JP2002189288A - Photosensitive resin composition and photosensitive resin original plate - Google Patents

Photosensitive resin composition and photosensitive resin original plate

Info

Publication number
JP2002189288A
JP2002189288A JP2000390300A JP2000390300A JP2002189288A JP 2002189288 A JP2002189288 A JP 2002189288A JP 2000390300 A JP2000390300 A JP 2000390300A JP 2000390300 A JP2000390300 A JP 2000390300A JP 2002189288 A JP2002189288 A JP 2002189288A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
acrylate
resin composition
meth
sea
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000390300A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidenori Sugihara
秀紀 杉原
Hirotaka Murase
浩貴 村瀬
Takatoshi Yamada
孝敏 山田
Keizo Kawahara
恵造 河原
Satoshi Imahashi
聰 今橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP2000390300A priority Critical patent/JP2002189288A/en
Publication of JP2002189288A publication Critical patent/JP2002189288A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive resin original plate excellent in image reproducibility and having a small dot gain and good printing performance. SOLUTION: The photosensitive resin composition has a sea-island structure comprising sea and island parts in which two phases different from each other in horizontal force are present in cross-section observation with a horizontal force microscope (LFM) and >=60% of the island part has <=4 μm2 average domain area.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、凸版印刷用レリー
フ版やサンドブラスト用レリーフマスク、ネームプレー
トなどの分野で利用され、画像再現性にすぐれた水現像
型の感光性樹脂印刷原版およびその感光性樹脂印刷原版
の製造に用いられる感光性樹脂組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used in the fields of relief plates for letterpress printing, relief masks for sandblasting, name plates, and the like, and a water-developable photosensitive resin printing plate excellent in image reproducibility and its photosensitivity. The present invention relates to a photosensitive resin composition used for producing a resin printing plate precursor.

【0002】[0002]

【従来の技術】感光性樹脂印刷版は、一定の厚さに成形
された感光性樹脂組成物を用いて形成されたレリーフか
ら成る凸版印刷用ゴム版のことである。このものは、通
常、感光性樹脂組成物にネガまたはポジフイルムを密着
させ、活性光を照射して感光性樹脂組成物層の選択され
た部分を露光させたのち、未露光部分を除去してレリー
フを形成する方法により製造される。
2. Description of the Related Art A photosensitive resin printing plate is a relief printing rubber plate comprising a relief formed by using a photosensitive resin composition molded to a predetermined thickness. This is usually a negative or positive film in close contact with the photosensitive resin composition, irradiating active light to expose a selected portion of the photosensitive resin composition layer, and then remove the unexposed portion. It is manufactured by a method of forming a relief.

【0003】従来、感光性樹脂印刷版を製造するに当た
り、未露光部分の除去には、1,1,1−トリクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素が用いられていたが、有機
溶剤の使用による環境への影響が問題となっていた。
Conventionally, in manufacturing a photosensitive resin printing plate, a halogenated hydrocarbon such as 1,1,1-trichloroethane has been used to remove an unexposed portion. Had a problem.

【0004】このような問題を解決するために、水現像
型フレキソ印刷が近年提案されている。この水現像型の
フレキソ印刷に使用される感光性樹脂印刷版において
は、水酸化ナトリウムなどの希アルカリ水溶液にて未露
光部分を除去することにより、レリーフの形成が行われ
る。この際の感光層の希アルカリ水溶液に対する溶解性
と、印刷版として求められる版強度などの特性から、該
感光性樹脂印刷版には、スチレン単位、ブタジエン単
位、アクリル酸アルキルエステル単位などを主骨格にも
ち、ここへカルボキシル基、リン酸基、リン酸エステル
基、スルホン酸基などの親水性官能基を導入した共重合
体が多用されている。
In order to solve such a problem, a water developing type flexographic printing has been proposed in recent years. In the photosensitive resin printing plate used for this water-developing type flexographic printing, relief is formed by removing unexposed portions with a dilute aqueous alkali solution such as sodium hydroxide. Due to the solubility of the photosensitive layer in a dilute alkaline aqueous solution and properties such as plate strength required as a printing plate, the photosensitive resin printing plate has a main skeleton containing a styrene unit, a butadiene unit, an alkyl acrylate unit, and the like. Of course, copolymers in which a hydrophilic functional group such as a carboxyl group, a phosphoric acid group, a phosphoric ester group, and a sulfonic acid group has been introduced are frequently used.

【0005】この水現像型フレキソ印刷は、水性インキ
やアルコールを含有する粘度の低いインキを使用するた
め、環境衛生面で好ましく、また印刷機が簡便で、生産
性が高いため、一般に広く用いられている。
[0005] This water-developing type flexographic printing is preferable in terms of environmental hygiene because it uses water-based inks and low-viscosity inks containing alcohol, and it is generally used widely because the printing machine is simple and the productivity is high. ing.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、水現像型フレ
キソ印刷に用いられる感光性樹脂印刷版は、ゴム弾性を
有する材料で構成され、印刷版の厚みが比較的厚い。そ
のため、印刷において、印刷版が被印刷体に接触してイ
ンキを転移する場合、印刷版が変形し、印刷画像が原画
像に対して大きくなるといういわゆるドットゲインが生
じる場合があるという問題を有する。
However, a photosensitive resin printing plate used for water developing type flexographic printing is made of a material having rubber elasticity, and the printing plate has a relatively large thickness. Therefore, in printing, when the printing plate comes into contact with the printing medium and transfers the ink, the printing plate is deformed, and there is a problem that a so-called dot gain that the printed image becomes larger than the original image may occur. .

【0007】さらに、水現像型フレキソ印刷に用いられ
る感光性樹脂印刷版は版の厚みが、一般的に、油性イン
キを使用する凸版印刷版や平板印刷版に比べて厚い。そ
のため、画像を形成するために必要な光が充分内部まで
透過せず、油性インキを使用する凸版印刷や平板印刷、
グラビア印刷などに比べて画像再現性が劣っており、そ
の画像再現性の向上が望まれている。
Further, the thickness of the photosensitive resin printing plate used in water-developing type flexographic printing is generally thicker than a relief printing plate or a lithographic printing plate using oil-based ink. Therefore, the light necessary to form an image does not sufficiently penetrate to the inside, and letterpress printing or lithographic printing using oil-based ink,
Image reproducibility is inferior to gravure printing and the like, and improvement in the image reproducibility is desired.

【0008】本発明は、上述の問題点に鑑みて、水現像
型のフレキソ印刷において画像再現性にすぐれ、ドット
ゲインの小さい、印刷性の良好な感光性樹脂組成物およ
びその感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂印刷原版を
提供するものである。
In view of the above problems, the present invention provides a photosensitive resin composition having excellent image reproducibility, low dot gain and good printability in water-developing type flexographic printing, and the photosensitive resin composition thereof. The present invention provides a photosensitive resin printing plate using the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る感光性樹脂
組成物は、請求項1に記載のように、水平力顕微鏡(L
FM)で断面観察した場合、水平力の異なる相が二相存
在する、海部分と島部分とからなる海島構造であり、前
記島部分の60%以上がドメイン平均面積を4μm2
下とする感光性樹脂組成物である。
The photosensitive resin composition according to the present invention comprises a horizontal force microscope (L).
The cross section observed by FM) has a sea-island structure composed of a sea portion and an island portion in which two phases having different horizontal forces exist, and 60% or more of the island portion has an average domain area of 4 μm 2 or less. It is a conductive resin composition.

【0010】また、本発明に係る感光性樹脂印刷原版
は、請求項2に記載のように、請求項1記載の感光性樹
脂組成物を、接着層がコーティングされた支持体フイル
ムと粘着防止層がコーティングされたカバーフィルムと
で挟持して積層体を構成し、前記積層体を加熱するとと
もに圧着することで得られる感光性樹脂印刷原版であ
る。
[0010] The photosensitive resin printing plate precursor according to the present invention comprises, as described in claim 2, the photosensitive resin composition according to claim 1 and a support film coated with an adhesive layer and an anti-adhesion layer. Is a photosensitive resin printing original plate obtained by sandwiching with a coated cover film to form a laminate, and heating and pressing the laminate.

【0011】本発明者らは前記課題を解決するために鋭
意研究を重ねた結果、感光性樹脂組成物層の相分離構造
を水平力顕微鏡(LFM)で断面観察した結果、水平力
の異なる相が二相存在する、海部分と島部分とからなる
海島構造であり、前記島部分の60%以上が、ドメイン
平均面積を4μm2以下とする緻密構造である場合、印
刷画像が原画像に対して大きくなるドットゲイン現象の
発生を大幅に低減させることができる事実に基づいて本
発明を完成させた。
The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above-mentioned problems. As a result of observing the cross-section of the phase separation structure of the photosensitive resin composition layer with a horizontal force microscope (LFM), it was found that the phases having different horizontal forces were different. Is a sea-island structure composed of a sea portion and an island portion in which two phases exist, and when 60% or more of the island portion is a dense structure with a domain average area of 4 μm 2 or less, the printed image is The present invention has been completed on the basis of the fact that the occurrence of the dot gain phenomenon, which becomes large due to the above, can be greatly reduced.

【0012】感光性樹脂組成物層の相分離構造における
島部分の60%以上が、ドメイン平均面積を4μm2
下とする緻密構造であるから、印刷時の印刷原板に伝達
する力を均一化させることができ、そのため、インキ転
写時に印刷版の変形歪みを小さくすることができる。し
たがって、ドットゲイン現象の発生を抑制することがで
きると考えられる。なお、感光性樹脂組成物の海島構造
において、前記島部分の60%〜80%が、0.1μm
2〜4μm2である場合にあっては、印刷時の印刷原板に
伝達する力を均一化させるとともに明瞭な印刷が可能で
あるため、より好適である。
Since 60% or more of the islands in the phase separation structure of the photosensitive resin composition layer have a dense structure having an average domain area of 4 μm 2 or less, the force transmitted to the printing original plate during printing is made uniform. Therefore, deformation distortion of the printing plate during ink transfer can be reduced. Therefore, it is considered that the occurrence of the dot gain phenomenon can be suppressed. In the sea-island structure of the photosensitive resin composition, 60% to 80% of the island portion is 0.1 μm
When the thickness is 2 to 4 μm 2 , the force transmitted to the printing original plate during printing is made uniform and clear printing is possible, which is more preferable.

【0013】水平力顕微鏡は、微小突起のついたてこ
を、試料表面上で、てこに対して水平に操作したときの
微小の捻れを信号として検出する装置である。この捻れ
の度合いは、試料最表面の摩擦力に相関があり、微小域
表面上の相対的摩擦力分布を測定することが可能であ
る。つまり感光性樹脂組成物層の相分離構造すなわち海
島構造を測定することが可能である。なお、電子顕微
鏡、原子力顕微鏡などでも、感光性樹脂組成物層の相分
離構造を測定することは可能である。ただし、海島構造
の高低が明らかに異なるほど形状に差異がある時のみだ
けに限定される。つまり、微少な海島構造を形成してい
る場合などのように海島構造の境界が高低差によって明
らかでないときは、正確な海島構造を測定することは不
可能である。
The horizontal force microscope is a device for detecting a small twist as a signal when the lever with the fine projection is operated horizontally on the sample surface with respect to the lever. The degree of the twist has a correlation with the frictional force on the outermost surface of the sample, and it is possible to measure the relative frictional force distribution on the surface of the minute area. That is, it is possible to measure the phase separation structure of the photosensitive resin composition layer, that is, the sea-island structure. The phase separation structure of the photosensitive resin composition layer can be measured by an electron microscope, an atomic force microscope, or the like. However, it is limited only to the case where the height of the sea-island structure is clearly different and the shape is different. That is, when the boundary of the sea-island structure is not clear due to the difference in elevation, such as when a minute sea-island structure is formed, it is impossible to accurately measure the sea-island structure.

【0014】水平力顕微鏡は、表面の相対的摩擦力分布
をてこの捻れの大きさに依存した信号として得、物質表
面の水平力を検出し、水平力の大小をカラーコントラス
トとして2次元像にする。この2次元像から海島構造に
おける島部分の占有率、島部分ドメインそれぞれの平均
面積を解析することができる。この水平力は試料表面の
粘性の影響を受けるため、相分離構造を観察した場合、
各相の硬さを反映した像が得られる。
The horizontal force microscope obtains the relative frictional force distribution on the surface as a signal depending on the degree of the twist, detects the horizontal force on the material surface, and converts the magnitude of the horizontal force into a two-dimensional image as color contrast. I do. From this two-dimensional image, the occupancy of the island portion in the sea-island structure and the average area of each island portion domain can be analyzed. Since this horizontal force is affected by the viscosity of the sample surface, when observing the phase separation structure,
An image reflecting the hardness of each phase is obtained.

【0015】本発明者はこの水平力の分布の違いが印刷
時の感光性樹脂印刷版の変形歪みに影響を与えることを
見いだした。すなわち、硬さ分布の不均一性が小さいほ
ど印刷時の印刷版の変形歪みが少なく、ドットゲインを
低下させることが可能であることを見いだし、海島構造
における島部分の60%以上が4μm2以下である場合
は、良好な画像を得ることができる知見を得た。なお、
海島構造における島部分の60%以上が4μm2を越え
る場合は、印刷時の印刷版の変形歪みが大きく、良好な
画像を得ることは困難である。
The present inventor has found that this difference in the distribution of the horizontal force affects the deformation distortion of the photosensitive resin printing plate during printing. That is, it is found that the smaller the nonuniformity of the hardness distribution, the smaller the deformation distortion of the printing plate during printing and the lower the dot gain. It is found that 60% or more of the island portions in the sea-island structure is 4 μm 2 or less. In the case of, the finding that a good image can be obtained was obtained. In addition,
If 60% or more of the island portions in the sea-island structure exceeds 4 μm 2 , the deformation of the printing plate during printing is large, and it is difficult to obtain a good image.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】海島型の相構造を形成するにあた
って、構成組成が非架橋体である場合、相対的に粘度が
低く流動しやすい組成が海部分としての相構造をとる。
一方、構造組成が非架橋体と架橋体とである場合は、架
橋体は非架橋体に溶解しないため、やはり粘度が低く流
動性のある非架橋体が海部分としての相構造をとる。こ
のように、本発明に係る感光性樹脂組成物の海島構造
は、非架橋体と架橋体より構成されるものと非架橋体の
相分離により構成される場合がある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In forming a sea-island type phase structure, when the constituent composition is a non-crosslinked body, a composition having a relatively low viscosity and flowing easily takes a phase structure as a sea portion.
On the other hand, when the structural composition is a non-crosslinked body and a crosslinked body, the crosslinked body does not dissolve in the noncrosslinked body, so that the noncrosslinked body having low viscosity and fluidity also has a phase structure as a sea portion. As described above, the sea-island structure of the photosensitive resin composition according to the present invention may be constituted of a non-crosslinked product and a non-crosslinked product by phase separation.

【0017】また、本発明に係る感光性樹脂組成物の海
島構造における、それぞれの海部分と島部分とにおける
架橋成分の溶解度の差を利用し、水平力顕微鏡で認識さ
れる物性、各相のスケールを人為的にコントロールする
ことができる。
Further, in the sea-island structure of the photosensitive resin composition according to the present invention, the difference in solubility of the crosslinking component between the sea portion and the island portion is utilized to determine the properties recognized by a horizontal force microscope and the properties of each phase. The scale can be controlled artificially.

【0018】架橋タイプの粒子状親水性または水膨潤性
エラストマーは、脂肪族共役ジエンモノマー40〜95
モル%と、α,β−エチレン系不飽和カルボン酸1〜3
0モルと、少なくとも2個の付加重合可能な基を有する
化合物0.1〜10モル%を含有するモノマー混合物を
ラジカル乳化重合することによって得ることが可能であ
る。
Crosslinkable particulate hydrophilic or water-swellable elastomers are aliphatic conjugated diene monomers 40-95.
Mol%, α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acid 1 to 3
It can be obtained by radical emulsion polymerization of a monomer mixture containing 0 mol and 0.1 to 10 mol% of a compound having at least two addition-polymerizable groups.

【0019】前記脂肪族共役ジエンモノマーは、たとえ
ば、ブタジエン、イソプレン、ジメチルブタジエン、ク
ロロプレンなどを使用することができる。前記α,β−
エチレン系不飽和カルボン酸は、たとえば、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸、テトラコ
ン酸、プロトン酸などを使用することができる。前記少
なくとも2個の付加重合可能な基を有する化合物は、た
とえば、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、1,6−ヘプタンジオールジ(メタ)アクリレート
などを使用することができる。
As the aliphatic conjugated diene monomer, for example, butadiene, isoprene, dimethylbutadiene, chloroprene and the like can be used. The α, β-
As the ethylenically unsaturated carboxylic acid, for example, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, tetraconic acid, protonic acid and the like can be used. Examples of the compound having at least two groups capable of addition polymerization include trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, divinylbenzene, and ethylene glycol di (meth).
Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-heptanediol di (meth) acrylate, and the like can be used.

【0020】乳化重合は通常の重合方法で調整すること
が可能である。たとえば、モノマーの混合物を触媒とし
て過硫酸ナトリウムおよび乳化剤としてドデシルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウムを含む水性媒体中で乳化重合す
ることにより調整することが可能である。
The emulsion polymerization can be adjusted by a usual polymerization method. For example, it can be adjusted by emulsion polymerization of a mixture of monomers in an aqueous medium containing sodium persulfate as a catalyst and sodium dodecylbenzenesulfonate as an emulsifier.

【0021】また、架橋タイプの粒子状親水性または水
膨潤性エラストマーは、10%以下の架橋構造を持つコ
アと、酸で変性されたコポリマーからなる、水系で処理
できる非架橋構造を持つセルとからなるコアセルミクロ
ゲルバインダー構造を有するように乳化重合を行なうこ
とができる。
The cross-linked particulate hydrophilic or water-swellable elastomer comprises a core having a cross-linked structure of 10% or less, and a cell having a non-cross-linked structure which can be treated with an aqueous system and which is composed of an acid-modified copolymer. The emulsion polymerization can be carried out so as to have a core cell microgel binder structure consisting of

【0022】コアを形成するモノマー類としては、たと
えば、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、メ
タアクリル酸、ブチルメタアクリレート、エチルメタア
クリレート、グリシジルメタアクリレート、スチレンお
よびアリルメタアクレートなどを使用することができ
る。架橋剤としては、たとえば、ブタンジオールアクリ
レート、エチレングリコールジメタアクリレート、テト
ラメチレングリコールジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、テトラメチレングリコール
ジメタクリレートなどを使用することができる。一方、
セルを形成する酸で変性されたコポリマーとしては、メ
タアクリル酸で変性したn−ブチルアクリレートを使用
することができる。コアセルミクロゲルバインダーはこ
れらのモノマーを用いて、通常行なわれる乳化重合方法
により製造される。
As monomers forming the core, for example, methyl methacrylate, ethyl acrylate, methacrylic acid, butyl methacrylate, ethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, styrene and allyl methacrylate can be used. As the crosslinking agent, for example, butanediol acrylate, ethylene glycol dimethacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylene glycol dimethacrylate and the like can be used. on the other hand,
As the acid-modified copolymer for forming cells, n-butyl acrylate modified with methacrylic acid can be used. The coacerv microgel binder is produced using these monomers by a commonly used emulsion polymerization method.

【0023】また、架橋または非架橋タイプの粒子状親
水性または水膨潤性エラストマーは、モノオレフィン系
不飽和単量体と、親水性官能基をもつ不飽和単量体と
を、アニオン性界面活性剤を用いて乳化重合することに
よって得ることができる。
The cross-linked or non-cross-linked particulate hydrophilic or water-swellable elastomer is obtained by converting a monoolefinic unsaturated monomer and an unsaturated monomer having a hydrophilic functional group into an anionic surfactant. It can be obtained by emulsion polymerization using an agent.

【0024】モノオレフィン系不飽和単量体としては、
たとえば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、
n−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、n−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、メトキシエチルアクリレート、エトキシエチルアク
リレート、シアノエチルアクリレート、ヒドロキシエチ
ルアクリレート、ヒドキシプロピルアクリレートなどの
アクリル酸エステル類やこれらのメタクリル酸エステル
類などを使用することができ、また、スチレン、アクリ
ロニトリル、塩化ビニル、エチリデンノルボルネン、プ
ロペニルノルボルネン、ジシクロペンタジエンなどをも
使用することができる。また場合によっては、1,3−
ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、1,3−ペン
タジエンなどの共役ジエン系単量体を用いることもでき
るし、架橋させるために多官能ビニル化合物を導入する
こともできる。
The monoolefinically unsaturated monomers include:
For example, methyl acrylate, ethyl acrylate,
Acrylic esters such as n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-octyl acrylate, dodecyl acrylate, methoxyethyl acrylate, ethoxyethyl acrylate, cyanoethyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, and hydroxypropyl acrylate, and methacrylic esters thereof And the like, and styrene, acrylonitrile, vinyl chloride, ethylidene norbornene, propenyl norbornene, dicyclopentadiene and the like can also be used. In some cases, 1,3-
A conjugated diene-based monomer such as butadiene, isoprene, chloroprene, or 1,3-pentadiene can be used, and a polyfunctional vinyl compound can be introduced for crosslinking.

【0025】親水性官能基としてはカルボキシル基、リ
ン酸基、リン酸エステル基、スルホン酸基、ヒドロヒシ
ル基が挙げられるが、洗い出し性の観点から特にリン酸
エステル基が好ましい。したがって、親水性官能基をも
つ不飽和単量体としては、前記リン酸エステル基含有不
飽和単量体が好ましい。リン酸エステル基含有不飽和単
量体としては、たとえば、リン酸エチレン(メタ)アク
リレート、リン酸トリメチレン(メタ)アクリレート、
リン酸プロピレン(メタ)アクリレート、リン酸テトラ
メチレン(メタ)アクリレート、リン酸(ビス)エチレ
ン(メタ)アクリレート、リン酸(ビス)トリメチレン
(メタ)アクリレート、リン酸(ビス)テトラメチレン
(メタ)アクリレート、リン酸ジエチレングリコール
(メタ)アクリレート、リン酸トリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、リン酸ポリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、リン酸(ビス)ジエチレングリ
コール(メタ)アクリレート、リン酸(ビス)トリエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、リン酸(ビス)
ポリエチレングリコール(メタ)アクリレートなどを使
用できる。
Examples of the hydrophilic functional group include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a phosphoric acid ester group, a sulfonic acid group, and a hydrohistyl group, and a phosphoric acid ester group is particularly preferable from the viewpoint of washability. Therefore, the unsaturated monomer having a hydrophilic functional group is preferably the above-mentioned unsaturated monomer having a phosphate group. Examples of the phosphate group-containing unsaturated monomer include ethylene phosphate (meth) acrylate, trimethylene phosphate (meth) acrylate,
Propylene (meth) acrylate, tetramethylene (meth) acrylate, (bis) ethylene (meth) acrylate, (bis) trimethylene (meth) acrylate, (bis) tetramethylene (meth) acrylate , Diethylene glycol (meth) acrylate phosphate, triethylene glycol (meth) acrylate phosphate, polyethylene glycol (meth) acrylate phosphate, (bis) diethylene glycol (meth) acrylate phosphate, (bis) triethylene glycol (meth) phosphate Acrylate, phosphoric acid (bis)
Polyethylene glycol (meth) acrylate or the like can be used.

【0026】また、非架橋タイプの粒子状親水性または
水膨潤性エラストマーは、疎水性ポリマーを主成分とす
る相と、親水性ポリマーを主成分とする相とを有する粒
子として形成することができる。
The non-crosslinked particulate hydrophilic or water-swellable elastomer can be formed as particles having a phase mainly composed of a hydrophobic polymer and a phase mainly composed of a hydrophilic polymer. .

【0027】前記疎水性ポリマーは、共役ジエン系炭化
水素を重合して得られる重合体、または共役ジエン系炭
化水素とモノオレフイン系不飽和化合物を重合させて得
られる共重合体、共役ジエン系炭化水素を含まない重合
体などを使用することができる。
The hydrophobic polymer may be a polymer obtained by polymerizing a conjugated diene hydrocarbon, a copolymer obtained by polymerizing a conjugated diene hydrocarbon and a monoolefinic unsaturated compound, or a conjugated diene hydrocarbon. For example, a polymer containing no hydrogen can be used.

【0028】共役ジエン系炭化水素を重合して得られる
重合体、または共役ジエン系炭化水素とモノオレフィン
系不飽和化合物を重合させて得られる共重合体として
は、たとえば、ブタジエン重合体、イソプレン重合体、
クロロプレン重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、
スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−クロロプレ
ン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、
アクリロニトリル−イソプレン共重合体、メタクリル酸
メチル−ブタジエン共重合体、メタクリル酸メチル−イ
ソプレン共重合体、メタクリル酸メチル−クロロプレン
共重合体、アクリル酸メチル−ブタジエン共重合体、ア
クリル酸メチル−イソプレン共重合体、アクリル酸メチ
ル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジ
エン−スチレン共重合体、アクリロニトリル−クロロプ
レン−スチレン共重合体などを使用することができる。
Examples of a polymer obtained by polymerizing a conjugated diene-based hydrocarbon or a copolymer obtained by polymerizing a conjugated diene-based hydrocarbon and a monoolefinic unsaturated compound include, for example, a butadiene polymer and a isoprene polymer. Coalescing,
Chloroprene polymer, styrene-butadiene copolymer,
Styrene-isoprene copolymer, styrene-chloroprene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer,
Acrylonitrile-isoprene copolymer, methyl methacrylate-butadiene copolymer, methyl methacrylate-isoprene copolymer, methyl methacrylate-chloroprene copolymer, methyl acrylate-butadiene copolymer, methyl acrylate-isoprene copolymer A copolymer, a methyl acrylate-chloroprene copolymer, an acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, an acrylonitrile-chloroprene-styrene copolymer, or the like can be used.

【0029】共役ジエン系炭化水素を含まない重合体と
しては、たとえば、塩素を特定量含有するエラストマー
および非共役ジエン系炭化水素を挙げることができ、よ
り具体的には、エピクロルヒドリン重合体、エピクロル
ヒドリン−エチレンオキシド共重合体、エピクロルヒド
リン−プロピレンオキシド共重合体および、またはこれ
らとアクリルグリシジルエーテルの共重合体であるエピ
クロルヒドリンゴム[大阪ソーダ工業(株)製エピクロ
マー、Goodvich(株)製HYDRIN、日本ゼ
オン(株)製GECHRON、ゼオスパン、Hevcu
les(株)製HERCLOR]、塩素化ポリエチレン
[昭和電工(株)製エラスレン、大阪ソーダ工業(株)
製ダイソラック、Hoechst(株)製HORTAL
ITZ,Dow Chemical(株)製Dow C
PE]などを使用することができる。
Examples of the polymer containing no conjugated diene-based hydrocarbon include elastomers containing a specific amount of chlorine and non-conjugated diene-based hydrocarbons. More specifically, epichlorohydrin polymer, epichlorohydrin- Ethylene oxide copolymer, epichlorohydrin-propylene oxide copolymer and / or epichlorohydrin rubber which is a copolymer of these and acrylic glycidyl ether [Epichromer manufactured by Osaka Soda Industry Co., Ltd., HYDRIN manufactured by Goodvich Co., Ltd., Nippon Zeon Co., Ltd.] GECHRON, Zeospan, Hevcu
HERCLOR manufactured by LES Co., Ltd., chlorinated polyethylene [Eraslen manufactured by Showa Denko KK, Osaka Soda Industry Co., Ltd.]
Daisorac, Hoechst HORTAL
ITZ, Dow Chemical Co., Ltd. Dow C
PE] or the like can be used.

【0030】なお、これらの疎水性ポリマーは単独でも
2種以上組合せても良く、組成物中の含有率としては2
0重量%以上80重量%以下であることが好ましい。2
0重量%以下であると著しくハンドリング性が損なわ
れ、80重量%以上であると水現像性が損なわれる。特
に好ましい含有率は30重量%以上70重量%以下であ
る。
These hydrophobic polymers may be used alone or in combination of two or more, and the content in the composition is 2%.
It is preferable that the content be 0% by weight or more and 80% by weight or less. 2
If it is 0% by weight or less, the handling property is significantly impaired, and if it is 80% by weight or more, the water developability is impaired. A particularly preferred content is 30% by weight or more and 70% by weight or less.

【0031】一方、主に、粒子を囲む外側の相を形成す
る親水性ポリマーとしては、水酸基、カルボキシル基、
アミノ基、スルホン酸基などの親水性基もしくはポリエ
チレングリコール鎖のいずれか一方を有するポリマーが
挙げられる。
On the other hand, the hydrophilic polymer which mainly forms the outer phase surrounding the particles includes a hydroxyl group, a carboxyl group,
A polymer having either a hydrophilic group such as an amino group or a sulfonic acid group or a polyethylene glycol chain is exemplified.

【0032】前記親水性ポリマーとしては、たとえば、
ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロール、水溶性ポリウレタン、水
溶性ポリウレアウレタン、水溶性ポリエステル、水溶性
エポキシ化合物、カルボキシル基含有アクリロニトリル
−ブタジエンコポリマー、カルボキシル基含有スチレン
−ブタジエンコポリマー、カルボキシル基含有ポリブタ
ジエン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸ナトリウ
ム、カルボキシル基ポリウレアウレタン、ポリアミド酸
などを使用できる。
As the hydrophilic polymer, for example,
Polyvinyl alcohol, carboxymethyl cellulose,
Hydroxyethyl cellulose, water-soluble polyurethane, water-soluble polyurea urethane, water-soluble polyester, water-soluble epoxy compound, carboxyl group-containing acrylonitrile-butadiene copolymer, carboxyl group-containing styrene-butadiene copolymer, carboxyl group-containing polybutadiene, polyacrylamide, polyacrylic acid Sodium, carboxyl group polyurea urethane, polyamic acid and the like can be used.

【0033】なお、前記組成物の場合、各成分を配合、
混合している間に相分離して、連続相および分散相を形
成するものが好ましく、親水性ポリマーの含有率は水現
像性および水系インキ耐性の点から1重量%以上40重
量%以下、好ましくは2重量%以上30重量%以下、特
に好ましくは3重量%以上20重量%以下である。
In the case of the composition, each component is blended,
Those which form a continuous phase and a dispersed phase by phase separation during mixing are preferable, and the content of the hydrophilic polymer is preferably 1% by weight or more and 40% by weight or less from the viewpoint of water developability and aqueous ink resistance. Is from 2% by weight to 30% by weight, particularly preferably from 3% by weight to 20% by weight.

【0034】なお、上述した粒子状親水性または水膨潤
性エラストマーは、全組成物中における水膨潤性エラス
トマーの含有率としては、20重量%以上80重量%以
下であることが好ましく、より好ましくは30重量%以
上70重量%以下である。20重量%未満では現像性、
形態保持特性などに問題が生じ、80重量%を越えると
耐水性に問題が生じるので好ましくない。
The above-mentioned particulate hydrophilic or water-swellable elastomer preferably has a water-swellable elastomer content of 20% by weight or more and 80% by weight or less, more preferably, in the total composition. It is 30% by weight or more and 70% by weight or less. If less than 20% by weight, developability,
A problem occurs in the shape retention characteristics and the like, and when it exceeds 80% by weight, a problem occurs in water resistance, which is not preferable.

【0035】島部分の60%以上が4μm2以下である
海島構造は、上述した粒子状親水性または水膨潤性エラ
ストマーと疎水性のポリマーとを任意の割合で配合する
ことで得ることができる。また、島部分の60%以上が
4μm2以下である海島構造を形成させる方法として
は、上述した乳化重合法以外にも、熔融押出し、ミルブ
レンドなどの手段により調整し、感光性樹脂組成物調整
時に分散させることも可能であり、本発明に係る感光性
樹脂組成物を製造する方法は、これらの方法に限定され
ない。
A sea-island structure in which 60% or more of the island portion is 4 μm 2 or less can be obtained by mixing the above-mentioned particulate hydrophilic or water-swellable elastomer with a hydrophobic polymer in an arbitrary ratio. As a method for forming a sea-island structure in which 60% or more of the island portion is 4 μm 2 or less, in addition to the above-mentioned emulsion polymerization method, adjustment is performed by melt extrusion, mill blending, or other means to adjust the photosensitive resin composition. It is also possible to sometimes disperse, and the method for producing the photosensitive resin composition according to the present invention is not limited to these methods.

【0036】本発明に係る感光性樹脂組成物の海島構造
における島部分は、分散粒子が水不溶性であるコア成
分、水性媒体に可溶性または膨潤、分散性であってセル
成分として存在する。そのようなコアセル粒子構造系の
感光性樹脂組成物を用いて、現像方式が水系現像性であ
る感光性樹脂印刷原版が得られる。
The island portion in the sea-island structure of the photosensitive resin composition according to the present invention is present as a cell component in which the dispersed particles are water-insoluble, are soluble or swellable or dispersible in an aqueous medium, and are dispersed. By using such a core cell particle structure-based photosensitive resin composition, a photosensitive resin printing original plate having a water-based developable developing system can be obtained.

【0037】なお、上述の乳化重合法は、乳化剤および
重合開始剤を含有する水性媒体中において、各単量体を
共重合させる方法である。乳化剤としては、たとえば、
アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸
塩、アルキル硫酸エステル塩、脂肪酸金属塩、ポリオキ
シアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレ
ンカルボン酸エステル硫酸エステル塩、ポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩、コハク
酸ジアルキルエステルスルホン酸塩などを使用すること
ができる。これらは1種用いてもよいし、2種以上を組
み合わせて用いてもよい。一方、重合開始剤としては、
水溶性無機過酸化物または水溶性還元剤と有機過酸化物
との組合せが用いられる。水溶性無機過酸化物として
は、たとえば過硫酸カリウムや過硫酸アンモニウムなど
が挙げられる。水溶性還元剤としては、たとえば水に可
溶な通常のラジカル酸化還元重合触媒成分として用いら
れる還元剤、たとえばエチレンジアミン四酢酸またはそ
のナトリウム塩やカリウム塩、あるいはこれらと鉄、
銅、クロムなどの重金属との錯化合物、スルフィン酸ま
たはそのナトリウム塩やカリウム塩、L−アスコルビン
酸またはそのナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム
塩、ピロリン酸第一鉄、硫酸第一鉄、硫酸第一鉄アンモ
ニウム、亜硫酸ナトリウム、酸性亜硫酸ナトリウム、ホ
ルムアルデヒドスルホキシル酸ナトリウム、還元糖類な
どを使用することができ、これらは1種用いてもよい
し、2種以上を組み合わせて用いてもよい。有機過酸化
物としては、たとえば、クメンヒドロペルオキシド、p
−サイメンヒドロペルオキシド、t−ブチルイソプロピ
ルベンゼンヒドロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼ
ンヒドロペルオキシド、p−メンタンヒドロペルオキシ
ド、デカリンヒドロペルオキシド、t−アミルヒドロペ
ルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド、イソプロ
ピルヒドロペルオキシドなどのヒドロペルオキシド類を
使用することができる。これらの有機過酸化物は1種用
いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The above-mentioned emulsion polymerization method is a method in which each monomer is copolymerized in an aqueous medium containing an emulsifier and a polymerization initiator. As an emulsifier, for example,
Alkyl benzene sulfonate, alkyl sulfonate, alkyl sulfate, fatty acid metal salt, polyoxyalkyl ether sulfate, polyoxyethylene carboxylate sulfate, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, dialkyl succinate Ester sulfonates and the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more. On the other hand, as the polymerization initiator,
A combination of a water-soluble inorganic peroxide or a water-soluble reducing agent and an organic peroxide is used. Examples of the water-soluble inorganic peroxide include potassium persulfate and ammonium persulfate. As the water-soluble reducing agent, for example, a reducing agent used as a normal water-soluble radical redox polymerization catalyst component, for example, ethylenediaminetetraacetic acid or its sodium or potassium salt, or iron and iron,
Complex compounds with heavy metals such as copper and chromium, sulfinic acid or its sodium or potassium salt, L-ascorbic acid or its sodium salt, potassium salt, calcium salt, ferrous pyrophosphate, ferrous sulfate, ferrous sulfate Iron ammonium, sodium sulfite, sodium acid sulfite, sodium formaldehyde sulfoxylate, reducing sugars and the like can be used, and these may be used alone or in combination of two or more. Examples of the organic peroxide include cumene hydroperoxide, p
Using hydroperoxides such as cymene hydroperoxide, t-butylisopropylbenzene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, decalin hydroperoxide, t-amyl hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, isopropyl hydroperoxide can do. One of these organic peroxides may be used, or two or more thereof may be used in combination.

【0038】本発明において各相の水平力の差を人為的
に制御するために架橋密度の差を効果的に発現させる必
要がある。そのために、特定エチレン性不飽和化合物を
一定量添加することが好ましい。
In the present invention, in order to artificially control the difference in horizontal force between the phases, it is necessary to effectively express the difference in crosslinking density. Therefore, it is preferable to add a specific amount of the specific ethylenically unsaturated compound.

【0039】特定のエチレン性不飽和化合物とは、分子
量が500以下で少なくとも2個以上のエチレン性不飽
和基を末端または側鎖に有する化合物である。
The specific ethylenically unsaturated compound is a compound having a molecular weight of 500 or less and having at least two or more ethylenically unsaturated groups at a terminal or a side chain.

【0040】このような特定のエチレン性不飽和化合物
としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリ
ンジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、PEG#200ジ(メタ)アク
リレート、PEG#400ジ(メタ)アクリレート、
1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカ
ンジオールジメタクリレート、ビスフェノールAのエチ
レンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、エチレ
ンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、1,9−ノナンジオールジ
(メタ)アクリレート、ライトエステルP−2M[共栄
社化学(株)製]、ペンタエリスリトールの3モルエチ
レンオキサイド付加物のトリアクリレート、オリゴプロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラ
メチレングリコールジ(メタ)アクリレートなどを使用
することができ、特にアルキレングリコール系およびア
ルキレンエーテル系の架橋剤が好ましい。
Examples of the specific ethylenically unsaturated compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate,
1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,
6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, PEG # 200 di (meth) acrylate, PEG # 400 di (meth) ) Acrylate,
1,3-butanediol dimethacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol dimethacrylate, ethylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate, penta Erythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, light ester P-2M (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 3-mol ethylene oxide adduct of pentaerythritol Triacrylate, oligopropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, etc. can be used. Alkylene glycol and polyalkylene ether-based crosslinking agent is preferred.

【0041】本発明では、前記特定のエチレン性不飽和
化合物を分子量が1000以上でありかつ、末端あるい
は側鎖にエチレン性不飽和基を有する化合物と併用する
ことも可能である。このようなものとしては、オリゴブ
タジエン(メタ)アクリレート、オリゴスチレンブタジ
エン(メタ)アクリレート、オリゴニトリルブタジエン
(メタ)アクリレート、オリゴイソプレン(メタ)アク
リレート、オリゴブタジエンウレタン(メタ)アクリレ
ート、オリゴスチレンブタジエン(メタ)アクリレー
ト、オリゴブタジエンアミド(メタ)アクリレートなど
を使用することができるが、これらに限定されるもので
はない。このような分子量が1000以上であるエチレ
ン性不飽和基を有する化合物は、上述の特定のエチレン
性不飽和化合物と任意の比率で混合して用いることが可
能である。
In the present invention, the specific ethylenically unsaturated compound may be used in combination with a compound having a molecular weight of 1,000 or more and having an ethylenically unsaturated group at a terminal or a side chain. Such materials include oligobutadiene (meth) acrylate, oligostyrene butadiene (meth) acrylate, oligonitrile butadiene (meth) acrylate, oligoisoprene (meth) acrylate, oligobutadiene urethane (meth) acrylate, and oligostyrene butadiene (meth) A) acrylate, oligobutadienamide (meth) acrylate, and the like can be used, but are not limited thereto. Such a compound having an ethylenically unsaturated group having a molecular weight of 1,000 or more can be used by being mixed with the above-mentioned specific ethylenically unsaturated compound at an arbitrary ratio.

【0042】開始剤としては、たとえばベンゾフェノン
類、アセトフェノン類、α−ジケトン類、アシロイン
類、アシロインエーテル類、ベンジルアルキルケタール
類、多核キノン類、チオキサントン類、アシルフォスフ
ィン類などが挙げられ、具体的にはベンゾフェノン、ク
ロルベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンジル、ジア
セチル、ベンゾイン、ビバロイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジエチル
ケタール、ベンジルジイソプロピルケタール、アントラ
キノン、1,4−ナフトキノン、2−クロルアントラキ
ノン、チオキサントン、2−クロルチオキサントン、ア
シルフォスフィンオキサイドなどを使用することがで
き、これらは単独で用いても組合せてもよく、0.01
〜10重量%組成物中に配合されることが好ましい。
0.01重量%未満では開始剤としての機能を果たすこ
とができず、10重量%を越えると内部フィルター的な
働きが強くなるため内部の硬化が不充分となる。より好
ましくは0.5〜5重量%である。
Examples of the initiator include benzophenones, acetophenones, α-diketones, acyloins, acyloin ethers, benzylalkyl ketals, polynuclear quinones, thioxanthones, acylphosphines and the like. Specifically, benzophenone, chlorobenzophenone, acetophenone, benzyl, diacetyl, benzoin, bivaloin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl diethyl ketal, benzyl diisopropyl ketal, anthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 2-chloroanthraquinone, thioxanthone, -Chlorothioxanthone, acylphosphine oxide, and the like, which may be used alone or in combination;
Preferably, it is blended in a composition of 10 to 10% by weight.
If it is less than 0.01% by weight, it cannot function as an initiator, and if it exceeds 10% by weight, the function of an internal filter becomes strong and the internal curing becomes insufficient. More preferably, it is 0.5 to 5% by weight.

【0043】本発明に係る感光性樹脂組成物には、安定
剤としてハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエ
ーテルや2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールなど
を0.001〜5重量%含有させてもよい。また可塑剤
としてエステルやアミド等の低分子可塑剤、ポリエステ
ルやポリエーテル、液状ゴム類等のオリゴマーを含有さ
せて光硬化物の物性を変化させることができる。
The photosensitive resin composition according to the present invention may contain 0.001 to 5% by weight of hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol or the like as a stabilizer. Good. The physical properties of the photocured product can be changed by adding a low molecular weight plasticizer such as an ester or an amide as a plasticizer, or an oligomer such as a polyester, a polyether, or a liquid rubber.

【0044】本発明に係る感光性樹脂組成物は、たとえ
ば、熱プレス、注型、あるいは溶融押出し、溶液キャス
トなど公知の任意の方法により所望の厚さのシート状物
とすることができる。またこのシート状物を公知の接着
剤を介して、もしくは、接着剤を介さずに支持体に積層
することができる。そのような支持体としてはスチー
ル、アルミニウム、ガラス、ポリエステルフィルムなど
のプラスチックフィルム、金属蒸着したフィルムなど任
意のものが使用できる。
The photosensitive resin composition according to the present invention can be formed into a sheet having a desired thickness by any known method such as hot pressing, casting, melt extrusion, and solution casting. Further, the sheet-like material can be laminated on a support with or without a known adhesive. As such a support, any material such as steel, aluminum, glass, a plastic film such as a polyester film, and a metal-deposited film can be used.

【0045】感光性樹脂印刷原版を製造する際は、たと
えば、感光性樹脂印刷原版を成形するときに温度を上げ
て熱処理する方法や、成形した感光性樹脂印刷原版を加
熱する方法などを採用することができる。
In producing the photosensitive resin printing original plate, for example, a method of increasing the temperature when forming the photosensitive resin printing original plate and performing a heat treatment, a method of heating the formed photosensitive resin printing original plate, and the like are employed. be able to.

【0046】感光性樹脂印刷原版を成形するときに温度
を上げて熱処理する方法としては、感光性樹脂組成物を
シート状に押し出して、接着層がコーティングされた支
持体フイルムと粘着防止層がコーティングされたカバー
フィルムとで挟持してラミネートする場合は、感光性樹
脂温度を高く保つこともしくはラミネート装置自体を高
温に設定する。すなわち、感光性樹脂組成物を、接着層
がコーティングされたポリエチレンテレフタレートフイ
ルムと、主に水溶性樹脂からなるスリップコート層がコ
ーティングされたポリエチレンテレフタレートフイルム
との間で挟持して積層体を形成し、その積層体を加熱す
るとともに圧着することによって製造することができ
る。接着層がコーティングされた支持体フイルムと粘着
防止層がコーティングされたカバーフィルムは、本発明
に係る感光性樹脂組成物を、シート状に成形した後の貯
蔵または操作時における感光層の汚染または損傷を防止
するために用いられる。なお、支持体フイルムとカバー
フィルムは剥離可能である。
As a method of heat-treating by elevating the temperature when forming the photosensitive resin printing plate precursor, the photosensitive resin composition is extruded into a sheet shape, and the support film coated with the adhesive layer and the anti-adhesion layer are coated. In the case of laminating by sandwiching with the covered film, the photosensitive resin temperature is kept high or the laminating apparatus itself is set at a high temperature. That is, the photosensitive resin composition, a polyethylene terephthalate film coated with an adhesive layer, and a slip coat layer mainly composed of a water-soluble resin sandwiched between a polyethylene terephthalate film coated to form a laminate, The laminate can be manufactured by heating and pressing. The support film coated with the adhesive layer and the cover film coated with the anti-adhesion layer may be used to form the photosensitive resin composition according to the present invention into a sheet, and then store or operate the photosensitive resin composition after contamination or damage. Used to prevent The support film and the cover film can be peeled off.

【0047】成形した感光性樹脂印刷原版を加熱する方
法は、熱源としてホットプレート、熱風、遠赤外線や高
周波照射など公知の加熱装置で、感光性樹脂印刷原版を
一定時間処理することで容易に行なえる。感光性樹脂印
刷原版を一定温度に保つことができればどの様な方法で
も良い。ただし、感光性樹脂印刷原版の要求特性として
の現像性や物性、さらには最終用途などのための厚みや
平滑性などの形状が損なわれてはならない。
The method of heating the formed photosensitive resin printing plate can be easily carried out by treating the photosensitive resin printing plate with a known heating device such as a hot plate, hot air, far-infrared ray or high frequency irradiation as a heat source for a certain period of time. You. Any method may be used as long as the photosensitive resin printing plate can be maintained at a constant temperature. However, the developability and physical properties as the required characteristics of the photosensitive resin printing plate precursor, as well as the shape such as thickness and smoothness for the final use must not be impaired.

【0048】本発明における水現像型感光性フレキソ印
刷版を使用した現像工程について述べる。検査ネガを当
てて適切な露光条件で紫外線を照射した後、現像液を用
いて非画像部を除去すると水現像型の感光性樹脂印刷版
が得られる。該現像液としては、生活用水一般を含むp
H5.0〜9.0の水が最適であり、その他にアルカリ
性化合物、界面活性剤、水溶性有機溶剤、場合によって
は有機酸などを含有していてもよい。なお上記界面活性
剤としては、アルキルナフタレンスルホン酸ソーダ、ア
ルキルベンゼンスルホン酸ソーダ、アルキルベンゼンス
ルホン酸ソーダなどが最適であり、他に、アニオン系界
面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性活性剤
が使用できる。さらに、現像液の温度としては25〜5
0℃で用いることが好ましい。
The developing step using the water-developable photosensitive flexographic printing plate of the present invention will be described. After applying an inspection negative and irradiating with ultraviolet light under appropriate exposure conditions, a non-image portion is removed using a developing solution to obtain a water-developable photosensitive resin printing plate. Examples of the developing solution include p containing water for daily use in general.
Water having an H of 5.0 to 9.0 is optimal, and may further contain an alkaline compound, a surfactant, a water-soluble organic solvent, and in some cases, an organic acid. As the above-mentioned surfactant, sodium alkylnaphthalenesulfonate, sodium alkylbenzenesulfonate, sodium alkylbenzenesulfonate and the like are most suitable, and in addition, anionic surfactants, nonionic surfactants, and amphoteric surfactants are preferable. Can be used. Furthermore, the temperature of the developer is 25 to 5
It is preferably used at 0 ° C.

【0049】[0049]

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されない。なお、部とあるのは
重量部を意味し、各評価は以下に示す測定方法によって
評価した。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. In addition, "parts" means parts by weight, and each evaluation was evaluated by the following measurement methods.

【0050】本発明で重要となる水平力顕微鏡(LF
M)は走査型プローブ顕微鏡(SPM)の一種であり、
現在市販されているSPMには通常、標準的に装備され
ている観察モードである。市販されている一般のSPM
であれば、使用する装置のメーカーは限定しないが、本
発明においてはSeiko Instruments社
のSPI3800/SPA300を使用した。なお、走
査型プローブ顕微鏡とは、鋭い探針と試料間とに発生す
る様々な局所的な物理的相互作用(力、トンネル電流、
磁気力、摩擦力など)を利用することによって、試料表
面の形状情報や、その他の表面特性の情報を得る顕微鏡
の総称である。
The horizontal force microscope (LF) which is important in the present invention
M) is a type of scanning probe microscope (SPM),
The SPM currently on the market is usually a standard observation mode. General SPM on the market
If so, the manufacturer of the device to be used is not limited. In the present invention, SPI3800 / SPA300 manufactured by Seiko Instruments was used. Note that a scanning probe microscope refers to various local physical interactions (force, tunnel current,
This is a general term for a microscope that obtains information on the shape of the sample surface and information on other surface characteristics by utilizing magnetic force, frictional force, and the like.

【0051】LFM測定条件は下記に示すものであっ
た。 機種:Seiko Instrumaents SPI
3800system−SPA300 カンチレバー:OMCL−RC800PSA・kz(バ
ネ定数)=0.09N/m(オリンパス光学社製)(カ
ンチレバーはサンプルによって適宜、適当なバネ定数を
持つものを選択せねばならない。) 測定環境:温度20度、湿度65% スキャナー:20μmスキャナーおよび100μmスキ
ャナー スキャン速度:0.25〜4Hz move in時のForce Reference:
−1nm 測定時のForce Reference:0.0nm
〜−30nm
The LFM measurement conditions were as shown below. Model: Seiko Instruments SPI
3800 system-SPA300 cantilever: OMCL-RC800PSA · kz (spring constant) = 0.09 N / m (manufactured by Olympus Optical Co., Ltd.) (The cantilever must have an appropriate spring constant depending on the sample.) Measurement environment: Temperature 20 ° C, Humidity 65% Scanner: 20 μm scanner and 100 μm scanner Scanning speed: 0.25-4 Hz Force Reference at move in:
Force Reference at -1 nm measurement: 0.0 nm
~ -30 nm

【0052】LFM用サンプルの調整は下記に示すもの
であった。サンプルを温度マイナス50度〜マイナス1
20度に冷却し、自作ガラスナイフによりクライオミク
ロトームを使用して刷版断面が露出した薄膜試料を作製
し、LFM用試料とした。よって、LFM観察面は刷版
内部の断面である。観察面は極力平滑になるように努力
しなくてはならず、サンプリングの冷却温度などの条件
は適宜最適条件を選ばねばならない。また、サンプル厚
みは500nm以上とした。
The preparation of the LFM sample was as follows. Temperature of sample minus 50 degrees to minus 1
After cooling to 20 degrees, a self-made glass knife was used to prepare a thin film sample with a cross section of the printing plate exposed using a cryomicrotome, and used as a sample for LFM. Therefore, the LFM observation surface is a cross section inside the plate. Efforts must be made to make the observation surface as smooth as possible, and optimum conditions such as the cooling temperature for sampling must be appropriately selected. The sample thickness was 500 nm or more.

【0053】(実施例1)ポリテトラメチレングリコー
ル29.0部(保土谷化学(株)製G−850)ジメチ
ロールプロピオン酸(藤井義通商製)62.0部、ヘキ
サメチレンジイソシアネート119.0部(日本ポリウ
レタン工業(株)製)、およびジラウリン酸−n−ブチ
ルスズ5.0部をテトラヒドロフラン300.0部に溶
解した溶液を攪拌機の付いた1リットルフラスコに入れ
攪拌を続けながらフラスコを65℃に加熱し、3時間反
応を続けた。さらにヒドロキシエチルメタアクリレート
26.0部を加え65℃に加熱しながら2時間反応を続
けた。
(Example 1) 29.0 parts of polytetramethylene glycol (G-850, manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 62.0 parts of dimethylolpropionic acid (manufactured by Yoshitsuka Fujii), 119.0 parts of hexamethylene diisocyanate A solution prepared by dissolving 5.0 parts of n-butyltin dilaurate in 300.0 parts of tetrahydrofuran was placed in a 1-liter flask equipped with a stirrer, and the flask was heated to 65 ° C. while stirring was continued. Heated and reaction continued for 3 hours. Further, 26.0 parts of hydroxyethyl methacrylate was added, and the reaction was continued for 2 hours while heating to 65 ° C.

【0054】別の容器で末端アミノ基含有アクリロニト
リル、ブタジエンオリゴマー(Hycar ATBNX
1300×16宇部興産製)184.0部をテトラヒ
ドロフラン270.0部に溶解して調整した溶液を上記
の1リットルフラスコ内に室温下で攪拌しながら添加し
た。
In a separate container, acrylonitrile containing terminal amino groups, butadiene oligomer (Hycar ATBNX)
A solution prepared by dissolving 184.0 parts (1300 × 16, manufactured by Ube Industries) in 270.0 parts of tetrahydrofuran was added to the above 1-liter flask with stirring at room temperature.

【0055】得られたポリマー溶液を減圧乾燥してテト
ラヒドロフランを除去し、含有するカルボキシル基を水
酸化リチウムおよび酢酸マグネシウムで処理し、親水性
ポリマーAを得た。
The obtained polymer solution was dried under reduced pressure to remove tetrahydrofuran, and the contained carboxyl group was treated with lithium hydroxide and magnesium acetate to obtain a hydrophilic polymer A.

【0056】上述の親水性ポリマーAを16部、ブタジ
エンゴム(JSR BROLLL)32.5部、オリゴ
ブタジエンアクリレート(PB−A共栄社化学(株)製
38部、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート3
部、光開始剤として、ジメチルベンジルケタール2部、
ハイドロキノンモノメチルエーテル0.2部をトルエン
80部、水16部とともに加熱ニーダーを用いて105
℃で混練し、その後トルエンおよび水を減圧留去した。
得られた感光性樹脂組成物を厚さ125μmのポリエチ
レンテレフタレートフイルム上にポリエステル系接着層
をコーティングしたフイルムと、同じポリエチレンテレ
フタレートフイルム上に、粘着防止層(ポリビニルアル
コール、プロピレングリコール、界面活性剤を含有)を
コーティングしたフイルムで挟み(接着層、粘着防止層
が感光性樹脂組成物と接触するように)、ヒートプレス
機で105℃、100kg/cm2の圧力で1分間加熱
加圧することにより厚さ1.7mmの感光性樹脂印刷原
版を作成した。
16 parts of the above-mentioned hydrophilic polymer A, 32.5 parts of butadiene rubber (JSR BROLL), 38 parts of oligobutadiene acrylate (PB-A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 1,6-hexanediol dimethacrylate 3
Parts, 2 parts of dimethylbenzyl ketal as photoinitiator,
Hydroquinone monomethyl ether (0.2 part) was mixed with 80 parts of toluene and 16 parts of water using a heating kneader to form 105 parts.
C., and then toluene and water were distilled off under reduced pressure.
A film obtained by coating the obtained photosensitive resin composition with a polyester adhesive layer on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 125 μm, and an anti-adhesion layer (containing polyvinyl alcohol, propylene glycol, and a surfactant on the same polyethylene terephthalate film). ) Is sandwiched between the coated films (so that the adhesive layer and the anti-adhesion layer are in contact with the photosensitive resin composition), and heated and pressed at 105 ° C. under a pressure of 100 kg / cm 2 for 1 minute with a heat press. A 1.7 mm photosensitive resin printing plate was prepared.

【0057】得られた感光性樹脂印刷原版のカバーフイ
ルムを剥離し、網点200線1%〜95%、最小独立点
直径100μm、最小凸文字、1ポイント、最小抜文字
1ポイントベタ画像、ステップガイドを含む検査ネガを
あて、365mm光における照度約17.5w/m
2(Anderson A Vreeland社製ラン
プFR20T12−BL−9−BP)を用いて、裏露光
と表露光をおこない、ネガフイルムを除去し、アルキル
ナフタレンスルホン酸ソーダ4重量%を含有する40℃
の中性水で10分間現像し、60分間で20分乾燥し
た。さらに表から露光をおこない感光性樹脂印刷版を得
た。
The cover film of the obtained photosensitive resin printing original plate was peeled off, and the halftone dot 200 line 1% to 95%, the minimum independent point diameter 100 μm, the minimum convex character, 1 point, the minimum extracted character 1 point solid image, step With an inspection negative including a guide, the illuminance at 365 mm light is about 17.5 w / m.
2 Using a lamp FR20T12-BL-9-BP (manufactured by Anderson A Vreland), back exposure and front exposure were performed to remove the negative film, and 40 ° C. containing 4% by weight of sodium alkylnaphthalenesulfonate was used.
For 10 minutes and dried for 60 minutes for 20 minutes. Further, exposure was performed from the table to obtain a photosensitive resin printing plate.

【0058】得られた感光性樹脂印刷版の露光硬化後の
断面における相構造をLFMで観察した結果、海部分と
島部分とからなる海島構造であり、島部分の60%以上
が、ドメイン平均面積を4μm2以下とする相構造を有
していた。また、レリーフ深度が0.8mmであり、網
点200線1%〜95%、最小独立点直径100μm、
最小独立線幅が30μm、最小抜線幅100μm、最小
凸文字1ポイント、最小抜文字1ポイントを再現する従
来の感光性樹脂印刷版では実現し得ない画像再現性が得
られた。
As a result of observing the phase structure in the cross section of the obtained photosensitive resin printing plate after exposure and curing by LFM, a sea-island structure consisting of a sea portion and an island portion was obtained, and 60% or more of the island portion had a domain average. It had a phase structure with an area of 4 μm 2 or less. The relief depth is 0.8 mm, the halftone dot 200 line is 1% to 95%, the minimum independent point diameter is 100 μm,
An image reproducibility that could not be realized by a conventional photosensitive resin printing plate that reproduced a minimum independent line width of 30 μm, a minimum line width of 100 μm, a minimum convex character of 1 point, and a minimum character of 1 point was obtained.

【0059】(実施例2)実施例1において、1,6ヘ
キサンジオールメタクリレート3部の代わりにジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート3部を用いた以外は
全て実施例1と同様に行ったところ実施例1と同様の結
果が得られた。
Example 2 The procedure of Example 1 was repeated except that 3 parts of dipentaerythritol hexaacrylate was used instead of 3 parts of 1,6 hexanediol methacrylate. Similar results were obtained.

【0060】(比較例)塩素化ポリエチレン(ダイソラ
ックH−135ダイソー(株)製)45部、ブタジエン
ゴム(JSR BROLL日本合成ゴム(株)製)14
部、ブタジエンオリゴアクリレート(PB−A共栄社化
学(株)製)25部、1,6ヘキサンジオールジメタリ
レート2.5部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート2.5部、親水性ポリマーA10.5部、ベンジ
ルジメチルケタール2部、ハイドロキノンモノメチルエ
ーテル0.3部を実施例1と同様にして混合し感光性樹
脂印刷版を作製した。LFMで相構造を観察したとこ
ろ、2相構造が確認されたが、島部分を形成する50%
以上の相が、ドメイン平均面積を80μm2以上とする
ものであった。実施例1と同様に評価を行ったところ、
網点150線3%〜95%最小独立点直径200μm、
最小独立線幅が5μm、最小抜線幅150μm、最小凸
文字3ポイント、最小抜文字4ポイントの画像再現性し
か得られなかった。
Comparative Example 45 parts of chlorinated polyethylene (manufactured by Daisorac H-135 Daiso Co., Ltd.) and butadiene rubber (manufactured by JSR BROLL Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) 14
Parts, butadiene oligoacrylate (PB-A Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 25 parts, 1,6 hexanediol dimethacrylate 2.5 parts, dipentaerythritol hexaacrylate 2.5 parts, hydrophilic polymer A 10.5 parts, 2 parts of benzyldimethyl ketal and 0.3 part of hydroquinone monomethyl ether were mixed in the same manner as in Example 1 to prepare a photosensitive resin printing plate. When the phase structure was observed by LFM, a two-phase structure was confirmed.
The above-mentioned phases have a domain average area of 80 μm 2 or more. When evaluation was performed in the same manner as in Example 1,
Halftone dot 150 line 3% ~ 95% Minimum independent point diameter 200μm,
Only the image reproducibility of a minimum independent line width of 5 μm, a minimum line width of 150 μm, a minimum convex character of 3 points, and a minimum character of 4 points was obtained.

【0061】なお、今回開示された実施の形態および実
施例はすべての点で例示であって制限的なものではない
と考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明
ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の
範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含ま
れることが意図される。
It should be noted that the embodiments and examples disclosed this time are illustrative in all aspects and are not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明に係る感光性樹脂印刷原版は、従
来にない良好な画像再現性を有し、しかもドットゲイン
の小さい、印刷性の良好な感光性樹脂印刷原版である。
したがって、凸版印刷用レリーフ版やサンドブラスト用
レリーフマスク、ネームプレートなどの種々の分野に
て、鮮明な画像再現性を提供することができた。
The photosensitive resin printing plate precursor according to the present invention is a photosensitive resin printing plate precursor having excellent image reproducibility, low dot gain and good printability, which has not been achieved in the past.
Therefore, clear image reproducibility could be provided in various fields such as relief printing plates for relief printing, relief masks for sandblasting, and name plates.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 孝敏 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 (72)発明者 河原 恵造 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 (72)発明者 今橋 聰 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA04 AA12 AB02 AB11 AB20 AC01 AD01 BC31 DA09 EA08 FA03 FA17 2H096 AA00 AA02 AA30 BA05 BA20 CA16 EA02 GA08 LA17  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takatoshi Yamada 2-1-1 Katata, Otsu City, Shiga Prefecture Inside Toyobo Research Institute (72) Inventor Keizo Kawahara 2-1-1 Katata, Otsu City, Shiga Prefecture Inside Toyobo Co., Ltd. Research Laboratory (72) Inventor Satoshi Imahashi 2-1-1 Katata, Otsu City, Shiga Prefecture Toyobo Co., Ltd. Research Laboratory F-term (reference) 2H025 AA00 AA04 AA12 AB02 AB11 AB20 AC01 AD01 BC31 DA09 EA08 FA03 FA17 2H096 AA00 AA02 AA30 BA05 BA20 CA16 EA02 GA08 LA17

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 水平力顕微鏡(LFM)で断面観察した
場合、水平力の異なる相が二相存在する、海部分と島部
分とからなる海島構造であり、前記島部分の60%以上
がドメイン平均面積を4μm2以下とする感光性樹脂組
成物。
1. A cross-sectional observation using a horizontal force microscope (LFM) has a sea-island structure including a sea portion and an island portion in which two phases having different horizontal forces exist, and 60% or more of the island portion is a domain. A photosensitive resin composition having an average area of 4 μm 2 or less.
【請求項2】 請求項1記載の感光性樹脂組成物を、接
着層がコーティングされた支持体フイルムと粘着防止層
がコーティングされたカバーフィルムとで挟持して積層
体を構成し、前記積層体を加熱するとともに圧着するこ
とで得られる感光性樹脂印刷原版。
2. A laminate comprising the photosensitive resin composition according to claim 1 sandwiched between a support film coated with an adhesive layer and a cover film coated with an anti-adhesion layer, to form a laminate. A photosensitive resin printing original plate obtained by heating and pressing.
JP2000390300A 2000-12-22 2000-12-22 Photosensitive resin composition and photosensitive resin original plate Withdrawn JP2002189288A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000390300A JP2002189288A (en) 2000-12-22 2000-12-22 Photosensitive resin composition and photosensitive resin original plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000390300A JP2002189288A (en) 2000-12-22 2000-12-22 Photosensitive resin composition and photosensitive resin original plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002189288A true JP2002189288A (en) 2002-07-05

Family

ID=18856697

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000390300A Withdrawn JP2002189288A (en) 2000-12-22 2000-12-22 Photosensitive resin composition and photosensitive resin original plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002189288A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11493844B2 (en) 2017-04-04 2022-11-08 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition for flexographic printing plate, flexographic printing original plate, flexographic printing plate, and copolymer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11493844B2 (en) 2017-04-04 2022-11-08 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition for flexographic printing plate, flexographic printing original plate, flexographic printing plate, and copolymer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0699961B1 (en) Photosensitive composition, photosensitive rubber plate and process for producing the plate, and flexographic plate and process for producing the plate
KR101121391B1 (en) Photosensitive Resin Composition Photosensitive Layer Therefrom and Photosensitive Resin Printing Original Plate
JP6810251B2 (en) Photosensitive resin composition for flexographic printing plate, flexo printing original plate, flexographic printing plate, and copolymer
US5372913A (en) Photosensitive resin composition
EP3358410A1 (en) Photosensitive resin composition for flexographic printing and flexographic printing plate
JP2985655B2 (en) Photosensitive composition, photosensitive rubber plate and method for producing the same, and flexographic printing plate and method for producing the same
JP2940039B2 (en) Photosensitive resin printing plate
JP2002189288A (en) Photosensitive resin composition and photosensitive resin original plate
JP3483025B2 (en) Water-developed photosensitive flexographic printing plate
JPH10148930A (en) Photosensitive resin original plate for printing and its production
JP3801851B2 (en) Photosensitive resin laminate
JPH09106068A (en) Photosensitive resin composition
JP2001337445A (en) Photosensitive resin composition for water developable photosensitive original plate for flexographic printing, water developable photosensitive original plate for flexographic printing and flexographic printing plate
JP2940006B2 (en) Photosensitive resin printing plate
JP2002196479A (en) Photosensitive resin composition and original plate for flexograpy board
JP2001356493A (en) Photosensitive resin composition
JP3483024B2 (en) Water-developed photosensitive flexographic printing plate
JP3806774B2 (en) Water-developable photosensitive resin printing plate and photosensitive resin composition
JP2001100396A (en) Water developable photosensitive flexographic printing original plate
JP2002196492A (en) Photosensitive resin composition and original plate for flexographic printing plate
JP2001337446A (en) Flexographic printing plate and water developable photosensitive original plate for flexographic printing
JP2940037B2 (en) Photosensitive resin printing original plate and printing plate
JP2940029B2 (en) Photosensitive resin printing plate
EP1063100B1 (en) Water-developable photosensitive flexographic printing plate
JP3436350B2 (en) Water-developable photosensitive flexographic printing plate

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20080304