JP2002172675A - Polymeric sheet, method of manufacturing polymeric sheet, and liquid crystal display device - Google Patents

Polymeric sheet, method of manufacturing polymeric sheet, and liquid crystal display device

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JP2002172675A
JP2002172675A JP2000374647A JP2000374647A JP2002172675A JP 2002172675 A JP2002172675 A JP 2002172675A JP 2000374647 A JP2000374647 A JP 2000374647A JP 2000374647 A JP2000374647 A JP 2000374647A JP 2002172675 A JP2002172675 A JP 2002172675A
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JP
Japan
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polymer sheet
sheet
liquid crystal
molecular weight
crystal display
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Application number
JP2000374647A
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Japanese (ja)
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Junji Tanaka
順二 田中
Masaru Takahashi
大 高橋
Toshimasa Eguchi
敏正 江口
Kunihisa Sato
邦久 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a polymeric sheet excellent in heat resistance and the smoothness of a sheet surface and having few projections. SOLUTION: In this method, a polyether sulfone having a glass transition point of 150 deg.C or above, a number-average molecular weight (Mn) of 11,000-25,000 and a molecular-weight distribution (Mw/Mn) of 3.0 or below is melt-extruded by a T-die or a coathanger die and thereby the polymeric sheet of a thickness 70-1,000 μm or below is manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性に優れ、シ
ート表面の平滑性に優れ、かつ突起物が少ない高分子シ
ートの製造方法に関し、さらに本発明は液晶表示装置等
の光学用シートに適する高分子シート及びそれを用いた
液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a polymer sheet having excellent heat resistance, excellent sheet surface smoothness, and having few projections. The present invention further relates to a method for producing an optical sheet such as a liquid crystal display device. The present invention relates to a suitable polymer sheet and a liquid crystal display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から液晶表示素子用透明電極基板に
はガラス基板が使用されている。しかしながら、ガラス
基板を用いた液晶表示素子においては、ガラス基板自体
が厚いため液晶表示素子自体の薄型化が困難であると共
に、軽量化しにくいという欠点があり、更に、可とう
性、耐衝撃性の点で問題があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, a glass substrate has been used as a transparent electrode substrate for a liquid crystal display device. However, a liquid crystal display device using a glass substrate has the drawback that it is difficult to reduce the thickness of the liquid crystal display device itself because the glass substrate itself is thick, and it is difficult to reduce the weight. There was a problem in point.

【0003】このガラス基板液晶表示素子の持つ欠点を
改善する方法として、プラスチックフィルムを用いて液
晶パネルを作製することにより、液晶パネルの軽量化、
耐衝撃性の向上が検討されている。
As a method for improving the disadvantages of the glass substrate liquid crystal display element, a liquid crystal panel is manufactured by using a plastic film to reduce the weight of the liquid crystal panel,
Improvement of impact resistance is being studied.

【0004】熱可塑性樹脂シート(高分子シート)を用
いた液晶セルが実用化されるにつれて、表示面積が大型
化し、電極同志を均一間隔に保つ、いわゆるギャップ維
持のため、基材として変形し難いことが要求されてい
る。基材厚みは当初の100μm厚から300μmを越
える場合が出てきており、高分子シートを用いた開発も
行われているが、平面のリタデーションによる液晶表示
のコントラストの問題、表面平滑性が不十分であること
に起因する表示欠点の問題、反りによる液晶封子部の剥
がれ、及び素子の変形が課題となっており、早急な改善
が望まれている。
[0004] As a liquid crystal cell using a thermoplastic resin sheet (polymer sheet) is put into practical use, the display area becomes larger, and the electrodes are kept at uniform intervals. Is required. In some cases, the thickness of the base material has exceeded 300 μm from the initial thickness of 100 μm, and development using a polymer sheet has been conducted, but the contrast of the liquid crystal display due to flat retardation and the surface smoothness are insufficient. Therefore, problems of display defects, peeling of the liquid crystal sealing portion due to warpage, and deformation of the element have been issues, and an immediate improvement is desired.

【0005】表面平滑性については、Tダイやコートハ
ンガーダイを使用した溶融押し出し法では、熱可塑性高
分子の通る流路内でのせん断応力や滞留、更には、ダイ
スの面やリップの精度により生じるとされているダイラ
インと呼ばれる筋がシート面に発生し、表面の平滑性を
低下させている。表面平滑性を向上させる手段として、
熱可塑性高分子を溶剤に溶解させ、フィルムもしくは金
属ベルト等にコーティングし乾燥させる溶剤キャスト法
が知られているが、シート厚みが厚くなった場合の生産
性及びシート中の残留溶剤が問題となる。
[0005] Regarding the surface smoothness, the melt extrusion method using a T die or a coat hanger die depends on the shear stress and stagnation in the flow path through which the thermoplastic polymer passes, and further, the precision of the die surface and lip. Streaks called die lines, which are supposed to occur, are formed on the sheet surface, and the surface smoothness is reduced. As a means to improve surface smoothness,
A solvent casting method is known in which a thermoplastic polymer is dissolved in a solvent, and a film or a metal belt is coated and dried. However, productivity and a residual solvent in the sheet when the thickness of the sheet increases become a problem. .

【0006】又、表面を高精度に仕上げた金型に熱可塑
性高分子を封入して成形する射出成型法もCDディスク
で知られるようにリタデーションの制御が可能であり、
生産性も問題ないことから有力候補と考えられるが、射
出成型法では数mmオーダーの厚みのシートが限界であ
り、数百μmの厚みには対応できない。
[0006] In addition, an injection molding method in which a thermoplastic polymer is sealed in a mold whose surface is finished with high precision and molded can also control retardation as is known for CD disks.
Although productivity is not a problem, it is considered a promising candidate. However, in the injection molding method, a sheet having a thickness on the order of several millimeters is the limit, and cannot be applied to a thickness of several hundred micrometers.

【0007】更に、溶融押し出し製膜工程において発生
する高分子量ゲル化物に起因する突起状物の増大が重大
な欠点となることがわかった。例えば、高分子シートを
基板に使用した液晶表示素子では、基板表面の突起物に
より表示の点欠陥が生じる問題がある。
Further, it has been found that an increase in projections caused by a high molecular weight gelled product generated in a melt extrusion film forming process is a serious drawback. For example, in a liquid crystal display device using a polymer sheet for a substrate, there is a problem that a point defect of display is caused by a projection on the substrate surface.

【0008】高分子量ゲル化物は重合時又は重合後の原
料段階及び各種熱加工の工程において生じる。この内原
料段階で生じるゲル化物は、熱溶融時にメッシュ等で除
去することが可能であるが、メッシュを通した後も高温
状態になっているため冷却されるまでの短時間の間に、
樹脂中の高分子化合物同士が反応して高分子量ゲル化物
を生じることが避けられなかった。この傾向はシート厚
みが厚いほど顕著になる性質があり、表示画面の大型化
に伴い重大な欠点となっていた。
[0008] The high molecular weight gelled product is produced during or after the raw material stage of polymerization and various thermal processing steps. The gelled material generated in this raw material stage can be removed with a mesh or the like at the time of heat melting, but it is in a high temperature state even after passing through the mesh, and during a short time until it is cooled,
It was inevitable that the high molecular compounds in the resin reacted with each other to produce a high molecular weight gel. This tendency has the property of becoming more pronounced as the sheet thickness increases, and has become a serious drawback as the display screen becomes larger.

【0009】このように、シート表面の平滑性に優れ、
かつ突起物が少ない高分子シートを製造することは現状
技術では困難であった。
Thus, the sheet surface is excellent in smoothness,
In addition, it was difficult with the state of the art to produce a polymer sheet having few projections.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐熱
性に優れ、シート表面の平滑性に優れ、かつ突起物が少
ない高分子シートの製造方法を提供することであり、更
に、液晶表示パネル用光学シートとして好適に使用でき
る高分子シート及びそれを用いた液晶表示装置を提供す
ることである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing a polymer sheet having excellent heat resistance, excellent sheet surface smoothness, and having few projections. An object of the present invention is to provide a polymer sheet that can be suitably used as an optical sheet for a panel and a liquid crystal display device using the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス転移点
が150℃以上であり、かつ数平均分子量(Mn)が1
1000〜25000で、分子量分布(Mw/Mn)が
3.0以下であるポリエーテルサルホンをTダイ又はコ
ートハンガーダイで溶融押し出しして、厚みが70μm
以上1000μm以下の高分子シートを製造することを
特徴とする高分子シートの製造方法である。前記高分子
シートの製造方法においては、原料樹脂であるポリエー
テルサルホンの数平均分子量(Mn)が15000〜2
2000であり、分子量分布(Mw/Mn)が2.0以下
であるのが好ましい。またポリエーテルサルホンは4,
4′−ジクロロジフェニルスルホン及び4,4′−ジヒ
ドロキシジフェルスルホンを重縮合して得られたもので
あるのが好ましい。又、本発明は、前記の製造方法で製
造された高分子シートである。更に、本発明は、前記高
分子シートを使用して組み立てられた液晶表示装置であ
る。
According to the present invention, a glass transition point is 150 ° C. or higher, and a number average molecular weight (M n ) is 1
A polyethersulfone having a molecular weight distribution ( Mw / Mn ) of not more than 3.0 having a molecular weight distribution ( Mw / Mn ) of not more than 3.0 is extruded with a T die or a coat hanger die, and has a thickness of 70 μm.
A method for producing a polymer sheet, comprising producing a polymer sheet having a thickness of 1000 μm or less. In the method for producing a polymer sheet, the number average molecular weight ( Mn ) of polyether sulfone as a raw material resin is 15,000 to 2
2000, and the molecular weight distribution (M w / M n ) is preferably 2.0 or less. Polyethersulfone is 4,
It is preferably obtained by polycondensing 4'-dichlorodiphenylsulfone and 4,4'-dihydroxydifelsulfone. Further, the present invention is a polymer sheet manufactured by the above manufacturing method. Furthermore, the present invention is a liquid crystal display device assembled using the above polymer sheet.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明に使用するポリエーテルサ
ルホンは各種の構造のものがあり、特に限定されるもの
ではないが、ガラス転移点(Tg)は、150℃以上で
あることが必要であり、好ましくは180℃以上、40
0℃以下である。Tgが150℃未満の場合には、液晶
組立工程の熱処理、例えば、配向膜焼成及びシール硬化
温度にて高分子シートが軟化し、不具合を生じるおそれ
がある。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The polyethersulfone used in the present invention has various structures and is not particularly limited, but the glass transition point (Tg) must be 150 ° C. or higher. And preferably at least 180 ° C. and 40
0 ° C. or less. If the Tg is lower than 150 ° C., the polymer sheet may be softened by the heat treatment in the liquid crystal assembling step, for example, at the temperature of firing the alignment film and curing the seal, thereby causing a problem.

【0013】本発明において原料樹脂として使用される
ポリエーテルサルホンは、4,4′−ジクロロジフェニ
ルスルホン及び4,4′−ジヒドロキシジフェルスルホ
ンを重縮合して得られたものであることが好ましい。両
原料モノマーの仕込み配合量比、脱縮合剤、反応条件等
により、得られるポリエーテルサルホンの分子量、分子
量分布、OH末端基量をコントロールすることができ
る。
The polyethersulfone used as a raw material resin in the present invention is preferably obtained by polycondensation of 4,4'-dichlorodiphenylsulfone and 4,4'-dihydroxydifulfone. . The molecular weight, molecular weight distribution, and OH terminal group content of the obtained polyethersulfone can be controlled by adjusting the mixing ratio of the starting monomers and the decondensing agent, reaction conditions, and the like.

【0014】本発明に使用するポリエーテルサルホン
は、数平均分子量(Mn)が11000〜25000
で、分子量分布(Mw/Mn)が3.0以下であることが
必要である。好ましくは、数平均分子量(Mn)が15
000〜22000で、分子量分布(Mw/Mn)が1.
0以上、2.0以下である。ポリエーテルサルホンの数
平均分子量(Mn)が11000未満では、耐溶剤性が
劣り液晶表示セル組立工程で各種溶剤を使用した場合に
クラック、しわ等が発生するおそれがある。一方、数平
均分子量(Mn)が25000を越えると溶融押出工程
でゲル化物が発生しやすくなり、基板表面の突起物の原
因となる。また、分子量分布(Mw/Mn)は3.0を越
えると、溶融押し出し時にシートにムラが発生しダイラ
インがシート面に発生しやすくなる。
The polyethersulfone used in the present invention has a number average molecular weight ( Mn ) of 11,000 to 25,000.
It is necessary that the molecular weight distribution (M w / M n ) is 3.0 or less. Preferably, the number average molecular weight ( Mn ) is 15
2,000 to 22,000, and the molecular weight distribution (M w / M n ) is 1.
It is 0 or more and 2.0 or less. If the number average molecular weight ( Mn ) of the polyether sulfone is less than 11,000, the solvent resistance is poor, and cracks and wrinkles may occur when various solvents are used in the liquid crystal display cell assembly process. On the other hand, when the number average molecular weight (M n ) exceeds 25,000, a gel is easily generated in the melt extrusion step, which causes a projection on the substrate surface. On the other hand, if the molecular weight distribution ( Mw / Mn ) exceeds 3.0, unevenness occurs in the sheet during melt-extrusion, and a die line is likely to be generated on the sheet surface.

【0015】ここで数平均分子量(Mn)及び重量平均
分子量(Mw)は、GPCにより測定しポリスチレンの
分子量に換算された数値である。GPCの測定条件は、
次の通りである。 <サンプル調製>サンプル40mgを、20mlの溶離
液にて溶解したものを、測定溶液とした。 <GPC測定条件> カラム TSKgel GMHHR−H 2本 溶離液 DMF(ジメチルホルムアミド)+10mM LiBr 流量 1.0ml/min 検出器 MALLS(多角度光散乱光度計)+RI(示差屈折率計) 注入量 100μl
Here, the number average molecular weight (M n ) and the weight average molecular weight (M w ) are numerical values measured by GPC and converted into the molecular weight of polystyrene. GPC measurement conditions are as follows:
It is as follows. <Sample preparation> A solution prepared by dissolving 40 mg of a sample with 20 ml of an eluent was used as a measurement solution. <GPC measurement conditions> Column TSKgel GMHHR-H 2 eluents DMF (dimethylformamide) + 10 mM LiBr flow rate 1.0 ml / min Detector MALLS (multi-angle light scattering photometer) + RI (differential refractometer) Injection volume 100 μl

【0016】本発明で製造する高分子シートは、厚みが
70μm以上1000μm以下であり、好ましくは10
0μm以上600μm以下である。高分子シートの厚み
が70μm未満であると液晶のセルギャップ保持が難し
く、特に、大面積の液晶表示素子ではセルギャップ保持
をすることができない。1000μmを越えると液晶表
示がダブルイメージと呼ばれる表示不良を起こし、更に
液晶表示素子の厚みが厚くなり機能上好ましくない。
The polymer sheet produced by the present invention has a thickness of 70 μm or more and 1000 μm or less, preferably 10 μm or less.
It is not less than 0 μm and not more than 600 μm. If the thickness of the polymer sheet is less than 70 μm, it is difficult to maintain the cell gap of the liquid crystal, and particularly in the case of a large-area liquid crystal display element, the cell gap cannot be maintained. When the thickness exceeds 1000 μm, the liquid crystal display causes a display defect called a double image, and the thickness of the liquid crystal display element is increased, which is not preferable in function.

【0017】本発明の高分子シートの製造方法において
は、ポリエーテルサルホンをTダイもしくはコートハン
ガーダイで溶融押し出しして高分子シートを製造する。
熱溶融されたポリエーテルサルホンは、金属ベルト又は
冷却ロール等に密着させてシート化、冷却され、巻き取
られる。ダイスから溶融押し出しされた高分子シートを
金属ベルトに密着させるために、金属ベルトと同程度の
温度に制御されたエアを吹き付けたり、帯電固定により
密着させたりしてもよい。
In the method for producing a polymer sheet of the present invention, polyether sulfone is melt-extruded with a T-die or a coat hanger die to produce a polymer sheet.
The heat-melted polyether sulfone is brought into close contact with a metal belt, a cooling roll, or the like, formed into a sheet, cooled, and wound up. In order to bring the polymer sheet melt-extruded from the die into close contact with the metal belt, air controlled at a temperature similar to that of the metal belt may be blown, or the polymer sheet may be brought into close contact by charging and fixing.

【0018】本発明の方法で製造された高分子シート
は、該高分子シート0.1m2あたり、直径0.5mm
以上の突起物が通常2個以下であり、突起物がきわめて
少ないという特徴を有する。このようにして製造された
本発明の高分子シートは耐熱性に優れ、シート表面の平
滑性に優れ、かつ突起物が少ないため液晶表示パネル用
光学シートとして好適に使用することができ、この高分
子シートを用いて液晶表示素子を作成することによっ
て、表示欠点のない、フラットな液晶表示を得ることが
できる。
The polymer sheet produced by the method of the present invention has a diameter of 0.5 mm per 0.1 m 2 of the polymer sheet.
The number of the projections is usually two or less, and the number of the projections is extremely small. The polymer sheet of the present invention thus produced is excellent in heat resistance, excellent in sheet surface smoothness, and has few projections, so that it can be suitably used as an optical sheet for a liquid crystal display panel. By manufacturing a liquid crystal display element using a molecular sheet, a flat liquid crystal display without display defects can be obtained.

【0019】[0019]

【実施例】以下本発明を実施例、比較例によって説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0020】[A]高分子シートの物性及び製造装置の
物性は次の方法により測定した。 (1)高分子シートの厚み 接触式のダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に20
mm間隔で測定した。その平均値を高分子シートの厚み
とした。 (2)高分子シートの表面粗さの最大(Rmax) 接触式の精密段差計(TENCOR INSTRUME
NTS製 AIPHA−STEP200)により、高分
子シートの幅方向に2mmのスキャン幅にて全幅を測定
した凹凸の最大値。 (3)高分子シートのリタデーション オリンパス光学(株)製偏光顕微鏡BH2とベレックコ
ンペンセーターを用い、波長550nmでのリタデーシ
ョンを測定した。 (4)高分子シートの反り 高分子シートの流れ方向に300mm長さ、幅方向に3
00mm長さに切り取った正方形のサンプルを、定盤に
対して、高分子シートの表側を上にした場合と下にした
場合の、定盤の面から最大に離れた高分子シートの高さ
を測定し、その最大値をシートの反りとした。 (5)金属ベルトの表面粗さの最大(Rmax) 接触式表面粗さ計((株)ミツトヨ製のサーフテスト3
01)により、金属ベルトの幅方向にカットオフ長さ
0.8mmにて全幅を測定したときの凹凸の最大値。 (6)ダイスの表面粗さの最大(Rmax) 接触式表面粗さ計((株)ミツトヨ製のサーフテスト3
01)により、ダイスの幅方向にカットオフ長さ0.8
mmにて全幅を測定したときの凹凸の最大値。
[A] The physical properties of the polymer sheet and the physical properties of the production apparatus were measured by the following methods. (1) Thickness of polymer sheet Use a contact-type dial gauge to measure 20
It was measured at mm intervals. The average value was defined as the thickness of the polymer sheet. (2) Maximum surface roughness of polymer sheet (Rmax) Contact-type precision step meter (TENCOR INSTRUME)
The maximum value of the unevenness obtained by measuring the entire width of the polymer sheet with a scanning width of 2 mm in the width direction of the polymer sheet using AIPHA-STEP200 manufactured by NTS. (3) Retardation of Polymer Sheet The retardation at a wavelength of 550 nm was measured using a polarizing microscope BH2 manufactured by Olympus Optical Co., Ltd. and a Berek compensator. (4) Warpage of the polymer sheet 300 mm long in the flow direction of the polymer sheet and 3 in the width direction
The height of the polymer sheet, which is the largest away from the surface of the surface plate, when the square sample cut to a length of 00 mm is placed with the front side of the polymer sheet up and down with respect to the surface plate, The maximum value was measured as the warpage of the sheet. (5) Maximum surface roughness of the metal belt (Rmax) Contact type surface roughness meter (Surf Test 3 manufactured by Mitutoyo Corporation)
01) is the maximum value of the unevenness when the entire width is measured at a cutoff length of 0.8 mm in the width direction of the metal belt. (6) Maximum surface roughness of die (Rmax) Contact surface roughness meter (Surf Test 3 manufactured by Mitutoyo Corporation)
01), the cutoff length 0.8 in the width direction of the die.
The maximum value of unevenness when measuring the entire width in mm.

【0021】[B]原料樹脂のポリエーテルサルホン
(PES)としては、4,4′−ジクロロジフェニルス
ルホン及び4,4′−ジヒドロキシジフェルスルホンを
重縮合して得られたものを用いた。ポリエーテルサルホ
ンの数平均分子量、重量平均分子量および分子量分布は
以下の通りである。なお、Tgはいずれも226℃であ
る。 (1)PES−1 Mn:19000、Mw:30000、Mw/Mn:1.5
8 (2)PES−2 Mn:22000、Mw:69000、Mw/Mn:3.1
3 (3)PES−3 Mn:10000、Mw:26000、Mw/Mn:2.6
0 (4)PES−4 Mn:28000、Mw:92000、Mw/Mn:3.2
[B] As a raw material resin, polyethersulfone (PES) obtained by polycondensation of 4,4'-dichlorodiphenylsulfone and 4,4'-dihydroxydifrusulfone was used. The number average molecular weight, weight average molecular weight, and molecular weight distribution of polyethersulfone are as follows. In addition, Tg is 226 degreeC in all cases. (1) PES-1 Mn : 19000, Mw : 30000, Mw / Mn : 1.5
8 (2) PES-2 Mn : 22000, Mw : 69000, Mw / Mn : 3.1
3 (3) PES-3 Mn : 10000, Mw : 26000, Mw / Mn : 2.6
0 (4) PES-4 Mn : 28000, Mw : 92000, Mw / Mn : 3.2
8

【0022】《実施例1》PES−1を原料樹脂として
用い、表面粗さの最大(Rmax)が0.4μm、リッ
プ間隙が3mmのダイを使用し、表面粗さの最大(Rm
ax)が0.1μm、ダイから押し出された高分子シー
トが流れ方向に対し曲率のない形で接触している時間が
22秒となる金属ベルトを使用して冷却シート化した。
金属ベルトに接触する最初の部分の温度(V1)が25
0℃、高分子シートの流れ方向に対し曲率の無い部分の
金属ベルトの温度(V2)が210℃、冷却された高分
子シートが、上記金属ベルトから離れる部分の金属ベル
トの温度(V3)が110℃であり、高分子シートの金
属ベルトに接触している面とは反対側の面を赤外線ヒー
ターにより、金属ベルト側のシート表面温度と同じ温度
にした。その結果、厚みが400μmで、平面における
リタデーションが15nmであり、且つ、金属ベルト面
に接した高分子シートの表面の粗さの最大(Rmax)
が0.06μm、300mm角の高分子シートの最大の
反り量が2mmである高分子シートが得られた。0.1
2のシートを10シート目視で調べたところダイライ
ンはなく、直径0.5mm以上の突起物は全て2個以下
であり、平均1.2個であった。
Example 1 A die having a maximum surface roughness (Rmax) of 0.4 μm and a lip gap of 3 mm using PES-1 as a raw material resin was used, and a maximum surface roughness (Rm) was obtained.
ax) was 0.1 μm, and the polymer sheet extruded from the die was formed into a cooled sheet using a metal belt having a contact time of 22 seconds with no curvature in the flow direction.
The temperature (V1) of the first part in contact with the metal belt is 25
0 ° C., the temperature (V2) of the metal belt in the portion having no curvature with respect to the flow direction of the polymer sheet is 210 ° C., and the temperature (V3) of the metal belt in the portion where the cooled polymer sheet is separated from the metal belt is The temperature was 110 ° C., and the surface of the polymer sheet opposite to the surface in contact with the metal belt was set to the same temperature as the sheet surface temperature on the metal belt side by an infrared heater. As a result, the thickness was 400 μm, the retardation in the plane was 15 nm, and the maximum surface roughness (Rmax) of the polymer sheet in contact with the metal belt surface was obtained.
Was 0.06 μm, and a 300 mm square polymer sheet having a maximum warpage of 2 mm was obtained. 0.1
When 10 sheets of m 2 were visually inspected, there were no die lines, and all the protrusions having a diameter of 0.5 mm or more were 2 or less, and the average was 1.2.

【0023】《実施例2》実施例1で得られた400μ
m厚みの高分子シートを用い、分子量1540、融点7
0℃のエポキシアクリレートプレポリマー(昭和高分子
(株)製、VR−60)100重量部、酢酸ブチル40
0重量部、セロソルブアセテート100重量部、および
ベンゾインエチルエーテル2重量部を50℃にて攪拌、
溶解して均一な溶液としたものをグラビアロールコータ
で塗布し、80℃で10分間加熱して溶媒を除去し、8
0w/cmの高圧水銀灯により15cmの距離で30秒
間照射して樹脂を硬化させ、0.5μm厚の有機層を両
面に形成した。次にこのシート上に、DCマグネトロン
法により初期真空度3×10-4Paに引き、酸素/アル
ゴンガスの混合ガス(酸素分率9vol%)を導入、3
×10 -1Paの条件下において無機層を成膜し500Å
厚のSiO2を得た。この無機膜の酸素バリヤー性はモ
コン法により測定したところ1cc/24hr・m2
あり、表面抵抗率を測定したところ8.1×1012Ωで
あった。次に透明導電膜として、同じくDCマグネトロ
ン法により初期真空度3×10 -4Paに引き、酸素/ア
ルゴンガスの混合ガス(酸素分率4vol%)を導入
し、1×10-1Paの条件下において成膜し、In/
(In+Sn)の原子比が0.98であるIn23、S
nO2からなる透明導電膜を得た。測定の結果、膜厚は
1600Å、比抵抗は4×10-4Ω・cmであった。成
膜後、レジストを塗布、現像し、エッチング液として塩
酸(1mol/l)、液温40℃中でパターンエッチン
グし、対角長さ3インチ(7.5cm)、L/S(導体
線幅/導体線間隔)=150/50μmのアクティブマ
トリックス用パターンを形成した。パターン形成後、配
向膜を塗布し、150℃、2hrの焼成処理を行った
後、ラビング処理を行った。ラビング処理後、スペーサ
ーを散布し、シール剤を塗布し、150℃でシール硬化
させてセル化し、液晶を注入した。偏光板をコントラス
トの最大となる位置に貼り合わせ、点灯試験を行ったと
ころ、シートの突起物による表示欠点は見られず、コン
トラストの良い表示を示した。
Example 2 400 μm obtained in Example 1
m polymer sheet, molecular weight 1540, melting point 7
Epoxy acrylate prepolymer at 0 ° C (Showa Polymer
VR-60), 100 parts by weight, butyl acetate 40
0 parts by weight, 100 parts by weight of cellosolve acetate, and
2 parts by weight of benzoin ethyl ether was stirred at 50 ° C.
A gravure roll coater that dissolves into a uniform solution
And heated at 80 ° C. for 10 minutes to remove the solvent.
30 seconds at a distance of 15 cm with a high-pressure mercury lamp of 0 w / cm
The resin is cured by irradiation for a while, and an organic layer having a thickness of 0.5 μm is
Formed on the surface. Next, a DC magnetron is placed on this sheet.
Initial vacuum degree 3 × 10-FourPull to Pa, oxygen / al
Introduce a gas mixture of gon gas (oxygen content 9vol%), 3
× 10 -1An inorganic layer is formed under the condition of Pa
Thick SiOTwoI got The oxygen barrier property of this inorganic film is
1cc / 24hr · m measured by the Con methodTwoso
Yes, the surface resistivity was measured to be 8.1 × 1012In Ω
there were. Next, as a transparent conductive film, DC magnetro
Initial vacuum degree 3 × 10 -FourPull to Pa, oxygen / a
Introducing a mixed gas of Lugon gas (oxygen content 4vol%)
And 1 × 10-1The film was formed under the condition of Pa
In in which the atomic ratio of (In + Sn) is 0.98TwoOThree, S
nOTwoWas obtained. As a result of the measurement, the film thickness
1600 °, specific resistance 4 × 10-FourΩ · cm. Success
After film formation, apply and develop resist and use salt as an etchant.
Acid (1 mol / l), pattern etchin at 40 ℃
3 inches (7.5 cm) diagonal, L / S (conductor
(Line width / conductor line spacing) = 150/50 μm active mask
A pattern for tricks was formed. After pattern formation,
Coating film was applied and baked at 150 ° C for 2 hours.
Thereafter, a rubbing treatment was performed. After rubbing, spacer
Spray, apply sealant, and seal at 150 ° C
Then, a cell was formed, and a liquid crystal was injected. Contrast polarizing plate
And the lighting test was performed.
At this time, no display defects due to sheet protrusions were
A good indication of the trust was shown.

【0024】《比較例1》原料樹脂としてPES−2を
用いた以外は実施例1と同様に行い高分子シートを製造
したところ、溶融押し出し中にシート表面にダイライン
が発生した。
Comparative Example 1 A polymer sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that PES-2 was used as a raw material resin, and a die line was generated on the sheet surface during melt extrusion.

【0025】《比較例2》原料樹脂としてPES−3を
用いた以外は実施例1と同様に行い高分子シートを製造
した。0.1m2のシートを10シート目視で調べたと
ころダイラインはなく、直径0.5mm以上の突起物は
全て2個以下であり、平均0.9個であった。このシー
トを用いて、実施例2と同様にエポキシアクリレートプ
レポリマーを塗布し、80℃で10分間加熱して溶媒を
除去したところ、シートにクラックが発生した。
Comparative Example 2 A polymer sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that PES-3 was used as a raw material resin. When 10 sheets of 0.1 m 2 sheet were visually inspected, there were no die lines, and all the protrusions having a diameter of 0.5 mm or more were 2 or less, and the average was 0.9. Using this sheet, an epoxy acrylate prepolymer was applied in the same manner as in Example 2 and heated at 80 ° C. for 10 minutes to remove the solvent. As a result, cracks occurred in the sheet.

【0026】《比較例3》原料樹脂としてPES−4を
用いた以外は実施例1と同様に行い高分子シートを製造
したところ、溶融押し出し中にシート表面にダイライン
が発生した。0.1m2のシートを10シート目視で調
べたところ直径0.5mm以上の突起物は全て2個より
多く、平均8.9個であった。このシートを用い、実施
例2と同様に液晶セルを作成したところ、シートの突起
物による表示欠点が確認された。
Comparative Example 3 A polymer sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that PES-4 was used as a raw material resin. Die lines were generated on the sheet surface during melt extrusion. As a result of visually inspecting ten sheets of 0.1 m 2 , all the protrusions having a diameter of 0.5 mm or more were more than two, and the average was 8.9. When a liquid crystal cell was prepared using this sheet in the same manner as in Example 2, a display defect due to a projection on the sheet was confirmed.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明により、表面平滑性に優れ、かつ
突起物が少ない高分子シートが得られた。又、本発明に
より得られた高分子シートはフレキシブル液晶表示素子
用透明電極シートとして液晶表示パネルに実装した場合
に表示ムラのない高精細な表示を示した。
According to the present invention, a polymer sheet having excellent surface smoothness and having few projections was obtained. Further, when the polymer sheet obtained by the present invention was mounted on a liquid crystal display panel as a transparent electrode sheet for a flexible liquid crystal display element, a high definition display without display unevenness was exhibited.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B29L 11:00 B29L 11:00 C08L 81:06 C08L 81:06 (72)発明者 高橋 大 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 (72)発明者 江口 敏正 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 (72)発明者 佐藤 邦久 大阪市此花区春日出中3丁目1番98号 住 友化学工業株式会社内 Fターム(参考) 2H090 JB03 LA01 4F071 AA64 AA81 AA86 AF45 AH12 BA01 BB06 BC01 BC12 4F207 AA34 AE10 AG01 AH73 AJ02 AR12 AR20 KA01 KA17 KK64 KK74 KL76 KL84 KW41 4J005 AA24 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B29L 11:00 B29L 11:00 C08L 81:06 C08L 81:06 (72) Inventor: Dai Takahashi Shinagawa-ku, Tokyo 2-5-8 Higashishinagawa Sumitomo Bakelite Co., Ltd. (72) Inventor Toshimasa Eguchi 2-5-8 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd. (72) Inventor Kunihisa Sato Kasuga, Konohana-ku, Osaka-shi No. 3-98 No. 1-98 Sumitomo Chemical Co., Ltd. F-term (reference) 2H090 JB03 LA01 4F071 AA64 AA81 AA86 AF45 AH12 BA01 BB06 BC01 BC12 4F207 AA34 AE10 AG01 AH73 AJ02 AR12 AR20 KA01 KA17 KK64 KK74 KL76 KL84 A005

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス転移点が150℃以上であり、か
つ数平均分子量(M n)が11000〜25000で、
分子量分布(Mw/Mn)が3.0以下であるポリエーテ
ルサルホンをTダイ又はコートハンガーダイで溶融押し
出しして、厚みが70μm以上1000μm以下の高分
子シートを製造することを特徴とする高分子シートの製
造方法。
(1) a glass transition point of 150 ° C. or more;
Number average molecular weight (M n) Is 11000-25000,
Molecular weight distribution (Mw/ Mn) Is 3.0 or less
Lusulfone is melt-pushed with T-die or coat hanger die
Take out, and the thickness is 70 μm or more and 1000 μm or less.
Manufacturing a polymer sheet, characterized by manufacturing a child sheet
Construction method.
【請求項2】 ポリエーテルサルホンの数平均分子量
(Mn)が15000〜22000で、分子量分布(Mw
/Mn)が2.0以下である請求項1記載の高分子シー
トの製造方法。
2. The polyethersulfone has a number average molecular weight ( Mn ) of 15,000 to 22,000 and a molecular weight distribution ( Mw).
/ Mn ) is 2.0 or less, The manufacturing method of the polymer sheet of Claim 1.
【請求項3】 ポリエーテルサルホンが4,4′−ジク
ロロジフェニルスルホン及び4,4′−ジヒドロキシジ
フェルスルホンを重縮合して得られたものである請求項
1又は2記載の高分子シートの製造方法。
3. The polymer sheet according to claim 1, wherein the polyethersulfone is obtained by polycondensing 4,4′-dichlorodiphenylsulfone and 4,4′-dihydroxydifelsulfone. Production method.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれか記載の製造方法
で製造された高分子シート。
4. A polymer sheet produced by the production method according to claim 1.
【請求項5】 請求項4記載の高分子シートを使用して
組み立てられた液晶表示装置。
5. A liquid crystal display device assembled using the polymer sheet according to claim 4.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016148133A1 (en) * 2015-03-17 2016-09-22 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone
US9587112B2 (en) 2009-09-29 2017-03-07 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic polysulfone resin and membranes thereof
WO2017135376A1 (en) 2016-02-05 2017-08-10 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
WO2017135379A1 (en) * 2016-02-05 2017-08-10 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
JP2017141427A (en) * 2016-02-05 2017-08-17 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
JP2017141426A (en) * 2016-02-05 2017-08-17 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
WO2020137942A1 (en) * 2018-12-25 2020-07-02 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone resin, epoxy resin composition, prepreg, and molded body

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000239408A (en) * 1999-02-16 2000-09-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd Optical sheet and liquid crystal display device using same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000239408A (en) * 1999-02-16 2000-09-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd Optical sheet and liquid crystal display device using same

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9587112B2 (en) 2009-09-29 2017-03-07 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic polysulfone resin and membranes thereof
US10400069B2 (en) 2015-03-17 2019-09-03 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic polysulfone
JPWO2016148133A1 (en) * 2015-03-17 2017-12-28 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone
WO2016148133A1 (en) * 2015-03-17 2016-09-22 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone
KR102578957B1 (en) * 2015-03-17 2023-09-14 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 Aromatic polysulfone
CN107428931B (en) * 2015-03-17 2019-09-03 住友化学株式会社 Aromatic series polysulfones
KR20170128305A (en) 2015-03-17 2017-11-22 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 Aromatic polysulfone
CN107428931A (en) * 2015-03-17 2017-12-01 住友化学株式会社 Aromatic series polysulfones
KR102653602B1 (en) * 2016-02-05 2024-04-01 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 Aromatic polysulfone, prepreg and method for producing prepreg
JP2017141426A (en) * 2016-02-05 2017-08-17 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
CN108602948A (en) * 2016-02-05 2018-09-28 住友化学株式会社 The manufacturing method of aromatic series polysulfones, prepreg and prepreg
KR20180109063A (en) 2016-02-05 2018-10-05 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 Process for producing aromatic polysulfone, prepreg and prepreg
US20190040203A1 (en) * 2016-02-05 2019-02-07 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
WO2017135379A1 (en) * 2016-02-05 2017-08-10 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
WO2017135376A1 (en) 2016-02-05 2017-08-10 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
US20190071542A1 (en) * 2016-02-05 2019-03-07 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
JP2017141427A (en) * 2016-02-05 2017-08-17 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
CN108602949A (en) * 2016-02-05 2018-09-28 住友化学株式会社 The manufacturing method of aromatic series polysulfones, prepreg and prepreg
CN108602948B (en) * 2016-02-05 2020-12-01 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
US10851207B2 (en) 2016-02-05 2020-12-01 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
US10899888B2 (en) 2016-02-05 2021-01-26 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic polysulfone, prepreg, and method for producing prepreg
JP2020100788A (en) * 2018-12-25 2020-07-02 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone resin, epoxy resin composition, prepreg and molding
CN113302225A (en) * 2018-12-25 2021-08-24 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone resin, epoxy resin composition, prepreg, and molded body
JP7198657B2 (en) 2018-12-25 2023-01-04 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone resin, epoxy resin composition, prepreg and molding
WO2020137942A1 (en) * 2018-12-25 2020-07-02 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone resin, epoxy resin composition, prepreg, and molded body
CN113302225B (en) * 2018-12-25 2023-09-29 住友化学株式会社 Aromatic polysulfone resin, epoxy resin composition, prepreg, and molded article
US11932731B2 (en) 2018-12-25 2024-03-19 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic polysulfone resin, epoxy resin composition, prepreg, and molded body
EP3904423A4 (en) * 2018-12-25 2022-09-14 Sumitomo Chemical Company Limited Aromatic polysulfone resin, epoxy resin composition, prepreg, and molded body

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