JP2002196706A - Display device with simple matrix method - Google Patents

Display device with simple matrix method

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JP2002196706A
JP2002196706A JP2001385504A JP2001385504A JP2002196706A JP 2002196706 A JP2002196706 A JP 2002196706A JP 2001385504 A JP2001385504 A JP 2001385504A JP 2001385504 A JP2001385504 A JP 2001385504A JP 2002196706 A JP2002196706 A JP 2002196706A
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JP
Japan
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organic
additional
electrode
display device
pixel
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Application number
JP2001385504A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiichi Hirano
貴一 平野
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device which uses an organic electroluminescence element of high picture quality by improving the holding characteristics. SOLUTION: The one pixel 1 in the organic EL display device using a simple matrix method consists of a transparent insulating substrate 2, an electrode 3 as one side of an additional capacitance, a transparent insulating film 4, an anode 5, a hole transfer layer 6, a light emission layer 7, an electron transport layer 8 and a cathode 9. The electrode 3 and the anode 5 oppose to each other through the transparent insulating film 4. Thereby, the transparent insulating film 4 functions as a dielectric film and the transparent insulating film 4, electrode 3 and anode 5 form a capacitor to constitute the additional capacitance 11. The organic EL element 10 and the additional capacitance 11 are connected in parallel to a driving power supply 12. The display panel of the organic EL display device is formed by arranging the pixels 1 having the above structure in a matrix.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は表示装置に係り、詳
しくは、エレクトロルミネッセンス素子を用いた表示装
置に関するものである。
The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device using an electroluminescence element.

【0002】[0002]

【従来の技術】エレクトロルミネッセンス(EL;Electro
Luminescence)素子には、セレンや亜鉛などの無機化合
物薄膜を発光材料として用いる無機EL素子と、有機化
合物を発光材料として用いる有機EL素子とがある。有
機EL素子には、(1) 発光効率が高い、(2) 駆動電圧が
低い、(3) 発光材料を選択することで様々な色(緑、
赤、青、黄など)を表示可能、(4) 自発光型であるため
表示が鮮明でバックライトが不要、(5) 面発光であり、
視野角依存性が無い、(6) 薄型で軽量、(7) 製造プロセ
スの最高温度が低いため、基板材料にプラスチックフィ
ルムなどのような柔らかい材質を用いることが可能、な
どの優れた特徴がある。そこで、近年、CRTやLCD
に代わる表示装置として、有機EL素子を用いた表示装
置(以下、有機EL表示装置という)が注目されてい
る。
2. Description of the Related Art Electroluminescence (EL)
Luminescence elements include an inorganic EL element using a thin film of an inorganic compound such as selenium or zinc as a light emitting material, and an organic EL element using an organic compound as a light emitting material. Organic EL devices have various colors (green, green, etc.) by selecting (1) high luminous efficiency, (2) low driving voltage, and (3) luminescent material.
Red, blue, yellow, etc.), (4) self-luminous type, clear display and no backlight required, (5) surface emission,
(6) Thin and lightweight, (7) Since the maximum temperature of the manufacturing process is low, it is possible to use a soft material such as a plastic film for the substrate material. . Therefore, in recent years, CRTs and LCDs
A display device using an organic EL element (hereinafter, referred to as an organic EL display device) has been attracting attention as a display device that can be used in place of.

【0003】マトリックスに配置された点(ドット)で
表示を行うドットマトリックスの有機EL表示装置に
は、単純マトリックス方式とアクティブマトリックス方
式とがある。
[0003] There are a simple matrix system and an active matrix system in a dot matrix organic EL display device in which display is performed at points (dots) arranged in a matrix.

【0004】単純マトリックス方式は、表示パネル上に
マトリックスに配置された各画素の有機EL素子を走査
信号に同期して外部から直接駆動する方式であり、有機
EL素子だけで表示装置の表示パネルが構成されてい
る。そのため、走査線数が増大すると1つの画素に割り
当てられる駆動時間(デューティ)が少なくなり、コン
トラストが低下するという問題がある。
[0004] The simple matrix system is a system in which the organic EL elements of each pixel arranged in a matrix on a display panel are directly driven from the outside in synchronization with a scanning signal. It is configured. Therefore, when the number of scanning lines increases, the driving time (duty) assigned to one pixel decreases, and there is a problem that the contrast decreases.

【0005】一方、アクティブマトリックス方式は、マ
トリックスに配置された各画素に画素駆動素子(アクテ
ィブエレメント)を設け、その画素駆動素子を走査信号
によってオン・オフ状態が切り替わるスイッチとして機
能させる。そして、オン状態にある画素駆動素子を介し
てデータ信号(表示信号、ビデオ信号)を有機EL素子
の陽極に伝達し、そのデータ信号を有機EL素子に書き
込むことで、有機EL素子の駆動が行われる。その後、
画素駆動素子がオフ状態になると、有機EL素子の陽極
に印加されたデータ信号は電荷の状態で有機EL素子に
保持され、次に画素駆動素子がオン状態になるまで引き
続き有機EL素子の駆動が行われる。そのため、走査線
数が増大して1つの画素に割り当てられる駆動時間が少
なくなっても、有機EL素子の駆動が影響を受けること
はなく、表示パネルに表示される画像のコントラストが
低下することもない。従って、アクティブマトリックス
方式によれば、単純マトリックス方式に比べてはるかに
高画質な表示が可能となる。
On the other hand, in the active matrix system, a pixel driving element (active element) is provided for each pixel arranged in a matrix, and the pixel driving element functions as a switch that is turned on / off by a scanning signal. Then, a data signal (display signal, video signal) is transmitted to the anode of the organic EL element via the pixel driving element in the ON state, and the data signal is written to the organic EL element, thereby driving the organic EL element. Will be afterwards,
When the pixel driving element is turned off, the data signal applied to the anode of the organic EL element is held in the organic EL element in a state of electric charge, and the driving of the organic EL element is continued until the pixel driving element is turned on next. Done. Therefore, even if the number of scanning lines increases and the driving time allocated to one pixel decreases, the driving of the organic EL element is not affected, and the contrast of the image displayed on the display panel may decrease. Absent. Therefore, according to the active matrix system, display with much higher image quality can be performed as compared with the simple matrix system.

【0006】アクティブマトリックス方式は画素駆動素
子の違いにより、トランジスタ型(3端子型)とダイオ
ード型(2端子型)とに大別される。トランジスタ型
は、ダイオード型に比べて製造が困難である反面、コン
トラストや解像度を高くするのが容易でCRTに匹敵す
る高品位な有機EL表示装置を実現することができると
いう特徴がある。前記したアクティブマトリックス方式
の動作原理の説明は、主にトランジスタ型に対応したも
のである。
The active matrix method is roughly classified into a transistor type (three-terminal type) and a diode type (two-terminal type) according to the difference in pixel driving elements. The transistor type is difficult to manufacture as compared with the diode type, but has a feature that it is easy to increase the contrast and resolution and can realize a high-quality organic EL display device comparable to a CRT. The above description of the operation principle of the active matrix system mainly corresponds to the transistor type.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】単純マトリックス方式
またはアクティブマトリックス方式のいずれの方式にお
いても、各画素の特性として重要なものに、書き込み特
性と保持特性とがある。書き込み特性に対して要求され
るのは、表示パネルの仕様から定められた単位時間内
に、各画素の有機EL素子に対して所望のデータ信号を
十分に書き込むことができるかどうかという点である。
また、保持特性に対して要求されるのは、各画素の有機
EL素子に一旦書き単純マトリックス方式込んだデータ
信号を、表示パネルの仕様から定められた必要な時間だ
け保持することができるかどうかという点である。
In any of the simple matrix system and the active matrix system, writing characteristics and holding characteristics are important as characteristics of each pixel. What is required for the writing characteristics is whether a desired data signal can be sufficiently written to the organic EL element of each pixel within a unit time determined by the specifications of the display panel. .
What is required for the holding characteristics is whether or not the data signal once written in the organic EL element of each pixel and stored in the simple matrix system can be held for a required time determined from the specifications of the display panel. That is the point.

【0008】ところが、表示装置は多数の有機EL素子
をマトリックスに配置する構造上、各素子の大きさには
限界があり、よって静電容量の増大には限界がある。有
機EL素子の静電容量が小さいと、保持特性が低下し、
高画質な表示装置を得ることが難しくなる。
However, in the display device, since a large number of organic EL elements are arranged in a matrix, the size of each element is limited, and therefore, the increase in capacitance is limited. When the capacitance of the organic EL element is small, the holding characteristics are reduced,
It is difficult to obtain a high-quality display device.

【0009】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、保持特性を向上させる
ことにより、質の高い安定した表示画像を得ることを可
能としたエレクトロルミネッセンス素子を用いた単純マ
トリックス方式表示装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an electroluminescent device capable of obtaining a high-quality and stable display image by improving a holding characteristic. To provide a simple matrix type display device using the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1の単純マトリッ
クス方式の表示装置は、エレクトロルミネッセンス素子
と、このエレクトロルミネッセンス素子に並列に接続さ
れた付加容量と、前記付加容量から前記エレクトロルミ
ネッセンス素子に流れる電流の大きさを制限するための
付加抵抗とを備えた画素がマトリックス状に配置された
ことをその要旨とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a display device of a simple matrix system, wherein an electroluminescent element, an additional capacitor connected in parallel to the electroluminescent element, and a current flowing from the additional capacitor to the electroluminescent element. The gist is that pixels having an additional resistor for limiting the magnitude of the current are arranged in a matrix.

【0011】請求項2の単純マトリックス方式の表示装
置は、前記エレクトロルミネッセンス素子は、第1の電
極と第2の電極との間に挟まれた発光素子層を有し、絶
縁膜を挟んで前記第1の電極または第2の電極と対向す
る第3の電極を更に備え、前記付加容量は、請求項1に
記載の発明において、第1の電極または第2の電極と第
3の電極と前記絶縁膜とによって構成されることをその
要旨とする。
According to a second aspect of the present invention, in the display device of the simple matrix type, the electroluminescence element has a light emitting element layer sandwiched between a first electrode and a second electrode, and the electroluminescent element has an insulating film. The device according to claim 1, further comprising a third electrode facing the first electrode or the second electrode, wherein the additional capacitance is the first electrode or the second electrode, the third electrode, and the second electrode. The gist of the present invention is to include an insulating film.

【0012】請求項3の単純マトリックス方式の表示装
置は、請求項2に記載の発明において、前記発光素子層
が有機化合物から成る有機エレクトロルミネッセンス素
子を用いたことをその要旨とする。
The gist of the third aspect of the present invention is that, in the second aspect of the invention, the light emitting element layer uses an organic electroluminescence element made of an organic compound.

【0013】請求項4の単純マトリックス方式の表示装
置は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発明におい
て、前記付加抵抗は前記エレクトロルミネッセンス素子
と直列に接続され、このエレクトロルミネッセンス素子
および付加抵抗の直列回路と付加容量とが並列に接続さ
れていることをその要旨とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the display device of the simple matrix system according to any one of the first to third aspects, the additional resistor is connected in series with the electroluminescent element. The gist is that a series circuit of the additional resistor and the additional capacitor are connected in parallel.

【0014】請求項5の単純マトリックス方式の表示装
置は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発明におい
て、前記付加抵抗は前記付加容量と直列に接続され、こ
の付加容量及び付加抵抗の直列回路とエレクトロルミネ
ッセンス素子とが並列に接続されていることをその要旨
とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the display device of the simple matrix system according to any one of the first to third aspects, the additional resistor is connected in series with the additional capacitor. The gist is that the series circuit and the electroluminescent element are connected in parallel.

【0015】請求項6の単純マトリックス方式の表示装
置は、請求項1〜5のいずれか1項に記載の発明におい
て、前記付加抵抗は抵抗値が一定の固定抵抗であること
をその要旨とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the display device of the simple matrix type, in the first aspect of the invention, the additional resistor is a fixed resistor having a constant resistance value. .

【0016】請求項7の単純マトリックス方式の表示装
置は、請求項1〜5のいずれか1項に記載の発明におい
て、前記付加抵抗は前記付加容量からの放電時に高抵抗
となる可変抵抗でことをその要旨とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the display device of the simple matrix system according to any one of the first to fifth aspects, the additional resistance is a variable resistance which becomes high when discharged from the additional capacitance. Is the gist.

【0017】請求項8の単純マトリックス方式の表示装
置は、請求項7に記載の発明において、前記付加抵抗は
P型不純物層とN型不純物層との接合構造をとることを
その要旨とする。
According to an eighth aspect of the present invention, in the simple matrix type display device according to the seventh aspect, the additional resistor has a junction structure of a P-type impurity layer and an N-type impurity layer.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】(第1実施形態)以下、本発明を
具体化した第1実施形態を図面に従って説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) A first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】図1は、本実施形態の有機EL表示装置の
1つの画素を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment.

【0020】単純マトリックス方式をとる有機EL表示
装置の1つの画素1は、透明絶縁基板2、付加容量(補
助容量)の片側の電極3、透明絶縁膜4、陽極5、ホー
ル輸送層6、発光層7、電子輸送層8、陰極9から構成
されている。その各部材2〜9はこの順番で積層形成さ
れている。
One pixel 1 of the organic EL display device adopting the simple matrix system includes a transparent insulating substrate 2, an electrode 3 on one side of an additional capacitor (auxiliary capacitor), a transparent insulating film 4, an anode 5, a hole transport layer 6, a light emitting device. It is composed of a layer 7, an electron transport layer 8, and a cathode 9. The members 2 to 9 are laminated in this order.

【0021】透明絶縁基板2はガラスや合成樹脂などか
ら形成されている。透明絶縁膜4はシリコン窒化膜,シ
リコン酸化膜,シリコン窒酸化膜などから形成されてい
る。
The transparent insulating substrate 2 is made of glass, synthetic resin or the like. The transparent insulating film 4 is formed of a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, or the like.

【0022】電極3および陽極5はITO(Indium Tin
Oxide)などの透明電極から形成されている。
The electrode 3 and the anode 5 are made of ITO (Indium Tin).
Oxide).

【0023】発光素子層を構成する各層6〜8は有機化
合物から成り、その各層6〜8と陽極5および陰極9と
によって有機EL素子10が構成されている。
Each of the layers 6 to 8 constituting the light emitting element layer is made of an organic compound, and the layers 6 to 8 and the anode 5 and the cathode 9 constitute an organic EL element 10.

【0024】また、電極3および陽極5は透明絶縁膜4
を挟んで対向している。そのため、透明絶縁膜4は誘電
体膜として機能し、透明絶縁膜4と電極3および陽極5
とによってコンデンサが形成され、そのコンデンサによ
り付加容量11が構成されている。つまり、陽極5は付
加容量11の片側の電極として機能する。
The electrode 3 and the anode 5 are made of a transparent insulating film 4
Are opposed to each other. Therefore, the transparent insulating film 4 functions as a dielectric film, and the transparent insulating film 4 and the electrode 3 and the anode 5
, A capacitor is formed, and the capacitor forms the additional capacitance 11. That is, the anode 5 functions as an electrode on one side of the additional capacitance 11.

【0025】陽極5は駆動電源12のプラス側に接続さ
れ、電極3および陰極9は駆動電源12のマイナス側に
接続されている。つまり、有機EL素子10と付加容量
11とは、駆動電源12に対して並列に接続されてい
る。
The anode 5 is connected to the positive side of the driving power supply 12, and the electrode 3 and the cathode 9 are connected to the negative side of the driving power supply 12. That is, the organic EL element 10 and the additional capacitance 11 are connected in parallel to the drive power supply 12.

【0026】なお、図示していないが、透明絶縁膜4上
には有機EL素子10を覆うように、パッシベーション
膜が形成される。
Although not shown, a passivation film is formed on the transparent insulating film 4 so as to cover the organic EL element 10.

【0027】このように構成された画素1がマトリック
ス状に配置されることにより、有機EL表示装置の表示
パネルが形成されている。
By arranging the pixels 1 thus configured in a matrix, a display panel of an organic EL display device is formed.

【0028】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)有機EL素子10においては、陽極5から注入さ
れたホールと、陰極9から注入された電子とが発光層7
の内部で再結合し、発光層7を形成する有機分子を励起
して励起子が生じる。この励起子が放射失活する過程で
発光層7から光が放たれる。この光は、透明な陽極5→
透明絶縁膜4→透明な電極3→透明絶縁基板2を通って
外部へ放出される。
In this embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) In the organic EL device 10, the holes injected from the anode 5 and the electrons injected from the cathode 9 emit light from the light emitting layer 7.
Are recombined inside to excite the organic molecules forming the light emitting layer 7 to generate excitons. Light is emitted from the light emitting layer 7 in the process of radiation deactivation of the excitons. This light is a transparent anode 5 →
The light is emitted to the outside through the transparent insulating film 4 → the transparent electrode 3 → the transparent insulating substrate 2.

【0029】ここで、ホール輸送層6は、陽極5からホ
ールを注入させ易くする機能と、陰極9から注入された
電子をブロックする機能とを有する。また、電子輸送層
8は、陰極9から電子を注入させ易くする機能を有す
る。
Here, the hole transport layer 6 has a function of facilitating the injection of holes from the anode 5 and a function of blocking electrons injected from the cathode 9. Further, the electron transport layer 8 has a function of facilitating injection of electrons from the cathode 9.

【0030】(2)駆動電源12に対して有機EL素子
10と付加容量11とが並列に接続されている。そのた
め、付加容量11の静電容量分だけ、画素1の保持特性
が向上する。つまり、付加容量11によって有機EL素
子10の静電容量の不足分を補うわけである。その結
果、高画質な単純マトリックス方式の有機EL表示装置
を実現することができる。
(2) The organic EL element 10 and the additional capacitor 11 are connected in parallel to the drive power supply 12. Therefore, the holding characteristics of the pixel 1 are improved by the capacitance of the additional capacitor 11. That is, the additional capacitance 11 compensates for the shortage of the capacitance of the organic EL element 10. As a result, a high-quality organic EL display device of a simple matrix system can be realized.

【0031】例えば、透明絶縁膜4としてシリコン酸化
膜(誘電率ε;3.8、比誘電率ε0;8.85E−1
4)を用い、電極3と陽極5とに挟まれた透明絶縁膜4
の膜厚dを1000Åとし、電極3,陽極5,陰極9の
寸法形状を50×150μmの矩形状とした場合、付加
容量11の静電容量Cは2.5pFとなる。そして、駆
動電源12の電圧を6Vとすると、付加容量11に蓄積
される電荷量Qは15pCになる。
For example, as the transparent insulating film 4, a silicon oxide film (dielectric constant ε: 3.8, relative dielectric constant ε0; 8.85E-1)
4) using a transparent insulating film 4 sandwiched between an electrode 3 and an anode 5
When the thickness d of the electrode 3, the anode 5, and the cathode 9 is a rectangular shape of 50 × 150 μm, the capacitance C of the additional capacitor 11 is 2.5 pF. If the voltage of the driving power supply 12 is 6 V, the charge amount Q stored in the additional capacitance 11 becomes 15 pC.

【0032】ここで、表示パネルの仕様から定められた
画素1の発光を持続させる時間を0.1msecとすると、付
加容量11に流れる電流Iは0.15μAとなり、有機EL
素子10にも同じ電流が流れる。そのため、有機EL素
子10の陽極5および陰極9の単位面積当たりに流れる
電流は2.0mA/cm2となる。このとき、走査線数が増大
して1つの画素に割り当てられる駆動時間(デューテ
ィ)が60%になったとしても、画素1(有機EL素子
10)の輝度は100cd/m2を越える。従って、付加容
量11を設けることで、画素1の保持特性が向上し、十
分な輝度を必要な時間だけ保持可能になることがわか
る。
Here, assuming that the time for maintaining the light emission of the pixel 1 determined from the specifications of the display panel is 0.1 msec, the current I flowing through the additional capacitor 11 is 0.15 μA,
The same current flows through the element 10. Therefore, the current flowing per unit area of the anode 5 and the cathode 9 of the organic EL element 10 is 2.0 mA / cm 2 . At this time, even if the number of scanning lines increases and the driving time (duty) assigned to one pixel becomes 60%, the luminance of the pixel 1 (organic EL element 10) exceeds 100 cd / m 2 . Therefore, it can be seen that the provision of the additional capacitor 11 improves the retention characteristics of the pixel 1 and makes it possible to retain sufficient luminance for a required time.

【0033】(第2実施形態)以下、本発明を具体化し
た第2実施形態を図面に従って説明する。尚、本実施形
態において、第1実施形態と同じ構成部材については符
号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Second Embodiment) Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, the same components as those in the first embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0034】図2は、本実施形態の有機EL表示装置の
1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマトリ
ックス方式をとる有機EL表示装置31の1つの画素2
1は、有機EL素子10、付加容量11、付加抵抗2
2、画素駆動素子としての薄膜トランジスタ(TFT;Thin
Film Transistor)23から構成されている。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 2 of the organic EL display device 31 employing the active matrix method
1 is an organic EL element 10, an additional capacitor 11, an additional resistor 2
2. Thin film transistor (TFT; Thin) as a pixel driving element
Film Transistor) 23.

【0035】付加抵抗22は、有機EL素子10の陰極
9上に形成された高抵抗膜から構成される。そのような
高抵抗膜としては、アモルファスシリコン膜、ポリサイ
ド膜、シリサイド膜などがある。
The additional resistor 22 is composed of a high resistance film formed on the cathode 9 of the organic EL device 10. Examples of such a high resistance film include an amorphous silicon film, a polycide film, and a silicide film.

【0036】プレーナ型のTFT23は、能動層として
多結晶シリコン膜24を用い、LDD(Lightly Doped
Drain )構造をとる。多結晶シリコン膜24は透明絶縁
膜4上に形成されている。多結晶シリコン膜24上に
は、ゲート絶縁膜25を介してゲート電極26が形成さ
れている。多結晶シリコン膜24には、高濃度のドレイ
ン領域27a、低濃度のドレイン領域27b、高濃度の
ソース領域28a、低濃度のソース領域28bがそれぞ
れ形成されている。高濃度のドレイン領域27aはドレ
イン電極29と接続されている。
The planar type TFT 23 uses a polycrystalline silicon film 24 as an active layer and uses an LDD (Lightly Doped).
Drain) Take the structure. The polycrystalline silicon film 24 is formed on the transparent insulating film 4. A gate electrode 26 is formed on the polycrystalline silicon film 24 with a gate insulating film 25 interposed. A high-concentration drain region 27a, a low-concentration drain region 27b, a high-concentration source region 28a, and a low-concentration source region 28b are formed in the polycrystalline silicon film 24, respectively. The high concentration drain region 27a is connected to the drain electrode 29.

【0037】有機EL素子10の陽極5は、透明絶縁膜
4上に延設され、TFT23の高濃度のソース領域28
aと接続されている。つまり、有機EL素子10の陽極
5は、TFT23のソース電極として機能する。
The anode 5 of the organic EL element 10 extends on the transparent insulating film 4 and has a high concentration of the source region 28 of the TFT 23.
a. That is, the anode 5 of the organic EL element 10 functions as a source electrode of the TFT 23.

【0038】なお、図示していないが、透明絶縁膜4上
には付加抵抗22、有機EL素子10及びTFT23を
覆うように、パッシベーション膜が形成される。図3
に、本実施形態の有機EL表示装置31のブロック構成
を示す。
Although not shown, a passivation film is formed on the transparent insulating film 4 so as to cover the additional resistor 22, the organic EL element 10, and the TFT 23. FIG.
2 shows a block configuration of the organic EL display device 31 of the present embodiment.

【0039】有機EL表示装置31は、表示パネル20
1、ゲートドライバ202、ドレインドライバ(データ
ドライバ)203から構成されている。表示パネル20
1には各ゲート配線(走査線)G1 …Gn,Gn+1 …Gm
と各ドレイン配線(データ線)D1 …Dn,Dn+1 …Dm
とが配置されている。各ゲート配線G1 〜Gm と各ドレ
イン配線D1 〜Dm とはそれぞれ直交し、その直交部分
にそれぞれ画素21が設けられている。つまり、マトリ
ックス状に配置された各画素21によって表示パネル2
01が形成されている。
The organic EL display device 31 includes a display panel 20
1, a gate driver 202 and a drain driver (data driver) 203. Display panel 20
Reference numeral 1 denotes each gate wiring (scanning line) G1... Gn, Gn + 1.
And each drain wiring (data line) D1... Dn, Dn + 1.
And are arranged. Each of the gate lines G1 to Gm and each of the drain lines D1 to Dm are orthogonal to each other, and a pixel 21 is provided at the orthogonal portion. That is, the display panel 2 is formed by the pixels 21 arranged in a matrix.
01 is formed.

【0040】そして、各ゲート配線G1 〜Gm はゲート
ドライバ202に接続され、ゲート信号(走査信号)が
印加されるようになっている。また、各ドレイン配線D
1 〜Dm はドレインドライバ203に接続され、データ
信号が印加されるようになっている。これらのドライバ
202,203によって周辺駆動回路204が構成され
ている。
Each of the gate lines G1 to Gm is connected to a gate driver 202 so that a gate signal (scan signal) is applied. In addition, each drain wiring D
1 to Dm are connected to a drain driver 203 so that a data signal is applied. These drivers 202 and 203 constitute a peripheral drive circuit 204.

【0041】ここで、各ゲート配線G1 〜Gm は、TF
T23のゲート電極26によって形成されている。ま
た、各ドレイン配線D1 〜Dm は、TFT23のドレイ
ン電極29によって形成されている。
Here, each of the gate lines G1 to Gm is connected to TF
It is formed by the gate electrode 26 of T23. Each of the drain wirings D1 to Dm is formed by the drain electrode 29 of the TFT 23.

【0042】図4に、ゲート配線Gn とドレイン配線D
n との直交部分に設けられている画素21の等価回路を
示す。有機EL素子10は付加抵抗22を介して共通陰
極線CLに接続されている。共通陰極線CLは、全ての画素
21に対して共通の配線になっており、付加容量11の
電極3によって形成されている。そして、共通陰極線CL
には定電圧が印加されている。
FIG. 4 shows a gate wiring Gn and a drain wiring D
3 shows an equivalent circuit of a pixel 21 provided in a portion orthogonal to n. The organic EL element 10 is connected to a common cathode line CL via an additional resistor 22. The common cathode line CL is a common wiring for all the pixels 21, and is formed by the electrode 3 of the additional capacitance 11. And the common cathode ray CL
Is supplied with a constant voltage.

【0043】つまり、直列に接続された有機EL素子1
0および付加抵抗22と、付加容量11とは、TFT2
3の高濃度のソース領域28aと共通陰極線CLとの間に
並列に接続されている。
That is, the organic EL element 1 connected in series
0, the additional resistor 22, and the additional capacitor 11, the TFT 2
3 are connected in parallel between the high-concentration source region 28a and the common cathode line CL.

【0044】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)画素21において、ゲート配線Gn を正電圧にし
てTFT23のゲート電極26に正電圧を印加すると、
TFT23がオン状態となる。すると、ドレイン配線D
n に印加されたデータ信号で、有機EL素子10の静電
容量と付加容量11とが充電され、画素21にデータ信
号が書き込まれる。そのデータ信号によって有機EL素
子10の駆動が行われる。
In the present embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) In the pixel 21, when the gate line Gn is set to a positive voltage and a positive voltage is applied to the gate electrode 26 of the TFT 23,
The TFT 23 is turned on. Then, the drain wiring D
The capacitance of the organic EL element 10 and the additional capacitance 11 are charged by the data signal applied to n, and the data signal is written to the pixel 21. The organic EL element 10 is driven by the data signal.

【0045】反対に、ゲート配線Gn を負電圧にしてT
FT23のゲート電極26に負電圧を印加すると、TF
T23がオフ状態となり、その時点でドレイン配線Dn
に印加されていたデータ信号は、電荷の状態で有機EL
素子10の静電容量と付加容量11とによって保持され
る。このように、画素21へ書き込みたいデータ信号を
各ドレイン配線D1 〜Dm に与えて、各ゲート配線G1
〜Gm の電圧を制御することにより、各画素21に任意
のデータ信号を保持させておくことができる。そして、
次に、TFT23がオン状態になるまで、引き続き有機
EL素子10の駆動が行われる。
On the other hand, the gate line Gn is set to a negative voltage and T
When a negative voltage is applied to the gate electrode 26 of the FT 23, TF
T23 is turned off, at which time the drain wiring Dn
The data signal applied to the organic EL
It is held by the capacitance of the element 10 and the additional capacitance 11. As described above, the data signal to be written to the pixel 21 is given to each of the drain lines D1 to Dm, and each of the gate lines G1
By controlling the voltages Gm to Gm, each pixel 21 can hold an arbitrary data signal. And
Next, the organic EL element 10 is continuously driven until the TFT 23 is turned on.

【0046】(2)上記(1)より、ゲート配線数(走
査線数)が増大して1つの画素21に割り当てられる駆
動時間が少なくなっても、有機EL素子10の駆動が影
響を受けることはなく、表示パネル201に表示される
画像のコントラストが低下することもない。従って、ア
クティブマトリックス方式の有機EL表示装置31によ
れば、第1実施形態における単純マトリックス方式の有
機EL表示装置に比べてはるかに高画質な表示が可能と
なる。
(2) From the above (1), even if the number of gate lines (the number of scanning lines) increases and the driving time allocated to one pixel 21 decreases, the driving of the organic EL element 10 is affected. Therefore, the contrast of the image displayed on the display panel 201 does not decrease. Therefore, according to the organic EL display device 31 of the active matrix type, it is possible to display much higher image quality than the organic EL display device of the simple matrix type in the first embodiment.

【0047】(3)有機EL素子10および付加抵抗2
2と、付加容量11とが、TFT23と共通陰極線CLと
の間に並列に接続されている。そのため、付加容量11
の静電容量分だけ、画素21の保持特性が向上する。そ
の結果、高画質なアクティブマトリックス方式の有機E
L表示装置31を実現することができる。
(3) Organic EL device 10 and additional resistor 2
2 and the additional capacitor 11 are connected in parallel between the TFT 23 and the common cathode line CL. Therefore, the additional capacity 11
The holding characteristic of the pixel 21 is improved by the amount of the capacitance. As a result, high-quality active matrix organic E
The L display device 31 can be realized.

【0048】ここで、付加抵抗22が設けられているの
は、有機EL素子10の内部抵抗が小さいためである。
つまり、有機EL素子10は内部抵抗が小さいため、付
加抵抗22が設けられていない場合、有機EL素子10
の内部抵抗と付加容量11とによる時定数が小さくな
り、画素21にデータ信号を保持可能な時間が短くなる
ことから、保持特性が低下してしまう。そこで、付加抵
抗22を設けることにより、有機EL素子10の内部抵
抗の不足分を補うわけである。
Here, the additional resistance 22 is provided because the internal resistance of the organic EL element 10 is small.
That is, since the organic EL element 10 has a small internal resistance, when the additional resistor 22 is not provided, the organic EL element 10
The time constant due to the internal resistance and the additional capacitance 11 becomes smaller, and the time during which the data signal can be held in the pixel 21 becomes shorter, so that the holding characteristic deteriorates. Therefore, the shortage of the internal resistance of the organic EL element 10 is compensated for by providing the additional resistor 22.

【0049】例えば、第1実施形態の前記(2)と同様
に各部材(透明絶縁膜4、電極3、陽極5、陰極9)の
条件を設定し、付加容量11に流れる電流Iを0.15
μAとした場合には、付加抵抗22を40MΩ程度に設
定することで、十分な保持特性を得ることができる。
For example, the conditions of each member (the transparent insulating film 4, the electrode 3, the anode 5, the cathode 9) are set in the same manner as in the above (2) of the first embodiment, and the current I flowing through the additional capacitor 11 is set to 0.1. Fifteen
In the case of μA, a sufficient holding characteristic can be obtained by setting the additional resistor 22 to about 40 MΩ.

【0050】(4)画素21においては、TFT23を
設けている分だけ、第1実施形態の画素1に比べて表示
パネル上の専有面積が大きくなる。しかし、TFT23
のトランジスタサイズが小さいものであっても、画素2
1を駆動するのには十分である。そのため、TFT23
による画素21の面積増大により、有機EL表示装置3
1の画質が低下することはない。
(4) In the pixel 21, the area occupied on the display panel is larger than that of the pixel 1 of the first embodiment by the provision of the TFT 23. However, TFT23
Pixel 2 even if the transistor size is small.
One is sufficient to drive one. Therefore, the TFT 23
The organic EL display device 3
The image quality of No. 1 does not decrease.

【0051】例えば、TFT23のゲート電極26の幅
(ゲート幅W)および長さ(ゲート長L)を共に5μm
とした場合、ソース・ドレイン間に流れる電流は10〜
20A程度になる。この電流値は、前記した付加容量1
1および有機EL素子10に流れる電流I(=0.15
μA)に比べて十分に大きい。従って、TFT23のト
ランジスタサイズは小さくても良いことがわかる。
For example, the width (gate width W) and length (gate length L) of the gate electrode 26 of the TFT 23 are both 5 μm.
, The current flowing between the source and drain
It is about 20A. This current value corresponds to the additional capacitance 1 described above.
1 and the current I flowing through the organic EL element 10 (= 0.15
μA). Therefore, it is understood that the transistor size of the TFT 23 may be small.

【0052】(5)TFT23は、能動層として多結晶
シリコン膜24を用い、LDD構造をとる。そのため、
TFT23のオン・オフ比を大きくすると共に、オフ状
態におけるリーク電流を小さくすることができる。従っ
て、上記(2)の作用および効果をより確実に得ること
ができる。
(5) The TFT 23 has an LDD structure using the polycrystalline silicon film 24 as an active layer. for that reason,
The on / off ratio of the TFT 23 can be increased, and the leakage current in the off state can be reduced. Therefore, the operation and effect (2) can be more reliably obtained.

【0053】ところで、TFT23において、各ドレイ
ン領域27a,27bがソース領域と呼ばれ、ドレイン
電極29がソース電極と呼ばれ、各ソース領域28a,
28bがドレイン領域と呼ばれることがある。この場
合、ドレイン配線D1 〜Dm はソース配線と呼ばれ、ド
レインドライバ203はソースドライバと呼ばれる。
In the TFT 23, each drain region 27a, 27b is called a source region, and the drain electrode 29 is called a source electrode.
28b may be called a drain region. In this case, the drain wirings D1 to Dm are called source wirings, and the drain driver 203 is called a source driver.

【0054】(第3実施形態)以下、本発明を具体化し
た第3実施形態を図面に従って説明する。尚、本実施形
態において、第1実施形態と同じ構成部材については符
号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Third Embodiment) Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, the same components as those in the first embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0055】図5は、本実施形態の有機EL表示装置の
1つの画素を示す概略断面図である。単純マトリックス
方式をとる有機EL表示装置の1つの画素41は、透明
絶縁基板2、陽極5、ホール輸送層6、発光層7、電子
輸送層8、陰極9、絶縁膜42、付加容量(補助容量)
の片側の電極43から構成されている。その各部材2,
5〜9、42,43はこの順番で積層形成されている。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 41 of the organic EL display device adopting the simple matrix system includes a transparent insulating substrate 2, an anode 5, a hole transport layer 6, a light emitting layer 7, an electron transport layer 8, a cathode 9, an insulating film 42, an additional capacitance (auxiliary capacitance). )
Of the electrode 43 on one side. Each member 2,
5 to 9, 42, and 43 are laminated in this order.

【0056】絶縁膜42はシリコン窒化膜,シリコン酸
化膜,シリコン窒酸化膜などから形成されている。尚、
絶縁膜42は透明である必要はなく、所望の絶縁特性を
有する膜であればどのような材質を用いてもよい。
The insulating film 42 is formed of a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, or the like. still,
The insulating film 42 does not need to be transparent, and any material may be used as long as it has a desired insulating property.

【0057】電極43はアルミ合金膜,高融点金属膜,
高融点金属化合物膜,シリサイド膜,ポリサイド膜,ド
ープドポリシリコン膜などから形成されている。尚、電
極43についても透明である必要はなく、抵抗値の低い
膜であればどのような材質を用いてもよい。
The electrode 43 is made of an aluminum alloy film, a high melting point metal film,
It is formed of a refractory metal compound film, a silicide film, a polycide film, a doped polysilicon film and the like. The electrode 43 does not need to be transparent, and any material may be used as long as it has a low resistance value.

【0058】電極43および陰極9は絶縁膜42を挟ん
で対向している。そのため、絶縁膜42は誘電体膜とし
て機能し、絶縁膜42と電極43および陰極9とによっ
てコンデンサが形成され、そのコンデンサにより付加容
量44が構成されている。つまり、陰極9は付加容量4
4の片側の電極として機能する。
The electrode 43 and the cathode 9 face each other with the insulating film 42 interposed therebetween. Therefore, the insulating film 42 functions as a dielectric film, and a capacitor is formed by the insulating film 42, the electrode 43, and the cathode 9, and the capacitor forms the additional capacitance 44. That is, the cathode 9 has the additional capacity 4
4 functions as one electrode.

【0059】電極43および陽極5は駆動電源12のプ
ラス側に接続され、陰極9は駆動電源12のマイナス側
に接続されている。つまり、有機EL素子10と付加容
量44とは、駆動電源12に対して並列に接続されてい
る。
The electrode 43 and the anode 5 are connected to the plus side of the drive power supply 12, and the cathode 9 is connected to the minus side of the drive power supply 12. That is, the organic EL element 10 and the additional capacitor 44 are connected in parallel to the drive power supply 12.

【0060】このように構成された画素41がマトリッ
クス状に配置されることにより、有機EL表示装置の表
示パネルが形成されている。本実施形態においては、駆
動電源12に対して有機EL素子10と付加容量41と
が並列に接続されている。そのため、付加容量44の静
電容量分だけ、画素41の保持特性が向上する。つま
り、付加容量44によって有機EL素子10の静電容量
の不足分を補うわけである。その結果、高画質な単純マ
トリックス方式の有機EL表示装置を実現することがで
きる。
The display panel of the organic EL display device is formed by arranging the pixels 41 configured as described above in a matrix. In this embodiment, the organic EL element 10 and the additional capacitance 41 are connected in parallel to the drive power supply 12. Therefore, the holding characteristics of the pixel 41 are improved by the capacitance of the additional capacitance 44. That is, the additional capacitance 44 compensates for the shortage of the capacitance of the organic EL element 10. As a result, a high-quality organic EL display device of a simple matrix system can be realized.

【0061】(第4実施形態)以下、本発明を具体化し
た第4実施形態を図面に従って説明する。尚、本実施形
態において、第1〜第3実施形態と同じ構成部材につい
ては符号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Fourth Embodiment) Hereinafter, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, the same components as those in the first to third embodiments have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0062】図6は、本実施形態の有機EL表示装置の
1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマトリ
ックス方式をとる有機EL表示装置の1つの画素51
は、有機EL素子10、付加容量44、電極52、TF
T23から構成されている。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 51 of an organic EL display device employing an active matrix system
Are the organic EL element 10, the additional capacitor 44, the electrode 52, the TF
T23.

【0063】透明絶縁基板2上には有機EL素子10と
絶縁膜53とが形成され、有機EL素子10および絶縁
膜53の表面は平坦化されている。つまり、透明絶縁基
板2上に有機EL素子10を形成することによって生じ
る段差は、絶縁膜53によって埋め込まれている。絶縁
膜53はシリコン窒化膜,シリコン酸化膜,シリコン窒
酸化膜などから形成されている。尚、絶縁膜53は透明
である必要はなく、所望の絶縁特性を有する膜であれば
どのような材質を用いてもよい。
The organic EL element 10 and the insulating film 53 are formed on the transparent insulating substrate 2, and the surfaces of the organic EL element 10 and the insulating film 53 are flattened. That is, a step caused by forming the organic EL element 10 on the transparent insulating substrate 2 is buried by the insulating film 53. The insulating film 53 is formed of a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, or the like. Note that the insulating film 53 does not need to be transparent, and any material may be used as long as it has a desired insulating property.

【0064】有機EL素子10は透明絶縁基板2上に陰
極9、電子輸送層8、発光層7、ホール輸送層6、付加
抵抗としての陽極5の順番で積層形成されている。陽極
5は高抵抗膜から構成される。そのような高抵抗膜とし
ては、ポリサイド膜やシリサイド膜などがある。
The organic EL element 10 is formed on the transparent insulating substrate 2 in the order of a cathode 9, an electron transport layer 8, a light emitting layer 7, a hole transport layer 6, and an anode 5 as an additional resistor. The anode 5 is composed of a high resistance film. Examples of such a high resistance film include a polycide film and a silicide film.

【0065】電極52は、有機EL素子10の陽極5上
に形成されている。電極52は、絶縁膜53上に延設さ
れ、TFT23の高濃度のソース領域28aと接続され
ている。つまり、電極52は、TFT23のソース電極
として機能する。
The electrode 52 is formed on the anode 5 of the organic EL device 10. The electrode 52 extends on the insulating film 53 and is connected to the high-concentration source region 28a of the TFT 23. That is, the electrode 52 functions as a source electrode of the TFT 23.

【0066】電極52上には、絶縁膜42を介して電極
43が形成されている。電極52および電極43は、絶
縁膜42を挟んで対向している。そのため、絶縁膜42
は誘電体膜として機能し、絶縁膜42と、電極52およ
び電極43とによってコンデンサが形成され、そのコン
デンサにより付加容量44が構成されている。つまり、
電極52は、付加容量44の片側の電極としても機能す
る。尚、付加容量44と陽極5とは接続されているた
め、陽極5も付加容量44の片側の電極として機能す
る。
An electrode 43 is formed on the electrode 52 with an insulating film 42 interposed therebetween. The electrode 52 and the electrode 43 face each other with the insulating film 42 interposed therebetween. Therefore, the insulating film 42
Functions as a dielectric film, a capacitor is formed by the insulating film 42, the electrode 52 and the electrode 43, and the capacitor forms an additional capacitance 44. That is,
The electrode 52 also functions as one electrode of the additional capacitance 44. Since the additional capacitance 44 and the anode 5 are connected, the anode 5 also functions as one electrode of the additional capacitance 44.

【0067】図7に、本実施形態の有機EL表示装置5
4のブロック構成を示す。有機EL表示装置54は、第
2実施形態の有機EL表示装置31と同様に、表示パネ
ル201、ゲートドライバ202、ドレインドライバ2
03から構成されている。
FIG. 7 shows an organic EL display device 5 of this embodiment.
4 shows the block configuration of FIG. The organic EL display device 54 includes a display panel 201, a gate driver 202, and a drain driver 2 similarly to the organic EL display device 31 of the second embodiment.
03.

【0068】図8に、ゲート配線Gn とドレイン配線D
n との直交部分に設けられている画素51の等価回路を
示す。有機EL素子10は共通陰極線CLに接続されてい
る。共通陰極線CLは、全ての画素51に対して共通の配
線になっており、有機EL素子10の陽極5によって形
成されている。
FIG. 8 shows the gate wiring Gn and the drain wiring D
5 shows an equivalent circuit of a pixel 51 provided in a portion orthogonal to n. The organic EL element 10 is connected to a common cathode line CL. The common cathode line CL is a common wiring for all the pixels 51, and is formed by the anode 5 of the organic EL element 10.

【0069】つまり、直列に接続された有機EL素子1
0およびその陽極(付加抵抗)5と、付加容量44と
は、TFT23の高濃度のソース領域28aと共通陰極
線CLとの間に並列に接続されている。
That is, the organic EL element 1 connected in series
0 and its anode (additional resistance) 5 and the additional capacitance 44 are connected in parallel between the high-concentration source region 28a of the TFT 23 and the common cathode line CL.

【0070】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)画素51の駆動方法については、第2実施形態の
前記(1)と同様である。従って、第2実施形態の前記
(2)と同様の作用により、アクティブマトリックス方
式の有機EL表示装置54によれば、第1実施形態ある
いは第3実施形態における単純マトリックス方式の有機
EL表示装置に比べてはるかに高画質な表示が可能とな
る。
In this embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) The driving method of the pixel 51 is the same as (1) of the second embodiment. Therefore, according to the operation similar to the above (2) of the second embodiment, according to the active matrix type organic EL display device 54, compared to the simple matrix type organic EL display device according to the first embodiment or the third embodiment. Display with much higher image quality.

【0071】(2)有機EL素子10およびその陽極5
と、付加容量44とが、TFT23と共通陰極線CLとの
間に並列に接続されている。そのため、付加容量44の
静電容量分だけ、画素51の保持特性が向上する。その
結果、高画質なアクティブマトリックス方式の有機EL
表示装置54を実現することができる。尚、陽極5の機
能は、第2実施形態における付加抵抗22のそれと同じ
である。
(2) Organic EL device 10 and its anode 5
And an additional capacitor 44 are connected in parallel between the TFT 23 and the common cathode line CL. Therefore, the holding characteristics of the pixel 51 are improved by the capacitance of the additional capacitance 44. As a result, a high quality active matrix organic EL
The display device 54 can be realized. The function of the anode 5 is the same as that of the additional resistor 22 in the second embodiment.

【0072】(第5実施形態)以下、本発明を具体化し
た第5実施形態を図面に従って説明する。尚、本実施形
態において、第2実施形態と同じ構成部材については符
号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Fifth Embodiment) Hereinafter, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, the same components as those in the second embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0073】図9は、本実施形態の有機EL表示装置の
1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマトリ
ックス方式をとる有機EL表示装置の1つの画素55
は、有機EL素子10、付加容量57、付加抵抗58、
画素駆動素子としてのTFT60から構成されている。
FIG. 9 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 55 of an organic EL display device employing an active matrix system
Are the organic EL element 10, the additional capacitance 57, the additional resistance 58,
It comprises a TFT 60 as a pixel drive element.

【0074】透明絶縁基板2上には付加容量(補助容
量)の片側の電極56、透明絶縁膜59、付加抵抗58
及び有機EL素子10がこの順番で積層形成されてい
る。透明絶縁膜59はシリコン窒化膜,シリコン酸化
膜,シリコン窒酸化膜などから形成されている。電極5
6および付加抵抗58はITO(Indium Tin Oxide)な
どの透明電極から形成されている。
On the transparent insulating substrate 2, an electrode 56 on one side of an additional capacitance (auxiliary capacitance), a transparent insulating film 59, and an additional resistor 58
The organic EL elements 10 are stacked in this order. The transparent insulating film 59 is formed of a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, or the like. Electrode 5
6 and the additional resistor 58 are formed of a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide).

【0075】付加抵抗58は、アモルファスシリコン
膜、ポリサイド膜、シリサイド膜などの高抵抗膜から構
成される。また、電極56および付加抵抗58は透明絶
縁膜59を挟んで対向している。そのため、透明絶縁膜
59は誘電体膜として機能し、透明絶縁膜59と電極5
6および付加抵抗58とによってコンデンサが形成さ
れ、そのコンデンサにより付加容量57が構成されてい
る。
The additional resistor 58 is composed of a high-resistance film such as an amorphous silicon film, a polycide film, and a silicide film. The electrode 56 and the additional resistor 58 are opposed to each other with the transparent insulating film 59 interposed therebetween. Therefore, the transparent insulating film 59 functions as a dielectric film, and the transparent insulating film 59 and the electrode 5
6 and the additional resistor 58 form a capacitor, and the capacitor forms the additional capacitance 57.

【0076】プレーナ型のTFT60は、能動層として
多結晶シリコン膜61(またはアモルファスシリコン
膜)を用いる。多結晶シリコン膜61は透明絶縁基板2
上に形成されている。多結晶シリコン膜61上には、ゲ
ート絶縁膜62を介してゲート電極63が形成されてい
る。多結晶シリコン膜61には、ドレイン領域64、ソ
ース領域65がそれぞれ形成されている。ドレイン領域
64はドレイン電極66と接続されている。
The planar type TFT 60 uses a polycrystalline silicon film 61 (or an amorphous silicon film) as an active layer. The polycrystalline silicon film 61 is a transparent insulating substrate 2
Is formed on. A gate electrode 63 is formed on the polycrystalline silicon film 61 with a gate insulating film 62 interposed. A drain region 64 and a source region 65 are formed in the polycrystalline silicon film 61, respectively. The drain region 64 is connected to the drain electrode 66.

【0077】付加抵抗58は、透明絶縁膜59上に延設
され、TFT60のソース領域65と接続されている。
つまり、有機EL素子10の陽極5は、TFT60のソ
ース電極として機能する。
The additional resistor 58 extends on the transparent insulating film 59 and is connected to the source region 65 of the TFT 60.
That is, the anode 5 of the organic EL element 10 functions as a source electrode of the TFT 60.

【0078】また、TFT60上には絶縁膜67が形成
され、有機EL素子10及び絶縁膜67を覆うように、
パッシベーション膜68が形成されている。図10に、
画素55を図3と同様の有機EL表示装置に用いた場合
の等価回路を示す。有機EL素子10はTFT60を介
してドレイン配線(駆動電源のプラス側)Dn と共通陰
極線CLとの間に接続されている。付加抵抗58は付加容
量57を介して共通陰極線CLに接続されている。
An insulating film 67 is formed on the TFT 60 and covers the organic EL element 10 and the insulating film 67.
A passivation film 68 is formed. In FIG.
4 shows an equivalent circuit when the pixel 55 is used in the same organic EL display device as that of FIG. The organic EL element 10 is connected between the drain wiring (the positive side of the driving power supply) Dn and the common cathode line CL via the TFT 60. The additional resistor 58 is connected to the common cathode line CL via the additional capacitor 57.

【0079】つまり、直列に接続された付加抵抗58お
よび付加容量57と有機EL素子10とは、TFT60
のソース領域65と共通陰極線CLとの間に並列に接続さ
れている。
That is, the additional resistor 58 and the additional capacitor 57 connected in series and the organic EL element 10
Are connected in parallel between the source region 65 and the common cathode line CL.

【0080】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)画素55の駆動方法については、第2実施形態の
前記(1)と同様である。従って、第2実施形態の前記
(2)と同様の作用により、本実施形態のアクティブマ
トリックス方式の有機EL表示装置によれば、第1実施
形態あるいは第3実施形態における単純マトリックス方
式の有機EL表示装置に比べてはるかに高画質な表示が
可能となる。
In the present embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) The method of driving the pixel 55 is the same as that of (1) of the second embodiment. Therefore, according to the operation similar to the above (2) of the second embodiment, according to the active matrix type organic EL display device of the present embodiment, the simple matrix type organic EL display of the first embodiment or the third embodiment is used. A display with a much higher image quality than the device can be performed.

【0081】(2)付加抵抗58および付加容量57の
直列回路と有機EL素子10とが、TFT60と共通陰
極線CLとの間に並列に接続されている。そのため、付加
容量57の静電容量分だけ、画素55の保持特性が向上
する。その結果、高画質なアクティブマトリックス方式
の有機EL表示装置を実現することができる。
(2) A series circuit of the additional resistor 58 and the additional capacitor 57 and the organic EL element 10 are connected in parallel between the TFT 60 and the common cathode line CL. Therefore, the holding characteristics of the pixel 55 are improved by the capacitance of the additional capacitance 57. As a result, a high-quality active matrix organic EL display device can be realized.

【0082】(3)また、付加抵抗58が設けられてい
るのは第2実施形態の前記(3)と同様の理由による
が、ここでは、付加抵抗58が有機EL素子10に対し
て並列に設けられていることから、同抵抗58を付加す
ることに起因する書き込み特性の劣化等がない。
(3) The additional resistor 58 is provided for the same reason as in (3) of the second embodiment. However, here, the additional resistor 58 is provided in parallel with the organic EL element 10. Since it is provided, there is no deterioration in the write characteristics due to the addition of the resistor 58.

【0083】ところで、TFT60において、ドレイン
領域64がソース領域と呼ばれ、ドレイン電極66がソ
ース電極と呼ばれ、ソース領域65がドレイン領域と呼
ばれることがあることは前記TFT23の場合と同様で
ある。
In the TFT 60, the drain region 64 is called a source region, the drain electrode 66 is called a source electrode, and the source region 65 is called a drain region, as in the case of the TFT 23.

【0084】(第6実施形態)以下、本発明を具体化し
た第6実施形態を図面に従って説明する。尚、本実施形
態において、第5実施形態と同じ構成部材については符
号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Sixth Embodiment) Hereinafter, a sixth embodiment of the invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, the same components as those in the fifth embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0085】図11は、本実施形態の有機EL表示装置
の1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマト
リックス方式をとる有機EL表示装置の1つの画素70
は、有機EL素子10、付加容量72、画素駆動素子と
してのTFT60から構成されている。
FIG. 11 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 70 of an organic EL display device using an active matrix system
Is composed of an organic EL element 10, an additional capacitor 72, and a TFT 60 as a pixel driving element.

【0086】透明絶縁基板2上には付加抵抗として作用
する電極71、透明絶縁膜59、付加容量(補助容量)
の片側の電極73及び有機EL素子10がこの順番で積
層形成されている。付加抵抗としての電極71は、アモ
ルファスシリコン膜、ポリサイド膜、シリサイド膜など
の高抵抗膜から構成され、付加容量(補助容量)の片側
の電極としても機能する。
On the transparent insulating substrate 2, an electrode 71 acting as an additional resistor, a transparent insulating film 59, and an additional capacitance (auxiliary capacitance)
The electrode 73 on one side and the organic EL element 10 are laminated in this order. The electrode 71 serving as an additional resistor is formed of a high-resistance film such as an amorphous silicon film, a polycide film, or a silicide film, and also functions as one electrode of an additional capacitance (auxiliary capacitance).

【0087】また、電極71および電極73は透明絶縁
膜59を挟んで対向している。そのため、透明絶縁膜5
9は誘電体膜として機能し、透明絶縁膜59と電極71
および電極73とによってコンデンサが形成され、その
コンデンサにより付加容量72が構成されている。
The electrodes 71 and 73 face each other with the transparent insulating film 59 interposed therebetween. Therefore, the transparent insulating film 5
9 functions as a dielectric film, and includes a transparent insulating film 59 and an electrode 71.
A capacitor is formed by the electrode 73 and the capacitor 73, and the capacitor forms the additional capacitance 72.

【0088】電極73は、透明絶縁膜59上に延設さ
れ、TFT60のソース領域65と接続されている。つ
まり、有機EL素子10の陽極5は、TFT60のソー
ス電極として機能する。
The electrode 73 extends on the transparent insulating film 59 and is connected to the source region 65 of the TFT 60. That is, the anode 5 of the organic EL element 10 functions as a source electrode of the TFT 60.

【0089】図12に、画素70を図3と同様の有機E
L表示装置に用いた場合の等価回路を示す。有機EL素
子10はTFT60を介してドレイン配線(駆動電源の
プラス側)Dn と共通陰極線CLとの間に接続されてい
る。電極(付加抵抗)71は付加容量72と共通陰極線
CLとの間に接続されている。
FIG. 12 shows a pixel 70 having the same organic E as that of FIG.
5 shows an equivalent circuit when used in an L display device. The organic EL element 10 is connected between the drain wiring (the positive side of the driving power supply) Dn and the common cathode line CL via the TFT 60. The electrode (additional resistance) 71 is an additional capacitance 72 and a common cathode line.
Connected to CL.

【0090】つまり、直列に接続された付加容量72お
よび付加抵抗71と有機EL素子10とは、TFT60
のソース領域65と共通陰極線CLとの間に並列に接続さ
れている。
That is, the additional capacitor 72 and the additional resistor 71 connected in series and the organic EL element 10
Are connected in parallel between the source region 65 and the common cathode line CL.

【0091】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)画素70の駆動方法については、第2実施形態の
前記(1)と同様である。従って、第2実施形態の前記
(2)と同様の作用により、アクティブマトリックス方
式の有機EL表示装置によれば、第1実施形態あるいは
第3実施形態における単純マトリックス方式の有機EL
表示装置に比べてはるかに高画質な表示が可能となる。
In this embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) The method of driving the pixel 70 is the same as that in the above (1) of the second embodiment. Therefore, according to the organic EL display device of the active matrix type by the same operation as the above (2) of the second embodiment, the organic EL device of the simple matrix type in the first or third embodiment is used.
Display with much higher image quality can be performed as compared with a display device.

【0092】(2)付加容量72および付加抵抗(電
極)71の直列回路と有機EL素子10とが、TFT6
0と共通陰極線CLとの間に並列に接続されている。その
ため、付加容量72の静電容量分だけ、画素70の保持
特性が向上する。その結果、高画質なアクティブマトリ
ックス方式の有機EL表示装置を実現することができ
る。また、付加抵抗としての電極71が有機EL素子1
0に対して並列に設けられていることから、同電極71
を付加することに起因する書き込み特性の劣化等がな
い。
(2) The series circuit of the additional capacitor 72 and the additional resistor (electrode) 71 and the organic EL element 10
0 and the common cathode line CL are connected in parallel. Therefore, the holding characteristics of the pixel 70 are improved by the capacitance of the additional capacitance 72. As a result, a high-quality active matrix organic EL display device can be realized. Also, the electrode 71 as an additional resistor is the organic EL element 1
0, the electrodes 71
There is no deterioration of the writing characteristics caused by adding.

【0093】(第7実施形態)以下、本発明を具体化し
た第7実施形態を図面に従って説明する。尚、本実施形
態において、第6実施形態と同じ構成部材については符
号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Seventh Embodiment) Hereinafter, a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, the same components as those in the sixth embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0094】図13は、本実施形態の有機EL表示装置
の1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマト
リックス方式をとる有機EL表示装置の1つの画素75
は、有機EL素子10、付加容量72、画素駆動素子と
してのTFT60から構成されている。本実施形態にお
いて、付加抵抗として作用する付加容量(補助容量)の
片側の電極76はTFT60の下方まで延設されてお
り、その他の構成は第6実施形態の画素70(図11参
照)と同様である。
FIG. 13 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 75 of an organic EL display device using an active matrix method
Is composed of an organic EL element 10, an additional capacitor 72, and a TFT 60 as a pixel driving element. In the present embodiment, an electrode 76 on one side of an additional capacitance (auxiliary capacitance) acting as an additional resistor extends below the TFT 60, and the other configuration is the same as that of the pixel 70 (see FIG. 11) of the sixth embodiment It is.

【0095】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)本実施形態の画素75を用いた有機EL表示装置
によれば、第6実施形態の有機EL表示装置と同様の作
用及び効果がある。また、付加抵抗として作用する電極
76をTFT60の下方まで延設しているので、透明絶
縁基板2として安価なガラスを使用した場合に、ガラス
中に含まれるナトリウムイオン、カリウムイオン等のイ
オンによるTFT60の動作への影響を、電極76によ
って遮断することができる。よって、画素75を安定し
て動作させることができ、画素75の信頼性を向上する
ことができる。
In the present embodiment, the following actions and effects can be obtained. (1) According to the organic EL display device using the pixels 75 of the present embodiment, the same operation and effect as those of the organic EL display device of the sixth embodiment can be obtained. Further, since the electrode 76 acting as an additional resistor extends below the TFT 60, when inexpensive glass is used as the transparent insulating substrate 2, the TFT 60 is formed by ions such as sodium ions and potassium ions contained in the glass. Can be blocked by the electrode 76. Therefore, the pixel 75 can be operated stably, and the reliability of the pixel 75 can be improved.

【0096】(第8実施形態)以下、本発明を具体化し
た第8実施形態を図面に従って説明する。尚、本実施形
態において、第5実施形態と同じ構成部材については符
号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Eighth Embodiment) An eighth embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, the same components as those in the fifth embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0097】図14は、本実施形態の有機EL表示装置
の1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマト
リックス方式をとる有機EL表示装置の1つの画素80
は、有機EL素子10、付加容量81、付加抵抗84、
画素駆動素子としてのTFT60から構成されている。
FIG. 14 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 80 of an organic EL display device employing an active matrix system
Represents an organic EL element 10, an additional capacitor 81, an additional resistor 84,
It comprises a TFT 60 as a pixel drive element.

【0098】透明絶縁基板2上には付加容量(補助容
量)の片側の電極56、透明絶縁膜59、付加抵抗84
及び有機EL素子10がこの順番で積層形成されてい
る。付加抵抗84は透明絶縁膜59上に形成されたN+
型多結晶シリコン膜82と、同シリコン膜82上に形成
されたP+ 型多結晶シリコン膜83とからなる。付加抵
抗84はPN接合構造をとるため、可変抵抗として動作
する。つまり、P+型多結晶シリコン膜83からN+ 型
多結晶シリコン膜82に向かって電流が流れる場合には
順方向となるため、付加抵抗84は低抵抗として作用
し、逆にN+ 型多結晶シリコン膜82からP+ 型多結晶
シリコン膜83に向かって電流が流れる場合には逆方向
となるため、付加抵抗84は高抵抗として作用する。
On the transparent insulating substrate 2, the electrode 56 on one side of the additional capacitance (auxiliary capacitance), the transparent insulating film 59, and the additional resistor 84
The organic EL elements 10 are stacked in this order. The additional resistor 84 is formed by an N + layer formed on the transparent insulating film 59.
A polycrystalline silicon film 82 and a P + type polycrystalline silicon film 83 formed on the silicon film 82. Since the additional resistor 84 has a PN junction structure, it operates as a variable resistor. That is, when a current flows from the P + -type polycrystalline silicon film 83 to the N + -type polycrystalline silicon film 82, the current flows in the forward direction. When a current flows from the crystalline silicon film 82 to the P + -type polycrystalline silicon film 83, the current flows in the opposite direction, so that the additional resistance 84 acts as a high resistance.

【0099】また、電極56および付加抵抗84は透明
絶縁膜59を挟んで対向している。そのため、透明絶縁
膜59は誘電体膜として機能し、透明絶縁膜59と電極
56および付加抵抗84とによってコンデンサが形成さ
れ、そのコンデンサにより付加容量81が構成されてい
る。
The electrode 56 and the additional resistor 84 face each other with the transparent insulating film 59 interposed therebetween. Therefore, the transparent insulating film 59 functions as a dielectric film, and a capacitor is formed by the transparent insulating film 59, the electrode 56, and the additional resistor 84, and the capacitor forms the additional capacitance 81.

【0100】また、P+ 型多結晶シリコン膜83は、透
明絶縁膜59上に延設され、TFT60のソース領域6
5と接続されている。つまり、有機EL素子10の陽極
5は、TFT60のソース電極として機能する。
The P + -type polycrystalline silicon film 83 is extended on the transparent insulating film 59, and the source region 6 of the TFT 60 is formed.
5 is connected. That is, the anode 5 of the organic EL element 10 functions as a source electrode of the TFT 60.

【0101】図15に、画素80を図3と同様の有機E
L表示装置に用いた場合の等価回路を示す。有機EL素
子10はTFT60を介してドレイン配線(駆動電源の
プラス側)Dn と共通陰極線CLとの間に接続されてい
る。付加抵抗84は付加容量81を介して共通陰極線CL
に接続されている。
FIG. 15 shows a pixel 80 formed of the same organic E as in FIG.
5 shows an equivalent circuit when used in an L display device. The organic EL element 10 is connected between the drain wiring (the positive side of the driving power supply) Dn and the common cathode line CL via the TFT 60. The additional resistor 84 is connected to the common cathode line CL via the additional capacitor 81.
It is connected to the.

【0102】つまり、直列に接続された付加抵抗84お
よび付加容量81と有機EL素子10とは、TFT60
のソース領域65と共通陰極線CLとの間に並列に接続さ
れている。
That is, the additional resistor 84 and the additional capacitor 81 connected in series and the organic EL element 10
Are connected in parallel between the source region 65 and the common cathode line CL.

【0103】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)画素80において、ゲート配線Gn を正電圧にし
てTFT60のゲート電極63に正電圧を印加すると、
TFT60がオン状態となる。すると、ドレイン配線D
n に印加されたデータ信号で、有機EL素子10の静電
容量と付加容量81とが充電され、画素80にデータ信
号が書き込まれる。そのデータ信号によって有機EL素
子10の駆動が行われる。この際、P+ 型多結晶シリコ
ン膜83及びN+ 多結晶シリコン膜82は順方向となる
ため、付加抵抗84は低抵抗として動作し、付加容量8
1は速やかに充電される。
In the present embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) In the pixel 80, when a positive voltage is applied to the gate electrode 63 of the TFT 60 by setting the gate line Gn to a positive voltage,
The TFT 60 is turned on. Then, the drain wiring D
With the data signal applied to n, the capacitance of the organic EL element 10 and the additional capacitance 81 are charged, and the data signal is written to the pixel 80. The organic EL element 10 is driven by the data signal. At this time, the P + -type polycrystalline silicon film 83 and the N + polycrystalline silicon film 82 are in the forward direction, so that the additional resistance 84 operates as a low resistance, and the additional capacitance 8
1 is charged quickly.

【0104】反対に、ゲート配線Gn を負電圧にしてT
FT60のゲート電極63に負電圧を印加すると、TF
T60がオフ状態となり、その時点でドレイン配線Dn
に印加されていたデータ信号は、電荷の状態で有機EL
素子10の静電容量と付加容量11とによって保持され
る。有機EL素子10の発光に伴って付加容量81から
有機EL素子10に電流が供給される。この際、P+ 型
多結晶シリコン膜83及びN+ 多結晶シリコン膜82は
逆方向となるため、付加抵抗84は高抵抗として動作
し、付加容量81は緩やかに放電される。
On the other hand, the gate line Gn is set to a negative voltage and T
When a negative voltage is applied to the gate electrode 63 of the FT 60, TF
T60 is turned off, at which time the drain wiring Dn
The data signal applied to the organic EL
It is held by the capacitance of the element 10 and the additional capacitance 11. A current is supplied to the organic EL element 10 from the additional capacitor 81 with the light emission of the organic EL element 10. At this time, the P + type polycrystalline silicon film 83 and the N + polycrystalline silicon film 82 are in opposite directions, so that the additional resistance 84 operates as a high resistance, and the additional capacitance 81 is discharged slowly.

【0105】このように、画素80へ書き込みたいデー
タ信号を各ドレイン配線に与えて、各ゲート配線の電圧
を制御することにより、各画素80に任意のデータ信号
を保持させておくことができる。そして、次に、TFT
60がオン状態になるまで、引き続き有機EL素子10
の駆動が行われる。
As described above, by supplying a data signal to be written to the pixel 80 to each drain wiring and controlling the voltage of each gate wiring, each pixel 80 can hold an arbitrary data signal. And then, TFT
Until 60 is turned on, the organic EL element 10
Is driven.

【0106】従って、アクティブマトリックス方式の有
機EL表示装置によれば、単純マトリックス方式の有機
EL表示装置に比べてはるかに高画質な表示が可能とな
る。 (2)付加抵抗84をP+ 型多結晶シリコン膜83とN
+ 型多結晶シリコン膜82とにより構成しているので、
付加容量81の充電時には付加抵抗84を低抵抗として
動作させて時定数を小さくし、付加容量81を速やかに
充電させることができ、付加容量81の放電時には付加
抵抗84を高抵抗として動作させて時定数を大きくし、
付加容量81を緩やかに放電させることができる。その
結果、ゲート配線数(走査線数)が増大して1つの画素
80に割り当てられる駆動時間が少なくなっても、付加
容量81は十分に充電されているため、有機EL素子1
0の駆動が影響を受けることはなく、表示パネルに表示
される画像のコントラストが低下することもない。従っ
て、第2,第4〜7実施形態のアクティブマトリックス
方式の有機EL表示装置よりも、より高画質なアクティ
ブマトリックス方式の有機EL表示装置を実現すること
ができる。
Therefore, according to the active matrix type organic EL display device, a display with much higher image quality can be performed as compared with the simple matrix type organic EL display device. (2) The additional resistor 84 is connected to the P + type polysilicon film 83 and N
Since it is composed of the + type polycrystalline silicon film 82,
When the additional capacitor 81 is charged, the additional resistor 84 is operated with a low resistance to reduce the time constant, and the additional capacitor 81 can be quickly charged. When the additional capacitor 81 is discharged, the additional resistor 84 is operated with a high resistance. Increase the time constant,
The additional capacity 81 can be slowly discharged. As a result, even when the number of gate lines (the number of scanning lines) increases and the driving time allocated to one pixel 80 decreases, the additional capacitor 81 is sufficiently charged.
The drive of 0 is not affected, and the contrast of the image displayed on the display panel does not decrease. Therefore, it is possible to realize an active matrix type organic EL display device having higher image quality than the active matrix type organic EL display devices of the second, fourth to seventh embodiments.

【0107】(第9実施形態)以下、本発明を具体化し
た第9実施形態を図面に従って説明する。尚、本実施形
態において、第6実施形態と同じ構成部材については符
号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Ninth Embodiment) Hereinafter, a ninth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, the same components as those in the sixth embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0108】図16は、本実施形態の有機EL表示装置
の1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマト
リックス方式をとる有機EL表示装置の1つの画素85
は、有機EL素子10、付加抵抗88、付加容量89、
画素駆動素子としてのTFT60から構成されている。
透明絶縁基板2上には付加容量(補助容量)の片側の電
極として作用する付加抵抗88、透明絶縁膜59、付加
容量(補助容量)の片側の電極73及び有機EL素子1
0がこの順番で積層形成されている。
FIG. 16 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 85 of an organic EL display device using an active matrix system
Represents an organic EL element 10, an additional resistor 88, an additional capacitor 89,
It comprises a TFT 60 as a pixel drive element.
On the transparent insulating substrate 2, an additional resistor 88 acting as one electrode of an additional capacitance (auxiliary capacitance), a transparent insulating film 59, an electrode 73 of the additional capacitance (auxiliary capacitance) on one side, and the organic EL element 1
0 are laminated in this order.

【0109】付加抵抗88は透明絶縁基板2上に形成さ
れたN+ 型多結晶シリコン膜86と、同シリコン膜86
上に形成されたP+ 型多結晶シリコン膜87とからな
る。本実施形態における付加抵抗88もPN接合構造を
とるため、可変抵抗として動作する。
The additional resistor 88 includes an N + -type polycrystalline silicon film 86 formed on the transparent insulating substrate 2 and the silicon film 86.
And a P + type polycrystalline silicon film 87 formed thereon. Since the additional resistor 88 in the present embodiment also has a PN junction structure, it operates as a variable resistor.

【0110】また、電極73および付加抵抗88は透明
絶縁膜59を挟んで対向している。そのため、透明絶縁
膜59は誘電体膜として機能し、透明絶縁膜59と電極
56および付加抵抗88とによってコンデンサが形成さ
れ、そのコンデンサにより付加容量89が構成されてい
る。
The electrodes 73 and the additional resistors 88 are opposed to each other with the transparent insulating film 59 interposed therebetween. Therefore, the transparent insulating film 59 functions as a dielectric film, and a capacitor is formed by the transparent insulating film 59, the electrode 56, and the additional resistor 88, and the capacitor forms an additional capacitor 89.

【0111】図17に、画素85を図3と同様の有機E
L表示装置に用いた場合の等価回路を示す。有機EL素
子10はTFT60を介してドレイン配線(駆動電源の
プラス側)Dn と共通陰極線CLとの間に接続されてい
る。付加抵抗88は付加容量89と共通陰極線CLとの間
に接続されている。
FIG. 17 shows that the pixel 85 has the same organic E as that of FIG.
5 shows an equivalent circuit when used in an L display device. The organic EL element 10 is connected between the drain wiring (the positive side of the driving power supply) Dn and the common cathode line CL via the TFT 60. The additional resistor 88 is connected between the additional capacitor 89 and the common cathode line CL.

【0112】つまり、直列に接続された付加容量89お
よび付加抵抗88と有機EL素子10とは、TFT60
のソース領域65と共通陰極線CLとの間に並列に接続さ
れている。
That is, the additional capacitor 89 and the additional resistor 88 connected in series and the organic EL element 10
Are connected in parallel between the source region 65 and the common cathode line CL.

【0113】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)画素85の駆動方法については、第8実施形態の
前記(1)と同様である。従って、第8実施形態と同様
の作用により、アクティブマトリックス方式の有機EL
表示装置によれば、単純マトリックス方式の有機EL表
示装置に比べてはるかに高画質な表示が可能となる。
In this embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) The method of driving the pixel 85 is the same as that of (1) of the eighth embodiment. Therefore, by the same operation as the eighth embodiment, the active matrix type organic EL
According to the display device, display with much higher image quality can be performed as compared with a simple matrix type organic EL display device.

【0114】(2)・有機EL素子10と、付加容量7
2および付加抵抗(電極)71とが、TFT60と共通
陰極線CLとの間に並列に接続されている。そのため、付
加容量72の静電容量分だけ、画素70の保持特性が向
上する。その結果、高画質なアクティブマトリックス方
式の有機EL表示装置を実現することができる。
(2) The organic EL element 10 and the additional capacitor 7
2 and an additional resistor (electrode) 71 are connected in parallel between the TFT 60 and the common cathode line CL. Therefore, the holding characteristics of the pixel 70 are improved by the capacitance of the additional capacitance 72. As a result, a high-quality active matrix organic EL display device can be realized.

【0115】(3)付加抵抗88をP+ 型多結晶シリコ
ン膜83とN+ 型多結晶シリコン膜82とにより構成し
ているので、第8実施形態の画素80と同様に、付加容
量89の充電時には付加抵抗88を低抵抗として動作さ
せて時定数を小さくし、付加容量89を速やかに充電さ
せることができ、付加容量89の放電時には付加抵抗8
8を高抵抗として動作させて時定数を大きくし、付加容
量89を緩やかに放電させることができる。その結果、
ゲート配線数(走査線数)が増大して1つの画素85に
割り当てられる駆動時間が少なくなっても、付加容量8
9は十分に充電されているため、有機EL素子10の駆
動が影響を受けることはなく、表示パネルに表示される
画像のコントラストが低下することもない。従って、第
2,第4〜7実施形態のアクティブマトリックス方式の
有機EL表示装置よりも、より高画質なアクティブマト
リックス方式の有機EL表示装置を実現することができ
る。
(3) Since the additional resistor 88 is composed of the P + -type polycrystalline silicon film 83 and the N + -type polycrystalline silicon film 82, similar to the pixel 80 of the eighth embodiment, At the time of charging, the additional resistance 88 is operated as a low resistance to reduce the time constant, and the additional capacitance 89 can be charged quickly.
8 can be operated with high resistance to increase the time constant, and the additional capacitance 89 can be discharged slowly. as a result,
Even if the number of gate lines (the number of scanning lines) increases and the drive time allocated to one pixel 85 decreases, the additional capacitance 8
Since 9 is sufficiently charged, the driving of the organic EL element 10 is not affected, and the contrast of the image displayed on the display panel does not decrease. Therefore, it is possible to realize an active matrix type organic EL display device having higher image quality than the active matrix type organic EL display devices of the second, fourth to seventh embodiments.

【0116】(第10実施形態)以下、本発明を具体化
した第10実施形態を図面に従って説明する。尚、本実
施形態において、第9実施形態と同じ構成部材について
は符号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Tenth Embodiment) Hereinafter, a tenth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that, in the present embodiment, the same components as those in the ninth embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0117】図18は、本実施形態の有機EL表示装置
の1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマト
リックス方式をとる有機EL表示装置の1つの画素90
は、有機EL素子10、付加容量89、画素駆動素子と
してのTFT60から構成されている。本実施形態にお
いて、付加容量(補助容量)の片側の電極として作用す
る付加抵抗92のN+ 型多結晶シリコン膜91はTFT
60の下方まで延設されており、その他の構成は第9実
施形態の画素85と同様である。
FIG. 18 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 90 of an organic EL display device employing an active matrix system
Is composed of an organic EL element 10, an additional capacitor 89, and a TFT 60 as a pixel driving element. In this embodiment, the N + -type polycrystalline silicon film 91 of the additional resistor 92 acting as one electrode of the additional capacitor (auxiliary capacitor) is a TFT.
It extends to below 60, and the other configuration is the same as that of the pixel 85 of the ninth embodiment.

【0118】図19は本実施形態の画素90の製造工程
を示す。まず、同図(a)に示すように、ガラスよりな
る透明絶縁基板2上に、N+ 型多結晶シリコン膜91を
500Åの膜厚で形成する。次に、N+ 型多結晶シリコ
ン膜91上において、付加容量を形成する部分のみにP
+ 型多結晶シリコン膜87を500Åの膜厚で形成す
る。N+ 型多結晶シリコン膜91およびP+ 型多結晶シ
リコン膜87によって付加抵抗92が形成される。
FIG. 19 shows a manufacturing process of the pixel 90 of this embodiment. First, as shown in FIG. 1A, an N + -type polycrystalline silicon film 91 is formed on a transparent insulating substrate 2 made of glass to a thickness of 500 °. Next, on the N + type polycrystalline silicon film 91, P
A + type polycrystalline silicon film 87 is formed with a thickness of 500 °. An additional resistor 92 is formed by the N + type polysilicon film 91 and the P + type polysilicon film 87.

【0119】次に、同図(b)に示すように、付加抵抗
92上にシリコン酸化膜のような透明絶縁膜59を形成
し、N+ 型多結晶シリコン膜91上においてP+ 型多結
晶シリコン膜87に干渉しないようにTFTの能動層と
なる多結晶シリコン膜61を形成する。多結晶シリコン
膜61を覆うようにシリコン酸化膜のような透明絶縁膜
62を形成する。
Next, as shown in FIG. 14B, a transparent insulating film 59 such as a silicon oxide film is formed on the additional resistor 92, and a P + type polycrystalline silicon film 91 is formed on the N + type polycrystalline silicon film 91. A polycrystalline silicon film 61 serving as an active layer of the TFT is formed so as not to interfere with the silicon film 87. A transparent insulating film 62 such as a silicon oxide film is formed so as to cover the polycrystalline silicon film 61.

【0120】次に、同図(c)に示すように、透明絶縁
膜62上にゲート電極63を形成し、同ゲート電極63
をマスクとして多結晶シリコン膜61にP型不純物を高
濃度に注入してドレイン領域64及びソース領域65を
形成する。次に、透明絶縁膜62上にアルミニウムまた
はITOよりなる電極73及びドレイン電極66を形成
し、コンタクトホールにより電極73とソース領域65
とを接続し、コンタクトホールによりドレイン電極66
とドレイン領域64とを接続する。そして、電極73上
に陽極5、ホール輸送層6、発光層7、電子輸送層8を
順次形成する。
Next, a gate electrode 63 is formed on the transparent insulating film 62 as shown in FIG.
Is used as a mask to inject a P-type impurity into the polycrystalline silicon film 61 at a high concentration to form a drain region 64 and a source region 65. Next, an electrode 73 and a drain electrode 66 made of aluminum or ITO are formed on the transparent insulating film 62, and the electrode 73 and the source region 65 are formed by a contact hole.
To the drain electrode 66 through the contact hole.
And the drain region 64 are connected. Then, the anode 5, the hole transport layer 6, the light emitting layer 7, and the electron transport layer 8 are sequentially formed on the electrode 73.

【0121】次に、同図(d)に示すように、TFT6
0を覆うように絶縁膜67を形成し、電子輸送層8上に
ITOよりなる陰極9を形成し、コンタクトホールによ
り陰極9とN+ 型多結晶シリコン膜91とを結合する。
この後、有機EL素子10の陰極9及びTFT60を覆
うようにパッシベーション膜68を形成して先の図18
に示される構造を得る。
Next, as shown in FIG.
The cathode 9 made of ITO is formed on the electron transport layer 8 so as to cover the cathode 9 and the N + -type polycrystalline silicon film 91 through a contact hole.
Thereafter, a passivation film 68 is formed so as to cover the cathode 9 of the organic EL element 10 and the TFT 60, and
Is obtained.

【0122】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)本実施形態の画素90を用いた有機EL表示装置
によれば、第9実施形態の有機EL表示装置と同様の作
用及び効果がある。
In this embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) According to the organic EL display device using the pixels 90 of the present embodiment, the same operations and effects as those of the organic EL display device of the ninth embodiment are obtained.

【0123】(2)また、付加抵抗92のN+ 型多結晶
シリコン膜91をTFT60の下方まで延設しているの
で、透明絶縁基板2として安価なガラスを使用した場合
に、ガラス中に含まれるナトリウムイオン、カリウムイ
オン等のイオンによるTFT60の動作への影響を、N
+ 型多結晶シリコン膜91によって遮断することができ
る。よって、画素90を安定して動作させることがで
き、画素90の信頼性を向上することができる。
(2) Since the N + -type polycrystalline silicon film 91 of the additional resistor 92 extends below the TFT 60, if the transparent insulating substrate 2 is made of inexpensive glass, it is included in the glass. The influence on the operation of the TFT 60 by ions such as sodium ions and potassium ions
It can be cut off by the + type polycrystalline silicon film 91. Therefore, the pixel 90 can be operated stably, and the reliability of the pixel 90 can be improved.

【0124】(3)また、本実施形態において、付加抵
抗92のP+ 型多結晶シリコン膜87のP型不純物濃度
およびN+ 型多結晶シリコン膜91のN型不純物濃度を
1×1018個/cm3以上に設定すると、図21に示すよ
うに、逆特性が数(約5V)となるPN接合を備えたツ
ェナーダイオードとなる。この場合の等価回路を図20
に示す。
(3) In the present embodiment, the P-type impurity concentration of the P + -type polysilicon film 87 of the additional resistor 92 and the N-type impurity concentration of the N + -type polysilicon film 91 are 1 × 10 18 If it is set to / cm 3 or more, a Zener diode having a PN junction having a reverse characteristic of several (about 5 V) is obtained as shown in FIG. FIG. 20 shows an equivalent circuit in this case.
Shown in

【0125】すなわち、TFT60がオンすると、図2
0(a)に示すように、電流Ionは有機EL素子10と
付加容量89に流れる。このとき、ツェナーダイオード
93は順方向バイアスとなって低抵抗になるため、付加
容量89はIonによって十分に充電される。
That is, when the TFT 60 is turned on, FIG.
As shown in FIG. 1A, the current Ion flows through the organic EL element 10 and the additional capacitor 89. At this time, the Zener diode 93 becomes forward-biased and has low resistance, so that the additional capacitance 89 is sufficiently charged by Ion.

【0126】逆に、TFT60がオフすると、図20
(b)に示すように、電流Ioff は付加容量89から有
機EL素子10に向かって流れ出す。このとき、ツェナ
ーダイオード93は逆方向バイアスとなって高抵抗にな
るため、電流Ioff はツェナーダイオード93の抵抗成
分によって小さな値に制限される。よって、有機EL素
子10の発光時間を延ばすことができる。
Conversely, when the TFT 60 is turned off, FIG.
As shown in (b), the current Ioff flows from the additional capacitor 89 toward the organic EL element 10. At this time, the Zener diode 93 is reverse biased and has a high resistance, so that the current Ioff is limited to a small value by the resistance component of the Zener diode 93. Therefore, the light emission time of the organic EL element 10 can be extended.

【0127】(4)さらに、本実施形態において、付加
抵抗88のP+ 型多結晶シリコン膜87のP型不純物濃
度およびN+ 型多結晶シリコン膜91のN型不純物濃度
を約3×1019個/cm3以上に設定すると、トンネル効
果を有するトンネルダイオードとすることができ、図2
3に示すように、逆方向電流は常に流れるようになる。
そこで、この場合には、図18において、透明絶縁基板
2上にまずP+ 型多結晶シリコン膜を形成し、このP+
型多結晶シリコン膜上にN+ 型多結晶シリコン膜を形成
し、P+ 型多結晶シリコン膜を共通陰極線CLに接続す
る。この場合の等価回路を図22に示す。
(4) Further, in the present embodiment, the P-type impurity concentration of the P + -type polysilicon film 87 of the additional resistor 88 and the N-type impurity concentration of the N + -type polysilicon film 91 are set to about 3 × 10 19 2 / cm 3 or more, a tunnel diode having a tunnel effect can be obtained.
As shown in FIG. 3, the reverse current always flows.
Therefore, in this case, a P + type polycrystalline silicon film is first formed on the transparent insulating substrate 2 in FIG.
An N + type polycrystalline silicon film is formed on the type polycrystalline silicon film, and the P + type polycrystalline silicon film is connected to the common cathode line CL. FIG. 22 shows an equivalent circuit in this case.

【0128】すなわち、TFT60がオンすると、図2
2(a)に示すように、電流Ionは有機EL素子10と
付加容量89に流れる。電流Ionはトンネルダイオード
94に対して逆方向電流となる。TFT60がオフする
と、図22(b)に示すように、付加容量89からトン
ネルダイオード94に対して順方向電流が流れ出すが、
このときの電圧Voff をトンネル電流と拡散電流との中
間となるようにすることによって、一定の電流を流すこ
とができるようになり、有機EL素子10を駆動するこ
とが可能となる。
That is, when the TFT 60 is turned on, FIG.
As shown in FIG. 2A, the current Ion flows through the organic EL element 10 and the additional capacitor 89. The current Ion is a reverse current to the tunnel diode 94. When the TFT 60 is turned off, a forward current flows from the additional capacitor 89 to the tunnel diode 94 as shown in FIG.
By setting the voltage Voff at this time to be between the tunnel current and the diffusion current, a constant current can flow, and the organic EL element 10 can be driven.

【0129】なお、上記(3)および(4)の事項は、
先の第9実施形態の有機EL表示装置においても同様で
ある。 (第11実施形態)以下、本発明を具体化した第11実
施形態を図面に従って説明する。尚、本実施形態におい
て、第8実施形態と同じ構成部材については符号を等し
くしてその詳細な説明を省略する。
Note that the above items (3) and (4)
The same applies to the organic EL display device of the ninth embodiment. (Eleventh Embodiment) Hereinafter, an eleventh embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, the same components as those in the eighth embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0130】図24は、本実施形態の有機EL表示装置
の1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマト
リックス方式をとる有機EL表示装置の1つの画素95
は、有機EL素子10、付加容量96、付加抵抗99、
画素駆動素子としてのTFT60から構成されている。
FIG. 24 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 95 of an active matrix organic EL display device
Represents an organic EL element 10, an additional capacitor 96, an additional resistor 99,
It comprises a TFT 60 as a pixel drive element.

【0131】透明絶縁基板2上には付加容量(補助容
量)の片側の電極56、透明絶縁膜59、付加抵抗99
及び有機EL素子10がこの順番で積層形成されてい
る。付加抵抗99は透明絶縁膜59上に形成されたN+
型多結晶シリコン膜97と、同シリコン膜97上に形成
されたP+ 型多結晶シリコン膜98とからなる可変抵抗
である。
On the transparent insulating substrate 2, the electrode 56 on one side of the additional capacitance (auxiliary capacitance), the transparent insulating film 59,
The organic EL elements 10 are stacked in this order. The additional resistor 99 is formed by an N + layer formed on the transparent insulating film 59.
This is a variable resistance comprising a type polycrystalline silicon film 97 and a P + type polycrystalline silicon film 98 formed on the silicon film 97.

【0132】また、電極56および付加抵抗99は透明
絶縁膜59を挟んで対向している。そのため、透明絶縁
膜59は誘電体膜として機能し、透明絶縁膜59と電極
56および付加抵抗99とによってコンデンサが形成さ
れ、そのコンデンサにより付加容量96が構成されてい
る。
The electrode 56 and the additional resistor 99 face each other with the transparent insulating film 59 interposed therebetween. Therefore, the transparent insulating film 59 functions as a dielectric film, and a capacitor is formed by the transparent insulating film 59, the electrode 56, and the additional resistor 99, and the capacitor forms an additional capacitor 96.

【0133】また、N+ 型多結晶シリコン膜97は、透
明絶縁膜59上に延設され、TFT60のソース領域6
5と接続されている。つまり、有機EL素子10の陽極
5は、TFT60のソース電極として機能する。
The N + -type polycrystalline silicon film 97 is provided on the transparent insulating film 59 so as to cover the source region 6 of the TFT 60.
5 is connected. That is, the anode 5 of the organic EL element 10 functions as a source electrode of the TFT 60.

【0134】図25に、画素95を図3と同様の有機E
L表示装置に用いた場合の等価回路を示す。有機EL素
子10は付加抵抗99を介してTFT60に接続されて
いる。付加容量96はTFT60と共通陰極線CLとの間
に接続されている。
FIG. 25 shows a pixel 95 having the same organic E as that of FIG.
5 shows an equivalent circuit when used in an L display device. The organic EL element 10 is connected to the TFT 60 via the additional resistor 99. The additional capacitance 96 is connected between the TFT 60 and the common cathode line CL.

【0135】つまり、直列に接続された付加抵抗99お
よび有機EL素子10と、付加容量96とは、TFT6
0のソース領域65と共通陰極線CLとの間に並列に接続
されている。
That is, the additional resistor 99 and the organic EL element 10 connected in series and the additional capacitor 96 are
0 is connected in parallel between the source region 65 and the common cathode line CL.

【0136】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)画素95において、ゲート配線Gn を正電圧にし
てTFT60のゲート電極63に正電圧を印加すると、
TFT60がオン状態となる。すると、ドレイン配線D
n に印加されたデータ信号で、有機EL素子10の静電
容量と付加容量96とが充電され、画素95にデータ信
号が書き込まれる。そのデータ信号によって有機EL素
子10の駆動が行われる。
In this embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) In the pixel 95, when a positive voltage is applied to the gate electrode 63 of the TFT 60 by setting the gate line Gn to a positive voltage,
The TFT 60 is turned on. Then, the drain wiring D
The capacitance of the organic EL element 10 and the additional capacitance 96 are charged by the data signal applied to n, and the data signal is written to the pixel 95. The organic EL element 10 is driven by the data signal.

【0137】反対に、ゲート配線Gn を負電圧にしてT
FT60のゲート電極63に負電圧を印加すると、TF
T60がオフ状態となり、その時点でドレイン配線Dn
に印加されていたデータ信号は、電荷の状態で有機EL
素子10の静電容量と付加容量96とによって保持され
る。このように、画素95へ書き込みたいデータ信号を
各ドレイン配線に与えて、各ゲート配線の電圧を制御す
ることにより、各画素96に任意のデータ信号を保持さ
せておくことができる。そして、次に、TFT60がオ
ン状態になるまで、引き続き有機EL素子10の駆動が
行われる。
On the other hand, the gate line Gn is set to a negative voltage and T
When a negative voltage is applied to the gate electrode 63 of the FT 60, TF
T60 is turned off, at which time the drain wiring Dn
The data signal applied to the organic EL
It is held by the capacitance of the element 10 and the additional capacitance 96. As described above, by supplying a data signal to be written to the pixel 95 to each drain wiring and controlling the voltage of each gate wiring, each pixel 96 can hold an arbitrary data signal. Then, the organic EL element 10 is continuously driven until the TFT 60 is turned on.

【0138】(2)上記(1)より、ゲート配線数(走
査線数)が増大して1つの画素96に割り当てられる駆
動時間が少なくなっても、有機EL素子10の駆動が影
響を受けることはなく、表示パネルに表示される画像の
コントラストが低下することもない。本実施形態のアク
ティブマトリックス方式の有機EL表示装置によれば、
第1実施形態あるいは第3実施形態における単純マトリ
ックス方式の有機EL表示装置に比べてはるかに高画質
な表示が可能となる。
(2) From the above (1), even if the number of gate lines (the number of scanning lines) increases and the driving time allocated to one pixel 96 decreases, the driving of the organic EL element 10 is affected. In addition, the contrast of the image displayed on the display panel does not decrease. According to the active matrix type organic EL display device of the present embodiment,
It is possible to display much higher image quality than the simple matrix type organic EL display device according to the first embodiment or the third embodiment.

【0139】(3)付加抵抗99および有機EL素子1
0と、付加容量96とが、TFT60と共通陰極線CLと
の間に並列に接続されている。そのため、付加容量96
の静電容量分だけ、画素95の保持特性が向上する。そ
の結果、高画質なアクティブマトリックス方式の有機E
L表示装置を実現することができる。
(3) Additional resistor 99 and organic EL element 1
0 and the additional capacitor 96 are connected in parallel between the TFT 60 and the common cathode line CL. Therefore, the additional capacity 96
The holding characteristic of the pixel 95 is improved by the amount of the capacitance. As a result, high-quality active matrix organic E
An L display device can be realized.

【0140】(第12実施形態)以下、本発明を具体化
した第12実施形態を図面に従って説明する。尚、本実
施形態において、第11実施形態と同じ構成部材につい
ては符号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Twelfth Embodiment) Hereinafter, a twelfth embodiment which embodies the present invention will be described with reference to the drawings. Note that, in this embodiment, the same components as those in the eleventh embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0141】図26は、本実施形態の有機EL表示装置
の1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマト
リックス方式をとる有機EL表示装置の1つの画素10
0は、有機EL素子10、付加容量96、画素駆動素子
としてのTFT60から構成されている。本実施形態に
おいて、付加容量(補助容量)の片側の電極101はT
FT60の下方まで延設されており、その他の構成は第
11実施形態の画素95と同様である。
FIG. 26 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 10 of an organic EL display device employing an active matrix system
Reference numeral 0 denotes an organic EL element 10, an additional capacitor 96, and a TFT 60 as a pixel driving element. In this embodiment, the electrode 101 on one side of the additional capacitance (auxiliary capacitance) is T
It extends below the FT 60, and the other configuration is the same as that of the pixel 95 of the eleventh embodiment.

【0142】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)本実施形態の画素100を用いた有機EL表示装
置によれば、第11実施形態の有機EL表示装置と同様
の作用及び効果がある。
In this embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) According to the organic EL display device using the pixel 100 of the present embodiment, the same operation and effect as those of the organic EL display device of the eleventh embodiment can be obtained.

【0143】(2)また、付加容量(補助容量)の片側
の電極101をTFT60の下方まで延設しているの
で、透明絶縁基板2として安価なガラスを使用した場合
に、ガラス中に含まれるナトリウムイオン、カリウムイ
オン等のイオンによるTFT60の動作への影響を、電
極101によって遮断することができる。よって、画素
100を安定して動作させることができ、画素100の
信頼性を向上することができる。
(2) Further, since the electrode 101 on one side of the additional capacitance (auxiliary capacitance) extends below the TFT 60, when the transparent insulating substrate 2 is made of inexpensive glass, it is included in the glass. The effect of ions such as sodium ions and potassium ions on the operation of the TFT 60 can be blocked by the electrode 101. Therefore, the pixel 100 can operate stably, and the reliability of the pixel 100 can be improved.

【0144】(第13実施形態)以下、本発明を具体化
した第13実施形態を図面に従って説明する。尚、本実
施形態において、第11実施形態と同じ構成部材につい
ては符号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
(Thirteenth Embodiment) Hereinafter, a thirteenth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that, in this embodiment, the same components as those in the eleventh embodiment have the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0145】図27は、本実施形態の有機EL表示装置
の1つの画素を示す概略断面図である。アクティブマト
リックス方式をとる有機EL表示装置の1つの画素10
5は、有機EL素子10、付加容量106、画素駆動素
子としてのTFT60から構成されている。
FIG. 27 is a schematic sectional view showing one pixel of the organic EL display device of the present embodiment. One pixel 10 of an organic EL display device employing an active matrix system
Reference numeral 5 denotes an organic EL element 10, an additional capacitor 106, and a TFT 60 as a pixel driving element.

【0146】透明絶縁基板2上には付加容量(補助容
量)の片側の電極56、透明絶縁膜59、付加容量(補
助容量)の片側の電極107、有機EL素子10及び付
加抵抗110がこの順番で積層形成されている。
On the transparent insulating substrate 2, the electrode 56 on one side of the additional capacitance (auxiliary capacitance), the transparent insulating film 59, the electrode 107 on the one side of the additional capacitance (auxiliary capacitance), the organic EL element 10, and the additional resistance 110 are arranged in this order. Are formed in layers.

【0147】付加抵抗110は有機EL素子10の陰極
9上に形成されたN+ 型多結晶シリコン膜108と、同
シリコン膜108上に形成されたP+ 型多結晶シリコン
膜109とからなる可変抵抗である。
The additional resistor 110 is made up of an N + type polycrystalline silicon film 108 formed on the cathode 9 of the organic EL element 10 and a P + type polycrystalline silicon film 109 formed on the silicon film 108. Resistance.

【0148】また、電極56および電極107は透明絶
縁膜59を挟んで対向している。そのため、透明絶縁膜
59は誘電体膜として機能し、透明絶縁膜59と電極5
6,107とによってコンデンサが形成され、そのコン
デンサにより付加容量106が構成されている。
The electrodes 56 and 107 are opposed to each other with the transparent insulating film 59 interposed therebetween. Therefore, the transparent insulating film 59 functions as a dielectric film, and the transparent insulating film 59 and the electrode 5
6 and 107 form a capacitor, and the capacitor forms the additional capacitance 106.

【0149】また、電極107は透明絶縁膜59上に延
設され、TFT60のソース領域65と接続されてい
る。つまり、有機EL素子10の陽極5は、TFT60
のソース電極として機能する。
The electrode 107 extends on the transparent insulating film 59 and is connected to the source region 65 of the TFT 60. That is, the anode 5 of the organic EL element 10 is
Function as a source electrode of

【0150】図28に、画素105を図3と同様の有機
EL表示装置に用いた場合の等価回路を示す。有機EL
素子10は付加抵抗110を介して共通陰極線CLに接続
されている。付加容量106はTFT60と共通陰極線
CLとの間に接続されている。
FIG. 28 shows an equivalent circuit when the pixel 105 is used in the same organic EL display device as that of FIG. Organic EL
The element 10 is connected to the common cathode line CL via the additional resistor 110. The additional capacitance 106 is a common cathode line with the TFT 60
Connected to CL.

【0151】つまり、直列に接続された有機EL素子1
0および付加抵抗110と、付加容量106とは、TF
T60のソース領域65と共通陰極線CLとの間に並列に
接続されている。
That is, the organic EL element 1 connected in series
0, the additional resistance 110, and the additional capacitance 106
It is connected in parallel between the source region 65 of T60 and the common cathode line CL.

【0152】本実施形態においては、以下の作用および
効果を得ることができる。 (1)本実施形態の画素100を用いた有機EL表示装
置によれば、第11実施形態の有機EL表示装置と同様
の作用及び効果がある。
In this embodiment, the following operations and effects can be obtained. (1) According to the organic EL display device using the pixel 100 of the present embodiment, the same operation and effect as those of the organic EL display device of the eleventh embodiment can be obtained.

【0153】尚、上記各実施形態は以下のように変更し
てもよく、その場合でも同様の作用および効果を得るこ
とができる。 (1)LDD構造のTFT23を、SD(SingleDrain
)構造またはダブルゲート構造のTFTに置き代え
る。
The above embodiments may be modified as follows, and the same operation and effect can be obtained in such a case. (1) The TFT 23 having the LDD structure is replaced with an SD (Single Drain).
) Replace with a TFT having a structure or a double gate structure.

【0154】(2)プレーナ型のTFT23を、逆プレ
ーナ型,スタガ型,逆スタガ型などの他の構造のTFT
に置き代える。 (3)能動層として多結晶シリコン膜を用いるTFT2
3を、能動層として非晶質シリコン膜を用いるTFTに
置き代える。
(2) The planar type TFT 23 is replaced with a TFT having another structure such as an inverted planar type, a staggered type, or an inverted staggered type.
Replace with (3) TFT2 using a polycrystalline silicon film as an active layer
3 is replaced with a TFT using an amorphous silicon film as an active layer.

【0155】(4)TFTを画素駆動素子として用いた
トランジスタ型のアクティブマトリックス方式の有機E
L表示装置だけでなく、バルクトランジスタを画素駆動
素子として用いたトランジスタ型や、ダイオード型のア
クティブマトリックス方式の有機EL表示装置に適用す
る。ダイオード型の画素駆動素子には、MIM(Metal
Insulator Metal ),ZnO(酸化亜鉛)バリスタ,M
SI(Metal Semi-Insulator),BTB(Back To Back
diode),RD(RingDiode )などがある。
(4) Transistor type active matrix organic E using TFT as a pixel driving element
The present invention is applied not only to the L display device but also to a transistor type using a bulk transistor as a pixel driving element or a diode type active matrix type organic EL display device. Diode-type pixel driving elements include MIM (Metal
Insulator Metal), ZnO (zinc oxide) varistor, M
SI (Metal Semi-Insulator), BTB (Back To Back)
diode) and RD (Ring Diode).

【0156】(5)有機EL素子10の発光色を変える
には、発光層7を形成する有機化合物の材質を変えれば
よく、緑色発光の場合はBebq2(10−ベンゾ
〔h〕キノリノール−ベリリウム錯体)、青色発光の場
合はOXD(オキサジアゾール)またはAZM(アゾメ
チン−亜鉛錯体)、青緑色発光の場合はPYR(ピラゾ
リン)、黄色発光の場合はZnq2(8−キノリノール
−亜鉛錯体)、赤色発光の場合はZnPr(ポリフィリ
ン−亜鉛錯体)を用いればよい。このようにすれば、有
機EL表示装置にカラー表示を行わせることができる。
(5) The emission color of the organic EL element 10 can be changed by changing the material of the organic compound forming the light-emitting layer 7. In the case of green emission, Bebq2 (10-benzo [h] quinolinol-beryllium complex) is used. ), OXD (oxadiazole) or AZM (azomethine-zinc complex) for blue light emission, PYR (pyrazolin) for blue-green light emission, Znq2 (8-quinolinol-zinc complex) for yellow light emission, red light emission In this case, ZnPr (porphyrin-zinc complex) may be used. With this configuration, the organic EL display device can perform color display.

【0157】(6)有機EL素子10からホール輸送層
6を省き、陽極5および陰極9を除く有機化合物層を、
発光層7と電子輸送層8の2層構造にする。 (7)有機EL素子10から電子輸送層8を省き、陽極
5および陰極9を除く有機化合物層を、ホール輸送層6
と発光層7の2層構造にする。
(6) The hole transport layer 6 was omitted from the organic EL device 10 and the organic compound layers except for the anode 5 and the cathode 9 were replaced with
The light emitting layer 7 and the electron transport layer 8 have a two-layer structure. (7) The electron transport layer 8 is omitted from the organic EL device 10, and the organic compound layers except for the anode 5 and the cathode 9 are replaced with the hole transport layer 6.
And a light-emitting layer 7.

【0158】(8)有機EL素子10において、ホール
輸送層6を第1のホール輸送層と第2のホール輸送層と
の2層構造にする。このようにすれば、発光効率の極め
て高い有機EL素子10を得ることが可能になり、有機
EL表示装置の輝度をさらに向上させることができる。
(8) In the organic EL device 10, the hole transport layer 6 has a two-layer structure of a first hole transport layer and a second hole transport layer. By doing so, it becomes possible to obtain the organic EL element 10 with extremely high luminous efficiency, and the luminance of the organic EL display device can be further improved.

【0159】(9)第1実施形態または第3実施形態に
おいても、第2実施形態または第4実施形態と同様に付
加抵抗を設ける。このようにすれば、有機EL素子の内
部抵抗の不足分を補い、保持特性をさらに向上させるこ
とができる。
(9) Also in the first or third embodiment, an additional resistor is provided as in the second or fourth embodiment. This makes it possible to compensate for the shortage of the internal resistance of the organic EL element and to further improve the holding characteristics.

【0160】(10)有機EL素子だけでなく、無機E
L素子を用いた表示装置に適用する。
(10) Not only organic EL elements but also inorganic E
The present invention is applied to a display device using an L element.

【0161】[0161]

【発明の効果】本発明によれば、保持特性を向上させる
ことにより、質の高い安定した表示画像を得ることを可
能としたエレクトロルミネッセンス素子を用いた単純マ
トリックス方式の表示装置を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a display device of a simple matrix system using an electroluminescent element which can obtain a high-quality and stable display image by improving holding characteristics. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施形態の概略断面図。FIG. 1 is a schematic sectional view of a first embodiment.

【図2】第2実施形態の概略断面図。FIG. 2 is a schematic sectional view of a second embodiment.

【図3】第2実施形態のブロック図。FIG. 3 is a block diagram of a second embodiment.

【図4】第2実施形態の画素の等価回路図。FIG. 4 is an equivalent circuit diagram of a pixel according to a second embodiment.

【図5】第3実施形態の概略断面図。FIG. 5 is a schematic sectional view of a third embodiment.

【図6】第4実施形態の概略断面図。FIG. 6 is a schematic sectional view of a fourth embodiment.

【図7】第4実施形態のブロック図。FIG. 7 is a block diagram of a fourth embodiment.

【図8】第4実施形態の画素の等価回路図。FIG. 8 is an equivalent circuit diagram of a pixel according to a fourth embodiment.

【図9】第5実施形態の概略断面図。FIG. 9 is a schematic sectional view of a fifth embodiment.

【図10】第5実施形態の画素の等価回路図。FIG. 10 is an equivalent circuit diagram of a pixel according to a fifth embodiment.

【図11】第6実施形態の概略断面図。FIG. 11 is a schematic sectional view of a sixth embodiment.

【図12】第6実施形態の画素の等価回路図。FIG. 12 is an equivalent circuit diagram of a pixel according to a sixth embodiment.

【図13】第7実施形態の概略断面図。FIG. 13 is a schematic sectional view of a seventh embodiment.

【図14】第8実施形態の概略断面図。FIG. 14 is a schematic sectional view of the eighth embodiment.

【図15】第8実施形態の画素の等価回路図。FIG. 15 is an equivalent circuit diagram of a pixel according to an eighth embodiment.

【図16】第9実施形態の概略断面図。FIG. 16 is a schematic sectional view of a ninth embodiment.

【図17】第9実施形態の画素の等価回路図。FIG. 17 is an equivalent circuit diagram of a pixel according to a ninth embodiment.

【図18】第10実施形態の概略断面図。FIG. 18 is a schematic sectional view of a tenth embodiment.

【図19】第10実施形態の製造工程図。FIG. 19 is a manufacturing process diagram of the tenth embodiment.

【図20】第10実施形態の別の付加抵抗の等価回路
図。
FIG. 20 is an equivalent circuit diagram of another additional resistor of the tenth embodiment.

【図21】第10実施形態の別の付加抵抗の特性図。FIG. 21 is a characteristic diagram of another additional resistor according to the tenth embodiment.

【図22】第10実施形態の別の付加抵抗の等価回路
図。
FIG. 22 is an equivalent circuit diagram of another additional resistor of the tenth embodiment.

【図23】第10実施形態の別の付加抵抗の特性図。FIG. 23 is a characteristic diagram of another additional resistor according to the tenth embodiment.

【図24】第11実施形態の概略断面図。FIG. 24 is a schematic sectional view of the eleventh embodiment.

【図25】第11実施形態の画素の等価回路図。FIG. 25 is an equivalent circuit diagram of a pixel according to an eleventh embodiment.

【図26】第12実施形態の概略断面図。FIG. 26 is a schematic sectional view of a twelfth embodiment.

【図27】第13実施形態の概略断面図。FIG. 27 is a schematic sectional view of a thirteenth embodiment.

【図28】第13実施形態の画素の等価回路図。FIG. 28 is an equivalent circuit diagram of a pixel according to a thirteenth embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3,43…電極 4…透明絶縁膜 5…陽極 6…ホール輸送層 7…発光層 8…電子輸送層 9…陰極 10…有機エレクトロルミネッセンス素子 11,44,57, 72,81,89,96,106…
付加容量 22,52,58,84,88,92,99,110…
付加抵抗 23,60…薄膜トランジスタ 71,76…電極
3, 43 electrode 4 transparent insulating film 5 anode 6 hole transport layer 7 light emitting layer 8 electron transport layer 9 cathode 10 organic electroluminescence device 11, 44, 57, 72, 81, 89, 96, 106 ...
Additional capacity 22, 52, 58, 84, 88, 92, 99, 110 ...
Additional resistors 23, 60: thin film transistors 71, 76: electrodes

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エレクトロルミネッセンス素子と、この
エレクトロルミネッセンス素子に並列に接続された付加
容量と、前記付加容量から前記エレクトロルミネッセン
ス素子に流れる電流の大きさを制限するための付加抵抗
とを備えた画素がマトリックス状に配置されたことを特
徴とした単純マトリックス方式の表示装置。
1. A pixel comprising: an electroluminescent element; an additional capacitor connected in parallel to the electroluminescent element; and an additional resistor for limiting a magnitude of a current flowing from the additional capacitor to the electroluminescent element. Are arranged in a matrix form.
【請求項2】 前記エレクトロルミネッセンス素子は、
第1の電極と第2の電極との間に挟まれた発光素子層を
有し、 絶縁膜を挟んで前記第1の電極または第2の電極と対向
する第3の電極を更に備え、 前記付加容量は、第1の電極または第2の電極と第3の
電極と前記絶縁膜とによって構成されることを特徴とし
た請求項1に記載の単純マトリックス方式の表示装置。
2. The electroluminescent device according to claim 1,
A light-emitting element layer sandwiched between a first electrode and a second electrode, further comprising a third electrode facing the first electrode or the second electrode with an insulating film interposed therebetween; The simple matrix type display device according to claim 1, wherein the additional capacitance is constituted by a first electrode or a second electrode, a third electrode, and the insulating film.
【請求項3】 前記発光素子層が有機化合物から成る有
機エレクトロルミネッセンス素子を用いたことを特徴と
する請求項2に記載の表示装置。
3. The display device according to claim 2, wherein said light emitting element layer uses an organic electroluminescence element made of an organic compound.
【請求項4】 前記付加抵抗は前記エレクトロルミネッ
センス素子と直列に接続され、このエレクトロルミネッ
センス素子および付加抵抗の直列回路と付加容量とが並
列に接続されていることを特徴とした請求項1〜3のい
ずれか1項に記載の単純マトリックス方式の表示装置。
4. The device according to claim 1, wherein the additional resistor is connected in series with the electroluminescent element, and a series circuit of the electroluminescent element and the additional resistor and an additional capacitor are connected in parallel. The display device of the simple matrix system according to any one of the above.
【請求項5】 前記付加抵抗は前記付加容量と直列に接
続され、この付加容量及び付加抵抗の直列回路とエレク
トロルミネッセンス素子とが並列に接続されていること
を特徴とした請求項1〜3のいずれか1項に記載の単純
マトリックス方式の表示装置。
5. The device according to claim 1, wherein the additional resistor is connected in series with the additional capacitor, and a series circuit of the additional capacitor and the additional resistor and an electroluminescence element are connected in parallel. A display device of a simple matrix system according to any one of the preceding claims.
【請求項6】 前記付加抵抗は抵抗値が一定の固定抵抗
であることを特徴とした請求項1〜5のいずれか1項に
記載の単純マトリックス方式の表示装置。
6. The display device according to claim 1, wherein the additional resistor is a fixed resistor having a constant resistance value.
【請求項7】 前記付加抵抗は前記付加容量からの放電
時に高抵抗となる可変抵抗でことを特徴とした請求項1
〜5のいずれか1項に記載の単純マトリックス方式の表
示装置。
7. The variable resistor according to claim 1, wherein the additional resistor is a variable resistor that becomes high when discharged from the additional capacitor.
6. The display device of a simple matrix system according to any one of items 5 to 5.
【請求項8】 前記付加抵抗はP型不純物層とN型不純
物層との接合構造をとることを特徴とした請求項7に記
載の単純マトリックス方式の表示装置。
8. The display device according to claim 7, wherein the additional resistor has a junction structure of a P-type impurity layer and an N-type impurity layer.
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