JP2002206166A - Sputtering target, light-shielding film, color filter and display element body - Google Patents
Sputtering target, light-shielding film, color filter and display element bodyInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶やプラズマデ
ィスプレイなどの表示素子体、それに用いられるカラー
フィルタ、それに用いられるブラックマトリックスとし
ての遮光膜、その遮光膜を成膜するスパッタリングター
ゲットに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display element such as a liquid crystal display or a plasma display, a color filter used therefor, a light-shielding film used as a black matrix, and a sputtering target for forming the light-shielding film.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、高画質で注目される液晶ディスプ
レイやプラズマディスプレイ等では、光源からの光を、
画素となる３原色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の色材を透過させるこ
とでカラー表示を行う部材として、カラーフィルタが用
いられている。このカラーフィルタの各画素の境界部分
には、コントラストの向上や色材の混色防止を目的とし
て、遮光性を有する黒色パターンであるブラックマトリ
ックスが形成されている。また、駆動回路部分など光の
透過を防止することが望ましい部分など、遮光膜として
必要とされる部分にも、ブラックマトリックスは用いら
れている。2. Description of the Related Art In recent years, in a liquid crystal display, a plasma display, and the like, which have attracted attention with high image quality, light from a light source is
A color filter is used as a member that performs color display by transmitting color materials of three primary colors (R, G, and B) to be pixels. At the boundary between the pixels of the color filter, a black matrix, which is a black pattern having a light-shielding property, is formed for the purpose of improving contrast and preventing color mixture of color materials. The black matrix is also used in a portion required as a light shielding film, such as a portion where it is desirable to prevent light transmission, such as a drive circuit portion.
【０００３】従来、ブラックマトリックスを形成する材
料としては、遮光性に優れ、３原色材料との密着性に優
れたＣｒまたはＣｒを主成分とする金属材料が用いられ
ている。中でも酸化ＣｒとＣｒ金属膜を２層以上積層し
たものがよく知られており、利用されている。また、Ｃ
ｒ膜よりコストが低く、かつ製作が容易なカーボンブラ
ック等を分散させた感光樹脂膜も一般に使用されてい
る。Conventionally, as a material for forming a black matrix, Cr or a metal material containing Cr as a main component, which is excellent in light-shielding properties and excellent in adhesion to three primary color materials, has been used. Among them, those obtained by laminating two or more layers of Cr oxide and a Cr metal film are well known and used. Also, C
A photosensitive resin film in which carbon black or the like is dispersed at a lower cost than the r film and is easy to produce is also generally used.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、ブラックマ
トリックスとして最も重要なのは光学特性であり、ブラ
ックマトリックスを光が透過すると色調がはっきりしな
くなるので、光源（バックライト）からの必要のない光
を十分に遮蔽することが要求される。By the way, optical characteristics are most important as a black matrix. When light passes through the black matrix, the color tone becomes indistinct, so that unnecessary light from a light source (backlight) can be sufficiently removed. Shielding is required.
【０００５】しかし、従来のブラックマトリックスはＣ
ｒまたはＣｒを主成分とする金属及び酸化物の薄膜を用
いると、エッチング加工によりＣｒをパターニングする
際、有害物質である６価クロム（Ｃｒ6+）が発生するた
め、環境上好ましくなく、その処理の面での対応が必要
になるという問題がある。However, the conventional black matrix is C
When a thin film of a metal or oxide containing r or Cr as a main component is used, hexavalent chromium (Cr 6+ ), which is a harmful substance, is generated when patterning Cr by etching. There is a problem that it is necessary to deal with the processing.
【０００６】一方、カーボンブラックを使用する場合に
は、Ｃｒ膜に比べて遮光性が劣る。このため、ブラック
マトリックスに必要な３．５以上の光学濃度を得るに
は、金属Ｃｒ膜であれば２００ｎｍ程度の膜厚で得られ
るのに比べて、カーボンブラックでは約１０００ｎｍ程
度という約５倍の膜厚が必要になる。従って、カーボン
ブラックを用いる場合は膜厚を厚くすることになるの
で、着色画素とのオーバーラップ部分の段差が大きくな
ってしまう。その結果、この上に設けられるＩＴＯ（In
dium Tin Oxide）膜などの透明導電膜が断線したり、配
向膜表面が平坦でないために配向欠陥が生じることがあ
る。また、塗膜性能に劣り、パターン精度が悪く解像度
が劣化するという問題もある。On the other hand, when carbon black is used, the light-shielding property is inferior to that of a Cr film. For this reason, in order to obtain an optical density of 3.5 or more necessary for a black matrix, a metal Cr film having a film thickness of about 200 nm is about five times that of carbon black, which is about 1000 nm. A film thickness is required. Therefore, when carbon black is used, the film thickness is increased, so that the step in the overlapping portion with the colored pixel becomes large. As a result, the ITO (In
A transparent conductive film such as a dium tin oxide film may be disconnected, or an alignment defect may occur due to an uneven surface of the alignment film. Further, there is a problem that the coating film performance is inferior, the pattern accuracy is poor, and the resolution is deteriorated.
【０００７】本発明は、このような従来の技術に存在す
る問題点に着目してなされたものであり、その目的は、
製造時に有毒性物質が発生することなく、優れた遮光性
を有し且つ反射率の低い遮光膜、それを製造するための
スパッタリングターゲット、遮光膜を用いたカラーフィ
ルタ及び表示素子体を提供することにある。[0007] The present invention has been made in view of the problems existing in such prior art, and its object is to
To provide a light-shielding film having excellent light-shielding properties and low reflectance without producing toxic substances during manufacturing, a sputtering target for manufacturing the same, a color filter using the light-shielding film, and a display element body. It is in.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係るスパッタリングターゲットは、遮光膜
を製造するためのスパッタリングターゲットであって、
Ｃｕを主成分とし、Ａｇを１０重量％以上４５重量％以
下含有する少なくとも２元素からなることを特徴とす
る。In order to solve the above problems, a sputtering target according to the present invention is a sputtering target for producing a light shielding film,
It is characterized by being composed of at least two elements containing Cu as a main component and containing 10% by weight or more and 45% by weight or less of Ag.
【０００９】本発明に係るスパッタリングターゲット
は、遮光膜を製造するためのスパッタリングターゲット
であって、Ｃｕを主成分とし、Ａｇを２５重量％以上４
０重量％以下含有する少なくとも２元素からなることを
特徴とする。A sputtering target according to the present invention is a sputtering target for producing a light-shielding film, which contains Cu as a main component and contains 25% by weight or more of Ag.
It is characterized by being composed of at least two elements containing 0% by weight or less.
【００１０】本発明に係るスパッタリングターゲット
は、遮光膜を製造するためのスパッタリングターゲット
であって、Ｃｕを主成分とし、Ａｇを１０重量％以上４
５重量％以下含有し、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、
Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｎｉからなる群から選ばれた少なくと
も１種類の元素を０．１重量％以上５重量％以下含有す
る材料からなることを特徴とする。A sputtering target according to the present invention is a sputtering target for producing a light-shielding film, which contains Cu as a main component and contains at least 10% by weight of Ag.
5% by weight or less, In, Ti, Zr, Sn, Zn,
It is characterized by comprising a material containing at least one element selected from the group consisting of Ta, W, Mo, and Ni in an amount of 0.1% by weight or more and 5% by weight or less.
【００１１】本発明に係るスパッタリングターゲット
は、遮光膜を製造するためのスパッタリングターゲット
であって、Ｃｕを主成分とし、Ａｇを２５重量％以上４
０重量％以下含有し、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、
Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｎｉからなる群から選ばれた少なくと
も１種類の元素を０．１重量％以上５重量％以下含有す
る材料からなることを特徴とする。A sputtering target according to the present invention is a sputtering target for producing a light-shielding film, which contains Cu as a main component and contains 25% by weight or more of Ag.
0% by weight or less, In, Ti, Zr, Sn, Zn,
It is characterized by comprising a material containing at least one element selected from the group consisting of Ta, W, Mo, and Ni in an amount of 0.1% by weight or more and 5% by weight or less.
【００１２】本発明に係る遮光膜は、カラーフィルタ用
のブラックマトリックスとしての遮光膜であって、Ｃｕ
の酸化物を主成分とし、Ａｇの酸化物を１５重量％以上
６０重量％以下含有する少なくとも２つの酸化物からな
ることを特徴とする。The light-shielding film according to the present invention is a light-shielding film as a black matrix for a color filter,
And at least two oxides containing 15% by weight or more and 60% by weight or less of an Ag oxide.
【００１３】本発明に係る遮光膜は、カラーフィルタ用
のブラックマトリックスとしての遮光膜であって、Ｃｕ
の酸化物を主成分とし、Ａｇの酸化物を３５重量％以上
５０重量％以下含有する少なくとも２つの酸化物からな
ることを特徴とする。The light-shielding film according to the present invention is a light-shielding film as a black matrix for a color filter,
And at least two oxides containing 35% by weight or more and 50% by weight or less of an Ag oxide.
【００１４】本発明に係る遮光膜は、カラーフィルタ用
のブラックマトリックスとしての遮光膜であって、Ｃｕ
の酸化物を主成分とし、Ａｇの酸化物を１５重量％以上
６０重量％以下添加し、このＣｕの酸化物とＡｇの酸化
物の複合酸化物に、Ｉｎの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒ
の酸化物、Ｓｎの酸化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化
物、Ｗの酸化物、Ｍｏの酸化物、Ｎｉの酸化物からなる
群から選ばれた少なくとも１種類の酸化物を０．１重量
％以上５重量％以下添加した材料からなることを特徴と
する。The light shielding film according to the present invention is a light shielding film as a black matrix for a color filter,
15% by weight or more and 60% by weight or less of an oxide of Ag, and an oxide of In and an oxide of Ti are added to the composite oxide of the Cu oxide and the Ag oxide. Zr
Oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide, Ni oxide at least one oxide selected from the group consisting of It is characterized by comprising a material added in an amount of not less than 5% by weight and not more than 5% by weight.
【００１５】本発明に係る遮光膜は、カラーフィルタ用
のブラックマトリックスとしての遮光膜であって、Ｃｕ
の酸化物を主成分とし、Ａｇの酸化物を３５重量％以上
５０重量％以下添加し、このＣｕの酸化物とＡｇの酸化
物の複合酸化物に、Ｉｎの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒ
の酸化物、Ｓｎの酸化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化
物、Ｗの酸化物、Ｍｏの酸化物、Ｎｉの酸化物からなる
群から選ばれた少なくとも１種類の酸化物を０．１重量
％以上５重量％以下添加した材料からなることを特徴と
する。The light-shielding film according to the present invention is a light-shielding film as a black matrix for a color filter.
The oxide of Ag is added as a main component, and the oxide of Ag is added in an amount of 35% by weight or more and 50% by weight or less, and the oxide of In and the oxide of Ti are added to the composite oxide of the oxide of Cu and the oxide of Ag. Zr
Oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide, Ni oxide at least one oxide selected from the group consisting of It is characterized by comprising a material added in an amount of not less than 5% by weight and not more than 5% by weight.
【００１６】上記遮光膜によれば、製造に際して有害物
質を発生することなく、かつ、コストアップを伴うこと
なく、低反射、遮光性等の光学特性や、コントラストや
高画質化にも有用な高電気抵抗であり、かつ生産効率の
高いブラックマトリックスとしての遮光膜を得ることが
できる。According to the above-mentioned light-shielding film, optical characteristics such as low reflection and light-shielding properties, high contrast and high image quality which are useful for high image quality can be produced without producing harmful substances during production and without increasing the cost. It is possible to obtain a light-shielding film as a black matrix which has electric resistance and high production efficiency.
【００１７】また、本発明に係る遮光膜においては、光
学波長領域が４００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の可視光領
域における反射率が１５％以下であることが好ましい。In the light-shielding film according to the present invention, it is preferable that the reflectance in a visible light region having an optical wavelength region of 400 nm or more and 800 nm or less is 15% or less.
【００１８】また、本発明に係る遮光膜においては、表
面抵抗値が１０3Ω／ｃｍ2以上であることが好ましい。Further, the light-shielding film according to the present invention preferably has a surface resistance value of 10 3 Ω / cm 2 or more.
【００１９】また、本発明に係る遮光膜においては、単
層で構成されることも可能である。Further, the light-shielding film according to the present invention may be constituted by a single layer.
【００２０】また、本発明に係る遮光膜においては、上
述した遮光膜に、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｚｎ、Ｗ、Ｍｏからなる群から選ばれた遮光膜を積
層して構成されることも可能である。In the light-shielding film according to the present invention, Al, Ni, Ta, Sn, Ti, Z
It is also possible to laminate a light shielding film selected from the group consisting of r, Zn, W, and Mo.
【００２１】本発明に係るカラーフィルタは、遮光性を
有するブラックマトリックスを備えたカラーフィルタで
あって、上記ブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物を
主成分とし、Ａｇの酸化物を１５重量％以上６０重量％
以下含有する少なくとも２種類の酸化物からなることを
特徴とする。The color filter according to the present invention is a color filter provided with a black matrix having a light-shielding property. The black matrix contains a Cu oxide as a main component and an Ag oxide in an amount of 15% by weight to 60% by weight. weight%
It is characterized by comprising at least two kinds of oxides contained below.
【００２２】本発明に係るカラーフィルタは、遮光性を
有するブラックマトリックスを備えたカラーフィルタで
あって、上記ブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物を
主成分とし、Ａｇの酸化物を３５重量％以上５０重量％
以下含有する少なくとも２種類の酸化物からなることを
特徴とする。The color filter according to the present invention is a color filter provided with a black matrix having a light-shielding property. The black matrix contains a Cu oxide as a main component and an Ag oxide in an amount of 35% by weight or more. weight%
It is characterized by comprising at least two kinds of oxides contained below.
【００２３】本発明に係るカラーフィルタは、遮光性を
有するブラックマトリックスを備えたカラーフィルタで
あって、上記ブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物に
Ａｇの酸化物を１５重量％以上６０重量％以下添加し、
このＣｕの酸化物とＡｇの酸化物の複合酸化物に、Ｉｎ
の酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸化
物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏの
酸化物、Ｎｉの酸化物からなる群から選ばれた少なくと
も１種類の酸化物を０．１重量％以上５重量％以下添加
した材料からなることを特徴とする。The color filter according to the present invention is a color filter provided with a black matrix having a light-shielding property, wherein the black matrix contains 15% by weight or more and 60% by weight or less of an oxide of Ag added to a Cu oxide. And
In the composite oxide of the Cu oxide and the Ag oxide, In
Oxide, Ti oxide, Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide, and Ni oxide. It is characterized by being made of a material to which at least one oxide is added in an amount of 0.1% by weight or more and 5% by weight or less.
【００２４】本発明に係るカラーフィルタは、遮光性を
有するブラックマトリックスを備えたカラーフィルタで
あって、上記ブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物に
Ａｇの酸化物を３５重量％以上５０重量％以下添加し、
このＣｕの酸化物とＡｇの酸化物の複合酸化物に、Ｉｎ
の酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸化
物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏの
酸化物、Ｎｉの酸化物からなる群から選ばれた少なくと
も１種類の酸化物を０．１重量％以上５重量％以下添加
した材料からなることを特徴とする。The color filter according to the present invention is a color filter provided with a black matrix having a light-shielding property, wherein the black matrix is prepared by adding an oxide of Ag to Cu oxide in an amount of 35% by weight or more and 50% by weight or less. And
In the composite oxide of the Cu oxide and the Ag oxide, In
Oxide, Ti oxide, Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide, and Ni oxide. It is characterized by being made of a material to which at least one oxide is added in an amount of 0.1% by weight or more and 5% by weight or less.
【００２５】本発明に係る表示素子体は、カラーフィル
タを用いて構成される表示素子体であって、上記カラー
フィルタは遮光性を有するブラックマトリックスを備え
ており、このブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物を
主成分とし、Ａｇの酸化物を１５重量％以上６０重量％
以下含有する少なくとも２つの酸化物からなるものであ
ることを特徴とする。The display element body according to the present invention is a display element body using a color filter. The color filter has a black matrix having a light-shielding property. 15% by weight or more and 60% by weight of Ag oxide
It is characterized by comprising at least two oxides contained below.
【００２６】本発明に係る表示素子体は、カラーフィル
タを用いて構成される表示素子体であって、上記カラー
フィルタは遮光性を有するブラックマトリックスを備え
ており、このブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物を
主成分とし、Ａｇの酸化物を３５重量％以上５０重量％
以下含有する少なくとも２つの酸化物からなるものであ
ることを特徴とする。The display element body according to the present invention is a display element body using a color filter, wherein the color filter has a black matrix having a light-shielding property. Material as a main component, and 35% by weight or more and 50% by weight of an oxide of Ag
It is characterized by comprising at least two oxides contained below.
【００２７】本発明に係る表示素子体は、カラーフィル
タを用いて構成される表示素子体であって、上記カラー
フィルタは遮光性を有するブラックマトリックスを備え
ており、このブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物に
Ａｇの酸化物を１５重量％以上６０重量％以下添加し、
このＣｕの酸化物とＡｇの酸化物の複合酸化物に、Ｉｎ
の酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸化
物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏの
酸化物、Ｎｉの酸化物からからなる群から選ばれた少な
くとも１種類の酸化物を０．１重量％以上５重量％以下
添加した材料からなることを特徴とする。The display element body according to the present invention is a display element body using a color filter. The color filter has a black matrix having a light-shielding property. 15% by weight or more and 60% by weight or less of an oxide of Ag
In the composite oxide of the Cu oxide and the Ag oxide, In
Oxide, Ti oxide, Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide, Ni oxide. It is also characterized by being made of a material to which at least one kind of oxide is added in an amount of 0.1% by weight to 5% by weight.
【００２８】本発明に係る表示素子体は、カラーフィル
タを用いて構成される表示素子体であって、上記カラー
フィルタは遮光性を有するブラックマトリックスを備え
ており、このブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物に
Ａｇの酸化物を３５重量％以上５０重量％以下添加し、
このＣｕの酸化物とＡｇの酸化物の複合酸化物に、Ｉｎ
の酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸化
物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏの
酸化物、Ｎｉの酸化物からなる群から選ばれた少なくと
も１種類の酸化物を０．１重量％以上５重量％以下添加
した材料からなることを特徴とする。The display element body according to the present invention is a display element body using a color filter, and the color filter has a black matrix having a light-shielding property. Ag oxide is added to the material in an amount of 35% by weight or more and 50% by weight or less,
In the composite oxide of the Cu oxide and the Ag oxide, In
Oxide, Ti oxide, Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide, and Ni oxide. It is characterized by being made of a material to which at least one oxide is added in an amount of 0.1% by weight or more and 5% by weight or less.
【００２９】本発明に係るスパッタリングターゲット
は、遮光膜を製造するためのスパッタリングターゲット
であって、Ｃｕを主成分とし、Ｉｎを０．１重量％以上
３５重量％以下含有する少なくとも２元素からなること
を特徴とする。The sputtering target according to the present invention is a sputtering target for producing a light-shielding film, and is composed of at least two elements containing Cu as a main component and containing 0.1 to 35% by weight of In. It is characterized by.
【００３０】本発明に係るスパッタリングターゲット
は、遮光膜を製造するためのスパッタリングターゲット
であって、Ｃｕを主成分とし、Ｉｎを０．１重量％以上
３５重量％以下含有し、Ａｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｚ
ｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｓｂからなる群から
選ばれた少なくとも１種類の元素を０．１重量％以上２
５重量％以下含有する材料からなることを特徴とする。The sputtering target according to the present invention is a sputtering target for producing a light-shielding film, which contains Cu as a main component, contains 0.1 to 35% by weight of In, and contains Ag, Ti, and Zr. , Sn, Z
0.1% by weight or more of at least one element selected from the group consisting of n, Ta, W, Mo, Cr, Ni, and Sb
It is made of a material containing 5% by weight or less.
【００３１】本発明に係る遮光膜は、カラーフィルタ用
のブラックマトリックスとしての遮光膜であって、Ｃｕ
の酸化物を主成分とし、Ｉｎの酸化物を０．１重量％以
上３５重量％以下含有する少なくとも２つの酸化物から
なることを特徴とする。The light-shielding film according to the present invention is a light-shielding film as a black matrix for a color filter,
And at least two oxides containing 0.1 to 35% by weight of an In oxide.
【００３２】本発明に係る遮光膜は、カラーフィルタ用
のブラックマトリックスとしての遮光膜であって、Ｃｕ
の酸化物にＩｎの酸化物を０．１重量％以上３５重量％
以下添加し、このＣｕの酸化物とＩｎの酸化物の複合酸
化物に、Ａｇの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、
Ｓｎの酸化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化
物、Ｍｏの酸化物、Ｃｒの酸化物、Ｎｉの酸化物、Ｓｂ
の酸化物からなる群から選ばれた少なくとも１種類の酸
化物を０．１重量％以上２５重量％以下添加した材料か
らなることを特徴とする。The light-shielding film according to the present invention is a light-shielding film as a black matrix for a color filter,
0.1% by weight or more and 35% by weight of an oxide of In
The following oxides are added to the composite oxide of the Cu oxide and the In oxide to add an oxide of Ag, an oxide of Ti, an oxide of Zr,
Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide, Cr oxide, Ni oxide, Sb
Wherein at least one oxide selected from the group consisting of oxides is added in an amount of 0.1% by weight or more and 25% by weight or less.
【００３３】上記遮光膜によれば、製造に際して有害物
質を発生することなく、かつ、コストアップを伴うこと
なく、低反射、遮光性等の光学特性や、コントラストや
高画質化にも有用な高電気抵抗であり、かつ生産効率の
高いブラックマトリックスとしての遮光膜を得ることが
できる。According to the above light-shielding film, optical characteristics such as low reflection and light-shielding properties, high contrast and high image quality which are useful for high image quality can be produced without producing harmful substances during production and without increasing the cost. It is possible to obtain a light-shielding film as a black matrix which has electric resistance and high production efficiency.
【００３４】また、本発明に係る遮光膜においては、光
学波長領域が400ｎｍ以上800ｎｍ以下の可視光領域にお
ける反射率が１５％以下であることが好ましい。In the light-shielding film according to the present invention, the reflectance in the visible light region having an optical wavelength region of 400 nm or more and 800 nm or less is preferably 15% or less.
【００３５】また、本発明に係る遮光膜においては、電
気抵抗が１０3Ωｃｍ2以上であることが好ましい。In the light-shielding film according to the present invention, it is preferable that the electric resistance is not less than 10 3 Ωcm 2 .
【００３６】また、本発明に係る遮光膜においては、単
層で形成されることも可能である。Further, the light-shielding film according to the present invention can be formed as a single layer.
【００３７】また、本発明に係る遮光膜においては、上
述した遮光膜に、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｚｎ、Ｗ、Ｍｏからなる群から選ばれた遮光膜を積
層して構成されることも可能である。In the light-shielding film according to the present invention, Al, Ni, Ta, Sn, Ti, Z
It is also possible to laminate a light shielding film selected from the group consisting of r, Zn, W, and Mo.
【００３８】本発明に係るカラーフィルタは、遮光性を
有するブラックマトリックスを備えたカラーフィルタで
あって、上記ブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物を
主成分とし、Ｉｎの酸化物を０．１重量％以上３５重量
％以下含有する少なくとも２の酸化物からなることを特
徴とする。The color filter according to the present invention is a color filter provided with a black matrix having a light-shielding property, wherein the black matrix contains Cu oxide as a main component and In oxide at 0.1% by weight. It is characterized by comprising at least two oxides containing at least 35% by weight or less.
【００３９】本発明に係るカラーフィルタは、遮光性を
有するブラックマトリックスを備えたカラーフィルタで
あって、上記ブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物に
Ｉｎの酸化物を０．１重量％以上３５重量％以下添加
し、このＣｕの酸化物とＩｎの酸化物の複合酸化物に、
Ａｇの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸
化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏ
の酸化物、Ｃｒの酸化物、Ｎｉの酸化物、Ｓｂの酸化物
からなる群から選ばれた少なくとも１種類の酸化物を
０．１重量％以上２５重量％以下添加した材料からなる
ことを特徴とする。The color filter according to the present invention is a color filter having a black matrix having a light-shielding property, wherein the black matrix contains 0.1% by weight or more and 35% by weight of In oxide in Cu oxide. The following is added to the composite oxide of the oxide of Cu and the oxide of In,
Ag oxide, Ti oxide, Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo
, Cr oxide, Ni oxide, Sb oxide, at least one oxide selected from the group consisting of 0.1 wt% and 25 wt%. And
【００４０】本発明に係る表示素子体は、カラーフィル
タを用いて構成される表示素子体であって、上記カラー
フィルタは遮光性を有するブラックマトリックスを備え
ており、このブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物を
主成分とし、Ｉｎの酸化物を０．１重量％以上３５重量
％以下含有する少なくとも２つの酸化物からなるもので
あることを特徴とする。The display element body according to the present invention is a display element body using a color filter. The color filter has a black matrix having a light-shielding property. And at least two oxides containing 0.1% to 35% by weight of an In oxide.
【００４１】本発明に係る表示素子体は、カラーフィル
タを用いて構成される表示素子体であって、上記カラー
フィルタは遮光性を有するブラックマトリックスを備え
ており、このブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物に
Ｉｎの酸化物を０．１重量％以上３５重量％以下添加
し、このＣｕの酸化物とＩｎの酸化物の複合酸化物に、
Ａｇの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸
化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏ
の酸化物、Ｃｒの酸化物、Ｎｉの酸化物、Ｓｂの酸化物
からなる群から選ばれた少なくとも１種類の酸化物を
０．１重量％以上２５重量％以下添加した材料からなる
ことを特徴とする。The display element body according to the present invention is a display element body using a color filter. The color filter has a black matrix having a light-shielding property. The oxide of In is added in an amount of 0.1% by weight or more and 35% by weight or less to the material.
Ag oxide, Ti oxide, Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo
, Cr oxide, Ni oxide, Sb oxide, at least one oxide selected from the group consisting of 0.1 wt% and 25 wt%. And
【００４２】[0042]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１は、本発明の実施の形
態によるカラーフィルタ用のブラックマトリックスを備
えた表示素子体の一例としての反射型ＴＦＴカラー液晶
ディスプレイを示す断面図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a reflective TFT color liquid crystal display as an example of a display element body having a black matrix for a color filter according to an embodiment of the present invention.
【００４３】ブラックマトリックスは、液晶表示パネ
ル、有機ＥＬ（Electro Luminescence）パネル、プラズ
マディスプレイ、各種半導体デバイス、プリント配線基
板、チップコンデンサ、リレー等に適用されるものであ
る。The black matrix is applied to liquid crystal display panels, organic EL (Electro Luminescence) panels, plasma displays, various semiconductor devices, printed wiring boards, chip capacitors, relays, and the like.
【００４４】偏光板１の片面にガラス基板Ａ２を配置す
る。その後、スパッタリングターゲットを用いたスパッ
タリング法により、このガラス基板Ａ２の表面にアルゴ
ン等の希ガス、酸素ガス、場合によっては窒素等の不活
性ガスを含めた酸化雰囲気中で例えば厚さ１５０〜５０
０ｎｍ程度（好ましくは３００ｎｍ程度）の単層膜の酸
化膜からなるブラックマトリックス３を成膜する。次
に、このブラックマトリックス３をエッチングにより格
子状にパターニングする。ブラックマトリックス３は、
Ｃｕの酸化物にＡｇの酸化物及びＩｎの酸化物を添加し
た材料により形成される。A glass substrate A2 is arranged on one side of the polarizing plate 1. Thereafter, by a sputtering method using a sputtering target, the thickness of the glass substrate A2 is set to, for example, 150 to 50 in an oxidizing atmosphere containing a rare gas such as argon, an oxygen gas, and in some cases, an inert gas such as nitrogen.
A black matrix 3 made of a single-layer oxide film of about 0 nm (preferably about 300 nm) is formed. Next, the black matrix 3 is patterned into a lattice by etching. Black matrix 3
It is formed of a material in which an Ag oxide and an In oxide are added to a Cu oxide.
【００４５】この後、格子状のブラックマトリックス３
に仕切られた各微小部分に色材を塗布することによりカ
ラーフィルタ４が形成される。次に、カラーフィルタ４
の表面にはＩＴＯ透明電極５を形成する。Thereafter, the lattice-shaped black matrix 3
The color filter 4 is formed by applying a coloring material to each of the minute portions partitioned by the color filter. Next, the color filter 4
Is formed with an ITO transparent electrode 5.
【００４６】一方、ガラス基板Ｂ１２の片面にはソース
電極９、ドレイン電極１０及びゲート電極１１からなる
ＴＦＴ（Thin Film Transistor）を形成する。次に、こ
のＴＦＴの表面にアクリル樹脂８を付け、その表面を波
状に形成し、そのアクリル樹脂８上に反射板を兼ねた反
射電極７を配置する。この反射電極７はドレイン電極１
０に電気的に接続される。On the other hand, a TFT (Thin Film Transistor) comprising a source electrode 9, a drain electrode 10 and a gate electrode 11 is formed on one surface of the glass substrate B12. Next, an acrylic resin 8 is attached to the surface of the TFT, the surface is formed in a wavy shape, and the reflective electrode 7 serving also as a reflector is disposed on the acrylic resin 8. This reflection electrode 7 is a drain electrode 1
0 is electrically connected.
【００４７】次いで、ガラス基板Ａ２とガラス基板Ｂ１
２とを、ＩＴＯ透明電極５と反射電極７とが対向するよ
うに貼り合わせ、その隙間にコレステリック・ネマティ
ック相転位型ゲスト・ホスト型液晶６を流し込む。この
ようにして反射型ＴＦＴカラー液晶ディスプレイが形成
される。Next, the glass substrate A2 and the glass substrate B1
2 are bonded so that the ITO transparent electrode 5 and the reflective electrode 7 face each other, and the cholesteric nematic phase transition type guest-host type liquid crystal 6 is poured into the gap. Thus, a reflective TFT color liquid crystal display is formed.
【００４８】この反射型ＴＦＴカラー液晶ディスプレイ
では、ディスプレイ外部から入射した光が反射電極７で
反射され、カラーフィルタ４を透過することによりディ
スプレイ表示可能となる。電圧によって液晶６の配位が
変わることにより、表示、非表示を決定する。こうして
表示、非表示のコントロールすることで、ディスプレイ
上に画像が表現される。In this reflection type TFT color liquid crystal display, light incident from the outside of the display is reflected by the reflection electrode 7 and transmitted through the color filter 4 to enable display display. Display and non-display are determined by changing the configuration of the liquid crystal 6 according to the voltage. By controlling display and non-display in this way, an image is expressed on the display.
【００４９】上記実施の形態によれば、Ｃｕの酸化物を
主成分としてＡｇの酸化物を含有し、更にＩｎの酸化物
を含有した材料によりブラックマトリックス３を形成し
ている。このため、１５０〜３００ｎｍという薄い膜厚
でブラックマトリックスに必要な光学濃度を得ることが
できる。従って、前記プラックマトリックス３の上に設
けられるＩＴＯ膜等の透明導電膜の断線を防止でき、ラ
ビング後の配向膜に生じる配向欠陥を抑制できる。According to the above embodiment, the black matrix 3 is formed of a material containing Cu oxide as a main component, Ag oxide, and further containing In oxide. Therefore, an optical density required for the black matrix can be obtained with a thin film thickness of 150 to 300 nm. Accordingly, disconnection of a transparent conductive film such as an ITO film provided on the plaque matrix 3 can be prevented, and alignment defects generated in the alignment film after rubbing can be suppressed.
【００５０】また、上記ブラックマトリックス３は、従
来の金属Ｃｒと酸化Ｃｒあるいは窒化Ｃｒの積層により
構成されるブラックマトリックスと比べて、密着力、光
学特性、耐候性の其々に対して遜色ないものである。ま
た、酸化Ｃｒの紫色の反射色と比べて、ブラックマトリ
ックス３はＡｇを含有するので、黒色化して遮光性を向
上できる。従って、カラー液晶表示のコントラストを向
上でき、表示品位の高いカラー液晶表示装置を形成する
ことができる。The black matrix 3 is not inferior to the conventional black matrix formed by laminating metallic Cr and Cr oxide or Cr nitride in terms of adhesion, optical characteristics and weather resistance. It is. Further, since the black matrix 3 contains Ag as compared with the violet reflection color of Cr oxide, it can be blackened and the light-shielding property can be improved. Therefore, the contrast of the color liquid crystal display can be improved, and a color liquid crystal display device with high display quality can be formed.
【００５１】また、本実施の形態では、金属Ｃｒや酸化
Ｃｒの課題であるフォトリソグラフィー工程におけるエ
ッチングの際に発生していた有害物質である６価クロム
が生じることがない。従って、ブラックマトリックス３
は環境に良い材料によって形成されている。In this embodiment, hexavalent chromium, which is a harmful substance generated during etching in the photolithography process, which is a problem of metal Cr and Cr oxide, does not occur. Therefore, black matrix 3
Is made of environmentally friendly materials.
【００５２】また、上述したようにブラックマトリック
ス３は、後述する金属のスパッタリングターゲットを用
いて酸素雰囲気中でスパッタリングして酸化膜を形成す
るが、スパッタレートがＣｒ酸化物と比して5倍程度高
く、更には単膜で遮光膜を構成する為に、膜の形成が短
時間で済み、生産性に優れ、生産コストの低減および材
料コストの低減が可能になる。As described above, the black matrix 3 is sputtered in an oxygen atmosphere using a metal sputtering target described later to form an oxide film. The sputter rate is about five times that of the Cr oxide. Since the light-shielding film is composed of a single high film, the formation of the film is completed in a short time, the productivity is excellent, and the production cost and the material cost can be reduced.
【００５３】また、上述したブラックマトリックス３
を、後述する金属のスパッタリングターゲットを用いて
酸素雰囲気中でスパッタリングして酸化膜を３０ｎｍ〜
１００ｎｍ形成し、さらに、遮光膜として、酸素添加
量、窒素添加量を変化させたブラックマトリックス３ま
たは、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｚｎ、
Ｗ、Ｍｏからなる群から選ばれた1種類を１００ｎｍ〜
２００ｎｍ積層させると、さらに低反射率を有したもの
となる。The above-described black matrix 3
Is sputtered in an oxygen atmosphere using a metal sputtering target described below to form an oxide film having a thickness of 30 nm or more.
A black matrix 3 having a thickness of 100 nm and a light-shielding film in which the amount of added oxygen and the amount of added nitrogen are changed, or Al, Ni, Ta, Sn, Ti, Zr, Zn,
One type selected from the group consisting of W and Mo
Stacking 200 nm results in a further lower reflectance.
【００５４】以上説明したように上記実施の形態では、
低反射率で、かつ遮光性に優れたブラックマトリックス
３を形成でき、しかも、製造時に有毒性物質が発生する
ことがなく、更に成膜速度が早く生産率を高めることが
できる。また、ブラックマトリックス３は、Ａｇを含有
するために酸素や水素に対する耐候性に優れており、３
原色材料との密着性にも優れ、更にコントラストや高画
質化にも有用な高電気抵抗を有している。さらに、２層
以上の構造をとる事で優れた遮光性を得る事が可能であ
る。As described above, in the above embodiment,
A black matrix 3 having a low reflectance and excellent light-shielding properties can be formed, and no toxic substances are generated during production, and the film formation rate can be further increased and the production rate can be increased. Further, the black matrix 3 is excellent in weather resistance to oxygen and hydrogen because it contains Ag.
It has excellent adhesion to primary color materials, and has high electrical resistance that is useful for improving contrast and image quality. Further, it is possible to obtain excellent light-shielding properties by adopting a structure of two or more layers.
【００５５】次に、ブラックマトリックスを構成する材
料について説明する。上記実施の形態では、ブラックマ
トリックス３としての遮光膜をＣｕの酸化物にＡｇの酸
化物及びＩｎの酸化物を添加した材料から形成している
が、これに限定されるものではなく、次の材料を用いる
ことも可能である。Next, the material constituting the black matrix will be described. In the above embodiment, the light-shielding film as the black matrix 3 is formed from a material obtained by adding an oxide of Ag and an oxide of In to Cu oxide. However, the present invention is not limited to this. It is also possible to use materials.
【００５６】ブラックマトリックスとしての遮光膜は、
Ｃｕの酸化物を主成分とし、Ａｇの酸化物を１５重量％
以上６０重量％以下含有する少なくとも２つの酸化物か
ら形成することも可能である。The light shielding film as the black matrix is
Cu oxide as the main component, 15% by weight of Ag oxide
It is also possible to form from at least two oxides containing at least 60% by weight.
【００５７】また、よりブラックマトリックスとしての
遮光膜に適した範囲として、Ｃｕの酸化物を主成分と
し、Ａｇの酸化物を３５重量％以上５０重量％以下含有
する少なくとも２つの酸化物から形成することも可能で
ある。Further, as a range more suitable for the light-shielding film as a black matrix, it is formed of at least two oxides containing a Cu oxide as a main component and an Ag oxide at 35% by weight or more and 50% by weight or less. It is also possible.
【００５８】さらに、ブラックマトリックスとしての遮
光膜は、Ｃｕ（銅）の酸化物にＡｇ（銀）の酸化物を１
５重量％以上６０重量％以下添加し、このＣｕの酸化物
とＡＧの酸化物の複合酸化物に、Ｉｎ（インジウム）の
酸化物、Ｔｉ（チタン）の酸化物、Ｚｒ（ジルコニウ
ム）の酸化物、Ｓｎ（スズ）の酸化物、Ｚｎ（亜鉛）の
酸化物、Ｔａ（タンタル）の酸化物、Ｗ（タングステ
ン）の酸化物、Ｍｏ（モリブデン）の酸化物、Ｎｉ（ニ
ッケル）の酸化物からなる群から選ばれた少なくとも１
種類の酸化物を０．１〜５重量％添加した材料から形成
することも可能である。Further, the light-shielding film as the black matrix is formed by adding an oxide of Ag (silver) to an oxide of Cu (copper).
5 wt% or more and 60 wt% or less are added, and the composite oxide of Cu oxide and AG oxide is mixed with an oxide of In (indium), an oxide of Ti (titanium), and an oxide of Zr (zirconium). , An oxide of Sn (tin), an oxide of Zn (zinc), an oxide of Ta (tantalum), an oxide of W (tungsten), an oxide of Mo (molybdenum), and an oxide of Ni (nickel) At least one selected from the group
It is also possible to form from a material to which 0.1 to 5% by weight of various oxides is added.
【００５９】また、より適した範囲としてブラックマト
リックスとしての遮光膜は、Ｃｕ（銅）の酸化物にＡｇ
（銀）の酸化物を３５重量％以上５０重量％以下添加
し、このＣｕの酸化物とＡｇの酸化物の複合酸化物に、
Ｉｎ（インジウム）の酸化物、Ｔｉ（チタン）の酸化
物、Ｚｒ（ジルコニウム）の酸化物、Ｓｎ（スズ）の酸
化物、Ｚｎ（亜鉛）の酸化物、Ｔａ（タンタル）の酸化
物、Ｗ（タングステン）の酸化物、Ｍｏ（モリブデン）
の酸化物、Ｎｉ（ニッケル）の酸化物からなる群から選
ばれた少なくとも１種類の酸化物を０．１〜５重量％添
加した材料から形成することも可能である。Further, as a more suitable range, the light-shielding film as the black matrix is made of Cu (copper) oxide containing Ag.
(Silver) oxide is added in an amount of 35% by weight or more and 50% by weight or less, and a composite oxide of the Cu oxide and the Ag oxide is
In (indium) oxide, Ti (titanium) oxide, Zr (zirconium) oxide, Sn (tin) oxide, Zn (zinc) oxide, Ta (tantalum) oxide, W ( Tungsten) oxide, Mo (molybdenum)
, And at least one oxide selected from the group consisting of oxides of Ni (nickel) and 0.1 to 5% by weight.
【００６０】Ｃｕの酸化物にＡｇの酸化物を添加する理
由は、それにより黒色を出し、遮光性を向上させるため
である。Ａｇの酸化物の添加量の上限を６０重量％とす
る理由は、６０重量％を超えてＡｇの酸化物を添加する
と遮光膜の光の反射率が所望値より上がってしまうから
である。Ｉｎ等の酸化物を添加する理由は、それにより
反射率を下げることができるからである。また、Ｉｎ等
の酸化物の添加量の上限を５重量％とする理由は、５重
量％を超えてＩｎ等の酸化物を添加すると遮光膜の光の
透過度が所望値より上がってしまうからである。The reason why the Ag oxide is added to the Cu oxide is that black color is thereby obtained and the light-shielding property is improved. The reason why the upper limit of the addition amount of the Ag oxide is set to 60% by weight is that if the Ag oxide is added in excess of 60% by weight, the light reflectance of the light-shielding film becomes higher than a desired value. The reason why an oxide such as In is added is that the reflectance can be reduced. Also, the reason for setting the upper limit of the amount of the oxide such as In to 5% by weight is that if the amount of the oxide such as In exceeds 5% by weight, the light transmittance of the light-shielding film becomes higher than a desired value. It is.
【００６１】また、スパッタターゲットと遮光膜の組成
の違いは、各元素の合金の中でも各々の成膜レート、酸
化、窒化の度合いは違う物で、Ａｇの酸化物は特に早い
ものであるからである。The difference between the composition of the sputter target and the composition of the light-shielding film is that among the alloys of the respective elements, the film formation rates and the degrees of oxidation and nitridation are different, and the oxide of Ag is particularly fast. is there.
【００６２】ブラックマトリックスとしての遮光膜は、
Ｃｕの酸化物を主成分とし、Ｉｎの酸化物を０．１〜３
５重量％含有する少なくとも２つの酸化物から形成する
ことも可能である。The light shielding film as a black matrix is
Cu oxide as a main component, and In oxide at 0.1 to 3
It is also possible to form from at least two oxides containing 5% by weight.
【００６３】さらに、ブラックマトリックスとしての遮
光膜は、Ｃｕ（銅）の酸化物にＩｎ（インジウム）の酸
化物を０．１〜３５重量％添加し、このＣｕの酸化物と
Ｉｎの酸化物の複合酸化物に、Ａｇ（銀）の酸化物、Ｔ
ｉ（チタン）の酸化物、Ｚｒ（ジルコニウム）の酸化
物、Ｓｎ（スズ）の酸化物、Ｚｎ（亜鉛）の酸化物、Ｔ
ａ（タンタル）の酸化物、Ｗ（タングステン）の酸化
物、Ｍｏ（モリブデン）の酸化物、Ｃｒ（クロム）の酸
化物、Ｎｉ（ニッケル）の酸化物、Ｓｂ（アンチモン）
の酸化物からなる群から選ばれた少なくとも１種類の酸
化物を０．１〜２５重量％添加した材料から形成するこ
とも可能である。Further, the light-shielding film as a black matrix is prepared by adding 0.1 to 35% by weight of an oxide of In (indium) to an oxide of Cu (copper) and adding the Cu oxide and the oxide of In. Ag (silver) oxide, T
i (titanium) oxide, Zr (zirconium) oxide, Sn (tin) oxide, Zn (zinc) oxide, T
a (tantalum) oxide, W (tungsten) oxide, Mo (molybdenum) oxide, Cr (chromium) oxide, Ni (nickel) oxide, Sb (antimony)
It is also possible to form from a material in which at least one oxide selected from the group consisting of oxides of the above is added in an amount of 0.1 to 25% by weight.
【００６４】ＣｕにＩｎを添加する理由は、それにより
反射率を下げることができるからである。また、Ｉｎの
酸化物の添加量の上限を３５重量％とする理由は、３５
重量％を超えてＩｎを添加すると遮光膜の光の透過度が
所望値より上がってしまうからである。また、Ａｇ等を
添加する理由は、それにより黒色を出し、遮光性を向上
するためである。Ａｇ等の酸化物の添加量の上限を２５
重量％とする理由は、２５重量％を超えてＡｇ等の酸化
物を添加すると遮光膜の光の反射率が所望値より上がっ
てしまうからである。The reason why In is added to Cu is that the reflectance can be reduced. The reason for setting the upper limit of the amount of the In oxide added to 35% by weight is as follows.
This is because if In is added in excess of the weight%, the light transmittance of the light-shielding film becomes higher than a desired value. Further, the reason for adding Ag or the like is that black is thereby obtained and the light shielding property is improved. The upper limit of the amount of oxides such as Ag is 25.
The reason for setting the weight percentage is that if an oxide such as Ag is added in excess of 25 weight%, the light reflectance of the light-shielding film will be higher than a desired value.
【００６５】上記実施の形態では、反射型ＴＦＴカラー
液晶ディスプレイの構造により説明したが、本発明は実
施の形態の表示パネル以外の型である表示パネル、また
その他の電子・電気部品に適用され、また、あらゆる製
造工程に適用される。In the above embodiment, the structure of the reflection type TFT color liquid crystal display has been described. However, the present invention is applied to a display panel of a type other than the display panel of the embodiment, and other electronic / electric parts. Further, it is applied to all manufacturing processes.
【００６６】次に、ブラックマトリックス３を形成する
際に用いるスパッタリングターゲット及びその製造方法
について説明する。Next, a sputtering target used in forming the black matrix 3 and a method for manufacturing the same will be described.
【００６７】このスパッタリングターゲットは、Ｃｕを
主成分とし、Ａｇを１０〜４５重量％含有する少なくと
も２元素からなるものであっても良いし、Ｃｕを主成分
とし、Ａｇを１０〜４５重量％含有し、第三元素として
Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｎｉ
からなる群から選ばれた少なくとも１種類の元素を０．
１〜５重量％含有する材料からなるものであっても良
い。The sputtering target may be composed of at least two elements containing Cu as a main component and containing 10 to 45% by weight of Ag, or containing Cu as a main component and containing 10 to 45% by weight of Ag. And, as a third element, In, Ti, Zr, Sn, Zn, Ta, W, Mo, Ni
At least one element selected from the group consisting of
It may be made of a material containing 1 to 5% by weight.
【００６８】さらに、最適な遮光膜を作製する為のスパ
ッタリングターゲットは、Ｃｕを主成分とし、Ａｇを２
５〜４０重量％含有する少なくとも２元素からなるもの
であっても良いし、Ｃｕを主成分とし、Ａｇを２５〜４
０重量％含有し、第三元素としてＩｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓ
ｎ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｎｉからなる群から選ばれ
た少なくとも１種類の元素を０．１〜５重量％含有する
材料からなるものであっても良い。Further, a sputtering target for producing an optimum light-shielding film contains Cu as a main component and Ag as a main component.
It may be composed of at least two elements containing 5 to 40% by weight, or contains Cu as a main component and Ag has a content of 25 to 4%.
0% by weight, and the third element is In, Ti, Zr, S
It may be made of a material containing 0.1 to 5% by weight of at least one element selected from the group consisting of n, Zn, Ta, W, Mo, and Ni.
【００６９】また、スパッタリングターゲットは、Ｃｕ
を主成分とし、Ｉｎを０．１〜３５重量％含有する少な
くとも２元素からなるものであっても良いし、Ｃｕを主
成分とし、Ｉｎを０．１〜３５重量％含有し、第三元素
としてＡｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｍ
ｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｓｂからなる群から選ばれた少なくと
も１種類の元素を０．１〜２５重量％含有する材料から
なるものであっても良い。The sputtering target is Cu
May be composed of at least two elements containing 0.1 to 35% by weight of In as a main component, or Cu as a main component, 0.1 to 35% by weight of In, and a third element. As Ag, Ti, Zr, Sn, Zn, Ta, W, M
It may be made of a material containing 0.1 to 25% by weight of at least one element selected from the group consisting of o, Cr, Ni, and Sb.
【００７０】スパッタリングターゲットの製造方法とし
ては、例えば真空中での溶融法が挙げられる。As a method for manufacturing a sputtering target, for example, a melting method in a vacuum is mentioned.
【００７１】まず、高周波溶解炉において、Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ｉｎの溶解を行う。この際、溶融温度は例えば１１
００〜１４００℃とされ、Ｃ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、Ｚｒ
Ｏ2等の坩堝が用いられる。First, in a high frequency melting furnace, Cu, A
g and In are dissolved. At this time, the melting temperature is, for example, 11
00 to 1400 ° C., C, Al 2 O 3 , MgO, Zr
A crucible such as O 2 is used.
【００７２】溶解した後、Ｃ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、Ｚｒ
Ｏ2等の鋳型に溶融物を注湯する。引け巣を防止するた
め、２００〜１０００℃で予め鋳型加熱を行っておく。
鋳型内の溶融物を、冷却、凝固し、インゴットを鋳型か
ら取り出して、常温まで冷却する。After dissolution, C, Al 2 O 3 , MgO, Zr
To pouring the melt into a mold such as O 2. In order to prevent shrinkage cavities, the mold is heated in advance at 200 to 1000 ° C.
The melt in the mold is cooled and solidified, the ingot is removed from the mold and cooled to room temperature.
【００７３】次に、インゴットの最上部の押湯部を切断
除去し、インゴットを圧延機により圧延し、例えば９０
ｍｍ×９０ｍｍ×８．１ｍｍの板状の合金を作製する。
その後、例えば電気炉でＡｒガスを封入した状態で熱処
理し、その後さらにプレス機によりそり修正を行う。Next, the uppermost feeder portion of the ingot is cut and removed, and the ingot is rolled by a rolling mill.
A plate-shaped alloy of mm × 90 mm × 8.1 mm is prepared.
Thereafter, for example, heat treatment is performed in an electric furnace in a state where Ar gas is sealed, and thereafter, warpage is corrected by a press machine.
【００７４】その後、製品形状にワイヤーカットし、製
品前面を耐水研磨紙を用いて研磨し、表面粗度を調整
し、最終的に本発明のスパッタリングターゲット材を作
製することができる。Thereafter, the product is cut into a wire, and the front surface of the product is polished with a water-resistant abrasive paper to adjust the surface roughness. Finally, the sputtering target material of the present invention can be manufactured.
【００７５】上述のように、本実施の形態のスパッタリ
ングターゲット材を作製する場合において、Ｃｕに対し
てＡｇ及びＩｎ等を添加して溶融する場合においても、
従来行われている容易な方法を適用することができ、価
格的にも製法的にもメリットが大きい。As described above, when manufacturing the sputtering target material of the present embodiment, even when Ag and In are added to Cu and melted,
The conventional easy method can be applied, and there are great advantages in terms of price and manufacturing method.
【００７６】尚、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々変更して実施することが可能であり、例えば、
ターゲットの製造法に関して、溶融法の一例を挙げた
が、製造法はこれに限定されるわけではなく、焼結法等
の方法を用いることも可能である。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be implemented with various modifications.
An example of the melting method has been described with respect to the method of manufacturing the target, but the manufacturing method is not limited to this, and a method such as a sintering method can be used.
【００７７】[0077]
【実施例】（１．反射率測定）ここで、本実施の形態の
ブラックマトリックスの、反射率、光学濃度（ＯＤ値）
を測定した。測定方法は、例えば、可視光領域である４
００〜７００ｎｍの間で、特定波長の光を、特定角度を
もって透明基板（コーニング社製１７３７材）側から薄
膜に入射させ、反射する光を測定することで評価でき
る。この結果を下記（表１）に示す。なお、ＯＤ値と
は、遮光性を表すものであって、透過光の強度をＩと
し、入射光の強度をＩ0とすると、−ｌｏｇ（Ｉ／Ｉ0）
で表され、ＯＤ値が高いほど遮光性が高いものである。EXAMPLES (1. Measurement of reflectance) Here, the reflectance and the optical density (OD value) of the black matrix of the present embodiment.
Was measured. The measuring method is, for example, 4 in the visible light region.
It can be evaluated by allowing light of a specific wavelength between 00 and 700 nm to enter the thin film from a transparent substrate (1737 material manufactured by Corning) at a specific angle and measuring the reflected light. The results are shown below (Table 1). Note that the OD value represents a light-shielding property, and assuming that the intensity of transmitted light is I and the intensity of incident light is I 0 , −log (I / I 0 )
The higher the OD value, the higher the light-shielding property.
【００７８】[0078]
【表１】 [Table 1]
【００７９】この（表１）に示した測定結果によると、
Ａｇを添加することによって黒色化し、遮光性を上げ
る。さらにＩｎを添加することによって反射率を下げ
る。しかし、Ａｇを６０重量％以上添加すると反射率が
上がってしまい、さらに熱に不安定の為、アニール後変
色が見られた。また、Ｉｎを５重量％以上添加するとＯ
Ｄ値が下がる結果となった。According to the measurement results shown in (Table 1),
The addition of Ag turns black and increases light-shielding properties. Further, the reflectance is lowered by adding In. However, when Ag was added in an amount of 60% by weight or more, the reflectance was increased, and furthermore, because of heat instability, discoloration was observed after annealing. When In is added in an amount of 5% by weight or more, O
As a result, the D value decreased.
【００８０】よって、本実施の形態のブラックマトリッ
クスによれば、光線反射率が低く、かつブラックマトリ
ックスの遮光層として必要なＯＤ値も十分に得られてお
り、ブラックマトリックス基板としてきわめて優れた物
が得られるといった効果を発揮する。特に、波長550ｎ
ｍにおける反射率が８．６０％以下、ＯＤ値が４．０以
上と良好であった。Therefore, according to the black matrix of the present embodiment, the light reflectance is low, and the OD value required as a light-shielding layer of the black matrix is sufficiently obtained. The effect is obtained. In particular, wavelength 550n
m, the reflectance was 8.60% or less, and the OD value was 4.0 or more, which was good.
【００８１】ここで、本実施形態のブラックマトリック
スの、反射率、透過率を測定した。測定方法は、例え
ば、可視光領域である４００〜７００ｎｍの間で、特定
波長の光を、特定角度をもって薄膜に入射させ、反射す
る光を測定することで評価できる。この結果を下記（表
２）に示す。Here, the reflectance and the transmittance of the black matrix of the present embodiment were measured. The measurement method can be evaluated, for example, by causing light of a specific wavelength to enter a thin film at a specific angle in a visible light region of 400 to 700 nm and measuring the reflected light. The results are shown below (Table 2).
【００８２】[0082]
【表２】 [Table 2]
【００８３】この（表２）に示した測定結果よると、Ｉ
ｎを添加することによって反射率を下げ、さらにＡｇを
添加することによって黒色化し、遮光性を上げる。しか
し、Ｉｎを添加すると透過度が上がってしまう。また、
Ａｇを添加すると反射率が上がってしまい、５５重量％
以上添加すると熱に不安定の為、アニール後変色が見ら
れた。しかし、Ｉｎは、過剰添加により透過度が上がっ
てしまい、また、Ａｇを過剰添加すると反射率があがっ
てしまい、５５重量％以上添加すると熱に不安定の為、
アニール後変色が見られた。According to the measurement results shown in (Table 2), I
By adding n, the reflectance is lowered, and further by adding Ag, the color is blackened and the light-shielding property is increased. However, when In is added, the transmittance increases. Also,
When Ag is added, the reflectance increases, and 55% by weight.
When the above addition was made, the composition was unstable to heat, and discoloration was observed after annealing. However, the excessive addition of In increases the transmittance, and the excessive addition of Ag raises the reflectance, and the addition of 55% by weight or more is unstable to heat.
Discoloration was observed after annealing.
【００８４】よって、本実施形態のブラックマトリック
スによれば、光線反射率が低く、かつブラックマトリッ
クスの遮光層として必要な光線透過率（１％以下）も十
分に得られており、ブラックマトリックス基板としてき
わめて優れた物が得られるといった効果を発揮する。特
に、波長550ｎｍにおける反射率が11.58％以下、透過率
0.36％と良好であった。Therefore, according to the black matrix of the present embodiment, the light reflectance is low and the light transmittance (1% or less) required as a light-shielding layer of the black matrix is sufficiently obtained. It has the effect of obtaining extremely excellent products. In particular, the reflectance at a wavelength of 550 nm is 11.58% or less, and the transmittance is
It was as good as 0.36%.
【００８５】（２．耐食性試験）次に、本実施形態のブ
ラックマトリックス膜について行った、耐候性の試験結
果について説明する。ここでは、塩化試験を行った。(2. Corrosion Resistance Test) Next, the results of a weather resistance test performed on the black matrix film of this embodiment will be described. Here, a salification test was performed.
【００８６】塩化試験は、常温で、５％濃度の塩水に本
実施形態のブラックマトリックス膜をガラス基板上に１
５０ｎｍ膜厚で成膜したものを浸漬させて、その経時変
化を見た。この結果を下記（表３）に示す。In the salification test, the black matrix film of this embodiment was placed on a glass substrate at room temperature in a 5% -concentration saline solution.
A film having a film thickness of 50 nm was immersed, and the change with time was observed. The results are shown below (Table 3).
【００８７】[0087]
【表３】 [Table 3]
【００８８】この（表３）に示した結果によると、成膜
圧力が０.８Ｐａのものは膜密度が低いため３時間程度
で膜が完全に溶けた。しかし、０.５Ｐａのものは２４
時間経過後も無反応である。According to the results shown in Table 3, when the film forming pressure was 0.8 Pa, the film was completely melted in about 3 hours because the film density was low. However, the one with 0.5 Pa is 24
There is no reaction after a lapse of time.
【００８９】従って、本実施形態のブラックマトリック
ス膜によれば、耐候性が改善され、かつ基板と薄膜との
接合性が強化され、より高い信頼性が得られるといった
効果を発揮する。Therefore, according to the black matrix film of the present embodiment, the effects of improving the weather resistance, strengthening the bonding property between the substrate and the thin film, and obtaining higher reliability are exhibited.
【００９０】次に、通常試験で行ったＯＤ値、抵抗値、
成膜レートの結果を表４に示す。Next, the OD value, resistance value,
Table 4 shows the results of the film formation rate.
【００９１】[0091]
【表４】 [Table 4]
【００９２】[0092]
【表５】 [Table 5]
【００９３】この（表４）（表５）に示した結果による
と、本実施形態のブラックマトリックス膜は、光学濃
度、抵抗値がブラックマトリックスに適し、また、成膜
レートが従来のブラックマトリックスの材料である酸化
クロムに比して5倍高く、生産効率が高くなるといった
効果を発揮する。According to the results shown in (Table 4) and (Table 5), the black matrix film of the present embodiment has an optical density and a resistance value suitable for a black matrix, and a film formation rate of a conventional black matrix. It is 5 times higher than chromium oxide, which is the material, and has the effect of increasing production efficiency.
【００９４】[0094]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、製
造時に有毒性物質が発生することなく、優れた遮光性を
有し且つ反射率の低い遮光膜、それを製造するためのス
パッタリングターゲット、遮光膜を用いたカラーフィル
タ及び表示素子体を提供することができる。As described above, according to the present invention, a light-shielding film having excellent light-shielding properties and low reflectance without producing toxic substances during manufacturing, and a sputtering target for manufacturing the same. Further, it is possible to provide a color filter and a display element using a light shielding film.
【図１】本発明の実施の形態によるカラーフィルタ用の
ブラックマトリックスを備えた表示素子体の一例として
の反射型ＴＦＴカラー液晶ディスプレイを示す断面図で
ある。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a reflective TFT color liquid crystal display as an example of a display element body having a black matrix for a color filter according to an embodiment of the present invention.
１…偏光板 ２…ガラス基板Ａ ３…ブラックマトリックス ４…カラーフィルタ ５…ＩＴＯ透明電極 ６…コレステリック・ネマティック相転位型ゲスト・ホ
スト型液晶 ７…反射電極 ８…アクリル樹脂 ９…ソース電極 １０…ドレイン電極 １１…ゲート電極 １２…ガラス基板ＢDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Polarizing plate 2 ... Glass substrate A 3 ... Black matrix 4 ... Color filter 5 ... ITO transparent electrode 6 ... Cholesteric / nematic phase transition type guest / host type liquid crystal 7 ... Reflecting electrode 8 ... Acrylic resin 9 ... Source electrode 10 ... Drain Electrode 11: Gate electrode 12: Glass substrate B
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 AA09 AA15 AA26 2H048 BA11 BB01 BB44 2H091 FA02Y FA34Y FB08 FC29 LA09 4K029 AA09 BA08 BA21 BB02 CA05 DC04 DC08 5C094 AA43 CA24 ED03 ED15 GB10 JA01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H042 AA09 AA15 AA26 2H048 BA11 BB01 BB44 2H091 FA02Y FA34Y FB08 FC29 LA09 4K029 AA09 BA08 BA21 BB02 CA05 DC04 DC08 5C094 AA43 CA24 ED03 ED15 GB10 JA01
Claims (32)
ターゲットであって、 Ｃｕを主成分とし、Ａｇを１０重量％以上４５重量％以
下含有する少なくとも２元素からなることを特徴とする
スパッタリングターゲット。1. A sputtering target for producing a light-shielding film, comprising at least two elements containing Cu as a main component and containing 10% by weight or more and 45% by weight or less of Ag.
ターゲットであって、 Ｃｕを主成分とし、Ａｇを２５重量％以上４０重量％以
下含有する少なくとも２元素からなることを特徴とする
スパッタリングターゲット。2. A sputtering target for producing a light-shielding film, comprising at least two elements containing Cu as a main component and containing 25% by weight or more and 40% by weight or less of Ag.
ターゲットであって、 Ｃｕを主成分とし、Ａｇを１０重量％以上４５重量％以
下含有し、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｗ、
Ｍｏ、Ｎｉからなる群から選ばれた少なくとも１種類の
元素を０．１重量％以上５重量％以下含有する材料から
なることを特徴とするスパッタリングターゲット。3. A sputtering target for producing a light-shielding film, comprising Cu as a main component, containing 10% by weight or more and 45% by weight or less of Ag, and containing In, Ti, Zr, Sn, Zn, Ta, and W. ,
A sputtering target comprising a material containing at least one element selected from the group consisting of Mo and Ni in an amount of 0.1% by weight or more and 5% by weight or less.
ターゲットであって、 Ｃｕを主成分とし、Ａｇを２５重量％以上４０重量％以
下含有し、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｗ、
Ｍｏ、Ｎｉからなる群から選ばれた少なくとも１種類の
元素を０．１重量％以上５重量％以下含有する材料から
なることを特徴とするスパッタリングターゲット。4. A sputtering target for producing a light-shielding film, comprising Cu as a main component, containing 25% by weight or more and 40% by weight or less of Ag, and containing In, Ti, Zr, Sn, Zn, Ta, and W. ,
A sputtering target comprising a material containing at least one element selected from the group consisting of Mo and Ni in an amount of 0.1% by weight or more and 5% by weight or less.
スとしての遮光膜であって、Ｃｕの酸化物を主成分と
し、Ａｇの酸化物を１５重量％以上６０重量％以下含有
する少なくとも２つの酸化物からなることを特徴とする
遮光膜。5. A light-shielding film as a black matrix for a color filter, wherein the light-shielding film is composed of at least two oxides containing Cu oxide as a main component and containing Ag oxide of 15% by weight or more and 60% by weight or less. A light-shielding film characterized by the above-mentioned.
スとしての遮光膜であって、Ｃｕの酸化物を主成分と
し、Ａｇの酸化物を３５重量％以上５０重量％以下含有
する少なくとも２つの酸化物からなることを特徴とする
遮光膜。6. A light-shielding film as a black matrix for a color filter, wherein the light-shielding film is composed of at least two oxides containing a Cu oxide as a main component and an Ag oxide in an amount of 35% by weight or more and 50% by weight or less. A light-shielding film characterized by the above-mentioned.
スとしての遮光膜であって、Ｃｕの酸化物を主成分と
し、Ａｇの酸化物を１５重量％以上６０重量％以下添加
し、このＣｕの酸化物とＡｇの酸化物の複合酸化物に、
Ｉｎの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸
化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏ
の酸化物、Ｎｉの酸化物からなる群から選ばれた少なく
とも１種類の酸化物を０．１重量％以上５重量％以下添
加した材料からなることを特徴とする遮光膜。7. A light-shielding film as a black matrix for a color filter, comprising a Cu oxide as a main component and an Ag oxide added in an amount of 15% by weight or more and 60% by weight or less. Ag oxide complex oxide
In oxide, Ti oxide, Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide
A light-shielding film comprising a material to which at least one oxide selected from the group consisting of an oxide of Ni and an oxide of Ni is added in an amount of 0.1% by weight or more and 5% by weight or less.
スとしての遮光膜であって、Ｃｕの酸化物を主成分と
し、Ａｇの酸化物を３５重量％以上５０重量％以下添加
し、このＣｕの酸化物とＡｇの酸化物の複合酸化物に、
Ｉｎの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸
化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏ
の酸化物、Ｎｉの酸化物からなる群から選ばれた少なく
とも１種類の酸化物を０．１重量％以上５重量％以下添
加した材料からなることを特徴とする遮光膜。8. A light-shielding film as a black matrix for a color filter, comprising a Cu oxide as a main component and an Ag oxide added in an amount of 35% by weight or more and 50% by weight or less. Ag oxide complex oxide
In oxide, Ti oxide, Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide
A light-shielding film comprising a material to which at least one oxide selected from the group consisting of an oxide of Ni and an oxide of Ni is added in an amount of 0.1% by weight or more and 5% by weight or less.
ｍ以下の可視光領域における反射率が１５％以下である
ことを特徴とする請求項５〜８のうちいずれか１項記載
の遮光膜。9. The optical wavelength range is 400 nm or more and 800 n.
The light-shielding film according to any one of claims 5 to 8, wherein a reflectance in a visible light region of m or less is 15% or less.
ることを特徴とする請求項５〜８のうちいずれか１項記
載の遮光膜。10. The light-shielding film according to claim 5, wherein a surface resistance value is 10 3 Ω / cm 2 or more.
求項５〜８のうちいずれか１項記載の遮光膜。11. The light-shielding film according to claim 5, wherein the light-shielding film is formed of a single layer.
Ｎｉ、Ｔａ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｗ、Ｍｏからな
る群から選ばれた遮光膜を積層して構成されることを特
徴とする遮光膜。12. The light-shielding film according to claim 11, wherein Al,
A light-shielding film comprising a light-shielding film selected from the group consisting of Ni, Ta, Sn, Ti, Zr, Zn, W, and Mo.
を備えたカラーフィルタであって、上記ブラックマトリ
ックスは、Ｃｕの酸化物を主成分とし、Ａｇの酸化物を
１５重量％以上６０重量％以下含有する少なくとも２種
類の酸化物からなることを特徴とするカラーフィルタ。13. A color filter comprising a black matrix having a light-shielding property, wherein the black matrix contains a Cu oxide as a main component and an Ag oxide at least 15% by weight to 60% by weight. A color filter comprising two types of oxides.
を備えたカラーフィルタであって、上記ブラックマトリ
ックスは、Ｃｕの酸化物を主成分とし、Ａｇの酸化物を
３５重量％以上５０重量％以下含有する少なくとも２種
類の酸化物からなることを特徴とするカラーフィルタ。14. A color filter comprising a black matrix having a light-shielding property, wherein the black matrix contains Cu oxide as a main component, and contains Ag oxide in an amount of 35% by weight or more and 50% by weight or less. A color filter comprising two kinds of oxides.
を備えたカラーフィルタであって、上記ブラックマトリ
ックスは、Ｃｕの酸化物にＡｇの酸化物を１５重量％以
上６０重量％以下添加し、このＣｕの酸化物とＡｇの酸
化物の複合酸化物に、Ｉｎの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚ
ｒの酸化物、Ｓｎの酸化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化
物、Ｗの酸化物、Ｍｏの酸化物、Ｎｉの酸化物からなる
群から選ばれた少なくとも１種類の酸化物を０．１重量
％以上５重量％以下添加した材料からなることを特徴と
するカラーフィルタ。15. A color filter provided with a black matrix having a light-shielding property, wherein the black matrix is prepared by adding an oxide of Ag to Cu oxide in an amount of 15% by weight or more and 60% by weight or less, and oxidizing the Cu. Oxide, Ti oxide, Z oxide,
at least one oxide selected from the group consisting of an oxide of r, an oxide of Sn, an oxide of Zn, an oxide of Ta, an oxide of W, an oxide of Mo, and an oxide of Ni. A color filter comprising a material added in an amount of 1% by weight or more and 5% by weight or less.
を備えたカラーフィルタであって、上記ブラックマトリ
ックスは、Ｃｕの酸化物にＡｇの酸化物を３５重量％以
上５０重量％以下添加し、このＣｕの酸化物とＡｇの酸
化物の複合酸化物に、Ｉｎの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚ
ｒの酸化物、Ｓｎの酸化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化
物、Ｗの酸化物、Ｍｏの酸化物、Ｎｉの酸化物からなる
群から選ばれた少なくとも１種類の酸化物を０．１重量
％以上５重量％以下添加した材料からなることを特徴と
するカラーフィルタ。16. A color filter provided with a black matrix having a light-shielding property, wherein the black matrix is obtained by adding an oxide of Ag to a Cu oxide at 35% by weight or more and 50% by weight or less, and oxidizing the Cu. Oxide, Ti oxide, and Z oxide in the composite oxide of
at least one oxide selected from the group consisting of an oxide of r, an oxide of Sn, an oxide of Zn, an oxide of Ta, an oxide of W, an oxide of Mo, and an oxide of Ni. A color filter comprising a material added in an amount of 1% by weight or more and 5% by weight or less.
示素子体であって、上記カラーフィルタは遮光性を有す
るブラックマトリックスを備えており、このブラックマ
トリックスは、Ｃｕの酸化物を主成分とし、Ａｇの酸化
物を１５重量％以上６０重量％以下含有する少なくとも
２つの酸化物からなるものであることを特徴とする表示
素子体。17. A display element using a color filter, wherein the color filter includes a black matrix having a light-shielding property, the black matrix containing a Cu oxide as a main component, and a Ag matrix. A display element body comprising at least two oxides containing 15% by weight or more and 60% by weight or less of the above oxide.
示素子体であって、上記カラーフィルタは遮光性を有す
るブラックマトリックスを備えており、このブラックマ
トリックスは、Ｃｕの酸化物を主成分とし、Ａｇの酸化
物を３５重量％以上５０重量％以下含有する少なくとも
２つの酸化物からなるものであることを特徴とする表示
素子体。18. A display element using a color filter, wherein the color filter includes a black matrix having a light-shielding property, the black matrix containing a Cu oxide as a main component, A display element body comprising at least two oxides containing 35% by weight or more and 50% by weight or less of the above oxide.
示素子体であって、上記カラーフィルタは遮光性を有す
るブラックマトリックスを備えており、このブラックマ
トリックスは、Ｃｕの酸化物にＡｇの酸化物を１５重量
％以上６０重量％以下添加し、このＣｕの酸化物とＡｇ
の酸化物の複合酸化物に、Ｉｎの酸化物、Ｔｉの酸化
物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａ
の酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏの酸化物、Ｎｉの酸化物か
らなる群から選ばれた少なくとも１種類の酸化物を０．
１重量％以上５重量％以下添加した材料からなることを
特徴とする表示素子体。19. A display element body using a color filter, wherein the color filter includes a black matrix having a light-shielding property, and the black matrix includes an oxide of Ag and an oxide of Cu. 15 wt% to 60 wt% of Cu oxide and Ag
Oxide composite oxides, In oxides, Ti oxides, Zr oxides, Sn oxides, Zn oxides, Ta oxides
At least one oxide selected from the group consisting of oxides of O, W, Mo, and Ni.
A display element comprising a material added in an amount of 1% by weight or more and 5% by weight or less.
示素子体であって、上記カラーフィルタは遮光性を有す
るブラックマトリックスを備えており、このブラックマ
トリックスは、Ｃｕの酸化物にＡｇの酸化物を３５重量
％以上５０重量％以下添加し、このＣｕの酸化物とＡｇ
の酸化物の複合酸化物に、Ｉｎの酸化物、Ｔｉの酸化
物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａ
の酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏの酸化物、Ｎｉの酸化物か
らなる群から選ばれた少なくとも１種類の酸化物を０．
１重量％以上５重量％以下添加した材料からなることを
特徴とする表示素子体。20. A display element body using a color filter, wherein the color filter includes a black matrix having a light-shielding property, and the black matrix includes a Cu oxide and an Ag oxide. The Cu oxide and Ag are added in an amount of 35% by weight or more and 50% by weight or less.
Oxide oxides, In oxides, Ti oxides, Zr oxides, Sn oxides, Zn oxides, Ta oxides
At least one oxide selected from the group consisting of oxides of O, W, Mo, and Ni.
A display element body comprising a material added in an amount of 1% by weight to 5% by weight.
グターゲットであって、 Ｃｕを主成分とし、Ｉｎを０．１重量％以上３５重量％
以下含有する少なくとも２元素からなることを特徴とす
るスパッタリングターゲット。21. A sputtering target for producing a light-shielding film, wherein Cu is a main component and In is 0.1% by weight or more and 35% by weight.
A sputtering target comprising at least two elements contained below.
グターゲットであって、 Ｃｕを主成分とし、Ｉｎを０．１重量％以上３５重量％
以下含有し、Ａｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔａ、
Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｓｂからなる群から選ばれた少
なくとも１種類の元素を０．１重量％以上２５重量％以
下含有する材料からなることを特徴とするスパッタリン
グターゲット。22. A sputtering target for producing a light-shielding film, wherein Cu is a main component and In is 0.1% by weight or more and 35% by weight.
Containing the following, Ag, Ti, Zr, Sn, Zn, Ta,
A sputtering target comprising a material containing at least one element selected from the group consisting of W, Mo, Cr, Ni, and Sb in an amount of 0.1% by weight or more and 25% by weight or less.
クスとしての遮光膜であって、Ｃｕの酸化物を主成分と
し、Ｉｎの酸化物を０．１重量％以上３５重量％以下含
有する少なくとも２つの酸化物からなることを特徴とす
る遮光膜。23. A light-shielding film as a black matrix for a color filter, wherein at least two oxides containing a Cu oxide as a main component and an In oxide of 0.1% by weight or more and 35% by weight or less. A light-shielding film comprising:
クスとしての遮光膜であって、Ｃｕの酸化物にＩｎの酸
化物を０．１重量％以上３５重量％以下添加し、 このＣｕの酸化物とＩｎの酸化物の複合酸化物に、Ａｇ
の酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸化
物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏの
酸化物、Ｃｒの酸化物、Ｎｉの酸化物、Ｓｂの酸化物か
らなる群から選ばれた少なくとも１種類の酸化物を０．
１重量％以上２５重量％以下添加した材料からなること
を特徴とする遮光膜。24. A light-shielding film as a black matrix for a color filter, wherein 0.1% by weight or more and 35% by weight or less of In oxide are added to Cu oxide. Ag is added to the oxide composite oxide.
Oxide, Ti oxide, Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide, Cr oxide, Ni oxide, Sb At least one oxide selected from the group consisting of
A light-shielding film comprising a material added in an amount of 1% by weight to 25% by weight.
下の可視光領域における反射率が１５％以下であること
を特徴とする請求項２３又は２４に記載の遮光膜。25. The light-shielding film according to claim 23, wherein a reflectance in a visible light region having an optical wavelength region of 400 nm or more and 800 nm or less is 15% or less.
とを特徴とする請求項２３又は２４に記載の遮光膜。26. The light-shielding film according to claim 23, wherein the electric resistance is 10 3 Ωcm 2 or more.
求項２３又は２４に記載の遮光膜。27. The light-shielding film according to claim 23, wherein the light-shielding film is formed of a single layer.
Ｎｉ、Ｔａ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｗ、Ｍｏからな
る群から選ばれた遮光膜を積層して構成されることを特
徴とする遮光膜。28. The light-shielding film according to claim 27, wherein Al,
A light-shielding film comprising a light-shielding film selected from the group consisting of Ni, Ta, Sn, Ti, Zr, Zn, W, and Mo.
を備えたカラーフィルタであって、上記ブラックマトリ
ックスは、Ｃｕの酸化物を主成分とし、Ｉｎの酸化物を
０．１重量％以上３５重量％以下含有する少なくとも２
種類の酸化物からなることを特徴とする遮光膜によって
構成されたカラーフィルタ。29. A color filter including a black matrix having a light-shielding property, wherein the black matrix contains a Cu oxide as a main component and an In oxide at a content of 0.1% by weight or more and 35% by weight or less. At least two
A color filter comprising a light-shielding film, which is made of a kind of oxide.
を備えたカラーフィルタであって、上記ブラックマトリ
ックスは、Ｃｕの酸化物にＩｎの酸化物を０．１重量％
以上３５重量％以下添加し、このＣｕの酸化物とＩｎの
酸化物の複合酸化物に、Ａｇの酸化物、Ｔｉの酸化物、
Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸化物、Ｚｎの酸化物、Ｔａの酸
化物、Ｗの酸化物、Ｍｏの酸化物、Ｃｒの酸化物、Ｎｉ
の酸化物、Ｓｂの酸化物からなる群から選ばれた少なく
とも１種類の酸化物を０．１重量％以上２５重量％以下
添加した材料からなることを特徴とするカラーフィル
タ。30. A color filter provided with a black matrix having a light-shielding property, wherein the black matrix contains 0.1% by weight of In oxide to Cu oxide.
At least 35% by weight or less, and an oxide of Ag, an oxide of Ti,
Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide, Cr oxide, Ni
A color filter comprising a material in which at least one oxide selected from the group consisting of oxides of Sb and Sb is added in an amount of 0.1% by weight or more and 25% by weight or less.
示素子体であって、上記カラーフィルタは遮光性を有す
るブラックマトリックスを備えており、 このブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物を主成分と
し、Ｉｎの酸化物を０．１重量％以上３５重量％以下含
有する少なくとも２つの酸化物からなるものであること
を特徴とする表示素子体。31. A display element using a color filter, wherein the color filter includes a black matrix having a light-shielding property, the black matrix containing a Cu oxide as a main component, A display element body comprising at least two oxides containing 0.1% by weight or more and 35% by weight or less of the above oxide.
示素子体であって、上記カラーフィルタは遮光性を有す
るブラックマトリックスを備えており、 このブラックマトリックスは、Ｃｕの酸化物にＩｎの酸
化物を０．１重量％以上３５重量％以下添加し、このＣ
ｕの酸化物とＩｎの酸化物の複合酸化物に、Ａｇの酸化
物、Ｔｉの酸化物、Ｚｒの酸化物、Ｓｎの酸化物、Ｚｎ
の酸化物、Ｔａの酸化物、Ｗの酸化物、Ｍｏの酸化物、
Ｃｒの酸化物、Ｎｉの酸化物、Ｓｂの酸化物からなる群
から選ばれた少なくとも１種類の酸化物を０．１重量％
以上２５重量％以下添加した材料からなることを特徴と
する表示素子体。32. A display element body using a color filter, wherein the color filter includes a black matrix having a light-shielding property, and the black matrix includes a Cu oxide and an In oxide. 0.1% by weight or more and 35% by weight or less
Ag oxide, Ti oxide, Zr oxide, Sn oxide, Zn oxide
Oxide, Ta oxide, W oxide, Mo oxide,
0.1% by weight of at least one oxide selected from the group consisting of oxides of Cr, oxides of Ni, and oxides of Sb
A display element body comprising a material added in an amount of 25% by weight or less.
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