JP2002252269A - Aluminum nitride ceramics electrode built-in member - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置ま
たは液晶製造装置等に用いられる窒化アルミニウムセラ
ミックス製電極内蔵部材に関し、より詳細には、半導体
製造装置または液晶製造装置等に積載され、ウエハ、液
晶表示基板等の処理に利用されるヒータ、静電チャッ
ク、高周波印加用サセプタ等の窒化アルミニウムセラミ
ックス製電極内蔵部材に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aluminum nitride ceramic electrode built-in member used in a semiconductor manufacturing apparatus or a liquid crystal manufacturing apparatus, and more particularly, to a semiconductor manufacturing apparatus or a liquid crystal manufacturing apparatus, and more particularly, to a wafer mounting apparatus. The present invention relates to a member with a built-in electrode made of aluminum nitride ceramics, such as a heater, an electrostatic chuck, and a susceptor for applying a high frequency, used for processing a liquid crystal display substrate and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体製造装置において、ウエハ等にプ
ラズマエッチング、CVD、イオンプレーティング等の
処理加工を施す場合、ウエハを加熱する部材として面状
ヒータが使用されている。また、ウエハの固定部材とし
ては、静電チャックや高周波印加用サセプタが多用され
ている。また、液晶製造装置においても、同様の部材が
用いられている。2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing apparatus, when a wafer or the like is subjected to processing such as plasma etching, CVD, or ion plating, a planar heater is used as a member for heating the wafer. Further, as a wafer fixing member, an electrostatic chuck or a susceptor for applying a high frequency is frequently used. Similar members are used in a liquid crystal manufacturing apparatus.
【0003】これらのヒータ、静電チャック、高周波印
加用サセプタ等の装置部材には、耐食性、耐摩耗性、精
度等に優れた材質として、セラミックスが用いられてい
る。この中でも、機械的強度、硬度、半導体製造装置等
において使用されるハロゲン系ガスに対する耐食性が優
れていること等の観点から、特に、窒化アルミニウムセ
ラミックスが多用されている。また、前記ヒータ等の構
造は、一般に、セラミックス基板に金属電極が内蔵され
ているものである。[0003] Ceramics are used as material for these heaters, electrostatic chucks, susceptors for high frequency application and the like which are excellent in corrosion resistance, wear resistance, accuracy and the like. Among these, aluminum nitride ceramics are particularly frequently used from the viewpoints of mechanical strength, hardness, and excellent corrosion resistance to halogen-based gases used in semiconductor manufacturing equipment and the like. Further, the structure of the heater or the like generally has a metal electrode built in a ceramic substrate.
【0004】これらのセラミックス製電極内蔵部材は、
通常、以下に示す製造方法により得られる。なお、上記
のように、ヒータ、静電チャック、高周波印加用サセプ
タは、金属電極の作用・形状が相違するのみであり、各
構造および製造方法は、基本的には同様である。よっ
て、以下においては、ヒータを例として説明する。[0004] These ceramic electrode built-in members,
Usually, it is obtained by the following production method. As described above, the heater, the electrostatic chuck, and the high-frequency application susceptor differ only in the operation and shape of the metal electrode, and the respective structures and manufacturing methods are basically the same. Therefore, a heater will be described below as an example.
【0005】例えば、シート形成法においては、まず、
ドクターブレードにより、所定厚さに積層させたセラミ
ックスのグリーンシート上に金属電極を設け、その上に
所定厚さのセラミックスのヒータカバー部をヒート成形
により積層させる。そして、得られた積層体に、金属電
極に接続するように電極端子を設け、所定の条件で脱脂
した後、ホットプレス等により所定温度で焼結させ、ヒ
ータを得る。なお、このシート形成法においては、グリ
ーンシート上に金属電極を設ける方法としては、導電性
ペーストのスクリーン印刷が一般的である。For example, in a sheet forming method, first,
A metal electrode is provided on a ceramic green sheet laminated to a predetermined thickness by a doctor blade, and a ceramic heater cover portion having a predetermined thickness is laminated thereon by heat molding. Then, an electrode terminal is provided on the obtained laminate so as to be connected to the metal electrode, degreased under predetermined conditions, and then sintered at a predetermined temperature by a hot press or the like to obtain a heater. In this sheet forming method, screen printing of a conductive paste is generally used as a method of providing a metal electrode on a green sheet.
【0006】また、ヒータの他の製造方法としては、図
2(a)(b)に示すようなヒータを得る方法で、セラ
ミックスのプレス成形体中に、コイル状の金属電極12
を埋設させ、電極端子用の孔13を設けた後、ホットプ
レスにより焼結させることにより、セラミックス基板1
1に内蔵させる方法がある。Another method of manufacturing the heater is to obtain a heater as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b).
Are buried, holes 13 for electrode terminals are provided, and then sintered by hot pressing to obtain ceramic substrate 1.
There is a method of incorporating it in the device.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
スクリーン印刷による金属電極の形成は、膜厚の薄い導
電性ペーストの層を繰り返し重ねて印刷しなければなら
ない。そのため、繰り返し印刷を行う度に、印刷位置合
わせが高精度であることが要求され、かつ、作業工程も
時間を要するものであった。また、印刷される膜厚が不
均一になると、金属電極の全抵抗値の制御が困難とな
り、金属電極の各部分の抵抗も不均一となるため、金属
電極の局部的な異常発熱により、該金属電極の破損また
はセラミックス基板の破損が生じる場合もあった。However, the formation of the metal electrode by the screen printing requires that the conductive paste having a small thickness is repeatedly printed. Therefore, each time printing is performed repeatedly, it is required that the printing position be adjusted with high accuracy, and the work process also requires time. In addition, when the thickness of the printed film becomes non-uniform, it becomes difficult to control the total resistance value of the metal electrode, and the resistance of each part of the metal electrode also becomes non-uniform. In some cases, the metal electrode or the ceramic substrate was damaged.
【0008】また、図2(a)(b)に示したようなコ
イル状の金属電極12を用いたヒータは、発熱体の表面
積が大きいため、ヒータカバー表面の面内温度の均一化
を図ることができる。しかしながら、このようなヒータ
は、金属電極12のコイル径が大きくなるため、セラミ
ックス基板の厚さを大きくする必要があり、その結果、
熱容量が増大し、温度制御時の応答性が低下してしまう
という課題を招くものであった。A heater using a coil-shaped metal electrode 12 as shown in FIGS. 2A and 2B has a large surface area of a heating element, so that the in-plane temperature of the heater cover surface is made uniform. be able to. However, in such a heater, since the coil diameter of the metal electrode 12 is large, it is necessary to increase the thickness of the ceramic substrate, and as a result,
This leads to a problem that the heat capacity increases and the response at the time of temperature control decreases.
【0009】本発明は、上記のような技術的課題を解決
するためになされたものであり、半導体製造装置、液晶
製造装置等において用いられるセラミックス製電極内蔵
部材の耐久性を向上させ、特に、ウエハ、液晶表示基板
等を電熱により均一に加熱することができるヒータ、静
電的に均一な吸着力で固定することができる静電チャッ
ク、または、均一に高周波を印加させることができる高
周波印加用サセプタ等の窒化アルミニウムセラミックス
製電極内蔵部材を提供することを目的とするものであ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned technical problems, and has improved the durability of a ceramic electrode-containing member used in a semiconductor manufacturing apparatus, a liquid crystal manufacturing apparatus, and the like. A heater that can uniformly heat a wafer, a liquid crystal display substrate, or the like by electric heat, an electrostatic chuck that can fix electrostatically with a uniform suction force, or a high-frequency application that can uniformly apply high frequency It is an object of the present invention to provide an aluminum nitride ceramic built-in electrode member such as a susceptor.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明に係る窒化アルミ
ニウムセラミックス製電極内蔵部材は、金属電極を内蔵
した部材であって、前記金属電極の断面のアスペクト比
が2以上8以下であることを特徴とする。該アスペクト
比が上記範囲内であれば、窒化アルミニウムセラミック
ス基板と金属電極との間での強固な密着性を維持するこ
とができ、かつ、金属電極の各部分における電流抵抗を
均一に維持することができるため、高耐久性の窒化アル
ミニウムセラミックス製電極内蔵部材を得ることができ
る。An aluminum nitride ceramic electrode built-in member according to the present invention is a member having a built-in metal electrode, wherein the aspect ratio of the cross section of the metal electrode is 2 or more and 8 or less. And When the aspect ratio is within the above range, strong adhesion between the aluminum nitride ceramics substrate and the metal electrode can be maintained, and current resistance in each portion of the metal electrode is uniformly maintained. Thus, a highly durable aluminum nitride ceramic electrode built-in member can be obtained.
【0011】前記金属電極は、タングステンを主成分と
するものであることが好ましい。基板である窒化アルミ
ニウムセラミックスの熱膨張係数の値に近いこと等を考
慮したものである。It is preferable that the metal electrode is mainly composed of tungsten. This is in consideration of the fact that the coefficient of thermal expansion is close to that of the aluminum nitride ceramics as the substrate.
【0012】また、本発明においては、前記金属電極の
断面の長径軸が、セラミックス基板表面と平行であるこ
とが好ましい。金属電極が、セラミックス基板に対して
扁平した状態で内蔵されることにより、セラミックス基
板表面に載置するウエハ等に対して、ヒータ加熱等を均
一に作用させることができる。また、従来のコイル状の
電極が内蔵されている場合に比べて、セラミックス製電
極内蔵部材を薄型にすることができる。Further, in the present invention, it is preferable that the major axis of the cross section of the metal electrode is parallel to the surface of the ceramic substrate. Since the metal electrode is built in a flat state with respect to the ceramic substrate, heater heating or the like can be uniformly applied to a wafer or the like placed on the surface of the ceramic substrate. Further, the ceramic electrode-containing member can be made thinner than in the case where a conventional coil-shaped electrode is incorporated.
【0013】さらに、前記金属電極は、窒化アルミニウ
ムセラミックス基板により、空隙のない状態で覆われて
いることが好ましい。金属電極と窒化アルミニウムセラ
ミックス基板との間に空隙があると、金属電極の各部分
における電流抵抗が不均一になりやすく、また、窒化ア
ルミニウムセラミックス製電極内蔵部材の耐久性が低下
することとなるからである。Further, it is preferable that the metal electrode is covered with an aluminum nitride ceramic substrate without any gap. If there is a gap between the metal electrode and the aluminum nitride ceramic substrate, the current resistance in each part of the metal electrode is likely to be non-uniform, and the durability of the aluminum nitride ceramic electrode built-in member is reduced. It is.
【0014】さらにまた、前記金属電極を覆う窒化アル
ミニウムセラミックスは、密度3.1g/cm3 以上、
かつ、熱膨張係数6.0×10-6/℃以下、かつ、熱伝
導率50W/m・K以上であることが好ましい。上記物
性値に該当する窒化アルミニウムセラミックスを用いる
ことにより、セラミックス基板におけるヒータ加熱等の
作用を均一に行うことができ、かつ、高耐久性の窒化ア
ルミニウムセラミックス製電極内蔵部材を得ることがで
きる。Further, the aluminum nitride ceramic covering the metal electrode has a density of 3.1 g / cm 3 or more,
Further, it is preferable that the thermal expansion coefficient is 6.0 × 10 −6 / ° C. or less and the thermal conductivity is 50 W / m · K or more. By using the aluminum nitride ceramics corresponding to the above physical properties, it is possible to uniformly perform actions such as heating of the heater on the ceramics substrate, and to obtain a highly durable aluminum nitride ceramic electrode built-in member.
【0015】本発明に係る窒化アルミニウムセラミック
ス製電極内蔵部材は、前記金属電極を抵抗発熱体として
作用させるために、または、前記金属電極に直流もしく
は交流電流を印加することにより静電気を発生させるた
めに、または、前記金属電極により高周波を印加するた
めに用いられることが好ましい。これらは、本発明に係
る窒化アルミニウムセラミックス製電極内蔵部材の好適
な用途である。The electrode built-in member made of aluminum nitride ceramic according to the present invention is used for causing the metal electrode to act as a resistance heating element or for generating static electricity by applying a DC or AC current to the metal electrode. Alternatively, it is preferably used to apply a high frequency to the metal electrode. These are suitable uses of the electrode-containing member made of aluminum nitride ceramics according to the present invention.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を添付図
面に基づき、より詳細に説明する。図1(a)(b)
は、本発明に係る窒化アルミニウムセラミックス製電極
内蔵部材であるヒータの構造の一例を示したものであ
る。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 (a) (b)
1 shows an example of the structure of a heater which is an electrode-containing member made of aluminum nitride ceramics according to the present invention.
【0017】図1(a)(b)に示す窒化アルミニウム
セラミックス製ヒータは、窒化アルミニウムセラミック
ス基板1に、金属電極2が内蔵されている。そして、ヒ
ータベースとなるセラミックス基板面には、電極端子用
の孔3から、金属電極2に電極端子が接続されており、
この電極端子を通じて外部から電流が供給される構造を
有する。The aluminum nitride ceramic heater shown in FIGS. 1A and 1B has a metal electrode 2 built in an aluminum nitride ceramic substrate 1. An electrode terminal is connected to the metal electrode 2 through a hole 3 for the electrode terminal on the surface of the ceramic substrate serving as a heater base.
It has a structure in which a current is supplied from outside through the electrode terminals.
【0018】上記においては、ヒータについて説明した
が、静電チャック、高周波印加用サセプタも、窒化アル
ミニウムセラミックス製電極内蔵部材として、基本的に
は、上記と同様の構造からなるものである。したがっ
て、本発明に係る窒化アルミニウムセラミックス製電極
内蔵部材は、ヒータ以外の部材も、同様の製造方法によ
り得られるため、窒化アルミニウムセラミックス製ヒー
タを例として、以下にその具体的な製造方法および構成
等を説明する。In the above description, the heater has been described. However, the electrostatic chuck and the susceptor for applying a high frequency have basically the same structure as that described above, as an aluminum nitride ceramic electrode built-in member. Therefore, the aluminum nitride ceramics electrode built-in member according to the present invention can also obtain members other than the heater by the same manufacturing method. Will be described.
【0019】本発明に係る窒化アルミニウムセラミック
ス製ヒータは、通常のセラミックス製ヒータの製造方法
を用いることにより得られるが、例えば、以下のような
製造方法が好ましい。図1に示した窒化アルミニウムセ
ラミックス製ヒータの製造方法は、まず、ヒータカバー
となる窒化アルミニウムセラミックス基板1に、金属電
極2を設けるための溝を、その電極パターン形状に合わ
せて加工する。そして、その溝に金属電極2を設けた
後、このヒータカバーとヒータベースとなる窒化アルミ
ニウムセラミックス基板とを接合剤により積層させる。
次いで、ヒータベースに予め設けられた電極端子用の孔
3に、外部から電流を供給するための電極端子を金属電
極2に接続させる。そして、この金属電極2が内蔵され
た窒化アルミニウムセラミックス基板1の積層体に接合
熱処理を施すことにより、窒化アルミニウムセラミック
ス製ヒータが得られる。The aluminum nitride ceramic heater according to the present invention can be obtained by using an ordinary method for manufacturing a ceramic heater. For example, the following manufacturing method is preferable. In the method of manufacturing the aluminum nitride ceramic heater shown in FIG. 1, first, a groove for providing a metal electrode 2 is formed on an aluminum nitride ceramic substrate 1 serving as a heater cover in accordance with the electrode pattern shape. After the metal electrode 2 is provided in the groove, the heater cover and the aluminum nitride ceramic substrate serving as a heater base are laminated with a bonding agent.
Next, an electrode terminal for supplying a current from the outside is connected to the metal electrode 2 through an electrode terminal hole 3 provided in the heater base in advance. By subjecting the laminate of the aluminum nitride ceramics substrate 1 in which the metal electrode 2 is incorporated to a bonding heat treatment, an aluminum nitride ceramics heater is obtained.
【0020】本発明において用いられる金属電極2とし
ては、金属ワイヤを火炎バーナにより加熱し、所定の形
状に折り曲げて加工したものや、金属薄板をレーザー加
工もしくは打ち抜き加工等することにより得られた薄
膜、メッシュ等のように、予め金属電極パターン形状に
加工されたものを用いる。この場合、導電性ペーストを
併用することにより、溝への密着性および充填度を向上
させることができる。The metal electrode 2 used in the present invention is obtained by heating a metal wire with a flame burner and bending it into a predetermined shape, or a thin film obtained by subjecting a thin metal plate to laser processing or punching. , A mesh or the like that has been previously processed into a metal electrode pattern shape is used. In this case, by using the conductive paste together, it is possible to improve the adhesion to the groove and the filling degree.
【0021】また、前記金属電極2は、図1(c)に示
すように、窒化アルミニウムセラミックス基板1に内蔵
された状態において、その断面のアスペクト比、すなわ
ち、長径と短径の長さの比(L/H)が2以上8以下と
なるようにする。前記アスペクト比が2未満の場合、窒
化アルミニウムセラミックス基板1と金属電極2との間
に空隙が生じる場合がある。一方、前記アスペクト比が
8を超えると、金属電極2が破損しやすくなり、また、
局部的な異常発熱によりヒータが破損し、ヒータの耐久
性が低下することとなる。As shown in FIG. 1C, when the metal electrode 2 is embedded in the aluminum nitride ceramic substrate 1, the aspect ratio of its cross section, that is, the ratio of the length of the major axis to the minor axis, is obtained. (L / H) should be 2 or more and 8 or less. When the aspect ratio is less than 2, a gap may be formed between the aluminum nitride ceramic substrate 1 and the metal electrode 2. On the other hand, when the aspect ratio exceeds 8, the metal electrode 2 is easily damaged, and
The heater is damaged by local abnormal heat generation, and the durability of the heater is reduced.
【0022】次に、金属電極2の材質としては、発熱体
としての抵抗を有し、かつ、所望の発熱温度よりも高い
融点を有する材質のものが好ましい。さらに、金属電極
2の材質は、基板である窒化アルミニウムセラミックス
の熱膨張係数の値に近いものであることが、特に好まし
い。ヒータの使用状態においては、金属電極2ととも
に、窒化アルミニウムセラミックス基板1も加熱される
ことにより、膨張するため、金属電極2と窒化アルミニ
ウムセラミックス基板1の熱膨張係数の差が大きいと、
その界面に応力が生じ、窒化アルミニウムセラミックス
基板1が破損する場合もあるからである。Next, the material of the metal electrode 2 is preferably a material having resistance as a heating element and having a melting point higher than a desired heating temperature. Further, it is particularly preferable that the material of the metal electrode 2 is close to the value of the coefficient of thermal expansion of the aluminum nitride ceramics as the substrate. In the use state of the heater, the aluminum nitride ceramic substrate 1 is expanded by being heated together with the metal electrode 2. Therefore, if the difference in thermal expansion coefficient between the metal electrode 2 and the aluminum nitride ceramic substrate 1 is large,
This is because stress is generated at the interface and the aluminum nitride ceramic substrate 1 may be damaged.
【0023】したがって、金属電極2の材質としては、
例えば、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、白
金(Pt)、銀(Ag)等およびそれらを含む化合物を
用いることができる。この中でも、1500℃を超える
接合熱処理温度、窒化アルミニウムセラミックスの熱膨
張係数の値に近いこと等を考慮すると、特に、タングス
テンを主成分とするものが好ましい。Therefore, the material of the metal electrode 2 is
For example, tungsten (W), molybdenum (Mo), platinum (Pt), silver (Ag), and the like, and a compound containing these can be used. Among these, those containing tungsten as a main component are particularly preferable in consideration of the heat treatment temperature for joining exceeding 1500 ° C., the value of the thermal expansion coefficient of aluminum nitride ceramics, and the like.
【0024】金属電極2の断面形状は、楕円、カプセル
形、矩形等、特に限定されないが、上記のようにその断
面のアスペクト比が2以上8以下であり、その長径軸
が、窒化アルミニウムセラミックス基板1の表面と平行
であることが好ましい。例えば、図1(c)には、断面
形状が楕円状の金属電極2を示したが、この長径(L)
の軸方向が、窒化アルミニウムセラミックス基板1の表
面と平行であることが好ましい。図1(b)に示したよ
うに、金属電極2が、窒化アルミニウムセラミックス基
板1に対して扁平した状態で内蔵されることにより、窒
化アルミニウムセラミックス基板1の表面に載置される
ウエハ等を均一に加熱することができる。また、図2
(b)に示したような従来のコイル状の金属電極12が
内蔵されている場合に比べて、セラミックス製電極内蔵
部材を薄型にすることができる。The cross-sectional shape of the metal electrode 2 is not particularly limited, such as an ellipse, a capsule, or a rectangle. However, as described above, the aspect ratio of the cross section is 2 or more and 8 or less, and the major axis of the metal electrode 2 Preferably, it is parallel to the surface of the first. For example, FIG. 1C shows the metal electrode 2 having an elliptical cross-sectional shape.
Is preferably parallel to the surface of the aluminum nitride ceramics substrate 1. As shown in FIG. 1B, since the metal electrode 2 is built in the aluminum nitride ceramic substrate 1 in a flat state, a wafer or the like placed on the surface of the aluminum nitride ceramic substrate 1 can be uniformly formed. Can be heated. FIG.
As compared with the case where the conventional coil-shaped metal electrode 12 as shown in (b) is incorporated, the ceramic electrode-containing member can be made thinner.
【0025】また、前記金属電極2は、窒化アルミニウ
ムセラミックス基板1により、空隙のない状態で覆われ
ていることが好ましい。空隙があると、その部分に存在
するガスが、ヒータの加熱により膨張し、その応力によ
り、窒化アルミニウムセラミックス基板1にクラックが
生じたり、金属電極2が破損する原因となる。あるいは
また、そのガスが化学的に反応し、反応物と未反応物と
の熱膨張差により、ヒータ内部に応力が生じ、窒化アル
ミニウムセラミックス基板1にクラックが生じ、破損す
る場合もあり、ヒータの耐久性が低下する原因となる。It is preferable that the metal electrode 2 be covered with the aluminum nitride ceramic substrate 1 without any gap. If there is a gap, the gas present in that portion expands due to the heating of the heater, and the stress causes cracks in the aluminum nitride ceramics substrate 1 and causes damage to the metal electrode 2. Alternatively, the gas chemically reacts, and a stress is generated inside the heater due to a difference in thermal expansion between a reactant and an unreacted material, cracks may occur in the aluminum nitride ceramics substrate 1, and the heater may be damaged. This causes the durability to decrease.
【0026】本発明において用いられる窒化アルミニウ
ムセラミックスは、密度3.1g/cm3 以上であるこ
とが好ましい。窒化アルミニウムセラミックス製ヒータ
は、フッ素系プラズマの下で使用される場合もあるた
め、フッ素系プラズマに対する耐性が高いものである必
要がある。窒化アルミニウムセラミックスは、セラミッ
クスの中でも、フッ素系プラズマに対する耐性が高い材
料であるが、密度が低い場合、比表面積が大きくなり、
表面における反応物の生成量が多くなり、パーティクル
発生の原因となる。また、密度が低い場合、フッ素系プ
ラズマが、窒化アルミニウムセラミックスを通過して、
金属電極2に触れ、この金属電極2が腐食し、ショート
の原因にもなる。したがって、窒化アルミニウムセラミ
ックスは、密度3.1g/cm3 以上であることが好ま
しく、3.2g/cm3 以上であることがより好まし
い。The aluminum nitride ceramic used in the present invention preferably has a density of 3.1 g / cm 3 or more. Since the aluminum nitride ceramic heater is sometimes used under a fluorine-based plasma, the heater needs to have high resistance to the fluorine-based plasma. Aluminum nitride ceramics are materials with high resistance to fluorine-based plasma among ceramics, but when the density is low, the specific surface area increases,
The amount of reactants generated on the surface increases, causing particles to be generated. When the density is low, the fluorine-based plasma passes through the aluminum nitride ceramics,
When the metal electrode 2 touches the metal electrode 2, the metal electrode 2 is corroded and causes a short circuit. Therefore, the density of the aluminum nitride ceramic is preferably not less than 3.1 g / cm 3, more preferably not less than 3.2 g / cm 3 .
【0027】また、窒化アルミニウムセラミックスの熱
膨張係数は、6.0×10-6/℃以下であることが好ま
しい。上記のように、窒化アルミニウムセラミックス基
板1の破損を防止する観点から、窒化アルミニウムセラ
ミックスと金属電極2として用いられるタングステンと
の熱膨張係数は近い値であることが好ましい。したがっ
て、窒化アルミニウムセラミックスは、熱膨張係数6.
0×10-6/℃以下であることが好ましく、3.8×1
0-6/℃以上5.5×10-6/℃以下であることがより
好ましい。It is preferable that the coefficient of thermal expansion of the aluminum nitride ceramic is 6.0 × 10 −6 / ° C. or less. As described above, from the viewpoint of preventing the aluminum nitride ceramic substrate 1 from being damaged, it is preferable that the coefficient of thermal expansion between the aluminum nitride ceramic and tungsten used as the metal electrode 2 be close to each other. Therefore, aluminum nitride ceramics have a thermal expansion coefficient of 6.
It is preferably at most 0 × 10 −6 / ° C., 3.8 × 1
More preferably 0 -6 / ° C. or more 5.5 × 10 -6 / ℃ or less.
【0028】さらに、窒化アルミニウムセラミックスの
熱伝導率は、50W/m・K以上であることが好まし
い。セラミックス製ヒータの温度応答性は、熱容量以外
にセラミックスの熱伝導率にも依存するものであり、熱
伝導率が低い場合、ヒータカバー表面における面内温度
較差が大きくなり、場合によっては、その温度較差に起
因する窒化アルミニウムセラミックス基板1の熱膨張差
により、ヒータが破損してしまう。したがって、窒化ア
ルミニウムセラミックスは、熱伝導率50W/m・K以
上であることが好ましく、90W/m・K以上であるこ
とがより好ましい。Further, the thermal conductivity of the aluminum nitride ceramic is preferably at least 50 W / m · K. The temperature response of a ceramic heater depends not only on the heat capacity but also on the thermal conductivity of the ceramic. When the thermal conductivity is low, the in-plane temperature difference on the heater cover surface increases, and in some cases, the temperature The heater is damaged due to the difference in thermal expansion of the aluminum nitride ceramic substrate 1 caused by the difference. Therefore, the thermal conductivity of the aluminum nitride ceramic is preferably 50 W / m · K or more, more preferably 90 W / m · K or more.
【0029】次に、溝加工は、ヒータカバーとなる窒化
アルミニウムセラミックス基板を表面研削した後、その
面に、金属電極2のパターン形状に合わせた溝を、マシ
ニング、サンドブラスト等により加工する。溝の断面積
は、金属電極2が、接合時の圧力により変形し、その部
分に収まるようにする必要がある。すなわち、発熱体配
線の断面積と同一、あるいは、若干小さくし、金属電極
2が圧縮されて埋設されるようにすることが好ましい。
ここで、ヒータベースとなる窒化アルミニウムセラミッ
クス基板には、表面研削した後、後工程で電極端子を組
み込むための孔3を加工し、設けておく。Next, in the groove processing, after the surface of the aluminum nitride ceramic substrate serving as the heater cover is ground, a groove corresponding to the pattern shape of the metal electrode 2 is formed on the surface by machining, sandblasting or the like. It is necessary that the cross-sectional area of the groove be such that the metal electrode 2 is deformed by the pressure at the time of joining and fits in that portion. That is, it is preferable that the cross-sectional area of the heating element wiring is equal to or slightly smaller than that of the heating element wiring so that the metal electrode 2 is compressed and embedded.
Here, in the aluminum nitride ceramic substrate serving as a heater base, after the surface is ground, a hole 3 for incorporating an electrode terminal in a later step is processed and provided.
【0030】そして、ヒータベースとヒータカバーと
を、接合剤を介して、積層させる。前記接合剤は、一般
的なガラス成分が含まれているセラミックス接合剤でよ
いが、半導体製造装置等において用いられるヒータは、
フッ素系プラズマに曝されるため、フッ素系プラズマに
対する耐性を有する接合剤が好ましい。例えば、アルミ
ニウムまたは/およびイットリウム系の化合物を用いる
ことが好ましい。Then, the heater base and the heater cover are laminated via a bonding agent. The bonding agent may be a ceramic bonding agent containing a general glass component, but a heater used in a semiconductor manufacturing apparatus or the like includes:
A bonding agent that is resistant to fluorine-based plasma because it is exposed to fluorine-based plasma is preferred. For example, it is preferable to use an aluminum or / and yttrium-based compound.
【0031】接合剤は、ペースト化してスクリーン印刷
を行ったり、アルコール等の有機溶剤に分散させてスプ
レー噴霧することにより、基板上に塗布する。そして、
必要に応じて、通常行われている条件で、脱脂する。接
合強度を十分なものとするため、400℃以上で加熱す
るのが一般的である。次いで、この接合剤が塗布された
ヒータベースとヒータカバーとを重ね合わせ、ヒータベ
ースに予め設けられた電極端子用の孔3に、必要な電極
端子等を組み込む。The bonding agent is applied on a substrate by forming a paste and performing screen printing, or by dispersing in an organic solvent such as alcohol and spraying. And
If necessary, degreasing is performed under the conditions usually performed. In general, heating at 400 ° C. or higher is performed to ensure sufficient bonding strength. Next, the heater base to which the bonding agent has been applied and the heater cover are overlapped, and necessary electrode terminals and the like are incorporated into the electrode terminal holes 3 provided in the heater base in advance.
【0032】接合は、接合剤を介して積層された窒化ア
ルミニウムセラミックス基板1を熱処理することにより
行う。接合強度を高くするためには、圧力下で熱処理を
行うことが好ましく、例えば、ホットプレスを使用し、
外部から圧力をかけて熱処理を行う。なお、ホットプレ
スによる接合の場合は、熱処理温度、圧力にもよるが、
接合剤を必ずしも必要とせずに接合させることもでき
る。The bonding is performed by heat-treating the laminated aluminum nitride ceramic substrate 1 via a bonding agent. In order to increase the bonding strength, it is preferable to perform heat treatment under pressure, for example, using a hot press,
Heat treatment is performed by applying pressure from the outside. In the case of joining by hot pressing, although it depends on the heat treatment temperature and pressure,
Bonding can be performed without necessarily using a bonding agent.
【0033】また、ホットプレスは、接合と同時に、金
属電極2を溝に空隙なく充填させるためにも、有効な手
段である。この場合、圧力は、発熱体配線の径、長さ等
によるが、通常、50kg/cm2 以上500kg/c
m2 以下で行う。この圧力が、10kg/cm2 未満で
は、金属ワイヤ、薄膜、メッシュ等の金属電極2が、十
分に変形しないため、溝との間に空隙が生じる。一方、
圧力が500kg/cm2 を超えると、セラミックス基
板が破損するおそれがある。Also, hot pressing is an effective means for filling the metal electrode 2 into the groove without gaps at the same time as the joining. In this case, the pressure depends on the diameter and length of the heating element wiring, but is usually 50 kg / cm 2 or more and 500 kg / c.
m carried out in 2 or less. When the pressure is less than 10 kg / cm 2 , the metal electrode 2 such as a metal wire, a thin film, and a mesh does not deform sufficiently, so that a gap is formed between the metal electrode 2 and the groove. on the other hand,
When the pressure exceeds 500 kg / cm 2, there is a possibility that the ceramic substrate may be damaged.
【0034】熱処理温度は、1400℃以上1950℃
以下であることが好ましい。処理温度が1400℃未満
であると、接合剤の粒成長が起こりにくく、良好な接合
状態を得ることができない。また、金属電極2が十分に
変形しないため、溝との間に空隙が生じる。一方、処理
温度が1950℃を超えると、接合剤が異常粒成長し、
均一な接合強度を得ることができない等の不具合が生じ
る。したがって、熱処理温度は、1400℃以上195
0℃以下であることが好ましく、1600℃以上180
0℃以下であることがより好ましい。The heat treatment temperature is 1400 ° C. or more and 1950 ° C.
The following is preferred. If the treatment temperature is lower than 1400 ° C., the grain growth of the bonding agent hardly occurs, and a good bonding state cannot be obtained. Further, since the metal electrode 2 is not sufficiently deformed, a gap is generated between the metal electrode 2 and the groove. On the other hand, if the processing temperature exceeds 1950 ° C., the bonding agent grows abnormally,
Problems such as the inability to obtain uniform bonding strength occur. Therefore, the heat treatment temperature is 1400 ° C. or more and 195
0 ° C. or lower, preferably 1600 ° C. or higher and 180 ° C.
It is more preferable that the temperature is 0 ° C. or lower.
【0035】なお、上記実施形態においては、窒化アル
ミニウムセラミックス製ヒータを例として説明したが、
金属電極2を、例えば、くし歯状に形成すれば、窒化ア
ルミニウムセラミックス製静電チャックを得ることがで
きる。In the above embodiment, the heater made of aluminum nitride ceramics has been described as an example.
If the metal electrode 2 is formed in a comb shape, for example, an electrostatic chuck made of aluminum nitride ceramics can be obtained.
【0036】したがって、上記のようにして得られる本
発明に係る窒化アルミニウムセラミックス製電極内蔵部
材は、前記金属電極を抵抗発熱体として作用させるため
に、または、前記金属電極に直流もしくは交流電流を印
加することにより静電気を発生させるために、または、
前記金属電極により高周波を印加するために、好適に用
いることができる。Accordingly, the electrode-containing member made of aluminum nitride ceramics according to the present invention obtained as described above can be used to make the metal electrode function as a resistance heating element or to apply a DC or AC current to the metal electrode. To generate static electricity by
In order to apply a high frequency to the metal electrode, it can be suitably used.
【0037】[0037]
【実施例】以下、本発明を実施例に基づきさらに具体的
に説明するが、本発明は下記の実施例により制限される
ものではない。 [実施例1]ヒータカバーとなる直径210mm、厚さ
5mmの窒化アルミニウムセラミックス(助剤としてY
2 O3 を外率1重量%添加)に、表面研削を施した後、
金属電極の配線パターンの形状に合わせて、幅1.1m
m、深さ150μmの溝を、マシニング加工により形成
した。この溝に、金属電極の配線パターンの形状に加工
した、直径0.5mmのタングステンワイヤーをはめ込
み、固定した。ヒータベースとなる直径210mm、厚
さ5mmの窒化アルミニウムセラミックス(助剤として
Y2 O3 を外率1重量%添加)に表面研削を施した後、
AlN/Y2 O3 /Li2 O=100/10/1の接合
剤ペーストを、脱脂後の厚さが30μmとなるようにス
クリーン印刷により塗布し、大気中で、600℃で1時
間脱脂させた。前記ヒータカバーと前記ヒータベースと
を重ね合わせ、加圧0.1t/cm2で、ホットプレス
により、窒素雰囲気下、1800℃で3時間接合熱処理
を行った。その後、ヒータカバー表面を、平面度10μ
mになるまで研削加工し、図1(a)(b)に示すよう
な窒化アルミニウムセラミックス製ヒータを得た。作製
したヒータを0.01torrの減圧下、600℃に加
熱し、ヒータカバー表面の面内温度較差を測定した。ま
た、このヒータを厚さ方向に切断し、タングステン電極
断面のアスペクト比を求めた。これらの測定結果を表1
に示す。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples, but the present invention is not limited to the following examples. Example 1 Aluminum nitride ceramics having a diameter of 210 mm and a thickness of 5 mm serving as a heater cover (Y as an auxiliary agent)
2 O 3 with an external rate of 1% by weight)
1.1m width according to the shape of the wiring pattern of the metal electrode
A groove having a depth of 150 μm and a depth of 150 μm was formed by machining. A 0.5 mm diameter tungsten wire processed into the shape of the wiring pattern of the metal electrode was fitted into the groove and fixed. After aluminum nitride ceramics having a diameter of 210 mm and a thickness of 5 mm serving as a heater base (Y 2 O 3 is added as an auxiliary agent at an external ratio of 1% by weight), the surface is ground.
A bonding agent paste of AlN / Y 2 O 3 / Li 2 O = 100/10/1 is applied by screen printing so that the thickness after degreasing becomes 30 μm, and degreased at 600 ° C. for 1 hour in the air. Was. The superposed heater cover and said heater base, under pressure 0.1 t / cm 2, by hot pressing, under a nitrogen atmosphere for 3 hours bonding heat treatment at 1800 ° C.. Thereafter, the surface of the heater cover is adjusted to a flatness of 10 μm.
m to obtain a heater made of aluminum nitride ceramics as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b). The produced heater was heated to 600 ° C. under a reduced pressure of 0.01 torr, and the in-plane temperature difference of the heater cover surface was measured. The heater was cut in the thickness direction, and the aspect ratio of the cross section of the tungsten electrode was determined. Table 1 shows the measurement results.
Shown in
【0038】[比較例1]加圧熱処理における加圧条件
を0.04t/cm2 とする以外は実施例1と同様にし
て、窒化アルミニウムセラミックス製ヒータを作製し
た。作製したヒータを、実施例1と同様に、0.01t
orrの減圧下、600℃に加熱し、ヒータカバー表面
の面内温度較差を測定した。また、タングステン電極断
面のアスペクト比も、実施例1と同様にして求めた。こ
れらの測定結果を表1に示す。なお、このヒータは、タ
ングステン電極と窒化アルミニウムセラミックス基板と
の間に空隙が認められ、ヒータ加熱開始から20時間
後、破損し、ヒータとして作動しなくなった。Comparative Example 1 An aluminum nitride ceramics heater was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the pressing condition in the pressure heat treatment was set to 0.04 t / cm 2 . The produced heater was set at 0.01 t in the same manner as in Example 1.
The substrate was heated to 600 ° C. under a reduced pressure of orr, and the in-plane temperature difference of the heater cover surface was measured. Also, the aspect ratio of the tungsten electrode cross section was determined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the measurement results. The heater was found to have a gap between the tungsten electrode and the aluminum nitride ceramics substrate, and was broken 20 hours after the start of heating of the heater, and did not operate as a heater.
【0039】[比較例2]加圧熱処理における加圧条件
を0.6t/cm2 とする以外は実施例1と同様にし
て、窒化アルミニウムセラミックス製ヒータを作製し
た。作製したヒータを、実施例1と同様に、0.01t
orrの減圧下、600℃に加熱し、ヒータカバー表面
の面内温度較差を測定した。また、タングステン電極断
面のアスペクト比も、実施例1と同様にして求めた。こ
れらの測定結果を表1に示す。なお、このヒータは、局
部的な異常発熱が認められ、ヒータ加熱開始から4時間
後、破損し、ヒータとして作動しなくなった。Comparative Example 2 An aluminum nitride ceramic heater was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the pressing condition in the pressure heat treatment was set at 0.6 t / cm 2 . The produced heater was set at 0.01 t in the same manner as in Example 1.
The substrate was heated to 600 ° C. under a reduced pressure of orr, and the in-plane temperature difference of the heater cover surface was measured. Also, the aspect ratio of the tungsten electrode cross section was determined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the measurement results. This heater was found to have local abnormal heat generation, and was broken four hours after the start of heating of the heater, and did not operate as a heater.
【0040】[0040]
【表1】 [Table 1]
【0041】表1に示したように、実施例1のヒータ
は、タングステン電極の断面のアスペクト比が6.60
であり、アスペクト比が2未満である比較例1およびア
スペクト比が8を超える比較例2に比べて、面内温度較
差が小さいことが認められた。また、実施例1のヒータ
は、断面を観察したところ、タングステン電極と窒化ア
ルミニウムセラミックス基板の間には空隙はなく、両者
は密着していた。一方、比較例1のヒータは、上記のよ
うに、タングステン電極と窒化アルミニウム基板の間に
空隙が認められた。また、比較例2のヒータは、タング
ステン電極と窒化アルミニウムセラミックス基板の間に
は空隙はなく、両者は密着していたが、アスペクト比が
9.24と大きく、タングステン電極は扁平しており、
面内の電極配線の間隔も不均一であった。さらに、ヒー
タを作動させた場合、実施例1のヒータは、作動開始か
ら1000時間後も、変化なく作動していたが、比較例
1のヒータは、20時間後に破損し、ヒータとして作動
しなくなった。また、比較例2のヒータは、局部的な異
常発熱を生じた後、4時間後に破損し、ヒータとして作
動しなくなった。As shown in Table 1, in the heater of Example 1, the aspect ratio of the cross section of the tungsten electrode was 6.60.
It was recognized that the in-plane temperature difference was smaller than Comparative Example 1 having an aspect ratio of less than 2 and Comparative Example 2 having an aspect ratio of more than 8. In addition, when the cross section of the heater of Example 1 was observed, there was no gap between the tungsten electrode and the aluminum nitride ceramics substrate, and both were in close contact. On the other hand, in the heater of Comparative Example 1, as described above, a gap was observed between the tungsten electrode and the aluminum nitride substrate. Further, the heater of Comparative Example 2 had no gap between the tungsten electrode and the aluminum nitride ceramics substrate and was in close contact with each other, but had a large aspect ratio of 9.24, and the tungsten electrode was flat.
The spacing between the electrode wirings in the plane was also uneven. Further, when the heater was operated, the heater of Example 1 was operating without change even after 1000 hours from the start of operation, but the heater of Comparative Example 1 was damaged after 20 hours and did not operate as a heater. Was. Further, the heater of Comparative Example 2 was damaged four hours after the occurrence of local abnormal heat generation, and did not operate as a heater.
【0042】このことから、タングステン電極の断面の
アスペクト比が2以上8以下である窒化アルミニウムセ
ラミックス製ヒータは、異常発熱を起こすことなく、ヒ
ータカバー表面を均一に加熱することができることがわ
かる。From this, it can be understood that the aluminum nitride ceramic heater having a tungsten electrode having an aspect ratio of 2 or more and 8 or less can uniformly heat the surface of the heater cover without causing abnormal heat generation.
【0043】[0043]
【発明の効果】以上のように、本発明に係る窒化アルミ
ニウムセラミックス製電極内蔵部材は、従来のものに比
べ、電気抵抗等の制御が容易となり、また、薄型化する
ことが可能となる。さらに、耐久性の向上を図ることも
できる。さらには、本発明に係る窒化アルミニウムセラ
ミックス製電極内蔵部材を用いることにより、半導体製
造装置、液晶製造装置等において、ウエハ、液晶表示基
板等の加工の際、加熱、または吸着力、印加電磁波を均
一なものとすることができ、半導体または液晶製造の歩
留まりの向上を図ることできる。As described above, the electrode built-in member made of aluminum nitride ceramics according to the present invention can easily control the electric resistance and the like and can be made thinner than the conventional one. Further, the durability can be improved. Further, by using the aluminum nitride ceramics electrode built-in member according to the present invention, in processing a wafer, a liquid crystal display substrate, or the like in a semiconductor manufacturing apparatus, a liquid crystal manufacturing apparatus, or the like, the heating or the attraction force and the applied electromagnetic wave are made uniform. And the yield of semiconductor or liquid crystal production can be improved.
【図1】(a)本発明に係る窒化アルミニウムセラミッ
クス製ヒータの一例を模式的に示した上面からの透視図
である。 (b)図1(a)のA−A´断面図である。 (c)図1(b)に示した金属電極の拡大図である。FIG. 1 (a) is a perspective view from the top, schematically showing an example of an aluminum nitride ceramics heater according to the present invention. (B) It is AA 'sectional drawing of FIG.1 (a). FIG. 2C is an enlarged view of the metal electrode shown in FIG.
【図2】(b)従来のセラミックス製ヒータの一例を模
式的に示した上面からの透視図である。 (b)図2(a)のB−B´断面図である。FIG. 2 (b) is a perspective view from the top, schematically showing an example of a conventional ceramic heater. (B) It is BB 'sectional drawing of FIG.2 (a).
1 窒化アルミニウムセラミックス基板 2 金属電極 3、13 電極端子用の孔 11 セラミックス基板 12 コイル状の金属電極 Reference Signs List 1 aluminum nitride ceramic substrate 2 metal electrode 3, 13 hole for electrode terminal 11 ceramic substrate 12 coiled metal electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 3/20 328 C04B 35/58 104D 104Q 104Y (72)発明者 藤田 光広 神奈川県秦野市曽屋30番地 東芝セラミッ クス株式会社開発研究所内 (72)発明者 柏熊 憲章 神奈川県秦野市曽屋30番地 東芝セラミッ クス株式会社開発研究所内 Fターム(参考) 3K034 AA02 AA10 AA16 AA21 AA32 AA33 AA34 AA37 BA06 BA14 BA20 BB06 BB14 BC04 BC15 BC16 CA02 CA15 CA18 CA19 CA20 CA22 CA27 CA29 HA01 HA10 JA01 JA10 3K092 PP20 QA05 QB02 QB26 QB32 QB33 QB40 QB44 QB62 QB73 QB75 QC02 QC16 QC20 QC58 QC59 RF03 RF11 RF25 RF26 VV22 4G001 BA01 BA09 BA36 BA61 BB01 BB09 BB36 BB61 BC22 BC32 BC34 BC42 BC52 BC54 BD03 BD05 BD38 BE32 BE33 5F031 HA02 HA17 HA18 HA37 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05B 3/20 328 C04B 35/58 104D 104Q 104Y (72) Inventor Mitsuhiro Fujita 30 Soya, Hadano-shi, Kanagawa Toshiba (72) Inventor, Noriaki Kashiwa, 30 Soya, Hadano-shi, Kanagawa Prefecture Toshiba Ceramics, Inc. Development Research Laboratory F-term (reference) 3K034 AA02 AA10 AA16 AA21 AA32 AA33 AA34 AA37 BA06 BA14 BA20 BB06 BB14 BC04 BC15 BC16 CA02 CA15 CA18 CA19 CA20 CA22 CA27 CA29 HA01 HA10 JA01 JA10 3K092 PP20 QA05 QB02 QB26 QB32 QB33 QB40 QB44 QB62 QB73 QB75 QC02 QC16 QC20 QC58 QC59 RF03 RF11 RF25 RF26 VV22 4G001 BC01 BC01 BC36 BC31 BC36 BD03 BD05 BD38 BE32 BE33 5F031 HA02 HA17 HA18 HA37
Claims (6)
金属電極の断面のアスペクト比が2以上8以下であるこ
とを特徴とする窒化アルミニウムセラミックス製電極内
蔵部材。1. A member having a built-in metal electrode, wherein an aspect ratio of a cross section of the metal electrode is 2 or more and 8 or less.
とするものであることを特徴とする請求項1記載の窒化
アルミニウムセラミックス製電極内蔵部材。2. The electrode-containing member according to claim 1, wherein the metal electrode is mainly composed of tungsten.
ルミニウムセラミックス基板表面と平行であることを特
徴とする請求項1または請求項2記載の窒化アルミニウ
ムセラミックス製電極内蔵部材。3. The aluminum nitride ceramic electrode-containing member according to claim 1, wherein a major axis of a cross section of the metal electrode is parallel to a surface of the aluminum nitride ceramic substrate.
ミックス基板により、空隙のない状態で覆われているこ
とを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかに
記載の窒化アルミニウムセラミックス製電極内蔵部材。4. The built-in aluminum nitride ceramic electrode according to claim 1, wherein said metal electrode is covered with an aluminum nitride ceramic substrate without any voids. Element.
ラミックス基板は、密度3.1g/cm3 以上、かつ、
熱膨張係数6.0×10-6/℃以下、かつ、熱伝導率5
0W/m・K以上であることを特徴とする請求項1から
請求項4までのいずれかに記載の窒化アルミニウムセラ
ミックス製電極内蔵部材。5. The aluminum nitride ceramic substrate covering the metal electrode has a density of 3.1 g / cm 3 or more, and
Thermal expansion coefficient 6.0 × 10 -6 / ° C or less, and thermal conductivity 5
The electrode built-in member made of aluminum nitride ceramics according to any one of claims 1 to 4, wherein the electrode built-in electrode has a power of 0 W / m · K or more.
せるために、または、前記金属電極に直流もしくは交流
電流を印加することにより静電気を発生させるために、
または、前記金属電極により高周波を印加するために用
いられることを特徴とする請求項1から請求項5までの
いずれかに記載の窒化アルミニウムセラミックス製電極
内蔵部材。6. To cause the metal electrode to act as a resistance heating element, or to generate static electricity by applying a DC or AC current to the metal electrode,
The electrode-containing member according to any one of claims 1 to 5, wherein the member is used to apply a high frequency by the metal electrode.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2001046132A JP2002252269A (en) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | Aluminum nitride ceramics electrode built-in member |
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---|---|
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014095640A (en) * | 2012-11-09 | 2014-05-22 | Yoshinobu Abe | X-ray inspection heating device and planar heater |
JP2020045253A (en) * | 2018-09-18 | 2020-03-26 | 日本特殊陶業株式会社 | Ceramic joined body |
-
2001
- 2001-02-22 JP JP2001046132A patent/JP2002252269A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014095640A (en) * | 2012-11-09 | 2014-05-22 | Yoshinobu Abe | X-ray inspection heating device and planar heater |
JP2020045253A (en) * | 2018-09-18 | 2020-03-26 | 日本特殊陶業株式会社 | Ceramic joined body |
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