JP2002157964A - Shadow mask for cathode-ray tube - Google Patents
Shadow mask for cathode-ray tubeInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、テンションタイプ
のブラウン管用シャドウマスクに関するものである。The present invention relates to a tension type shadow mask for a cathode ray tube.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、ブラウン管のシャドウマスク
には、プレスタイプとテンションタイプとがあったが、
近年のブラウン管の平面化に対応する必要から、一次元
テンションタイプに対する必要性が高まってきている。2. Description of the Related Art Conventionally, there have been press type and tension type shadow masks for cathode ray tubes.
The need for a one-dimensional tension type has been increasing due to the need to respond to the recent flattening of cathode ray tubes.
【0003】このような一次元テンションタイプのシャ
ドウマスクには、金属薄膜にエッチング加工を施し、所
定の形状で形成された縦方向のスリット孔で構成された
鋼板を比較的高い張力を持たせた状態で上下に鋼枠に取
り付けて使用するアパーチャーグリルタイプと、プレス
タイプと同様な長方形孔(スロット)が形成された鋼板
を比較的弱い張力を持たせた状態で上下に鋼枠に取り付
けて使用するスロットテンションタイプとがある。[0003] In such a one-dimensional tension type shadow mask, a metal thin film is subjected to an etching process, and a steel plate formed of vertical slit holes formed in a predetermined shape is given a relatively high tension. Aperture grill type, which is used by attaching it vertically to a steel frame in a state, and a steel plate with rectangular holes (slots) similar to the press type, which is attached to a steel frame vertically using a relatively low tension. Slot tension type.
【0004】しかしながら、上記スロットテンションタ
イプのシャドウマスクは、使用時の熱により鋼板が膨張
してしまい、X軸方向外周部においてミスランディング
が生じる可能性があるという問題があった。これは、テ
ンションの加わっていないX軸方向において、各スロッ
トの上下に存在するブリッジが熱により膨張し、この膨
張が累積してX軸方向の位置が大きくずれてしまうため
であった。このため、低熱膨張率の材料が用いられてい
るが、材料自体が高価であることから構造面での改良が
望まれていた。[0004] However, the slot tension type shadow mask has a problem that the steel plate expands due to heat during use, and there is a possibility that mislanding may occur at the outer peripheral portion in the X-axis direction. This is because, in the X-axis direction where no tension is applied, the bridges above and below each slot expand due to heat, and this expansion accumulates and the position in the X-axis direction is greatly shifted. For this reason, a material having a low coefficient of thermal expansion is used, but since the material itself is expensive, improvement in structure has been desired.
【0005】構造面でこのような不具合を解消する方法
として、ブリッジの数を減少させる、すなわち、各スロ
ットがY軸方向に細長いスロットとする方法が提案され
た。しかしながら、このようにブリッジの数を減少させ
た場合、ブラウン管に取り付けて使用した際にブリッジ
の位置が画面上の線として肉眼にとらえられ、それが視
覚障害になるという問題が生じた。As a method of solving such a problem in terms of the structure, a method has been proposed in which the number of bridges is reduced, that is, each slot is a slot elongated in the Y-axis direction. However, when the number of bridges is reduced in this way, the position of the bridge is caught by the naked eye as a line on the screen when used by being attached to a cathode ray tube, and this causes a problem that it causes visual impairment.
【0006】このような問題点を解決するために、擬似
ブリッジという手法が提案された。この手法は、例えば
図4に示すように、各スロット1のY軸方向に一定の間
隔をおいて、両側から突出した凸部2、2とその間の空
隙3とからなる擬似ブリッジ4を設け、この擬似ブリッ
ジ4おける電子ビームの通過量を正規ブリッジ5と同程
度とすることにより、通常のスロットタイプのブラウン
管のように0.5〜1.0mmの間隔でブリッジの影を
形成し、視覚障害を防止するというものである。一方、
擬似ブリッジ4は空隙3を有することから、熱が加わっ
た場合でもこの部分でX軸方向に膨張することがなく、
Y軸方向に長いスロットを設けた場合と同様の効果を得
ることができるのである。In order to solve such a problem, a technique called a pseudo bridge has been proposed. In this method, for example, as shown in FIG. 4, a pseudo bridge 4 composed of convex portions 2 and 2 protruding from both sides and a gap 3 therebetween is provided at a certain interval in the Y-axis direction of each slot 1, By making the passing amount of the electron beam through the pseudo bridge 4 approximately equal to that of the regular bridge 5, shadows of the bridge are formed at intervals of 0.5 to 1.0 mm as in a normal slot type cathode-ray tube, and visual impairment is caused. That is to prevent. on the other hand,
Since the pseudo bridge 4 has the gap 3, even when heat is applied, the pseudo bridge 4 does not expand in this portion in the X-axis direction.
The same effect as when a long slot is provided in the Y-axis direction can be obtained.
【0007】しかしながら、このような擬似ブリッジを
設けた場合、特にY軸方向外周部側に擬似ブリッジを形
成した場合、擬似ブリッジの凸部2において乱反射が発
生し、ブラウン管上の画像に悪影響を与えるといった問
題が生じる可能性がある。この点について、図3を用い
て説明する。However, when such a pseudo bridge is provided, especially when the pseudo bridge is formed on the outer peripheral side in the Y-axis direction, irregular reflection occurs at the convex portion 2 of the pseudo bridge, which adversely affects the image on the CRT. Such a problem may occur. This will be described with reference to FIG.
【0008】図3(a)は、二つの開口部6とその間に
形成された、二つの凸部2、2とその間に形成された空
隙3とからなる擬似ブリッジ4を有するスリットを示す
ものであり、電子銃と反対側、すなわちスクリーン側か
らみた平面図となっている。また、(b)は、(a)の
A−A’矢視断面を示すものである。このスリットが、
シャドウマスクのY軸方向の比較的外周部分に位置して
いた場合、電子ビーム7の入射角αは比較的大きな値と
なる。このように入射角αが比較的大きい場合、マスク
センター側の開口部6の凸部2近傍から入射した電子ビ
ーム7は図3(b)に示すように擬似ブリッジ4の凸部
2により遮蔽されることになる。この際、遮蔽された電
子ビーム7は乱反射してしまい、結果としてブラウン管
に悪影響を与えることになるという問題があった。FIG. 3 (a) shows a slit having a pseudo bridge 4 formed by two openings 6 and two projections 2, 2 formed therebetween and a gap 3 formed therebetween. And a plan view from the side opposite to the electron gun, that is, from the screen side. (B) is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of (a). This slit is
When the shadow mask is located at a relatively outer peripheral portion in the Y-axis direction, the incident angle α of the electron beam 7 has a relatively large value. When the incident angle α is relatively large, the electron beam 7 incident from the vicinity of the convex portion 2 of the opening 6 on the mask center side is shielded by the convex portion 2 of the pseudo bridge 4 as shown in FIG. Will be. In this case, there is a problem that the shielded electron beam 7 is irregularly reflected, which adversely affects the cathode ray tube.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされものであり、スロットテンションタイプ
のシャドウマスクにおいて、擬似ブリッジが形成された
場合であっても、電子ビームの乱反射による色純度の劣
化の無いブラウン管用シャドウマスクを提供することを
主目的とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has been made in view of the above problem. In a slot tension type shadow mask, even if a pseudo bridge is formed, the color due to irregular reflection of an electron beam is reduced. An object of the present invention is to provide a shadow mask for a cathode ray tube which does not deteriorate in purity.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、請求項1に記載するように、スロットテ
ンションタイプのブラウン管用シャドウマスクにおい
て、スロット部に擬似ブリッジが形成され、上記擬似ブ
リッジにY軸方向の寄り目が形成されていることを特徴
とするブラウン管用シャドウマスクを提供する。In order to achieve the above object, according to the present invention, in a shadow mask for a CRT of a slot tension type, a pseudo bridge is formed in a slot portion. Provided is a shadow mask for a cathode ray tube, characterized in that a crossing in the Y-axis direction is formed in the pseudo bridge.
【0011】本発明においては、このように擬似ブリッ
ジにY軸方向の寄り目が形成されているので、電子ビー
ムの入射角が比較的大きくなるY軸方向の外周部側にお
いても、電子ビームが擬似ブリッジの凸部に照射されて
乱反射を生じることがない。よって電子ビームの乱反射
に起因する色純度の劣化を防止することができる。In the present invention, since the quasi-bridge is formed with an offset in the Y-axis direction, the quasi-bridge has a quasi-electron beam even on the outer peripheral side in the Y-axis direction where the incident angle of the electron beam is relatively large. Irradiation to the convex portion of the bridge does not cause irregular reflection. Therefore, it is possible to prevent the color purity from being deteriorated due to the irregular reflection of the electron beam.
【0012】また、上記請求項1に記載された発明にお
いては、請求項2に記載するように、上記擬似ブリッジ
の電子銃側表面の空隙におけるマスクセンター側端部の
幅に対し、外周側端部の幅が10%〜100%の割合で
幅広に形成されていることが好ましい。Further, in the invention described in the first aspect, as described in the second aspect, the width of the outer peripheral side edge is larger than the width of the mask center side end portion in the gap on the electron gun side surface of the pseudo bridge. It is preferable that the width of the portion is widened at a rate of 10% to 100%.
【0013】Y軸方向に寄り目が形成された擬似ブリッ
ジにおいて、空隙を形成する場合は、寄り目が形成され
た側、すなわちマスクセンター側は寄り目の影響で鋼板
の肉厚が薄くなることから空隙を形成するためのエッチ
ングが進みやすく、一方外周側は寄り目の影響が少ない
ことから鋼板の肉厚が厚く、空隙形成が比較的困難とな
る。このため、同じようにエッチングした場合、外周側
の空隙が形成されないという不具合が生じる可能性があ
る。よって、擬似ブリッジの電子銃側表面の空隙におけ
るマスクセンター側の幅に対し、外周側の幅が20%〜
100%の割合で幅広に形成することにより、上述した
ような不具合を防止するようにしたものである。In the case where a gap is formed in the pseudo bridge in which the crossing is formed in the Y-axis direction, the gap is formed on the side where the crossing is formed, that is, on the mask center side, because the thickness of the steel sheet is reduced due to the crossing. Etching for forming is easy to proceed, and on the other hand, the outer peripheral side is less affected by crossing, so that the thickness of the steel sheet is large, and it is relatively difficult to form voids. For this reason, when etching is performed in the same manner, there is a possibility that a problem that a gap on the outer peripheral side is not formed may occur. Therefore, the width on the outer peripheral side is 20% to the width on the mask center side in the gap on the electron gun side surface of the pseudo bridge.
The above-mentioned disadvantages are prevented by forming the film wide at a rate of 100%.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明のブラウン管用シャ
ドウマスクについて詳しく説明する。本発明は、スロッ
トテンションタイプのブラウン管用シャドウマスクに適
用されるものである。ここで、スロットテンションタイ
プのブラウン管用シャドウマスクは、図5に示すよう
に、多数の微細な矩形孔(スロット)からなる陰極線通
過部10と、スカート部11とから構成されるものであ
る。このようなスロットテンションタイプのブラウン管
用シャドウマスクは、図6に示すように鋼材などの矩形
状フレーム12に緊張状態で溶接され、さらに不要部分
を切り離されてブラウン管のパネル面内側の所定位置に
固定される。このブラウン管の電子銃から発射された陰
極線がシャドウマスクの陰極線通過部を通過して、全面
パネルの蛍光体を発光させることで、微細な光点の集合
体としてパネル上に画像が表示される。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The shadow mask for a cathode ray tube according to the present invention will be described in detail below. The present invention is applied to a slot tension type shadow mask for a cathode ray tube. As shown in FIG. 5, the slot tension type shadow mask for a cathode ray tube is composed of a cathode ray passing portion 10 composed of a number of fine rectangular holes (slots) and a skirt portion 11. As shown in FIG. 6, such a slot tension type shadow mask for a cathode ray tube is welded to a rectangular frame 12 made of steel or the like in a tension state, and unnecessary portions are cut off and fixed at a predetermined position inside the panel surface of the cathode ray tube. Is done. The cathode ray emitted from the electron gun of the cathode ray tube passes through the cathode ray passage portion of the shadow mask to cause the phosphor on the entire panel to emit light, whereby an image is displayed on the panel as an aggregate of fine light spots.
【0015】本発明は、このようなシャドウマスクのス
ロットに設けられた擬似ブリッジにY軸方向の寄り目を
形成したところに特徴を有するものである。ここで、擬
似ブリッジとは、上述したように各スロットのY軸方向
に一定の間隔をおいて設けられるものであり、両側から
突出した二つの凸部とその間に設けられた空隙とからな
るものである。また、擬似ブリッジにY軸方向の寄り目
を形成したとは、擬似ブリッジの凸部にY軸方向の寄り
目を形成したことを意味するものである。The present invention is characterized in that the pseudo bridge provided in such a slot of the shadow mask is formed with an offset in the Y-axis direction. Here, the pseudo bridge is provided at a constant interval in the Y-axis direction of each slot as described above, and includes two convex portions protruding from both sides and a gap provided therebetween. It is. Forming a cross-over in the Y-axis direction on the pseudo bridge means that a cross-over in the Y-axis direction is formed on the convex portion of the pseudo bridge.
【0016】なお、ここでY軸方向とは、スロットの長
手方向であり、かつテンションが加えられている方向を
示すものである。また、本発明におけるX軸方向とは、
シャドウマスク平面上であってY軸と直行する方向であ
り、またZ軸方向とはシャドウマスク平面に鉛直方向を
示すものである。Here, the Y-axis direction is the longitudinal direction of the slot and indicates the direction in which tension is applied. In the present invention, the X-axis direction is
The direction on the shadow mask plane is perpendicular to the Y axis, and the Z axis direction is a direction perpendicular to the shadow mask plane.
【0017】以下、本発明のシャドウマスクについて、
図面を用いて説明する。図1(a)は、本発明のシャド
ウマスクのスロット部分を、スクリーン側からみた平面
図であり、(b)はそのB−B’矢視断面図である。こ
の図の例においては、二つの開口部6の間に二つの凸部
2、2とその間に形成された空隙3とからなる擬似ブリ
ッジ4が形成されている例が記載されている。本発明
は、上述したように、この擬似ブリッジ4の凸部2にY
軸方向の寄り目が形成されているところに特徴を有する
ものである。Hereinafter, the shadow mask of the present invention will be described.
This will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a plan view of a slot portion of the shadow mask of the present invention as viewed from the screen side, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line BB ′. In the example of this figure, an example is described in which a pseudo bridge 4 composed of two convex portions 2 and 2 and a gap 3 formed therebetween is formed between two opening portions 6. According to the present invention, as described above, the projection 2 of the pseudo bridge 4
It has a feature in that a crosswise stitch in the axial direction is formed.
【0018】本発明において、擬似ブリッジ4の凸部2
にY軸方向の寄り目を形成するとは、スクリーン側(電
子銃と反対側)表面における凸部2のY軸方向外周側の
外側エッチング部8とY軸方向マスクセンター側の内側
エッチング部9との幅、すなわちY軸方向の長さの関係
が、内側エッチング部9の方が長くなるように形成する
ことをいう。ここで外側エッチング部8とは、凸部2の
Y軸方向外周側端部aから凸部2におけるスクリーン側
鋼板表面10のY軸方向外周側端部bと間の部分を示
す。一方、内側エッチング部9とは、凸部2のY軸方向
マスクセンター側端部cと凸部2におけるスクリーン側
鋼板表面10のY軸方向マスクセンター側端部dとの間
の部分を示す。In the present invention, the convex portion 2 of the pseudo bridge 4
Forming a cross-over in the Y-axis direction means that the outer etching portion 8 on the outer peripheral side in the Y-axis direction of the convex portion 2 on the screen side (opposite side to the electron gun) surface and the inner etching portion 9 on the Y-axis direction mask center side. The width, that is, the relationship of the length in the Y-axis direction, means that the inner etching portion 9 is formed to be longer. Here, the outer etched portion 8 indicates a portion between the Y-axis direction outer peripheral end a of the convex portion 2 and the Y-axis outer peripheral end b of the screen-side steel plate surface 10 in the convex portion 2. On the other hand, the inner etched portion 9 indicates a portion between the Y-axis direction mask center side end c of the projection 2 and the Y-axis direction mask center side end d of the screen-side steel plate surface 10 in the projection 2.
【0019】このように、擬似ブリッジ4の凸部2にY
軸方向の寄り目を形成することにより、図1(b)に示
すように、比較的電子ビーム7の入射角αの大きいY軸
方向外周部においても、電子ビームが遮蔽されることな
く通過することができるので、乱反射が生じることがな
く、色純度の劣化の問題が生じない。As described above, the convex portion 2 of the pseudo bridge 4
By forming the offset in the axial direction, as shown in FIG. 1B, the electron beam can pass through the outer peripheral portion in the Y-axis direction where the incident angle α of the electron beam 7 is relatively large without being shielded. Therefore, irregular reflection does not occur, and the problem of deterioration of color purity does not occur.
【0020】本発明においては、一般に、Y軸方向外周
部に近い擬似ブリッジほど、内側エッチング部の幅と外
側エッチング部の幅の差がより大きくなるように形成さ
れ、Y軸中心部においてはY軸方向の寄り目は形成され
ない。In the present invention, in general, the pseudo bridge closer to the outer peripheral portion in the Y-axis direction is formed so that the difference between the width of the inner etched portion and the width of the outer etched portion becomes larger. No axial offset is formed.
【0021】このように擬似ブリッジの凸部にY軸方向
の寄り目を形成した場合には、図1(b)に示すよう
に、凸部2の外側エッチング部8と内側エッチング部9
との肉厚が大きく異なり、内側エッチング部9の方が外
側エッチング部8よりかなり薄いことになる。したがっ
て、このような形状を有する部分に空隙3をエッチング
により形成する場合、内側エッチング部9は容易に貫通
して空隙3を形成することが可能であるが、外側エッチ
ング部8は貫通しにくく、貫通できない場合は擬似ブリ
ッジとしての効果を奏することができなくなるという不
具合が生じる可能性がある。When the cross-section in the Y-axis direction is formed in the convex portion of the pseudo bridge as described above, the outer etching portion 8 and the inner etching portion 9 of the convex portion 2 are formed as shown in FIG.
The thickness of the inner etched portion 9 is much smaller than that of the outer etched portion 8. Therefore, when the void 3 is formed by etching in a portion having such a shape, the inner etched portion 9 can easily penetrate to form the void 3, but the outer etched portion 8 hardly penetrates. If it cannot penetrate, there may be a problem that the effect as a pseudo bridge cannot be obtained.
【0022】本発明においては、このような問題を回避
するために、上記Y軸方向の寄り目が形成された擬似ブ
リッジにおいて、その電子銃側表面の空隙におけるマス
クセンター側端部の幅に対し、外周側端部の幅を幅広に
形成することが好ましい。これにより外側エッチング部
8のエッチング量を増大させることができ、外側エッチ
ング部8に空隙を3を形成する際に、貫通しないといっ
た不具合を防止することができる。In the present invention, in order to avoid such a problem, in the pseudo bridge in which the crossing in the Y-axis direction is formed, the width of the gap on the surface on the electron gun side relative to the width of the end on the mask center side is determined. It is preferable to form the width of the outer peripheral end portion wide. Thereby, the etching amount of the outer etching portion 8 can be increased, and a problem that the void 3 does not penetrate when the gap 3 is formed in the outer etching portion 8 can be prevented.
【0023】図2は、擬似ブリッジ4部分の電子銃側の
鋼板表面を示すものであり、空隙3のY軸方向外周側の
端部の幅eが、マスクセンター側の端部の幅fより大き
い状態を示すものである。FIG. 2 shows the surface of the steel plate on the electron gun side of the pseudo bridge 4 portion. The width e of the end of the gap 3 on the outer peripheral side in the Y-axis direction is larger than the width f of the end on the mask center side. This shows a large state.
【0024】本発明においては、この擬似ブリッジの電
子銃側表面の空隙における、Y軸方向マスクセンター側
端部の幅に対し、外周側端部の幅が10%〜100%の
割合で幅広に形成されていることが好ましく、特に20
〜30%、中でも20〜25%の割合で幅広に形成され
ていることが好ましい。In the present invention, the width of the outer peripheral end of the pseudo bridge is 10% to 100% wider than the width of the Y-axis direction mask center side end in the gap on the electron gun side surface. It is preferably formed, especially 20
It is preferably formed to be wide at a rate of up to 30%, especially 20 to 25%.
【0025】この際の空隙3の形状であるが、図2に示
すようにマスクセンター側から外周側にかけて直線状に
幅が広がるように形成されていてもよいし、また曲線状
であってもよく、最終的に空隙3のY軸方向外周側端部
の幅eがマスクセンター側端部の幅fより上述した割合
で幅広に形成されていれば、その間の空隙3の形状は特
に限定されるものではない。In this case, the shape of the gap 3 may be such that the width is linearly widened from the mask center side to the outer peripheral side as shown in FIG. If the width e of the outer peripheral end of the gap 3 in the Y-axis direction is finally formed to be wider than the width f of the end of the mask center side by the above-described ratio, the shape of the gap 3 therebetween is particularly limited. Not something.
【0026】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の
特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一
な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかな
るものであっても本発明の技術的範囲に包含される。The present invention is not limited to the above embodiment. The above embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and has the same effect. Within the technical scope of
【0027】[0027]
【実施例】以下、本発明のブラウン管用シャドウマスク
について、実施例を用いて具体的に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The shadow mask for a cathode ray tube according to the present invention will be specifically described below with reference to embodiments.
【0028】(実施例1:擬似ブリッジのY軸方向の寄
り目)29インチのブラウン管用のシャドウマスクにお
いて、電子ビームのY軸方向の入射角αが35°の位置
において、内側エッチング部9の幅(A)を71μmと
し、外側エッチング部8の幅(B)を20μmとして、
Y軸方向の寄り目を形成した(図7参照)。また、入射
角αが15°の位置、25°の位置、さらには30°の
位置においてもY軸方向の寄り目を形成した。この際の
内側エッチング部9の幅(A)および外側エッチング部
8の幅(B)を以下の表1にまとめる。なお、この場合
の鋼板の板厚は100μmであった。(Example 1: Offset of pseudo bridge in Y-axis direction) In a shadow mask for a cathode ray tube of 29 inches, the width of the inner etching portion 9 at a position where the incident angle α of the electron beam in the Y-axis direction is 35 °. (A) is set to 71 μm, and the width (B) of the outer etched portion 8 is set to 20 μm.
An offset in the Y-axis direction was formed (see FIG. 7). In addition, at the position where the incident angle α was 15 °, 25 °, and even 30 °, a shift in the Y-axis direction was formed. Table 1 below summarizes the width (A) of the inner etching portion 9 and the width (B) of the outer etching portion 8 at this time. The thickness of the steel sheet in this case was 100 μm.
【0029】[0029]
【表1】 [Table 1]
【0030】このシャドウマスクを用いたブラウン管
は、電子ビームの乱反射による色純度の劣化の無い良好
な品質のものであった。The CRT using the shadow mask was of good quality without color purity deterioration due to irregular reflection of the electron beam.
【0031】(実施例2:擬似ブリッジの空隙における
電子銃側表面形状)上記Y軸方向の入射角αが35°の
位置において、空隙3の幅を約50μmであけようとし
た場合、図8に示すように、鋼板の電子銃側の鋼板表面
における空隙3のY軸方向外周側の端部の幅eを100
μm、マスクセンター側の幅fを80μmとし、傾斜を
つけることで出っ張りの少ない切断面を形成することが
できた。(Embodiment 2: Surface Shape on the Side of Electron Gun in Gap of Pseudo Bridge) At the position where the incident angle α in the Y-axis direction is 35 °, when the width of the gap 3 is about 50 μm, FIG. As shown in the figure, the width e of the end of the gap 3 on the outer peripheral side in the Y-axis direction on the surface of the steel plate on the electron gun side is set to 100.
By setting the width to μm and the width f on the mask center side to 80 μm, the cut surface with few protrusions could be formed by giving an inclination.
【0032】[0032]
【発明の効果】上述したように、本発明においては、擬
似ブリッジにY軸方向の寄り目が形成されているので、
電子ビームの入射角が比較的大きくなるY軸方向の外周
部においても、電子ビームが擬似ブリッジの凸部に照射
されて乱反射を生じることがない。よって電子ビームの
乱反射に起因する画像が乱れ等の不具合を防止すること
ができるという効果を奏する。As described above, in the present invention, since the pseudo bridge is formed with a cross in the Y-axis direction,
Even at the outer peripheral portion in the Y-axis direction where the incident angle of the electron beam is relatively large, the electron beam does not irradiate the convex portion of the pseudo bridge and does not cause irregular reflection. Therefore, it is possible to prevent a problem such as disturbance of an image caused by irregular reflection of the electron beam.
【図1】本発明のブラウン管用シャドウマスクにおける
擬似ブリッジの一例を示すもので、(a)は平面図を、
(b)はそのB−B’矢視断面図を示すものである。FIG. 1 shows an example of a pseudo bridge in a shadow mask for a cathode ray tube of the present invention, wherein (a) is a plan view,
(B) is a sectional view taken along the line BB '.
【図2】本発明のブラウン管用シャドウマスクにおける
擬似ブリッジの空隙の電子銃側表面を示す概略平面図で
ある。FIG. 2 is a schematic plan view showing an electron gun side surface of a gap of a pseudo bridge in the shadow mask for a cathode ray tube of the present invention.
【図3】ブラウン管用シャドウマスクの擬似ブリッジの
一例を示すもので、(a)は平面図を、(b)はそのA
−A’矢視断面図を示すものである。3A and 3B show an example of a pseudo bridge of a shadow mask for a cathode ray tube, wherein FIG. 3A is a plan view and FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line -A ′.
【図4】擬似ブリッジを説明するための平面図である。FIG. 4 is a plan view for explaining a pseudo bridge.
【図5】スロットテンションタイプのシャドウマスクを
説明するための概略平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view for explaining a slot tension type shadow mask.
【図6】スロットテンションタイプのシャドウマスクの
取付状態を示す概略斜視図である。FIG. 6 is a schematic perspective view showing an attached state of a slot tension type shadow mask.
【図7】実施例1において形成されたY軸方向の寄り目
を説明するための概略図で、(a)は平面図を、(b)
断面図を示すものであるある。FIGS. 7A and 7B are schematic views for explaining a cross-over in the Y-axis direction formed in the first embodiment, where FIG. 7A is a plan view and FIG.
It is a cross-sectional view.
【図8】実施例2を説明するための概略平面図である。FIG. 8 is a schematic plan view for explaining a second embodiment.
1 …… スロット 2 …… 凸部 3 …… 空隙 4 …… 擬似ブリッジ 6 …… 開口部 1 ... Slot 2 ... Protrusion 3 ... Void 4 ... Pseudo bridge 6 ... Opening
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 牧田 明 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5C031 EE02 EF05 EF06 EF07 EF09 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Akira Makita 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo F-term in Dai Nippon Printing Co., Ltd. (reference) 5C031 EE02 EF05 EF06 EF07 EF09
Claims (2)
ウマスクにおいて、 スロット部に擬似ブリッジが形成され、前記擬似ブリッ
ジにY軸方向の寄り目が形成されていることを特徴とす
るブラウン管用シャドウマスク。1. A shadow mask for a CRT according to claim 1, wherein a pseudo bridge is formed in a slot portion, and a crossing in the Y-axis direction is formed in said pseudo bridge.
におけるマスクセンター側端部の幅に対し、外周側端部
の幅が10%〜100%の割合で幅広に形成されている
ことを特徴とする請求項1記載のブラウン管用シャドウ
マスク。2. The width of an outer peripheral end portion of the pseudo bridge is 10% to 100% wider than a width of a mask center end portion in a gap on an electron gun side surface of the pseudo bridge. The shadow mask for a cathode ray tube according to claim 1, wherein
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2000
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