JP2002144331A - Method for manufacturing epoxy resin composition tablet and semiconductor device obtained by using the tablet - Google Patents

Method for manufacturing epoxy resin composition tablet and semiconductor device obtained by using the tablet

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JP2002144331A
JP2002144331A JP2000347228A JP2000347228A JP2002144331A JP 2002144331 A JP2002144331 A JP 2002144331A JP 2000347228 A JP2000347228 A JP 2000347228A JP 2000347228 A JP2000347228 A JP 2000347228A JP 2002144331 A JP2002144331 A JP 2002144331A
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epoxy resin
resin composition
tablet
semiconductor device
composition tablet
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Katsuhiro Niwa
勝弘 丹羽
Yasuaki Tanimura
寧昭 谷村
Atsuto Tokunaga
淳人 徳永
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an epoxy resin composition tablet for obtaining a semiconductor device without any void by transfer molding while the semiconductor device obtained by the manufacturing method is provided. SOLUTION: The method for manufacturing the epoxy resin composition tablet is provided wherein when the epoxy resin composition tablet is manufactured by putting the epoxy resin composition powder into a mortar set in a tablet machine to be pressurized by an upper pestle, pressurizing is carried out while vibration is added to the mortar.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシ樹脂組成
物タブレットの製造方法およびその製造方法で得られる
半導体装置に関するものであり、さらに詳しくは、高い
充填率を有するエポキシ樹脂組成物タブレットを製造す
ることができ、しかもこの製造方法により製造されたエ
ポキシ樹脂タブレットを用いトランスファー成型し得ら
れるボイドがきわめて少ない半導体装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an epoxy resin composition tablet and a semiconductor device obtained by the method, and more particularly, to producing an epoxy resin composition tablet having a high filling factor. The present invention relates to a semiconductor device which can be manufactured by transfer molding using an epoxy resin tablet manufactured by this manufacturing method and has very few voids.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置などの電子回路部品は、外気
からの汚染物質および外圧などからの破損を防ぐため
に、封止されることが必要条件である。
2. Description of the Related Art Electronic circuit components such as semiconductor devices are required to be sealed in order to prevent damage from external contaminants and external pressure.

【0003】従来の半導体装置の封止方法としては、金
属やセラッミクスを用いたハーメチックシールや、熱硬
化性樹脂であるエポキシ樹脂や、シリコーン樹脂、フェ
ノール樹脂などを用いた樹脂封止が挙げられるが、最近
ではパッケージの成形性の良さのほか、生産性の向上、
製造コストの低減にもすぐれるエポキシ樹脂組成物を用
いた樹脂封止が中心となってきている。
Conventional methods for sealing a semiconductor device include hermetic sealing using metal or ceramics, and resin sealing using an epoxy resin, a silicone resin, or a phenol resin, which is a thermosetting resin. Recently, in addition to the good formability of the package,
Resin encapsulation using an epoxy resin composition that is also excellent in reducing manufacturing costs has become the main focus.

【0004】通常半導体装置の樹脂封止には、トランス
ファー成形が用いられる。このトランスファー成形は、
トランスファー成型機を用い成形を行うもので、成形機
のポット内に、打錠機で打錠されたエポキシ樹脂組成物
タブレットを投入し、成型機のトランスファーで成型機
に取り付けられた金型中に、タブレット状のエポキシ樹
脂組成物を加圧注入し、所定温度で所定時間熱処理する
ことにより、半導体装置の樹脂封止を行うものである。
トランスファー成型においてしばしば発生する問題の一
つに、得られたパッケージにおいてボイドが発生するこ
とが挙げられる。この原因としては、樹脂が金型注入時
に空気を巻き込む、樹脂に含まれる揮発成分の揮発、そ
れにタブレット中にのこる空気によることなどが考えら
れる。これらの原因により発生するボイドは、見た目に
悪いだけでなく、ボイド中に水蒸気が溜まり、半田耐熱
性を損なうことにもつながる。
Usually, transfer molding is used for resin sealing of a semiconductor device. This transfer molding
The molding is carried out using a transfer molding machine, and the epoxy resin composition tablet that has been tableted with a tableting machine is put into the pot of the molding machine, and is placed in a mold attached to the molding machine with the transfer of the molding machine. The resin sealing of the semiconductor device is performed by injecting a tablet-shaped epoxy resin composition under pressure and performing a heat treatment at a predetermined temperature for a predetermined time.
One of the problems that often occurs in transfer molding is that voids are generated in the obtained package. This may be caused by the resin entraining air when the mold is injected, volatilization of volatile components contained in the resin, and air remaining in the tablet. The voids generated due to these causes are not only bad in appearance but also cause water vapor to accumulate in the voids and impair the solder heat resistance.

【0005】これまで、このボイド対策としては、樹脂
中の揮発成分を極力減らすこと、樹脂粘度を高くし、金
型への樹脂注入時の空気の巻き込みを極力抑えることな
どがこ試みられてきた。しかしながら、樹脂中の揮発成
分は、主にカップリング剤に由来することが多く、これ
を減らすと樹脂強度が落ちるといったデメリットが生
じ、半田耐熱性を低下につながる。また樹脂粘度を高く
し、金型への樹脂注入時の空気の巻き込みを抑えようと
すると、特にTSOPやLQFPなど薄型のパッケージ
において、未充填やワイヤー流れなどの不具合が生じる
という欠点があった。また厚型のQFPにおいても設計
によっては、しばしば同様な不具合を引き起こすことが
あった。
Heretofore, as a countermeasure against the void, attempts have been made to reduce the volatile components in the resin as much as possible, to increase the resin viscosity, and to minimize the entrapment of air when the resin is injected into the mold. . However, the volatile components in the resin are mainly derived from the coupling agent in many cases, and when this is reduced, a disadvantage such as a decrease in the resin strength occurs, which leads to a decrease in solder heat resistance. Further, when the resin viscosity is increased to suppress the entrapment of air at the time of injecting the resin into the mold, there is a drawback that problems such as unfilling and wire flow occur particularly in thin packages such as TSOP and LQFP. Also, a thick QFP often causes similar problems depending on the design.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した従
来技術における問題点の解決を課題として検討した結果
達成されたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been achieved as a result of studying to solve the problems in the prior art described above.

【0007】したがって、本発明の目的は、ボイドの無
い半導体装置をトランスファー成形により得るためのエ
ポキシ樹脂組成物タブレットの製造方法およびその製造
方法により得られる半導体装置を提供することにある。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method for producing an epoxy resin composition tablet for obtaining a void-free semiconductor device by transfer molding and a semiconductor device obtained by the method.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は主として以下の構成をとる。すなわち
「エポキシ樹脂組成物の粉末を、打錠機に備えられた臼
内に入れ、上杵により加圧し、エポキシ樹脂組成物タブ
レットを製造するに際し、前記臼に振動を与えつつ加圧
を行うことを特徴とするエポキシ樹脂組成物タブレット
の製造方法。」
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention mainly has the following constitution. That is, "the powder of the epoxy resin composition, put into a die provided in a tableting machine, pressurized with an upper punch, when producing an epoxy resin composition tablet, pressurizing while applying vibration to the die. And a method for producing an epoxy resin composition tablet. "

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の構成および効果
について詳述する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The configuration and effects of the present invention will be described below in detail.

【0010】まず、図面を参照しつつ、本発明の半導体
装置の製造方法について説明する。
First, a method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0011】図1は、本発明の製造方法で用いる打錠機
の主要部概略図である。ただし図1は打錠機の一般的な
一例として示したもので、打錠機としては、市販の打錠
機を用いることができ、打錠機の臼に後で述べるような
振動発生機を取り付ければ良い。
FIG. 1 is a schematic view of a main part of a tableting machine used in the production method of the present invention. However, FIG. 1 shows a general example of a tableting machine. As the tableting machine, a commercially available tableting machine can be used, and a vibration generator as described later is mounted on a die of the tableting machine. Just attach it.

【0012】図1において、1は上杵であり、2は下杵
であり、3は臼である。この金型3内に、エポキシ樹脂
組成物粉末を入れ、上杵1により加圧し、エポキシ樹脂
タブレットが得られるように構成されている。
In FIG. 1, 1 is an upper punch, 2 is a lower punch, and 3 is a die. The epoxy resin composition powder is put in the mold 3 and pressed by the upper punch 1, so that an epoxy resin tablet is obtained.

【0013】ここで、臼金型3は、図示しない振動子、
ばね、はずみ車、カム、ぜんまいなどの振動発生機によ
り、所定の振動が矢印方向に与えられており、微振動を
繰り返す。振動数としては、特に限定はしないが好まし
くは、1〜1000KHz、より好ましくは20〜10
00KHzである。また出力はとくには限定はしない
が、好ましくは10〜3000Wであり、より好ましく
は100〜2000Wである。
Here, the die 3 is provided with a vibrator (not shown),
A predetermined vibration is given in the direction of the arrow by a vibration generator such as a spring, a flywheel, a cam, a mainspring, etc., and the microvibration is repeated. The frequency is not particularly limited, but is preferably 1 to 1000 KHz, more preferably 20 to 10 KHz.
00 KHz. The output is not particularly limited, but is preferably 10 to 3000 W, and more preferably 100 to 2000 W.

【0014】したがって、臼3内でエポキシ樹脂組成物
タブレットを高密度に打錠することができ、タブレット
内の空気の量を押さえることができるため、このタブレ
ットを用いトランスファ成形することにより、ボイドの
無いパッケージを得ることができる。
[0014] Therefore, the epoxy resin composition tablet can be compressed in the die 3 at a high density, and the amount of air in the tablet can be suppressed. You can get no package.

【0015】なお、臼3に与えられる振動の方向には特
に制限はないが、図示したように上杵1の加圧方向に振
動が与えられることが好ましい。
The direction of the vibration applied to the mill 3 is not particularly limited, but it is preferable that the vibration is applied in the pressing direction of the upper punch 1 as shown in the figure.

【0016】次に、本発明で用いるエポキシ樹脂組成物
について説明する。
Next, the epoxy resin composition used in the present invention will be described.

【0017】本発明で使用するエポキシ樹脂組成物は、
エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)および無機充填剤
(C)を必須成分として含有する。
The epoxy resin composition used in the present invention comprises:
An epoxy resin (A), a curing agent (B) and an inorganic filler (C) are contained as essential components.

【0018】上記エポキシ樹脂(A)とは、分子中にエ
ポキシ基を有する樹脂をとくに制限するものではなく、
その具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールC型エポキシ樹脂、水添ビスフェノ
ール型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型ノボラック樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、シクロペンタジエン環など
の脂環構造含有式エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ
樹脂、およびエポキシ変性オルガノシリコーンなどが挙
げられ、これらのエポキシ樹脂組成物は、単独でまたは
2種以上の組合せで用いることができる。
The epoxy resin (A) is not particularly limited to a resin having an epoxy group in a molecule.
Specific examples thereof include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol C type epoxy resin, hydrogenated bisphenol type epoxy resin, bisphenol F type novolak resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, and alicyclic ring such as cyclopentadiene ring. Examples include a structure-containing epoxy resin, a biphenyl-type epoxy resin, and an epoxy-modified organosilicone. These epoxy resin compositions can be used alone or in combination of two or more.

【0019】上記硬化剤(B)は、エポキシ樹脂(A)
と反応してこれを硬化させ得るものであって、その具体
例としては、例えばフェノールノボラック樹脂、クレゾ
ールノボラック樹脂、フェノールp−キシリレンコポリ
マー、ビスフェノールAやレゾルシンから合成される各
種ノボラック樹脂、各種多価フェノール化合物、無水マ
レイン酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸などの酸
無水物およびメタフェニレンジアミン、ジアミノジフェ
ニルメタン、ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族
アミンなどが挙げられる。
The curing agent (B) is an epoxy resin (A)
Phenol novolak resin, cresol novolak resin, phenol p-xylylene copolymer, various novolak resins synthesized from bisphenol A or resorcinol, and various types of resins. Examples thereof include acid anhydrides such as polyhydric phenol compounds, maleic anhydride, phthalic anhydride and pyromellitic anhydride, and aromatic amines such as metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone.

【0020】これら硬化剤(B)は、用途によっては二
種以上を併用してもよく、その添加量はエポキシ樹脂
(A)との化学当量比が0.5〜1.5(硬化剤当量/
エポキシ当量)が好ましく、特に0.8〜1.2の範囲
にあることが好ましい。
Two or more of these curing agents (B) may be used in combination depending on the use, and the amount of the curing agent (B) is 0.5 to 1.5 (the equivalent of the curing agent is equivalent to the epoxy resin (A)). /
(Epoxy equivalent) is preferable, and particularly preferably in the range of 0.8 to 1.2.

【0021】上記無機充填剤(C)の具体例としては、
溶融シリカ、結晶性シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグ
ネシウム、アルミナ、マグネシア、クレー、タルク、ケ
イ酸カルシウム、酸化チタン、酸化アンチモンなどの金
属酸化物、アスベスト、ガラス繊維およびガラス球など
が挙げられるが、なかでも熱膨脹係数を低下する効果が
大きく、低応力化に有効であることから、特に溶融シリ
カが好ましく用いられる。
Specific examples of the inorganic filler (C) include:
Fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, alumina, magnesia, clay, talc, calcium silicate, titanium oxide, metal oxides such as antimony oxide, asbestos, glass fibers and glass spheres, among others. However, fused silica is particularly preferably used because it has a great effect of lowering the coefficient of thermal expansion and is effective in reducing the stress.

【0022】無機充填剤(C)の配合割合は、特に限定
はしないが、信頼性、成形性の点から組成物全体に対し
て79〜98重量%、好ましくは84〜92%の高割合
で含有することがである。充填材の形状としては特に限
定はしないが、好ましくは球状である。また粒度分布を
有しているものが好ましい。
The blending ratio of the inorganic filler (C) is not particularly limited, but from a viewpoint of reliability and moldability, it is a high ratio of 79 to 98% by weight, preferably 84 to 92% based on the whole composition. May be contained. The shape of the filler is not particularly limited, but is preferably spherical. Further, those having a particle size distribution are preferred.

【0023】また、上記エポキシ樹脂組成物は、上記エ
ポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)および無機充填剤
(C)の他、必要に応じてさらに下記の各添加剤を含有
することができる。
The epoxy resin composition may further contain the following additives as required, in addition to the epoxy resin (A), the curing agent (B) and the inorganic filler (C). .

【0024】ポリエチレンワックス、カルバナワック
ス、モンタン酸ワックスおよびステアリン酸マグネシウ
ムなどの各種ワックス類、脂肪酸金属塩、長鎖脂肪酸、
長鎖脂肪酸の金属塩、長鎖脂肪酸のエステルまたはアミ
ドおよび各種変性シリコーン化合物などの各種離型剤、
臭素化ビスフェノールAのグリシジルエーテル、臭素化
クレゾールノボラックなどのハロゲン化エポキシ樹脂、
有機ハロゲン化合物およびリン化合物などの難燃剤、三
酸化アンチモン、四酸化二アンチモンおよび5酸化アン
チモンなどの各種難燃助剤、ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルビニルエトキシシラン、
γ−メルカトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカ
トプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピル
トリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキ
シシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノ
プロピルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチ
ル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−ア
ミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−
アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプ
ロピルトリエトキシシラン、N−β−(N−ビニルベン
ジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シランおよびN−β−(N−ビニルベンジルアミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどの各
種シランカップリング剤、トリフェニルホスフィン、ト
リ−m−トリルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィ
ン、トリ−a−トリルホスフィン、トリス−(2,6−
ジメトキシアェノル)ホスフィンなどの各種ホスフィン
化合物、テトラフェニルホスホニウムブロミド、テトラ
エチルホスホニウムブロミド、テトラブチルホスホニウ
ムブロミド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニ
ルボレート、テトラエチルホスホニウムテトラフェニル
ボレートおよびテトラブチルホスホニウムテトラフェニ
ルボレートなどの各種ホスホニウム塩、およびイミダゾ
ール、1−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾー
ル、1,2−ジメチルイミダゾール、1−フェニルイミ
ダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジルイ
ミダゾール、1,8−ジアザ−ビシクロ−(5,4,
0)ウンデセン−7(DBU)、DBUのフェノール、
DBUフェノールノボラック塩、DBUオクチル塩、D
BUp−トルエンスルホン酸塩および1,5−ジアザ−
ビシクロ(4,3,0)ノネン−5 (DBN)などの
各種アミン化合物などの各種硬化促進剤、カーボンブラ
ックおよび酸化鉄などの各種着色剤や各種顔料、シリコ
ーンゴム、オレフィン系共重合体、変性ニトリルゴム、
変性ポリブタジエンゴムなどの各種エラストマー、ポリ
エチレンなどの各種熱可塑性樹脂、有機過酸化物などの
架橋剤。
Various waxes such as polyethylene wax, carbana wax, montanic acid wax and magnesium stearate, metal salts of fatty acids, long-chain fatty acids,
Various release agents such as metal salts of long-chain fatty acids, esters or amides of long-chain fatty acids and various modified silicone compounds,
Glycidyl ether of brominated bisphenol A, halogenated epoxy resin such as brominated cresol novolak,
Flame retardants such as organic halogen compounds and phosphorus compounds, various flame retardant aids such as antimony trioxide, diantimony tetroxide and antimony pentoxide, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycid Xypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinylethoxysilane,
γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, aminopropyltrimethoxysilane, amino Propyltriethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltriethoxysilane, γ-
Anilinopropyltrimethoxysilane, γ-anilinopropyltriethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl)- Various silane coupling agents such as γ-aminopropyltriethoxysilane, triphenylphosphine, tri-m-tolylphosphine, tri-p-tolylphosphine, tri-a-tolylphosphine, tris- (2,6-
Various phosphine compounds such as dimethoxyenol) phosphine, various phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium bromide, tetraethylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraethylphosphonium tetraphenylborate and tetrabutylphosphonium tetraphenylborate, And imidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-phenylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzylimidazole, 1,8-diaza-bicyclo- (5,4,
0) Undecene-7 (DBU), phenol of DBU,
DBU phenol novolak salt, DBU octyl salt, D
BUp-toluenesulfonate and 1,5-diaza-
Various curing accelerators such as various amine compounds such as bicyclo (4,3,0) nonene-5 (DBN); various coloring agents such as carbon black and iron oxide; various pigments; silicone rubber; olefin-based copolymers; Nitrile rubber,
Various elastomers such as modified polybutadiene rubber, various thermoplastic resins such as polyethylene, and crosslinking agents such as organic peroxides.

【0025】上記エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂
(A)、硬化剤(B)、無機充填剤(C)およびその他
の添加剤を、たとえばバンバリーミキサーなどにより混
合した後、単軸もしくは二軸の押出機、ニーダーおよび
熱ロールなどの各種混練機を用いて溶融混練する。その
後冷却、粉砕した後、得られたエポキシ樹脂組成物の粉
末を打錠機によりエポキシ樹脂タブレットを得る。
The above epoxy resin composition is prepared by mixing an epoxy resin (A), a curing agent (B), an inorganic filler (C) and other additives with, for example, a Banbury mixer or the like, and then mixing the mixture with a monoaxial or biaxial resin. Melt kneading is performed using various kneaders such as an extruder, a kneader and a hot roll. Thereafter, after cooling and pulverizing, the obtained epoxy resin composition powder is used to obtain an epoxy resin tablet using a tableting machine.

【0026】そして、上記エポキシ樹脂組成物タブレッ
トを成型機を用い、トランスファー成形により、半導体
を封止し半導体装置を得る。本発明の製造方法により得
られるエポキシ樹脂組成物タブレットは高い充填率を示
し、この製造方法でえられたタブレットを用いトランス
ファー成形し、得られるパッケージは信頼性の低下につ
ながると考えられるボイドがきわめて少ない。
Then, the semiconductor is encapsulated by transfer molding the above epoxy resin composition tablet using a molding machine to obtain a semiconductor device. The epoxy resin composition tablet obtained by the production method of the present invention shows a high filling factor, and transfer molding is performed using the tablet obtained by this production method, and the resulting package has voids which are considered to lead to a decrease in reliability. Few.

【0027】[0027]

【実施例】以下に、実施例と比較例を挙げて、本発明の
効果をより具体的に説明する。
EXAMPLES The effects of the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.

【0028】[実施例1〜7、比較例1〜4]表1に記
載した原料を用い、表2〜5に示した組成比でミキサー
を用いてドライブレンドした。これを押出機で4分間、
90℃で溶融混練後、冷却、粉砕してエポキシ樹脂組成
物の粉末を調整した。
[Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4] The raw materials shown in Table 1 were dry-blended using a mixer at the composition ratios shown in Tables 2 to 5. This is extruded for 4 minutes
After melt-kneading at 90 ° C., the mixture was cooled and pulverized to prepare a powder of the epoxy resin composition.

【0029】上記各エポキシ樹脂組成物粉末を用い、図
1に示した打錠機を使用して成形することによりエポキ
シ樹脂組成物タブレットを得た。このタブレットを用い
トランスファー成形により、成形温度175℃、成形時
間120秒、注入速度12秒、注入圧力70kgf/cm2
でパッケージ(下記160ピンQFP)を得た。
Each of the above epoxy resin composition powders was molded using the tableting machine shown in FIG. 1 to obtain an epoxy resin composition tablet. By transfer molding using this tablet, a molding temperature of 175 ° C., a molding time of 120 seconds, an injection speed of 12 seconds, and an injection pressure of 70 kgf / cm 2.
To obtain a package (160-pin QFP below).

【0030】得られた半導体装置の性能を、下記の評価
基準にしたがって評価した結果を表1に示す。
Table 1 shows the results of evaluating the performance of the obtained semiconductor device according to the following evaluation criteria.

【0031】なお、臼への振動は、フェライト振動子を
用いて出力1500Wで上杵の加圧方向と平行の方向
(図中矢印方向)へ付与し、振動数は表2〜5に示し
た。比較例1〜5では、臼への振動を与えずに、一般の
打錠法により打錠を行った。
The vibration to the mortar was applied in a direction parallel to the pressing direction of the upper punch (in the direction of the arrow in the drawing) at a power of 1500 W using a ferrite vibrator, and the vibration frequencies are shown in Tables 2 to 5. . In Comparative Examples 1 to 5, tableting was performed by a general tableting method without giving vibration to the mortar.

【0032】[評価基準] タブレット寸法:直径6.0cm、85.0g 最終打錠圧力:500kgf/cm2 最終打錠圧力での保持時間:3秒 タブレット充填率:タブレット充填率を次の方法で求め
た。 タブレット充填率(%)=(4×w×100)/(d2×h×π
×ρ) ここでwはタブレット重量(g)、dはタブレット直径
(cm)、hはタブレット高さ(cm)、πは円周率、
ρは比重(g/cm3)である。比重としてはここで
は、そのダブレットの成形硬化物を直方体に切り出し、
アルキメデス法により求めた値を用いた。
[Evaluation Criteria] Tablet size: 6.0 cm diameter, 85.0 g Final tableting pressure: 500 kgf / cm 2 Holding time at final tableting pressure: 3 seconds Tablet filling rate: The tablet filling rate was determined by the following method. . Tablet filling rate (%) = (4 × w × 100) / (d 2 × h × π
× ρ) where w is tablet weight (g), d is tablet diameter (cm), h is tablet height (cm), π is pi,
ρ is specific gravity (g / cm 3 ). Here, as a specific gravity, the molded cured product of the doublet is cut into a rectangular parallelepiped,
The value obtained by the Archimedes method was used.

【0033】ボイド数:160ピンQFPを50パッケ
ージ成形し、内部ボイドを超音波探傷器で観察し、また
外部ボイドを目視観察し、その合計を50で割り、1パ
ッケージ当たりのボイド数を求めた。 160ピンQFP:外寸28×28×3.4mm、チップ
サイズ11×11mm、ダイパッドサイズ13×13mm
Number of voids: A package of 160 pins QFP was molded into 50 packages, the internal voids were observed with an ultrasonic flaw detector, and the external voids were visually observed, and the total was divided by 50 to determine the number of voids per package. . 160-pin QFP: external dimensions 28 x 28 x 3.4 mm, chip size 11 x 11 mm, die pad size 13 x 13 mm

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】[0035]

【表2】 [Table 2]

【0036】[0036]

【表3】 [Table 3]

【0037】表2〜4の結果から明らかなように、本発
明の方法により得られたタブレット(実施例1〜6)
は、臼に振動を与えない方法で得られた比較例1〜3に
比べて、充填率が高いことが判る。本発明の製造方法に
より得られたタブレットを用いトランスファー成形によ
り得られるパッケージはボイドがきわめて少ないことが
判る。
As is clear from the results in Tables 2 to 4, tablets obtained by the method of the present invention (Examples 1 to 6)
Shows that the filling rate is higher than that of Comparative Examples 1 to 3 obtained by a method in which vibration is not applied to the mortar. It turns out that the package obtained by transfer molding using the tablet obtained by the manufacturing method of the present invention has very few voids.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明のエポキシ
樹脂組成物タブレットの製造方法によれば、充填率が高
いタブレットが得られ、その結果本発明の方法により得
られたタブレットを用いトランスファー成形すると、ボ
イドの少ない成形性にすぐれた半導体装置を得ることが
できる。
As described above, according to the method for producing an epoxy resin composition tablet of the present invention, a tablet having a high filling factor can be obtained. As a result, transfer molding using the tablet obtained by the method of the present invention can be performed. Thus, a semiconductor device having less voids and excellent moldability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は本発明の製造方法で用いる打錠機の主要
部概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a main part of a tableting machine used in a production method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:上杵 2:下杵 3:臼 4:タブレット(エポキシ樹脂組成物) 1: upper punch 2: lower punch 3: die 4: tablet (epoxy resin composition)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/56 H01L 21/56 C // B29K 63:00 B29K 63:00 Fターム(参考) 4F070 AA46 AE01 DA04 DA08 DC11 4F201 AA39 AB03 AB11 AC04 AH37 AR20 BA02 BC01 BC12 BC15 BC20 BC37 BD02 BL03 BL43 BL50 BN50 BQ50 4J002 CC04X CC05X CD02W CD05W CD06W DE077 DE127 DE137 DE147 DE237 DJ007 DJ017 DJ037 DJ047 DL007 EL136 EL146 EN066 EV216 FA047 FD017 FD14X FD146 GQ05 5F061 AA01 BA01 CA21 DE04 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/56 H01L 21 / 56C // B29K 63:00 B29K 63:00 F term (reference) 4F070 AA46 AE01 DA04 DA08 DC11 4F201 AA39 AB03 AB11 AC04 AH37 AR20 BA02 BC01 BC12 BC15 BC20 BC37 BD02 BL03 BL43 BL50 BN50 BQ50 4J002 CC04X CC05X CD02W CD05W CD06W DE077 DE127 DE137 DE147 DE237 DJ007 DJ017 DJ037 DJ047 DL007 EL136 EL47A01EV216 EL216 EL146E066 EV216 CA21 DE04

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】エポキシ樹脂組成物の粉末を、打錠機に備
えられた臼内に入れ、上杵により加圧し、エポキシ樹脂
組成物タブレットを製造するに際し、前記臼に振動を与
えつつ加圧を行うことを特徴とするエポキシ樹脂組成物
タブレットの製造方法。
1. An epoxy resin composition powder is put into a die provided in a tableting machine, and is pressed by an upper punch. When manufacturing an epoxy resin composition tablet, the powder is pressed while vibrating the die. A method for producing an epoxy resin composition tablet.
【請求項2】上杵の加圧方向に振動が与えられることを
特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物タブレ
ットの製造方法。
2. The method for producing an epoxy resin composition tablet according to claim 1, wherein a vibration is applied in a pressing direction of the upper punch.
【請求項3】臼に与えられる振動数が、10〜1000
kHzであることを特徴とする請求項1〜2に記載のエ
ポキシ樹脂組成物タブレットの製造方法。
3. The vibration frequency applied to the mortar is 10 to 1000.
The method for producing an epoxy resin composition tablet according to claim 1, wherein the frequency is kHz.
【請求項4】エポキシ樹脂組成物が、エポキシ樹脂
(A)、硬化剤(B)および無機充填剤(C)を必須成
分として含有し、無機充填剤(C)の含有量が79重量
%以上であることを特徴とする請求項1〜3記載のエポ
キシ樹脂組成物タブレットの製造方法。
4. The epoxy resin composition contains an epoxy resin (A), a curing agent (B) and an inorganic filler (C) as essential components, and the content of the inorganic filler (C) is at least 79% by weight. The method for producing an epoxy resin composition tablet according to claim 1, wherein:
【請求項5】請求項1〜4の製造方法により製造される
エポキシ樹脂組成物タブレットを用いトランスファー成
形し得られることを特徴とする半導体装置。
5. A semiconductor device obtained by transfer molding using an epoxy resin composition tablet produced by the production method according to claim 1.
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