JP2002175880A - Color conversion filter substrate, color conversion color display provided with the color conversion filter substrate, and their manufacturing method - Google Patents

Color conversion filter substrate, color conversion color display provided with the color conversion filter substrate, and their manufacturing method

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JP2002175880A
JP2002175880A JP2000374994A JP2000374994A JP2002175880A JP 2002175880 A JP2002175880 A JP 2002175880A JP 2000374994 A JP2000374994 A JP 2000374994A JP 2000374994 A JP2000374994 A JP 2000374994A JP 2002175880 A JP2002175880 A JP 2002175880A
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layer
film layer
color conversion
refractive index
inorganic film
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JP2000374994A
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Japanese (ja)
Inventor
Makoto Uchiumi
誠 内海
Goji Kawaguchi
剛司 川口
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a design guide of an inorganic film layer which efficiently allows lights of an organic EL emitting element to pass through and a color conversion filter substrate and a color organic EL display where stable luminous properties is maintained over a long term. SOLUTION: This color conversion filter substrate is provided with at least with a transparent support substrate, a single or plural kinds of color conversion filter layers constituted, wherein a resin film containing fluorescent dyes is formed into a desired pattern, a transparent and flat polymer membrane layer, the transparent inorganic film layer, and a transparent electrode layer formed in a single or plural electrically independent regions, wherein concerning a wavelength λ within a range of 450 to 500 nm, a refractive index of the inorganic film layer that is a single layer is smaller than that of the transparent electrode layer and the equation the nd=sλ/2 (in the formula, n: the refractive index of the inorganic film layer, s: a natural number) is satisfied, in a film thickness d of the inorganic film layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高精細で、耐環境
性および生産性に優れた多色表示を可能とする色変換フ
ィルタ基板および該色変換カラーフィルタ基板を具備す
る有機多色発光表示素子(ディスプレイ)に関する。詳
細には、イメージセンサ、パーソナルコンピュータ、ワ
ードプロセッサ、テレビ、ファクシミリ、オーディオ、
ビデオ、カーナビゲーション、電機卓上計算機、電話
機、携帯端末機および産業用の計測器等の表示用の色変
換フィルタ基板および該色変換フィルタ基板を具備する
有機多色発光表示素子(ディスプレイ)に関する。特
に、本発明は、色変換方式を用いた多色発光ディスプレ
イに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color conversion filter substrate capable of high-definition multi-color display with excellent environmental resistance and productivity, and an organic multi-color light-emitting display having the color conversion color filter substrate. It relates to an element (display). Specifically, image sensors, personal computers, word processors, televisions, facsimile, audio,
The present invention relates to a color conversion filter substrate for display of a video, a car navigation, an electric desk calculator, a telephone, a portable terminal, an industrial measuring instrument, and the like, and an organic multicolor light emitting display element (display) including the color conversion filter substrate. In particular, the present invention relates to a multicolor light emitting display using a color conversion method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報の多様化が進んでいる。その
中で、固体撮像素子をはじめ、情報分野における表示デ
バイスには、「美・軽・薄・優」が求められ、さらに低
消費電力・高速応答へ向けて活発な開発が進められてい
る。特に、高精細なフルカラー表示デバイスの考案が広
くなされている。
2. Description of the Related Art In recent years, information has been diversified. Among them, display devices in the information field, such as solid-state imaging devices, are required to have "beauty, lightness, thinness, and excellence", and active development for low power consumption and high-speed response is being promoted. In particular, high-definition full-color display devices have been widely devised.

【0003】液晶表示素子等に比較して、高コントラス
ト、定電圧駆動、広視野角、および高速応答性等の特徴
を有する素子として、1980年代後半に、有機分子の
薄膜積層構造を有した有機エレクトロルミネセンス(以
下、有機ELと称する)素子が提唱されている。Tangら
による印加電圧10Vで、1000cd/m2以上の高
輝度で発光する積層型EL素子の報告(Appl. Phys. Le
tt., 51, 913 (1987))以来、実用化に向けての研究が
活発に行われている。また、有機高分子材料を用いた同
様の素子も活発に開発が進められている。
As an element having characteristics such as high contrast, constant voltage driving, wide viewing angle, and high-speed response as compared with a liquid crystal display element or the like, in the late 1980's, an organic layer having an organic molecule thin film laminated structure was used. Electroluminescence (hereinafter, referred to as organic EL) elements have been proposed. Tang et al. Report a stacked EL device that emits light with a high luminance of 1000 cd / m 2 or more at an applied voltage of 10 V (Appl. Phys. Le).
tt., 51, 913 (1987)), research for practical use has been actively conducted. Further, similar devices using organic polymer materials are also being actively developed.

【0004】有機EL素子は、定電圧で高い電流密度が
実現できるため、無機EL素子やLEDに比較して高い
発光輝度および発光効率が期待できる。有機EL素子
は、(1)高輝度および高コントラスト、(2)低電圧
駆動および高い発光効率、(3)高解像度、(4)広視
野角性、(5)速い応答速度、(6)微細化およびカラ
ー化、および(7)軽さおよび薄さ等の、表示素子とし
て優れた特徴を有している。以上の点から、「美・軽・
薄・優」なフラットパネルディスプレイへの応用が期待
されている。
[0004] Since organic EL elements can realize a high current density at a constant voltage, higher light emission luminance and light emission efficiency can be expected as compared with inorganic EL elements and LEDs. Organic EL devices include (1) high brightness and high contrast, (2) low voltage driving and high luminous efficiency, (3) high resolution, (4) wide viewing angle, (5) fast response speed, and (6) fine And (7) lightness and thinness, and other excellent characteristics as a display element. From the above points, "Beauty, light,
It is expected to be applied to thin and excellent flat panel displays.

【0005】すでに、パイオニア社によって、車搭載用
の緑色モノクロ有機ELディスプレイ等が1997年1
1月より製品化されており、今後は多様化する社会のニ
ーズに応えるべく、長期安定性、高速応答性、多色表
示、および高精細のフルカラー表示が可能な有機ELデ
ィスプレイの実用化が急がれている。
[0005] Pioneer has already introduced a green monochrome organic EL display for use in a car in January 1997.
It has been commercialized since January, and in the future, to meet the diversifying needs of society, the practical use of organic EL displays capable of long-term stability, high-speed response, multicolor display, and high-definition full-color display is urgent. Is peeling.

【0006】有機ELディスプレイのマルチカラー化ま
たはフルカラー化の方法として、3つの方法が検討され
ている。第1の方法は、赤(R)、緑(G)、青(B)
の3原色の発光体をマトリクス上に分離配置し、それぞ
れ発光させる方法である。特開昭57−157487号
公報、特開昭58−147989号公報、および特開平
3−214593号公報などを参照されたい。この方法
は、RGBの3種の発光材料をマトリクス上に高精細に
配置しなくてはならないため、技術的に困難であり、か
つ安価で製造することはさらに困難である。加えて、3
種の発光材料の寿命がそれぞれ異なるために、時間とと
もに色度がずれてしまうなどの欠点を有する。
[0006] Three methods have been studied as a method for multi-color or full-color organic EL displays. The first method is red (R), green (G), blue (B)
Are arranged separately on a matrix to emit light. See JP-A-57-157487, JP-A-58-147989, and JP-A-3-214593. This method is technically difficult because it is necessary to arrange three kinds of light-emitting materials of RGB on a matrix with high definition, and it is more difficult to manufacture it at low cost. In addition, 3
Since the lifetimes of the light emitting materials are different from each other, there is a drawback that the chromaticity shifts with time.

【0007】第2の方法として、白色で発光するバック
ライトにカラーフィルターを用いRGBの3原色を透過
させる方法が提案されている。特開平1−315988
号公報、特開平2−273496号公報、特開平3−1
94885号公報等を参照されたい。この方法におい
て、充分な輝度のRGB光を得るために必要なバックラ
イトに用いる、長寿命かつ高輝度の白色発光の有機EL
発光素子を得ることは技術的に高度に困難な課題であ
り、未だ得られていない。
As a second method, there has been proposed a method of transmitting three primary colors of RGB by using a color filter in a backlight which emits white light. JP-A-1-315988
JP, JP-A-2-273496, JP-A-3-3-1
See No. 94885. In this method, a long-life, high-brightness white light-emitting organic EL used for a backlight necessary for obtaining RGB light of sufficient brightness.
Obtaining a light emitting element is a technically difficult task and has not yet been obtained.

【0008】近年では、第3の方法として、発光体の発
光を平面的に分離配置した蛍光体に吸収させ、それぞれ
の蛍光体から多色の蛍光を発光させる方法が開示されて
いる。特開平3−152897号公報および特開平5−
258860号公報等を参照されたい。この方法におい
ては、有機EL発光素子の発光色が白色に限定されない
ため、より輝度が高い有機EL発光素子を光源に適用す
ることができる。特開平3−152897号公報、特開
平8−286033号公報、特開平9−208944号
公報等において、青色光を緑色光および赤色光に波長変
換する、青色発光の有機EL発光素子を用いた色変換方
式が開示されている。ここで、蛍光色素を含む蛍光変換
膜を高精細にパターニングすれば、発光体の近紫外光な
いし可視光のような弱いエネルギー線を用いても、フル
カラーの発光型ディスプレイの構築が可能となる。
In recent years, as a third method, a method has been disclosed in which light emitted from a luminous body is absorbed by phosphors which are separately arranged in a plane, and multicolor fluorescent light is emitted from each phosphor. JP-A-3-152897 and JP-A-5-2897
See 258860 and the like. In this method, since the emission color of the organic EL element is not limited to white, an organic EL element with higher luminance can be applied to the light source. JP-A-3-152897, JP-A-8-286033, JP-A-9-208944, etc. disclose a color using a blue light-emitting organic EL light-emitting element for converting blue light into green light and red light. A conversion scheme is disclosed. Here, if the fluorescence conversion film containing the fluorescent dye is patterned with high definition, it is possible to construct a full-color light-emitting display even using weak energy rays such as near-ultraviolet light or visible light of the luminous body.

【0009】蛍光変換膜のパターニングの方法として
は、(1)無機蛍光体の場合と同様に、蛍光色素を液状
のレジスト(光反応性ポリマー)中に分散させ、これを
スピンコート法などで成膜した後、フォトリソグラフィ
ー法でパターニングする方法(特開平5−198921
号公報および特開平5−258860号公報)、あるい
は(2)塩基性のバインダーに蛍光色素または蛍光顔料
を分散させ、これを酸性水溶液でエッチングする方法
(特開平9−208944号公報)などを挙げることが
できる。
As a method of patterning the fluorescence conversion film, (1) a fluorescent dye is dispersed in a liquid resist (photoreactive polymer) and then formed by a spin coating method or the like as in the case of the inorganic phosphor. After forming the film, patterning by photolithography (Japanese Patent Laid-Open No. 5-198921)
And JP-A-5-258860) or (2) a method of dispersing a fluorescent dye or a fluorescent pigment in a basic binder and etching it with an acidic aqueous solution (JP-A-9-208944). be able to.

【0010】カラーディスプレイとして実用化する上で
重要であることは、精細なカラー表示機能を有すること
とともに、長期安定性を有することである(たとえば、
機能材料、第18巻、第2号、96頁を参照された
い)。しかし、有機EL発光素子は、一定期間の駆動す
ると、電流−輝度特性等の発光特性が著しく低下すると
いう欠点を有する。
What is important for practical use as a color display is to have not only a fine color display function but also long-term stability (for example,
Functional Materials, Vol. 18, No. 2, p. 96). However, the organic EL light emitting element has a drawback that when driven for a certain period, light emitting characteristics such as current-luminance characteristics are significantly reduced.

【0011】この発光特性の低下原因の代表的なもの
は、ダークスポットの成長である。このダークスポット
とは、発光欠陥点のことである。このダークスポット
は、素子中の酸素あるいは水分による素子の積層構成材
料の酸化あるいは凝集に起因するものと考えられてい
る。ダークスポットの成長は、通電中(駆動中)はもち
ろん、保存中にも進行し、極端な場合には発光面全体に
広がる。その成長は、特に、(1)素子の周囲に存在す
る酸素あるいは水分により加速され、(2)有機積層膜
中に吸着物として存在する酸素あるいは水分に影響さ
れ、および(3)素子策せ維持の部品に吸着している水
分もしくは製造時等における水分の浸入にも影響される
と考えられている。
A typical cause of the deterioration of the light emission characteristics is the growth of dark spots. The dark spot is a light emission defect point. This dark spot is considered to be caused by oxidation or agglomeration of the laminated constituent material of the device due to oxygen or moisture in the device. The growth of the dark spot proceeds not only during energization (during driving) but also during storage, and in extreme cases spreads over the entire light emitting surface. In particular, the growth is accelerated by (1) oxygen or moisture existing around the device, (2) affected by oxygen or moisture existing as an adsorbate in the organic laminated film, and (3) maintaining the device operation. It is also considered that it is also affected by the moisture adsorbed on the part or the infiltration of the water at the time of manufacturing or the like.

【0012】色変換方式のカラー有機ELディスプレイ
では、図2に示したように透明電極7の下側に、色変換
フィルタ層2、3、4が配設されている。前述のとおり
色変換フィルタは、樹脂中に色変換用の色素を混合した
ものであり、混合する色素の熱安定性の問題から、20
0℃を超える温度での乾燥が行えない。このことから、
塗液中に含有されている水分、あるいはパターン形成工
程中に混入した水分が保持された状態で、色変換フィル
タ層が形成される可能性が高い。色変換フィルタ層中に
保持された水分は、保存もしくは駆動中に高分子膜層を
通じて素子に達し、ダークスポットの成長を促進する要
因となる。
In the color conversion type color organic EL display, color conversion filter layers 2, 3, and 4 are provided below the transparent electrode 7 as shown in FIG. As described above, the color conversion filter is obtained by mixing a dye for color conversion in a resin.
Drying cannot be performed at a temperature exceeding 0 ° C. From this,
There is a high possibility that the color conversion filter layer is formed in a state where the water contained in the coating liquid or the water mixed during the pattern forming step is held. The moisture retained in the color conversion filter layer reaches the device through the polymer film layer during storage or driving, and is a factor promoting the growth of dark spots.

【0013】この水分の有機EL素子への侵入を防止す
る手法として、色変換フィルタ層と有機EL素子との間
に、絶縁性の無機酸化膜層を、厚さ0.01〜200μ
mで配設する技術が知られている(特開平8−2793
94号公報)。無機酸化膜層には、有機発光層の寿命を
維持するための高い防湿性が要求され、無機酸化膜層に
おける水蒸気または酸素のガス透過係数(JIS K7
126の気体透過度試験方法による)は、それぞれ10
-13cc・cm/cm2・s・cmHg以下であることが
望ましいとしている。
As a method for preventing the penetration of moisture into the organic EL element, an insulating inorganic oxide film layer having a thickness of 0.01 to 200 μm is provided between the color conversion filter layer and the organic EL element.
The technique of arranging in m is known (JP-A-8-2793).
No. 94). The inorganic oxide film layer is required to have a high moisture-proof property to maintain the life of the organic light-emitting layer, and the gas permeability coefficient of water vapor or oxygen (JIS K7) in the inorganic oxide film layer is required.
126 according to the gas permeability test method)
-13 cc · cm / cm 2 · s · cmHg or less is desirable.

【0014】また、特開平7−146480号公報、特
開平10−10518号公報に示されるように、カラー
フィルタの作製方法として、カラーフィルタ層上に形成
した高分子膜層に対して、DCスパッタリングによりS
iOx、SiNxを形成する方法があり、透明導電膜の密
着性を向上させる効果が知られている。
As disclosed in JP-A-7-146480 and JP-A-10-10518, a method for producing a color filter is to perform DC sputtering on a polymer film layer formed on a color filter layer. By S
There is a method of forming iO x and SiN x, and the effect of improving the adhesion of the transparent conductive film is known.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】色変換方式のカラー有
機ELディスプレイにおいては、低消費電力化および長
寿命化のために、無機膜層が、有機EL発光素子からの
励起光を効率よく透過して、色変換フィルタ層に伝達す
る機能を有することが求められる。
In a color conversion type color organic EL display, an inorganic film layer efficiently transmits excitation light from an organic EL light emitting element in order to reduce power consumption and extend the life. Therefore, it is required to have a function of transmitting to the color conversion filter layer.

【0016】色変換方式のカラー有機ELディスプレイ
は、図2に示したように、透明電極7の下に無機膜層、
高分子膜層、色変換フィルタ層が配設されている。有機
発光層からの光は、有機層と透明電極との界面、透明電
極と無機膜層との界面、および無機膜層と高分子膜層と
の界面を透過して、色変換フィルタ層に達する。主に、
波長450〜500nmの青色〜緑色の領域の光が、
青、緑、赤色等に変換される。有機発光層からの光は、
前述のような素子中の界面において反射あるいは干渉さ
れる結果、透過光の強度に強弱が発生する。透過光強度
の強弱は、それぞれの層の材質および膜厚により変化す
る。
As shown in FIG. 2, a color conversion type color organic EL display has an inorganic film layer under a transparent electrode 7,
A polymer film layer and a color conversion filter layer are provided. Light from the organic light emitting layer passes through the interface between the organic layer and the transparent electrode, the interface between the transparent electrode and the inorganic film layer, and the interface between the inorganic film layer and the polymer film layer, and reaches the color conversion filter layer. . mainly,
Light in the blue to green region with a wavelength of 450 to 500 nm,
Converted to blue, green, red, etc. The light from the organic light emitting layer is
As a result of reflection or interference at the interface in the device as described above, the intensity of transmitted light varies. The intensity of the transmitted light intensity varies depending on the material and thickness of each layer.

【0017】このため、色変換フィルタに効率よく励起
光を伝達するためには、無機膜層の光学的な設計指針を
示す必要がある。本発明は上述の問題に鑑みてなされた
ものであり、有機EL発光素子の光を効率よく透過する
無機膜層の設計指針を提供し、長期にわたって安定した
発光特性を維持する色変換フィルタ基板およびカラー有
機ELディスプレイの提供を実現することを目的とす
る。
For this reason, in order to efficiently transmit the excitation light to the color conversion filter, it is necessary to show an optical design guideline of the inorganic film layer. The present invention has been made in view of the above-described problems, and provides a design guideline of an inorganic film layer that efficiently transmits light of an organic EL light emitting element, and a color conversion filter substrate that maintains stable light emission characteristics for a long time. It is an object to provide a color organic EL display.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の態様であ
る色変換フィルタ基板は、透明な支持基板と、該支持基
板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望のパタ
ーンに形成してなる単一または複数種類の色変換フィル
タ層と、該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、か
つ平坦に形成される高分子膜層と、該高分子膜層上に形
成される透明な無機膜層と、該無機膜層上の1または複
数の電気的に独立した領域に形成される透明電極層とを
少なくとも備える色変換フィルタ基板であって、該無機
膜層は、単一の層であり、および450nm以上500
nm以下の範囲内にある波長λに関して、該無機膜層の
屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、かつ該
無機膜層の膜厚dが、以下の式: nd=sλ/2 (式中、nは波長λの光に対する該無機膜層の屈折率で
あり、およびsは自然数である)の関係を満たすことを
特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a color conversion filter substrate in which a transparent support substrate and a resin film containing a fluorescent dye disposed on the support substrate are formed in a desired pattern. A single or plural types of color conversion filter layers, a polymer film layer that covers the color conversion filter layer, is transparent and is formed flat, and is formed on the polymer film layer A color conversion filter substrate comprising at least a transparent inorganic film layer and a transparent electrode layer formed in one or a plurality of electrically independent regions on the inorganic film layer, wherein the inorganic film layer is a single layer. And 450 nm or more and 500
For a wavelength λ in the range of not more than nm, the refractive index of the inorganic film layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and the film thickness d of the inorganic film layer is represented by the following formula: nd = sλ / 2 (where n is the refractive index of the inorganic film layer with respect to light having a wavelength λ, and s is a natural number).

【0019】本発明の第2の態様である色変換フィルタ
基板は、透明な支持基板と、該支持基板上に配置され蛍
光色素を含有する樹脂膜を所望のパターンに形成してな
る単一または複数種類の色変換フィルタ層と、該色変換
フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に形成され
る高分子膜層と、該高分子膜層上に形成される透明な無
機膜層と、該無機膜層上の1または複数の電気的に独立
した領域に形成される透明電極層とを少なくとも備える
色変換フィルタ基板であって、該無機膜層は、少なくと
も2つの層の積層体から構成され、および450nm以
上500nm以下の範囲内にある波長λに関して、該透
明電極層に隣接する無機膜層の屈折率は、該透明電極層
の屈折率よりも小さく、および該透明電極層から数えて
2p−1番目および2p番目の無機膜層を構成する層
(pは自然数である)が、 n2p-1 > n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/2;および n2p2p=s2pλ/4 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たすことを特
徴とする。
A color conversion filter substrate according to a second aspect of the present invention comprises a transparent support substrate and a single or a transparent resin substrate formed on the support substrate and having a resin film containing a fluorescent dye formed in a desired pattern. A plurality of types of color conversion filter layers, a polymer film layer covering the color conversion filter layer, being transparent, and formed flat, and a transparent inorganic film layer formed on the polymer film layer; A transparent electrode layer formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer, wherein the inorganic film layer is formed of a laminate of at least two layers. Is configured, and for a wavelength λ in the range of 450 nm or more and 500 nm or less, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and counted from the transparent electrode layer. 2p-1st and Layers constituting the 2p-th inorganic film layer (p is a natural number), n 2p-1> n 2p ; n 2p-1 d 2p-1 = s 2p-1 λ / 2; and n 2p d 2p = (wherein, n u is the refractive index of the u-th layer, d u is u th layer of thickness, s u is a natural number) s 2p λ / 4 and satisfying the following relationship.

【0020】本発明の第3の態様である色変換フィルタ
基板は、第2の態様において、450nm以上500n
m以下の範囲内にある波長λに関して、該無機膜層を構
成する層の屈折率が、該透明電極層側から該高分子膜層
へと向かって、順次的に小さくなることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a color conversion filter substrate according to the second aspect, wherein the color conversion filter substrate is 450 nm or more and 500 nm or more.
m, the refractive index of the layer constituting the inorganic film layer is gradually reduced from the transparent electrode layer side toward the polymer film layer. .

【0021】本発明の第4の態様である色変換フィルタ
基板は、透明な支持基板と、該支持基板上に配置され蛍
光色素を含有する樹脂膜を所望のパターンに形成してな
る単一または複数種類の色変換フィルタ層と、該色変換
フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に形成され
る高分子膜層と、該高分子膜層上に形成される透明な無
機膜層と、該無機膜層上の1または複数の電気的に独立
した領域に形成される透明電極層と少なくとも備える色
変換フィルタ基板であって、該無機膜層は、少なくとも
2つの層の積層体から構成され、および450nm以上
500nm以下の範囲内にある波長λに関して、該透明
電極層に隣接する無機膜層の屈折率は、該透明電極層の
屈折率よりも小さく、および該透明電極層から数えて2
p−1番目および2p番目の無機膜層を構成する層(p
は自然数である)が、 n2p-1 < n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/4;および n2p2p=s2pλ/2 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たすことを特
徴とする。
A color conversion filter substrate according to a fourth aspect of the present invention is a single-layer or single-layer filter formed by forming a transparent support substrate and a resin film containing a fluorescent dye disposed on the support substrate in a desired pattern. A plurality of types of color conversion filter layers, a polymer film layer covering the color conversion filter layer, being transparent, and formed flat, and a transparent inorganic film layer formed on the polymer film layer; A color conversion filter substrate comprising at least a transparent electrode layer formed in one or a plurality of electrically independent regions on the inorganic film layer, wherein the inorganic film layer comprises a laminate of at least two layers And the wavelength λ in the range of 450 nm or more and 500 nm or less, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and counted from the transparent electrode layer 2
Layers constituting the (p-1) th and 2pth inorganic film layers (p
Is a natural number), but n 2p-1 <n 2p ; n 2p-1 d 2p-1 = s 2p-1 λ / 4; and n 2pd 2p = s 2p λ / 2 (where n u is refractive index of u th layer, d u is characterized by satisfying u th layer of thickness, s u is a natural number) the relationship.

【0022】本発明の第5の態様である色変換フィルタ
基板は、透明な支持基板と、該支持基板上に配置され蛍
光色素を含有する樹脂膜を所望のパターンに形成してな
る単一または複数種類の色変換フィルタ層と、該色変換
フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に形成され
る高分子膜層と、該高分子膜層上に形成される透明な無
機膜層と、該無機膜層上の1または複数の電気的に独立
した領域に形成される透明電極層とを少なくとも備える
色変換フィルタ基板であって、該無機膜層は、単一の層
であり、および該無機膜層は、その屈折率が該透明電極
層から該高分子膜層に向かって順次減少するように、連
続的に変化した組成を有することを特徴とする。
A color conversion filter substrate according to a fifth aspect of the present invention is a single-layer or multi-layer filter formed by forming a transparent support substrate and a resin film containing a fluorescent dye disposed on the support substrate in a desired pattern. A plurality of types of color conversion filter layers, a polymer film layer covering the color conversion filter layer, being transparent, and formed flat, and a transparent inorganic film layer formed on the polymer film layer; A color conversion filter substrate comprising at least a transparent electrode layer formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer, wherein the inorganic film layer is a single layer, and The inorganic film layer has a continuously changed composition such that its refractive index decreases gradually from the transparent electrode layer toward the polymer film layer.

【0023】本発明の第6の態様である色変換フィルタ
基板は、第1から第5のいずれかの態様において、該透
明電極層の膜厚dが、450nm以上500nm以下の
範囲内にある波長λに関して、以下の式: nd=sλ/2 (式中、nは波長λの光に対する該透明電極層の屈折率
であり、およびsは自然数である)の関係を満たすこと
を特徴とする。
A color conversion filter substrate according to a sixth aspect of the present invention is the color conversion filter substrate according to any one of the first to fifth aspects, wherein the thickness d of the transparent electrode layer is within a range of 450 nm or more and 500 nm or less. With respect to λ, the following formula is satisfied: nd = sλ / 2 (where n is the refractive index of the transparent electrode layer with respect to light of wavelength λ, and s is a natural number).

【0024】本発明第7の態様である色変換カラーディ
スプレイは、第1から第6のいずれかの態様の色変換フ
ィルタ基板上に、少なくとも発光材料を含有する発光層
と、第2電極層とを順次積層してなることを特徴とす
る。
A color conversion color display according to a seventh aspect of the present invention provides a color conversion filter substrate according to any one of the first to sixth aspects, wherein a light emitting layer containing at least a light emitting material, a second electrode layer, Are sequentially laminated.

【0025】本発明第8の態様である色変換フィルタ基
板の製造方法は、透明な支持基板を準備し、該支持基板
上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望のパター
ンに形成してなる単一または複数種類の色変換フィルタ
層を形成し、該色変換フィルタ層を被覆し、透明であ
り、かつ平坦に形成される高分子膜層を形成し、該無機
膜層は、単一の層であり、および450nm以上500
nm以下の範囲内にある波長λに関して、以下の式: nd=sλ/2 (式中、nは波長λの光に対する屈折率であり、および
sは自然数である)の関係を満たす膜厚dを有する無機
膜層を形成し、および該無機膜層上の1または複数の電
気的に独立した領域に形成され、および該無機膜層の屈
折率よりも大きい屈折率を有する透明電極層を形成する
ことを少なくとも備えたことを特徴とする。
In a method of manufacturing a color conversion filter substrate according to an eighth aspect of the present invention, a transparent support substrate is prepared, and a resin film containing a fluorescent dye disposed on the support substrate is formed in a desired pattern. Forming a single or plural types of color conversion filter layers, covering the color conversion filter layer, forming a transparent and flat polymer film layer, and forming the inorganic film layer as a single layer. And 450 nm or more and 500
For wavelengths λ that are in the range of nm or less, the thickness d satisfies the relationship: nd = sλ / 2, where n is the refractive index for light of wavelength λ and s is a natural number. And forming a transparent electrode layer formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer and having a refractive index larger than the refractive index of the inorganic film layer. Characterized in that it is provided with at least

【0026】本発明第9の態様である色変換フィルタ基
板の製造方法は、透明な支持基板を準備し、該支持基板
上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望のパター
ンに形成してなる単一または複数種類の色変換フィルタ
層を形成し、該色変換フィルタ層を被覆し、透明であ
り、かつ平坦に形成される高分子膜層を形成し、該無機
膜層は、透明な支持基板を準備し、該支持基板上に配置
され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望のパターンに形成
してなる単一または複数種類の色変換フィルタ層を形成
し、該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平
坦に形成される高分子膜層を形成し、該無機膜層は、少
なくとも2つの層の積層体から構成され、および450
nm以上500nm以下の範囲内にある波長λに関し
て、該透明電極層に隣接する無機膜層の屈折率は、該透
明電極層の屈折率よりも小さく、および該透明電極層か
ら数えて2p−1番目および2p番目の無機膜層を構成
する層(pは自然数である)が、 n2p-1 > n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/2;および n2p2p=s2pλ/4 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たす膜厚dを
有する無機膜層を形成し、および該無機膜層上の1また
は複数の電気的に独立した領域に形成され、および該無
機膜層の屈折率よりも大きい屈折率を有する透明電極層
を形成することを少なくとも備えたことを特徴とする。
In a method of manufacturing a color conversion filter substrate according to a ninth aspect of the present invention, a transparent support substrate is prepared, and a resin film containing a fluorescent dye is formed on the support substrate in a desired pattern. Forming a single or plural types of color conversion filter layers, covering the color conversion filter layer, forming a polymer film layer that is transparent and flat, and the inorganic film layer is transparent. Preparing a support substrate, forming a single or plural types of color conversion filter layers formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern, and covering the color conversion filter layer Forming a transparent and flat polymer film layer, wherein the inorganic film layer comprises a laminate of at least two layers; and 450
For a wavelength λ in the range of not less than nm and not more than 500 nm, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and 2p−1 counted from the transparent electrode layer. The layers constituting the 2nd and 2p-th inorganic film layers (p is a natural number) are n 2p-1 > n 2p ; n 2p-1 d 2p-1 = s 2p-1 λ / 2; and n 2p d 2p = s 2p λ / 4 (wherein, n u is u-th refractive index of the layer, d u is the film thickness, s u of u th layer is a natural number) inorganic having a thickness d satisfying the relationship: Forming a film layer, and forming a transparent electrode layer formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer and having a refractive index larger than the refractive index of the inorganic film layer. It is at least provided.

【0027】本発明第10の態様である色変換フィルタ
基板の製造方法は、第9の態様において、該無機膜層の
屈折率が、450nm以上500nm以下の範囲内にあ
る波長λに関して、該透明電極層から該高分子膜層に向
かって順次減少するようにしたことを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a color conversion filter substrate according to the ninth aspect, wherein the inorganic film layer has a refractive index in the range of 450 nm or more and 500 nm or less with respect to the wavelength λ. The present invention is characterized in that the concentration decreases gradually from the electrode layer toward the polymer film layer.

【0028】本発明第11の態様である色変換フィルタ
基板の製造方法は、透明な支持基板を準備し、該支持基
板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望のパタ
ーンに形成してなる単一または複数種類の色変換フィル
タ層を形成し、該色変換フィルタ層を被覆し、透明であ
り、かつ平坦に形成される高分子膜層を形成し、該無機
膜層は、少なくとも2つの層の積層体から構成され、お
よび450nm以上500nm以下の範囲内にある波長
λに関して、該透明電極層に隣接する無機膜層の屈折率
は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、および該透明
電極層から数えて2p−1番目および2p番目の無機膜
層を構成する層(pは自然数である)が、 n2p-1 < n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/4;および n2p2p=s2pλ/2 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たす膜厚dを
有する無機膜層を形成し、および該無機膜層上の1また
は複数の電気的に独立した領域に形成され、および該無
機膜層の屈折率よりも大きい屈折率を有する透明電極層
を形成することを少なくとも備えたことを特徴とする。
In a method of manufacturing a color conversion filter substrate according to an eleventh aspect of the present invention, a transparent support substrate is prepared, and a resin film containing a fluorescent dye disposed on the support substrate is formed in a desired pattern. Forming one or more types of color conversion filter layers, covering the color conversion filter layers, forming a transparent and flat polymer film layer, wherein the inorganic film layer has at least 2 For a wavelength λ comprised of a laminate of two layers, and in the range of 450 nm or more and 500 nm or less, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and The layers constituting the 2p-1st and 2pth inorganic film layers counted from the transparent electrode layer (p is a natural number) are as follows: n2p-1 <n2p; n2p-1 d2p-1 = s2p -1 lambda / 4; and n 2p d 2p = s 2p λ / 2 ( where n u is the refractive index of the u-th layer, d u forms a inorganic layer having a thickness d that satisfies u th layer of thickness, s u is a natural number) the relationship, and inorganic film layers Forming at least one transparent electrode layer formed in one or more electrically independent regions and having a refractive index larger than the refractive index of the inorganic film layer.

【0029】本発明第12の態様である色変換フィルタ
基板の製造方法は、透明な支持基板を準備し、該支持基
板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望のパタ
ーンに形成してなる単一または複数種類の色変換フィル
タ層を形成し、該色変換フィルタ層を被覆し、透明であ
り、かつ平坦に形成される高分子膜層を形成し、連続的
に組成を変化させた無機膜層を形成し、および該無機膜
層上の1または複数の電気的に独立した領域に形成さ
れ、および該無機膜層の屈折率よりも大きい屈折率を有
する透明電極層を形成することを少なくとも備えたこと
を特徴とする。
In a method of manufacturing a color conversion filter substrate according to a twelfth aspect of the present invention, a transparent support substrate is prepared, and a resin film containing a fluorescent dye disposed on the support substrate is formed in a desired pattern. Forming a single or plural types of color conversion filter layers, covering the color conversion filter layers, forming a transparent and flat polymer film layer, and continuously changing the composition. Forming an inorganic film layer, and forming a transparent electrode layer formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer and having a refractive index greater than the refractive index of the inorganic film layer At least.

【0030】本発明第13の態様である色変換カラーデ
ィスプレイの製造方法は、透明な支持基板を準備し、該
支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望
のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変換
フィルタ層を形成し、該色変換フィルタ層を被覆し、透
明であり、かつ平坦に形成される高分子膜層を形成し、
該無機膜層は、単一の層であり、および450nm以上
500nm以下の範囲内にある波長λに関して、以下の
式: nd=sλ/2 (式中、nは波長λの光に対する屈折率であり、および
sは自然数である)の関係を満たす膜厚dを有する無機
膜層を形成し、該無機膜層上の1または複数の電気的に
独立した領域に形成され、および該無機膜層の屈折率よ
りも大きい屈折率を有する透明電極層を形成し、少なく
とも発光材料を含有する有機発光層を形成し、および第
2電極層を形成したことを少なくとも備えたことを特徴
とする。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a color conversion color display, comprising preparing a transparent support substrate and forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate into a desired pattern. Forming a single or plural types of color conversion filter layers, covering the color conversion filter layer, forming a transparent and flat polymer film layer,
The inorganic film layer is a single layer, and for a wavelength λ in the range of 450 nm or more and 500 nm or less, the following formula: nd = sλ / 2 (where n is a refractive index for light having a wavelength λ) And an s is a natural number) forming an inorganic film layer having a thickness d that satisfies the following relationship: formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer; and , A transparent electrode layer having a refractive index larger than that of (a), an organic light emitting layer containing at least a light emitting material, and a second electrode layer are formed.

【0031】本発明第14の態様である色変換カラーデ
ィスプレイの製造方法は、透明な支持基板を準備し、該
支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望
のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変換
フィルタ層を形成し、該色変換フィルタ層を被覆し、透
明であり、かつ平坦に形成される高分子膜層を形成し、
該無機膜層は、少なくとも2つの層の積層体から構成さ
れ、および450nm以上500nm以下の範囲内にあ
る波長λに関して、該透明電極層に隣接する無機膜層の
屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、および
該透明電極層から数えて2p−1番目および2p番目の
無機膜層を構成する層(pは自然数である)が、 n2p-1 > n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/2;および n2p2p=s2pλ/4 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たす膜厚dを
有する無機膜層を形成し、該無機膜層上の1または複数
の電気的に独立した領域に形成され、および該無機膜層
の屈折率よりも大きい屈折率を有する透明電極層を形成
し、少なくとも発光材料を含有する有機発光層を形成
し、および第2電極層を形成したことを少なくとも備え
たことを特徴とする。
In a method of manufacturing a color conversion color display according to a fourteenth aspect of the present invention, a transparent support substrate is prepared, and a resin film containing a fluorescent dye disposed on the support substrate is formed in a desired pattern. Forming a single or plural types of color conversion filter layers, covering the color conversion filter layer, forming a transparent and flat polymer film layer,
The inorganic film layer is composed of a laminate of at least two layers, and for a wavelength λ in a range of 450 nm or more and 500 nm or less, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index, and the layers constituting the 2p-1 th and 2p-th inorganic film layer counted from the transparent electrode layer (p is a natural number), n 2p-1> n 2p ; n 2p- 1 d 2p-1 = s 2p-1 λ / 2; and n 2pd 2p = s 2p λ / 4 (where n u is the refractive index of the u-th layer, and d u is the thickness of the u-th layer) , S u is a natural number) forming an inorganic film layer having a film thickness d satisfying the following relationship: formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer; Forming a transparent electrode layer having a refractive index larger than the refractive index, forming an organic light emitting layer containing at least a light emitting material And characterized by comprising at least to the formation of the second electrode layer.

【0032】本発明第15の態様である色変換カラーデ
ィスプレイの製造方法は、第14の態様において、該無
機膜層の屈折率が、450nm以上500nm以下の範
囲内にある波長λに関して、該透明電極層から該高分子
膜層に向かって順次減少するようにしたことを特徴とす
る。
According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a color conversion color display according to the fourteenth aspect, wherein the refractive index of the inorganic film layer is in the range of 450 nm or more and 500 nm or less. The present invention is characterized in that the concentration decreases gradually from the electrode layer toward the polymer film layer.

【0033】本発明第16の態様である色変換カラーデ
ィスプレイの製造方法は、透明な支持基板を準備し、該
支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望
のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変換
フィルタ層を形成し、該色変換フィルタ層を被覆し、透
明であり、かつ平坦に形成される高分子膜層を形成し、
該無機膜層は、少なくとも2つの層の積層体から構成さ
れ、および450nm以上500nm以下の範囲内にあ
る波長λに関して、該透明電極層に隣接する無機膜層の
屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、および
該透明電極層から数えて2p−1番目および2p番目の
無機膜層を構成する層(pは自然数である)が、 n2p-1 < n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/4;および n2p2p=s2pλ/2 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たす膜厚dを
有する無機膜層を形成し、該無機膜層上の1または複数
の電気的に独立した領域に形成され、および該無機膜層
の屈折率よりも大きい屈折率を有する透明電極層を形成
し、少なくとも発光材料を含有する有機発光層を形成
し、および第2電極層を形成したことを少なくとも備え
たことを特徴とする。
In a method of manufacturing a color conversion color display according to a sixteenth aspect of the present invention, a transparent support substrate is prepared, and a resin film containing a fluorescent dye disposed on the support substrate is formed in a desired pattern. Forming a single or plural types of color conversion filter layers, covering the color conversion filter layer, forming a transparent and flat polymer film layer,
The inorganic film layer is composed of a laminate of at least two layers, and for a wavelength λ in a range of 450 nm or more and 500 nm or less, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index, and the layers constituting the 2p-1 th and 2p-th inorganic film layer counted from the transparent electrode layer (p is a natural number), n 2p-1 <n 2p ; n 2p- 1 d 2p-1 = s 2p -1 λ / 4; during and n 2p d 2p = s 2p λ / 2 ( wherein, n u is the refractive index of the u-th layer, d u is the thickness of the u-th layer , S u is a natural number) forming an inorganic film layer having a film thickness d satisfying the following relationship: formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer; Forming a transparent electrode layer having a refractive index larger than the refractive index, forming an organic light emitting layer containing at least a light emitting material And characterized by comprising at least to the formation of the second electrode layer.

【0034】本発明第17の態様である色変換カラーデ
ィスプレイの製造方法は、透明な支持基板を準備し、該
支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所望
のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変換
フィルタ層を形成し、該色変換フィルタ層を被覆し、透
明であり、かつ平坦に形成される高分子膜層を形成し、
連続的に組成を変化させた無機膜層を形成し、および該
無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に形
成され、および該無機膜層の屈折率よりも大きい屈折率
を有する透明電極層を形成し、少なくとも発光材料を含
有する有機発光層を形成し、および第2電極層を形成し
たことを少なくとも備えたことを特徴とする。
In a method of manufacturing a color conversion color display according to a seventeenth aspect of the present invention, a transparent support substrate is prepared, and a resin film containing a fluorescent dye disposed on the support substrate is formed in a desired pattern. Forming a single or plural types of color conversion filter layers, covering the color conversion filter layer, forming a transparent and flat polymer film layer,
Forming an inorganic film layer having a continuously changed composition, and being formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer, and having a refractive index larger than the refractive index of the inorganic film layer. A transparent electrode layer having at least a light-emitting material, an organic light-emitting layer containing at least a light-emitting material, and a second electrode layer.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】A.色変換フィルタ基板 本発明の色変換フィルタ基板の一例を、図1に示す。図
1において、支持基板1上に、赤色変換フィルタ層2、
緑色変換フィルタ層3、青色変換フィルタ層4がそれぞ
れ所定のパターンを有して形成されている。後述のよう
に、緑色変換フィルタ層3は緑色フィルタ層であっても
よい。また、青色変換フィルタ層4は、好ましくは青色
フィルタ層である。これらの変換フィルタ層を覆って、
高分子膜層5が形成され、さらにその上に無機膜層6が
形成されており、その上平面は平坦である。無機膜層6
の上に、1つ又は複数の電気的に独立した透明電極層7
が設けられている。以下、各層について詳細に述べる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 1. Color Conversion Filter Substrate An example of the color conversion filter substrate of the present invention is shown in FIG. In FIG. 1, a red conversion filter layer 2 is provided on a support substrate 1.
The green color conversion filter layer 3 and the blue color conversion filter layer 4 are each formed with a predetermined pattern. As described later, the green color conversion filter layer 3 may be a green color filter layer. Further, the blue conversion filter layer 4 is preferably a blue filter layer. Over these conversion filter layers,
A polymer film layer 5 is formed, and an inorganic film layer 6 is further formed thereon, and the upper surface thereof is flat. Inorganic film layer 6
Over one or more electrically independent transparent electrode layers 7
Is provided. Hereinafter, each layer will be described in detail.

【0036】1.色変換フィルタ層 1)有機蛍光色素 本発明において、有機蛍光色素は、発光体から発せられ
る近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑
色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として
発光するものである。好ましくは、少なくとも赤色領域
の蛍光を発する蛍光色素の1種類以上を用い、さらに緑
色領域の蛍光を発する蛍光色素の1種類以上と組み合わ
せてもよい。
1. Color Conversion Filter Layer 1) Organic Fluorescent Dye In the present invention, the organic fluorescent dye absorbs light in the near-ultraviolet region or visible region emitted from the luminous body, particularly light in the blue or blue-green region, and emits visible light of a different wavelength. It emits light as fluorescence. Preferably, at least one kind of fluorescent dye that emits fluorescence in the red region is used, and further, one or more kinds of fluorescent dyes that emit fluorescence in the green region may be combined.

【0037】すなわち、光源として青色ないし青緑色領
域の光を発光する有機発光素子を用いる場合、該素子か
らの光を単なる赤色フィルタに通して赤色領域の光を得
ようとすると、元々赤色領域の波長の光が少ないために
極めて暗い出力光になってしまう。したがって、該素子
からの青色ないし青緑色領域の光を、蛍光色素によって
赤色領域の光に変換することにより、十分な強度を有す
る赤色領域の光の出力が可能となる。
That is, when an organic light emitting device that emits light in the blue or blue-green region is used as a light source, if light from the device is passed through a simple red filter to obtain light in the red region, the light in the red region is originally used. Since the light of the wavelength is small, the output light becomes extremely dark. Therefore, by converting light in the blue or blue-green region from the device into light in the red region by using a fluorescent dye, light in the red region having sufficient intensity can be output.

【0038】一方、緑色領域の光は、赤色領域の光と同
様に、該素子からの光を別の有機蛍光色素によって緑色
領域の光に変換させて出力してもよい。あるいはまた、
該素子の発光が緑色領域の光を十分に含むならば、該素
子からの光を単に緑色フィルタを通して出力してもよ
い。
On the other hand, similarly to the light in the red region, the light in the green region may be converted into light in the green region by another organic fluorescent dye and output. Alternatively,
If the light emission of the device includes sufficient light in the green region, the light from the device may simply be output through a green filter.

【0039】さらに、青色領域の光に関しては、有機発
光素子の光を蛍光色素を用いて変換させて出力させても
よいが、しかしより好ましくは有機発光素子の光を単な
る青色フィルタに通して出力させる。
Further, with respect to the light in the blue region, the light of the organic light emitting device may be converted and output using a fluorescent dye, but more preferably, the light of the organic light emitting device is output through a simple blue filter. Let it.

【0040】発光体から発する青色から青緑色領域の光
を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素として
は、例えばローダミンB、ローダミン6G、ローダミン
3B、ローダミン101、ローダミン110、スルホロ
ーダミン、ベーシックバイオレット11、ベーシックレ
ッド2などのローダミン系色素、シアニン系色素、1−
エチル−2−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−
1,3−ブタジエニル〕−ピリジニウム パークロレー
ト(ピリジン1)などのピリジン系色素、あるいはオキ
サジン系色素などが挙げられる。さらに、各種染料(直
接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など)も蛍光
性があれば使用することができる。
Examples of the fluorescent dye that absorbs light in the blue to blue-green region emitted from the luminous body and emits fluorescence in the red region include, for example, rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101, rhodamine 110, sulforhodamine, and basic. Rhodamine dyes such as violet 11, basic red 2, cyanine dyes, 1-
Ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl)-
Examples thereof include pyridine dyes such as [1,3-butadienyl] -pyridinium perchlorate (pyridine 1), and oxazine dyes. Further, various dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can also be used as long as they have fluorescence.

【0041】発光体から発する青色ないし青緑色領域の
光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素として
は、例えば3−(2’−ベンゾチアゾリル)−7−ジエ
チルアミノクマリン(クマリン6)、3−(2’−ベン
ゾイミダゾリル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリ
ン(クマリン7)、3−(2’−N−メチルベンゾイミ
ダゾリル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリン(ク
マリン30)、2,3,5,6−1H,4H−テトラヒ
ドロ−8−トリフルオロメチルキノリジン(9,9a,
1−gh)クマリン(クマリン153)などのクマリン
系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシック
イエロー51、さらにはソルベントイエロー11、ソル
ベントイエロー116などのナフタルイミド系色素など
が挙げられる。さらに、各種染料(直接染料、酸性染
料、塩基性染料、分散染料など)も蛍光性があれば使用
することができる。
Examples of fluorescent dyes that emit light in the green region by absorbing light in the blue or blue-green region emitted from the illuminant include 3- (2′-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 6), -(2'-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 7), 3- (2'-N-methylbenzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 30), 2,3, 5,6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a,
1-gh) Coumarin-based dyes such as coumarin (coumarin 153), and naphthalimide-based dyes such as Solvent Yellow 11 and Solvent Yellow 116, such as Basic Yellow 51, which is a coumarin dye-based dye. Further, various dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can also be used as long as they have fluorescence.

【0042】なお、本発明に用いる有機蛍光色素を、ポ
リメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スル
ホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグ
アナミン樹脂及びこれらの樹脂混合物などに予め練り込
んで顔料化して、有機蛍光顔料としてもよい。また、こ
れらの有機蛍光色素や有機蛍光顔料(本明細書中で、前
記2つを合わせて有機蛍光色素と総称する)は単独で用
いてもよく、蛍光の色相を調整するために2種以上を組
み合わせて用いてもよい。
The organic fluorescent dyes used in the present invention include polymethacrylic acid ester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin and An organic fluorescent pigment may be prepared by kneading the resin mixture or the like in advance and forming a pigment. In addition, these organic fluorescent dyes and organic fluorescent pigments (the two are collectively referred to as an organic fluorescent dye in the present specification) may be used alone, and two or more kinds thereof may be used to adjust the hue of fluorescence. May be used in combination.

【0043】本発明に用いる有機蛍光色素は、色変換フ
ィルタ層に対して、該色変換フィルタ層の重量を基準と
して0.01〜5重量%、より好ましくは0.1〜2重
量%含有される。もし有機蛍光色素の含有量が0.01
重量%未満ならば、十分な波長変換を行うことができ
ず、あるいは含有量が5%を越えるならば、濃度消光等
の効果により色変換効率の低下をもたらす。
The organic fluorescent dye used in the present invention is contained in the color conversion filter layer in an amount of 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 2% by weight, based on the weight of the color conversion filter layer. You. If the content of the organic fluorescent dye is 0.01
When the content is less than 5% by weight, sufficient wavelength conversion cannot be performed, or when the content exceeds 5%, the color conversion efficiency is lowered due to the effect of concentration quenching and the like.

【0044】2)マトリクス樹脂 次に、本発明の色変換フィルタ層に用いられるマトリク
ス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂(レジ
スト)を、光および/または熱処理して、ラジカル種ま
たはイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不
融化させたものである。また、色変換フィルタ層のパタ
ーニングを行うために、該光硬化性または光熱併用型硬
化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒またはアル
カリ溶液に可溶性であることが望ましい。
2) Matrix Resin Next, the matrix resin used in the color conversion filter layer of the present invention is obtained by subjecting a photo-curable or photo-curable curable resin (resist) to light and / or heat treatment to obtain radical species or It is insoluble and infusible by generating ionic species to polymerize or crosslink. In order to perform patterning of the color conversion filter layer, it is desirable that the photo-curable or photo-thermo-curable resin is soluble in an organic solvent or an alkaline solution in an unexposed state.

【0045】具体的には、光硬化性または光熱併用型硬
化性樹脂は、(1)アクロイル基やメタクロイル基を複
数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマー
と、光または熱重合開始剤とからなる組成物、(2)ボ
リビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物、
(3)鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからな
る組成物、および(4)エポキシ基を有するモノマーと
酸発生剤とからなる組成物などを含む。特に(1)のア
クリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱
重合開始剤とからなる組成物が、高精細なパターニング
が可能であること、および耐溶剤性、耐熱性等の信頼性
が高いことによって好ましい。前述したように、光硬化
性または光熱併用型硬化性樹脂に光および/または熱を
作用させて、マトリクス樹脂を形成する。
Specifically, the photo-curable or photo-heat-curable resin is composed of (1) a composition comprising an acrylic polyfunctional monomer or oligomer having a plurality of acroyl groups or methacryloyl groups, and a photo- or thermal polymerization initiator. (2) a composition comprising a polyvinylcinnamate and a sensitizer;
(3) a composition comprising a chain or cyclic olefin and a bisazide; and (4) a composition comprising a monomer having an epoxy group and an acid generator. In particular, the composition comprising the acrylic polyfunctional monomer or oligomer of (1) and a photo- or thermal polymerization initiator is capable of high-definition patterning and has high reliability such as solvent resistance and heat resistance. Is preferred. As described above, the matrix resin is formed by applying light and / or heat to the photo-curable or photo-thermo-curable resin.

【0046】本発明で用いることができる光重合開始
剤、増感剤および酸発生剤は、含まれる蛍光変換色素が
吸収しない波長の光によって重合を開始させるものであ
ることが好ましい。本発明の蛍光変換フィルタ層におい
て、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身
が光または熱により重合することが可能である場合に
は、光重合開始剤および熱重合開始剤を添加しないこと
も可能である。
The photopolymerization initiator, sensitizer and acid generator which can be used in the present invention are preferably those which initiate polymerization by light having a wavelength not absorbed by the contained fluorescent conversion dye. In the fluorescence conversion filter layer of the present invention, a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator are added when the resin itself in the photocurable or photothermal curable resin can be polymerized by light or heat. It is also possible not to do it.

【0047】マトリクス樹脂は、光硬化性または光熱併
用型硬化性樹脂および有機蛍光色素を含有する溶液また
は分散液を、支持基板上に塗布して樹脂の層を形成し、
そして所望される部分の光硬化性または光熱併用型硬化
性樹脂を露光することにより重合させて形成される。所
望される部分に露光を行って光硬化性または光熱併用型
硬化性樹脂を不溶化させた後に、パターニングを行う。
該パターニングは、未露光部分の樹脂を溶解または分散
させる有機溶媒またはアルカリ溶液を用いて除去するな
どの、慣用の方法によって実施することができる。
As the matrix resin, a solution or dispersion containing a photo-curable or photo-heat-curable resin and an organic fluorescent dye is applied on a support substrate to form a resin layer,
Then, a desired portion of the photo-curable or photo-thermo-curable resin is exposed to light and polymerized by exposure. After exposing a desired portion to insolubilize the photo-curable or photo-thermo-curable resin, patterning is performed.
The patterning can be performed by a conventional method such as removal using an organic solvent or an alkaline solution that dissolves or disperses the resin in the unexposed portion.

【0048】2.高分子膜層5 高分子膜層5の材料として好ましいものは、可視域にお
ける透明性が高く(400〜700nmの範囲で透過率
50%以上)、Tgが100℃以上であり、2Hの鉛筆
硬度以上の表面硬度を有し、色変換フィルタ層上に平滑
に塗膜を形成することができ、および色変換フィルタ層
2〜4の機能を低下させない材料である。そのような材
料は、たとえば、イミド変性シリコーン樹脂(特開平5
−134112号公報、特開平7−218717号公
報、特開平7−306311号公報等参照)、アクリ
ル、ポリイミド、シリコーン樹脂等中に無機金属化合物
(TiO、Al23、SiO2等)を分散した材料(特
開平5−119306号公報、特開平7−104114
号公報等参照)を含む。高分子膜層5において用いるこ
とができる紫外線硬化型樹脂としては、エポキシ変性ア
クリレート樹脂(特開平7−48424号公報参照)、
アクリレートモノマー/オリゴマー/ポリマーの反応性
ビニル基を有する樹脂、レジスト樹脂(特開平6−30
0910号公報、特開平7−128519号公報、特開
平8−273394号公報、特開平9−330793号
公報等参照)、フッ素樹脂(特開平5−36475号公
報、特開平9−330793号公報)等の光硬化型樹脂
および/または熱硬化型樹脂を挙げることができる。あ
るいはまた、ゾル−ゲル法により形成される無機化合物
(月刊ディスプレイ1997年、3巻、7号に記載、特
開平8−27934号公報等)を用いることもできる。
2. Polymer Film Layer 5 Preferred materials for the polymer film layer 5 have high transparency in the visible region (transmittance of 50% or more in a range of 400 to 700 nm), Tg of 100 ° C. or more, and a pencil hardness of 2H. It is a material having the above surface hardness, capable of forming a coating film smoothly on the color conversion filter layer, and not deteriorating the functions of the color conversion filter layers 2 to 4. Such a material is, for example, an imide-modified silicone resin (Japanese Unexamined Patent Publication No.
-134112 and JP reference Hei 7-218717 and JP Laid-Open No. 7-306311, etc.), dispersing acrylic, polyimide, an inorganic metal compound in a silicone resin or the like (TiO, Al 2 O 3, SiO 2 , etc.) Materials (JP-A-5-119306, JP-A-7-104114)
Reference). Examples of the ultraviolet curable resin that can be used in the polymer film layer 5 include an epoxy-modified acrylate resin (see JP-A-7-48424).
Resins having acrylate monomer / oligomer / polymer reactive vinyl groups, resist resins (JP-A-6-30)
0910, JP-A-7-128519, JP-A-8-273394, JP-A-9-330793, etc.), fluororesin (JP-A-5-36475, JP-A-9-330793) And / or a thermosetting resin. Alternatively, an inorganic compound formed by a sol-gel method (described in Monthly Display 1997, Vol. 3, No. 7, JP-A-8-27934, etc.) can also be used.

【0049】高分子膜層5の形成法には、特に制約はな
く、たとえば、乾式法(スパッタ法、蒸着法、CVD法
等)、あるいは湿式法(スピンコート法、ロールコート
法、キャスト法)等の慣用の手段により形成することが
できる。
The method for forming the polymer film layer 5 is not particularly limited. For example, a dry method (sputtering method, vapor deposition method, CVD method, etc.) or a wet method (spin coating method, roll coating method, casting method) It can be formed by conventional means such as.

【0050】3.無機膜層6 また、無機膜層6として、電気絶縁性を有し、ガスおよ
び有機溶剤に対するバリア性を有し、可視域における透
明性が高く(400〜700nmの範囲で透過率50%
以上)、無機膜層6上への透明電極層7の成膜に耐えう
る硬度(好ましくは2H以上の鉛筆硬度)を有する材料
を用いることが望ましい。たとえば、SiOx、Al
x、TiOx、TaOx、等の無機酸化物、SiNx、S
iC:N等の無機窒化物、あるいはSiNxy、ダイア
モンドライクカーボン(DLC)等の無機物等を使用す
ることができる。無機膜層6の形成方法としては、特に
制約はなく、スパッタ法、CVD法、真空蒸着法、ディ
ップ法等の慣用の手法により形成することができる。
3. Inorganic film layer 6 The inorganic film layer 6 has electric insulation, barrier properties against gas and organic solvent, and high transparency in the visible region (transmittance 50% in the range of 400 to 700 nm).
As described above, it is desirable to use a material having a hardness (preferably a pencil hardness of 2H or more) that can withstand the formation of the transparent electrode layer 7 on the inorganic film layer 6. For example, SiO x , Al
Inorganic oxides such as O x , TiO x , TaO x , SiN x , S
An inorganic nitride such as iC: N or an inorganic material such as SiN x O y or diamond-like carbon (DLC) can be used. The method for forming the inorganic film layer 6 is not particularly limited, and can be formed by a conventional method such as a sputtering method, a CVD method, a vacuum evaporation method, and a dipping method.

【0051】上記無機膜層6は、単一層であってもよ
く、あるいは複数の層が積層されたものであってもよ
い。
The inorganic film layer 6 may be a single layer or a laminate of a plurality of layers.

【0052】該無機膜層6を、色変換方式有機発光ディ
スプレイに適用する際には、考慮しなければならない重
要な要素がある。すなわち、該無機膜層の屈折率および
膜厚が表示性能に与える影響への配慮である。
When applying the inorganic film layer 6 to a color conversion type organic light emitting display, there are important factors to be considered. That is, consideration is given to the influence of the refractive index and the thickness of the inorganic film layer on the display performance.

【0053】一般に、均質な材料を想定した場合に、目
的波長をλとし、p番目の材料の屈折率および膜厚をそ
れぞれnp、dpとし、(p−1)番目の層とp番目の層
との間の振幅反射率およびエネルギー反射率をそれぞれ
ρp,p-1、Rp,p-1と表記すると、光が膜に対して垂直に
入射する場合の透過率tnは、次式で示される。なお、
式中γpは、p番目の膜を透過する光の位相であり、お
よびγp p-1は、p−1番目の層における位相を考慮し
たp番目の膜を透過する光の位相である。
In general, assuming a homogeneous material, the target wavelength is λ, the refractive index and film thickness of the p-th material are n p and d p , respectively, and the (p−1) -th layer and the p-th When the amplitude reflectivity and the energy reflectivity with respect to the layer are denoted by ρ p, p-1 and R p, p-1 , respectively, the transmittance t n when light is incident perpendicularly to the film is: It is shown by the following equation. In addition,
Where γ p is the phase of light transmitted through the p-th film, and γ p , p−1 is the phase of light transmitted through the p-th film taking into account the phase in the p−1 layer. is there.

【0054】[0054]

【数1】 (Equation 1)

【0055】ここで無機膜層6が単一層である場合に
は、有機EL発光素子の発する450〜500nmの範
囲内にある目的波長λの光に対して、透明電極層7に接
する無機膜層6の屈折率が透明電極層7の屈折率よりも
小さく、かつ無機膜層6の膜厚がnd=sλ/2(n:
屈折率、d:膜厚、s:自然数)を満たすことにより、
目的波長λの光の透過率を大きくし、および干渉ピーク
の半値幅を大きくすることができる。無機膜層6の屈折
率は、透明電極層7よりも小さく、かつ高分子膜層5よ
りも大きいことが望ましい。
Here, when the inorganic film layer 6 is a single layer, the inorganic film layer which is in contact with the transparent electrode layer 7 with respect to the light having the target wavelength λ within the range of 450 to 500 nm emitted from the organic EL light emitting element. 6 is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer 7, and the thickness of the inorganic film layer 6 is nd = sλ / 2 (n:
Refractive index, d: film thickness, s: natural number),
It is possible to increase the transmittance of light having the target wavelength λ and increase the half width of the interference peak. It is desirable that the refractive index of the inorganic film layer 6 is smaller than that of the transparent electrode layer 7 and larger than that of the polymer film layer 5.

【0056】一般に、透明電極層7の材料として、IT
O(インジウム−スズ酸化物)あるいはIn23−Zn
O系材料が用いられる。それらの材料の波長450〜5
00nmの光に対する屈折率は、それぞれ約2.0およ
び2.1程度である。無機膜層6の屈折率は、1.6〜
1.8程度の値であることが望ましい。そのような屈折
率を実現するために、SiOx、SiOxy、あるいは
Alxy等の材料が選択される。
Generally, the material of the transparent electrode layer 7 is IT
O (indium-tin oxide) or In 2 O 3 —Zn
An O-based material is used. Wavelength of these materials 450-5
The refractive index for light of 00 nm is about 2.0 and 2.1, respectively. The refractive index of the inorganic film layer 6 is 1.6 to
It is desirable that the value be about 1.8. In order to realize such a refractive index, a material such as SiO x , SiO x N y , or Al x O y is selected.

【0057】また、無機膜層6として、少なくとも2つ
の層の積層体を用いることができる。この場合には透明
電極層7に接する構成層の屈折率を透明電極層7のそれ
よりも小さくすること、および屈折率の大きい材料と小
さい材料とを交互に積層することにより、特定の波長の
光の透過率を増大させ、かつ干渉ピークの半値幅を大き
くすることができる。少なくとも2つの層の積層体を用
いる場合、透明電極層7側から奇数番目の層が屈折率の
大きな材料から構成され、および透明電極層7側から偶
数番目の層が屈折率の小さい材料から構成されてもよ
い。あるいはまた、透明電極層7側から奇数番目の層が
屈折率の小さい材料から構成され、および透明電極層7
側から偶数番目の層が屈折率の大きい材料から構成され
てもよい。上記のいずれの場合においても、有機EL発
光素子の発する450〜500nmの範囲内にある波長
λの光に関して、屈折率の大きい材料の膜厚は、nd=
sλ/2(n:屈折率、d:膜厚、s:自然数)を満た
し、屈折率の小さい材料の膜厚はnd=sλ/4(n:
屈折率、d:膜厚、s:自然数)を満たすことが望まし
い。例えば、2種の材料を用いる2層の無機膜層6を用
いる場合には、SiO xおよびSiNx、あるいはDLC
およびAlxy等を用いることができる。また、3種の
材料を用いる3層の無機膜層6を用いる場合には、Si
x、SiOx y、およびSiNx等を用いることができ
る。特に、無機膜層6の構成層の屈折率を、透明電極層
7側から高分子膜層5側に向かって順次的に小さくする
構成が好ましい。
In addition, at least two inorganic film layers 6
Can be used. Transparent in this case
The refractive index of the constituent layer in contact with the electrode layer 7 is set to that of the transparent electrode layer 7.
Smaller and higher refractive index materials
By alternately laminating the material with
Increases light transmittance and increases half width of interference peak
Can be done. Use a laminate of at least two layers
In this case, the odd-numbered layers from the transparent electrode layer 7 side
It is composed of a large material, and is evenly arranged from the transparent electrode layer 7 side.
The number-th layer may be made of a material having a low refractive index.
No. Alternatively, the odd-numbered layers from the transparent electrode layer 7 side
A transparent electrode layer made of a material having a small refractive index;
The even-numbered layers from the side are made of a material with a high refractive index
You may. In any of the above cases, the organic EL
Wavelength in the range of 450 to 500 nm emitted by the optical element
For light of λ, the film thickness of a material having a large refractive index is nd =
Satisfies sλ / 2 (n: refractive index, d: film thickness, s: natural number)
The thickness of the material having a small refractive index is nd = sλ / 4 (n:
Refractive index, d: film thickness, s: natural number)
No. For example, two inorganic film layers 6 using two kinds of materials are used.
If present, SiO xAnd SiNxOr DLC
And AlxOyEtc. can be used. In addition, three kinds
When three inorganic film layers 6 using materials are used, Si is used.
Ox, SiOxN yAnd SiNxEtc. can be used
You. In particular, the refractive index of the constituent layers of the inorganic film layer 6 is determined by changing the refractive index of the transparent electrode layer.
From 7 side to polymer film layer 5 side
A configuration is preferred.

【0058】また、無機膜層6の屈折率を、透明電極層
7側から高分子膜層5側に向かって連続的に減少させる
方法によっても、特定の波長の光の透過率を増大させ、
および干渉ピークの半値幅を大きくすることが可能であ
る。例えば、SiNxのx(Siに対するNの比)を連
続的に減少させることによって、無機膜層6の屈折率を
連続的に減少させ、上記効果を発現させることができ
る。
Also, the transmittance of light of a specific wavelength can be increased by a method of continuously decreasing the refractive index of the inorganic film layer 6 from the transparent electrode layer 7 side to the polymer film layer 5 side.
In addition, it is possible to increase the half width of the interference peak. For example, by continuously decreasing x (the ratio of N to Si) of SiN x , the refractive index of the inorganic film layer 6 can be continuously reduced, and the above effect can be exhibited.

【0059】4.透明電極層7 透明電極層7の材料は、有機EL発光素子が発する励起
光(すなわち、近紫外〜可視域の光、好ましくは青色〜
青緑色の光)を効率よく透過させる必要がある。そのよ
うな材料として、前述のようにITO(インジウム−ス
ズ酸化物)あるいはIn23−ZnO系材料を用いるこ
とができる。また、有機EL発光素子の発する450〜
500nmの範囲内にある波長λの光に関して、透明電
極層の膜厚は、式nd=sλ/2(n:屈折率、d:膜
厚、s:自然数)を満たすことが望ましい。
4. Transparent Electrode Layer 7 The material of the transparent electrode layer 7 is the excitation light emitted from the organic EL light emitting element (that is, light in the near ultraviolet to visible range, preferably blue to blue).
Blue-green light) must be transmitted efficiently. As such a material, ITO (indium-tin oxide) or In 2 O 3 —ZnO-based material can be used as described above. In addition, 450 to 450 emitted from the organic EL light-emitting element.
For light having a wavelength λ in the range of 500 nm, the thickness of the transparent electrode layer desirably satisfies the formula nd = sλ / 2 (n: refractive index, d: film thickness, s: natural number).

【0060】前述の無機膜層6の膜厚に関する条件と、
透明電極層7の膜厚に関する条件とを満たすことによっ
て、本発明の無機膜層6および透明電極層7は、有機E
L発光素子の発する励起光を効率よく透過させることが
可能となる。
The conditions regarding the thickness of the inorganic film layer 6 described above,
By satisfying the condition regarding the thickness of the transparent electrode layer 7, the inorganic film layer 6 and the transparent electrode layer 7 of the present invention can
The excitation light emitted from the L light emitting element can be transmitted efficiently.

【0061】なお、透明電極層7の形状は、その上に形
成される有機EL素子の設計に依存するため、有機EL
素子の項にて後述する。
Since the shape of the transparent electrode layer 7 depends on the design of the organic EL element formed thereon,
It will be described later in the section of the element.

【0062】5.支持基板1 本発明の色変換フィルタ基板に用いられる支持基板1
は、前述の色変換フィルタ層2〜4を出射する光に対し
て透明であることが必要である。また、支持基板1は、
色変換フィルタ層2〜4および高分子膜層5の形成に用
いられる条件(溶媒、温度等)に耐えるものであるべき
であり、さらに寸法安定性に優れていることが好まし
い。
[0062] 5. Support substrate 1 Support substrate 1 used for the color conversion filter substrate of the present invention
Needs to be transparent to the light emitted from the color conversion filter layers 2 to 4 described above. In addition, the support substrate 1
It should withstand the conditions (solvent, temperature, etc.) used for forming the color conversion filter layers 2 to 4 and the polymer film layer 5, and preferably have excellent dimensional stability.

【0063】支持基板1の材料として好ましいものは、
ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタ
クリレート等の樹脂を含む。フュージョンガラスが特に
好ましいものである。
Preferred materials for the support substrate 1 are as follows:
It includes resins such as glass, polyethylene terephthalate, and polymethyl methacrylate. Fusion glass is particularly preferred.

【0064】6.色変換フィルタ基板 前述の支持基板1上に、1種または複数種の色変換フィ
ルタ層を所望されるパターンに形成することにより、本
発明の色変換フィルタ基板を作成する。色変換フィルタ
層は、前述の蛍光変換色素およびレジストを含む組成物
を支持基板1上に塗布し、所望されるパターンを形成す
るためのマスクを通して露光され、パターニングされ
て、所望のパターンを有して作成される。色変換フィル
タ層は、5μm以上、好ましくは8〜15μmの厚さを
有する。
6. Color Conversion Filter Substrate The color conversion filter substrate of the present invention is formed by forming one or more types of color conversion filter layers in a desired pattern on the support substrate 1 described above. The color conversion filter layer is formed by applying the composition including the above-described fluorescence conversion dye and resist onto the support substrate 1, exposing through a mask for forming a desired pattern, and patterning to have a desired pattern. Created. The color conversion filter layer has a thickness of 5 μm or more, preferably 8 to 15 μm.

【0065】カラーディスプレイを作成する際には、
赤、緑および青の3種の色変換フィルタ層を形成するこ
とが好ましい。発光体として青色または青緑色を発光す
るものを用いる場合には、前述のように、赤および緑の
色変換フィルタ層と青のフィルタ層とを、あるいは赤の
色変換フィルタ層と緑および青のフィルタ層とを形成す
ることも可能である。
When creating a color display,
It is preferable to form three types of color conversion filter layers of red, green and blue. In the case of using a light-emitting body that emits blue or blue-green light, as described above, the red and green color conversion filter layers and the blue filter layer, or the red color conversion filter layer and the green and blue It is also possible to form a filter layer.

【0066】色変換フィルタ層およびフィルタ層の所望
されるパターンは、使用される用途に依存する。赤、緑
および青の矩形または円形の区域を1組として、それを
支持基板全面に作成してもよい。あるいはまた、赤、緑
および青の平行するストライプ(所望される幅を有し、
支持基板1の長さに相当する長さを有する区域)を1組
とし、それを支持基板全面に作成してもよい。特定の色
変換フィルタ層を、他の色の色変換フィルタ層よりも多
く(数的および面積的に)配置することもできる。
The desired pattern of the color conversion filter layer and the filter layer depends on the application used. A set of red, green, and blue rectangular or circular areas may be formed on the entire support substrate. Alternatively, parallel red, green and blue stripes (having the desired width,
An area having a length corresponding to the length of the support substrate 1) may be set as one set and formed on the entire surface of the support substrate. It is also possible to arrange more (numerically and in terms of area) the specific color conversion filter layers than the color conversion filter layers of other colors.

【0067】B.色変換方式有機ELカラーディスプレ
イ 本発明の色変換方式カラーディスプレイは、前述の色変
換フィルタ基板と、該フィルタ基板の透明電極層6上に
設けられた有機EL発光素子とを備える。すなわち、該
発光素子から発せられる近紫外から可視領域の光、好ま
しくは青色から青緑色領域の光を、色変換フィルタ層に
入射し、該色変換フィルタ層から異なる波長の可視光を
出射するようにしたものである。
B. Color conversion type organic EL color display The color conversion type color display of the present invention includes the above-mentioned color conversion filter substrate and the organic EL light emitting element provided on the transparent electrode layer 6 of the filter substrate. That is, light in the near-ultraviolet to visible region, preferably light in the blue to blue-green region, emitted from the light-emitting element enters the color conversion filter layer, and emits visible light of a different wavelength from the color conversion filter layer. It was made.

【0068】有機EL発光素子は、透明電極層7と第2
電極層との間に少なくとも有機発光層を扶持し、必要に
応じ、正孔注入層や電子注入層を介在させた構造を有し
ている。具体的には、下記のような層構成からなるもの
が採用される。
The organic EL device comprises a transparent electrode layer 7 and a second
It has a structure in which at least an organic light emitting layer is supported between an electrode layer and a hole injection layer or an electron injection layer as necessary. Specifically, a layer having the following layer configuration is employed.

【0069】(1)陽極/有機発光層/陰極 (2)陽極/正孔注入層/有機発光層/陰極 (3)陽極/有機発光層/電子注入層/陰極 (4)陽極/正孔注入層/有機発光層/電子注入層/陰
極 (5)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電
子注入層/陰極 上記の層構成において、陽極および陰極の少なくとも一
方は、前述の色変換フィルタ基板上の透明電極層7を用
いる。本発明において、好ましくは、透明電極層7を陽
極として用いる。
(1) anode / organic light emitting layer / cathode (2) anode / hole injection layer / organic light emitting layer / cathode (3) anode / organic light emitting layer / electron injection layer / cathode (4) anode / hole injection Layer / organic light emitting layer / electron injection layer / cathode (5) anode / hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer / cathode In the above layer structure, at least one of the anode and the cathode is as described above. The transparent electrode layer 7 on the color conversion filter substrate is used. In the present invention, preferably, the transparent electrode layer 7 is used as an anode.

【0070】図2に、本発明の有機ELカラーディスプ
レイの一例を示す。図2においては、色変換方式のマル
チカラーまたはフルカラーディスプレイとして使用する
ための、複数の画素を有する有機発光素子の1つの画素
に相当する部分を示している。図1に示した色変換フィ
ルタ基板の透明電極層7上の、各色変換フィルタ層2、
3および4に対応する位置に、正孔注入層8、正孔輸送
層9、有機発光層10、電子注入層11、および陰極
(第2電極層)12が順次積層されている。
FIG. 2 shows an example of the organic EL color display of the present invention. FIG. 2 shows a portion corresponding to one pixel of an organic light-emitting element having a plurality of pixels for use as a multi-color or full-color display of a color conversion system. Each color conversion filter layer 2 on the transparent electrode layer 7 of the color conversion filter substrate shown in FIG.
At positions corresponding to 3 and 4, a hole injection layer 8, a hole transport layer 9, an organic light emitting layer 10, an electron injection layer 11, and a cathode (second electrode layer) 12 are sequentially stacked.

【0071】上記各層の材料としては、公知のものが使
用される。青色から青緑色の発光を得るためには、有機
発光層10として、例えばベンゾチアゾール系、ベンゾ
イミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白
剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベン
ゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好
ましく使用される。
Known materials are used as the materials for the respective layers. In order to obtain blue to blue-green light emission, the organic light emitting layer 10 includes, for example, a benzothiazole-based, benzimidazole-based, benzoxazole-based fluorescent whitening agent, a metal chelated oxonium compound, a styrylbenzene-based compound, Aromatic dimethylidin compounds are preferably used.

【0072】陰極12は金属電極から形成される。陽極
7および陰極12のパターンはそれそれ平行なストライ
プ状をなし、互いに交差するように形成されてもよい。
その場合には、本発明の有機発光素子はマトリクス駆動
を行うことができ、すなわち、陽極7の特定のストライ
プと、陰極12の特定のストライプに電圧が印加された
時に、有機発光層10において、それらのストライプが
交差する部分が発光する。したがって、陽極7および陰
極12の選択されたストライプに電圧を印加することに
よって、特定の蛍光色変換フィルタ層および/または単
純なフィルタ層が位置する部分のみを発光させることが
できる。
The cathode 12 is formed from a metal electrode. The patterns of the anode 7 and the cathode 12 may be formed in parallel stripes and cross each other.
In that case, the organic light emitting device of the present invention can perform matrix driving, that is, when a voltage is applied to a specific stripe of the anode 7 and a specific stripe of the cathode 12, the organic light emitting element 10 A portion where these stripes intersect emits light. Therefore, by applying a voltage to selected stripes of the anode 7 and the cathode 12, only a portion where a specific fluorescent color conversion filter layer and / or a simple filter layer is located can emit light.

【0073】また、陽極7をストライプパターンを持た
ない一様な平面電極とし、および陰極12を各画素に対
応するようパターニングしてもよい。その場合には、各
画素に対応するスイッチング素子を設けて、いわゆるア
クティブマトリクス駆動を行うことが可能になる。
The anode 7 may be a uniform flat electrode having no stripe pattern, and the cathode 12 may be patterned so as to correspond to each pixel. In that case, a so-called active matrix drive can be performed by providing a switching element corresponding to each pixel.

【0074】[0074]

【実施例】以下に示す実施例において、無機膜層の膜厚
は、走査電子顕微鏡(SEM)を用い、標準試料による
校正を行って測定した。この際の測定誤差は±10nm
であった。無機膜層の屈折率は、分光エリプソメータの
測定値から算出した。屈折率測定の精度を向上させるた
めに、膜厚の異なる複数の試料の測定を行った。この際
の測定誤差は±0.05であった。
EXAMPLES In the following examples, the thickness of the inorganic film layer was measured by using a scanning electron microscope (SEM) and calibrating with a standard sample. The measurement error at this time is ± 10 nm
Met. The refractive index of the inorganic film layer was calculated from a value measured by a spectroscopic ellipsometer. In order to improve the accuracy of the refractive index measurement, a plurality of samples having different film thicknesses were measured. The measurement error at this time was ± 0.05.

【0075】(実施例1)ガラス基板上に、UV硬化型
樹脂(エポキシ変性アクリレート)をスピンコート法に
て塗布し、高圧水銀灯の光を照射し、膜厚8μmの高分
子膜層を形成した。この高分子膜層上に、ホウ素をドー
プしたSiをターゲットとし、20%O2を混合したA
r雰囲気における、基板を加熱しないRFスパッタ法に
より、膜厚約300nmのSiOx膜を形成した。波長
475nmの光に関するこのSiOx膜の屈折率を、エ
リプソメータで測定した結果、屈折率は約1.6であっ
た。この膜は前述のnd=sλ/2(s=2)の関係を
満たす。
Example 1 A UV curable resin (epoxy-modified acrylate) was applied on a glass substrate by spin coating, and irradiated with light from a high-pressure mercury lamp to form a polymer film layer having a thickness of 8 μm. . On this polymer film layer, boron-doped Si is used as a target and 20% O 2 is mixed.
An SiO x film having a thickness of about 300 nm was formed by an RF sputtering method in a r atmosphere without heating the substrate. As a result of measuring the refractive index of this SiO x film with respect to light having a wavelength of 475 nm using an ellipsometer, the refractive index was about 1.6. This film satisfies the aforementioned relationship of nd = sλ / 2 (s = 2).

【0076】このように形成したSiOx膜の上に、I
DIXO(出光興産製)ターゲットを用い、20%O2
を混合したAr雰囲気における雰囲気におけるDCスパ
ッタ法により、膜厚220nmのIn23−ZnO系の
透明電極層を形成した。この透明電極層の波長475n
mの光に対する屈折率は、約2.1であった。この膜
は、前述のnd=sλ/2(s=2)の関係を満たす。
On the SiO x film thus formed, I
20% O 2 using DIXO (made by Idemitsu Kosan) target
A 220 nm-thick In 2 O 3 -ZnO-based transparent electrode layer was formed by a DC sputtering method in an atmosphere of an Ar atmosphere in which was mixed. The wavelength of this transparent electrode layer is 475n.
The refractive index for light of m was about 2.1. This film satisfies the aforementioned relationship of nd = sλ / 2 (s = 2).

【0077】(実施例2)実施例1と同様に、ガラス基
板上に高分子膜層を形成した。その高分子膜層の上に、
ホウ素をドープしたSiをターゲットとし、30%N2
を混合したAr雰囲気における、基板を加熱しないRF
スパッタ法により、膜厚約120nmのSiNx膜を形
成した。波長475nmの光に関するこのSiNx膜の
屈折率を、エリプソメータで測定した結果、屈折率は約
2.0であった。この膜は前述のnd=sλ/2(s=
1)の関係を満たす。
(Example 2) As in Example 1, a polymer film layer was formed on a glass substrate. On the polymer film layer,
30% N 2 with boron-doped Si as target
Not heating substrate in Ar atmosphere mixed with
A SiN x film having a thickness of about 120 nm was formed by a sputtering method. As a result of measuring the refractive index of this SiN x film with respect to light having a wavelength of 475 nm by an ellipsometer, the refractive index was about 2.0. This film has the aforementioned nd = sλ / 2 (s =
Satisfies the relationship of 1).

【0078】このように形成したSiNx膜の上に、ホ
ウ素をドープしたSiをターゲットとし、20%O2
混合したAr雰囲気における、基板を加熱しないRFス
パッタ法により、膜厚約75nmのSiOx膜を形成し
た。波長475nmの光に関するこのSiOx膜の屈折
率を、エリプソメータで測定した結果、屈折率は約1.
6であった。この膜は前述のnd=sλ/4(s=1)
の関係を満たす。
On the thus-formed SiN x film, a SiO 2 film having a thickness of about 75 nm was formed by RF sputtering using a boron-doped Si target as a target in an Ar atmosphere containing 20% O 2 without heating the substrate. An x film was formed. As a result of measuring the refractive index of this SiO x film with respect to light having a wavelength of 475 nm using an ellipsometer, the refractive index was about 1.
It was 6. This film has the above-mentioned nd = sλ / 4 (s = 1)
Satisfy the relationship.

【0079】最後に、このように形成したSiOx膜の
上に、IDIXO(出光興産製)ターゲットを用い、2
0%O2を混合したAr雰囲気における雰囲気における
DCスパッタ法により、膜厚220nmのIn23−Z
nO系の透明電極層を形成した。この透明電極層の波長
475nmの光に対する屈折率は、約2.1であった。
この膜は、前述のnd=sλ/2(s=2)の関係を満
たす。
Finally, an IDIXO (manufactured by Idemitsu Kosan) target was used on the SiO x film thus formed,
By a DC sputtering method in an Ar atmosphere containing 0% O 2 , a 220 nm-thick In 2 O 3 —Z
An nO-based transparent electrode layer was formed. The refractive index of this transparent electrode layer with respect to light having a wavelength of 475 nm was about 2.1.
This film satisfies the aforementioned relationship of nd = sλ / 2 (s = 2).

【0080】(実施例3)実施例1と同様に、ガラス基
板上に高分子膜層を形成した。この高分子膜層上に、ホ
ウ素をドープしたSiをターゲットとし、20%O2
混合したAr雰囲気における、基板を加熱しないRFス
パッタ法により、膜厚約75nmのSiO x膜を形成し
た。波長475nmの光に関するこのSiOx膜の屈折
率を、エリプソメータで測定した結果、屈折率は約1.
6であった。この膜は前述のnd=sλ/4(s=1)
の関係を満たす。
Example 3 As in Example 1, a glass substrate was used.
A polymer film layer was formed on the plate. On this polymer film layer,
U-doped Si, 20% OTwoTo
RF switches that do not heat the substrate in a mixed Ar atmosphere
By the putter method, a SiO film having a thickness of about 75 nm xTo form a film
Was. This SiO for light of wavelength 475 nmxFilm refraction
The refractive index was measured with an ellipsometer, and as a result, the refractive index was about 1.
It was 6. This film has the above-mentioned nd = sλ / 4 (s = 1)
Satisfy the relationship.

【0081】そのSiOx膜の上に、ホウ素をドープし
たSiをターゲットとし、30%N2を混合したAr雰
囲気における、基板を加熱しないRFスパッタ法によ
り、膜厚約120nmのSiNx膜を形成した。波長4
75nmの光に関するこのSiNx膜の屈折率を、エリ
プソメータで測定した結果、屈折率は約2.0であっ
た。この膜は前述のnd=sλ/2(s=1)の関係を
満たす。
An SiN x film having a thickness of about 120 nm is formed on the SiO x film by RF sputtering without heating the substrate in an Ar atmosphere mixed with 30% N 2 using boron-doped Si as a target. did. Wavelength 4
As a result of measuring the refractive index of this SiN x film with respect to light of 75 nm by an ellipsometer, the refractive index was about 2.0. This film satisfies the aforementioned relationship of nd = sλ / 2 (s = 1).

【0082】さらに、このように形成したSiNx膜の
上に、ホウ素をドープしたSiをターゲットとし、20
%O2を混合したAr雰囲気における、基板を加熱しな
いRFスパッタ法により、膜厚約75nmのSiOx
を形成した。波長475nmの光に関するこのSiOx
膜の屈折率を、エリプソメータで測定した結果、屈折率
は約1.6であった。この膜は前述のnd=sλ/4
(s=1)の関係を満たす。
Further, on the SiN x film thus formed, boron-doped Si was
A SiO x film having a thickness of about 75 nm was formed by an RF sputtering method in which the substrate was not heated in an Ar atmosphere mixed with% O 2 . This SiO x for light with a wavelength of 475 nm
As a result of measuring the refractive index of the film with an ellipsometer, the refractive index was about 1.6. This film has the above-mentioned nd = sλ / 4.
(S = 1) is satisfied.

【0083】最後に、このように形成したSiOx膜の
上に、IDIXO(出光興産製)ターゲットを用い、2
0%O2を混合したAr雰囲気における雰囲気における
DCスパッタ法により、膜厚220nmのIn23−Z
nO系の透明電極層を形成した。この透明電極層の波長
475nmの光に対する屈折率は、約2.1であった。
この膜は、前述のnd=sλ/2(s=2)の関係を満
たす。
Finally, an IDIXO (manufactured by Idemitsu Kosan) target was used on the SiO x film thus formed.
By a DC sputtering method in an Ar atmosphere containing 0% O 2 , a 220 nm-thick In 2 O 3 —Z
An nO-based transparent electrode layer was formed. The refractive index of this transparent electrode layer with respect to light having a wavelength of 475 nm was about 2.1.
This film satisfies the aforementioned relationship of nd = sλ / 2 (s = 2).

【0084】(実施例4)実施例1と同様に、ガラス基
板上に高分子膜層を形成した。この高分子膜層の上に、
基板温度180℃においてSiH4およびNH3ガスを用
いるプラズマCVD法により、SiNx膜を形成した。
この成膜の初期においては、SiH4:NH 3の流量比を
15.0として原料ガスを導入し、膜厚約60nmのS
iNx膜を形成した。その後、SiH4:NH3の流量比
を徐々に増大させながら成膜を続け、180nm(合計
240nm)の膜厚のSiNx膜を形成した。最終的な
SiH4:NH3の流量比は、20.0であった。
Example 4 As in Example 1, a glass substrate was used.
A polymer film layer was formed on the plate. On top of this polymer membrane layer,
SiH at a substrate temperature of 180 ° CFourAnd NHThreeUse gas
Plasma SiNxA film was formed.
At the beginning of this film formation, SiHFour: NH ThreeFlow rate ratio
The raw material gas was introduced at 15.0, and S
iNxA film was formed. Then, SiHFour: NHThreeFlow ratio
Film formation is continued while gradually increasing 180 nm (total
240 nm thick SiNxA film was formed. Ultimate
SiHFour: NHThreeWas 20.0.

【0085】このように形成したSiNx膜の上に、I
DIXO(出光興産製)ターゲットを用い、20%O2
を混合したAr雰囲気における雰囲気におけるDCスパ
ッタ法により、膜厚220nmのIn23−ZnO系の
透明電極層を形成した。この透明電極層の波長475n
mの光に対する屈折率は、約2.1であった。この膜
は、前述のnd=sλ/2(s=2)の関係を満たす。
On the SiN x film thus formed, I
20% O 2 using DIXO (made by Idemitsu Kosan) target
A 220 nm-thick In 2 O 3 -ZnO-based transparent electrode layer was formed by a DC sputtering method in an atmosphere of an Ar atmosphere in which was mixed. The wavelength of this transparent electrode layer is 475n.
The refractive index for light of m was about 2.1. This film satisfies the aforementioned relationship of nd = sλ / 2 (s = 2).

【0086】(比較例1)実施例1と同様に、ガラス基
板上に高分子膜層を形成した。この高分子膜層上に、ホ
ウ素をドープしたSiをターゲットとし、20%O2
混合したAr雰囲気における、基板を加熱しないRFス
パッタ法により、膜厚約75nmのSiO x膜を形成し
た。波長475nmの光に関するこのSiOx膜の屈折
率を、エリプソメータで測定した結果、屈折率は約1.
6であった。この膜は、前述のnd=sλ/2(s:自
然数)の関係を満たさず、前述のnd=sλ/4(s=
1)の関係を満たす。
(Comparative Example 1) In the same manner as in Example 1,
A polymer film layer was formed on the plate. On this polymer film layer,
U-doped Si, 20% OTwoTo
RF switches that do not heat the substrate in a mixed Ar atmosphere
By the putter method, a SiO film having a thickness of about 75 nm xTo form a film
Was. This SiO for light of wavelength 475 nmxFilm refraction
The refractive index was measured with an ellipsometer, and as a result, the refractive index was about 1.
It was 6. This film has the above-mentioned nd = sλ / 2 (s: self
Does not satisfy the relationship of nd = sλ / 4 (s =
Satisfies the relationship of 1).

【0087】このように形成したSiOx膜の上に、I
DIXO(出光興産製)ターゲットを用い、20%O2
を混合したAr雰囲気における雰囲気におけるDCスパ
ッタ法により、膜厚220nmのIn23−ZnO系の
透明電極層を形成した。この透明電極層の波長475n
mの光に対する屈折率は、約2.1であった。この膜
は、前述のnd=sλ/2(s=2)の関係を満たす。
On the SiO x film thus formed, I
20% O 2 using DIXO (made by Idemitsu Kosan) target
A 220 nm-thick In 2 O 3 -ZnO-based transparent electrode layer was formed by a DC sputtering method in an atmosphere of an Ar atmosphere in which was mixed. The wavelength of this transparent electrode layer is 475n.
The refractive index for light of m was about 2.1. This film satisfies the aforementioned relationship of nd = sλ / 2 (s = 2).

【0088】[無機膜層の評価]実施例1〜4および比
較例1により作成した試料を、UV−PC2100紫外
−可視光透過率測定器(島津製作所製)を用いて、波長
300〜700nmの範囲内の光の透過率を測定した。
測定結果を図3に示す。
[Evaluation of Inorganic Film Layer] The samples prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were measured at a wavelength of 300 to 700 nm using a UV-PC2100 ultraviolet-visible light transmittance meter (manufactured by Shimadzu Corporation). The light transmittance within the range was measured.
FIG. 3 shows the measurement results.

【0089】比較例1に比較して、本発明の実施例1〜
4の試料は、波長475nmにおける透過率が向上する
か、あるいは、透過曲線ピークの幅が広がっていること
が確認された。波長450nmおよび500nmにおけ
る各実施例の試料の透過率は、それぞれの試料の最大透
過率に対して3%以内の低下に留まっている。以上の結
果から、本発明の無機膜層が、カラー有機ELディスプ
レイを作製するのに有用であることが判明した。
As compared with Comparative Example 1, Examples 1 to 5 of the present invention
It was confirmed that the sample No. 4 had an improved transmittance at a wavelength of 475 nm or a wider transmission curve peak. The transmittances of the samples of the examples at the wavelengths of 450 nm and 500 nm are reduced within 3% of the maximum transmittances of the respective samples. From the above results, it was found that the inorganic film layer of the present invention was useful for producing a color organic EL display.

【0090】実施例1の効果は、無機膜層の屈折率が透
明電極層の屈折率よりも小さく、かつnd=sλ/2
(s=2)の関係を満たしたことによるものである。実
施例2および3の効果は、屈折率の大きい材料と小さい
材料とが交互に積層されて形成された無機膜層が、屈折
率の大きい材料に関してnd=sλ/2(s:自然数)
の関係を満たし、および屈折率の小さい材料に関してn
d=sλ/4(s:自然数)の関係を満たしたことによ
るものである。実施例4の効果は、透明電極と透明電極
に隣接する無機膜層の屈折率を、高分子膜層に向かうに
つれて減少させるように無機膜層の組成を変化させたこ
とによるものである。
The effect of the first embodiment is that the refractive index of the inorganic film layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and nd = sλ / 2.
This is because the relationship of (s = 2) was satisfied. The effects of Examples 2 and 3 are that the inorganic film layer formed by alternately laminating materials having a large refractive index and a material having a small refractive index is nd = sλ / 2 (s: natural number) for a material having a large refractive index.
And for low index materials n
This is because the relationship of d = sλ / 4 (s: natural number) was satisfied. The effect of Example 4 is attributable to changing the composition of the inorganic film layer so that the refractive index of the transparent electrode and the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode decreases toward the polymer film layer.

【0091】(実施例5)以下、本発明の積層型無機膜
層を適用した場合の1つの例を図面を参照しながら説明
する。
(Embodiment 5) One example in which the laminated inorganic film layer of the present invention is applied will be described below with reference to the drawings.

【0092】図1は、色変換フィルタ基板の1例の断面
図である。透明な支持基板1上に、赤色変換フィルタ層
2、緑色変換フィルタ層3、青色変換フィルタ層4がそ
れぞれ所定のパターンを有して形成されている。なお、
本実施例における青色変換フィルタ層4は、色変換機能
を持たない単純な青色フィルタ層である。これらの変換
フィルタ層の上に、高分子膜層5および無機膜層6が形
成され、さらにその上に、1つ又は複数の電気的に独立
した透明電極層7が設けられている。
FIG. 1 is a sectional view of an example of a color conversion filter substrate. A red conversion filter layer 2, a green conversion filter layer 3, and a blue conversion filter layer 4 are formed on a transparent support substrate 1 with a predetermined pattern. In addition,
The blue conversion filter layer 4 in this embodiment is a simple blue filter layer having no color conversion function. A polymer film layer 5 and an inorganic film layer 6 are formed on these conversion filter layers, and one or more electrically independent transparent electrode layers 7 are further provided thereon.

【0093】図2は、色変換方式カラー有機ELディス
プレイの1例の断面図であり、前記色変換フィルタ基板
上に有機EL発光層を含む所要の層を形成したものであ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view of an example of a color conversion type color organic EL display, in which required layers including an organic EL light emitting layer are formed on the color conversion filter substrate.

【0094】[青色フィルタ層4の作成]透明基板1と
してのフュージョンガラス(50×50×1.1mm)
上に、青色フィルタ材料(富士ハントエレクトロニクス
テクノロジー製:カラーモザイクCB−7001)を、
スピンコート法を用いて塗布した。その塗膜を、フォト
リソグラフ法によりパターニングを実施し、線幅0.1
mm、ピッチ(周期)0.33mm、膜厚6μmのスト
ライプパターンを有する青色フィルタ4を得た。
[Preparation of Blue Filter Layer 4] Fusion glass (50 × 50 × 1.1 mm) as transparent substrate 1
On top, a blue filter material (Fuji Hunt Electronics Technology: Color Mosaic CB-7001)
It was applied using a spin coating method. The coating film is patterned by a photolithographic method, and has a line width of 0.1.
Thus, a blue filter 4 having a stripe pattern having a thickness of 6 mm and a pitch (period) of 0.33 mm was obtained.

【0095】[緑色変換フィルタ層3の作成]蛍光色素
としてクマリン6(0.7質量部)を、溶媒のプロピレ
ングリコールモノエチルアセテート(PEGMA)12
0質量部中へ溶解させた。該溶液に対して、光重合性樹
脂の「V259PA/P5」(商品名、新日鐵化成工業
株式会社)100質量部を加えて溶解させて、塗液を得
た。
[Preparation of Green Conversion Filter Layer 3] Coumarin 6 (0.7 parts by mass) was used as a fluorescent dye, and propylene glycol monoethyl acetate (PEGMA) 12 as a solvent was used.
It was dissolved in 0 parts by mass. To this solution, 100 parts by mass of a photopolymerizable resin "V259PA / P5" (trade name, Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was added and dissolved to obtain a coating liquid.

【0096】青色フィルタ層を形成した透明支持基板上
に、上記のように調製した塗液をスピンコート法を用い
て塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実
施し、線幅0.1mm、ピッチ(周期)0.33mm、
膜厚10μmのストライプパターンを有する緑色変換フ
ィルタ3を得た。
On the transparent support substrate on which the blue filter layer has been formed, the coating solution prepared as described above is applied by spin coating, patterned by photolithography, and has a line width of 0.1 mm and a pitch ( Cycle) 0.33 mm,
A green color conversion filter 3 having a 10 μm-thick stripe pattern was obtained.

【0097】[赤色変換フィルタ層2の作成]蛍光色素
として、クマリン6(0.6質量部)、ローダミン6G
(0.3質量部)、ベーシックバイオレット11(0.
3質量部)を、溶媒のプロピレングリコールモノエチル
アセテート(PEGMA)120質量部中へ溶解させ
た。該溶液に対して、光重合性樹脂の「V259PA/
P5」(商品名、新日鐵化成工業株式会社)100質量
部を加えて溶解させて、塗液を得た。
[Preparation of red conversion filter layer 2] Coumarin 6 (0.6 parts by mass), rhodamine 6G
(0.3 parts by mass), Basic Violet 11 (0.
3 parts by mass) were dissolved in 120 parts by mass of propylene glycol monoethyl acetate (PEGMA) as a solvent. For the solution, the photopolymerizable resin “V259PA /
P5 "(trade name, Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was added and dissolved to obtain a coating liquid.

【0098】青色フィルタ層4および緑色変換フィルタ
層3を形成した透明支持基板上に、上記のように調製し
た塗液をスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグ
ラフ法によりパターニングを実施し、線幅0.1mm、
ピッチ(周期)0.33mm、膜厚10μmのストライ
プパターンを有する赤色変換フィルタ2を得た。
On the transparent support substrate on which the blue filter layer 4 and the green conversion filter layer 3 are formed, the coating solution prepared as described above is applied by a spin coating method, and is patterned by a photolithographic method. Width 0.1mm,
A red conversion filter 2 having a stripe pattern with a pitch (period) of 0.33 mm and a film thickness of 10 μm was obtained.

【0099】上記のように形成された赤色変換フィルタ
層2、緑色変換フィルタ層3および青色フィルタ層4の
ライン状パターンは、それぞれの間の間隙幅を0.01
mmとして平行に配置されている。
The linear pattern of the red conversion filter layer 2, the green conversion filter layer 3, and the blue filter layer 4 formed as described above has a gap width of 0.01 between each.
mm.

【0100】[高分子膜層5の作製]前述の蛍光変換フ
ィルタ層2〜4の上に、UV硬化型樹脂(エポキシ変性
アクリレート)をスピンコート法にて塗布し、高圧水銀
灯を照射し、膜厚8μmの高分子膜層5を形成した。こ
の際に、蛍光変換フィルタのパターンには変形が無く、
かつ、高分子膜層上面は平坦であった。
[Preparation of Polymer Film Layer 5] A UV-curable resin (epoxy-modified acrylate) was applied on the above-mentioned fluorescence conversion filter layers 2 to 4 by a spin coating method, and irradiated with a high-pressure mercury lamp. An 8 μm thick polymer film layer 5 was formed. At this time, the pattern of the fluorescence conversion filter has no deformation,
Further, the upper surface of the polymer film layer was flat.

【0101】[無機膜層6の作製]前述の高分子膜層5
の上に、ホウ素をドープしたSiをターゲットとし、成
膜圧力0.45Pa、成膜電力1.5W、および20%
2を混合したAr雰囲気における反応性RFスパッタ
法により、膜厚120nmのSiNx膜を形成した。波
長475nmの光に関するこのSiNx膜の屈折率を、
エリプソメータで測定した結果、屈折率は約2.1であ
った。この膜は前述のnd=sλ/2(s=1)の関係
を満たす。
[Preparation of Inorganic Film Layer 6] The aforementioned polymer film layer 5
A boron-doped Si as a target, a deposition pressure of 0.45 Pa, a deposition power of 1.5 W, and 20%
A 120 nm-thick SiN x film was formed by a reactive RF sputtering method in an Ar atmosphere mixed with N 2 . The refractive index of this SiN x film with respect to light having a wavelength of 475 nm is
As a result of measurement with an ellipsometer, the refractive index was about 2.1. This film satisfies the aforementioned relationship of nd = sλ / 2 (s = 1).

【0102】このSiNx膜の上に、ホウ素をドープし
たSiをターゲットとし、成膜圧力0.45Pa、成膜
電力1.5W、および20%O2を混合したAr雰囲気
における反応性RFスパッタ法により、膜厚75nmの
SiOx膜を形成した。波長475nmの光に関するこ
のSiOx膜の屈折率を、エリプソメータで測定した結
果、屈折率は約1.6であった。この膜は前述のnd=
sλ/4(s=1)の関係を満たす。
On this SiN x film, reactive RF sputtering was performed in an Ar atmosphere in which boron-doped Si was used as a target, a film forming pressure of 0.45 Pa, a film forming power of 1.5 W, and 20% O 2 were mixed. As a result, a 75 nm-thick SiO x film was formed. As a result of measuring the refractive index of this SiO x film with respect to light having a wavelength of 475 nm using an ellipsometer, the refractive index was about 1.6. This film has the aforementioned nd =
The relationship of sλ / 4 (s = 1) is satisfied.

【0103】[透明電極層7の作製]このように形成し
た無機膜層6の上に、スパッタ法により透明電極(ID
IXO)を全面成膜した。このIDIXO上に、レジス
ト剤「OFRP−800」(商品名、東京応化製)を塗
布した後、フォトリソグラフ法にてパターニングを行
い、それぞれの蛍光変換フィルタ層2〜4に相当する位
置に、幅0.094mm間隙0.016mm、および膜
厚100nmのライン状パターンを有する透明電極層7
を形成し、色変換フィルタ基板とした。この透明電極層
の波長475nmの光に対する屈折率は、約2.1であ
った。この膜は、前述のnd=sλ/2(s=1)の関
係を満たす。この透明電極層7を陽極として用いる。
[Production of Transparent Electrode Layer 7] On the inorganic film layer 6 thus formed, a transparent electrode (ID
IXO). After applying a resist agent “OFRP-800” (trade name, manufactured by Tokyo Ohka) on the IDIXO, patterning is performed by a photolithographic method, and a width corresponding to each of the fluorescence conversion filter layers 2 to 4 is set. Transparent electrode layer 7 having a 0.094 mm gap 0.016 mm and a line pattern having a thickness of 100 nm
Was formed to obtain a color conversion filter substrate. The refractive index of this transparent electrode layer with respect to light having a wavelength of 475 nm was about 2.1. This film satisfies the aforementioned relationship of nd = sλ / 2 (s = 1). This transparent electrode layer 7 is used as an anode.

【0104】[有機EL素子の作成]図2に示すよう
に、上記のようにして製造した色変換フィルタ基板の上
に、正孔注入層8/正孔輸送層9/有機発光層10/電
子注入層11/陰極12を形成し、透明電極層7とあわ
せて6層構成となる有機EL発光素子を形成した。
[Preparation of Organic EL Element] As shown in FIG. 2, a hole injection layer 8 / a hole transport layer 9 / an organic light emitting layer 10 / electrons were formed on the color conversion filter substrate manufactured as described above. The injection layer 11 / cathode 12 was formed, and an organic EL light emitting device having a six-layer structure was formed together with the transparent electrode layer 7.

【0105】色変換フィルタ基板を抵抗加熱蒸着装置内
に装着し、正孔注入層8、正孔輸送層9、有機発光層1
0、電子注入層11を、真空を破らずに順次全面成膜し
た。成膜に際して、真空槽内圧を1×10-4Paまで減
圧した。正孔注入層8として、銅フタロシアニン(Cu
Pc)を100nm積層した。正孔輸送層9として、
4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル
アミノ]ビフェニル(α−NPD)を20nm積層し
た。有機発光層10として、4,4’−ビス(2,2’
−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)を30
nm積層した。電子注入層11として、アルミニウムキ
レート(トリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウ
ム錯体、Alq)を20nm積層した。表1に、各層に
用いた材料の構造式を示す。
The color conversion filter substrate was mounted in a resistance heating evaporation apparatus, and the hole injection layer 8, the hole transport layer 9, the organic light emitting layer 1
0, the electron injection layer 11 was sequentially formed on the entire surface without breaking vacuum. During the film formation, the internal pressure of the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 −4 Pa. Copper phthalocyanine (Cu
Pc) was laminated to a thickness of 100 nm. As the hole transport layer 9,
4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α-NPD) was laminated to a thickness of 20 nm. As the organic light emitting layer 10, 4,4′-bis (2,2 ′)
-Diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi) to 30
nm. As the electron injection layer 11, an aluminum chelate (tris (8-hydroxyquinoline) aluminum complex, Alq) was laminated to a thickness of 20 nm. Table 1 shows the structural formula of the material used for each layer.

【0106】[0106]

【表1】 [Table 1]

【0107】次に、真空を破ることなしに、陽極(透明
電極層)7のストライプパターンと直交する幅0.30
mm、間隔0.03mmのパターンが得られるマスクを
用いて、厚さ200nmのMg/Ag(質量比10/
1)層からなる陰極12を形成した。
Next, without breaking vacuum, the anode (transparent electrode layer) 7 has a width of 0.30
Mg / Ag (mass ratio of 10 /
1) A cathode 12 composed of a layer was formed.

【0108】こうして得られた有機発光素子をグローブ
ボックス内乾燥窒素雰囲気下(酸素および水分濃度とも
に10ppm以下)において、封止ガラス(図示せず)
とUV硬化接着剤を用いて封止して、カラー有機ELデ
ィスプレイを得た。
The organic light-emitting device thus obtained was sealed in a sealing glass (not shown) under a dry nitrogen atmosphere (both oxygen and moisture concentrations were 10 ppm or less) in a glove box.
And a UV curable adhesive to obtain a color organic EL display.

【0109】(実施例6)以下に記載する方法によって
無機膜層6を作製したことを除いて、実施例5と同様の
方法によりカラー有機ELディスプレイを作製した。
Example 6 A color organic EL display was manufactured in the same manner as in Example 5, except that the inorganic film layer 6 was manufactured by the method described below.

【0110】無機膜層6として、基板温度180℃にお
いてSiH4およびNH3ガスを用いるプラズマCVD法
により、SiNx膜を形成した。この成膜の初期におい
ては、SiH4:NH3の流量比を15.0として原料ガ
スを導入し、膜厚約60nmのSiNx膜を形成した。
その後、SiH4:NH3の流量比を徐々に増大させなが
ら成膜を続け、総計240nmの膜厚のSiNx膜を形
成した。最終的なSiH4:NH3の流量比は、20.0
であった。
As the inorganic film layer 6, a SiN x film was formed at a substrate temperature of 180 ° C. by a plasma CVD method using SiH 4 and NH 3 gases. At the beginning of this film formation, a source gas was introduced at a flow rate ratio of SiH 4 : NH 3 of 15.0, and a SiN x film having a thickness of about 60 nm was formed.
Thereafter, film formation was continued while gradually increasing the flow rate ratio of SiH 4 : NH 3 to form a SiN x film having a total thickness of 240 nm. The final flow rate ratio of SiH 4 : NH 3 is 20.0
Met.

【0111】(比較例2)以下に記載する方法によって
無機膜層6を作製したことを除いて、実施例5と同様の
方法によりカラー有機ELディスプレイを作製した。
Comparative Example 2 A color organic EL display was produced in the same manner as in Example 5, except that the inorganic film layer 6 was produced by the method described below.

【0112】無機膜層6として、ホウ素をドープしたS
iをターゲットとし、20%O2を混合したAr雰囲気
における、基板を加熱しないRFスパッタ法により、膜
厚約60nmのSiOx膜を形成した。波長475nm
の光に関するこのSiOx膜の屈折率を、エリプソメー
タで測定した結果、屈折率は約1.6であった。この膜
は、前述のnd=sλ/2(s:自然数)の関係を満た
さない。
As the inorganic film layer 6, boron-doped S
An SiO x film having a thickness of about 60 nm was formed by RF sputtering without heating the substrate in an Ar atmosphere containing 20% O 2 using i as a target. Wavelength 475nm
As a result of measuring the refractive index of this SiO x film with respect to the light of the above by an ellipsometer, the refractive index was about 1.6. This film does not satisfy the aforementioned relationship of nd = sλ / 2 (s: natural number).

【0113】[カラー有機ELディスプレイの評価]実
施例5および6、ならびに比較例2において製作したデ
ィスプレイについて、駆動試験を行った。駆動周波数6
0Hz、デューティ比1/60、1画素あたりの電流量
2mAにおける線順次走査により駆動し、緑色のみを点
灯させた場合のエリア輝度を比較した。結果を以下の表
2に示す。
[Evaluation of Color Organic EL Display] A driving test was performed on the displays manufactured in Examples 5 and 6 and Comparative Example 2. Drive frequency 6
The area luminance was compared by driving by line sequential scanning at 0 Hz, a duty ratio of 1/60, and a current amount per pixel of 2 mA, and lighting only green. The results are shown in Table 2 below.

【0114】[0114]

【表2】 [Table 2]

【0115】本発明の無機膜層を用いたカラー有機EL
ディスプレイは、輝度が10%以上向上することが明か
となった。
Color organic EL using inorganic film layer of the present invention
It was found that the display improved the brightness by 10% or more.

【0116】[0116]

【発明の効果】本発明記載の添加剤を、屈折率および膜
厚を満足する無機膜層を用いることにより、有機EL発
光素子の光を効率よく透過させることができ、かつ有機
EL発光素子の特性低下の原因となる水分の発生を抑制
することにより、長期にわたって安定した発光特性を維
持するカラー有機ELディスプレイの提供が可能にな
る。本発明によって、信頼性に優れた色変換方式の有機
ELディスプレイが実現される。
By using an inorganic film layer satisfying the refractive index and the film thickness of the additive according to the present invention, the light of the organic EL light emitting element can be transmitted efficiently, and the organic EL light emitting element By suppressing the generation of moisture that causes a deterioration in characteristics, it is possible to provide a color organic EL display that maintains stable light-emitting characteristics for a long time. According to the present invention, an organic EL display of a color conversion system having excellent reliability is realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の色変換フィルタ基板を示す概略断面図
である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a color conversion filter substrate of the present invention.

【図2】本発明の色変換フィルタ基板を用いた有機EL
カラーディスプレイの概略断面図である。
FIG. 2 shows an organic EL using the color conversion filter substrate of the present invention.
It is a schematic sectional drawing of a color display.

【図3】実施例1〜4および比較例1の試料の光透過率
を示したグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the light transmittance of the samples of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明支持基板 2 赤色変換フィルタ 3 緑色変換フィルタ 4 青色変換フィルタ 5 高分子膜層 6 無機膜層 7 透明電極層 8 正孔注入層 9 正孔輸送層 10 有機発光層 11 電子注入層 12 陰極 REFERENCE SIGNS LIST 1 transparent support substrate 2 red conversion filter 3 green conversion filter 4 blue conversion filter 5 polymer film layer 6 inorganic film layer 7 transparent electrode layer 8 hole injection layer 9 hole transport layer 10 organic light emitting layer 11 electron injection layer 12 cathode

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年12月18日(2000.12.
18)
[Submission date] December 18, 2000 (200.12.
18)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図1[Correction target item name] Fig. 1

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図1】 FIG.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図2[Correction target item name] Figure 2

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図2】 FIG. 2

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 BA02 BA45 BB02 BB10 BB14 BB41 CA04 CA14 CA19 CA23 CA24 3K007 AB02 AB04 AB11 AB18 BA06 BB06 CA01 CB01 DA01 DB03 EA04 EB00 FA01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H048 BA02 BA45 BB02 BB10 BB14 BB41 CA04 CA14 CA19 CA23 CA24 3K007 AB02 AB04 AB11 AB18 BA06 BB06 CA01 CB01 DA01 DB03 EA04 EB00 FA01

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明な支持基板と、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層と、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層と、 該高分子膜層上に形成される透明な無機膜層と、 該無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に
形成される透明電極層とを少なくとも備える色変換フィ
ルタ基板であって、 該無機膜層は単一の層であり、および450nm以上5
00nm以下の範囲内にある波長λに関して、該無機膜
層の屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、か
つ該無機膜層の膜厚dが、以下の式: nd=sλ/2 (式中、nは波長λの光に対する該無機膜層の屈折率で
あり、およびsは自然数である)の関係を満たすことを
特徴とする色変換フィルタ基板。
1. A transparent support substrate, a single or plural types of color conversion filter layers formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern, and the color conversion filter A polymer film layer covering the layer and being transparent and formed flat; a transparent inorganic film layer formed on the polymer film layer; and one or more electrical films on the inorganic film layer A color conversion filter substrate comprising at least a transparent electrode layer formed in an independent region, wherein the inorganic film layer is a single layer;
For a wavelength λ within the range of 00 nm or less, the refractive index of the inorganic film layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and the film thickness d of the inorganic film layer is represented by the following formula: nd = sλ / 2. A color conversion filter substrate which satisfies the following relationship: 2 where n is a refractive index of the inorganic film layer with respect to light having a wavelength λ, and s is a natural number.
【請求項2】 透明な支持基板と、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層と、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層と、 該高分子膜層上に形成される透明な無機膜層と、 該無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に
形成される透明電極層とを少なくとも備える色変換フィ
ルタ基板であって、 該無機膜層は、少なくとも2つの層の積層体から構成さ
れ、および450nm以上500nm以下の範囲内にあ
る波長λに関して、該透明電極層に隣接する無機膜層の
屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、および
該透明電極層から数えて2p−1番目および2p番目の
無機膜層を構成する層(pは自然数である)が、 n2p-1 > n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/2;および n2p2p=s2pλ/4 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たすことを特
徴とする色変換フィルタ基板。
2. A transparent support substrate, a single or plural types of color conversion filter layers formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern, and the color conversion filter A polymer film layer covering the layer and being transparent and formed flat; a transparent inorganic film layer formed on the polymer film layer; and one or more electrical films on the inorganic film layer A color conversion filter substrate comprising at least a transparent electrode layer formed in an independent region, wherein the inorganic film layer is composed of a laminate of at least two layers, and is in a range of 450 nm or more and 500 nm or less. With respect to the wavelength λ, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and the 2p−1th and 2pth inorganic film layers counted from the transparent electrode layer. Constituent layers (p is natural In a) it is, n 2p-1> n 2p ; n 2p-1 d 2p-1 = s 2p-1 λ / 2; and in n 2p d 2p = s 2p λ / 4 ( wherein, n u is u th , And du is the film thickness of the u-th layer, and s u is a natural number.
【請求項3】 請求項2に記載の色変換フィルタ基板に
おいて、 450nm以上500nm以下の範囲内にある波長λに
関して、該無機膜層を構成する層の屈折率が、該透明電
極層側から該高分子膜層へと向かって、順次的に小さく
なることを特徴とする色変換フィルタ基板。
3. The color conversion filter substrate according to claim 2, wherein, for a wavelength λ in a range of 450 nm or more and 500 nm or less, the refractive index of a layer constituting the inorganic film layer is higher than that of the transparent electrode layer. A color conversion filter substrate characterized in that the size of the color conversion filter gradually decreases toward the polymer film layer.
【請求項4】 透明な支持基板と、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層と、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層と、 該高分子膜層上に形成される透明な無機膜層と、 該無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に
形成される透明電極層とを少なくとも備える色変換フィ
ルタ基板であって、 該無機膜層は、少なくとも2つの層の積層体から構成さ
れ、および450nm以上500nm以下の範囲内にあ
る波長λに関して、該透明電極層に隣接する無機膜層の
屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、および
該透明電極層から数えて2p−1番目および2p番目の
無機膜層を構成する層(pは自然数である)が、 n2p-1 < n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/4;および n2p2p=s2pλ/2 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たすことを特
徴とする色変換フィルタ基板。
4. A single or plural kinds of color conversion filter layers formed by forming a transparent support substrate, a resin film containing a fluorescent dye disposed on the support substrate in a desired pattern, and the color conversion filter. A polymer film layer covering the layer and being transparent and formed flat; a transparent inorganic film layer formed on the polymer film layer; and one or more electrical films on the inorganic film layer A color conversion filter substrate comprising at least a transparent electrode layer formed in an independent region, wherein the inorganic film layer is composed of a laminate of at least two layers, and is in a range of 450 nm or more and 500 nm or less. With respect to the wavelength λ, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and the 2p−1th and 2pth inorganic film layers counted from the transparent electrode layer. Constituent layers (p is natural In a) it is, n 2p-1 <n 2p ; n 2p-1 d 2p-1 = s 2p-1 λ / 4; during and n 2p d 2p = s 2p λ / 2 ( wherein, n u is u th , And du are the thickness of the u-th layer, and s u is a natural number.
【請求項5】 透明な支持基板と、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層と、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層と、 該高分子膜層上に形成される透明な無機膜層と、 該無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に
形成される透明電極層とを少なくとも備える色変換フィ
ルタ基板であって、 該無機膜層は、単一の層であり、および該無機膜層は、
その屈折率が該透明電極層から該高分子膜層に向かって
順次減少するように、連続的に変化した組成を有するこ
とを特徴とする色変換フィルタ基板。
5. A transparent support substrate, a single or plural types of color conversion filter layers formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern, and the color conversion filter A polymer film layer covering the layer and being transparent and formed flat; a transparent inorganic film layer formed on the polymer film layer; and one or more electrical films on the inorganic film layer A color conversion filter substrate comprising at least a transparent electrode layer formed in an independent region, wherein the inorganic film layer is a single layer, and the inorganic film layer comprises:
A color conversion filter substrate having a composition that is continuously changed such that the refractive index decreases gradually from the transparent electrode layer toward the polymer film layer.
【請求項6】 該透明電極層の膜厚dが、450nm以
上500nm以下の範囲内にある波長λに関して、以下
の式: nd=sλ/2 (式中、nは波長λの光に対する該透明電極層の屈折率
であり、およびsは自然数である)の関係を満たすこと
を特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の色変換
フィルタ基板。
6. For a wavelength λ where the thickness d of the transparent electrode layer is in a range of 450 nm or more and 500 nm or less, the following formula: nd = sλ / 2 (where n is the transparent property to light having a wavelength λ) The color conversion filter substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the refractive index of the electrode layer and s is a natural number are satisfied.
【請求項7】 請求項1から6のいずれかに記載の色変
換フィルタ基板上に、少なくとも発光材料を含有する発
光層と、第2電極層とを順次積層してなることを特徴と
する色変換方式カラーディスプレイ。
7. A color obtained by sequentially laminating a light emitting layer containing at least a light emitting material and a second electrode layer on the color conversion filter substrate according to any one of claims 1 to 6. Conversion type color display.
【請求項8】 透明な支持基板を準備し、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層を形成し、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層を形成し、 該無機膜層は、単一の層であり、および450nm以上
500nm以下の範囲内にある波長λに関して、以下の
式: nd=sλ/2 (式中、nは波長λの光に対する屈折率であり、および
sは自然数である)の関係を満たす膜厚dを有する無機
膜層を形成し、および該無機膜層上の1または複数の電
気的に独立した領域に形成され、および該無機膜層の屈
折率よりも大きい屈折率を有する透明電極層を形成する
ことを少なくとも備えたことを特徴とする色変換フィル
タ基板の製造方法。
8. A transparent support substrate is prepared, and a single or plural types of color conversion filter layers formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern are formed. The color conversion filter layer is coated to form a transparent and flat polymer film layer, and the inorganic film layer is a single layer and is in a range of 450 nm or more and 500 nm or less. With respect to the wavelength λ, an inorganic film layer having a film thickness d that satisfies the following formula: nd = sλ / 2 (where n is a refractive index for light having a wavelength λ, and s is a natural number) And forming at least one transparent electrode layer formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer and having a refractive index larger than the refractive index of the inorganic film layer. Characterized by a color conversion filter substrate Production method.
【請求項9】 透明な支持基板を準備し、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層を形成し、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層を形成し、 該無機膜層は、少なくとも2つの層の積層体から構成さ
れ、および450nm以上500nm以下の範囲内にあ
る波長λに関して、該透明電極層に隣接する無機膜層の
屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、および
該透明電極層から数えて2p−1番目および2p番目の
無機膜層を構成する層(pは自然数である)が、 n2p-1 > n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/2;および n2p2p=s2pλ/4 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たす膜厚dを
有する無機膜層を形成し、および該無機膜層上の1また
は複数の電気的に独立した領域に形成され、および該無
機膜層の屈折率よりも大きい屈折率を有する透明電極層
を形成することを少なくとも備えたことを特徴とする色
変換フィルタ基板の製造方法。
9. A transparent support substrate is prepared, and a single or plural types of color conversion filter layers formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern are formed. The color conversion filter layer is coated to form a transparent and flat polymer film layer, and the inorganic film layer is composed of a laminate of at least two layers, and has a thickness of 450 nm or more and 500 nm or less. For a wavelength λ in the range, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and the 2p−1th and 2pth numbers counted from the transparent electrode layer. layers constituting the inorganic layer (p is a natural number), n 2p-1> n 2p ; n 2p-1 d 2p-1 = s 2p-1 λ / 2; and n 2p d 2p = s 2p λ / 4 (where, n u is the refractive index of the u-th layer, d u is the u-th layer thickness, s u Is a natural number), and an inorganic film layer having a film thickness d satisfying the following relationship is formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer, and the refractive index of the inorganic film layer is A method for manufacturing a color conversion filter substrate, comprising at least forming a transparent electrode layer having a larger refractive index.
【請求項10】 該無機膜層の屈折率が、450nm以
上500nm以下の範囲内にある波長λに関して、該透
明電極層から該高分子膜層に向かって順次減少するよう
にしたことを特徴とする請求項9に記載の色変換フィル
タ基板の製造方法。
10. The method according to claim 1, wherein the refractive index of the inorganic film layer is gradually decreased from the transparent electrode layer toward the polymer film layer for a wavelength λ in a range of 450 nm or more and 500 nm or less. The method for manufacturing a color conversion filter substrate according to claim 9.
【請求項11】 透明な支持基板を準備し、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層を形成し、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層を形成し、 該無機膜層は、少なくとも2つの層の積層体から構成さ
れ、および450nm以上500nm以下の範囲内にあ
る波長λに関して、該透明電極層に隣接する無機膜層の
屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、および
該透明電極層から数えて2p−1番目および2p番目の
無機膜層を構成する層(pは自然数である)が、 n2p-1 < n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/4;および n2p2p=s2pλ/2 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たす膜厚dを
有する無機膜層を形成し、および該無機膜層上の1また
は複数の電気的に独立した領域に形成され、および該無
機膜層の屈折率よりも大きい屈折率を有する透明電極層
を形成することを少なくとも備えたことを特徴とする色
変換フィルタ基板の製造方法。
11. A transparent support substrate is prepared, and a single or plural kinds of color conversion filter layers are formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern, The color conversion filter layer is coated to form a transparent and flat polymer film layer, and the inorganic film layer is composed of a laminate of at least two layers, and has a thickness of 450 nm or more and 500 nm or less. For a wavelength λ in the range, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and the 2p−1th and 2pth numbers counted from the transparent electrode layer. The layers constituting the inorganic film layer (p is a natural number) include: n 2p-1 <n 2p ; n 2p-1 d 2p-1 = s 2p-1 λ / 4; and n 2pd 2p = s 2p λ / 2 (wherein, n u is the refractive index of the u-th layer, d u is the u-th layer thickness, u forms a inorganic layer having a thickness d that satisfies a is) the relationship natural number, and is formed into one or more electrically independent region on the inorganic layer, and the refraction of the inorganic membrane layer At least forming a transparent electrode layer having a refractive index higher than the refractive index.
【請求項12】 透明な支持基板を準備し、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層を形成し、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層を形成し、 連続的に組成を変化させた無機膜層を形成し、および該
無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に形
成され、および該無機膜層の屈折率よりも大きい屈折率
を有する透明電極層を形成することを少なくとも備えた
ことを特徴とする色変換フィルタ基板の製造方法。
12. A transparent support substrate is prepared, and a single or plural types of color conversion filter layers are formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern. Forming a transparent and flat polymer film layer, forming an inorganic film layer having a continuously changed composition, and forming an inorganic film layer on the inorganic film layer. Or manufacturing a color conversion filter substrate at least comprising forming a transparent electrode layer formed in a plurality of electrically independent regions and having a refractive index larger than the refractive index of the inorganic film layer. Method.
【請求項13】 透明な支持基板を準備し、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層を形成し、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層を形成し、 該無機膜層は、単一の層であり、および450nm以上
500nm以下の範囲内にある波長λに関して、以下の
式: nd=sλ/2 (式中、nは波長λの光に対する屈折率であり、および
sは自然数である)の関係を満たす膜厚dを有する無機
膜層を形成し、 該無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に
形成され、および該無機膜層の屈折率よりも大きい屈折
率を有する透明電極層を形成し、 少なくとも発光材料を含有する有機発光層を形成し、お
よび第2電極層を形成したことを少なくとも備えたこと
を特徴とする色変換カラーディスプレイの製造方法。
13. A transparent support substrate is prepared, and a single or plural types of color conversion filter layers formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern are formed. The color conversion filter layer is coated to form a transparent and flat polymer film layer, and the inorganic film layer is a single layer and is in a range of 450 nm or more and 500 nm or less. With respect to the wavelength λ, an inorganic film layer having a film thickness d that satisfies the following formula: nd = sλ / 2 (where n is a refractive index for light having a wavelength λ, and s is a natural number) Forming a transparent electrode layer formed in one or more electrically independent regions on the inorganic film layer and having a refractive index larger than the refractive index of the inorganic film layer, and containing at least a luminescent material; Forming an organic light emitting layer; The color conversion color display manufacturing method characterized by comprising at least that to form a layer.
【請求項14】 透明な支持基板を準備し、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層を形成し、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層を形成し、 該無機膜層は、少なくとも2つの層の積層体から構成さ
れ、および450nm以上500nm以下の範囲内にあ
る波長λに関して、該透明電極層に隣接する無機膜層の
屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、および
該透明電極層から数えて2p−1番目および2p番目の
無機膜層を構成する層(pは自然数である)が、 n2p-1 > n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/2;および n2p2p=s2pλ/4 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たす膜厚dを
有する無機膜層を形成し、 該無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に
形成され、および該無機膜層の屈折率よりも大きい屈折
率を有する透明電極層を形成し、 少なくとも発光材料を含有する有機発光層を形成し、お
よび第2電極層を形成したことを少なくとも備えたこと
を特徴とする色変換カラーディスプレイの製造方法。
14. A transparent support substrate is prepared, and a single or plural types of color conversion filter layers formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern are formed; The color conversion filter layer is coated to form a transparent and flat polymer film layer, and the inorganic film layer is composed of a laminate of at least two layers, and has a thickness of 450 nm or more and 500 nm or less. For a wavelength λ in the range, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and the 2p−1th and 2pth numbers counted from the transparent electrode layer. layers constituting the inorganic layer (p is a natural number), n 2p-1> n 2p ; n 2p-1 d 2p-1 = s 2p-1 λ / 2; and n 2p d 2p = s 2p λ / 4 (where, n u is the refractive index of the u-th layer, the d u of u th layer thickness, u is formed in a region forming the inorganic layer having a thickness d, independent one or more electrically on inorganic film layer satisfying a is) the relationship natural number, and the refractive index of the inorganic membrane layer Forming a transparent electrode layer having a refractive index larger than that of at least a light emitting material, forming an organic light emitting layer containing at least a light emitting material, and forming a second electrode layer. Production method.
【請求項15】 該無機膜層の屈折率が、450nm以
上500nm以下の範囲内にある波長λに関して、該透
明電極層から該高分子膜層に向かって順次減少するよう
にしたことを特徴とする請求項14に記載の色変換カラ
ーディスプレイの製造方法。
15. The method according to claim 1, wherein the refractive index of the inorganic film layer is sequentially reduced from the transparent electrode layer toward the polymer film layer for a wavelength λ in a range of 450 nm or more and 500 nm or less. The method of manufacturing a color conversion color display according to claim 14.
【請求項16】 透明な支持基板を準備し、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層を形成し、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層を形成し、 該無機膜層は、少なくとも2つの層の積層体から構成さ
れ、および450nm以上500nm以下の範囲内にあ
る波長λに関して、該透明電極層に隣接する無機膜層の
屈折率は、該透明電極層の屈折率よりも小さく、および
該透明電極層から数えて2p−1番目および2p番目の
無機膜層を構成する層(pは自然数である)が、 n2p-1 < n2p; n2p-12p-1=s2p-1λ/4;および n2p2p=s2pλ/2 (式中、nuはu番目の層の屈折率、duはu番目の層の
膜厚、suは自然数である)なる関係を満たす膜厚dを
有する無機膜層を形成し、 該無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に
形成され、および該無機膜層の屈折率よりも大きい屈折
率を有する透明電極層を形成し、 少なくとも発光材料を含有する有機発光層を形成し、お
よび第2電極層を形成したことを少なくとも備えたこと
を特徴とする色変換カラーディスプレイの製造方法。
16. A transparent support substrate is prepared, and a single or plural types of color conversion filter layers are formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern. The color conversion filter layer is coated to form a transparent and flat polymer film layer, and the inorganic film layer is composed of a laminate of at least two layers, and has a thickness of 450 nm or more and 500 nm or less. For a wavelength λ in the range, the refractive index of the inorganic film layer adjacent to the transparent electrode layer is smaller than the refractive index of the transparent electrode layer, and the 2p−1th and 2pth numbers counted from the transparent electrode layer. The layers constituting the inorganic film layer (p is a natural number) include: n 2p-1 <n 2p ; n 2p-1 d 2p-1 = s 2p-1 λ / 4; and n 2pd 2p = s 2p λ / 2 (wherein, n u is the refractive index of the u-th layer, d u is the u-th layer thickness, u is formed in a region forming the inorganic layer having a thickness d, independent one or more electrically on inorganic film layer satisfying a is) the relationship natural number, and the refractive index of the inorganic membrane layer Forming a transparent electrode layer having a refractive index larger than that of at least a light emitting material, forming an organic light emitting layer containing at least a light emitting material, and forming a second electrode layer. Production method.
【請求項17】 透明な支持基板を準備し、 該支持基板上に配置され蛍光色素を含有する樹脂膜を所
望のパターンに形成してなる単一または複数種類の色変
換フィルタ層を形成し、 該色変換フィルタ層を被覆し、透明であり、かつ平坦に
形成される高分子膜層を形成し、 連続的に組成を変化させた無機膜層を形成し、および該
無機膜層上の1または複数の電気的に独立した領域に形
成され、および該無機膜層の屈折率よりも大きい屈折率
を有する透明電極層を形成し、 少なくとも発光材料を含有する有機発光層を形成し、お
よび第2電極層を形成したことを少なくとも備えたこと
を特徴とする色変換カラーディスプレイの製造方法。
17. A transparent support substrate is prepared, and a single or plural types of color conversion filter layers formed by forming a resin film containing a fluorescent dye on the support substrate in a desired pattern are formed; Forming a transparent and flat polymer film layer, forming an inorganic film layer having a continuously changed composition, and forming an inorganic film layer on the inorganic film layer. Or forming a transparent electrode layer formed in a plurality of electrically independent regions and having a refractive index larger than the refractive index of the inorganic film layer, forming an organic light emitting layer containing at least a light emitting material, and A method for producing a color conversion color display, comprising at least forming two electrode layers.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2004071558A (en) * 2002-07-25 2004-03-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Method of manufacturing light-emitting device
WO2016169159A1 (en) * 2015-04-20 2016-10-27 京东方科技集团股份有限公司 Color filter substrate, manufacturing method thereof and display device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004071558A (en) * 2002-07-25 2004-03-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Method of manufacturing light-emitting device
WO2016169159A1 (en) * 2015-04-20 2016-10-27 京东方科技集团股份有限公司 Color filter substrate, manufacturing method thereof and display device
US10203832B2 (en) 2015-04-20 2019-02-12 Boe Technology Group Co., Ltd. Color film substrate, manufacturing method thereof and display device

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