JP2002179621A - Method for producing 4-acetoxystyrene - Google Patents

Method for producing 4-acetoxystyrene

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JP2002179621A
JP2002179621A JP2000374725A JP2000374725A JP2002179621A JP 2002179621 A JP2002179621 A JP 2002179621A JP 2000374725 A JP2000374725 A JP 2000374725A JP 2000374725 A JP2000374725 A JP 2000374725A JP 2002179621 A JP2002179621 A JP 2002179621A
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reaction
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acetoxystyrene
mol
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JP2000374725A
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Hiroaki Mori
浩章 森
Kayo Ishihara
嘉代 石原
Makoto Kitahara
良 北原
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Adchemco Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an industrially advantageous method for producing 4- acetoxystyrene. SOLUTION: This method for producing 4-acetoxystyrene comprises subjecting a 4-acetoxyhalobenzene to Heck reaction, or subjecting 4-acetoxybenzaldehyde or 4-hydroxybenzaldehyde to Wittig reaction followed by optionally performing an acetylation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、4−アセトキシス
チレンの製造方法に関に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing 4-acetoxystyrene.

【0002】[0002]

【従来の技術】4−アセトキシスチレンは、医薬品中間
体、光レジスト材料、接着剤、コーティング材料などと
して使用されている公知の化合物である。4−アセトキ
シスチレンの合成方法は当該分野において公知であリ、
Corson法(J.Org.Chem.,23,544(1958))によって以下の
ようにして合成できる。すなわち、4−ヒドロキシアセ
トフェノンを苛性アルカリ水溶液中で無水酢酸と反応さ
せて4−アセトキシアセトフェノンとし、次いでパラジ
ウム−炭素触媒存在下、水素ガスで還元して4−アセト
キシフェニルメチルカルビノールを得、硫酸水素カリウ
ムなどの脱水触媒の存在下で熱処理して4−アセトキシ
スチレンを得るものである。
2. Description of the Related Art 4-acetoxystyrene is a known compound used as a pharmaceutical intermediate, a photo resist material, an adhesive, a coating material and the like. Methods for synthesizing 4-acetoxystyrene are known in the art,
It can be synthesized as follows by the Corson method (J. Org. Chem., 23, 544 (1958)). That is, 4-hydroxyacetophenone is reacted with acetic anhydride in an aqueous caustic alkali solution to form 4-acetoxyacetophenone, and then reduced with hydrogen gas in the presence of a palladium-carbon catalyst to obtain 4-acetoxyphenylmethylcarbinol, and hydrogen sulfate is obtained. Heat treatment is performed in the presence of a dehydration catalyst such as potassium to obtain 4-acetoxystyrene.

【0003】上記方法によれば、4−アセトキシフェニ
ルメチルカルビノールの脱水収率が55%と低いのが問
題で、改良法が提案されてきた。例えば、特開平4−2
44043号公報に記載の方法は、4−アセトキシフェ
ニルメチルカルビノールを連続的にまたは半連続的に脱
水触媒が仕込まれている反応器に供給して熱処理し、減
圧下で4−アセトキシスチレンおよび副生水を留出さ
せ、一方、重質物を反応器から抜くというものである。
この方法は、Corson法よりも収率はやや改善されてはい
るものの、収率はよい条件のものでも70%台にとどま
り、必ずしも満足すべきものとは言い難い。また、反応
器内から定常的に内容物を抜き出さないと反応成績が低
下するといった操作上、困難な問題を抱えている。
According to the above method, there is a problem that the dehydration yield of 4-acetoxyphenylmethylcarbinol is as low as 55%, and an improved method has been proposed. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-2
In the method described in JP-A-44043, 4-acetoxyphenylmethylcarbinol is continuously or semi-continuously supplied to a reactor equipped with a dehydration catalyst and heat-treated. The raw water is distilled off, while the heavy substances are withdrawn from the reactor.
Although the yield of this method is slightly improved over that of the Corson method, the yield is still in the 70% range even under good conditions, and is not necessarily satisfactory. In addition, there is a difficult problem in operation such that the reaction performance is reduced unless the contents are constantly extracted from the reactor.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、従来の方法では満足できなかった4−アセトキシス
チレンの工業的に有利な製造方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide an industrially advantageous process for producing 4-acetoxystyrene which has not been satisfactory with the conventional processes.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の問
題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に至っ
た。すなわち、第一の本発明は、下記式(1)で示され
る4−アセトキシハロベンゼンをHeck反応させることを
特徴とする下記式(2)で表される4−アセトキシスチ
レンの製造方法を提供する。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the conventional problems, and as a result, have reached the present invention. That is, the first aspect of the present invention provides a method for producing 4-acetoxystyrene represented by the following formula (2), wherein a 4-acetoxyhalobenzene represented by the following formula (1) is subjected to a Heck reaction. .

【0006】また、第二の本発明は、下記式(1)で示
される4−ヒドロキシベンズアルデヒドをWittig反応さ
せ、下記式(2)で表される4−ビニルフェノールを得
る第一工程と、下記式(2)で表される4−ビニルフェ
ノールをアセチル化して下記式(3)で表される4−ア
セトキシスチレンを得る第二工程とからなることを特徴
とする4−アセトキシスチレンの製造方法を提供する。
Further, the second invention comprises a first step of subjecting 4-hydroxybenzaldehyde represented by the following formula (1) to a Wittig reaction to obtain 4-vinylphenol represented by the following formula (2): A process of acetylating 4-vinylphenol represented by the formula (2) to obtain 4-acetoxystyrene represented by the following formula (3): provide.

【0007】また、第三の本発明は、下記式(1)で示
される4−ヒドロキシベンズアルデヒドをアセチル化し
て下記式(2)で表される4−アセトキシベンズアルデ
ヒドを得る第一工程と、下記式(2)で表される4−ア
セトキシベンズアルデヒドをWittig反応させて下記式
(3)で表される4−アセトキシスチレンを得る第二工
程とからなることを特徴とする4−アセトキシスチレン
の製造方法を提供する。 本発明によれば、4−アセトキシスチレンを工業的規模
で経済性に優れ、かつ安全に製造することができる。
Further, a third aspect of the present invention provides a first step of acetylating 4-hydroxybenzaldehyde represented by the following formula (1) to obtain 4-acetoxybenzaldehyde represented by the following formula (2): A 4-step for obtaining 4-acetoxystyrene represented by the following formula (3) by subjecting 4-acetoxybenzaldehyde represented by (2) to a Wittig reaction to obtain 4-acetoxystyrene. provide. According to the present invention, 4-acetoxystyrene can be produced safely on an industrial scale with excellent economic efficiency.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】次に好ましい実施の形態を挙げて
本発明をさらに詳しく説明する。 第一発明:本発明において使用する4―アセトキシハロ
ベンゼンは、4−ハロフェノールから合成したものであ
り、4−ハロフェノールは特に限定するものではない。
すなわち、4−ハロフェノールとして4−フルオロフェ
ノール、4−クロロフェノール、4−ブロモフェノー
ル、4−ヨードフェノールを挙げることができる。本発
明において使用する4―アセトキシハロベンゼンは、4
−ハロフェノールをアミド硫酸の存在下、無水酢酸と反
応させることにより、容易に合成させることができる。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments. First invention: 4-acetoxyhalobenzene used in the present invention is synthesized from 4-halophenol, and 4-halophenol is not particularly limited.
That is, examples of 4-halophenol include 4-fluorophenol, 4-chlorophenol, 4-bromophenol, and 4-iodophenol. The 4-acetoxyhalobenzene used in the present invention is 4
-It can be easily synthesized by reacting halophenol with acetic anhydride in the presence of amidosulfuric acid.

【0009】本発明におけるHeck反応では下記の触媒を
使用する。本発明において使用するパラジウム系触媒
は、塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、よ
う化パラジウム(II)などのハロゲン化パラジウム(I
I)、酢酸パラジウム(II)、プロピオン酸パラジウム
(II)などの有機酸パラジウム(II)、パラジウム(I
I)アセチルアセトナート、シアン化パラジウム(I
I)、硝酸パラジウム(II)、硫酸パラジウム(II)な
どの2価パラジウム化合物を挙げることができる。パラ
ジウム触媒の使用量は、4―アセトキシハロベンゼンに
対し、0.001〜10モル%で、好ましくは0.00
5〜2モル%である。触媒量が少なすぎると収率が低下
し、一方、多すぎるとパラジウム触媒が高価であるた
め、本発明は経済的に成り立たない。
In the Heck reaction of the present invention, the following catalyst is used. The palladium-based catalyst used in the present invention is a palladium halide (I) such as palladium (II) chloride, palladium (II) bromide, or palladium (II) iodide.
Organic acids such as palladium (II), palladium (II) acetate and palladium (II) propionate, palladium (I
I) acetylacetonate, palladium cyanide (I
And divalent palladium compounds such as I), palladium (II) nitrate and palladium (II) sulfate. The amount of the palladium catalyst used is 0.001 to 10 mol%, preferably 0.001 mol%, based on 4-acetoxyhalobenzene.
5 to 2 mol%. If the amount of the catalyst is too small, the yield decreases, while if it is too large, the palladium catalyst is expensive, so that the present invention is not economically feasible.

【0010】本発明において使用するホスフィン配位子
は、トリフェニルホスフィン、トリ−o−トリルホスフ
ィン、トリ−m−トリルホスフィン、トリ−p−トリル
ホスフィン、ジフェニル−p−トリルホスフィンなどの
トリアリールホスフィン、ジエチルフェニルホスフィ
ン、エチルジフェニルホスフィン、ジメチルフェニルホ
スフィン、メチルジフェニルホスフィンなどのアルキル
アリールホスフィン類、トリブチルホスフィン、トリエ
チルホスフィンなどのトリアルキルホスフィン、1,2
−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス
(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)ブタンなどの二座配位ホスフィン
などを挙げることができるが、安価に使用できる点で、
トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィンなどが
好ましい。ホスフィン配位子は、燐/パラジウム(原子
比)が1〜50、好ましくは1〜10の範囲になるよう
に使用する。
The phosphine ligand used in the present invention is a triarylphosphine such as triphenylphosphine, tri-o-tolylphosphine, tri-m-tolylphosphine, tri-p-tolylphosphine, diphenyl-p-tolylphosphine and the like. Alkylarylphosphines such as diethylphenylphosphine, ethyldiphenylphosphine, dimethylphenylphosphine and methyldiphenylphosphine; trialkylphosphines such as tributylphosphine and triethylphosphine;
Bidentate phosphines such as -bis (diphenylphosphino) ethane, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane, and 1,4-bis (diphenylphosphino) butane; In what we can do,
Triphenylphosphine, tolylphosphine and the like are preferred. The phosphine ligand is used such that the phosphorus / palladium (atomic ratio) is in the range of 1 to 50, preferably 1 to 10.

【0011】本発明において使用する反応溶媒として
は、エーテル系溶媒、含酸素系溶媒、含窒素系溶媒、芳
香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、有機ハロ
ゲン系溶媒などの単独およびこれらの混合物を挙げるこ
とができるが、特にアセトニトリルまたはアセトニトリ
ルを含む混合溶媒が反応成績上好ましい。
The reaction solvent used in the present invention may be an ether solvent, an oxygen-containing solvent, a nitrogen-containing solvent, an aromatic hydrocarbon solvent, an aliphatic hydrocarbon solvent, an organic halogen solvent, etc. Can be mentioned, but acetonitrile or a mixed solvent containing acetonitrile is particularly preferable in terms of the reaction results.

【0012】本反応においては、反応時に系内で発生す
るハロゲン化水素を即座に中和するための塩基物質を存
在させる。使用する塩基物質としては、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジエチルア
ミン、ピリジン、DBU(1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデセン−7)などの有機塩基、強塩
基性イオン交換樹脂などを挙げることができるが、より
好ましくはトリエチルアミン、トリブチルアミンなどの
トリアルキルアミンである。
In the present reaction, a base substance for immediately neutralizing hydrogen halide generated in the system during the reaction is present. Examples of the base substance used include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, diethylamine, pyridine, organic bases such as DBU (1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7), and strongly basic ion exchange resins. Among them, trialkylamines such as triethylamine and tributylamine are more preferable.

【0013】本発明の方法は、エチレンガス雰囲気中で
行ない、エチレンガスの圧力は常圧以上で行われるが、
反応性および装置上の問題を考慮すると0.3〜3MP
aの圧力が好ましい。また、本発明の方法は、0℃〜2
00℃で実施されるが、4−アセトキシスチレンの熱安
定性を考慮すると170℃以下の温度で実施することが
好ましい。
The method of the present invention is performed in an atmosphere of ethylene gas, and the pressure of ethylene gas is higher than normal pressure.
0.3-3MP in consideration of reactivity and equipment problems
The pressure of a is preferred. In addition, the method of the present invention may be carried out at 0 ° C to 2 ° C.
Although it is carried out at 00 ° C., it is preferred to carry out at a temperature of 170 ° C. or less in consideration of the thermal stability of 4-acetoxystyrene.

【0014】反応終了後は、室温に放冷した反応液中の
有機塩基のハロゲン化水素塩を濾別し、残渣を溶媒と同
組成液で洗浄する。次いで濾液と洗液を合わせて、溶媒
を減圧下で留去し、濃縮物に酢酸エチルなどのように、
水と混和しない溶剤を加えて溶解させる。析出した結晶
を濾別し、濾液を塩化アンモニウム水溶液、次いで水で
洗浄する。有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、これ
に第三級ブチルカテコールなどの重合禁止剤を添加して
蒸留することにより、目的とする4−アセトキシスチレ
ンを得る。
After the completion of the reaction, the hydrogen halide of the organic base in the reaction solution cooled to room temperature is filtered off, and the residue is washed with the same composition as the solvent. Next, the filtrate and the washing solution were combined, and the solvent was distilled off under reduced pressure.
Add a water-immiscible solvent to dissolve. The precipitated crystals are separated by filtration, and the filtrate is washed with an aqueous ammonium chloride solution and then with water. The organic phase is dried over anhydrous sodium sulfate, and a polymerization inhibitor such as tertiary butyl catechol is added thereto and distilled to obtain the desired 4-acetoxystyrene.

【0015】第二発明:本発明において4−ヒドロキシ
ベンズアルデヒドと反応させるWittig試薬は、メチルト
リフェニルホスホニウムハライドと強塩基とから反応系
内において発生させる。メチルトリホスホニウムハライ
ドは、トリフェニルホスフィンとメチルハライドから調
製される。メチルハライドは、塩化メチル、臭化メチ
ル、よう化メチルが使用できるが、経済性を考慮すると
塩化メチルトリフェニルホスホニウムまたは臭化メチル
トリフェニルホスホニウムが好ましい。
Second invention: In the present invention, the Wittig reagent to be reacted with 4-hydroxybenzaldehyde is generated in a reaction system from methyltriphenylphosphonium halide and a strong base. Methyltriphosphonium halide is prepared from triphenylphosphine and methyl halide. As methyl halide, methyl chloride, methyl bromide, and methyl iodide can be used, but in view of economy, methyltriphenylphosphonium chloride or methyltriphenylphosphonium bromide is preferable.

【0016】強塩基は、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウム−t−ブトキシドなどのアル
コラート、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウン
デセン−7(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.
3.0]ノン−5−エン(DBN)、1,4−ジアザビ
シクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)などの三
級アミン、フェニルリチウム、メチルリチウムなどの有
機金属化合物などが挙げられるが、経済性を考慮すると
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドといった
アルコキシドを使用することが好ましい。Wittig試薬の
調製において、メチルトリホスホニウムハライド1モル
に対し、強塩基を1〜5モル、好ましくは1.1〜2モ
ルを使用する。
Strong bases include alcoholates such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo [4 .
3.0] non-5-ene (DBN), tertiary amines such as 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), and organometallic compounds such as phenyllithium and methyllithium. In consideration of economy, it is preferable to use alkoxides such as sodium methoxide and sodium ethoxide. In preparing the Wittig reagent, 1 to 5 moles, preferably 1.1 to 2 moles of a strong base is used per 1 mole of methyltriphosphonium halide.

【0017】本発明において使用する4−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド1モルに対し、Wittig試薬を1〜3モ
ル、好ましくは1.05〜1.5モルを使用する。本反
応において使用する溶媒は、N,N−ジメチルホルムア
ミド(DMF)、N,N−ジエチルアセトアミド(DM
A)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド(HMPA)、アセトニトリル、テ
トラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、ジメトキシ
エタンなどの非プロトン性極性溶媒が使用されるが、反
応性および経済性の面から特に、DMF、DMAまたは
THFを使用することが望ましい。
The Wittig reagent is used in an amount of 1 to 3 mol, preferably 1.05 to 1.5 mol, per 1 mol of 4-hydroxybenzaldehyde used in the present invention. The solvent used in this reaction is N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-diethylacetamide (DM
A), aprotic polar solvents such as dimethylsulfoxide (DMSO), hexamethylphosphoric triamide (HMPA), acetonitrile, tetrahydrofuran (THF), dioxane and dimethoxyethane are used, but from the viewpoint of reactivity and economy. In particular, it is desirable to use DMF, DMA or THF.

【0018】本反応における反応温度は、70℃以下、
望ましくは0〜30℃である。反応時間は、4−アセト
キシベンズアルデヒドとWittig試薬の所定量が混合し終
わった瞬間から0〜5時間、好ましくは30分間〜2時
間である。
The reaction temperature in this reaction is 70 ° C. or less,
Desirably, it is 0 to 30 ° C. The reaction time is from 0 to 5 hours, preferably from 30 minutes to 2 hours from the moment when the predetermined amount of 4-acetoxybenzaldehyde and the Wittig reagent are mixed.

【0019】Wittig反応により得られた4−ビニルフェ
ノールは、常法に従ってアセチル化することができる
が、特に好ましいのは、アミド硫酸を触媒とし、無水酢
酸を使ってアセチル化する方法である。さらに詳しく
は、4−ビニルフェノール1モルに対し、アミド硫酸
0.01〜1モル、好ましくは0.1〜0.4モルの存
在下、無水酢酸を1〜10モル、好ましくは1〜3モル
使用し、30〜120℃、好ましくは50〜90℃の温
度、10分間〜5時間、好ましくは20分間〜2時間反
応させる。アミド硫酸は、反応液から濾別して再使用す
ることができる。
The 4-vinylphenol obtained by the Wittig reaction can be acetylated according to a conventional method, but a particularly preferred method is acetylation using amide sulfuric acid as a catalyst and acetic anhydride. More specifically, acetic anhydride is used in an amount of 1 to 10 mol, preferably 1 to 3 mol, in the presence of 0.01 to 1 mol, preferably 0.1 to 0.4 mol, of amidosulfuric acid per 1 mol of 4-vinylphenol. The reaction is carried out at a temperature of 30 to 120C, preferably 50 to 90C, for 10 minutes to 5 hours, preferably 20 minutes to 2 hours. The amidosulfuric acid can be reused after being filtered off from the reaction solution.

【0020】反応終了後、反応液を水中に投入して析出
したホスフィンオキシドを濾別する。ホスフィンオキシ
ドを水洗し、洗液と反応濾液を合わせ、これをトルエン
で洗浄する。続いて常法に従って水溶液を酸性化して4
−ビニルフェノールを遊離させ、酢酸エチルなどの有機
溶媒中に抽出する。有機相を飽和硫酸ナトリウムで洗浄
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。硫酸ナトリウ
ムを濾別し、溶媒を減圧留去することにより4−ビニル
フェノールを得る。得られた4−ビニルフェノールを常
法に従ってアセチル化させる。反応液に酢酸エチルなど
の有機溶剤を加えて目的とする4−アセトキシスチレン
を抽出し、有機相を水洗、乾燥し、濾液に少量の第三級
ブチルカテコールなどの重合禁止剤を添加して蒸留する
ことにより、4−アセトキシスチレンを得る。
After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, and the precipitated phosphine oxide is separated by filtration. The phosphine oxide is washed with water, the washing solution and the reaction filtrate are combined, and this is washed with toluene. Subsequently, the aqueous solution was acidified according to a conventional method to obtain 4
Liberate the vinylphenol and extract into an organic solvent such as ethyl acetate. The organic phase is washed with saturated sodium sulfate and then dried over anhydrous sodium sulfate. The sodium sulfate is separated by filtration and the solvent is distilled off under reduced pressure to obtain 4-vinylphenol. The obtained 4-vinylphenol is acetylated according to a conventional method. An organic solvent such as ethyl acetate is added to the reaction solution to extract the desired 4-acetoxystyrene, and the organic phase is washed with water and dried. By doing so, 4-acetoxystyrene is obtained.

【0021】第三発明:本発明は、前記第二発明におけ
る反応順序を変更した発明であり、第一工程として、4
−ヒドロキシベンズアルデヒドアセチル化して4−アセ
トキシベンズアルデヒドを得、該4−アセトキシベンズ
アルデヒドとWittig試薬とを反応させて、目的物である
4−アセトキシスチレンを得る方法である。
Third invention: The present invention is an invention in which the reaction order in the second invention is changed, and the first step comprises 4 steps.
-Hydroxybenzaldehyde acetylation to obtain 4-acetoxybenzaldehyde, and reacting the 4-acetoxybenzaldehyde with a Wittig reagent to obtain a target substance, 4-acetoxystyrene.

【0022】上記の4−アセトキシベンズアルデヒドを
用いる4−アセトキシスチレンの製造は以下の如き方法
で行う。まず、前記の如きメチルトリフェニルホスホニ
ウムハライドを溶媒に溶かして反応器に仕込み、次いで
前記の如き強塩基を同溶媒に溶解または分散させたもの
を加えてWittig試薬を調製する。続いて、4−アセトキ
シベンズアルデヒドを同溶媒に溶解させたものを前記と
同様に所定時間で加えて所定温度にて反応を行う。以下
第二発明と同様にして4−アセトキシスチレンを得る。
なお、第二発明と第三発明とは、反応収率の点において
第二発明の方が優れている。
The production of 4-acetoxystyrene using the above 4-acetoxybenzaldehyde is carried out by the following method. First, a methyltriphenylphosphonium halide as described above is dissolved in a solvent and charged into a reactor, and then a solution in which the strong base is dissolved or dispersed in the same solvent is added to prepare a Wittig reagent. Subsequently, a solution prepared by dissolving 4-acetoxybenzaldehyde in the same solvent is added for a predetermined time in the same manner as described above, and the reaction is performed at a predetermined temperature. Thereafter, 4-acetoxystyrene is obtained in the same manner as in the second invention.
The second invention and the third invention are superior to the second invention in terms of the reaction yield.

【0023】[0023]

【実施例】次に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれにより何ら限定されるものでは
ない。 第一発明: 実施例1 攪拌機、温度計、および圧力ゲージを備えた200ml
オートクレーブに4−アセトキシブロモベンゼン21.
5g(0.1モル)、酢酸パラジウム0.113g
(0.5ミリモル)、トリ−o−トリルホスフィン3.
8g(12.5ミリモル)、トリエチルアミン20g
(0.196モル)、およびアセトニトリル25gを仕
込み、系内をエチレンガスで置換し、1MPaの加圧
下、攪拌しながら90℃で30分間反応させた。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, which should not be construed as limiting the invention thereto. First invention: Example 1 200 ml with stirrer, thermometer and pressure gauge
4-Acetoxybromobenzene in autoclave
5 g (0.1 mol), 0.113 g of palladium acetate
(0.5 mmol), tri-o-tolylphosphine3.
8 g (12.5 mmol), 20 g of triethylamine
(0.196 mol) and 25 g of acetonitrile were charged, the system was replaced with ethylene gas, and the mixture was reacted at 90 ° C. for 30 minutes with stirring under a pressure of 1 MPa.

【0024】エチレンの吸収が止まったら、反応液を取
り出して析出物を濾別し、濾過残渣をアセトニトリル2
5gで洗浄する。濾液と洗液を合わせて、溶媒を減圧下
で留去し、濃縮物に酢酸エチル100mlを加えて溶解
させる。析出した結晶を濾別し、濾液を5%塩化アンモ
ニウム水溶液100ml、次いで水100mlで洗浄す
る。有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、これに第三
級ブチルカテコールを添加して減圧蒸留することによ
り、4−アセトキシスチレン14.8g(収率:91.
3%)を得た。生成物は、ガスクロマトグラフィー質量
分析器による質量数162、および元素分析値C:7
4.1%(74.0%)、H:6.2%(6.2%)、
O:19.7%(19.8%)(カッコ内は計算値)か
ら同定した。
When the absorption of ethylene has ceased, the reaction solution is taken out, the precipitate is filtered off, and the filtration residue is washed with acetonitrile 2
Wash with 5 g. The filtrate and the washing solution are combined, the solvent is distilled off under reduced pressure, and the concentrate is dissolved by adding 100 ml of ethyl acetate. The precipitated crystals are filtered off, and the filtrate is washed with 100 ml of a 5% ammonium chloride aqueous solution and then with 100 ml of water. The organic phase was dried over anhydrous sodium sulfate, tertiary butyl catechol was added thereto, and the mixture was distilled under reduced pressure to give 14.8 g of 4-acetoxystyrene (yield: 91.0 g).
3%). The product was found to have a mass number of 162 by gas chromatography / mass spectrometry and an elemental analysis value of C: 7
4.1% (74.0%), H: 6.2% (6.2%),
O: Identified from 19.7% (19.8%) (calculated values in parentheses).

【0025】実施例2 酢酸パラジウムを22.6mg(0.1ミリモル)使用
したこと以外は実施例1と同様な方法で実施し、4−ア
セトキシスチレン14.6g(収率:90.1%)を得
た。
Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that 22.6 mg (0.1 mmol) of palladium acetate was used. 14.6 g of 4-acetoxystyrene (yield: 90.1%) I got

【0026】実施例3 トリ−o−トリルホスフィンに代えて、トリ−m−トリ
ルホスフィンを使用したこと以外は実施例1と同様な方
法で実施し、4−アセトキシスチレン14.4g(収
率:88.8%)を得た。
Example 3 The procedure of Example 1 was repeated, except that tri-m-tolylphosphine was used instead of tri-o-tolylphosphine, to give 14.4 g of 4-acetoxystyrene (yield: 88.8%).

【0027】実施例4 トリ−o−トリルホスフィンに代えて、1,2−ビス
(ジフェニルホスフィノ)エタン0.8g(2ミリモ
ル)を使用したこと以外は実施例1と同様な方法で実施
し、4−アセトキシスチレン13.8g(収率:85.
2%)を得た。
Example 4 The procedure of Example 1 was repeated, except that 0.8 g (2 mmol) of 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane was used instead of tri-o-tolylphosphine. , 4-acetoxystyrene 13.8 g (Yield: 85.
2%).

【0028】実施例5 エチレンガスの圧力を2MPaにしたこと以外は実施例
1と同様な方法で実施し、4−アセトキシスチレン1
5.2g(収率:93.8%)を得た。
Example 5 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the pressure of ethylene gas was changed to 2 MPa, and 4-acetoxystyrene 1
5.2 g (yield: 93.8%) was obtained.

【0029】実施例6 反応温度を120℃にしたこと以外は実施例1と同様な
方法で実施し、4−アセトキシスチレン13.0g(収
率:80.0%)を得た。
Example 6 The procedure of Example 1 was repeated except that the reaction temperature was changed to 120 ° C., to obtain 13.0 g of 4-acetoxystyrene (yield: 80.0%).

【0030】実施例7 有機塩基としてトリブチルアミン36.3g(0.19
6モル)を使用したこと以外は実施例1と同様な方法で
実施し、4−アセトキシスチレン14.7g(収率:9
0.7%)を得た。
Example 7 36.3 g (0.19 g) of tributylamine as an organic base
6 mol) was used in the same manner as in Example 1 except that 14.7 g of 4-acetoxystyrene (yield: 9) was used.
0.7%).

【0031】実施例8 溶媒としてテトラヒドロフランを使用したこと以外は実
施例1と同様な方法で実施し、4−アセトキシスチレン
14.5g(収率:89.6%)を得た。
Example 8 The procedure of Example 1 was repeated, except that tetrahydrofuran was used as a solvent, to obtain 14.5 g of 4-acetoxystyrene (yield: 89.6%).

【0032】第二発明: 実施例1 4−ビニルフェノールの製造:攪拌子、温度計、および
滴下ロートを備えた500mlフラスコに臭化メチルト
リフェニルホスホニウム92.9g(0.26モル)、
およびDMF170mlを仕込んだ。続いて、ナトリウ
ムメトキシド24.3g(0.45モル)をDMF56
mlに分散させたものを滴下ロートに仕込んだものを、
フラスコ内の液温を15〜20℃に保持しながら加えて
Wittig試薬を調製した。さらに同温度にて、4−ヒドロ
キシベンズアルデヒド24.4g(0.2モル)をDM
F30mlに溶解させたものを滴下ロートからおよそ3
0分間かけて加えた。滴下終了後、液温を25℃に上
げ、さらに1時間反応させた。
Second Invention: Example 1 Production of 4-vinylphenol: 92.9 g (0.26 mol) of methyltriphenylphosphonium bromide in a 500 ml flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel.
And 170 ml of DMF. Subsequently, 24.3 g (0.45 mol) of sodium methoxide was added to DMF56.
What was prepared in a dropping funnel was dispersed in
Add while keeping the liquid temperature in the flask at 15-20 ° C
Wittig reagent was prepared. At the same temperature, 24.4 g (0.2 mol) of 4-hydroxybenzaldehyde was added to DM
F30ml dissolved in dropping funnel about 3
Added over 0 minutes. After completion of the dropwise addition, the liquid temperature was raised to 25 ° C., and the reaction was further performed for 1 hour.

【0033】反応終了後、反応液を水1リットル中に攪
拌しながら投入した。析出した固形物を濾別し、ケーキ
を水200mlで洗浄した。濾液と洗液を集め、トルエ
ン300mlで2回洗浄した。水溶液に炭酸ガスを吹き
込んで4−ビニルフェノールを遊離させ、酢酸エチル5
00mlで抽出した。有機相を飽和硫酸ナトリウム水溶
液200mlで2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。硫酸ナトリウムを濾別、酢酸エチルを留去して4
−ビニルフェノール23.4g(収率97.0%)を得
た。
After the completion of the reaction, the reaction solution was poured into 1 liter of water while stirring. The precipitated solid was separated by filtration, and the cake was washed with 200 ml of water. The filtrate and washings were collected and washed twice with 300 ml of toluene. Carbon dioxide is blown into the aqueous solution to release 4-vinylphenol, and ethyl acetate 5
Extracted with 00 ml. The organic phase was washed twice with 200 ml of a saturated aqueous sodium sulfate solution and dried over anhydrous sodium sulfate. The sodium sulfate was filtered off, and the ethyl acetate was distilled off to obtain 4
-23.4 g of vinylphenol (yield 97.0%) was obtained.

【0034】4−アセトキシスチレンの製造:攪拌子、
還流管、および温度計を備えた100mlフラスコに、
4−ビニルフェノール23.4g(0.194モル)、
無水酢酸39.6g(0.388モル)、およびアミド
硫酸3.8g(0.039モル)を仕込み、80℃で3
0分間反応させた。反応液を室温まで放冷し、析出した
アミド硫酸を濾別し、無水酢酸7gで洗浄した。濾液と
洗液を合わせて減圧蒸留し、4−アセトキシスチレン2
6.7g(収率85.0%)を得た。
Production of 4-acetoxystyrene: stirrer,
In a 100 ml flask equipped with a reflux tube and a thermometer,
23.4 g (0.194 mol) of 4-vinylphenol,
39.6 g (0.388 mol) of acetic anhydride and 3.8 g (0.039 mol) of amidosulfuric acid were charged, and 3
The reaction was performed for 0 minutes. The reaction solution was allowed to cool to room temperature, and the precipitated amidosulfuric acid was separated by filtration and washed with 7 g of acetic anhydride. The combined filtrate and washings were distilled under reduced pressure to give 4-acetoxystyrene 2
6.7 g (85.0% yield) was obtained.

【0035】実施例2 臭化メチルトリフェニルホスホニウムに代えて、塩化メ
チルトリフェニルホスホニウム81.3g(0.26モ
ル)を使用したこと以外は実施例1と同様な方法で実施
し、4−アセトキシスチレン27.0g(収率85.9
%)を得た。
Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that 81.3 g (0.26 mol) of methyltriphenylphosphonium chloride was used instead of methyltriphenylphosphonium bromide. 27.0 g of styrene (yield 85.9)
%).

【0036】実施例3 ナトリウムメトキシドの代わりに、1,8−ジアザビシ
クロ[5.4.0]ウンデセン−7の68.5g(0.
45モル)を使用したこと以外は実施例1と同様な方法
で実施し、4−アセトキシスチレン25.3g(収率8
0.5%)を得た。
Example 3 Instead of sodium methoxide, 68.5 g of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (0.
Except for using 45 mol), the same procedure as in Example 1 was carried out to obtain 25.3 g of 4-acetoxystyrene (yield: 8).
0.5%).

【0037】実施例4 ナトリウムメトキシドの代わりに、n−ブチルリチウム
28.8g相当(0.45モル)を使用し、反応溶媒と
してテトラヒドロフランを使用したこと以外は実施例1
と同様な方法で実施し、4−アセトキシスチレン26.
6g(収率84.6%)を得た。
Example 4 Example 1 was repeated except that 28.8 g of n-butyllithium (0.45 mol) was used instead of sodium methoxide, and tetrahydrofuran was used as a reaction solvent.
And 4-acetoxystyrene.
6 g (84.6% yield) was obtained.

【0038】実施例5 攪拌子、温度計、および滴下ロートを備えた500ml
フラスコに、実施例1と同様な方法で得られた4−ビニ
ルフェノール21.9g(0.183モル)、1.9M
水酸化ナトリウム水溶液200mlを仕込んで液温を1
0〜15℃に保持しながら、無水酢酸24.9g(0.
268モル)を2時間かけて滴下した。滴下終了後、2
5℃でさらに30分間反応後、酢酸エチル150mlで
抽出し、有機相を水洗、無水硫酸ナトリウムでの乾燥の
後、減圧蒸留して4−アセトキシスチレン25.4g
(収率80.8%)を得た。
Example 5 500 ml equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel
A flask was charged with 21.9 g (0.183 mol) of 4-vinylphenol obtained in the same manner as in Example 1, 1.9 M
200 ml of aqueous sodium hydroxide solution was charged and the liquid temperature was adjusted to 1
While maintaining the temperature at 0 to 15 ° C, 24.9 g of acetic anhydride (0.
268 mol) was added dropwise over 2 hours. After dropping, 2
After further reacting at 5 ° C. for 30 minutes, the mixture was extracted with 150 ml of ethyl acetate, the organic phase was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and distilled under reduced pressure to give 25.4 g of 4-acetoxystyrene.
(80.8% yield).

【0039】[0039]

【発明の効果】以上の如き本発明によれば、従来の諸問
題を解決し、かつ工業的規模で経済性に優れ、安全な方
法で4−アセトキシスチレンを製造することが可能とな
る。
According to the present invention as described above, it is possible to solve the conventional problems and to produce 4-acetoxystyrene by a safe method with excellent economic efficiency on an industrial scale.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北原 良 神奈川県横浜市青葉区美しが丘西3−35− 7 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC23 AC24 AC90 BA02 BA03 BA25 BA32 BA44 BA48 BA51 BA53 BB20 BB21 BB22 BB25 BC10 BC11 BC34 BE55 BJ50 BT16 4H039 CA21 CA66 CD20 CD40  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Ryo Kitahara 3-35-7 F-Bigaoka Nishi, Aoba-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 4F006 AA02 AC23 AC24 AC90 BA02 BA03 BA25 BA32 BA44 BA48 BA51 BA53 BB20 BB21 BB22 BB25 BC10 BC11 BC34 BE55 BJ50 BT16 4H039 CA21 CA66 CD20 CD40

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記式(1)で示される4−アセトキシハ
ロベンゼンをHeck反応させることを特徴とする下記式
(2)で表される4−アセトキシスチレンの製造方法。
1. A method for producing 4-acetoxystyrene represented by the following formula (2), wherein a 4-acetoxyhalobenzene represented by the following formula (1) is subjected to a Heck reaction.
【請求項2】パラジウム触媒を4−アセトキシハロベン
ゼンの0.001〜10モル%で使用し、ホスフィン配
位子を燐/パラジウム(原子比)が1〜50で使用する
請求項1に記載の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the palladium catalyst is used at 0.001 to 10 mol% of 4-acetoxyhalobenzene, and the phosphine ligand is used at a phosphorus / palladium (atomic ratio) of 1 to 50. Production method.
【請求項3】反応溶媒として、アセトニトリルまたはア
セトニトリルを含む混合溶媒を使用する請求項1に記載
の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein acetonitrile or a mixed solvent containing acetonitrile is used as the reaction solvent.
【請求項4】反応系に、トリアルキルアミンを存在させ
る請求項1に記載の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein a trialkylamine is present in the reaction system.
【請求項5】反応を、エチレンガス雰囲気中で、0.3
〜3MPaの圧力下で行なう請求項1に記載の製造方
法。
5. The reaction is carried out in an ethylene gas atmosphere at a temperature of 0.3%.
The method according to claim 1, wherein the method is performed under a pressure of 33 MPa.
【請求項6】反応を170℃以下の温度で行なう請求項
1に記載の製造方法。
6. The method according to claim 1, wherein the reaction is carried out at a temperature of 170 ° C. or lower.
【請求項7】下記式(1)で示される4−ヒドロキシベ
ンズアルデヒドをWittig反応させ、下記式(2)で表さ
れる4−ビニルフェノールを得る第一工程と、下記式
(2)で表される4−ビニルフェノールをアセチル化し
て下記式(3)で表される4−アセトキシスチレンを得
る第二工程とからなることを特徴とする4−アセトキシ
スチレンの製造方法。
7. A first step of subjecting a 4-hydroxybenzaldehyde represented by the following formula (1) to a Wittig reaction to obtain 4-vinylphenol represented by the following formula (2), and a first step represented by the following formula (2): Acetylating 4-vinylphenol to obtain 4-acetoxystyrene represented by the following formula (3):
【請求項8】Wittig試薬を、メチルトリフェニルホスホ
ニウムハライドと強塩基とから反応系内において発生さ
せる請求項7に記載の製造方法。
8. The production method according to claim 7, wherein the Wittig reagent is generated in a reaction system from methyltriphenylphosphonium halide and a strong base.
【請求項9】メチルトリフェニルホスホニウムハライド
が、塩化メチルトリフェニルホスホニウムまたは臭化メ
チルトリフェニルホスホニウムである請求項7に記載の
製造方法。
9. The process according to claim 7, wherein the methyltriphenylphosphonium halide is methyltriphenylphosphonium chloride or methyltriphenylphosphonium bromide.
【請求項10】強塩基が、ナトリウムメトキシドまたは
ナトリウムエトキシドである請求項8に記載の製造方
法。
10. The method according to claim 8, wherein the strong base is sodium methoxide or sodium ethoxide.
【請求項11】4−ヒドロキシベンズアルデヒド1モル
に対し、Wittig試薬を1〜3モル使用する請求項7に記
載の製造方法。
11. The method according to claim 7, wherein 1 to 3 mol of a Wittig reagent is used per 1 mol of 4-hydroxybenzaldehyde.
【請求項12】溶媒として、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジエチルアセトアミドまたはテトラヒド
ロフランを使用する請求項7に記載の製造方法。
12. The method according to claim 7, wherein N, N-dimethylformamide, N, N-diethylacetamide or tetrahydrofuran is used as the solvent.
【請求項13】Wittig反応により得られた4−ビニルフ
ェノールを、アミド硫酸を触媒として無水酢酸を使って
アセチル化する請求項7に記載の製造方法。
13. The method according to claim 7, wherein 4-vinylphenol obtained by the Wittig reaction is acetylated using acetic anhydride with amide sulfuric acid as a catalyst.
【請求項14】下記式(1)で示される4−ヒドロキシ
ベンズアルデヒドをアセチル化して下記式(2)で表さ
れる4−アセトキシベンズアルデヒドを得る第一工程
と、下記式(2)で表される4−アセトキシベンズアル
デヒドをWittig反応させて下記式(3)で表される4−
アセトキシスチレンを得る第二工程とからなることを特
徴とする4−アセトキシスチレンの製造方法。
14. A first step of acetylating 4-hydroxybenzaldehyde represented by the following formula (1) to obtain 4-acetoxybenzaldehyde represented by the following formula (2), and represented by the following formula (2): Wittig reaction of 4-acetoxybenzaldehyde is performed to give 4-acetoxybenzaldehyde represented by the following formula (3).
A method for producing 4-acetoxystyrene, comprising a second step of obtaining acetoxystyrene.
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