JP2002175762A - Plasma display panel and its manufacturing method - Google Patents

Plasma display panel and its manufacturing method

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JP2002175762A
JP2002175762A JP2000374354A JP2000374354A JP2002175762A JP 2002175762 A JP2002175762 A JP 2002175762A JP 2000374354 A JP2000374354 A JP 2000374354A JP 2000374354 A JP2000374354 A JP 2000374354A JP 2002175762 A JP2002175762 A JP 2002175762A
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JP
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partition
display panel
plasma display
forming
manufacturing
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JP2000374354A
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Japanese (ja)
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Kentaro Ueda
健太郎 上田
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display panel of a sealed cell structure not admitting easily the existence of gas exhaust passage, in which exhaust passage is formed in such a way as not generating such problems as increasing the number of manufacturing processes or the manufacturing cost or a problem of high aligning accuracy being required. SOLUTION: The plasma display panel is structured so that projections 32 are formed at the top of a bulkhead 30 in such a way as dotted at random between a front face base board and a back face base board so as to provide cavities due to a surface unevenness for securing the exhaust passage.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネルおよびその製造方法に関し、特に閉セル構造を
有するプラズマディスプレイパネルの排気パスを確保す
る構造およびその製造方法に関する。
The present invention relates to a plasma display panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a structure for securing an exhaust path of a plasma display panel having a closed cell structure and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明に関係する閉セル構造を有するプ
ラズマディスプレイパネルとは、図9に示すような、井
桁、ロ型等と呼ばれる閉セル構造の隔壁30を備え、そ
の閉セル内に放電ガスを満たした構成のプラズマディス
プレイパネルである。
2. Description of the Related Art A plasma display panel having a closed cell structure related to the present invention is provided with a partition wall 30 having a closed cell structure called a double-girder or square type as shown in FIG. This is a plasma display panel configured to be filled with gas.

【0003】すなわち、背面基板10は、アドレス電極
すなわちデータ電極11、それを覆う誘電体層12、そ
の上に設けられた井桁状の隔壁30、そして隔壁側面と
誘電体層上面を覆う蛍光体31で構成されている。
That is, the back substrate 10 comprises an address electrode or data electrode 11, a dielectric layer 12 covering the same, a grid-like partition 30 provided thereon, and a phosphor 31 covering the partition side and the dielectric layer upper surface. It is composed of

【0004】背面基板10に対向して配置される前面基
板11は、透明電極(7X1,7Y1,7X2,7Y
2)、および補助電極(8X1,8Y1,8X2,8Y
2)と、それを覆う透明誘電体26、および透明誘電体
を保護する保護膜27で構成されている。
[0004] The front substrate 11 arranged opposite the rear substrate 10 has transparent electrodes (7X1, 7Y1, 7X2, 7Y).
2) and auxiliary electrodes (8X1, 8Y1, 8X2, 8Y)
2), a transparent dielectric 26 covering it, and a protective film 27 for protecting the transparent dielectric.

【0005】このような閉セル構造の隔壁を有するプラ
ズマディスプレイパネルは、従来一般的に用いられてい
たストライプ形状の隔壁構造に比べ、アドレス電極11
に沿った方向の、隣接セル間のクロストークが生じにく
いという特徴がある。したがって、特にデータ電極11
と平行な方向においてセル間の間隔を狭めることが容易
となり、高精細化に有利である。
[0005] The plasma display panel having such a closed cell-structured partition wall has an address electrode 11 compared to a conventional stripe-shaped partition wall structure generally used.
Is characterized in that crosstalk between adjacent cells hardly occurs in the direction along. Therefore, in particular, the data electrode 11
This makes it easy to narrow the interval between cells in a direction parallel to the above, which is advantageous for higher definition.

【0006】しかし閉セル型の隔壁構造を用いた場合、
排気パスが存在しにくくなるため、特開平10−149
771号公報に開示されているように、真空中でガス導
入、封着を行う方式がある。しかし、この方式では、パ
ネルに連結された排気管を利用する一般的な排気装置と
は全く異なる大がかりな装置が必要なため、コスト面の
増加は避けられない。また、真空チャンバー内での組立
アライメント精度に問題がある。
However, when a closed cell type partition structure is used,
Since an exhaust path is unlikely to exist, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-149
As disclosed in Japanese Patent No. 771, there is a method of performing gas introduction and sealing in a vacuum. However, this method requires a large-scale exhaust device completely different from a general exhaust device that uses an exhaust pipe connected to a panel, so that an increase in cost cannot be avoided. In addition, there is a problem in the alignment accuracy in the vacuum chamber.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記問題を避けるため
に、前面基板側に別途排気パスを確保する構造を設ける
方法が考えられる。すなわち、図9に示すように、前面
基板20の誘電体層26の表面に、横または縦どちらか
一方向の隔壁の上に沿うように、帯状の凸部23を形成
する方法である。図10に帯状凸部23が背面基板10
上の隔壁30の頂部と前面基板20との間に介在してい
る様子を示す拡大断面図を示す。この帯状凸部23とし
ては、透明誘電体層をパターン印刷したり、紫外線硬化
ペーストでパターンを作製することが考えられる。しか
しこのような方法では、製造工程数や製造コストの増加
という問題や、高いアライメント精度が要求される等の
問題がある。
In order to avoid the above problem, a method of separately providing a structure for securing an exhaust path on the front substrate side can be considered. That is, as shown in FIG. 9, a method of forming a band-shaped convex portion 23 on the surface of the dielectric layer 26 of the front substrate 20 so as to extend along the partition wall in either the horizontal or vertical direction. In FIG. 10, the belt-shaped convex portion 23 is
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a state where the partition wall 30 is interposed between a top portion of an upper partition wall 30 and a front substrate 20. As the belt-like convex portions 23, it is conceivable that a transparent dielectric layer is pattern-printed or a pattern is formed with an ultraviolet-curable paste. However, such a method has problems such as an increase in the number of manufacturing steps and manufacturing costs, and a problem that high alignment accuracy is required.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイパネルは、排気パスの存在しにくい密閉型セル構
造のパネルにおいて、前面基板と背面基板の間に凹凸に
よる空隙を設けることで、排気パスを確保することを特
徴とする。
According to the plasma display panel of the present invention, in a panel having a closed cell structure in which an exhaust path is unlikely to exist, an exhaust path is provided by providing an uneven space between a front substrate and a rear substrate. It is characterized by securing.

【0009】また、背面基板の隔壁頂部(上面)、または
前面基板の処理面表面のどちらか一方に、排気パスを確
保するための凹凸を形成する方法も特徴とする。とく
に、密閉型セル構造のプラズマディスプレイパネルにお
いて、隔壁の頂部に半球状の凹凸、またはうねりを設け
た構造をも特徴とする。
Another feature is a method of forming unevenness for securing an exhaust path on either the top (upper surface) of the partition wall of the rear substrate or the surface of the processing surface of the front substrate. In particular, a plasma display panel having a closed cell structure is characterized by a structure in which hemispherical irregularities or undulations are provided at the tops of partition walls.

【0010】本発明のプラズマディスプレイパネルは、
排気パスの存在しにくい密閉型セル構造のパネルにおい
て、前面基板と背面基板の間にランダムに点在する凹凸
による空隙を設けることで、排気パスを確保することが
できるので、従来の方法を用いて容易に排気が行える効
果がある。したがって、製造工程数や製造コストの増加
という問題は生じないし、さらに上記の高いアライメン
ト精度が要求される等の問題も生じない。
[0010] The plasma display panel of the present invention comprises:
In a panel having a closed cell structure in which an exhaust path is difficult to exist, an exhaust path can be secured by providing gaps formed by randomly scattered irregularities between the front substrate and the rear substrate, so that a conventional method is used. This has the effect that exhaust can be easily performed. Therefore, there is no problem of an increase in the number of manufacturing steps or manufacturing cost, and there is no problem such as the requirement of high alignment accuracy.

【0011】また同様な効果を求める方法として、前面
基板の透明誘電体の形成工程において、透過率・屈折率
がパネル特性に影響が出ない範囲で、凹凸を作るという
方法が挙げられる。
As a method of obtaining the same effect, there is a method of forming irregularities in the step of forming the transparent dielectric of the front substrate so long as the transmittance and the refractive index do not affect the panel characteristics.

【0012】とくに本発明によれば、閉セル構造を構成
する隔壁を介在させて前面基板と背面基板とを対向配置
したプラズマディスプレイパネルにおいて、前記前面基
板と前記隔壁との対向領域のいずれか一方に、排気パス
を確保するように凹凸による空隙を設けたことを特徴と
するプラズマディスプレイパネルが得られる。
In particular, according to the present invention, in a plasma display panel in which a front substrate and a rear substrate are opposed to each other with a partition constituting a closed cell structure interposed therebetween, one of the opposing regions of the front substrate and the partition is provided. In addition, a plasma display panel characterized by providing voids due to irregularities so as to secure an exhaust path is obtained.

【0013】さらに、前記前面基板に対向する前記隔壁
の頂部に前記凹凸を設けたことをも特徴とする。また
は、前記前面基板の前記隔壁に対向する領域に前記凸部
を形成して前記凹凸を構成しても構わない。
Further, the unevenness is provided on the top of the partition wall facing the front substrate. Alternatively, the projections and depressions may be formed in a region of the front substrate facing the partition wall to form the irregularities.

【0014】また、前記凹凸が半球状凸部を前記隔壁の
頂部に設けることにより形成されていることをも特徴と
する。
Further, the unevenness is formed by providing a hemispherical convex portion on the top of the partition.

【0015】前記半球状凸部は、その高さが1〜20μ
m、直径が10〜50μm、隣り合う凸部の頂点の間隔
が30〜100μmであることが望ましい。
The hemispherical projection has a height of 1 to 20 μm.
m, the diameter is preferably 10 to 50 μm, and the interval between the vertices of the adjacent projections is preferably 30 to 100 μm.

【0016】さらに、本発明によれば、閉セル構造を構
成する隔壁を介在させて前面基板と背面基板とを対向配
置したプラズマディスプレイパネルの製造方法におい
て、前記前面基板に対向する前記隔壁頂部、または前面
基板の処理面表面のどちらか一方に、排気パスを確保す
るための凹凸を形成する工程を有することを特徴とする
プラズマディスプレイパネルの製造方法が得られる。
Further, according to the present invention, in a method of manufacturing a plasma display panel in which a front substrate and a rear substrate are arranged to face each other with a partition forming a closed cell structure interposed therebetween, the top of the partition facing the front substrate, Alternatively, there is provided a method of manufacturing a plasma display panel, comprising a step of forming irregularities for securing an exhaust path on one of the processing surfaces of the front substrate.

【0017】そのような製造方法において、前記背面基
板に前記隔壁を形成後、前記隔壁に囲まれたセル内面に
反射層を形成する工程を有し、前記反射層の形成工程に
おいて、フィラーを混合したペーストを用いて、前記セ
ルの内面および前記隔壁の頂部に前記ペーストを形成す
ることで、前記隔壁頂部に半球状の凹凸を形成すること
をも特徴とする。
[0017] In such a manufacturing method, after the partition is formed on the back substrate, a step of forming a reflective layer on the inner surface of the cell surrounded by the partition is included. In the step of forming the reflective layer, a filler is mixed. By forming the paste on the inner surface of the cell and on the top of the partition wall using the prepared paste, hemispherical irregularities are formed on the top of the partition wall.

【0018】また、前記隔壁を前記背面基板上に形成す
る工程において、前記隔壁形成材料をプレス式、押出し
成型法またはローラー式等の隔壁形成方法を用いて、前
記隔壁頂部上に当たる箇所に前記凹凸を設けた型を用い
て前記隔壁の形成を行うことで前記凹凸を隔壁の形成時
に設けることを特徴とするプラズマディスプレイパネル
の製造方法も得られる。
In the step of forming the partition on the rear substrate, the partition forming material may be formed on the top of the partition by using a partition forming method such as a press method, an extrusion molding method or a roller method. A method for manufacturing a plasma display panel is also provided, wherein the unevenness is provided at the time of forming the partition by forming the partition using a mold provided with.

【0019】さらに、前記隔壁を前記背面基板上にブラ
スト加工またはラミネート剥離により形成した後に、前
記隔壁の表面にブラスト加工を再度施すことで、前記頂
部を含んだ前記隔壁上に前記凹凸を作ることをも特徴と
する。
Further, after the partition walls are formed on the back substrate by blasting or laminating, the surface of the partition walls is subjected to blasting again to form the irregularities on the partition walls including the tops. Is also characterized.

【0020】さらにまた、前記隔壁を前記背面基板上に
形成した後、または、隔壁用ペーストを塗布した後、さ
らにガラス材をスプレーコートすることにより前記凹凸
を作成することを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法も得られる。
Further, after the partition walls are formed on the rear substrate, or after a partition paste is applied, the irregularities are formed by spray coating a glass material. Is also obtained.

【0021】また、前記背面基板上に前記隔壁をアディ
ティブ工法で形成するとともに、その形成の際に、パタ
ーニングしたフィルムに埋めこんだペーストに対し、フ
ィルムを剥離する前にブラスト工程を追加するか、もし
くはさらにガラス材をスプレーコートすることで、前記
凹凸を作成することをも特徴とする。
Further, the partition walls are formed on the rear substrate by an additive method, and at the time of the formation, a blast step is added to the paste embedded in the patterned film before the film is peeled off. Alternatively, the unevenness is formed by spray-coating a glass material.

【0022】さらに、前記前面基板に透明グレーズを形
成後、透過率・屈折率がパネル特性に影響が出ない範囲
で、前記前面基板の全面にスプレーコート等でグレーズ
ペーストを散布することで前記凹凸を作ることをも特徴
とする。
After the transparent glaze is formed on the front substrate, the glaze paste is sprayed on the entire surface of the front substrate by spray coating or the like so that the transmittance and the refractive index do not affect the panel characteristics. It is also characterized by making.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0024】図1は、本発明で提案するプラズマディス
プレイパネルの構成例である。
FIG. 1 is a structural example of a plasma display panel proposed in the present invention.

【0025】背面基板10は、データ(アドレス)電極
11、それを覆う誘電体層12、その上に設けられた井
桁状の隔壁30、そして隔壁側面と誘電体層上面を覆う
蛍光体31で構成されている。
The back substrate 10 includes a data (address) electrode 11, a dielectric layer 12 covering the data electrode 11, a grid-like partition 30 provided thereon, and a phosphor 31 covering the partition side and the dielectric layer upper surface. Have been.

【0026】背面基板10に対向して配置される前面基
板11は、透明電極(7X1,7Y1,7X2,7Y
2)、および補助電極(8X1,8Y1,8X2,8Y
2)と、それを覆う透明誘電体26、および透明誘電体
を保護する保護膜27で構成されている。
The front substrate 11 disposed opposite the rear substrate 10 has transparent electrodes (7X1, 7Y1, 7X2, 7Y).
2) and auxiliary electrodes (8X1, 8Y1, 8X2, 8Y)
2), a transparent dielectric 26 covering it, and a protective film 27 for protecting the transparent dielectric.

【0027】本発明の第一の実施の形態によれば、図示
のように、井桁状の隔壁30の前面基板20に対向する
側の頂部に半球状の凸部32を多数、ランダムに設ける
ことにより、排気パスを確保するように構成する。な
お、パネルに連結される排気管については、従来周知の
構成なので図示を省略する。
According to the first embodiment of the present invention, as shown in the figure, a large number of hemispherical projections 32 are randomly provided on the top of the cross-girder partition wall 30 on the side facing the front substrate 20. Thereby, an exhaust path is ensured. Note that the exhaust pipe connected to the panel is not shown in the drawings because it has a conventionally well-known configuration.

【0028】図2(a)に隔壁30の上面に設けられた
凸部32の形成状況を拡大して示す。図2(b)に示す
ように、背面基板10に形成された隔壁30と前面基板
20との間に凹凸による空隙を設けることで、排気パス
203を確保することができる。
FIG. 2A is an enlarged view showing the formation of the projections 32 provided on the upper surface of the partition 30. As shown in FIG. 2B, by providing a gap between the partition 30 formed on the rear substrate 10 and the front substrate 20 by unevenness, the exhaust path 203 can be secured.

【0029】各凸部32の高さは1〜20μm(望まし
くは5〜15μm)、大きさ(直径)は10〜50μm
(ただし高さの2倍以上)、隣り合う凸部32の頂点の
間隔は30〜100μmとする。
Each projection 32 has a height of 1 to 20 μm (preferably 5 to 15 μm) and a size (diameter) of 10 to 50 μm.
(However, the height is twice or more the height), and the interval between the vertices of the adjacent convex portions 32 is 30 to 100 μm.

【0030】このように、本発明によれば、排気パスの
存在しにくい密閉型セル構造のパネルにおいても排気パ
スを確保することができる。
As described above, according to the present invention, an exhaust path can be ensured even in a panel having a closed cell structure where an exhaust path is unlikely to exist.

【0031】なお、隔壁に凹凸を形成する技術が特開平
11−219658号公報に開示されているが、これ
は、隔壁の側面に硬質粒子を露出させて凹凸形状を設け
る技術にすぎない。すなわち、同公報では、蛍光体表面
積の増大が目的であり、発光エリアの増大を意図して、
隔壁の側面のみに凹凸を形成する技術であり、隔壁頂部
に凹凸を形成することの開示も示唆もない。
A technique for forming irregularities on the partition walls is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-219658, but this is merely a technique for exposing hard particles to the side faces of the partition walls to form irregularities. That is, in the publication, the purpose is to increase the surface area of the phosphor, and to increase the emission area,
This is a technique for forming unevenness only on the side surface of the partition, and there is no disclosure or suggestion of forming unevenness on the top of the partition.

【0032】次に図3を参照して、本発明によるプラズ
マディスプレイパネルの製造方法の第1の実施形態を説
明する。なお、図中では、背面基板10に形成されてい
るデータ電極11およびそれを覆う誘電体層12は図示
を省略している。これらを備えた基板を以後、背面基板
10として説明する。
Next, a first embodiment of a method for manufacturing a plasma display panel according to the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 1, the data electrode 11 formed on the back substrate 10 and the dielectric layer 12 covering the data electrode 11 are not shown. Hereinafter, a substrate provided with these will be described as a back substrate 10.

【0033】図3(a)に示すように、背面基板10上
に井桁状の隔壁30を形成する。この隔壁30の形成方
法としては、現在一般的な隔壁形成工程であるサンドブ
ラスト工法や、一般的な隔壁形成工程の一つであるアデ
ィティブ工法を用いて形成される。隔壁材料としては、
セラミックスまたはガラスの粉体とバインダの混合物を
用いている。
As shown in FIG. 3A, a grid-shaped partition 30 is formed on the rear substrate 10. The partition wall 30 is formed by using a sand blast method, which is a general partition forming step, or an additive method, which is one of the general partition forming steps. As the partition material,
A mixture of ceramic or glass powder and a binder is used.

【0034】この隔壁30の形成後、図3(b)に示す
ように、蛍光体塗布前に、酸化チタン(チタニア)等の
白色顔料層33を隔壁30の上面および側面に形成する
ことで、ポーラスな隔壁30に蛍光体が浸透することに
よる輝度低下を防ぎ、さらに反射層33としての機能を
もたせる。この工法自体は、特許第2773393号公
報にも開示されている公知の工法である。
After the formation of the partition 30, a white pigment layer 33 such as titanium oxide (titania) is formed on the upper and side surfaces of the partition 30 before the phosphor is applied, as shown in FIG. This prevents the phosphor from penetrating into the porous partition walls 30 to lower the luminance, and furthermore, functions as the reflective layer 33. This method itself is a known method disclosed in Japanese Patent No. 2773393.

【0035】次に、図3(c)に示すように、通常パタ
ーン印刷、またはディスペンサ塗布等により蛍光体31
を形成する。
Next, as shown in FIG. 3 (c), the phosphor 31 is formed by normal pattern printing or dispenser application.
To form

【0036】本発明では、上記反射層33の形成工程に
おいて、反射層材料中に粒径1〜30μm、より好まし
くは5〜15μmの球状のフィラーを、反射層材料に対
して重量比で0.1〜30%、より好ましくは1〜20
%を混合する。
In the present invention, in the step of forming the reflective layer 33, a spherical filler having a particle size of 1 to 30 μm, more preferably 5 to 15 μm is added to the reflective layer material in a weight ratio of 0. 1-30%, more preferably 1-20
Mix%.

【0037】フィラーとしては、例えばAl23(アル
ミナ)、ZrO2(ジルコニア)等の無色透明か白色、
より好ましくは反射層33の機能を損なわないため白色
の酸化物が好ましい。この粉末を、ビヒクルを用いてペ
ーストとし、全面(ベタ)印刷、すなわち隔壁30の頂
部上にも印刷する。これにより、隔壁上に反射層材料が
ある程度凝集した形で、半球状の凹凸を多数自然に形成
することができる。
As the filler, for example, colorless transparent or white such as Al 2 O 3 (alumina) and ZrO 2 (zirconia);
More preferably, a white oxide is preferable because the function of the reflective layer 33 is not impaired. This powder is made into a paste using a vehicle, and is printed on the entire surface (solid), that is, also on the top of the partition wall 30. Thus, a large number of hemispherical irregularities can be naturally formed in a form in which the reflective layer material is aggregated to some extent on the partition walls.

【0038】したがってパネル化したときに前面基板と
背面基板の間に空隙ができることで、排気パスが(自動
的に)確保できるので、密閉型セル構造においても、従
来の封着・排気方法で容易に排気できる。
Therefore, when a panel is formed, a gap is formed between the front substrate and the rear substrate, so that an exhaust path can be secured (automatically). Can be exhausted.

【0039】例えば反射層33にチタニアを採用した場
合では、前面基板10と隔壁頂部との間の空隙、すなわ
ち凹凸の高さは、1〜20μm、望ましくは10〜15
μmとする。20μm以上になると、駆動時に隣接セル
間に干渉の影響が生じる可能性が高くなる。また1μm
以下では、排気パスとしての効果が期待できない。
For example, when titania is used for the reflection layer 33, the gap between the front substrate 10 and the top of the partition wall, that is, the height of the unevenness is 1 to 20 μm, preferably 10 to 15 μm.
μm. When the thickness is 20 μm or more, there is a high possibility that interference between adjacent cells will occur during driving. 1 μm
Below, the effect as an exhaust path cannot be expected.

【0040】また凸部の直径は、10〜50μm、ただ
し高さに対して2倍以上あるものとする。凸部同士の間
隔は、30〜100μm、ただし凸部同士は重なり合わ
ないものとする。30μm以下では凸部同士の間隔が狭
くなり、十分な排気パスを確保できない。また100μ
m以上となると、前面基板と隔壁との支持点数が少なく
なるため、応力集中によるクラック等の可能性が高くな
る。
The diameter of the projection is 10 to 50 μm, which is twice or more the height. The interval between the protrusions is 30 to 100 μm, but the protrusions do not overlap. If it is 30 μm or less, the interval between the convex portions becomes narrow, and a sufficient exhaust path cannot be secured. Also 100μ
If m or more, the number of support points between the front substrate and the partition wall decreases, and the possibility of cracks or the like due to stress concentration increases.

【0041】ところで凸部同士の間隔は、十分に撹拌さ
れた条件下では、ペースト中のフィラーの含有率でほぼ
決定され、含有量を反射層材料に対して重量比で0.1
〜30%、より好ましくは1〜20%とすることで、前
出の凸部の間隔を確保することができる。また、凹凸は
球面で構成されるものが望ましい。平面が含まれた凹凸
では角に相当する部分が存在する事になり、その角が支
持点になると応力集中が高くなり、クラック等の可能性
が高くなるからである。
By the way, the interval between the projections is almost determined by the content of the filler in the paste under sufficiently stirred conditions, and the content is 0.1% by weight relative to the material of the reflective layer.
By setting the thickness to 30%, more preferably 1% to 20%, the interval between the above-mentioned convex portions can be secured. Further, it is desirable that the unevenness is constituted by a spherical surface. This is because, in the unevenness including a plane, a portion corresponding to a corner exists, and when the corner becomes a support point, stress concentration increases, and the possibility of cracks and the like increases.

【0042】上記実施の形態では、隔壁頂部に凹凸を形
成する手段として、フィラー入り反射層(チタニア層)
をベタ印刷の方法により形成する場合を示したが、以下
に説明する他の方法でも隔壁頂部に凹凸を形成すること
ができる。
In the above embodiment, as a means for forming irregularities on the top of the partition wall, a filler-containing reflection layer (titania layer) is used.
Is shown by a solid printing method, but the unevenness can be formed on the top of the partition wall by other methods described below.

【0043】本発明の第2の製法の実施形態例を図4を
参照して説明する。図4(a)に示すように、背面基板
10上に隔壁材料層304を形成し、その上から井桁状
の溝を有するプレス型41を押しつけて後、図4(b)
に示すようにプレス型41を離すことにより背面基板1
0上に隔壁324を残す、いわゆるプレス成形方法を採
用するものであり、図7に示すように、そのプレス型の
井桁状溝部71の底面に、半球状凹部(くぼみ)732
を設けておくことにより、隔壁をプレス成形方法で形成
すると同時に隔壁324の頂部に凹凸(図示省略)が形
成される。
An embodiment of the second manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 4A, a partition wall material layer 304 is formed on the rear substrate 10, and a press die 41 having a cross-shaped groove is pressed thereon.
By releasing the press die 41 as shown in FIG.
This method employs a so-called press molding method in which a partition wall 324 is left on the bottom surface 0, and as shown in FIG.
Is formed, the partition walls are formed by the press molding method, and at the same time, irregularities (not shown) are formed on the tops of the partition walls 324.

【0044】また、本発明の第3の製法の実施形態例を
図5を参照して説明する。図5(a)、(b)に示すよ
うな、隔壁材料305を井桁状の溝内に充填した成形型
51を背面基板10に押し当てて、隔壁材料のみを背面
基板10側に転写する、いわゆる型押出し工法にても隔
壁325を形成できる。この時、成形型51の溝底面に
図7に示すような半球状凹部(くぼみ)を設けておくこ
とにより、転写と同時に隔壁325の頂部に凹凸(図示
省略)が形成される。
An embodiment of the third manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), a mold 51 in which a partition material 305 is filled in a cross-shaped groove is pressed against the rear substrate 10, and only the partition material is transferred to the rear substrate 10. The partition 325 can also be formed by a so-called die extrusion method. At this time, by providing a hemispherical concave portion (recess) as shown in FIG. 7 on the bottom surface of the groove of the molding die 51, irregularities (not shown) are formed on the top of the partition 325 simultaneously with the transfer.

【0045】隔壁の形成と同時に隔壁頂部に凹凸を形成
する方法としては、上記の他に、ローラー工法が採用で
きる。すなわち、本発明の第4の製法の実施形態例を図
6を参照して説明する。図6に示すように、背面基板1
0の表面に隔壁材料層306を形成し、その上を、表面
に隔壁に対応する井桁状溝が形成されたローラー式成形
型61を押しつけて、回転移動する方法である。井桁状
溝の底面に、隔壁頂部に形成すべき凸部の相当する凹部
を形成しておくことにより、(図7参照)隔壁の形成と
同時に隔壁頂部に凹凸を形成することができる。
As a method of forming the irregularities on the top of the partition simultaneously with the formation of the partition, a roller method can be employed in addition to the above. That is, an embodiment of the fourth manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG.
In this method, a partition material layer 306 is formed on the surface of No. 0, and a roller-type forming die 61 having a cross-shaped groove corresponding to the partition is formed on the surface thereof, and is rotated and moved. By forming a concave portion corresponding to the convex portion to be formed on the top of the partition on the bottom surface of the cross-girder groove, unevenness can be formed on the top of the partition simultaneously with the formation of the partition (see FIG. 7).

【0046】隔壁の形成方法としては、上記の型を用い
る方法の他に、現在一般的な隔壁工程であるサンドブラ
スト工法がある。以下に図8を参照して、このサンドブ
ラスト工法における本発明の第5の製法による実施形態
を述べる。
As a method for forming the partition walls, there is a sand blasting method which is a general partitioning step at present, in addition to the above-described method using the mold. Referring to FIG. 8, an embodiment according to a fifth manufacturing method of the present invention in this sandblasting method will be described below.

【0047】図8(a)に示すように、背面基板10上
に隔壁用材料層308を形成し、その上にブラスト用の
ドライフィルムレジスト(DFR)のマスク83を形成
し、サンドブラスト機81を用いて全面走査して、図8
(b)に示すように隔壁318を形成する。この隔壁3
18の頂部に残っているDFRマスク83を剥離後に、
図8(c)に示すように、さらに追加工程として、サン
ドブラスト機81を再度用いて、隔壁318の頂部に対
して短時間ブラスト処理を行うことにより、本発明の目
的とする凹凸を隔壁328の頂部に形成することができ
る(凹凸は図示省略)。
As shown in FIG. 8A, a barrier rib material layer 308 is formed on the rear substrate 10, and a dry film resist (DFR) mask 83 for blasting is formed thereon. The entire surface is scanned using FIG.
A partition 318 is formed as shown in FIG. This partition 3
After peeling off the DFR mask 83 remaining on the top of 18,
As shown in FIG. 8C, as an additional step, the top of the partition wall 318 is subjected to blast processing for a short time by using the sand blasting machine 81 again, so that the unevenness of the partition wall 328 is reduced. It can be formed on the top (unevenness is not shown).

【0048】なお、最初の実施の形態で説明した例での
反射層のベタ印刷法の代わりに、スプレーコート法で、
ガラス材、もしくは反射層材料をごく薄く全面にスプレ
ーすることでも、細かい隆起を隔壁頂部に作製すること
が出来る。この工法では隔壁側面部や、隔壁底部に凹凸
ができるが、これにより、蛍光体の表面積が増える効果
もあわせて期待できる。なお、このスプレー散布を行う
工程は、隔壁をサンドブラスト工程で形成する場合は、
隔壁ペーストを塗布し、乾燥した後でも可能である。
In place of the solid printing method for the reflective layer in the example described in the first embodiment, a spray coating method is used.
Fine projections can also be formed on the top of the partition wall by spraying a very thin glass material or a reflective layer material over the entire surface. In this method, irregularities are formed on the side wall and the bottom of the partition wall, and the effect of increasing the surface area of the phosphor can be expected. In addition, in the step of performing this spraying, when the partition is formed by a sandblasting step,
This is possible even after the partition wall paste is applied and dried.

【0049】また、一般的な隔壁工程の一つであるアデ
ィティブ工法において、パターン化されたドライフィル
ム内に隔壁ペーストを埋め込んだのち、フィルムを剥離
する前に、ごく短時間サンドブラスト処理を行うか、上
述したスプレーコート法の何れかを行うことにより、隔
壁頂部に当たる部分に細かい凹凸を作ることができる。
In addition, in the additive method, which is one of the general partitioning steps, after embedding the partitioning paste in a patterned dry film, a sand blasting process is performed for a very short time before the film is peeled off. By performing any of the above-described spray coating methods, fine irregularities can be formed in a portion corresponding to the top of the partition wall.

【0050】この方法は、前面基板側にブラックマトリ
ックスまたはブラックストライプを形成する際にも適用
することができ、ブラックマトリックスまたはブラック
ストライプの頂部に細かい凹凸を形成することにより、
排気パスを確保することができる。
This method can be applied to the formation of a black matrix or a black stripe on the front substrate side. By forming fine irregularities on the top of the black matrix or the black stripe,
An exhaust path can be secured.

【0051】また、本発明は、前面基板の内面側に凹凸
を形成するという方式でも適用することができる。前面
基板側への凹凸形成の場合、前面基板に電極を覆う透明
グレーズなどの透明誘電体層形成後、全面にスプレーコ
ート等でごく薄くガラス材(グレーズペースト)を散布
することで、細かい凸部を作る。ガラス材の透過率が十
分高いもの(たとえば膜厚100μmにおける可視光透
過率が90%以上のSiO2 ガラスなど)を用いれば、
排気パスに必要な20μm以下の凹凸には、パネルとし
ての視認性に大きな影響を及ぼさない。
The present invention can also be applied to a method of forming irregularities on the inner surface of the front substrate. In the case of forming irregularities on the front substrate side, after forming a transparent dielectric layer such as a transparent glaze covering the electrodes on the front substrate, a very thin glass material (glaze paste) is sprayed over the entire surface with a spray coat or the like, so that fine projections are formed. make. If a glass material having a sufficiently high transmittance (for example, SiO 2 glass having a visible light transmittance of 90% or more at a film thickness of 100 μm) is used,
Irregularities of 20 μm or less required for the exhaust path do not significantly affect the visibility of the panel.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイパネル
は、排気パスの存在しにくい密閉型セル構造のパネルに
おいて、前面基板と背面基板の間にランダムに点在する
凹凸による空隙を設けることで、排気パスを確保するこ
とができるので、従来の一般的な封着・排気方法を用い
て容易に排気が行える効果がある。したがって、製造工
程数や製造コストの増加という問題は生じないし、さら
に高いアライメント精度が要求される等の問題も生じな
い。
According to the plasma display panel of the present invention, in a panel having a closed cell structure in which an exhaust path is unlikely to exist, an air gap formed by randomly scattered irregularities between a front substrate and a rear substrate is provided. Therefore, there is an effect that the air can be easily exhausted by using a conventional general sealing and exhausting method. Therefore, there is no problem of an increase in the number of manufacturing steps and manufacturing cost, and there is no problem that a higher alignment accuracy is required.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるプラズマディスプレイパネルの一
例を示す分解斜視図。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing an example of a plasma display panel according to the present invention.

【図2】(a) 本発明の隔壁頂部に設けられた凸部の
様子を示す拡大斜視図。 (b) 本発明の凸部による排気パスの形成構成を示す
拡大断面図。
FIG. 2A is an enlarged perspective view showing a state of a projection provided on the top of a partition wall according to the present invention. FIG. 3B is an enlarged cross-sectional view illustrating a configuration of forming an exhaust path by the protrusions of the present invention.

【図3】本発明の第1の製法例を説明する製造工程図。FIG. 3 is a manufacturing process diagram illustrating a first manufacturing method example of the present invention.

【図4】本発明の第2の製法例を説明する製造工程図。FIG. 4 is a manufacturing process diagram illustrating a second manufacturing method example of the present invention.

【図5】本発明の第3の製法例を説明する製造工程図。FIG. 5 is a manufacturing process diagram illustrating a third manufacturing method example of the present invention.

【図6】本発明の第4の製法例を説明する斜視図。FIG. 6 is a perspective view illustrating a fourth example of the manufacturing method of the present invention.

【図7】本発明の第2乃至第4の製法例に適用される井
桁状溝の底面部の構成を示す斜視図。
FIG. 7 is a perspective view showing a configuration of a bottom portion of a girder-shaped groove applied to the second to fourth manufacturing methods of the present invention.

【図8】本発明の第5の製法例を説明する製造工程図。FIG. 8 is a manufacturing process diagram illustrating a fifth manufacturing method example of the present invention.

【図9】従来技術によるプラズマディスプレイパネルの
一例を示す分解斜視図。
FIG. 9 is an exploded perspective view showing an example of a conventional plasma display panel.

【図10】図9の帯状凸部23の配置構成を示す拡大断
面図。
FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view showing an arrangement configuration of the band-shaped convex portions 23 in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 背面基板 11 データ電極 12 誘電体層 20 前面基板 23 帯状凸部 26 誘電体層 27 保護膜 30 隔壁 31 蛍光体 32 凸部 33 反射層 41 プレス型 51 成形型 61 ローラー式成形型 71 井桁状溝部 81 サンドブラスト機 83 マスク 7X1,7X2,7Y1,7Y2 透明電極 8X1,8X2,8Y1,8Y2 補助電極 203 排気パス 304、306,308 隔壁材料層 305 隔壁材料 318,324,325,328 隔壁 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Back substrate 11 Data electrode 12 Dielectric layer 20 Front substrate 23 Belt-shaped convex part 26 Dielectric layer 27 Protective film 30 Partition wall 31 Phosphor 32 Convex part 33 Reflective layer 41 Press mold 51 Mold 61 Roller mold 71 Cross groove 71 81 Sandblasting machine 83 Mask 7X1, 7X2, 7Y1, 7Y2 Transparent electrode 8X1, 8X2, 8Y1, 8Y2 Auxiliary electrode 203 Exhaust path 304, 306, 308 Partition material layer 305 Partition material 318, 324, 325, 328 Partition

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 閉セル構造を構成する隔壁を介在させて
前面基板と背面基板とを対向配置したプラズマディスプ
レイパネルにおいて、前記前面基板と前記隔壁との対向
領域のいずれか一方に、排気パスを確保するように凹凸
による空隙を設けたことを特徴とするプラズマディスプ
レイパネル。
1. A plasma display panel having a front substrate and a rear substrate opposed to each other with a partition constituting a closed cell structure interposed therebetween, wherein an exhaust path is provided in one of the opposing regions of the front substrate and the partition. A plasma display panel characterized by providing voids by irregularities so as to secure them.
【請求項2】 前記前面基板に対向する前記隔壁の頂部
に前記凹凸を設けたことを特徴とする請求項1記載のプ
ラズマディスプレイパネル。
2. The plasma display panel according to claim 1, wherein the unevenness is provided at a top of the partition wall facing the front substrate.
【請求項3】 前記凹凸が半球状凸部を前記隔壁の頂部
に設けることにより形成されていることを特徴とする請
求項2記載のプラズマディスプレイパネル。
3. The plasma display panel according to claim 2, wherein the unevenness is formed by providing a hemispherical convex portion on the top of the partition.
【請求項4】 前記半球状凸部の高さが1〜20μm、
直径が10〜50μm、隣り合う凸部の頂点の間隔が3
0〜100μmであることを特徴とする請求項3記載の
プラズマディスプレイパネル。
4. The height of the hemispherical convex portion is 1 to 20 μm,
The diameter is 10 to 50 μm, and the distance between the vertices of adjacent protrusions is 3
4. The plasma display panel according to claim 3, wherein the thickness is 0 to 100 [mu] m.
【請求項5】 前記前面基板の前記隔壁に対向する領域
に前記凸部を形成して前記凹凸を構成することを特徴と
する請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
5. The plasma display panel according to claim 1, wherein the projections are formed in a region of the front substrate facing the partition to form the projections and depressions.
【請求項6】 閉セル構造を構成する隔壁を介在させて
前面基板と背面基板とを対向配置したプラズマディスプ
レイパネルの製造方法において、前記前面基板に対向す
る前記隔壁頂部、または前面基板の処理面表面のどちら
か一方に、排気パスを確保するための凹凸を形成する工
程を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法。
6. A method of manufacturing a plasma display panel in which a front substrate and a rear substrate are arranged to face each other with a partition constituting a closed cell structure interposed therebetween, wherein the top of the partition facing the front substrate or a processing surface of the front substrate. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising a step of forming irregularities on one of the surfaces to secure an exhaust path.
【請求項7】 前記背面基板に前記隔壁を形成後、前記
隔壁に囲まれたセル内面に反射層を形成する工程を有
し、前記反射層の形成工程において、フィラーを混合し
たペーストを用いて、前記セルの内面および前記隔壁の
頂部に前記ペーストを形成することで、前記隔壁頂部に
半球状の凹凸を形成することを特徴とする請求項6記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
7. The method according to claim 7, further comprising: after forming the barrier ribs on the rear substrate, forming a reflective layer on the inner surface of the cell surrounded by the barrier ribs. 7. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 6, wherein the paste is formed on the inner surface of the cell and the top of the partition to form hemispherical irregularities on the top of the partition.
【請求項8】 前記隔壁を前記背面基板上に形成する工
程において、前記隔壁形成材料をプレス式、押出し成型
法またはローラー式等の隔壁形成方法を用いて、前記隔
壁頂部上に当たる箇所に前記凹凸を設けた型を用いて前
記隔壁の形成を行うことで前記凹凸を隔壁の形成時に設
けることを特徴とする請求項6記載のプラズマディスプ
レイパネルの製造方法。
8. The step of forming the partition on the rear substrate, using a partition forming method such as a press type, an extrusion molding method, or a roller type, wherein the material for forming the partition is applied to a location on the top of the partition. The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 6, wherein the unevenness is provided at the time of forming the partition by forming the partition using a mold provided with the component.
【請求項9】 前記隔壁を前記背面基板上にブラスト加
工またはラミネート剥離により形成した後に、前記隔壁
の表面にブラスト加工を再度施すことで、前記頂部を含
んだ前記隔壁上に前記凹凸を作ることを特徴とする請求
項6記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
9. After forming the partition on the rear substrate by blasting or laminating, the surface of the partition is subjected to blasting again to form the irregularities on the partition including the top. The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 6, wherein:
【請求項10】 前記隔壁を前記背面基板上に形成した
後、または、隔壁用ペーストを塗布した後、さらにガラ
ス材をスプレーコートすることにより前記凹凸を作成す
ることを特徴とする請求項6記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。
10. The unevenness is formed by forming the partition on the rear substrate or applying a partition paste and then spray coating a glass material. Of manufacturing a plasma display panel.
【請求項11】 前記背面基板上に前記隔壁をアディテ
ィブ工法で形成するとともに、その形成の際に、パター
ニングしたフィルムに埋めこんだペーストに対し、フィ
ルムを剥離する前にブラスト工程を追加するか、もしく
はさらにガラス材をスプレーコートすることで、前記凹
凸を作成することを特徴とする請求項6記載のプラズマ
ディスプレイパネルの製造方法。
11. The method according to claim 11, wherein the partition walls are formed on the rear substrate by an additive method, and a blast step is added to the paste embedded in the patterned film before the film is peeled off. 7. The method according to claim 6, wherein the unevenness is formed by spray coating a glass material.
【請求項12】 前記前面基板に透明グレーズを形成
後、透過率・屈折率がパネル特性に影響が出ない範囲
で、前記前面基板の全面にスプレーコート等でグレーズ
ペーストを散布することで前記凹凸を作ることを特徴と
する請求項6記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
12. After the transparent glaze is formed on the front substrate, the glaze paste is sprayed on the entire surface of the front substrate by spray coating or the like so that the transmittance and the refractive index do not affect panel characteristics. 7. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 6, wherein:
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US7075235B2 (en) 2003-02-21 2006-07-11 Samsung Sdi Co., Ltd. Plasma display panel with open and closed discharge cells

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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