JP2002260384A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2002260384A
JP2002260384A JP2001060172A JP2001060172A JP2002260384A JP 2002260384 A JP2002260384 A JP 2002260384A JP 2001060172 A JP2001060172 A JP 2001060172A JP 2001060172 A JP2001060172 A JP 2001060172A JP 2002260384 A JP2002260384 A JP 2002260384A
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JP
Japan
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dummy
circuit
memory cell
bit line
data
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Application number
JP2001060172A
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Japanese (ja)
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Toshiteru Yamanaka
俊輝 山中
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a semiconductor device in which destruction of data of a memory cell or causing erroneous read-out of data can be prevented without increasing current consumption with simple circuit constitution. SOLUTION: A dummy write-buffer 17 having circuit constitution being same as a write-buffer 10 is provided in a dummy memory circuit section 19, circuit constitution of the dummy memory circuit section 19 is made same as a memory circuit section 12 for performing write-in and read-out of data, while an internal control circuit 11 detects voltage of a dummy bit line DBL of the dummy memory circuit section 19 through a detecting circuit 18, discriminates finish of pre-charge, and controls pre-charge operation for a pre-charge circuit 6 and a pre-charge circuit 14.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スタティックRA
M等のICメモリで構成された半導体記憶装置に関し、
特に消費電流を低減させるためのダミーメモリ回路を用
いて、センスアンプやワード線の活性化タイミングを適
格に制御し、プリチャージの動作保証を行うことができ
る半導体記憶装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a static RA
M related to a semiconductor memory device configured by an IC memory,
In particular, the present invention relates to a semiconductor memory device capable of appropriately controlling the activation timing of a sense amplifier and a word line by using a dummy memory circuit for reducing current consumption and guaranteeing a precharge operation.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体記憶装置におけるメモリ回
路では、動作保証と消費電流の低減を目的として、擬似
的に動作を模擬して自己制御を行う回路が一般的によく
用いられており、その代表的なものがダミーメモリ回路
である。該ダミーメモリ回路は、メモリセルが選択され
読み出されるまでの一連の動作を模擬し、ビット線の電
圧やセンスアンプの出力状態を擬似的な回路で検出する
ことによって、内部活性化制御信号を発生させるための
ものである。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a memory circuit of a semiconductor memory device, a circuit that simulates an operation and performs self-control is generally used for the purpose of guaranteeing operation and reducing current consumption. A typical example is a dummy memory circuit. The dummy memory circuit simulates a series of operations until a memory cell is selected and read, and generates an internal activation control signal by detecting a bit line voltage and an output state of a sense amplifier with a pseudo circuit. It is to make it.

【0003】図11は、このような従来の半導体記憶装
置の構成例を示した概略のブロック図であり、図12
は、図11の各部の波形を示したタイミングチャートで
ある。図11及び図12を用いて、従来のダミーメモリ
回路の動作について説明する。図11の半導体記憶装置
100において、外部からのアドレスデータA0〜An
がアドレス入力回路101に入力されると、アドレス入
力回路101は、入力されたアドレスデータA0〜An
を行デコーダ102及び列デコーダ103にそれぞれ出
力すると共にアドレスデータが入力されたことを示す所
定の信号ATDを、各部の動作制御を行う内部制御回路
104に出力する。
FIG. 11 is a schematic block diagram showing a configuration example of such a conventional semiconductor memory device.
12 is a timing chart showing waveforms at various parts in FIG. The operation of the conventional dummy memory circuit will be described with reference to FIGS. In the semiconductor memory device 100 of FIG. 11, external address data A0 to An
Is input to the address input circuit 101, the address input circuit 101 outputs the input address data A0 to An.
Is output to the row decoder 102 and the column decoder 103, respectively, and a predetermined signal ATD indicating that the address data has been input is output to the internal control circuit 104 which controls the operation of each unit.

【0004】内部制御回路104は、所定の信号ATD
が入力されると、プリチャージ回路105及びダミープ
リチャージ回路111に対して、あらかじめ設定された
所定の時間活性化させる。プリチャージ回路105及び
ダミープリチャージ回路111が活性化されることによ
って、対応するビット線対BL1,BL1B及びダミー
ビット線対DBL,DBLBに対してそれぞれプリチャ
ージが行われる。
The internal control circuit 104 has a predetermined signal ATD
Is activated, the precharge circuit 105 and the dummy precharge circuit 111 are activated for a predetermined time set in advance. When the precharge circuit 105 and the dummy precharge circuit 111 are activated, the corresponding bit line pair BL1 and BL1B and the dummy bit line pair DBL and DBLB are precharged, respectively.

【0005】内部制御回路104は、所定の時間プリチ
ャージを行なわせた後、プリチャージ回路105及びダ
ミープリチャージ回路111を非活性化状態にすると共
に、行デコーダ102、列デコーダ103、センスアン
プ106、入出力回路107及びダミーセンスアンプ1
12をそれぞれ活性化させる。更に、内部制御回路10
4は、ダミーメモリ回路110のダミープリチャージ回
路111及びダミーセンスアンプ112を活性化させ
る。
After precharging is performed for a predetermined time, the internal control circuit 104 deactivates the precharge circuit 105 and the dummy precharge circuit 111, and also includes a row decoder 102, a column decoder 103, and a sense amplifier 106. , Input / output circuit 107 and dummy sense amplifier 1
12 are each activated. Further, the internal control circuit 10
4 activates the dummy precharge circuit 111 and the dummy sense amplifier 112 of the dummy memory circuit 110.

【0006】また、アドレス入力回路101からのアド
レスデータは、行デコーダ102及び列デコーダ103
でそれぞれデコードされ、行デコーダ102は、アドレ
スデータで指定されたメモリセルMCに接続されている
ワード線を活性化させる。また、列デコーダ103は、
列ゲート109に対してアドレスデータで指定されたメ
モリセルMCに接続されているビット線対をセンスアン
プ106及びライトバッファ110にそれぞれ接続させ
る。
Address data from the address input circuit 101 is supplied to a row decoder 102 and a column decoder 103.
, And the row decoder 102 activates a word line connected to the memory cell MC specified by the address data. Also, the column decoder 103
The bit line pair connected to the memory cell MC specified by the address data is connected to the column gate 109 to the sense amplifier 106 and the write buffer 110, respectively.

【0007】更に、列デコーダ103は、ダミー列ゲー
ト114に対してダミーメモリセルアレイ113の一対
のビット線対DBL,DBLBをそれぞれダミーセンス
アンプ112に接続させる。このようにして、SRAM
のメモリセルアレイ108及びダミーメモリセルアレイ
113において、所望のメモリセルMC及び該メモリセ
ルMCに対応するダミーメモリセルDMCがそれぞれ活
性化される。
Further, the column decoder 103 connects the pair of bit lines DBL and DBLB of the dummy memory cell array 113 to the dummy sense amplifier 112 with respect to the dummy column gate 114. In this way, the SRAM
In the memory cell array 108 and the dummy memory cell array 113, a desired memory cell MC and a dummy memory cell DMC corresponding to the memory cell MC are activated.

【0008】例えば、メモリセルアレイ108の所望の
メモリセルMCからデータを読み出す場合は、列ゲート
109によって、活性化されたメモリセルMCに接続さ
れているビット線対BL1,BL1Bがデータ線対DL
及びDLBを介してセンスアンプ106に接続され、セ
ンスアンプ106から入出力回路107に読み出しデー
タが出力される。更に、該読み出しデータは、入出力回
路107から出力端子DOUTを介して外部へ出力され
る。
For example, when data is read from a desired memory cell MC of the memory cell array 108, the bit line pair BL1, BL1B connected to the activated memory cell MC is connected to the data line pair DL by the column gate 109.
, And DLB, the sense amplifier 106 outputs the read data to the input / output circuit 107. Further, the read data is output from the input / output circuit 107 to the outside via the output terminal DOUT.

【0009】同様に、ダミー列ゲート114によって、
活性化されたダミーメモリセル113に接続されている
ダミービット線対DBL及びDBLBがダミーデータ線
対DDL,DDLBを介してダミーセンスアンプ112
に接続され、ダミーセンスアンプ112から内部制御回
路104に、読み出したデータを示すデータ信号DSO
が出力される。
Similarly, the dummy column gate 114
The dummy bit line pair DBL and DBLB connected to the activated dummy memory cell 113 is connected to the dummy sense amplifier 112 via the dummy data line pair DDL and DDLB.
And a data signal DSO indicating read data from the dummy sense amplifier 112 to the internal control circuit 104.
Is output.

【0010】内部制御回路104は、所定のデータ信号
DSOが入力されると、行デコーダ102、列デコーダ
103、センスアンプ106、入出力回路107及びダ
ミーセンスアンプ112をそれぞれ非活性化状態にする
と共に、プリチャージ回路105及びダミープリチャー
ジ回路111をそれぞれ活性化状態にする。なお、プリ
チャージ回路105、センスアンプ106、入出力回路
107、メモリセルアレイ108、列ゲート109及び
ライトバッファ110がメモリ回路部を構成すると共
に、ダミープリチャージ回路111、ダミーセンスアン
プ112、ダミーメモリセルアレイ113及びダミー列
ゲート114がダミーメモリ回路部を構成する。
When a predetermined data signal DSO is input, the internal control circuit 104 deactivates the row decoder 102, the column decoder 103, the sense amplifier 106, the input / output circuit 107, and the dummy sense amplifier 112, respectively. , The precharge circuit 105 and the dummy precharge circuit 111 are activated. The precharge circuit 105, the sense amplifier 106, the input / output circuit 107, the memory cell array 108, the column gate 109, and the write buffer 110 constitute a memory circuit unit, and the dummy precharge circuit 111, the dummy sense amplifier 112, and the dummy memory cell array 113 and the dummy column gate 114 constitute a dummy memory circuit portion.

【0011】このように、アドレスデータA0〜Anが
入力されると、1つのワード線及び1対のビット線がそ
れぞれ活性化され、メモリセルアレイMAの1つのメモ
リセルMCが選択されるが、同時に活性化されたワード
線に接続されているダミーメモリセルDMCが選択され
る。該ダミーメモリセルDMCは、選択されたメモリセ
ルMCと同様のビット線及びセンスアンプに接続されて
いるため、データ読み出し動作の状態を模擬することが
できる。データ読み出しが完了したことを検出できれ
ば、内部制御回路104は、各部を非活性化状態にする
ことによって、ワード線を非活性化させると共にセンス
アンプの動作を終了させ無駄な消費電流を軽減させてい
る。
As described above, when the address data A0 to An are input, one word line and one pair of bit lines are activated, respectively, and one memory cell MC of the memory cell array MA is selected. The dummy memory cell DMC connected to the activated word line is selected. Since the dummy memory cell DMC is connected to the same bit line and sense amplifier as the selected memory cell MC, the state of the data read operation can be simulated. If the completion of the data read can be detected, the internal control circuit 104 deactivates the word line and terminates the operation of the sense amplifier by deactivating each unit, thereby reducing unnecessary current consumption. I have.

【0012】次に、メモリセルアレイ108の所望のメ
モリセルMCにデータを書き込む場合は、外部から入力
されたアドレスデータA0〜Anによって所望のメモリ
セルMCが活性化される。入力端子DINから入出力回
路107に入力された書き込み用データは、ライトバッ
ファ110及び列ゲート109を介してビット線対BL
1及びBL1Bに出力され、メモリセルアレイ108の
所望のメモリセルMCに書き込まれる。一方、各ダミー
メモリセルDMCを構成するそれぞれのフリップフロッ
プには所定のレベルの電圧が印加され所定のデータが書
き込まれた状態になっている。
Next, when writing data to a desired memory cell MC of the memory cell array 108, the desired memory cell MC is activated by externally input address data A0 to An. The write data input from the input terminal DIN to the input / output circuit 107 is transmitted to the bit line pair BL via the write buffer 110 and the column gate 109.
1 and BL1B, and are written to desired memory cells MC of the memory cell array 108. On the other hand, a voltage of a predetermined level is applied to each flip-flop constituting each dummy memory cell DMC, and predetermined data is written.

【0013】また、アドレスデータが入力されることに
よって各部が活性化する図11で示したような非同期型
の半導体記憶装置では、クロック信号の信号レベルの変
化によって各部が活性化する同期型の半導体記憶装置の
ように、プリチャージ回路によってメモリセルアレイへ
のプリチャージが行われる期間をもたないため、プリチ
ャージ制御信号PRCによってプリチャージ期間を確保
しなければならない。プリチャージ期間が短すぎればビ
ット線に前回のデータが残り新たなデータ読み出しの妨
げになる。またプリチャージ期間を長く取りすぎると、
データ読み出しの遅延につながる。したがって、プリチ
ャージ期間を最適にすることが動作性能の向上につなが
る。
Further, in an asynchronous semiconductor memory device as shown in FIG. 11 in which each section is activated by input of address data, a synchronous semiconductor memory in which each section is activated by a change in the signal level of a clock signal. Unlike a storage device, since there is no period in which a precharge circuit precharges a memory cell array, a precharge period must be secured by a precharge control signal PRC. If the precharge period is too short, the previous data remains on the bit line, preventing new data reading. If the precharge period is too long,
This leads to a delay in data reading. Therefore, optimizing the precharge period leads to improvement in operation performance.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしここで問題とな
るのが、データ書き込み直後のプリチャージ期間であ
る。データ書き込み状態においてビット線対の電圧差が
最も大きい状態(以下、この状態をフルスイング状態と
呼ぶ)にあるため、次のデータ読み出し時のプリチャー
ジ期間tを長くする必要がある。通常、すべてのプリチ
ャージ期間は、この時間tにあわせて設定している。し
かしこのような方法では、データ読み出しサイクル中に
おけるプリチャージ期間としては長すぎるという問題が
あった。また、プリチャージ期間を設定する際に、従来
はメモリサイズの変化には対応することができないた
め、メモリサイズごとに対応するか、又はすべてに対応
できるようなマージンのある値に設定しておかねばなら
なかった。
However, the problem here is the precharge period immediately after data writing. Since the voltage difference between the bit line pair is the largest in the data write state (hereinafter, this state is referred to as a full swing state), it is necessary to lengthen the precharge period t in the next data read. Normally, all precharge periods are set in accordance with this time t. However, such a method has a problem that the precharge period in the data read cycle is too long. Also, when setting the precharge period, conventionally, it is not possible to cope with a change in memory size, so it is necessary to set a value having a margin that can cope with each memory size or all of them. I had to.

【0015】これに対して、ダミーメモリ回路でプリチ
ャージ期間を制御する方法がある。該方法は、ダミーメ
モリ回路のビット線にプリチャージ状態を検出する検出
回路を設け、該検出回路によって検出されたプリチャー
ジ状態に応じて、プリチャージ回路の活性化制御状態を
行うものである。このようにすることによって、データ
読み出しサイクル中に余分なプリチャージを行うことな
く、メモリサイズの変化に対しても追従して対応できる
が、データ書き込み直後のプリチャージ状態については
対応することができなかった。
On the other hand, there is a method of controlling a precharge period in a dummy memory circuit. In this method, a detection circuit for detecting a precharge state is provided on a bit line of a dummy memory circuit, and an activation control state of the precharge circuit is performed according to the precharge state detected by the detection circuit. By doing so, it is possible to respond to changes in memory size without performing extra precharge during a data read cycle, but it is possible to respond to a precharge state immediately after writing data. Did not.

【0016】通常、ダミーメモリ回路を使用する主な目
的は、データ読み出し時の消費電流を軽減させることで
あることから、ダミーメモリ回路にはデータ読み出し時
に不必要なライトバッファを設けていなかった。このた
めデータ書き込み状態において、図12で示すように、
ゲートサイズの大きなトランジスタで構成されたライト
バッファによって、急激にフルスイング状態になるビッ
ト線対BL1,BL1Bに対して、ダミービット線対D
BL,DBLBはデータ読み出し状態と同じく電圧差の
小さい変化となる。
Normally, the main purpose of using a dummy memory circuit is to reduce current consumption during data reading. Therefore, the dummy memory circuit has not been provided with an unnecessary write buffer at the time of data reading. Therefore, in the data write state, as shown in FIG.
A write buffer composed of a transistor having a large gate size causes a pair of bit lines BL1 and BL1B, which suddenly enter a full swing state, to a dummy bit line pair D1.
BL and DBLB have small changes in voltage difference as in the data read state.

【0017】このため、高速のSRAMのようなデータ
読み出し及びデータ書き込みの各サイクルが短いものに
対して、データ書き込み直後に他の番地からのデータ読
み出し動作に遷移する場合に、ビット線対の電圧差と、
ダミービット線対の電圧差に差が生じているため、プリ
チャージ期間を十分にモニタすることができなかった。
この結果、メモリセルのデータ破壊又はデータの誤った
読み出しが生じる場合があった。
[0017] Therefore, in a case where each cycle of data reading and data writing is short such as a high-speed SRAM, when transitioning to a data reading operation from another address immediately after data writing, the voltage of the bit line pair is reduced. Difference and,
Due to the difference in the voltage difference between the dummy bit line pairs, the precharge period could not be monitored sufficiently.
As a result, data destruction of a memory cell or erroneous reading of data may occur.

【0018】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたものであり、ダミーメモリセルやダミービ
ット線を有するダミーメモリ回路にダミーライトバッフ
ァを設けて、データ読み出し及びデータ書き込みのいず
れの状態においても適したビット線電圧を模擬し、ビッ
ト線電圧に応じてプリチャージ期間を制御するようにし
て、簡単な回路構成で消費電流を増加させることなく、
メモリセルのデータ破壊又はデータの誤った読み出しの
発生を防止することができる半導体記憶装置を得ること
を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problem. A dummy write buffer is provided in a dummy memory circuit having a dummy memory cell and a dummy bit line to perform either data reading or data writing. Simulates a suitable bit line voltage even in the state described above, and controls the precharge period according to the bit line voltage, without increasing current consumption with a simple circuit configuration.
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of preventing occurrence of data destruction of a memory cell or erroneous reading of data.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置は、複数のメモリセルを有するメモリセルアレイ
と、対応する各メモリセルに対して相反する信号レベル
の相補信号の入出力をそれぞれ行う少なくとも1つのビ
ット線対と、対応する各メモリセルに対する活性化制御
信号の伝達を行う各ワード線と、所望のメモリセルから
のデータ読み出し時に該メモリセルに接続されたビット
線対からの信号を増幅して出力するセンスアンプと、デ
ータ書き込み時に対応するビット線対を介して所望のメ
モリセルへのデータ書き込みを行うライトバッファと、
ビット線対に対するプリチャージを行うプリチャージ回
路とを有するメモリ回路部を備えた半導体記憶装置にお
いて、メモリセルアレイのメモリセルと同じ構成をなし
対応するメモリセルと同じワード線に接続された複数の
ダミーメモリセルで構成され、メモリセルアレイの動作
を模擬するダミーメモリセルアレイ、該ダミーメモリセ
ルアレイの対応する各ダミーメモリセルに対して相反す
る信号レベルの相補信号の入出力をそれぞれ行うダミー
ビット線対、ダミーメモリセルに対して所定のデータの
書き込みを行うダミーライトバッファ、及びダミービッ
ト線対に対するプリチャージを行うダミープリチャージ
回路を有し、メモリ回路部の動作を模擬するダミーメモ
リ回路部と、ダミービット線対における一方のダミービ
ット線の電圧を検出する検出回路部と、該検出回路部で
検出された電圧からビット線対に対するプリチャージ状
態の判定を行ってプリチャージ回路及びダミープリチャ
ージ回路の動作制御を行う制御部とを備えるものであ
る。
A semiconductor memory device according to the present invention has at least a memory cell array having a plurality of memory cells and at least input / output of complementary signals of opposite signal levels to corresponding memory cells. One bit line pair, each word line transmitting an activation control signal to each corresponding memory cell, and amplifying a signal from a bit line pair connected to the memory cell when reading data from a desired memory cell. A write amplifier for writing data to a desired memory cell via a corresponding bit line pair at the time of data writing; and
In a semiconductor memory device having a memory circuit portion having a precharge circuit for precharging a bit line pair, a plurality of dummy cells connected to the same word line as a corresponding memory cell having the same configuration as a memory cell of a memory cell array A dummy memory cell array comprising memory cells, simulating the operation of the memory cell array; a dummy bit line pair for inputting / outputting a complementary signal of an opposite signal level to each corresponding dummy memory cell of the dummy memory cell array; A dummy write buffer for writing predetermined data to a memory cell; a dummy precharge circuit for precharging a dummy bit line pair; a dummy memory circuit for simulating the operation of the memory circuit; Check the voltage of one dummy bit line in the line pair. A detection circuit for, in which a control unit for controlling the operation of the precharge circuit and the dummy precharge circuit performs determination of the precharge state for the bit line pair from the voltage detected by the detection circuit unit.

【0020】具体的には、上記ダミーメモリセルアレイ
は、各ワード線に対応して接続された各ダミーメモリセ
ルで構成され、該各ダミーメモリセルは、ダミービット
線対に対して相反する信号レベルの相補信号の入出力を
行うものである。
More specifically, the dummy memory cell array includes dummy memory cells connected to each word line, and each of the dummy memory cells has a signal level opposite to a dummy bit line pair. To input and output the complementary signal of.

【0021】更に、上記ダミーメモリ回路部は、所望の
ダミーメモリセルからのデータ読み出し時に、該ダミー
メモリセルに接続されたダミービット線対からの信号を
増幅して制御部に出力するダミーセンスアンプを備え、
制御部は、ダミーセンスアンプからの信号に応じてメモ
リ回路部におけるセンスアンプ及びワード線の活性化制
御をそれぞれ行うようにしてもよい。
Further, the dummy memory circuit section, when reading data from a desired dummy memory cell, amplifies a signal from a dummy bit line pair connected to the dummy memory cell and outputs the amplified signal to a control section. With
The control unit may control activation of the sense amplifier and the word line in the memory circuit unit in accordance with a signal from the dummy sense amplifier.

【0022】具体的には、上記各ダミーメモリセルは、
所定のデータを格納して保持するように常時所定の電圧
が印加されるようにした。
Specifically, each of the dummy memory cells is
A predetermined voltage is always applied so as to store and hold predetermined data.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】次に、図面に示す実施の形態に基
づいて、本発明を詳細に説明する。図1は、本発明の実
施の形態における半導体記憶装置の構成例を示したブロ
ック図である。なお、図1では、説明を分かりやすくす
るために、メモリセルアレイが1列のメモリセルで構成
されている場合を例にして示している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described in detail based on an embodiment shown in the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. Note that FIG. 1 shows a case where the memory cell array is formed of one column of memory cells as an example for easy understanding.

【0024】図1において、半導体記憶装置1は、外部
からのアドレスデータA0〜Anが入力されるアドレス
入力回路2と、ワード線WL0〜WLm(mは自然数)
の活性化制御を行う行デコーダ3と、列デコーダ4と、
1列(m+1)行のSRAMの各メモリセルMCで構成
されたメモリセルアレイ5とを備えている。また、半導
体記憶装置1は、該メモリセルアレイ5のビット線対に
対してプリチャージを行うプリチャージ回路6と、メモ
リセルアレイ5の所望のビット線対とデータ線対DL,
DLBとの接続を行う列ゲート7とを備えている。
In FIG. 1, a semiconductor memory device 1 has an address input circuit 2 to which address data A0 to An are input from outside, and word lines WL0 to WLm (m is a natural number).
, A row decoder 3 that controls the activation of
And a memory cell array 5 composed of each memory cell MC of the SRAM in one column (m + 1) row. The semiconductor memory device 1 includes a precharge circuit 6 for precharging a bit line pair of the memory cell array 5, a desired bit line pair and a data line pair DL,
And a column gate 7 for connection to the DLB.

【0025】更に、半導体記憶装置1は、データ線対D
L,DLBを介して読み出しデータが入力されるセンス
アンプ8と、該センスアンプ8から出力されるデータ信
号を出力端子DOUTを介して出力する入出力回路9
と、入力端子DINから該入出力回路9を介して入力さ
れた書き込みデータをデータ線対DL,DLBに出力す
るライトバッファ10とを備えている。また、半導体記
憶装置1は、行デコーダ3、列デコーダ4、プリチャー
ジ回路6、センスアンプ8、入出力回路9及びライトバ
ッファ10の活性化制御を行う内部制御回路11を備え
ている。メモリセルアレイ5、プリチャージ回路6、列
ゲート7、センスアンプ8及びライトバッファ10でメ
モリ回路部12を形成している。
Further, the semiconductor memory device 1 has a data line pair D
A sense amplifier 8 to which read data is input via L and DLB, and an input / output circuit 9 for outputting a data signal output from the sense amplifier 8 via an output terminal DOUT
And a write buffer 10 that outputs write data input from the input terminal DIN via the input / output circuit 9 to the pair of data lines DL and DLB. The semiconductor memory device 1 includes a row decoder 3, a column decoder 4, a precharge circuit 6, a sense amplifier 8, an input / output circuit 9, and an internal control circuit 11 for controlling activation of the write buffer 10. The memory circuit unit 12 is formed by the memory cell array 5, the precharge circuit 6, the column gate 7, the sense amplifier 8, and the write buffer 10.

【0026】一方、半導体記憶装置1は、SRAMの各
ダミーメモリセルDMCで構成されたダミーメモリセル
アレイ13と、該ダミーメモリセルアレイ13のビット
線対DBL,DBLBに対してプリチャージを行うダミ
ープリチャージ回路14と、ダミーメモリセルアレイ1
3のダミービット線対DBL,DBLBとダミーデータ
線対DDL,DDLBとの接続を行うダミー列ゲート1
5とを備えている。
On the other hand, the semiconductor memory device 1 has a dummy memory cell array 13 composed of each dummy memory cell DMC of the SRAM and a dummy precharge for precharging the bit line pair DBL, DBLB of the dummy memory cell array 13. Circuit 14 and dummy memory cell array 1
3 dummy column gates 1 for connecting the dummy bit line pairs DBL, DBLB to the dummy data line pairs DDL, DDLB.
5 is provided.

【0027】更に、半導体記憶装置1は、ダミーデータ
線対DDL,DDLBを介して読み出したデータが入力
されるダミーセンスアンプ16と、所定の書き込みデー
タをダミーデータ線対DDL,DDLBに出力するダミ
ーライトバッファ17と、ダミービット線DBLの電圧
検出を行い、該検出した電圧を内部制御回路11に出力
する検出回路18とを備えている。また、ダミーメモリ
セルアレイ13、ダミープリチャージ回路14、ダミー
列ゲート15、ダミーセンスアンプ16及びダミーライ
トバッファ17は、ダミーメモリ回路部19を形成して
いる。なお、内部制御回路11は制御部をなし、検出回
路18は検出回路部をなす。
Further, the semiconductor memory device 1 includes a dummy sense amplifier 16 to which data read via the dummy data line pair DDL and DDLB is input, and a dummy for outputting predetermined write data to the dummy data line pair DDL and DDLB. A write buffer 17 and a detection circuit 18 for detecting the voltage of the dummy bit line DBL and outputting the detected voltage to the internal control circuit 11 are provided. In addition, the dummy memory cell array 13, the dummy precharge circuit 14, the dummy column gate 15, the dummy sense amplifier 16, and the dummy write buffer 17 form a dummy memory circuit unit 19. The internal control circuit 11 forms a control unit, and the detection circuit 18 forms a detection circuit unit.

【0028】ダミーメモリセルアレイ13は、メモリセ
ルアレイ5における1列分のメモリセル列と同様の構成
をなしており、ワード線WL0〜WLmに対応して接続
された(m+1)個のダミーメモリセルDMCで構成さ
れている。また、検出回路18は、インバータで構成さ
れており、該インバータにおいて、入力端がダミービッ
ト線DBLに接続され、出力端が内部制御回路11に接
続されている。
The dummy memory cell array 13 has the same configuration as one memory cell column in the memory cell array 5, and (m + 1) dummy memory cells DMC connected corresponding to the word lines WL0 to WLm. It is composed of The detection circuit 18 is formed of an inverter. In the inverter, an input terminal is connected to the dummy bit line DBL, and an output terminal is connected to the internal control circuit 11.

【0029】なお、検出回路18は、所定の制御信号に
応じてダミービット線DBLの電圧レベルの検出を行う
ようにしてもよく、この場合、例えば検出回路18を2
入力のNAND回路で構成するとよい。該NAND回路
において、一方の入力端をダミービット線DBLに接続
し、出力端を内部制御回路11に接続して、他方の入力
端に所定の制御信号が入力され、該制御信号に応じてダ
ミービット線DBLの電圧レベルに応じた信号を内部制
御回路11に出力する。
The detection circuit 18 may detect the voltage level of the dummy bit line DBL according to a predetermined control signal.
It is preferable to use an input NAND circuit. In the NAND circuit, one input terminal is connected to the dummy bit line DBL, the output terminal is connected to the internal control circuit 11, and a predetermined control signal is input to the other input terminal. A signal corresponding to the voltage level of bit line DBL is output to internal control circuit 11.

【0030】外部からのアドレスデータA0〜Anがア
ドレス入力回路2に入力されると、アドレス入力回路2
は、入力されたアドレスデータA0〜Anを行デコーダ
3及び列デコーダ4にそれぞれ出力すると共にアドレス
データが入力されたことを示す所定の信号ATDを、内
部制御回路11に出力する。
When external address data A0 to An is input to the address input circuit 2, the address input circuit 2
Outputs the input address data A0 to An to the row decoder 3 and the column decoder 4, respectively, and outputs a predetermined signal ATD indicating that the address data has been input to the internal control circuit 11.

【0031】内部制御回路11は、所定の信号ATDが
入力されると、プリチャージ回路6及びダミープリチャ
ージ回路14に対して、ハイ(High)レベルのプリ
チャージ制御信号PRCをそれぞれ出力して所定のプリ
チャージ動作を行わせると共に、検出回路18から入力
されるダミービット線DBLの電圧をモニタする。プリ
チャージ回路6及びダミープリチャージ回路14が活性
化されることによって、メモリセルアレイ5及びダミー
メモリセルアレイ13におけるすべてのビット線対に対
してプリチャージが行われる。
When a predetermined signal ATD is inputted, the internal control circuit 11 outputs a high (High) level precharge control signal PRC to the precharge circuit 6 and the dummy precharge circuit 14, respectively. And the voltage of the dummy bit line DBL input from the detection circuit 18 is monitored. When the precharge circuit 6 and the dummy precharge circuit 14 are activated, all the bit line pairs in the memory cell array 5 and the dummy memory cell array 13 are precharged.

【0032】この後、内部制御回路11は、ダミービッ
ト線DBLの電圧が所定の電圧に上昇したことを検出す
ると、プリチャージ回路6によるプリチャージが完了し
たと判断し、プリチャージ制御信号PRCをローレベル
に立ち下げて、プリチャージ回路6及びダミープリチャ
ージ回路14に対してプリチャージ動作を停止させる。
これと同時に、内部制御回路11は、行デコーダ3及び
列デコーダ4を活性化させると共に、センスアンプ8、
入出力回路9及びダミーセンスアンプ16に所定の制御
信号SENをそれぞれ出力して活性化させ、更にライト
バッファ10及びダミーライトバッファ17に対して、
外部から入力されるライトイネーブル信号WEBに応じ
た書き込み制御信号WENを出力する。
Thereafter, when detecting that the voltage of dummy bit line DBL has risen to a predetermined voltage, internal control circuit 11 determines that precharge by precharge circuit 6 has been completed, and outputs a precharge control signal PRC. By falling to a low level, the precharge operation is stopped for the precharge circuit 6 and the dummy precharge circuit 14.
At the same time, the internal control circuit 11 activates the row decoder 3 and the column decoder 4 and simultaneously activates the sense amplifier 8,
A predetermined control signal SEN is output to the input / output circuit 9 and the dummy sense amplifier 16 to activate the same, and further, the write buffer 10 and the dummy write buffer 17 are
A write control signal WEN corresponding to a write enable signal WEB input from outside is output.

【0033】また、アドレス入力回路2からのアドレス
データは、行デコーダ3及び列デコーダ4でそれぞれデ
コードされ、行デコーダ3は、アドレスデータで指定さ
れたメモリセルMCに接続されているワード線を活性化
させる。また、列デコーダ4は、列ゲート7に対してア
ドレスデータで指定されたメモリセルMCに接続されて
いるビット線対BL1,BL1Bを、データ線対DL,
DLBを介してセンスアンプ8及びライトバッファ10
にそれぞれ接続させる。
The address data from the address input circuit 2 is decoded by a row decoder 3 and a column decoder 4, respectively. The row decoder 3 activates a word line connected to a memory cell MC specified by the address data. To In addition, the column decoder 4 connects the bit line pair BL1 and BL1B connected to the memory cell MC specified by the address data to the column gate 7 to the data line pair DL and
Sense amplifier 8 and write buffer 10 via DLB
To each other.

【0034】更に、列デコーダ4は、ダミー列ゲート1
5に対してダミーメモリセルアレイ13の一対のダミー
ビット線対DBL,DBLBをダミーデータ線対DD
L,DDLBを介してダミーセンスアンプ16及びダミ
ーライトバッファ17にそれぞれ接続させる。このよう
にして、メモリセルアレイ5及びダミーメモリセルアレ
イ13において、所望のメモリセルMC及び該メモリセ
ルMCに対応するダミーメモリセルDMCがそれぞれ活
性化される。
Further, the column decoder 4 includes a dummy column gate 1
5, a pair of dummy bit line pairs DBL and DBLB of the dummy memory cell array 13 are connected to the dummy data line pair DD.
L and DDLB are connected to the dummy sense amplifier 16 and the dummy write buffer 17, respectively. In this way, in the memory cell array 5 and the dummy memory cell array 13, a desired memory cell MC and a dummy memory cell DMC corresponding to the memory cell MC are activated.

【0035】ここで、例えば、メモリセルアレイ5の所
望のメモリセルMCからデータを読み出す場合は、内部
制御回路11に、外部からのライトイネーブル信号WE
Bがハイレベルとなって非活性化状態となり、ライトバ
ッファ10及びダミーライトバッファ17に対して、ロ
ー(Low)レベルの制御信号WENを出力してそれぞ
れ非活性化状態にする。また、列デコーダ4によって制
御された列ゲート7により、活性化されたメモリセルM
Cに接続されているビット線対BL1,BL1Bがデー
タ線対DL1及びDL1Bを介してセンスアンプ8に接
続され、センスアンプ8に入力された読み出しデータ
は、センスアンプ8で増幅されて入出力回路9に出力さ
れ、更に入出力回路9から出力端子DOUTを介して外
部へ出力される。
Here, for example, when reading data from a desired memory cell MC of the memory cell array 5, the internal control circuit 11 sends an external write enable signal WE to the internal control circuit 11.
B becomes high level and becomes inactive, and outputs a low (Low) level control signal WEN to the write buffer 10 and the dummy write buffer 17 to make them inactive respectively. The memory cell M activated by the column gate 7 controlled by the column decoder 4
The bit line pair BL1 and BL1B connected to C is connected to the sense amplifier 8 via the data line pair DL1 and DL1B, and the read data input to the sense amplifier 8 is amplified by the sense amplifier 8 and the input / output circuit 9 and further output from the input / output circuit 9 to the outside via the output terminal DOUT.

【0036】同様に、列デコーダ4によって制御された
ダミー列ゲート15により、活性化されたダミーメモリ
セルDMCに接続されているダミービット線対DBL,
DBLBがダミーデータ線対DDL,DDLBを介して
ダミーセンスアンプ16に接続される。ダミーセンスア
ンプ16に入力された読み出しデータは、ダミーセンス
アンプ16で増幅されてデータ信号DSOとして内部制
御回路11に出力される。内部制御回路11は、所定の
データ信号DSOが入力されると、行デコーダ3、列デ
コーダ4、センスアンプ8、入出力回路9、ダミーセン
スアンプ16及びダミーライトバッファ17をそれぞれ
非活性化状態にすると共に、プリチャージ回路6及びダ
ミープリチャージ回路14をそれぞれ活性化状態にす
る。
Similarly, a dummy bit line pair DBL, DBL, connected to an activated dummy memory cell DMC by a dummy column gate 15 controlled by a column decoder 4.
DBLB is connected to dummy sense amplifier 16 via dummy data line pair DDL, DDLB. The read data input to the dummy sense amplifier 16 is amplified by the dummy sense amplifier 16 and output to the internal control circuit 11 as a data signal DSO. When a predetermined data signal DSO is input, the internal control circuit 11 deactivates the row decoder 3, the column decoder 4, the sense amplifier 8, the input / output circuit 9, the dummy sense amplifier 16, and the dummy write buffer 17, respectively. At the same time, the precharge circuit 6 and the dummy precharge circuit 14 are activated.

【0037】次に、プリチャージ回路6とダミープリチ
ャージ回路14、列ゲート7とダミー列ゲート15、セ
ンスアンプ8とダミーセンスアンプ16、及びライトバ
ッファ10とダミーライトバッファ17は、それぞれ同
じ回路構成をなしており、各部の具体的な回路例につい
て説明する。まず、図2は、メモリセルMCの例を示し
た回路図であり、図3は、ダミーメモリセルDMCの例
を示した回路図である。なお、図2及び図3では、任意
のワード線WLx(0≦x≦m)に接続されたメモリセ
ルMC及びダミーメモリセルDMCを例にして示してい
る。
Next, the precharge circuit 6 and the dummy precharge circuit 14, the column gate 7 and the dummy column gate 15, the sense amplifier 8 and the dummy sense amplifier 16, and the write buffer 10 and the dummy write buffer 17 have the same circuit configuration. , And a specific circuit example of each unit will be described. First, FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a memory cell MC, and FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a dummy memory cell DMC. Note that FIGS. 2 and 3 show a memory cell MC and a dummy memory cell DMC connected to an arbitrary word line WLx (0 ≦ x ≦ m) as an example.

【0038】図2及び図3において、メモリセルMC及
びダミーメモリセルDMCは、それぞれフリップフロッ
プをなすインバータINV1,INV2と、同じワード
線にゲートが接続され該フリップフロップに対するトラ
ンスファゲートをなすNチャネル型MOSトランジスタ
(以下、NMOSトランジスタと呼ぶ)QN1及びQN
2で構成されている。
In FIG. 2 and FIG. 3, a memory cell MC and a dummy memory cell DMC are respectively an inverter INV1, INV2 forming a flip-flop and an N-channel type having a gate connected to the same word line and forming a transfer gate for the flip-flop. MOS transistors (hereinafter referred to as NMOS transistors) QN1 and QN
2 is comprised.

【0039】メモリセルMCにおいて、インバータIN
V1とINV2との一方の接続部は、NMOSトランジ
スタQN1を介してビット線BL1に接続され、インバ
ータINV1とINV2との他方の接続部は、NMOS
トランジスタQN2を介してビット線BL1Bに接続さ
れている。また、ダミーメモリセルDMCにおいて、イ
ンバータINV1とINV2との一方の接続部は、NM
OSトランジスタQN1を介してダミービット線DBL
に接続され、インバータINV1とINV2との他方の
接続部は、例えば電源電圧VDDといった所定の電圧が
印加されており、更にNMOSトランジスタQN2を介
してダミービット線DBLBに接続されている。このこ
とから、ダミーメモリセルアレイ13の各ダミーメモリ
セルDMCは、データ読み出し時において、ダミービッ
ト線DBLがローレベル、ダミービット線DBLBがハ
イレベルになる。
In the memory cell MC, the inverter IN
One connecting portion between V1 and INV2 is connected to bit line BL1 via NMOS transistor QN1, and the other connecting portion between inverters INV1 and INV2 is
It is connected to bit line BL1B via transistor QN2. In the dummy memory cell DMC, one connection between the inverters INV1 and INV2 is connected to NM
Dummy bit line DBL via OS transistor QN1
The other connection between the inverters INV1 and INV2 is supplied with a predetermined voltage such as a power supply voltage VDD, and is further connected to a dummy bit line DBLB via an NMOS transistor QN2. From this, in each dummy memory cell DMC of the dummy memory cell array 13, at the time of data reading, the dummy bit line DBL goes low and the dummy bit line DBLB goes high.

【0040】次に、図4は、プリチャージ回路6の回路
例を示した図である。図4において、プリチャージ回路
6は、トランスミッションゲートTM1〜TM3及びイ
ンバータINV3で構成されている。トランスミッショ
ンゲートTM1〜TM3を構成する各NMOSトランジ
スタのゲートには、内部制御回路11からのプリチャー
ジ制御信号PRCがそれぞれ入力されている。また、ト
ランスミッションゲートTM1〜TM3を構成する各P
チャネル型MOSトランジスタ(以下、PMOSトラン
ジスタと呼ぶ)のゲートには、インバータINV3を介
して内部制御回路11からのプリチャージ制御信号PR
Cがそれぞれ入力されている。
FIG. 4 is a diagram showing a circuit example of the precharge circuit 6. As shown in FIG. 4, the precharge circuit 6 includes transmission gates TM1 to TM3 and an inverter INV3. The precharge control signal PRC from the internal control circuit 11 is input to the gate of each NMOS transistor constituting the transmission gates TM1 to TM3. In addition, each P constituting the transmission gates TM1 to TM3
A gate of a channel type MOS transistor (hereinafter, referred to as a PMOS transistor) has a gate connected to a precharge control signal PR from an internal control circuit 11 via an inverter INV3.
C has been input.

【0041】トランスミッションゲートTM1は、ビッ
ト線BL1に対する電源電圧VDDの印加制御を行い、
トランスミッションゲートTM2は、ビット線BL1B
に対する電源電圧VDDの印加制御を行う。また、トラ
ンスミッションゲートTM3は、ビット線対BL1,B
L1Bのイコライズを行う。内部制御回路11は、アド
レス入力回路2から例えばハイレベルの信号ATDが入
力されると、ハイレベルのプリチャージ制御信号PRC
を出力すると共に検出回路18から入力されるダミービ
ット線DBLの電圧をモニタする。
The transmission gate TM1 controls the application of the power supply voltage VDD to the bit line BL1.
Transmission gate TM2 is connected to bit line BL1B
Of the power supply voltage VDD is controlled. Transmission gate TM3 is connected to bit line pair BL1, B
Performs L1B equalization. When, for example, a high-level signal ATD is input from the address input circuit 2, the internal control circuit 11 outputs a high-level precharge control signal PRC.
And the voltage of the dummy bit line DBL input from the detection circuit 18 is monitored.

【0042】プリチャージ回路6の各トランスミッショ
ンゲートTM1〜TM3はそれぞれオンして導通状態と
なり、各ビット線BL1及びBL1Bに対するプリチャ
ージがそれぞれ行われると共にビット線対BL1,BL
1Bに対するイコライズが行われる。更に、内部制御回
路11は、ダミービット線DBLの電圧が所定の電圧に
上昇すると、プリチャージ回路6によるプリチャージが
完了したと判断し、プリチャージ制御信号PRCをロー
レベルに立ち下げて、プリチャージ回路6の各トランス
ミッションゲートTM1〜TM3がそれぞれオフして遮
断状態となり、ビット線対BL1,BL1Bに対するプ
リチャージ及びイコライズ動作が停止される。このと
き、内部制御回路11は、ダミープリチャージ回路14
に対しても同様にプリチャージ動作を停止させる。
Each of the transmission gates TM1 to TM3 of the precharge circuit 6 is turned on to be in a conductive state, so that each of the bit lines BL1 and BL1B is precharged, and a bit line pair BL1, BL
1B is equalized. Further, when the voltage of the dummy bit line DBL rises to a predetermined voltage, the internal control circuit 11 determines that the precharge by the precharge circuit 6 has been completed, and lowers the precharge control signal PRC to a low level. Each of the transmission gates TM1 to TM3 of the charge circuit 6 is turned off and cut off, and the precharge and equalize operations for the bit line pair BL1 and BL1B are stopped. At this time, the internal control circuit 11
, The precharge operation is similarly stopped.

【0043】また、内部制御回路11は、アドレス入力
回路2からの信号ATDがローレベルのときは、ローレ
ベルのプリチャージ制御信号PRCを出力して、プリチ
ャージ回路6の各トランスミッションゲートTM1〜T
M3がそれぞれオフして遮断状態となり、ビット線対B
L1,BL1Bに対するプリチャージ及びイコライズが
行われることはない。図5は、ダミープリチャージ回路
14の回路例を示した図であるが、図4におけるビット
線BL1をダミービット線DBLに、図4におけるビッ
ト線BL1Bをダミービット線DBLBに置き換える以
外は図4と同じであることからその説明を省略する。
When the signal ATD from the address input circuit 2 is at a low level, the internal control circuit 11 outputs a low-level precharge control signal PRC so that the transmission gates TM 1 to T
M3 is turned off and cut off, and the bit line pair B
Precharge and equalization are not performed on L1 and BL1B. 5 is a diagram showing a circuit example of the dummy precharge circuit 14, except that the bit line BL1 in FIG. 4 is replaced with a dummy bit line DBL and the bit line BL1B in FIG. 4 is replaced with a dummy bit line DBLB. Since it is the same as that described above, the description is omitted.

【0044】次に、図6は、センスアンプ8の回路例を
示した図である。図6において、センスアンプ8は、カ
レントミラー回路を形成するPMOSトランジスタQP
1,QP2と、NMOSトランジスタQN3〜QN5と
で構成された差動増幅器からなる。PMOSトランジス
タQP1及びQP2において、各ソースにはそれぞれ電
源電圧VDDが印加されており、各ゲートは接続され該
接続部がPMOSトランジスタQP1のドレインに接続
されている。一方、PMOSトランジスタQP1及びQ
P2の各ドレインは、対応するNMOSトランジスタQ
N3及びQN4のドレインにそれぞれ接続され、NMO
SトランジスタQN3及びQN4の各ソースは接続さ
れ、該接続部と接地との間にはNMOSトランジスタQ
N5が接続され、NMOSトランジスタQN5は電流源
をなしている。
FIG. 6 is a diagram showing a circuit example of the sense amplifier 8. 6, a sense amplifier 8 includes a PMOS transistor QP forming a current mirror circuit.
1 and QP2 and NMOS transistors QN3 to QN5. In the PMOS transistors QP1 and QP2, the power supply voltage VDD is applied to each source, each gate is connected, and the connection is connected to the drain of the PMOS transistor QP1. On the other hand, the PMOS transistors QP1 and QP1
Each drain of P2 is connected to a corresponding NMOS transistor Q
Connected to the drains of N3 and QN4, respectively.
The sources of S transistors QN3 and QN4 are connected, and an NMOS transistor Q is connected between the connection and ground.
N5 is connected, and the NMOS transistor QN5 forms a current source.

【0045】NMOSトランジスタQN3のゲートには
データ線DLが、NMOSトランジスタQN4のゲート
にはデータ線DLBがそれぞれ接続されている。NMO
SトランジスタQN5のゲートには、内部制御回路11
からの制御信号SENが入力され、PMOSトランジス
タQP2とNMOSトランジスタQN4との接続部は、
センスアンプ8の出力端をなし、該出力端から入力出力
回路9に出力信号SOが出力される。内部制御回路11
は、アドレス入力回路2から例えばハイレベルの信号A
TDが入力されると、ハイレベルの活性化制御信号SE
Nを出力して、センスアンプ8のNMOSトランジスタ
QN5が活性化しセンスアンプ8が動作状態となる。
The data line DL is connected to the gate of the NMOS transistor QN3, and the data line DLB is connected to the gate of the NMOS transistor QN4. NMO
The gate of the S transistor QN5 has an internal control circuit 11
, And the connection between the PMOS transistor QP2 and the NMOS transistor QN4 is
An output terminal of the sense amplifier 8 is provided, and an output signal SO is output to the input output circuit 9 from the output terminal. Internal control circuit 11
Is, for example, a high-level signal A from the address input circuit 2.
When TD is input, the activation control signal SE at a high level
By outputting N, the NMOS transistor QN5 of the sense amplifier 8 is activated, and the sense amplifier 8 is activated.

【0046】これに対して、内部制御回路11は、アド
レス入力回路2からハイレベルの信号ATDが入力され
ていない場合は、活性化制御信号SENをローレベルに
し、センスアンプ8のNMOSトランジスタQN5が非
活性化してセンスアンプ8の動作が停止する。図7は、
ダミーセンスアンプ14の回路例を示した図であるが、
図6におけるデータ線DLをダミーデータ線DDLに、
図6におけるデータ線DLBをダミーデータ線DDLB
に置き換えると共に、図6の出力信号SOを出力信号D
SOにし該出力信号DSOは内部制御回路11に出力さ
れる以外は図6と同じであることからその説明を省略す
る。
On the other hand, when the high level signal ATD is not input from the address input circuit 2, the internal control circuit 11 sets the activation control signal SEN to low level, and the NMOS transistor QN 5 of the sense amplifier 8 Deactivates and the operation of the sense amplifier 8 stops. FIG.
FIG. 3 is a diagram illustrating a circuit example of a dummy sense amplifier 14,
The data line DL in FIG. 6 is replaced with a dummy data line DDL.
The data line DLB in FIG.
And the output signal SO of FIG.
6 except that the output signal DSO is output to the internal control circuit 11 and the description thereof is omitted.

【0047】次に、図8は、ライトバッファ10の回路
例を示した図であり、図9は、ダミーライトバッファ1
7の回路例を示した図である。図8において、ライトバ
ッファ10は、NMOSトランジスタQN6〜QN9、
NAND回路NA1,NA2及びインバータINV4〜
INV6で構成されている。電源電圧VDDと接地との
間には、NMOSトランジスタQN6及びQN7の直列
回路及びNMOSトランジスタQN8及びQN9の直列
回路が並列に接続されている。NMOSトランジスタQ
N6とQN7との接続部にデータ線DLが、NMOSト
ランジスタQN8とQN9との接続部にデータ線DLB
がそれぞれ接続されている。
Next, FIG. 8 is a diagram showing a circuit example of the write buffer 10, and FIG.
7 is a diagram illustrating a circuit example of FIG. 8, the write buffer 10 includes NMOS transistors QN6 to QN9,
NAND circuits NA1 and NA2 and inverters INV4 to
INV6. A series circuit of NMOS transistors QN6 and QN7 and a series circuit of NMOS transistors QN8 and QN9 are connected in parallel between the power supply voltage VDD and the ground. NMOS transistor Q
A data line DL is connected to a connection between N6 and QN7, and a data line DLB is connected to a connection between NMOS transistors QN8 and QN9.
Are connected respectively.

【0048】また、入出力回路9から入力されるデータ
信号SIは、NAND回路NA1の一方の入力端に入力
されると共にインバータINV6を介してNAND回路
NA2の一方の入力端に入力される。また、NAND回
路NA1及びNA2の各他方の入力端には、内部制御回
路11からの制御信号WENがそれぞれ入力される。N
AND回路NA1の出力端は、インバータINV4を介
してNMOSトランジスタQN7及びQN8の各ゲート
の接続部に接続され、NAND回路NA2の出力端は、
インバータINV5を介してNMOSトランジスタQN
6及びQN9の各ゲートの接続部に接続されている。
The data signal SI input from the input / output circuit 9 is input to one input terminal of the NAND circuit NA1 and is input to one input terminal of the NAND circuit NA2 via the inverter INV6. The control signals WEN from the internal control circuit 11 are input to the other input terminals of the NAND circuits NA1 and NA2, respectively. N
An output terminal of the AND circuit NA1 is connected to a connection portion of each gate of the NMOS transistors QN7 and QN8 via an inverter INV4, and an output terminal of the NAND circuit NA2 is
NMOS transistor QN via inverter INV5
6 and QN9.

【0049】内部制御回路11にハイレベルのライトイ
ネーブル信号WEBが入力されるデータ読み出し時に
は、ライトバッファ10は、内部制御回路11からロー
レベルの制御信号WENが入力され、データ信号SIに
関係なくNAND回路NA1及びNA2の各出力端は、
共にハイレベルとなる。このため、NMOSトランジス
タQN6〜QN9はすべてオフして遮断状態となる。
At the time of data reading in which the high-level write enable signal WEB is input to the internal control circuit 11, the write buffer 10 receives the low-level control signal WEN from the internal control circuit 11 and performs NAND operation regardless of the data signal SI. The output terminals of the circuits NA1 and NA2 are:
Both become high level. For this reason, all the NMOS transistors QN6 to QN9 are turned off and cut off.

【0050】次に、内部制御回路11にローレベルのラ
イトイネーブル信号WEBが入力されるデータ書き込み
時には、ライトバッファ10は、内部制御回路11から
ハイレベルの制御信号WENが入力される。これに伴っ
て、NAND回路NA1の出力端は、入出力回路9から
のデータ信号SIの信号レベルを反転させた信号レベル
となり、NAND回路NA2の出力端は、入出力回路9
からのデータ信号SIと同じ信号レベルとなる。このた
め、データ線DLは、入出力回路9からのデータ信号S
Iと同じ電圧レベルとなり、データ線DLBは、入出力
回路9からのデータ信号SIの信号レベルを反転させた
電圧レベルとなる。
Next, at the time of data writing in which the low-level write enable signal WEB is input to the internal control circuit 11, the write buffer 10 receives the high-level control signal WEN from the internal control circuit 11. Accordingly, the output terminal of the NAND circuit NA1 has a signal level obtained by inverting the signal level of the data signal SI from the input / output circuit 9, and the output terminal of the NAND circuit NA2 has the output terminal
Has the same signal level as the data signal SI. Therefore, the data line DL is connected to the data signal S from the input / output circuit 9.
The voltage level is the same as I, and the data line DLB has a voltage level obtained by inverting the signal level of the data signal SI from the input / output circuit 9.

【0051】一方、図9のダミーライトバッファ17
は、図8におけるデータ線DLをダミーデータ線DDL
に、図8におけるデータ線DLBをダミーデータ線DD
LBに置き換えると共に、図8の入力データ信号SIの
代わりに電源電圧VDDが印加される以外は図8と同じ
である。データ読み出し時において、内部制御回路11
からの制御信号WENはローレベルとなり、ダミーライ
トバッファ17におけるNAND回路NA1及びNA2
の各出力端は、共にハイレベルとなる。このため、ダミ
ーライトバッファ17におけるNMOSトランジスタQ
N6〜QN9は、すべてオフして遮断状態となる。
On the other hand, the dummy write buffer 17 shown in FIG.
Indicates that the data line DL in FIG.
The data line DLB in FIG.
8 is the same as FIG. 8 except that the power supply voltage VDD is applied instead of the input data signal SI in FIG. At the time of data reading, the internal control circuit 11
Becomes low level, and the NAND circuits NA1 and NA2 in the dummy write buffer 17
Are at a high level. Therefore, the NMOS transistor Q in the dummy write buffer 17
N6 to QN9 are all turned off to be in the cutoff state.

【0052】次に、データ書き込み時のダミーライトバ
ッファ17において、内部制御回路11からの制御信号
WENがハイレベルとなり、NAND回路NA1の出力
端はローレベルになると共にNAND回路NA2の出力
端はハイレベルとなる。このため、ダミーデータ線DD
Lはハイレベルになると共にダミーデータ線DDLBは
ローレベルになる。
Next, in the dummy write buffer 17 at the time of data writing, the control signal WEN from the internal control circuit 11 goes high, the output terminal of the NAND circuit NA1 goes low and the output terminal of the NAND circuit NA2 goes high. Level. Therefore, the dummy data line DD
L goes high and the dummy data line DDLB goes low.

【0053】図10は、図1で示した半導体記憶装置1
の各部の波形を示したタイミングチャートである。図1
0において、アドレスデータA0〜Anが入力され、内
部制御回路11にハイレベルの信号ATDが入力される
と、最初に、内部制御回路11は、プリチャージ回路6
及びダミープリチャージ回路14に対してそれぞれハイ
レベルのプリチャージ制御信号PRCを出力して、各ビ
ット線及び各ダミービット線のそれぞれの電圧を初期状
態にするためのプリチャージを行わせる。
FIG. 10 shows the semiconductor memory device 1 shown in FIG.
5 is a timing chart showing waveforms of respective parts of FIG. Figure 1
0, when the address data A0 to An are input and the high-level signal ATD is input to the internal control circuit 11, first, the internal control circuit 11
A high-level precharge control signal PRC is output to the dummy precharge circuit 14 to perform precharge for setting the voltages of the bit lines and the dummy bit lines to the initial state.

【0054】この際、内部制御回路11は、検出回路1
8から得られたダミービット線DBLの電圧をモニタし
てプリチャージが完了しているか否かを検出することか
ら、データ読み出し時においては、プリチャージ期間が
ほとんど存在していないことが分かる。このため、行デ
コーダ3によるワード線の選択が即座に開始されるた
め、データ読み出しの高速化を図ることができる。ま
た、それに伴う各部の非活性化状態への移行も速やかに
行われる。
At this time, the internal control circuit 11
By monitoring the voltage of the dummy bit line DBL obtained from No. 8 and detecting whether or not the precharge is completed, it can be seen that the precharge period hardly exists at the time of data reading. Therefore, the selection of a word line by the row decoder 3 is started immediately, so that the speed of data reading can be increased. In addition, the transition of each unit to the inactive state is performed promptly.

【0055】次に、データ読み出し動作からデータ書き
込み動作に移行するため外部からのライトイネーブル信
号WEBがハイレベルからローレベルに変化すると、ア
ドレスデータA0〜Anで指定されたアドレスへのデー
タ書き込みを行わなければならないため、内部制御回路
11によって活性化された行デコーダ3によって、所望
のワード線、図10ではワード線WLmが選択され、更
に内部制御回路11によって制御信号WENがハイレベ
ルとなり活性化される。このような状態で、ビット線対
BL1,BL1Bは、ライトバッファ10によって、即
座に電圧差が最も大きい状態であるフルスイング状態と
なる。
Next, when the external write enable signal WEB changes from the high level to the low level in order to shift from the data read operation to the data write operation, data write to the address specified by the address data A0 to An is performed. Therefore, a desired word line, that is, the word line WLm in FIG. 10 is selected by the row decoder 3 activated by the internal control circuit 11, and the internal control circuit 11 further activates the control signal WEN to a high level to be activated. You. In such a state, the bit line pair BL1 and BL1B are immediately brought into the full swing state where the voltage difference is the largest by the write buffer 10.

【0056】また、ダミーメモリ回路19においても同
様にダミーライトバッファ17を設けているため、ダミ
ービット線対DBL,DBLBが即座にフルスイング状
態になり、内部制御回路11によってダミービット線D
BLの電圧状態がモニタされる。このとき、ダミーライ
トバッファ17は、ダミーメモリセルDMCにあらかじ
め格納された固定データと同じデータを書き込む状態に
するように、ダミーデータ線対DDL,DDLBに対し
て所定の相反するデータが出力されるようにしておけば
よい。
Since dummy write buffer 17 is also provided in dummy memory circuit 19, dummy bit line pair DBL, DBLB immediately enters a full swing state, and internal control circuit 11 causes dummy bit line DBL.
The voltage state of BL is monitored. At this time, the dummy write buffer 17 outputs predetermined inconsistent data to the dummy data line pair DDL and DDLB so that the same data as the fixed data previously stored in the dummy memory cell DMC is written. You should do so.

【0057】このようなデータ書き込み動作が終了した
直後に、アドレスデータA0〜Anが変化して次のデー
タ読み出しが行われる場合、従来はダミービット線対が
フルスイングしていない状態からプリチャージが行われ
ていた。これに対して、半導体記憶装置1は、内部制御
回路11によってダミービット線DBLの状態が正確に
モニタされていることから、メモリセルアレイ5のビッ
ト線対BL1,BL1Bに対して行われるプリチャージ
の時間t1と同様の時間がダミービット線対DBL,D
BLBに対するプリチャージに対して必要となる。その
ため、内部制御回路11は、プリチャージが終了したこ
とを誤って早く判断することなく正確に認識することが
できる。
Immediately after such a data write operation is completed, when the next data read is performed by changing the address data A0 to An, conventionally, the precharge is performed from the state where the dummy bit line pair does not fully swing. It was done. On the other hand, in the semiconductor memory device 1, since the state of the dummy bit line DBL is accurately monitored by the internal control circuit 11, the precharge performed on the bit line pair BL 1 and BL 1 B of the memory cell array 5 is performed. A time similar to the time t1 is a dummy bit line pair DBL, DBL.
It is required for precharging the BLB. Therefore, the internal control circuit 11 can accurately recognize that the precharge has been completed without erroneously determining early.

【0058】このように、本実施の形態における半導体
記憶装置は、ダミーメモリ回路部19にライトバッファ
10と同様の回路構成のダミーライトバッファ17を設
けて、ダミーメモリ回路部19を、データ書き込み及び
データ読み出しを行うためのメモリ回路部12と同様の
回路構成にすると共に、内部制御回路11が、ダミーメ
モリ回路部19のダミービット線DBLの電圧を検出回
路18を介して検出し、プリチャージの完了判定を行っ
てプリチャージ回路6及びダミープリチャージ回路14
に対するプリチャージ動作の制御を行うようにした。
As described above, in the semiconductor memory device according to the present embodiment, the dummy memory circuit section 19 is provided with the dummy write buffer 17 having the same circuit configuration as the write buffer 10 so that the dummy memory circuit section 19 can write and read data. The internal control circuit 11 detects the voltage of the dummy bit line DBL of the dummy memory circuit unit 19 via the detection circuit 18 and has a circuit configuration similar to that of the memory circuit unit 12 for reading data. Completion determination is performed, and the precharge circuit 6 and the dummy precharge circuit 14
Control of the precharge operation for.

【0059】このことから、通常、データ書き込み直後
のビット線対におけるフルスイング状態からのプリチャ
ージに必要な時間を、プリチャージ期間として設定され
ていたのに対して、ダミーライトバッファにより前回の
データ書き込み又はデータ読み出しの状態が確実に模擬
されており、該状態に応じたプリチャージ時間だけプリ
チャージを行うことができる。このため、通常のデータ
読み出しが続くようなデータ読み出しサイクルにおいて
は、無駄なプリチャージ時間を削減することができ、デ
ータ読み出し動作の高速化を図ることができる。
Therefore, while the time required for precharging from the full swing state in the bit line pair immediately after data writing is set as the precharge period, the dummy write buffer uses The state of writing or data reading is simulated reliably, and precharge can be performed for a precharge time according to the state. Therefore, in a data read cycle in which normal data read continues, useless precharge time can be reduced, and the speed of the data read operation can be increased.

【0060】例えば画像処理用に使用されたとき等のよ
うに、データ読み出し時にデータ読み出し状態が連続し
て続く場合には、高速サイクルでの動作が可能となり大
きな効果を得ることができる。また、データ書き込み直
後のデータ読み出しサイクルにおいては、ビット線対が
フルスイング状態であるのと同様にダミービット線対も
ダミーライトバッファによってフルスイング状態になっ
ているため、必要な時間だけプリチャージが実行され
る。このように、同じデータ読み出し時においても前回
の動作状態に応じてプリチャージ時間を可変にすること
ができるため、無駄な動作がなく高速な動作が可能とな
る。
When the data reading state continues continuously at the time of reading data, for example, when used for image processing, operation at a high-speed cycle becomes possible, and a great effect can be obtained. In the data read cycle immediately after data writing, the dummy bit line pair is in the full swing state by the dummy write buffer in the same manner as the bit line pair is in the full swing state, so that the precharge is performed only for the necessary time. Be executed. As described above, even during the same data reading, the precharge time can be made variable in accordance with the previous operation state, so that high-speed operation without wasteful operation is possible.

【0061】なお、上記説明では、メモリ回路部12に
おいて、メモリセルアレイが1列のメモリセルで構成さ
れている場合を例にして示しているが、これは一例であ
り、本発明はこれに限定するものではなく複数列のメモ
リセルで構成されたメモリセルアレイにおいても同様に
適用することができるものである。また、各信号の符号
及びデータ線に符号における末尾の「B」は、信号レベ
ルの反転を示すものであり、ローアクティブであること
を示している。
In the above description, the case where the memory cell array is formed of one column of memory cells in the memory circuit section 12 is shown as an example, but this is merely an example, and the present invention is not limited to this. However, the present invention can be similarly applied to a memory cell array composed of a plurality of columns of memory cells. The "B" at the end of the code of the signal and the code of the data line indicates the inversion of the signal level and indicates that the signal is low active.

【0062】[0062]

【発明の効果】上記の説明から明らかなように、本発明
の半導体記憶装置によれば、ダミーメモリ回路部にダミ
ーメモリセルに対して所定のデータの書き込みを行うダ
ミーライトバッファを備えて、データ書き込み時におけ
るメモリ回路部の動作をダミーメモリ回路部で模擬する
と共に、ダミービット線対における一方のダミービット
線の電圧を検出し、該検出された電圧からビット線対に
対するプリチャージ状態の判定を行ってプリチャージ回
路及びダミープリチャージ回路の動作制御を行うように
した。このことから、簡単な回路を追加するだけで消費
電流を増加させることなく、ビット線対に対するプリチ
ャージ状態を正確に検知しながらプリチャージ動作の制
御を行うことができ、あらゆるメモリサイズに対しても
追従しビット線対のプリチャージ状態に応じて常に最適
なプリチャージ時間を遅延回路などを追加することなく
設けることができるため、プリチャージに要する時間を
短縮させることができると共に、メモリセルのデータ破
壊又はデータの誤った読み出しの発生を防止することが
できる。また、製造ばらつき等による特性変化に対して
も追随してプリチャージに対する動作マージンを保証す
ることできる。
As is apparent from the above description, according to the semiconductor memory device of the present invention, the dummy memory circuit portion includes the dummy write buffer for writing predetermined data to the dummy memory cell, Simulating the operation of the memory circuit unit at the time of writing with the dummy memory circuit unit, detecting the voltage of one of the dummy bit lines in the dummy bit line pair, and judging the precharge state for the bit line pair from the detected voltage. By doing so, the operation of the precharge circuit and the dummy precharge circuit is controlled. As a result, it is possible to control the precharge operation while accurately detecting the precharge state of the bit line pair without increasing the current consumption by simply adding a simple circuit. Since the optimum precharge time can always be provided according to the precharge state of the bit line pair without adding a delay circuit or the like, the time required for precharge can be shortened, and the memory cell size can be reduced. Data destruction or erroneous data reading can be prevented. Further, it is possible to guarantee an operation margin for precharge by following a characteristic change due to a manufacturing variation or the like.

【0063】具体的には、上記ダミーメモリセルアレイ
は、各ワード線に対応して接続された各ダミーメモリセ
ルで構成され、該各ダミーメモリセルは、ダミービット
線対に対して相反する信号レベルの相補信号の入出力を
行うようにした。このことから、制御部は、検出回路部
からの検出電圧によってメモリ回路部における各ビット
線対のプリチャージ状態を正確に判定することができ
る。
More specifically, the dummy memory cell array is composed of dummy memory cells connected to each word line, and each of the dummy memory cells has a signal level opposite to the dummy bit line pair. Input / output of complementary signals. Accordingly, the control unit can accurately determine the precharge state of each bit line pair in the memory circuit unit based on the detection voltage from the detection circuit unit.

【0064】更に、ダミーセンスアンプからの信号に応
じてメモリ回路部におけるセンスアンプ及びワード線の
活性化制御をそれぞれ行うようにした。このことから、
ダミーセンスアンプからの出力信号を利用して、メモリ
回路部からのデータ読み出し状態を検出してセンスアン
プやワード線の活性化状態を制御することができ、セン
スアンプでの貫通電流や、ビット線での充放電電流を抑
えることができる。
Further, the activation control of the sense amplifier and the word line in the memory circuit section is performed in accordance with the signal from the dummy sense amplifier. From this,
Using the output signal from the dummy sense amplifier, the state of data read from the memory circuit portion can be detected to control the activation state of the sense amplifier and word line, and the through current in the sense amplifier and the bit line can be controlled. , The charge / discharge current in the battery can be suppressed.

【0065】具体的には、上記各ダミーメモリセルは、
所定のデータを格納して保持するように常時所定の電圧
が印加されるようにした。このことから、ダミーセンス
アンプからの出力信号を利用して、データ読み出し状態
を正確に検出することができる。
Specifically, each of the above dummy memory cells is
A predetermined voltage is always applied so as to store and hold predetermined data. This makes it possible to accurately detect the data read state using the output signal from the dummy sense amplifier.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態における半導体記憶装置
の構成例を示したブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1におけるメモリセルMCの例を示した回
路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a memory cell MC in FIG.

【図3】 図1におけるダミーメモリセルDMCの例を
示した回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a dummy memory cell DMC in FIG.

【図4】 図1におけるプリチャージ回路6の回路例を
示した図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a circuit example of a precharge circuit 6 in FIG. 1;

【図5】 図1におけるダミープリチャージ回路14の
回路例を示した図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a circuit example of a dummy precharge circuit 14 in FIG. 1;

【図6】 図1におけるセンスアンプ8の回路例を示し
た図である。
FIG. 6 is a diagram showing a circuit example of a sense amplifier 8 in FIG. 1;

【図7】 図1におけるダミーセンスアンプ14の回路
例を示した図である。
FIG. 7 is a diagram showing a circuit example of a dummy sense amplifier 14 in FIG.

【図8】 図1におけるライトバッファ10の回路例を
示した図である。
FIG. 8 is a diagram showing a circuit example of a write buffer 10 in FIG. 1;

【図9】 図1におけるダミーライトバッファ17の回
路例を示した図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a circuit example of a dummy write buffer 17 in FIG. 1;

【図10】 図1で示した半導体記憶装置1の各部の波
形を示したタイミングチャートである。
FIG. 10 is a timing chart showing waveforms of respective parts of the semiconductor memory device 1 shown in FIG.

【図11】 従来の半導体記憶装置の構成例を示した概
略のブロック図である。
FIG. 11 is a schematic block diagram showing a configuration example of a conventional semiconductor memory device.

【図12】 図11で示した半導体記憶装置100の各
部の波形を示したタイミングチャートである。
FIG. 12 is a timing chart showing waveforms of respective parts of the semiconductor memory device 100 shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体記憶装置 2 アドレス入力回路 3 行デコーダ 4 列デコーダ 5 メモリセルアレイ 6 プリチャージ回路 7 列ゲート 8 センスアンプ 9 入出力回路 10 ライトバッファ 11 内部制御回路 12 メモリ回路部 13 ダミーメモリセルアレイ 14 ダミープリチャージ回路 15 ダミー列ゲート 16 ダミーセンスアンプ 17 ダミーライトバッファ 18 検出回路 19 ダミーメモリ回路部 MC メモリセル DMC ダミーメモリセル BL1,BL1B ビット線 DBL,DBLB ダミービット線 DL,DLB データ線 DDL,DDLB ダミーデータ線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor memory device 2 Address input circuit 3 Row decoder 4 Column decoder 5 Memory cell array 6 Precharge circuit 7 Column gate 8 Sense amplifier 9 Input / output circuit 10 Write buffer 11 Internal control circuit 12 Memory circuit part 13 Dummy memory cell array 14 Dummy precharge Circuit 15 Dummy column gate 16 Dummy sense amplifier 17 Dummy write buffer 18 Detection circuit 19 Dummy memory circuit section MC Memory cell DMC Dummy memory cell BL1, BL1B Bit line DBL, DBLB Dummy bit line DL, DLB Data line DDL, DDLB Dummy data line

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルを有するメモリセルア
レイと、対応する各メモリセルに対して相反する信号レ
ベルの相補信号の入出力をそれぞれ行う少なくとも1つ
のビット線対と、対応する各メモリセルに対する活性化
制御信号の伝達を行う各ワード線と、所望のメモリセル
からのデータ読み出し時に該メモリセルに接続されたビ
ット線対からの信号を増幅して出力するセンスアンプ
と、データ書き込み時に対応するビット線対を介して所
望のメモリセルへのデータ書き込みを行うライトバッフ
ァと、上記ビット線対に対するプリチャージを行うプリ
チャージ回路とを有するメモリ回路部を備えた半導体記
憶装置において、 上記メモリセルアレイのメモリセルと同じ構成をなし対
応するメモリセルと同じワード線に接続された複数のダ
ミーメモリセルで構成され、メモリセルアレイの動作を
模擬するダミーメモリセルアレイ、該ダミーメモリセル
アレイの対応する各ダミーメモリセルに対して相反する
信号レベルの相補信号の入出力をそれぞれ行うダミービ
ット線対、上記ダミーメモリセルに対して所定のデータ
の書き込みを行うダミーライトバッファ、及び上記ダミ
ービット線対に対するプリチャージを行うダミープリチ
ャージ回路を有し、上記メモリ回路部の動作を模擬する
ダミーメモリ回路部と、 上記ダミービット線対における一方のダミービット線の
電圧を検出する検出回路部と、 該検出回路部で検出された電圧から上記ビット線対に対
するプリチャージ状態の判定を行って上記プリチャージ
回路及びダミープリチャージ回路の動作制御を行う制御
部と、を備えることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A memory cell array having a plurality of memory cells, at least one bit line pair for inputting / outputting a complementary signal of an opposite signal level to each corresponding memory cell, and a memory cell array for each corresponding memory cell. Each word line for transmitting an activation control signal, a sense amplifier for amplifying and outputting a signal from a bit line pair connected to the memory cell when reading data from a desired memory cell, and a sense amplifier for writing data. A semiconductor memory device comprising: a write buffer for writing data to a desired memory cell via a bit line pair; and a memory circuit portion having a precharge circuit for precharging the bit line pair. Multiple dummy cells connected to the same word line as the corresponding memory cell A dummy memory cell array configured by memory cells and simulating the operation of the memory cell array; a dummy bit line pair for inputting / outputting a complementary signal of an opposite signal level to each corresponding dummy memory cell of the dummy memory cell array; A dummy write buffer for writing predetermined data to the dummy memory cell, and a dummy memory circuit unit having a dummy precharge circuit for precharging the dummy bit line pair, and simulating the operation of the memory circuit unit; A detection circuit unit for detecting a voltage of one dummy bit line in the dummy bit line pair; a precharge circuit for judging a precharge state of the bit line pair from the voltage detected by the detection circuit unit; A control unit for controlling the operation of the dummy precharge circuit. The semiconductor memory device according to claim.
【請求項2】 上記ダミーメモリセルアレイは、上記各
ワード線に対応して接続された各ダミーメモリセルで構
成され、該各ダミーメモリセルは、上記ダミービット線
対に対して相反する信号レベルの相補信号の入出力を行
うことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The dummy memory cell array according to claim 1, wherein each of the dummy memory cells is connected to each of the word lines, and each of the dummy memory cells has a signal level opposite to that of the dummy bit line pair. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein input / output of a complementary signal is performed.
【請求項3】 上記ダミーメモリ回路部は、所望のダミ
ーメモリセルからのデータ読み出し時に、該ダミーメモ
リセルに接続されたダミービット線対からの信号を増幅
して上記制御部に出力するダミーセンスアンプを備え、
上記制御部は、該ダミーセンスアンプからの信号に応じ
て上記メモリ回路部におけるセンスアンプ及び上記ワー
ド線の活性化制御をそれぞれ行うことを特徴とする請求
項1又は2記載の半導体記憶装置。
3. The dummy memory circuit section, when reading data from a desired dummy memory cell, amplifies a signal from a dummy bit line pair connected to the dummy memory cell and outputs the amplified signal to the control section. Equipped with an amplifier,
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the control unit controls activation of the sense amplifier and the word line in the memory circuit unit in response to a signal from the dummy sense amplifier.
【請求項4】 上記各ダミーメモリセルは、所定のデー
タを格納して保持するように常時所定の電圧が印加され
ることを特徴とする請求項3記載の半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein a predetermined voltage is constantly applied to each of said dummy memory cells so as to store and hold predetermined data.
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