JP2002237098A - Optical recording medium - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に、少なく
ともヒートシンク反射層と、記録層と、保護層とが順次
積層されてなり、保護層側から光が照射されることによ
り、信号の記録及び／又は再生がなされる光記録媒体に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a signal recording method in which at least a heat sink reflective layer, a recording layer, and a protective layer are sequentially laminated on a substrate, and light is irradiated from the protective layer side. And / or an optical recording medium on which reproduction is performed.
【０００２】[0002]
【従来の技術】光記録媒体としては、情報信号に対応し
たエンボスピットがディスク基板に予め形成されてなる
再生専用の光ディスクや、磁気光学効果を利用して情報
信号の記録を行う光磁気ディスク、記録膜の相変化を利
用して情報信号の記録を行う相変化型光ディスク等があ
る。2. Description of the Related Art As an optical recording medium, a read-only optical disk in which emboss pits corresponding to an information signal are formed in advance on a disk substrate, a magneto-optical disk for recording an information signal using a magneto-optical effect, There is a phase change type optical disk or the like that records an information signal using a phase change of a recording film.
【０００３】これらの光ディスクのうち、光磁気ディス
クや相変化型光ディスクのように書き込みが可能な光デ
ィスクでは、通常、ディスク基板に記録トラックに沿っ
たグルーブが形成されている。ここで、グルーブとは、
主にトラッキングサーボを行うために、記録トラックに
沿って形成される案内溝のことである。また、グルーブ
とグルーブの間の部分は、ランドと呼ばれている。[0003] Of these optical disks, writable optical disks such as magneto-optical disks and phase-change optical disks usually have grooves formed along recording tracks on a disk substrate. Here, the groove is
A guide groove formed along a recording track mainly for performing tracking servo. The portion between the grooves is called a land.
【０００４】ところで、これら光ディスクでは、記録再
生装置に搭載される光ピックアップの再生分解能を向上
させることにより、高記録密度化を達成している。具体
的には、光ディスクに照射されるレーザービームの波長
λを短くしたり、対物レンズの開口数ＮＡを大きくして
光ディスクに照射されるレーザービームのスポット径を
小さくすることが行われている。[0004] In these optical discs, a higher recording density has been achieved by improving the reproduction resolution of an optical pickup mounted on a recording / reproducing apparatus. Specifically, the wavelength λ of the laser beam applied to the optical disk is shortened, or the numerical aperture NA of the objective lens is increased to reduce the spot diameter of the laser beam applied to the optical disk.
【０００５】しかしながら、対物レンズのＮＡを大きく
した場合には、ディスク基板の厚みをさらに薄くする必
要がある。これは、光学ピックアップの光軸に対してデ
ィスク面が垂直からずれる角度（チルト角）の許容量が
小さくなるためであり、このチルト角がディスク基板の
厚みによる収差や複屈折の影響を受けやすいためであ
る。すなわち、光ディスクでは、対物レンズの高ＮＡ化
に対応するために、ディスク基板の厚みを薄くしてチル
ト角をなるべく小さくする必要がある。[0005] However, when the NA of the objective lens is increased, it is necessary to further reduce the thickness of the disk substrate. This is because the allowable amount of the angle (tilt angle) at which the disk surface deviates from the perpendicular to the optical axis of the optical pickup becomes small, and the tilt angle is easily affected by aberration and birefringence due to the thickness of the disk substrate. That's why. That is, in the optical disk, it is necessary to reduce the tilt angle as much as possible by reducing the thickness of the disk substrate in order to cope with an increase in the NA of the objective lens.
【０００６】例えばデジタルオーディオディスクでは、
ディスク基板の厚みが１．２ｍｍ程度とされるのに対
し、デジタルオーディオディスクの６〜８倍の記録容量
を有するデジタルバーサタイルディスク(DVD:Digital V
ersatile Disk)においては、ディスク基板の厚みが０．
６ｍｍ程度とされる。For example, in a digital audio disc,
While the thickness of the disk substrate is about 1.2 mm, a digital versatile disk (DVD: Digital V) having a recording capacity 6 to 8 times that of a digital audio disk
ersatile Disk), the thickness of the disk substrate is 0.
It is about 6 mm.
【０００７】しかしながら、このような光記録媒体で
は、今後さらなる高記録密度化が要求されるものと思わ
れ、ディスク基板のさらなる薄型化が必要となってくる
ものと思われる。However, in such an optical recording medium, it is expected that a higher recording density will be required in the future, and it will be necessary to further reduce the thickness of the disk substrate.
【０００８】そこで、光記録媒体では、ディスク基板上
に積層された積層膜のうち、最上層に形成された保護層
側から光が照射されることにより、信号の記録及び／又
は再生がなされる光ディスクが提案されている。この光
ディスクでは、保護層を薄膜化することによって、対物
レンズのさらなる高ＮＡ化に対応することが可能となっ
ている。Therefore, in an optical recording medium, signals are recorded and / or reproduced by irradiating light from the protective layer formed on the uppermost layer in the laminated film laminated on the disk substrate. Optical disks have been proposed. In this optical disk, it is possible to cope with a further increase in the NA of the objective lens by reducing the thickness of the protective layer.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した光
ディスクでは、高記録密度化、すなわち１ビット当たり
の記録面積が縮小するのに伴って、膜の表面粗さの問題
がより顕著となってきている。すなわち、光ディスクで
は、記録面積の縮小化によって、従来では問題とならな
い程度の膜の表面粗さでも、ディスクノイズが増加し、
Ｓ／ＮやＣ／Ｎが劣化してしまうことがある。By the way, in the above-mentioned optical disk, as the recording density increases, that is, as the recording area per bit decreases, the problem of the surface roughness of the film becomes more prominent. I have. That is, in the optical disk, due to the reduction in the recording area, the disk noise increases even if the surface roughness of the film is not a problem in the related art,
S / N and C / N may deteriorate.
【００１０】具体的に、図４に示すような光ディスクで
は、記録トラックに沿ってグルーブ１００ａが形成され
たディスク基板１００上に、ヒートシンク反射層１０１
と、記録層１０２と、保護層１０３とが順次積層されて
おり、このうち、ディスクノイズに影響を及ぼす膜の表
面粗さは、ヒートシンク反射層１０１として金属膜を成
膜した際により顕著なものとなる。すなわち、この光デ
ィスクでは、図５に示すように、ディスク基板１００上
に、ヒートシンク反射層１０１として例えばＡｌ合金か
らなる金属膜を真空蒸着法やスパッタリング等の真空成
膜技術により成膜すると、この金属膜の結晶粒子１０１
ａが比較的大きく成長してしまい、金属膜が平滑性を失
ってその表面粗さが大きくなってしまう。また、このヒ
ートシンク記録層１０１は、グルーブ１００ａ上に成膜
された金属膜の膜厚よりも、グルーブ１００ａとグルー
ブ１００ａとの間のランド１００ｂ上に成膜された金属
膜の膜厚の方が厚くなっている。More specifically, in the optical disk as shown in FIG. 4, a heat sink reflective layer 101 is provided on a disk substrate 100 on which grooves 100a are formed along recording tracks.
, A recording layer 102, and a protective layer 103 are sequentially laminated, and the surface roughness of the film affecting the disk noise is more remarkable when a metal film is formed as the heat sink reflective layer 101. Becomes That is, in this optical disc, as shown in FIG. 5, when a metal film made of, for example, an Al alloy is formed as a heat sink reflective layer 101 on a disc substrate 100 by a vacuum film forming technique such as a vacuum evaporation method or sputtering, Crystal particles 101 of the film
a grows relatively large, and the metal film loses smoothness and its surface roughness increases. In the heat sink recording layer 101, the thickness of the metal film formed on the land 100b between the grooves 100a is greater than the thickness of the metal film formed on the groove 100a. It is getting thicker.
【００１１】この場合、上述したヒートシンク反射層１
０１上に形成された記録層１０２に凹凸が生じてしま
い、良好な記録層としての特性が得られなくなってしま
う。In this case, the heat sink reflective layer 1 described above is used.
Unevenness occurs in the recording layer 102 formed on the recording layer 01, and good characteristics as a recording layer cannot be obtained.
【００１２】この改善策として、Ａｌ合金からなる金属
膜の膜厚を薄くすることで、結晶粒子１０１ａの成長を
抑制し、この金属膜の表面粗さを小さくすることが考え
られる。As a remedy, it is conceivable to reduce the thickness of the metal film made of an Al alloy to suppress the growth of the crystal grains 101a and to reduce the surface roughness of the metal film.
【００１３】しかしながら、このＡｌ合金からなる金属
膜の膜厚を薄くすると、ヒートシンク反射層１０１の熱
容量が低下するために、記録層１０２に記録される信号
のジッターが悪化するという報告（Aparna C.Sheila,T.
E.Schlesinger,avid N.Lambeth"Mark Edge Jitter Mode
l For Phase Change Recording"Digest of Optical Dat
a Storage 2000,Whistler,80-82,SPIE）もあり、単純に
Ａｌ合金からなる金属膜の膜厚を薄くすることはできな
い。However, when the thickness of the metal film made of the Al alloy is reduced, the heat capacity of the heat sink reflective layer 101 is reduced, and the jitter of the signal recorded on the recording layer 102 is deteriorated (Aparna C. et al. Sheila, T.
E.Schlesinger, avid N.Lambeth "Mark Edge Jitter Mode
l For Phase Change Recording "Digest of Optical Dat
a Storage 2000, Whistler, 80-82, SPIE), and it is not possible to simply reduce the thickness of a metal film made of an Al alloy.
【００１４】さらに、このような光ディスクでは、ディ
スク基板１００の材料として、熱伝導率の低いポリカー
ボネート等のプラスチック材料を用いることが多く、こ
の場合、基板１００とヒートシンク反射層１０１とが接
していることから、Ａｌ合金からなる金属膜の膜厚を薄
くすると、このヒートシンク反射層１０１の熱容量や熱
伝導率に基板材料の物性値が悪影響を及ぼすこととな
る。Further, in such an optical disk, a plastic material such as polycarbonate having low thermal conductivity is often used as a material of the disk substrate 100. In this case, the substrate 100 and the heat sink reflective layer 101 are in contact with each other. Therefore, when the thickness of the metal film made of the Al alloy is reduced, the physical properties of the substrate material adversely affect the heat capacity and the thermal conductivity of the heat sink reflective layer 101.
【００１５】そこで、本発明はこのような従来の事情に
鑑みて提案されたものであり、ヒートシンク反射層の表
面粗さを良好なものとし、且つ、ヒートシンク反射層の
熱容量の低下を抑制することを可能とした光記録媒体を
提供することを目的とする。In view of the foregoing, the present invention has been proposed in view of the above circumstances, and has an object to improve the surface roughness of a heat sink reflective layer and to suppress a decrease in heat capacity of the heat sink reflective layer. It is an object of the present invention to provide an optical recording medium that enables the above.
【００１６】[0016]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、基板上に、少なくともヒートシンク反射
層と、記録層と、保護層とが順次積層されてなり、保護
層側から光が照射されることにより、信号の記録及び／
又は再生がなされる光記録媒体であって、ヒートシンク
反射層は、少なくとも金属膜を含む積層構造とされてい
ることを特徴としている。In order to achieve this object, the present invention provides a light emitting device comprising at least a heat sink reflective layer, a recording layer, and a protective layer sequentially laminated on a substrate. Irradiates signals to record signals and / or
Alternatively, an optical recording medium to be reproduced is characterized in that the heat sink reflective layer has a laminated structure including at least a metal film.
【００１７】以上のように本発明に係る光記録媒体で
は、ヒートシンク反射層において、金属膜を薄膜化し、
この金属膜の成膜時における結晶粒子の成長を抑制する
ことで、金属膜の表面粗さを小さくすることができる。
そして、ヒートシンク反射層をこの金属膜を含む積層構
造とすることで、当該ヒートシンク反射層の表面粗さを
良好なものとし、且つ、当該ヒートシンク反射層の熱容
量の低下を抑制することができる。As described above, in the optical recording medium according to the present invention, in the heat sink reflection layer, the metal film is reduced in thickness.
By suppressing the growth of crystal grains during the formation of the metal film, the surface roughness of the metal film can be reduced.
Then, by forming the heat sink reflective layer to have a laminated structure including this metal film, the surface roughness of the heat sink reflective layer can be made good, and a decrease in the heat capacity of the heat sink reflective layer can be suppressed.
【００１８】また、ヒートシンク反射層は、少なくとも
基板側から、高熱伝導率を有する膜と、金属膜とが積層
されてなる構造とすることが好ましい。The heat sink reflective layer preferably has a structure in which a film having high thermal conductivity and a metal film are laminated at least from the substrate side.
【００１９】この場合、ヒートシンク反射層において、
金属膜を薄膜化し、この金属膜の成膜時における結晶粒
子の成長を抑制することで、金属膜の表面粗さを小さく
することができる。そして、この金属膜を高熱伝導率を
有する金属膜上に積層することにより、当該ヒートシン
ク反射層の表面粗さを良好なものとし、且つ、当該ヒー
トシンク反射層の熱容量を大きくすることができる。In this case, in the heat sink reflection layer,
By reducing the thickness of the metal film and suppressing the growth of crystal grains during the formation of the metal film, the surface roughness of the metal film can be reduced. Then, by laminating this metal film on a metal film having a high thermal conductivity, the surface roughness of the heat sink reflective layer can be improved, and the heat capacity of the heat sink reflective layer can be increased.
【００２０】また、ヒートシンク反射層は、少なくとも
基板側から、他の金属膜と、高熱伝導率を有する膜と、
金属膜とが積層されてなる構造としてもよい。Further, the heat sink reflective layer includes, at least from the substrate side, another metal film, a film having high thermal conductivity,
A structure in which a metal film and a metal film are stacked may be used.
【００２１】この場合、ヒートシンク反射層において、
金属膜及び他の金属膜を薄膜化し、これら金属膜の成膜
時における結晶粒子の成長を抑制することで、金属膜及
び他の金属膜の表面粗さを小さくすることができる。そ
して、これら金属膜を高熱伝導率を有する膜により隔離
することで、当該ヒートシンク反射層の表面粗さを良好
なものとし、且つ、当該ヒートシンク反射層の熱容量を
大きくすることができる。In this case, in the heat sink reflection layer,
The surface roughness of the metal film and other metal films can be reduced by reducing the thickness of the metal film and other metal films and suppressing the growth of crystal grains during the formation of these metal films. Then, by isolating these metal films by a film having a high thermal conductivity, the surface roughness of the heat sink reflective layer can be improved, and the heat capacity of the heat sink reflective layer can be increased.
【００２２】[0022]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【００２３】先ず、本発明の第１の実施の形態として図
１に示す相変化光ディスク１について説明する。なお、
図１は、この相変化光ディスク１の構造を示す要部断面
図である。First, a phase change optical disk 1 shown in FIG. 1 will be described as a first embodiment of the present invention. In addition,
FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part showing the structure of the phase change optical disk 1.
【００２４】この相変化光ディスク１は、略円盤状を呈
しており、略中心部に中心孔が穿設されたディスク基板
２の主面上に、例えば真空蒸着法やスパッタリング法等
の真空成膜技術により、ヒートシンク反射層３と、記録
層４と、保護層５とが順次積層された構造を有してい
る。そして、この相変化光ディスク１では、記録再生装
置により情報信号の記録再生が行われる際に、記録再生
装置に搭載された光学ピックアップの対物レンズにより
レーザービームが集光され、この集光されたレーザービ
ームが保護層５側から記録層４に照射されることとな
る。これにより、対物レンズのさらなる高ＮＡ化に対応
することが可能となっている。The phase-change optical disk 1 has a substantially disk shape, and is formed on a main surface of a disk substrate 2 having a center hole formed at a substantially central portion thereof by, for example, a vacuum deposition method or a sputtering method. According to the technology, the heat sink reflective layer 3, the recording layer 4, and the protective layer 5 are sequentially laminated. In the phase-change optical disc 1, when recording / reproducing an information signal is performed by the recording / reproducing apparatus, a laser beam is condensed by an objective lens of an optical pickup mounted on the recording / reproducing apparatus. The beam is applied to the recording layer 4 from the protective layer 5 side. As a result, it is possible to cope with an even higher NA of the objective lens.
【００２５】この相変化光ディスク１において、ディス
ク基板２は、例えばポリカーボネート（ＰＣ）や、ポリ
メタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル、エポキシ樹脂
等のプラスチック材料からなる。また、ディスク基板２
の材料としては、ガラスや金属材料等を用いることがで
きる。そして、このディスク基板２の主面には、案内溝
であるグルーブ２ａが記録トラックに沿って略スパイラ
ル状に形成されており、グルーブ２ａとグルーブ２ａと
の間には、ランド２ｂが形成されている。In the phase change optical disk 1, the disk substrate 2 is made of a plastic material such as polycarbonate (PC), polymethacrylate (PMMA), acrylic, epoxy resin, or the like. Also, the disk substrate 2
As a material of the above, glass, a metal material, or the like can be used. A groove 2a, which is a guide groove, is formed in a substantially spiral shape along the recording track on the main surface of the disk substrate 2, and a land 2b is formed between the grooves 2a. I have.
【００２６】ヒートシンク反射層３は、ヒートシンク膜
及び反射膜として機能するものであり、例えば基板２側
から順に、高熱伝導率を有する膜６と、金属膜７とが積
層された２層構造を有している。The heat sink reflection layer 3 functions as a heat sink film and a reflection film, and has, for example, a two-layer structure in which a film 6 having a high thermal conductivity and a metal film 7 are laminated in this order from the substrate 2 side. are doing.
【００２７】記録層４は、ＺｎＳ−ＳｉＯ２等からなる
第１の透明誘電体膜８と、ＧｅＳｂＴｅ等の相変化材料
からなる相変化記録膜９と、ＺｎＳ−ＳｉＯ２等からな
る第２の透明誘電体膜１０とが順次積層されてなる。こ
のうち、相変化記録膜９は、金属膜７、第１の透明誘電
体膜８及び第２の透明誘電体膜１０によりエンハンスが
なされている。The recording layer 4, a ZnS-SiO 2 or the like first transparent dielectric film 8 made of, a phase change recording film 9 of a phase change material such as GeSbTe, a second made of ZnS-SiO 2 or the like The transparent dielectric film 10 and the transparent dielectric film 10 are sequentially laminated. Among them, the phase change recording film 9 is enhanced by the metal film 7, the first transparent dielectric film 8, and the second transparent dielectric film 10.
【００２８】保護層５は、記録層４を保護するためのも
のであり、光透過性を有する樹脂材料等からなる。具体
的に、この保護層５は、記録層４上に、例えば紫外線硬
化樹脂をスピンコート法により塗布し、この紫外線硬化
樹脂に対して紫外線を照射し硬化させることで形成され
る。The protective layer 5 is for protecting the recording layer 4 and is made of a light-transmissive resin material or the like. Specifically, the protective layer 5 is formed by applying, for example, an ultraviolet curable resin onto the recording layer 4 by a spin coating method, and irradiating the ultraviolet curable resin with ultraviolet light to cure the resin.
【００２９】以上のように構成される相変化光ディスク
１では、対物レンズにより集光されたレーザービームを
記録層４に照射しながら、結晶状態からアモルファス状
態といった相変化を記録層４に生じさせることにより、
情報信号の記録又は消去が行われ、それに伴う光の反射
率変化を検出することにより、情報信号の再生が行われ
る。In the phase change optical disk 1 configured as described above, a phase change from a crystalline state to an amorphous state is caused in the recording layer 4 while irradiating the recording layer 4 with the laser beam focused by the objective lens. By
The recording or erasing of the information signal is performed, and the information signal is reproduced by detecting a change in the reflectance of light accompanying the recording or erasing.
【００３０】ところで、この相変化光ディスク１におい
て、ヒートシンク反射層３は、ディスク基板２側から順
に、高熱伝導率を有する膜６と、金属膜７とが積層され
た２層構造を有している。Incidentally, in the phase-change optical disk 1, the heat sink reflective layer 3 has a two-layer structure in which a film 6 having a high thermal conductivity and a metal film 7 are laminated in this order from the disk substrate 2 side. .
【００３１】このうち、金属膜７は、高熱伝導率を有す
るＡｌ又はＡｌ合金等のＡｌを含有する金属材料からな
り、少なくとも反射膜として機能するのに十分な膜厚を
有している。より具体的には、このＡｌを含有する金属
膜７の膜厚を３０ｎｍ以上とすることが好ましい。Of these, the metal film 7 is made of a metal material containing Al such as Al or an Al alloy having a high thermal conductivity, and has a thickness at least sufficient to function as a reflection film. More specifically, the thickness of the Al-containing metal film 7 is preferably set to 30 nm or more.
【００３２】ここで、ディスク基板上に、Ａｌ膜からな
るヒートシンク反射層と、膜厚１６ｎｍのＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ２膜、膜厚１２ｎｍのＧｅＳｂＴｅ膜及び膜厚５５ｎ
ｍのＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる記録層と、保護層とを順
次積層した相変化光ディスクについて、Ａｌ膜の膜厚を
変化させた際の反射率の変化を計算により求めた。Here, a heat sink reflective layer made of an Al film and a ZnS-Si
O 2 film, GeSbTe film having a thickness of 12 nm and film thickness of 55 n
For a phase change optical disk in which a recording layer made of m ZnS-SiO 2 and a protective layer were sequentially laminated, the change in reflectance when the thickness of the Al film was changed was calculated.
【００３３】このＡｌ膜の膜厚と反射率との関係を示す
グラフを図２に示す。なお、図２は、レーザービームの
波長を４０５ｎｍとし、保護層の屈折率を１．４６、Ｚ
ｎＳ−ＳｉＯ２膜の屈折率を２．３５、ＧｅＳｂＴｅ膜
（結晶状態）の屈折率を（２．０５−３．０５ｉ）とし
た場合をパラメータとして計算により求めたグラフであ
る。FIG. 2 is a graph showing the relationship between the thickness of the Al film and the reflectance. FIG. 2 shows a case where the wavelength of the laser beam is 405 nm, the refractive index of the protective layer is 1.46, and Z is
nS-SiO 2 film refractive index of 2.35 is a graph obtained by calculation when the refractive index of the GeSbTe film (crystalline state) and (2.05-3.05I) as a parameter.
【００３４】図２に示すグラフから、Ａｌ膜の膜厚を３
０ｎｍ以上とすれば、略々一定の反射率が得られ、反射
膜としての機能を十分満足することがわかる。According to the graph shown in FIG.
When it is 0 nm or more, a substantially constant reflectance can be obtained, and it can be seen that the function as a reflection film is sufficiently satisfied.
【００３５】したがって、Ａｌを含有する金属膜７の膜
厚は、３０ｎｍ以上とすることが好ましく、ここでは、
Ａｌからなる金属膜７の膜厚を３０ｎｍとしている。Therefore, the thickness of the metal film 7 containing Al is preferably set to 30 nm or more.
The thickness of the metal film 7 made of Al is 30 nm.
【００３６】なお、このＡｌを含有する金属膜７の膜厚
は、下地となる高熱伝導率を有する膜６を加えたヒート
シンク反射層３全体の反射率を考慮すると、さらに薄く
することが可能であり、このヒートシンク反射層３がヒ
ートシンク膜として機能しなくなる程度にまで、さらに
膜厚を薄くすることも可能である。The thickness of the Al-containing metal film 7 can be further reduced in consideration of the reflectance of the entire heat sink reflective layer 3 to which the underlying film 6 having a high thermal conductivity is added. In addition, the film thickness can be further reduced to such an extent that the heat sink reflective layer 3 does not function as a heat sink film.
【００３７】一方、高熱伝導率を有する膜６は、ヒート
シンク反射層３の熱容量を大きくする機能、並びに、Ａ
ｌを含有する金属膜７の下地となることで、この金属膜
７の成膜時における結晶粒子の成長を抑制する機能を有
している。On the other hand, the film 6 having a high thermal conductivity has a function of increasing the heat capacity of the heat sink reflective layer 3, and
As a base of the metal film 7 containing 1, it has a function of suppressing the growth of crystal grains during the formation of the metal film 7.
【００３８】すなわち、この高熱伝導率を有する膜６
は、Ａｌを含有する金属膜７の結晶粒子の成長を抑制す
る作用を有することが好ましく、このＡｌを含有する金
属膜７よりも結晶粒径が小となる金属材料、或いは、成
膜後にアモルファス状態となる金属材料を用いることが
好ましい。That is, the film 6 having high thermal conductivity
Preferably has a function of suppressing the growth of crystal grains of the Al-containing metal film 7. A metal material having a smaller crystal grain size than the Al-containing metal film 7, or an amorphous material after the film formation. It is preferable to use a metal material that can be in a state.
【００３９】したがって、この高熱伝導率を有する膜６
は、少なくとも金属膜７の結晶粒子の成長を抑制する作
用を有するのに十分な膜厚を有することが好ましく、こ
こでは、高誘電率を有する膜６として、膜厚５０ｎｍの
ＳｉＣ膜を用いている。Therefore, the film 6 having a high thermal conductivity
Preferably has a thickness sufficient to have at least an action of suppressing the growth of crystal grains of the metal film 7. Here, a 50 nm-thick SiC film is used as the film 6 having a high dielectric constant. I have.
【００４０】また、この高熱伝導率を有する膜６の材料
としては、上述したＳｉＣに限定されるものではなく、
例えばＡｌ２Ｏ３や、ＳｉＮ等の誘電材料を用いてもよ
い。さらに、１０００℃以下においてＡｌと合金を作ら
ない高融点の金属材料や、半導体材料を用いることも可
能である。より具体的には、Ｂｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、
Ｐｔ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ等の金属材料や、ＺｒＯ２、Ｓｉ
等の半導体材料、並びにこれらの混合材料を用いること
ができる。The material of the film 6 having a high thermal conductivity is not limited to the above-described SiC.
For example, a dielectric material such as Al 2 O 3 or SiN may be used. Further, a high melting point metal material or a semiconductor material which does not form an alloy with Al at 1000 ° C. or lower can be used. More specifically, Be, Cr, Ni, Pd,
Metal materials such as Pt, Ti, W, Mo, ZrO 2 , Si
And the like, and a mixed material thereof can be used.
【００４１】以上のように、この相変化光ディスク１で
は、ヒートシンク反射層３において、Ａｌを含有する金
属膜７を薄膜化し、この金属膜７の成膜時における結晶
粒子の成長を抑制することで、Ａｌを含有する金属膜７
の表面粗さを小さくすることができる。そして、このＡ
ｌを含有する金属膜７を高熱伝導率を有する膜６上に積
層することで、当該ヒートシンク反射層３の表面粗さを
良好なものとし、且つ、当該ヒートシンク反射層３の熱
容量を大きくすることができる。As described above, in the phase change optical disc 1, the metal film 7 containing Al is made thinner in the heat sink reflective layer 3 and the growth of crystal grains during the formation of the metal film 7 is suppressed. Film 7 containing Al and Al
Can be reduced in surface roughness. And this A
By laminating the metal film 7 containing 1 on the film 6 having a high thermal conductivity, the surface roughness of the heat sink reflective layer 3 is improved, and the heat capacity of the heat sink reflective layer 3 is increased. Can be.
【００４２】したがって、この相変化光ディスク１で
は、ディスクノイズの発生を抑制することができ、さら
なる高記録密度化に対応することができる。Therefore, in the phase-change optical disk 1, it is possible to suppress the occurrence of disk noise and to cope with a further increase in recording density.
【００４３】次に、本発明の第２の実施の形態として図
３に示す相変化光ディスク２０について説明する。Next, a phase change optical disc 20 shown in FIG. 3 will be described as a second embodiment of the present invention.
【００４４】なお、以下の説明において第１の実施の形
態に示す相変化光ディスク１と同等な部位については説
明を省略するとともに、図面において同じ符号を付すも
のとする。なお、図３は、この相変化光ディスク２０の
構造を示す要部断面図である。In the following description, portions that are the same as those of the phase change optical disc 1 according to the first embodiment will not be described, and the same reference numerals will be used in the drawings. FIG. 3 is a sectional view of a main part showing the structure of the phase change optical disc 20.
【００４５】この相変化光ディスク２０は、ヒートシン
ク反射層２１が３層構造を有する以外は、図１に示す相
変化光ディスク１と同じ構造を有している。This phase change optical disk 20 has the same structure as the phase change optical disk 1 shown in FIG. 1, except that the heat sink reflection layer 21 has a three-layer structure.
【００４６】すなわち、この相変化光ディスク２０にお
いて、ヒートシンク反射層２１は、ディスク基板２側か
ら順に、第１の金属膜２２と、高熱伝導率を有する膜２
３と、第２の金属膜２４とが積層された３層構造を有し
ている。That is, in this phase-change optical disk 20, the heat sink reflective layer 21 is formed by sequentially forming the first metal film 22 and the film 2 having high thermal conductivity from the disk substrate 2 side.
3 and a second metal film 24 in a three-layer structure.
【００４７】このうち、第２の金属膜２４は、高熱伝導
率を有するＡｌ又はＡｌ合金等のＡｌを含有する金属材
料からなり、少なくとも反射膜として機能するのに十分
な膜厚を有している。より具体的には、このＡｌを含有
する第２の金属膜２４の膜厚を３０ｎｍ以上とすること
が好ましく、ここでは、Ａｌからなる第２の金属膜２４
の膜厚を３０ｎｍとしている。The second metal film 24 is made of a metal material containing Al such as Al or an Al alloy having a high thermal conductivity, and has a thickness at least sufficient to function as a reflection film. I have. More specifically, the thickness of the second metal film 24 containing Al is preferably set to 30 nm or more. In this case, the second metal film 24 made of Al is used here.
Has a thickness of 30 nm.
【００４８】なお、このＡｌを含有する第２の金属膜２
４の膜厚は、下地となる高熱伝導率を有する膜２３を加
えたヒートシンク反射層２１全体の反射率を考慮する
と、さらに薄くすることが可能であり、このヒートシン
ク反射層３がヒートシンク膜として機能しなくなる程度
にまで、さらに膜厚を薄くすることも可能である。The second metal film 2 containing Al
The thickness of the heat sink reflective layer 4 can be further reduced in consideration of the reflectance of the entire heat sink reflective layer 21 to which the film 23 having a high thermal conductivity as a base is added, and the heat sink reflective layer 3 functions as a heat sink film. It is also possible to further reduce the film thickness to such an extent that it is no longer possible.
【００４９】一方、高熱伝導率を有する膜２３は、ヒー
トシンク反射層２１の熱容量を大きくする機能、Ａｌを
含有する第２の金属膜２４の下地となることで、この第
２の金属膜２４の成膜時における結晶粒子の成長を抑制
する機能、並びに第１の金属膜２２と第２の金属膜２４
とを隔離する機能を有している。On the other hand, the film 23 having a high thermal conductivity has a function of increasing the heat capacity of the heat sink reflective layer 21 and serves as a base for the second metal film 24 containing Al. A function of suppressing the growth of crystal grains during film formation, and a first metal film 22 and a second metal film 24
It has the function to isolate
【００５０】すなわち、この高熱伝導率を有する膜２３
は、Ａｌを含有する第２の金属膜２４の結晶粒子の成長
を抑制する作用を有することが好ましく、このＡｌを含
有する第２の金属膜２４よりも結晶粒径が小となる金属
材料、或いは、成膜後にアモルファス状態となる金属材
料を用いることが好ましい。That is, the film 23 having high thermal conductivity
Preferably has a function of suppressing the growth of crystal grains of the second metal film 24 containing Al, a metal material having a smaller crystal grain size than the second metal film 24 containing Al. Alternatively, it is preferable to use a metal material which becomes amorphous after film formation.
【００５１】したがって、この高熱伝導率を有する膜２
３は、少なくとも第２の金属膜２４の結晶粒子の成長を
抑制する作用を有するのに十分な膜厚を有することが好
ましく、ここでは、高熱伝導率を有する膜２３として、
膜厚５ｎｍのＳｉＣ膜を用いている。Therefore, the film 2 having a high thermal conductivity
3 preferably has a thickness sufficient to have at least an action of suppressing the growth of crystal grains of the second metal film 24. Here, the film 23 having high thermal conductivity
A 5 nm-thick SiC film is used.
【００５２】また、この高熱伝導率を有する膜２３の材
料としては、上述したＳｉＣに限定されるものではな
く、例えばＡｌ２Ｏ３や、ＳｉＮ等の誘電材料を用いて
もよい。さらに、１０００℃以下においてＡｌと合金を
作らない高融点の金属材料や、半導体材料を用いること
も可能である。より具体的には、Ｂｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ等の金属材料や、ＺｒＯ２、
Ｓｉ等の半導体材料、並びにこれらの混合材料を用いる
ことができる。The material of the film 23 having a high thermal conductivity is not limited to the above-described SiC, but may be a dielectric material such as Al 2 O 3 or SiN. Further, a high melting point metal material or a semiconductor material which does not form an alloy with Al at 1000 ° C. or lower can be used. More specifically, Be, Cr, Ni, P
metal materials such as d, Pt, Ti, W, Mo, ZrO 2 ,
A semiconductor material such as Si, or a mixed material thereof can be used.
【００５３】一方、第１の金属膜２２は、高熱伝導率を
有する金属材料として、Ａｌ又はＡｌ合金等のＡｌを含
有する金属材料、又は、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等のＡｌと合
金を作る金属材料からなる。すなわち、この第１の金属
膜２２と第２の金属膜２４とは、Ａｌ及びＡｕ、Ａｇ、
Ｃｕ等の何れとも合金を作らない上述した高熱伝導率を
有する膜２３により隔離されることから、この第１の金
属膜２２として、上述したＡｌを含有する又はＡｌと合
金を作る金属材料を用いることができる。なお、ここで
は、膜厚３０ｎｍのＡｌからなる第１の金属膜２２を用
いている。On the other hand, the first metal film 22 is made of a metal material having high thermal conductivity, a metal material containing Al such as Al or an Al alloy, or a metal forming an alloy with Al such as Au, Ag, and Cu. Made of material. That is, the first metal film 22 and the second metal film 24 are made of Al, Au, Ag,
The first metal film 22 is made of the above-mentioned metal material containing Al or forming an alloy with Al because the first metal film 22 is isolated by the above-mentioned film 23 having a high thermal conductivity which does not form an alloy with any of Cu and the like. be able to. Here, a first metal film 22 made of Al having a thickness of 30 nm is used.
【００５４】以上のように、この相変化光ディスク２０
では、ヒートシンク反射層２１において、Ａｌを含有す
る又はＡｌと合金を作る第１の金属膜２２、並びに、Ａ
ｌを含有する第２の金属膜２４を薄膜化し、これら第１
の金属膜２２及び第２の金属膜２４の成膜時における結
晶粒子の成長を抑制することで、Ａｌを含有する又はＡ
ｌと合金を作る第１の金属膜２２の表面粗さ、並びに、
Ａｌを含有する第２の金属膜２４の表面粗さを小さくす
ることができる。そして、これら第１の金属膜２２と第
２の金属膜２４とを高熱伝導率を有する膜２３により隔
離することで、当該ヒートシンク反射層２１の表面粗さ
を良好なものとし、且つ、当該ヒートシンク反射層２１
の熱容量を大きくすることができる。As described above, the phase change optical disk 20
In the heat sink reflective layer 21, a first metal film 22 containing Al or forming an alloy with Al, and A
The first metal film 24 containing 1
Suppresses the growth of crystal grains during the formation of the first metal film 22 and the second metal film 24, thereby containing Al or A
surface roughness of the first metal film 22 forming an alloy with
The surface roughness of the second metal film 24 containing Al can be reduced. By separating the first metal film 22 and the second metal film 24 by a film 23 having high thermal conductivity, the surface roughness of the heat sink reflective layer 21 is improved, and Reflective layer 21
Heat capacity can be increased.
【００５５】具体的には、Ａｌからなる第１の金属膜２
２及び第２の金属膜２４の膜厚をそれぞれ３０ｎｍと薄
膜化しながら、全体として膜厚を６０ｎｍとすることが
できる。これにより、ヒートシンク反射層２１の表面粗
さを良好なものとし、且つ、ヒートシンク反射層２１の
熱容量を大きくすることができる。Specifically, the first metal film 2 made of Al
While reducing the thickness of each of the second and second metal films 24 to 30 nm, the overall thickness can be 60 nm. Thereby, the surface roughness of the heat sink reflective layer 21 can be made good, and the heat capacity of the heat sink reflective layer 21 can be increased.
【００５６】したがって、この相変化光ディスク２０で
は、ディスクノイズの発生を抑制することができ、さら
なる高記録密度化に対応することができる。Therefore, in the phase change optical disk 20, the occurrence of disk noise can be suppressed, and it is possible to cope with a higher recording density.
【００５７】ところで、光ピックアップの光源として用
いられるレーザービームの波長が４００ｎｍ付近になる
と、Ａｌを含有する金属膜又はＡｇを含有する金属膜以
外に光学的に良好な反射膜としての機能を有する金属材
料は存在しなくなる。しかしながら、Ａｌを含有する金
属膜には、上述した膜の表面粗さに起因するディスクノ
イズの問題があり、また、Ａｇを含有する金属膜には、
耐腐食性が低いといった問題がある。When the wavelength of a laser beam used as a light source of an optical pickup is about 400 nm, a metal film having an optically good function as a reflection film other than a metal film containing Al or a metal film containing Ag is used. Material no longer exists. However, the metal film containing Al has a problem of disk noise caused by the surface roughness of the film described above, and the metal film containing Ag has a problem.
There is a problem that the corrosion resistance is low.
【００５８】例えば、光磁気ディスクの場合には、上述
したＡｌを含有する金属膜の代わりに、Ａｇを含有する
金属膜を用いることで、表面粗さを改善する試みがなさ
れている。For example, in the case of a magneto-optical disk, an attempt has been made to improve the surface roughness by using a metal film containing Ag instead of the above-mentioned metal film containing Al.
【００５９】しかしながら、相変化光ディスクの場合に
は、記録層として相変化記録膜の両主面側にＺｎＳ−Ｓ
ｉＯ２からなる透明誘電体膜が配されていることが多
い。この場合、Ａｇを含有する金属膜は、透明誘電体膜
に含まれる硫黄により腐食しやすいことから、ヒートシ
ンク反射層としてＡｇを含有する金属膜を用いることは
非常に困難となる。However, in the case of a phase change optical disk, ZnS-S is formed on both main surfaces of the phase change recording film as a recording layer.
In many cases, a transparent dielectric film made of iO 2 is provided. In this case, since the Ag-containing metal film is easily corroded by sulfur contained in the transparent dielectric film, it is very difficult to use the Ag-containing metal film as the heat sink reflective layer.
【００６０】さらに、Ａｇ合金からなる金属膜を用いた
光磁気ディスクにおいても、膜の表面粗さに起因するデ
ィスクノイズの問題が完全に解決したわけではない。Further, even with a magneto-optical disk using a metal film made of an Ag alloy, the problem of disk noise caused by the surface roughness of the film has not been completely solved.
【００６１】そこで、上述した相変化光ディスク２０の
ように、ヒートシンク反射層２１において、例えばディ
スク基板２上に、膜厚３０ｎｍのＡｇからなる第１の金
属膜２２と、膜厚５ｎｍのＢｅからなる高熱伝導率を有
する膜２３と、膜厚３０ｎｍのＡｌからなる第２の金属
膜２４とを順次積層する。Therefore, like the above-mentioned phase change optical disk 20, in the heat sink reflective layer 21, for example, on the disk substrate 2, a first metal film 22 made of Ag having a thickness of 30 nm and Be having a thickness of 5 nm are formed. A film 23 having high thermal conductivity and a second metal film 24 made of Al having a thickness of 30 nm are sequentially laminated.
【００６２】この場合、Ａｇからなる第１の金属膜２２
は、記録層４のＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる第１の透明誘
電体膜８に接することがないので、この第１の透明誘電
体膜８に含まれる硫黄による腐食を防ぐことができる。In this case, the first metal film 22 made of Ag
Does not come into contact with the first transparent dielectric film 8 made of ZnS—SiO 2 of the recording layer 4, so that corrosion due to sulfur contained in the first transparent dielectric film 8 can be prevented.
【００６３】なお、このヒートシンク反射層２１のう
ち、記録層４側に位置する第２の金属膜２４を除いた２
層構造、すなわちディスク基板２側から順に、Ａｇから
なる第１の金属膜２２と、高熱伝導率を有する膜２３と
が積層された構造とすることも可能である。In the heat sink reflective layer 21, the second metal film 24 located on the recording layer 4 side is removed.
It is also possible to adopt a layer structure, that is, a structure in which a first metal film 22 made of Ag and a film 23 having high thermal conductivity are stacked in order from the disk substrate 2 side.
【００６４】したがって、本発明を適用すれば、ヒート
シンク反射層２１としてＡｇを含有する金属膜２２を用
いることも可能となる。Therefore, when the present invention is applied, it is possible to use a metal film 22 containing Ag as the heat sink reflection layer 21.
【００６５】なお、ヒートシンク反射層の積層構造とし
ては、上述した２層構造を有するヒートシンク反射層３
や、３層構造を有するヒートシンク反射層２１に必ずし
も限定されるものではない。すなわち、上述した第１の
金属膜２２、高熱伝導率を有する膜２３及び第２の金属
膜２４を積層するに加えて、さらにこれらを積層するこ
とで、さらなる多層構造とすることも可能である。As the laminated structure of the heat sink reflective layer, the heat sink reflective layer 3 having the two-layer structure described above is used.
Further, the present invention is not necessarily limited to the heat sink reflective layer 21 having a three-layer structure. That is, in addition to laminating the first metal film 22, the film 23 having high thermal conductivity, and the second metal film 24 described above, a further multilayer structure can be obtained by further laminating them. .
【００６６】以上のように、本発明を適用した光記録媒
体では、ヒートシンク反射層が、少なくとも金属膜を含
む積層構造とされていることから、当該ヒートシンク反
射層において、金属膜を薄膜化し、この金属膜の成膜時
における結晶粒子の成長を抑制することで、金属膜の表
面粗さを小さくすることができる。そして、ヒートシン
ク反射層をこの金属膜を含む積層構造とすることで、当
該ヒートシンク反射層の表面粗さを良好なものとし、且
つ、当該ヒートシンク反射層の熱容量の低下を抑制する
ことができる。As described above, in the optical recording medium to which the present invention is applied, since the heat sink reflection layer has a laminated structure including at least a metal film, the metal film is reduced in the heat sink reflection layer. By suppressing the growth of crystal grains during the formation of the metal film, the surface roughness of the metal film can be reduced. Then, by forming the heat sink reflective layer to have a laminated structure including this metal film, the surface roughness of the heat sink reflective layer can be made good, and a decrease in the heat capacity of the heat sink reflective layer can be suppressed.
【００６７】したがって、本発明を適用すれば、高記録
密度化に対応した高品質の光記録媒体とすることができ
る。特に、本発明は、ディスク基板の材料として、熱伝
導率の小さいポリカーボネート等のプラスチック材料を
用い、このディスク基板上に、ヒートシンク反射層、記
録層及び保護層が順次積層されてなり、保護層側から光
が照射されることにより情報信号の記録及び／又は再生
がなされる光記録媒体において大変有効である。Therefore, by applying the present invention, it is possible to obtain a high-quality optical recording medium corresponding to high recording density. In particular, the present invention uses a plastic material such as polycarbonate having a low thermal conductivity as a material of a disk substrate, and a heat sink reflective layer, a recording layer and a protective layer are sequentially laminated on the disk substrate, This is very effective in an optical recording medium in which recording and / or reproduction of an information signal is performed by irradiating light from the optical recording medium.
【００６８】[0068]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、ヒートシンク反射層の表面粗さを良好なものと
し、且つ、ヒートシンク反射層の熱容量の低下を抑制す
ることにより、高記録密度化に対応した高品質の光記録
媒体とすることができる。As described in detail above, according to the present invention, the surface roughness of the heat sink reflective layer is improved, and the reduction in heat capacity of the heat sink reflective layer is suppressed, thereby achieving a high recording density. A high quality optical recording medium can be obtained.
【図１】本発明の第１の実施の形態として示す相変化光
ディスクの構造を説明するための要部断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part for describing a structure of a phase change optical disc shown as a first embodiment of the present invention.
【図２】Ａｌ膜の膜厚と反射率との関係を示す特性図で
ある。FIG. 2 is a characteristic diagram showing a relationship between a thickness of an Al film and a reflectance.
【図３】本発明の第２の実施の形態として示す相変化光
ディスクの構造を説明するための要部断面図である。FIG. 3 is an essential part cross-sectional view for explaining a structure of a phase change optical disc shown as a second embodiment of the present invention.
【図４】従来の光ディスクの構造を示す要部断面図であ
る。FIG. 4 is a sectional view of a main part showing a structure of a conventional optical disk.
【図５】ディスク基板上に、ヒートシンク反射層として
Ａｌ合金からなる金属膜を成膜した状態を拡大して示す
要部断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a state in which a metal film made of an Al alloy is formed as a heat sink reflection layer on a disk substrate.
１ 相変化光ディスク、２ ディスク基板、３ ヒート
シンク反射層、４ 記録層、５ 保護層、６ 高熱伝導
率を有する膜、７ 金属膜、８ 第１の透明誘電体膜、
９ 相変化記録膜、１０ 第２の透明誘電体膜、２０
相変化光ディスク、２１ ヒートシンク反射層、２２
第１の金属膜、２３ 高熱伝導率を有する膜、２４ 第
２の金属膜1 phase change optical disk, 2 disk substrate, 3 heat sink reflection layer, 4 recording layer, 5 protective layer, 6 film having high thermal conductivity, 7 metal film, 8 first transparent dielectric film,
9 phase change recording film, 10 second transparent dielectric film, 20
Phase change optical disk, 21 heat sink reflective layer, 22
1st metal film, 23 film having high thermal conductivity, 24 2nd metal film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H111 EA04 EA12 EA23 EA31 EA34 EA37 FA12 FA14 FA21 FA23 FA25 FA27 FB05 FB09 FB12 FB27 5D029 JA01 KB03 MA12 MA14 MA17 MA27 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page F term (reference) 2H111 EA04 EA12 EA23 EA31 EA34 EA37 FA12 FA14 FA21 FA23 FA25 FA27 FB05 FB09 FB12 FB27 5D029 JA01 KB03 MA12 MA14 MA17 MA27
Claims (12)
層と、記録層と、保護層とが順次積層されてなり、上記
保護層側から光が照射されることにより、信号の記録及
び／又は再生がなされる光記録媒体であって、 上記ヒートシンク反射層は、少なくとも金属膜を含む積
層構造とされていることを特徴とする光記録媒体。At least a heat sink reflective layer, a recording layer, and a protective layer are sequentially laminated on a substrate, and light is irradiated from the protective layer side to record and / or reproduce signals. An optical recording medium according to claim 1, wherein said heat sink reflective layer has a laminated structure including at least a metal film.
が形成されていることを特徴とする請求項１記載の光記
録媒体。2. The optical recording medium according to claim 1, wherein a groove is formed on the substrate along a recording track.
ことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。3. The optical recording medium according to claim 1, wherein said substrate is made of a plastic material.
膜と、誘電体膜とが積層されてなることを特徴とする請
求項１記載の光記録媒体。4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer is formed by laminating a dielectric film, a phase change recording film, and a dielectric film.
からなることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。5. The optical recording medium according to claim 1, wherein said metal film is made of a metal material containing Al.
上記基板側から、高熱伝導率を有する膜と、上記金属膜
とが積層されてなることを特徴とする請求項１記載の光
記録媒体。6. The optical recording medium according to claim 1, wherein the heat sink reflection layer is formed by laminating a film having high thermal conductivity and the metal film at least from the substrate side.
膜よりも結晶粒径が小となる金属材料からなることを特
徴とする請求項６記載の光記録媒体。7. The optical recording medium according to claim 6, wherein the film having a high thermal conductivity is made of a metal material having a smaller crystal grain size than the metal film.
ァス材料からなることを特徴とする請求項６記載の光記
録媒体。8. The optical recording medium according to claim 6, wherein said film having a high thermal conductivity is made of an amorphous material.
からなることを特徴とする請求項６記載の光記録媒体。9. The optical recording medium according to claim 6, wherein said film having a high thermal conductivity is made of a dielectric material.
℃以下においてＡｌと合金を作らない金属材料からなる
ことを特徴とする請求項６記載の光記録媒体。10. The film having a high dielectric constant is 1000
7. The optical recording medium according to claim 6, wherein the optical recording medium is made of a metal material that does not form an alloy with Al at a temperature of not more than ° C.
も上記基板側から、他の金属膜と、上記高熱伝導率を有
する膜と、上記金属膜とが積層されてなることを特徴と
する請求項５記載の光記録媒体。11. The heat sink reflection layer according to claim 5, wherein at least from the substrate side, another metal film, the film having high thermal conductivity, and the metal film are laminated. Optical recording medium.
はＡｌと合金を作る金属材料からなることを特徴とする
請求項１１記載の光記録媒体。12. The optical recording medium according to claim 11, wherein said other metal film is made of a metal material containing Al or forming an alloy with Al.
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