JP2002157896A - Semiconductor memory integrated circuit - Google Patents

Semiconductor memory integrated circuit

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JP2002157896A
JP2002157896A JP2000349602A JP2000349602A JP2002157896A JP 2002157896 A JP2002157896 A JP 2002157896A JP 2000349602 A JP2000349602 A JP 2000349602A JP 2000349602 A JP2000349602 A JP 2000349602A JP 2002157896 A JP2002157896 A JP 2002157896A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory integrated circuit in which layout of a defective address storing circuit is improved and increment of access time due to wiring delay is suppressed. SOLUTION: A memory cell array 10 is divided into an upper part cell array 10a and a lower part cell array 10b consisting of plural banks respectively. A column of row decoders 20 is arranged at a word line end part of the memory cell array 10 and a column decoder 30 is arranged at a bit line end part. The memory cell array 10 comprises a redundant cell array for replacing a defective cell by a normal cell array. A fuse circuit 40 which stores a defective address and controls replacement of a defective cell by coincidence detection with an address externally supplied is divided into two columns of fuse circuits 40a, 40b, fuse sets of each fuse circuit 40a, 40b are arranged in the direction of word line of the memory cell array 10, and the columns of fuse circuits 40a, 40b are arranged in the direction of bit line.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、不良セル救済の
ための冗長回路方式を採用した半導体メモリ集積回路に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory integrated circuit employing a redundant circuit system for repairing a defective cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】DRAM等の半導体メモリでは一般に、
不良セル救済のために冗長回路方式が採用されている。
冗長回路方式では、ノーマルセルアレイに対して冗長セ
ルアレイを用意し、テストの結果ノーマルセルアレイに
不良があった場合にこれを冗長セルアレイで置換する。
不良セルの置換制御のためには、不良アドレスを記憶
し、外部から供給されるアドレスと不良アドレスの一致
検出を行って、置換制御信号を出力するような不良アド
レス記憶回路が設けられる。不良アドレス記憶回路には
通常、ヒューズ回路が用いられ、テストの結果に基づい
てヒューズ回路のプログラミングが行われる。
2. Description of the Related Art Generally, in a semiconductor memory such as a DRAM,
A redundant circuit system is employed to remedy a defective cell.
In the redundant circuit method, a redundant cell array is prepared for the normal cell array, and if a defect is found in the normal cell array as a result of the test, this is replaced with the redundant cell array.
For replacement control of a defective cell, a defective address storage circuit is provided which stores a defective address, detects coincidence between an externally supplied address and the defective address, and outputs a replacement control signal. Usually, a fuse circuit is used for the defective address storage circuit, and programming of the fuse circuit is performed based on a result of the test.

【0003】図13は、その様な冗長回路方式のDRA
Mの基本構成を示している。DRAMのコア部は、メモ
リセルアレイ1と、そのワード線WLの選択を行うロウ
デコーダ2と、ビット線BLの選択を行うカラムデコー
ダ3により構成される。メモリセルアレイ1は、大容量
の場合、図では省略しているが、多くのバンク(或いは
サブセルアレイ)に分けられ、各バンク毎に不良セルの
置換を行うための冗長セルアレイが設けられる。
FIG. 13 shows such a redundant circuit type DRA.
3 shows a basic configuration of M. The core of the DRAM includes a memory cell array 1, a row decoder 2 for selecting a word line WL, and a column decoder 3 for selecting a bit line BL. The memory cell array 1 is divided into a number of banks (or sub-cell arrays), although not shown in the figure, in the case of a large capacity, and a redundant cell array for replacing defective cells is provided for each bank.

【0004】不良アドレスを記憶するヒューズ回路4
は、複数のヒューズセットFSの配列により構成され
る。図では、不良ワード線の置換制御を行うロウリダン
ダンシの場合を示しているが、ヒューズ回路4の各ヒュ
ーズセットFSには、各バンク内の不良ロウアドレス
と、その不良ロウをどの冗長セルアレイで置換するかを
決定するための情報をプログラミングするヒューズが用
意される。ヒューズセットFSは、ノーマルセルアレイ
の活性、非活性を制御する信号SWLONと、冗長ロウ
デコーダの活性、非活性を制御する信号SRDactを
出力する。これらの信号は、それぞれドライバ5,6を
介して、ロウデコーダ(冗長ロウデコーダを含む)2に
転送される。
Fuse circuit 4 for storing a defective address
Is composed of an array of a plurality of fuse sets FS. The figure shows the case of row redundancy in which replacement control of a defective word line is performed. However, each fuse set FS of the fuse circuit 4 includes a defective row address in each bank and a redundant cell array in which the defective row is replaced. A fuse is provided for programming information to determine whether to do so. The fuse set FS outputs a signal SWLON for controlling activation and deactivation of the normal cell array and a signal SRDact for controlling activation and deactivation of the redundant row decoder. These signals are transferred to row decoders (including redundant row decoders) 2 via drivers 5 and 6, respectively.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】この様な冗長回路方式
のDRAMにおいて、メモリセルアレイ1の容量が大き
いとき、それに応じてヒューズ回路4は大きな面積を占
める。具体的に、メモリセルアレイ1の容量が、1バン
クにつき1024本のワード線と16本のスペアワード
線、2048対のビット線で、16バンク用意されると
すると、ヒューズ回路4としては、例えば54個のヒュ
ーズセットFS<0>〜FS<53>が配列される。
When the capacity of the memory cell array 1 is large in such a redundant circuit type DRAM, the fuse circuit 4 occupies a large area accordingly. More specifically, assuming that the memory cell array 1 has a capacity of 1024 word lines and 16 spare word lines per bank, and 2048 pairs of bit lines, 16 banks are prepared. Fuse sets FS <0> to FS <53> are arranged.

【0006】この様な多数のヒューズセットFSがメモ
リセルアレイ1のワード線方向に一列に配置されると、
各ヒューズセットFSからの信号SWLON,SRDa
ctは、位置に応じて大きく異なる距離を転送されるこ
とになる。各ヒューズセットにはアドレスの一致検出の
ためにアドレス信号も入るので、アドレス線も長い距離
を走ることになる。この結果、配線遅延の影響が大きく
なり、具体的にはワード線の選択立ち上げに直接影響
し、アクセス時間が増大してしまう。
When such a large number of fuse sets FS are arranged in a line in the word line direction of the memory cell array 1,
Signals SWLON, SRDa from each fuse set FS
The ct will be transferred a significantly different distance depending on the position. Since each fuse set also receives an address signal for detecting address coincidence, the address line also runs a long distance. As a result, the influence of the wiring delay increases, specifically, it directly affects the rise of the selected word line, and the access time increases.

【0007】この発明は、上記事情を考慮してなされた
もので、不良アドレス記憶回路のレイアウトを改善して
配線遅延によるアクセス時間増大を抑制した半導体メモ
リ集積回路を提供することを目的としている。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and has as its object to provide a semiconductor memory integrated circuit in which the layout of a defective address storage circuit is improved to suppress an increase in access time due to a wiring delay.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体メ
モリ集積回路は、ノーマルセルアレイ及びこのノーマル
セルアレイの不良セルを置換するための冗長セルアレイ
を有するメモリセルアレイと、前記ノーマルセルアレイ
の不良アドレスを記憶し外部から供給されるアドレスと
不良アドレスの一致検出を行って前記ノーマルセルアレ
イの不良セルを前記冗長セルアレイで置換するための複
数の記憶回路セットにより構成される不良アドレス記憶
回路とを備え、前記不良アドレス記憶回路を構成する複
数の記憶回路セットは、複数段の記憶回路列に分割さ
れ、各記憶回路列内の記憶回路セットが第1の方向に、
前記複数段の記憶回路列が前記第1の方向と直交する第
2の方向に並べられていることを特徴とする。
A semiconductor memory integrated circuit according to the present invention stores a normal cell array, a memory cell array having a redundant cell array for replacing a defective cell of the normal cell array, and a defective address of the normal cell array. A defective address storage circuit comprising a plurality of storage circuit sets for detecting coincidence between an externally supplied address and a defective address and replacing a defective cell in the normal cell array with the redundant cell array; The plurality of storage circuit sets forming the storage circuit are divided into a plurality of storage circuit rows, and the storage circuit sets in each storage circuit row are arranged in the first direction.
The plurality of memory circuit rows are arranged in a second direction orthogonal to the first direction.

【0009】この発明によると、複数の記憶回路セット
からなる不良アドレス記憶回路を複数段の記憶回路列に
分割して、これらの記憶回路列を記憶回路セットの配列
方向と直交する方向に配列することにより、従来のよう
に複数の記憶回路セットを一列に並べる場合に比べて、
各記憶回路セットからメモリセルアレイ領域まで配設さ
れる制御信号線の配線遅延を小さいものとすることがで
きる。これにより、冗長回路方式を採用した半導体メモ
リのアクセス時間の増大を抑制することができる。
According to the present invention, a defective address storage circuit comprising a plurality of storage circuit sets is divided into a plurality of storage circuit rows, and these storage circuit rows are arranged in a direction orthogonal to the arrangement direction of the storage circuit sets. As a result, compared to the conventional case where a plurality of storage circuit sets are arranged in a line,
The wiring delay of the control signal line provided from each storage circuit set to the memory cell array region can be reduced. As a result, it is possible to suppress an increase in access time of the semiconductor memory employing the redundant circuit method.

【0010】メモリセルアレイは例えば、少なくとも二
つのセルアレイ領域に分けられ、各セルアレイ領域がノ
ーマルセルアレイとこのノーマルセルアレイの不良セル
を置換するための冗長セルアレイとを有するものとす
る。このとき不良アドレス記憶回路を構成する複数段の
記憶回路列は、例えばそれぞれ各セルアレイ領域に対応
して、各セルアレイ領域内の不良セル置換を行うものと
して配置される。またこの場合、複数段の記憶回路列の
一部の記憶回路セットが、複数のセルアレイ領域の不良
セル置換に対応可能とすることもできる。
The memory cell array is, for example, divided into at least two cell array regions, and each cell array region has a normal cell array and a redundant cell array for replacing a defective cell in the normal cell array. At this time, a plurality of stages of storage circuit rows constituting the defective address storage circuit are arranged so as to perform defective cell replacement in each cell array region, for example, corresponding to each cell array region. Further, in this case, a part of the storage circuit sets of the storage circuit rows in a plurality of stages can be adapted to replacement of a defective cell in a plurality of cell array regions.

【0011】各記憶回路セットは、具体的には、不良ア
ドレスを記憶するための第1のヒューズ回路と、記憶回
路セットの使用の可否を指定するための第2のヒューズ
回路と、冗長セルアレイの一つを選択するための第3の
ヒューズ回路と、第1のヒューズ回路の出力と外部から
供給されるアドレスとの一致検出を行う比較器と、この
比較器の出力と第2のヒューズ回路の出力の積をとって
置換制御信号を出力するための論理ゲートと、この論理
ゲートの出力により活性化されて第3のヒューズ回路の
データをデコードしてスペア選択信号を出力するための
デコーダとを備えて構成される。
Each storage circuit set includes a first fuse circuit for storing a defective address, a second fuse circuit for designating whether or not the storage circuit set can be used, and a redundant cell array. A third fuse circuit for selecting one, a comparator for detecting coincidence between an output of the first fuse circuit and an externally supplied address, and an output of the comparator and a second fuse circuit. A logic gate for outputting a replacement control signal by multiplying the output; and a decoder activated by the output of the logic gate for decoding data of the third fuse circuit and outputting a spare selection signal. It is configured with.

【0012】また、複数のセルアレイ領域に対応可能に
設定される一部の記憶回路セットは例えば、不良アドレ
スを記憶するための第1のヒューズ回路と、複数のセル
アレイ領域を指定するための第2のヒューズ回路と、冗
長セルアレイの一つを選択するための第3のヒューズ回
路と、第1のヒューズ回路の出力と外部から供給される
アドレスとの一致検出を行う比較器と、この比較器の出
力と第2のヒューズ回路の各一つずつの出力との積をと
って複数のセルアレイ領域に対する各置換制御信号を出
力するための複数の論理ゲートと、これらの論理ゲート
の出力によりそれぞれ活性化されて第3のヒューズ回路
のデータをデコードして対応するセルアレイ領域に対す
る各スペア選択信号を出力するための複数のデコーダと
を備えて構成される。
Further, a part of the storage circuit set which can be set to correspond to a plurality of cell array areas includes, for example, a first fuse circuit for storing a defective address and a second fuse circuit for specifying a plurality of cell array areas. , A third fuse circuit for selecting one of the redundant cell arrays, a comparator for detecting a match between an output of the first fuse circuit and an address supplied from the outside, A plurality of logic gates for outputting a replacement control signal for a plurality of cell array regions by multiplying the output by the output of each of the second fuse circuits, and being activated by the outputs of these logic gates And a plurality of decoders for decoding the data of the third fuse circuit and outputting each spare selection signal for the corresponding cell array region. .

【0013】或いは、複数のセルアレイ領域に対応可能
に設定される一部の記憶回路セットは、不良アドレスを
記憶するための第1のヒューズ回路と、記憶回路セット
の使用の可否を指定するための第2のヒューズ回路と、
冗長セルアレイの一つを選択するための第3のヒューズ
回路と、第1のヒューズ回路の出力と外部から供給され
るアドレスとの一致検出を行う比較器と、この比較器の
出力と第2のヒューズ回路の出力の積をとって置換制御
信号を出力するための論理ゲートと、この論理ゲートの
出力により活性化されて第3のヒューズ回路のデータを
デコードしてスペア選択信号を出力するためのデコーダ
とを有し、且つ、論理ゲート及びデコーダの出力信号配
線が、複数のセルアレイ領域のいずれかに対する置換制
御信号線及びスペア選択信号線として、マスクオプショ
ンにより配設されるように構成することもできる。
Alternatively, some of the storage circuit sets set to be able to correspond to a plurality of cell array regions include a first fuse circuit for storing a defective address and a storage circuit set for designating availability of the storage circuit set. A second fuse circuit;
A third fuse circuit for selecting one of the redundant cell arrays, a comparator for detecting a match between an output of the first fuse circuit and an address supplied from the outside, and an output of the comparator and a second A logic gate for outputting a replacement control signal by multiplying the output of the fuse circuit; and a logic gate activated by the output of the logic gate for decoding data of the third fuse circuit and outputting a spare selection signal. A decoder, and the logic gate and the output signal wiring of the decoder may be arranged as a replacement control signal line and a spare selection signal line for any of the plurality of cell array regions by a mask option. it can.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態を説明する。 [実施の形態1]図1は、この発明をDRAMを含む半
導体集積回路に適用した実施の形態の要部構成を示して
いる。メモリセルアレイ10は、この実施の形態の場
合、上部セルアレイ10aと下部セルアレイ10bに分
けられ、それぞれが8個のバンクBANK<0>〜<7
>により構成されている。上部セルアレイ10aと下部
セルアレイ10bとで同じ番号が割り当てられたバンク
は、同時に活性化され、プリチャージされる。あるバン
クの組が活性化され、その後プリチャージされるとき、
そのプリチャージが始まる前に別のバンクの組が活性化
されることもあり得る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. [First Embodiment] FIG. 1 shows a main configuration of an embodiment in which the present invention is applied to a semiconductor integrated circuit including a DRAM. In this embodiment, the memory cell array 10 is divided into an upper cell array 10a and a lower cell array 10b, each of which has eight banks BANK <0> to <7.
>. Banks assigned the same number in the upper cell array 10a and the lower cell array 10b are simultaneously activated and precharged. When a set of banks is activated and then precharged,
Another set of banks may be activated before the precharge begins.

【0015】図2は、図1の上部セルアレイ10aの一
つのバンクBANK<i>に着目して、具体的な構成を
示している。バンクBANK<i>は、通常のワード線
WLにより構成される範囲のノーマルセルアレイ11
と、不良ワード線を置換するためのスペアワード線SW
Lにより構成される冗長セルアレイ12とから構成され
る。具体的に一つのバンクBANK<i>は、図3に示
すように、1024本のワード線WLと、16本のスペ
アワード線SWLを含み、これらと交差して配設された
2048対のビット線BL,bBLを含む。ビット線セ
ンスアンプは、ビット線BL,bBLの両側に交互に配
置されて、センスアンプ列13,14を構成する。
FIG. 2 shows a specific configuration focusing on one bank BANK <i> of the upper cell array 10a of FIG. The bank BANK <i> has a normal cell array 11 in a range constituted by a normal word line WL.
And spare word line SW for replacing a defective word line
And a redundant cell array 12 composed of L. Specifically, as shown in FIG. 3, one bank BANK <i> includes 1024 word lines WL and 16 spare word lines SWL, and has 2048 pairs of bits intersecting these. Lines BL and bBL are included. The bit line sense amplifiers are alternately arranged on both sides of the bit lines BL and bBL to form the sense amplifier rows 13 and 14.

【0016】メモリセルアレイ10の一辺に沿って、ワ
ード線を選択するロウデコーダ列20が配置され、他の
一辺に沿ってビット線を選択するカラムデコーダ30が
配置されている。ロウデコーダ列20は、図2に示すよ
うに、一つのバンクBANK<i>について、256個
のロウデコーダRD<0>〜<255>と、4個のスペ
アロウデコーダSRD<0>〜<3>により構成され
る。各ロウデコーダRDは、4本のワード線WLを受け
持ち、各スペアロウデコーダSRDも4本のスペアワー
ド線SWLを受け持つことになる。
A row decoder row 20 for selecting a word line is arranged along one side of the memory cell array 10, and a column decoder 30 for selecting a bit line is arranged along another side. As shown in FIG. 2, the row decoder row 20 includes, for one bank BANK <i>, 256 row decoders RD <0> to <255> and four spare row decoders SRD <0> to <3 >. Each row decoder RD is responsible for four word lines WL, and each spare row decoder SRD is also responsible for four spare word lines SWL.

【0017】図1に示すように、不良ロウアドレスの置
換制御を行う不良アドレス記憶回路であるヒューズ回路
40は、2段のヒューズ回路列40a,40bにより構
成されている。上部のヒューズ回路列40aは、上部セ
ルアレイ10aの不良ロウアドレスを記憶して、外部か
ら供給されるロウアドレスRA及びバンクアドレスBA
が入り、これと不良アドレスとの一致検出を行う27個
のヒューズセットFS<0>T〜FS<26>Tにより
構成されている。下部のヒューズ回路列40bは、下部
セルアレイ10bの不良ロウアドレスを記憶して、外部
から供給されるアドレスと不良アドレスとの一致検出を
行う27個のヒューズセットFS<0>B〜FS<26
>Bにより構成されている。
As shown in FIG. 1, a fuse circuit 40, which is a defective address storage circuit for performing a replacement control of a defective row address, includes two stages of fuse circuit rows 40a and 40b. The upper fuse circuit row 40a stores a defective row address of the upper cell array 10a, and externally supplied row address RA and bank address BA.
, And 27 fuse sets FS <0> T to FS <26> T for detecting coincidence between the set and the defective address. The lower fuse circuit row 40b stores the defective row address of the lower cell array 10b, and detects the coincidence between the externally supplied address and the defective address in the 27 fuse sets FS <0> B to FS <26.
> B.

【0018】即ち、通常一列に配置されているヒューズ
セットが、この実施の形態の場合は、2分割されて、メ
モリセルアレイ10のワード線方向に並ぶ27個ずつの
ヒューズセットFSからなるヒューズ回路列40a,4
0bがビット線方向に2段に重ねられた状態にレイアウ
トされている。
That is, in this embodiment, a fuse set normally arranged in one row is divided into two and a fuse circuit row including 27 fuse sets FS arranged in the word line direction of the memory cell array 10. 40a, 4
0b are laid out in a state of being overlapped in two stages in the bit line direction.

【0019】ヒューズ回路列40a,40bの各ヒュー
ズセットは、上述したアドレス一致検出による置換制御
信号bSWLONT,bSWLONBと、スペア選択信
号SRDact<0:3>T,SRDact<0:3>
Bを出力する。置換制御信号bSWLONT,bSWL
ONBは、不良アドレスでロウデコーダRDを非活性に
し、代わりにスペアロウデコーダSRDを活性にする信
号である。従ってこれらの置換制御信号bSWLON
T,bSWLONBは、中継ドライバ60a,60bに
よりそれぞれ、相補信号(NWLONT,SWLON
T),(NWLONB,SWLONB)に変換されて、
上部セルアレイ10a,下部セルアレイ10bのロウデ
コーダRD,スペアロウデコーダSRDに活性化信号と
して供給される。
The fuse sets of the fuse circuit rows 40a and 40b are provided with replacement control signals bSWLONT and bSWLONB based on the address coincidence detection described above, and spare selection signals SRDact <0: 3> T and SRDact <0: 3>.
B is output. Replacement control signals bSWLONT, bSWL
ONB is a signal that deactivates the row decoder RD at the defective address and activates the spare row decoder SRD instead. Therefore, these replacement control signals bSWLON
T and bSWLONB are supplied to complementary signals (NWLONT and SWLONB) by the relay drivers 60a and 60b, respectively.
T), (NWLONB, SWLONB)
It is supplied as an activation signal to the row decoder RD and the spare row decoder SRD of the upper cell array 10a and the lower cell array 10b.

【0020】具体的に、上部セルアレイ10aについて
説明すれば、アドレス一致がない場合には、置換制御信
号bSWLONTは“H”である。アドレス一致が検出
されると、置換制御信号bSWLONTは“L”とな
り、中継ドライバ60aにより、ノーマルセレアレイ1
1を非活性にする信号NWLONT=“L”と、冗長セ
ルアレイ12を活性にする信号SWLONT=“H”が
得られる。下部セルアレイ10bについても同様であ
る。
Specifically, the upper cell array 10a will be described. When there is no address match, the replacement control signal bSWLONT is "H". When an address match is detected, the replacement control signal bSWLONT becomes "L", and the relay driver 60a causes the normal cell array 1
Thus, a signal NWLONT = "L" for deactivating 1 and a signal SWLONT = "H" for activating the redundant cell array 12 are obtained. The same applies to the lower cell array 10b.

【0021】スペア選択信号SRDact<0:3>
T,SRDact<0:3>Bは、上部セルアレイ10
aについて図2に具体的に示したように、4個のスペア
ロウデコーダSRD<0:3>に対応して、アドレス一
致が検出されたときに一つのスペアロウデコーダを選択
する信号として出力される。このスペア選択信号SRD
act<0:3>T,SRDact<0:3>Bは、そ
れぞれ同相再駆動する中継ドライバ50a,50bを介
して、上部セルアレイ10a,下部セルアレイ10bの
各バンク内の4個のスペアロウデコーダSRD<0:3
>のいずれかを活性化する信号となる。
Spare selection signal SRDact <0: 3>
T, SRDact <0: 3> B corresponds to the upper cell array 10
As specifically shown in FIG. 2 for a, corresponding to the four spare row decoders SRD <0: 3>, they are output as signals for selecting one spare row decoder when an address match is detected. You. This spare selection signal SRD
act <0: 3> T and SRDact <0: 3> B are respectively connected to four spare row decoders SRD in each bank of the upper cell array 10a and the lower cell array 10b via the relay drivers 50a and 50b which perform in-phase re-driving. <0: 3
> Is activated.

【0022】ヒューズ回路40の各ヒューズセットは同
じように構成される。代表的に、ヒューズ回路列40a
のヒューズセットFS<j>Tについて、その構成を示
すと、図4のようになる。ヒューズはf0−f13の1
4本である。このうち、ヒューズf0−f10の部分
は、上部セルアレイ10aの不良アドレスを記憶するた
めのヒューズ回路を構成している。ヒューズf11はこ
のヒューズセットを使用するか否かを指定するためのヒ
ューズ回路である。残りのヒューズf12とf13は、
バンク内の4つのスペアロウデコーダSRDのいずれで
置換するかを決定するためのヒューズ回路を構成してい
る。
Each fuse set of the fuse circuit 40 has the same configuration. Typically, the fuse circuit row 40a
FIG. 4 shows the configuration of the fuse set FS <j> T. Fuse is 1 of f0-f13
There are four. The fuses f0 to f10 form a fuse circuit for storing a defective address of the upper cell array 10a. The fuse f11 is a fuse circuit for designating whether to use this fuse set. The remaining fuses f12 and f13 are
A fuse circuit for determining which of the four spare row decoders SRD in the bank is to be replaced is formed.

【0023】不良アドレス指定用のヒューズf0−f1
0のうち、f0−f7は、バンク内の256個のロウデ
コーダのどれを非活性にするかを指定するものであり、
残りの3本が8個のバンクBANK<0>−<7>の一
つを選択するアドレス情報を記憶する。
Fuse f0-f1 for specifying defective address
0, f0-f7 specify which of the 256 row decoders in the bank is to be deactivated,
The remaining three store address information for selecting one of the eight banks BANK <0>-<7>.

【0024】ヒューズはいずれも、プリチャージ用PM
OSトランジスタQPと選択用NMOSトランジスタQ
Nと共に、電源VCCと接地VSS間に直列接続されて
いる。ヒューズデータは、PMOSトランジスタQPを
オン、NMOSトランジスタQNをオフとして、プリチ
ャージを行い、PMOSトランジスタQPをオフ、NM
OSトランジスタQNをオンとして読み出しが行われ
る。ヒューズが切断されていれば、”H”が出力され、
切断されていなければ”L”が出力される。
Each fuse is a PM for precharging.
OS transistor QP and NMOS transistor Q for selection
N is connected in series between the power supply VCC and the ground VSS. The fuse data is obtained by precharging by turning on the PMOS transistor QP and turning off the NMOS transistor QN, turning off the PMOS transistor QP, and NM
Reading is performed by turning on the OS transistor QN. If the fuse is blown, “H” is output,
If not disconnected, "L" is output.

【0025】不良アドレス指定用のヒューズf0−f1
0の出力は、比較器401により、ロウアドレスRA<
0>−RA<7>及びバンクアドレスBA<0>−BA
<2>との一致検出が行われる。一致が検出されたと
き、比較器401の出力は、”H”になるが、ANDゲ
ート402によって、全11個の比較器401の出力と
イネーブルヒューズf11の出力の積がある制御パルス
期間とられる。従って、入力アドレスとヒューズデータ
の一致が検出されかつ、このヒューズセットがイネーブ
ルであるときにのみ、ANDゲート402に”H”の出
力が得られる。
Fuse f0-f1 for defective address designation
0 is output by the comparator 401 to the row address RA <
0> -RA <7> and bank address BA <0> -BA
A match with <2> is detected. When a match is detected, the output of the comparator 401 becomes “H”. However, the AND gate 402 sets a control pulse period in which the product of the outputs of all 11 comparators 401 and the output of the enable fuse f11 is present. . Accordingly, only when a match between the input address and the fuse data is detected and the fuse set is enabled, an "H" output is obtained from the AND gate 402.

【0026】他の26個のヒューズセットからも同様の
出力が出され、計27個の出力信号(すべて”L”か又
は一つだけ”H”となる)がNORゲート404に入
り、置換すべき不良アドレスにおいて、置換制御信号b
SWONTが得られる。即ち、上部セルアレイ10aを
アクセスしたとき、置換の必要がある場合に、置換制御
信号bSWLONT=”L”が出力される。
Similar outputs are output from the other 26 fuse sets, and a total of 27 output signals (all "L" or only one "H") enter the NOR gate 404 and replace it. At the defective address to be replaced, the replacement control signal b
SWONT is obtained. That is, when the upper cell array 10a is accessed, when replacement is necessary, the replacement control signal bSWLONT = "L" is output.

【0027】ANDゲート402の出力は、デコーダ4
03に活性化信号として入る。デコーダ403は、ヒュ
ーズf12,f13のデータをデコードして、4つの出
力の一つを”H”にする。これが、4つのスペアデコー
ダSRDの一つを選択する信号である。このデコーダ4
03の4出力も他の26個のヒューズセットにあり、こ
れらの論理和がORゲート405によりとられて、スペ
ア選択信号SRDact<0:3>Tが発生される。
The output of the AND gate 402 is
03 is input as an activation signal. The decoder 403 decodes the data of the fuses f12 and f13 and sets one of the four outputs to "H". This is a signal for selecting one of the four spare decoders SRD. This decoder 4
The four outputs 03 are also in the other 26 fuse sets, and their OR is taken by the OR gate 405 to generate the spare selection signal SRDact <0: 3> T.

【0028】従って、不良ロウ置換の必要があり、置換
制御信号bSWLONTが”L”になる場合に、スペア
選択信号SRDact<0:3>Tのいずれか一つが”
H”になり、スペアロウデコーダSRDの選択がなされ
ることになる。
Therefore, it is necessary to replace a defective row, and when the replacement control signal bSWLONT becomes "L", one of the spare selection signals SRDact <0: 3> T becomes "1".
H ”to select the spare row decoder SRD.

【0029】この実施の形態においては、図1に示した
ように、ヒューズ回路40を従来のようにワード線方向
一列ではなく、ワード線WLと直交する方向に重ねた2
段のヒューズ回路列40a,40bとして配置し、それ
ぞれが上部セルアレイ10a,下部セルアレイ10bを
担当するようにしている。このような配置を採用するこ
とにより、ヒューズ回路40からロウデコーダ列20ま
でに配設されるアドレス線、置換制御信号線及びスペア
選択信号線の配線長の差が小さくなり、配線遅延による
アクセス時間の増大を抑制することが可能になる。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, the fuse circuits 40 are not arranged in a line in the word line direction as in the prior art, but are overlapped in a direction orthogonal to the word lines WL.
The fuse circuits are arranged as stages of fuse circuits 40a and 40b, each of which is responsible for an upper cell array 10a and a lower cell array 10b. By employing such an arrangement, the difference in wiring length between the address line, the replacement control signal line, and the spare selection signal line provided from the fuse circuit 40 to the row decoder row 20 is reduced, and the access time due to the wiring delay is reduced. Can be suppressed from increasing.

【0030】[実施の形態2]図5は、別の実施の形態
によるDRAM部の構成を図1に対応させて示してい
る。近年の半導体メモリの開発においては、同一世代の
技術を用いた派生品展開が頻繁に行われる。ある容量の
DRAMを開発すると同時に、その半分の容量のDRA
Mを開発するということも行われる。図5の例は、図1
のDRAMの上部セルアレイ10a、下部セルアレイ1
0bの一方のみ、即ち8個のバンクBANK<0>〜<
7>でメモリセルアレイ10を構成した例である。
[Second Embodiment] FIG. 5 shows a configuration of a DRAM unit according to another embodiment, corresponding to FIG. In the development of semiconductor memories in recent years, derivative products using the same generation of technology are frequently developed. At the same time as developing a DRAM of a certain capacity, DRA of half the capacity
Developing M is also done. The example of FIG.
Upper cell array 10a and lower cell array 1
0b, that is, eight banks BANK <0> to <8
7> is an example in which the memory cell array 10 is configured.

【0031】この場合、ヒューズ回路40も本来半分の
容量になっていいはずであるが、ここではヒューズ回路
40は、図1と同じ構成のままとしている。これは、派
生品展開の際の設計効率をよくするために、できるだけ
手直しを少なくするという配慮に基づく。図1と同様
に、ヒューズ回路40は、上下のヒューズ回路列40
a,40bの2段構成として、配線遅延の影響を低減し
ている。上下のヒューズ回路列40a,40b共に、メ
モリセルアレイ10の不良置換を担当することができ
る。
In this case, the fuse circuit 40 should originally have a half capacity, but here, the fuse circuit 40 has the same configuration as that of FIG. This is based on the consideration of minimizing rework as much as possible in order to improve design efficiency when developing derivative products. As in FIG. 1, the fuse circuit 40 includes upper and lower fuse circuit rows 40.
The influence of the wiring delay is reduced as a two-stage configuration of a and b. Both the upper and lower fuse circuit rows 40a and 40b can take charge of defective replacement of the memory cell array 10.

【0032】上部のヒューズ回路列40aのヒューズセ
ットFS<0>〜FS<26>からは、置換制御信号b
SWLONTとスペア選択信号SRDact<0:3>
Tが出力され、下部のヒューズ回路列40bのヒューズ
セットFS<27>〜FS<53>からは、置換制御信
号bSWLONBとスペア選択信号SRDact<0:
3>Bが出力される。各ヒューズセットの構成は、図4
に示したものと同じである。
From the fuse sets FS <0> to FS <26> of the upper fuse circuit row 40a, the replacement control signal b
SWLONT and spare selection signal SRDact <0: 3>
T is output, and from the fuse sets FS <27> to FS <53> of the lower fuse circuit row 40b, the replacement control signal bSWLONB and the spare selection signal SRDact <0:
3> B is output. Fig. 4 shows the configuration of each fuse set.
Is the same as that shown in FIG.

【0033】置換制御信号bSWLONT,bSWLO
NBは、ANDゲート80に入り、積がとられて、中継
ドライバ60に入る。この中継ドライバ60により、ノ
ーマル置換制御信号NWLONとスペア置換制御信号S
WLONが発生される。また、スペア選択信号SRDa
ct<0:3>T,SRDact<0:3>BはORゲ
ート70を介し、中継ドライバ50を介して、メモリセ
ルアレイ10の各バンクの4つのスペアロウデコーダS
RD<0:3>に入る。
Replacement control signals bSWLONT, bSWLO
The NB enters the AND gate 80, is multiplied, and enters the relay driver 60. By the relay driver 60, the normal replacement control signal NWLON and the spare replacement control signal S
WLON is generated. Also, the spare selection signal SRDa
ct <0: 3> T and SRDact <0: 3> B are connected to the four spare row decoders S of each bank of the memory cell array 10 via the OR gate 70 and the relay driver 50.
Enter RD <0: 3>.

【0034】先の実施の形態と同様に、ヒューズ回路4
0は不良アドレスを記憶し、外部から供給されるアドレ
スと不良アドレスの一致検出を行う。54個のヒューズ
セットのいずれかで一致検出がなされると、置換制御信
号bSWLONT又はbSWLONBが”L”になり、
また、スペア選択信号SRDact<0:3>T,SR
Dact<0:3>Bのいずれか一つが”H”となる。
従って、不良アドレスがアクセスされた時に、ノーマル
置換制御信号NWLONが”L”、スペア置換制御信号
SWLONが”H”となってロウデコーダが非活性にな
り、スペア選択信号SRDact<0:3>T,SRD
act<0:3>Bにより一つのスペアロウデコーダが
活性になる。
As in the previous embodiment, the fuse circuit 4
0 stores a defective address and detects coincidence between an externally supplied address and the defective address. When a match is detected in any of the 54 fuse sets, the replacement control signal bSWLONT or bSWLONB becomes “L”,
Further, spare selection signals SRDact <0: 3> T, SR
Any one of Dact <0: 3> B becomes “H”.
Therefore, when a defective address is accessed, the normal replacement control signal NWLON becomes “L” and the spare replacement control signal SWLON becomes “H”, the row decoder becomes inactive, and the spare selection signals SRDact <0: 3> T , SRD
act <0: 3> B activates one spare row decoder.

【0035】不良アドレスがアクセスされた場合以外
は、置換制御信号bSWLONT,bSWLONBは”
H”であり、ノーマル置換制御信号NWLONが”
H”、スペア置換制御信号SWLONが”L”であっ
て、選択したアドレスのロウデコーダがそのまま活性化
される。
Except when a defective address is accessed, the replacement control signals bSWLONT and bSWLONB are set to "
H ”and the normal replacement control signal NWLON is“
H ", the spare replacement control signal SWLON is" L ", and the row decoder of the selected address is activated as it is.

【0036】この実施の形態によると、先の実施の形態
と同様に、配線遅延の影響を低減できるという効果が得
られるのみならず、先の実施の形態の派生品として簡単
な設計で容量の小さいDRAMを得ることができる。ま
た、先の実施の形態に比べてメモリセルアレイの容量が
半分であるが、ヒューズ回路の容量が変わらないため、
先の実施の形態に比べて高い救済効率が得られる。
According to this embodiment, similarly to the above-described embodiment, not only the effect of reducing the influence of the wiring delay can be obtained, but also, as a derivative of the above-described embodiment, the capacitance can be reduced by a simple design. A small DRAM can be obtained. Although the capacity of the memory cell array is half that of the previous embodiment, the capacity of the fuse circuit does not change.
Higher relief efficiency can be obtained compared to the previous embodiment.

【0037】[実施の形態3]図6は、別の実施の形態
によるDRAMの構成を、図1に対応させて示してい
る。図1と基本構成は同じであり、ヒューズ回路40も
それぞれ27個のヒューズセットからなる2段のヒュー
ズ回路列列40a,40bにより構成されている。但
し、ヒューズ回路列40a,40bのうち、それぞれ二
つずつ、計4個のヒューズセットFS<0>TB〜FS
<3>TBが、他のヒューズセットと異なり、上部セル
アレイ10aと下部セルアレイ10bの両方に対応可能
とされている。
[Third Embodiment] FIG. 6 shows a configuration of a DRAM according to another embodiment, corresponding to FIG. The basic configuration is the same as that of FIG. 1, and the fuse circuit 40 is also composed of two stages of fuse circuit rows 40a and 40b each having 27 fuse sets. However, a total of four fuse sets FS <0> TB to FS in the fuse circuit rows 40a and 40b, two each.
<3> Unlike other fuse sets, TB can correspond to both the upper cell array 10a and the lower cell array 10b.

【0038】即ち、ヒューズセットFS<0>TB〜F
S<3>TBが他のヒューズセットと異なる点は、第1
に、ヒューズ回路列40aの二つのヒューズセットFS
<0>TB,FS<1>TBは、中継ドライバ60aに
入る上部セルアレイ10aのための置換制御信号bSW
LONTを出力する端子の他、中継ドライバ60bに入
る下部セルアレイ10bのための置換制御信号bSWL
ONBを出力する端子を有する。同様に、ヒューズ回路
列40bの二つのヒューズセットFS<2>TB,FS
<3>TBは、中継ドライバ60bに入る下部セルアレ
イ10bのための置換制御信号bSWLONBを出力す
る端子の他、中継ドライバ60aに入る上部セルアレイ
10aのための置換制御信号bSWLONTを出力する
端子を有する。
That is, the fuse sets FS <0> TB to F
The difference between S <3> TB and other fuse sets is that
And two fuse sets FS of the fuse circuit row 40a.
<0> TB, FS <1> TB are replacement control signals bSW for the upper cell array 10a entering the relay driver 60a.
A replacement control signal bSWL for the lower cell array 10b entering the relay driver 60b, in addition to the terminal for outputting LONT
It has a terminal for outputting ONB. Similarly, the two fuse sets FS <2> TB, FS of the fuse circuit row 40b
<3> TB has a terminal for outputting a replacement control signal bSWLONT for the lower cell array 10b entering the relay driver 60b and a terminal for outputting a replacement control signal bSWLONT for the upper cell array 10a entering the relay driver 60a.

【0039】第2に、ヒューズ回路列40aの二つのヒ
ューズセットFS<0>TB,FS<1>TBは、中継
ドライバ50aに入る上部セルアレイ10aのためのス
ペア選択信号SRDact<0:3>Tを出力する端子
の他、中継ドライバ50bに入る下部セルアレイ10b
のためのスペア選択信号SRDact<0:3>Tを出
力する端子を有する。同様に、ヒューズ回路列40bの
二つのヒューズセットFS<2>TB,FS<3>TB
は、中継ドライバ50bに入る下部セルアレイ10bの
ためのスペア選択信号SRDact<0:3>Bを出力
する端子の他、中継ドライバ50aに入る上部セルアレ
イ10aのためのスペア選択信号SRDact<0:3
>Tを出力する端子を有する。残りの25個ずつのヒュ
ーズセットは、図4と同様である。
Second, the two fuse sets FS <0> TB and FS <1> TB of the fuse circuit array 40a are provided with spare selection signals SRDact <0: 3> T for the upper cell array 10a entering the relay driver 50a. , A lower cell array 10b that enters the relay driver 50b
For outputting a spare selection signal SRDact <0: 3> T for Similarly, the two fuse sets FS <2> TB and FS <3> TB of the fuse circuit row 40b
Are terminals for outputting a spare selection signal SRDact <0: 3> B for the lower cell array 10b entering the relay driver 50b, and a spare selection signal SRDact <0: 3 for the upper cell array 10a entering the relay driver 50a.
> T. The remaining 25 fuse sets are the same as in FIG.

【0040】近年、微細化に伴うプロセス上の困難か
ら、メモリセルアレイの上端に欠陥が多いとか、マスク
が完璧に作成できない、等の理由により、欠陥の偏在が
予想以上の場合が生じる。この場合、平均的な欠陥の発
生確率に基づいてメモリセルアレイの上半分と下半分に
対応するヒューズセットを十分に設けても、ヒューズセ
ットが不足する事態が生じうる。この実施の形態は、い
ずれの救済領域にも対応できるヒューズセットを混在さ
せることにより、この様な事態に対処可能としている。
In recent years, due to difficulties in processing due to miniaturization, there are cases where the uneven distribution of defects is more than expected due to the fact that there are many defects at the upper end of the memory cell array or a mask cannot be created perfectly. In this case, even if the fuse sets corresponding to the upper half and the lower half of the memory cell array are sufficiently provided based on the average defect occurrence probability, a shortage of the fuse sets may occur. This embodiment can cope with such a situation by mixing fuse sets that can cope with any relief area.

【0041】ロウアドレスRAやバンクアドレスBAが
メモリセルアレイ10の上部セルアレイ10aと下部セ
ルアレイ10bに共通の場合に、これらで上部セルアレ
イ10aと下部セルアレイ10bの識別はできない。従
って、ヒューズセットFS<0>TB〜FS<3>TB
においては、上部セルアレイ10aと下部セルアレイ1
0bを識別する情報をヒューズデータとして記憶する。
When the row address RA and the bank address BA are common to the upper cell array 10a and the lower cell array 10b of the memory cell array 10, the upper cell array 10a and the lower cell array 10b cannot be distinguished from each other. Therefore, the fuse sets FS <0> TB to FS <3> TB
, The upper cell array 10a and the lower cell array 1
Information for identifying 0b is stored as fuse data.

【0042】そして、上部セルアレイ10a用としてセ
ットされた場合には、入力アドレスと不良アドレスが一
致したときに置換制御信号bSWLONTを”L”、b
SWLONBを”H”のままとし、上部用のスペア選択
信号SRDact<0:3>Tの一つを”H”とする。
このとき、下部用のスペア選択信号SRDact<0:
3>Bは”L”のままである。また下部セルアレイ10
b用としてセットされた場合には、入力アドレスと不良
アドレスが一致したときに置換制御信号bSWLONB
を”L”、bSWLONTを”H”のままとし、下部用
のスペア選択信号SRDact<0:3>Bの一つを”
H”とする。このとき、上部用のスペア選択信号SRD
act<0:3>Tは”L”のままである。
When set for the upper cell array 10a, the replacement control signal bSWLONT is set to "L" and b when the input address matches the defective address.
SWLONB is kept at “H”, and one of the upper spare selection signals SRDact <0: 3> T is set at “H”.
At this time, the lower spare selection signal SRDact <0:
3> B remains "L". Also, the lower cell array 10
b, the replacement control signal bSWLONB is set when the input address matches the defective address.
At "L" and bSWLONT at "H", and set one of the lower spare selection signals SRDact <0: 3> B to "L".
H ”. At this time, the upper spare selection signal SRD
act <0: 3> T remains “L”.

【0043】図7は具体的に、図6におけるヒューズセ
ットFS<0>TB〜FS<3>TBの一つの構成を、
先の実施の形態の図4に対応させて示している。ヒュー
ズf0〜f14は、図4に比べて一つ多い。これらのう
ち、ヒューズf0〜f10は、図4の場合と同様、不良
アドレス指定用である。ヒューズf11は、このヒュー
ズセットを上部セルアレイ10a用として指定するため
のもの、ヒューズf12は、下部セルアレイ10b用と
して指定するためのものである。ヒューズf13,f1
4は、4つのスペアロウデコーダの一つを選択する情報
を記憶するものである。
FIG. 7 specifically shows one configuration of the fuse sets FS <0> TB to FS <3> TB in FIG.
This is shown corresponding to FIG. 4 of the previous embodiment. The fuses f0 to f14 are one more than those in FIG. Of these, the fuses f0 to f10 are for defective address designation as in the case of FIG. The fuse f11 is for designating the fuse set for the upper cell array 10a, and the fuse f12 is for designating the fuse set for the lower cell array 10b. Fuse f13, f1
Reference numeral 4 stores information for selecting one of the four spare row decoders.

【0044】そして、不良アドレス一致検出により置換
制御信号を出力するためのANDゲートとしては、比較
器401の出力とヒューズf11のデータの積をとるA
NDゲート402−1と、比較器401の出力とヒュー
ズf12のデータの積をとるANDゲート402−2と
が用意されている。これらのANDゲート402−1,
402−2の出力は、それぞれ他のヒューズセットの対
応する出力と共に、NORゲート404−1,404−
2に入り、上部セルアレイ10a,下部セルアレイ10
b用の置換制御信号bSWLONT,bSWLONBを
出力するようになっている。
As an AND gate for outputting a replacement control signal upon detection of a defective address match, A which takes the product of the output of the comparator 401 and data of the fuse f11 is used.
An ND gate 402-1 and an AND gate 402-2 for calculating the product of the output of the comparator 401 and the data of the fuse f12 are provided. These AND gates 402-1,
The outputs of 402-2, along with the corresponding outputs of the other fuse sets, respectively, are NOR gates 404-1 and 404-.
2, the upper cell array 10a and the lower cell array 10
The replacement control signals bSWLONT and bSWLONB for b are output.

【0045】そして、ANDゲート402−1の出力に
より活性化されて、ヒューズf13,f14のデータを
デコードするデコーダ403−1と、ANDゲート40
2−2の出力により活性化されて、ヒューズf13,f
14のデータをデコードするデコーダ403−2とが設
けられている。これらのデコーダ403−1,403−
2の出力は、それぞれ他のヒューズセットの対応するデ
コーダ出力と共に、ORゲート405−1,405−2
に入り、上部セルアレイ10a用のスペア選択信号SR
Dact<0:3>T,下部セルアレイ10b用のスペ
ア選択信号SRDact<0:3>Bを出力するように
なっている。
The decoder 403-1 activated by the output of the AND gate 402-1 to decode the data of the fuses f13 and f14, and the AND gate 40
Activated by the output of 2-2, fuses f13, f
And a decoder 403-2 for decoding 14 data. These decoders 403-1 and 403-
2 together with the corresponding decoder outputs of the other fuse sets, respectively, are OR gates 405-1 and 405-2.
And a spare selection signal SR for the upper cell array 10a.
Dact <0: 3> T, and a spare selection signal SRDact <0: 3> B for the lower cell array 10b is output.

【0046】従ってヒューズf11を切断して、このヒ
ューズセットが上部セルアレイ10a用としてセットさ
れた場合には、不良アドレスがアクセスされたとき、置
換制御信号bSWLONTが”L”で、上部用のスペア
選択信号SRDact<0:3>Tの一つが”H”とな
る。これにより不良ロウの置換制御がなされる。ヒュー
ズf12を切断して下部セルアレイ10b用としてセッ
トされた場合には、不良アドレスがアクセスされたと
き、置換制御信号bSWLONBが”L”となり、下部
用のスペア選択信号SRDact<0:3>Bの一つ
が”H”となって、不良ロウの置換制御がなされる。
Therefore, when the fuse f11 is cut and this fuse set is set for the upper cell array 10a, when a defective address is accessed, the replacement control signal bSWLONT is set to "L" and the upper spare is selected. One of the signals SRDact <0: 3> T becomes “H”. As a result, replacement control of the defective row is performed. When the fuse f12 is cut and set for the lower cell array 10b, when a defective address is accessed, the replacement control signal bSWLONB becomes "L" and the lower spare selection signal SRDact <0: 3> B One becomes "H" and the replacement control of the defective row is performed.

【0047】この実施の形態によると、実施の形態1と
同様の効果が得られる他、ヒューズ回路の不良救済範囲
が広くなる結果、メモリセルアレイの欠陥の偏在が大き
い場合にも救済が可能になり、救済効率の向上が図られ
る。
According to this embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained, and as a result, the defect repair range of the fuse circuit is widened, so that even if the memory cell array has a large uneven distribution of defects, it is possible to perform the relief. Thus, the relief efficiency is improved.

【0048】[実施の形態4]図8は、図7のヒューズセ
ットと同様の機能を、一つヒューズを減らして実現する
実施の形態である。即ち、図7においては、ヒューズf
11,f12をそれぞれ、上部セルアレイ10a,下部
セルアレイ10bに対応させている。これに対して、図
8の構成では、一つのヒューズf11を上部セルアレイ
10aと下部セルアレイ10bとに対応可能とする。
[Embodiment 4] FIG. 8 shows an embodiment in which the same function as the fuse set of FIG. 7 is realized by reducing one fuse. That is, in FIG.
11 and f12 correspond to the upper cell array 10a and the lower cell array 10b, respectively. On the other hand, in the configuration of FIG. 8, one fuse f11 can correspond to the upper cell array 10a and the lower cell array 10b.

【0049】そのために、一つのANDゲート402の
NORゲート404−1,404−2への接続配線を、
実線で示す配線と破線で示す配線とでマスクオプション
により切り換え可能としている。同様に、ANDゲート
402の出力により活性化される一つのデコーダ403
の出力のORゲート405−1,405−2への接続配
線を、実線で示す配線と破線で示す配線とでマスクオプ
ションにより切り換え可能としている。ヒューズf12
とf13とが、4つのスペアロウデコーダの一つを選択
する情報を記憶するもので、その出力がデコーダ403
に入る。
For this purpose, the connection wiring of one AND gate 402 to the NOR gates 404-1 and 404-2 is
Switching between the wiring shown by the solid line and the wiring shown by the broken line can be switched by a mask option. Similarly, one decoder 403 activated by the output of the AND gate 402
Is connected to the OR gates 405-1 and 405-2 by a mask option between a wiring shown by a solid line and a wiring shown by a broken line. Fuse f12
And f13 store information for selecting one of the four spare row decoders.
to go into.

【0050】この様に、一つのヒューズセットの異なる
救済領域への割り当てを、ヒューズによらず、マスクオ
プションにより一部の配線接続を変更することで、変更
することができる。即ち、ヒューズ、ANDゲート及び
デコーダと一つずつ減らして、図7のヒューズセットと
同様の機能を実現することができる。
As described above, the assignment of one fuse set to different relief areas can be changed by changing a part of the wiring connection by a mask option without using the fuse. That is, the same function as the fuse set of FIG. 7 can be realized by reducing the number of fuses, AND gates, and decoders one by one.

【0051】[実施の形態5]図9は、別の実施の形態
による構成を、図1に対応させて示している。図1の実
施の形態では、ヒューズ回路40は、2段のヒューズ回
路列40a,40bが、メモリセルアレイ10のビット
線方向に重ねられ、各段のヒューズセットはワード線方
向に配列されている。これに対して、図9では、ヒュー
ズ回路40の配置を、図1の場合に対して90°回転さ
せた状態にしている。即ち、ヒューズ回路40の2段の
ヒューズ回路列40a,40bは、メモリセルアレイ1
0のワード線方向に重ねられ、各段のヒューズセットは
ビット線方向に配列されている。その他の構成は、図1
と同様である。
[Fifth Embodiment] FIG. 9 shows a structure according to another embodiment corresponding to FIG. In the embodiment of FIG. 1, the fuse circuit 40 has two stages of fuse circuit rows 40a and 40b stacked in the bit line direction of the memory cell array 10, and the fuse sets in each stage are arranged in the word line direction. On the other hand, in FIG. 9, the arrangement of the fuse circuit 40 is rotated by 90 degrees with respect to the case of FIG. That is, the two-stage fuse circuit rows 40a and 40b of the fuse circuit 40 are connected to the memory cell array 1
The fuse sets of the respective stages are arranged in the bit line direction. Other configurations are shown in FIG.
Is the same as

【0052】実際のヒューズ回路のレイアウトは、メモ
リセルアレイ10とそのデコード回路部を含むコア回路
に対して、周辺回路として、集積回路チップ上で最適決
定される。従って、図1とはヒューズ回路列の方向が直
交する図9のレイアウトもあり得る。この場合も、ヒュ
ーズ回路列を一列ではなく、2段構成とすることによ
り、ヒューズ回路40からロウデコーダRDまでの配線
の遅延を小さくすることができ、先の実施の形態と同様
の効果が得られる。図9に示すヒューズ回路40のレイ
アウトは、図6の実施の形態で説明した構成のヒューズ
回路40に対しても同様に適用可能である。
The layout of the actual fuse circuit is optimally determined on the integrated circuit chip as a peripheral circuit for the core circuit including the memory cell array 10 and its decode circuit section. Therefore, the layout of FIG. 9 in which the direction of the fuse circuit row is orthogonal to that of FIG. 1 is also possible. Also in this case, the delay of the wiring from the fuse circuit 40 to the row decoder RD can be reduced by forming the fuse circuit row not in one row but in a two-stage configuration, and the same effect as in the previous embodiment can be obtained. Can be The layout of the fuse circuit 40 shown in FIG. 9 is similarly applicable to the fuse circuit 40 having the configuration described in the embodiment of FIG.

【0053】[実施の形態6]図10は、更に別の実施
の形態による構成を、図1及び図9に対応させて示して
いる。この実施の形態の場合、メモリセルアレイ10の
ロウデコーダ列20とは反対側にヒューズ回路40を配
置している。ヒューズ回路40の構成及び、メモリセル
アレイ10との関係での配列方向は、図9と同様であ
る。ヒューズ回路40からの信号線は、上部セルアレイ
10aと下部セルアレイ10bの間を通過して、ロウデ
コーダ列20にまで導かれる。この場合も、ヒューズ回
路列を一列ではなく、2段構成とすることにより、ヒュ
ーズ回路40からロウデコーダRDまでの配線の遅延を
小さくすることができ、先の実施の形態と同様の効果が
得られる。図10に示すヒューズ回路40のレイアウト
は、図6の実施の形態で説明した構成のヒューズ回路4
0を用いた場合にも同様に適用可能である。
[Embodiment 6] FIG. 10 shows a configuration according to still another embodiment corresponding to FIG. 1 and FIG. In the case of this embodiment, a fuse circuit 40 is arranged on the memory cell array 10 on the side opposite to the row decoder row 20. The configuration of the fuse circuit 40 and the arrangement direction in relation to the memory cell array 10 are the same as those in FIG. A signal line from the fuse circuit 40 passes between the upper cell array 10a and the lower cell array 10b and is led to the row decoder column 20. Also in this case, the delay of the wiring from the fuse circuit 40 to the row decoder RD can be reduced by forming the fuse circuit row not in one row but in a two-stage configuration, and the same effect as in the previous embodiment can be obtained. Can be The layout of the fuse circuit 40 shown in FIG. 10 corresponds to the fuse circuit 4 having the configuration described in the embodiment of FIG.
The same applies to the case where 0 is used.

【0054】[実施の形態7]図11は、更に別の実施
の形態による構成を、図1に対応させて示している。こ
の実施の形態の場合、メモリセルアレイ10は、それぞ
れが例えば8バンクにより構成された上部セルアレイ1
0a、中間セルアレイ10b及び下部セルアレイ10c
の3段構成となっている。これに対応して、ヒューズ回
路40は、上部ヒューズ回路列40a、中間ヒューズ回
路列40b及び下部ヒューズ回路列40cの3段構成と
している。
[Embodiment 7] FIG. 11 shows a structure of still another embodiment corresponding to FIG. In the case of this embodiment, the memory cell array 10 is composed of, for example, an upper cell array 1 composed of eight banks.
0a, intermediate cell array 10b and lower cell array 10c
In a three-stage configuration. Correspondingly, the fuse circuit 40 has a three-stage configuration including an upper fuse circuit array 40a, an intermediate fuse circuit array 40b, and a lower fuse circuit array 40c.

【0055】各ヒューズ回路列40a,40b,40c
は、それぞれ27個ずつのヒューズセットFS<0>T
〜FS<26>T,FS<0>M〜FS<26>M,F
S<0>B〜FS<26>Bにより構成されている。そ
して、各ヒューズ回路列40a,40b,40cから得
られる置換制御信号bSWLONT,bSWLONM,
bSWLONBは、それぞれ中継ドライバ60a,60
b,60cにより、相補信号に変換されて、上部セルア
レイ10a,中間セルアレイ10b,下部セルアレイ1
0cのロウデコーダ部に送られる。
Each of the fuse circuit rows 40a, 40b, 40c
Is a set of 27 fuse sets FS <0> T
FFS <26> T, FS <0> M to FS <26> M, F
S <0> B to FS <26> B. Then, replacement control signals bSWLONT, bSWLONM, and bSWLONT obtained from the respective fuse circuit rows 40a, 40b, and 40c
bSWLONB is the relay driver 60a, 60
b and 60c, the signals are converted into complementary signals, and the upper cell array 10a, the intermediate cell array 10b, and the lower cell array 1
0c is sent to the row decoder section.

【0056】同様に、各ヒューズ回路列40a,40
b,40cから得られるスペア選択信号SRDact<
0:3>T,SRDact<0:3>M,SRDact
<0:3>Bは、それぞれ中継ドライバ50a,50
b,50cを介して、上部セルアレイ10a,中間セル
アレイ10b,下部セルアレイ10cのロウデコーダ部
に送られる。
Similarly, each fuse circuit row 40a, 40a
b, 40c, the spare selection signal SRDact <
0: 3> T, SRDact <0: 3> M, SRDact
<0: 3> B represents the relay drivers 50a and 50, respectively.
The data are sent to the row decoder sections of the upper cell array 10a, the intermediate cell array 10b, and the lower cell array 10c via the lines b and 50c.

【0057】この様に、メモリセルアレイ10の容量が
大きくなり、それに伴ってヒューズセット数が多くなる
場合には、ヒューズ回路40を2段構成に限らず、3段
構成とすることにより、配線遅延の影響をより効果的に
低減することが可能になる。更に、4段以上のヒューズ
回路列として構成することも可能である。
As described above, when the capacity of the memory cell array 10 is increased and the number of fuse sets is accordingly increased, the fuse circuit 40 is not limited to the two-stage configuration, but can be configured to have the three-stage configuration. Can be more effectively reduced. Further, it is also possible to configure a fuse circuit row of four or more stages.

【0058】[実施の形態8]図12は、更に別の実施
の形態による構成を、図1に対応させて示している。こ
の実施の形態の場合、メモリセルアレイ10は、図1と
同様に上部セルアレイ10aと下部セルアレイ10bに
より構成されているが、ヒューズ回路40を3段のヒュ
ーズ回路列40a,40b,40cにより構成してい
る。
[Eighth Embodiment] FIG. 12 shows a configuration of still another embodiment corresponding to FIG. In the case of this embodiment, the memory cell array 10 is composed of an upper cell array 10a and a lower cell array 10b as in FIG. 1, but the fuse circuit 40 is composed of three stages of fuse circuit rows 40a, 40b and 40c. I have.

【0059】3段のヒューズ回路列40a,40b,4
0cは例えば、いずれも24個のヒューズセットにより
構成されるものとする。上段ヒューズ回路列40aの2
4個のヒューズセットFS<0>T〜FS<23>T
と、中段の半分のヒューズセットFS<24>T〜FS
<35>Tとが、上部セルアレイ10aの不良救済用で
ある。中段の残り半分のヒューズセットFS<0>B〜
FS<11>Bと、下段ヒューズ回路列40cの24個
のヒューズセットFS<12>T〜FS<35>Tと
が、下部セルアレイ10bの不良救済用である。
The three stages of fuse circuit rows 40a, 40b, 4
0c is, for example, constituted by 24 fuse sets. 2 of the upper fuse circuit row 40a
Four fuse sets FS <0> T to FS <23> T
And the middle half fuse set FS <24> T to FS
<35> T is for repairing a defect in the upper cell array 10a. The other half fuse set FS <0> B in the middle stage
The FS <11> B and the 24 fuse sets FS <12> T to FS <35> T of the lower fuse circuit row 40c are for relieving a defect of the lower cell array 10b.

【0060】即ち、ここまでの実施の形態では、ヒュー
ス回路40を複数段のヒューズ回路列で構成とする場合
に、一段のヒューズ回路列がメモリセルアレイの同じ救
済領域に対応するものとしたが、この実施の形態では、
一段のヒューズ回路列をメモリセルアレイの異なる救済
領域に対応させるようにしている。それ以外は、図1の
実施の形態と同様である。この実施の形態によっても、
先の実施の形態と同様の効果が得られる。
That is, in the above-described embodiments, when the fuse circuit 40 is constituted by a plurality of fuse circuit rows, one fuse circuit row corresponds to the same relief area of the memory cell array. In this embodiment,
One row of fuse circuit rows is made to correspond to different relief areas of the memory cell array. Otherwise, it is the same as the embodiment of FIG. According to this embodiment,
An effect similar to that of the above embodiment can be obtained.

【0061】以上においては、専らDRAMを説明した
が、この発明はこれに限られるものではなく、SRA
M,EEPROM等の他の各種半導体メモリを含む集積
回路に同様に適用することが可能である。
In the above, the DRAM has been exclusively described. However, the present invention is not limited to this.
The present invention can be similarly applied to an integrated circuit including various other semiconductor memories such as M and EEPROM.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、複
数の記憶回路セットからなる不良アドレス記憶回路を複
数段の記憶回路列に分割して重ねることにより、従来の
ように複数の記憶回路セットを一列に並べる場合に比べ
て、各記憶回路セットからデコード回路に接続される制
御信号線の配線遅延を小さいものとすることができる。
これにより、冗長回路方式を採用した半導体メモリのア
クセス時間の増大を抑制することができる。
As described above, according to the present invention, a defective address storage circuit composed of a plurality of storage circuit sets is divided into a plurality of storage circuit columns and overlapped with each other, so that a plurality of storage circuits as in the prior art are provided. Compared with the case where the sets are arranged in a line, the wiring delay of the control signal line connected from each storage circuit set to the decode circuit can be reduced.
As a result, it is possible to suppress an increase in access time of the semiconductor memory employing the redundant circuit method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の形態によるDRAMの要部構
成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a main configuration of a DRAM according to an embodiment of the present invention;

【図2】同実施の形態の一つのバンクと一つのヒューズ
回路列に着目した具体構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a specific configuration focusing on one bank and one fuse circuit row of the embodiment.

【図3】同実施の形態の一つのバンクの内部構成を示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing an internal configuration of one bank of the embodiment.

【図4】同実施の形態の一つのヒューズセットの構成を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of one fuse set of the embodiment.

【図5】他の実施の形態によるDRAMの要部構成を示
す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a main configuration of a DRAM according to another embodiment.

【図6】他の実施の形態によるDRAMの要部構成を示
す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a main configuration of a DRAM according to another embodiment.

【図7】図6の実施の形態において複数救済領域に対応
させたヒューズ回路の構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a fuse circuit corresponding to a plurality of relief areas in the embodiment of FIG. 6;

【図8】図7の構成を変形した実施の形態を示す図であ
る。
8 is a diagram showing an embodiment in which the configuration of FIG. 7 is modified.

【図9】他の実施の形態によるDRAMの要部構成を示
す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a main configuration of a DRAM according to another embodiment.

【図10】他の実施の形態によるDRAMの要部構成を
示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a main configuration of a DRAM according to another embodiment.

【図11】他の実施の形態によるDRAMの要部構成を
示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a main configuration of a DRAM according to another embodiment.

【図12】他の実施の形態によるDRAMの要部構成を
示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a main configuration of a DRAM according to another embodiment.

【図13】従来のDRAMのメモリセルアレイとヒュー
ズ回路の関係を示すである。
FIG. 13 shows a relationship between a memory cell array of a conventional DRAM and a fuse circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…メモリセルアレイ、20…ロウデコーダ列、30
…カラムデコーダ、40…ヒューズ回路、40a,40
b…ヒューズ回路列、FS<0>T〜FS<26>T,
FS<0>B〜FS<26>B…ヒューズセット、50
a,50b,60a,60b…中継ドライバ、401…
比較器、402…ANDゲート、403…デコーダ、4
04…NORゲート、405…ORゲート。
10: memory cell array, 20: row decoder row, 30
... column decoder, 40 ... fuse circuit, 40a, 40
b: fuse circuit row, FS <0> T to FS <26> T,
FS <0> B to FS <26> B: fuse set, 50
a, 50b, 60a, 60b ... relay driver, 401 ...
Comparator, 402: AND gate, 403: decoder, 4
04: NOR gate, 405: OR gate.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ノーマルセルアレイ及びこのノーマルセ
ルアレイの不良セルを置換するための冗長セルアレイを
有するメモリセルアレイと、 前記ノーマルセルアレイの不良アドレスを記憶し外部か
ら供給されるアドレスと不良アドレスの一致検出を行っ
て前記ノーマルセルアレイの不良セルを前記冗長セルア
レイで置換するための複数の記憶回路セットにより構成
される不良アドレス記憶回路とを備え、 前記不良アドレス記憶回路を構成する複数の記憶回路セ
ットは、複数段の記憶回路列に分割され、各記憶回路列
内の記憶回路セットが第1の方向に、前記複数段の記憶
回路列が前記第1の方向と直交する第2の方向に並べら
れていることを特徴とする半導体メモリ集積回路。
1. A memory cell array having a normal cell array and a redundant cell array for replacing a defective cell of the normal cell array, and detecting coincidence between a defective address stored in the normal cell array and an externally supplied address. A defective address storage circuit configured by a plurality of storage circuit sets for replacing defective cells of the normal cell array with the redundant cell array, wherein the plurality of storage circuit sets configuring the defective address storage circuit have a plurality of stages. Storage circuit sets in each storage circuit row are arranged in a first direction, and the storage circuit rows of the plurality of stages are arranged in a second direction orthogonal to the first direction. A semiconductor memory integrated circuit characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 前記メモリセルアレイは、少なくとも二
つのセルアレイ領域に分けられ、各セルアレイ領域がノ
ーマルセルアレイとこのノーマルセルアレイの不良セル
を置換するための冗長セルアレイとを有し、且つ前記不
良アドレス記憶回路を構成する複数段の記憶回路列は、
それぞれ前記各セルアレイ領域に対応して、各セルアレ
イ領域内の不良セル置換を行うものとして配置されてい
ることを特徴とする請求項1記載の半導体メモリ集積回
路。
2. The memory cell array is divided into at least two cell array regions, each cell array region having a normal cell array and a redundant cell array for replacing a defective cell of the normal cell array, and the defective address storage circuit. Is a multi-stage memory circuit sequence,
2. The semiconductor memory integrated circuit according to claim 1, wherein said semiconductor memory integrated circuit is arranged so as to perform defective cell replacement in each of said cell array regions.
【請求項3】 前記複数段の記憶回路列の一部の記憶回
路セットが、複数のセルアレイ領域の不良セル置換に対
応可能とされていることを特徴とする請求項2記載の半
導体メモリ集積回路。
3. The semiconductor memory integrated circuit according to claim 2, wherein a part of the storage circuit sets of the plurality of storage circuit rows is capable of coping with defective cell replacement in a plurality of cell array regions. .
【請求項4】 前記第1の方向は、前記メモリセルアレ
イのワード線方向であり、前記第2の方向は、前記メモ
リセルアレイのビット線方向であることを特徴とする請
求項1記載の半導体メモリ集積回路。
4. The semiconductor memory according to claim 1, wherein said first direction is a word line direction of said memory cell array, and said second direction is a bit line direction of said memory cell array. Integrated circuit.
【請求項5】 前記第1の方向は、前記メモリセルアレ
イのビット線方向であり、前記第2の方向は、前記メモ
リセルアレイのワード線方向であることを特徴とする請
求項1記載の半導体メモリ集積回路。
5. The semiconductor memory according to claim 1, wherein said first direction is a bit line direction of said memory cell array, and said second direction is a word line direction of said memory cell array. Integrated circuit.
【請求項6】 前記各記憶回路セットは、 不良アドレスを記憶するための第1のヒューズ回路と、 記憶回路セットの使用の可否を指定するための第2のヒ
ューズ回路と、 前記冗長セルアレイの一つを選択するための第3のヒュ
ーズ回路と、 前記第1のヒューズ回路の出力と外部から供給されるア
ドレスとの一致検出を行う比較器と、 この比較器の出力と前記第2のヒューズ回路の出力の積
をとって置換制御信号を出力するための論理ゲートと、 この論理ゲートの出力により活性化されて前記第3のヒ
ューズ回路のデータをデコードしてスペア選択信号を出
力するためのデコーダとを有することを特徴とする請求
項1記載の半導体メモリ集積回路。
6. The memory circuit set includes: a first fuse circuit for storing a defective address; a second fuse circuit for designating whether the memory circuit set can be used; and one of the redundant cell arrays. A third fuse circuit for selecting one of the first and second fuse circuits; a comparator for detecting a match between an output of the first fuse circuit and an externally supplied address; and an output of the comparator and the second fuse circuit. And a logic gate for outputting a replacement control signal by taking the product of the outputs of the logic circuits, and a decoder activated by the output of the logic gate to decode data of the third fuse circuit and output a spare selection signal 2. The semiconductor memory integrated circuit according to claim 1, comprising:
【請求項7】 前記一部の記憶回路セットは、 不良アドレスを記憶するための第1のヒューズ回路と、 前記複数のセルアレイ領域を指定するための第2のヒュ
ーズ回路と、 前記冗長セルアレイの一つを選択するための第3のヒュ
ーズ回路と、 前記第1のヒューズ回路の出力と外部から供給されるア
ドレスとの一致検出を行う比較器と、 この比較器の出力と前記第2のヒューズ回路の各一つず
つの出力との積をとって前記複数のセルアレイ領域に対
する各置換制御信号を出力するための複数の論理ゲート
と、 これらの論理ゲートの出力によりそれぞれ活性化されて
前記第3のヒューズ回路のデータをデコードして対応す
るセルアレイ領域に対する各スペア選択信号を出力する
ための複数のデコーダとを有することを特徴とする請求
項3記載の半導体メモリ集積回路。
7. The partial memory circuit set includes: a first fuse circuit for storing a defective address; a second fuse circuit for designating the plurality of cell array regions; A third fuse circuit for selecting one of the first and second fuse circuits; a comparator for detecting a match between an output of the first fuse circuit and an externally supplied address; and an output of the comparator and the second fuse circuit. A plurality of logic gates for outputting the respective replacement control signals for the plurality of cell array regions by taking the product of each one of the outputs of the respective logic arrays; and the third logic gates being activated by the outputs of these logic gates, respectively. 4. A decoder according to claim 3, further comprising a plurality of decoders for decoding data of the fuse circuit and outputting respective spare selection signals for a corresponding cell array region. Semiconductor memory integrated circuit.
【請求項8】 前記一部の記憶回路セットは、 不良アドレスを記憶するための第1のヒューズ回路と、 記憶回路セットの使用の可否を指定するための第2のヒ
ューズ回路と、 前記冗長セルアレイの一つを選択するための第3のヒュ
ーズ回路と、 前記第1のヒューズ回路の出力と外部から供給されるア
ドレスとの一致検出を行う比較器と、 この比較器の出力と第2のヒューズ回路の出力の積をと
って置換制御信号を出力するための論理ゲートと、 この論理ゲートの出力により活性化されて前記第3のヒ
ューズ回路のデータをデコードしてスペア選択信号を出
力するためのデコーダとを有し、且つ、 前記論理ゲート及びデコーダの出力信号配線は、複数の
セルアレイ領域のいずれかに対する置換制御信号線及び
スペア選択信号線として、マスクオプションにより配設
されることを特徴とする請求項3記載の半導体メモリ集
積回路。
8. The partial memory circuit set includes: a first fuse circuit for storing a defective address; a second fuse circuit for designating whether the memory circuit set can be used; and the redundant cell array. A third fuse circuit for selecting one of the following: a comparator for detecting a match between an output of the first fuse circuit and an externally supplied address; and an output of the comparator and a second fuse. A logic gate for outputting a replacement control signal by taking the product of the outputs of the circuit; and a logic gate activated by the output of the logic gate for decoding data of the third fuse circuit and outputting a spare selection signal. And a logic gate and an output signal line of the decoder, as a replacement control signal line and a spare selection signal line for any of the plurality of cell array regions. The semiconductor memory integrated circuit according to claim 3, characterized in that it is provided by the option.
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