JP2002229030A - Method for manufacturing liquid crystal display, and liquid crystal display - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal display, and liquid crystal display

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JP2002229030A
JP2002229030A JP2001030214A JP2001030214A JP2002229030A JP 2002229030 A JP2002229030 A JP 2002229030A JP 2001030214 A JP2001030214 A JP 2001030214A JP 2001030214 A JP2001030214 A JP 2001030214A JP 2002229030 A JP2002229030 A JP 2002229030A
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substrate
mother substrate
liquid crystal
alignment
crystal display
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JP2001030214A
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Japanese (ja)
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Takehisa Natori
武久 名取
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a liquid crystal display solving problems, such as generation of static electricity caused by liquid crystal alignment treatment with rubbing treatment, easily improving productivity and further broadening the range of choice for a substrate for the device and the liquid crystal display device. SOLUTION: A first mother substrate 10 having a polymer material layer subjected to alignment treatment is prepared; a second mother substrate 15 is press-fixed to the first mother substrate 10 and the aligned state on the first mother substrate 10 is transferred onto the second mother substrate 15; and furthermore, the second mother substrate 15 is press-fixed to the substrates 17, 21 for devices and the aligned state on the second mother substrate 15 is transferred onto the substrates for the device 17, 21.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術の分野】本発明は液晶による画像表
示を行う液晶表示装置の製造方法に関し、特にその配向
膜に対する配向処理を伴う液晶表示装置の製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device for displaying an image by using a liquid crystal, and more particularly to a method of manufacturing a liquid crystal display device having an alignment process for an alignment film.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、液晶の特定な分子配列
を電界等の外部からの作用によって別の異なる分子配列
に変化させて、その間の光学的特性の変化を視覚的な変
化として表示を変えるように構成されている。液晶分子
をある特定の配列状態とするためには、液晶を挟むガラ
ス基板の表面に配向処理を行うことが通常行われてい
る。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device changes a specific molecular arrangement of a liquid crystal to another different molecular arrangement by an external action such as an electric field, and displays a change in optical characteristics during the change as a visual change. It is configured to change. In order to arrange the liquid crystal molecules in a specific alignment state, it is usual to perform an alignment treatment on the surface of the glass substrate sandwiching the liquid crystal.

【0003】従来のツイストネマチック(TN)型液晶
素子などでは、配向処理法として、液晶を挟むガラス基
板全体にポリイミド等の配向膜を形成し、配向膜上をラ
ビング布で一方向に擦るいわゆるラビング法が採用され
ている。このラビング法の典型的な例としては、綿布の
ようなラビング布を表面に巻いたラビングローラーを基
板上のポリイミド等の配向膜に接触させながら、該ラビ
ングローラーを移動させる。すると、装置基板上に形成
された配向膜の全体に配向処理が施される。
In a conventional twisted nematic (TN) type liquid crystal element or the like, a so-called rubbing method is used in which an alignment film such as polyimide is formed on the entire glass substrate sandwiching liquid crystal, and the alignment film is rubbed in one direction with a rubbing cloth. The law has been adopted. As a typical example of the rubbing method, the rubbing roller is moved while a rubbing roller wound with a rubbing cloth such as a cotton cloth is brought into contact with an alignment film such as polyimide on a substrate. Then, an alignment process is performed on the entire alignment film formed on the device substrate.

【0004】また、アクティブマトリクス型の液晶表示
装置では、薄膜トランジスタ素子(TFT)などの駆動
素子や配線が装置基板の表面に形成される。このような
アクティブマトリクス型液晶表示装置にラビング処理を
施す場合、駆動素子や配線が装置基板の表面に形成され
た段階でラビング処理を施すと、該駆動素子や配線もラ
ビングされてしまい、その結果として、ラビングなどに
よる静電破壊などが生ずるおそれがある。また、ラビン
グ処理によって、駆動素子の周囲にダストが吸い寄せら
れるという問題も発生する。
In an active matrix type liquid crystal display device, driving elements such as thin film transistors (TFTs) and wiring are formed on the surface of a device substrate. When performing a rubbing process on such an active matrix type liquid crystal display device, if the rubbing process is performed at a stage where the driving elements and the wirings are formed on the surface of the device substrate, the driving elements and the wirings are also rubbed. As a result, As a result, rubbing or the like may cause electrostatic breakdown. Further, there is also a problem that dust is attracted around the driving element by the rubbing process.

【0005】このようなラビング処理時の問題を解決す
る技術として、実際の液晶セルに使用する子基板と配向
処理をした母基板とを対向配置して、両基板間に一次液
晶材料を注入し、その一次液晶材料の配向時の保存機能
を利用して、子基板に次々と配向状態の転写を行う技術
が知られており、このような技術は例えば特許第277
3794号公報にその記載がある。また、特開平6−3
672号公報には、ラビング処理を省略するための技術
として、ポリイミド等の高分子有機物からなる配向材シ
ートを回転ローラーに装着し、その回転ローラーからガ
ラス基板上に転写して配向作用を付与する方法が知られ
ている。また、一軸性の部材を密着させて液晶配向性を
付与する技術としては、特開平6−43458号公報に
記載される技術が知られている。
As a technique for solving such a problem at the time of the rubbing treatment, a sub-substrate used for an actual liquid crystal cell and a mother substrate subjected to an alignment treatment are arranged to face each other, and a primary liquid crystal material is injected between the two substrates. A technique is known in which the state of alignment of a primary liquid crystal material is preserved during alignment, and the state of alignment is successively transferred to a sub-substrate.
No. 3,794, there is a description thereof. Also, JP-A-6-3
No. 672 discloses a technique for omitting a rubbing treatment, in which an alignment material sheet made of a high molecular organic material such as polyimide is mounted on a rotating roller and transferred from the rotating roller onto a glass substrate to impart an alignment effect. Methods are known. Further, as a technique for providing a liquid crystal orientation by bringing a uniaxial member into close contact, a technique described in JP-A-6-43458 is known.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】一対の基板間に一次液
晶材料を注入し、その一次液晶材料のメモリ機能によっ
て子基板に配向状態を転写する上記特許第277379
4号公報記載の技術では、子基板を生産するたびに一次
液晶材料の封入が必要であり、製造工程が複雑化するこ
とから、液晶表示装置の生産性を高くすることが困難で
ある。
The above-mentioned Patent No. 277379 in which a primary liquid crystal material is injected between a pair of substrates, and the alignment state is transferred to a daughter substrate by a memory function of the primary liquid crystal material.
In the technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4 (1999) -1995, it is necessary to enclose a primary liquid crystal material every time a sub-substrate is produced, which complicates the manufacturing process and makes it difficult to increase the productivity of the liquid crystal display device.

【0007】また、高分子有機物からなる配向材シート
を回転ローラーからガラス基板上に転写して配向作用を
付与する特開平6−3672号公報の技術では、転写の
際にガラス基板を200℃程度の高温に昇温する必要が
あり、例えば、液晶表示装置のフレキシブル化を図って
合成樹脂基板を採用する場合では、基板自体の耐熱性に
問題が発生してしまうことになる。また、特開平6−4
3458号公報に記載される一軸性の部材を密着させて
液晶配向性を付与する技術では、ラビングが行わないこ
とから、ダストの問題を解決することが可能であるが、
やはり高分子フィルムを貼りつけた後に、アニ−ルなど
の加熱処理が必要とされ、同様な耐熱性の問題が生ずる
ことになり、装置基板の選択の幅を狭めてしまうことに
なる。
Further, in the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-3672, in which an orientation material sheet made of a high molecular organic substance is transferred from a rotating roller onto a glass substrate to impart an orientation effect, the glass substrate is heated to about 200 ° C. It is necessary to raise the temperature to a high temperature. For example, when a synthetic resin substrate is used to make the liquid crystal display device flexible, a problem occurs in the heat resistance of the substrate itself. Also, Japanese Patent Laid-Open No. 6-4
In the technique described in Japanese Patent No. 3458, in which a uniaxial member is brought into close contact to impart liquid crystal orientation, since rubbing is not performed, it is possible to solve the problem of dust.
After the application of the polymer film, a heat treatment such as annealing is required, which causes the same problem of heat resistance, and narrows the range of choice of the device substrate.

【0008】そこで本発明はラビング処理による液晶配
向処理によって発生する静電気などの問題を解決できる
と共に、その工程も生産性を改善することが容易であっ
て且つ装置基板の選択の幅も広げることができる液晶表
示装置の製造方法と液晶表示装置の提供を目的とする。
Therefore, the present invention can solve the problem of static electricity and the like generated by the liquid crystal alignment treatment by the rubbing treatment, can easily improve the productivity in the process, and can widen the choice of the device substrate. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device manufacturing method and a liquid crystal display device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
め、本発明の液晶表示装置の製造方法は、配向処理を施
した高分子材料層を有する第1母基板に第2母基板を圧
着させて前記第1母基板上の配向状態を前記第2母基板
上に転写し、前記第2母基板を装置基板に圧着させて前
記第2母基板上の配向状態を前記装置基板上に転写する
ことを特徴とする。基板同士の圧着の方法としては、種
々の方法を用いることが可能であるが、一例として基板
同士の面接触によることができ、また、配向状態自体は
一例として電磁波硬化型樹脂などの高分子材料膜を利用
することも可能である。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention comprises the steps of: bonding a second mother substrate to a first mother substrate having a polymer material layer subjected to an alignment treatment; Then, the orientation state on the first motherboard is transferred onto the second motherboard, and the second motherboard is pressed against the device substrate to transfer the orientation state on the second motherboard onto the device substrate. It is characterized by doing. Various methods can be used as a method for press-bonding the substrates, for example, surface contact between the substrates can be used, and the alignment state itself is, for example, a polymer material such as an electromagnetic wave-curable resin. It is also possible to use a membrane.

【0010】本発明の液晶表示装置の製造方法によれ
ば、第1母基板から第2母基板に配向状態が転写され、
第2母基板から装置基板に配向状態が転写される。これ
ら基板間の配向状態の転写は基板同士を合わせたもので
あり、直接的なラビングによらない液晶配向状態の転写
がなされる。例えば、配向状態の転写に、紫外線硬化型
樹脂などの電磁波硬化型樹脂を用いた場合では、装置基
板を加熱する必要がなく、従って、所要の高分子基板を
装置基板に採用することも可能となる。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, the alignment state is transferred from the first mother substrate to the second mother substrate,
The alignment state is transferred from the second mother substrate to the device substrate. The transfer of the alignment state between the substrates is performed by combining the substrates, and the transfer of the liquid crystal alignment state is not performed by direct rubbing. For example, when an electromagnetic wave-curable resin such as an ultraviolet-curable resin is used for transferring the alignment state, there is no need to heat the device substrate, and therefore, it is possible to use a required polymer substrate as the device substrate. Become.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の液晶表示装置の製
造方法の一実施形態を図面を参照しながら説明する。図
1から図3までは液晶表示装置の製造方法の一実施形態
をその工程順に示す図であり、アルファベット順に進行
する各工程を図示したものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIGS. 1 to 3 are views showing an embodiment of a method of manufacturing a liquid crystal display device in the order of steps, and show each step which proceeds in alphabetical order.

【0012】先ず、図1の(a)に示すように、第1母
基板10上に高分子膜11が形成される。この第1母基
板10は、特に高分子膜11を保持することができ、次
のローラーによるラビング処理が可能な材料であれば、
公知の材料により構成できる。この第1母基板10とし
ては、例えば、ガラス基板、アルミニウム基板、ステン
レス、鉄、その他の金属基板、或いは合成樹脂基板など
を用いることも可能である。この第1母基板10上には
例えばポリイミド膜からなる高分子膜11がスピンコー
ト法やロールコーターなどを用いた印刷法などによって
略全面に形成される。高分子膜11としてはポリイミド
膜の他に、ポリアミド膜、ポリイミドアミド膜、ポリペ
プチドアルコール膜などを形成しても良い。
First, as shown in FIG. 1A, a polymer film 11 is formed on a first mother substrate 10. The first mother substrate 10 can hold the polymer film 11 in particular, and if it is a material that can be rubbed by the next roller,
It can be constituted by a known material. As the first mother substrate 10, for example, a glass substrate, an aluminum substrate, stainless steel, iron, another metal substrate, or a synthetic resin substrate can be used. On the first mother substrate 10, for example, a polymer film 11 made of a polyimide film is formed on substantially the entire surface by a spin coating method, a printing method using a roll coater, or the like. As the polymer film 11, a polyamide film, a polyimide amide film, a polypeptide alcohol film, or the like may be formed in addition to the polyimide film.

【0013】次に配向状態の型を取るために、図1の
(b)に示すように、ラビングローラー13に第1母基
板10上の高分子膜11を接触させる。ラビングローラ
ー13はローラー表面にナイロンなどの綿布の如きラビ
ング布14を貼りつけた構造を有する。ラビングローラ
ー13の周面を第1母基板10上の高分子膜11の表面
に接触させたまま第1母基板10を図中右側に移動させ
る。この時、ラビングローラー13の周面に設けられた
ラビング布14が第1母基板10上の高分子膜11の表
面を擦ることになり、配向状態の無い表面11bは配向
状態を有する表面11aに加工される。なお、本実施形
態ではラビングローラー13を用いたラビング処理によ
って第1母基板10上の高分子膜11に配向処理が施さ
れるが、プレス法や樹脂膜を貼り合わせるような方法で
第1母基板10上の高分子膜11の配向状態を形成して
も良い。
Next, as shown in FIG. 1B, the polymer film 11 on the first mother substrate 10 is brought into contact with the rubbing roller 13 in order to take the mold in the alignment state. The rubbing roller 13 has a structure in which a rubbing cloth 14 such as a cotton cloth such as nylon is adhered to the roller surface. The first mother substrate 10 is moved to the right in the figure while the peripheral surface of the rubbing roller 13 is kept in contact with the surface of the polymer film 11 on the first mother substrate 10. At this time, the rubbing cloth 14 provided on the peripheral surface of the rubbing roller 13 rubs the surface of the polymer film 11 on the first mother substrate 10, and the surface 11b having no alignment state becomes the surface 11a having the alignment state. Processed. In the present embodiment, the polymer film 11 on the first mother substrate 10 is subjected to the orientation treatment by the rubbing treatment using the rubbing roller 13. The orientation state of the polymer film 11 on the substrate 10 may be formed.

【0014】次に、このような配向処理が施される第1
母基板10上の高分子膜11を図1の(c)に示すよう
に第2母基板15に対峙させる。第2母基板15も前述
の第1母基板10と同様に公知の材料により構成でき、
例えば、ガラス基板、アルミニウム基板、ステンレス、
鉄、その他の金属基板、或いは合成樹脂基板などを用い
ることができる。この第2母基板15上には、紫外線硬
化型樹脂層16が形成される。この紫外線硬化型樹脂層
16はスピンコートやその他の印刷法で形成される樹脂
層であり、第2母基板15と第1母基板10が圧着され
る前には、未硬化状態であるウエットな状態若しくはハ
ーフキュアな状態とされる。紫外線硬化型樹脂層16は
単層でも良いが、第2母基板15との密着性を高めるた
めにプライマー膜など予め形成していても良く、他の層
との複合層であっても良い。紫外線硬化型樹脂層16は
第2母基板15上の略全面に形成される。この紫外線硬
化型樹脂層16は紫外線を受けて硬化することから、第
2母基板15と第1母基板10の少なくとも一方はガラ
ス基板などの透明材料であることが好ましい。なお、第
2母基板15上には、紫外線硬化型樹脂層16の代わり
に電子線硬化型樹脂やその他の電磁波硬化型樹脂や、そ
の他の型として機能できる層を形成することも可能であ
る。また、第2母基板15に圧着される第1母基板の構
造として、アルミニウム基板にタングステン線布からな
る構造のものを使用しても良い。型を用いる場合では、
型の表面に離型剤などを塗布することも可能である。
Next, the first alignment treatment is performed.
The polymer film 11 on the motherboard 10 is opposed to the second motherboard 15 as shown in FIG. The second motherboard 15 can also be made of a known material similarly to the first motherboard 10 described above.
For example, glass substrate, aluminum substrate, stainless steel,
An iron, other metal substrate, a synthetic resin substrate, or the like can be used. On this second mother substrate 15, an ultraviolet curable resin layer 16 is formed. The UV-curable resin layer 16 is a resin layer formed by spin coating or another printing method, and is a wet uncured state before the second mother substrate 15 and the first mother substrate 10 are pressed. State or half-cured state. The ultraviolet curable resin layer 16 may be a single layer, but may be formed in advance, such as a primer film, in order to enhance the adhesion to the second mother substrate 15, or may be a composite layer with another layer. The ultraviolet curable resin layer 16 is formed on substantially the entire surface of the second mother substrate 15. Since the ultraviolet curable resin layer 16 is cured by receiving ultraviolet rays, at least one of the second mother substrate 15 and the first mother substrate 10 is preferably a transparent material such as a glass substrate. Note that, on the second mother substrate 15, an electron beam curable resin, another electromagnetic wave curable resin, or a layer that can function as another mold can be formed instead of the ultraviolet curable resin layer 16. Further, as the structure of the first mother substrate to be crimped to the second mother substrate 15, an aluminum substrate having a structure made of tungsten wire cloth may be used. When using a type,
It is also possible to apply a release agent or the like to the surface of the mold.

【0015】第2母基板15と第1母基板10を対峙さ
せたところで、図2の(d)に示すように、所要のプレ
ス装置によって両者を圧着させる。すると、紫外線硬化
型樹脂層16の表面は未硬化状態であることから、配向
処理が施されていた第1母基板10上の高分子膜11の
形状に沿って紫外線硬化型樹脂層16の表面が変形す
る。紫外線硬化型樹脂層16が略均一に第1母基板10
上の高分子膜11に圧着されたところで、透明基板側が
第1母基板10である場合はその第1母基板10を透過
して、或いは第2母基板15である場合はその第2母基
板15を透過して、紫外線が照射される。この紫外線の
照射は全面一括であっも良く、ライン若しくはスポット
を走査するようにして順次硬化させるものであっても良
い。紫外線の照射によって、第1母基板10上の高分子
膜11の形状に沿って紫外線硬化型樹脂層16の表面が
変形し、その結果、高分子膜11上の配向状態は紫外線
硬化型樹脂層16の表面に転写される。
When the second mother board 15 and the first mother board 10 face each other, as shown in FIG. 2D, they are pressed by a required press device. Then, since the surface of the ultraviolet-curable resin layer 16 is in an uncured state, the surface of the ultraviolet-curable resin layer 16 follows the shape of the polymer film 11 on the first mother substrate 10 on which the alignment treatment has been performed. Is deformed. The ultraviolet curable resin layer 16 is substantially uniformly formed on the first mother substrate 10.
When the transparent substrate side is the first mother substrate 10 when it is pressure-bonded to the upper polymer film 11, it passes through the first mother substrate 10, or when the transparent substrate side is the second mother substrate 15, the second mother substrate 15 and is irradiated with ultraviolet rays. The irradiation of the ultraviolet rays may be performed all at once, or may be performed by sequentially curing the lines or spots by scanning them. The surface of the ultraviolet-curable resin layer 16 is deformed along with the shape of the polymer film 11 on the first mother substrate 10 by the irradiation of the ultraviolet light, and as a result, the alignment state on the polymer film 11 is changed to the ultraviolet-curable resin layer. 16 is transferred to the surface.

【0016】第2母基板15上の紫外線硬化型樹脂層1
6の表面16aに配向状態を転写した後、図2の(e)
に示すように、第2母基板15を装置基板17に対峙さ
せる。ここで装置基板17は液晶表示装置の一対の基板
であり、例えばガラス基板などを用いることが可能であ
るが、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフ
タレートなどのエステル、ポリアミド、ポリカーボネー
ト、酢酸セルロースなどのセルロースエステル、ポリフ
ッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンーコヘキ
サフルオロプロピレンなどのフッ素ポリマー、ポリオキ
シメチレンなどのポリエーテル、ポリアセタール、ポリ
スチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペン
テンポリマーなどのポリオレフィン、及びポリイミドア
ミドやポリエーテルイミドなどのポリイミド、PMMA
などアクリルを例として挙げることができる。これら合
成樹脂を支持体として用いる場合には、容易に曲がらな
いような剛性基板状にすることも可能であるが、可とう
性を持ったフィルム状の構造体とすることも可能であ
る。
UV curable resin layer 1 on second mother substrate 15
After transferring the orientation state to the surface 16a of FIG. 6, (e) of FIG.
2, the second mother substrate 15 is opposed to the device substrate 17. Here, the device substrate 17 is a pair of substrates of a liquid crystal display device, and for example, a glass substrate or the like can be used, but polyethylene naphthalate, esters such as polyethylene terephthalate, polyamide, polycarbonate, cellulose esters such as cellulose acetate, and the like. Fluoropolymers such as polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene-cohexafluoropropylene, polyethers such as polyoxymethylene, polyacetals, polyolefins such as polystyrene, polyethylene, polypropylene and methylpentene polymers, and polyimideamides and polyetherimides Polyimide, PMMA
Acrylic can be mentioned as an example. When such a synthetic resin is used as a support, it can be formed into a rigid substrate shape that does not easily bend, but it can also be formed into a flexible film-like structure.

【0017】この装置基板17上には配向膜18が形成
されるが、この配向膜18は前述の紫外線硬化型樹脂層
16と同様の紫外線硬化型樹脂によって構成される。こ
の配向膜18はスピンコートやその他の印刷法で形成さ
れる樹脂層であり、第2母基板15に圧着される前に
は、未硬化状態であるウエットな状態若しくはハーフキ
ュアな状態とされる。配向膜18は単層でも良いが、装
置基板17との密着性を高めるためにプライマー膜など
予め形成していても良く、他の層との複合層であっても
良い。この配向膜18は装置基板17上の略全面に形成
され、紫外線を受けて硬化する。なお、装置基板17上
の配向膜18には、電子線硬化型樹脂やその他の電磁波
硬化型樹脂や、或いはその他の型として機能できる層を
形成することも可能である。なお、図示を省略している
が、配向膜18と装置基板17の間には、画素電極や配
線層などを形成することができ、装置基板17がアレイ
基板に対向する対向基板側である場合には共通電極を配
向膜18と装置基板17の間に配設することができる。
An alignment film 18 is formed on the device substrate 17, and the alignment film 18 is made of the same UV-curable resin as the UV-curable resin layer 16. The alignment film 18 is a resin layer formed by spin coating or another printing method, and is in an uncured wet state or a half-cured state before being pressed against the second mother substrate 15. . The alignment film 18 may be a single layer, but may be formed in advance, such as a primer film, in order to enhance the adhesion to the device substrate 17, or may be a composite layer with another layer. The alignment film 18 is formed on substantially the entire surface of the device substrate 17, and is cured by receiving ultraviolet rays. Note that the alignment film 18 on the device substrate 17 may be formed with an electron beam curable resin, another electromagnetic wave curable resin, or a layer that can function as another mold. Although not shown, a pixel electrode, a wiring layer, and the like can be formed between the alignment film 18 and the device substrate 17, and the device substrate 17 is on the counter substrate side facing the array substrate. A common electrode can be provided between the alignment film 18 and the device substrate 17.

【0018】第2母基板15を装置基板17に対峙させ
た後、第2母基板15と装置基板17を圧着させる。す
ると、第2母基板15の紫外線硬化型樹脂層16の表面
16aに転写されていた配向状態を装置基板17上の配
向膜18の表面に転写する。このプロセスは紫外線照射
によって進められることから、極めて短時間に完了させ
ることができ、且つ基板を高温することも回避できる。
図2の(f)は装置基板17上の配向膜18の表面18
aに所要に配向状態が転写された様子を示す図である。
After the second mother substrate 15 is opposed to the device substrate 17, the second mother substrate 15 and the device substrate 17 are pressed. Then, the alignment state transferred to the surface 16 a of the ultraviolet curing resin layer 16 of the second mother substrate 15 is transferred to the surface of the alignment film 18 on the device substrate 17. This process can be completed in an extremely short time since the process is performed by irradiation with ultraviolet rays, and the substrate can be prevented from being heated to a high temperature.
FIG. 2F shows the surface 18 of the alignment film 18 on the device substrate 17.
FIG. 6 is a diagram illustrating a state where an alignment state is transferred to a in a desired manner.

【0019】以上は薄膜トランジスタ素子などの画素制
御素子が形成されるアレイ基板側の装置基板の説明であ
るが、アレイ基板と対向する側の対向側装置基板にも同
様な第1母基板、第2母基板を用いて配向状態を転写す
ることができる。
The above is the description of the device substrate on the array substrate side on which the pixel control element such as a thin film transistor element is formed. The alignment state can be transferred using the mother substrate.

【0020】図3の(g)はそれぞれ配向状態が転写さ
れた配向膜23、18を対向させたところを示す図であ
り、本実施形態によって製造されるアクティブマトリク
ス型の液晶表示装置の構成も示す。対向側の構成は、対
向側装置基板21上に共通電極22が形成され、その上
に配向膜23が形成された構造を有する。一方アレイ基
板側の装置基板17上には配向膜18が形成され、画素
制御素子である薄膜トランジスタ素子19も転写されて
いる。この薄膜トランジスタ素子19は別の素子形成基
板上に形成されたトランジスタ素子を素子ごと所定の位
置に転写したものであり、薄膜トランジスタ素子19は
転写後に配向膜18の下部の図示しない画素電極にそれ
ぞれ接続される。なお、図示の薄膜トランジスタ素子1
9の構造は一例であり、ソース・ドレインと接続する配
線などは転写後に形成しても良い。
FIG. 3 (g) is a view showing that the alignment films 23 and 18 on which the alignment states are transferred are opposed to each other. The configuration of the active matrix type liquid crystal display device manufactured according to the present embodiment is also shown in FIG. Show. The configuration on the opposite side has a structure in which a common electrode 22 is formed on an opposite side device substrate 21 and an alignment film 23 is formed thereon. On the other hand, an alignment film 18 is formed on a device substrate 17 on the array substrate side, and a thin film transistor element 19 serving as a pixel control element is also transferred. The thin film transistor element 19 is obtained by transferring a transistor element formed on another element forming substrate to a predetermined position together with the element. The thin film transistor element 19 is connected to a pixel electrode (not shown) below the alignment film 18 after the transfer. You. Note that the illustrated thin film transistor element 1
The structure 9 is an example, and the wiring and the like connected to the source / drain may be formed after the transfer.

【0021】このように対向側装置基板21と装置基板
17を対向させたところで、液晶材料25を封入する。
この基板間の注入は真空注入や毛細管注入などの方法に
よって行うことができる。前述のように、配向膜23、
18の各表面には、第1母基板および第2母基板を介し
て配向状態が転写されていることから、確実な液晶表示
が実現される。特に、第2母基板から装置基板17、2
1の配向膜18、23への配向状態の転写の際には、紫
外線硬化型樹脂を利用した瞬時の処理が可能であり、た
とえばこれらの装置基板17、21を合成樹脂材料とし
た場合でも、熱の影響が少ないために装置基板17、2
1をそのまま液晶表示装置の一部として活用できる。換
言すれば、本実施形態を用いることで、液晶表示装置と
して使用できる基板の選択の幅が広がることになる。ま
た、最終的な配向状態の転写はラビング処理ではないこ
とから静電気などの問題を発生させず、さらに瞬時の面
同士の圧着から行われるために、その生産性は改善さ
れ、スループットを高くできる。
When the opposing device substrate 21 and the device substrate 17 face each other, the liquid crystal material 25 is sealed.
The injection between the substrates can be performed by a method such as vacuum injection or capillary injection. As described above, the alignment film 23,
Since the alignment state is transferred to each surface of the substrate 18 via the first motherboard and the second motherboard, a reliable liquid crystal display is realized. In particular, from the second mother board to the device boards 17, 2
In the transfer of the alignment state to the alignment films 18 and 23, instant processing using an ultraviolet curable resin is possible. For example, even when these device substrates 17 and 21 are made of a synthetic resin material, Since the influence of heat is small, the device substrates 17 and 2
1 can be used as a part of the liquid crystal display device as it is. In other words, by using this embodiment, the range of selection of a substrate that can be used as a liquid crystal display device is expanded. Further, since the final transfer of the alignment state is not a rubbing process, problems such as static electricity do not occur, and furthermore, since the transfer is instantaneously performed by pressing the surfaces together, the productivity is improved and the throughput can be increased.

【0022】図4は他の本実施形態を説明するための図
であり、(a)は水平方向に配向状態を異ならせた液晶
表示装置の例であり、(b)は矩形状のパターンで配向
状態を異ならせた液晶表示装置の例である。
FIGS. 4A and 4B are views for explaining another embodiment of the present invention. FIG. 4A shows an example of a liquid crystal display device in which the alignment state is changed in the horizontal direction, and FIG. 4B shows a rectangular pattern. This is an example of a liquid crystal display device having different alignment states.

【0023】図4の(a)に示す液晶表示装置40で
は、第1配向方向を有する領域41、第2配向方向を有
する領域42、第3配向方向を有する領域43、第2配
向方向を有する領域42、第1配向方向を有する領域4
1とが水平方向に順に並んだ構造となっており、それぞ
れ異なる配向処理を第2母基板上の高分子材料膜に作り
込み、一括して転写したものである。
The liquid crystal display device 40 shown in FIG. 4A has a region 41 having a first alignment direction, a region 42 having a second alignment direction, a region 43 having a third alignment direction, and a second alignment direction. Region 42, Region 4 having first alignment direction
1 are arranged in order in the horizontal direction, and different alignment treatments are made on the polymer material film on the second mother substrate, and are collectively transferred.

【0024】また、図4の(b)に示す液晶表示装置4
5では、第1配向方向を有する領域46、第2配向方向
を有する領域47、第3配向方向を有する領域48、第
4配向方向を有する領域49、第5配向方向を有する領
域50とが画面の外側から内側に順に並んだ構造となっ
ており、それぞれ異なる配向処理を第2母基板上の高分
子材料膜に作り込み、一括して転写したものである。
The liquid crystal display device 4 shown in FIG.
5, a region 46 having a first alignment direction, a region 47 having a second alignment direction, a region 48 having a third alignment direction, a region 49 having a fourth alignment direction, and a region 50 having a fifth alignment direction are displayed on the screen. Are arranged in order from the outer side to the inner side, and different alignment treatments are made on the polymer material film on the second mother substrate, and are collectively transferred.

【0025】このような部分的に配向状態の異なる液晶
表示装置を作成する場合であっても、型として機能する
第2母基板に異なる配向方向の領域を複数形成すれば、
最終的には一括して転写できる。従って、スループット
を高くしながら高品質の液晶表示装置を製造できること
になる。
Even when such a liquid crystal display device having a partially different alignment state is formed, if a plurality of regions having different alignment directions are formed on the second mother substrate functioning as a mold,
Eventually, it can be transferred collectively. Therefore, a high-quality liquid crystal display device can be manufactured while increasing the throughput.

【0026】なお、上述の実施形態においては、アクテ
ィブマトリクス型の液晶表示装置について主に説明した
が、単純マトリクス型の液晶表示装置とその製造方法に
ついても本実施形態は適用可能である。また、画素制御
素子は薄膜トランジスタ素子に限らずMIM素子や薄膜
ダイオードなどの素子を用いても良く、素子の形成は転
写に限らず、素子形成基板上に画素制御素子を形成し、
その上に形成された配向膜に本実施形態の液晶表示装置
の製造方法を適用することも可能である。
In the above embodiment, an active matrix type liquid crystal display device has been mainly described, but the present embodiment is also applicable to a simple matrix type liquid crystal display device and a method of manufacturing the same. Further, the pixel control element is not limited to the thin film transistor element, and may be an element such as an MIM element or a thin film diode. The formation of the element is not limited to transfer, and the pixel control element is formed on an element forming substrate.
It is also possible to apply the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present embodiment to an alignment film formed thereon.

【0027】[0027]

【発明の効果】上述のように、本発明の液晶表示装置と
液晶表示装置の製造方法によれば、第2母基板から装置
基板の配向膜への配向状態の転写の際には、紫外線硬化
型樹脂などを利用した瞬時の処理が可能であり、たとえ
ばこれらの装置基板を合成樹脂材料とした場合でも、熱
の影響が少ないために装置基板をそのまま液晶表示装置
の一部として活用でき、液晶表示装置として使用できる
基板の選択の幅が広がる。また、最終的な配向状態の転
写はラビング処理ではないことから静電気などの問題を
発生させず、さらに瞬時の面同士の圧着から配向状態の
転写が行われるために、その生産性は改善され、スルー
プットを高くできる。
As described above, according to the liquid crystal display device and the method of manufacturing the liquid crystal display device of the present invention, when the alignment state is transferred from the second mother substrate to the alignment film of the device substrate, ultraviolet curing is performed. Instant processing using mold resin is possible.For example, even if these device substrates are made of a synthetic resin material, the device substrate can be used as it is as a part of the liquid crystal display device because the influence of heat is small. The range of selection of a substrate that can be used as a display device is widened. In addition, since the final transfer of the alignment state is not a rubbing process, there is no problem such as static electricity, and since the transfer of the alignment state is performed from instantaneous pressure bonding of the surfaces, the productivity is improved, Throughput can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の液晶表示装置の製造方法の一実施形態
を示す工程断面図であり、(a)は高分子膜の形成工程
を示す工程断面図、(b)はラビングローラーによるラ
ビング処理を示す工程断面図、(c)は第1母基板を第
2母基板に対峙させたところの工程断面図である。
FIGS. 1A and 1B are process cross-sectional views illustrating an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, in which FIG. 1A is a process cross-sectional view illustrating a process of forming a polymer film, and FIG. (C) is a process sectional view in which the first mother substrate is opposed to the second mother substrate.

【図2】本発明の液晶表示装置の製造方法の一実施形態
を示す工程断面図であり、(d)は紫外線の照射による
配向状態の転写工程を示す工程断面図、(e)は第2母
基板を装置基板に対峙させたところの工程断面図、
(f)は第2母基板上の配向膜に配向状態を転写したと
ころの工程断面図である。
FIG. 2 is a process cross-sectional view showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, in which (d) is a process cross-sectional view showing a process of transferring an alignment state by irradiation with ultraviolet light, and (e) is a second process cross-sectional view. Cross-sectional view of the process where the mother board is opposed to the device board,
(F) is a process sectional view in which the alignment state is transferred to the alignment film on the second mother substrate.

【図3】本発明の液晶表示装置の製造方法の一実施形態
を示す工程断面図であり、(g)は対向側装置基板を装
置基板に対峙させたところの工程断面図、(h)は液晶
材料を封入したところの工程断面図である。
FIG. 3 is a process cross-sectional view showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, in which (g) is a process cross-sectional view in which the opposing device substrate is opposed to the device substrate; It is a process sectional view in which a liquid crystal material was sealed.

【図4】本発明の他の実施形態の液晶表示装置を説明す
るための図であって、(a)は水平方向に配向状態を異
ならせた液晶表示装置の各配向領域を示す模式図であ
り、(b)は矩形状のパターンで配向状態を異ならせた
液晶表示装置の各配向領域を示す模式図である。
FIG. 4 is a view for explaining a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention, wherein FIG. 4 (a) is a schematic view showing each alignment region of the liquid crystal display device having different alignment states in the horizontal direction. FIG. 4B is a schematic diagram showing each alignment region of the liquid crystal display device in which the alignment state is changed in a rectangular pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 第1母基板 11 高分子膜 13 ラビングローラー 15 第2母基板 16 紫外線硬化型樹脂 17 装置基板 18 配向膜 21 対向側装置基板 22 共通電極 23 配向膜 25 液晶材料 Reference Signs List 10 first mother substrate 11 polymer film 13 rubbing roller 15 second mother substrate 16 ultraviolet curable resin 17 device substrate 18 alignment film 21 facing device substrate 22 common electrode 23 alignment film 25 liquid crystal material

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 配向処理を施した高分子材料層を有する
第1母基板に第2母基板を圧着させて前記第1母基板上
の配向状態を前記第2母基板上に転写し、前記第2母基
板を装置基板に圧着させて前記第2母基板上の配向状態
を前記装置基板上に転写することを特徴とする液晶表示
装置の製造方法。
A first mother substrate having a polymer material layer subjected to an alignment treatment, a second mother substrate being pressed, and an alignment state on the first mother substrate is transferred onto the second mother substrate; A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein a second mother substrate is pressed against a device substrate to transfer an alignment state on the second mother substrate to the device substrate.
【請求項2】 前記装置基板上には硬化型樹脂が塗布さ
れ、前記第2母基板が前記装置基板に圧着された際に、
前記硬化型樹脂を硬化することで前記第2母基板上の配
向状態を前記装置基板上に転写することを特徴とする請
求項1記載の液晶表示装置の製造方法。
2. A curable resin is applied on the device substrate, and when the second mother substrate is pressed on the device substrate,
2. The method according to claim 1, wherein the alignment state on the second mother substrate is transferred onto the device substrate by curing the curable resin.
【請求項3】 前記硬化型樹脂は電磁波硬化型樹脂であ
ることを特徴とする請求項2記載の液晶表示装置の製造
方法。
3. The method according to claim 2, wherein the curable resin is an electromagnetic wave curable resin.
【請求項4】 前記第2基板上には硬化型樹脂が塗布さ
れ、前記第1母基板が前記第2基板に圧着された際に、
前記硬化型樹脂を硬化することで前記第1母基板上の配
向状態を前記第2基板上に転写することを特徴とする請
求項1記載の液晶表示装置の製造方法。
4. A curable resin is applied on the second substrate, and when the first mother substrate is pressed against the second substrate,
2. The method according to claim 1, wherein the alignment state on the first mother substrate is transferred onto the second substrate by curing the curable resin.
【請求項5】 前記硬化型樹脂は電磁波硬化型樹脂であ
ることを特徴とする請求項2記載の液晶表示装置の製造
方法。
5. The method according to claim 2, wherein the curable resin is an electromagnetic wave curable resin.
【請求項6】 前記第2母基板と前記第1母基板の間の
圧着および前記装置基板と前記第2母基板の間の圧着
は、それぞれ各基板の面同士の圧着であることを特徴と
する請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。
6. The pressure bonding between the second mother substrate and the first mother substrate and the pressure bonding between the device substrate and the second mother substrate are pressure bonding between surfaces of the respective substrates. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1.
【請求項7】 前記第1母基板の高分子材料層はラビン
グ処理によって前記配向処理が行われていることを特徴
とする請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。
7. The method according to claim 1, wherein the polymer material layer of the first mother substrate has been subjected to the alignment treatment by a rubbing treatment.
【請求項8】 前記装置基板は合成樹脂材料によって形
成されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置
の製造方法。
8. The method according to claim 1, wherein the device substrate is formed of a synthetic resin material.
【請求項9】 前記配向状態を前記装置基板上に転写し
た後で、画素制御素子が前記装置基板上に転写されるこ
とを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置の製造方
法。
9. The method according to claim 1, wherein a pixel control element is transferred onto the device substrate after transferring the alignment state onto the device substrate.
【請求項10】 部分的に異なる配向方向を含むように
配向処理を施した高分子材料層を有する第1母基板に第
2母基板を圧着させて前記第1母基板上の部分的に異な
る配向方向を含む配向状態を前記第2母基板上に転写
し、前記第2母基板を装置基板に圧着させて前記第2母
基板上の部分的に異なる配向方向を含む配向状態を前記
装置基板上に転写することを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。
10. A second motherboard is pressed against a first motherboard having a polymer material layer that has been subjected to an alignment treatment so as to include a partially different alignment direction, and the second motherboard is partially compressed on the first motherboard. The alignment state including the alignment direction is transferred onto the second mother substrate, and the second mother substrate is pressed against the device substrate to change the alignment state including the partially different alignment direction on the second mother substrate to the device substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device is transferred onto the liquid crystal display device.
【請求項11】 配向処理を施した高分子材料層を有す
る第1母基板に第2母基板を圧着させて前記第1母基板
上の配向状態を前記第2母基板上に転写し、前記第2母
基板を装置基板に圧着させて前記第2母基板上の配向状
態を前記装置基板上に転写した構造を有することを特徴
とする液晶表示装置。
11. A second mother substrate is pressed against a first mother substrate having a polymer material layer subjected to an alignment treatment, and an alignment state on the first mother substrate is transferred onto the second mother substrate. A liquid crystal display device having a structure in which a second mother substrate is pressed against a device substrate and an alignment state on the second mother substrate is transferred onto the device substrate.
【請求項12】 部分的に異なる配向方向を含むように
配向処理を施したことを特徴とする請求項11記載の液
晶表示装置。
12. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein an alignment process is performed so as to include a partially different alignment direction.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008241756A (en) * 2007-03-23 2008-10-09 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Liquid crystal display element and manufacturing method thereof

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