JP2002191521A - 足浴器 - Google Patents

足浴器

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JP2002191521A
JP2002191521A JP2000393655A JP2000393655A JP2002191521A JP 2002191521 A JP2002191521 A JP 2002191521A JP 2000393655 A JP2000393655 A JP 2000393655A JP 2000393655 A JP2000393655 A JP 2000393655A JP 2002191521 A JP2002191521 A JP 2002191521A
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JP
Japan
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hot water
bathtub
water
foot
foot bath
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JP2000393655A
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English (en)
Inventor
Yoshiyuki Nanba
嘉行 南波
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】大量の温水を必要とせず、浴槽内に貯められた
温水を吸い込み、吸い込んだ温水を足上部に向けて噴射
することで、温水量が少なくても、足の上部まで温める
ことができるとともに、温水を噴射して足を刺激するこ
とで得られる更なる血行促進等の効果を得ることのでき
る足浴器を提供する。 【解決手段】 足浴器は、水を貯水する浴槽1と、浴槽
1の水を吸水するとともに吸水した水を温め、その温水
を流路出口21から足に向けて噴射する遠心ポンプ20
と、浴槽1と遠心ポンプ20を収納する外ハウンジング
2とを備える足浴器であって、遠心ポンプ20の流路出
口21は、噴射する温水の拡散度を調節できる構成を備
える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、温水を用いて人の
足を温める足浴器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、足浴器は、温水を用いて脚部の血
行促進、疲労回復、神経痛、筋肉痛の緩和、首や肩のこ
り等の解消等を図る目的で使用されているが、その目的
を果たすためには、足の上部まで温めることが有効であ
るが、それには、浴槽の水位を深くすることで対応して
いた。しかし、この方法では、持ち運びが困難であり、
また、大量の温水が必要であるため、不経済であるとい
った問題があった。また、足浴器の振動機能により足に
刺激を与えることを行うものもあった。しかし、足浴器
の振動が床に伝わり、騒音、振動を引き起こすという問
題もあった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は上記
問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするところ
は、大量の温水を必要とせず、浴槽内に貯められた温水
を吸い込み、吸い込んだ温水を足上部に向けて噴射する
ことで、温水量が少なくても、足の上部まで温めること
ができるとともに、温水を噴射して足を刺激することで
得られる更なる血行促進等の効果を得ることのできる足
浴器を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の足浴器は、以下の構成を備える。すなわち、
請求項1の発明では、水を貯水する浴槽と、該浴槽の水
を吸水するとともに吸水した水を温め、その温水を流路
出口から足に向けて噴射する循環装置と、前記浴槽と前
記循環装置を収納する外ハウンジングとを備える足浴器
であって、前記循環装置の流路出口は、噴射する温水の
拡散度を調節できる構成を有することを特徴とする。
【0005】請求項2の発明では、前記流路出口から温
水を足裏に噴射する際に、足裏が前記流路出口を塞がな
いように、前記浴槽底部に突起部を設けたことを特徴と
する。
【0006】請求項3の発明では、前記突起部は、着脱
自在な構成を有することを特徴とする。
【0007】請求項4の発明では、前記突起部は、突起
の高さが調節可能であることを特徴とする。
【0008】請求項5の発明では、前記流路出口から噴
射される温水が前記足浴器の外に水はねしないように、
水はね防止用の蓋を設けたことを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図示
例と共に説明する。 (第1の実施の形態)本発明に係わる足浴器の第1の実
施の形態を、図1に基づいて以下に説明する。
【0010】本実施の形態においては、図1に示すよう
に、足浴器1は、足を温めるための温水を貯める浴槽1
と、浴槽1の温水を吸水する流路入口22と温水を噴射
する流路出口21を有する循環装置と、温水を保温、加
熱するためのヒーター40と、浴槽1の外側に設けられ
る外ハウンジング2と、浴槽1上部の蓋30、とを備え
てなるものである。
【0011】循環装置は、遠心ポンプ20と、温水を流
すための配管10とを有する。なお、配管10は、水道
パイプ、耐圧ホースなどを用いてもよい。
【0012】浴槽1は、上部が開口した直方体の形状を
なし、少なくとも、人の足を入れるのに十分な容積を有
するものである。浴槽1底部と浴槽1上部には、吸水、
排水用の孔が設けてある。遠心ポンプ20は、配管10
の流路入口22を介して、浴槽1底部の孔に接続され、
また、流路出口21を介して、浴槽1上部の孔に接続さ
れるものであり、遠心ポンプ20は、流路入口22から
浴槽1の温水を吸水し、流路出口21から、浴槽1に吐
出するものである。図1に示すように、浴槽1と遠心ポ
ンプ20、配管10は、外ハウンジング2により取り囲
むように構成されている。また、ヒーター40は、配管
10の流路壁に取りつけられている。
【0013】なお、足浴器を使用する際には、浴槽1に
あらかじめ沸かしておいた温水を入れてもよく、また、
水を浴槽1に注いで、ヒーター40により、流路壁を通
して水に熱を伝え、加熱し温水にしてもよい。ヒーター
40により水を加熱する際には、サーミスタ(不図示)
を用いて、ヒーター40の取りつけられた流路壁の温度
を測り、制御手段(不図示)に水の温度をフィードバッ
クし、予め設定された温度との比較を行い、その誤差に
応じて制御部がヒーター40の発熱量を制御する。ま
た、ヒーター40を配管10内に入れ、温水に直接、熱
を伝え、保温、加熱してもよい。
【0014】また、足に向けて温水を噴射するために、
図2(a1)、図2(b1)に示すように、配管10の
流路出口21を外カバー31と内カバー32のように、
二重構造で構成している。すなわち、図2(e)に示す
ように、内カバー32を、配管10の流路出口21に取
り付け、さらに内カバー32の上に外カバー31を回転
自在に取り付けることにより、温水を噴射させることが
できる。外カバー31に設けられた孔31aは、内カバ
ー32に設けられた孔32aに対して、若干小さい径で
あり、孔31aと孔32aの中心が重なったときに、温
水の吐出を遮らないようになっている。なお、孔31b
は、楕円形の孔に構成されている。外カバー31を内カ
バー32に対し、回転させることで外カバー31と内カ
バー32の孔の重なりを調節し、流路出口21の温水の
吐出口の数を増減させることで、遠心ポンプ20から送
出されてきた水の水圧を変化させることが可能となり、
噴射の勢いを調節することができる。なお、図2(a
2)、図2(b2)は、それぞれ、外カバー31と内カ
バー32を上から見た図である。図2(c)に示すよう
に、吐出口が6つある状態から、外カバー31を回転さ
せることで、孔31aと孔32aの重なりを調節し、図
2(d)に示すように、孔31aと孔32aの中心をず
らし、孔31bと孔32aのみが重なるようにすること
で、吐出口を1つにすることができる。これにより、水
圧を増加させることが可能となり、また逆に、外カバー
31と内カバー32の孔31aと孔32aの重なりを調
節し、吐出口の数を増加させれば、水圧を減少させるこ
ともできる。
【0015】また、本実施の形態においては、流路出口
21から温水を噴射させているので、足にあたった温水
が足浴器の外に飛び散ることがあり、それを防止するた
めに、浴槽1上部に蓋30を設けてある。図1に示すよ
うに、蓋30は、足を足浴器に入れた状態で、足の周り
を取り囲むように、形成されており、蓋30と足浴器本
体とは、ちょうつがい41で接続されているので、開閉
可能である。なお、蓋30は足浴器本体と接続されてい
なくても、温水の飛散を防止することができるので、足
浴器本体にのせるだけのものでもよい。
【0016】次に、本実施の形態における足浴器の動作
を説明する。浴槽1に予め温めておいた温水を入れ、浴
槽1に足を入れる。ここで、足浴器を動作させれば、遠
心ポンプが作動し、流路出口21に接続された浴槽に設
けられた孔から温水が吸水される。吸水された温水は遠
心ポンプ20により配管10を介して流路出口21に送
出されるが、その途中で、ヒーター40により、足浴に
適当な温度に温められる。このようにして、遠心ポンプ
20により浴槽1から吸水された温水は、流路出口21
から足に向けて噴射される。この温水の噴射の勢いによ
り、床に振動を与えることなく、足に刺激を与えること
ができる。
【0017】また、遠心ポンプ20により、温水を噴射
させているので、浴槽1内の温水が少量であった場合で
も、足の上部に向かって噴射させれば、足全体を温水で
温めることができるので、水量は少なくてよく、足浴す
るための準備や片付けの際の持ち運びが容易になるな
ど、足浴するための労力を削減することができる。
【0018】本実施の形態により、温水を足に向けて噴
射させているので、足に刺激を与えることができるとと
もに、足浴するための準備などの労力を削減することが
できる。 (第2の実施の形態)本発明に係わる第2の実施の形態
について、以下に説明する。本実施の形態は、浴槽1に
おいた足の下側から温水を噴射する際に、足が流路出口
21を塞がないように、浴槽1に突起23を設けたもの
である。
【0019】図3に示すように、浴槽1底部に突起23
を設けておくことで、足裏が流路出口21を塞がないよ
うにすることができる。さらに、突起23先端が水面B
より高い位置になるような突起23の高さにすること
で、突起23の上部に載せられる足は、水に浸ることが
なくなるので、直接、温水を足裏に噴射させることがで
きる。足浴器に貯められた温水は、流路入口22から遠
心ポンプ20に吸水され、流路出口21から足に向けて
噴射される。
【0020】また、図4(a)に示すように、断面コ状
であるとともに、突起23を備える足載せ台24を浴槽
1底部に載置する。図4(b)は足浴器を上から見たと
ころを示す。図4(b)に示すように、流路出口21の
直径よりも大きい孔を足載せ台24に設け、流路出口2
1を足載せ台24に設けられた孔にはまるように載置す
れば、浴槽1と足載せ台24にはA、C、Dの大きさの
隙間ができる。すなわち、浴槽1に対し足載せ台24
は、付け外し自在である。足を流路出口21上部に置
き、流路出口21から温水を噴射させることで足裏を刺
激することができる。このように、温水の水圧によるマ
ッサージ効果を足に施すことができる。また、足載せ台
24を浴槽1から外しておけば、浴槽1底部に貯められ
た温水により、足を温めることができる。このように突
起23を備えた足載せ台24を足浴器から着脱可能にす
ることで、足を温める、もしくはマッサージを行う、等
の使い分けをすることができる。
【0021】図4(a)に示すように、浴槽1に噴射さ
れた温水は、浴槽1と足載せ台24の隙間A、Cから足
載せ台24の下に流れ、流路入口22から遠心ポンプ2
0により吸水され、循環される。
【0022】さらに、図5(a)に示すように、足載せ
台24の突起23の高さを変えることができるようにし
ておけば、足を温める時、マッサージする時で、足載せ
台24を付け外しする必要がなくなり、突起23の高さ
を変更するだけで、足の温め、マッサージ時の使い分け
をすることができる。足載せ台24について示したもの
が、図5(b)である。図5(b)に示すように、足載
せ台24にねじ山を設けた板25を設け、板25にねじ
山を設ける。また、突起23の内部にねじ穴を設けてお
き、板25に突起23をねじ式により上下動させること
で、突起23の高さを調節することができる。
【0023】本実施の形態により、温水量が少なくて
も、温水を循環させることで、足浴ができるとともに、
足裏という温水の当てにくい部分にも温水を噴射させる
ことができ、足を温め、血行がよくなり、また、足の温
め、マッサージといった足浴の方法を使い分けることが
できる。
【0024】
【発明の効果】本発明の足浴器によれば、浴槽内に貯め
られた温水を吸い込み、吸い込んだ温水を足上部に向け
て噴射することで、温水量が少なくても、足の上部まで
温めることができるとともに、温水を噴射して足を刺激
することで得られる更なる血行促進等の効果を得ること
のできる足浴器を提供することにある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる足浴器の第1の実施の形態を示
す図である
【図2】本発明に係わる流路出口21の構造を示す図で
ある
【図3】本発明に係わる突起を設けた足浴器を示す図で
ある
【図4】本発明に係わる突起を備えた足載せ台を設けた
足浴器を示す図である
【図5】本発明に係わる突起の高さを調節自在な足載せ
台を設けた足浴器を示す図である
【符号の説明】
1 浴槽 2 外ハウンジング 10 配管 20 遠心ポンプ 21 流路出口 22 流路入口 23 突起 24 足載せ台 25 ねじ山を備えた板 30 蓋 31 外カバー 31a 外カバーの噴射孔 32 内カバー 32a 内カバーの噴射孔 40 ヒーター 41 ちょうつがい A 浴槽1と足載せ台24の隙間 B 水面高さ C 浴槽1と足載せ台24の隙間 D 浴槽1と足載せ台24の隙間
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4C074 AA03 BB05 CC01 CC17 DD10 EE05 GG07 HH05 LL10 MM04 NN04 QQ24 RR04 4C094 AA02 BB15 DD14 EE20 EE27 GG03 4C100 AC03 AC08 BB05 BC11 CA17 DA11 EA06 EA09 EA12

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】水を貯水する浴槽と、該浴槽の水を吸水す
    るとともに吸水した水を温め、その温水を流路出口から
    足に向けて噴射する循環装置と、前記浴槽と前記循環装
    置を収納する外ハウンジングとを備える足浴器であっ
    て、前記循環装置の流路出口は、噴射する温水の拡散度
    を調節できる構成を有することを特徴とする足浴器。
  2. 【請求項2】前記足浴器は、前記流路出口から温水を足
    裏に噴射する際に、足裏が前記流路出口を塞がないよう
    に、前記浴槽底部に突起部を設けたことを特徴とする請
    求項1記載の足浴器。
  3. 【請求項3】前記突起部は、着脱自在な構成を有するこ
    とを特徴とする請求項1または2記載の足浴器。
  4. 【請求項4】前記突起部は、突起の高さが調節可能であ
    ることを特徴とする請求項1乃至3記載の足浴器。
  5. 【請求項5】前記足浴器は、前記流路出口から噴射され
    る温水が前記足浴器の外に水はねしないように、水はね
    防止用の蓋を設けたことを特徴とする請求項1乃至4記
    載の足浴器。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101761219B1 (ko) 2016-03-07 2017-07-25 박길환 지압 장치

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