JP2002232063A - Semiconductor laser device and light pickup device - Google Patents

Semiconductor laser device and light pickup device

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JP2002232063A
JP2002232063A JP2001028368A JP2001028368A JP2002232063A JP 2002232063 A JP2002232063 A JP 2002232063A JP 2001028368 A JP2001028368 A JP 2001028368A JP 2001028368 A JP2001028368 A JP 2001028368A JP 2002232063 A JP2002232063 A JP 2002232063A
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JP
Japan
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semiconductor laser
electrode
laser device
chip
laser chip
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Application number
JP2001028368A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Adachi
一彦 安達
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor laser device of low price and small size in which a plurality of semiconductor lasers are enclosed in one package and a light pickup device using the semiconductor laser as a light source. SOLUTION: This light pickup device 1 is provided with two anode electrodes 3 formed on a sub mount 2 at a predetermined interval, and a first semiconductor laser chip 4 and a second semiconductor laser chip 5 mounted approximately in parallel on each of the electrodes 3 by using their anode sides as die bonding planes. The semiconductor laser chips 4 and 5 are arranged so as to project their confronting ends from the ends of the electrodes 3 by a predetermined quantity inward between the electrodes 3. Accordingly, an interval between light emitting points 7 and 8 of the two semiconductor laser chips 4 and 5 become narrow and the semiconductor laser device 1 can attain low price and downsizing structure.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザ装置
及び光ピックアップ装置に関し、詳細には、複数の半導
体レーザを一つのパッケージに収めた半導体レーザ装置
及び当該半導体レーザ装置を光源とする光ピックアップ
装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor laser device and an optical pickup device, and more particularly, to a semiconductor laser device in which a plurality of semiconductor lasers are housed in one package and an optical pickup device using the semiconductor laser device as a light source. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、次世代の記録メディアとしてDV
D(Digital Video Disk)が注目されており、DVDプ
レーヤでは、一般に、一台のDVDプレーヤーで、DV
DとCD(Compact Disc)との両者を互換再生できるこ
とが望まれている。
2. Description of the Related Art In recent years, as a next-generation recording medium, DV
D (Digital Video Disk) has been attracting attention, and DVD players generally use a single DVD player for DV
It is desired that both D and CD (Compact Disc) can be reproduced compatible.

【0003】そのためには、DVD再生用に波長の短い
635nmあるいは650nmの赤色半導体レーザと、
CD再生用に780nmの近赤外半導体レーザと、を搭
載する光ピックアップ装置が必要とされている。さら
に、装置の小型化のためには、2種類の半導体レーザチ
ップを一つのパッケージの中に組み込んだ集積型光ピッ
クアップ装置の実現が期待されている。
For this purpose, a 635 nm or 650 nm red semiconductor laser having a short wavelength for reproducing a DVD,
There is a need for an optical pickup device equipped with a 780 nm near-infrared semiconductor laser for CD reproduction. Further, in order to reduce the size of the device, the realization of an integrated optical pickup device in which two types of semiconductor laser chips are incorporated in one package is expected.

【0004】ところが、2つの光源を一つのパッケージ
に組み込んで光学系を共通化するためには、2つ半導体
レーザチップの発光点間隔をできるだけ接近させる必要
があり、その間隔としては100μm以下が望ましい。
However, in order to incorporate two light sources into one package and share an optical system, it is necessary to make the distance between the light emitting points of the two semiconductor laser chips as close as possible, and the distance is desirably 100 μm or less. .

【0005】そして、従来の半導体レーザ装置は、特開
平11−97804号記載に記載されている半導体レー
ザを図6に示すように、一つのサブマウント100上に
発光波長の異なる2つの半導体レーザチップ101、1
02が接近して配置されており、サブマウント100
は、シリコン基板が用いられている。そして、このサブ
マウント100上に、発光波長の異なる第1の半導体レ
ーザチップ101と第2の半導体レーザチップ102
が、出射光が平行で、かつ、接近させた状態で配置され
ている。そして、この従来の半導体レーザ装置は、シリ
コンのサブマウント100にレーザパワーモニタ用のホ
トダイオード103が作り込まれている。
As shown in FIG. 6, a conventional semiconductor laser device includes two semiconductor laser chips having different emission wavelengths on a single submount 100 as shown in FIG. 101, 1
02 are arranged close to each other, and the submount 100
Uses a silicon substrate. Then, a first semiconductor laser chip 101 and a second semiconductor laser chip 102 having different emission wavelengths are provided on the submount 100.
However, they are arranged in a state where the emitted lights are parallel and approached. In this conventional semiconductor laser device, a photodiode 103 for laser power monitoring is formed in a silicon submount 100.

【0006】この従来の半導体レーザ装置では、発光点
間隔は半導体レーザチップ101、102の発光点の端
部からの距離hとチップ間隔wの和になる。たとえば、
出射端面の幅250μm、発光点位置がその中央にある
とし、チップ間隔を30μmとすると、発光点間隔は2
80μmになる。
In this conventional semiconductor laser device, the light emitting point interval is the sum of the distance h from the end of the light emitting point of the semiconductor laser chips 101 and 102 and the chip interval w. For example,
Assuming that the emission end face has a width of 250 μm, the light emitting point position is at the center, and the chip interval is 30 μm, the light emitting point interval is 2 μm.
80 μm.

【0007】発光点間隔を狭くする方法としては、例え
ば、特開平11−112089号公報に記載の半導体レ
ーザ素子が開示されている。この半導体レーザ素子は、
図7に示すように、サブマウント110上に、780n
mの発光波長の第1の半導体レーザチップ111と65
0nmの発光波長の第2の半導体レーザチップ112が
ジャンクションダウンで実装されている。なお、650
nmの半導体レーザチップ112は、その出射端面の形
状が結晶成長の関係から、この波長特有の平行四辺形と
なっている。こ半導体レーザ素子は、第1の半導体レー
ザチップ111の発光点113と第2の半導体レーザチ
ップ112の発光点114の位置を端部に偏らせること
で、発光点間隔を狭くしている。例えば、第1の半導体
レーザチップ111の発光点113と第2の半導体レー
ザチップ112の発光点114を発光点間隔方向におい
て端部から30μmの位置に形成し、これら半導体レー
ザチップ111、112を30μmの間隔でダイボンデ
ィングすると、その発光点間隔を90μmとすることが
できる。
As a method for reducing the interval between light emitting points, for example, a semiconductor laser device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-112089 is disclosed. This semiconductor laser device
As shown in FIG. 7, 780n
the first semiconductor laser chips 111 and 65 having an emission wavelength of m
A second semiconductor laser chip 112 having an emission wavelength of 0 nm is mounted in a junction-down state. 650
The semiconductor laser chip 112 of nm has a parallelogram peculiar to this wavelength because of the shape of the emission end face due to crystal growth. In this semiconductor laser device, the light emitting point 113 of the first semiconductor laser chip 111 and the light emitting point 114 of the second semiconductor laser chip 112 are biased toward the ends, thereby narrowing the light emitting point interval. For example, the light emitting point 113 of the first semiconductor laser chip 111 and the light emitting point 114 of the second semiconductor laser chip 112 are formed at a position 30 μm from the end in the light emitting point interval direction, and these semiconductor laser chips 111 and 112 are formed at 30 μm. In this case, the light emitting point interval can be set to 90 μm.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の半導体レーザ装置にあっては、2つの半導体
チップの配置方法や半導体レーザチップ構造について記
載されているが、その具体的な実装方法については記載
されておらず、従来技術を実施するためには、開示が不
十分であった。
However, in such a conventional semiconductor laser device, a method of arranging two semiconductor chips and a structure of the semiconductor laser chip are described. Was not described, and the disclosure was insufficient to implement the prior art.

【0009】一つのサブマウント上に2つの半導体レー
ザチップのアノード電極をダイボンディング実装する場
合には、絶縁性サブマウント上に2つのアノード用電極
を形成する必要がある。
When the anode electrodes of two semiconductor laser chips are die-bonded and mounted on one submount, it is necessary to form two anode electrodes on the insulating submount.

【0010】一般的にサブマウント上に電極パターンを
形成するには、メタルマスクを使ってサブマウント上
に電極をパターニングする方法、全面に成膜した金属
膜をダイシングソーで溝を形成し2つの電極に分離する
方法、半導体フォトリソグラフィー技術のリフトオフ
法でパターニングする方法がある。このなかで、最も低
コストな方法は、ダイシングソーによる電極形成である
が、2つの電極の間隔は50μm程度より小さくするこ
とが難しいという欠点がある。また、フォトリソグラフ
ィー技術を用いた方法では、電極間隔は30μm間隔ま
で狭くすることができるが、高価なフォトマスクを作る
必要があり、コストが高くなるという欠点があった。さ
らに、メタルマスク法では、電極間隔は200μm程度
しか狭くすることができない。
In general, to form an electrode pattern on a submount, a method of patterning an electrode on the submount using a metal mask is used. There are a method of separating into electrodes and a method of patterning by a lift-off method of semiconductor photolithography technology. Among these, the lowest cost method is electrode formation using a dicing saw, but has a drawback that it is difficult to make the distance between two electrodes smaller than about 50 μm. Further, in the method using the photolithography technique, the electrode interval can be reduced to 30 μm, but an expensive photomask needs to be manufactured, which has a disadvantage of increasing the cost. Further, in the metal mask method, the interval between the electrodes can be reduced only to about 200 μm.

【0011】また、電極間隔を狭くすることのできるフ
ォトリソグラフィー技術にあっても、電極間隔は30μ
m程度までしか狭くすることができず、2つの半導体レ
ーザチップの発光点間隔を100μm以下にするために
は、半導体レーザチップの発光点を端部から35μm以
下で正確にスクライブする必要があるため、歩留まりが
悪いという問題があった。
[0011] Further, even in the photolithography technology capable of reducing the electrode interval, the electrode interval is 30 μm.
m, and it is necessary to accurately scribe the light emitting point of the semiconductor laser chip from the end to 35 μm or less in order to reduce the distance between the light emitting points of the two semiconductor laser chips to 100 μm or less. However, there was a problem that the yield was poor.

【0012】さらに、半導体レーザチップをAu−Sn
合金ハンダを用いてダイボンディングする場合、融けた
ハンダが半導体レーザチップの活性層に回り込んで電気
的・光学的に不良を発生させる不具合があった。
Further, the semiconductor laser chip is made of Au-Sn.
In the case of die bonding using an alloy solder, there has been a problem that the molten solder goes around the active layer of the semiconductor laser chip and causes electrical and optical defects.

【0013】そこで、本発明は、二つの半導体レーザチ
ップの発光点間隔を接近させて安価に実装した半導体レ
ーザ装置及び光ピックアップ装置を提供することを目的
としている。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a semiconductor laser device and an optical pickup device which are mounted at a low cost by reducing the distance between the light emitting points of two semiconductor laser chips.

【0014】そこで、請求項1記載の発明は、一つの絶
縁性サブマウント上に所定間隔空けて第1の電極と第2
の電極を形成し、そのアノード側をダイボンディング面
としてそれぞれ略並行に実装する当該第1の電極と第2
の電極上に、第1の半導体レーザチップと第2の半導体
レーザチップを、その相対向する端部が、第1の電極と
第2の電極との間の内側方向に、それぞれ所定量が第1
の電極と第2の電極の端部から突き出した状態で配置す
ることにより、安価で、2つの半導体レーザチップの発
光点間隔が狭く、小型の半導体レーザ装置を提供するこ
とを目的としている。
Therefore, the first aspect of the present invention is to provide a semiconductor device in which a first electrode and a second electrode are provided at a predetermined interval on one insulating submount.
The first electrode and the second electrode are mounted substantially in parallel with the anode side as a die bonding surface.
A first semiconductor laser chip and a second semiconductor laser chip are placed on the first electrode, and opposite ends of the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip have a predetermined amount in the inward direction between the first electrode and the second electrode, respectively. 1
It is an object of the present invention to provide a small-sized semiconductor laser device which is inexpensive, has a small light emitting point interval between two semiconductor laser chips, and is small in size, by arranging the electrodes so as to protrude from ends of the second electrode and the second electrode.

【0015】請求項2記載の発明は、第1の電極と第2
の電極を、溝で分離し、第1の半導体レーザチップと第
2の半導体レーザチップを、その相対向する端部が、当
該溝方向に所定量突き出した状態で配置することによ
り、より一層安価で、2つの半導体レーザチップの発光
点間隔が狭く、小型の半導体レーザ装置を提供すること
を目的としている。
According to a second aspect of the present invention, the first electrode and the second electrode
Are separated by a groove, and the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip are arranged in such a manner that opposite ends thereof protrude by a predetermined amount in the groove direction. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a small-sized semiconductor laser device in which a light emitting point interval between two semiconductor laser chips is narrow.

【0016】請求項3記載の発明は、第1の半導体レー
ザチップと第2の半導体レーザチップを、それぞれの発
光点が相互に隣接する端面から距離h、チップダイボン
ディング面から半導体レーザチップ側へ深さdの位置に
あるとき、h−d以下の突き出し量で突き出した状態で
配置することにより、より一層安価で、2つの半導体レ
ーザチップの発光点間隔が狭く、小型の半導体レーザ装
置を提供することを目的としている。
According to a third aspect of the present invention, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip are separated from each other by a distance h from the end face where the light emitting points are adjacent to each other and from the chip die bonding face to the semiconductor laser chip side. Providing a small-sized semiconductor laser device which is further inexpensive, has a smaller emission point interval between two semiconductor laser chips, and is arranged at a position of a depth d by protruding with a projection amount of not more than h-d. It is intended to be.

【0017】請求項4記載の発明は、第1の電極と第2
の電極を分離する溝内に熱伝導部材を充填することによ
り、半導体レーザチップと熱伝導部材を接触させて、半
導体レーザチップからの放熱を促進し、安価で、かつ、
動作を安定させることのできる2つの半導体レーザチッ
プの発光点間隔が狭く、小型の半導体レーザ装置を提供
することを目的としている。
According to a fourth aspect of the present invention, the first electrode and the second electrode
By filling the heat conductive member in the groove separating the electrodes, the semiconductor laser chip and the heat conductive member are brought into contact with each other, to promote heat radiation from the semiconductor laser chip, at low cost, and
It is an object of the present invention to provide a small-sized semiconductor laser device in which the interval between light emitting points of two semiconductor laser chips capable of stabilizing the operation is narrow.

【0018】請求項5記載の発明は、第1の半導体レー
ザチップと第2の半導体レーザチップを、その発光波長
が異なるものを用いることにより、CD及びDVD用等
のように異なる波長のレーザーを出射する安価な半導体
レーザ装置を提供することを目的としている。
According to a fifth aspect of the present invention, by using the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip having different emission wavelengths, lasers having different wavelengths such as those for a CD and a DVD can be used. An object is to provide an inexpensive semiconductor laser device that emits light.

【0019】請求項6記載の発明は、第1の半導体レー
ザチップと第2の半導体レーザチップを、その発光点
が、当該発光点間隔方向で相互に近接する方向に偏った
ものとすることにより、より一層2つの半導体レーザチ
ップの発光点間隔が狭く、小型の半導体レーザ装置を提
供することを目的としている。
According to a sixth aspect of the present invention, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip are configured such that their light emitting points are deviated in a direction approaching each other in the direction of the light emitting points. It is another object of the present invention to provide a small-sized semiconductor laser device in which the distance between the light emitting points of two semiconductor laser chips is further reduced.

【0020】請求項7記載の発明は、第1の電極と第2
の電極を分離する溝を、ダイシングソーで形成すること
により、より一層安価な2つの半導体レーザチップの発
光点間隔が狭く、小型の半導体レーザ装置を提供するこ
とを目的としている。
According to a seventh aspect of the present invention, the first electrode and the second electrode
An object of the present invention is to provide a small-sized semiconductor laser device in which the distance between the light emitting points of two more inexpensive semiconductor laser chips is narrowed by forming a groove for separating the electrodes by a dicing saw.

【0021】請求項8記載の発明は、サブマウントを、
シリコンを主原料とする材料で形成されたものを用いる
ことにより、より一層安価で、2つの半導体レーザチッ
プの発光点間隔が狭く、小型の半導体レーザ装置を提供
することを目的としている。
According to an eighth aspect of the present invention, the submount is
It is an object of the present invention to provide a small-sized semiconductor laser device which is more inexpensive, has a narrower emission point interval between two semiconductor laser chips, and is smaller in size by using a material formed of silicon as a main material.

【0022】請求項9記載の発明は、サブマウントを、
シリコンを主原料とする材料で形成し、当該サブマウン
トの一部にフォトダイオードを形成することにより、半
導体レーザのモニタ用のホトダイオード等を安価に形成
して、部品点数を削減し、より一層安価な2つの半導体
レーザチップの発光点間隔が狭く、小型の半導体レーザ
装置を提供することを目的としている。
According to a ninth aspect of the present invention, a submount is provided.
By using a material mainly composed of silicon and forming a photodiode on a part of the submount, a photodiode for monitoring a semiconductor laser and the like can be formed at a low cost, thereby reducing the number of parts and further reducing the cost. It is an object of the present invention to provide a small-sized semiconductor laser device in which a light emitting point interval between two semiconductor laser chips is narrow.

【0023】請求項10記載の発明は、請求項1から請
求項9のいずれかに記載の半導体レーザ装置を光源とし
て使用することにより、安価で発光点の狭い2つのレー
ザビームを出射する光ピックアップ装置を提供すること
を目的としている。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided an optical pickup which emits two laser beams inexpensive and having narrow emission points by using the semiconductor laser device according to any one of the first to ninth aspects as a light source. It is intended to provide a device.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明の半
導体レーザ装置は、一つの絶縁性サブマウント上に所定
間隔空けて第1の電極と第2の電極が形成され、当該第
1の電極と第2の電極上に、第1の半導体レーザチップ
と第2の半導体レーザチップが、アノード側をダイボン
ディング面としてそれぞれ略並行に実装されている半導
体レーザ装置において、前記第1の半導体レーザチップ
と前記第2の半導体レーザチップは、その相対向する端
部が、前記第1の電極と前記第2の電極との間の内側方
向に、それぞれ所定量が前記第1の電極と前記第2の電
極の端部から突き出した状態で配置されていることによ
り、上記目的を達成している。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device having a first electrode and a second electrode formed at a predetermined interval on one insulating submount. In a semiconductor laser device in which a first semiconductor laser chip and a second semiconductor laser chip are mounted on an electrode and a second electrode, respectively, substantially in parallel with an anode side as a die bonding surface, the first semiconductor laser chip In the chip and the second semiconductor laser chip, opposing ends have predetermined amounts in the inward direction between the first electrode and the second electrode, respectively. The above object is achieved by arranging the electrodes so as to protrude from the ends of the two electrodes.

【0025】上記構成によれば、一つの絶縁性サブマウ
ント上に所定間隔空けて第1の電極と第2の電極を形成
し、そのアノード側をダイボンディング面としてそれぞ
れ略並行に実装する当該第1の電極と第2の電極上に、
第1の半導体レーザチップと第2の半導体レーザチップ
を、その相対向する端部が、第1の電極と第2の電極と
の間の内側方向に、それぞれ所定量が第1の電極と第2
の電極の端部から突き出した状態で配置しているので、
半導体レーザ装置を安価で、かつ、2つの半導体レーザ
チップの発光点間隔の狭いものとすることができ、小型
化することができる。
According to the above configuration, the first electrode and the second electrode are formed at a predetermined interval on one insulating submount, and the first and second electrodes are mounted substantially in parallel with each other with the anode side as a die bonding surface. On the first electrode and the second electrode,
The first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip are arranged such that opposite ends thereof have a predetermined amount inwardly between the first electrode and the second electrode, respectively. 2
Since it is arranged in a state protruding from the end of the electrode of
The semiconductor laser device can be made inexpensive, the interval between the light emitting points of the two semiconductor laser chips can be narrow, and the size can be reduced.

【0026】この場合、例えば、請求項2に記載するよ
うに、前記第1の電極と前記第2の電極は、溝で分離さ
れており、前記第1の半導体レーザチップと前記第2の
半導体レーザチップは、その相対向する端部が、当該溝
方向に所定量突き出した状態で配置されていてもよい。
In this case, for example, as described in claim 2, the first electrode and the second electrode are separated by a groove, and the first semiconductor laser chip and the second semiconductor The laser chip may be arranged in a state in which the opposite ends protrude by a predetermined amount in the groove direction.

【0027】上記構成によれば、第1の電極と第2の電
極を、溝で分離し、第1の半導体レーザチップと第2の
半導体レーザチップを、その相対向する端部が、当該溝
方向に所定量突き出した状態で配置しているので、半導
体レーザ装置をより一層安価で、2つの半導体レーザチ
ップの発光点間隔の狭いものとすることができ、より一
層小型化することができる。
According to the above configuration, the first electrode and the second electrode are separated by the groove, and the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip are separated from each other by the opposite ends. Since the semiconductor laser devices are arranged so as to protrude by a predetermined amount in the direction, the semiconductor laser device can be made more inexpensive, the interval between the light emitting points of the two semiconductor laser chips can be made narrower, and the size can be further reduced.

【0028】また、例えば、請求項3に記載するよう
に、前記第1の半導体レーザチップと前記第2の半導体
レーザチップは、それぞれの発光点が相互に隣接する端
面から距離h、チップダイボンディング面から半導体レ
ーザチップ側へ深さdの位置にあるとき、h−d以下の
前記突き出し量で突き出した状態で配置されていてもよ
い。
Further, for example, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip may be arranged such that their light emitting points are separated by a distance h from end faces adjacent to each other by chip die bonding. When it is located at a depth d from the surface to the semiconductor laser chip side, it may be arranged so as to protrude with the protruding amount of not more than hd.

【0029】上記構成によれば、第1の半導体レーザチ
ップと第2の半導体レーザチップを、それぞれの発光点
が相互に隣接する端面から距離h、チップダイボンディ
ング面から半導体レーザチップ側へ深さdの位置にある
とき、h−d以下の突き出し量で突き出した状態で配置
しているので、半導体レーザ装置をより一層安価で、2
つの半導体レーザチップの発光点間隔の狭いものとする
ことができ、小型化することができる。
According to the above configuration, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip are separated from each other by a distance h from the end face where each light emitting point is adjacent to each other, and a depth from the chip die bonding surface to the semiconductor laser chip side. When the semiconductor laser device is located at the position d, the semiconductor laser device is arranged so as to protrude with a protruding amount equal to or less than hd, so that the semiconductor laser device can be made more inexpensive,
The distance between the light emitting points of two semiconductor laser chips can be narrow, and the size can be reduced.

【0030】さらに、例えば、請求項4に記載するよう
に、前記半導体レーザ装置は、前記溝内に熱伝導部材が
充填されているものであってもよい。
Further, for example, in the semiconductor laser device, the groove may be filled with a heat conducting member.

【0031】上記構成によれば、第1の電極と第2の電
極を分離する溝内に熱伝導部材を充填しているので、半
導体レーザチップと熱伝導部材を接触させて、半導体レ
ーザチップからの放熱を促進することができ、半導体レ
ーザ装置を安価で、かつ、動作を安定させることができ
るとともに、2つの半導体レーザチップの発光点間隔を
狭して、小型で安定性の優れたものとすることができ
る。
According to the above configuration, since the heat conductive member is filled in the groove separating the first electrode and the second electrode, the semiconductor laser chip and the heat conductive member are brought into contact with each other, and The heat radiation of the semiconductor laser device can be promoted, the semiconductor laser device can be inexpensive and the operation can be stabilized, and the interval between the light emitting points of the two semiconductor laser chips can be narrowed to make the semiconductor laser device small and excellent in stability. be able to.

【0032】また、例えば、請求項5に記載するよう
に、前記第1の半導体レーザチップと前記第2の半導体
レーザチップは、その発光波長が異なるものであっても
よい。
Further, for example, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip may have different emission wavelengths.

【0033】上記構成によれば、第1の半導体レーザチ
ップと第2の半導体レーザチップを、その発光波長が異
なるものを用いているので、CD及びDVD用等のよう
に異なる波長のレーザーを出射する半導体レーザ装置を
安価で小型のものとすることができる。
According to the above configuration, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip having different emission wavelengths are used, so that lasers of different wavelengths such as those for CD and DVD are emitted. The semiconductor laser device can be made inexpensive and small.

【0034】さらに、例えば、請求項6に記載するよう
に、前記第1の半導体レーザチップと前記第2の半導体
レーザチップは、その発光点が、当該発光点間隔方向で
相互に近接する方向に偏っているものであってもよい。
Further, for example, as set forth in claim 6, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip are arranged so that their light emitting points are close to each other in the light emitting point interval direction. It may be biased.

【0035】上記構成によれば、第1の半導体レーザチ
ップと第2の半導体レーザチップを、その発光点が、当
該発光点間隔方向で相互に近接する方向に偏ったものと
しているので、より一層2つの半導体レーザチップの発
光点間隔を狭くすることができ、半導体レーザ装置を小
型で安価なものとすることができる。
According to the above configuration, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip are arranged such that their light emitting points are deviated in a direction closer to each other in the direction of the light emitting points. The distance between the light emitting points of the two semiconductor laser chips can be reduced, and the semiconductor laser device can be made small and inexpensive.

【0036】また、例えば、請求項7に記載するよう
に、前記溝は、ダイシングソーで形成されていてもよ
い。
Also, for example, the groove may be formed by a dicing saw.

【0037】上記構成によれば、第1の電極と第2の電
極を分離する溝を、ダイシングソーで形成しているの
で、2つの半導体レーザチップの発光点間隔をより一層
安価に狭くすることができ、半導体レーザ装置を小型
で、より一層安価なものとすることができる。
According to the above configuration, since the groove for separating the first electrode and the second electrode is formed by the dicing saw, the interval between the light emitting points of the two semiconductor laser chips can be reduced more inexpensively. Thus, the semiconductor laser device can be made smaller and more inexpensive.

【0038】さらに、例えば、請求項8に記載するよう
に、前記サブマウントは、シリコンを主原料とする材料
で形成されているものであってもよい。
Further, for example, the submount may be formed of a material containing silicon as a main material.

【0039】上記構成によれば、サブマウントを、シリ
コンを主原料とする材料で形成されたものを用いている
ので、半導体レーザ装置を、より一層安価で、2つの半
導体レーザチップの発光点間隔が狭く、小型のものとす
ることができる。
According to the above configuration, since the submount is formed of a material mainly composed of silicon, the semiconductor laser device can be manufactured at a lower cost, and the distance between the light emitting points of the two semiconductor laser chips can be reduced. , And can be small.

【0040】また、例えば、請求項9に記載するよう
に、前記半導体レーザ装置は、前記サブマウントが、シ
リコンを主原料とする材料で形成され、当該サブマウン
トの一部にフォトダイオードが形成されているものであ
ってもよい。
For example, in the semiconductor laser device, the submount is formed of a material having silicon as a main material, and a photodiode is formed in a part of the submount. May be used.

【0041】上記構成によれば、サブマウントを、シリ
コンを主原料とする材料で形成し、当該サブマウントの
一部にフォトダイオードを形成しているので、半導体レ
ーザのモニタ用のホトダイオード等を安価に形成して、
部品点数を削減することができ、半導体レーザ装置を、
より一層安価な2つの半導体レーザチップの発光点間隔
が狭く、小型のものとすることができる。
According to the above structure, the submount is formed of a material mainly composed of silicon, and a photodiode is formed on a part of the submount. Therefore, a photodiode for monitoring a semiconductor laser can be manufactured at a low cost. To form
The number of parts can be reduced, and the semiconductor laser device
The spacing between the light emitting points of the two more inexpensive semiconductor laser chips is narrower, and the semiconductor laser chips can be made smaller.

【0042】請求項10記載の発明の光ピックアップ装
置は、前記請求項1から請求項9のいずれかに記載の半
導体レーザ装置が光源として使用されていることによ
り、上記目的を達成している。
According to a tenth aspect of the present invention, an optical pickup device achieves the above object by using the semiconductor laser device according to any one of the first to ninth aspects as a light source.

【0043】上記構成によれば、請求項1から請求項9
のいずれかに記載の半導体レーザ装置を光源として使用
しているので、光ピックアップ装置を、発光点の狭い2
つのレーザビームを出射するとともに、安価なものとす
ることができる。
According to the above configuration, the present invention is characterized in that:
Is used as a light source, so that the optical pickup device can be used with a narrow light emitting point.
One laser beam can be emitted and the cost can be reduced.

【0044】[0044]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本
発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定す
る旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもので
はない。
Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. It should be noted that the embodiments described below are preferred embodiments of the present invention, and therefore, various technically preferable limitations are added. However, the scope of the present invention is not limited to the following description. The embodiments are not limited to these embodiments unless otherwise specified.

【0045】図1〜図3は、本発明の半導体レーザ装置
及び光ピックアップ装置の第1の実施の形態を示す図で
あり、図1は、本発明の半導体レーザ装置及び光ピック
アップ装置の第1の実施の形態を適用した半導体レーザ
装置1の正面断面図である。
FIGS. 1 to 3 show a first embodiment of the semiconductor laser device and the optical pickup device of the present invention. FIG. 1 shows the first embodiment of the semiconductor laser device and the optical pickup device of the present invention. FIG. 3 is a front sectional view of a semiconductor laser device 1 to which the embodiment is applied.

【0046】図1において、半導体レーザ装置1は、サ
ブマウント2上にフォトリソグラフィー技術を使ってT
i/Pt/Auからなる2つのアノード用電極3が形成
されており、2つのアノード用電極3の間隙は、30μ
mで、レジストを用いたリフトオフ法によって作られて
いる。サブマウント2の材料としては、SiC、Al
N、Si等の絶縁性部材が用いられている。
In FIG. 1, a semiconductor laser device 1 has a sub-mount 2 on a submount 2 using photolithography technology.
Two anode electrodes 3 made of i / Pt / Au are formed, and the gap between the two anode electrodes 3 is 30 μm.
m, made by a lift-off method using a resist. The material of the submount 2 is SiC, Al
An insulating member such as N or Si is used.

【0047】2つのアノード用電極3上には、発光波長
の異なる第1の半導体レーザチップ4及び第2の半導体
レーザチップ5が形成されており、これら第1の半導体
レーザチップ4及び第2の半導体レーザチップ5は、そ
れぞれ、そのダイボンド面となるアノード面に、Au−
Sn共晶はんだ6が3μm厚で成膜されている。また、
第1の半導体レーザチップ4及び第2の半導体レーザチ
ップ5は、図1に示すように、その発光点7、8が相互
に他方の半導体レーザチップ4、5側の端部に偏ったも
のが使用されており、半導体レーザチップ4、5は、一
個づつそれぞれアノード用電極3に共晶ダイボンディン
グされるが、このとき、二つの半導体レーザチップ4、
5をアノード用電極3から発光点間隔方向に突き出して
ダイボンディングすることにより、すなわち、アノード
用電極3の端部から発光点間隔方向に突き出し部6を設
けてダイボンディングすることで、二つの発光点7、8
の間隔を接近させることができる。例えば、アノード用
電極3の間隔が30μmで、発光点7、8の位置がチッ
プ端部から30μmの位置にある半導体レーザ4、5を
実装する場合、アノード用電極3からの突き出しを10
μmで、すなわち、10μmの突き出し部6を設けて、
ダイボンディングすることで、発光点7、8の間隔を7
0μmとすることができる。また、この突き出し部6の
長さ、すなわち、突き出し量は、半導体レーザチップ
4、5からの放熱特性を損なうことのない範囲に設定す
る。
On the two anode electrodes 3, a first semiconductor laser chip 4 and a second semiconductor laser chip 5 having different emission wavelengths are formed, and these first semiconductor laser chip 4 and second semiconductor laser chip 5 are formed. Each of the semiconductor laser chips 5 has an Au-
The Sn eutectic solder 6 is formed with a thickness of 3 μm. Also,
As shown in FIG. 1, the first semiconductor laser chip 4 and the second semiconductor laser chip 5 are such that the light emitting points 7 and 8 are mutually biased toward the ends on the other semiconductor laser chip 4 and 5 side. The semiconductor laser chips 4 and 5 are used, and each of them is eutectic die bonded to the anode electrode 3 one by one.
5 is projected from the anode electrode 3 in the direction of the light-emitting point and bonded by die bonding, that is, by providing a protrusion 6 from the end of the electrode 3 for the anode in the direction of the light-emitting point and die-bonding the two light-emitting elements. Points 7, 8
Can be made closer. For example, when mounting the semiconductor lasers 4 and 5 in which the interval between the anode electrodes 3 is 30 μm and the positions of the light emitting points 7 and 8 are 30 μm from the end of the chip, the protrusion from the anode electrodes 3 must be 10 μm.
μm, that is, by providing a protrusion 6 of 10 μm,
The distance between the light emitting points 7 and 8 is set to 7 by die bonding.
It can be 0 μm. The length of the protruding portion 6, that is, the protruding amount is set in a range that does not impair the heat radiation characteristics from the semiconductor laser chips 4, 5.

【0048】そして、半導体レーザチップ4、5は、図
2に示すように、上記サブマウント2上に形成されたア
ノード用電極3上に、上記Au−Sn共晶はんだ6が成
膜されており、さらに、ハンダ6上に、金属アノード電
極11、p型GaAs層12、n型電流ブロック層1
3、p型GaAlAs活性層14、n型GaAlAs層
15及びn型GaAs基板16が積層されて形成されて
いる。なお、図2の17で示す部分が発光点7、8とな
る電流狭窄層である。
In the semiconductor laser chips 4 and 5, as shown in FIG. 2, the Au—Sn eutectic solder 6 is formed on the anode electrode 3 formed on the submount 2. And a metal anode electrode 11, a p-type GaAs layer 12, and an n-type current blocking layer 1 on the solder 6.
3, a p-type GaAlAs active layer 14, an n-type GaAlAs layer 15, and an n-type GaAs substrate 16 are laminated. The portion indicated by reference numeral 17 in FIG. 2 is a current confinement layer that becomes light emitting points 7 and 8.

【0049】なお、半導体チップからの熱の経路に関し
ては、S.M.シー編、「超LSIテクノロジー」、1
985年、p628 総研出版に記載されており、この
「超LSIテクノロジー」によれば、ボンディングされ
たチップからの熱の経路は、実効的には素子の底部(ボ
ンディング面)から始まり基板の厚さ方向に対して45
°の角度で広がると考えられる。
The heat path from the semiconductor chip is described in S.D. M. See, "Super LSI Technology", 1
According to this "ultra LSI technology", the heat path from the bonded chip effectively starts from the bottom of the device (bonding surface), and the thickness of the substrate. 45 for direction
It is thought to spread at an angle of °.

【0050】半導体レーザチップ4、5を、図2に示し
たように、アノード側(アノード用電極3側)をジャン
クションダウンでサブマウント2にダイボンディングし
た場合、半導体レーザチップ4、5の発熱源(発光点
7、8である電流狭窄層17)からのサブマウント2側
への熱の広がりは、図2に斜線で示すように、45°の
範囲で広がると考える。
As shown in FIG. 2, when the semiconductor laser chips 4 and 5 are die-bonded to the submount 2 with the anode side (the anode electrode 3 side) junction-down, heat sources of the semiconductor laser chips 4 and 5 are generated. It is considered that the spread of heat from the (the current confinement layers 17 that are the light emitting points 7 and 8) to the submount 2 side spreads in a range of 45 ° as shown by hatching in FIG.

【0051】したがって、図1に示した半導体レーザチ
ップ4、5の突き出し量は、図2に示すように、半導体
レーザチップ4、5の端部から30μm(h)、表面か
ら5μm(d)の位置に発光点があるチップの場合、第
1のアノード用電極3及び第2のアノード用電極3から
25μm(h−d=25μm)まで突き出しても、その
熱抵抗を増加させることなく、発光点間隔を接近させる
ことができる。
Therefore, the protrusion amounts of the semiconductor laser chips 4 and 5 shown in FIG. 1 are 30 μm (h) from the ends of the semiconductor laser chips 4 and 5 and 5 μm (d) from the surface, as shown in FIG. In the case of a chip having a light emitting point at a position, even if the chip protrudes from the first anode electrode 3 and the second anode electrode 3 to 25 μm (h−d = 25 μm), the light emission point is not increased. The spacing can be reduced.

【0052】このように実施の形態の半導体レーザ装置
1は、サブマウント2上のアノード用電極3をフォトリ
ソグラフィー技術で作製されているためコストは多少高
くなるが、二つの半導体レーザチップ4、5の発光点間
隔を極めて接近させることができる。
As described above, in the semiconductor laser device 1 according to the embodiment, since the anode electrode 3 on the submount 2 is manufactured by the photolithography technique, the cost is slightly higher. Can be made extremely close to each other.

【0053】そして、この半導体レーザ装置1を光ピッ
クアップ装置に適用すると、光ピックアップ装置を、発
光点の狭い2つのレーザビームを出射するとともに、安
価なものとすることができる。
When the semiconductor laser device 1 is applied to an optical pickup device, the optical pickup device can emit two laser beams having narrow emission points and be inexpensive.

【0054】図3は、本発明の半導体レーザ装置及び光
ピックアップ装置の第2の実施の形態を示す図であり、
図3は、本発明の半導体レーザ装置及び光ピックアップ
装置の第2の実施の形態を適用した半導体レーザ装置2
0の斜視図である。
FIG. 3 is a view showing a semiconductor laser device and an optical pickup device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 shows a semiconductor laser device 2 according to a second embodiment of the semiconductor laser device and the optical pickup device of the present invention.
FIG.

【0055】なお、本実施の形態は、上記第1の実施の
形態の半導体レーザ装置1と同様の半導体レーザ装置に
適用したものであり、本実施の形態の説明においては、
上記第1の実施の形態の半導体レーザ装置1と同様の構
成部分には、同一の符号を付して、その詳細な説明を省
略する。
This embodiment is applied to a semiconductor laser device similar to the semiconductor laser device 1 of the first embodiment, and in the description of this embodiment,
The same components as those of the semiconductor laser device 1 according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0056】図3において、本実施の形態の半導体レー
ザ装置20は、サブマウント2上に、Ti/Pt/Au
膜からなる金属膜を成膜し、この金属膜をダイシングソ
ーを用いて分離溝21を掘ることで、第1のアノード用
電極3と第2のアノード用電極3に分離されている。
In FIG. 3, a semiconductor laser device 20 according to the present embodiment has a Ti / Pt / Au
A metal film made of a film is formed, and the metal film is separated into a first anode electrode 3 and a second anode electrode 3 by digging a separation groove 21 using a dicing saw.

【0057】このように、サブマウント2上に形成した
金属膜にダイシングソーで分離溝21を形成して第1の
アノード用電極3と第2のアノード用電極3に分離する
と、高価なホトマスクを使用することなく、安価に第1
のアノード用電極3と第2のアノード用電極3を形成す
ることができ、製造費を低減することができる。
As described above, when the separation groove 21 is formed in the metal film formed on the submount 2 with a dicing saw and separated into the first anode electrode 3 and the second anode electrode 3, an expensive photomask can be formed. Inexpensive first without using
The anode electrode 3 and the second anode electrode 3 can be formed, and the manufacturing cost can be reduced.

【0058】このダイシングソーでの電極3の分離は、
その分離溝21の幅がブレードの幅で制限されるため、
第1のアノード用電極3と第2のアノード用電極3の間
隔は、最小でも50μm程度しか実現することはできな
いが、電極形成プロセスとしては最も低コストなプロセ
スである。
The separation of the electrode 3 by this dicing saw is as follows:
Since the width of the separation groove 21 is limited by the width of the blade,
Although the interval between the first anode electrode 3 and the second anode electrode 3 can be realized only at least about 50 μm, this is the lowest cost electrode forming process.

【0059】このようにして、第1のアノード用電極3
と第2のアノード用電極3を形成したサブマウント2上
に、2つの半導体レーザチップ4、5を分離溝21に突
き出してダイボンディングすることにより、発光点を接
近させることができる。
In this manner, the first anode electrode 3
By projecting the two semiconductor laser chips 4 and 5 into the separation groove 21 and performing die bonding on the submount 2 on which the second anode electrode 3 is formed, the light emitting point can be made closer.

【0060】例えば、半導体レーザチップとして、上記
第1の実施の形態と同様の半導体レーザチップ4、5を
実装すると、ダイシングソーでの分離溝21の幅を50
μmとし、突き出し量を10μmとすると、発光点間隔
は、90μmを実現することができる。
For example, when the same semiconductor laser chips 4 and 5 as those in the first embodiment are mounted as the semiconductor laser chips, the width of the separation groove 21 in the dicing saw is reduced by 50%.
When the protrusion amount is set to 10 μm and the protrusion amount is set to 10 μm, a light emitting point interval of 90 μm can be realized.

【0061】この発光点間隔は、フォトリソグラフィー
を用いた第1の実施の形態の半導体レーザ装置1の発光
間隔よりは広いが、100μm以下とすることができ、
一つの光学系で扱うことのできる半導体レーザ装置20
を提供することができるとともに、上述のように、高額
なホトマスクを使用しないため、安価なものとすること
ができる。
The light emitting point interval is wider than the light emitting interval of the semiconductor laser device 1 of the first embodiment using photolithography, but can be set to 100 μm or less.
Semiconductor laser device 20 that can be handled by one optical system
Can be provided, and as described above, since an expensive photomask is not used, the cost can be reduced.

【0062】そして、半導体レーザ装置20において、
発光波長の異なる半導体レーザチップ4、5として、例
えば、CD(Compact Disc)用の780nmとDVD
(Digital Video Disk)用の650nmの半導体レーザ
チップを実装すると、CD及びDVD共用の光ピックア
ップ装置を安価にかつ容易に製造することができる。
Then, in the semiconductor laser device 20,
As the semiconductor laser chips 4 and 5 having different emission wavelengths, for example, 780 nm for CD (Compact Disc) and DVD
When a 650 nm semiconductor laser chip for (Digital Video Disk) is mounted, an optical pickup device shared by CD and DVD can be easily manufactured at low cost.

【0063】また、サブマウント2として、安価なシリ
コン基板を用いると、さらに、コストを低減することが
できるとともに、半導体レーザチップ4、5の一方を、
ポートダイオード、例えば、半導体レーザチップ4を半
導体レーザチップ5の光出力モニタ用ホトダイオードと
して、作り込むことができる。したがって、部品点数を
減らすことができ、より一層安価なものとすることがで
きる。
If an inexpensive silicon substrate is used as the submount 2, the cost can be further reduced, and one of the semiconductor laser chips 4, 5 can be used.
A port diode, for example, the semiconductor laser chip 4 can be built as a photodiode for monitoring the optical output of the semiconductor laser chip 5. Therefore, the number of parts can be reduced, and the cost can be further reduced.

【0064】図4は、本発明の半導体レーザ装置及び光
ピックアップ装置の第3の実施の形態を示す図であり、
図4は、本発明の半導体レーザ装置及び光ピックアップ
装置の第3の実施の形態を適用した半導体レーザ装置3
0の正面断面図である。
FIG. 4 is a view showing a semiconductor laser device and an optical pickup device according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 4 shows a semiconductor laser device 3 to which the third embodiment of the semiconductor laser device and the optical pickup device of the present invention is applied.
0 is a front sectional view.

【0065】なお、本実施の形態は、上記第1の実施の
形態の半導体レーザ装置1及び第2の実施の形態の半導
体レーザ装置20と同様の半導体レーザ装置に適用した
ものであり、本実施の形態の説明においては、上記第1
の実施の形態の半導体レーザ装置1及び第2の実施の形
態の半導体レーザ装置20と同様の構成部分には、同一
の符号を付して、その詳細な説明を省略する。
This embodiment is applied to a semiconductor laser device similar to the semiconductor laser device 1 of the first embodiment and the semiconductor laser device 20 of the second embodiment. In the description of the first embodiment, the first
The same components as those of the semiconductor laser device 1 of the present embodiment and the semiconductor laser device 20 of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0066】図4において、本実施の形態の半導体レー
ザ装置30は、上記第2の実施の形態と同様に、サブマ
ウント2上に、Ti/Pt/Au膜からなる金属膜を成
膜し、この金属膜をダイシングソーを用いて分離溝21
を掘ることで、第1のアノード用電極3と第2のアノー
ド用電極3に分離されており、この分離溝21内に、半
導体レーザチップ4、5からの放熱を促進するために、
絶縁性の熱伝導部材31が充填されている。
In FIG. 4, the semiconductor laser device 30 of the present embodiment forms a metal film made of a Ti / Pt / Au film on the submount 2 in the same manner as in the second embodiment. Using a dicing saw, this metal film is separated into separation grooves 21.
, It is separated into the first anode electrode 3 and the second anode electrode 3. In the separation groove 21, in order to promote heat radiation from the semiconductor laser chips 4 and 5,
The insulating heat conductive member 31 is filled.

【0067】具体的には、分離溝21を形成したサブマ
ウント2に半導体レーザチップ4、5をダイボンディン
グした後に、熱伝導部材31として、熱伝導性の高い窒
化アルミ(AlN)フィラーを含有したペースト状接着
剤(ステイスティック社 熱伝導性接着剤272 熱伝
導率1〜1.5W/m/℃)を分離溝21に充填し、そ
の後、125〜200℃で加熱して接着させる。
Specifically, after the semiconductor laser chips 4 and 5 are die-bonded to the submount 2 in which the separation grooves 21 are formed, the heat conductive member 31 contains an aluminum nitride (AlN) filler having high heat conductivity. The separation groove 21 is filled with a paste-like adhesive (Staystick Thermal Conductive Adhesive 272, thermal conductivity 1 to 1.5 W / m / ° C.), and then heated at 125 to 200 ° C. for bonding.

【0068】このように、分離溝21に熱伝導性部材3
1を充填すると、半導体レーザチップ4、5の張り出し
部分が、熱伝導性部材31と接触するため、半導体レー
ザチップ4、5からの放熱を促進することができ、半導
体レーザチップ4、5の動作を安定させることができる
とともに、半導体レーザチップ4、5を長寿命化するこ
とができる。
As described above, the heat conductive member 3 is
When the semiconductor laser chips 4 and 5 are filled, the protruding portions of the semiconductor laser chips 4 and 5 come into contact with the heat conductive member 31, so that heat radiation from the semiconductor laser chips 4 and 5 can be promoted. Can be stabilized, and the life of the semiconductor laser chips 4 and 5 can be extended.

【0069】図5は、本発明の本発明の半導体レーザ装
置及び光ピックアップ装置の第4の実施の形態を示す図
であり、図5は、本発明の半導体レーザ装置及び光ピッ
クアップ装置の第4の実施の形態を適用した半導体レー
ザ装置40の平面図である。
FIG. 5 is a view showing a fourth embodiment of the semiconductor laser device and the optical pickup device of the present invention, and FIG. 5 is a diagram showing the fourth embodiment of the semiconductor laser device and the optical pickup device of the present invention. FIG. 5 is a plan view of a semiconductor laser device 40 to which the embodiment is applied.

【0070】なお、本実施の形態は、上記第1の実施の
形態の半導体レーザ装置1及び第2の実施の形態の半導
体レーザ装置20と同様の半導体レーザ装置に適用した
ものであり、本実施の形態の説明においては、上記第1
の実施の形態の半導体レーザ装置1及び第2の実施の形
態の半導体レーザ装置20と同様の構成部分には、同一
の符号を付して、その詳細な説明を省略する。
This embodiment is applied to a semiconductor laser device similar to the semiconductor laser device 1 of the first embodiment and the semiconductor laser device 20 of the second embodiment. In the description of the first embodiment, the first
The same components as those of the semiconductor laser device 1 of the present embodiment and the semiconductor laser device 20 of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0071】図5において、本実施の形態の半導体レー
ザ装置40は、シリコンのサブマウント2の表面に成膜
した酸化膜上に、Ti/Pt/Auからなるアノード用
電極3にAu−Sn共晶はんだ8(図示略)でダイボン
ディングされて、半導体レーザチップ4、5が実装され
ており、このサブマウント2に形成された分離溝21を
挟んで、pn接合型ホトダイオード41が2個形成され
ている。
Referring to FIG. 5, a semiconductor laser device 40 of the present embodiment has an anode electrode 3 made of Ti / Pt / Au on an oxide film formed on the surface of a silicon submount 2 with Au-Sn. The semiconductor laser chips 4 and 5 are mounted by die bonding with crystal solder 8 (not shown), and two pn junction type photodiodes 41 are formed with the separation groove 21 formed in the submount 2 interposed therebetween. ing.

【0072】2個のホトダイオード41は、個別に出力
を取り出すこともできるが、本実施の形態では、個別電
極をワイヤボンディングすることで電気的に接続して一
つのホトダイオードとして使用している。なお、図5に
おいて、42は、電気接続用のワイヤである。
Although the two photodiodes 41 can output their outputs individually, in the present embodiment, the individual electrodes are electrically connected by wire bonding and used as one photodiode. In FIG. 5, reference numeral 42 denotes wires for electrical connection.

【0073】本実施の形態の半導体レーザ装置40は、
従来のサブマウントとモニタ用ホトダイオードを共用す
ることができ、部品点数を削減して、実装コストを低減
することができる。
The semiconductor laser device 40 of the present embodiment is
The conventional submount and the monitoring photodiode can be used in common, so that the number of components can be reduced and the mounting cost can be reduced.

【0074】以上、本発明者によってなされた発明を好
適な実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
上記のものに限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the above, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. It goes without saying that it is possible.

【0075】[0075]

【発明の効果】請求項1記載の発明の半導体レーザ装置
によれば、一つの絶縁性サブマウント上に所定間隔空け
て第1の電極と第2の電極を形成し、そのアノード側を
ダイボンディング面としてそれぞれ略並行に実装する当
該第1の電極と第2の電極上に、第1の半導体レーザチ
ップと第2の半導体レーザチップを、その相対向する端
部が、第1の電極と第2の電極との間の内側方向に、そ
れぞれ所定量が第1の電極と第2の電極の端部から突き
出した状態で配置しているので、半導体レーザ装置を安
価で、かつ、2つの半導体レーザチップの発光点間隔の
狭いものとすることができ、小型化することができる。
According to the semiconductor laser device of the present invention, the first electrode and the second electrode are formed on one insulating submount at a predetermined interval, and the anode side is die-bonded. A first semiconductor laser chip and a second semiconductor laser chip are mounted on the first electrode and the second electrode, respectively, which are mounted substantially in parallel as surfaces, and opposite ends of the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip. The semiconductor laser device is inexpensive and has two semiconductor elements, because a predetermined amount is disposed in the inner direction between the two electrodes so as to protrude from the ends of the first electrode and the second electrode. The distance between the light emitting points of the laser chip can be narrow, and the size can be reduced.

【0076】請求項2記載の発明の半導体レーザ装置に
よれば、第1の電極と第2の電極を、溝で分離し、第1
の半導体レーザチップと第2の半導体レーザチップを、
その相対向する端部が、当該溝方向に所定量突き出した
状態で配置しているので、半導体レーザ装置をより一層
安価で、2つの半導体レーザチップの発光点間隔の狭い
ものとすることができ、より一層小型化することができ
る。
According to the semiconductor laser device of the second aspect of the present invention, the first electrode and the second electrode are separated by a groove, and the first electrode and the second electrode are separated from each other.
Semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip,
Since the opposing ends are arranged so as to protrude in the groove direction by a predetermined amount, the semiconductor laser device can be made even more inexpensive and the interval between the light emitting points of the two semiconductor laser chips can be reduced. The size can be further reduced.

【0077】請求項3記載の発明の半導体レーザ装置に
よれば、第1の半導体レーザチップと第2の半導体レー
ザチップを、それぞれの発光点が相互に隣接する端面か
ら距離h、チップダイボンディング面から半導体レーザ
チップ側へ深さdの位置にあるとき、h−d以下の突き
出し量で突き出した状態で配置しているので、半導体レ
ーザ装置をより一層安価で、2つの半導体レーザチップ
の発光点間隔の狭いものとすることができ、小型化する
ことができる。
According to the semiconductor laser device of the third aspect of the present invention, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip are separated from each other by a distance h from an end face whose light emitting points are adjacent to each other, and a chip die bonding surface. When it is located at a depth d from the semiconductor laser chip to the semiconductor laser chip side, the semiconductor laser device is arranged so as to protrude with a protrusion amount of not more than hd, so that the semiconductor laser device is more inexpensive and the light emitting points of the two semiconductor laser chips are The interval can be narrow, and the size can be reduced.

【0078】請求項4記載の発明の半導体レーザ装置に
よれば、第1の電極と第2の電極を分離する溝内に熱伝
導部材を充填しているので、半導体レーザチップと熱伝
導部材を接触させて、半導体レーザチップからの放熱を
促進することができ、半導体レーザ装置を安価で、か
つ、動作を安定させることができるとともに、2つの半
導体レーザチップの発光点間隔を狭して、小型で安定性
の優れたものとすることができる。
According to the semiconductor laser device of the fourth aspect of the present invention, since the heat conductive member is filled in the groove separating the first electrode and the second electrode, the semiconductor laser chip and the heat conductive member are filled. By contacting the semiconductor laser chip, heat radiation from the semiconductor laser chip can be promoted, the semiconductor laser device can be manufactured at low cost, and the operation can be stabilized. Excellent stability can be obtained.

【0079】請求項5記載の発明の半導体レーザ装置に
よれば、第1の半導体レーザチップと第2の半導体レー
ザチップを、その発光波長が異なるものを用いているの
で、CD及びDVD用等のように異なる波長のレーザー
を出射する半導体レーザ装置を安価で小型のものとする
ことができる。
According to the semiconductor laser device of the fifth aspect of the present invention, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip having different emission wavelengths are used. As described above, a semiconductor laser device that emits lasers of different wavelengths can be made inexpensive and small.

【0080】請求項6記載の発明の半導体レーザ装置に
よれば、第1の半導体レーザチップと第2の半導体レー
ザチップを、その発光点が、当該発光点間隔方向で相互
に近接する方向に偏ったものとしているので、より一層
2つの半導体レーザチップの発光点間隔を狭くすること
ができ、半導体レーザ装置を小型で安価なものとするこ
とができる。
According to the semiconductor laser device of the present invention, the light emitting points of the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip are biased in a direction in which the light emitting points are close to each other in the direction of the light emitting points. Therefore, the interval between the light emitting points of the two semiconductor laser chips can be further reduced, and the semiconductor laser device can be made small and inexpensive.

【0081】請求項7記載の発明の半導体レーザ装置に
よれば、第1の電極と第2の電極を分離する溝を、ダイ
シングソーで形成しているので、2つの半導体レーザチ
ップの発光点間隔をより一層安価に狭くすることがで
き、半導体レーザ装置を小型で、より一層安価なものと
することができる。
According to the semiconductor laser device of the present invention, since the groove for separating the first electrode and the second electrode is formed by the dicing saw, the distance between the light emitting points of the two semiconductor laser chips is provided. Can be reduced more inexpensively, and the semiconductor laser device can be made smaller and more inexpensive.

【0082】請求項8記載の発明の半導体レーザ装置に
よれば、サブマウントを、シリコンを主原料とする材料
で形成されたものを用いているので、半導体レーザ装置
を、より一層安価で、2つの半導体レーザチップの発光
点間隔が狭く、小型のものとすることができる。
According to the semiconductor laser device of the present invention, since the submount is formed of a material mainly composed of silicon, the semiconductor laser device can be manufactured at a lower cost. The distance between the light emitting points of the two semiconductor laser chips is narrow, and the semiconductor laser chip can be made compact.

【0083】請求項9記載の発明の半導体レーザ装置に
よれば、サブマウントを、シリコンを主原料とする材料
で形成し、当該サブマウントの一部にフォトダイオード
を形成しているので、半導体レーザのモニタ用のホトダ
イオード等を安価に形成して、部品点数を削減すること
ができ、半導体レーザ装置を、より一層安価な2つの半
導体レーザチップの発光点間隔が狭く、小型のものとす
ることができる。
According to the semiconductor laser device of the ninth aspect of the present invention, the submount is formed of a material mainly composed of silicon, and the photodiode is formed in a part of the submount. It is possible to reduce the number of parts by forming a photodiode for monitoring at low cost and reduce the number of parts, and to reduce the size of the semiconductor laser device so that the interval between the light emitting points of two more inexpensive semiconductor laser chips is narrower. it can.

【0084】請求項10記載の発明の光ピックアップ装
置によれば、請求項1から請求項9のいずれかに記載の
半導体レーザ装置を光源として使用しているので、光ピ
ックアップ装置を、発光点の狭い2つのレーザビームを
出射するとともに、安価なものとすることができる。
According to the tenth aspect of the present invention, the semiconductor laser device according to any one of the first to ninth aspects is used as a light source. In addition to emitting two narrow laser beams, it can be inexpensive.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体レーザ装置及び光ピックアップ
装置の第1の実施の形態を適用した半導体レーザ装置の
正面断面図。
FIG. 1 is a front sectional view of a semiconductor laser device to which a first embodiment of a semiconductor laser device and an optical pickup device according to the present invention is applied.

【図2】図1の半導体レーザチップの拡大正面断面図。FIG. 2 is an enlarged front sectional view of the semiconductor laser chip of FIG. 1;

【図3】本発明の半導体レーザ装置及び光ピックアップ
装置の第2の実施の形態を適用した半導体レーザ装置の
斜視図。
FIG. 3 is a perspective view of a semiconductor laser device to which a second embodiment of the semiconductor laser device and the optical pickup device according to the present invention is applied.

【図4】本発明の半導体レーザ装置及び光ピックアップ
装置の第3の実施の形態を適用した半導体レーザ装置の
正面断面図。
FIG. 4 is a front sectional view of a semiconductor laser device to which a third embodiment of the semiconductor laser device and the optical pickup device according to the present invention is applied;

【図5】本発明の半導体レーザ装置及び光ピックアップ
装置の第4の実施の形態を適用した半導体レーザ装置の
平面図。
FIG. 5 is a plan view of a semiconductor laser device to which a fourth embodiment of the semiconductor laser device and the optical pickup device according to the present invention is applied.

【図6】従来の半導体レーザ装置の斜視図。FIG. 6 is a perspective view of a conventional semiconductor laser device.

【図7】従来の半導体レーザ装置の正面断面図。FIG. 7 is a front sectional view of a conventional semiconductor laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光ピックアップ装置 2 サブマウント 3 アノード用電極 4 第1の半導体レーザチップ 5 第2の半導体レーザチップ 6 はんだ 7、8 発光点 11 金属アノード電極 12 p型GaAs層 13 n型電流ブロック層 14 p型GaAlAs活性層 15 n型GaAlAs層 16 n型GaAs基板 20 半導体レーザ装置 21 分離溝 30 半導体レーザ装置 31 熱伝導部材 40 半導体レーザ装置 41 pn接合型ホトダイオード 42 ワイヤ REFERENCE SIGNS LIST 1 optical pickup device 2 submount 3 anode electrode 4 first semiconductor laser chip 5 second semiconductor laser chip 6 solder 7, 8 light emitting point 11 metal anode electrode 12 p-type GaAs layer 13 n-type current block layer 14 p-type GaAlAs active layer 15 n-type GaAlAs layer 16 n-type GaAs substrate 20 semiconductor laser device 21 separation groove 30 semiconductor laser device 31 heat conduction member 40 semiconductor laser device 41 pn junction type photodiode 42 wire

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一つの絶縁性サブマウント上に所定間隔空
けて第1の電極と第2の電極が形成され、当該第1の電
極と第2の電極上に、第1の半導体レーザチップと第2
の半導体レーザチップが、アノード側をダイボンディン
グ面としてそれぞれ略並行に実装されている半導体レー
ザ装置において、前記第1の半導体レーザチップと前記
第2の半導体レーザチップは、その相対向する端部が、
前記第1の電極と前記第2の電極との間の内側方向に、
それぞれ所定量が前記第1の電極と前記第2の電極の端
部から突き出した状態で配置されていることを特徴とす
る半導体レーザ装置。
A first electrode and a second electrode are formed at a predetermined interval on one insulating submount, and a first semiconductor laser chip and a first electrode are formed on the first electrode and the second electrode. Second
In the semiconductor laser device in which the semiconductor laser chips are mounted substantially in parallel with the anode side as the die bonding surface, the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip have opposite ends. ,
In an inward direction between the first electrode and the second electrode,
A semiconductor laser device, wherein a predetermined amount is disposed so as to protrude from end portions of the first electrode and the second electrode.
【請求項2】前記第1の電極と前記第2の電極は、溝で
分離されており、前記第1の半導体レーザチップと前記
第2の半導体レーザチップは、その相対向する端部が、
当該溝方向に所定量突き出した状態で配置されているこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first electrode and the second electrode are separated by a groove, and the first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip have opposite ends.
2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser device is arranged so as to protrude by a predetermined amount in the groove direction.
【請求項3】前記第1の半導体レーザチップと前記第2
の半導体レーザチップは、それぞれの発光点が相互に隣
接する端面から距離h、チップダイボンディング面から
半導体レーザチップ側へ深さdの位置にあるとき、h−
d以下の前記突き出し量で突き出した状態で配置されて
いることを特徴とする請求項1または請求項2記載の半
導体レーザ装置。
3. The first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip.
When the respective light emitting points are located at a distance h from the end faces adjacent to each other and at a depth d from the chip die bonding surface toward the semiconductor laser chip, h−
The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser device is arranged so as to protrude with the protrusion amount of d or less.
【請求項4】前記半導体レーザ装置は、前記溝内に熱伝
導部材が充填されていることを特徴とする請求項2また
は請求項3記載の半導体レーザ装置。
4. The semiconductor laser device according to claim 2, wherein said groove is filled with a heat conducting member.
【請求項5】前記第1の半導体レーザチップと前記第2
の半導体レーザチップは、その発光波長が異なることを
特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の半
導体レーザ装置。
5. The first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip.
5. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein said semiconductor laser chips have different emission wavelengths.
【請求項6】前記第1の半導体レーザチップと前記第2
の半導体レーザチップは、その発光点が、当該発光点間
隔方向で相互に近接する方向に偏っていることを特徴と
する請求項1から請求項5のいずれかに記載の半導体レ
ーザ装置。
6. The first semiconductor laser chip and the second semiconductor laser chip.
6. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the light emitting points of the semiconductor laser chips are biased in a direction approaching each other in the light emitting point interval direction.
【請求項7】前記溝は、ダイシングソーで形成されてい
ることを特徴とする請求項2または請求項4記載の半導
体レーザ装置。
7. The semiconductor laser device according to claim 2, wherein said groove is formed by a dicing saw.
【請求項8】前記サブマウントは、シリコンを主原料と
する材料で形成されていることを特徴とする請求項1か
ら請求項7のいずれかに記載の半導体レーザ装置。
8. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein said submount is formed of a material containing silicon as a main raw material.
【請求項9】前記半導体レーザ装置は、前記サブマウン
トが、シリコンを主原料とする材料で形成され、当該サ
ブマウントの一部にフォトダイオードが形成されている
ことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれかに記
載の半導体レーザ装置。
9. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the submount is formed of a material containing silicon as a main material, and a photodiode is formed on a part of the submount. A semiconductor laser device according to claim 8.
【請求項10】前記請求項1から請求項9のいずれかに
記載の半導体レーザ装置が光源として使用されているこ
とを特徴とする光ピックアップ装置。
10. An optical pickup device, wherein the semiconductor laser device according to claim 1 is used as a light source.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005191373A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Ricoh Co Ltd Semiconductor laser device
JP2005340440A (en) * 2004-05-26 2005-12-08 Kyocera Corp Sub-mount and light emitting apparatus using the same
JP2006253391A (en) * 2005-03-10 2006-09-21 Sharp Corp Semiconductor laser apparatus
JP2018014245A (en) * 2016-07-21 2018-01-25 株式会社トクヤマ Ion milling method

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005191373A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Ricoh Co Ltd Semiconductor laser device
JP4587666B2 (en) * 2003-12-26 2010-11-24 株式会社リコー Semiconductor laser device
JP2005340440A (en) * 2004-05-26 2005-12-08 Kyocera Corp Sub-mount and light emitting apparatus using the same
JP4549103B2 (en) * 2004-05-26 2010-09-22 京セラ株式会社 Method for manufacturing light emitting device
JP2006253391A (en) * 2005-03-10 2006-09-21 Sharp Corp Semiconductor laser apparatus
JP2018014245A (en) * 2016-07-21 2018-01-25 株式会社トクヤマ Ion milling method

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