲン化シク
ロアルキル、ハロゲン化ベンジル基によって変性された
変性ポリエチレンイミンである。
Of these, preferred are polyethyleneimine-based polymers, urethane resins, polyacrylates, etc., more preferred are polyethyleneimine-based polymers, and further preferred are those having a degree of polymerization of 20 to 3,000. Polyethyleneimine, an ethyleneimine adduct of polyamine polyamide, or a modified polyethyleneimine modified with an alkyl halide, alkenyl halide, cycloalkyl halide or benzyl halide group having 1 to 24 carbon atoms.

【0024】 帯電防止ポリマー 帯電防止ポリマーとしてはカチオン系、アニオン系、両
性系等の高分子型ものが挙げられ、カチオン系として
は、四級アンモニウム塩構造やホスホニウム塩構造を有
するポリマー、窒素含有アクリル系ポリマー、四級アン
モニウム塩構造の窒素を有するアクリル系ないしはメタ
クリル系ポリマー、またアニオン系としては、スチレン
−無水マレイン酸共重合体ないしはそのアルカリ金属
塩、エチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ金属塩な
いしはエチレン−メタクリル酸共重合体のアルカリ金属
塩、また両性系としては、ベタイン構造の窒素を有する
アクリル系ないしはメタクリル系ポリマーなどが挙げら
れ、特に四級アンモニウム塩構造の窒素を有するアクリ
ル系ないしはメタクリル系ポリマーが好ましい。
Antistatic Polymer Examples of the antistatic polymer include cationic, anionic and amphoteric polymer types, and examples of the cationic type include polymers having a quaternary ammonium salt structure or a phosphonium salt structure, and nitrogen-containing acryl. Acrylic or methacrylic polymers having nitrogen having a quaternary ammonium salt structure, and styrene-maleic anhydride copolymers or alkali metal salts thereof, and alkali metal salts of ethylene-acrylic acid copolymers as anionic polymers Or an alkali metal salt of an ethylene-methacrylic acid copolymer, and examples of the amphoteric system include an acrylic or methacrylic polymer having a betaine structure of nitrogen, particularly an acrylic or methacrylic having a quaternary ammonium salt structure of nitrogen. Based polymer is preferred .

【0025】帯電防止ポリマーの分子量は、重合温度、
重合開始剤の種類及び量、溶剤使用量、連鎖移動剤等の
重合条件により任意のレベルとすることができる。一般
には得られる重合体の分子量は1, 000〜1, 00
0, 000であるが、中でも1, 000〜500, 00
0の範囲が好ましい。本発明の前段の表面処理剤は、必
要に応じて以下の任意成分を含有するものであってもよ
い。
The molecular weight of the antistatic polymer depends on the polymerization temperature,
The level can be set to an arbitrary level depending on the polymerization conditions such as the type and amount of the polymerization initiator, the amount of the solvent used, and the chain transfer agent. Generally, the molecular weight of the resulting polymer is between 1,000 and 1,000.
000, especially 1,000 to 500,000
A range of 0 is preferred. The surface treatment agent at the former stage of the present invention may contain the following optional components as necessary.

【0026】 任意成分1:架橋剤 架橋剤を添加することにより、さらに塗膜強度や耐水性
を向上させることができる。架橋剤としては、グリシジ
ルエーテル、グリシジルエステル等のエポキシ系化合
物、エポキシ樹脂、イソシアネート系、オキサゾリン
系、ホルマリン系、ヒドラジド系等の水分散型樹脂が挙
げられる。架橋剤の添加量は、通常、上記の表面改質剤
の溶媒を除いた有効成分100重量部に対して100重
量部以下の範囲である。
Optional Component 1: Crosslinking Agent By adding a crosslinking agent, the coating film strength and water resistance can be further improved. Examples of the crosslinking agent include epoxy compounds such as glycidyl ether and glycidyl ester, epoxy resins, and water-dispersible resins such as isocyanate, oxazoline, formalin, and hydrazide. The amount of the cross-linking agent to be added is usually within a range of 100 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the active ingredient excluding the solvent of the surface modifier.

【0027】 任意成分2:アルカリ金属塩又はアル
カリ土類金属塩 表面改質剤にはアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩
が添加され、それらの塩としては、水溶性の無機塩、例
えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリ
ウム、亜硫酸ナトリウム、その他のアルカリ性塩、及び
塩化ナトリウム、硫酸ナトリウム、硝酸ナトリウム、ト
リポリ燐酸ナトリウム、ピロ燐酸ナトリウム、アンモニ
ウム明礬等が挙げられる。任意成分の量は、通常、上記
の表面改質剤の溶媒を除いた有効成分100重量部に対
して50重量部以下である。 任意成分3:表面改質剤には、更に、界面活性剤、
消泡剤、水溶性或いは水分散性の微粉末物質その他の助
剤を含ませることもできる。任意成分の量は、通常、上
記の表面改質剤の溶媒を除いた有効成分100重量部に
対して20重量部以下である。
Optional Component 2: Alkali Metal Salt or Alkaline Earth Metal Salt An alkali metal salt or an alkaline earth metal salt is added to the surface modifier, and these salts include water-soluble inorganic salts such as carbonic acid Examples include sodium, sodium bicarbonate, potassium carbonate, sodium sulfite, and other alkaline salts, and sodium chloride, sodium sulfate, sodium nitrate, sodium tripolyphosphate, sodium pyrophosphate, ammonium alum, and the like. The amount of the optional component is usually 50 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the active ingredient excluding the solvent for the surface modifier. Optional component 3: The surface modifier further includes a surfactant,
Defoamers, water-soluble or water-dispersible finely divided powdered substances and other auxiliaries can also be included. The amount of the optional component is usually 20 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the active ingredient excluding the solvent for the surface modifier.

【0028】[表面処理層の形成]上記表面処理層の各
成分は、水或いはメチルアルコール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール等の親水性溶剤に溶解させ
てから用いるものであるが、中でも水溶液の形態で用い
るのが好ましい。溶液濃度は通常0.1〜20重量%、
好ましくは0.1〜10重量%程度である。塗工方法は
ロールコーター、ブレードコーター、バーコーター、エ
アーナイフコーター、サイズプレスコータ、グラビアコ
ーター、リバースコーター、ダイコーター、リップコー
ター、スプレーコーター等により行われ、必要によりス
ムージングを行ったり、乾燥工程を経て、余分な水や親
水性溶剤が除去される。塗工量は乾燥後の固形分として
0.005〜5g/m2 、好ましくは0.01〜2g/
2 である。
[Formation of Surface Treatment Layer] Each component of the above surface treatment layer is used after being dissolved in water or a hydrophilic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, or isopropyl alcohol. It is preferably used. Solution concentration is usually 0.1-20% by weight,
Preferably it is about 0.1 to 10% by weight. The coating method is performed by a roll coater, blade coater, bar coater, air knife coater, size press coater, gravure coater, reverse coater, die coater, lip coater, spray coater, etc., and performs a smoothing or drying process as necessary. After that, excess water and hydrophilic solvent are removed. The coating amount is 0.005 to 5 g / m 2 , preferably 0.01 to 2 g / m 2 as a solid content after drying.
m 2 .

【0029】熱可塑性樹脂フィルム層(A)を形成する
熱可塑性樹脂フィルムが延伸フィルムの場合、表面処理
層の塗工はその縦または横延伸の前後を問わず、一段の
塗工でも多段の塗工でも構わない。熱可塑性樹脂フィル
ム層(A)の表面には、前述の表面処理の後、あるいは
表面処理層形成の後に、必要に応じて表面に筆記性付与
層、印刷品質向上層、熱転写受容層、感熱記録層、イン
クジェット受容層などを表面処理層の形成と同様の塗工
方法で設けることができる。
When the thermoplastic resin film forming the thermoplastic resin film layer (A) is a stretched film, the surface treatment layer may be coated in a single step or in multiple steps regardless of before or after longitudinal or transverse stretching. It may be mechanic. After the above-mentioned surface treatment or after the formation of the surface treatment layer, the surface of the thermoplastic resin film layer (A) may have a writability imparting layer, a print quality improving layer, a thermal transfer receiving layer, a heat transfer recording layer, if necessary. The layer, the ink jet receiving layer and the like can be provided by the same coating method as that for forming the surface treatment layer.

【0030】熱可塑性樹脂フィルム層(A)はIC回路
層(B)またはIC回路保護層(C)の片面に積層して
もよく、両面に積層しても良い。また、両面に積層する
場合、IC回路層(B)またはIC回路保護層(C)の
表裏に同一の熱可塑性樹脂フィルム層(例えばA/・・
/B/・・/A)を用いても良いし、表裏異なる熱可塑
性樹脂フィルム層(A)、(A' )(例えばA/・・/
B/・・/A' )を用いても良い。熱可塑性樹脂フィル
ム層(A' )の不透明度は、特に制限されず、透明であ
っても、不透明であっても良い。
The thermoplastic resin film layer (A) may be laminated on one side of the IC circuit layer (B) or the IC circuit protective layer (C), or may be laminated on both sides. In the case of laminating on both surfaces, the same thermoplastic resin film layer (for example, A / ...) is provided on both sides of the IC circuit layer (B) or the IC circuit protection layer (C).
/B/../A) or thermoplastic resin film layers (A), (A ') (for example, A /..//
B /../ A ') may be used. The opacity of the thermoplastic resin film layer (A ') is not particularly limited, and may be transparent or opaque.

【0031】(2)IC回路層(B) 本発明のIC回路層(B)は、ICラベル内に平面方向
全方向をIC回路保護層(C)に、側面から見た厚さ方
向、すなわち表面方向を熱可塑性樹脂フィルム層(A)
により完全に隠され、表面及び側面から全く見えない様
に設置されることが好ましい。そのため、平面から見
て、IC回路層(B)はICラベルの面積より小さく、
側面から見て、IC回路層(B)の厚みはIC回路保護
層(C)の厚さ以下であるようにする。
(2) IC Circuit Layer (B) The IC circuit layer (B) of the present invention is formed such that the IC circuit protective layer (C) extends in all directions in the IC label and the thickness direction as viewed from the side, that is, Surface direction is thermoplastic resin film layer (A)
It is preferably installed so as to be completely concealed and not to be seen at all from the surface and the side. Therefore, when viewed from a plane, the IC circuit layer (B) is smaller than the area of the IC label,
When viewed from the side, the thickness of the IC circuit layer (B) is equal to or less than the thickness of the IC circuit protection layer (C).

【0032】IC回路層(B)は、回路基板上に、IC
回路と配線回路を形成して設けられる。IC回路とアン
テナ回路は電気的に導通される。回路基板用の基板材
は、一般的な紙フェノール、ガラスエポキシ、コンポジ
ット等のリジッドタイプ、ポリイミドフィルム、ポリエ
ステルフィルム等のフレキシブルタイプ、および両者の
複合タイプが使用できる。配線回路は金属導線をコイル
状にしたものを前記基板材上に接着剤を用いて設置した
り、加熱加圧してフィルムを変形させて設置して設ける
方法、銅やアルミ等の金属を張った基板材の金属部分を
エッチングして設ける方法、銀などの導電性の金属で形
成された金属箔を基板上に転写して設ける方法、および
導電ペースト塗料を用いてシルクスクリーン印刷で印
刷、乾燥して基板上に設ける方法が挙げられる。
The IC circuit layer (B) has an IC
It is provided by forming a circuit and a wiring circuit. The IC circuit and the antenna circuit are electrically conducted. As the substrate material for the circuit board, a rigid type such as general paper phenol, glass epoxy, and composite, a flexible type such as a polyimide film and a polyester film, and a composite type of both can be used. A wiring circuit is a method in which a metal conductor is formed into a coil shape by using an adhesive on the substrate material, or a method in which a film is deformed by applying heat and pressure to be provided and provided, and a metal such as copper or aluminum is provided. A method of etching and providing a metal part of a substrate material, a method of transferring and providing a metal foil formed of a conductive metal such as silver on a substrate, and printing and drying by silk screen printing using a conductive paste paint. And a method of providing it on a substrate.

【0033】IC回路層(B)は、上記により配線回路
を形成した基板上にIC回路を実装し、アンテナ回路と
IC回路を電気的に導通接続して形成される。基板への
IC回路の実装は、TAB(テープ・オートメイテッド
・ボンディング)、COB(チップ・オン・ボード)や
フリップチップ実装が用いられる。IC回路の実装やア
ンテナ回路との接続には、通常のはんだ付けや、導電性
接着剤が使用できるが、加工の際、回路基板材が耐えう
る温度条件のものを採用する必要がある。IC回路層
(B)は実装されたIC回路や配線回路の保護のため
に、エポキシ樹脂などで包埋(パッケージング)して用
いることもできる。IC回路層(B)の厚みは、エポキ
シ樹脂で包埋後150μm〜1mmである。
The IC circuit layer (B) is formed by mounting an IC circuit on the substrate on which the wiring circuit is formed as described above, and electrically connecting the antenna circuit and the IC circuit. For mounting an IC circuit on a substrate, TAB (tape automated bonding), COB (chip-on-board), or flip-chip mounting is used. For the mounting of the IC circuit and the connection with the antenna circuit, normal soldering or a conductive adhesive can be used. However, it is necessary to adopt a material having a temperature condition that can withstand the circuit board material during processing. The IC circuit layer (B) can be embedded (packaged) with an epoxy resin or the like to protect the mounted IC circuit or wiring circuit. The thickness of the IC circuit layer (B) is 150 μm to 1 mm after being embedded in the epoxy resin.

【0034】(3)IC回路保護層(C) 本発明に用いられるIC回路保護層(C)は、熱可塑性
樹脂フィルム層(A)に用いられるものと同じフィルム
に加えて、一般的な延伸、無延伸の熱可塑性樹脂フィル
ムが使用できる。但し、IC回路層(B)がパッケージ
ングされていない場合は、IC回路層(B)とIC回路
保護層(C)との間に電気的な導通などを発生してはな
らないため、体積方向の電気抵抗値は108 Ω・cm以
上が好ましく、より好ましくは1010Ω・cm以上であ
る。IC回路基板層に接する面の表面電気抵抗値は10
8 Ω/□以上が好ましく、より好ましくは109 Ω/□
以上である。
(3) IC Circuit Protective Layer (C) The IC circuit protective layer (C) used in the present invention may be the same as that used for the thermoplastic resin film layer (A), and may be a general stretched film. A non-stretched thermoplastic resin film can be used. However, when the IC circuit layer (B) is not packaged, electrical conduction or the like must not occur between the IC circuit layer (B) and the IC circuit protection layer (C), and therefore, the volume direction Is preferably 10 8 Ω · cm or more, more preferably 10 10 Ω · cm or more. The surface electric resistance of the surface in contact with the IC circuit board layer is 10
8 Ω / □ or more is preferable, and 10 9 Ω / □ is more preferable.
That is all.

【0035】IC回路層(B)を保護するため、IC回
路保護層(C)には、平面から見て、IC回路層(B)
が収納できる大きさの貫通孔、すなわち、打抜穴が設け
られる。該加工には、紙、フィルム、金属板などの抜き
加工に使用される抜き型が使用できる。抜き形状はIC
回路層(B)の平面から見た形状に合わせ、任意に変更
できる。さらに、IC回路層(B)の保護、およびIC
ラベルの表裏面の凹凸をなくすため、IC回路保護層
(C)の厚さはIC回路層(B)よりも厚いことが好ま
しい。一方、IC回路基板層のICラベル内での不必要
な移動を防止するため、IC回路保護層(C)の厚さは
IC回路層(B)の厚さより、0〜100μm、好まし
くは0〜50μm厚いことが好ましい。
In order to protect the IC circuit layer (B), the IC circuit protection layer (C) is provided on the IC circuit layer (B) in a plan view.
Is provided with a through-hole of a size that can accommodate therein, that is, a punched hole. For the processing, a punching die used for punching a paper, a film, a metal plate or the like can be used. The punching shape is IC
It can be arbitrarily changed according to the shape of the circuit layer (B) viewed from the plane. Furthermore, protection of the IC circuit layer (B) and IC
In order to eliminate irregularities on the front and back surfaces of the label, the thickness of the IC circuit protection layer (C) is preferably thicker than the IC circuit layer (B). On the other hand, in order to prevent unnecessary movement of the IC circuit board layer in the IC label, the thickness of the IC circuit protection layer (C) is larger than the thickness of the IC circuit layer (B) by 0 to 100 μm, preferably 0 to 100 μm. It is preferably 50 μm thick.

【0036】(3)熱可塑性樹脂フィルム層(F) 本発明に用いられる熱可塑性樹脂フィルム層(F)は、
熱可塑性樹脂フィルム層(A)に用いられるものと同じ
フィルムに加えて、一般的な延伸、無延伸の熱可塑性樹
脂フィルムが使用できる。但し、IC回路層(B)に電
気的な導通などを発生してはならないため、体積方向の
電気抵抗値は108 Ω・cm以上が好ましく、より好ま
しくは1010Ω・cm以上である。IC回路層に接する
面の表面電気抵抗値は108 Ω/□以上が好ましく、よ
り好ましくは109 Ω/□以上である。厚さは5〜30
0μm、好ましくは10〜150μmである。
(3) Thermoplastic resin film layer (F) The thermoplastic resin film layer (F) used in the present invention comprises:
In addition to the same films used for the thermoplastic resin film layer (A), general stretched and non-stretched thermoplastic resin films can be used. However, since electrical conduction or the like must not occur in the IC circuit layer (B), the electric resistance in the volume direction is preferably 10 8 Ω · cm or more, more preferably 10 10 Ω · cm or more. The surface electric resistance of the surface in contact with the IC circuit layer is preferably at least 10 8 Ω / □, more preferably at least 10 9 Ω / □. The thickness is 5-30
0 μm, preferably 10 to 150 μm.

【0037】(4)光隠蔽層(E) 熱可塑性樹脂フィルム層(A)とIC回路層(B)との
間、または熱可塑性樹脂フィルム層(A)熱可塑性樹脂
フィルム層(F)との間、に形成される光隠蔽層(E)
とは、本発明を構成する全層の中で、単位肉厚当たりの
可視光線の透過率が最も小さい層であり、光の波長38
0〜780nmにおける全光線透過率(JIS−K−7
105に準拠)が0.5%以下のものである。かかる光
隠蔽層(E)は、前記熱可塑性樹脂フィルム(A)また
は(F)の片面にオフセットまたはグラビア印刷により
黒色ベタ印刷を行って形成する方法、アルミなどの金属
蒸着箔の箔押しによる転写、転写蒸着およびダイレクト
蒸着を用いて形成する方法、あるいは熱可塑性樹脂フィ
ルム(A)および(F)同士を接着剤を用いて貼合させ
る際、接着剤の中に、カーボンブラック等の黒色充填材
や酸化チタンウィスカー、酸化チタン微粒子等の白色充
填剤を多量に含有させる方法などにより形成する。
(4) Light hiding layer (E) Between the thermoplastic resin film layer (A) and the IC circuit layer (B) or between the thermoplastic resin film layer (A) and the thermoplastic resin film layer (F) Light shielding layer (E) formed between
Is a layer having the smallest visible light transmittance per unit thickness among all the layers constituting the present invention.
Total light transmittance at 0 to 780 nm (JIS-K-7
105) (0.5% or less). Such a light concealing layer (E) is formed by performing black solid printing by offset or gravure printing on one surface of the thermoplastic resin film (A) or (F), transferring by pressing a metal vapor-deposited foil such as aluminum, When forming by using transfer evaporation and direct evaporation, or when laminating the thermoplastic resin films (A) and (F) together using an adhesive, a black filler such as carbon black is used in the adhesive. It is formed by a method in which a large amount of a white filler such as titanium oxide whiskers and titanium oxide fine particles is contained.

【0038】(5)接着剤層(D) 接着剤層(D)は本ICラベル製造工程中の積層貼合時
に接着力を保有するものが使用できる。通常は常温もし
くは加熱した状態で加圧接着できるものである。一般的
なヒートシーラーが使用できる。接着剤としては、例え
ば液状のアンカーコート剤、例えばポリウレタン系アン
カーコート剤として東洋モートン(株)製のEL−15
0(商品名)、又はBLS−2080AとBLS−20
80Bの混合物が、ポリエステル系アンカーコート剤と
して同社製のAD−503(商品名)を適用することが
できる。アンカーコート剤は秤量が0.5〜25g/m
2 となるように塗布される。また、ICラベルの隠蔽性
向上のため、接着剤に酸化チタン微粒子などの顔料を含
有したものを使用することも可能である。
(5) Adhesive Layer (D) As the adhesive layer (D), one having an adhesive force at the time of laminating and bonding in the present IC label manufacturing process can be used. Usually, it can be pressure-bonded at room temperature or in a heated state. A general heat sealer can be used. As an adhesive, for example, a liquid anchor coating agent, for example, as a polyurethane-based anchor coating agent, EL-15 manufactured by Toyo Morton Co., Ltd.
0 (brand name) or BLS-2080A and BLS-20
A mixture of 80B can apply AD-503 (trade name) manufactured by the company as a polyester anchor coating agent. Anchor coating agent weighs 0.5 to 25 g / m
It is coated to a 2. Further, in order to improve the concealment of the IC label, it is also possible to use an adhesive containing a pigment such as titanium oxide fine particles.

【0039】(6)粘着剤層(G) 粘着剤層(G)の種類や厚さ(塗工層)は、被着体の種
類や使用される環境、接着の強度等により種々選択が可
能である。一般に用いられる水系もしくは溶剤系の粘着
剤を塗工、乾燥して形成でき、天然ゴム系、合成ゴム
系、アクリル系等が使用でき、これらの合成高分子粘着
剤は、有機溶媒溶液や、ディスパージョンやエマルジョ
ンといった水に分散された形態で使用可能である。ラベ
ルの隠蔽性向上のため、粘着剤にチタンホワイトなどの
顔料を含有したものを使用することも可能である。
(6) Pressure-sensitive adhesive layer (G) The type and thickness (coating layer) of the pressure-sensitive adhesive layer (G) can be variously selected depending on the type of the adherend, the environment in which it is used, the strength of adhesion, and the like. It is. A commonly used aqueous or solvent-based pressure-sensitive adhesive can be applied and dried to form a natural rubber-based, synthetic rubber-based, or acrylic-based pressure-sensitive adhesive. It can be used in the form dispersed in water, such as John or emulsion. It is also possible to use a pressure-sensitive adhesive containing a pigment such as titanium white in order to improve the concealability of the label.

【0040】(7)印刷 得られたICラベルは、記録層を設けることにより電子
写真方式、昇華熱転写、溶融熱転写、ダイレクトサーマ
ル、リライタブルマーキング、及びインクジェットプリ
ンターの使用は勿論のこと、凸版印刷、グラビア印刷、
フレキソ印刷、溶剤型オフセット印刷、紫外線硬化型オ
フセット印刷、シートの形態でもロールの形態の輪転方
式の印刷にも使用可能である。
(7) Printing The obtained IC label may be provided with a recording layer to form an electrophotographic system, sublimation heat transfer, melt heat transfer, direct thermal, rewritable marking, and ink jet printer, as well as letterpress printing, gravure printing. printing,
It can be used for flexographic printing, solvent-type offset printing, ultraviolet-curing offset printing, and rotary printing in the form of a sheet or a roll.

【0041】〔ICラベルの物性〕本発明のICラベル
は、次の物性を満たす必要がある。 ・白色度 本発明のICラベルは、印刷面側の白色度(JIS−L
−1015)は、85%以上、好ましくは90〜100
%である。85%未満では、ICラベルの表面に記録さ
れる文字や画像情報の識別を不鮮明にし、また外観上も
好ましくない。 ・全光線透過率 本発明のICラベルは、印刷面側からの光の波長380
〜780nmにおける全光線透過率(JIS−K−71
05に準拠)は15%以下、好ましくは13%以下であ
る。15%を越えると、内部のIC回路層(B)が透け
て見えてしまったり、必要に応じて設けられる隠蔽層
(E)の着色が透けて見えてしまい、好ましくない。 ・厚さ 本発明のICラベルは、厚さが150μm〜2mm、好
ましくは200μm〜1mm、更に好ましくは250〜
800μmである。150μm未満では、強度不十分で
内部のIC回路層(B)が破壊されやすく、2mmを超
えてはICラベルとして腰がありすぎて取り扱いにく
い。
[Physical Properties of IC Label] The IC label of the present invention must satisfy the following physical properties. -Whiteness The IC label of the present invention has a whiteness (JIS-L
-1015) is 85% or more, preferably 90 to 100.
%. If it is less than 85%, the identification of characters and image information recorded on the surface of the IC label becomes unclear, and the appearance is also undesirable. -Total light transmittance The IC label of the present invention has a wavelength 380 of light from the printing surface side.
Total light transmittance at 780 nm (JIS-K-71)
05) is 15% or less, preferably 13% or less. If it exceeds 15%, the internal IC circuit layer (B) is seen through, and the coloring of the concealing layer (E) provided as necessary is undesirably seen through. -Thickness The IC label of the present invention has a thickness of 150 µm to 2 mm, preferably 200 µm to 1 mm, more preferably 250 to 2 mm.
800 μm. If it is less than 150 μm, the strength is insufficient and the internal IC circuit layer (B) is easily broken, and if it exceeds 2 mm, the IC label is too stiff and difficult to handle.

【0042】[0042]

【発明の実施の形態】以下に実施例を挙げて本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例など
により何ら限定されるものではない。本発明で使用した
熱可塑性樹脂、無機微細粉末を表1に示した。 [I]熱可塑性樹脂フィルム層(A)の製造 (製造例1)プロピレン単独重合体a;81重量%、高
密度ポリエチレン3重量%及び炭酸カルシウム16重量
%を混合した組成物(A1)270℃の温度に設定した
押出機にて混練させた後、シート状に押し出し、更に冷
却装置により冷却して、無延伸シートを得た。次いで、
このシートを150℃の温度にまで再度加熱した後、縦
方向5倍の延伸を行って5倍縦延伸フィルムを得た。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described more specifically with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. Table 1 shows the thermoplastic resin and the inorganic fine powder used in the present invention. [I] Production of Thermoplastic Resin Film Layer (A) (Production Example 1) Composition (A1) of propylene homopolymer a; 81% by weight, 3% by weight of high-density polyethylene and 16% by weight of calcium carbonate mixed at 270 ° C. After being kneaded with an extruder set at a temperature of, the mixture was extruded into a sheet and further cooled by a cooling device to obtain a non-stretched sheet. Then
After the sheet was heated again to a temperature of 150 ° C., it was stretched five times in the machine direction to obtain a five-fold machine-stretched film.

【0043】プロピレン単独重合体b;54重量%と、
炭酸カルシウム46重量%とを混合した組成物(A2)
を別の押出機にて210℃で混練させた後、これをダイ
によりシート状に押し出し、これを上記工程で得られた
5倍縦延伸フィルムの両面に積層し、3層構造の積層フ
ィルムを得た。次いで、この3層構造の積層フィルムを
60℃の温度にまで冷却した後、再び約155℃の温度
にまで加熱し、テンターを用いて横方向に7.5倍延伸
し、165℃の温度でアニーリング処理し、60℃の温
度にまで冷却し、耳部をスリットして3層構造(一軸延
伸/二軸延伸/一軸延伸)の厚さ60μm(A2/A1
/A2=10μm/40μm/10μm)の積層フィル
ムで、白色度96%、不透明度87%、空孔率32%、
密度0.79g/cm3 の熱可塑性樹脂フィルムを得
た。
Propylene homopolymer b; 54% by weight;
Composition (A2) mixed with 46% by weight of calcium carbonate
Is kneaded at 210 ° C. by another extruder, and extruded into a sheet shape by a die, which is laminated on both sides of the 5-fold longitudinally stretched film obtained in the above step, and a laminated film having a three-layer structure is formed. Obtained. Next, after cooling the laminated film having the three-layer structure to a temperature of 60 ° C., it is heated again to a temperature of about 155 ° C., stretched 7.5 times in the transverse direction using a tenter, and stretched at a temperature of 165 ° C. Annealing treatment, cooling to a temperature of 60 ° C., slitting of the ears, and a three-layer structure (uniaxial stretching / biaxial stretching / uniaxial stretching) having a thickness of 60 μm (A2 / A1
/ A2 = 10 μm / 40 μm / 10 μm) with a whiteness of 96%, opacity of 87%, porosity of 32%,
A thermoplastic resin film having a density of 0.79 g / cm 3 was obtained.

【0044】(製造例2)プロピレン単独重合体a;6
5重量%、高密度ポリエチレン10重量%及び炭酸カル
シウム25重量%を混合した組成物(A1)とプロピレ
ン単独重合体b;99重量%、二酸化チタン1重量%を
混合した組成物(A2)と、メルトフローレート(MF
R:230℃、2.16kg荷重)が4g/10分のポ
リプロピレン(融点約164〜167℃)100重量%
(A3)とを、それぞれ別々の3台の押出機を用いて2
50℃で溶融混練した。その後、一台の共押ダイに供給
してダイ内で積層した後(A2/A1/A3)、シート
状に押し出し、冷却ロールで約60℃まで冷却すること
によって積層フィルムを得た。
(Production Example 2) Propylene homopolymer a; 6
A composition (A1) obtained by mixing 5% by weight, 10% by weight of high-density polyethylene and 25% by weight of calcium carbonate and a composition (A2) obtained by mixing 99% by weight of propylene homopolymer b and 1% by weight of titanium dioxide; Melt flow rate (MF
R: 230 ° C., 2.16 kg load) 100% by weight of polypropylene (melting point: about 164 to 167 ° C.) at 4 g / 10 min.
(A3) was converted to 2 by using three separate extruders.
The mixture was melt-kneaded at 50 ° C. Then, after supplying to one co-pressing die and laminating | stacking in a die (A2 / A1 / A3), it extruded in sheet shape and cooled to about 60 degreeC with the cooling roll, and obtained the laminated film.

【0045】このフィルムを145℃に再加熱した後、
多数のロール群の周速差を利用して縦方向に5倍延伸
し、再び約150℃まで再加熱してテンターで横方向に
8.5倍延伸した。その後、160℃でアニーリング処
理した後、60℃まで冷却し、耳部をスリットして3層
構造(二軸延伸/二軸延伸/二軸延伸)の厚さ100μ
m(A2/A1/A3=3μm/94μm/3μm)の
積層フィルムとし、白色度96%、不透明度90%、空
孔率40%、密度0.66g/cm3 の熱可塑性樹脂フ
ィルムを得た。
After reheating this film to 145 ° C.
The film was stretched 5 times in the longitudinal direction by utilizing the peripheral speed difference between a number of roll groups, reheated again to about 150 ° C., and stretched 8.5 times in the transverse direction with a tenter. Then, after annealing at 160 ° C., it is cooled down to 60 ° C., and slits are formed in the ears to obtain a three-layer structure (biaxial stretching / biaxial stretching / biaxial stretching) having a thickness of 100 μm.
m (A2 / A1 / A3 = 3 μm / 94 μm / 3 μm) to obtain a thermoplastic resin film having a whiteness of 96%, an opacity of 90%, a porosity of 40%, and a density of 0.66 g / cm 3 . .

【0046】(製造例3)製造例1と同様の操作を行
い、3層構造(一軸延伸/二軸延伸/一軸延伸)の厚さ
130μm(A2/A1/A3=25μm/80μm/
25μm)の積層フィルムとし、白色度96%、不透明
度92%、空孔率30%、密度0.77g/cm3 の熱
可塑性樹脂フィルムを得た。
(Production Example 3) The same operation as in Production Example 1 was carried out, and a three-layer structure (uniaxial stretching / biaxial stretching / uniaxial stretching) having a thickness of 130 μm (A2 / A1 / A3 = 25 μm / 80 μm /
A thermoplastic resin film having a whiteness of 96%, an opacity of 92%, a porosity of 30%, and a density of 0.77 g / cm 3 was obtained.

【0047】[II]IC回路保護層(C)の製造 (製造例4)製造例1で、ダイのリップ開度、組成物の
押し出し量を調整し、厚さ300μm(A2/A1/A
2=60μm/180μm/60μm)の積層フィルム
で、白色度96%、不透明度99%、空孔率36%、密
度0.78g/cm3 の熱可塑性樹脂フィルムを得た。
[II] Production of IC Circuit Protection Layer (C) (Preparation Example 4) In Preparation Example 1, the die lip opening and the extrusion amount of the composition were adjusted, and the thickness was 300 μm (A2 / A1 / A).
2 = 60 μm / 180 μm / 60 μm) to obtain a thermoplastic resin film having a whiteness of 96%, an opacity of 99%, a porosity of 36%, and a density of 0.78 g / cm 3 .

【0048】(製造例5)プロピレン単独重合体b;9
7重量部に、炭酸カルシウム3重量部を配合した組成物
(A2)と、プロピレン単独重合体c;98重量部に、
二酸化チタン2重量部を配合した組成物(A1)とを、
それぞれ別々の押出機で220℃の温度で溶融混練した
後、一台のダイ内に供給して、ダイ内で(A2)/(A
1)/(A2)に積層させた後、押し出して、三層構造
の白色の無延伸樹脂積層フィルム (a) を得た(厚さ:
60μm/160μm/60μm)。
(Production Example 5) Propylene homopolymer b; 9
7 parts by weight, a composition (A2) containing 3 parts by weight of calcium carbonate, and propylene homopolymer c; 98 parts by weight,
A composition (A1) containing 2 parts by weight of titanium dioxide,
After melt-kneading at a temperature of 220 ° C. in separate extruders, the mixture is supplied into one die, and (A2) / (A
1) / (A2), and extruded to obtain a white unstretched resin laminated film (a) having a three-layer structure (thickness:
60 μm / 160 μm / 60 μm).

【0049】製造例1で得られた熱可塑性樹脂フィルム
に、上記ダイより押し出して得た白色の無延伸樹脂積層
フィルム(a)が未だ軟化状態を保っているうちに、該
無延伸樹脂積層フィルム(a)をサーマルラミネートす
ることにより、熱可塑性樹脂フィルム(厚さ60μm)
/無延伸樹脂積層フィルム(a)(肉厚280μm)/
熱可塑性樹脂フィルム(厚さ60μm)の複合積層樹脂
フィルム(肉厚400μm)を得た。白色度94%、不
透明度90%、空孔率11%、密度0.86g/cm3
であった。
While the white unstretched resin laminated film (a) obtained by extrusion from the die into the thermoplastic resin film obtained in Production Example 1 is still in a softened state, the unstretched resin laminated film is By thermally laminating (a), a thermoplastic resin film (60 μm thick)
/ Unstretched resin laminated film (a) (wall thickness 280 μm) /
A composite laminated resin film (thickness: 400 μm) of a thermoplastic resin film (thickness: 60 μm) was obtained. 94% whiteness, 90% opacity, 11% porosity, 0.86 g / cm 3 density
Met.

【0050】(製造例6)製造例5でダイのリップ開
度、組成物の押し出し量を調整し、三層構造の白色の無
延伸樹脂積層フィルム (a) を得た(厚さ:60μm/
280μm/60μm)。得られた厚さ400μmの無
貼合品は、白色度25%、不透明度25%、空孔率0
%、密度0.92g/cm3 であった。
(Preparation Example 6) The lip opening of the die and the extrusion amount of the composition were adjusted in Preparation Example 5 to obtain a white unstretched resin laminated film (a) having a three-layer structure (thickness: 60 μm /
280 μm / 60 μm). The obtained unbonded product having a thickness of 400 μm has a whiteness of 25%, an opacity of 25%, and a porosity of 0%.
% And a density of 0.92 g / cm 3 .

【0051】[III]IC回路層(B)の製造 (製造例7)厚さ50μmのポリイミドフィルムの片面
上に厚さ35μmの電解銅箔をボンディングシートで接
着し、エッチングにてアンテナ回路を形成した。表面研
磨、水洗、乾燥の後、該アンテナ面にIC回路(厚み2
00μm)を実装し、エポキシ樹脂で表面を包埋し、I
C回路層(B)(厚み300μm)を得た。 (製造例8)厚さ125μmのポリエステルフィルムの
片面上にイソシアネート系の溶剤系銀ペーストを用いて
シルクスクリーン印刷によりアンテナ回路を印刷し、熱
風乾燥の後、80℃の恒温槽に3時間放置してから取り
出した。その後、該アンテナ面にIC回路(厚み200
μm)を実装し、エポキシ樹脂で表面を包埋し、IC回
路層(B)(厚み375μm)を得た。
[III] Production of IC circuit layer (B) (Production example 7) An electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm is adhered to one surface of a polyimide film having a thickness of 50 μm with a bonding sheet, and an antenna circuit is formed by etching. did. After surface polishing, water washing and drying, an IC circuit (thickness 2
00 μm), and embed the surface with epoxy resin.
The C circuit layer (B) (thickness: 300 μm) was obtained. (Production Example 8) An antenna circuit was printed on one surface of a polyester film having a thickness of 125 µm by silk screen printing using an isocyanate-based solvent-based silver paste, dried with hot air, and then left in a constant temperature bath at 80 ° C for 3 hours. I took it out. Then, an IC circuit (thickness 200
μm) and the surface was embedded with an epoxy resin to obtain an IC circuit layer (B) (thickness: 375 μm).

【0052】[0052]

【実施例1】熱可塑性樹脂フィルム層(A)及び熱可塑
性樹脂フィルム層(A' )として製造例1で得られた熱
可塑性樹脂フィルムを用い、熱可塑性樹脂フィルム層
(A)の表面に、アクリルウレタン系樹脂および炭酸カ
ルシウムからなる溶剤系塗料を乾燥後の塗布量が1g/
2 となるようにグラビアコーターで塗工し、印刷層と
した。印刷層に文字及び画像情報をグラビア印刷し、印
刷層の反対面に、黒濃度が1.65となるように黒ベタ
グラビア印刷(厚さ2μm)を施し、光隠蔽層(E)と
した。
Example 1 The thermoplastic resin film layer (A) and the thermoplastic resin film obtained in Production Example 1 were used as the thermoplastic resin film layer (A ′), and the surface of the thermoplastic resin film layer (A) was The coating amount after drying the solvent-based paint composed of acrylic urethane-based resin and calcium carbonate is 1 g /
It was coated with a gravure coater so as to obtain a print layer of m 2 . Gravure printing of characters and image information was performed on the printing layer, and black beta gravure printing (thickness: 2 μm) was performed on the opposite surface of the printing layer so that the black density was 1.65, to obtain a light shielding layer (E).

【0053】熱可塑性樹脂フィルム層(A)の光隠蔽層
(E)、及び熱可塑性樹脂フィルム層(A' )に、接着
剤層(D)としてポリエステル系アンカーコート剤(東
洋モートン社製:AD−503;商品名)を4g/m2
(固型分の割合)塗布し、製造例8のIC回路層(B)
面、及び反対面とに同時に圧着した。また、グラシン紙
を基材とした剥離紙のシリコン処理面に溶剤系アクリル
系粘着剤を乾燥後の塗工量が8g/m2 となるようにコ
ンマコーターで塗工乾燥して粘着剤層(G)とした。次
に熱可塑性樹脂フィルム層(A' )のIC回路層(B)
と反対面と、前記粘着剤層(G)を圧着し、印刷/A/
E/D/B/D/A' /G/剥離紙の構造の剥離紙付I
Cラベルを得た。得られた剥離紙付きのICラベルは、
剥離紙を剥がして使用される。剥離紙を剥がして測定し
た物性は、厚さ:510μm、白色度:90%であっ
た。
A polyester-based anchor coat agent (manufactured by Toyo Morton Co., Ltd .: AD) was used as an adhesive layer (D) on the light-shielding layer (E) of the thermoplastic resin film layer (A) and the thermoplastic resin film layer (A '). -503; trade name) 4 g / m 2
(Proportion of solid component) Coated, IC circuit layer (B) of Production Example 8
It crimped simultaneously to the surface and the opposite surface. Further, a solvent-based acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to the silicon-treated surface of the release paper based on glassine paper with a comma coater so that the coated amount after drying is 8 g / m 2, and the pressure-sensitive adhesive layer ( G). Next, the IC circuit layer (B) of the thermoplastic resin film layer (A ')
And the pressure-sensitive adhesive layer (G) is pressed against
E / D / B / D / A '/ G / release paper with release paper I
C label was obtained. The obtained IC label with release paper is
The release paper is peeled off before use. Physical properties measured by peeling the release paper were: thickness: 510 μm, whiteness: 90%.

【0054】・全光線透過率の測定:ICラベルの光の
波長380〜780nmにおける全光線透過率(JIS
−K−7105に準拠)を、分光光度計(日立製作所
製:U−3310形)を用いて測定した。全光線透過率
は6.0%であった。 ・印刷面の視認性:印刷後のICラベルの熱可塑性樹脂
フィルム層(A)側から見たときの視認性を以下のよう
に評価し、その結果を上記物性とともに表2に示す。 ○:ICラベルの表面に記録された文字や画像情報の識
別が鮮明であり、かつ内部のIC回路層(B)が透けて
見えたりしない。 △:ICラベルの表面に記録された文字や画像情報の識
別が不鮮明であるか、または内部のIC回路層(B)が
透けて見える。 ×:ICラベルの表面に記録された文字や画像情報の識
別が不鮮明であり、かつ内部のIC回路層(B)が透け
て見える。
Measurement of total light transmittance: total light transmittance (JIS) at a wavelength of 380 to 780 nm of light of an IC label.
-K-7105) was measured using a spectrophotometer (U-3310, manufactured by Hitachi, Ltd.). The total light transmittance was 6.0%. Printed surface visibility: The visibility of the printed IC label as viewed from the thermoplastic resin film layer (A) side was evaluated as follows, and the results are shown in Table 2 together with the above physical properties. :: Characters and image information recorded on the surface of the IC label are clearly identified, and the internal IC circuit layer (B) is not seen through. Δ: Character or image information recorded on the surface of the IC label is unclear, or the internal IC circuit layer (B) is seen through. ×: The identification of characters and image information recorded on the surface of the IC label is unclear, and the internal IC circuit layer (B) is seen through.

【0055】[0055]

【実施例2】熱可塑性樹脂フィルム層(A)及び熱可塑
性樹脂フィルム層(A' )として製造例1で得られた熱
可塑性樹脂フィルムを用い、実施例1と同様の印刷層と
した。別に、肉厚23μmの東レ(株)製透明ポリエチ
レンテレフタレートフィルム(PET)(商品名:ルミ
ラー#25)を熱可塑性樹脂フィルム層(F)とし、そ
の片面上にポリウレタン系アンカーコート剤(東洋モー
トン(株)製、EL−150:商品名)を乾燥後の塗布
量が1g/m2 となるように塗布し半乾燥後に、厚さ1
00nmのアルミ蒸着層を設け光隠蔽層(E)とした。
また、接着剤層(D)としてポリエステル系アンカーコ
ート剤(東洋モートン社製:AD−503;商品名)を
4g/m2 (固型分の割合)用いた。一方実施例1と同
様にして、粘着剤層(G)を作成した。次に実施例1と
同様にして、印刷/A/D/E/F/D/B/D/A'
/G/剥離紙の構造の剥離紙付ICラベルを得た。剥離
紙付きのICラベルを作製した。剥離紙を剥がして測定
した物性は、厚さ:540μm、白色度:92%、全光
線透過率:6.0%であった。
Example 2 A thermoplastic resin film layer (A) and the thermoplastic resin film obtained in Production Example 1 were used as the thermoplastic resin film layer (A '), and a print layer similar to that of Example 1 was formed. Separately, a transparent polyethylene terephthalate film (PET) (trade name: Lumirror # 25) manufactured by Toray Industries having a thickness of 23 μm is used as the thermoplastic resin film layer (F), and a polyurethane anchor coating agent (Toyo Morton ( Co., Ltd., EL-150: trade name) is applied so that the coating amount after drying is 1 g / m 2, and after half-drying, the thickness is 1
An aluminum vapor-deposited layer having a thickness of 00 nm was provided as a light shielding layer (E).
As the adhesive layer (D), a polyester-based anchor coating agent (AD-503; trade name, manufactured by Toyo Morton Co., Ltd.) was used at a rate of 4 g / m 2 (solid content). On the other hand, in the same manner as in Example 1, an adhesive layer (G) was formed. Next, in the same manner as in Example 1, printing / A / D / E / F / D / B / D / A '
/ G / IC label with release paper having a structure of release paper. An IC label with release paper was produced. Physical properties measured by peeling the release paper were: thickness: 540 μm, whiteness: 92%, and total light transmittance: 6.0%.

【0056】[0056]

【実施例3】実施例1において、実施例1で用いた熱可
塑性樹脂フィルム(A)、及び熱可塑性樹脂フィルム
(A' )を製造例2で得られた100μmのフィルムに
変更した以外は、実施例1と同様にして印刷/A/E/
D/B/D/A' /G/剥離紙の構造の剥剥離紙付きの
ICラベルを作製した。剥離紙を剥がして測定した物性
は、厚さ:590μm、白色度:94%、全光線透過
率:6.0%であった。
Example 3 In Example 1, except that the thermoplastic resin film (A) used in Example 1 and the thermoplastic resin film (A ′) were changed to the 100 μm film obtained in Production Example 2, Printing / A / E /
An IC label with a release paper having a structure of D / B / D / A '/ G / release paper was prepared. Physical properties measured by peeling the release paper were: thickness: 590 μm, whiteness: 94%, and total light transmittance: 6.0%.

【0057】[0057]

【実施例4】実施例3から熱可塑性樹脂フィルム(A'
)を除いた以外は、実施例3と同様にして印刷/A/
E/D/B/G/剥離紙の構造の剥剥離紙付きのICラ
ベルを作製した。剥離紙を剥がして測定した物性は、厚
さ:490μm、白色度:92%、全光線透過率:6.
5%であった。また、剥離紙を剥がした後、粘着剤同士
を張り合わせることで、航空タグを得た。
Example 4 The thermoplastic resin film (A ′) was obtained from Example 3.
) Except for printing / A /
An IC label with a release paper having a structure of E / D / B / G / release paper was prepared. Physical properties measured by peeling the release paper were as follows: thickness: 490 μm, whiteness: 92%, total light transmittance: 6.
5%. Further, after peeling off the release paper, the adhesive was adhered to each other to obtain an airline tag.

【0058】[0058]

【実施例5】製造例1で得られた熱可塑性樹脂フィルム
層(A)の表面に、アクリルウレタン系樹脂および炭酸
カルシウムからなる溶剤系塗料を乾燥後の塗布量が1g
/m 2 となるようにグラビアコーターで塗工し、印刷層
とした。別に、厚さ23μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム(PET)(東レ(株)製、ルミラー#2
5)を熱可塑性樹脂フィルム層(F)および(A' )と
し、この両面に黒濃度が1.65となるように黒ベタグ
ラビア印刷(厚さ2μm)を施し、光隠蔽層(E)とし
た。別に、製造例7のIC回路層(B)のIC回路及び
アンテナ回路部分を35mm角に打ち抜き加工し、また
製造例4で得られたIC回路保護層(C)に36mm角
の打ち抜き穴を形成した。
Example 5 Thermoplastic resin film obtained in Production Example 1
Acrylic urethane resin and carbonic acid on the surface of layer (A)
1 g of solvent-based paint made of calcium after drying
/ M TwoCoating with a gravure coater so that
And Separately, polyethylene terephthalate with a thickness of 23 μm
Film (PET) (Lumirror # 2, manufactured by Toray Industries, Inc.)
5) as thermoplastic resin film layers (F) and (A ')
Then, a black bed tag is applied to both sides so that the black density becomes 1.65.
Ravier printing (thickness 2μm) is applied to make the light shielding layer (E)
Was. Separately, the IC circuit of the IC circuit layer (B) of Production Example 7 and
The antenna circuit part is punched into a 35 mm square,
36 mm square on the IC circuit protective layer (C) obtained in Production Example 4
Punched holes were formed.

【0059】次に熱可塑性樹脂フィルム層(F)および
(A' )片面の光隠蔽層(E)上に、接着剤層(D)と
してポリエステル系アンカーコート剤を4g/m2 (固
形分の割合)塗布し、打ち抜き加工した製造例4で得ら
れたIC回路保護層(C)の片面に圧着し、A/D/E
/F/E/D/Cとした。次にIC回路保護層(C)の
熱可塑性樹脂フィルム層(A)と反対面の打ち抜き穴部
分に製造例7のIC回路層(B)を挿入し、光隠蔽層
(E)、接着剤層(D)を設けた熱可塑性樹脂フィルム
層(A' )の接着剤層(D)を圧着し、A/D/E/F
/E/D/B+C/D/E/A' /Eとした。
Next, on the thermoplastic resin film layer (F) and the light-hiding layer (E) on one side of (A '), a polyester-based anchor coating agent as an adhesive layer (D) was added at 4 g / m 2 (solid content). %) Coated and punched out, crimped on one side of the IC circuit protective layer (C) obtained in Production Example 4, and A / D / E
/ F / E / D / C. Next, the IC circuit layer (B) of Production Example 7 was inserted into the punched hole portion of the IC circuit protective layer (C) opposite to the thermoplastic resin film layer (A), and the light-shielding layer (E) and the adhesive layer The adhesive layer (D) of the thermoplastic resin film layer (A ') provided with (D) is pressure-bonded, and A / D / E / F
/ E / D / B + C / D / E / A '/ E.

【0060】次にグラシン紙を基材とした剥離紙のシリ
コン処理面に溶剤系アクリル系粘着剤を乾燥後の塗工量
が20g/m2 となるようにコンマコーターで塗工乾燥
して粘着剤層(G)とし、熱可塑性樹脂フィルム層
(A' )のIC回路層(B)側とは反対面に前記粘着剤
層(G)を圧着した。次に55mm×85mmのサイズ
に打ち抜き、印刷層に文字及び画像情報をカード印刷機
でオフセット印刷し、印刷/A/D/E/F/E/D/
B+C/D/E/A' /E/G/剥離紙の構造のICラ
ベルを得た。得られた剥離紙付きの非接触ICラベル
は、剥離紙を剥がして使用される。剥離紙を剥がして各
種物性、及び視認性を評価した。得られたICラベル
は、厚さ:445μm、白色度:90%、全光線透過
率:5.0%であった。
Next, a solvent-based acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to the silicon-treated surface of the release paper made of glassine paper as a base material using a comma coater and dried so that the coated amount after drying was 20 g / m 2. The pressure-sensitive adhesive layer (G) was pressure-bonded to the surface of the thermoplastic resin film layer (A ') opposite to the IC circuit layer (B) side. Next, punching into a size of 55 mm × 85 mm, offset printing of character and image information on a printing layer by a card printer, and printing / A / D / E / F / E / D /
An IC label having a structure of B + C / D / E / A '/ E / G / release paper was obtained. The obtained non-contact IC label with release paper is used after peeling off the release paper. The release paper was peeled off to evaluate various physical properties and visibility. The obtained IC label had a thickness of 445 μm, a whiteness of 90%, and a total light transmittance of 5.0%.

【0061】[0061]

【実施例6】実施例5において、実施例5で用いた熱可
塑性樹脂フィルム層(A)を製造例2で得られた100
μmのフィルムに変更した以外は、実施例5と同様にし
て印刷/A/D/E/F/E/D/B+C/D/E/
A' /E/G/剥離紙の構造のICラベルを作製した。
剥離紙を剥がして各種物性、及び視認性を評価した。評
価結果を、表2に示す。
Example 6 In Example 5, the thermoplastic resin film layer (A) used in Example 5 was replaced with 100% of the thermoplastic resin film layer obtained in Production Example 2.
print / A / D / E / F / E / D / B + C / D / E /
An IC label having a structure of A '/ E / G / release paper was prepared.
The release paper was peeled off to evaluate various physical properties and visibility. Table 2 shows the evaluation results.

【0062】[0062]

【実施例7】実施例5において、実施例5で用いたIC
回路保護層(C)を製造例5で得られた400μmの複
合積層樹脂フィルムに変更し、実施例5で用いたIC回
路層(B)を製造例8で得られたポリエステルフィルム
ベースのものに変更した以外は、実施例5と同様にして
印刷/A/D/E/F/E/D/B+C/D/E/A'
/E/G/剥離紙の構造のICラベルを作製した。剥離
紙を剥がして各種物性、及び視認性を評価した。評価結
果を、表2に示す。
[Embodiment 7] In Embodiment 5, the IC used in Embodiment 5 is used.
The circuit protective layer (C) was changed to the composite laminated resin film of 400 μm obtained in Production Example 5, and the IC circuit layer (B) used in Example 5 was replaced with the polyester film base obtained in Production Example 8. Print / A / D / E / F / E / D / B + C / D / E / A 'in the same manner as in Example 5 except for the change.
An IC label having a structure of / E / G / release paper was produced. The release paper was peeled off to evaluate various physical properties and visibility. Table 2 shows the evaluation results.

【0063】[0063]

【実施例8】実施例7において、実施例7で用いたIC
回路保護層(C)を製造例6で得られた400μmの無
延伸樹脂積層フィルムに変更した以外は、実施例7と同
様にして印刷/A/D/E/F/E/D/B+C/D/
E/A' /E/G/剥離紙の構造のICラベルを作製し
た。剥離紙を剥がして各種物性、及び視認性を評価し
た。評価結果を、表2に示す。
[Embodiment 8] In Embodiment 7, the IC used in Embodiment 7 is used.
Printing / A / D / E / F / E / D / B + C / in the same manner as in Example 7, except that the circuit protective layer (C) was changed to the 400 μm non-stretched resin laminated film obtained in Production Example 6. D /
An IC label having a structure of E / A '/ E / G / release paper was prepared. The release paper was peeled off to evaluate various physical properties and visibility. Table 2 shows the evaluation results.

【0064】[0064]

【実施例9】実施例8において、熱可塑性樹脂フィルム
層(F)及び(A' )を用いず、光隠蔽層(E)として
接着剤層(D)に酸化チタンウィスカーを30重量%含
有するウレタン系二液硬化型の接着剤を、コンマコータ
ーで熱可塑性樹脂フィルム層(A)の片面上に、乾燥後
の重量が50g/m2 になるように塗布後、半乾燥状態
でIC回路層(B)両面と圧着、積層した。8時間放置
後、硬化接着が完了し、印刷/A/E+D/B+C/G
/剥離紙の構造のICラベルを作製した。剥離紙を剥が
して各種物性、及び視認性を評価した。評価結果を、表
2に示す。また、剥離紙を剥がした後、粘着剤同士を張
り合わせることで、航空タグを得た。
Example 9 In Example 8, 30% by weight of titanium oxide whisker was contained in the adhesive layer (D) as the light shielding layer (E) without using the thermoplastic resin film layers (F) and (A '). A two-part urethane-based adhesive is applied on one side of the thermoplastic resin film layer (A) with a comma coater so that the weight after drying is 50 g / m 2 , and then the IC circuit layer is semi-dried. (B) Both sides were pressed and laminated. After leaving for 8 hours, the curing adhesion is completed, and printing / A / E + D / B + C / G
/ An IC label having a structure of release paper was produced. The release paper was peeled off to evaluate various physical properties and visibility. Table 2 shows the evaluation results. Further, after peeling off the release paper, the adhesive was adhered to each other to obtain an airline tag.

【0065】[0065]

【実施例10】実施例9において、接着剤層(D)に酸
化チタンウィスカーを含有せず、熱可塑性樹脂フィルム
層(A)の印刷層と反対面に黒濃度が1.65となるよ
うに黒ベタグラビア印刷(厚さ2μm)を施し、光隠蔽
層(E)を設け、印刷/A/E/D/B+C/G/剥離
紙の構造のICラベルを得た。剥離紙を剥がして各種物
性、及び視認性を評価した。評価結果を、表2に示す。
また、剥離紙を剥がした後、粘着剤同士を張り合わせる
ことで、航空タグを得た。
Example 10 In Example 9, the adhesive layer (D) did not contain titanium oxide whiskers, and the black density was 1.65 on the surface opposite to the printed layer of the thermoplastic resin film layer (A). Black beta gravure printing (2 μm thickness) was performed to provide a light shielding layer (E) to obtain an IC label having a structure of printing / A / E / D / B + C / G / release paper. The release paper was peeled off to evaluate various physical properties and visibility. Table 2 shows the evaluation results.
Further, after peeling off the release paper, the adhesive was adhered to each other to obtain an airline tag.

【0066】[0066]

【比較例1】実施例9で、接着剤層(D)に酸化チタン
ウィスカーを含有しない以外は実施例9と同様にして、
印刷/A/D/B+C/G/剥離紙の構造のICラベル
を作製した。剥離紙を剥がして各種物性、及び視認性を
評価した。評価結果を、表2に示す。
Comparative Example 1 The procedure of Example 9 was repeated, except that the adhesive layer (D) did not contain titanium oxide whiskers.
An IC label having a structure of print / A / D / B + C / G / release paper was prepared. The release paper was peeled off to evaluate various physical properties and visibility. Table 2 shows the evaluation results.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】[0068]

【表2】 [Table 2]

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明により、表面への情報記録が可能
であり、内部のIC回路や配線回路が透けて見えてしま
うというセキュリティー上の心配がなく、強度と耐水性
に優れ、屋内外を問わず、大気中、水中でも用いること
が出来、冷凍食品用容器、工業製品、各種薬品容器、物
流管理用途、製造工程管理用途などに使用可能であるI
Cラベルが得られた。
According to the present invention, information can be recorded on the surface, there is no security concern that the internal IC circuit and wiring circuit can be seen through, and the strength and water resistance are excellent. Regardless, it can be used in air or water, and can be used for frozen food containers, industrial products, various chemical containers, distribution management applications, manufacturing process management applications, etc.
A C-label was obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C005 MA02 MA06 MA09 MA10 MA11 MA12 MA19 MB10 NA08 NB03 NB06 NB07 NB09 NB22 NB27 PA03 PA04 PA14 PA18 PA20 PA21 PA22 PA29 RA03 RA06 RA07 RA11 RA12 RA16 RA22 RA23 5B035 AA07 BA03 BB09 CA01  ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page F term (reference) 2C005 MA02 MA06 MA09 MA10 MA11 MA12 MA19 MB10 NA08 NB03 NB06 NB07 NB09 NB22 NB27 PA03 PA04 PA14 PA18 PA20 PA21 PA22 PA29 RA03 RA06 RA07 RA11 RA12 RA16 RA22 RA23 5B035 AA07 BA03 BB09

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 IC回路層(B)またはIC回路層
(B)を含むIC回路保護層(C)の少なくとも片面に
接着剤層(D)を介して熱可塑性樹脂フィルム層(A)
を設け、片面に粘着剤層(G)を積層貼合して形成され
ることを特徴とするICラベル。
1. A thermoplastic resin film layer (A) on at least one surface of an IC circuit layer (B) or an IC circuit protection layer (C) including the IC circuit layer (B) via an adhesive layer (D).
An IC label formed by laminating and laminating an adhesive layer (G) on one side.
【請求項2】 IC回路層(B)がICラベルより小さ
く、IC回路層(B)の厚みがIC回路保護層(C)の
厚み以下であることを特徴とする請求項1に記載のIC
ラベル。
2. The IC according to claim 1, wherein the IC circuit layer (B) is smaller than the IC label, and the thickness of the IC circuit layer (B) is less than the thickness of the IC circuit protection layer (C).
label.
【請求項3】 IC回路層(B)の少なくとも片面又は
IC回路保護層(C)の少なくとも片面に光隠蔽層
(E)を設けた請求項1又は2に記載のICラベル。
3. The IC label according to claim 1, wherein a light shielding layer (E) is provided on at least one side of the IC circuit layer (B) or at least one side of the IC circuit protection layer (C).
【請求項4】 光隠蔽層(E)、IC回路層(B)又は
IC回路保護層(C)の間に熱可塑性樹脂フィルム層
(F)、接着剤層(D)を設けた請求項1〜3のいずれ
かに記載のICラベル。
4. A thermoplastic resin film layer (F) and an adhesive layer (D) are provided between the light shielding layer (E), the IC circuit layer (B) or the IC circuit protective layer (C). 4. The IC label according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 白色度が85%以上である請求項1〜4
のいずれかに記載のICラベル。
5. The whiteness degree is 85% or more.
The IC label according to any one of the above.
【請求項6】 全光線透過率が15%以下である請求項
1〜5のいずれかに記載のICラベル。
6. The IC label according to claim 1, wherein the total light transmittance is 15% or less.
【請求項7】 熱可塑性樹脂フィルム層(A)が、不透
明度が80%以上であり、かつ白色度が90%以上であ
ることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のI
Cラベル。
7. The method according to claim 1, wherein the thermoplastic resin film layer (A) has an opacity of 80% or more and a whiteness of 90% or more.
C label.
【請求項8】 熱可塑性樹脂フィルム層(A)が、次式
で算出された空孔率が10〜60%である請求項1〜7
のいずれかに記載のICラベル。 空孔率(%)=[(ρ0 −ρ)/ρ0 ]×100 (式中、ρ0 はフィルムの真密度であり、ρはフィルム
の密度である。)
8. The thermoplastic resin film layer (A) has a porosity calculated by the following equation of 10 to 60%.
The IC label according to any one of the above. Porosity (%) = [(ρ 0 −ρ) / ρ 0 ] × 100 (where ρ 0 is the true density of the film and ρ is the density of the film.)
【請求項9】 熱可塑性樹脂フィルム層(A)及び/又
はIC回路保護層(C)に用いられる熱可塑性樹脂が、
ポリオレフィン系樹脂及び/又はポリエステル系樹脂で
ある請求項1〜8のいずれかに記載のICラベル。
9. The thermoplastic resin used for the thermoplastic resin film layer (A) and / or the IC circuit protective layer (C),
9. The IC label according to claim 1, which is a polyolefin resin and / or a polyester resin.
【請求項10】 ポリオレフィン系樹脂が、プロピレン
系樹脂である請求項9に記載のICラベル。
10. The IC label according to claim 9, wherein the polyolefin resin is a propylene resin.
【請求項11】 熱可塑性樹脂フィルム層(A)の表面
に記録層を設けた請求項1〜10のいずれかに記載のI
Cラベル。
11. The method according to claim 1, wherein a recording layer is provided on the surface of the thermoplastic resin film layer (A).
C label.
【請求項12】 請求項1〜10のいずれかに記載のI
Cラベルを用いた航空タグ。
12. The I according to claim 1, wherein
Aviation tag using C label.
【請求項13】 白色度が85%以上である請求項11
又は12に記載のICラベル。
13. The whiteness degree is 85% or more.
Or the IC label according to 12.
【請求項14】 全光線透過率が15%以下である請求
項11〜13のいずれかに記載のICラベル。
14. The IC label according to claim 11, which has a total light transmittance of 15% or less.
【請求項15】 熱可塑性樹脂フィルム層(A)が、不
透明度が80%以上であり、かつ白色度が90%以上で
あることを特徴とする請求項11〜14のいずれかに記
載のICラベル。
15. The IC according to claim 11, wherein the thermoplastic resin film layer (A) has an opacity of 80% or more and a whiteness of 90% or more. label.
【請求項16】 熱可塑性樹脂フィルム層(A)が、次
式で算出された空孔率が10〜60%である請求項11
〜15のいずれかに記載のICラベル。 空孔率(%)=[(ρ0 −ρ)/ρ0 ]×100 (式中、ρ0 はフィルムの真密度であり、ρはフィルム
の密度である。)
16. The thermoplastic resin film layer (A) has a porosity calculated by the following equation of 10 to 60%.
16. The IC label according to any one of items 15 to 15. Porosity (%) = [(ρ 0 −ρ) / ρ 0 ] × 100 (where ρ 0 is the true density of the film and ρ is the density of the film.)
【請求項17】 熱可塑性樹脂フィルム層(A)、及び
IC回路保護層(C)に用いられる熱可塑性樹脂が、ポ
リオレフィン系樹脂及び/又はポリエステル系樹脂であ
る請求項11〜16のいずれかに記載のICラベル。
17. The method according to claim 11, wherein the thermoplastic resin used for the thermoplastic resin film layer (A) and the IC circuit protective layer (C) is a polyolefin resin and / or a polyester resin. The described IC label.
【請求項18】 ポリオレフィン系樹脂が、プロピレン
系樹脂である請求項17に記載のICラベル。
18. The IC label according to claim 17, wherein the polyolefin resin is a propylene resin.
【請求項19】 熱可塑性樹脂フィルム層(A)の表面
に記録層を設けた請求項11〜18のいずれかに記載の
ICラベル。
19. The IC label according to claim 11, wherein a recording layer is provided on the surface of the thermoplastic resin film layer (A).
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006003949A1 (en) * 2004-06-30 2006-01-12 Yupo Corporation In-mold molding label
JP2006048016A (en) * 2004-06-30 2006-02-16 Yupo Corp Label for in-mold molding
JP2007515584A (en) * 2003-12-02 2007-06-14 ワナー・エンジニアリング・インコーポレーテッド Damage detection of pump diaphragm
JP2011048557A (en) * 2009-08-26 2011-03-10 Toppan Printing Co Ltd Non-contact ic label
JP2015077791A (en) * 2013-09-11 2015-04-23 株式会社ユポ・コーポレーション Recording paper and label using the same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007515584A (en) * 2003-12-02 2007-06-14 ワナー・エンジニアリング・インコーポレーテッド Damage detection of pump diaphragm
JP4667391B2 (en) * 2003-12-02 2011-04-13 ワナー・エンジニアリング・インコーポレーテッド Damage detection of pump diaphragm
WO2006003949A1 (en) * 2004-06-30 2006-01-12 Yupo Corporation In-mold molding label
JP2006048016A (en) * 2004-06-30 2006-02-16 Yupo Corp Label for in-mold molding
US9636857B2 (en) 2004-06-30 2017-05-02 Yupo Corporation Label for in-mold forming
JP2011048557A (en) * 2009-08-26 2011-03-10 Toppan Printing Co Ltd Non-contact ic label
JP2015077791A (en) * 2013-09-11 2015-04-23 株式会社ユポ・コーポレーション Recording paper and label using the same

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