JP2002182092A - Lens adjusting device and lens adjusting method - Google Patents

Lens adjusting device and lens adjusting method

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JP2002182092A
JP2002182092A JP2000383764A JP2000383764A JP2002182092A JP 2002182092 A JP2002182092 A JP 2002182092A JP 2000383764 A JP2000383764 A JP 2000383764A JP 2000383764 A JP2000383764 A JP 2000383764A JP 2002182092 A JP2002182092 A JP 2002182092A
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JP
Japan
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lens
light intensity
aberration
moving
interference
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Application number
JP2000383764A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Fukui
厚司 福井
和政 ▲高▼田
Kazumasa Takada
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lens adjusting device and a lens adjusting method utilizing a diffraction interference method. SOLUTION: This adjusting device 100 is provided with a diffraction grating 22 obtaining an interference image by diffracting light transmitted through a lens 10 and making it interfere, electromagnetic moving means (46 and 48) moving the lens in an orthogonal direction to the grating of the diffraction grating, and an aberration detecting device 30 obtaining the aberration of the lens from the change of light intensity at plural points on the interference image when the lens is moved. The adjusting device is provided with a controller 32 for allowing the lens to move by a moving means and obtaining a position where the light intensity becomes maximum or minimum from the change of the light intensity at the several points on the interference image obtained when the lens is moved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク方式の
情報記億媒体、例えばDVD(Digita1 VersatileDis
k)、に情報を読み書きする光学レンズ、またはレーザ加
工機、レーザ顕微鏡などにおいて光を結橡して光スポッ
トを形成する光学レンズ調整装置及び調整方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information storage medium of an optical disk system, for example, a DVD (Digita 1 Versatile
k), an optical lens adjusting device and an adjusting method for forming a light spot by combining light in an optical lens for reading and writing information, or a laser beam machine, a laser microscope or the like.

【0002】[0002]

【発明の背景】光ディスク方式の高密度情報記憶媒体か
ら情報を読み取り、またこの高密度情報記録媒体に情報
を記億するためには、光源から出射された光を目的の場
所に正確に照射できる光学系が必要である。そのため、
特に、光学系の対物レンズは、それ自体に厳格な光学的
特性が要求されるだけでなく、目的の場所に精度良く固
定されなければならない。
BACKGROUND OF THE INVENTION In order to read information from an optical disk type high-density information storage medium and to store information on the high-density information storage medium, light emitted from a light source can be accurately irradiated to a target place. Optical system is required. for that reason,
In particular, the objective lens of the optical system not only requires strict optical characteristics per se, but also must be accurately fixed to a target place.

【0003】そこで、対物レンズの検査又は調整の方法
として、図1に示すように、対物レンズ1を介して出射
した光(例えば、レーザ光)2をレンズ検査用の参照基準
3(例えば、光ディスク)に照射し、この参照基準3から
の反射光を検出し、この検出から得られた再生信号4を
基準信号5と比較し、これら再生信号4と基準信号5と
の位相差6を最小にするように又はその位相差が所定の
許容値に収まるように、対物レンズ1の傾き等を調整す
ること(ジッタ法)が考えられる。
As a method of inspecting or adjusting an objective lens, as shown in FIG. 1, light (eg, laser light) 2 emitted through an objective lens 1 is used as a reference 3 for lens inspection (eg, an optical disk). ), The reflected light from the reference reference 3 is detected, the reproduction signal 4 obtained from this detection is compared with the reference signal 5, and the phase difference 6 between the reproduction signal 4 and the reference signal 5 is minimized. It is conceivable to adjust the inclination or the like of the objective lens 1 so that the phase difference falls within a predetermined allowable value (jitter method).

【0004】しかし、一般に対物レンズ1の特性は個々
に異なり、対物レンズ1の傾斜量等と位相差6との間に
は一定した関係がなく、図2に示すように、1つの対物
レンズ1Aと別の対物レンズ1Bでは、著しく異なる特
性(レンズ傾斜角―位相特性)を示すことがある。また、
対物レンズの傾斜調整と信号の対比とを繰り返し行なわ
なければならないし、どの段階で調整を完了するかの客
観的判断が難しい。さらに、再生信号4から対物レンズ
1の傾斜等を十分に把握できない。そこで、本発明は、
上述したジッタ法に代わる新たなレンズ調整装置を提供
することを目的とする。
However, the characteristics of the objective lens 1 generally differ from each other, and there is no fixed relationship between the amount of tilt of the objective lens 1 and the like and the phase difference 6, and as shown in FIG. The other objective lens 1B may exhibit significantly different characteristics (lens tilt angle-phase characteristics). Also,
The tilt adjustment of the objective lens and the comparison of the signals must be repeatedly performed, and it is difficult to objectively determine at which stage the adjustment is completed. Further, the inclination of the objective lens 1 and the like cannot be sufficiently grasped from the reproduction signal 4. Therefore, the present invention
It is an object of the present invention to provide a new lens adjustment device that replaces the above-described jitter method.

【0005】[0005]

【発明の概要】本発明のレンズ調整装置は、レンズを透
過した光を回折し干渉させて干渉像を得る回折格子と、
レンズを回折格子の格子と直交する方向に移動させる電
磁気学的移動手段と、レンズの移動時、干渉像における
複数の点の光強度の変化からレンズの収差を求める収差
検出手段とを有する。調整装置はまた、移動手段により
レンズを移動させ、レンズの移動時に得られる干渉像に
おける複数の点の光強度の変化から該光強度が最大又は
最小となる位置を求める制御手段を有する。
SUMMARY OF THE INVENTION A lens adjusting device according to the present invention includes a diffraction grating for diffracting and transmitting light transmitted through a lens to obtain an interference image;
Electromagnetic moving means for moving the lens in a direction orthogonal to the grating of the diffraction grating, and aberration detecting means for obtaining aberration of the lens from changes in light intensity at a plurality of points in the interference image when the lens moves. The adjusting device also has control means for moving the lens by the moving means and obtaining a position where the light intensity becomes maximum or minimum from a change in light intensity at a plurality of points in the interference image obtained when the lens is moved.

【0006】上記調整装置の他の形態において、制御手
段は、光強度が最大又は最小となる第1の位置から、次
に光強度が最大又は最小となる第2の位置まで、移動手
段によりレンズを移動させる。
In another mode of the adjusting device, the control means includes a lens moving means for moving the lens from a first position where the light intensity is maximum or minimum to a second position where the light intensity is maximum or minimum. To move.

【0007】また、上記調整装置の他の形態において、
収差検出手段は、第1の位置と第2の位置との間を分割
して得られた複数の位置で光強度を検出して収差を求め
る。
[0007] In another embodiment of the adjusting device,
The aberration detecting means obtains aberration by detecting light intensity at a plurality of positions obtained by dividing the first position and the second position.

【0008】さらに、上記調整装置の他の形態は、収差
検出手段で得られた収差をもとにレンズの傾きを調整す
る調整手段を備えている。
Further, another embodiment of the above-mentioned adjusting device includes adjusting means for adjusting the inclination of the lens based on the aberration obtained by the aberration detecting means.

【0009】さらにまた、上記調整装置の他の形態にお
いて、移動手段は、レンズを移動可能に支持する支持部
と、支持部に保持された第1の磁界形成手段と、第1の
磁界形成手段と共同し、レンズを移動する第2の磁界形
成手段とを備えている。
Still further, in another form of the adjusting device, the moving means includes a support for movably supporting the lens, first magnetic field forming means held by the support, and first magnetic field forming means. And a second magnetic field forming means for moving the lens.

【0010】本発明に係る回折干渉法を利用したレンズ
調整装置は、レンズを透過した光を回折し干渉させて干
渉像を得る回折格子を用意し、電気的磁界形成手段によ
りレンズを回折格子の格子と直交する方向に移動し、レ
ンズの移動時に形成される干渉像の複数の点で光強度を
測定し、光強度が最大又は最小となる第1の位置と、次
に上記光強度が最大又は最小となる第2の位置とを求
め、第1の位置と第2の位置との間でレンズを移動して
レンズの収差を求めるものである。
A lens adjusting apparatus using a diffraction interference method according to the present invention prepares a diffraction grating for diffracting light transmitted through a lens and causing interference, thereby obtaining an interference image, and using an electric magnetic field forming means to connect the lens to the diffraction grating. It moves in the direction perpendicular to the grating, measures the light intensity at a plurality of points of the interference image formed when the lens moves, a first position where the light intensity is maximum or minimum, and then the light intensity is maximum. Alternatively, a minimum second position is obtained, and the lens is moved between the first position and the second position to obtain the lens aberration.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の複数の形態について説明する。まず、図3は、光ディ
スク方式の情報記億媒体、例えばDVD(Digita1 Versa
tile Disk)、に情報を読み書きする光学レンズ、または
レーザ加工機、レーザ顕微鏡などにおいて光を結橡して
光スポットを形成する光学レンズの、回折干渉法を利用
したレンズ調整システム又は光学系(調整装置)100
の全体を示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A plurality of embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. First, FIG. 3 shows an optical storage medium such as a DVD (Digita1 Versa).
A lens adjustment system or an optical system (adjustment) using a diffraction interference method for an optical lens that reads and writes information on a tile disk, or an optical lens that forms a light spot by combining light in a laser processing machine, a laser microscope, or the like. Apparatus) 100
The whole is shown.

【0012】調整システム100によって調整される対
象のレンズ(以下、「対物レンズ」という。)10は、
光ピックアップ12内に配置されている。対物レンズ1
0は傾斜調整装置(傾斜調整手段)14によって支持さ
れており、該対物レンズ10の傾きを調整できるように
してある。対物レンズ10はまた電磁気学的移動装置
(移動手段)16によって支持されており、この移動装
置16を操作することにより、対物レンズ10をその光
軸と直交する方向に移動できるようにしてある。これら
対物レンズ10及び光ピックアップ12は、対物レンズ
10を調整する前に、対物レンズ10の光軸を後述する
評価装置18の光軸20にほぼ一致させた状態(完全に
一致している必要はない。)で保持される。
The lens to be adjusted by the adjustment system 100 (hereinafter referred to as “objective lens”) 10 is
It is arranged in the optical pickup 12. Objective lens 1
Numeral 0 is supported by a tilt adjusting device (tilt adjusting means) 14 so that the tilt of the objective lens 10 can be adjusted. The objective lens 10 is also supported by an electromagnetic moving device (moving means) 16. By operating the moving device 16, the objective lens 10 can be moved in a direction orthogonal to the optical axis. Before adjusting the objective lens 10, the objective lens 10 and the optical pickup 12 are in a state where the optical axis of the objective lens 10 is substantially aligned with an optical axis 20 of an evaluation device 18 described later (it is not necessary to completely match the optical axis). No.).

【0013】対物レンズ10の光軸20に対する傾斜を
評価する評価装置18は回折格子22を有する。回折格
子22は、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、また
はガラスなど透明な材料の板からなり、例えば一方の表
面に所定のピッチをあけて平行に並ぶ複数の光透過用ス
リット(格子)が形成されている。スリットのピッチ
は、例えば、調整対象である光学レンズが光ディスクの
情報読取・書込用の対物レンズの場合、この光ディスク
のトラック間の距離に等しくするのが好ましい。また、
本実施形態において、回折格子22は、その格子を図面
の左右方向に向け、光軸20に垂直に配置されている。
The evaluation device 18 for evaluating the inclination of the objective lens 10 with respect to the optical axis 20 has a diffraction grating 22. The diffraction grating 22 is made of a plate made of a transparent material such as an acrylic resin, a polycarbonate resin, or glass. For example, a plurality of light transmission slits (gratings) are formed on one surface in parallel at a predetermined pitch. . For example, when the optical lens to be adjusted is an objective lens for reading and writing information on an optical disk, the pitch of the slits is preferably equal to the distance between tracks on the optical disk. Also,
In the present embodiment, the diffraction grating 22 is arranged perpendicular to the optical axis 20 with the grating directed in the left-right direction in the drawing.

【0014】回折格子22を挟んで対物レンズ10の反
対側には、対物レンズ10と回折格子22を透過した光
を平行な光に復調するコリメートレンズ24と、コリメ
ートレンズ24を透過した平行光を再び結像する結像レ
ンズ26と、結像レンズ26を透過した光を受光する撮
像素子(例えば、電荷結合素子)28が配置されてい
る。
On the opposite side of the objective lens 10 with the diffraction grating 22 therebetween, a collimator lens 24 for demodulating the light transmitted through the objective lens 10 and the diffraction grating 22 into parallel light, and a parallel light transmitted through the collimator lens 24. An imaging lens 26 that forms an image again, and an imaging device (for example, a charge-coupled device) 28 that receives light transmitted through the imaging lens 26 are arranged.

【0015】撮像素子28は、収差計測装置(検出手
段)30に電気的に接続されている。収差計測装置30
は、撮像素子28で受光した像を表示する表示装置と、
表示装置に表示された像をもとに対物レンズ10の収差
を計測する収差演算装置(共に図示せず)を有する。収
差計測装置30は、上述した傾斜調整装置14、移動装
置16の駆動を制御する制御装置(制御手段)32に電
気的に接続されている。
The image pickup device 28 is electrically connected to an aberration measuring device (detection means) 30. Aberration measurement device 30
A display device for displaying an image received by the image sensor 28;
An aberration calculator (both not shown) for measuring aberration of the objective lens 10 based on an image displayed on the display device is provided. The aberration measuring device 30 is electrically connected to a control device (control means) 32 for controlling the driving of the tilt adjusting device 14 and the moving device 16 described above.

【0016】以上の構成を供えた調整システム100に
よる対物レンズ10の調整について概略説明する。調整
時、図3に示すように、対物レンズ10はその光軸を光
軸20にほぼ一致させた状態で固定される。次に、対物
レンズ10を挟んで回折格子22の反対側に配置された
光源(図示せず)を点灯し、対物レンズ10に平行光
(例えば、レーザ光)を入射する。対物レンズ10を透
過した光は、回折格子22(特に、回折格子22に形成
されている回折スリット等)で焦点を結ぶ。回折格子2
2を透過した光は、0次回折光、±1次回折光、・・・
±n次回折光に分かれ、コリメートレンズ24、結像レ
ンズ26を介し、撮像素子28に投射される。ここで、
撮像素子28の投影面で0次回折光と+1次回折光が部
分的に干渉し、また0次回折光と−1次回折光が干渉す
るように、回折格子22が設計されている。したがっ
て、撮像素子28に投射された像を再生する表示装置に
は、図4(a)、(b)に示すように、0次回折光と+
1次回折光の干渉像(干渉縞)と、0次回折光と−1次
回折光の干渉像(干渉縞)が映し出される。
The adjustment of the objective lens 10 by the adjustment system 100 having the above configuration will be briefly described. At the time of adjustment, as shown in FIG. 3, the objective lens 10 is fixed with its optical axis substantially aligned with the optical axis 20. Next, a light source (not shown) arranged on the opposite side of the diffraction grating 22 with the objective lens 10 therebetween is turned on, and parallel light (for example, laser light) is incident on the objective lens 10. The light transmitted through the objective lens 10 is focused by a diffraction grating 22 (particularly, a diffraction slit or the like formed on the diffraction grating 22). Diffraction grating 2
Light transmitted through 2 is a 0th-order diffracted light, ± 1st-order diffracted light, ...
The light is split into ± n-order diffracted lights, and is projected on an image pickup device 28 via a collimator lens 24 and an imaging lens 26. here,
The diffraction grating 22 is designed so that the 0th-order diffracted light and the + 1st-order diffracted light partially interfere with each other on the projection plane of the image sensor 28, and the 0th-order diffracted light and the -1st-order diffracted light interfere with each other. Therefore, as shown in FIGS. 4A and 4B, the display device for reproducing the image projected on the image sensor 28 has the 0th-order diffracted light and +
An interference image (interference fringe) of the first-order diffracted light and an interference image (interference fringe) of the zero-order diffracted light and the -1st-order diffracted light are displayed.

【0017】干渉縞の形は、対物レンズ10の傾斜に応
じて異なる。いま、対物レンズ10が回折格子22のス
リットと直交する方向に傾いている場合、図4(a)に
示す干渉縞が現れる。また、対物レンズ10が回折格子
22のスリットの長手方向に傾いている場合、図4
(b)に示す干渉縞が現れる。
The shape of the interference fringes differs depending on the inclination of the objective lens 10. Now, when the objective lens 10 is inclined in a direction orthogonal to the slit of the diffraction grating 22, an interference fringe shown in FIG. When the objective lens 10 is inclined in the longitudinal direction of the slit of the diffraction grating 22, FIG.
The interference fringes shown in FIG.

【0018】また、制御装置32からの信号に基づいて
移動装置16を駆動し、回折格子22を図3の左右方向
(スリットの横断方向)に移動すると、0次回折光の位
相の変化と+1次回折光および−1次回折光の位相の変
化との間にずれを生じ、干渉縞の各点における光強度が
変化する。したがって、図4(a)に示すように、0次
回折光と±1次回折光の干渉像の中心を通る線(図面
上、「レンズ移動方向」として表してある。)と、この
線に直交し且つ0次回折光と+1次回折光の干渉像の中
心を通る線Xと交点Paの光強度変化は、図5に示す波
形(正弦波)Iaを描く。また、線X上にある別の点P
bの光強度変化は、図5に示す波形(正弦波)Ibを描
き、両波形Ia,Ibの間に位相差φが観察される。し
たがって、例えば点Paの位相を基準として、この点P
aの位相と図4(a)の線X上における別の複数の点の
位相との差をグラフにプロットすると、図6に示す2次
曲線が得られ、この2次曲線の2次の係数がスリット横
断方向に関する対物レンズ10の傾斜量として得られ
る。
Further, when the moving device 16 is driven based on a signal from the control device 32 to move the diffraction grating 22 in the left-right direction (transverse direction of the slit) in FIG. A shift occurs between the change in the phase of the folded light and the change in the phase of the -1st-order diffracted light, and the light intensity at each point of the interference fringes changes. Accordingly, as shown in FIG. 4A, a line passing through the center of the interference image between the 0th-order diffracted light and the ± 1st-order diffracted light (shown as “lens moving direction” in the drawing) is orthogonal to this line. The light intensity change at the intersection Pa with the line X passing through the center of the interference image of the 0th-order diffracted light and the + 1st-order diffracted light draws a waveform (sine wave) Ia shown in FIG. Another point P on the line X
The light intensity change b shows a waveform (sine wave) Ib shown in FIG. 5, and a phase difference φ is observed between the waveforms Ia and Ib. Therefore, for example, with reference to the phase of the point Pa,
When the difference between the phase of a and the phases of a plurality of other points on the line X in FIG. 4A is plotted on a graph, a quadratic curve shown in FIG. 6 is obtained, and the quadratic coefficient of this quadratic curve is obtained. Is obtained as the amount of inclination of the objective lens 10 with respect to the slit transverse direction.

【0019】図4(b)に示すように、点Paを通り且
つ線Xと所定の角度(例えば、±45°)をなす線Y又
はY’上における複数の点の位相差をグラフにプロット
すると、図5に示す2次曲線と同様の2次曲線が得ら
れ、この2次曲線の2次の係数がスリット長手方向に関
する対物レンズ10の傾斜量として得られる。
As shown in FIG. 4B, the phase differences of a plurality of points on a line Y or Y 'passing through the point Pa and forming a predetermined angle (for example, ± 45 °) with the line X are plotted on a graph. Then, a quadratic curve similar to the quadratic curve shown in FIG. 5 is obtained, and the quadratic coefficient of this quadratic curve is obtained as the amount of inclination of the objective lens 10 in the longitudinal direction of the slit.

【0020】以上のようにして対物レンズ10の傾きを
求める演算は、収差計測装置30で自動的に行なうこと
ができる。
The calculation for obtaining the inclination of the objective lens 10 as described above can be automatically performed by the aberration measuring device 30.

【0021】収差計測装置30で演算された対物レンズ
10の傾斜量は、制御装置32に出力される。制御装置
32は、収差計測装置30から得られた対物レンズ10
の傾斜量をもとに傾斜調整装置14を駆動して対物レン
ズ10の傾きをそれぞれ補正する。
The tilt amount of the objective lens 10 calculated by the aberration measuring device 30 is output to the control device 32. The control device 32 controls the objective lens 10 obtained from the aberration measurement device 30.
The inclination adjusting device 14 is driven on the basis of the inclination amount to correct the inclination of the objective lens 10 respectively.

【0022】次に、図7を参照し、移動装置16につい
て詳細に説明する。この図に示すように、移動装置16
は、対物レンズ10を保持するレンズ保持部40を有す
る。本実施形態において、レンズ保持部(支持部)40
は、対物レンズ10の側部に配置されており、水平方向
に伸びる弾性の細いワイヤ(支持部)42を介し、光ピ
ックアップ12に固定された基台44に支持されてい
る。レンズ保持部40はまた、光軸と直交する方向に伸
びる軸を中心に巻かれたコイル(第1の磁界形成手段)
46を有し、このコイル46が制御装置32に電気的に
接続されている。また、レンズ保持部40を挟んで対物
レンズ10の反対側には、基台44に固定された永久磁
石(第2の磁界形成手段)48が配置されている。永久
磁石48は、水平方向の両端部にそれぞれ異なる磁極が
着磁されている(図示する実施形態では、左側端部にN
極、右側端部にS極が着磁されている。)。
Next, the moving device 16 will be described in detail with reference to FIG. As shown in FIG.
Has a lens holding unit 40 that holds the objective lens 10. In the present embodiment, the lens holding unit (supporting unit) 40
Is disposed on the side of the objective lens 10 and is supported by a base 44 fixed to the optical pickup 12 via a thin elastic wire (supporting portion) 42 extending in the horizontal direction. The lens holding unit 40 also has a coil (first magnetic field forming means) wound around an axis extending in a direction orthogonal to the optical axis.
The coil 46 is electrically connected to the control device 32. Further, a permanent magnet (second magnetic field forming means) 48 fixed to the base 44 is disposed on the opposite side of the objective lens 10 with the lens holding section 40 interposed therebetween. In the permanent magnet 48, different magnetic poles are magnetized at both ends in the horizontal direction (in the illustrated embodiment, N is applied to the left end portion).
The pole and the south pole are magnetized at the right end. ).

【0023】このように構成された移動装置16では、
制御装置32からコイル46に電流が印加されると、コ
イル46の近傍に磁界が形成される。この磁界は、永久
磁石48によって形成されている磁界と吸引又は反発
し、コイル46を保持しているレンズ保持部66及び該
レンズ保持部66に保持されている対物レンズ10を光
軸方向と直交する水平方向(矢印50で示す方向)に移
動する。
In the mobile device 16 configured as described above,
When a current is applied to the coil 46 from the control device 32, a magnetic field is formed near the coil 46. This magnetic field attracts or repels the magnetic field formed by the permanent magnet 48, and causes the lens holding portion 66 holding the coil 46 and the objective lens 10 held by the lens holding portion 66 to be orthogonal to the optical axis direction. In the horizontal direction (the direction indicated by the arrow 50).

【0024】ここで注意しなければならないことは、コ
イル46に印加する電流の値と、その電流をコイル46
に印加することによって移動する対物レンズ10の移動
量は、コイル46の特性のばらつきや組立誤差等によ
り、対物レンズ10を含む光学系によって異なることで
ある。
It should be noted here that the value of the current applied to the coil 46 and the current
The amount of movement of the objective lens 10 that is moved by applying a voltage to the optical system differs depending on the optical system including the objective lens 10 due to variations in the characteristics of the coil 46 and assembly errors.

【0025】そこで、制御装置32は、コイル46に印
加する電流を変化させ、例えば図5に示す点Paについ
て、光強度が最大となる点(位置)Pamax1と、次に光
強度が再び最大となる点(位置)Pamax2、及びそれら
に対応する電流値(I1、I2)を求める。次に、制御装
置32は、光強度が最大となった2つの点Pamax1、P
max2の間の電流差〔ΔI=(I1−I2)/N〕を複数
に分割してサンプル周期〔ΔI=(I1−I2)/N:N
は正の整数〕を求める。そして、制御装置32は、I1
からI2までサンプル周期毎に電流値を変化させて干渉
縞の光強度を検出し、上述のようにして対物レンズ10
の傾きを求める。また、求められた傾きを補正すべく、
制御装置32は傾斜調整装置14を駆動して対物レンズ
10の傾きを調整する。
Then, the control device 32 changes the current applied to the coil 46, and for example, for a point Pa shown in FIG. 5, a point (position) Pa max1 where the light intensity becomes maximum, and then the light intensity becomes maximum again. Are obtained (points) Pa max2 and current values (I 1 , I 2 ) corresponding thereto. Next, the control device 32 determines the two points Pa max1 , P max at which the light intensity is maximum.
The current difference [ΔI = (I 1 −I 2 ) / N] between a max2 is divided into a plurality of parts and the sample period [ΔI = (I 1 −I 2 ) / N: N
Is a positive integer]. Then, the control device 32 determines that I 1
By changing the current value for each sample period until I 2 detects the light intensity of the interference fringes from the objective lens as described above 10
Find the slope of Also, in order to correct the calculated inclination,
The control device 32 drives the tilt adjusting device 14 to adjust the tilt of the objective lens 10.

【0026】なお、以上の説明では、光強度が最大とな
る点と次に最大となる点を求めたが、最小となる点と次
に最小となる点を求め、それらに対応する電流値をもと
にレンズ傾斜測定を行なうこともできる。
In the above description, the point where the light intensity is maximum and the next maximum are determined. However, the minimum point and the next minimum point are determined, and the current values corresponding to them are calculated. The lens inclination measurement can be performed based on the measurement.

【0027】また、対物レンズ10の傾斜は、回折格子
及びそれを支持し駆動する部材を移動させることによっ
て消去することもできるが、これら回折格子等を含む光
学部材は対物レンズ10及びその支持部材に比べて非常
に重く、そのために調整により多くの時間を要し、調整
装置の剛性を強化しなければならないという問題がある
のに対し、上述した対物レンズの調整は短時間で正確
に、しかも簡単な構成で行なうことができるという利点
がある。
The tilt of the objective lens 10 can be eliminated by moving the diffraction grating and the members supporting and driving the diffraction grating. However, the optical members including these diffraction gratings and the like are provided with the objective lens 10 and its supporting member. In contrast to the above, there is a problem in that the adjustment of the objective lens is very heavy, which requires much time for adjustment, and that the rigidity of the adjustment device must be strengthened. There is an advantage that it can be performed with a simple configuration.

【0028】また、本発明は、請求の範囲に記載の構成
によってのみ限定されるものであり、その他の構成につ
いては自由に改変することができ、そのような改変例は
すべて本発明の技術的範囲に属するものである。
Further, the present invention is limited only by the configuration described in the claims, and other configurations can be freely modified, and all such modified examples are technical features of the present invention. It belongs to the range.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
では、干渉像に含まれる光強度の最大(又は最小)の点
から次に光強度が最大(又は最小)となる点までの範囲
で対物レンズを移動させるので、それぞれの光ピックア
ップに応じて、最適で最短のレンズの傾斜調整ができ
る。
As is apparent from the above description, in the present invention, the range from the point of maximum (or minimum) of the light intensity contained in the interference image to the point of the next maximum (or minimum) of light intensity is obtained. In order to move the objective lens, the optimal and shortest lens tilt adjustment can be performed according to each optical pickup.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 従来のジッター式光ピックアップのレンズ調
整の概略図。
FIG. 1 is a schematic diagram of lens adjustment of a conventional jitter type optical pickup.

【図2】 従来のレンズ調整法の説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram of a conventional lens adjustment method.

【図3】 本発明にかかるレンズ調整装置の概略構成
図。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a lens adjustment device according to the present invention.

【図4】 (a)回折格子のスリット横断方向のレンズ
の傾斜を表す回折干渉像、(b)スリット長手方向のレ
ンズの傾斜を表す回折干渉像示す図。
FIGS. 4A and 4B are diagrams showing (a) a diffraction interference image showing the inclination of the lens in the direction transverse to the slit of the diffraction grating, and (b) a diffraction interference image showing the inclination of the lens in the longitudinal direction of the slit.

【図5】 対物レンズの移動による光強度変化を示す図FIG. 5 is a diagram showing a change in light intensity due to movement of an objective lens.

【図6】 干渉縞の位相分布を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a phase distribution of interference fringes.

【図7】 対物レンズ及びこれを支持する構成を示す斜
視図。
FIG. 7 is a perspective view showing an objective lens and a configuration for supporting the objective lens.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100:レンズ調整装置 10:対物レンズ 12:光ピックアップ 14:傾斜調整装置 16:電磁気学的移動装置 18:評価装置 22:回折格子 30:収差計測装置 32:制御装置 46:コイル(第1の磁界形成手段) 48:永久磁石(第2の磁界形成手段) 66:レンズ保持部 100: Lens adjustment device 10: Objective lens 12: Optical pickup 14: Tilt adjustment device 16: Electromagnetic movement device 18: Evaluation device 22: Diffraction grating 30: Aberration measurement device 32: Control device 46: Coil (first magnetic field) Forming means) 48: permanent magnet (second magnetic field forming means) 66: lens holding portion

フロントページの続き Fターム(参考) 2H043 AD04 AD12 AD23 2H044 AC01 5D118 AA06 CD04 CD06 5D119 AA38 BA01 JA43 JC07 PA05Continued on the front page F-term (reference) 2H043 AD04 AD12 AD23 2H044 AC01 5D118 AA06 CD04 CD06 5D119 AA38 BA01 JA43 JC07 PA05

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回折干渉法を利用したレンズ調整装置で
あって、 上記調整装置は、 上記レンズを透過した光を回折し干渉させて干渉像を得
る回折格子と、 上記レンズを上記回折格子の格子と直交する方向に移動
させる電磁気学的移動手段と、 上記レンズの移動時、上記干渉像における複数の点の光
強度の変化からレンズの収差を求める収差検出手段とを
有し、 上記調整装置は、 上記移動手段によりレンズを移動させ、 上記レンズの移動時に得られる干渉像における複数の点
の光強度の変化から該光強度が最大又は最小となる位置
を求める制御手段を備えたことを特徴とするレンズ調整
装置。
1. A lens adjustment device using a diffraction interference method, wherein the adjustment device diffracts light transmitted through the lens to cause interference and obtains an interference image. Electromagnetic adjustment means for moving the lens in a direction orthogonal to the grating; and aberration detecting means for obtaining the aberration of the lens from a change in the light intensity at a plurality of points in the interference image when the lens is moved; Comprises a control means for moving a lens by the moving means, and obtaining a position where the light intensity is maximum or minimum from a change in light intensity at a plurality of points in an interference image obtained when the lens is moved. Lens adjustment device.
【請求項2】 上記制御手段は、上記光強度が最大又は
最小となる第1の位置から、次に上記光強度が最大又は
最小となる第2の位置まで、上記移動手段によりレンズ
を移動させることを特徴とする請求項1に記載のレンズ
調整装置。
2. The control means moves the lens by the moving means from a first position at which the light intensity becomes maximum or minimum to a second position at which the light intensity becomes maximum or minimum. The lens adjustment device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 上記収差検出手段は、上記第1の位置と
第2の位置との間を分割して得られた複数の位置で光強
度を検出して収差を求めることを特徴とする請求項2に
記載のレンズ調整装置。
3. The method according to claim 2, wherein the aberration detecting means detects aberration by detecting light intensity at a plurality of positions obtained by dividing the first position and the second position. Item 3. The lens adjustment device according to Item 2.
【請求項4】 上記収差検出手段で得られた収差をもと
にレンズの傾きを調整する調整手段を備えたことを特徴
とする請求項1から3のいずれか一に記載のレンズ調整
装置。
4. The lens adjusting device according to claim 1, further comprising an adjusting unit that adjusts a tilt of the lens based on the aberration obtained by the aberration detecting unit.
【請求項5】 上記移動手段は、 上記レンズを移動可能に支持する支持部と、 上記支持部に保持された第1の磁界形成手段と、 上記第1の磁界形成手段と共同し、上記レンズを移動す
る第2の磁界形成手段とを備えていることを特徴とする
請求項1から4のいずれか一に記載のレンズ調整装置。
5. The moving means includes: a supporting portion that movably supports the lens; first magnetic field forming means held by the supporting portion; and the lens in cooperation with the first magnetic field forming means. 5. The lens adjusting device according to claim 1, further comprising: a second magnetic field forming unit that moves the lens.
【請求項6】 回折干渉法を利用したレンズ調整方法で
あって、 上記レンズを透過した光を回折し干渉させて干渉像を得
る回折格子を用意し、 電気的磁界形成手段によりレンズを回折格子の格子と直
交する方向に移動し、 上記レンズの移動時に形成される干渉像の複数の点で光
強度を測定し、 光強度が最大又は最小となる第1の位置と、次に上記光
強度が最大又は最小となる第2の位置とを求め、 上記第1の位置と第2の位置との間でレンズを移動して
レンズの収差を求めることを特徴とするレンズ調整方
法。
6. A lens adjusting method using a diffraction interference method, comprising: preparing a diffraction grating for diffracting light transmitted through the lens to cause interference, thereby obtaining an interference image; Moving in a direction orthogonal to the grating of the above, measuring the light intensity at a plurality of points of the interference image formed when the lens moves, a first position where the light intensity is maximum or minimum, and then the light intensity A lens adjustment method comprising: obtaining a second position at which is maximum or minimum; and moving the lens between the first position and the second position to obtain lens aberration.
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